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JP2001305774A - Electrophotographic photoreceptor and process cartridge and electrophotographic device using the same - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor and process cartridge and electrophotographic device using the same

Info

Publication number
JP2001305774A
JP2001305774A JP2000118304A JP2000118304A JP2001305774A JP 2001305774 A JP2001305774 A JP 2001305774A JP 2000118304 A JP2000118304 A JP 2000118304A JP 2000118304 A JP2000118304 A JP 2000118304A JP 2001305774 A JP2001305774 A JP 2001305774A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
block
charge
group
electrophotographic
copolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000118304A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taketoshi Hoshizaki
武敏 星崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2000118304A priority Critical patent/JP2001305774A/en
Publication of JP2001305774A publication Critical patent/JP2001305774A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in wear resistance for repeated use and having little residual potential, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device using the photoreceptor. SOLUTION: In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer 2 and a protective layer 6 formed on a conductive body 1, the protective layer 6 contains at least conductive particles and a copolymer containing charge transfer blocks and insulating blocks. The wear resistance for repeated use is improved and the residual potential is decreased in the electrophotographic photoreceptor.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐摩耗性に優れる
表面保護層を有する電子写真用感光体並びにこれを用い
たプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member having a surface protective layer having excellent abrasion resistance, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子写真技術は、高速、高印字品
質が得られる等の利点を有するために、複写機、プリン
ター、ファクシミリ等の分野において、中心的役割を果
たしている。
2. Description of the Related Art In recent years, electrophotographic technology has played a central role in the fields of copiers, printers, facsimiles, and the like because of its advantages such as high speed and high printing quality.

【0003】電子写真技術において用いられる電子写真
感光体としては、従来からセレン、セレン−テルル合
金、セレン−ヒ素合金等の無機光導電性材料を用いたも
のが広く知られている。一方、これらの無機系感光体に
比べ、コスト、製造性、廃棄性等の点で優れた利点を有
する有機光導電性材料を用いた電子写真感光体の研究も
活発化し、現在では無機系感光体を凌駕するに至ってい
る。樹脂中にフタロシアニン系化合物などを電荷発生材
料として分散した単層型の感光体の他、光電導の素過程
である光電荷発生と電荷輸送をそれぞれ別々の層に担わ
せる機能分離型積層構成のものが開発されたことによ
り、材料選択の自由度が増し、著しい性能の向上を遂
げ、現在ではこの機能分離積層型の有機感光体が電子写
真感光体の主流となっている。機能分離積層型有機感光
体用の電荷発生層としては、キノン系顔料、ぺリレン系
顔料、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、セレン等の
電荷発生能を有する顔料を蒸着等により直接成膜したも
の、あるいは高濃度で結着樹脂中に分散したものが実用
されている。一方、電荷輸送層としては、ヒドラゾン系
化合物、ベンジジン系化合物、アミン系化合物、スチル
ベン系化合物等の電荷輸送能を有する低分子化合物を絶
縁性樹脂中に分子分散したものが用いられている。
As an electrophotographic photoreceptor used in the electrophotographic technology, one using an inorganic photoconductive material such as selenium, a selenium-tellurium alloy, or a selenium-arsenic alloy has been widely known. On the other hand, research on electrophotographic photoreceptors using organic photoconductive materials, which have advantages in terms of cost, manufacturability, disposability, etc., compared with these inorganic photoreceptors, has also become active. It has surpassed the body. In addition to a single-layer type photoreceptor in which phthalocyanine-based compounds are dispersed as a charge-generating material in a resin, a function-separated type lamination structure in which photocharge generation and charge transport, which are the elementary processes of photoconduction, are carried out in separate layers, respectively. With the development of such a device, the degree of freedom in material selection has been increased, and the performance has been remarkably improved. At present, this function-separated and laminated organic photoreceptor has become the mainstream of the electrophotographic photoreceptor. The charge generation layer for the function-separated laminated organic photoreceptor is formed by directly depositing a pigment having a charge generation ability such as a quinone pigment, a perylene pigment, an azo pigment, a phthalocyanine pigment, or selenium by vapor deposition or the like. Alternatively, those having a high concentration dispersed in a binder resin have been put to practical use. On the other hand, as the charge transport layer, a material in which a low-molecular compound having a charge transport ability such as a hydrazone compound, a benzidine compound, an amine compound, or a stilbene compound is molecularly dispersed in an insulating resin is used.

【0004】ところで、電子写真感光体に要求される耐
久性は年々厳しいものとなっており、繰り返し使用によ
る表面層の摩耗および傷等の問題に対して、耐久性向上
に必要な技術の検討が続けられている。これらの要求に
対して、表面保護層の検討が多数行われている。しか
し、表面保護層を架橋硬化性樹脂のみで構成すると表面
保護層は絶縁層となってしまうため、感光体としての光
電特性が犠牲になっていた。具体的には、露光時の明部
電位が上昇することにより、現像電位マージンが狭くな
る問題、および除電後の残留電位が上昇することによ
り、特に長期の繰り返し印刷を行なった場合に画像濃度
が低下する問題、などがあった。
[0004] The durability required for electrophotographic photoreceptors is becoming severer year by year. In order to solve the problems such as abrasion and scratches on the surface layer due to repeated use, it is necessary to study techniques necessary for improving the durability. Continued. In response to these requirements, many studies have been made on surface protective layers. However, if the surface protective layer is composed of only a cross-linkable curable resin, the surface protective layer becomes an insulating layer, and the photoelectric characteristics of the photoconductor are sacrificed. Specifically, the problem that the development potential margin is narrowed due to an increase in the light portion potential at the time of exposure, and the residual potential after static elimination is increased, especially when long-term repeated printing is performed, image density is reduced. There was a problem of lowering.

【0005】光電特性を改良する手法として、導電性の
金属酸化物微粉末を抵抗制御材として表面保護層中に分
散する方法が報告されている(特開昭57−12834
4号公報)。この方法による感光体光電特性の低下は小
さく、上記にあげた問題は顕著に改善される。しかし、
一般に導電性微粉末として用いる金属酸化物の抵抗値
は、環境の湿度に大きく依存するという問題がある。そ
のため、特に高温高湿下においては感光体表面抵抗が低
下し、静電潜像がぼやけることによって画像品位が大き
く低下してしまうという本質的な問題があった。
As a method for improving the photoelectric characteristics, there has been reported a method of dispersing a conductive metal oxide fine powder in a surface protective layer as a resistance control material (JP-A-57-12834).
No. 4). The decrease in the photoelectric characteristics of the photoreceptor by this method is small, and the above-mentioned problems are remarkably improved. But,
Generally, there is a problem that the resistance value of the metal oxide used as the conductive fine powder largely depends on the humidity of the environment. For this reason, there is an essential problem that the surface resistance of the photoreceptor is reduced particularly under high temperature and high humidity, and the image quality is greatly reduced due to blurring of the electrostatic latent image.

【0006】光電特性を改良する他の手法として、バイ
ンダー樹脂中に電荷輸送物質を分散し、その後バインダ
ー樹脂を硬化させて表面保護層を形成するという方法が
報告されている(特開平4−15659号公報)。この
方法では感光体表面抵抗が湿度依存することも無く、画
像品位の問題はなかった。しかし、電荷輸送物質という
低分子量成分の添加は、硬化反応を阻害し表面保護層の
機械的強度の低下をもたらす。よって、単独では機械的
強度の高い架橋硬化性樹脂を用いたとしても、光電特性
の改良に必須の電荷輸送物質という低分子成分を添加す
ることで表面保護層の機械強度は大きく低下してしま
う。
As another method for improving the photoelectric characteristics, a method has been reported in which a charge transporting material is dispersed in a binder resin, and then the binder resin is cured to form a surface protective layer (Japanese Patent Laid-Open No. 4-15659). No.). In this method, the surface resistance of the photoreceptor did not depend on humidity, and there was no problem of image quality. However, the addition of a low-molecular-weight component such as a charge-transporting substance inhibits the curing reaction and lowers the mechanical strength of the surface protective layer. Therefore, even when a cross-linking curable resin having high mechanical strength is used alone, the mechanical strength of the surface protective layer is greatly reduced by adding a low-molecular component such as a charge transport material essential for improving photoelectric properties. .

【0007】これに対し、電荷輸送性高分子化合物を架
橋し、分子構造を3次元化し硬化することが提案されて
いる(特開平6−250423号公報)。この方法で
は、低分子化合物による硬化反応の阻害による機械的強
度の低下はなくなったものの、電荷輸送性サイトに直接
結合している部位に架橋サイトが存在し、そのため、架
橋サイト(または反応できなかった未架橋サイト)が電
荷輸送サイトに悪影響を及ぼし、残留電位の上昇、電荷
輸送能の悪化による応答性の悪化、電気的特性の繰り返
し安定性の悪化などの問題が生じていた。
On the other hand, it has been proposed to crosslink a charge-transporting polymer compound to make the molecular structure three-dimensional and to cure it (Japanese Patent Laid-Open No. 6-250423). In this method, although the reduction in mechanical strength due to the inhibition of the curing reaction by the low molecular weight compound is eliminated, the cross-linking site exists at the site directly bonded to the charge transporting site, and therefore, the cross-linking site (or the reaction cannot be performed) Uncrosslinked sites) adversely affect the charge transport site, causing problems such as an increase in residual potential, a decrease in responsiveness due to a decrease in charge transport ability, and a decrease in the repetition stability of electrical characteristics.

【0008】これらの問題に対し、本発明者らは、電荷
輸送材料として、電荷輸送性の相と絶縁性の相に相分離
している、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む
共重合体を架橋することを提案した(特開平11−65
152号公報)。この方法では、架橋サイトを絶縁性ブ
ロックに共重合しておくことにより、電荷輸送サイトと
架橋サイトを空間的に隔離し、架橋サイトの電荷輸送サ
イトへの悪影響を少なくすることができ、電気特性上の
問題は小さくできた。しかし、耐摩耗性の観点から、更
なる改善が求められていた。
[0008] In order to solve these problems, the present inventors have proposed, as a charge transporting material, a copolymer containing a charge transporting block and an insulating block, which are phase-separated into a charge transporting phase and an insulating phase. (Japanese Patent Laid-Open No. 11-65).
No. 152). In this method, by cross-linking the charge transport site and the cross-linking site spatially by copolymerizing the cross-linking site with the insulating block, the adverse effect of the cross-linking site on the charge transport site can be reduced, and the electrical characteristics can be reduced. The above problem could be reduced. However, further improvement has been demanded from the viewpoint of wear resistance.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記のような事情に鑑みなされたものであっ
て、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、同時に残留電位
の少ない電子写真感光体並びにこれを用いたプロセスカ
ートリッジ及び電子写真装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances in the prior art, and is an electrophotographic photoreceptor having excellent abrasion resistance when used repeatedly and having a low residual potential. It is another object of the present invention to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電荷輸送
性ブロックと絶縁性ブロックよりなる共重合体を含む保
護層の耐摩耗性をさらに改善すべく鋭意検討した結果、
電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体中
に導電性粒子を分散することにより、表面保護層とし
て、電気特性と耐摩耗性とを両立する優れた総合特性を
有し、表面保護層として好適であることを見出し本発明
を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to further improve the abrasion resistance of a protective layer containing a copolymer comprising a charge transport block and an insulating block.
By dispersing conductive particles in a copolymer containing a charge transport block and an insulating block, the surface protective layer has excellent overall properties that balance electrical properties and abrasion resistance. It has been found that the present invention is suitable, and the present invention has been completed.

【0011】すなわち、上記課題は少なくとも導電性基
体上に感光層と保護層を設けた電子写真感光体におい
て、該保護層が、少なくとも、導電性粒子、及び、電荷
輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体を含有
していることを特徴とする電子写真感光体を提供するこ
とにより解決する。
That is, an object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer and a protective layer provided on a conductive substrate, wherein the protective layer comprises at least conductive particles, a charge transport block and an insulating block. The problem is solved by providing an electrophotographic photosensitive member characterized by containing a copolymer containing the same.

【0012】また、前記電荷輸送性ブロックと絶縁性ブ
ロックを含む共重合体が、架橋により分子構造が3次元
化されていることにより、さらなる耐摩耗性が得られ
る。
Further, since the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block has a three-dimensional molecular structure by crosslinking, further abrasion resistance can be obtained.

【0013】特に、共重合体中の架橋部位が、絶縁性ブ
ロックに存在していることにより、電気特性が良好とな
る。
In particular, since the cross-linking site in the copolymer exists in the insulating block, the electric characteristics are improved.

【0014】さらに、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロ
ックを含む共重合体が、電荷輸送性ブロックよりなる相
と絶縁性ブロックよりなる相とに相分離していることに
より、電気特性が良好となる。
[0014] Further, since the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block is phase-separated into a phase composed of the charge transporting block and a phase composed of the insulating block, the electric characteristics are improved. .

【0015】また、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロッ
クを含む共重合体中の電荷輸送性ブロックの繰り返し単
位中に、少なくとも、トリアリールアミン構造を含む繰
り返し単位が含まれていることにより、電荷輸送性に優
れた感光体を提供できる。
[0015] Further, the charge transporting block is at least contained in the repeating unit of the charge transporting block in the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block, so that the charge transporting block has a triarylamine structure. A photoreceptor having excellent properties can be provided.

【0016】さらにまた、本発明のプロセスカートリッ
ジは、電荷輸送能に優れるとともに機械的特性に優れる
上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニ
ング手段及び除電手段からなる群より選ばれた少なくと
もひとつの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着
脱自在であるとすることにより画像濃度の繰り返し安定
性と信頼性に優れたものとなる。
Further, the process cartridge of the present invention has at least one selected from the group consisting of the above-mentioned electrophotographic photosensitive member having excellent charge transporting ability and excellent mechanical properties, and a charging means, a developing means, a cleaning means, and a discharging means. By having one unit integrally and being detachable from the main body of the electrophotographic apparatus, the image density is excellent in repetition stability and reliability.

【0017】また、本発明の電子写真装置も、電荷輸送
能に優れるとともに機械的特性に優れる電子写真感光体
と、電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電手段
により帯電される電子写真感光体を露光する露光手段
と、露光手段により露光された部分を現像する現像手段
と、現像手段により電子写真感光体に現像された像を転
写する転写手段とを備えることにより画像濃度の繰り返
し安定性と信頼性に優れたものとなる。
The electrophotographic apparatus of the present invention also has an electrophotographic photosensitive member having excellent charge transporting ability and mechanical properties, a charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic photosensitive member charged by the charging means. The image density repetition stability by including an exposure unit for exposing the body, a development unit for developing the portion exposed by the exposure unit, and a transfer unit for transferring an image developed on the electrophotographic photosensitive member by the development unit And excellent reliability.

【0018】なお、以下において、「架橋により分子構
造が3次元化された、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロ
ックを含む共重合体」を「架橋された共重合体」と、
「架橋可能な官能基を有する、電荷輸送性ブロックと絶
縁性ブロックを含む共重合体」を「架橋可能な官能基を
有する共重合体」と、さらに「架橋可能な官能基を有す
る、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合
体であって、未だ架橋が行われていない共重合体」を
「架橋前の共重合体」と、略記する場合がある。
In the following, a “copolymer having a charge transporting block and an insulating block whose molecular structure is made three-dimensional by cross-linking” is referred to as a “cross-linked copolymer”.
The term "copolymer having a crosslinkable functional group, including a charge transporting block and an insulating block" is referred to as a "copolymer having a crosslinkable functional group", and the term "copolymer having a crosslinkable functional group," A copolymer containing a functional block and an insulating block, which has not yet been crosslinked, may be abbreviated as "a copolymer before crosslinking."

【0019】ここでいう絶縁性とは、その輸送エネルギ
ーレベルが、主たる輸送電荷の輸送エネルギーレベルか
ら大きくかけ離れており、通常の電界強度では、実質的
に輸送電荷が注入されることがなく、主たる電荷にとっ
て事実上の電気的絶縁状態にあることを意味する。
The term “insulating property” as used herein means that the transport energy level is largely different from the transport energy level of the main transport charge, and at a normal electric field strength, the transport charge is substantially not injected, and the main transport charge is not substantially injected. It means that the electric charge is in a practically electrically insulating state.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の電子写真感光体を
構成する各層についてさらに詳しく説明する。感光層は
樹脂中に電荷発生物質を分散含有してなる単層型であっ
ても電荷発生層と電荷輸送層よりなる積層型であっても
よい。さらに電荷輸送層は2層以上であっても良い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, each layer constituting the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described in more detail. The photosensitive layer may be a single layer type in which a charge generating substance is dispersed and contained in a resin, or may be a stacked type including a charge generating layer and a charge transporting layer. Further, the charge transport layer may be two or more layers.

【0021】本発明の電子写真感光体の例を図を用いて
説明する。
An example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1及び図2は本発明の電子写真用感光体
の断面を示す模式図である。図1は導電性支持体1上に
感光層2、保護層6が設けられている単層型の例であ
る。図2は、図1の感光体において導電性支持体1と感
光層2の間に、さらに下引き層3を設けたものである。
FIGS. 1 and 2 are schematic views showing a cross section of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. FIG. 1 shows an example of a single-layer type in which a photosensitive layer 2 and a protective layer 6 are provided on a conductive support 1. FIG. 2 shows the photoreceptor of FIG. 1 in which an undercoat layer 3 is further provided between the conductive support 1 and the photosensitive layer 2.

【0023】図3および図4は、本発明の他の形態の電
子写真用感光体の断面を示す模式図である。図3は、導
電性支持体1上に電荷発生層4、電荷輸送層5、及び保
護層6が順次設けられている積層型の例である。図4
は、図3の感光体において導電性支持体1と電荷発生層
4の間に、さらに下引き層3を設けたものである。
FIGS. 3 and 4 are schematic views showing cross sections of an electrophotographic photosensitive member according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is an example of a stacked type in which a charge generation layer 4, a charge transport layer 5, and a protective layer 6 are sequentially provided on a conductive support 1. FIG.
In the photoconductor of FIG. 3, an undercoat layer 3 is further provided between the conductive support 1 and the charge generation layer 4.

【0024】これらの電子写真感光体は、さらに所望に
より乱反射層等を含むことができる。
These electrophotographic photoreceptors can further include a diffuse reflection layer, if desired.

【0025】また、感光層と保護層との間に、保護層か
ら感光層への電荷の漏洩を阻止するブロッキング層を設
けることができる。このブロッキング層としては、公知
のものを用いることができる。
Further, a blocking layer for preventing leakage of electric charge from the protective layer to the photosensitive layer can be provided between the photosensitive layer and the protective layer. As the blocking layer, a known layer can be used.

【0026】本発明の保護層は、少なくとも、導電性粒
子、及び、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む
共重合体を含有していることが必要であり、少なくと
も、導電性粒子が分散され、且つ、電荷輸送性ブロック
と絶縁性ブロックを含む共重合体が溶解された塗液を塗
布し、成膜することで得られる。
The protective layer of the present invention needs to contain at least conductive particles and a copolymer containing a charge transport block and an insulating block, and at least the conductive particles are dispersed therein. In addition, it can be obtained by applying a coating solution in which a copolymer containing a charge transport block and an insulating block is dissolved, and forming a film.

【0027】本発明の保護層は、導電性粒子を含有する
ことにより、導電性粒子による電荷の移動により、電荷
輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体の実質
的な誘電膜厚を薄くすることができ、電気特性を改善す
ることが可能である。また、導電性粒子を絶縁性樹脂中
に分散した、導電性粒子のみによる電荷の移動を行う保
護層では、導電性粒子の接触状態や、導電性粒子の電気
抵抗などが変わることで大きく特性が変化し、画像ボケ
や、残留電位が高くなったりといった不具合が起こり易
い。しかし、結着樹脂が電荷輸送性を持つことで、導電
性粒子同士の粒子接触が生じてなくとも電荷輸送が可能
であり、残留電位の上昇などが生じることがなく、さら
に、結着樹脂が整流性を有しているため、電荷が横方向
に流れて生じる画像ボケを生じることもない。
The protective layer of the present invention contains conductive particles, so that the electric charge is transferred by the conductive particles, thereby reducing the substantial dielectric film thickness of the copolymer containing the charge transport block and the insulating block. It is possible to improve the electrical characteristics. In addition, in a protective layer in which conductive particles are dispersed in an insulating resin and the charge is transferred only by the conductive particles, the characteristics are greatly affected by changes in the contact state of the conductive particles and the electrical resistance of the conductive particles. Changes, image blurring, and an increase in residual potential are likely to occur. However, since the binder resin has a charge transporting property, it is possible to transport the charge even if the conductive particles do not come into contact with each other, and no increase in the residual potential occurs. Because of the rectification, there is no occurrence of image blur caused by the charge flowing in the horizontal direction.

【0028】また、本発明の保護層に用いられる結着樹
脂は電荷輸送性を有し、さらに、その電荷輸送性を有す
る結着樹脂が、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを
含む共重合体であることから、低分子を分散した結着樹
脂より機械的強度が高く、硬化反応を阻害することもな
い。また、絶縁性ブロックを含まない電荷輸送性高分子
よりなる結着樹脂よりも、電荷輸送性ブロックと絶縁性
ブロックを含む共重合体とし、アロイ化の手法を導入す
ることで、分子設計の自由度が大幅に広がり、電荷輸送
能を損ねることなく、機械的強度、ガラス転移温度、結
晶化度、屈折率、接着性、吸着性、可撓性、溶解性、溶
融性、相分離状態等の制御を行うことが可能である。
The binder resin used in the protective layer of the present invention has a charge transport property, and the binder resin having the charge transport property is a copolymer containing a charge transport block and an insulating block. Therefore, the mechanical strength is higher than that of the binder resin in which the low molecular weight is dispersed, and the curing reaction is not hindered. Also, rather than a binder resin consisting of a charge-transporting polymer that does not contain an insulating block, a copolymer containing a charge-transporting block and an insulating block is used. Temperature, glass transition temperature, crystallinity, refractive index, adhesion, adsorptivity, flexibility, solubility, melting, phase separation, etc. It is possible to control.

【0029】電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含
む共重合体は、必ずしも架橋により分子構造が3次元化
されている必要はなく、架橋されてなくても良いが、架
橋により分子構造が3次元化されていることにより、さ
らなる耐摩耗性が得られるため好ましい。
The molecular structure of the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block does not necessarily have to be three-dimensional by cross-linking, and may not be cross-linked. It is preferable that the composition be further improved in abrasion resistance.

【0030】架橋可能な官能基等の架橋部位は、電荷輸
送性ブロックと絶縁性ブロックのどちらにあっても良
く、また、両方にあっても良いが、特に、共重合体中の
架橋部位が、絶縁性ブロックのみにある方が、電気特性
が良好となり好ましい。
The crosslinking site such as a crosslinkable functional group may be present in either the charge transporting block or the insulating block, or may be present in both. Particularly, the crosslinking site in the copolymer is preferably It is preferable that only the insulating block be provided because the electric characteristics are good.

【0031】さらに、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロ
ックを含む共重合体が、電荷輸送性ブロックよりなる相
と絶縁性ブロックよりなる相とに相分離していることに
より、電荷輸送サイトの濃度が希釈されることがなく、
電荷輸送性能が良好に保たれ、さらに、絶縁性ブロック
と空間的に分離することにより、絶縁性ブロックの電荷
輸送能に与える悪影響を最小限に抑えることが可能とな
り、電気特性が良好となる。
Further, since the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block is phase-separated into a phase composed of the charge transporting block and a phase composed of the insulating block, the concentration of the charge transporting site is reduced. Without being diluted,
Good charge transport performance is maintained, and furthermore, by spatially separating the insulating block from the insulating block, it is possible to minimize the adverse effect on the charge transporting ability of the insulating block, thereby improving the electrical characteristics.

【0032】特に、架橋部位が絶縁性ブロックのみに存
在し、かつ電荷輸送性の相と絶縁性の相とに相分離して
いる場合は、架橋部位や架橋できずに残存する未架橋部
位が、空間的に電荷輸送性部位から離れることにより、
電荷輸送性能に悪影響を与えることを最小限に抑えるこ
とが可能となる。このため、電荷輸送性が悪化せず、光
感度、残留電位、電荷輸送速度、電気的特性の繰り返し
安定性に優れ、かつ耐摩耗性に優れた電子写真感光体を
提供することができる。さらにまた、電荷輸送性部位と
架橋部位の設計の自由度が大きくなり、電子写真特性と
耐摩耗性の両立を容易とすることができる。
In particular, when the crosslinked portion exists only in the insulating block and is separated into the charge transporting phase and the insulating phase, the crosslinked portion and the uncrosslinked portion which cannot be crosslinked and remain are not crosslinked. By spatially separating from the charge transporting site,
It is possible to minimize the adverse effect on the charge transport performance. Therefore, it is possible to provide an electrophotographic photoreceptor which does not deteriorate the charge transporting property, is excellent in photosensitivity, residual potential, charge transporting speed, repetition stability of electrical characteristics, and is excellent in abrasion resistance. Furthermore, the degree of freedom in designing the charge transporting site and the cross-linking site is increased, and compatibility between electrophotographic characteristics and abrasion resistance can be facilitated.

【0033】さらにまた、導電性粒子を分散した、架橋
可能な官能基等の架橋部位を有する、電荷輸送性ブロッ
クと絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体またはグ
ラフト共重合体を含有する溶液を塗布したのち架橋させ
ることにより、均一で良好な架橋重合体被膜が形成され
る。
Furthermore, a solution containing a block copolymer or a graft copolymer composed of a charge transport block and an insulating block, having conductive particles dispersed therein and having a crosslinkable site such as a crosslinkable functional group, is applied. Thereafter, crosslinking is carried out to form a uniform and good crosslinked polymer film.

【0034】さらにまた、本発明の電子写真感光体に用
いる保護層は、ヒドロキシ基を有する、電荷輸送性ブロ
ックと絶縁性ブロックよりなる共重合体と、多価のイソ
シアネ−ト化合物との架橋重合物を含むことが好まし
い。
Further, the protective layer used in the electrophotographic photoreceptor of the present invention is formed by crosslinking a copolymer having a hydroxy group and comprising a charge transporting block and an insulating block with a polyvalent isocyanate compound. It is preferable to include a substance.

【0035】さらにまた、本発明の電子写真感光体に用
いる保護層が、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを
含む共重合体中の官能性基同士の縮合反応による架橋重
合物を含むことにより、架橋剤を添加する必要がなく、
電荷輸送性の相に架橋剤が残留するために生じる電荷輸
送性への悪影響をなくすことができる。たとえば、アル
コキシシリル基はアルコキシシリル基同士の縮合反応に
より架橋できる。アルコキシシリル基は適度な反応性を
有しているため、合成や取扱いに有利であるとともに、
容易に架橋反応を起こすことができ、さらに、縮合によ
り生じるアルコールも気化することにより感光層中に残
留せず好ましい。
Further, the protective layer used in the electrophotographic photoreceptor of the present invention contains a crosslinked polymer by a condensation reaction between functional groups in a copolymer containing a charge transporting block and an insulating block. No need to add cross-linking agent,
It is possible to eliminate the adverse effect on the charge transport property caused by the cross-linking agent remaining in the charge transport phase. For example, an alkoxysilyl group can be crosslinked by a condensation reaction between alkoxysilyl groups. Alkoxysilyl groups have moderate reactivity, which is advantageous for synthesis and handling,
The crosslinking reaction can be easily caused, and the alcohol generated by the condensation is also preferable because it does not remain in the photosensitive layer by being vaporized.

【0036】架橋された共重合体を含む保護層は、分子
構造が3次元化されていない架橋前の共重合体と、必要
により架橋剤及び/又は、触媒を混合した塗工液より成
膜し、必要に応じ架橋のための処理を行うことにより得
られる。
The protective layer containing the cross-linked copolymer is formed from a coating solution in which the molecular structure is not three-dimensional and before cross-linking and, if necessary, a cross-linking agent and / or a catalyst. Then, it can be obtained by performing a treatment for crosslinking as required.

【0037】架橋可能な官能性基としては、架橋剤ハン
ドブック(大成社、昭和56年)、反応性ポリマーの合
成と応用(シーエムシー、1989年)等の文献に記載
されている架橋可能な官能基であれば如何なるものでも
構わないが、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基、エポ
キシ基、カルボキシル基、ハロゲン基、イソシアナート
基、メルカプト基、クロルスルホン基、アミノ基、アミ
ド基、第三級アミノ基、ニトリル基もしくは、ピリジン
基、さらに、酸無水物構造を持つもの、二重結合を持つ
もの等が挙げられる。これら架橋可能な官能性基は電荷
輸送性ブロックと絶縁性ブロックの両方またはどちらか
に存在していれば良いが、絶縁性ブロック中にのみ存在
している方が、電荷輸送性ブロックより形成される電荷
輸送性の相への影響を与えにくく、電気特性上有利であ
る。
Examples of the crosslinkable functional group include crosslinkable functional groups described in literatures such as Crosslinking Agent Handbook (Taiseisha, 1981) and synthesis and application of reactive polymers (CMC, 1989). Any group may be used as long as the group is a hydroxy group, an alkoxysilyl group, an epoxy group, a carboxyl group, a halogen group, an isocyanate group, a mercapto group, a chlorosulfone group, an amino group, an amide group, a tertiary amino group, Examples thereof include a nitrile group, a pyridine group, a compound having an acid anhydride structure, and a compound having a double bond. These crosslinkable functional groups may be present in either or both of the charge transport block and the insulating block, but those present only in the insulating block are formed from the charge transport block. This has little effect on the charge transporting phase, and is advantageous in electrical characteristics.

【0038】架橋反応は、その反応に応じて、架橋剤お
よび/または触媒、および/または、架橋条件が与えら
れる。架橋反応、架橋剤、触媒、および架橋条件、およ
びその組合せとしては、架橋剤ハンドブック(大成社、
昭和56年)、反応性ポリマーの合成と応用(シーエム
シー、1989年)等の文献に記載されている架橋可能
な官能基が架橋するものであれば如何なるものでも構わ
ない。架橋剤としては、例えば硫黄系化合物、有機過酸
化物、多価のフェノール樹脂、多価のアミノ樹脂、多価
のハロゲン化合物、多価のアミン化合物、多価のアゾ化
合物、多価のイソシアネート化合物、多価のシリルイソ
シアネート化合物、多価のエポキシ化合物、シラン化合
物、チタネート化合物、多価のカルボン酸化合物、酸無
水物などである。これら架橋剤を、架橋可能な官能基を
有する共重合体と予め混合したものを塗布し架橋させた
り、該共重合体を予め塗布した上にこれらをスプレイや
浸積、蒸気への暴露にて接触させて架橋させる。
In the crosslinking reaction, a crosslinking agent and / or a catalyst and / or crosslinking conditions are provided according to the reaction. Crosslinking reactions, crosslinking agents, catalysts, and crosslinking conditions, and combinations thereof, are described in the Crosslinking Agent Handbook (Taisei,
1982), synthesis and application of reactive polymers (CMC, 1989), etc., as long as the crosslinkable functional groups are crosslinked. Examples of the crosslinking agent include a sulfur compound, an organic peroxide, a polyvalent phenol resin, a polyvalent amino resin, a polyvalent halogen compound, a polyvalent amine compound, a polyvalent azo compound, and a polyvalent isocyanate compound. And polyvalent silyl isocyanate compounds, polyvalent epoxy compounds, silane compounds, titanate compounds, polyvalent carboxylic acid compounds, acid anhydrides and the like. These crosslinkers are pre-mixed with a copolymer having a crosslinkable functional group, and then coated and cross-linked, or the copolymer is pre-coated and sprayed, immersed, or exposed to steam. Contact and crosslink.

【0039】架橋可能な官能基がヒドロキシ基であり、
かつ、架橋剤として多価のイソシアナート化合物とした
場合は特に好ましい。架橋可能な官能基がヒドロキシ基
であり、かつ、架橋剤として多価のイソシアナート化合
物とした場合、触媒として酢酸金属塩、金属塩化物、硫
酸銅、ジ−n−ブチル錫ジラウレ−トなどを加えること
ができる。また、架橋を促進するため、加熱することが
できる。多価のイソシアネート化合物としては、イソシ
アネート単量体から得られる誘導体やプレポリマなどの
ポリイソシアネート変性体を用いることがより望まし
い。これらの例としては、官能基数3以上のポリオール
にイソシアネートを付加したアダクト変性体、ウレア結
合を有する化合物をイソシアネート化合物で変成したビ
ュ−レット変性体、ウレタン基にイソシアネートを付加
したアロファネート変性体、イソシアヌレート変性体、
などが好ましく、他にもカルボジイミド変性体などが用
いられる。特に、下記構造式(1)、(2)で表される
ものに代表される、ヘキサメチレンジイソシアネートの
ビューレット変性体、およびヘキサメチレンジイソシア
ネートのイソシアヌレート変性体は、機械的強度、電気
特性の面で特に優れた特性を示す。
The crosslinkable functional group is a hydroxy group,
It is particularly preferable to use a polyvalent isocyanate compound as the crosslinking agent. When the crosslinkable functional group is a hydroxy group and a polyvalent isocyanate compound is used as a crosslinking agent, a metal acetate, metal chloride, copper sulfate, di-n-butyltin dilaurate, etc. may be used as a catalyst. Can be added. Heating can be performed to promote crosslinking. As the polyvalent isocyanate compound, it is more preferable to use a derivative obtained from an isocyanate monomer or a modified polyisocyanate such as a prepolymer. Examples thereof include modified adducts obtained by adding an isocyanate to a polyol having three or more functional groups, modified burettes obtained by modifying a compound having a urea bond with an isocyanate compound, modified allophanates obtained by adding an isocyanate to a urethane group, and isocyanates Nurate modified form,
And the like, and a carbodiimide-modified product is also used. In particular, the modified burette of hexamethylene diisocyanate and the modified isocyanurate of hexamethylene diisocyanate represented by the following structural formulas (1) and (2) are advantageous in terms of mechanical strength and electrical properties. Shows particularly excellent characteristics.

【0040】[0040]

【化1】 Embedded image

【0041】[0041]

【化2】 Embedded image

【0042】また、他のイソシアネート化合物として、
例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェ
ニルメタンジイソソアネート(MDI)、1,5−ナフ
チレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、
1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジ
イソシアネート、リジンイソシアネート、テトラメチル
キシレンジイソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレ
ントリイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネ
ート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、
1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチル
オクタン、トリフェニルメタントリイソシアネート、ト
リス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、
などの一般的なイソシアネート単量体があげられる。前
記ポリイソシアネート変性体に含まれるが、イソシアネ
ート基の活性を一時的にマスクするためのブロッキング
剤を反応させたブロックイソシアネートも好ましく用い
ることができる。これは、塗布液のポットライフを延長
させる点からも好ましいものである。
Further, as another isocyanate compound,
For example, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisosocyanate (MDI), 1,5-naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate,
1,6-hexamethylene diisocyanate, xylene diisocyanate, lysine isocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate,
1,8-diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate,
And general isocyanate monomers. Although included in the modified polyisocyanate, a blocked isocyanate reacted with a blocking agent for temporarily masking the activity of the isocyanate group can also be preferably used. This is preferable from the viewpoint of extending the pot life of the coating liquid.

【0043】また、架橋剤として使用できるシラン化合
物、チタネート化合物の例としては以下に示すものを挙
げることができる。その具体例としては、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
(β−メトキシエトキシ)ビニルシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、β−メルカプトエチルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、イソプロ
ピルトリステアロイルチタネート、イソプロピルメタク
リルイソステアロイルチタネート等の公知の化合物が挙
げられる。
Examples of silane compounds and titanate compounds that can be used as a crosslinking agent include the following. Specific examples thereof include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and tris-
(Β-methoxyethoxy) vinylsilane, vinyltriacetoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-mercapto Known compounds such as propyltrimethoxysilane, β-mercaptoethyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, isopropyltristearoyl titanate, and isopropyl methacrylisostearoyl titanate are exemplified.

【0044】また、架橋された共重合体が電荷輸送性ブ
ロックと絶縁性ブロックを含む共重合体中の官能基同士
の縮合反応による架橋重合物である場合には、架橋剤を
添加する必要がなく、電荷輸送性の相に架橋剤が残留す
るために生じる電荷輸送性への悪影響をなくすことがで
きる。特に、架橋部位が絶縁性ブロックのみ存在する場
合は、または架橋可能な官能基が絶縁性ブロックのみに
ある共重合体の場合は、電荷輸送性の相中に架橋剤の残
留が無い上に、電荷輸送性の相中に架橋部位、および、
未架橋部位も無いため、電荷輸送性を損なうことが無
く、特に好ましい。官能基同士が縮合反応することがで
きる官能基の例としては、アルコキシシリル基同士、イ
ソシアネート基同士、ヒドロキシル基とイソシアネート
基などが挙げられる。特に、アルコキシシリル基は適度
な反応性を有しているため、合成や取扱いに有利である
とともに、容易に架橋反応を起こすことができ、さら
に、縮合により生じるアルコールも気化することにより
感光層中に残留せず好ましい。架橋可能な官能基がアル
コキシシリル基の場合は触媒として、酢酸、塩酸などの
酸、またはアルカリ、有機金属化合物等を加えることが
でき、さらに水を加えてもよい。また、架橋を促進する
ため、加熱することができる。
When the cross-linked copolymer is a cross-linked polymer obtained by a condensation reaction between functional groups in a copolymer containing a charge transport block and an insulating block, it is necessary to add a cross-linking agent. In addition, it is possible to eliminate the adverse effect on the charge transport property caused by the cross-linking agent remaining in the charge transport phase. In particular, when the cross-linking site exists only in the insulating block, or in the case of a copolymer having a cross-linkable functional group only in the insulating block, there is no cross-linking agent remaining in the charge transporting phase, Crosslinking sites in the charge transporting phase, and
Since there is no uncrosslinked site, the charge transporting property is not impaired, which is particularly preferable. Examples of the functional groups capable of undergoing a condensation reaction between the functional groups include alkoxysilyl groups, isocyanate groups, a hydroxyl group and an isocyanate group. In particular, the alkoxysilyl group has an appropriate reactivity, which is advantageous for synthesis and handling, and can easily cause a crosslinking reaction. It is preferable because it does not remain in When the crosslinkable functional group is an alkoxysilyl group, an acid such as acetic acid or hydrochloric acid, an alkali, an organometallic compound, or the like can be added as a catalyst, and water may be further added. Heating can be performed to promote crosslinking.

【0045】本発明に用いる架橋前の共重合体は、その
構成ブロックの連結形式は如何なるものでも構わない。
例えば、電荷輸送性ブロックをA、絶縁性ブロックをB
として、AB型、ABA型、BAB型、(AB)n型、
(AB)nA型、およびB(AB)n型のブロック共重
合体、電荷輸送性ブロックを主鎖、絶縁性ブロックを側
鎖とするグラフト共重合体、絶縁性ブロックを主鎖、電
荷輸送性ブロックを側鎖とするグラフト共重合体、もし
くはABA型等のブロック共重合体の側鎖にAおよび/
またはBをグラフト化したブロック−グラフト共重合体
等のブロック共重合体、グラフト共重合体、ブロック−
グラフト共重合体等が挙げられる。
The copolymer before cross-linking used in the present invention may be in any connection form of the constituent blocks.
For example, the charge transporting block is A, and the insulating block is B
AB type, ABA type, BAB type, (AB) n type,
(AB) nA-type and B (AB) n-type block copolymers, graft copolymers having a charge-transporting block as a main chain and an insulating block as a side chain, an insulating block as a main chain, charge-transporting property A and / or A are added to a side chain of a graft copolymer having a block as a side chain or a block copolymer such as an ABA type.
Or a block copolymer grafted with B-a block copolymer such as a graft copolymer, a graft copolymer, a block-
Examples include a graft copolymer.

【0046】本発明に用いる架橋前の共重合体の架橋可
能な官能基は、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックの
両方、または、どちらか一方に含まれていればよい。絶
縁性ブロックが、架橋可能な官能基を有する繰り返し単
位を重合したブロックと架橋可能な官能基を有しない繰
り返し単位を重合したブロックより形成されていてもよ
い。また、絶縁性ブロックが架橋可能な官能基を有する
繰り返し単位を重合したブロックのみで形成されていて
も良い。特に、架橋可能な官能基が絶縁性ブロックのみ
に存在し、絶縁性ブロック中の架橋可能な官能基を有す
る繰り返し単位と架橋可能な官能基を有しない繰り返し
単位の組成比は、1:20〜10:1(重量比)の範囲
が好ましく、さらに1:5〜3:1(重量比)の範囲が
より好ましい。架橋可能な官能基を有する繰り返し単位
の組成比が前記上限値を上回ると、脆くなる傾向があ
り、架橋可能な官能基を有する繰り返し単位の組成比が
前記下限値を下回ると、機械的強度が悪化する傾向にあ
る。
The crosslinkable functional group of the copolymer before crosslinking used in the present invention may be contained in both or one of the charge transport block and the insulating block. The insulating block may be formed of a block in which a repeating unit having a crosslinkable functional group is polymerized and a block in which a repeating unit having no crosslinkable functional group is polymerized. Further, the insulating block may be formed only of a block obtained by polymerizing a repeating unit having a crosslinkable functional group. In particular, the crosslinkable functional group is present only in the insulating block, and the composition ratio of the repeating unit having a crosslinkable functional group and the repeating unit having no crosslinkable functional group in the insulating block is 1:20 to A range of 10: 1 (weight ratio) is preferable, and a range of 1: 5 to 3: 1 (weight ratio) is more preferable. When the composition ratio of the repeating unit having a crosslinkable functional group exceeds the upper limit, there is a tendency to be brittle, and when the composition ratio of the repeating unit having a crosslinkable functional group is below the lower limit, mechanical strength is increased. It tends to worsen.

【0047】架橋前の共重合体は、電荷輸送性ブロック
と絶縁性ブロックを含む共重合体の電荷輸送性ブロック
または絶縁性ブロックの生成の際に、架橋可能な官能基
を有する繰り返し単位をブロック中にランダム共重合、
またはブロック共重合させることによって得られる。ま
た、架橋可能な官能基を持たない、電荷輸送性ブロック
と絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体またはグラ
フト共重合体の末端に、架橋可能な官能基を有する繰り
返し単位を重合させても得ることができる。
The copolymer before cross-linking blocks a repeating unit having a cross-linkable functional group when forming the charge transporting block or the insulating block of the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block. During random copolymerization,
Alternatively, it can be obtained by block copolymerization. In addition, it can be obtained by polymerizing a repeating unit having a crosslinkable functional group at the terminal of a block copolymer or a graft copolymer having no charge-crosslinkable functional group and a charge transporting block and an insulating block. Can be.

【0048】ポリマーブレンド、ポリマーアロイの分野
でよく知られているように、一般に、異なる高分子は互
いに非相溶であり、それらの混合物およびブロック共重
合体またはグラフト共重合体は相分離状態を取る。一般
に、単なる混合物、すなわち、ポリマーブレンドではそ
の相分離のスケールは数μm以上のマクロなものとなる
(マクロ相分離)。これに対し、各成分が共有結合で連
結されたブロック共重合体およびグラフト共重合体で
は、サブミクロン以下の微細なドメインからなる相分離
状態を与える(ミクロ相分離)。ブロック共重合体およ
びグラフト共重合体における相分離のスケールは、一般
的に各ブロックの平均長と同一次元であり、分子量にほ
ぼ比例することが知られている。本発明に用いる電荷輸
送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体も、一般
的にミクロ相分離状態を取る。しかしながら、電荷輸送
性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体は、必ずし
もミクロ相分離状態を取るものばかりではなく、各ブロ
ックの組合せによっては、相溶性を示し、相分離を起こ
さないものも在る。
As is well known in the field of polymer blends and polymer alloys, different polymers are generally incompatible with each other, and mixtures thereof and block copolymers or graft copolymers have a phase-separated state. take. Generally, in a mere mixture, that is, a polymer blend, the phase separation scale is macroscopic to several μm or more (macrophase separation). On the other hand, the block copolymer and the graft copolymer in which each component is connected by a covalent bond give a phase separation state composed of fine domains of submicron or less (microphase separation). It is known that the scale of phase separation in block copolymers and graft copolymers is generally the same dimension as the average length of each block, and is approximately proportional to the molecular weight. The copolymer containing a charge transporting block and an insulating block used in the present invention generally takes a microphase-separated state. However, copolymers containing a charge-transporting block and an insulating block do not always take a microphase-separated state, but depending on the combination of each block, some exhibit compatibility and do not cause phase separation. .

【0049】一般的に、相分離性ブロックまたはグラフ
ト共重合体における相分離状態は構成ブロックの種類、
分子量、および両ブロックの組成比等により、熱力学的
に最も安定な構造が存在し、Aブロック、Bブロックか
らなる共重合体では、連結形式には依らず、A/B組成
比にのみ依存し、A/B比の増加に伴い、Aが球状ドメ
インでBがマトリックス、Aが棒状ドメインでBがマト
リックス、A/B交互層、Bが棒状ドメインでAがマト
リックス、Bが球状ドメインでAがマトリックスへと系
統的に変化する。但し、湿式塗布法により、成膜する場
合には、用いる溶媒および乾燥速度等により、相分離状
態を任意に制御することができる。例えば、A/B比が
大きく熱力学的にはB球−Aマトリックスを取る場合で
も、塗布溶媒として、Bの良溶媒でありかつAの貧溶媒
である溶媒を選択すれば、A球−Bマトリックス構造を
得ることができる。また、A、B両者の良溶媒を用い、
急速に溶媒を除去すると、スピノーダル分解状態で凍結
した相分離構造(変調構造)を得ることがである。ま
た、A/B比が大きく熱力学的にはB球−Aマトリック
スを取る共重合体に、Bのみと相溶性のある重合体を添
加していくと、添加量の増加に伴い、B球が肥大化し、
最終的には、Aが球、BおよびBのみと相溶性のある重
合体がマトリックスとなる相分離構造を与える。
In general, the phase separation state in a phase-separable block or a graft copolymer depends on the type of constituent blocks,
The most thermodynamically stable structure exists due to the molecular weight and the composition ratio of both blocks, etc. In the copolymer consisting of A block and B block, it depends only on the A / B composition ratio, regardless of the connection type However, as the A / B ratio increases, A is a spherical domain, B is a matrix, A is a rod-shaped domain, B is a matrix, A / B alternating layers, B is a rod-shaped domain, A is a matrix, and B is a spherical domain, A is a matrix. Changes systematically into a matrix. However, when a film is formed by a wet coating method, the phase separation state can be arbitrarily controlled depending on the solvent used, the drying speed, and the like. For example, even when the A / B ratio is large and a B sphere-A matrix is taken thermodynamically, if a solvent that is both a good solvent for B and a poor solvent for A is selected as a coating solvent, A sphere-B A matrix structure can be obtained. Also, using good solvents of both A and B,
When the solvent is rapidly removed, a phase separation structure (modulation structure) frozen in a spinodal decomposition state may be obtained. In addition, when a polymer having a high A / B ratio and having a thermodynamically B-sphere-A matrix and a polymer compatible only with B is added, the amount of B-sphere increases as the amount of addition increases. Bloated,
Eventually, A gives a phase-separated structure in which a polymer compatible with only spheres and B and B serves as a matrix.

【0050】本発明に用いる架橋可能な官能基を有する
共重合体の合成方法としては、例えば、第4版実験化学
講座28 高分子合成(丸善、1992)、マクロモノ
マーの化学と工業(アイピーシー、1990)、高分子
の相溶化と評価技術(技術情報協会、1992)、高分
子新素材One Point 12 ポリマーアロイ
(共立、1988)等の文献に記載されているブロック
共重合体またはグラフト共重合体を与え得る任意の適当
な合成法を用いることができる。
Examples of the method for synthesizing the copolymer having a crosslinkable functional group used in the present invention include the fourth edition of Experimental Chemistry Lecture 28, Polymer Synthesis (Maruzen, 1992), Macromonomer Chemistry and Industry (IPC). , 1990), polymer compatibilization and evaluation technology (Technical Information Association, 1992), block copolymers or graft copolymers described in documents such as New Polymer One Point 12 polymer alloy (Kyoritsu, 1988). Any suitable synthetic method that can provide coalescence can be used.

【0051】例えば、予め電荷輸送性重合体と絶縁性重
合体を合成し、それら重合体同士を反応結合させること
によって所望とするブロック共重合体が得られる。ま
た、電荷輸送性ブロックを形成するモノマーと絶縁性ブ
ロックを形成するモノマーの重合形式が同じでありかつ
両者の反応性が大きく異なる場合には、単にそれらモノ
マーの混合物を重合させることで、まず、反応性の高い
方のモノマーが重合し、該モノマーが消費された後、反
応性の低い方のモノマーが重合し、所望とするブロック
共重合体が得られる。また、予め一方のモノマーの重合
物を合成し、該重合物の末端および/または側鎖にア
ゾ、過酸エステル、パーオキシ、ジチオカルバマート、
アルカリ金属アルコラート、アルカリ金属アルキル等の
重合開始能を有する基を含む重合開始剤を導入し、該重
合開始剤により、他方のモノマーを重合させることによ
っても、所望とするブロック共重合体またはグラフト共
重合体が得られる。この方法によれば、重縮合または重
付加系重合体と付加重合または開環重合系重合体からな
るブロック共重合体またはグラフト共重合体を容易に得
ることができる。また、分子中にアゾ、過酸エステル、
パーオキシ等の重合開始能を有する基を複数含む化合物
を用い、まず、一部の重合開始基から、一方のモノマー
を重合させ、次に残りの重合開始基から、他方のモノマ
ーを重合させることによっても所望とするブロック共重
合体が得られる。また、カチオンリビング重合法、アニ
オンリビング重合法、ラジカルリビング重合法等のリビ
ング重合法により、各モノマーを逐次重合させることに
よっても所望とするブロック共重合体を得ることができ
る。リビング重合法は、各ブロックの分子量を容易に制
御でき、かつ分子量分布の狭い重合体を与え得ると云う
利点を有する。また、イモータル重合法、Inifer
ter法等により、各モノマーを逐次重合させることに
よっても所望とするブロック共重合体を得ることができ
る。さらにまた、予め一方のモノマーの重合物の末端に
他方のモノマーを導入したマクロモノマーを合成し、該
マクロモノマーを重合することによって所望とするグラ
フト共重合体を得ることができる。
For example, a desired block copolymer can be obtained by previously synthesizing a charge transporting polymer and an insulating polymer and reacting and bonding the polymers. Further, when the polymerization form of the monomer forming the charge transporting block and the monomer forming the insulating block are the same and the reactivities of both are significantly different, simply polymerizing a mixture of those monomers firstly, After the monomer having higher reactivity is polymerized and the monomer is consumed, the monomer having lower reactivity is polymerized to obtain a desired block copolymer. In addition, a polymer of one monomer is synthesized in advance, and azo, peracid ester, peroxy, dithiocarbamate,
A desired block copolymer or graft copolymer can also be obtained by introducing a polymerization initiator containing a group having a polymerization initiation ability, such as an alkali metal alcoholate or an alkali metal alkyl, and polymerizing the other monomer with the polymerization initiator. A polymer is obtained. According to this method, a block copolymer or a graft copolymer comprising a polycondensation or polyaddition polymer and an addition polymerization or ring-opening polymerization polymer can be easily obtained. In addition, azo, peracid ester,
By using a compound containing a plurality of groups having a polymerization initiation ability such as peroxy, first, one monomer is polymerized from a part of the polymerization initiation groups, and then the other monomer is polymerized from the remaining polymerization initiation groups. The desired block copolymer is also obtained. Also, a desired block copolymer can be obtained by sequentially polymerizing each monomer by a living polymerization method such as a cation living polymerization method, an anion living polymerization method, or a radical living polymerization method. The living polymerization method has an advantage that the molecular weight of each block can be easily controlled and a polymer having a narrow molecular weight distribution can be obtained. In addition, immortal polymerization method, Inifer
The desired block copolymer can also be obtained by sequentially polymerizing each monomer by a ter method or the like. Furthermore, a desired macro-copolymer can be obtained by synthesizing a macromonomer in which the other monomer has been introduced into the terminal of the polymer of one monomer in advance, and polymerizing the macromonomer.

【0052】本発明の共重合体の電荷輸送性ブロックと
絶縁性ブロックの分子量は如何なる値でも構わないが、
高分子特性を発揮するには、2000以上であることが
望まれる。また、相分離しやすくするためにも電荷輸送
性ブロックと絶縁性ブロックの分子量は、2000以
上、好ましくは5000以上、より好ましくは1000
0以上、さらに好ましくは20000以上である。分子
量の上限に関しては電気的特性上、また機械特性上の制
限は特にないが、湿式塗布法によって成膜を行う場合に
は、適当な溶液粘度を与える範囲内にあることが必要と
なり、一般的には、5000000以下であることが好
ましい。
The molecular weights of the charge transporting block and the insulating block of the copolymer of the present invention may be any values.
In order to exhibit high polymer properties, the molecular weight is desirably 2000 or more. In order to facilitate phase separation, the molecular weights of the charge transporting block and the insulating block are 2,000 or more, preferably 5,000 or more, more preferably 1,000 or more.
It is 0 or more, more preferably 20,000 or more. There is no particular limitation on the upper limit of the molecular weight in terms of electrical characteristics and mechanical characteristics.However, when a film is formed by a wet coating method, it is necessary that the upper limit of the molecular weight be within a range that gives an appropriate solution viscosity. Is preferably 5,000,000 or less.

【0053】本発明の共重合体中の電荷輸送性ブロック
と絶縁性ブロックの重量比率は、1:9〜9:1の間に
設定される。特に、2:8〜8:2が好ましく、さら
に、3:7〜7:3が特に好ましい。電荷輸送性ブロッ
クの重量比率が上記範囲より小さいと電荷輸送性を十分
に発揮することができず、光感度の低下、残留電位の上
昇、繰り返し安定性の低下などの障害を起こす。また、
電荷輸送性ブロックの重量比率が上記範囲より大きい
と、機械的強度が低くなる傾向にある。
The weight ratio between the charge transporting block and the insulating block in the copolymer of the present invention is set between 1: 9 and 9: 1. In particular, 2: 8 to 8: 2 is preferable, and 3: 7 to 7: 3 is particularly preferable. When the weight ratio of the charge transporting block is smaller than the above range, the charge transporting property cannot be sufficiently exerted, causing problems such as a decrease in photosensitivity, an increase in residual potential, and a decrease in repetition stability. Also,
When the weight ratio of the charge transporting block is larger than the above range, the mechanical strength tends to decrease.

【0054】本発明の共重合体の電荷輸送性ブロックと
しては、その繰り返し単位中に電荷輸送性を有する構造
を含むものであれば、ポリビニカルバゾール、ポリシラ
ン等、如何なるものでも構わないが、前記のようにその
繰り返し単位中にトリアリールアミン構造を含むものは
電荷移動度、電荷注入性、電荷寿命、可視光および赤外
光透過性、化学的安定性等の点で好ましい。
The charge transporting block of the copolymer of the present invention may be any block such as polyvinylcarbazole or polysilane as long as it has a structure having a charge transporting property in its repeating unit. Such a compound having a triarylamine structure in its repeating unit is preferred in terms of charge mobility, charge injection property, charge life, visible light and infrared light transmittance, chemical stability and the like.

【0055】特にトリアリールアミン構造として下記一
般式(3)または(4)で示される構造の少なくとも1
種を繰り返し単位として含有するものが好ましい。
In particular, as the triarylamine structure, at least one of the structures represented by the following general formula (3) or (4)
Those containing a seed as a repeating unit are preferred.

【0056】[0056]

【化3】 Embedded image

【0057】[0057]

【化4】 Embedded image

【0058】上記一般式(3)中、Ar1 およびAr2
はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から
選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、
ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられ
る。また、置換基としては、メチル基、エチル基、メト
キシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
In the above general formula (3), Ar 1 and Ar 2
Are each independently selected from a substituted or unsubstituted aryl group, and specific examples of the aryl group include a phenyl group,
Examples include a biphenyl group, a naphthyl group, and a pyrenyl group. Examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, and a halogen atom.

【0059】X1 は芳香族環構造を有する2価の炭化水
素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる。具
体例としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフ
ェニレン基、ナフチレン基、メチレンジフェニル基、シ
クロヘキシレデンジフェニル基、オキシジフェニル基、
チオジフェニル基等、およびこれらのメチル置換体、エ
チル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等
が挙げられ、この中でも特に置換もしくは未置換のビフ
ェニレン基が電荷輸送性の点で、特に好ましい。
X 1 is selected from a divalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure or a hetero atom-containing hydrocarbon group. Specific examples include a phenylene group, a biphenylene group, a terphenylene group, a naphthylene group, a methylenediphenyl group, a cyclohexyredenediphenyl group, an oxydiphenyl group,
Examples thereof include a thiodiphenyl group and the like, and methyl-substituted, ethyl-substituted, methoxy-substituted, and halogen-substituted forms thereof. Of these, a substituted or unsubstituted biphenylene group is particularly preferable in view of charge transportability.

【0060】X2 およびX3 はそれぞれ独立に置換もし
くは未置換のアリーレン基から選ばれ、具体的には、フ
ェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフ
チレン基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換
体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げら
れる。
X 2 and X 3 are each independently selected from a substituted or unsubstituted arylene group. Specifically, phenylene group, biphenylene group, terphenylene group, naphthylene group and the like, and methyl-substituted products thereof, ethyl Substitutes, methoxy substitutes, halogen substitutes and the like can be mentioned.

【0061】L1 は枝分れもしくは環構造を含んでもよ
い2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基か
ら選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮
するかぎり任意であるが、エーテル結合、エステル結
合、カーボネート結合、シロキサン結合等から選ばれる
結合基を含み、かつ炭素数が20以下であるものが好ま
しい。その具体例としては、以下のものが挙げられる。
L 1 is selected from a divalent hydrocarbon group or a heteroatom-containing hydrocarbon group which may have a branched or cyclic structure, and is optional as long as it exhibits at least one of the above-mentioned preferable characteristics. Those containing a bonding group selected from an ether bond, an ester bond, a carbonate bond, a siloxane bond and the like and having 20 or less carbon atoms are preferred. Specific examples include the following.

【0062】[0062]

【化5】 Embedded image

【0063】上記一般式(4)中、Ar3 およびAr4
はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から
選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、
ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられ
る。また、置換基としては、炭素数1〜12個のアルキ
ル基またはアルコキシ基、ジフェニルアミノ基、ハロゲ
ン原子等が挙げられる。
In the above general formula (4), Ar 3 and Ar 4
Are each independently selected from a substituted or unsubstituted aryl group, and specific examples of the aryl group include a phenyl group,
Examples include a biphenyl group, a naphthyl group, and a pyrenyl group. Examples of the substituent include an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a diphenylamino group, and a halogen atom.

【0064】L2 は芳香族環構造を有する3価の炭化水
素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記
の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意
であるが、炭素数が20以下のものが好ましい。その具
体例としては、以下のものが挙げられる。
L 2 is selected from a trivalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure or a heteroatom-containing hydrocarbon group, and is arbitrary as long as it exhibits at least one of the preferable characteristics described above. The following are preferred. Specific examples include the following.

【0065】[0065]

【化6】 Embedded image

【0066】[0066]

【化7】 Embedded image

【0067】本発明の共重合体中の絶縁性ブロックとし
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステ
ル、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウ
レタン等、如何なるものでも構わないが、機械的強度、
可撓性、可視光および赤外光透過性、化学的安定性、絶
縁性等の点で、ビニル系モノマーの重合物からなること
が好ましい。
The insulating block in the copolymer of the present invention may be any of polycarbonate, polyarylate, polyester, polysulfone, polymethyl methacrylate, polyurethane and the like.
It is preferable to be made of a polymer of a vinyl monomer in terms of flexibility, transparency of visible light and infrared light, chemical stability, insulating properties and the like.

【0068】特にビニル系モノマーとして、下記一般式
(5)で示されるビニルモノマーの少なくとも1種を重
合して得られるものが好ましい。さらに、下記一般式
(6)で示される架橋可能な官能基を有するビニルモノ
マー、および、下記一般式(5)で示されるビニルモノ
マーの少なくとも1種を共重合して得られるものが好ま
しい。
In particular, as the vinyl monomer, a monomer obtained by polymerizing at least one vinyl monomer represented by the following general formula (5) is preferable. Further, a vinyl monomer having a crosslinkable functional group represented by the following general formula (6) and a vinyl monomer represented by the following general formula (5) obtained by copolymerizing at least one kind thereof are preferable.

【0069】[0069]

【化8】 Embedded image

【0070】上記一般式(5)中、R1 〜R3 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、または置換もしくは
未置換のアルキル基またはアリール基から選ばれる。置
換もしくは未置換のアルキル基またはアリール基の具体
例としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、クロロ
メチル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
In the general formula (5), R 1 to R 3 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, a tolyl group, and the like.

【0071】R4は置換もしくは未置換のアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ
基、またはアルコキシカルボニル基から選ばれる。アル
キル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、お
よびアルコキシカルボニル基の炭素数は1〜18個が好
ましく、またアリール基としてはフェニル基、ナフチル
基、ピレニル基等が挙げられる。置換基としては、ハロ
ゲン原子、フェニル基、ヒドロキシ基、アミノ基、イソ
シアネート基、エポキシ基、アルコキシシリル基等が挙
げられる。
R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group,
It is selected from an aryl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, or an alkoxycarbonyl group. The alkyl group, the alkoxy group, the acyl group, the acyloxy group, and the alkoxycarbonyl group preferably have 1 to 18 carbon atoms, and examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and a pyrenyl group. Examples of the substituent include a halogen atom, a phenyl group, a hydroxy group, an amino group, an isocyanate group, an epoxy group, and an alkoxysilyl group.

【0072】[0072]

【化9】 Embedded image

【0073】上記一般式(6)中、R5 〜R7 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、または置換もしくは
未置換のアルキル基またはアリール基から選ばれる。置
換もしくは未置換のアルキル基またはアリール基の具体
例としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、クロロ
メチル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
In the above general formula (6), R 5 to R 7 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, a tolyl group, and the like.

【0074】R8 はクロルスルホン基、カルボキシル
基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ニトリル基、イソシ
アナート基、アミノ基、エポキシ基もしくはアルコキシ
シリル基で置換されたアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシ
カルボニル基を示す。
R 8 is a chlorosulfone group, a carboxyl group, a hydroxy group, a mercapto group, a nitrile group, an isocyanate group, an amino group, an alkyl group substituted with an epoxy group or an alkoxysilyl group, an aryl group, an alkoxy group, an acyl group. , An acyloxy group, or an alkoxycarbonyl group.

【0075】該アルキル基としては、枝分かれもしくは
環構造を含んでも良いが、炭素数が1〜20個のものが
好ましく、また該アリール基としてはフェニル基、ナフ
チル基、ピレニル基等が挙げられる。
The alkyl group may have a branched or cyclic structure, but preferably has 1 to 20 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group and a pyrenyl group.

【0076】本発明の架橋可能な官能基を有する共重合
体において、電荷輸送性ブロック中の繰り返し単位とし
て含有する、上記一般式(3)で表される構造式の具体
例を下記表1〜4に示し、上記一般式(4)で表される
構造式の具体例を下記表5に示し、また、絶縁性ブロッ
ク中の繰り返し単位として含有する、上記一般式(5)
で表されるビニルモノマーの構造式の具体例を下記表6
〜7に、上記一般式(6)で表される架橋可能な官能基
を有するビニルモノマーの具体例を下記表8〜10に示
すが、本発明はこれらに限られるものではない。また、
本発明の電荷輸送性共重合体の具体例としては、下記表
1〜3に示される構造から選ばれる任意のものを繰り返
し単位とするブロックと下記表4〜5に示される構造か
ら選ばれる任意のものを繰り返し単位とするブロックと
からなるブロック共重合体が挙げられるが、本発明はこ
れらに限られるものではない。
In the copolymer having a crosslinkable functional group of the present invention, specific examples of the structural formula represented by the above general formula (3), which is contained as a repeating unit in the charge transporting block, are shown in Tables 1 to 3 below. 4, specific examples of the structural formula represented by the above general formula (4) are shown in the following Table 5, and the above general formula (5) containing as a repeating unit in the insulating block.
Specific examples of the structural formula of the vinyl monomer represented by the following Table 6
Specific examples of the vinyl monomer having a crosslinkable functional group represented by the general formula (6) are shown in Tables 8 to 10 below, but the present invention is not limited thereto. Also,
Specific examples of the charge transporting copolymer of the present invention include a block having a repeating unit selected from any of the structures shown in Tables 1 to 3 below and an optional block selected from the structures shown in Tables 4 and 5 below. And a block copolymer composed of a block having a repeating unit as a repeating unit, but the present invention is not limited to these.

【0077】[0077]

【表1】 [Table 1]

【0078】[0078]

【表2】 [Table 2]

【0079】[0079]

【表3】 [Table 3]

【0080】[0080]

【表4】 [Table 4]

【0081】[0081]

【表5】 [Table 5]

【0082】[0082]

【表6】 [Table 6]

【0083】[0083]

【表7】 [Table 7]

【0084】[0084]

【表8】 [Table 8]

【0085】[0085]

【表9】 [Table 9]

【0086】[0086]

【表10】 [Table 10]

【0087】本発明の共重合体中の絶縁性ブロックまた
は絶縁性の相の抵抗値としては、1013Ωcm以上が好
ましく、特に、1014Ωcm以上が好ましい。上記値よ
り絶縁性ブロックの抵抗値が低くなると、絶縁性ブロッ
ク中に輸送電荷が侵入し、電荷輸送性の低下、光感度の
低下、残留電位の上昇、繰り返し安定性の低下などの障
害が起こる。尚、共重合体中の電気抵抗率を、直接測定
することは困難であり、絶縁性ブロックまたは絶縁性の
相と同一構造の高分子の電気抵抗率で代用することがで
きる。
The resistance of the insulating block or insulating phase in the copolymer of the present invention is preferably at least 10 13 Ωcm, particularly preferably at least 10 14 Ωcm. When the resistance value of the insulating block becomes lower than the above value, transport charges enter the insulating block, causing troubles such as a decrease in charge transportability, a decrease in photosensitivity, an increase in residual potential, and a decrease in repetition stability. . It is difficult to directly measure the electric resistivity in the copolymer, and the electric resistivity of a polymer having the same structure as the insulating block or the insulating phase can be used instead.

【0088】本発明の共重合体中の電荷輸送性ブロック
または電荷輸送性の相の電荷移動度は、電子写真感光体
の応答速度を支配する一因子であり、移動度が高いもの
ほど、高速の電子写真装置に好適に用いられる。本発明
の電子写真装置においては、少なくとも現像に用いる電
界強度域において、共重合体中の電荷輸送性ブロックま
たは電荷輸送性の相の電荷移動度が10-7cm2 /Vs
以上であることが好ましい。この電荷移動度は、より好
ましくは10-6cm2 /Vs以上である。尚、電荷輸送
性ブロックまたは電荷輸送性の相の電荷移動度を、直接
測定することは困難であり、電荷輸送性ブロックまたは
電荷輸送性の相と同一構造の電荷輸送性高分子の電荷移
動度で代用することができる。移動度の測定は、当業界
における常法である、Time−of−Flight法
により行うことができ、電界強度5V/μmでの値で代
表される。
The charge mobility of the charge-transporting block or charge-transporting phase in the copolymer of the present invention is one factor that governs the response speed of the electrophotographic photoreceptor. It is suitably used for the electrophotographic apparatus. In the electrophotographic apparatus of the present invention, the charge mobility of the charge transporting block or the charge transporting phase in the copolymer is at least 10 −7 cm 2 / Vs, at least in the electric field intensity range used for development.
It is preferable that it is above. This charge mobility is more preferably at least 10 -6 cm 2 / Vs. It is difficult to directly measure the charge mobility of the charge transport block or the charge transport phase, and the charge mobility of the charge transport polymer having the same structure as the charge transport block or the charge transport phase is difficult. Can be substituted. The mobility can be measured by a Time-of-Flight method, which is a common method in the art, and is represented by a value at an electric field strength of 5 V / μm.

【0089】本発明の共重合体の電荷輸送性の相と絶縁
性の相の相分離構造は、海島構造、シリンダー型の構造
ラメラ型の構造、変調構造等どのような相構造でも良
い。共重合体中の相分離状態の直接的観察は、染色した
切片を透過型電子顕微鏡で観察する方法などがある。し
かし、前述の様に共重合体中の相の電気抵抗、および電
荷移動度の測定は困難であるため、直接的に電荷輸送性
の相と絶縁性の相とに相分離しているかどうかを確認す
ることは困難である。ところが、高分子の性質上、二種
類以上の構成よりなるブロックの共重合体中で相分離構
造が確認されれば、各々の相は、同種のブロックにより
構成されるとみなすことができる。そのため、電荷輸送
性ブロックと絶縁性ブロックよりなる共重合体であり、
かつ、相分離がなんらかの方法で確認できれば、電荷輸
送性ブロックより構成される相と絶縁性ブロックより構
成される相に相分離しているとみなせる。当然のことな
がら、電荷輸送性ブロックより構成される相は電荷輸送
性の相であり、絶縁性ブロックより構成される相は絶縁
性の相である。相分離の確認方法としては、顕微鏡法の
他にも例えば、光散乱法、X線小角散乱法、熱分析など
がある。
The phase separation structure of the charge transporting phase and the insulating phase of the copolymer of the present invention may be any phase structure such as a sea-island structure, a cylinder-type structure, a lamellar structure, or a modulation structure. The direct observation of the phase separation state in the copolymer includes a method of observing a stained section with a transmission electron microscope. However, as described above, since it is difficult to measure the electric resistance and charge mobility of the phase in the copolymer, it is difficult to determine whether the phase is directly separated into the charge transporting phase and the insulating phase. It is difficult to confirm. However, due to the nature of the polymer, if a phase-separated structure is confirmed in a copolymer of blocks composed of two or more types, each phase can be regarded as composed of the same type of blocks. Therefore, it is a copolymer composed of a charge transport block and an insulating block,
If the phase separation can be confirmed by any method, it can be considered that the phase is separated into a phase composed of the charge transport block and a phase composed of the insulating block. As a matter of course, the phase composed of the charge transporting block is a charge transporting phase, and the phase composed of the insulating block is an insulating phase. As a method for confirming the phase separation, there are, for example, a light scattering method, an X-ray small angle scattering method, and a thermal analysis in addition to the microscopic method.

【0090】本発明に用いられる保護層中の導電性粒子
としては、導電性、或いは、半導電性を有するカーボ
ン、金属(例えば、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ステ
ンレス、ニッケル、クロム、チタニウム等)、金属酸化
物(TiO2 、SnO2 、Sb 2 3 、In2 3 、Z
nO、MgO等)、さらに、ドーパントをドープした金
属酸化物(例えば、ZnO−Al2 3 、SnO2 −S
2 3 、In2 3 −SnO2 、ZnO−TiO2
MgO−Al2 3 、FeO−TiO2)、導電性ガラ
ス材料、及びセラミック材料等、が挙げられる。また、
絶縁性の無機フィラー、有機フィラーの表面をカーボ
ン、金属酸化物、ドーパントをドープした金属酸化物、
導電性ガラス材料、及びセラミック材料等により被覆し
た粒子も挙げられる。
The conductive particles in the protective layer used in the present invention
As a conductive or semiconductive carbohydrate
Metals, such as zinc, aluminum, copper, iron, stainless steel
Metal, nickel, chromium, titanium, etc.), metal oxidation
Object (TiOTwo, SnOTwo, Sb TwoOThree, InTwoOThree, Z
nO, MgO, etc.)
Oxides (for example, ZnO-AlTwoOThree, SnOTwo-S
bTwoOThree, InTwoOThree-SnOTwo, ZnO-TiOTwo,
MgO-AlTwoOThree, FeO-TiOTwo), Conductive glass
Materials, ceramic materials, and the like. Also,
Carbide the surface of insulating inorganic or organic filler
Metal oxides, metal oxides doped with dopants,
Cover with conductive glass material, ceramic material, etc.
Particles.

【0091】導電性粒子としては、保護層の表面抵抗の
制御が容易なこと、透明な膜が得られ易いこと等から、
酸化チタン、酸化錫、及びアンチモンをドープした酸化
錫が特に好ましい。
As the conductive particles, the surface resistance of the protective layer can be easily controlled, and a transparent film can be easily obtained.
Titanium oxide, tin oxide, and tin oxide doped with antimony are particularly preferred.

【0092】前記導電性粒子の粒径は、最表面層におけ
る適切な表面抵抗値を保ちつつ表面の平滑性を維持する
点から、0.3μm以下であることが好ましく、より好
ましくは0.01〜0.3μmである。ここで、導電性
粒子の粒径とは、導電性粒子が凝集体を構成している場
合には、その凝集体(二次粒子)の粒径をいい、導電性
粒子が凝集体を構成していない場合には、個々の導電性
粒子(一次粒子)の粒径をいうものとする。
The particle diameter of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.01 μm, from the viewpoint of maintaining the surface smoothness while maintaining an appropriate surface resistance value in the outermost surface layer. 0.30.3 μm. Here, the particle size of the conductive particles refers to the particle size of the aggregate (secondary particles) when the conductive particles form an aggregate, and the conductive particles form the aggregate. If not, it refers to the particle size of each conductive particle (primary particle).

【0093】保護層中の導電性粒子の含有量は、粒子の
導電性や粒径、形状、分散状態によって異なるが、5〜
80重量%で、好ましくは10〜70重量%の範囲が適
当であり、保護層の表面抵抗値が、109Ωcm以上、
好ましくは1011Ωcm以上、さらに好ましくは1012
〜1015Ωcmになるように添加することが好ましい。
The content of the conductive particles in the protective layer depends on the conductivity of the particles, the particle size, the shape, and the dispersion state.
80% by weight, preferably in the range of 10 to 70% by weight, and the surface resistance of the protective layer is 10 9 Ωcm or more;
It is preferably at least 10 11 Ωcm, more preferably 10 12 Ωcm.
It is preferable to add so as to be 10 to 10 15 Ωcm.

【0094】これより低い抵抗では画像が不鮮明とな
り、これより高い抵抗では残留電位が高すぎて十分なコ
ントラストが得られない傾向がある。
If the resistance is lower than this, the image becomes unclear, and if the resistance is higher than this, the residual potential tends to be too high to obtain a sufficient contrast.

【0095】保護層の膜厚は0.5〜20μmが適当で
あり、好ましくは1〜10μmの範囲に設定される。
The thickness of the protective layer is suitably from 0.5 to 20 μm, preferably from 1 to 10 μm.

【0096】保護層には、導電性粒子を樹脂中に分散す
るための分散剤を添加してもよい。分散剤の種類として
は、導電性粒子と樹脂の種類に応じて選定されるが、ア
ニオン系、カチオン系、ノンイオン系、更にはシランカ
ップリング剤等が挙げられる。
A dispersant for dispersing the conductive particles in the resin may be added to the protective layer. The type of the dispersant is selected according to the types of the conductive particles and the resin, and examples thereof include an anionic type, a cationic type, a non-ionic type, and a silane coupling agent.

【0097】導電性粒子と共重合体との分散は、ダイノ
ミル、サンドグラインドミル、又はボールミルを用いて
行うことができる。
The dispersion of the conductive particles and the copolymer can be performed using a dyno mill, a sand grind mill, or a ball mill.

【0098】電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性
ガス、あるいは、光、熱による感光体の劣化を防止する
目的で、保護層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等
を添加することができる。酸化防止剤としては、公知の
ものを用いることができ、例えば、ヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、ハイ
ドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよび
それらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があ
げられる。光安定剤としては、公知のものを用いること
ができ、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の
誘導体、および、光励起状態をエネルギー移動あるいは
電荷移動により失活し得る電子吸引性化合物または電子
供与性化合物等があげられる。
Antioxidants, light stabilizers, heat stabilizers, etc. are added to the protective layer for the purpose of preventing the deterioration of the photoreceptor due to ozone or oxidizing gas generated in the electrophotographic apparatus, or light or heat. can do. As the antioxidant, known compounds can be used, and examples thereof include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds. . As the light stabilizer, known ones can be used, for example, derivatives such as benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine, and electron withdrawing properties that can deactivate the photoexcited state by energy transfer or charge transfer. And a compound or an electron donating compound.

【0099】さらに、本発明の電子写真感光体において
保護層中には、導電性粒子以外の各種の粒子を分散・含
有させることができる。例えば、表面磨耗の低減、転写
性の向上、クリーニング性の向上等を目的として、フッ
素樹脂、シリコーン樹脂、無機フィラー等の絶縁性粒子
を分散させてもよい。
Further, in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, various particles other than conductive particles can be dispersed and contained in the protective layer. For example, insulating particles such as a fluororesin, a silicone resin, and an inorganic filler may be dispersed for the purpose of reducing surface wear, improving transferability, improving cleanability, and the like.

【0100】塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコティング
法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エア
ーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の
通常の方法を用いることができる。
As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method can be used.

【0101】導電性支持体は、不透明または実質的に透
明であることができ、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、ステンレス鋼等の金属類、および、アルミニウム、
チタン、ニッケル、クロム、ステンレス、金、バナジウ
ム、酸化錫、酸化インジウム、ITO等の薄膜を設けた
プラスチックフィルム、ガラス等、あるいは導電性付与
剤を塗布または含浸させた紙、プラスチックフィルムお
よびガラス等があげられる。これらの導電性支持体は、
ドラム状、シート状、プレート状等、適宜の形状のもの
として使用されるが、これらに限定されるものではな
い。さらに必要に応じて導電性支持体の表面には、画質
に影響のない範囲で各種の処理を行うことができる。例
えば、表面の酸化処理や薬品処理、および着色処理等、
または砂目立てなどの乱反射処理等を行うことができ
る。
The conductive support can be opaque or substantially transparent; metals such as aluminum, nickel, chromium, stainless steel;
Titanium, nickel, chromium, stainless steel, gold, vanadium, tin oxide, indium oxide, plastic film provided with a thin film such as ITO, glass, etc., or paper, plastic film and glass coated or impregnated with a conductivity-imparting agent. can give. These conductive supports are
It is used as an appropriate shape such as a drum shape, a sheet shape, and a plate shape, but is not limited thereto. Further, if necessary, various treatments can be performed on the surface of the conductive support within a range that does not affect the image quality. For example, surface oxidation treatment, chemical treatment, and coloring treatment,
Alternatively, irregular reflection processing such as graining can be performed.

【0102】また、導電性支持体と感光層の間に、一層
または複数層の下引き層を設けてもよい。この下引き層
は、感光層の帯電時において導電性支持体から感光層へ
の電荷の注入を阻止すると共に、感光層を導電性支持体
に対して一体的に接着保持せしめる接着層としての作
用、あるいは場合によっては導電性支持体からの光の反
射防止作用等を果たす。
Further, one or more undercoat layers may be provided between the conductive support and the photosensitive layer. The undercoat layer acts as an adhesive layer that prevents the injection of charges from the conductive support into the photosensitive layer when the photosensitive layer is charged, and that integrally holds the photosensitive layer on the conductive support. Or, in some cases, an effect of preventing reflection of light from the conductive support.

【0103】上記下引き層としては、公知のものを用い
ることができ、例えば、ポリエチレン樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水溶
性ポリエステル樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂、
ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミ
ン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリア
クリル酸、ポリアクリルアミド等の高分子化合物、また
は、ジルコニウムアルコキシド化合物、チタンアルコキ
シド化合物、シランカップリング剤等の硬化性金属有機
化合物を、単独または2種以上を混合して用いることが
できる。また、帯電極性と同極性の電荷のみを輸送し得
る材料も使用可能である。
As the undercoat layer, known ones can be used. For example, polyethylene resin, acrylic resin, methacryl resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, Polyimide resin, vinylidene chloride resin, polyvinyl acetal resin, vinyl chloride
Vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol resin, water-soluble polyester resin, alcohol-soluble nylon resin,
Polymer compounds such as nitrocellulose, casein, gelatin, polyglutamic acid, starch, starch acetate, amino starch, polyacrylic acid, and polyacrylamide; or curable metal organic compounds such as zirconium alkoxide compounds, titanium alkoxide compounds, and silane coupling agents The compounds can be used alone or in combination of two or more. Further, a material capable of transporting only charges having the same polarity as the charged polarity can be used.

【0104】また、下引き層の膜厚は、0.01〜10
μmが適当であり、好ましくは0.05〜5μmの範囲
である。塗布方法としては、ブレードコーティング法、
ワイヤーバーコーティング法、スプレーコティング法、
浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナ
イフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常
の方法を用いることができる。
The thickness of the undercoat layer is from 0.01 to 10
μm is appropriate, and preferably in the range of 0.05 to 5 μm. As a coating method, a blade coating method,
Wire bar coating method, spray coating method,
Conventional methods such as a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method can be used.

【0105】本発明の電子写真用感光体の感光層が単層
型の場合は、結着樹脂中に電荷発生材料を分散させたも
のを塗布することにより作製することができる。また、
該感光層中に電荷輸送性低分子化合物、および/または
電荷輸送性高分子化合物を含ませることができる。さら
にまた、光感度の向上、残留電位の低下などの目的のた
めに、電子親和性を有する材料を含ませることができ
る。さらにまた、化学的安定性を保つため、酸化防止
剤、および、または、紫外線吸収剤を含ませることがで
きる。
When the photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member of the present invention is of a single-layer type, it can be prepared by applying a binder resin in which a charge generating material is dispersed. Also,
The photosensitive layer may contain a charge transporting low molecular weight compound and / or a charge transporting high molecular weight compound. Furthermore, a material having electron affinity can be included for the purpose of improving photosensitivity, reducing residual potential, and the like. Furthermore, in order to maintain chemical stability, an antioxidant and / or an ultraviolet absorber can be included.

【0106】本発明の単層型感光体における感光層中の
電荷発生材料と結着樹脂との配合比(重量比)は、1:
1〜1:100の範囲が好ましい。より好ましくは、
1:3〜1:50の範囲に設定される。電荷発生材料の
結着樹脂に対する配合比が前記範囲より多いと、暗減衰
を増大し機械的特性を悪化させる。また、前記範囲より
少ないと光感度の低下、残留電位の増大等の障害が起き
る。また、単層型における感光層の膜厚は一般的には、
1〜100μmが適当であり、好ましくは5〜50μm
の範囲に設定される。塗布方法としては、ブレードコー
ティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコ
ティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング
法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティン
グ法等の通常の方法を用いることができる。
The mixing ratio (weight ratio) of the charge generating material and the binder resin in the photosensitive layer in the single-layer type photosensitive member of the present invention is 1: 1.
The range of 1-1: 100 is preferred. More preferably,
It is set in the range of 1: 3 to 1:50. When the compounding ratio of the charge generation material to the binder resin is larger than the above range, dark decay is increased and mechanical properties are deteriorated. If the amount is less than the above range, problems such as a decrease in photosensitivity and an increase in residual potential occur. In addition, the thickness of the photosensitive layer in the single-layer type is generally
1 to 100 μm is suitable, preferably 5 to 50 μm
Is set in the range. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0107】本発明の電子写真用感光体の感光層が積層
型の場合、電荷発生層は、電荷発生材料を真空蒸着法に
より、または電荷発生材料を結着樹脂中に分散または溶
解したものを導電性支持体あるいは下引き層に被覆する
ことにより作製できる。また、該電荷発生層中に電荷輸
送性低分子化合物、および、または、電荷輸送性高分子
化合物を含むことができる。さらにまた、電荷発生層
は、化学的安定性を保つため、酸化防止剤、及び/又
は、紫外線吸収剤を含むことができる。
When the photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor of the present invention is of a laminated type, the charge generation layer is formed by dispersing or dissolving a charge generation material by a vacuum evaporation method or dispersing or dissolving the charge generation material in a binder resin. It can be produced by coating a conductive support or an undercoat layer. Further, the charge generation layer may contain a charge transporting low molecular weight compound and / or a charge transporting high molecular weight compound. Furthermore, the charge generation layer may include an antioxidant and / or an ultraviolet absorber to maintain chemical stability.

【0108】本発明の積層型感光体の電荷発生層におけ
る電荷発生材料と結着樹脂との配合比(重量比)は、1
0:1〜1:10の範囲が好ましい。より好ましくは、
3:1〜1:1の範囲に設定される。電荷発生材料の結
着樹脂に対する配合比が前記範囲より多いと、暗減衰が
増大し機械的特性が悪化する。
The compounding ratio (weight ratio) of the charge generating material and the binder resin in the charge generating layer of the laminated photoreceptor of the present invention is 1
The range of 0: 1 to 1:10 is preferred. More preferably,
It is set in the range of 3: 1 to 1: 1. If the compounding ratio of the charge generating material to the binder resin is larger than the above range, dark decay increases and mechanical properties deteriorate.

【0109】また、前記範囲より少ないと光感度の低
下、残留電位の増大等の障害が起きる。また、本発明で
用いる電荷発生層の膜厚は一般的には、0.05〜5μ
mが適当であり、好ましくは0.1〜2.0μmの範囲
に設定される。塗布方法としては、ブレードコーティン
グ法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を用いることができる。
If the amount is less than the above range, problems such as a decrease in photosensitivity and an increase in residual potential occur. The thickness of the charge generation layer used in the present invention is generally 0.05 to 5 μm.
m is appropriate, and is preferably set in the range of 0.1 to 2.0 μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0110】本発明の電子写真用感光体における単層型
の感光層および積層型の電荷発生層に用いる電荷発生材
料としては、公知のものを使用することができる。例え
ば、非晶質セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素
合金、その他セレン化合物およびセレン合金、酸化亜
鉛、酸化チタン、a−Si、a−SiC等の無機系光導
電性材料、フタロシアニン系、スクアリウム系、アント
アントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキノン
系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の有
機顔料および染料が使用できるが、これらに限定される
ものではない。また、これらの有機顔料および染料は、
単独あるいは2種以上混合して用いることができる。
As the charge generating material used for the single-layer type photosensitive layer and the laminated type charge generating layer in the electrophotographic photosensitive member of the present invention, known materials can be used. For example, amorphous selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, other selenium compounds and selenium alloys, inorganic photoconductive materials such as zinc oxide, titanium oxide, a-Si, a-SiC, phthalocyanine, squarium Organic pigments and dyes such as, but not limited to, organic pigments, anthrone-based, perylene-based, azo-based, anthraquinone-based, pyrene-based, pyrylium salts, and thiapyrylium salts can be used. Also, these organic pigments and dyes
They can be used alone or in combination of two or more.

【0111】フタロシアニン系化合物は、デジタル式の
電子写真装置に光源として現在好まれて使用されている
LEDおよびレーザーダイオードの発振波長である60
0〜850nmに優れた光感度を有するため、本発明の
感光層に用いる電荷発生材料として特に好ましい。フタ
ロシアニン系化合物は、詳しくは、無金属フタロシアニ
ン、金属フタロシアニンであり、金属フタロシアニンの
中心金属としては、Cu、Ni、Zn、Co、Fe、
V、Si、Al、Sn、Ge、Ti、In、Ga、M
g、Pb等があげられ、またこれら中心金属の酸化物、
水酸化物、ハロゲン化物、アルキル化物、アルコキシ化
物等も使用できる。具体的には、無金属フタロシアニ
ン、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシ
アニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、バナジル
フタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ジ
クロロ錫フタロシアニンなどをあげることができる。ま
た、これらのフタロシアニン環に任意の置換基を含むも
のも使用することができる。さらにまた、これらのフタ
ロシアニン環中の任意の炭素原子が窒素原子で置換され
たものも有効である。これらフタロシアニン系化合物の
形態としては、アルモルファスまたは全ての結晶多形の
ものが使用可能である。
The phthalocyanine-based compound has an oscillation wavelength of 60 nm, which is an emission wavelength of an LED or a laser diode which is currently used as a light source in a digital electrophotographic apparatus.
Since it has excellent photosensitivity in the range of 0 to 850 nm, it is particularly preferable as a charge generation material used in the photosensitive layer of the present invention. The phthalocyanine-based compound is, specifically, a metal-free phthalocyanine and a metal phthalocyanine. As the central metal of the metal phthalocyanine, Cu, Ni, Zn, Co, Fe,
V, Si, Al, Sn, Ge, Ti, In, Ga, M
g, Pb, etc., and oxides of these central metals;
Hydroxides, halides, alkylated compounds, alkoxylated compounds and the like can also be used. Specific examples include metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine, dichlorotin phthalocyanine, and the like. Further, those having an arbitrary substituent in these phthalocyanine rings can also be used. Further, those in which an arbitrary carbon atom in these phthalocyanine rings is substituted with a nitrogen atom are also effective. As the form of these phthalocyanine compounds, it is possible to use amorphous or all polymorphic forms.

【0112】これ等フタロシアニン系化合物の中でも、
チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニ
ン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、およびジクロ
ロ錫フタロシアニンは、特に優れた光感度を有してお
り、電荷発生材料として特に好ましい。
Of these phthalocyanine-based compounds,
Titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, and dichlorotin phthalocyanine have particularly excellent photosensitivity and are particularly preferred as charge generation materials.

【0113】本発明の電子写真感光体における単層型の
感光層および積層型での電荷発生層に用いる結着樹脂と
しては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマ
ール樹脂、部分変性ポリビニルアセタール樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセ
テート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、シリコ
ン樹脂、フェノール樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル樹脂等があげられるがこれらに限定されるものではな
い。これらの結着樹脂はブロック、ランダムまたは交互
共重合体であることができる。また、これらの結着樹脂
は、単独あるいは2種以上混合して用いることができ
る。
Examples of the binder resin used for the single-layer type photosensitive layer and the laminated type charge generation layer in the electrophotographic photoreceptor of the present invention include polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, partially modified polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, Polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, silicone resin, phenol resin, poly-N-vinyl carbazole resin, etc., but are not limited thereto. Not something. These binder resins can be block, random or alternating copolymers. These binder resins can be used alone or in combination of two or more.

【0114】本発明の電子写真感光体における積層型で
の電荷輸送層には、従来の積層感光体に電荷輸送層とし
て用いられている公知のものを使用することができる。
例えば、ベンジジン系化合物、アミン系化合物、ヒドラ
ゾン系化合物、スチルベン系化合物、カルバゾール系化
合物等のホール輸送性低分子化合物またはフルオレノン
系化合物、マロノニトリル系化合物、ジフェノキノン系
化合物等の電子輸送性低分子化合物を、単独でまたは2
種以上を混合して、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエステル、ポリスルホン、ポリメチルメタクリ
レート等の絶縁性樹脂中に均一分子分散した固溶膜、あ
るいは、それ自身電荷輸送能を有する高分子化合物等を
用いることができる。また、電荷輸送層には、セレン、
アモルファスシリコン、アモルファスシリコンカーバイ
ト等の電荷輸送能を有する無機物質を用いることもでき
る。電荷輸送性高分子化合物としては、ポリビニカルバ
ゾール等の電荷輸送能を有する基を側鎖に含む高分子化
合物、特開平5−232727号公報等に開示されてい
るような電荷輸送能を有する基を主鎖に含む高分子化合
物、およびポリシラン等をあげることができる。もちろ
ん、本発明の電子写真感光体の保護層に用いる共重合体
を電荷輸送層に用いることも可能である。
As the charge transport layer of the laminated type in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, a known charge transport layer used as a charge transport layer in a conventional laminated photoreceptor can be used.
For example, benzidine compounds, amine compounds, hydrazone compounds, stilbene compounds, hole transporting low molecular weight compounds such as carbazole compounds or fluorenone compounds, malononitrile compounds, electron transporting low molecular weight compounds such as diphenoquinone compounds. , Alone or 2
A solid solution film in which molecules are dispersed uniformly in an insulating resin such as polycarbonate, polyarylate, polyester, polysulfone, and polymethyl methacrylate, or a polymer compound having its own charge transporting ability. Can be. In addition, selenium,
An inorganic substance having a charge transporting ability, such as amorphous silicon or amorphous silicon carbide, can also be used. Examples of the charge transporting polymer compound include a polymer compound having a charge transporting group such as polyvinylcarbazole in a side chain, and a group having a charge transporting function as disclosed in JP-A-5-232727. And a polysilane having a main chain of Of course, the copolymer used for the protective layer of the electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used for the charge transport layer.

【0115】本発明の電子写真感光体の積層型の感光層
に用いる電荷輸送層の膜厚は1〜100μm、好ましく
は5〜50μmに設定される。塗布方法としては、ブレ
ードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ス
プレーコティング法、浸漬コーティング法、ビードコー
ティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコ
ーティング法等の通常の方法を用いることができる。ま
た、気相成膜可能なものは、真空蒸着法等により直接成
膜することもできる。
The thickness of the charge transport layer used for the laminated photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member of the present invention is set to 1 to 100 μm, preferably 5 to 50 μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used. In addition, those capable of vapor phase film formation can be directly formed by a vacuum evaporation method or the like.

【0116】本発明の電子写真感光体において、保護層
と接する電荷輸送層に使用される電荷輸送性物質として
は、電荷輸送性高分子化合物を用いることが好ましい。
その理由は、感光体製造プロセスにおいて、電荷輸送層
と架橋前の共重合体を主なマトリックスの成分とする層
を積層成膜する場合、架橋前の共重合体と接する電荷輸
送層に低分子化合物である電荷輸送性物質を用いると、
電荷輸送性低分子化合物が、架橋前の共重合体を主なマ
トリックス成分とする層に混入してしまい、絶縁性の相
の絶縁性が低下し、混入分子が電荷トラップとなり残留
電位の増大、輸送能の低下および光感度の低下等の障害
が発生するからである。この問題は特に、湿式塗布法に
より、各層を成膜する場合に顕著になる。もちろん、こ
れらの問題は、上層の塗布溶剤として、下層を溶解およ
び膨潤し難いものを選択するか、または、絶縁性ブロッ
クとして電荷輸送性低分子化合物と相溶性の無いものを
選択する等により、回避することが可能である。
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, a charge transporting polymer compound is preferably used as the charge transporting substance used in the charge transporting layer in contact with the protective layer.
The reason is that, in the photoreceptor manufacturing process, when a charge transport layer and a layer containing the copolymer before cross-linking as a main matrix component are laminated and formed, a low molecular weight is added to the charge transport layer in contact with the copolymer before cross-linking. When a charge transporting substance that is a compound is used,
The charge-transporting low-molecular compound is mixed into the layer containing the copolymer before cross-linking as a main matrix component, the insulating property of the insulating phase is reduced, and the mixed molecules become charge traps and increase the residual potential. This is because obstacles such as a decrease in transport ability and a decrease in light sensitivity occur. This problem is particularly noticeable when each layer is formed by a wet coating method. Of course, these problems can be solved by selecting, as the coating solvent for the upper layer, one that does not easily dissolve and swell the lower layer, or by selecting, as the insulating block, one that is incompatible with the charge-transporting low-molecular compound. It is possible to avoid.

【0117】ところが、高分子同士は相溶することなく
相分離を起こすことが一般的であることが知られてお
り、架橋された共重合体と接する電荷輸送層として、電
荷輸送性高分子化合物を用いた場合、架橋された共重合
体中の絶縁性ブロックと相溶することなく相分離するた
め、上記のような混入の問題は殆ど発生せず、材料およ
び製造法の選択に当たっての制約が解消されるという利
点を有する。
It is known, however, that polymers generally undergo phase separation without being compatible with each other, and a charge transporting polymer compound is used as a charge transporting layer in contact with the crosslinked copolymer. In the case where is used, since the phase is separated without being compatible with the insulating block in the crosslinked copolymer, the problem of mixing as described above hardly occurs, and restrictions on selection of materials and manufacturing methods are imposed. It has the advantage of being eliminated.

【0118】本発明の電子写真感光体を搭載する電子写
真装置としては、電子写真法を用いるものであれば如何
なるものでも構わないが、電子写真装置としては、電子
写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電手段
と、帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光す
る露光手段と、露光手段により露光された部分を現像す
る現像手段と、現像手段により電子写真感光体に現像さ
れた像を転写する転写手段とを備えるものが用いられ
る。電子写真装置に具備する現像手段としては如何なる
ものでも構わないが、液体現像法式を採用する電子写真
装置においては、耐溶剤性に優れクラックなどの問題の
ない本発明の電子写真感光体を好ましく使用できる。さ
らにまた、電子写真装置に具備する帯電手段としては如
何なるものでも構わないが、接触式の帯電手段、特に、
直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電手段を採用
する電子写真装置においては、優れた耐摩耗性を有する
ため、好ましく使用できる。こうした電子写真装置とし
ては、例えば、アナログ露光系の電子写真複写機、レー
ザー露光式デジタル電子写真複写機、電子写真式ファク
シミリ、レーザービームプリンター、LEDプリンタ
ー、液晶シャッター式プリンター等が挙げられる。
The electrophotographic apparatus on which the electrophotographic photosensitive member of the present invention is mounted may be of any type as long as it uses an electrophotographic method. The electrophotographic apparatus includes an electrophotographic photosensitive member and an electrophotographic photosensitive member. A charging unit for charging the body, an exposure unit for exposing the electrophotographic photosensitive member charged by the charging unit, a developing unit for developing a portion exposed by the exposure unit, and a developing unit for developing the electrophotographic photosensitive member by the developing unit. A device having a transfer unit for transferring an image is used. Although any developing means may be used in the electrophotographic apparatus, in the electrophotographic apparatus employing the liquid developing method, the electrophotographic photosensitive member of the present invention which has excellent solvent resistance and has no problem such as cracks is preferably used. it can. Furthermore, as the charging means provided in the electrophotographic apparatus, any type may be used, but a contact-type charging means, in particular,
An electrophotographic apparatus that employs a contact-type charging unit in which an AC voltage is superimposed on a DC voltage can be preferably used because it has excellent wear resistance. Examples of such an electrophotographic apparatus include an analog exposure type electrophotographic copying machine, a laser exposure type digital electrophotographic copying machine, an electrophotographic facsimile, a laser beam printer, an LED printer, a liquid crystal shutter printer, and the like.

【0119】また、本発明の電子写真感光体とともにク
リーニング手段、帯電手段、現像手段などの1つ以上と
組み合せてプロセスカートリッジとしても良い。また、
本発明のプロセスカートリッジは、電子写真装置本体に
着脱自在となっており、電子写真装置本体とともに電子
写真装置を構成するものである。
A process cartridge may be formed by combining the electrophotographic photosensitive member of the present invention with one or more of a cleaning unit, a charging unit, and a developing unit. Also,
The process cartridge of the present invention is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus, and constitutes the electrophotographic apparatus together with the main body of the electrophotographic apparatus.

【0120】[0120]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。しかしながら、本発明は以下の実施例に限定され
るものではなく、当業者は電子写真技術の公知の知見か
ら、以下の実施例に変更を加えることが可能である。合成例1 :反応性重合開始剤 4,4’−アゾビス(4
−シアノ吉草酸クロリド)の合成 塩化チオニル220mlを氷冷し、4,4’−アゾビス
(4−シアノ吉草酸)100gを徐々に加えた。これを
30℃で6時間加熱し、過剰の塩化チオニルを減圧下で
留去した。残留物をクロロホルムより再結晶化して42
gの4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロリド)
結晶を得た。合成例2 N,N−ビス(p,m−ジメチルフェニル)− N−
[(m,m’−ビスメトキシカルボニルエチル)フェニ
ル]アミン100g、エチレングリコール200gおよ
びテトラブトキシチタン5gを、窒素気流下で3時間加
熱還流した。N,N’−ビス(p,m−ジメチルフェニ
ル)−N,N’−ビス[p−(2−メトキシカルボニル
エチル)フェニル]−[1,1’−ビフェニル]−4,
4’−ジアミンが消費されたことを確認したのち、0.
5mmHgに減圧しエチレングリコールを留去しながら
230℃に加熱し、さらに5時間反応を続けた。その
後、室温まで冷却し、塩化メチレンを加え不溶分を溶解
させ、アセトンから再沈殿することにより、両末端にヒ
ドロキシ基を有するプレポリマー90gを得た。得られ
たプレポリマーの重量平均分子量は7.4×104であ
った。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and those skilled in the art can modify the following examples based on known knowledge of electrophotographic technology. Synthesis Example 1 : Reactive polymerization initiator 4,4′-azobis (4
Synthesis of -cyanovaleric chloride) Thionyl chloride (220 ml) was ice-cooled, and 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) (100 g) was gradually added. This was heated at 30 ° C. for 6 hours, and excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from chloroform to give 42
g of 4,4'-azobis (4-cyanovaleric chloride)
Crystals were obtained. Synthesis Example 2 N, N-bis (p, m-dimethylphenyl) -N-
100 g of [(m, m'-bismethoxycarbonylethyl) phenyl] amine, 200 g of ethylene glycol and 5 g of tetrabutoxytitanium were heated and refluxed for 3 hours in a nitrogen stream. N, N'-bis (p, m-dimethylphenyl) -N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[1,1'-biphenyl] -4,
After confirming that the 4'-diamine has been consumed, 0.1 g
The pressure was reduced to 5 mmHg, the mixture was heated to 230 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for another 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, methylene chloride was added to dissolve the insoluble matter, and the precipitate was reprecipitated from acetone to obtain 90 g of a prepolymer having hydroxy groups at both ends. The weight average molecular weight of the obtained prepolymer was 7.4 × 10 4 .

【0121】上記プレポリマー43gとトリエチルアミ
ン0.5gをトルエン120mlに溶解し、0℃以下に
冷却した。ここに、合成例1で得られた4,4’−アゾ
ビス(4−シアノ吉草酸クロリド)5.6gをトルエン
20mlに懸濁した液を滴下した。室温で1時間反応さ
せた後に30℃で6時間反応させた。ここから溶媒を留
去し、テトラヒドロフランを加えて溶解させ、メタノー
ルに滴下し、1時間撹拌した後に濾別した。この再沈殿
操作をさらに2回繰り返した。残った化合物を乾燥して
両末端にアゾ型重合開始基を有する電荷輸送性重合体4
1gを得た。
43 g of the above prepolymer and 0.5 g of triethylamine were dissolved in 120 ml of toluene and cooled to 0 ° C. or lower. A solution of 5.6 g of 4,4′-azobis (4-cyanovaleric chloride) obtained in Synthesis Example 1 suspended in 20 ml of toluene was added dropwise thereto. After reacting at room temperature for 1 hour, the reaction was carried out at 30 ° C. for 6 hours. The solvent was distilled off from this, and it was dissolved by adding tetrahydrofuran, added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered. This reprecipitation operation was repeated twice more. The remaining compound is dried to charge-transport polymer 4 having azo-type polymerization initiation groups at both terminals.
1 g was obtained.

【0122】この両末端にアゾ型重合開始基を有する電
荷輸送性重合体6g、tert−ブチルメタクリレート
6g、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート
2gをテトラヒドロフラン120mlに溶解し、窒素置
換した後に65℃で95時間加熱した。この溶液をメタ
ノールに滴下し、1時間撹拌した後に濾別した。得られ
た固体をシクロヘキサンで十分に洗浄し、下記構造式
(7)で示される、トリアリールアミン構造を含む電荷
輸送性ブロックと架橋可能な官能基としてアルコキシシ
リル基を有する絶縁性ブロックよりなるブロック共重合
体を合成した。
6 g of a charge-transporting polymer having an azo-type polymerization initiating group at both terminals, 6 g of tert-butyl methacrylate, and 2 g of 3-trimethoxysilylpropyl methacrylate were dissolved in 120 ml of tetrahydrofuran. Heated for hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid is sufficiently washed with cyclohexane, and a block comprising a charge transporting block having a triarylamine structure and an insulating block having an alkoxysilyl group as a crosslinkable functional group represented by the following structural formula (7). A copolymer was synthesized.

【0123】[0123]

【化10】 Embedded image

【0124】(式中、Y1、Z1はそれぞれtert−C
49又はC37Si(OCH33を表し、o、p,qは
正の整数を表す) 上記電荷輸送性重合体の重量平均分子量は3.1×10
4 、最終的に得られたブロック共重合体の重量平均分子
量は5.5×104 であり、得られたブロック共重合体
1H−NMRスペクトルの両ブロック固有のプロトン
に対応するピークの積分比から、電荷輸送性ブロックと
絶縁性ブロックの重量組成比はおよそ2:3と計算され
る。また、絶縁性ブロック中の架橋部位と非架橋部位の
重量組成比はおよそ2:8と計算される。合成例3 N,N−ビス(p,m−ジメチルフェニル)− N−
[(m,m’−ビスメトキシカルボニルエチル)フェニ
ル]アミンを N,N’−ビス(p,m−ジメチルフェ
ニル)−N,N’−ビス[p−(2−メトキシカルボニ
ルエチル)フェニル]−[3,3’−ジメチル−1,
1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミンに、変えた以
外は合成例2と同様にして、両末端にアゾ型重合開始基
を有する電荷輸送性重合体を得た。
Wherein Y 1 and Z 1 are each tert-C
4 H 9 or C 3 H 7 Si (OCH 3 ) 3 , where o, p and q represent positive integers. The weight average molecular weight of the charge transporting polymer is 3.1 × 10
4. The weight average molecular weight of the finally obtained block copolymer is 5.5 × 10 4 , and the peak corresponding to protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer is obtained. From the integral ratio, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block is calculated to be about 2: 3. Further, the weight composition ratio of the crosslinked portion and the non-crosslinked portion in the insulating block is calculated to be about 2: 8. Synthesis Example 3 N, N-bis (p, m-dimethylphenyl) -N-
[(M, m'-bismethoxycarbonylethyl) phenyl] amine is converted to N, N'-bis (p, m-dimethylphenyl) -N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]- [3,3′-dimethyl-1,
1′-biphenyl] -4,4′-diamine was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that a charge transporting polymer having an azo type polymerization initiating group at both terminals was obtained.

【0125】上記末端に重合開始基を有する電荷輸送性
重合体6g、tert−ブチルメタクリレート6g、2
−ヒドロキシメタクリレート2gをトルエン120ml
に溶解し、窒素置換した後に65℃で95時間加熱し
た。この溶液をメタノールに滴下し、1時間撹拌した後
に濾別した。得られた固体をシクロヘキサンで十分に洗
浄し、下記構造式(8)で示される、トリアリールアミ
ン構造を含む電荷輸送性ブロックと架橋可能な官能基と
してヒドロキシ基を有する絶縁性ブロックよりなるブロ
ック共重合体9gを得た。
6 g of the charge transporting polymer having a polymerization initiator at the terminal, 6 g of tert-butyl methacrylate,
-2 g of hydroxy methacrylate in 120 ml of toluene
And then heated at 65 ° C. for 95 hours after purging with nitrogen. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid is sufficiently washed with cyclohexane, and a block including a charge transporting block having a triarylamine structure and an insulating block having a hydroxy group as a crosslinkable functional group represented by the following structural formula (8) is used. 9 g of a polymer was obtained.

【0126】[0126]

【化11】 Embedded image

【0127】(式中、Y2、Z2はそれぞれtert−C
49又はC25OHを表し、o、p,qは正の整数を表
す) 得られた共重合体の重量平均分子量は12×104 であ
り、得られたブロック共重合体の1H−NMRスペクト
ルの両ブロック固有のプロトンに対応するピークの積分
比から、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックの重量組
成比はおよそ3:2と計算される。また、同様にして絶
縁性ブロック中の架橋部位と非架橋部位の重量組成比は
およそ2:8と計算される。合成例4 合成例3と同様に、末端にアゾ型重合開始基を有する電
荷輸送性重合体を得た。
(Where Y 2 and Z 2 are each tert-C
4 H 9 or C 2 H 5 OH, and o, p, and q represent positive integers.) The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 12 × 10 4 , and that of the obtained block copolymer is From the integration ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block is calculated to be about 3: 2. Similarly, the weight composition ratio of the crosslinked portion and the non-crosslinked portion in the insulating block is calculated to be about 2: 8. Synthesis Example 4 In the same manner as in Synthesis Example 3, a charge transporting polymer having an azo-type polymerization initiation group at a terminal was obtained.

【0128】得られた末端にアゾ型重合開始基を有する
電荷輸送性重合体70gをトルエン1300mlに溶解
し、スチレン240gとメタクリル酸20gを加え、窒
素置換した後に65℃で70時間加熱した。これをメタ
ノールに滴下し、沈降した固体を濾別した。濾液を分析
した所、スチレン、メタクリル酸、およびスチレン-メ
タクリル酸共重合体が検出された。次に、濾別した固体
80gを、細かく粉砕し、キシレン720ml中に入
れ、24時間撹拌したのち、シクロヘキサン350ml
を加え、不溶分と可溶分に分別した。1H−NMRスペ
クトルとGPC分析の結果、可溶分は未反応の電荷輸送
性高分子と電荷輸送性ブロックに富むブロック共重合体
であり、不溶分が目的とする下記構造式(9)で示され
るブロック共重合体であった。
70 g of the obtained charge-transporting polymer having an azo-type polymerization initiating group at the end was dissolved in 1300 ml of toluene, 240 g of styrene and 20 g of methacrylic acid were added, and the mixture was purged with nitrogen and heated at 65 ° C. for 70 hours. This was dropped into methanol, and the precipitated solid was separated by filtration. When the filtrate was analyzed, styrene, methacrylic acid, and a styrene-methacrylic acid copolymer were detected. Next, 80 g of the filtered solid was finely pulverized, placed in 720 ml of xylene, stirred for 24 hours, and then mixed with 350 ml of cyclohexane.
Was added, and the mixture was separated into insoluble matter and soluble matter. As a result of 1 H-NMR spectrum and GPC analysis, the soluble component was an unreacted charge-transporting polymer and a block copolymer rich in charge-transporting block, and the insoluble component was represented by the following structural formula (9). It was the block copolymer shown.

【0129】[0129]

【化12】 Embedded image

【0130】(式中、Y3、Z3はそれぞれCOOCH3
又はC65を表し、o、p,qは正の整数を表す)1 H−NMRスペクトルの解析から、目的とするブロッ
ク共重合体の電荷輸送性ブロックと電荷輸送不活性ブロ
ックの重量組成比はおよそ32:68であった。また、
電荷輸送不活性ブロック中のスチレン単位とメタクリル
酸単位の重量比はおよそ80:20であった。 (実施例1)ポリカーボネートZ樹脂(ユーピロンZ−
400、三菱ガス化学(株)製)8重量部を予めトルエ
ン89重量部に溶解した溶液に、ジクロロ錫フタロシア
ニン3重量部を加え、24時間サンドミルで分散し、塗
工液を調製した。得られた塗工液をアルミニウムプレー
ト、および、アルミニウムドラム上に浸漬塗布し、10
0℃にて1時間加熱乾燥し、膜厚15μmの感光層を作
製した。次に、合成例2のブロック共重合体8重量部を
トルエン92重量部に溶解し、アンチモンをドープした
酸化錫微粉末(S−1、三菱マテリアル社製、一次粒径
0.01μm)10重量部を加え、ボールミルで混合分
散した後、さらに酢酸0.5重量部を加えた塗工液を上
記感光層上にスプレー塗布し、150℃において30分
加熱硬化し、膜厚3μmの表面保護層を形成し、図1に
示される構造の、保護層中に架橋により分子構造が3次
元化した電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共
重合体と、導電性粒子を含む電子写真感光体を形成し
た。
(Wherein Y 3 and Z 3 each represent COOCH 3
Or C 6 H 5 , and o, p, and q represent positive integers) From the analysis of the 1 H-NMR spectrum, the weight composition of the charge-transporting block and the charge-transporting inactive block of the target block copolymer is obtained. The ratio was approximately 32:68. Also,
The weight ratio of styrene units to methacrylic acid units in the charge transport inert block was approximately 80:20. (Example 1) Polycarbonate Z resin (Iupilon Z-
To a solution of 8 parts by weight of 400, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. in 89 parts by weight of toluene was added 3 parts by weight of dichlorotin phthalocyanine, and the mixture was dispersed by a sand mill for 24 hours to prepare a coating liquid. The obtained coating solution was applied by dip coating on an aluminum plate and an aluminum drum,
The resultant was dried by heating at 0 ° C. for 1 hour to form a photosensitive layer having a thickness of 15 μm. Next, 8 parts by weight of the block copolymer of Synthesis Example 2 was dissolved in 92 parts by weight of toluene, and 10 parts by weight of antimony-doped tin oxide fine powder (S-1, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, primary particle size: 0.01 μm) Parts, and mixed and dispersed by a ball mill, and then a coating solution containing 0.5 parts by weight of acetic acid is spray-coated on the photosensitive layer, and is heated and cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 3 μm. And a copolymer containing a charge transporting block and an insulating block whose molecular structure is three-dimensionally formed by crosslinking in a protective layer, and an electrophotographic photoreceptor containing conductive particles having the structure shown in FIG. Formed.

【0131】この保護層をルテニウム酸染色法による透
過型電子顕微鏡で観察したところ、相分離構造が観測さ
れた。また、相分離構造のスケールはおよそ0.03μ
mであった。
When this protective layer was observed with a transmission electron microscope using a ruthenic acid staining method, a phase-separated structure was observed. Also, the scale of the phase separation structure is about 0.03μ.
m.

【0132】このようにして得られた電子写真用感光体
に対し、静電複写紙試験装置(エレクトロスタティック
アナライザーEPA−8100、川口電機製作所社製)
を用いて、常温常湿(25℃、相対湿度50%RH)の
環境下、電子写真特性の評価を行った。コロナ放電電圧
を調整し、感光体表面を−750Vに帯電させた後、干
渉フィルターを通し750nmに単色化したハロゲンラ
ンプ光を感光体表面上で2mW/m2 の光強度になるよ
うに調整し、7秒間照射し、光誘起電位減衰曲線より半
減露光量E50% を求めた。また、露光開始より7秒後の
電位を残留電位とした。E50% は6.5mJ/m2 、残
留電位は−90Vであった。
The electrophotographic photoreceptor thus obtained was subjected to an electrostatic copying paper tester (Electrostatic Analyzer EPA-8100, manufactured by Kawaguchi Electric Works).
Was used to evaluate the electrophotographic characteristics in an environment of normal temperature and normal humidity (25 ° C., relative humidity of 50% RH). After adjusting the corona discharge voltage and charging the surface of the photoreceptor to -750 V, the halogen lamp light monochromatized to 750 nm through an interference filter was adjusted to have a light intensity of 2 mW / m2 on the surface of the photoreceptor. For 7 seconds, and the half-life exposure amount E 50% was determined from the photoinduced potential decay curve. The potential 7 seconds after the start of exposure was defined as the residual potential. E 50% was 6.5 mJ / m 2 , and the residual potential was −90 V.

【0133】さらに、この感光体をレーザー露光式プリ
ンター(「Laser Press4161II」 富士
ゼロックス社製)に搭載し、高温高湿下(28℃/相対
湿度85%)における画像ボケの評価、及び、常温常湿
下(25℃/相対湿度50%)にて3万枚の実機走行試
験を行った。画像ボケは視認によって評価した。また本
レーザー露光式プリンターのドラム回転速度は58rp
m、潜像形成用光源は発振波長780nmのレーザーダ
イオード、帯電器は直流電圧に交流電圧を重畳した接触
型のローラー帯電器であり、露光−帯電間時間は0.9
7秒、露光−現像時間は0.18秒である。図5に本装
置の概略図を示す。図5において、符号11は、感光体
ドラム、13は帯電用ロール、14は露光用レーザー光
学系、14aはレーザ光線、15は現像器、16は転写
用ロール、17はクリーニングブレード、18は用紙を
示す。1万枚の実機走行試験後の感光層の膜厚と実機走
行前の膜厚との差をとり、摩耗量とした。
Further, this photoreceptor was mounted on a laser exposure type printer (“Laser Press 4161II” manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.) to evaluate image blur under high temperature and high humidity (28 ° C./85% relative humidity), and An actual machine running test of 30,000 sheets was performed under humidity (25 ° C./relative humidity 50%). Image blur was evaluated by visual recognition. The drum rotation speed of this laser exposure type printer is 58 rpm.
m, the light source for forming a latent image is a laser diode having an oscillation wavelength of 780 nm, the charger is a contact-type roller charger in which an AC voltage is superimposed on a DC voltage, and the time between exposure and charging is 0.9.
7 seconds, exposure-development time 0.18 seconds. FIG. 5 shows a schematic diagram of the present apparatus. 5, reference numeral 11 denotes a photosensitive drum, 13 denotes a charging roll, 14 denotes an exposure laser optical system, 14a denotes a laser beam, 15 denotes a developing device, 16 denotes a transfer roll, 17 denotes a cleaning blade, and 18 denotes a sheet. Is shown. The difference between the thickness of the photosensitive layer after the 10,000-sheet running test on the actual machine and the thickness before running on the actual machine was taken as the abrasion loss.

【0134】画像ボケは無く、摩耗量は0.3μmであ
った。
There was no image blur, and the abrasion amount was 0.3 μm.

【0135】(比較例1)実施例1と同様にアルミニウ
ムプレート、および、アルミニウムドラム上に感光層を
作製した。次に、合成例2のブロック共重合体8重量部
をトルエン92重量部に溶解し、さらに酢酸0.5重量
部を加えた塗工液を上記感光層上にスプレー塗布し、1
50℃において30分加熱硬化し、膜厚3μmの表面保
護層を形成し、保護層に導電性粒子が含まれていない、
架橋により分子構造が3次元化した電荷輸送性ブロック
と絶縁性ブロックを含む共重合体を含む電子写真感光体
を形成した。
(Comparative Example 1) A photosensitive layer was formed on an aluminum plate and an aluminum drum in the same manner as in Example 1. Next, 8 parts by weight of the block copolymer of Synthesis Example 2 was dissolved in 92 parts by weight of toluene, and a coating solution containing 0.5 part by weight of acetic acid was spray-coated on the photosensitive layer.
Heat-cured at 50 ° C. for 30 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 3 μm, and the protective layer contains no conductive particles;
An electrophotographic photoreceptor containing a copolymer containing a charge transport block and an insulating block whose molecular structure was made three-dimensional by crosslinking was formed.

【0136】実施例1と同様に評価を行った結果、E
50% は7mJ/m2 、残留電位は−100Vであった。
また、実施例1と同様に実機試験を行った。画像ボケは
無く、摩耗量は1.3μmであった。
As a result of evaluation in the same manner as in Example 1, E
50% was 7 mJ / m 2 , and the residual potential was -100 V.
Further, an actual machine test was performed in the same manner as in Example 1. There was no image blur, and the abrasion amount was 1.3 μm.

【0137】(実施例2)アルミニウムプレート、およ
び、ホーニング処理されたアルミニウムドラム上に、ジ
ルコニウムアルコキシド化合物(商品名:オルガチック
スZC540、マツモト製薬社製)20重量部およびγ
ーアミノプロピルトリエトキシシラン(商品名:A11
00、日本ユニカー社製)2重量部とポリビニルブチラ
ール樹脂(エスレック BM−S、積水化学(株)製)
1.5重量部とn−ブタノール70重量部からなる溶液
を浸漬コーティング法で塗布し、170℃において10
分間加熱乾燥し、膜厚1.0μmの下引き層を形成し
た。次にクロロガリウムフタロシアニン微結晶4重量部
を、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:UCA
Rソリューションビニル樹脂VMCH、ユニオンカーバ
イド社製)2重量部、キシレン67重量部、および酢酸
ブチル33重量部と混合し、1mmφガラスビーズとと
もにサンドグラインダーで2時間処理して分散した後、
得られた塗布液を浸漬コーティング法で上記下引き層上
に塗布し、100℃において10分間加熱乾燥し、膜厚
0.2μmの電荷発生層を形成した。次に、高分子電荷
輸送材料である分子量8万の下記構造式(10)で示さ
れる繰り返し単位よりなる化合物20重量部をモノクロ
ロベンゼン80重量部に溶解し、上記電荷発生層上に浸
漬コーティング法で塗布し、135℃において1時間加
熱乾燥させて、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
(Example 2) 20 parts by weight of a zirconium alkoxide compound (trade name: ORGATICS ZC540, manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.) and γ were placed on an aluminum plate and a honed aluminum drum.
-Aminopropyltriethoxysilane (trade name: A11
00, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 2 parts by weight of polyvinyl butyral resin (Eslec BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
A solution consisting of 1.5 parts by weight and 70 parts by weight of n-butanol was applied by a dip coating method.
After heating and drying for a minute, an undercoat layer having a thickness of 1.0 μm was formed. Next, 4 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine microcrystals were mixed with a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (trade name: UCA).
R solution vinyl resin VMCH, manufactured by Union Carbide Co.) 2 parts by weight, xylene 67 parts by weight, and butyl acetate 33 parts by weight, and treated with a 1 mmφ glass bead for 2 hours by a sand grinder and dispersed.
The obtained coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method, and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm. Next, 20 parts by weight of a compound composed of a repeating unit represented by the following structural formula (10) having a molecular weight of 80,000, which is a polymer charge transporting material, is dissolved in 80 parts by weight of monochlorobenzene, and immersion coating is performed on the charge generation layer. And dried by heating at 135 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm.

【0138】[0138]

【化13】 Embedded image

【0139】次に、合成例3で得られたブロック共重合
体10重量部と架橋剤として下記構造式(11)で示さ
れる三価のイソシアネート化合物2重量部をシクロヘキ
サノン90重量部に溶解させた溶液に、酸化錫微粉末
(S−1、三菱マテリアル社製、一次粒径0.01μ
m)10重量部を加え、ボールミルで混合分散し、上記
電荷輸送層上に浸漬コーティング法にて塗布した後、1
50℃で60分間加熱硬化させて、膜厚5μmの表面保
護層を形成し、図4に示される構造の、保護層中に架橋
により分子構造が3次元化した電荷輸送性ブロックと絶
縁性ブロックを含む共重合体、及び導電性粒子を含む電
子写真感光体を形成した。
Next, 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example 3 and 2 parts by weight of a trivalent isocyanate compound represented by the following structural formula (11) as a crosslinking agent were dissolved in 90 parts by weight of cyclohexanone. In the solution, tin oxide fine powder (S-1, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, primary particle size 0.01 μm)
m) 10 parts by weight were added, mixed and dispersed by a ball mill, and applied on the charge transport layer by dip coating.
Heat-curing at 50 ° C. for 60 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 5 μm, and the charge transport block and the insulating block of the structure shown in FIG. And an electrophotographic photosensitive member containing conductive particles.

【0140】[0140]

【化14】 Embedded image

【0141】この保護層をルテニウム酸染色法による透
過型電子顕微鏡で観察したところ、相分離構造が観測さ
れた。また、相分離構造のスケールはおよそ0.06μ
mであった。
When this protective layer was observed with a transmission electron microscope using a ruthenic acid staining method, a phase-separated structure was observed. The scale of the phase separation structure is about 0.06μ.
m.

【0142】このようにして得られた電子写真感光体を
実施例1と同様に評価したところ、E50% は4.5mJ
/m2 、残留電位は−40Vであった。また、実施例1
と同様に実機試験を行ったところ、画像ボケは無く、摩
耗量は0.5μmであった。
The thus obtained electrophotographic photosensitive member was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, E 50% was 4.5 mJ.
/ M 2 , and the residual potential was −40 V. Example 1
When an actual machine test was performed in the same manner as in the above, there was no image blur, and the abrasion amount was 0.5 μm.

【0143】(比較例2)実施例2と同様にしてアルミ
ニウム及びホーニング処理したアルミニウムドラム上に
下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成した。
Comparative Example 2 An undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer were sequentially formed on aluminum and a honed aluminum drum in the same manner as in Example 2.

【0144】次に、合成例3で得られたブロック共重合
体10重量部と架橋剤として上記構造式(11)で示さ
れる三価のイソシアネート化合物1.5重量部をシクロ
ヘキサノン90重量部に溶解させた溶液を、上記電荷輸
送層上に浸漬コーティング法にて塗布した後、150℃
で60分間加熱硬化させて、膜厚5μmの表面保護層を
形成し、保護層に導電性粒子が含まれていない、架橋に
より分子構造が3次元化した電荷輸送性ブロックと絶縁
性ブロックを含む共重合体を含む電子写真感光体を形成
した。
Next, 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example 3 and 1.5 parts by weight of the trivalent isocyanate compound represented by the above structural formula (11) as a crosslinking agent were dissolved in 90 parts by weight of cyclohexanone. After applying the solution to the charge transport layer by dip coating,
And heat-curing for 60 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 5 μm. The protective layer does not contain conductive particles, and includes a charge transporting block and an insulating block whose molecular structure is made three-dimensional by crosslinking. An electrophotographic photoreceptor containing the copolymer was formed.

【0145】実施例1と同様に評価を行った結果、E
50% は3.9mJ/m2 、残留電位は−60Vであっ
た。また、実施例1と同様に実機試験を行った。画像ボ
ケは無く、摩耗量は1.6μmであった。
As a result of evaluation in the same manner as in Example 1, E
50% was 3.9 mJ / m 2 , and the residual potential was −60V. Further, an actual machine test was performed in the same manner as in Example 1. There was no image blur, and the abrasion amount was 1.6 μm.

【0146】(実施例3)実施例2と同様にしてアルミ
ニウム及びホーニング処理したアルミニウムドラム上に
下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成した。
Example 3 An undercoat layer, a charge generation layer and a charge transport layer were sequentially formed on aluminum and a honed aluminum drum in the same manner as in Example 2.

【0147】次に、合成例4で得られたブロック共重合
体10重量部をトルエン80重量部とイソプロパノール
10重量部に溶解させた溶液に、酸化錫微粉末(S−
1、三菱マテリアル社製、一次粒径0.01μm)15
重量部を加え、ボールミルで混合分散した液を、上記電
荷輸送層上に浸漬コーティング法にて塗布した後、13
5℃で60分間加熱乾燥させて、膜厚5μmの表面保護
層を形成し、保護層に導電性粒子が含まれた、架橋によ
り分子構造が3次元化していない電荷輸送性ブロックと
絶縁性ブロックを含む共重合体を含む電子写真感光体を
形成した。
Next, a solution of 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example 4 in 80 parts by weight of toluene and 10 parts by weight of isopropanol was added to a fine powder of tin oxide (S-
1. Mitsubishi Materials Corporation, primary particle size 0.01μm) 15
After adding a liquid by mixing and dispersing with a ball mill on the charge transport layer by a dip coating method, 13 parts by weight were added.
Heat drying at 5 ° C. for 60 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 5 μm. The protective layer contains conductive particles, and the charge transporting block and the insulating block have a three-dimensional molecular structure due to crosslinking. An electrophotographic photoreceptor containing a copolymer containing was formed.

【0148】実施例1と同様に評価を行った結果、E
50% は3.6mJ/m2 、残留電位は−20Vであっ
た。また、実施例1と同様に実機試験を行った。画像ボ
ケは無く、摩耗量は0.8μmであった。
As a result of evaluation in the same manner as in Example 1, E
50% was 3.6 mJ / m 2 , and the residual potential was −20 V. Further, an actual machine test was performed in the same manner as in Example 1. There was no image blur, and the abrasion amount was 0.8 μm.

【0149】実施例1と比較例1、実施例2と比較例2
を比較することにより、架橋により分子構造が3次元化
した電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合
体を含む保護層中に導電性粒子を含むことで、電気的特
性を悪化させることなく耐磨耗性が改善されることが分
かる。また、実施例2と実施例3を比較することにより
電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合体を
架橋により分子構造を3次元化することで、耐磨耗性が
改善されることが分かる。
Example 1 and Comparative Example 1, Example 2 and Comparative Example 2
By comparing the above, it is possible to include the conductive particles in the protective layer including the copolymer including the charge transport block and the insulating block whose molecular structure has been three-dimensionally formed by crosslinking, without deteriorating the electrical characteristics. It can be seen that the abrasion resistance is improved. Also, by comparing Example 2 and Example 3, it is found that the abrasion resistance is improved by making the molecular structure three-dimensional by crosslinking the copolymer containing the charge transporting block and the insulating block. I understand.

【0150】[0150]

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、少なくとも
導電性基体上に感光層と保護層を設けた電子写真感光体
において、該保護層が、少なくとも、導電性粒子、及
び、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを含む共重合
体を含有しているため、繰り返し使用時の耐摩耗性に優
れ、同時に残留電位の少ない電子写真感光体を提供する
ことが可能である。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises an electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer and a protective layer provided on a conductive substrate, wherein the protective layer comprises at least conductive particles and a charge transporting material. Since it contains a copolymer containing a block and an insulating block, it is possible to provide an electrophotographic photoreceptor having excellent abrasion resistance when used repeatedly and having a low residual potential.

【0151】また、電荷輸送能に優れるとともに機械的
特性に優れたこれらの電子写真感光体を電子写真装置及
びプロセスカートリッジに含めることによって、繰り返
し安定性と信頼性に優れた電子写真装置及びプロセスカ
ートリッジを提供することができる。
By including these electrophotographic photosensitive members having excellent charge transporting ability and excellent mechanical properties in an electrophotographic apparatus and a process cartridge, an electrophotographic apparatus and a process cartridge having excellent repetition stability and reliability can be obtained. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電子写真用感光体の第1実施形態を模
式的に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of an electrophotographic photoconductor of the present invention.

【図2】本発明の電子写真用感光体の第2実施形態を模
色的に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a second embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図3】本発明の電子写真用感光体の第3実施形態を模
色的に示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a third embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図4】本発明の電子写真用感光体の第4実施形態を模
色的に示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a fourth embodiment of the electrophotographic photoconductor of the present invention.

【図5】本発明の電子写真装置の一部を概略的に示す断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view schematically showing a part of the electrophotographic apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…導電性支持体、2…感光層、3…下引き層、4…電
荷発生層、5…電荷輸送層、6…表面保護層、11…感
光体ドラム、13…帯電用ロール、14…露光用レーザ
ー光学系、15…現像器、16…転写用ロール、17…
クリーニングブレード、18…用紙。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive support, 2 ... Photosensitive layer, 3 ... Undercoat layer, 4 ... Charge generation layer, 5 ... Charge transport layer, 6 ... Surface protective layer, 11 ... Photoconductor drum, 13 ... Charging roll, 14 ... Exposure laser optical system, 15: developing device, 16: transfer roll, 17 ...
Cleaning blade, 18 ... paper.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも導電性基体上に感光層と保護
層を設けた電子写真感光体において、該保護層が、少な
くとも、導電性粒子、及び、電荷輸送性ブロックと絶縁
性ブロックを含む共重合体を含有していることを特徴と
する電子写真感光体。
1. An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer and a protective layer provided on a conductive substrate, wherein the protective layer comprises at least conductive particles, and a charge transport block and an insulating block. An electrophotographic photoreceptor comprising a coalescence.
【請求項2】 前記電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロッ
クを含む共重合体が、架橋により分子構造が3次元化さ
れていることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感
光体。
2. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the copolymer containing the charge transport block and the insulating block has a three-dimensional molecular structure by crosslinking.
【請求項3】 電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを
含む共重合体中の架橋部位が、絶縁性ブロックに存在し
ていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子写
真感光体。
3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein a cross-linking site in the copolymer containing the charge transport block and the insulating block exists in the insulating block.
【請求項4】 前記電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロッ
クを含む共重合体が、電荷輸送性ブロックよりなる相と
絶縁性ブロックよりなる相とに相分離していることを特
徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子写真
感光体。
4. The method according to claim 1, wherein the copolymer containing the charge transport block and the insulating block is phase-separated into a phase composed of the charge transport block and a phase composed of the insulating block. The electrophotographic photoreceptor according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックを
含む共重合体中の電荷輸送性ブロックの繰り返し単位中
に、少なくとも、トリアリールアミン構造を含む繰り返
し単位が含まれていることを特徴とする請求項1〜4の
いずれか一項に記載の電子写真感光体。
5. The repeating unit of a charge transporting block in a copolymer containing a charge transporting block and an insulating block contains at least a repeating unit having a triarylamine structure. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一項に記載の電
子写真感光体と、 帯電手段、現像手段、クリーニング手段及び除電手段か
らなる群より選ばれた少なくとも一つの手段とを一体に
有し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴と
するプロセスカートリッジ。
6. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, and at least one unit selected from the group consisting of a charging unit, a developing unit, a cleaning unit, and a discharging unit. A process cartridge comprising: an electrophotographic apparatus;
【請求項7】 請求項1〜5のいずれか一項に記載の電
子写真感光体と、 前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、 前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露
光する露光手段と、 前記露光手段により露光された部分を現像する現像手段
と、 前記現像手段により前記電子写真感光体に現像された像
を転写する転写手段と、を備えることを特徴とする電子
写真装置。
7. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, a charging unit for charging the electrophotographic photosensitive member, and exposing the electrophotographic photosensitive member charged by the charging unit. An electrophotographic apparatus, comprising: an exposure unit that develops a portion exposed by the exposure unit; and a transfer unit that transfers an image developed on the electrophotographic photosensitive member by the development unit. apparatus.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007057657A (en) * 2005-08-23 2007-03-08 Konica Minolta Business Technologies Inc Electrophotographic image forming apparatus, tandem type image forming apparatus, electrophotographic photoreceptor and image forming unit

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