JP2001322271A - インクジェット記録ヘッド - Google Patents
インクジェット記録ヘッドInfo
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- JP2001322271A JP2001322271A JP2000141746A JP2000141746A JP2001322271A JP 2001322271 A JP2001322271 A JP 2001322271A JP 2000141746 A JP2000141746 A JP 2000141746A JP 2000141746 A JP2000141746 A JP 2000141746A JP 2001322271 A JP2001322271 A JP 2001322271A
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- Japan
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- liquid chamber
- vibration
- ink
- groove
- recording head
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は静電引力で変位される振動板の振動の
隣接する液室への伝搬を防止して高精度にインク滴を吐
出するインクジェット記録ヘッドを提供する。 【解決手段】インクジェット記録ヘッド1は、支持体
2、下基板3、上基板4及びノズルプレート5が順次積
層されており、下基板3には凹状の対向壁31が形成さ
れている。下基板3の各対向壁31の間は隔壁32で分
離され、対向壁31内には、個別電極層33と絶縁層3
4が積層されている。上基板4には、液室柱41で分割
される状態で複数の液室42が形成されており、各液室
42には、その底面に振動板45が形成されている。各
液室柱41の下の振動板45には、V字形状の防振溝4
6が形成されており、上基板4の上に、ノズル51の形
成されたノズルプレート5が接合されている。従って、
多チャンネル駆動時の振動板45の振動の隣接する液室
42への伝搬を防振溝46で抑制して相互干渉を抑制
し、安定したインク滴吐出性能を実現して記録画像の画
像品質を向上させる。
隣接する液室への伝搬を防止して高精度にインク滴を吐
出するインクジェット記録ヘッドを提供する。 【解決手段】インクジェット記録ヘッド1は、支持体
2、下基板3、上基板4及びノズルプレート5が順次積
層されており、下基板3には凹状の対向壁31が形成さ
れている。下基板3の各対向壁31の間は隔壁32で分
離され、対向壁31内には、個別電極層33と絶縁層3
4が積層されている。上基板4には、液室柱41で分割
される状態で複数の液室42が形成されており、各液室
42には、その底面に振動板45が形成されている。各
液室柱41の下の振動板45には、V字形状の防振溝4
6が形成されており、上基板4の上に、ノズル51の形
成されたノズルプレート5が接合されている。従って、
多チャンネル駆動時の振動板45の振動の隣接する液室
42への伝搬を防振溝46で抑制して相互干渉を抑制
し、安定したインク滴吐出性能を実現して記録画像の画
像品質を向上させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット記
録ヘッドに関し、詳細には、静電引力を利用して振動板
を変位させて、当該振動板上の液室を圧縮してインク滴
を吐出するインクジェット記録ヘッドに関する。
録ヘッドに関し、詳細には、静電引力を利用して振動板
を変位させて、当該振動板上の液室を圧縮してインク滴
を吐出するインクジェット記録ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】静電引力を利用してインク滴を吐出する
インクジェット記録ヘッドは、インク流路あるいはイン
ク室(以下、簡単化するために、インク室とする。)の
底面に振動板が配設されており、振動板との間に絶縁板
を挟んで電極板が配設されている。インク室の振動板と
対向する面にノズルが形成されており、振動板と電極と
の間に電圧が印加されることで、振動板が変形して、イ
ンクをノズルから吐出させる。
インクジェット記録ヘッドは、インク流路あるいはイン
ク室(以下、簡単化するために、インク室とする。)の
底面に振動板が配設されており、振動板との間に絶縁板
を挟んで電極板が配設されている。インク室の振動板と
対向する面にノズルが形成されており、振動板と電極と
の間に電圧が印加されることで、振動板が変形して、イ
ンクをノズルから吐出させる。
【0003】このようなインクジェット記録ヘッドは、
多チャンネル化される場合、液室柱で多数のインク室を
画成し、各インク室に上記振動板を配設して、当該振動
板と絶縁板を挟んで電極板が設けられている。そして、
各インク室の振動板を個別に振動させて、各インク室の
インクを吐出させる。
多チャンネル化される場合、液室柱で多数のインク室を
画成し、各インク室に上記振動板を配設して、当該振動
板と絶縁板を挟んで電極板が設けられている。そして、
各インク室の振動板を個別に振動させて、各インク室の
インクを吐出させる。
【0004】ところが、このような多チャンネルのイン
クジェット記録ヘッドは、振動板の変位を利用してイン
クを吐出させているため、他のインク室の振動板、特
に、隣接するインク室の振動板の駆動状況が相互に影響
するという相互干渉が発生し易いという問題があった。
例えば、駆動チャンネルの振動板の振動が、本来非駆動
のチャンネルの振動板やインク室に伝搬すると、当該非
駆動のチャンネルのノズルからインクが吐出されたり、
隣接する駆動チャネルの振動板が同時に振動してそれら
のインク室に加圧されるか圧力が不均一あるいは不安定
となってインク滴噴出特性(インク滴吐出特性)が、チ
ャンネルによって異なる等の問題があった。
クジェット記録ヘッドは、振動板の変位を利用してイン
クを吐出させているため、他のインク室の振動板、特
に、隣接するインク室の振動板の駆動状況が相互に影響
するという相互干渉が発生し易いという問題があった。
例えば、駆動チャンネルの振動板の振動が、本来非駆動
のチャンネルの振動板やインク室に伝搬すると、当該非
駆動のチャンネルのノズルからインクが吐出されたり、
隣接する駆動チャネルの振動板が同時に振動してそれら
のインク室に加圧されるか圧力が不均一あるいは不安定
となってインク滴噴出特性(インク滴吐出特性)が、チ
ャンネルによって異なる等の問題があった。
【0005】そして、上記相互干渉は、例えば、単チャ
ンネル駆動時のインク滴飛翔体積と多チャンネル駆動時
のインク滴飛翔体積の比、すなわち、(単チャンネル駆
動時のインク滴飛翔体積)/(多チャンネル駆動時のイ
ンク滴飛翔体積)×100(%)で表すことができる。
ンネル駆動時のインク滴飛翔体積と多チャンネル駆動時
のインク滴飛翔体積の比、すなわち、(単チャンネル駆
動時のインク滴飛翔体積)/(多チャンネル駆動時のイ
ンク滴飛翔体積)×100(%)で表すことができる。
【0006】したがって、多チャンネルのインクジェッ
ト記録ヘッドにおいて、全てのチャンネルで同じインク
滴噴射特性を実現するには、上記相互干渉を抑制する必
要がある。
ト記録ヘッドにおいて、全てのチャンネルで同じインク
滴噴射特性を実現するには、上記相互干渉を抑制する必
要がある。
【0007】そして、従来、複数のノズル孔と、該ノズ
ル孔の各々に連通する複数の独立の吐出室と、該吐出室
の少なくとも一方の壁の一部が機械的変形を起こすよう
になっている振動板と、該振動板を駆動する駆動手段
と、前記複数の吐出室にインクを供給する共通のインク
キャビティとを有するインクジェットヘッドを備え、前
記駆動手段に電気パルスを印加することにより、該駆動
手段に対応する前記振動板を前記吐出室の圧力が上昇す
る方向に変形させ、前記ノズル孔よりインク液滴を記録
紙に向け吐出するものにおいて、前記駆動手段が前記振
動板を静電気力により変形させる電極から成り、該電極
を基板上に形成したことを特徴とするインクジェット記
録装置が提案されている(特開平5−50601号公報
参照)。
ル孔の各々に連通する複数の独立の吐出室と、該吐出室
の少なくとも一方の壁の一部が機械的変形を起こすよう
になっている振動板と、該振動板を駆動する駆動手段
と、前記複数の吐出室にインクを供給する共通のインク
キャビティとを有するインクジェットヘッドを備え、前
記駆動手段に電気パルスを印加することにより、該駆動
手段に対応する前記振動板を前記吐出室の圧力が上昇す
る方向に変形させ、前記ノズル孔よりインク液滴を記録
紙に向け吐出するものにおいて、前記駆動手段が前記振
動板を静電気力により変形させる電極から成り、該電極
を基板上に形成したことを特徴とするインクジェット記
録装置が提案されている(特開平5−50601号公報
参照)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな公報記載のインクジェット記録ヘッドにあっては、
インクヘッドを多チャンネルのインクヘッドとした場
合、隣接するインク室の振動板の振動がインク室の壁や
振動板を介して隣接するインク室に伝搬し、インク滴噴
射特性の不均一等が発生して、画像品質が悪化するとい
う問題があった。
うな公報記載のインクジェット記録ヘッドにあっては、
インクヘッドを多チャンネルのインクヘッドとした場
合、隣接するインク室の振動板の振動がインク室の壁や
振動板を介して隣接するインク室に伝搬し、インク滴噴
射特性の不均一等が発生して、画像品質が悪化するとい
う問題があった。
【0009】そこで、請求項1記載の発明は、液室柱で
区切られインクの充填されている複数の液室の一部に設
けられた振動板と、当該振動板に所定のギャップをおい
て対向するとともに、隔壁で区切られて各液室に対向す
る位置に複数形成された対向壁と、を備え、振動板の振
動で液室に圧力を発生させて当該液室内のインクをノズ
ルから吐出させるインクジェット記録装置の各液室柱の
下の振動板と液室柱のうち少なくともいずれか一方に所
定形状の防振溝を形成することにより、多チャンネル駆
動時の振動板の変位を防振溝で吸収緩和して、隣接する
液室への振動の伝搬を抑制し、相互干渉を抑制して、安
定したインク滴吐出性能(インク滴噴出特性)を実現し
て、記録画像の画像品質を向上させることのできるイン
クジェット記録ヘッドを提供することを目的としてい
る。
区切られインクの充填されている複数の液室の一部に設
けられた振動板と、当該振動板に所定のギャップをおい
て対向するとともに、隔壁で区切られて各液室に対向す
る位置に複数形成された対向壁と、を備え、振動板の振
動で液室に圧力を発生させて当該液室内のインクをノズ
ルから吐出させるインクジェット記録装置の各液室柱の
下の振動板と液室柱のうち少なくともいずれか一方に所
定形状の防振溝を形成することにより、多チャンネル駆
動時の振動板の変位を防振溝で吸収緩和して、隣接する
液室への振動の伝搬を抑制し、相互干渉を抑制して、安
定したインク滴吐出性能(インク滴噴出特性)を実現し
て、記録画像の画像品質を向上させることのできるイン
クジェット記録ヘッドを提供することを目的としてい
る。
【0010】請求項2記載の発明は、各液室柱の下の振
動板に形成される防振溝を、その断面がV字型に形成す
ることにより、V字型の防振溝でより効果的に振動板の
変位を吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬をよ
り一層抑制し、相互干渉をより一層抑制して、より一層
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質をより一層向上させることのできるインクジェット
記録ヘッドを提供することを目的としている。
動板に形成される防振溝を、その断面がV字型に形成す
ることにより、V字型の防振溝でより効果的に振動板の
変位を吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬をよ
り一層抑制し、相互干渉をより一層抑制して、より一層
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質をより一層向上させることのできるインクジェット
記録ヘッドを提供することを目的としている。
【0011】請求項3記載の発明は、各液室柱の下の振
動板の防振溝及び液室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液
室柱の幅よりも狭く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも
狭く形成することにより、ノズルの形成されている部材
と液室の形成されている部材との接合及び液室の形成さ
れている部材と対向壁の形成されている部材との接合に
充分な強度を持たせ、記録画像の画像品質が良好で、か
つ、信頼性の良好なインクジェット記録ヘッドを提供す
ることを目的としている。
動板の防振溝及び液室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液
室柱の幅よりも狭く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも
狭く形成することにより、ノズルの形成されている部材
と液室の形成されている部材との接合及び液室の形成さ
れている部材と対向壁の形成されている部材との接合に
充分な強度を持たせ、記録画像の画像品質が良好で、か
つ、信頼性の良好なインクジェット記録ヘッドを提供す
ることを目的としている。
【0012】請求項4記載の発明は、液室柱に形成され
る防振溝を、液室の高さの1/2以上の溝深さに形成す
ることにより、振動板の変位をより一層吸収緩和して、
隣接する液室への振動の伝搬をより一層抑制し、相互干
渉をより一層抑制して、より一層安定したインク滴吐出
性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層向上さ
せることのできるインクジェット記録ヘッドを提供する
ことを目的としている。
る防振溝を、液室の高さの1/2以上の溝深さに形成す
ることにより、振動板の変位をより一層吸収緩和して、
隣接する液室への振動の伝搬をより一層抑制し、相互干
渉をより一層抑制して、より一層安定したインク滴吐出
性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層向上さ
せることのできるインクジェット記録ヘッドを提供する
ことを目的としている。
【0013】請求項5記載の発明は、液室柱に形成され
る防振溝を、ドライエッチングで形成することにより、
液室柱という狭い領域に深い防振溝を高精度に形成し
て、ノズルピッチが高密度な場合にも、防振溝で隣接す
る液室への振動の伝搬を抑制し、相互干渉を抑制して、
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質を向上させることのできるインクジェット記録ヘッ
ドを提供することを目的としている。
る防振溝を、ドライエッチングで形成することにより、
液室柱という狭い領域に深い防振溝を高精度に形成し
て、ノズルピッチが高密度な場合にも、防振溝で隣接す
る液室への振動の伝搬を抑制し、相互干渉を抑制して、
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質を向上させることのできるインクジェット記録ヘッ
ドを提供することを目的としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明のイ
ンクジェット記録ヘッドは、液室柱で区切られインクの
充填されている複数の液室と、前記液室内の前記インク
を吐出するノズルと、前記液室にインク流路で連通され
前記液室に前記インクを供給する共通液室と、前記各液
室の一部に設けられた振動板と、前記振動板に所定のギ
ャップをおいて対向するとともに、隔壁で区切られて前
記各液室に対向する位置に複数形成された対向壁と、を
備え、前記振動板の振動で前記液室に圧力を発生させて
当該液室内の前記インクを前記ノズルから吐出させるイ
ンクジェット記録装置において、前記各液室柱の下の前
記振動板と前記液室柱のうち少なくともいずれか一方に
所定形状の防振溝が形成されていることにより、上記目
的を達成している。
ンクジェット記録ヘッドは、液室柱で区切られインクの
充填されている複数の液室と、前記液室内の前記インク
を吐出するノズルと、前記液室にインク流路で連通され
前記液室に前記インクを供給する共通液室と、前記各液
室の一部に設けられた振動板と、前記振動板に所定のギ
ャップをおいて対向するとともに、隔壁で区切られて前
記各液室に対向する位置に複数形成された対向壁と、を
備え、前記振動板の振動で前記液室に圧力を発生させて
当該液室内の前記インクを前記ノズルから吐出させるイ
ンクジェット記録装置において、前記各液室柱の下の前
記振動板と前記液室柱のうち少なくともいずれか一方に
所定形状の防振溝が形成されていることにより、上記目
的を達成している。
【0015】上記構成によれば、液室柱で区切られイン
クの充填されている複数の液室の一部に設けられた振動
板と、当該振動板に所定のギャップをおいて対向すると
ともに、隔壁で区切られて各液室に対向する位置に複数
形成された対向壁と、を備え、振動板の振動で液室に圧
力を発生させて当該液室内のインクをノズルから吐出さ
せるインクジェット記録装置の各液室柱の下の振動板と
液室柱のうち少なくともいずれか一方に所定形状の防振
溝を形成しているので、多チャンネル駆動時の振動板の
変位を防振溝で吸収緩和して、隣接する液室への振動の
伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制して、安定
したインク滴吐出性能(インク滴噴出特性)を実現し
て、記録画像の画像品質を向上させることができる。
クの充填されている複数の液室の一部に設けられた振動
板と、当該振動板に所定のギャップをおいて対向すると
ともに、隔壁で区切られて各液室に対向する位置に複数
形成された対向壁と、を備え、振動板の振動で液室に圧
力を発生させて当該液室内のインクをノズルから吐出さ
せるインクジェット記録装置の各液室柱の下の振動板と
液室柱のうち少なくともいずれか一方に所定形状の防振
溝を形成しているので、多チャンネル駆動時の振動板の
変位を防振溝で吸収緩和して、隣接する液室への振動の
伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制して、安定
したインク滴吐出性能(インク滴噴出特性)を実現し
て、記録画像の画像品質を向上させることができる。
【0016】この場合、例えば、請求項2に記載するよ
うに、前記各液室柱の下の前記振動板に形成された前記
防振溝は、その断面がV字型であってもよい。
うに、前記各液室柱の下の前記振動板に形成された前記
防振溝は、その断面がV字型であってもよい。
【0017】上記構成によれば、各液室柱の下の振動板
に形成される防振溝を、その断面がV字型に形成してい
るので、V字型の防振溝でより効果的に振動板の変位を
吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬をより一層
抑制することができ、相互干渉をより一層抑制して、よ
り一層安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像
の画像品質をより一層向上させることができる。
に形成される防振溝を、その断面がV字型に形成してい
るので、V字型の防振溝でより効果的に振動板の変位を
吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬をより一層
抑制することができ、相互干渉をより一層抑制して、よ
り一層安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像
の画像品質をより一層向上させることができる。
【0018】また、例えば、請求項3に記載するよう
に、前記各液室柱の下の前記振動板に形成された前記防
振溝及び前記液室柱に形成された前記防振溝は、その溝
幅が、前記液室間の前記液室柱の幅よりも狭く、かつ、
前記対向壁間の前記隔壁の幅よりも狭いものであっても
よい。
に、前記各液室柱の下の前記振動板に形成された前記防
振溝及び前記液室柱に形成された前記防振溝は、その溝
幅が、前記液室間の前記液室柱の幅よりも狭く、かつ、
前記対向壁間の前記隔壁の幅よりも狭いものであっても
よい。
【0019】上記構成によれば、各液室柱の下の振動板
の防振溝及び液室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液室柱
の幅よりも狭く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも狭く
形成しているので、ノズルの形成されている部材と液室
の形成されている部材との接合及び液室の形成されてい
る部材と対向壁の形成されている部材との接合に充分な
強度を持たせることができ、記録画像の画像品質が良好
で、かつ、信頼性の良好なものとすることができる。
の防振溝及び液室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液室柱
の幅よりも狭く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも狭く
形成しているので、ノズルの形成されている部材と液室
の形成されている部材との接合及び液室の形成されてい
る部材と対向壁の形成されている部材との接合に充分な
強度を持たせることができ、記録画像の画像品質が良好
で、かつ、信頼性の良好なものとすることができる。
【0020】さらに、例えば、請求項4に記載するよう
に、前記液室柱に形成された前記防振溝は、その溝深さ
が、前記液室の高さの1/2以上であってもよい。
に、前記液室柱に形成された前記防振溝は、その溝深さ
が、前記液室の高さの1/2以上であってもよい。
【0021】上記構成によれば、液室柱に形成される防
振溝を、液室の高さの1/2以上の溝深さに形成してい
るので、振動板の変位をより一層吸収緩和して、隣接す
る液室への振動の伝搬をより一層抑制することができ、
相互干渉をより一層抑制して、より一層安定したインク
滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層
向上させることができる。
振溝を、液室の高さの1/2以上の溝深さに形成してい
るので、振動板の変位をより一層吸収緩和して、隣接す
る液室への振動の伝搬をより一層抑制することができ、
相互干渉をより一層抑制して、より一層安定したインク
滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層
向上させることができる。
【0022】また、例えば、請求項5に記載するよう
に、前記液室柱に形成された前記防振溝は、ドライエッ
チングで形成されていてもよい。
に、前記液室柱に形成された前記防振溝は、ドライエッ
チングで形成されていてもよい。
【0023】上記構成によれば、液室柱に形成される防
振溝を、ドライエッチングで形成しているので、液室柱
という狭い領域に深い防振溝を高精度に形成して、ノズ
ルピッチが高密度な場合にも、防振溝で隣接する液室へ
の振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制し
て、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の
画像品質を向上させることができる。
振溝を、ドライエッチングで形成しているので、液室柱
という狭い領域に深い防振溝を高精度に形成して、ノズ
ルピッチが高密度な場合にも、防振溝で隣接する液室へ
の振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制し
て、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の
画像品質を向上させることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
【0025】図1〜図15は、本発明のインクジェット
記録ヘッドの第1の実施の形態を示す図であり、図1
は、本発明のインクジェット記録ヘッドの第1の実施の
形態を適用したインクジェット記録ヘッド1の長辺方向
断面図、図2は、当該インクジェット記録ヘッド1の短
辺方向断面図である。
記録ヘッドの第1の実施の形態を示す図であり、図1
は、本発明のインクジェット記録ヘッドの第1の実施の
形態を適用したインクジェット記録ヘッド1の長辺方向
断面図、図2は、当該インクジェット記録ヘッド1の短
辺方向断面図である。
【0026】図1及び図2において、インクジェット記
録ヘッド1は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズ
ルプレート5が順次積層された積層構造に形成されてお
り、支持体2は、ガラスあるいはシリコン基板で形成さ
れている。
録ヘッド1は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズ
ルプレート5が順次積層された積層構造に形成されてお
り、支持体2は、ガラスあるいはシリコン基板で形成さ
れている。
【0027】下基板3は、支持体2上にシリコン基板を
用いて形成されており、その上面に凹状の対向壁31が
インクジェット記録ヘッド1のチャンネル数だけ形成さ
れている。各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁3
2で分離され、この隔壁32の上面により、上基板4と
接合されている。下基板3の対向壁31内には、個別電
極層33と絶縁層34が積層されて形成されており、対
向壁31は、下基板3のシリコン基板をドライエッチン
グあるいはウェットエッチングすることにより形成され
ている。
用いて形成されており、その上面に凹状の対向壁31が
インクジェット記録ヘッド1のチャンネル数だけ形成さ
れている。各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁3
2で分離され、この隔壁32の上面により、上基板4と
接合されている。下基板3の対向壁31内には、個別電
極層33と絶縁層34が積層されて形成されており、対
向壁31は、下基板3のシリコン基板をドライエッチン
グあるいはウェットエッチングすることにより形成され
ている。
【0028】すなわち、下基板3として、(100)結
晶面を表面に有するシリコン基板上に熱酸化によりSi
O2 膜を形成した後、対向壁31のフォトレジストパタ
ーンを形成し、フッ素系エッチング液でSiO2 膜の露
出部分をエッチング除去した後、フォトレジストパター
ンを除去して、対向壁31を形成する。この対向壁31
上に、リン、ボロンを多量に含む多結晶シリコン、Ti
N等の高融点金属、あるいは、Al、Au等を成膜し
て、個別電極層33を形成する。この個別電極層33上
に、酸化シリコン膜、あるいは、窒化シリコン膜等を成
膜して、絶縁層34を形成する。この絶縁層34は、静
電アクチュエータを駆動するための駆動電圧が駆動電極
32に印加された際に絶縁破壊が発生しない膜厚に形成
されている。
晶面を表面に有するシリコン基板上に熱酸化によりSi
O2 膜を形成した後、対向壁31のフォトレジストパタ
ーンを形成し、フッ素系エッチング液でSiO2 膜の露
出部分をエッチング除去した後、フォトレジストパター
ンを除去して、対向壁31を形成する。この対向壁31
上に、リン、ボロンを多量に含む多結晶シリコン、Ti
N等の高融点金属、あるいは、Al、Au等を成膜し
て、個別電極層33を形成する。この個別電極層33上
に、酸化シリコン膜、あるいは、窒化シリコン膜等を成
膜して、絶縁層34を形成する。この絶縁層34は、静
電アクチュエータを駆動するための駆動電圧が駆動電極
32に印加された際に絶縁破壊が発生しない膜厚に形成
されている。
【0029】上基板4は、下基板3上にシリコン基板を
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、液室42に連
通する共通液室43及び共通液室43と各液室42を連
通するインク流路44が形成されている。上基板4の各
液室42には、その底面に振動板45が形成されてお
り、上記下基板3の個別電極層33及び絶縁層34は、
この各液室42の振動板45に対応する位置に、それぞ
れ形成されている。そして、上基板4の振動板45に
は、図3に示すように、防振溝46が形成されており、
防振溝46は、図3及び図4に示すように、V字形状に
形成されている。この防振溝46は、V字形状に限るも
のではなく、例えば、図5に示すように、その断面の側
面がテーパー面となっている台形形状の防振溝46aで
あってもよいし、図6に示すように、その断面の側面が
垂直面となっている角形状の防振溝46bであってもよ
い。防振溝46は、液室柱41の真下の振動板45であ
って、上基板4と下基板3の接合位置、すなわち、下基
板3の隔壁32と対向する位置に形成されている。
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、液室42に連
通する共通液室43及び共通液室43と各液室42を連
通するインク流路44が形成されている。上基板4の各
液室42には、その底面に振動板45が形成されてお
り、上記下基板3の個別電極層33及び絶縁層34は、
この各液室42の振動板45に対応する位置に、それぞ
れ形成されている。そして、上基板4の振動板45に
は、図3に示すように、防振溝46が形成されており、
防振溝46は、図3及び図4に示すように、V字形状に
形成されている。この防振溝46は、V字形状に限るも
のではなく、例えば、図5に示すように、その断面の側
面がテーパー面となっている台形形状の防振溝46aで
あってもよいし、図6に示すように、その断面の側面が
垂直面となっている角形状の防振溝46bであってもよ
い。防振溝46は、液室柱41の真下の振動板45であ
って、上基板4と下基板3の接合位置、すなわち、下基
板3の隔壁32と対向する位置に形成されている。
【0030】この上基板4は、図7から図14に示すよ
うにして、製造される。すなわち、まず、図7に示すよ
うに、p型のシリコン基板61を鏡面研磨して、厚さ2
00μmのシリコン基板61を作成し、シリコン基板6
1を酸素雰囲気中1000℃で、1時間の熱処理を施し
て、シリコン基板61の両面に厚さ約1μmのSiO 2
膜62を形成する。
うにして、製造される。すなわち、まず、図7に示すよ
うに、p型のシリコン基板61を鏡面研磨して、厚さ2
00μmのシリコン基板61を作成し、シリコン基板6
1を酸素雰囲気中1000℃で、1時間の熱処理を施し
て、シリコン基板61の両面に厚さ約1μmのSiO 2
膜62を形成する。
【0031】次に、振動板45となる側のSiO2 膜6
2に、図8に示すように、振動板45に対応する部分を
残して、フォトレジストパターン63を形成し、SiO
2 膜62の露出部分をフッ素系エッチング液でエッチン
グ除去した後、フォトレジストパターン63を除去す
る。このシリコン基板61の露出した部分に、図9に示
すように、振動板45となるボロン64をドープする。
ボロン64は、固体拡散により、振動板45の厚さ、例
えば、3μmの厚さの深さまで拡散させる。
2に、図8に示すように、振動板45に対応する部分を
残して、フォトレジストパターン63を形成し、SiO
2 膜62の露出部分をフッ素系エッチング液でエッチン
グ除去した後、フォトレジストパターン63を除去す
る。このシリコン基板61の露出した部分に、図9に示
すように、振動板45となるボロン64をドープする。
ボロン64は、固体拡散により、振動板45の厚さ、例
えば、3μmの厚さの深さまで拡散させる。
【0032】振動板45上に、図10に示すように、防
振溝46の形成部分を残して、フォトレジストパターン
65を形成し、SiO2 膜62の露出部分をエッチング
して、防振溝46を形成する。防振溝46を形成する
と、図11に示すように、フォトレジストパターン65
を除去する。
振溝46の形成部分を残して、フォトレジストパターン
65を形成し、SiO2 膜62の露出部分をエッチング
して、防振溝46を形成する。防振溝46を形成する
と、図11に示すように、フォトレジストパターン65
を除去する。
【0033】その後、図12に示すように、防振溝46
を形成したシリコン基板61の下に、上記対向壁31内
に駆動電極と絶縁層34の形成された下基板3を、80
0℃以上の温度で減圧または常圧の酸素、あるいは、窒
素雰囲気中で、直接接合で接合する。
を形成したシリコン基板61の下に、上記対向壁31内
に駆動電極と絶縁層34の形成された下基板3を、80
0℃以上の温度で減圧または常圧の酸素、あるいは、窒
素雰囲気中で、直接接合で接合する。
【0034】下基板3とシリコン基板61を接合する
と、図13に示すように、接合した下基板3とシリコン
基板61の周囲を、SiO2 膜66で被覆し、シリコン
基板61に液室42、インク流路44、共通液室43を
形成するために、下基板3と反対側のシリコン基板61
の表面のSiO2 膜66上にフォトレジストパターン6
7を形成する。
と、図13に示すように、接合した下基板3とシリコン
基板61の周囲を、SiO2 膜66で被覆し、シリコン
基板61に液室42、インク流路44、共通液室43を
形成するために、下基板3と反対側のシリコン基板61
の表面のSiO2 膜66上にフォトレジストパターン6
7を形成する。
【0035】このSiO2 膜66のフォトレジストパタ
ーン67で被覆されていない露出部分をフッ素系エッチ
ング液で除去する。このエッチングは、振動板45とな
るボロン64の拡散されている層で自発的に止まり、図
14に示すように、3μm厚の振動板45及び液室4
2、インク流路44、共通液室43、液室柱41に相当
する部分が形成される。最後に、フォトレジストパター
ン66を除去して、上基板4が形成される。
ーン67で被覆されていない露出部分をフッ素系エッチ
ング液で除去する。このエッチングは、振動板45とな
るボロン64の拡散されている層で自発的に止まり、図
14に示すように、3μm厚の振動板45及び液室4
2、インク流路44、共通液室43、液室柱41に相当
する部分が形成される。最後に、フォトレジストパター
ン66を除去して、上基板4が形成される。
【0036】再び、図1〜図3において、ノズルプレー
ト5は、シリコン基板等で形成され、上基板4の各液室
42に対応する位置に、ノズル51が形成されている。
ノズルプレート5は、直接接合法で、上基板4上に接合
される。
ト5は、シリコン基板等で形成され、上基板4の各液室
42に対応する位置に、ノズル51が形成されている。
ノズルプレート5は、直接接合法で、上基板4上に接合
される。
【0037】なお、インクジェット記録ヘッド1は、図
示しいないが、下基板3の各個別電極33と振動板45
に電圧印加部が接続されており、電圧印加部から駆動電
圧が振動板45と個別電極33との間に印加されると、
振動板45と対向壁31との間に静電引力が発生して、
振動板45が対向壁31側に撓んで液室42が拡大す
る。液室42が拡大すると、共通液室43からインク流
路44を経由してインクが液室42に供給される。
示しいないが、下基板3の各個別電極33と振動板45
に電圧印加部が接続されており、電圧印加部から駆動電
圧が振動板45と個別電極33との間に印加されると、
振動板45と対向壁31との間に静電引力が発生して、
振動板45が対向壁31側に撓んで液室42が拡大す
る。液室42が拡大すると、共通液室43からインク流
路44を経由してインクが液室42に供給される。
【0038】次に、電圧印加部から振動板45と個別電
極33との間に印加されていた駆動電圧が解除される
と、振動板45がその弾性復帰力によって復帰し、液室
42の容積が加圧収縮されて、液室42内のインクの一
部がノズルプレート5のノズル51からインク滴として
吐出される。
極33との間に印加されていた駆動電圧が解除される
と、振動板45がその弾性復帰力によって復帰し、液室
42の容積が加圧収縮されて、液室42内のインクの一
部がノズルプレート5のノズル51からインク滴として
吐出される。
【0039】次に、本実施の形態の作用を説明する。本
実施の形態のインクジェット記録ヘッド1は、多チャン
ネル駆動の際に他の液室42の振動板45の振動が他の
液室に伝搬することを防振溝46で防止して、インク滴
噴射特性を均一にし、画像品質を向上させる。
実施の形態のインクジェット記録ヘッド1は、多チャン
ネル駆動の際に他の液室42の振動板45の振動が他の
液室に伝搬することを防振溝46で防止して、インク滴
噴射特性を均一にし、画像品質を向上させる。
【0040】すなわち、インクジェット記録ヘッド1
は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズルプレート
5が順次積層された積層構造に形成されており、下基板
3には、凹状の対向壁31が形成されている。下基板3
の各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁32で分離
され、この隔壁32により、上基板4と接合されてい
る。下基板3の対向壁31内には、個別電極層33と絶
縁層34が積層されて形成されており、絶縁層34の膜
厚は、駆動電圧が個別電極層33に印加された際に絶縁
破壊が発生しない膜厚に形成されている。
は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズルプレート
5が順次積層された積層構造に形成されており、下基板
3には、凹状の対向壁31が形成されている。下基板3
の各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁32で分離
され、この隔壁32により、上基板4と接合されてい
る。下基板3の対向壁31内には、個別電極層33と絶
縁層34が積層されて形成されており、絶縁層34の膜
厚は、駆動電圧が個別電極層33に印加された際に絶縁
破壊が発生しない膜厚に形成されている。
【0041】上基板4は、下基板3上にシリコン基板を
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、共通液室43
及び共通液室43と各液室42を連通するインク流路4
4が形成されている。上基板4の各液室42には、その
底面に振動板45が形成されており、下基板3の個別電
極層33及び絶縁層34は、この各液室42の振動板4
5に対応する位置に、それぞれ形成されている。
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、共通液室43
及び共通液室43と各液室42を連通するインク流路4
4が形成されている。上基板4の各液室42には、その
底面に振動板45が形成されており、下基板3の個別電
極層33及び絶縁層34は、この各液室42の振動板4
5に対応する位置に、それぞれ形成されている。
【0042】そして、上基板4の液室柱41の真下の振
動板45には、図3に示したように、防振溝46が形成
されており、防振溝46は、図4に示すように、V字形
状に形成されているが、V字形状に限るものではなく、
図5に示したように、その断面の側面がテーパー面とな
っている台形形状の防振溝46aであってもよいし、図
6に示したように、その断面の側面が垂直面となってい
る角形状の防振溝46bであってもよい。防振溝46
は、液室柱41の真下の振動板45であって、上基板4
と下基板3の接合位置、すなわち、下基板3の隔壁32
と対向する位置に形成されている。
動板45には、図3に示したように、防振溝46が形成
されており、防振溝46は、図4に示すように、V字形
状に形成されているが、V字形状に限るものではなく、
図5に示したように、その断面の側面がテーパー面とな
っている台形形状の防振溝46aであってもよいし、図
6に示したように、その断面の側面が垂直面となってい
る角形状の防振溝46bであってもよい。防振溝46
は、液室柱41の真下の振動板45であって、上基板4
と下基板3の接合位置、すなわち、下基板3の隔壁32
と対向する位置に形成されている。
【0043】上基板4の上に、直接接合法で、ノズルプ
レート5が接合されており、ノズルプレート5には、上
基板4の各液室42に対応する位置に、ノズル51が形
成されている。
レート5が接合されており、ノズルプレート5には、上
基板4の各液室42に対応する位置に、ノズル51が形
成されている。
【0044】そして、インクジェット記録ヘッド1は、
例えば、そのノズル51の密度(ノズル密度)が150
dpiのヘッドの場合、約170μmのピッチで、液室
42が形成されており、液室42の幅を120μm、液
室42と液室42の間の液室柱41が、50μmの幅で
形成されている。
例えば、そのノズル51の密度(ノズル密度)が150
dpiのヘッドの場合、約170μmのピッチで、液室
42が形成されており、液室42の幅を120μm、液
室42と液室42の間の液室柱41が、50μmの幅で
形成されている。
【0045】この振動板45に形成する防振溝46の幅
(溝幅)Lmは、液室柱41の幅L1及び下基板3の隔
壁32の幅L2よりも狭く、すなわち、Lm<L1、L
m<L2、望ましくは、これらの接合部の幅L1、L2
の1/2以下、すなわち、Lm≦L1/2、Lm≦L2
/2の幅に形成されている。
(溝幅)Lmは、液室柱41の幅L1及び下基板3の隔
壁32の幅L2よりも狭く、すなわち、Lm<L1、L
m<L2、望ましくは、これらの接合部の幅L1、L2
の1/2以下、すなわち、Lm≦L1/2、Lm≦L2
/2の幅に形成されている。
【0046】このようにすることにより、上基板4の振
動板45と下基板3の隔壁32との接合部の接着強度の
不足による相互干渉や液室42に十分な加圧がされない
という現象を防止することができ、また、防振溝46の
溝幅Lmの肥大化により上基板4のハンドリングが悪化
して、インクジェット記録ヘッド1の製造上の歩留まり
が低下することを防止することができる。
動板45と下基板3の隔壁32との接合部の接着強度の
不足による相互干渉や液室42に十分な加圧がされない
という現象を防止することができ、また、防振溝46の
溝幅Lmの肥大化により上基板4のハンドリングが悪化
して、インクジェット記録ヘッド1の製造上の歩留まり
が低下することを防止することができる。
【0047】本出願人は、防振溝46の防振性能による
相互干渉を、振動板45の膜厚が3μmであるとき、振
動板45に形成した防振溝46による隣接する液室42
との相互干渉の緩和を実験で検証したところ、図15に
示すような結果を得た。
相互干渉を、振動板45の膜厚が3μmであるとき、振
動板45に形成した防振溝46による隣接する液室42
との相互干渉の緩和を実験で検証したところ、図15に
示すような結果を得た。
【0048】図15に示す形状Aは、図4に示したV字
形状の防振溝46を、形状Bは、図5に示した断面の側
面がテーパー面となっている台形形状の防振溝46a
を、形状Cは、図6に示した断面の側面が垂直面となっ
ている角形状の防振溝46bを、それぞれ示しており、
実験では、相互干渉は、形状A(図4のV字形状の防振
溝46)で、105%、形状B(図5の台形形状の防振
溝46a)で、133%、形状C(図6の角形状の防振
溝46b)で、140%であった。
形状の防振溝46を、形状Bは、図5に示した断面の側
面がテーパー面となっている台形形状の防振溝46a
を、形状Cは、図6に示した断面の側面が垂直面となっ
ている角形状の防振溝46bを、それぞれ示しており、
実験では、相互干渉は、形状A(図4のV字形状の防振
溝46)で、105%、形状B(図5の台形形状の防振
溝46a)で、133%、形状C(図6の角形状の防振
溝46b)で、140%であった。
【0049】なお、形状Aの防振溝46及び形状Bの防
振溝46aは、ウェットエッチングにより、形状Cの防
振溝46bは、ドライエッチングにより形成した。ま
た、相互干渉は、単チャンネル駆動時のインク滴飛翔体
積と多チャネンル駆動時のインク滴飛翔体積の比、すな
わち、(単チャンネル駆動時のインク滴飛翔体積)/
(多チャンネル駆動時のインク滴飛翔体積)×100
(%)で計算した。
振溝46aは、ウェットエッチングにより、形状Cの防
振溝46bは、ドライエッチングにより形成した。ま
た、相互干渉は、単チャンネル駆動時のインク滴飛翔体
積と多チャネンル駆動時のインク滴飛翔体積の比、すな
わち、(単チャンネル駆動時のインク滴飛翔体積)/
(多チャンネル駆動時のインク滴飛翔体積)×100
(%)で計算した。
【0050】このように、本実施の形態のインクジェッ
ト記録ヘッド1は、各液室柱41の下の振動板45にV
字形状の防振溝46を形成している。
ト記録ヘッド1は、各液室柱41の下の振動板45にV
字形状の防振溝46を形成している。
【0051】したがって、多チャンネル駆動時の振動板
45の変位を防振溝46で吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を
抑制して、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録
画像の画像品質を向上させることができる。
45の変位を防振溝46で吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を
抑制して、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録
画像の画像品質を向上させることができる。
【0052】また、本実施の形態のインクジェット記録
ヘッド1は、防振溝46を、その断面がV字型に形成し
ている。
ヘッド1は、防振溝46を、その断面がV字型に形成し
ている。
【0053】したがって、V字型の防振溝46でより効
果的に振動板45の変位を吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬をより一層抑制することができ、相
互干渉をより一層抑制して、より一層安定したインク滴
吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層向
上させることができる。
果的に振動板45の変位を吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬をより一層抑制することができ、相
互干渉をより一層抑制して、より一層安定したインク滴
吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をより一層向
上させることができる。
【0054】さらに、防振溝46の溝幅を、液室42間
の液室柱41の幅よりも狭く、かつ、対向壁31間の隔
壁32の幅よりも狭く形成している。
の液室柱41の幅よりも狭く、かつ、対向壁31間の隔
壁32の幅よりも狭く形成している。
【0055】したがって、液室42の形成されている部
材である上基板4と対向壁31の形成されている部材で
ある下基板3との接合に充分な強度を持たせることがで
き、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信頼性の良好
なものとすることができる。
材である上基板4と対向壁31の形成されている部材で
ある下基板3との接合に充分な強度を持たせることがで
き、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信頼性の良好
なものとすることができる。
【0056】図16〜図18は、本発明のインクジェッ
ト記録ヘッドの第2の実施の形態を示す図であり、図1
6は、本発明のインクジェット記録ヘッドの第2の実施
の形態を適用したインクジェット記録ヘッド70の長辺
方向断面図である。
ト記録ヘッドの第2の実施の形態を示す図であり、図1
6は、本発明のインクジェット記録ヘッドの第2の実施
の形態を適用したインクジェット記録ヘッド70の長辺
方向断面図である。
【0057】なお、本実施の形態は、上記第1の実施の
形態のインクジェット記録ヘッド1と同様のインクジェ
ット記録ヘッドに適用したものであり、本実施の形態の
説明においては、上記第1の実施の形態のインクジェッ
ト記録ヘッド1と同様の構成部分には、同一の符号を付
して、その詳細な説明を省略する。
形態のインクジェット記録ヘッド1と同様のインクジェ
ット記録ヘッドに適用したものであり、本実施の形態の
説明においては、上記第1の実施の形態のインクジェッ
ト記録ヘッド1と同様の構成部分には、同一の符号を付
して、その詳細な説明を省略する。
【0058】図16において、インクジェット記録ヘッ
ド70は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズルプ
レート5が順次積層された積層構造に形成されており、
下基板3には、凹状の対向壁31が形成されている。下
基板3の各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁32
で分離され、この隔壁32により、上基板4と接合され
ている。下基板3の対向壁31内には、個別電極層33
と絶縁層34が積層されて形成されており、絶縁層34
の膜厚は、駆動電圧が駆動電極32に印加された際に絶
縁破壊が発生しない膜厚に形成されている。
ド70は、支持体2、下基板3、上基板4及びノズルプ
レート5が順次積層された積層構造に形成されており、
下基板3には、凹状の対向壁31が形成されている。下
基板3の各対向壁31と対向壁31との間は、隔壁32
で分離され、この隔壁32により、上基板4と接合され
ている。下基板3の対向壁31内には、個別電極層33
と絶縁層34が積層されて形成されており、絶縁層34
の膜厚は、駆動電圧が駆動電極32に印加された際に絶
縁破壊が発生しない膜厚に形成されている。
【0059】上基板4は、下基板3上にシリコン基板を
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、共通液室43
及び共通液室43と各液室42を連通するインク流路4
4が形成されている。上基板4の各液室42には、その
底面に振動板45が形成されており、下基板3の個別電
極層33及び絶縁層34は、この各液室42の振動板4
5に対応する位置に、それぞれ形成されている。
用いて形成されており、上基板4には、液室柱41で分
割区画される状態で多チャンネルのインクジェット記録
ヘッド1のチャンネル数だけの液室42、共通液室43
及び共通液室43と各液室42を連通するインク流路4
4が形成されている。上基板4の各液室42には、その
底面に振動板45が形成されており、下基板3の個別電
極層33及び絶縁層34は、この各液室42の振動板4
5に対応する位置に、それぞれ形成されている。
【0060】そして、上基板4の各液室柱41には、所
定深さの防振溝71が形成されており、液室柱41に形
成されている防振溝71の形成位置は、ノズルプレート
5との接合面である。
定深さの防振溝71が形成されており、液室柱41に形
成されている防振溝71の形成位置は、ノズルプレート
5との接合面である。
【0061】防振溝71の溝幅Lmは、液室柱41とノ
ズルプレート5との接合部の接着強度の不足によるイン
ク漏れや相互干渉が生じたり、液室42に十分な加圧が
されない現象が発生したり、また、防振溝71の溝幅L
mの肥大化による上基板4のハンドリングが悪して、イ
ンクジェット記録ヘッド70の製造上の歩留まりが低下
するのを防止するために、対応する液室柱41とノズル
プレート5との接合部の幅L1及び下基板3の隔壁32
の幅L2よりも狭く、すなわち、Lm<L1、Lm<L
2、望ましくは、これらの接合部の幅L1、L2の1/
2以下、すなわち、Lm≦L1/2、Lm≦L2/2の
幅に形成されていることが望ましい。
ズルプレート5との接合部の接着強度の不足によるイン
ク漏れや相互干渉が生じたり、液室42に十分な加圧が
されない現象が発生したり、また、防振溝71の溝幅L
mの肥大化による上基板4のハンドリングが悪して、イ
ンクジェット記録ヘッド70の製造上の歩留まりが低下
するのを防止するために、対応する液室柱41とノズル
プレート5との接合部の幅L1及び下基板3の隔壁32
の幅L2よりも狭く、すなわち、Lm<L1、Lm<L
2、望ましくは、これらの接合部の幅L1、L2の1/
2以下、すなわち、Lm≦L1/2、Lm≦L2/2の
幅に形成されていることが望ましい。
【0062】また、防振溝71は、図17に示すよう
に、その溝深さHmが、液室42の高さHの1/2以上
に形成されている。このように、防振溝71の溝深さH
mを、液室42の高さHの1/2以上に形成すると、相
互干渉をより一層低減させることができる。
に、その溝深さHmが、液室42の高さHの1/2以上
に形成されている。このように、防振溝71の溝深さH
mを、液室42の高さHの1/2以上に形成すると、相
互干渉をより一層低減させることができる。
【0063】本出願人は、防振溝71の防振性能による
相互干渉を、ノズル51の密度(ノズル密度)が150
dpiで、約170μmのピッチで液室42を形成し、
液室42の幅が、120μm、液室42の高さHが、2
00μm、液室42と液室42の間の液室柱41の幅
が、50μmとしてた場合、防振溝71の幅Lmが20
μmであるとき、当該防振溝71の深さHmを、30μ
mから160μmまで、適宜変化させて相互干渉を測定
したところ、図18に示すような結果を得た。
相互干渉を、ノズル51の密度(ノズル密度)が150
dpiで、約170μmのピッチで液室42を形成し、
液室42の幅が、120μm、液室42の高さHが、2
00μm、液室42と液室42の間の液室柱41の幅
が、50μmとしてた場合、防振溝71の幅Lmが20
μmであるとき、当該防振溝71の深さHmを、30μ
mから160μmまで、適宜変化させて相互干渉を測定
したところ、図18に示すような結果を得た。
【0064】この実験結果から分かるように、防振溝7
1の溝深さHmを、液室42の高さHの1/2以上に形
成すると、相互干渉をより一層低減させることができ
る。
1の溝深さHmを、液室42の高さHの1/2以上に形
成すると、相互干渉をより一層低減させることができ
る。
【0065】なお、防振溝71を、ウェットエッチング
で形成すると、アンダーカットを生じるため、深くエッ
チングした際に、防振溝71の開口部が広がってしま
う。
で形成すると、アンダーカットを生じるため、深くエッ
チングした際に、防振溝71の開口部が広がってしま
う。
【0066】したがって、液室42の高さHの1/2以
上の深さの防振溝71を狭い領域で形成するには、ドラ
イエッチングを用いて行う必要がある。
上の深さの防振溝71を狭い領域で形成するには、ドラ
イエッチングを用いて行う必要がある。
【0067】このように、本実施の形態のインクジェッ
ト記録ヘッド70は、液室柱41に防振溝71を形成し
ている。
ト記録ヘッド70は、液室柱41に防振溝71を形成し
ている。
【0068】したがって、多チャンネル駆動時の振動板
45の変位を防振溝71で吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を
抑制して、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録
画像の画像品質を向上させることができる。
45の変位を防振溝71で吸収緩和して、隣接する液室
42への振動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を
抑制して、安定したインク滴吐出性能を実現して、記録
画像の画像品質を向上させることができる。
【0069】また、本実施の形態のインクジェット記録
ヘッド70は、防振溝71の溝幅を、液室42間の液室
柱41の幅よりも狭く、かつ、対向壁31間の隔壁32
の幅よりも狭く形成している。
ヘッド70は、防振溝71の溝幅を、液室42間の液室
柱41の幅よりも狭く、かつ、対向壁31間の隔壁32
の幅よりも狭く形成している。
【0070】したがって、ノズル51の形成されている
部材であるノズルプレート5と液室42の形成されてい
る部材である上基板4との接合に充分な強度を持たせる
ことができ、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信頼
性の良好なものとすることができる。
部材であるノズルプレート5と液室42の形成されてい
る部材である上基板4との接合に充分な強度を持たせる
ことができ、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信頼
性の良好なものとすることができる。
【0071】さらに、本実施の形態のインクジェット記
録ヘッド70は、防振溝71を、液室42の高さの1/
2以上の溝深さに形成している。
録ヘッド70は、防振溝71を、液室42の高さの1/
2以上の溝深さに形成している。
【0072】したがって、振動板45の変位をより一層
吸収緩和して、隣接する液室42への振動の伝搬をより
一層抑制することができ、相互干渉をより一層抑制し
て、より一層安定したインク滴吐出性能を実現して、記
録画像の画像品質をより一層向上させることができる。
吸収緩和して、隣接する液室42への振動の伝搬をより
一層抑制することができ、相互干渉をより一層抑制し
て、より一層安定したインク滴吐出性能を実現して、記
録画像の画像品質をより一層向上させることができる。
【0073】また、本実施の形態のインクジェット記録
ヘッド70は、液室柱41に形成される防振溝71を、
ドライエッチングで形成している。
ヘッド70は、液室柱41に形成される防振溝71を、
ドライエッチングで形成している。
【0074】したがって、液室柱41という狭い領域に
深い防振溝71を高精度に形成して、ノズルピッチが高
密度な場合にも、防振溝71で隣接する液室42への振
動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制して、
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質を向上させることができる。
深い防振溝71を高精度に形成して、ノズルピッチが高
密度な場合にも、防振溝71で隣接する液室42への振
動の伝搬を抑制することができ、相互干渉を抑制して、
安定したインク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像
品質を向上させることができる。
【0075】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
【0076】
【発明の効果】請求項1記載の発明のインクジェット記
録ヘッドによれば、液室柱で区切られインクの充填され
ている複数の液室の一部に設けられた振動板と、当該振
動板に所定のギャップをおいて対向するとともに、隔壁
で区切られて各液室に対向する位置に複数形成された対
向壁と、を備え、振動板の振動で液室に圧力を発生させ
て当該液室内のインクをノズルから吐出させるインクジ
ェット記録装置の各液室柱の下の振動板と液室柱のうち
少なくともいずれか一方に所定形状の防振溝を形成して
いるので、多チャンネル駆動時の振動板の変位を防振溝
で吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬を抑制す
ることができ、相互干渉を抑制して、安定したインク滴
吐出性能(インク滴噴出特性)を実現して、記録画像の
画像品質を向上させることができる。
録ヘッドによれば、液室柱で区切られインクの充填され
ている複数の液室の一部に設けられた振動板と、当該振
動板に所定のギャップをおいて対向するとともに、隔壁
で区切られて各液室に対向する位置に複数形成された対
向壁と、を備え、振動板の振動で液室に圧力を発生させ
て当該液室内のインクをノズルから吐出させるインクジ
ェット記録装置の各液室柱の下の振動板と液室柱のうち
少なくともいずれか一方に所定形状の防振溝を形成して
いるので、多チャンネル駆動時の振動板の変位を防振溝
で吸収緩和して、隣接する液室への振動の伝搬を抑制す
ることができ、相互干渉を抑制して、安定したインク滴
吐出性能(インク滴噴出特性)を実現して、記録画像の
画像品質を向上させることができる。
【0077】請求項2記載の発明のインクジェット記録
ヘッドによれば、各液室柱の下の振動板に形成される防
振溝を、その断面がV字型に形成しているので、V字型
の防振溝でより効果的に振動板の変位を吸収緩和して、
隣接する液室への振動の伝搬をより一層抑制することが
でき、相互干渉をより一層抑制して、より一層安定した
インク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をよ
り一層向上させることができる。
ヘッドによれば、各液室柱の下の振動板に形成される防
振溝を、その断面がV字型に形成しているので、V字型
の防振溝でより効果的に振動板の変位を吸収緩和して、
隣接する液室への振動の伝搬をより一層抑制することが
でき、相互干渉をより一層抑制して、より一層安定した
インク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質をよ
り一層向上させることができる。
【0078】請求項3記載の発明のインクジェット記録
ヘッドによれば、各液室柱の下の振動板の防振溝及び液
室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液室柱の幅よりも狭
く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも狭く形成している
ので、ノズルの形成されている部材と液室の形成されて
いる部材との接合及び液室の形成されている部材と対向
壁の形成されている部材との接合に充分な強度を持たせ
ることができ、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信
頼性の良好なものとすることができる。
ヘッドによれば、各液室柱の下の振動板の防振溝及び液
室柱の防振溝の溝幅を、液室間の液室柱の幅よりも狭
く、かつ、対向壁間の隔壁の幅よりも狭く形成している
ので、ノズルの形成されている部材と液室の形成されて
いる部材との接合及び液室の形成されている部材と対向
壁の形成されている部材との接合に充分な強度を持たせ
ることができ、記録画像の画像品質が良好で、かつ、信
頼性の良好なものとすることができる。
【0079】請求項4記載の発明のインクジェット記録
ヘッドによれば、液室柱に形成される防振溝を、液室の
高さの1/2以上の溝深さに形成しているので、振動板
の変位をより一層吸収緩和して、隣接する液室への振動
の伝搬をより一層抑制することができ、相互干渉をより
一層抑制して、より一層安定したインク滴吐出性能を実
現して、記録画像の画像品質をより一層向上させること
ができる。
ヘッドによれば、液室柱に形成される防振溝を、液室の
高さの1/2以上の溝深さに形成しているので、振動板
の変位をより一層吸収緩和して、隣接する液室への振動
の伝搬をより一層抑制することができ、相互干渉をより
一層抑制して、より一層安定したインク滴吐出性能を実
現して、記録画像の画像品質をより一層向上させること
ができる。
【0080】請求項5記載の発明のインクジェット記録
ヘッドによれば、液室柱に形成される防振溝を、ドライ
エッチングで形成しているので、液室柱という狭い領域
に深い防振溝を高精度に形成して、ノズルピッチが高密
度な場合にも、防振溝で隣接する液室への振動の伝搬を
抑制することができ、相互干渉を抑制して、安定したイ
ンク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質を向上
させることができる。
ヘッドによれば、液室柱に形成される防振溝を、ドライ
エッチングで形成しているので、液室柱という狭い領域
に深い防振溝を高精度に形成して、ノズルピッチが高密
度な場合にも、防振溝で隣接する液室への振動の伝搬を
抑制することができ、相互干渉を抑制して、安定したイ
ンク滴吐出性能を実現して、記録画像の画像品質を向上
させることができる。
【図1】本発明のインクジェット記録ヘッドの第1の実
施の形態を適用したインクジェット記録ヘッドの長辺方
向断面図。
施の形態を適用したインクジェット記録ヘッドの長辺方
向断面図。
【図2】図1のインクジェット記録ヘッドの短辺方向断
面図。
面図。
【図3】図1のインクジェット記録ヘッドの防塵溝を明
示した短辺方向断面図。
示した短辺方向断面図。
【図4】図3のインクジェット記録ヘッドの防振溝部分
の拡大正面断面図。
の拡大正面断面図。
【図5】防振溝の他の例を示す当該防振溝部分の拡大正
面断面図。
面断面図。
【図6】防振溝のさらに他の例を示す当該防振溝部分の
拡大正面断面図。
拡大正面断面図。
【図7】図1のインクジェット記録ヘッドの上基板のシ
リコン基板にSiO2 膜を形成した状態の製造工程の正
面断面図。
リコン基板にSiO2 膜を形成した状態の製造工程の正
面断面図。
【図8】図7のシリコン基板のSiO2 膜にフォトレジ
ストパターンを形成して露出部分をエッチング除去した
正面断面図。
ストパターンを形成して露出部分をエッチング除去した
正面断面図。
【図9】図8のエッチング部分に振動板となるボロンを
ドープした状態のシリコン基板の正面断面図。
ドープした状態のシリコン基板の正面断面図。
【図10】図9のボロンをドープした部分にフォトレジ
ストパターンを形成して露出部分をエッチングして防振
溝を形成した状態のシリコン基板の正面断面図。
ストパターンを形成して露出部分をエッチングして防振
溝を形成した状態のシリコン基板の正面断面図。
【図11】図10のフォトレジストパターンを除去した
状態のシリコン基板の正面断面図。
状態のシリコン基板の正面断面図。
【図12】図11のシリコン基板に下基板を接合した状
態の正面断面図。
態の正面断面図。
【図13】図12のシリコン基板と下基板にSiO2 膜
を形成した後、液室柱となる部分の上部にフォトレジス
トパターンを形成した状態の正面断面図。
を形成した後、液室柱となる部分の上部にフォトレジス
トパターンを形成した状態の正面断面図。
【図14】図13のシリコン基板をエッチングして液室
を形成した後、フォトレジストパターンを除去した状態
の正面断面図。
を形成した後、フォトレジストパターンを除去した状態
の正面断面図。
【図15】防振溝が図4から図6の場合の相互干渉の実
験結果を示す図。
験結果を示す図。
【図16】本発明のインクジェット記録ヘッドの第2の
実施の形態を適用したインクジェット記録ヘッドの短辺
方向断面図。
実施の形態を適用したインクジェット記録ヘッドの短辺
方向断面図。
【図17】図16の防振溝部分の拡大正面断面図。
【図18】図18の防振溝の深さを変化させた場合の相
互干渉の実験結果を示す図。
互干渉の実験結果を示す図。
1 インクジェット記録ヘッド 2 支持体 3 下基板 4 上基板 5 ノズルプレート 31 対向壁 32 隔壁 33 個別電極層 34 絶縁層 41 液室柱 42 液室 43 共通液室 44 インク流路 45 振動板 46、46a、46b 防振溝 51 ノズル 61 シリコン基板 62 SiO2 膜 63 フォトレジストパターン 64 ボロン 65 フォトレジストパターン 66 SiO2 膜 67 フォトレジストパターン 70 インクジェット記録ヘッド 71 防振溝
Claims (5)
- 【請求項1】液室柱で区切られインクの充填されている
複数の液室と、前記液室内の前記インクを吐出するノズ
ルと、前記液室にインク流路で連通され前記液室に前記
インクを供給する共通液室と、前記各液室の一部に設け
られた振動板と、前記振動板に所定のギャップをおいて
対向するとともに、隔壁で区切られて前記各液室に対向
する位置に複数形成された対向壁と、を備え、前記振動
板の振動で前記液室に圧力を発生させて当該液室内の前
記インクを前記ノズルから吐出させるインクジェット記
録装置において、前記各液室柱の下の前記振動板と前記
液室柱のうち少なくともいずれか一方に所定形状の防振
溝が形成されていることを特徴とするインクジェット記
録ヘッド。 - 【請求項2】前記各液室柱の下の前記振動板に形成され
た前記防振溝は、その断面がV字型であることを特徴と
する請求項1記載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項3】前記各液室柱の下の前記振動板に形成され
た前記防振溝及び前記液室柱に形成された前記防振溝
は、その溝幅が、前記液室間の前記液室柱の幅よりも狭
く、かつ、前記対向壁間の前記隔壁の幅よりも狭いこと
を特徴とする請求項1または請求項2記載のインクジェ
ット記録ヘッド。 - 【請求項4】前記液室柱に形成された前記防振溝は、そ
の溝深さが、前記液室の高さの1/2以上であることを
特徴とする請求項1記載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項5】前記液室柱に形成された前記防振溝は、ド
ライエッチングで形成されていることを特徴とする請求
項1または請求項4記載のインクジェット記録ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000141746A JP2001322271A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | インクジェット記録ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000141746A JP2001322271A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | インクジェット記録ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001322271A true JP2001322271A (ja) | 2001-11-20 |
Family
ID=18648823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000141746A Pending JP2001322271A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | インクジェット記録ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001322271A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100882041B1 (ko) * | 2005-10-17 | 2009-02-09 | 캐논 가부시끼가이샤 | 액체 토출 헤드 및 그 제조 방법 |
| JP2011025657A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | インクジェットヘッド及びインクジェットヘッドの製造方法 |
| US8123339B2 (en) | 2006-09-15 | 2012-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid ejection head and image forming apparatus using the same |
| CN105310721A (zh) * | 2014-07-31 | 2016-02-10 | 精工爱普生株式会社 | 超声波器件及其制造方法、探测器及电子设备 |
| US12343992B2 (en) | 2021-07-28 | 2025-07-01 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
-
2000
- 2000-05-15 JP JP2000141746A patent/JP2001322271A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7625069B2 (en) | 2005-10-17 | 2009-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head having hollow portions for relaxing stress in the head and manufacturing method of the same |
| US8123339B2 (en) | 2006-09-15 | 2012-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid ejection head and image forming apparatus using the same |
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| JP2016033970A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波デバイスおよびその製造方法並びにプローブおよび電子機器 |
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| CN105310721B (zh) * | 2014-07-31 | 2020-03-27 | 精工爱普生株式会社 | 超声波器件及其制造方法、探测器及电子设备 |
| US12343992B2 (en) | 2021-07-28 | 2025-07-01 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
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