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JP2001308171A - Packaging for back grind wafer and method for housing the same - Google Patents

Packaging for back grind wafer and method for housing the same

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Publication number
JP2001308171A
JP2001308171A JP2000126354A JP2000126354A JP2001308171A JP 2001308171 A JP2001308171 A JP 2001308171A JP 2000126354 A JP2000126354 A JP 2000126354A JP 2000126354 A JP2000126354 A JP 2000126354A JP 2001308171 A JP2001308171 A JP 2001308171A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
grind
wafers
transport container
back grind
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000126354A
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Japanese (ja)
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Inventor
Toshitsugu Yajima
敏嗣 矢島
Toshiyuki Kamata
俊行 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd, Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2000126354A priority Critical patent/JP4326115B2/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a packaging for back grind wafers and a method for housing the back grind wafers by which the danger of the resonance of the back grind wafers and the damage to the back grind wafers is suppressed, the secondary disaster consisting of harmful effect of the damaged back grind wafers on other back grind wafers is prevented, and the existing facilities can be used almost as they are. SOLUTION: Several distortion limiting adapters 15 among which several back grind wafers W are interposed with spaces are aligned and housed in a packaging body 2 of a conventional packaging 1 through supporting grooves in a cassette 5. Since the distortion limiting adapters 15 are in contact with the back grind wafers W and limit their distortion, the danger of contact between the back grind wafers W due to distortion or of break can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製品の生産
に使用されるシリコンウェーハ等のバックグラインドウ
ェーハの輸送容器及びバックグラインドウェーハの収納
方法に関し、より詳しくは、表面に電子回路の配線パタ
ーンが形成され、バックグラインド工程で裏面が研磨さ
れて極薄肉厚に精密加工されたウェーハの保管、輸送に
好適なバックグラインドウェーハの輸送容器及びバック
グラインドウェーハの収納方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transport container for back-grind wafers such as silicon wafers used in the production of semiconductor products and a method for storing back-grind wafers. The present invention relates to a back-grind wafer transport container and a back-grind wafer storage method suitable for storing and transporting a wafer that has been formed, the back surface of which has been polished in a back-grinding process and precision processed to an extremely thin thickness.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来におけるウェーハの輸送容器は、有
底筒形の容器本体と、この容器本体に収納され、複数枚
のウェーハを支持溝8を介して所定のピッチで整列収納
するカセット5と、容器本体の開口面をシール部材を介
して開閉する蓋体と、この蓋体の内面に選択的に装着さ
れるウェーハ抑えとから構成されている。ウェーハは、
口径が6″(約150mm) と8″(約200mm)のポ
リッシングタイプが現在量産されている。このウェーハ
の厚さとしては、現在625μm〜725μmが主流で
ある。
2. Description of the Related Art A conventional wafer transport container has a bottomed cylindrical container body, and a cassette 5 which is housed in the container body and aligns and stores a plurality of wafers at a predetermined pitch via support grooves 8. A lid for opening and closing the opening surface of the container body via a sealing member, and a wafer holder selectively mounted on the inner surface of the lid. The wafer is
Polishing types with diameters of 6 "(about 150 mm) and 8" (about 200 mm) are currently in mass production. Currently, the thickness of the wafer is mainly 625 μm to 725 μm.

【0003】ところで、ウェーハは、各種の処理加工が
施された表面に電子回路がパターン形成されると、バッ
クグラインド工程に供され、最終製品の厚さスペックに
合わせて裏面(背面)が研磨され、極薄(50μm〜30
4μm)に精密調整されたバックグラインドウェーハW
に加工される。このバックグラインドウェーハWは、表
面に電子回路がパターン形成されているので非常に高価
であり、しかも、実に撓みやすく、力学的に破損しやす
いので、慎重に取り扱う必要がある(この点につき、図
10参照)。
By the way, when an electronic circuit is formed on the front surface subjected to various processing processes, the wafer is subjected to a back grinding process, and the back surface (back surface) is polished according to the thickness specification of the final product. , Ultra-thin (50 μm-30
Back-grind wafer W precisely adjusted to 4 μm)
Processed into The back-grind wafer W is very expensive because an electronic circuit is formed on the surface thereof, and is very easy to bend and mechanically broken, so it is necessary to handle it carefully. 10).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来におけるウェーハ
の輸送容器は、以上のようにカセット5に複数枚のバッ
クグラインドウェーハWを支持溝8を介して単に整列収
納するだけなので、バックグラインドウェーハWを収納
して次工程のダイシング工程等のために別の場所に輸送
される場合には、バックグラインドウェーハWの厚さと
カセット5の支持溝8との寸法誤差が増大するためにガ
タツキ易く、輸送時の振動で比較的容易にバックグライ
ンドウェーハWの共振を招くこととなる。また、従来の
輸送容器には、バックグラインドウェーハWを抑える部
材がなんらセットされないので、揺れ幅が大きくなって
バックグラインドウェーハW同士が撓んで接触したり、
強度限界を超えて振動し、結果的にバックグラインドウ
ェーハWが損傷したり、破損するおそれが少なくない。
In the conventional wafer transport container, a plurality of back-ground wafers W are simply arranged and stored in the cassette 5 through the support grooves 8 as described above. When stored and transported to another place for the next dicing step, etc., the dimensional error between the thickness of the back-grinded wafer W and the support groove 8 of the cassette 5 increases, so that it is easy to loosen, Relatively easily causes resonance of the back-ground wafer W. Further, in the conventional transport container, since no member for suppressing the back-grind wafer W is set, the swing width becomes large and the back-grind wafers W bend and come into contact with each other,
Vibration exceeding the strength limit may result in damage or breakage of the back-ground wafer W.

【0005】さらに、大口径の複数枚のバックグライン
ドウェーハWや電子回路がパターン形成された複数枚の
バックグラインドウェーハWが輸送時に一枚でも損傷す
ると、破片等が他のバックグラインドウェーハWの電子
回路に悪影響を及ぼすという二次災害が発生する。この
場合、全バックグラインドウェーハWが使用不能になる
のが殆どなので、きわめて高額の金銭的損失が生じるこ
ととなる。
Further, if even a plurality of large-diameter back-grind wafers W or a plurality of back-grind wafers W on which electronic circuits are patterned are damaged during transportation, debris and the like are removed from other back-grind wafers W. A secondary disaster occurs that adversely affects the circuit. In this case, since all the back-grind wafers W are almost unusable, an extremely large financial loss occurs.

【0006】このような問題に鑑み、特開平9‐129
719号や特開平9‐246369号公報は、輸送容器
の容器本体に略円筒形の円筒部を立設し、この円筒部内
に複数枚のバックグラインドウェーハWをクッション材
を介して水平に積層収納するという方法を提案してい
る。しかしながら、この方法では、専用の設備が必要不
可欠となるので、既存の設備を到底使用することができ
ないという大きな問題が新たに発生することとなる。
In view of such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-129
No. 719 and JP-A-9-246369 disclose that a substantially cylindrical cylindrical portion is erected on a container body of a transport container, and a plurality of back-grind wafers W are horizontally stacked and stored in the cylindrical portion via a cushion material. We propose a way to do it. However, in this method, a dedicated facility is indispensable, and a large problem that existing facilities cannot be used at all is newly generated.

【0007】本発明は、上記に鑑みなされたもので、振
動で比較的容易にバックグラインドウェーハの共振を招
いたり、バックグラインドウェーハが損傷したり、破損
するおそれを有効に抑制除去し、損傷したバックグライ
ンドウェーハが他のバックグラインドウェーハに悪影響
を及ぼす二次災害を未然に防止し、しかも、既存の設備
を略そのまま使用することのできるバックグラインドウ
ェーハの輸送容器及びバックグラインドウェーハの収納
方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and effectively suppresses and eliminates the possibility of causing the back-grind wafer to resonate relatively easily due to vibration, or damaging or damaging the back-grind wafer. To provide a back-grind wafer transport container and a back-grind wafer storage method that can prevent a secondary disaster in which the back-grind wafer adversely affects other back-grind wafers and can use the existing equipment substantially as it is. It is intended to be.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、容器本体にバックグ
ラインドウェーハを収納するものであって、上記容器本
体に、上記バックグラインドウェーハを隙間を介して挟
む少なくとも一対の撓み規制アダプタを収納するように
したことを特徴としている。なお、各撓み規制アダプタ
の表裏両面に、上記バックグラインドウェーハに接触し
て撓みを規制する突部をそれぞれ形成することが好まし
い。また、各撓み規制アダプタに、回転規制部を形成す
ると良い。
According to the first aspect of the present invention, in order to achieve the above object, a back grinding wafer is housed in a container body, and the back grinding wafer is inserted into the container body by a gap. Characterized in that at least a pair of deflection regulating adapters sandwiched therebetween are housed. In addition, it is preferable to form projections on both the front and back surfaces of each of the bending restriction adapters, the projections being in contact with the back grinding wafer and restricting the bending. Further, it is preferable to form a rotation restricting portion on each of the bending restricting adapters.

【0009】また、請求項4記載の発明においては、上
記課題を達成するため、容器本体に、複数枚の撓み規制
アダプタと複数枚のバックグラインドウェーハとを、支
持溝を介して収納するバックグラインドウェーハの収納
方法であって、上記容器本体に、上記複数枚の撓み規制
アダプタが各バックグラインドウェーハを隙間を介して
挟むように収納することを特徴としている。
According to the present invention, in order to achieve the above object, a back grind for accommodating a plurality of deflection regulating adapters and a plurality of back grind wafers in a container body via a support groove. A method for accommodating wafers, wherein the plurality of deflection control adapters accommodate each back-grinded wafer in the container body so as to sandwich each back-grinded wafer via a gap.

【0010】ここで、特許請求の範囲における輸送容器
は、トップオープンボックスタイプでも良いし、フロン
トオープンボックスタイプでも良い。この輸送容器に複
数枚のバックグラインドウェーハを整列収納する手段と
しては、カセットに複数枚のバックグラインドウェーハ
を整列収納し、このカセットを容器本体に収納する方
法、容器本体の両内側壁に支持溝をそれぞれ一体成形
し、この複数の支持溝を利用して複数枚のバックグライ
ンドウェーハをカセットを省略して整列収納する方法等
があげられる。バックグラインドウェーハの材質や口径
サイズについては、シリコン、3″、6″、8″、1
2″等、必要に応じて適宜変更することができる。この
バックグラインドウェーハの枚数は、12枚、13枚、
24枚、25枚、26枚等とすることができる。
Here, the transport container in the claims may be a top open box type or a front open box type. As a means for aligning and storing a plurality of back-grind wafers in the transport container, a method of aligning and storing a plurality of back-grind wafers in a cassette and storing the cassette in a container body, supporting grooves on both inner side walls of the container body. Are formed integrally, and a plurality of back-ground wafers are aligned and stored using the plurality of support grooves without using a cassette. Regarding the material and diameter of the back-grind wafer, silicon, 3 ", 6", 8 ", 1"
The number of back-ground wafers can be changed as needed, such as 2 ″.
It can be 24 sheets, 25 sheets, 26 sheets, and the like.

【0011】請求項1又は4記載の発明によれば、輸送
容器が輸送等される場合に、この中に収納されたバック
グラインドウェーハが撓んでも、隙間を介して対向する
撓み規制アダプタがバックグラインドウェーハに接触し
てその撓みを制限する。
According to the first or fourth aspect of the invention, when the transport container is transported or the like, even if the back-grind wafer stored therein is bent, the deflection control adapter opposed to the back-grinding wafer through the gap is used as a back. It contacts the grind wafer and limits its deflection.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態を説明すると、本実施形態におけるバッ
クグラインドウェーハの輸送容器は、図1や図2に示す
ように、既存の輸送容器1の容器本体2に、複数枚のバ
ックグラインドウェーハWを隙間を介して挟装する複数
枚の撓み規制アダプタ15をカセット5の支持溝8を介
して着脱自在に整列収納するようにしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1 and FIG. A plurality of deflection regulating adapters 15 for sandwiching a plurality of back-grind wafers W via a gap are detachably arranged and accommodated in one container body 2 via a support groove 8 of a cassette 5.

【0013】輸送容器1は、図1に示すように、有底角
筒形の容器本体2と、この容器本体2に着脱自在に収納
され、複数枚のバックグラインドウェーハWと撓み規制
アダプタ15とを交互に整列収納するポリプロピレン製
のカセット5と、容器本体2の開口面をシール部材12
を介して開閉する蓋体9と、この蓋体9の内面に選択的
に装着されて複数枚のウェーハWを振動や衝撃から保護
するウェーハ抑え13とから従来と同様に構成されてい
る。容器本体2は、例えば耐薬品性等に優れるポリプロ
ピレン等を用いて半透明に射出成形されている。この容
器本体2の開口部外周は薄肉に成形されてシール部材1
2用の嵌合凹部3を形成し、容器本体2の両外側壁上部
からは複数のフック4がそれぞれ突出している。
As shown in FIG. 1, the transport container 1 has a bottomed rectangular cylindrical container body 2, and is removably housed in the container body 2, and includes a plurality of back-grind wafers W and a deflection regulating adapter 15. And a cassette member 5 made of polypropylene for alternately arranging and storing the container body 2 and a sealing member 12
And a wafer holder 13 selectively mounted on the inner surface of the lid 9 to protect a plurality of wafers W from vibration and impact. The container main body 2 is translucently injection-molded using, for example, polypropylene or the like having excellent chemical resistance. The outer periphery of the opening of the container body 2 is formed to be thin and the sealing member 1 is formed.
A plurality of fitting recesses 3 are formed, and a plurality of hooks 4 project from upper portions of both outer side walls of the container body 2.

【0014】カセット5は、同図に示すように、隙間を
おいて対向する左右一対の側壁6を備え、この一対の側
壁6の前後部間には端壁7がそれぞれ装架されている。
各側壁6の内面には、上下方向に伸びる複数の支持溝8
が前後方向に並設成形され、この複数の支持溝8が複数
枚のバックグラインドウェーハWと撓み規制アダプタ1
5とを所定のピッチで平行に位置決め整列収納する。蓋
体9は、耐衝撃性や耐熱性等に優れるポリカーボネート
等を用いてバックグラインドウェーハWの確認ができる
よう透明に射出成形され、両側壁の下部から揺動可能な
板状の係合片10がそれぞれ突出しており、各係合片1
0の複数の孔11がフック4に嵌入係止して容器本体2
の開口面を閉塞する。
As shown in FIG. 1, the cassette 5 has a pair of left and right side walls 6 facing each other with a gap therebetween, and end walls 7 are mounted between the front and rear portions of the pair of side walls 6, respectively.
The inner surface of each side wall 6 has a plurality of support grooves 8 extending vertically.
Are formed side by side in the front-rear direction, and the plurality of support grooves 8 are formed with the plurality of back-grind wafers W and the deflection regulating adapter 1.
And 5 are positioned, aligned, and stored in parallel at a predetermined pitch. The lid 9 is transparently injection-molded using polycarbonate or the like having excellent impact resistance and heat resistance so that the back-grind wafer W can be confirmed, and is a plate-like engagement piece 10 that can swing from the lower portions of both side walls. Are respectively protruding, and each engagement piece 1
The plurality of holes 11 of the container main body 2
Close the opening surface of the.

【0015】シール部材12は、同図に示すように、ポ
リエステル系エラストマー等の各種熱可塑性エラストマ
ーやシリコンゴム、フッ素ゴム等の合成ゴム等を使用し
て枠状に成形され、蓋体9のセット時に容器本体2の嵌
合凹部3にパッキンとして密嵌し、気密性を確保する。
ウェーハ抑え13は、耐衝撃性に優れるポリエステル系
エラストマー等からなる各種熱可塑性エラストマーやポ
リプロピレン等の合成樹脂を用いて基本的には略枠形に
射出成形され、蓋体9の内部に着脱自在に装着される。
このウェーハ抑え13の両側壁には、断面略L字形でば
ね性の支持片14が前後方向に並べて成形され、各支持
片14の先端部には、バックグラインドウェーハWと撓
み規制アダプタ15の上部外周縁を誘導して嵌入圧接す
るV溝が成形されており、各V溝が支持溝8内のバック
グラインドウェーハWと撓み規制アダプタ15の動きを
規制する。
As shown in FIG. 1, the sealing member 12 is formed in a frame shape using various thermoplastic elastomers such as polyester-based elastomer or synthetic rubber such as silicone rubber or fluorine rubber. Sometimes, it is tightly fitted as a packing in the fitting concave portion 3 of the container body 2 to secure airtightness.
The wafer retainer 13 is basically injection-molded into a substantially frame shape using various thermoplastic elastomers made of a polyester-based elastomer or the like having excellent impact resistance, or a synthetic resin such as polypropylene, and is detachably mounted inside the lid 9. Be attached.
On both side walls of the wafer holder 13, spring-like support pieces 14 having a substantially L-shaped cross section are formed in a line in the front-rear direction, and the front end of each support piece 14 has a back-grind wafer W and an upper part of a deflection regulating adapter 15. V-grooves are formed to guide the outer peripheral edge and press-fit against each other, and each V-groove regulates the movement of the back grinding wafer W in the support groove 8 and the deflection regulating adapter 15.

【0016】各撓み規制アダプタ15は、図2に示すよ
うに、所定の剛性を有するポリプロピレンやポリカーボ
ネート等の合成樹脂、セラミックやアルミニウム等の各
種金属を用いて形成されている。この撓み規制アダプタ
15は、バックグラインドウェーハWと略同じ大きさの
円板状に形成され、各バックグラインドウェーハWを他
のバックグラインドウェーハWから隔離する。
As shown in FIG. 2, each of the deflection restricting adapters 15 is formed of a synthetic resin having a predetermined rigidity such as polypropylene or polycarbonate, or various metals such as ceramic or aluminum. The deflection control adapter 15 is formed in a disk shape having substantially the same size as the back grinding wafer W, and separates each back grinding wafer W from other back grinding wafers W.

【0017】上記構成において、輸送容器1にバックグ
ラインドウェーハWを収納して輸送する場合には、先
ず、カセット5の前部から後部にかけて撓み規制アダプ
タ15とバックグラインドウェーハとを支持溝8を介し
交互に整列収納し、前後一対の撓み規制アダプタ15を
一組としてバックグラインドウェーハWを隙間を介して
挟装させる。そしてその後、容器本体2の開口面に、ウ
ェーハ抑え13付きの蓋体9をシール部材12を介して
密嵌し、ウェーハ抑え13の複数の支持片14にバック
グラインドウェーハWと撓み規制アダプタ15の動きを
規制させれば、輸送容器1に複数枚のバックグラインド
ウェーハWを適切に収納し、これを安全に輸送すること
が可能になる。
In the above configuration, when the back-grind wafer W is stored in the transport container 1 and transported, first, the deflection control adapter 15 and the back-grind wafer are supported via the support groove 8 from the front to the rear of the cassette 5. The back-grinding wafers W are alternately arranged and stored, and the back-grinding wafer W is sandwiched between the pair of front and rear deflection control adapters 15 as a set. After that, the lid 9 with the wafer holder 13 is tightly fitted to the opening surface of the container body 2 via the sealing member 12, and the back grinding wafer W and the bending restriction adapter 15 are fitted to the plurality of support pieces 14 of the wafer holder 13. If the movement is restricted, a plurality of back-ground wafers W can be appropriately stored in the transport container 1 and transported safely.

【0018】上記構成によれば、移動時や輸送時等の振
動でバックグラインドウェーハWが前後方向に撓んで
も、隣接する撓み規制アダプタ15がバックグラインド
ウェーハWの上部や中央部等に接触してそれ以上の撓み
を規制する。したがって、簡易な構成でバックグライン
ドウェーハW同士が撓んで接触したり、強度限界を超え
て振動し、バックグラインドウェーハWが損傷したり、
破損するおそれをきわめて有効に排除することができ
る。
According to the above configuration, even if the back grind wafer W bends in the front-rear direction due to vibrations during movement or transportation, the adjacent deflection regulating adapter 15 comes into contact with the upper portion, the center portion, or the like of the back grind wafer W. To limit further deflection. Therefore, with a simple configuration, the back-ground wafers W flex and come into contact with each other, vibrate beyond the strength limit, and the back-grind wafer W is damaged,
The possibility of breakage can be eliminated very effectively.

【0019】また、撓み規制アダプタ15が仕切板とし
ても機能するので、大口径の複数枚のバックグラインド
ウェーハWや電子回路がパターン形成された複数枚のバ
ックグラインドウェーハWが輸送時に一枚損傷しても、
破片等が他のバックグラインドウェーハWの電子回路に
悪影響を及ぼすおそれが全くない。よって、二次災害の
発生を防止し、全バックグラインドウェーハWが使用不
能になるのを未然に防止することが可能になる。また、
既存の輸送容器1をそのまま使用することができるの
で、専用の搬送設備や供給設備等をなんら必要とせず、
既存設備の有効利用が期待できて実に安価である。
Further, since the deflection regulating adapter 15 also functions as a partition plate, a plurality of large-diameter back-grind wafers W and a plurality of back-grind wafers W on which electronic circuits are patterned are damaged during transportation. Even
There is no possibility that debris or the like adversely affects the electronic circuit of another back-ground wafer W. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of the secondary disaster and prevent the entire back-grind wafer W from becoming unusable. Also,
Since the existing transport container 1 can be used as it is, no special transport equipment or supply equipment is required,
It can be expected to make effective use of existing facilities, and is inexpensive.

【0020】さらに、既存の輸送容器1をそのまま使用
するので、梱包時に余分な緩衝材を省略でき、これを通
じてコンパクトな梱包が大いに期待できる。さらにま
た、各撓み規制アダプタ15を支持溝8に収納可能な板
形状に形成するので、バックグラインドウェーハWをロ
ーディング、アンローディングする搬送装置で撓み規制
アダプタ15をバックグラインドウェーハW同様に取り
扱うことが可能になる。したがって、撓み規制アダプタ
15を扱うための新たな設備が不要となる。
Further, since the existing transport container 1 is used as it is, an extra cushioning material can be omitted at the time of packing, and through this, compact packing can be greatly expected. Furthermore, since each of the deflection control adapters 15 is formed in a plate shape that can be stored in the support groove 8, it is possible to handle the deflection control adapter 15 in the same manner as the back grind wafer W by a transfer device that loads and unloads the back grind wafer W. Will be possible. Therefore, new equipment for handling the deflection regulating adapter 15 is not required.

【0021】次に、図3や図4は本発明の第2の実施形
態を示すもので、この場合には、各撓み規制アダプタ1
5の表裏両面に、バックグラインドウェーハWに接触す
る左右一対の突部16をそれぞれ一体形成するようにし
ている。各突部16は、熱可塑性エラストマー等の柔軟
な材料を使用して正面棒状に成形され、バックグライン
ドウェーハWの挿入方向(図3の上方向から下方向)と平
行な関係となるよう、バックグラインドウェーハWの表
裏面にそれぞれ伸長形成されている。各突部16を一体
形成する手段としては、熱溶着や超音波溶着等の方法が
あげられる。その他の部分については、上記実施形態と
同様であるので説明を省略する。
FIG. 3 and FIG. 4 show a second embodiment of the present invention.
5, a pair of left and right protrusions 16 that are in contact with the back-grind wafer W are integrally formed on both front and back surfaces. Each protrusion 16 is formed into a front rod shape using a flexible material such as a thermoplastic elastomer, and is formed so as to be parallel to the insertion direction of the back grinding wafer W (from the upper direction to the lower direction in FIG. 3). The grinding wafer W is formed on the front and back surfaces of the grinding wafer W, respectively. Means for integrally forming the projections 16 include a method such as heat welding or ultrasonic welding. The other parts are the same as those in the above-described embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0022】本実施形態においても上記実施形態と同様
の作用効果が期待でき、しかも、移動時や輸送時等の振
動でバックグラインドウェーハWが撓んでも、隣接する
撓み規制アダプタ15から張り出した突部16がバック
グラインドウェーハWの上部や中央部等に接触してその
撓みを効果的に規制するので、バックグラインドウェー
ハWの撓み量をより減少させることができるのは明らか
である。また、各突部16を熱可塑性エラストマー等の
柔軟な材料で成形し、緩衝効果を確保すれば、撓み規制
アダプタ15が例え金属製でも、バックグラインドウェ
ーハWを損傷させるおそれが全くない。
In this embodiment, the same operation and effect as those of the above embodiment can be expected. Further, even if the back-grinding wafer W bends due to the vibration during the movement or the transportation, the protrusion protruding from the adjacent warp regulating adapter 15. Since the portion 16 contacts the upper portion, the center portion, and the like of the back-ground wafer W and effectively restricts its bending, it is apparent that the amount of bending of the back-ground wafer W can be further reduced. Further, if each protrusion 16 is formed of a flexible material such as a thermoplastic elastomer and the buffer effect is ensured, there is no risk of damaging the back-grind wafer W even if the deflection control adapter 15 is made of metal.

【0023】次に、図5や図6は本発明の第3の実施形
態を示すもので、この場合には、各撓み規制アダプタ1
5の表裏両面からバックグラインドウェーハWに接触す
る左右一対の突部16をそれぞれ突出させ、各撓み規制
アダプタ15の下部外周縁から略矩形の回転規制片17
を半径外方向に突出させ、この回転規制片17をバック
グラインドウェーハWの収納時にカセット5を形成する
一対の側壁6の下部間に嵌入(約3mm程度の隙間を有
する遊嵌をも含む)するようにしている。側壁6の下部
に対する回転規制片17の接触部分は、R状、C面状、
傾斜状に形成されるのが好ましい。その他の部分につい
ては、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
FIGS. 5 and 6 show a third embodiment of the present invention.
A pair of right and left protrusions 16 that come into contact with the back-grind wafer W are projected from both the front and back surfaces of the respective 5.
Are projected outward in the radial direction, and the rotation restricting piece 17 is fitted (including a loose fit having a gap of about 3 mm) between the lower portions of the pair of side walls 6 forming the cassette 5 when the back grind wafer W is stored. Like that. The contact portion of the rotation restricting piece 17 with the lower portion of the side wall 6 has an R shape, a C surface shape,
Preferably, it is formed in an inclined shape. The other parts are the same as those in the above-described embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0024】本実施形態においても上記実施形態と同様
の作用効果が期待でき、しかも、回転規制片17がカセ
ット5内部における撓み規制アダプタ15の回転を規制
するので、バックグラインドウェーハWを取り出す際に
取出ロボットのアームが撓み規制アダプタ15に触れる
おそれを有効に排除して作業の安全性を大幅に高めるこ
とができる。
In this embodiment, the same operation and effect as those in the above embodiment can be expected. Further, since the rotation restricting piece 17 restricts the rotation of the deflection restricting adapter 15 inside the cassette 5, the removal of the back-grind wafer W can be prevented. The risk of the arm of the take-out robot touching the deflection regulating adapter 15 can be effectively eliminated, and the safety of work can be greatly improved.

【0025】次に、図7ないし図9は本発明の第4の実
施形態を示すもので、この場合には、各撓み規制アダプ
タ15の表裏両面からバックグラインドウェーハWに接
触する断面半円形の突部16をそれぞれ複数並べて突出
させ、各撓み規制アダプタ15の下部外周縁から左右一
対の半円形の回転規制片17を半径外方向に並べて突出
させ、この一対の回転規制片17をバックグラインドウ
ェーハWの収納時にカセット5を形成する一対の側壁6
の下部間に嵌入(約3mm程度の隙間を有する遊嵌をも
含む)するようにしている。側壁6の下部に対する回転
規制片17の接触部分は、R状、C面状、傾斜状に形成
されるのが好ましい。その他の部分については、上記実
施形態と同様であるので説明を省略する。本実施形態に
おいても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、し
かも、各突部16や各回転規制片17の材料を減少させ
て安価に製造することができる。
Next, FIGS. 7 to 9 show a fourth embodiment of the present invention. In this case, a semicircular cross section that comes into contact with the back grinding wafer W from both the front and back surfaces of each deflection control adapter 15 is shown. A plurality of projections 16 are arranged and projected, respectively, and a pair of left and right semicircular rotation regulating pieces 17 are arranged and projected outward in the radial direction from the lower outer peripheral edge of each bending regulation adapter 15. A pair of side walls 6 forming the cassette 5 when W is stored
(Including a loose fit having a gap of about 3 mm). The contact portion of the rotation regulating piece 17 with the lower portion of the side wall 6 is preferably formed in an R shape, a C surface shape, or an inclined shape. The other parts are the same as those in the above-described embodiment, and a description thereof will be omitted. In this embodiment, the same operation and effect as those of the above embodiment can be expected, and the material of each protrusion 16 and each rotation restricting piece 17 can be reduced, so that it can be manufactured at low cost.

【0026】なお、上記実施形態では各撓み規制アダプ
タ15を薄い円板状に形成したが、なんらこれに限定さ
れるものではなく、角形や多角形、又はこれらと円形と
を組み合わせた形状等に形成することも可能である。ま
た、カセット5の前部から後部にかけて複数枚の撓み規
制アダプタ15を支持溝8を介し1枚分ずつ空けて整列
収納し、カセット5の1枚おきに空いた複数の支持溝8
にバックグラインドウェーハWをそれぞれ挿入収納して
各バックグラインドウェーハWを2枚一組の撓み規制ア
ダプタ15に隙間を介し挟装させても良いし、この逆の
作業を行っても良い。
In the above-described embodiment, each of the deflection restricting adapters 15 is formed in a thin disk shape. However, the present invention is not limited to this, and may be formed into a square, a polygon, or a combination of these with a circle. It is also possible to form. In addition, a plurality of bending restriction adapters 15 are arranged and stored one by one from the front part to the rear part of the cassette 5 via the support grooves 8 one by one, and a plurality of support grooves 8 vacated every other sheet of the cassette 5 are stored.
The back grind wafers W may be inserted and housed, respectively, and each back grind wafer W may be sandwiched by a set of two bending control adapters 15 with a gap therebetween, or the reverse operation may be performed.

【0027】また、輸送容器1に対するバックグライン
ドウェーハWの収納枚数は、特に制限されるものではな
く、撓み規制アダプタ15によりバックグラインドウェ
ーハWが支持溝8を介し間隔を開けて挟まれる収納形態
であれば良い。したがって、支持溝8の一部を空所とす
ることも可能である。また、各撓み規制アダプタ15の
表裏両面に、単数複数の突部16を着脱自在に装着する
こともできる。この突部16を着脱自在に装着する手段
としては、凹凸嵌合、凹凸噛合、粘着テープの使用等が
あげられる。さらに、突部16の形状や数は、必要に応
じて適宜増減変更することが可能である。例えば、突部
16の形状を、正面矩形、三角形、多角形、楕円形、小
判形等としても良い。
The number of back grind wafers W to be stored in the transport container 1 is not particularly limited, and is a storage mode in which the back grind wafers W are held at intervals by the flexure restricting adapter 15 via the support grooves 8. I just want it. Therefore, a part of the support groove 8 can be made empty. In addition, a plurality of protrusions 16 may be detachably mounted on both front and back surfaces of each deflection control adapter 15. Means for detachably mounting the protrusion 16 include concave and convex fitting, concave and convex engagement, use of an adhesive tape, and the like. Further, the shape and the number of the protrusions 16 can be appropriately increased or decreased as needed. For example, the shape of the protrusion 16 may be a front rectangle, a triangle, a polygon, an ellipse, an oval, or the like.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明に係るバックグラインドウェー
ハの輸送容器の実施例を比較例と共に説明する。実施例
の輸送容器1と比較例の輸送容器1を使用して以下の振
動試験と落下衝撃試験をそれぞれ実施し、バックグライ
ンド研磨加工されたバックグラインドウェーハWの破損
状態を確認した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a back-grind wafer transport container according to the present invention will be described below together with comparative examples. The following vibration test and drop impact test were respectively performed using the transport container 1 of the example and the transport container 1 of the comparative example, and the broken state of the back-ground wafer W subjected to the back-grind polishing was confirmed.

【0029】実施例の輸送容器 カセット5の前部から後部にかけて図5、図6に示す撓
み規制アダプタ15と約300μmの厚さで口径8″の
バックグラインドウェーハWとを支持溝8を介し互い違
いに整列収納し、前後一対の撓み規制アダプタ15を一
組としてバックグラインドウェーハWを隙間を介して挟
装させた。そして、容器本体2の開口面に、ウェーハ抑
え13付きの蓋体9をシール部材12を介して密嵌し、
ウェーハ抑え13の複数の支持片14にバックグライン
ドウェーハWと撓み規制アダプタ15の動きを規制さ
せ、輸送容器1に12枚のバックグラインドウェーハW
を収納した。
From the front part to the rear part of the transport container cassette 5 of the embodiment, the deflection regulating adapter 15 shown in FIGS. 5 and 6 and the back grinding wafer W having a thickness of about 300 μm and a diameter of 8 ″ are staggered through the supporting groove 8. The back-grind wafer W is sandwiched between the pair of front and rear deflection regulating adapters 15 as a set, and a lid 9 with a wafer holder 13 is sealed on the opening surface of the container body 2. Closely fitted through the member 12,
The plurality of supporting pieces 14 of the wafer holder 13 regulate the movement of the back grinding wafer W and the deflection regulating adapter 15, and the transport container 1 has twelve back grinding wafers W.
Was stored.

【0030】比較例の輸送容器 カセット5の前部から後部にかけてバックグラインドウ
ェーハWのみを支持溝8を介して整列収納し、撓み規制
アダプタ15を省略した。そして、容器本体2の開口面
に、ウェーハ抑え13付きの蓋体9をシール部材12を
介して密嵌し、ウェーハ抑え13の複数の支持片14に
バックグラインドウェーハWの動きを規制させ、輸送容
器1に25枚のバックグラインドウェーハWを収納し
た。
From the front to the rear of the transport container cassette 5 of the comparative example, only the back-ground wafers W were aligned and accommodated via the support grooves 8, and the deflection control adapter 15 was omitted. Then, the lid 9 with the wafer holder 13 is tightly fitted to the opening surface of the container body 2 via the seal member 12, and the plurality of support pieces 14 of the wafer holder 13 regulate the movement of the back-grind wafer W, and are transported. The container 1 accommodated 25 back-ground wafers W.

【0031】振動試験 振動試験機を使用し、この振動試験機の振動板上に実施
例の輸送容器1と比較例の輸送容器1をキャンバス製の
バンドを介してそれぞれ固定し、30Hz×5分間+5
0Hz×5分間+70Hz×5分間の条件で振動を加え
た。振動を加えるのを終了したら、各輸送容器1の蓋体
10をゆっくりと開け、バックグラインドウェーハWの
破損の有無を目視調査し、表1に結果をまとめた。
Vibration Test Using a vibration tester, the transport container 1 of the example and the transport container 1 of the comparative example were fixed on a diaphragm of the vibration tester via a band made of canvas, respectively, and 30 Hz × 5 minutes. +5
Vibration was applied under the conditions of 0 Hz × 5 minutes + 70 Hz × 5 minutes. When the application of the vibration was completed, the lid 10 of each transport container 1 was slowly opened, and the presence or absence of breakage of the back-grind wafer W was visually inspected. Table 1 summarizes the results.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】落下衝撃試験 実施例の輸送容器1と比較例の輸送容器1に、ダンボー
ル箱による外装梱包と、輸送容器1の上下部に緩衝部材
をそれぞれ接触させる内装梱包とをそれぞれ施し、各輸
送容器1を落下させた。落下方向は、コンクリート面に
対して輸送容器1の底面が対向する正立方向とした。ま
た、落下に際しては、コンクリート面から40cmの高
さから自然落下させ、輸送容器1に約50Gの衝撃が加
わるようにした。このようにして落下させたら、各輸送
容器1の蓋体10をゆっくりと開け、バックグラインド
ウェーハWの破損状態を目視調査し、表2にまとめた。
Drop Impact Test The transport container 1 of the embodiment and the transport container 1 of the comparative example are subjected to an outer package using a cardboard box and an inner package in which the upper and lower portions of the transport container 1 are brought into contact with a buffer member. The container 1 was dropped. The falling direction was an erect direction in which the bottom surface of the transport container 1 was opposed to the concrete surface. When the container 1 was dropped, the container 1 was naturally dropped from a height of 40 cm from the concrete surface so that an impact of about 50 G was applied to the transport container 1. After dropping in this manner, the lid 10 of each transport container 1 was slowly opened, and the state of damage of the back-grind wafer W was visually inspected.

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、振動で比
較的容易にバックグラインドウェーハの共振を招いた
り、バックグラインドウェーハが損傷したり、破損する
おそれを有効に抑制あるいは除去することができるとい
う効果がある。また、損傷したバックグラインドウェー
ハが他のバックグラインドウェーハに悪影響を及ぼす二
次災害を未然に防止することが可能になる。さらに、既
存の設備をおおよそそのまま使用することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to effectively suppress or eliminate the possibility that the vibration of the back-ground wafer is relatively easily caused by vibration, the back-grind wafer is damaged, and the possibility of breakage is caused. There is an effect that can be. In addition, it is possible to prevent a secondary disaster in which a damaged back-ground wafer adversely affects other back-ground wafers. In addition, existing equipment can be used approximately as is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器及びバックグラインドウェーハの収納方法の実施形
態を示す分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of a back-grind wafer transport container and a back-grind wafer storage method according to the present invention.

【図2】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の実施形態における撓み規制アダプタを示す正面説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory front view showing a flexure restricting adapter in the embodiment of the back-grind wafer transport container according to the present invention.

【図3】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器及びバックグラインドウェーハの収納方法の第2の
実施形態を示す分解斜視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing a second embodiment of a back-grind wafer transport container and a back-grind wafer storage method according to the present invention.

【図4】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第2の実施形態を示す図3のIV‐IV線断面説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3, showing a second embodiment of the back-grind wafer transport container according to the present invention.

【図5】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第3の実施形態における撓み規制アダプタを示す
正面説明図である。
FIG. 5 is an explanatory front view showing a flexure restricting adapter in a third embodiment of the back-grind wafer transport container according to the present invention.

【図6】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第3の実施形態における撓み規制アダプタを示す
図5のVI‐VI線断面説明図である。
FIG. 6 is an explanatory sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5 showing a deflection regulating adapter in a third embodiment of the transport container for back-grind wafers according to the present invention.

【図7】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第4の実施形態を示す断面説明図である。
FIG. 7 is an explanatory sectional view showing a fourth embodiment of the back-grind wafer transport container according to the present invention.

【図8】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第4の実施形態における撓み規制アダプタを示す
正面説明図である。
FIG. 8 is an explanatory front view showing a flexure restricting adapter in a fourth embodiment of the transport container for back-ground wafers according to the present invention.

【図9】本発明に係るバックグラインドウェーハの輸送
容器の第4の実施形態における撓み規制アダプタを示す
図8のIX‐IX線断面説明図である。
FIG. 9 is an explanatory sectional view taken along the line IX-IX of FIG. 8, showing a flexure restricting adapter in a fourth embodiment of the back-grind wafer transport container according to the present invention.

【図10】従来における輸送容器のカセットに整列収納
されたバックグラインドウェーハの撓み状態を示す部分
断面平面図である。
FIG. 10 is a partial cross-sectional plan view showing a bent state of a back-grind wafer aligned and housed in a cassette of a conventional transport container.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 輸送容器 2 容器本体 5 カセット 8 支持溝 9 蓋体 13 ウェーハ抑え 15 撓み規制アダプタ 16 突部 17 回転規制片(回転規制部) W バックグラインドウェーハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transport container 2 Container main body 5 Cassette 8 Support groove 9 Lid 13 Wafer holding 15 Deflection control adapter 16 Protrusion 17 Rotation restricting piece (rotation restricting part) W Back grinding wafer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3E096 AA06 BA16 BB04 CA09 DA30 DB08 DC02 FA01 FA10 5F031 CA02 DA01 DA09 FA01 FA09 PA13  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 3E096 AA06 BA16 BB04 CA09 DA30 DB08 DC02 FA01 FA10 5F031 CA02 DA01 DA09 FA01 FA09 PA13

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 容器本体にバックグラインドウェーハを
収納するバックグラインドウェーハの輸送容器であっ
て、 上記容器本体に、上記バックグラインドウェーハを隙間
を介して挟む少なくとも一対の撓み規制アダプタを収納
するようにしたことを特徴とするバックグラインドウェ
ーハの輸送容器。
1. A back-grind wafer transport container for storing a back-grind wafer in a container body, wherein the container body houses at least a pair of deflection control adapters that sandwich the back-grind wafer through a gap. A transport container for back-ground wafers, characterized in that:
【請求項2】 各撓み規制アダプタの表裏両面に、上記
バックグラインドウェーハに接触して撓みを規制する突
部をそれぞれ形成した請求項1記載のバックグラインド
ウェーハの輸送容器。
2. The back-grind wafer transport container according to claim 1, wherein projections are formed on both front and back surfaces of each of the flex-regulation adapters so as to contact the back-grind wafer and regulate the flex.
【請求項3】 各撓み規制アダプタに、回転規制部を形
成した請求項1又は2記載のバックグラインドウェーハ
の輸送容器。
3. The container for transporting a back-ground wafer according to claim 1, wherein a rotation restricting portion is formed in each of the deflection restricting adapters.
【請求項4】 容器本体に、複数枚の撓み規制アダプタ
と複数枚のバックグラインドウェーハとを支持溝を介し
て収納するバックグラインドウェーハの収納方法であっ
て、 上記容器本体に、上記複数枚の撓み規制アダプタが各バ
ックグラインドウェーハを隙間を介して挟むように収納
することを特徴とするバックグラインドウェーハの収納
方法。
4. A method for storing a back-grind wafer in which a plurality of deflection control adapters and a plurality of back-grind wafers are stored in a container body via supporting grooves, wherein the container body includes the plurality of back-grind wafers. A method for storing a back-ground wafer, wherein the deflection-controlling adapter stores each back-grind wafer so as to sandwich the back-grind wafer via a gap.
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