JP2001328993A - 光学活性ホスフィン化合物 - Google Patents
光学活性ホスフィン化合物Info
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- JP2001328993A JP2001328993A JP2000194512A JP2000194512A JP2001328993A JP 2001328993 A JP2001328993 A JP 2001328993A JP 2000194512 A JP2000194512 A JP 2000194512A JP 2000194512 A JP2000194512 A JP 2000194512A JP 2001328993 A JP2001328993 A JP 2001328993A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 短工程で合成が可能であり、遷移金属錯体触
媒を用いた種々の不斉合成反応、例えばアリル化合物の
アリル位不斉置換反応などにおいて、高い不斉収率を達
成可能な配位子として有用な光学活性ホスフィン化合物
の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子または保護されていてもよい水酸
基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学
活性ホスフィン化合物、および一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学活
性ホスフィン化合物。
媒を用いた種々の不斉合成反応、例えばアリル化合物の
アリル位不斉置換反応などにおいて、高い不斉収率を達
成可能な配位子として有用な光学活性ホスフィン化合物
の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子または保護されていてもよい水酸
基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学
活性ホスフィン化合物、および一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学活
性ホスフィン化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性ホスフィ
ン化合物に関する。本発明の光学活性ホスフィン化合物
は、遷移金属錯体触媒を用いた種々の不斉合成反応、例
えばアリル位不斉置換反応などにおける触媒の配位子と
して有用である。
ン化合物に関する。本発明の光学活性ホスフィン化合物
は、遷移金属錯体触媒を用いた種々の不斉合成反応、例
えばアリル位不斉置換反応などにおける触媒の配位子と
して有用である。
【０００２】
【従来の技術】遷移金属錯体触媒を用いた各種の不斉合
成反応の開発は、様々な光学活性化合物の選択的な合成
法として研究が活発に行われている分野である。かかる
不斉合成反応において高い不斉収率を達成するための因
子の一つとして、反応に使用する触媒を構成する配位子
の分子設計が重要であることは知られている。例えば遷
移金属錯体触媒を用いたアリル化合物のアリル位不斉置
換反応において、リン原子または窒素原子を有する種々
の光学活性化合物が高い不斉収率を与える配位子として
開発されている［ケミカル レビュー（Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｖ．），９６巻，３９５−４２２頁（１９９６年）参
照］。
成反応の開発は、様々な光学活性化合物の選択的な合成
法として研究が活発に行われている分野である。かかる
不斉合成反応において高い不斉収率を達成するための因
子の一つとして、反応に使用する触媒を構成する配位子
の分子設計が重要であることは知られている。例えば遷
移金属錯体触媒を用いたアリル化合物のアリル位不斉置
換反応において、リン原子または窒素原子を有する種々
の光学活性化合物が高い不斉収率を与える配位子として
開発されている［ケミカル レビュー（Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｖ．），９６巻，３９５−４２２頁（１９９６年）参
照］。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、遷移金
属錯体触媒を用いた種々の不斉合成反応において、新た
な配位子として適用し得る新規な光学活性化合物の合成
について検討を行ってきた。その結果、リン原子および
窒素原子を同一分子内に有し、遷移金属錯体触媒を用い
た各種の不斉合成反応における触媒を構成する配位子と
して作用し、さらに短工程で合成可能な光学活性化合物
を見出し、本発明を完成した。
属錯体触媒を用いた種々の不斉合成反応において、新た
な配位子として適用し得る新規な光学活性化合物の合成
について検討を行ってきた。その結果、リン原子および
窒素原子を同一分子内に有し、遷移金属錯体触媒を用い
た各種の不斉合成反応における触媒を構成する配位子と
して作用し、さらに短工程で合成可能な光学活性化合物
を見出し、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は一般
式（Ｉ）
式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、Ｒは水素原子または保護されてい
てもよい水酸基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）で
示される光学活性ホスフィン化合物（以下、光学活性ホ
スフィン（Ｉ）と略称する）、および一般式（ＩＩ）
てもよい水酸基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）で
示される光学活性ホスフィン化合物（以下、光学活性ホ
スフィン（Ｉ）と略称する）、および一般式（ＩＩ）
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で示
される光学活性ホスフィン化合物（以下、光学活性ホス
フィン（ＩＩ）と略称する）に関する。
される光学活性ホスフィン化合物（以下、光学活性ホス
フィン（ＩＩ）と略称する）に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒが表す保護され
ていてもよい水酸基における水酸基の保護基としては、
例えばメチル基、メチルチオメチル基、２，２，２−ト
リクロロエチル基、１−（２−クロロエトキシ）エチル
基、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、ベンジ
ルオキシメチル基などの置換基を有していてもよいアル
キル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基などの置換基を有していてもよいアラル
キル基；アセチル基、トリクロロアセチル基、トリフル
オロアセチル基などのアシル基；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基
などのアルコキシカルボニル基；トリメチルシリル基、
ジメチルイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基などの三置換シリル基などが挙げられる。
ていてもよい水酸基における水酸基の保護基としては、
例えばメチル基、メチルチオメチル基、２，２，２−ト
リクロロエチル基、１−（２−クロロエトキシ）エチル
基、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、ベンジ
ルオキシメチル基などの置換基を有していてもよいアル
キル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基などの置換基を有していてもよいアラル
キル基；アセチル基、トリクロロアセチル基、トリフル
オロアセチル基などのアシル基；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基
などのアルコキシカルボニル基；トリメチルシリル基、
ジメチルイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基などの三置換シリル基などが挙げられる。
【００１０】本発明の光学活性ホスフィン（Ｉ）は、例
えば下記のスキームに従って製造することができる。
えば下記のスキームに従って製造することができる。
【００１１】
【化５】
【００１２】例えば、出発原料としてＬ−プロリン（Ｒ
＝水素原子）を用いた場合、Ｌ−プロリンに無水トリフ
ルオロ酢酸などを作用させてそのアミノ基を保護し、次
いでカルボキシル基を五塩化リン、塩化チオニル、塩化
ベンゾイル、塩化オキサリルなどを用いてハロゲン化し
た後、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジンなどのアミ
ン類などの塩基の存在下でアニリンと反応させて、相当
するＬ−プロリン−２−フェニルアミドを得る。この化
合物に、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩
などの塩基を作用させてトリフルオロアセチル基を脱保
護した後、２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデ
ヒドを反応させることにより、光学活性ホスフィン
（Ｉ）である、（３Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホ
スフィノ）フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，
５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，
２−ｃ］イミダゾール−１−オンを得ることができる。
＝水素原子）を用いた場合、Ｌ−プロリンに無水トリフ
ルオロ酢酸などを作用させてそのアミノ基を保護し、次
いでカルボキシル基を五塩化リン、塩化チオニル、塩化
ベンゾイル、塩化オキサリルなどを用いてハロゲン化し
た後、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジンなどのアミ
ン類などの塩基の存在下でアニリンと反応させて、相当
するＬ−プロリン−２−フェニルアミドを得る。この化
合物に、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩
などの塩基を作用させてトリフルオロアセチル基を脱保
護した後、２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデ
ヒドを反応させることにより、光学活性ホスフィン
（Ｉ）である、（３Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホ
スフィノ）フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，
５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，
２−ｃ］イミダゾール−１−オンを得ることができる。
【００１３】また、上記において、Ｄ−プロリンを出発
原料として用いると、光学活性ホスフィン（Ｉ）であ
る、（３Ｓ，７ａＲ）−３−（ジフェニルホスフィノ）
フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，５，６，
７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］
イミダゾール−１−オンが得られる。さらに、トランス
−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリンを出発原料として用い
ると、光学活性ホスフィン（Ｉ）である、（３Ｒ，６
Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−
２−イル−６−ヒドロキシ−２−フェニル−２，３，
５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，
２−ｃ］イミダゾール−１−オンが得られる。なお、か
かる化合物の水酸基は、水酸基を保護するに際して通常
行われる方法で保護することができる。
原料として用いると、光学活性ホスフィン（Ｉ）であ
る、（３Ｓ，７ａＲ）−３−（ジフェニルホスフィノ）
フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，５，６，
７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］
イミダゾール−１−オンが得られる。さらに、トランス
−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロリンを出発原料として用い
ると、光学活性ホスフィン（Ｉ）である、（３Ｒ，６
Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−
２−イル−６−ヒドロキシ−２−フェニル−２，３，
５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，
２−ｃ］イミダゾール−１−オンが得られる。なお、か
かる化合物の水酸基は、水酸基を保護するに際して通常
行われる方法で保護することができる。
【００１４】これらの光学活性ホスフィン（Ｉ）の反応
液からの単離・精製は、有機化合物の合成に際して一般
に用いられる方法と同様の方法によって行うことができ
る。例えば、混合液を水にあけ、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル；ジクロロメタン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素などの有機溶媒で抽
出し、抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じ
て再結晶、クロマトグラフィーなどで精製する。
液からの単離・精製は、有機化合物の合成に際して一般
に用いられる方法と同様の方法によって行うことができ
る。例えば、混合液を水にあけ、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル；ジクロロメタン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素などの有機溶媒で抽
出し、抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じ
て再結晶、クロマトグラフィーなどで精製する。
【００１５】一方、本発明の光学活性ホスフィン（Ｉ
Ｉ）は、例えば下記のスキームに従って製造することが
できる。
Ｉ）は、例えば下記のスキームに従って製造することが
できる。
【００１６】
【化６】
【００１７】例えば、Ｌ−インドリン−２−カルボン酸
に二炭酸ｔ−ブチルなどを作用させてそのアミノ基を保
護し、次いでジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソ
プロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミドまたはこれらの塩
酸塩；Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−
３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなど
の脱水剤の存在下でアニリンと反応させることにより、
相当するＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−インドリン
−２−フェニルアミドを得る。この化合物に、塩酸、硫
酸、トリフルオロ酢酸などの酸を作用させてｔ−ブトキ
シカルボニル基を脱保護した後、２−（ジフェニルホス
フィノ）ベンズアルデヒドを反応させることにより、光
学活性ホスフィン（ＩＩ）である、（３Ｒ，９ａＳ）−
３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−
フェニル−２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−イ
ンドリノ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オンを得る
ことができる。
に二炭酸ｔ−ブチルなどを作用させてそのアミノ基を保
護し、次いでジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソ
プロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミドまたはこれらの塩
酸塩；Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−
３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなど
の脱水剤の存在下でアニリンと反応させることにより、
相当するＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−インドリン
−２−フェニルアミドを得る。この化合物に、塩酸、硫
酸、トリフルオロ酢酸などの酸を作用させてｔ−ブトキ
シカルボニル基を脱保護した後、２−（ジフェニルホス
フィノ）ベンズアルデヒドを反応させることにより、光
学活性ホスフィン（ＩＩ）である、（３Ｒ，９ａＳ）−
３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−
フェニル−２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−イ
ンドリノ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オンを得る
ことができる。
【００１８】また、上記において、Ｄ−インドリン−２
−カルボン酸を出発原料として用いると、光学活性ホス
フィン（ＩＩ）である、（３Ｓ，９ａＲ）−３−（ジフ
ェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−フェニル−
２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−インドリノ
［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オンが得られる。
−カルボン酸を出発原料として用いると、光学活性ホス
フィン（ＩＩ）である、（３Ｓ，９ａＲ）−３−（ジフ
ェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−フェニル−
２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−インドリノ
［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オンが得られる。
【００１９】光学活性ホスフィン（ＩＩ）の反応液から
の単離・精製は、有機化合物の合成に際して一般に用い
られる方法と同様の方法によって行うことができる。例
えば、混合液を水にあけ、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテルなどのエーテル；ジクロロメタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素などの有機溶媒で抽出し、
抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じて再結
晶、クロマトグラフィーなどで精製する。
の単離・精製は、有機化合物の合成に際して一般に用い
られる方法と同様の方法によって行うことができる。例
えば、混合液を水にあけ、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテルなどのエーテル；ジクロロメタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素などの有機溶媒で抽出し、
抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じて再結
晶、クロマトグラフィーなどで精製する。
【００２０】光学活性ホスフィン（Ｉ）および光学活性
ホスフィン（ＩＩ）は、遷移金属錯体触媒を用いた種々
の不斉合成反応において、配位子として適用可能であ
り、例えばアリル化合物のアリル位不斉置換反応に適用
すると、高い不斉収率を達成することができる。
ホスフィン（ＩＩ）は、遷移金属錯体触媒を用いた種々
の不斉合成反応において、配位子として適用可能であ
り、例えばアリル化合物のアリル位不斉置換反応に適用
すると、高い不斉収率を達成することができる。
【００２１】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
【００２２】実施例１ ［工程（ａ）］窒素雰囲気下、Ｌ−プロリン１．７ｇ
（１５ｍｍｏｌ）をクロロホルム２０ｍｌに懸濁させて
０℃に冷却し、この溶液に無水トリフルオロ酢酸１０．
５ｍｌ（７５ｍｍｏｌ）を加えた。混合液を室温に昇温
して１時間攪拌した後、減圧下に濃縮した。得られた残
留物に、窒素雰囲気下、ジエチルエーテル２０ｍｌを加
えて溶解させて０℃に冷却し、この溶液に五塩化リン
３．２ｇ（１５ｍｍｏｌ）を添加し、添加終了後、室温
に昇温して１．５時間攪拌した。反応液を減圧下に濃縮
し、得られた残留物をベンゼン２０ｍｌに溶解させた。
この溶液を、アニリン１．３ｍｌ（１４ｍｍｏｌ）およ
びトリエチルアミン４ｍｌ（３０ｍｍｏｌ）を酢酸エチ
ル１０ｍｌに溶解させた溶液に、窒素雰囲気下で、反応
液の内温を０℃以下に保ちながら添加し、添加終了後、
室温に昇温して１時間攪拌した。反応液を水２０ｍｌに
注ぎ、有機層を分離した。この有機層を水１０ｍｌで洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られ
た粗生成物にジエチルエーテル１０ｍｌおよびヘキサン
１０ｍｌを加えて懸濁状態で１０分間攪拌して洗浄し、
固体を濾別することにより、Ｎ−トリフルオロアセチル
−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド３．０ｇ（１０．
５ｍｍｏｌ、収率７５％）を得た。
（１５ｍｍｏｌ）をクロロホルム２０ｍｌに懸濁させて
０℃に冷却し、この溶液に無水トリフルオロ酢酸１０．
５ｍｌ（７５ｍｍｏｌ）を加えた。混合液を室温に昇温
して１時間攪拌した後、減圧下に濃縮した。得られた残
留物に、窒素雰囲気下、ジエチルエーテル２０ｍｌを加
えて溶解させて０℃に冷却し、この溶液に五塩化リン
３．２ｇ（１５ｍｍｏｌ）を添加し、添加終了後、室温
に昇温して１．５時間攪拌した。反応液を減圧下に濃縮
し、得られた残留物をベンゼン２０ｍｌに溶解させた。
この溶液を、アニリン１．３ｍｌ（１４ｍｍｏｌ）およ
びトリエチルアミン４ｍｌ（３０ｍｍｏｌ）を酢酸エチ
ル１０ｍｌに溶解させた溶液に、窒素雰囲気下で、反応
液の内温を０℃以下に保ちながら添加し、添加終了後、
室温に昇温して１時間攪拌した。反応液を水２０ｍｌに
注ぎ、有機層を分離した。この有機層を水１０ｍｌで洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られ
た粗生成物にジエチルエーテル１０ｍｌおよびヘキサン
１０ｍｌを加えて懸濁状態で１０分間攪拌して洗浄し、
固体を濾別することにより、Ｎ−トリフルオロアセチル
−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド３．０ｇ（１０．
５ｍｍｏｌ、収率７５％）を得た。
【００２３】［工程（ｂ）］上記工程（ａ）で得られた
Ｎ−トリフルオロアセチル−Ｌ−プロリン−２−フェニ
ルアミド２９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）および炭酸カリウ
ム６９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を蓋付き試験管に入れ、
窒素置換した後、メタノール１ｍｌを加えて室温で１時
間攪拌した。次いで、この溶液に２−（ジフェニルホス
フィノ）ベンズアルデヒド２９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）
を加え、１００℃に加熱して１時間攪拌した。反応液を
水５ｍｌに注ぎ、クロロホルム５ｍｌで抽出し、抽出液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５（容量比））で精製
することで、下記の物性を有する（３Ｒ，７ａＳ）−３
−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−フ
ェニル−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１
Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光
学活性ホスフィン（Ｉ）〉３６ｍｇ（０．０７８ｍｍｏ
ｌ、収率７８％）を得た。
Ｎ−トリフルオロアセチル−Ｌ−プロリン−２−フェニ
ルアミド２９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）および炭酸カリウ
ム６９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を蓋付き試験管に入れ、
窒素置換した後、メタノール１ｍｌを加えて室温で１時
間攪拌した。次いで、この溶液に２−（ジフェニルホス
フィノ）ベンズアルデヒド２９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）
を加え、１００℃に加熱して１時間攪拌した。反応液を
水５ｍｌに注ぎ、クロロホルム５ｍｌで抽出し、抽出液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５（容量比））で精製
することで、下記の物性を有する（３Ｒ，７ａＳ）−３
−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−２−フ
ェニル−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１
Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光
学活性ホスフィン（Ｉ）〉３６ｍｇ（０．０７８ｍｍｏ
ｌ、収率７８％）を得た。
【００２４】 比旋光度：［α］D＝＋４４°（ｃ１．４、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：４６２（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ）δ：１．４２−１．５６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），
１．６５−１．７６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），１．９７
−２．１５（ｍ，２Ｈ，７−ＣＨ2），２．６３−２．
７０（ｍ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．０９−３．１４
（ｍ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．９２（ｄｄ，Ｊ＝４．
４，９．０Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−ＣＨ），６．５３（ｄ，
Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），６．９９−７．０
７（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１４−７．３９（ｍ，１５
Ｈ，Ａｒ），７．４４（ｄ，＝８．１Ｈｚ，２Ｈ，Ａ
ｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．０（ｓ）
ｍ）δ：１．４２−１．５６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），
１．６５−１．７６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），１．９７
−２．１５（ｍ，２Ｈ，７−ＣＨ2），２．６３−２．
７０（ｍ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．０９−３．１４
（ｍ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．９２（ｄｄ，Ｊ＝４．
４，９．０Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−ＣＨ），６．５３（ｄ，
Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），６．９９−７．０
７（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１４−７．３９（ｍ，１５
Ｈ，Ａｒ），７．４４（ｄ，＝８．１Ｈｚ，２Ｈ，Ａ
ｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．０（ｓ）
【００２５】実施例２ 実施例１において、Ｌ−プロリン１．７ｇ（１５ｍｍｏ
ｌ）の代わりに、トランス−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロ
リン２．０ｇ（１５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
の工程（ａ）と同様の反応および単離操作を行うことに
より、トランス−４−ヒドロキシ−Ｎ−トリフルオロア
セチル−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド３．２ｇ
（１０．５ｍｍｏｌ、収率７５％）を得た。次いで、実
施例１の工程（ｂ）において、Ｎ−トリフルオロアセチ
ル−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド２９ｍｇ（０．
１ｍｍｏｌ）の代わりに、上記で得られたトランス−４
−ヒドロキシ−Ｎ−トリフルオロアセチル−Ｌ−プロリ
ン−２−フェニルアミド３０ｍｇ（０，１ｍｍｏｌ）を
用いた以外は実施例１の工程（ｂ）と同様の反応および
単離操作を行うことにより、下記の物性を有する（３
Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フ
ェン−２−イル−６−ヒドロキシ−２−フェニル−２，
３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ
［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光学活性ホス
フィン（Ｉ）〉３４ｍｇ（０．０７１ｍｍｏｌ、収率７
１％）を得た。
ｌ）の代わりに、トランス−４−ヒドロキシ−Ｌ−プロ
リン２．０ｇ（１５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
の工程（ａ）と同様の反応および単離操作を行うことに
より、トランス−４−ヒドロキシ−Ｎ−トリフルオロア
セチル−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド３．２ｇ
（１０．５ｍｍｏｌ、収率７５％）を得た。次いで、実
施例１の工程（ｂ）において、Ｎ−トリフルオロアセチ
ル−Ｌ−プロリン−２−フェニルアミド２９ｍｇ（０．
１ｍｍｏｌ）の代わりに、上記で得られたトランス−４
−ヒドロキシ−Ｎ−トリフルオロアセチル−Ｌ−プロリ
ン−２−フェニルアミド３０ｍｇ（０，１ｍｍｏｌ）を
用いた以外は実施例１の工程（ｂ）と同様の反応および
単離操作を行うことにより、下記の物性を有する（３
Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フ
ェン−２−イル−６−ヒドロキシ−２−フェニル−２，
３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ
［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光学活性ホス
フィン（Ｉ）〉３４ｍｇ（０．０７１ｍｍｏｌ、収率７
１％）を得た。
【００２６】比旋光度：［α］D＝＋９．２°（ｃ１．
６、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：４７８（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ）δ：１．９４−２．００（ｍ，１Ｈ，７−ＣＨ），
２．３２−２．３８（ｍ、１Ｈ，７−ＣＨ），２．６７
（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１０Ｈｚ，１Ｈ，５−ＣＨ），
３．１３（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．
８２（ｄｄ，Ｊ＝４．５，９．６Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−Ｃ
Ｈ），４．１０（ｂｒ，ｓ，１Ｈ，６−ＣＨ），６．５
８（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），７．０５
−７．１３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１９−７．３８
（ｍ，１５Ｈ，Ａｒ），７．５７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，２Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．４（ｓ）
６、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：４７８（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ）δ：１．９４−２．００（ｍ，１Ｈ，７−ＣＨ），
２．３２−２．３８（ｍ、１Ｈ，７−ＣＨ），２．６７
（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１０Ｈｚ，１Ｈ，５−ＣＨ），
３．１３（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，５−ＣＨ），３．
８２（ｄｄ，Ｊ＝４．５，９．６Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−Ｃ
Ｈ），４．１０（ｂｒ，ｓ，１Ｈ，６−ＣＨ），６．５
８（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），７．０５
−７．１３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１９−７．３８
（ｍ，１５Ｈ，Ａｒ），７．５７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，２Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．４（ｓ）
【００２７】実施例３ 実施例２の方法で得られた（３Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３
−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ヒ
ドロキシ−２−フェニル−２，３，５，６，７，７ａ−
ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾー
ル−１−オン１０ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）およびイミ
ダゾール１１ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を窒素気雰囲気
下でジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解させて０℃に冷
却し、この溶液にｔ−ブチルジメチルシリルクロリド１
８ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を加えた後、室温まで昇温
して３時間攪拌した。反応液を０℃に冷却して飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液５ｍｌを加え、次いでクロロホル
ム５ｍｌを加えて抽出し、抽出液を水５ｍｌで５回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／８（容量比））で精製
することで、下記の物性を有する（３Ｒ，６Ｒ，７ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェニル
−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピ
ロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光学活性
ホスフィン（Ｉ）〉１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ、収率
１００％）を得た。
−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ヒ
ドロキシ−２−フェニル−２，３，５，６，７，７ａ−
ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾー
ル−１−オン１０ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）およびイミ
ダゾール１１ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を窒素気雰囲気
下でジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解させて０℃に冷
却し、この溶液にｔ−ブチルジメチルシリルクロリド１
８ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を加えた後、室温まで昇温
して３時間攪拌した。反応液を０℃に冷却して飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液５ｍｌを加え、次いでクロロホル
ム５ｍｌを加えて抽出し、抽出液を水５ｍｌで５回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／８（容量比））で精製
することで、下記の物性を有する（３Ｒ，６Ｒ，７ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−フェニル
−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピ
ロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン〈光学活性
ホスフィン（Ｉ）〉１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ、収率
１００％）を得た。
【００２８】 比旋光度：［α］D＝＋７１°（ｃ２．１、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：５９２（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ） δ：０．０１（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，６Ｈ，Ｓｉ
（ＣＨ3）2），０．８５（ｓ，９Ｈ，ＳｉＣ（Ｃ
Ｈ3）3），１．９９−２．０６（ｍ，１Ｈ，７−Ｃ
Ｈ），２．３８−２．４４（ｍ，１Ｈ，７−ＣＨ），
２．８５−２．９５（ｍ，２Ｈ，５−ＣＨ 2），４．１
３（ｄｄ，Ｊ＝３．８，８．９Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−Ｃ
Ｈ），４．３０−４．３６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），
６．５１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），
６．９６−７．０６（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１４−
７．３７（ｍ，１５Ｈ，Ａｒ），７．４１（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．７（ｓ）
ｍ） δ：０．０１（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，６Ｈ，Ｓｉ
（ＣＨ3）2），０．８５（ｓ，９Ｈ，ＳｉＣ（Ｃ
Ｈ3）3），１．９９−２．０６（ｍ，１Ｈ，７−Ｃ
Ｈ），２．３８−２．４４（ｍ，１Ｈ，７−ＣＨ），
２．８５−２．９５（ｍ，２Ｈ，５−ＣＨ 2），４．１
３（ｄｄ，Ｊ＝３．８，８．９Ｈｚ，１Ｈ，７ａ−Ｃ
Ｈ），４．３０−４．３６（ｍ，１Ｈ，６−ＣＨ），
６．５１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，３−ＣＨ），
６．９６−７．０６（ｍ，２Ｈ，Ａｒ），７．１４−
７．３７（ｍ，１５Ｈ，Ａｒ），７．４１（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−１８．７（ｓ）
【００２９】実施例４ ［工程（ａ）］Ｌ−インドリン−２−カルボン酸８１６
ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン５ｍｌお
よび０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌを加えて
溶解させ、０℃に冷却した。この溶液に二炭酸ｔ−ブチ
ル２．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加し、添加終了後、室
温に昇温して１５時間攪拌した。反応液を０℃に冷却
し、クエン酸水溶液を加えてｐＨを３に調節した後、酢
酸エチル１０ｍｌで３回抽出した。抽出液を濃縮し、得
られた残留物をジメチルホルムアミド１５ｍｌに溶解さ
せ、アニリン０．７２ｍｌ（７．５ｍｍｏｌ）および１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．３５ｇ（１０ｍｍ
ｏｌ）を加えて０℃に冷却した。この溶液に、さらに１
−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミド塩酸塩１．４４ｇ（７．５ｍｍｏｌ）を加えた
後、室温まで昇温して１２時間攪拌した。反応液に酢酸
エチル１０ｍｌを加えて有機層を分液し、有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ、クエン酸水溶液１
０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ、水１
０ｍｌで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製することで、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−Ｌ−インドリン−２−フェニルアミド１．１４ｇ
（３．５ｍｍｏｌ、収率７０％）を得た。
ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン５ｍｌお
よび０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌを加えて
溶解させ、０℃に冷却した。この溶液に二炭酸ｔ−ブチ
ル２．２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加し、添加終了後、室
温に昇温して１５時間攪拌した。反応液を０℃に冷却
し、クエン酸水溶液を加えてｐＨを３に調節した後、酢
酸エチル１０ｍｌで３回抽出した。抽出液を濃縮し、得
られた残留物をジメチルホルムアミド１５ｍｌに溶解さ
せ、アニリン０．７２ｍｌ（７．５ｍｍｏｌ）および１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．３５ｇ（１０ｍｍ
ｏｌ）を加えて０℃に冷却した。この溶液に、さらに１
−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミド塩酸塩１．４４ｇ（７．５ｍｍｏｌ）を加えた
後、室温まで昇温して１２時間攪拌した。反応液に酢酸
エチル１０ｍｌを加えて有機層を分液し、有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ、クエン酸水溶液１
０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ、水１
０ｍｌで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製することで、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−Ｌ−インドリン−２−フェニルアミド１．１４ｇ
（３．５ｍｍｏｌ、収率７０％）を得た。
【００３０】［工程（ｂ）］上記工程（ａ）で得られた
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−インドリン−２−フ
ェニルアミド２００ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）をトリフ
ルオロ酢酸４ｍｌに溶解させ、室温で１時間攪拌した。
反応液を減圧下に濃縮し、残留物にクロロホルム５ｍｌ
を加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮するこ
とでＬ−インドリン−２−フェニルアミド１２１ｍｇ
（０．５１ｍｍｏｌ、収率８２％）を得た。次いで、窒
素置換した蓋付き試験管に、上記で得られたＬ−インド
リン−２−フェニルアミド３０ｍｇ（０．１３ｍｍｏ
ｌ）、２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデヒド
３６ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）およびメタノール２ｍｌ
を加えて１００℃に加熱し、１時間攪拌した。反応液を
減圧下に濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／８（容量比））で精製することで、下記の物性を有
する（３Ｒ，９ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）
フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，９，９ａ−
テトラヒドロ−１Ｈ−インドリノ［１，２−ｃ］イミダ
ゾール−１−オン〈光学活性ホスフィン（ＩＩ）〉１４
ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ、収率２３％）を得た。
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−インドリン−２−フ
ェニルアミド２００ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）をトリフ
ルオロ酢酸４ｍｌに溶解させ、室温で１時間攪拌した。
反応液を減圧下に濃縮し、残留物にクロロホルム５ｍｌ
を加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮するこ
とでＬ−インドリン−２−フェニルアミド１２１ｍｇ
（０．５１ｍｍｏｌ、収率８２％）を得た。次いで、窒
素置換した蓋付き試験管に、上記で得られたＬ−インド
リン−２−フェニルアミド３０ｍｇ（０．１３ｍｍｏ
ｌ）、２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデヒド
３６ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）およびメタノール２ｍｌ
を加えて１００℃に加熱し、１時間攪拌した。反応液を
減圧下に濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／８（容量比））で精製することで、下記の物性を有
する（３Ｒ，９ａＳ）−３−（ジフェニルホスフィノ）
フェン−２−イル−２−フェニル−２，３，９，９ａ−
テトラヒドロ−１Ｈ−インドリノ［１，２−ｃ］イミダ
ゾール−１−オン〈光学活性ホスフィン（ＩＩ）〉１４
ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ、収率２３％）を得た。
【００３１】比旋光度：［α］D＝＋１８０．７°（ｃ
０．５、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：５１０（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ） δ：３．１２（ｄｄ，Ｊ＝１０，１６Ｈｚ，１
Ｈ），３．５４（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），４．３９
（ｄｄ，Ｊ＝１．６，１０Ｈｚ，１Ｈ），６．９０−
７．６３（ｍ，２４Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−２０．０（ｓ）
０．５、ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ（ｍ／ｚ）：５１０（Ｍ）+ 1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ、ｐｐ
ｍ） δ：３．１２（ｄｄ，Ｊ＝１０，１６Ｈｚ，１
Ｈ），３．５４（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，１Ｈ），４．３９
（ｄｄ，Ｊ＝１．６，１０Ｈｚ，１Ｈ），６．９０−
７．６３（ｍ，２４Ｈ，Ａｒ）31 Ｐ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、Ｐ（ＯＣ
Ｈ3）3（外部標準）、ｐｐｍ）δ：−２０．０（ｓ）
【００３２】次に、上記で得られた光学活性ホスフィン
（Ｉ）および光学活性ホスフィン（ＩＩ）を用いて、
１，３−ジフェニルプロペニルメチルカーボネートのア
リル位不斉置換反応を行った。
（Ｉ）および光学活性ホスフィン（ＩＩ）を用いて、
１，３−ジフェニルプロペニルメチルカーボネートのア
リル位不斉置換反応を行った。
【００３３】
【化７】
【００３４】試験例１ 窒素雰囲気下、トリス（ジベンジリデンアセトン）二パ
ラジウム・クロロホルム（Ｐｄ2（ｄｂａ）3・ＣＨＣｌ
3）１０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）および実施例３の方
法で得られた（３Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニ
ルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，６，
７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］
イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）
をジクロロメタン１ｍｌに溶解させ、１，３−ジフェニ
ルプロペニルメチルカーボネート５４ｍｇ（０．２ｍｍ
ｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。次いで、この反
応液にマロン酸ジメチル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１週間攪拌した。反応液に酢酸エチ
ル５ｍｌを加えて飽和塩化アンモニウム水溶液５ｍｌで
２回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮
した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）
で精製することで、（Ｓ）−ジメチル−２−（１，３−
ジフェニル−２−プロペニル）マロン酸４５ｍｇ（０．
１４ｍｍｏｌ、収率７０％、光学純度９４％ｅ．ｅ．）
を得た。なお、得られた（Ｓ）−ジメチル−２−（１，
３−ジフェニル−２−プロペニル）−マロン酸の光学純
度は、高速液体クロマトグラフィー分析（カラム：ＤＡ
ＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ−Ｈ、展開溶媒：
ヘキサン／イソプロパノール＝９８／２）により決定し
た。
ラジウム・クロロホルム（Ｐｄ2（ｄｂａ）3・ＣＨＣｌ
3）１０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）および実施例３の方
法で得られた（３Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジフェニ
ルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，６，
７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］
イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）
をジクロロメタン１ｍｌに溶解させ、１，３−ジフェニ
ルプロペニルメチルカーボネート５４ｍｇ（０．２ｍｍ
ｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。次いで、この反
応液にマロン酸ジメチル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１週間攪拌した。反応液に酢酸エチ
ル５ｍｌを加えて飽和塩化アンモニウム水溶液５ｍｌで
２回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮
した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）
で精製することで、（Ｓ）−ジメチル−２−（１，３−
ジフェニル−２−プロペニル）マロン酸４５ｍｇ（０．
１４ｍｍｏｌ、収率７０％、光学純度９４％ｅ．ｅ．）
を得た。なお、得られた（Ｓ）−ジメチル−２−（１，
３−ジフェニル−２−プロペニル）−マロン酸の光学純
度は、高速液体クロマトグラフィー分析（カラム：ＤＡ
ＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ−Ｈ、展開溶媒：
ヘキサン／イソプロパノール＝９８／２）により決定し
た。
【００３５】試験例２ 試験例１において、（３Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジ
フェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，
６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−
ｃ］イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏ
ｌ）の代わりに実施例１の方法で得られた（３Ｒ，７ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−２−フェニル−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒ
ドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−
オン１１ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を用い、マロン酸ジ
メチル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏｌ）を加えた後、
室温で１２時間攪拌した以外は試験例１と同様の操作を
行った。結果を表１に示す。
フェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，
６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−
ｃ］イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏ
ｌ）の代わりに実施例１の方法で得られた（３Ｒ，７ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−２−フェニル−２，３，５，６，７，７ａ−ヘキサヒ
ドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−
オン１１ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を用い、マロン酸ジ
メチル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏｌ）を加えた後、
室温で１２時間攪拌した以外は試験例１と同様の操作を
行った。結果を表１に示す。
【００３６】試験例３ 試験例１において、（３Ｒ，６Ｒ，７ａＳ）−３−（ジ
フェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，
６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−
ｃ］イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏ
ｌ）の代わりに実施例４の方法で得られた（３Ｒ，９ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−２−フェニル−２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１
Ｈ−インドリノ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン
１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を用い、マロン酸ジメチ
ル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏｌ）を加えた後、室温
で１２時間攪拌した以外は試験例１と同様の操作を行っ
た。結果を表１に示す。
フェニルホスフィノ）フェン−２−イル−６−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−フェニル−２，３，５，
６，７，７ａ−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−
ｃ］イミダゾール−１−オン１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏ
ｌ）の代わりに実施例４の方法で得られた（３Ｒ，９ａ
Ｓ）−３−（ジフェニルホスフィノ）フェン−２−イル
−２−フェニル−２，３，９，９ａ−テトラヒドロ−１
Ｈ−インドリノ［１，２−ｃ］イミダゾール−１−オン
１２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を用い、マロン酸ジメチ
ル０．０６８ｍｌ（０．６ｍｍｏｌ）を加えた後、室温
で１２時間攪拌した以外は試験例１と同様の操作を行っ
た。結果を表１に示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【発明の効果】本発明により提供される光学活性ホスフ
ィン化合物は、短工程で合成が可能であり、遷移金属錯
体触媒を用いた種々の不斉合成反応、例えばアリル化合
物のアリル位不斉置換反応などにおいて配位子として使
用することにより、高い不斉収率を達成し得る。
ィン化合物は、短工程で合成が可能であり、遷移金属錯
体触媒を用いた種々の不斉合成反応、例えばアリル化合
物のアリル位不斉置換反応などにおいて配位子として使
用することにより、高い不斉収率を達成し得る。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子または保護されていてもよい水酸
基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学
活性ホスフィン化合物。 - 【請求項２】 一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で示される光学活
性ホスフィン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000194512A JP2001328993A (ja) | 2000-03-14 | 2000-06-28 | 光学活性ホスフィン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000070177 | 2000-03-14 | ||
| JP2000-70177 | 2000-03-14 | ||
| JP2000194512A JP2001328993A (ja) | 2000-03-14 | 2000-06-28 | 光学活性ホスフィン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001328993A true JP2001328993A (ja) | 2001-11-27 |
Family
ID=26587431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000194512A Pending JP2001328993A (ja) | 2000-03-14 | 2000-06-28 | 光学活性ホスフィン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001328993A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009046469A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-03-05 | Chiba Univ | 光学活性アリル化合物類の製造方法 |
-
2000
- 2000-06-28 JP JP2000194512A patent/JP2001328993A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009046469A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-03-05 | Chiba Univ | 光学活性アリル化合物類の製造方法 |
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