JP2001322393A - Transfer sheet and card with light diffraction structure manufactured using the same - Google Patents
Transfer sheet and card with light diffraction structure manufactured using the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 特に耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性等の性
能に優れた光回折構造を含む転写層を磁気カード等のカ
ード類に簡便に転写できる転写シートと、それを用いて
製造された前記性能と共に意匠性、セキュリティー性に
優れた光回折構造付きカードを提供する。
【解決手段】 転写シート100 を、例えば、支持体シー
ト1の一方の面に離型性樹脂層2を設け、その上に光回
折構造の転写層7を、少なくとも保護層3、光回折構造
形成層4、光反射層5、接着層6を順に積層して形成
し、且つ保護層3を電離放射線硬化型樹脂に少なくとも
熱接着性樹脂を混合した混合系の樹脂で形成する。接着
層6には感熱接着剤を用いることが好ましく、支持体シ
ート1の背面側の耐熱滑性層8は必要に応じて設けるも
のである。そして、前記転写シート100 を用いて磁気カ
ード等に光回折構造の転写層7を例えば熱転写して光回
折構造付きカードを得る。
(57) [Problem] To provide a transfer sheet capable of easily transferring a transfer layer including an optical diffraction structure excellent in performance such as abrasion resistance, abrasion resistance and plasticizer resistance to cards such as a magnetic card. The present invention also provides a card with an optical diffraction structure which is excellent in design and security as well as the above-mentioned performance produced using the same. SOLUTION: A transfer sheet 100 is provided with, for example, a release resin layer 2 on one surface of a support sheet 1, and a transfer layer 7 having an optical diffraction structure thereon, at least a protective layer 3, and a light diffraction structure formation. The layer 4, the light reflecting layer 5, and the adhesive layer 6 are sequentially laminated and formed, and the protective layer 3 is formed of a mixed resin obtained by mixing at least a thermoadhesive resin with an ionizing radiation-curable resin. It is preferable to use a heat-sensitive adhesive for the adhesive layer 6, and the heat-resistant lubricating layer 8 on the back side of the support sheet 1 is provided as needed. Then, the transfer layer 7 having a light diffraction structure is thermally transferred to a magnetic card or the like using the transfer sheet 100 to obtain a card with a light diffraction structure.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、転写シートおよび
それを用いて製造された光回折構造付きカードに関し、
更に詳しくは、光回折構造を転写できる転写シートであ
って、その転写シートを用いて光回折構造を被転写体に
転写した時、光回折構造と共に、その上に、透明性、耐
擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性、接着性に優れた保護層
を形成できる転写シートと、その転写シートを用いて製
造された前記性能に優れた光回折構造付きカードに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer sheet and a card with an optical diffraction structure manufactured using the transfer sheet.
More specifically, a transfer sheet capable of transferring a light diffraction structure, and when the light diffraction structure is transferred to a transfer target using the transfer sheet, together with the light diffraction structure, transparency, scratch resistance, The present invention relates to a transfer sheet capable of forming a protective layer having excellent abrasion resistance, plasticizer resistance, and adhesiveness, and a card with an optical diffraction structure having the above-mentioned performance, which is manufactured using the transfer sheet.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、銀行カード、クレジットカー
ド、会員カード、身分証明用カードなどのIDカードに
は、磁気カードやICカードなどが用いられ、その意匠
性およびセキュリティー性を高めるために、表面に種々
の印刷を施したり、ホログラムや回折格子などの光回折
構造を設けるなどの工夫がなされている。2. Description of the Related Art Conventionally, magnetic cards and IC cards have been used as ID cards such as bank cards, credit cards, membership cards, identification cards, and the like. Various methods have been devised, such as applying various printings, and providing optical diffraction structures such as holograms and diffraction gratings.
【0003】例えば、磁気カードの表面に印刷を施す場
合、磁気記録層の上に印刷を施して、磁気記録層を隠蔽
することが行われており、それにより磁気記録層の位置
が目視により判別不能となり、偽造防止効果を高めるこ
とができる。また、絵柄、表示情報、顔写真などの印刷
に加えて、ホログラム、回折格子などの光回折構造を設
けることが行われており、特に、ホログラムは、立体的
な3次元画像を再生することができ、意匠性が高められ
ると同時に、その製造に高度の技術を要することから、
偽造防止効果を高めることができる。For example, when printing is performed on the surface of a magnetic card, printing is performed on the magnetic recording layer to conceal the magnetic recording layer, whereby the position of the magnetic recording layer is visually determined. It becomes impossible and the forgery prevention effect can be enhanced. Further, in addition to printing of patterns, display information, and face photographs, light diffraction structures such as holograms and diffraction gratings are provided. In particular, holograms can reproduce three-dimensional images. It is possible to enhance the design and at the same time, it requires advanced technology for its production,
The forgery prevention effect can be enhanced.
【0004】このような光回折構造を、例えば磁気カー
ド上に設ける場合、通常、その加工の簡便性の点から、
光回折構造を転写層に形成した転写シートを作製し、こ
の転写シートから光回折構造を磁気カード上に転写する
方法が採られている。また、磁気カード上に設けられる
光回折構造は、従来、磁気カードの表面の一部に設けら
れていたが、意匠性、セキュリティー性を一層高めるた
めに、磁気カード表面の一層大きい面積に設ける要望が
高まっている。When such an optical diffraction structure is provided on, for example, a magnetic card, usually, from the viewpoint of simplicity of processing,
A method has been adopted in which a transfer sheet having an optical diffraction structure formed on a transfer layer is prepared, and the light diffraction structure is transferred from the transfer sheet onto a magnetic card. In addition, the light diffraction structure provided on the magnetic card has conventionally been provided on a part of the surface of the magnetic card. Is growing.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、光回折構造を
磁気カード表面に大きい面積で設けた場合、磁気記録層
の上にも光回折構造が設けられるようになり、磁気によ
る記録や読み取りの際、磁気ヘッドにより光回折構造の
表面が繰り返し擦られる結果、耐擦傷性、耐摩耗性が不
足し、光回折構造が損傷されてしまう問題があった。However, when the optical diffraction structure is provided on the surface of the magnetic card with a large area, the optical diffraction structure is also provided on the magnetic recording layer. Also, as a result of the surface of the light diffraction structure being repeatedly rubbed by the magnetic head, there is a problem that the scratch resistance and abrasion resistance are insufficient and the light diffraction structure is damaged.
【0006】一方、磁気カードの磁気記録層上に、印刷
層や光回折構造を設ける場合、磁気記録層に記録された
データを読み取るためには、磁気記録層の上部におい
て、一定の磁界の強さを確保する必要がある。このた
め、磁気記録層上に設けることのできる印刷層や、光回
折構造の転写層の厚さには限度があり、8μm以下が好
ましく、6μm以下が更に好ましい。通常、ISO規格
に適合させるには6μm程度が限度とされている。On the other hand, when a printing layer or an optical diffraction structure is provided on a magnetic recording layer of a magnetic card, in order to read data recorded on the magnetic recording layer, a fixed magnetic field strength is required above the magnetic recording layer. Need to be secured. For this reason, there is a limit to the thickness of the printing layer and the transfer layer of the optical diffraction structure that can be provided on the magnetic recording layer, and the thickness is preferably 8 μm or less, more preferably 6 μm or less. Usually, the limit is about 6 μm in order to conform to the ISO standard.
【0007】従って、磁気記録層の上に印刷を施す場合
でも、その色数、刷り重ね厚さに制限があり、デザイン
的に制約があった。また、光回折構造を設ける場合も、
その耐擦傷性などを向上させるために、保護層を設ける
ことはできるが、その厚さを安易に厚くすることはでき
ず、厚さを増すことなく、材質面などで改善して向上さ
せる必要があった。更に、磁気カードは、携帯や保管の
際、可塑剤を含んだケースなどに収納されることがあ
り、最外層となる保護層の樹脂の種類によっては、可塑
剤が移行して軟化し、或いは、ケースと保護層がブロッ
キングして、無理に剥がすといずれか一方が剥げ落ちる
などの問題があった。Therefore, even when printing is performed on the magnetic recording layer, the number of colors and the overprint thickness are limited, and the design is limited. Also, when providing an optical diffraction structure,
A protective layer can be provided to improve the scratch resistance, but the thickness cannot be easily increased, and it is necessary to improve and improve the material without increasing the thickness. was there. Further, the magnetic card may be stored in a case containing a plasticizer during carrying or storage, and depending on the type of the resin of the protective layer serving as the outermost layer, the plasticizer migrates and softens, or In addition, there was a problem that one of the cases peeled off when the case and the protective layer were blocked and forcibly peeled off.
【0008】このような問題を解決するために、保護層
の樹脂に、透明性、耐擦傷性、耐可塑剤性などに優れた
電離放射線硬化型樹脂を使用する試験を行ったが、この
種の樹脂は、透明な保護層として用いた場合、一般に硬
化が速く、硬い皮膜を形成し、耐擦傷性、耐可塑剤性な
どに優れる反面、その皮膜の上に他の層をコーティング
などで積層しようとすると、充分な接着強度を得難くな
る問題があった。従って、転写シートのように積層順序
が逆になる場合、即ち、支持体シート上に、例えば離型
性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着
層を順に積層して、転写シートを作製するような場合
は、保護層と光回折構造形成層との間の接着強度が充分
ではなく、転写後、最外層の保護層が摩擦などにより剥
がれ易くなる問題があった。In order to solve such a problem, a test was conducted in which an ionizing radiation-curable resin having excellent transparency, scratch resistance, plasticizer resistance and the like was used as the resin of the protective layer. When used as a transparent protective layer, the resin generally cures quickly and forms a hard film, and is excellent in abrasion resistance and plasticizer resistance.On the other hand, other layers are laminated on the film by coating. If this is attempted, there is a problem that it is difficult to obtain a sufficient adhesive strength. Therefore, when the stacking order is reversed as in the case of the transfer sheet, that is, on the support sheet, for example, a release resin layer, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflecting layer, and an adhesive layer are sequentially stacked. In the case of producing a transfer sheet, there is a problem that the adhesive strength between the protective layer and the light diffraction structure forming layer is not sufficient, and after transfer, the outermost protective layer is easily peeled off by friction or the like.
【0009】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、その目的とするところは、磁
気カードなどのカード類に光回折構造を簡便に転写でき
る転写シートであって、転写された光回折構造を含む転
写層が、耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性のほか、各層
の接着性に優れ、例えば、光回折構造が、磁気カードの
磁気記録層の上に転写された場合でも、磁気ヘッドによ
り繰り返し行われる摩擦に耐え、光回折構造が損傷され
ることがなく、また、磁気カードを可塑剤を含むケース
に入れて、長期間携帯或いは保管しても、光回折構造を
含む転写層が可塑剤で軟化するようなこともないという
性能に優れた光回折構造を転写できる転写シートを提供
し、且つ、それを用いて製造された耐擦傷性、耐摩耗
性、耐可塑剤性などの性能に優れた光回折構造付きカー
ドを生産性よく提供することにある。尚、本発明におい
て、光回折構造は、ホログラムや回折格子などの光を回
折するための構造を有しているものを指すものである。The present invention has been made in order to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a transfer sheet capable of easily transferring an optical diffraction structure to cards such as a magnetic card. The transfer layer containing the transferred light diffractive structure has excellent abrasion resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance, as well as excellent adhesiveness of each layer. For example, the light diffractive structure is located on the magnetic recording layer of the magnetic card. Even when transferred to a magnetic card, it withstands repeated friction by a magnetic head, does not damage the light diffraction structure, and can be carried or stored for a long time by putting a magnetic card in a case containing a plasticizer. The present invention provides a transfer sheet capable of transferring a light diffraction structure excellent in performance such that a transfer layer including the light diffraction structure is not softened by a plasticizer, and is provided with a scratch resistance and a scratch resistance manufactured using the transfer sheet. Abrasion resistance, plasticizer resistance, etc. The optical diffraction structure with cards with excellent performance to provide high productivity. In the present invention, the light diffraction structure refers to a structure having a structure for diffracting light, such as a hologram or a diffraction grating.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記の課題は、以下の本
発明により解決することができる。即ち、請求項1に記
載した発明は、少なくとも支持体シートの一方の面に、
光回折構造を含む転写層が、転写可能に設けられてなる
転写シートにおいて、該転写層が支持体シート側から、
少なくとも保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着
層が順に積層された積層体で形成され、且つ、該保護層
が、電離放射線硬化型樹脂に少なくとも熱可塑性樹脂を
混合した混合系の樹脂で形成されていることを特徴とす
る転写シートからなる。The above objects can be attained by the present invention described below. That is, the invention described in claim 1 has at least one surface of the support sheet,
In a transfer sheet including a transfer layer including an optical diffraction structure, the transfer layer is provided from the support sheet side,
At least a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflecting layer, and an adhesive layer are formed of a laminate in which layers are sequentially laminated, and the protective layer is a mixed system in which at least a thermoplastic resin is mixed with an ionizing radiation-curable resin. The transfer sheet is formed of a resin.
【0011】上記転写シートの構成において、支持体シ
ートの一方の面に転写層を転写可能に設ける、即ち、転
写の際、転写層を支持体シートから容易に剥離するよう
に設けるためには、支持体シートと転写層の保護層との
間の接着強度を適度に調節する必要があり、そのために
は、必要に応じて、支持体シート面に離型性樹脂層を設
け、転写の際、離型性樹脂層と保護層との界面で剥離す
るように構成することが、接着強度の調節が容易となる
点で好ましい。また、転写手段として、サーマルヘッド
のような加熱媒体を用いる加熱転写方式を採る場合は、
支持体シートのもう一方の面(転写層が設けられていな
い背面)に、支持体シートがサーマルヘッドに融着する
所謂スティッキング現象を防止するために、必要に応じ
て耐熱滑性層を設けることができる。In the above-described transfer sheet, in order to provide a transfer layer on one surface of the support sheet so as to be transferable, that is, to provide the transfer layer so as to be easily separated from the support sheet at the time of transfer, It is necessary to appropriately adjust the adhesive strength between the support sheet and the protective layer of the transfer layer, and for that purpose, if necessary, a release resin layer is provided on the support sheet surface, and at the time of transfer, It is preferable that the adhesive layer be separated at the interface between the release resin layer and the protective layer, since the adjustment of the adhesive strength becomes easy. Also, when using a heat transfer method using a heating medium such as a thermal head as the transfer means,
A heat-resistant lubricating layer may be provided on the other surface of the support sheet (a back surface on which the transfer layer is not provided) as necessary in order to prevent a so-called sticking phenomenon in which the support sheet is fused to the thermal head. Can be.
【0012】このような構成を採ることにより、カード
などの被転写体に光回折構造の転写層を転写する際、最
外層の接着層により良好に接着し、また、支持体シート
に離型性樹脂層を設けた場合は、支持体シートの離型性
樹脂層と転写層の保護層との界面で容易に剥離すること
ができるので、光回折構造の転写層を被転写体に一層容
易に転写することができる。そして、転写後は、保護層
が光回折構造の転写層の最外層となり、保護層が、電離
放射線硬化型樹脂に少なくとも熱可塑性樹脂を混合した
混合系の樹脂で形成されているので、保護層を電離放射
線硬化型樹脂単独で形成した場合よりも、保護層と光回
折構造形成層の間の接着強度が向上し、摩擦などにより
保護層が剥離することもなく、且つ、電離放射線硬化型
樹脂による優れた耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性も良
好に維持されるので、これらの性能に優れた光回折構造
の転写層を転写することができる。By adopting such a structure, when the transfer layer of the light diffraction structure is transferred to a transfer object such as a card, the transfer layer of the light diffraction structure adheres better to the outermost adhesive layer, and the release sheet is attached to the support sheet. In the case where the resin layer is provided, the transfer layer having the light diffraction structure can be more easily attached to the transfer object because the resin layer can be easily separated at the interface between the release resin layer of the support sheet and the protective layer of the transfer layer. Can be transcribed. After the transfer, the protective layer becomes the outermost layer of the transfer layer of the optical diffraction structure, and the protective layer is formed of a mixed resin obtained by mixing at least a thermoplastic resin with an ionizing radiation-curable resin. The adhesive strength between the protective layer and the light diffractive structure forming layer is improved, the protective layer does not peel off due to friction, etc., and the ionizing radiation curable resin becomes The excellent abrasion resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance are also maintained satisfactorily, so that a transfer layer of an optical diffraction structure excellent in these performances can be transferred.
【0013】請求項2に記載した発明は、前記保護層の
混合系の樹脂の熱可塑性樹脂含有量が、30〜70重量
%であることを特徴とする請求項1記載の転写シートか
らなる。According to a second aspect of the present invention, there is provided the transfer sheet according to the first aspect, wherein the mixed resin of the protective layer has a thermoplastic resin content of 30 to 70% by weight.
【0014】本発明において、保護層と光回折構造形成
層とを充分な強度で接着させ、且つ、保護層で良好な耐
擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性を付与するためには、保
護層の混合系の樹脂の熱可塑性樹脂含有量は、30〜7
0重量%の範囲が好ましく、35〜45重量%の範囲が
更に好ましい。上記熱可塑性樹脂の含有量が30重量%
未満の場合は、保護層と光回折構造形成層との接着性の
向上効果が不充分となり、また、熱可塑性樹脂の含有量
が70重量%を超える場合は、特に耐可塑剤性が低下す
るため好ましくない。In the present invention, in order to adhere the protective layer and the light diffraction structure forming layer with sufficient strength, and to impart good scratch resistance, abrasion resistance and plasticizer resistance to the protective layer, The thermoplastic resin content of the mixed resin of the protective layer is 30 to 7
A range of 0% by weight is preferable, and a range of 35 to 45% by weight is more preferable. The content of the thermoplastic resin is 30% by weight.
When the amount is less than the above, the effect of improving the adhesion between the protective layer and the light diffraction structure forming layer becomes insufficient, and when the content of the thermoplastic resin exceeds 70% by weight, especially the plasticizer resistance decreases. Therefore, it is not preferable.
【0015】従って、上記のような構成を採ることによ
り、前記請求項1に記載した発明の作用効果に加えて、
保護層と光回折構造形成層の間の接着強度が一層確実に
向上し、また、保護層による耐擦傷性、耐摩耗性、耐可
塑剤性の向上効果も充分に得ることができる。Therefore, by adopting the above configuration, in addition to the operation and effect of the invention described in the first aspect,
The adhesive strength between the protective layer and the light diffractive structure forming layer is more reliably improved, and the protective layer can also have a sufficient effect of improving scratch resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance.
【0016】請求項3に記載した発明は、少なくとも一
方の面に、光回折構造が積層されてなるカードにおい
て、該光回折構造が、前記請求項1または2に記載の転
写シートの転写層の転写により設けられていることを特
徴とする光回折構造付きカードである。According to a third aspect of the present invention, in a card having a light diffraction structure laminated on at least one surface, the light diffraction structure is provided on the transfer layer of the transfer sheet according to the first or second aspect. A card with a light diffraction structure provided by transfer.
【0017】このような構成を採ることにより、光回折
構造やその保護層などの形成を、カード材料に対して直
接行うのではなく、転写シート用の長尺の支持体シート
に対して連続的に行うことができるので、生産性を著し
く向上させることができ、また、発生ロスに対するコス
ト負担も低減することができる。そして、カードへの光
回折構造やその保護層などの形成には、前記請求項1ま
たは2に記載した発明の転写シートを使用して、例え
ば、ホットスタンプによる加熱転写でも、サーマルヘッ
ドのような加熱媒体を用いる加熱転写でも、任意に選択
して転写形成することができるので、光回折構造を、同
一パターンで大量に転写形成する場合でも、種々の異な
るパターンで転写形成する場合でも、その目的や用途に
応じて、効率よくカードに転写形成することができる。
従って、前記請求項1または2に記載した発明で説明し
たように、保護層と光回折構造形成層との接着性もよ
く、耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性などの性能に優れ
た光回折構造付きカードを生産性よく製造することがで
きる。By adopting such a configuration, the formation of the light diffraction structure and its protective layer is not performed directly on the card material, but is performed continuously on the long support sheet for the transfer sheet. Therefore, the productivity can be remarkably improved, and the cost burden for the occurrence loss can be reduced. The transfer sheet of the invention described in claim 1 or 2 is used for forming the light diffraction structure and its protective layer on the card. Since the heat transfer using a heating medium can be arbitrarily selected and formed by transfer, it can be used for transfer of the light diffraction structure in a large amount in the same pattern or in various different patterns. It can be efficiently transferred and formed on a card depending on the application and the purpose.
Therefore, as described in the first or second aspect of the present invention, the protective layer and the light diffraction structure forming layer have good adhesion, and are excellent in performance such as abrasion resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance. Card with a light diffraction structure can be manufactured with high productivity.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の転写シートと、
それを用いて製造された光回折構造付きカードについ
て、その材料、および製造方法など、発明の実施の形態
について説明する。 〔転写シートについて〕本発明の転写シートは、基本的
には、支持体シートの一方の面に、転写層として、保護
層、光回折構造形成層、光反射層、接着層が順に積層さ
れた構成とすることができる。また、必要に応じて、支
持体シートの転写層を設ける側の面に、転写層の剥離を
容易にするための離型性樹脂層を設け、支持体シートの
もう一方の面に耐熱滑性層を設け、更に、光反射層の
上、即ち、光反射層と接着層の間などにプライマーコー
ト層またはアンカーコート層などを設けることができ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a transfer sheet of the present invention,
An embodiment of the invention, such as a material and a manufacturing method of a card with an optical diffraction structure manufactured using the same, will be described. [Transfer sheet] The transfer sheet of the present invention basically has a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer sequentially laminated on one surface of a support sheet as a transfer layer. It can be configured. Also, if necessary, a release resin layer for facilitating peeling of the transfer layer is provided on the surface of the support sheet on which the transfer layer is provided, and the heat-resistant lubricity is provided on the other surface of the support sheet. A layer may be provided, and a primer coat layer or an anchor coat layer may be provided on the light reflection layer, that is, between the light reflection layer and the adhesive layer.
【0019】(支持体シート)本発明の転写シートに用
いる支持体シートとしては、その上に積層する各層、即
ち、離型性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、光反射
層、接着層の各層を順次コーティングなどにより形成す
る際の耐熱性および耐溶剤性、また、形成された光回折
構造の転写層をカードなどの被転写体に転写する際、通
常は加熱転写方式が使用されるため、その耐熱性が必要
であり、その他、強靱性、寸法安定性を有することが好
ましく、これらの性能を備えたコンデンサーペーパーな
どの各種加工紙やプラスチックフィルムなどを使用する
ことができる。なかでも、2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム(以下、単に、PETフィルムと表示
する)は、前記性能に優れるほか、汎用フィルムとして
比較的安価であるため好適に使用することができる。P
ETフィルムを使用する場合、その厚さは、5〜50μ
mのものが好ましく、加工適性や引張強度、熱転写の際
の熱効率などを考慮すると5〜25μmが更に好まし
い。(Support Sheet) As the support sheet used in the transfer sheet of the present invention, each layer laminated thereon, that is, a release resin layer, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, an adhesive Heat resistance and solvent resistance when each layer of the layer is sequentially formed by coating and the like, and when the transfer layer of the formed light diffraction structure is transferred to a transfer object such as a card, a heat transfer method is usually used. Therefore, it is necessary to have heat resistance, and in addition, it is preferable to have toughness and dimensional stability, and various types of processed paper such as condenser paper and plastic films having these properties can be used. Among them, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (hereinafter, simply referred to as a PET film) can be suitably used because it is excellent in the above-mentioned performance and relatively inexpensive as a general-purpose film. P
When using an ET film, its thickness is 5 to 50 μm.
m is preferable, and 5 to 25 μm is more preferable in consideration of workability, tensile strength, thermal efficiency at the time of thermal transfer, and the like.
【0020】(離型性樹脂層)支持体シートの転写層を
設ける側の面に、コーティングなどにより積層する離型
性樹脂層は、支持体シートには、よく接着し、その上に
形成する保護層の樹脂を比較的容易に剥離でき、且つ、
耐熱性、耐溶剤性などに優れた樹脂で形成することが好
ましい。このような樹脂としては、例えば、メラミン系
樹脂など架橋性に優れた各種熱硬化性樹脂が好適に使用
できる。このような樹脂は、架橋度合いを制御して用い
ることにより、転写の際の剥離力を適宜調整することも
可能である。離型性樹脂層は、リバースロールコーター
などによるコーティング方式で形成することができ、そ
の厚さは薄くてよく0.1〜4μm程度で充分である。(Release Resin Layer) A release resin layer laminated by coating or the like on the surface of the support sheet on which the transfer layer is provided is well adhered to the support sheet and formed thereon. The resin of the protective layer can be peeled off relatively easily, and
It is preferable to use a resin having excellent heat resistance and solvent resistance. As such a resin, for example, various thermosetting resins having excellent crosslinking properties such as a melamine resin can be suitably used. By using such a resin while controlling the degree of crosslinking, the peeling force at the time of transfer can be appropriately adjusted. The releasable resin layer can be formed by a coating method using a reverse roll coater or the like, and its thickness may be thin, and about 0.1 to 4 μm is sufficient.
【0021】(保護層)前記離型性樹脂層の上に設ける
保護層は、転写後、カードなどの最外層となって下側の
光回折構造形成層などを保護するものであり、前述した
ように、透明性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性に優
れるほか、耐熱性、耐汚染性なども兼ね備えることが好
ましく、更に、転写層に用いられる点から、この上に積
層される光回折構造形成層を良好に接着し、積層できる
樹脂が好ましい。このような樹脂として、本発明では、
電離放射線硬化型樹脂に少なくとも熱可塑性樹脂を混合
した混合系の樹脂を使用するものであり、その混合比率
は、混合系の樹脂の熱可塑性樹脂含有量が30〜70重
量%の範囲が好ましく、35〜45重量%の範囲が更に
好ましい。(Protective Layer) The protective layer provided on the release resin layer serves as the outermost layer of a card or the like after transfer and protects the lower light diffraction structure forming layer and the like. As described above, in addition to being excellent in transparency, scratch resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance, it is preferable to also have heat resistance, stain resistance, and the like.Moreover, since it is used for a transfer layer, it is laminated thereon. It is preferable to use a resin capable of adhering and laminating the light diffraction structure forming layer well. As such a resin, in the present invention,
A mixed resin obtained by mixing at least a thermoplastic resin with an ionizing radiation-curable resin is used. The mixing ratio is preferably such that the thermoplastic resin content of the mixed resin is in a range of 30 to 70% by weight, The range is more preferably from 35 to 45% by weight.
【0022】上記電離放射線硬化型樹脂の具体例として
は、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレー
トなどが挙げられ、これらはそれぞれのプレポリマーに
粘度、或いは架橋密度を調整するために多官能または単
官能のモノマーを添加して用いてもよく、また、必要に
応じて公知の光反応開始剤、増感剤を添加して用いても
よい。このほか、ポリエン/チオール系の電離放射線硬
化型樹脂なども耐摩耗性に優れており好ましく使用でき
る。上記のような電離放射線硬化型樹脂に混合する熱可
塑性樹脂としては、極性をもち非晶性であることが好ま
しく、例えば、ポリメチルメタクリレート(PMM
A)、ポリ塩化ビニル、硝酸セルロース、酢酸セルロー
ス、エチルセルロース、ポリメチルスチレン、ポリスチ
レン、ポリカーボネートなどを使用することができる。Specific examples of the ionizing radiation-curable resin include polyurethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, and the like. These are used to adjust the viscosity or crosslink density of each prepolymer. A functional or monofunctional monomer may be added and used, or if necessary, a known photoreaction initiator or sensitizer may be added and used. In addition, a polyene / thiol-based ionizing radiation curable resin and the like are also excellent in abrasion resistance and can be preferably used. As the thermoplastic resin mixed with the ionizing radiation-curable resin as described above, it is preferable that the thermoplastic resin has a polarity and is amorphous. For example, polymethyl methacrylate (PMM)
A), polyvinyl chloride, cellulose nitrate, cellulose acetate, ethyl cellulose, polymethylstyrene, polystyrene, polycarbonate and the like can be used.
【0023】以上のような保護層用樹脂には、更に必要
に応じて、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤など
の添加剤を加えることができる。また、保護層を設ける
方法は、前記保護層用混合系の樹脂で塗布液を作製し、
従来公知の各種ロールコーティング方式やグラビアコー
ティング方式で塗布し、溶剤を熱風乾燥で取り除いた
後、UV(紫外線)照射、またはEB(電子線)照射に
より電離放射線硬化型樹脂を硬化させて保護層を形成す
ることができる。If necessary, additives such as a surfactant, an antistatic agent and an ultraviolet absorber can be added to the resin for the protective layer as described above. In addition, the method of providing a protective layer is to prepare a coating solution with the mixed resin for the protective layer,
After applying by a conventionally known roll coating method or gravure coating method, removing the solvent by hot air drying, curing the ionizing radiation-curable resin by UV (ultraviolet) irradiation or EB (electron beam) irradiation to form a protective layer. Can be formed.
【0024】このような保護層の厚さは、光回折構造転
写層全体の厚さを薄くするために、0.5〜4.0μm
の範囲にすることが好ましい。保護層の厚さが0.5μ
m未満の場合は、充分な耐擦傷性、耐摩耗性が得られ
ず、また、4.0μmを超える厚さは、既に耐擦傷性、
耐摩耗性、耐可塑剤性などの性能面では充分であるた
め、その必要性がなく、むしろ、光回折構造の転写層全
体の厚さが増し、例えば、磁気カードの磁気記録層の上
に転写するような場合、磁気記録・読み取り特性が低下
するおそれがあるため好ましくない。The thickness of such a protective layer is 0.5 to 4.0 μm to reduce the thickness of the entire light diffraction structure transfer layer.
It is preferable to be within the range. 0.5μ of protective layer thickness
When the thickness is less than m, sufficient scratch resistance and abrasion resistance cannot be obtained, and when the thickness exceeds 4.0 μm,
There is no need for it because it is sufficient in terms of performance such as abrasion resistance and plasticizer resistance, but rather, the entire thickness of the transfer layer of the optical diffraction structure increases, for example, on the magnetic recording layer of a magnetic card. In the case of transfer, it is not preferable because magnetic recording / reading characteristics may be deteriorated.
【0025】(光回折構造形成層)前記保護層の上に
は、光回折構造形成層、即ち、ホログラムまたは回折格
子を形成した層を設ける。光回折構造自体は、平面ホロ
グラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例として
は、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フル
ネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズ
レスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム
(イメージホログラムなど)、白色光再生ホログラム
(レインボーホログラムなど)、カラーホログラム、コ
ンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マル
チプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグ
ラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。(Light Diffraction Structure Forming Layer) On the protective layer, there is provided a light diffraction structure forming layer, that is, a layer on which a hologram or a diffraction grating is formed. The light diffraction structure itself can be used for both planar holograms and volume holograms. Specific examples are relief holograms, Lippmann holograms, Fresnel holograms, Fraunhofer holograms, lensless Fourier transform holograms, laser reproduction holograms (such as image holograms), and white light. Examples include a reproduction hologram (such as a rainbow hologram), a color hologram, a computer hologram, a hologram display, a multiplex hologram, a holographic stereogram, and a holographic diffraction grating.
【0026】これらの光回折構造を形成する形成層の材
料には、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(例、PMM
A)、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの熱可塑性
樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリ
エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アク
リレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテ
ル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレ
ート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系ア
クリレートなどの熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、或いは
上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用する
ことができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する
熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和
単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用す
ることができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料など
も使用できる。The material of the formation layer for forming these light diffraction structures is polyvinyl chloride, acrylic resin (eg, PMM).
A), thermoplastic resins such as polystyrene and polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate , A thermosetting resin such as melamine (meth) acrylate or triazine acrylate can be used alone, or a mixture of the above-mentioned thermoplastic resin and thermosetting resin can be used. Or a material obtained by adding a radical polymerizable unsaturated monomer to these materials to make them ionizing radiation-curable. In addition, photosensitive materials such as silver salts, dichromated gelatin, thermoplastics, diazo photosensitive materials, photoresists, ferroelectrics, photochromic materials, thermochromic materials, and chalcogen glass can be used.
【0027】上記の材料を用いて光回折構造を形成する
方法は、従来既知の方法によって形成することができ、
例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレ
リーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹
凸の形で記録された原版をプレス型として用い、前記支
持体シート上に離型性樹脂層、保護層を順に積層した積
層シートの保護層の上に、前記光回折構造形成層用樹脂
の塗布液をグラビアコート法、ロールコート法、バーコ
ート法などの手段で塗布して、塗膜を形成し、その上に
前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両
者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製す
ることができる。また、フォトポリマーを用いる場合
は、前記積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同
様にコーティングした後、前記原版を重ねてレーザー光
を照射することにより複製することができる。このよう
に、表面凹凸のレリーフとして回折格子やホログラムの
干渉縞を光回折構造層の表面に記録する方法は、量産性
があり、コストも低くできる点で特に好ましい。このよ
うな光回折構造形成層の膜厚は0.1〜6μmの範囲が
好ましく、0.1〜4μmの範囲が更に好ましい。A method for forming an optical diffraction structure using the above materials can be formed by a conventionally known method.
For example, when recording an interference fringe of a diffraction grating or a hologram as a relief of surface unevenness, an original plate on which the diffraction grating or the interference fringe is recorded in the form of unevenness is used as a press mold, and the releasability is formed on the support sheet. On the protective layer of a laminated sheet in which a resin layer and a protective layer are sequentially laminated, a coating solution of the resin for the light diffraction structure forming layer is applied by means of a gravure coating method, a roll coating method, a bar coating method, or the like. A film is formed, and the original is superimposed thereon, and the two are heated and pressed by an appropriate means such as a heating roll, so that the concavo-convex pattern of the original can be duplicated. When a photopolymer is used, a photopolymer can be coated on the protective layer of the laminated sheet in the same manner, and then the original can be overlapped and irradiated with a laser beam to perform replication. As described above, the method of recording the interference fringes of the diffraction grating or the hologram on the surface of the light diffraction structure layer as the relief of the surface unevenness is particularly preferable since it has mass productivity and can reduce the cost. The thickness of such a light diffraction structure forming layer is preferably in the range of 0.1 to 6 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 4 μm.
【0028】(光反射層)前記のように光回折構造形成
層の表面に凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を記録した場合には、その回折効率を高めるた
めに光反射層をレリーフ面に形成することが好ましい。
光反射層として、光を反射する金属薄膜をレリーフ面に
形成すれば反射型の光回折構造が得られ、また、透明薄
膜をレリーフ面に形成すれば透明型の光回折構造が得ら
れる。これらは目的に応じて適宜選択することができ
る。本発明における光回折構造形成層の光反射層として
は、光回折構造形成層の下層にも情報表示その他の印刷
層が設けられることから、これらの透過性を有すること
が好ましく、主に、反射透明性を有するものが用いられ
る。(Light Reflecting Layer) When the diffraction grating or the interference fringes of the hologram is recorded as a relief of irregularities on the surface of the light diffraction structure forming layer as described above, the light reflecting layer is relieved to increase the diffraction efficiency. It is preferably formed on a surface.
When a light reflecting metal thin film is formed on the relief surface as the light reflecting layer, a reflection type light diffraction structure can be obtained. When a transparent thin film is formed on the relief surface, a transparent light diffraction structure can be obtained. These can be appropriately selected according to the purpose. As the light reflecting layer of the light diffraction structure forming layer in the present invention, since an information display and other printing layers are also provided below the light diffraction structure forming layer, it is preferable to have these transmissive properties. A material having transparency is used.
【0029】このような光反射層の材質としては、光回
折構造形成層とは屈折率の異なる物質の連続薄膜や、金
属薄膜などが挙げられる。連続薄膜の膜厚は、薄膜を形
成する材料の透明領域であればよいが、通常は100〜
1000Åが好ましい。連続薄膜をレリーフ面に形成す
る方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などの薄膜形成法が挙げられる。連
続薄膜は、その屈折率が光回折構造形成層より大きくて
も小さくてもよいが、屈折率の差が0.3以上あること
が好ましく、差が0.5以上、更には1.0以上あるこ
とがより好ましい。Examples of the material of such a light reflecting layer include a continuous thin film of a substance having a different refractive index from that of the light diffraction structure forming layer and a metal thin film. The thickness of the continuous thin film may be a transparent region of a material forming the thin film, but is usually 100 to 100.
1000 ° is preferred. Examples of a method for forming a continuous thin film on the relief surface include a thin film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. The continuous thin film may have a refractive index larger or smaller than that of the light diffraction structure forming layer, but the difference in the refractive index is preferably 0.3 or more, and the difference is 0.5 or more, and more preferably 1.0 or more. More preferably, there is.
【0030】光回折構造形成層より屈折率が大きい連続
薄膜としては、ZnS、TiO2 、Al2 O3 、Sb2
S3 、SiO、TiO、SiO2 などが挙げられる。光
回折構造形成層より屈折率が小さい連続薄膜としては、
LiF、MgF2 、AlF3 などが挙げられる。また、
厚さが200Å以下の場合には、光の透過率は比較的小
さいが、透過性があり、透明性光反射層として使用する
ことができる。更に、光回折構造形成層とは屈折率の異
なる透明な合成樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチ
レン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタク
リレートの層を光反射層に用いることもできる。As the continuous thin film having a higher refractive index than the light diffraction structure forming layer, ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2
Examples include S 3 , SiO, TiO, and SiO 2 . As a continuous thin film having a smaller refractive index than the light diffraction structure forming layer,
LiF, MgF 2 , AlF 3 and the like can be mentioned. Also,
When the thickness is 200 ° or less, the light transmittance is relatively small, but the film is transparent and can be used as a transparent light reflecting layer. Further, a transparent synthetic resin having a different refractive index from the light diffraction structure forming layer, for example, a layer of polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate is used for the light reflection layer. You can also.
【0031】(接着層)前記光反射層の上には接着層を
設けて光回折構造転写シートを完成する。接着層の材質
は、光反射層との接着性がよく、且つ転写に際して、磁
気カードなどの被転写体に対しても強固に接着できるも
のが好ましい。転写は、通常、加熱転写方式で行われる
ため、接着層には熱接着性樹脂が用いられ、具体例とし
て、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ゴム変性物などが挙げられ、これらの中から適する
ものを適宜選択して使用できる。また、これらは単独、
もしくは2種以上の混合系で、更に必要に応じてハード
レジンや可塑剤、その他の添加剤を加えて使用すること
ができる。(Adhesive Layer) An adhesive layer is provided on the light reflecting layer to complete a light diffraction structure transfer sheet. The material of the adhesive layer is preferably one that has good adhesiveness to the light reflection layer and can firmly adhere to a transfer target such as a magnetic card during transfer. Since the transfer is usually performed by a heat transfer method, a heat-adhesive resin is used for the adhesive layer. Specific examples thereof include a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, and an acrylic resin. Examples thereof include a series resin, a polyester series resin, a polyurethane series resin, a polyamide series resin, and a modified rubber, and a suitable one can be appropriately selected from these and used. In addition, these alone,
Alternatively, a mixture of two or more kinds may be used by further adding a hard resin, a plasticizer, and other additives as necessary.
【0032】上記のような材料で形成される接着層は、
通常、上記材料を溶液状の塗布液とし、これをロールコ
ーターなどで塗布、乾燥することによって形成できる。
接着層の厚さは、0.5〜5μmの範囲が好ましく、
1.5〜3μmの範囲が更に好ましい。以上のようにし
て、支持体シートの離型性樹脂層の上に、光回折構造の
転写層として、保護層、光回折構造形成層、光反射層、
接着層が順に積層された転写シートが製造できる。上記
光回折構造の転写層は、全体としての厚さが8μm以下
に形成されることが好ましく、6μm以下が更に好まし
い。The adhesive layer formed of the above-mentioned material is
Usually, the material can be formed by applying a solution in the form of a solution, applying the solution with a roll coater or the like, and drying.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm,
The range of 1.5 to 3 μm is more preferable. As described above, on the release resin layer of the support sheet, as a transfer layer of the light diffraction structure, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer,
A transfer sheet in which adhesive layers are sequentially laminated can be manufactured. The transfer layer of the light diffraction structure is preferably formed so as to have an overall thickness of 8 μm or less, and more preferably 6 μm or less.
【0033】〔光回折構造付きカードについて〕前記本
発明の転写シートは、前述したように、例えば磁気カー
ドの磁気記録層の上に、その光回折構造の転写層を転写
しても、下層の磁気記録層の磁気記録特性を損なわず、
また、転写層の表面の保護層が、耐擦傷性、耐摩耗性、
耐可塑剤性などの物性を向上させて、光回折構造が耐久
性を有するように構成したものであり、主たる転写対象
物は、磁気カードであるが、光回折構造の転写層の表面
が、前記耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性などの物性に
優れていることから、磁気カードに限らず、ICカード
なども含めてカード類全般に、また、パスポートなど認
証用の情報が記載された認証票などにも広く使用でき、
その意匠性を高めると同時に、偽造などを防止し、セキ
ュリティー性を向上できるものである。[Regarding Card with Light Diffraction Structure] As described above, the transfer sheet of the present invention can be used, for example, when the transfer layer having the light diffraction structure is transferred onto the magnetic recording layer of a magnetic card. Without impairing the magnetic recording characteristics of the magnetic recording layer,
In addition, the protective layer on the surface of the transfer layer has scratch resistance, abrasion resistance,
By improving physical properties such as plasticizer resistance, the light diffraction structure is configured to have durability, and the main transfer target is a magnetic card, but the surface of the transfer layer of the light diffraction structure is Because of the excellent physical properties such as the abrasion resistance, abrasion resistance and plasticizer resistance, not only magnetic cards, but also general cards including IC cards, etc., and information for authentication such as passports are described. It can be widely used for certified certificates, etc.
This enhances the design and at the same time prevents forgery and the like, and improves security.
【0034】(基材シート)本発明の光回折構造付きカ
ードの基材シートとしては、ポリ塩化ビニル、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポ
リスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリプロピレン、
ポリエチレンなどの樹脂シートのほか、アルミニウム、
銅などの金属シート、紙、そして、樹脂またはラテック
ス等の含浸紙などの単独、或いは複合体シートなどを用
いることができる。(Base Sheet) The base sheet of the card with an optical diffraction structure of the present invention includes polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene resin, acrylic resin, polypropylene,
In addition to resin sheets such as polyethylene, aluminum,
A single or composite sheet such as a metal sheet such as copper, paper, and an impregnated paper such as resin or latex can be used.
【0035】このような基材シートの厚さは、材質によ
っても異なるが、通常、10μm〜3mm程度の範囲で
ある。特に磁気カードの場合、基材シートをISO規格
に準拠したものとする場合には、その厚さは0.76m
mである。そして、基材シートを、例えばポリ塩化ビニ
ル(以下、PVC)で形成する場合、通常、厚さ280
μmの白色PVCシートをコアシートとして、これを2
枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ100μmの透明PV
Cシートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなど
により積層する4層構成の基材シート(合計厚さ0.7
6mm)が用いられている。この場合、磁気記録層は、
前記透明PVCシート(オーバーシート)の表面にテー
プ状または全面状に予め設けておくことにより、熱プレ
スなどによる積層時に、テープ状であっても基材シート
に押し込まれ、表面平滑に一体化され積層される。The thickness of the base sheet varies depending on the material, but is usually in the range of about 10 μm to 3 mm. In particular, in the case of a magnetic card, when the base sheet conforms to the ISO standard, its thickness is 0.76 m.
m. When the base sheet is formed of, for example, polyvinyl chloride (hereinafter, PVC), the thickness is usually 280.
μm white PVC sheet as core sheet,
100 μm thick transparent PV on both sides
A four-layer base sheet (total thickness of 0.7) in which C sheets are stacked as oversheets and stacked by hot pressing or the like
6 mm). In this case, the magnetic recording layer
By being provided in advance in the form of a tape or the entire surface on the surface of the transparent PVC sheet (oversheet), even when in the form of a tape, it is pressed into the base sheet during lamination by hot pressing or the like, and is integrated into a smooth surface. It is laminated.
【0036】また、上記のように基材シートを積層体で
構成した場合には、印刷などにより、ベタ着色層、絵柄
印刷層、情報表示印刷層などを設ける際、特に限定する
訳ではないが、印刷面をオーバーシートの下、例えば、
コアシート上に印刷することができるため、磁気記録層
の磁気特性に関係なく自由に印刷層を設けることができ
る。例えば、コアシート上に磁気記録層と同じ色彩の着
色印刷層を全面に設け、その上に絵柄や情報表示の印刷
層を設けてもよく、その場合には、最終製品である光回
折構造付き磁気カードに仕上げた時、磁気記録層と着色
印刷層とが同一の色彩を有するため、外側からは目視に
より磁気記録層の存在を確認することができず、隠蔽さ
れるようになり、磁気カードのセキュリティー性を高め
ることができる。In the case where the base sheet is composed of a laminate as described above, when a solid color layer, a picture print layer, an information display print layer, etc. are provided by printing or the like, there is no particular limitation. , Printing surface under the sheet, for example,
Since printing can be performed on the core sheet, the printing layer can be freely provided regardless of the magnetic characteristics of the magnetic recording layer. For example, a colored printing layer of the same color as the magnetic recording layer may be provided on the entire surface of the core sheet, and a printed layer of a picture or information display may be provided thereon. When the magnetic card is finished, since the magnetic recording layer and the colored printing layer have the same color, the presence of the magnetic recording layer cannot be visually confirmed from the outside, and the magnetic card becomes concealed. Security can be improved.
【0037】また、光回折構造の転写層は、下地の透過
性を有するので、着色印刷層およびその上に設けられた
絵柄印刷層や情報表示印刷層を目視により見ることがで
きる。更に、光回折構造の転写層をカードの基材シート
上の略全領域に設けることにより、意匠性が向上すると
同時に、光回折構造の転写層を剥がして他のカードに貼
り替えるなどの偽造が困難となりセキュリティー性も向
上する。Since the transfer layer of the light diffraction structure has the transparency of the base, the colored print layer and the picture print layer and the information display print layer provided thereon can be visually observed. Furthermore, by providing the transfer layer of the light diffraction structure in almost the entire area on the base sheet of the card, the design is improved, and at the same time, the forgery of peeling the transfer layer of the light diffraction structure and replacing it with another card is also possible. It becomes difficult and security is improved.
【0038】[0038]
【実施例】以下に、図面および具体的な実施例、比較例
を挙げて本発明を更に具体的に説明する。但し、本発明
はこれらの図面および実施例に限定されるものではな
い。また、図面に付した符号は、異なる図面においても
同じ名称の部分には同じ符号を用いた。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described more specifically below with reference to the drawings, specific examples, and comparative examples. However, the present invention is not limited to these drawings and examples. Further, the same reference numerals are used for the parts having the same names in different drawings.
【0039】図1は、本発明の転写シートの一実施例の
構成を説明する模式断面図である。図1において、転写
シート100は、支持体シート1の一方の面に離型性樹
脂層2を設け、その上(図では下側)に、光回折構造の
転写層7として、保護層3、光回折構造形成層4、光反
射層5、接着層6を順に積層して構成されている。尚、
支持体シート1のもう一方の面(図において上側の面)
に設けられた耐熱滑性層8は、転写手段にサーマルヘッ
ドのような加熱媒体を用いる場合などに、必要に応じて
設けられるものである。また、図には示していないが、
光反射層5を設けた後、その上に、必要に応じて光反射
層5を保護し、或いは、光反射層5と接着層6との接着
性を向上させるためのプライマーコート、またはアンカ
ーコートを施すことができる。FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining the structure of one embodiment of the transfer sheet of the present invention. In FIG. 1, a transfer sheet 100 is provided with a release resin layer 2 on one surface of a support sheet 1, and a protective layer 3 as a transfer layer 7 of an optical diffraction structure thereon (on the lower side in the figure). The light diffraction structure forming layer 4, the light reflecting layer 5, and the adhesive layer 6 are sequentially laminated. still,
The other surface of the support sheet 1 (upper surface in the figure)
The heat-resistant lubricating layer 8 provided as necessary is provided, for example, when a heating medium such as a thermal head is used for the transfer means. Although not shown in the figure,
After the light reflecting layer 5 is provided, a primer coat or an anchor coat is formed on the light reflecting layer 5 to protect the light reflecting layer 5 if necessary, or to improve the adhesion between the light reflecting layer 5 and the adhesive layer 6. Can be applied.
【0040】磁気カードなどの表面に光回折構造を設け
る場合には、上記のような構成の転写シート100を用
いて、その接着層6面を、例えば、磁気カードの表面に
重ね合わせて、熱プレス装置、ホットスタンピング装
置、サーマルヘッドなどのいずれかで、転写シート10
0の背面側から加熱圧着することにより、接着層6が溶
融または軟化し、磁気カード表面に接着する。その後、
支持体シート1を引き剥がすことにより、離型性樹脂層
2と保護層3との界面で容易に剥離し、保護層3を最外
層とする光回折構造の転写層7が磁気カードの表面に転
写される。When an optical diffraction structure is provided on the surface of a magnetic card or the like, the transfer sheet 100 having the above-described structure is used, and the adhesive layer 6 is superposed on the surface of the magnetic card, for example, and the heat is applied. The transfer sheet 10 may be formed by any of a pressing device, a hot stamping device, a thermal head, or the like.
By applying heat and pressure from the back side of the adhesive layer 6, the adhesive layer 6 is melted or softened and adheres to the magnetic card surface. afterwards,
By peeling the support sheet 1, it is easily peeled at the interface between the release resin layer 2 and the protective layer 3, and the transfer layer 7 of the light diffraction structure having the protective layer 3 as the outermost layer is formed on the surface of the magnetic card. Transcribed.
【0041】図2は、本発明の光回折構造付きカードの
一実施例の構成を説明する模式断面図である。図2にお
いて、光回折構造付きカード200は、カード用の基材
シート10の一方の面にテープ状などの磁気記録層11
が設けられ、その上に印刷層12が積層され、更にその
上に、前記図1に示した構成の転写シート100の光回
折構造の転写層7が転写により積層された構成である。
従って、基材シート10の印刷層12の上には、接着層
6、光反射層5、光回折構造形成層4、保護層3が順に
積層された構成である。この場合、印刷層12と光回折
構造の転写層7は、カード用の基材シート10片側の全
面に設けられているが、両者ともそれを設ける面、およ
びその領域などは任意に設けることができる。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating the structure of an embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention. In FIG. 2, a card 200 with an optical diffraction structure has a magnetic recording layer 11 such as a tape on one surface of a base sheet 10 for a card.
Is provided thereon, and the print layer 12 is laminated thereon, and further thereon, the transfer layer 7 of the light diffraction structure of the transfer sheet 100 having the configuration shown in FIG. 1 is laminated by transfer.
Therefore, the adhesive layer 6, the light reflection layer 5, the light diffraction structure forming layer 4, and the protective layer 3 are sequentially laminated on the printing layer 12 of the base sheet 10. In this case, the printing layer 12 and the transfer layer 7 of the light diffraction structure are provided on the entire surface of one side of the base sheet 10 for a card. it can.
【0042】このような構成を採ることにより、光回折
構造付きカード200の製造に際して、光回折構造を保
護層付きの転写シートとして予め用意することができる
ので、磁気カードなどの印刷に合わせて、大部数の場合
はもとより小部数の場合でも、迅速且つ容易に製造する
ことができる。そして、製造された光回折構造付きカー
ド200は、例えば、印刷層12の上の光回折構造を透
明型のホログラムや回折格子とすることにより、印刷層
12の絵柄や文字と光回折構造の両方を視認することが
でき、意匠性の向上と共に、偽造防止などセキュリティ
ー性も向上させることができる。By adopting such a configuration, when manufacturing the card 200 with the light diffraction structure, the light diffraction structure can be prepared in advance as a transfer sheet with a protective layer. Even in the case of a large number of copies as well as a small number of copies, it can be manufactured quickly and easily. The manufactured card 200 with the light diffraction structure is, for example, the light diffraction structure on the printing layer 12 is a transparent hologram or a diffraction grating, so that both the pattern and characters of the printing layer 12 and the light diffraction structure can be used. Can be visually recognized, and the security such as forgery prevention can be improved as well as the design.
【0043】また、光回折構造の転写層7の最外層の保
護層3は、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂を混合
した混合系の樹脂で形成されているので、電離放射線硬
化型樹脂単独で形成した場合と比較して、転写シート1
00の作製の際、離型性樹脂層2の上に、保護層3を塗
布、乾燥、硬化させて形成し、その上に光回折構造形成
層4以下、光反射層5、接着層6を積層しても、保護層
3と光回折構造形成層4との接着性は良好となり、ま
た、保護層3の耐擦傷性、耐摩耗性、そして、耐可塑剤
性に関しても、電離放射線硬化型樹脂により向上され、
優れた性能にすることができる。従って、磁気ヘッドな
どでカード200の表面が繰り返し擦られても、光回折
構造が損傷されることはなく、また、カード200を可
塑剤が添加されたケースに入れて、使用または保管して
も表面が侵されることはなく、耐久性に優れた光回折構
造付きカードを得ることができる。Further, since the outermost protective layer 3 of the transfer layer 7 of the light diffraction structure is formed of a mixed resin in which a thermoplastic resin is mixed with an ionizing radiation-curable resin, the ionizing radiation-curable resin alone is used. Transfer sheet 1
At the time of the production of No. 00, the protective layer 3 is formed on the release resin layer 2 by coating, drying and curing, and the light diffractive structure forming layer 4, the light reflecting layer 5, and the adhesive layer 6 are formed thereon. Even when the protective layer 3 is laminated, the adhesion between the protective layer 3 and the light diffraction structure forming layer 4 is improved, and the abrasion resistance, abrasion resistance, and plasticizer resistance of the protective layer 3 are also ionizing radiation curable. Improved by resin,
Excellent performance can be achieved. Therefore, even if the surface of the card 200 is repeatedly rubbed with a magnetic head or the like, the light diffraction structure is not damaged, and the card 200 is used or stored in a case to which a plasticizer is added. A card with an optical diffraction structure having excellent durability can be obtained without the surface being eroded.
【0044】以下に、実施例、比較例を挙げて更に具体
的に説明する。 〔実施例1〕 (転写シートの作製)光回折構造の転写シートを下記の
構成で作製した。 支持体シート/離型性樹脂層/保護層/光回折構造形成
層/光反射層/プライマー層/接着層 支持体シートとして、厚さ16μmのPETフィルム
(片面コロナ放電処理)を用い、そのコロナ放電処理面
に、離型性樹脂層として、メラミン系樹脂に酢酸セルロ
ース樹脂を重量比5:1で混合した系の樹脂層を、乾燥
時の塗布量が0.6g/m2 となるように塗布、乾燥し
て形成し、離型性樹脂層が積層された支持体シートを作
製した。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. Example 1 (Preparation of Transfer Sheet) A transfer sheet having an optical diffraction structure was prepared in the following configuration. Support sheet / Releasable resin layer / Protective layer / Light diffractive structure forming layer / Light reflecting layer / Primer layer / Adhesive layer A 16 μm thick PET film (one-sided corona discharge treatment) was used as the support sheet. A resin layer of a mixture of a melamine-based resin and a cellulose acetate resin in a weight ratio of 5: 1 was used as a mold-releasing resin layer on the discharge-treated surface so that the coating amount when dried was 0.6 g / m 2. A support sheet was formed by coating and drying, and a release resin layer was laminated on the support sheet.
【0045】上記離型性樹脂層の上に、保護層として、
電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂(電離放射線非硬
化性樹脂)を重量比6:4で混合した混合系の樹脂層を
硬化後の塗布量が1g/m2 となるように塗布、乾燥、
硬化して形成した。尚、前記電離放射線硬化型樹脂に
は、3官能アクリレート、5官能アクリレートのプレポ
リマー、オリゴマー、モノマーの適宜混合物を用いて、
光重合開始剤を添加し、熱可塑性樹脂にはポリメチルメ
タクリレート(PMMA)を用いた。従って、電離放射
線硬化型樹脂の硬化には、紫外線照射装置(出力160
W/cmの高圧水銀ランプ2灯式)を用いた。On the release resin layer, as a protective layer,
A resin layer of a mixed system in which a thermoplastic resin (non-ionizing radiation-curable resin) is mixed with an ionizing radiation-curable resin at a weight ratio of 6: 4 is applied so that the applied amount after curing is 1 g / m 2 , dried,
Formed upon curing. Incidentally, the ionizing radiation-curable resin, using a trifunctional acrylate, a prepolymer of pentafunctional acrylate, an oligomer, an appropriate mixture of monomers,
A photopolymerization initiator was added, and polymethyl methacrylate (PMMA) was used as the thermoplastic resin. Therefore, an ultraviolet irradiation device (output 160)
High-pressure mercury lamp of 2 W / cm).
【0046】次に、前記保護層の上に、光回折構造形成
層として、メラミンアクリレート(プレポリマー、オリ
ゴマー、光重合開始剤を含む)を塗布量2.0g/m2
となるように塗布し、その上にホログラムレリーフ版を
重ねて圧着し、背面側から紫外線を照射してメラミンア
クリレートを硬化させ、ホログラムレリーフを型付けし
た後、ホログラムレリーフ版を剥がして、ホログラムレ
リーフを備えた光回折構造形成層を形成した。Next, a melamine acrylate (including a prepolymer, an oligomer and a photopolymerization initiator) was coated on the protective layer as a light diffraction structure forming layer at a coating amount of 2.0 g / m 2.
After applying a hologram relief plate on top of the hologram relief plate, press-bonding it, irradiating ultraviolet rays from the back side to cure the melamine acrylate, molding the hologram relief, peeling off the hologram relief plate, and removing the hologram relief The provided light diffraction structure forming layer was formed.
【0047】次に、前記光回折構造形成層のホログラム
レリーフ形成面に、真空蒸着法により、厚さ500Åの
TiO2 の薄膜層を形成して光反射層とした。次いで、
上記光反射層(TiO2 の薄膜層)の上に、プライマー
コート層として、耐熱性ポリエステル系樹脂層を、乾燥
時の塗布量が0.5g/m2 となるように塗布、乾燥し
て形成した。Next, on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer, a thin film layer of TiO 2 having a thickness of 500 ° was formed by a vacuum evaporation method to form a light reflecting layer. Then
A heat-resistant polyester-based resin layer is formed as a primer coat layer on the light reflection layer (TiO 2 thin film layer) so that the coating amount when dried is 0.5 g / m 2 and dried. did.
【0048】前記プライマーコート層の上に、接着層と
して、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体にアクリル酸エ
ステル樹脂を重量比2:1で混合した感熱接着剤層を、
乾燥時の塗布量が1.5g/m2 となるように塗布、乾
燥して形成し、実施例1の転写シートを作製した。On the primer coat layer, a heat-sensitive adhesive layer obtained by mixing a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer with an acrylate resin at a weight ratio of 2: 1 was used as an adhesive layer.
Coating and drying were performed so that the coating amount at the time of drying was 1.5 g / m 2, and a transfer sheet of Example 1 was produced.
【0049】(光回折構造付きカードの作製)前記のよ
うに作製した転写シートを用いて光回折構造付きカード
を作製するため、カード材として、表面に磁界の強さ6
00〔Oe〕の磁気テープ(厚さ20μm)を積層した
厚さ0.76mmのポリ塩化ビニルシート(白色コアシ
ート2枚、透明オーバーシート2枚の4層積層構成)の
磁気テープ積層面に、更に絵柄および文字を印刷したカ
ードを用意し、その印刷面に前記転写シートの接着層面
を合わせて、ホットスタンプ装置により、150℃、1
0kg/cm2 、1秒間の条件で加熱圧着して、転写シ
ートの光回折構造の転写層を転写し、実施例1の光回折
構造付きカードを作製した。(Production of Card with Light Diffraction Structure) In order to produce a card with a light diffraction structure using the transfer sheet produced as described above, a magnetic material having a surface with a magnetic field strength of 6
On a magnetic tape laminated surface of a 0.76 mm thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent over sheets, four-layer laminated structure) on which 00 [Oe] magnetic tapes (thickness: 20 μm) are laminated, Further, a card on which a pattern and characters are printed is prepared, and the printed layer is aligned with the adhesive layer surface of the transfer sheet.
The transfer layer of the light diffraction structure of the transfer sheet was transferred by thermocompression bonding under the condition of 0 kg / cm 2 for 1 second, and the card with the light diffraction structure of Example 1 was produced.
【0050】〔比較例1〕前記実施例1の転写シートの
構成において、保護層に用いた樹脂の種類のみを、電離
放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂を混合した混合系の樹
脂から、従来用いられていたメタクリル酸エステル共重
合体に変えて転写シートを作製し、また、この転写シー
トを用いて光回折構造付きカードを作製したほかは、総
て実施例1と同様に加工して比較例1の転写シート、お
よび光回折構造付きカードを作製した。[Comparative Example 1] In the structure of the transfer sheet of Example 1, only the kind of resin used for the protective layer was changed from a mixed resin obtained by mixing a thermoplastic resin to an ionizing radiation-curable resin. A transfer sheet was prepared in place of the methacrylate copolymer which had been used, and a card with an optical diffraction structure was prepared using this transfer sheet. 1 transfer sheet and a card with an optical diffraction structure.
【0051】〔性能評価および結果〕以上のように作製
した実施例1、および比較例1の光回折構造付きカード
を試料として、下記の項目について、それぞれ下記の試
験方法で性能試験を行い、その評価結果を表1にまとめ
て示した。[Performance Evaluation and Results] Using the cards with the optical diffraction structure of Example 1 and Comparative Example 1 produced as described above as samples, performance tests were performed on the following items by the following test methods, respectively. The evaluation results are shown in Table 1.
【0052】(1)耐摩耗試験 試験方法は、JIS K6902の2.9 耐摩耗性に記載
の測定装置(テーバー形アブレーザー)を用い、試験方
法は、JIS K7204摩耗輪によるプラスチックの
摩耗試験方法を準用し、試験片回転円板の回転速度45
±2rpm 、摩耗輪はCS−10F(米国 TELEDY
NE TABER社製 ASTM D1044−82に
記載のもの)を用い、荷重は500gfとして、「8.操
作」に記載の方法(但し、操作 8.1、8.6 、8.7 、8.8
は除く)で操作し、摩耗輪100回転ごとの摩耗度合い
を目視により判定し、各試験片の光回折構造の視認性が
損なわれ始めた時点の回数を記録し、その回数を表示し
た。(1) Abrasion resistance test The test method uses a measuring device (Taber-type ablaser) described in 2.9 Abrasion Resistance of JIS K6902, and the test method is the same as the plastic wear test method using JIS K7204 wear wheels. And the rotation speed of the test piece rotating disc 45
± 2 rpm, wear wheel is CS-10F (US TELEDY
The method described in “8. Operation” (however, operations 8.1, 8.6, 8.7, 8.8) was performed using a load of 500 gf using ASTM D1044-82 manufactured by NE TABER.
), The degree of wear was visually determined every 100 rotations of the worn wheel, the number of times when the visibility of the optical diffraction structure of each test piece began to be impaired was recorded, and the number of times was displayed.
【0053】(2)耐可塑剤性試験 各試料のカードを前後に3回完全に折り曲げ、その折り
曲げた部分と、折り曲げていない平滑部分に、それぞれ
ジオクチルフタレート(DOP)を滴下し、40℃の恒
温室に1週間放置した後、折り曲げ部と平滑部につい
て、保護層および光回折構造の画像の変化を目視と指触
により調べた。 (評価基準) ○:(良好)保護層に殆ど変化がなく、光回折構造の画
像を良好に視認できるもの ×:(不良)保護層が軟化し、または、光回折構造の画
像の視認性が低下したもの(2) Plasticizer resistance test The card of each sample was completely bent back and forth three times, and dioctyl phthalate (DOP) was dropped on the bent portion and the unfolded smooth portion, respectively. After being allowed to stand in a constant temperature room for one week, changes in images of the protective layer and the light diffraction structure of the bent portion and the smooth portion were examined by visual observation and finger touch. (Evaluation Criteria) :: (Good) The protective layer has almost no change, and the image of the light diffraction structure can be seen well. ×: (Defective) The protective layer is softened or the visibility of the image of the light diffraction structure is poor. What has fallen
【0054】(3)耐湿性試験 各試料のカードを前後に3回完全に折り曲げた後、50
℃の水中に1週間浸漬放置し、その折り曲げた部分と、
折り曲げていない平滑部分について、保護層および光回
折構造の変化を目視により調べた。 (評価基準) ○:(良好)保護層および光回折構造の画像に変化がな
いもの ×:(不良)表面に白化などの変化があり、光回折構造
の画像の視認性が低下したもの(3) Moisture resistance test After completely bending the card of each sample back and forth three times,
Immersed in water at ℃ for 1 week,
The changes in the protective layer and the optical diffraction structure were visually inspected for the unfolded smooth portion. (Evaluation Criteria) ○: (Good) No change in the image of the protective layer and the light diffraction structure ×: (Bad) Change in whitening or the like on the surface, resulting in reduced visibility of the image of the light diffraction structure
【0055】[0055]
【表1】 [Table 1]
【0056】表1に示した評価結果から明らかなよう
に、(1)のテーバー形アブレーザーによる耐摩耗試験
では、実施例1の光回折構造付きカードは、比較例1の
光回折構造付きカードよりも約3倍の耐摩耗性を有し、
(2)の耐可塑剤性についても、比較例1の光回折構造
付きカードは、平滑部、折り曲げ部とも、DOPにより
保護層が軟化し、光回折構造の画像の視認性の低下が認
められ、不良であったのに対して、実施例1の光回折構
造付きカードは、殆どDOPによる影響を受けず良好で
あった。また、(3)耐湿性に関しても、実施例1の光
回折構造付きカードが、平滑部、折り曲げ部とも、変化
がなく良好であったのに対して、比較例1の光回折構造
付きカードは、平滑部では変化がなく良好であったが、
折り曲げ部では表面に白化を生じ不良であった。以上の
ように、実施例1の光回折構造付きカードは、耐摩耗
性、耐可塑剤性、耐湿性のいずれにおいても、比較例1
のものより優れており、その保護層による向上効果が認
められた。As is clear from the evaluation results shown in Table 1, in the abrasion resistance test using the Taber-type ab laser in (1), the card with the light diffraction structure of Example 1 was the same as the card with the light diffraction structure of Comparative Example 1. About three times more wear resistant than
Regarding the plasticizer resistance (2), in the card with the light diffraction structure of Comparative Example 1, the protective layer was softened by DOP in both the smooth portion and the bent portion, and the visibility of the image of the light diffraction structure was reduced. In contrast, the card with the light diffraction structure of Example 1 was good without being affected by DOP. (3) Regarding the moisture resistance, the card with the light diffraction structure of Example 1 was good without any change in the smooth portion and the bent portion, whereas the card with the light diffraction structure of Comparative Example 1 was good. , But there was no change in the smooth part and it was good,
In the bent part, whitening occurred on the surface, which was defective. As described above, the card with the light diffraction structure of Example 1 shows a comparative example 1 in all of abrasion resistance, plasticizer resistance and moisture resistance.
And the effect of the protective layer was observed.
【0057】[0057]
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、磁気カードなどのカード類に光回折構造を簡便に
転写できる転写シートであって、転写された光回折構造
を含む転写層が、耐擦傷性、耐摩耗性、耐可塑剤性、耐
湿性のほか、各層の接着性に優れ、例えば、光回折構造
を含む転写層が、磁気カードの磁気記録層の上に転写さ
れた場合でも、磁気ヘッドにより繰り返し行われる摩擦
に耐え、光回折構造が損傷されることがなく、また、そ
の磁気カードが可塑剤を含むケースなどに収納されて、
長期間携帯使用、或いは保管されても、光回折構造を含
む転写層が可塑剤で軟化し、或いはブロッキングなどに
より表面が汚染されるようなこともないという性能に優
れた光回折構造を転写できる転写シートを提供し、且
つ、それを用いて製造された耐擦傷性、耐摩耗性、耐可
塑剤性、耐湿性などの性能に優れると共に、意匠性、セ
キュリティー性に優れた光回折構造付きカードを生産性
よく提供できる効果を奏する。As described above in detail, according to the present invention, a transfer sheet capable of easily transferring a light diffraction structure to cards such as a magnetic card, wherein a transfer layer including the transferred light diffraction structure is provided. , In addition to scratch resistance, abrasion resistance, plasticizer resistance, moisture resistance, excellent adhesion of each layer, for example, when a transfer layer containing an optical diffraction structure is transferred onto the magnetic recording layer of a magnetic card However, it withstands the friction repeatedly performed by the magnetic head, the light diffraction structure is not damaged, and the magnetic card is stored in a case containing a plasticizer, etc.
Even when used or stored for a long period of time, it is possible to transfer an optical diffraction structure excellent in performance such that the transfer layer including the optical diffraction structure is not softened by a plasticizer or the surface is not contaminated by blocking or the like. A card with an optical diffraction structure that provides a transfer sheet and has excellent performance such as abrasion resistance, abrasion resistance, plasticizer resistance, and moisture resistance, and is also excellent in design and security. Is provided with high productivity.
【図1】本発明の転写シートの一実施例の構成を説明す
る模式断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating the configuration of an embodiment of a transfer sheet of the present invention.
【図2】本発明の光回折構造付きカードの一実施例の構
成を説明する模式断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating the configuration of an embodiment of a card with a light diffraction structure of the present invention.
1 支持体シート 2 離型性樹脂層 3 保護層 4 光回折構造形成層 5 光反射層 6 接着層 7 転写層 8 耐熱滑性層(背面層) 10 基材シート 11 磁気記録層 12 印刷層 100 転写シート 200 光回折構造付きカード REFERENCE SIGNS LIST 1 support sheet 2 release resin layer 3 protective layer 4 light diffractive structure forming layer 5 light reflective layer 6 adhesive layer 7 transfer layer 8 heat resistant slip layer (back layer) 10 base sheet 11 magnetic recording layer 12 print layer 100 Transfer sheet 200 Card with light diffraction structure
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B44F 1/12 B44F 1/12 G03H 1/18 G03H 1/18 Fターム(参考) 2C005 HA10 HA18 HB01 HB09 JA01 JB09 KA03 KA07 KA37 LA05 LA30 2K008 AA13 EE01 GG01 GG05 3B005 EA12 EB01 EC01 EC02 FA04 FB11 FB21 FB61 FC02Y FC08Y FC12Y FC20Y FD06Y FF00 GA02 GB01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B44F 1/12 B44F 1/12 G03H 1/18 G03H 1/18 F term (Reference) 2C005 HA10 HA18 HB01 HB09 JA01 JB09 KA03 KA07 KA37 LA05 LA30 2K008 AA13 EE01 GG01 GG05 3B005 EA12 EB01 EC01 EC02 FA04 FB11 FB21 FB61 FC02Y FC08Y FC12Y FC20Y FD06Y FF00 GA02 GB01
Claims (3)
回折構造を含む転写層が、転写可能に設けられてなる転
写シートにおいて、該転写層が支持体シート側から、少
なくとも保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着層
が順に積層された積層体で形成され、且つ、該保護層
が、電離放射線硬化型樹脂に少なくとも熱可塑性樹脂を
混合した混合系の樹脂で形成されていることを特徴とす
る転写シート。1. A transfer sheet having a transfer layer including an optical diffraction structure provided on at least one surface of a support sheet so as to be transferable, wherein the transfer layer is at least a protective layer and a light The diffraction structure forming layer, the light reflecting layer, and the adhesive layer are formed in a laminated body in order, and the protective layer is formed of a mixed resin obtained by mixing at least a thermoplastic resin with an ionizing radiation-curable resin. A transfer sheet.
含有量が、30〜70重量%であることを特徴とする請
求項1記載の転写シート。2. The transfer sheet according to claim 1, wherein the thermoplastic resin content of the mixed resin of the protective layer is 30 to 70% by weight.
されてなるカードにおいて、該光回折構造が、前記請求
項1または2に記載の転写シートの転写層の転写により
設けられていることを特徴とする光回折構造付きカー
ド。3. A card having a light diffraction structure laminated on at least one surface thereof, wherein the light diffraction structure is provided by transferring a transfer layer of the transfer sheet according to claim 1 or 2. A card with a light diffraction structure.
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Legal Events
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041005 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041202 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050105 |