[go: up one dir, main page]

JP2001232960A - Original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for lithographic printing plate

Info

Publication number
JP2001232960A
JP2001232960A JP2000043032A JP2000043032A JP2001232960A JP 2001232960 A JP2001232960 A JP 2001232960A JP 2000043032 A JP2000043032 A JP 2000043032A JP 2000043032 A JP2000043032 A JP 2000043032A JP 2001232960 A JP2001232960 A JP 2001232960A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
hydrophilic
acid
polymer
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000043032A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sumiaki Yamazaki
純明 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000043032A priority Critical patent/JP2001232960A/en
Priority to CN 01100287 priority patent/CN1310360A/en
Publication of JP2001232960A publication Critical patent/JP2001232960A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate capable of direct platemaking from digital data by recording by using scanning exposure, that is, a laser exposure method in a short time to manufacture the lithographic printing plate having improved image degree and adhesive properties of an image part without necessity of a special treatment such as wet development, rubbing or the like after image exposure. SOLUTION: The original plate for the lithographic printing plate comprises a hydrophilic heat insulation layer and a layer containing a hydrophilic polymer compound changing at a side chain to a hydrophobic property by a heat, sequentially arranged on a support in this order. In this case, the heat insulation layer contains a hydrophilic polymer compound having a crosslinking structure.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関するものであり、特にディジタル信号に基づいてレー
ザー等を操作することにより直接製版可能であり、付加
的な湿式処理を必要としない平版印刷版用原版に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate capable of directly making a plate by operating a laser or the like based on a digital signal and requiring no additional wet processing. For the original plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とから成る。このような平版印刷版を製造す
るために用いられる平版印刷版用原版としては、従来、
親水性支持体上に、親油性の感光性樹脂層を設けたPS
版が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リス
フィルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液
によって溶解除去することにより所望の印刷版を得てい
た。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area which receives ink during a printing process, and a hydrophilic non-image area which receives fountain solution. Conventionally, as a lithographic printing plate precursor used for manufacturing such a lithographic printing plate,
PS provided with a lipophilic photosensitive resin layer on a hydrophilic support
Plates are widely used, and as a plate-making method, usually, a mask is exposed through a lithographic film, and then a non-image portion is dissolved and removed with a developing solution to obtain a desired printing plate.

【0003】近年、画像情報をコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及してきている。そして、その様な、ディジタル化技
術に対応した、新しい画像出力方式が種々実用されるよ
うになってきた。その結果、レーザ光の様な指向性の高
い活性放射線をディジタル化された画像情報に応じて走
査し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版を製
造するコンピュータトゥ プレート技術が切望されてお
り、これに適応した印刷版用原版を得ることは重要な技
術課題の一つとなっている。
In recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread. Then, various new image output systems corresponding to such digitizing technology have come into practical use. As a result, computer-to-plate technology that scans actinic radiation having high directivity such as laser light according to digitized image information and directly manufactures a printing plate without passing through a lithographic film has been desired. Obtaining a printing plate precursor adapted to this is one of the important technical issues.

【0004】他方、従来のPS版による印刷版の製造
は、露光の後、非画像部を溶解除去する行程が不可欠で
あり、さらに通常は、現像処理された印刷版を水洗水で
水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液、アラビア
ガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理行
程も必要であった。この様な付加的な湿式の処理が不可
欠であるという点は、従来技術にたいし、改善の望まれ
てきたもう一つの課題である。特に近年は、地球環境へ
の配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。処理
の簡素化、乾式化、無処理化は、この様な環境面と、先
述のディジタル化に伴った工程の合理化の両方の観点か
ら、従来にも増して、強く望まれるようになってきてい
る。
On the other hand, in the production of a printing plate using a conventional PS plate, a process of dissolving and removing a non-image portion after exposure is indispensable, and usually, the developed printing plate is washed with washing water. Further, a post-treatment step of treating with a rinse solution containing a surfactant, gum arabic, and a desensitizing solution containing a starch derivative was also required. The fact that such additional wet processing is essential is another problem that has been desired to be improved over the prior art. Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern of the entire industry. The simplification of processing, dry processing, and no-processing are more and more desired than ever before, from the viewpoint of both the environmental aspect and the rationalization of the process accompanying the aforementioned digitization. I have.

【0005】走査露光による印刷版の製造方法として
は、高感度な感光材料を利用する方法の他に、電子線
や、高出力レーザの様な、高エネルギー密度の活性放射
線を利用した方法が提案されている。最近では、半導体
レーザ、YAGレーザ等の固体レーザで高出力なものが
安価に入手できるようになっており、特に、これらのレ
ーザを用いたコンピュータ トゥ プレートシステムが
有望視されるようになってきた。高エネルギー密度露光
系の特徴は、低〜中エネルギー密度の露光を利用する感
光材料系に利用される光反応とは異なった、様々な現像
を利用できることにある。具体的には、化学変化の他、
相変化、形態変化等の構造変化を利用できる。通常、こ
のような高エネルギー密度露光による記録方式はヒート
モード記録と呼ばれる。高エネルギー密度露光系では、
多くの場合、感材に吸収された光エネルギーは、熱に変
換され、生じた熱によって、所望の現像が引き起こされ
ると信じられるためである。ヒートモード記録方式の大
きな長所は潜在的に処理の簡易化、乾式化、無処理化が
可能な点にある。これは、ヒートモード感材の画像記録
に利用される現象が、普通の強度の光に対する暴露や、
普通の環境温度下では実質的には生じないため、露光後
の画像の定着が必要ないことに基づく。
As a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure, a method using a high energy density actinic radiation such as an electron beam or a high output laser is proposed in addition to a method using a highly sensitive photosensitive material. Have been. Recently, high-power solid-state lasers such as semiconductor lasers and YAG lasers have become available at low cost. In particular, computer-to-plate systems using these lasers have become promising. . A feature of the high energy density exposure system is that various developments can be used, which are different from the photoreaction used in the photosensitive material system using low to medium energy density exposure. Specifically, in addition to chemical changes,
Structural changes such as phase changes and morphological changes can be used. Usually, such a recording method using high energy density exposure is called heat mode recording. In high energy density exposure systems,
In many cases, the light energy absorbed by the light-sensitive material is converted into heat, and it is believed that the generated heat causes the desired development. A major advantage of the heat mode recording method is that it can potentially simplify the processing, dry the processing, and eliminate the processing. This is due to the fact that the phenomenon used for image recording of heat mode light sensitive materials is exposure to light of normal intensity,
This is based on the fact that the fixation of the image after exposure is not necessary since it does not substantially occur at a normal environmental temperature.

【0006】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造方法としては、親水性層と親油性層からなる
原版をヒートモード露光し、何れか一方の層のみを画像
状に除去する事により、画像状に親水性/疎水性の区別
を発現する方法が提案されている。この方法では、走査
露光可能性と、無処理/乾式処理法に加え、比較的良好
な印刷性能を示す印刷版用原版を提供する。
[0006] A preferred method for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording is to expose an original plate comprising a hydrophilic layer and an lipophilic layer to heat mode exposure and remove only one of the layers in an image-like manner. There has been proposed a method of expressing hydrophilicity / hydrophobicity in a shape. This method provides a printing plate precursor exhibiting relatively good printing performance in addition to the possibility of scanning exposure and the non-processing / dry processing method.

【0007】この様な平版印刷版用原版の例として、ポ
リオレフィン類をスルホン化したフィルムを版材として
用い、熱書き込みによって、表面の親水性を変化させる
ことにより、現像処理を必要としない版材を形成する事
が、特開平5−77574号公報、特開平4−1251
89号公報、米国特許第5,187,047号明細書及
び特開昭62−195646号公報等に開示されてい
る。これらのシステムでは、熱書き込みにより、感材表
面のスルホン基を脱スルホンさせ画像形成するものであ
る。また米国特許第4,081,572号明細書にはカ
ルボン酸を有するポリマーを熱もしくはレーザにより脱
水閉環して画像形成する方法が開示されている。これら
はいずれも露光前に親水性の膜を露光により疎水性に変
換する、いわゆる極性変換ネガ型刷版の例であり、特徴
として現像処理を必要としないことが挙げられる。
[0007] As an example of such a lithographic printing plate precursor, a film obtained by using a sulfonated film of polyolefins as a plate material and changing the hydrophilicity of the surface by thermal writing to eliminate the need for development processing Can be formed as described in JP-A-5-77574 and JP-A-4-1251.
No. 89, U.S. Pat. No. 5,187,047 and JP-A-62-195646. In these systems, sulfone groups on the surface of the photosensitive material are desulfonated by thermal writing to form an image. U.S. Pat. No. 4,081,572 discloses a method of forming an image by dehydrating and cyclizing a polymer having a carboxylic acid by heat or laser. These are all examples of so-called polarity-converting negative type printing plates in which a hydrophilic film is converted to hydrophobic by exposure before exposure, and a feature thereof is that development processing is not required.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
先行技術においては、版材の熱反応性が乏しいため、感
度が低く画像形成に多くの時間を要する。また、親水
性、疎水性のディスクリミネーションが低いため親水性
が不十分であるか、もしくは画像強度が低い感材しか作
ることができない。すなわち、これらの従来技術では画
像強度および画像部の密着性の観点で満足できる感材は
得られない。従って、本発明の目的は、短時間での走査
露光、即ち、レーザー露光方式を用いて記録することに
より、デジタルデーターから直接製版可能であり、かつ
画像露光後湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要
とせず、画像強度、画像部の密着性を向上した平版印刷
版を製造することのできる技術を提供することにある。
However, in the above-mentioned prior art, since the thermal reactivity of the plate material is poor, the sensitivity is low, and much time is required for image formation. Further, since the hydrophilic and hydrophobic discrimination is low, only a photosensitive material having insufficient hydrophilicity or low image strength can be produced. That is, these conventional techniques do not provide a photosensitive material that is satisfactory in terms of image strength and image portion adhesion. Accordingly, an object of the present invention is to perform scanning exposure in a short time, that is, by performing recording using a laser exposure method, it is possible to directly make a plate from digital data, and to perform special development such as wet development processing or rubbing after image exposure. It is an object of the present invention to provide a technique capable of manufacturing a lithographic printing plate which requires no processing and has improved image strength and adhesion of an image portion.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記従来
の技術の問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ア
ルミニウム基板による熱拡散により、アルミニウム基板
の近傍の温度が上がらず、画像流れ(蜜着不良)を起こ
し、また、レーザの露光量を上げると基板付近の温度は
ある程度上がるが、表面付近の温度が上がりすぎるた
め、画像形成層中のポリマーの主鎖の分解が生じてしま
うため画像強度が弱くなると判断した。そのため、アル
ミニウム基板と画像形成層の間に、中間層として断熱性
の親水性層を設けることにより、露光量を上げなくても
十分な画像強度および画像部蜜着性を向上した平版印刷
版用原版が得られることを見出し本発明に到達した。す
なわち、本発明は以下の通りである。 (1)支持体上に、親水性断熱層と、熱により側鎖が疎
水性に変化する親水性高分子化合物を含有する層(以
下、画像形成層ともいう)とをこの順に有する平版印刷
版用原版。 (2)前記親水性断熱層が架橋構造を有する親水性高分
子化合物を含有することを特徴とする前記(1)に記載
の平版印刷版用原版。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the problems of the prior art, and as a result, the temperature near the aluminum substrate did not rise due to thermal diffusion by the aluminum substrate. When the amount of laser exposure is increased, the temperature near the substrate rises to some extent, but the temperature near the surface is too high, and the main chain of the polymer in the image forming layer is decomposed. Therefore, it was determined that the image intensity was weakened. Therefore, by providing a heat-insulating hydrophilic layer as an intermediate layer between the aluminum substrate and the image forming layer, for a lithographic printing plate having sufficient image strength and image portion adhesion without increasing the exposure amount. The present inventors have found that an original plate can be obtained, and have reached the present invention. That is, the present invention is as follows. (1) A lithographic printing plate having, in this order, a hydrophilic heat insulating layer and a layer containing a hydrophilic polymer compound whose side chain changes to hydrophobic by heat (hereinafter, also referred to as an image forming layer) on a support. Original version. (2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the hydrophilic heat-insulating layer contains a hydrophilic polymer compound having a crosslinked structure.

【0010】本発明の平版印刷版用原版は、赤外線など
のレーザー光による画像の走査露光により直接製版可能
であり、画像露光後湿式現像処理やこすり等の特別な処
理を必要とせずに平版印刷版の製版が可能であり、さら
に、画像露光した後そのまま印刷機に装着し、印刷する
ことができる。本発明の平版印刷版用原版は、支持体と
画像形成層との間に中間層として、親水性断熱層、また
は親水性架橋断熱層を設けることにより、支持体付近を
親水性にすると同時に中間層が断熱効果を有し、支持体
への熱拡散を抑えることができる。すなわち断熱性中間
層の導入により露光量を上げることなく、画像形成層の
熱極性変換(親水性→疎水性)が効率よく進行する。そ
の結果、画像強度および密着性が著しく改善された平版
印刷版用原版を提供することができる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention can be directly subjected to plate making by scanning exposure of an image with a laser beam such as infrared light, and requires no special processing such as wet development processing or rubbing after image exposure. Plates can be made, and after image exposure, they can be directly mounted on a printing press and printed. The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with a hydrophilic heat-insulating layer or a hydrophilic cross-linking heat-insulating layer as an intermediate layer between the support and the image forming layer, thereby making the vicinity of the support hydrophilic and simultaneously forming the intermediate layer. The layer has a heat insulating effect and can suppress heat diffusion to the support. That is, the heat polarity conversion (hydrophilicity → hydrophobicity) of the image forming layer proceeds efficiently without increasing the exposure amount by introducing the heat insulating intermediate layer. As a result, a lithographic printing plate precursor with significantly improved image strength and adhesion can be provided.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用原版は、支持体上に、親水性高分
子化合物を含有する親水性断熱層が形成される場合と、
各種支持体上に、架橋構造を有する親水性高分子化合物
を含有する親水性架橋断熱層が形成される場合がある。
まず、本発明に用いられる親水性断熱層は以下に示す親
水性高分子化合物を含有するる層である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor of the present invention has a case where a hydrophilic heat-insulating layer containing a hydrophilic polymer compound is formed on a support,
A hydrophilic crosslinked heat-insulating layer containing a hydrophilic polymer compound having a crosslinked structure may be formed on various supports.
First, the hydrophilic heat-insulating layer used in the present invention is a layer containing the following hydrophilic polymer compound.

【0012】[親水性高分子化合物]本発明に用いられ
る親水性高分子化合物の親水性とは、水溶性(水に完全
に溶解するものを意味する)、疑似水溶性(両親媒性を
意味し、マクロには水に溶解するがミクロには非溶解部
分を含むものを意味する)、水膨潤性(水に膨潤するが
溶解しないものを意味する)の特性を有するものを包含
する。即ち、通常の使用条件下で水を吸着又は吸収する
ポリマー、水に溶けるかあるいは水に膨潤するポリマー
を含む。上記の定義に当てはまるものとして、(1)側
鎖に−COOR、−COOM、−SOR、−SO2R、
−SO3R、−SOM、−SO2M、−SO3M、−O
H、−NR12(ここで、Rは水素原子、アルキル基又
はアリール基を示し、Mは金属原子を示し、R1、R2
それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基
を示す。)から選ばれる官能基を有する親水性高分子化
合物、(2)分子内にアルキレンオキシド基を有する親
水性高分子化合物が挙げられ、これらの官能基を有する
公知の天然高分子化合物又は合成高分子化合物を使用す
ることができる。
[Hydrophilic high molecular compound] The hydrophilicity of the hydrophilic high molecular compound used in the present invention means water-soluble (it means completely soluble in water), pseudo-water-soluble (it means amphiphilic). Macros include those that dissolve in water but micros contain insoluble portions) and those that have water swelling properties (meaning those that swell in water but do not dissolve). That is, it includes polymers that adsorb or absorb water under ordinary use conditions, and polymers that dissolve or swell in water. As it applies to the above definition, -COOR a (1) side chain, -COOM, -SOR, -SO 2 R ,
-SO 3 R, -SOM, -SO 2 M, -SO 3 M, -O
H, -NR 1 R 2 (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, M represents a metal atom, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. And (2) a hydrophilic polymer compound having an alkylene oxide group in the molecule, and a known natural polymer compound having these functional groups or synthetic. High molecular compounds can be used.

【0013】(1)側鎖に−COOR、−COOM、−
SOR、−SO2R、−SO3R、−SOM、−SO
2M、−SO3M、−OH、−NR12(ここで、Rは水
素原子、アルキル基又はアリール基を示し、Mは金属原
子を示し、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アル
キル基又はアリール基を示す。)から選ばれる官能基を
有する親水性高分子化合物としての合成高分子化合物に
は以下のような化合物がある。カルボン酸塩系共重合
体、N−ビニルカルボン酸アミド系共重合体、スルホン
酸塩系共重合体、ビニルピロリドン系共重合体、ポリビ
ニルアルコール、水性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステ
ル、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート系ポリマ
ー、ポリ(ビニルメチルエーテル−co−無水マレイン
酸)、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
系架橋重合体、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート系架橋重合体等。側鎖に−COOR又は−C
OOMを有するカルボン酸塩系共重合体としては、吸水
性及び耐久性の観点から、カルボキシル基、カルボン酸
塩、カルボン酸アミド、カルボン酸イミド、カルボン酸
無水物等のカルボキシル基又はカルボキシル基に誘導し
うる官能基を分子中に1個又は2個有するα、β−不飽
和化合物をモノマー成分として含有するカルボン酸系共
重合体のケン化反応物が挙げられる。
(1) -COOR, -COOM,-
SOR, -SO 2 R, -SO 3 R, -SOM, -SO
2 M, -SO 3 M, -OH , -NR 1 R 2 ( wherein, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, M represents a metal atom, R 1, R 2 are each independently, Examples of the synthetic polymer compound as a hydrophilic polymer compound having a functional group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group include the following compounds. Carboxylate-based copolymer, N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer, sulfonate-based copolymer, vinylpyrrolidone-based copolymer, polyvinyl alcohol, aqueous urethane resin, water-soluble polyester, hydroxyethyl (meth) Acrylate-based polymers, poly (vinyl methyl ether-co-maleic anhydride), polyethylene glycol di (meth) acrylate-based crosslinked polymers, polypropylene glycol di (meth) acrylate-based crosslinked polymers, and the like. -COOR or -C on the side chain
As the carboxylate copolymer having OOM, from the viewpoint of water absorption and durability, it is derived into a carboxyl group or a carboxyl group such as a carboxylate, a carboxylate, a carboxylic amide, a carboxylic imide, or a carboxylic anhydride. A saponification reaction product of a carboxylic acid copolymer containing, as a monomer component, an α, β-unsaturated compound having one or two functional groups which can be used in a molecule.

【0014】α、β−不飽和化合物の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリル酸アミド類、メタクリ
ル酸アミド類、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン
酸アミド類、マレイン酸イミド類、イタコン酸、クロト
ン酸、フマル酸、メサコン酸等が挙げられる。アクリル
酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、(n−またはi−)プロピルアク
リレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチル
アクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシ
ルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペ
ンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ア
リルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリ
レート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベン
ジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、ク
ロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリ
レート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロ
キシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルア
クリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロ
フェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリ
レート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)
エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the α, β-unsaturated compound include:
Acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylic amides, methacrylic amides, maleic anhydride, maleic acid, maleic amides, maleic imides, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid Acid, mesaconic acid and the like. Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate,
Ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2
-Hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate , Furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy)
Ethyl acrylate and the like can be mentioned.

【0015】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、
i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジル
メタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、
ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフ
ェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロ
ロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメ
タクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオ
キシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-,
i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate , Trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate,
Hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate,
Examples include tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate.

【0016】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0017】マレイン酸アミド類の具体例としては、マ
レイン酸アミド、N−メチルマレイン酸アミド、N−エ
チルマレイン酸アミド、N−プロピルマレイン酸アミ
ド、N−ブチルマレイン酸アミド、N−ベンジルマレイ
ン酸アミド、N−ヒドロキシエチルマレイン酸アミド、
N−フェニルマレイン酸アミド、N−トリルマレイン酸
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)マレイン酸アミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)マレイン酸アミ
ド、N−(フェニルスルホニル)マレイン酸アミド、N
−(トリルスルホニル)マレイン酸アミド、N,N−ジ
メチルマレイン酸アミド、N−メチル−N−フェニルマ
レイン酸アミド、N−ヒドロキシエチル−N´−メチル
マレイン酸アミド等が挙げられる。マレイン酸イミド類
の具体例としては、マレイン酸イミド、N−メチルマレ
イン酸イミド、N−エチルマレイン酸イミド、N−プロ
ピルマレイン酸イミド、N−ブチルマレイン酸イミド、
N−ベンジルマレイン酸イミド、N−ヒドロキシエチル
マレイン酸イミド、N−フェニルマレイン酸イミド、N
−トリルマレイン酸イミド、N−(ヒドロキシフェニ
ル)マレイン酸イミド、N−(スルファモイルフェニ
ル)マレイン酸イミド、N−(フェニルスルホニル)マ
レイン酸イミド、N−(トリルスルホニル)マレイン酸
イミド等が挙げられる。
Specific examples of maleic amides include maleic amide, N-methylmaleamide, N-ethylmaleamide, N-propylmaleamide, N-butylmaleamide, N-benzylmaleic acid Amide, N-hydroxyethylmaleamide,
N-phenylmaleamide, N-tolylmaleamide, N- (hydroxyphenyl) maleamide, N- (sulfamoylphenyl) maleamide, N- (phenylsulfonyl) maleamide, N
-(Tolylsulfonyl) maleamide, N, N-dimethylmaleamide, N-methyl-N-phenylmaleamide, N-hydroxyethyl-N'-methylmaleamide and the like. Specific examples of maleic imides include maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide,
N-benzylmaleimide, N-hydroxyethylmaleimide, N-phenylmaleimide, N
-Tolylmaleic acid imide, N- (hydroxyphenyl) maleic acid imide, N- (sulfamoylphenyl) maleic acid imide, N- (phenylsulfonyl) maleic acid imide, N- (tolylsulfonyl) maleic acid imide and the like. Can be

【0018】本発明に使用するカルボン酸塩系共重合体
は、上記のα、β−不飽和化合物の単独重合体でもよい
し、本発明に必要な親水性を示す範囲である限り共重合
可能な他のモノマーとの共重合体でもよい。共重合可能
な他のモノマー成分の例としては、エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、1−ブチレン、ジイソブチレン、メ
チルビニルエーテル、アクリロニトリル、ビニルエステ
ル類、スチレン類等の公知のモノマーが挙げられる。
The carboxylate copolymer used in the present invention may be a homopolymer of the above α, β-unsaturated compound, or may be copolymerizable as long as it exhibits the hydrophilicity required for the present invention. It may be a copolymer with other monomers. Examples of other copolymerizable monomer components include known monomers such as ethylene, propylene, isobutylene, 1-butylene, diisobutylene, methyl vinyl ether, acrylonitrile, vinyl esters, and styrenes.

【0019】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy methyl styrene, acetoxy methyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0020】他のモノマーと組み合わせる場合、カルボ
キシル基もしくはこれに転化しうる基を含有するα、β
−不飽和化合物は、通常全モノマー成分中の10モル%
以上で、40モル%以上であることがより好ましい。カ
ルボキシル基又はこれに転化しうる基を含有するα、β
−不飽和化合物をモノマーとして含有する重合体は、公
知の方法を用いて製造することができる。例えば高分子
化学、7巻、142頁(1950)。すなわち、これら
カルボン酸塩系共重合体は、ランダムポリマー、ブロッ
クポリマー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ラン
ダムポリマーであることが好ましく、重合方式によって
適宜選択されるが、例えばジ−t−ブチルパーオキシ
ド、ベンゾイルパーオキシド等のパーオキシド類、過硫
酸アンモニウム等の過硫酸塩類、アゾビスイソブチロニ
トリル等のアゾ化合物等の重合開始剤を用いたラジカル
重合により合成される。重合方式としては、溶液重合、
乳化重合、懸濁重合等が摘要される。
When combined with other monomers, α, β containing a carboxyl group or a group convertible thereto
The unsaturated compound is usually 10 mol% of the total monomer components
More preferably, it is at least 40 mol%. Α, β containing a carboxyl group or a group convertible thereto
-A polymer containing an unsaturated compound as a monomer can be produced by a known method. For example, Polymer Chemistry, Vol. 7, p. 142 (1950). That is, these carboxylate-based copolymers may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but are preferably a random polymer, and are appropriately selected depending on the polymerization method. It is synthesized by radical polymerization using a polymerization initiator such as oxides, peroxides such as benzoyl peroxide, persulfates such as ammonium persulfate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. Polymerization methods include solution polymerization,
Emulsion polymerization, suspension polymerization and the like are required.

【0021】これらカルボン酸塩系は共重合体を合成す
る際に用いられる好適な溶媒としては、例えばテトラヒ
ドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1
−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチ
ル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、
水等が挙げられる。これらの溶媒は単独であるいは2種
以上混合して用いられる。これらカルボン酸塩系共重合
体の重合度は特に限定されるものではない。
These carboxylate salts are preferably used as solvents for synthesizing a copolymer, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, and the like.
Methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether,
-Methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide,
N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide,
Water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. The degree of polymerization of these carboxylate copolymers is not particularly limited.

【0022】上記に説明した重合体又共重合体はアルカ
リ触媒の存在下でケン化反応することが好ましい。ケン
化反応に用いられる溶媒としては水、アルコール及びア
ルコール水溶液が好ましい。また、ケン化反応に用いら
れる触媒としては公知のアルカリ触媒が用いられるが、
特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物が好ましい。ケン化反応は該重合体又は該共
重合体を前述の溶媒に溶解又は分散させ、そこにアルカ
リ触媒を添加し20〜80℃で1〜10時間攪拌するこ
とにより達成される。また、本発明のケン化反応物は、
公知の方法によって塩を任意に変えることが可能であ
る。通常用いられる塩形成物質としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソ
プロピルアミン、モノエタノ−ルアミン、ジエタノ−ル
アミン、トリエタノ−ルアミン、モノイソプロパノ−ル
アミン、ジイソプロパノ−ルアミン、トリイソプロパノ
−ルアミン、N,N−ジメチルエタノ−ルアミン、N,
N−ジメチルイソプロパノ−ルアミン、シクロヘキシル
アミン、ベンジルアミン、アニリン、ビリジンなどが挙
げられる。また、マグネシウム、カルシウムなどのアル
カリ土類金属塩類の多価金属塩類も前記の塩と混合塩の
形態で添加することが可能である。
The above-described polymer or copolymer preferably undergoes a saponification reaction in the presence of an alkali catalyst. As the solvent used for the saponification reaction, water, alcohol, and an aqueous alcohol solution are preferable. As a catalyst used for the saponification reaction, a known alkali catalyst is used.
Particularly, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The saponification reaction is achieved by dissolving or dispersing the polymer or the copolymer in the above-mentioned solvent, adding an alkali catalyst thereto, and stirring at 20 to 80 ° C for 1 to 10 hours. Further, the saponification reaction product of the present invention includes:
The salt can be arbitrarily changed by a known method. Commonly used salt-forming substances include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, monoethanolamine. , Diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N,
Examples include N-dimethylisopropanolamine, cyclohexylamine, benzylamine, aniline, pyridine and the like. Also, polyvalent metal salts of alkaline earth metal salts such as magnesium and calcium can be added in the form of a mixed salt with the above-mentioned salts.

【0023】カルボン酸塩系共重合体の具体例として
は、アクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、アクリル
酸メチル重合体のケン化反応生成物、メタクリル酸アミ
ド共重合体のケン化反応生成物、アクリル酸/メタクリ
ル酸共重合体、マレイン酸/スチレン共重合体、アクリ
ル酸メチル/酢酸ビニル共重合体のケン化反応生成物等
のような化合物が挙げられる。N−ビニルカルボン酸ア
ミド系共重合体とは、下記一般式(1)で示されるN−
ビニルカルボン酸アミド(以下、NVAと略す)を必須
の繰り返し単位とする共重合体(以下、NVA系共重合
体と略する)を意味する。
Specific examples of the carboxylate copolymer include a saponification reaction product of an acrylic acid polymer, a methacrylic acid polymer, a methyl acrylate polymer, and a saponification reaction product of a methacrylamide copolymer. And saponification reaction products of acrylic acid / methacrylic acid copolymer, maleic acid / styrene copolymer, methyl acrylate / vinyl acetate copolymer, and the like. The N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer is an N-vinyl carboxylic acid amide-based copolymer represented by the following general formula (1).
It means a copolymer having vinylcarboxylic amide (hereinafter abbreviated as NVA) as an essential repeating unit (hereinafter abbreviated as an NVA-based copolymer).

【0024】N−ビニルカルボン酸アミド系共重合体と
は、下記一般式(1)で示されるN−ビニルカルボン酸
アミドを必須の繰り返し単位とする共重合体を意味す
る。
The N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer means a copolymer containing N-vinylcarboxylic acid amide represented by the following general formula (1) as an essential repeating unit.

【0025】[0025]

【化1】 Embedded image

【0026】式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4
のアルキル基、R2 は水素原子またはメチル基、フエニ
ル基、R3 は水素原子または炭素数1〜8の直鎖または
分岐アルキル基を表わす。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a group having 1 to 4 carbon atoms.
R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group or a phenyl group; R 3 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

【0027】NVAの具体例としては、N−ビニルホル
ムアミド、N−ビニルプロピオン酸アミド、N−ビニル
安息香酸アミド、N−メチル−N−ビニル安息香酸アミ
ド、N−フエニル−N−ビニルアセトアミド、N−フエ
ニル−N−ビニル安息香酸アミドなどが挙げられるが、
本発明はこれらの例に限定されるものではない。
Specific examples of NVA include N-vinylformamide, N-vinylpropionamide, N-vinylbenzoamide, N-methyl-N-vinylbenzoamide, N-phenyl-N-vinylacetamide, -Phenyl-N-vinylbenzoic acid amide and the like,
The present invention is not limited to these examples.

【0028】本発明に好ましく用いられるN−ビニルカ
ルボン酸アミド系共重合体は、吸水性及び耐久性の観点
から、カルボキシル基、カルボン酸塩、カルボン酸アミ
ド、カルボン酸イミド、カルボン酸無水物等のカルボキ
シル基又はカルボキシル基に誘導しうる官能基を分子中
に1個又は2個有するα、β−不飽和化合物を共重合単
位として含有することが好ましい。α、β−不飽和化合
物の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、アク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリル
酸アミド類、メタクリル酸アミド類、無水マレイン酸、
マレイン酸、マレイン酸アミド類、マレイン酸イミド
類、イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、メサコン酸等
が挙げられる。アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類、アクリル酸アミド類、メタクリル酸アミド
類、マレイン酸アミド類、マレイン酸イミド類の具体例
としては前述のような化合物が挙げられる。
The N-vinylcarboxylic acid amide-based copolymer preferably used in the present invention is, from the viewpoint of water absorption and durability, a carboxyl group, a carboxylate, a carboxylic amide, a carboxylic imide, a carboxylic anhydride, or the like. It is preferable to contain, as a copolymerized unit, an α, β-unsaturated compound having one or two carboxyl groups or a functional group which can be derived into a carboxyl group in the molecule. Specific examples of the α, β-unsaturated compound include acrylic acid, methacrylic acid, acrylates, methacrylates, acrylamides, methacrylamides, maleic anhydride,
Maleic acid, maleic amides, maleic imides, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and the like. Specific examples of acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, maleic amides, and maleic imides include the compounds described above.

【0029】本発明に好ましく用いられるNVA系共重
合体は更に、本発明に必要な親水性を示す範囲である限
り共重合可能な他のモノマーを共重合単位として含有す
ることが可能である。共重合可能な他のモノマー成分の
例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、1
−ブチレン、ジイソブチレン、メチルビニルエーテル、
アクリロニトリル、ビニルエステル類、スチレン類等の
公知のモノマーが挙げられる。ビニルエステル類、スチ
レン類の具体例としては前述のような化合物が挙げられ
る。NVA系共重合体は、通常ラジカル重合により調製
される。これらNVA系共重合体はランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましく、公知の方
法を用いて製造することができる。例えば高分子化学、
7巻、142頁(1950)。すなわち、これらカルボ
ン酸塩系共重合体は、ランダムポリマー、ブロックポリ
マー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましく、重合方式によって適宜選
択されるが、例えばジ−t−ブチルパーオキシド、ベン
ゾイルパーオキシド等のパーオキシド類、過硫酸アンモ
ニウム等の過硫酸塩類、アゾビスイソブチロニトリル等
のアゾ化合物等の重合開始剤を用いたラジカル重合によ
り合成される。重合方式としては、溶液重合、乳化重
合、懸濁重合等が摘要される。
The NVA-based copolymer preferably used in the present invention can further contain other copolymerizable monomers as copolymerized units as long as the hydrophilicity required for the present invention is exhibited. Examples of other copolymerizable monomer components include ethylene, propylene, isobutylene, 1
-Butylene, diisobutylene, methyl vinyl ether,
Known monomers such as acrylonitrile, vinyl esters, styrenes and the like can be mentioned. Specific examples of vinyl esters and styrenes include the compounds described above. The NVA-based copolymer is usually prepared by radical polymerization. These NVA-based copolymers are random polymers,
Any of a block polymer, a graft polymer and the like may be used, but a random polymer is preferable, and it can be produced by a known method. For example, polymer chemistry,
7, 142 (1950). That is, these carboxylate-based copolymers may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but are preferably a random polymer, and are appropriately selected depending on the polymerization method. It is synthesized by radical polymerization using a polymerization initiator such as oxides, peroxides such as benzoyl peroxide, persulfates such as ammonium persulfate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. As the polymerization method, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and the like are required.

【0030】これらNVA系共重合体を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エ
チレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテー
ト、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合して用いら
れる。これらNVA系共重合体の重合度は特に限定され
るものではない。NVA系共重合体の具体例としては、
以下のポリマーが挙げられる。ポリ(N−ビニルアセト
アミド)、N−ビニルアセトアミド/(メタ)アクリル
酸共重合体およびその部分または完全中和物(「部分ま
たは完全中和物」とは、共重合体中のカルボン酸、スル
フォン酸、リン酸など重合性官能基中の水素イオンの一
部または全部がナトリウム、カリウムなどのアルカリ金
属塩、カルシウム、バリウムなどの金属土類塩化に置換
されたものを意味する)、N−ビニルアセトアミド/ク
ロトン酸共重合体およびその部分または完全中和物、N
−ビニルアセトアミド/マレイン酸共重合体およびその
部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド/フマ
ル酸共重合体およびその部分または完全中和物、N−ビ
ニルアセトアミド/シトラコン酸共重合体およびその部
分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド/ケイ皮
酸共重合体およびその部分または完全中和物、N−ビニ
ルアセトアミド/ビニルスルフォン酸共重合体およびそ
の部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド/無
水マレイン酸共重合体およびその部分または完全中和
物、N−ビニルアセトアミド/イタコン酸共重合体およ
びその部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド
/アコニット酸共重合体およびその部分または完全中和
物、N−ビニルアセトアミド/3−ブテノン酸共重合体
およびその部分または完全中和物、N−ビニルアセトア
ミド/4−ペンテン酸共重合体およびその部分または完
全中和物、N−ビニルアセトアミド/アリルスルフォン
酸共重合体およびその部分または完全中和物、N−ビニ
ルアセトアミド/メタリルスルフォン酸共重合体および
その部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド/
アリルリン酸共重合体およびその部分または完全中和
物、N−ビニルアセトアミド/カルボキシエチルアクリ
レート共重合体およびその部分または完全中和物、N−
ビニルアセトアミド/2−アクロイルエチルリン酸共重
合体およびその部分または完全中和物、N−ビニルアセ
トアミド/3−アクロイルプロピルリン酸共重合体およ
びその部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド
/8−メタクリロイルオクチルリン酸共重合体およびそ
の部分または完全中和物、N−ビニルアセトアミド/2
−アクリルアミド−n−プロパンスルフォン酸共重合体
およびその部分または完全中和物、N−ビニルアセトア
ミド/2−アクリルアミド−n−オクタンスルフォン酸
共重合体およびその部分または完全中和物、N−ビニル
アセトアミド/2−アクリルアミド−2−メチルプロパ
ンスルフォン酸共重合体およびその部分または完全中和
物など。
Examples of solvents used for synthesizing these NVA-based copolymers include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxy Ethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2
-Propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like.
These solvents are used alone or in combination of two or more. The degree of polymerization of these NVA-based copolymers is not particularly limited. Specific examples of the NVA-based copolymer include:
The following polymers may be mentioned. Poly (N-vinylacetamide), N-vinylacetamide / (meth) acrylic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof ("partially or completely neutralized product" refers to carboxylic acid, sulfone in the copolymer) A part of or all of the hydrogen ions in a polymerizable functional group such as acid or phosphoric acid is replaced by an alkali metal salt such as sodium or potassium, or a metal earth chloride such as calcium or barium), N-vinyl Acetamide / crotonic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N
-Vinylacetamide / maleic acid copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / fumaric acid copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / citraconic acid copolymer and its portion Or a completely neutralized product, an N-vinylacetamide / cinnamic acid copolymer and a partially or completely neutralized product thereof, an N-vinylacetamide / vinylsulfonic acid copolymer and a partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide / Maleic anhydride copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide / itaconic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide / aconitic acid copolymer and partially or completely thereof Neutralized product, N-vinylacetamide / 3-butenoic acid copolymer and a part thereof Fully neutralized product, N-vinylacetamide / 4-pentenoic acid copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / allylsulfonic acid copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / Methallyl sulfonic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide /
Allyl phosphoric acid copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / carboxyethyl acrylate copolymer and its partially or completely neutralized product, N-
Vinyl acetamide / 2-acryloylethyl phosphoric acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinyl acetamide / 3-acryloyl propyl phosphoric acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinyl acetamide / 8-methacryloyloctyl phosphate copolymer and its partially or completely neutralized product, N-vinylacetamide / 2
-Acrylamide-n-propanesulfonic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide / 2-acrylamide-n-octanesulfonic acid copolymer and partially or completely neutralized product thereof, N-vinylacetamide / 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid copolymer and partially or completely neutralized products thereof.

【0031】側鎖に−SO3R、−SO3Mを有するスル
ホン酸塩系共重合体としては、分子中にスルホン酸塩も
しくはスルホン酸アミド、スルホン酸エステル等のスル
ホン酸塩に誘導しうる官能基を有する不飽和化合物をモ
ノマー成分として含有する共重合体もしくは共重合体の
ケン化反応物が挙げられる。そのような不飽和化合物の
具体例としては以下のような化合物が挙げられる。
The sulfonate-based copolymer having —SO 3 R and —SO 3 M in the side chain can be derived into a sulfonate or a sulfonate such as a sulfonamide or a sulfonate in the molecule. A copolymer containing an unsaturated compound having a functional group as a monomer component, or a saponified reaction product of the copolymer may be used. Specific examples of such unsaturated compounds include the following compounds.

【0032】[0032]

【化2】 Embedded image

【0033】これらモノマーの内一種のみを用いた単独
重合体を使用してもよいが、本発明に必要な親水性を示
す範囲で二種以上を用いた共重合体やこれらのモノマー
と他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。共重合
可能な他のモノマー成分の例としては、エチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、1−ブチレン、ジイソブチレ
ン、メチルビニルエーテル、アクリロニトリル、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類等の公知のモノマーが挙げられる。アクリル酸エ
ステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド
類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン
類の具体例は前述の通りである。
Homopolymers using only one of these monomers may be used, but copolymers using two or more of these monomers or other monomers as long as they exhibit the hydrophilicity required for the present invention can be used. A copolymer with a monomer may be used. Examples of other copolymerizable monomer components include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butylene, diisobutylene, methyl vinyl ether, acrylonitrile, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, and vinyl esters. And known monomers such as styrenes. Specific examples of acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, and styrenes are as described above.

【0034】スルホン酸塩又はこれに転化しうる基を含
有する不飽和化合物をモノマーとして含有する重合体
は、通常ラジカル重合により調製される。これらスルホ
ン酸塩系共重合体はランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポリ
マーであることが好ましく、公知の方法を用いて製造す
ることができる。例えば高分子化学、7巻、142頁
(1950)。すなわち、これらカルボン酸塩系共重合
体は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフト
ポリマー等何れでもよいが、ランダムポリマーであるこ
とが好ましく、重合方式によって適宜選択されるが、例
えばジ−t−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキ
シド等のパーオキシド類、過硫酸アンモニウム等の過硫
酸塩類、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等
の重合開始剤を用いたラジカル重合により合成される。
重合方式としては、溶液重合、乳化重合、懸濁重合等が
摘要される。
The polymer containing a sulfonate or an unsaturated compound containing a group which can be converted into the sulfonate as a monomer is usually prepared by radical polymerization. These sulfonate-based copolymers may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably a random polymer, and can be produced by a known method. For example, Polymer Chemistry, Vol. 7, p. 142 (1950). That is, these carboxylate-based copolymers may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but are preferably a random polymer, and are appropriately selected depending on the polymerization method. It is synthesized by radical polymerization using a polymerization initiator such as oxides, peroxides such as benzoyl peroxide, persulfates such as ammonium persulfate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile.
As the polymerization method, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and the like are required.

【0035】これらスルホン酸塩系共重合体を合成する
際に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合し
て用いられる。これらスルホン酸塩共重合体の重合度は
特に限定されるものではない。
Solvents used for synthesizing these sulfonate-based copolymers include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, -Methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-
Examples include dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. The degree of polymerization of these sulfonate copolymers is not particularly limited.

【0036】上記に説明した共重合体はアルカリ触媒の
存在下でケン化反応することが好ましい。ケン化反応に
用いられる溶媒としては水、アルコール及びアルコール
水溶液が好ましい。また、ケン化反応に用いられる触媒
としては公知のアルカリ触媒が用いられるが、特に水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物が好ましい。ケン化反応は該重合体又は該共重合体を
前述の溶媒に溶解又は分散させ、そこにアルカリ触媒を
添加し20〜80℃で1〜24時間攪拌することにより
達成される。
The copolymer described above preferably undergoes a saponification reaction in the presence of an alkali catalyst. As the solvent used for the saponification reaction, water, alcohol, and an aqueous alcohol solution are preferable. As the catalyst used in the saponification reaction, a known alkali catalyst is used, and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is particularly preferable. The saponification reaction is achieved by dissolving or dispersing the polymer or the copolymer in the above-mentioned solvent, adding an alkali catalyst thereto and stirring at 20 to 80 ° C for 1 to 24 hours.

【0037】また、本発明のケン化反応物は、公知の方
法によって塩を任意に変えることが可能である。通常用
いられる塩形成物質としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化アンモニウム、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、モノエタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミン、
トリエタノ−ルアミン、モノイソプロパノ−ルアミン、
ジイソプロパノ−ルアミン、トリイソプロパノ−ルアミ
ン、N,N−ジメチルエタノ−ルアミン、N,N−ジメ
チルイソプロパノ−ルアミン、シクロヘキシルアミン、
ベンジルアミン、アニリン、ビリジンなどが挙げられ
る。また、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土
類金属塩類の多価金属塩類も前記の塩と混合塩の形態で
添加することが可能である。
The salt of the saponification reaction product of the present invention can be arbitrarily changed by a known method. Commonly used salt-forming substances include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, monomethylamine,
Dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, monoethanolamine, diethanolamine,
Triethanolamine, monoisopropanolamine,
Diisopropanolamine, triisopropanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-dimethylisopropanolamine, cyclohexylamine,
Benzylamine, aniline, pyridine and the like can be mentioned. Also, polyvalent metal salts of alkaline earth metal salts such as magnesium and calcium can be added in the form of a mixed salt with the above-mentioned salts.

【0038】スルホン酸塩系共重合体の具体例としては
以下のようなポリマーが挙げられる。
Specific examples of the sulfonate-based copolymer include the following polymers.

【0039】[0039]

【化3】 Embedded image

【0040】上記の親水性高分子化合物の内で本発明の
効果を十分に発揮する上で好ましい親水性を有するポリ
マーは、カルボン酸塩系共重合体、NVA系共重合体、
スルホン酸塩系共重合体、ポリビニルアルコールであ
り、より好ましくはカルボン酸塩系共重合体、NVA系
共重合体、スルホン酸塩系共重合体である。
Among the above-mentioned hydrophilic high molecular compounds, polymers having a hydrophilic property preferable for sufficiently exhibiting the effects of the present invention are carboxylate copolymers, NVA copolymers, and the like.
Sulfonate-based copolymers and polyvinyl alcohols are more preferred, and carboxylate-based copolymers, NVA-based copolymers, and sulfonate-based copolymers are more preferred.

【0041】カルボン酸塩系共重合体の中でも好ましい
のは、アクリル酸、メタクリル酸との重合体又は共重合
体、α−オレフィン、ビニル化合物と無水マレイン酸と
の共重合体であり、さらに好ましいのはビニルエステル
と(メタ)アクリル酸エステル共重合体のケン化反応生
成物である(以下の説明で(メタ)アクリル酸とあるの
はアクリル酸はメタクリル酸を略したものである)。該
共重合体の中でも(メタ)アクリル酸エステル成分が該
共重合体の20〜80モル%を占めることが好ましく、
さらに吸水性と親水性中間層の力学強度を両立させるに
は30〜70モル%であることがより好ましい。また、
NVA系共重合体の中で好ましいのは、NVAとアクリ
ル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等のカルボン酸と
の共重合体であり、吸水性と耐久性の観点からNVA単
位は全モノマー成分中の10モル%以上であることが好
ましく、40モル%以上であることがより好ましい。
Preferred among the carboxylate copolymers are polymers or copolymers of acrylic acid and methacrylic acid, α-olefins, and copolymers of vinyl compounds and maleic anhydride, more preferably. Is a saponification reaction product of a vinyl ester and a (meth) acrylic acid ester copolymer (in the following description, (meth) acrylic acid means acrylic acid for methacrylic acid). In the copolymer, the (meth) acrylate component preferably accounts for 20 to 80 mol% of the copolymer,
Further, the content is more preferably 30 to 70 mol% in order to achieve both the water absorption and the mechanical strength of the hydrophilic intermediate layer. Also,
Preferred among the NVA-based copolymers are copolymers of NVA and carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride. Is preferably at least 10 mol%, more preferably at least 40 mol%.

【0042】更にスルホン酸塩系共重合体として好まし
いのはスチレンスルホン酸塩、スチレンスルホン酸エス
テルの重合体、共重合体あるいはスチレンスルホン酸塩
又はスチレンスルホン酸エステルと(メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリル酸エステル、ビニルエステル及び
/又は無水マレイン酸との共重合体あるいはそれら重合
体、共重合体のケン化反応生成物である。吸水性と耐久
性の観点からスチレンスルホン酸塩あるいはスチレンス
ルホン酸エステル単位が全モノマー中の20モル%以上
であることが好ましく、50モル%であることがさらに
好ましい。
Further, as the sulfonic acid salt-based copolymer, styrene sulfonic acid salt, styrene sulfonic acid ester polymer, copolymer or styrene sulfonic acid salt or styrene sulfonic acid ester and (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid, ) Copolymers with acrylic esters, vinyl esters and / or maleic anhydride, or saponification products of these polymers and copolymers. From the viewpoints of water absorption and durability, the amount of the styrene sulfonate or styrene sulfonic acid ester unit is preferably 20 mol% or more, more preferably 50 mol%, of all the monomers.

【0043】また、これらの側鎖に−COOR、−CO
OM、−SOR、−SO2 R、−SO3 R、−SOM、
−SO2 M、−SO3 M、−OH、−NR12 から選
ばれる官能基を有する親水性高分子化合物としての天然
高分子化合物にはデンプン−スチレンスルフォン酸系グ
ラフト重合体、デンプン−ビニルスルフォン酸系グラフ
ト重合体、デンプン−アクリルアミド系グラフト重合
体、カルボキシル化メチルセルロース、セルロース−ス
チレンスルフォン酸系グラフト重合体、カルボキシメチ
ルセルロース系架橋体等が挙げられる。
Further, -COOR, -CO
OM, -SOR, -SO 2 R, -SO 3 R, -SOM,
Examples of natural polymer compounds as hydrophilic polymer compounds having a functional group selected from —SO 2 M, —SO 3 M, —OH, and —NR 1 R 2 include starch-styrenesulfonic acid-based graft polymers, starch- Examples include a vinyl sulfonic acid-based graft polymer, a starch-acrylamide-based graft polymer, a carboxylated methyl cellulose, a cellulose-styrene sulfonic acid-based graft polymer, and a carboxymethyl cellulose-based cross-linked product.

【0044】本発明に用いられる(2)分子内にアルキ
レンオキシド基を有する親水性高分子化合物は、主鎖あ
るいは側鎖にアルキレンオキシド基を有するものであれ
ば特に制限はなく、具体的には、例えば、ポリエチレン
オキサイド、ポリ(エチレンオキサイド−co−プロピ
レンオキサイド)等が挙げられ、また、天然高分子化合
物としては、デンプン−アクリロニトリル系グラフト重
合体加水分解物、デンプン−アクリル酸系グラフト重合
体、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、キサントゲン酸
セルロース、セルロース−アクリロニトリル系グラフト
重合体、ヒアルロン酸、アガロース、コラーゲン、ミル
クカゼイン、酸カゼイン、レンネットカゼイン、アンモ
ニアカゼイン、カリ化カゼイン、ホウ砂カゼイン、グル
ー、ゼラチン、グルテン、大豆蛋白、アルギン酸塩、ア
ルギン酸アンモニウム、アルギン酸カリウム、アルギン
酸ナトリウム、アラビヤガム、トラガカントガム、カラ
ヤガム、グアールガム、ロカストビーンガム、アイリッ
シュモス、大豆レシチン、ペクチン酸、澱粉、カルボキ
シル化澱粉、寒天、デキストリン、マンナン等を挙げる
ことができる。 本発明における親水性中間層には、上
記の親水性高分子化合物以外に発明の効果を損なわない
範囲で必要に応じて以下のような化合物を構成成分とし
て含んでもよい。
The hydrophilic polymer compound (2) having an alkylene oxide group in the molecule used in the present invention is not particularly limited as long as it has an alkylene oxide group in a main chain or a side chain. For example, polyethylene oxide, poly (ethylene oxide-co-propylene oxide) and the like can be mentioned, and as the natural polymer compound, starch-acrylonitrile-based graft polymer hydrolyzate, starch-acrylic acid-based graft polymer, Methylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxyethylcellulose, cellulose xanthate, cellulose-acrylonitrile-based graft polymer, hyaluronic acid, agarose, collagen, milk casein, acid casein, rennet casein, ammonia casein, casein Casein, borax casein, glue, gelatin, gluten, soy protein, alginate, ammonium alginate, potassium alginate, sodium alginate, arabia gum, tragacanth gum, karaya gum, guar gum, locust bean gum, Irish moss, soy lecithin, pectic acid , Starch, carboxylated starch, agar, dextrin, mannan and the like. The hydrophilic intermediate layer in the present invention may contain, as necessary, the following compounds as constituent components other than the above-mentioned hydrophilic polymer compound as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0045】本発明の平版印刷版原版の上記親水性断熱
層中には、印刷条件に対する安定性を拡げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボ
キシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げ
られる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤
の、この親水性層の全固形物中に占める割合は、0.0
5〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5
重量%である。
In the hydrophilic heat insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used in order to enhance stability under printing conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant include:
Alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solids of the hydrophilic layer is 0.0%.
It is preferably from 5 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.
% By weight.

【0046】本発明の平版印刷版原版の上記親水性断熱
層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体
上に塗布することにより製造することができる。ここで
使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキ
シエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセ
テート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン、水等をあげることができるがこれに
限定されるものではない。
The hydrophilic heat-insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and applying the resulting solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
Examples include, but are not limited to, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. .

【0047】これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の
濃度は、好ましくは1〜50重量%である。塗布する方
法としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。本発明の平
版印刷版原版の上記親水性断熱層中には、塗布性を良化
するための界面活性剤、例えば特開昭62−17095
0号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を
添加することができる。好ましい添加量は、親水性中間
層全固形物分に対し、0.01〜1重量%更に好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. In the hydrophilic heat insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17095
No. 0 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the hydrophilic intermediate layer.

【0048】上記親水性断熱層は、露光による熱効率の
向上の機能を発現するものであり、このことから、塗
布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、
一般的に0.1〜5g/m2が好ましく、より好ましく
は0.1g/m2 〜2g/m2、さらに好ましくは0.
2〜1.5g/m2 である。塗布量が、0.1g/m2
未満であると熱効率向上効果が不十分となり、5g/m
2を超えて塗布しても効果の向上は見られず、かえって
耐刷性が劣化するため好ましくない。
The hydrophilic heat-insulating layer exhibits a function of improving thermal efficiency by exposure, and from this, the coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying is as follows:
Generally preferred 0.1-5 g / m 2, more preferably 0.1g / m 2 ~2g / m 2 , more preferably 0.
2 to 1.5 g / m 2 . The coating amount is 0.1 g / m 2
If it is less than 5 g, the effect of improving the thermal efficiency becomes insufficient and 5 g / m
Even if it exceeds 2 , the effect is not improved, and the printing durability is rather deteriorated.

【0049】[架橋構造を有する親水性高分子化合物]
本発明の平版印刷版原版が有する架橋構造を有する親水
性高分子化合物を含有する層(親水性架橋断熱層)はア
ルミニウムよりも熱伝導率が極端に低いものであれば特
に限定されず、シリカや有機ポリマーを主体とするもの
等が好適に用いられる。本発明の平版印刷版原版の親水
性架橋断熱層に使用されるシリカ、有機ポリマーはそれ
ぞれアルミニウムより熱伝導率が約180倍、1100
〜1600倍低い。
[Hydrophilic high molecular compound having crosslinked structure]
The layer containing a hydrophilic polymer compound having a crosslinked structure (hydrophilic crosslinked heat insulating layer) of the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it has an extremely lower thermal conductivity than aluminum. And those mainly composed of organic polymers are preferably used. The silica and the organic polymer used for the hydrophilic cross-linked heat-insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention have a thermal conductivity of about 180 times that of aluminum and 1100, respectively.
~ 1600 times lower.

【0050】本発明の平版印刷版原版の親水性架橋断熱
層としては、従来公知の架橋親水性層のいずれをも使用
することができる。例えば、1)国際公開WO98/4
0212に記載の金属コロイドを含む架橋されたポリマ
ーよりなる親水層、2)特登2592225に記載の有
機親水性ポリマーとシランカップリング剤との縮合物よ
りなる親水層、3)特開平10−6468号公報および
特開平10−58636号公報記載の架橋された有機ポ
リマーよりなる親水層などが使用できる。
As the hydrophilic cross-linked heat insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, any of conventionally known cross-linked hydrophilic layers can be used. For example, 1) International Publication WO98 / 4
No. 0212, a hydrophilic layer composed of a crosslinked polymer containing a metal colloid, 2) Japanese Patent Publication No. 2592225, a hydrophilic layer composed of a condensate of an organic hydrophilic polymer and a silane coupling agent, 3) JP-A-10-6468 And a hydrophilic layer composed of a crosslinked organic polymer described in JP-A-10-58636.

【0051】以下に、各親水性架橋断熱層につい説明す
る。まず、1)金属コロイドを含む架橋されたポリマー
よりなる親水層について説明する。金属コロイドとして
はヒドロキシシラン、ヒドロキシアルミ、ヒドロキシチ
タン、ヒドロキシジルコンなどのコロイドなどを挙げる
ことが出来る。これらの金属コロイドを架橋剤たとえは
ジ、トリ、テトラアルコキシシランもしくはチタネー
ト、もしくはアルミナートで架橋させ形成させることが
できる。金属コロイドの製法は例えばUS224432
5、US2574902などに従い製造することができ
る。これらのうち特に有用な金属コロイドはコロイダル
シリカであり、架橋剤としてはアミノプロピルトリエト
キシシランである。使用される金属コロイドの量は架橋
剤の量に対して100〜5000%の範囲であり、特に
好ましくは500〜1500%の範囲である。
Hereinafter, each of the hydrophilic crosslinked heat insulating layers will be described. First, 1) a hydrophilic layer composed of a crosslinked polymer containing a metal colloid will be described. Examples of the metal colloid include colloids such as hydroxysilane, hydroxyaluminum, hydroxytitanium, and hydroxyzircon. These metal colloids can be formed by crosslinking with a crosslinking agent such as di, tri, tetraalkoxysilane or titanate, or aluminate. A method for producing a metal colloid is described in, for example, US Pat.
5, can be manufactured according to US2574902 and the like. Among these, a particularly useful metal colloid is colloidal silica, and the crosslinking agent is aminopropyltriethoxysilane. The amount of metal colloid used is in the range from 100 to 5000%, especially preferably in the range from 500 to 1500%, based on the amount of crosslinking agent.

【0052】次に、2)有機親水性ポリマーとシランカ
ップリング剤との縮合物よりなる親水性架橋断熱層につ
いて説明する。例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒ
ドロキシエチル、ヒドロキシ−プロピル、アミノ、アミ
ノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどを含
む遊離の反応性基を有する親水性ポリマーを、例えば親
水性有機チタン試薬、アルミノホルミルアセテート、ジ
メチロールウレア、メラミン、アルデヒド、加水分解テ
トラアルキルオルトシリケートなどを含む適した架橋剤
又は修飾剤と共に含む水性組成物からキャストするのが
好ましい。
Next, 2) a hydrophilic cross-linked heat-insulating layer composed of a condensate of an organic hydrophilic polymer and a silane coupling agent will be described. Hydrophilic polymers having free reactive groups including, for example, hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxy-propyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl, etc., can be used, for example, hydrophilic organotitanium reagents, aluminoformyl acetate, dimethylol Preferably, it is cast from an aqueous composition which includes a suitable crosslinker or modifier, including urea, melamine, aldehyde, hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate, and the like.

【0053】親水性架橋断熱層のための適したポリマー
はアラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カ
ルボキシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロ
ースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−
マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリ
マー類、ポリアクリル酸類吸びそれらの塩、ポリメタク
リル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシ−エチレンポリマ
ー類、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレ
ンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水
分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも
80重量%の加水分解ポリビニルアセテートから成る群
より選ばれることができる。
Suitable polymers for the hydrophilic crosslinked thermal barrier are gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate
Maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, hydroxy-ethylene polymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and It can be selected from the group consisting of hydrolyzed polyvinyl acetate having a degree of degradation of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight.

【0054】例えばUS−P−3476937に開示さ
れているようなポリビニルアルコール又は少なくとも6
0重量%の程度まで加水分解されたポリビニルアセテー
トを含み、テトラアルキルオルトシリケート、例えばテ
トラエチルオルトシリケート又はテトラメチルオルトシ
リケートを用いて硬膜された親水性架橋断熱層は、それ
らを本発明の平版印刷版原版で用いると優れたリス印刷
性を生ずるので、特に好ましい。
For example, polyvinyl alcohol as disclosed in US Pat. No. 3,476,937 or at least 6
The hydrophilic cross-linking heat-insulating layer containing polyvinyl acetate hydrolyzed to the extent of 0% by weight and hardened with tetraalkyl orthosilicate, for example, tetraethyl orthosilicate or tetramethyl orthosilicate, is used for the lithographic printing of the present invention. The use of a plate precursor is particularly preferable because excellent lith printability is produced.

【0055】さらに別の適した親水性架橋断熱層はEP
91201227.5に開示されている。このEP−出
願に開示されている親水性層は、少なくとも1つの遊離
の水素を有するアミン又はアミド官能基を含むコポリマ
ー(例えばアミノ修飾デキストラン)及びアルデヒドの
硬膜反応生成物を含む。本発明の平版印刷版原版に従う
と、親水性架橋断熱層は例えば可塑剤、顔料、色素など
の追加の物資を含むことができる。親水性架橋断熱層
は、この層の強度及び/又は親水性を増やすために例え
はTiO2 又はコロイドシリカなどの粒子状材料も含む
ことができる。
Yet another suitable hydrophilic crosslinked thermal barrier is EP
No. 9112227.5. The hydrophilic layer disclosed in this EP-application comprises a hardening reaction product of a copolymer containing an amine or amide function with at least one free hydrogen (eg an amino-modified dextran) and an aldehyde. According to the lithographic printing plate precursor according to the invention, the hydrophilic crosslinked thermal insulation layer can contain additional materials such as, for example, plasticizers, pigments, dyes and the like. The hydrophilic cross-linked thermal insulation layer can also include a particulate material such as, for example, TiO 2 or colloidal silica to increase the strength and / or hydrophilicity of the layer.

【0056】次に、3)架橋された有機ポリマーよりな
る親水性架橋断熱層について説明する。本発明でいう架
橋された有機ポリマーとは、炭素−炭素結合から構成さ
れたポリマーに側鎖として、カルボキシル基、アミノ
基、リン酸基、スルフォン酸基、またはこれらの塩、水
酸基、アミド基、ポリオキシエチレン基等の親水性官能
基を一種類以上かつ複数個含有する網目化されたポリマ
ー、または炭素原子、炭素−炭素結合の何れかが、少な
くとも一種以上の酸素、窒素、硫黄、リンからなるヘテ
ロ原子で連結されたポリマー若しくはその側鎖にカルボ
キシル基、アミノ基、リン酸基、スルフォン酸基、また
はこれらの塩、水酸基、アミド基、ポリオキシエチレン
基等の親水性官能基を一種類以上かつ複数個含有する綱
目化されたポリマーであり、具体的には、ポリ(メタ)
アクリレート系、ポリオキシアルキレン系、ポリウレタ
ン系、エポキシ開環付加重合系、ポリ(メタ)アクリル
酸系、ポリ(メタ)アクリルアミド系、ポリエステル
系、ポリアミド系、ポリアミン系、ポリビニル系、多糖
類系或いはその複合系等のポリマーが例示出来る。
Next, 3) a hydrophilic cross-linked heat insulating layer made of a cross-linked organic polymer will be described. The crosslinked organic polymer referred to in the present invention is a polymer composed of carbon-carbon bonds, as a side chain, a carboxyl group, an amino group, a phosphate group, a sulfonic acid group, or a salt, a hydroxyl group, an amide group, One or more hydrophilic functional groups such as polyoxyethylene groups and the like, or a networked polymer containing a plurality thereof, or a carbon atom, one of carbon-carbon bonds is at least one or more of oxygen, nitrogen, sulfur, and phosphorus. One kind of a hydrophilic functional group such as a carboxyl group, an amino group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, or a salt thereof, a hydroxyl group, an amide group, or a polyoxyethylene group in a polymer or a side chain thereof linked by a hetero atom A meshed polymer containing a plurality of the above, specifically, poly (meth)
Acrylate type, polyoxyalkylene type, polyurethane type, epoxy ring-opening addition polymerization type, poly (meth) acrylic acid type, poly (meth) acrylamide type, polyester type, polyamide type, polyamine type, polyvinyl type, polysaccharide type or the like A polymer such as a composite system can be exemplified.

【0057】中でも、セグメントの側鎖に水酸基、カル
がキシル基またはそのアルカリ金属塩、アミノ基または
そのハロゲン化水素塩、スルホン酸基またはそのアミ
ン、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アミド基の
いずれかをまたはこれらを組み合わせたものを繰り返し
有するもの、さらにこれらの親水性官能基と主鎖セグメ
ントの一部にポリオキシエチレン基を重ね有するものは
親水性が高く好ましい。これらに加えて親水性バインタ
ーポリマーの主鎖若しくは側鎖にウレタン結合若しくは
ウレア結合を有するものは親水性のみならず非画像部の
耐刷性も向上するのでさらに好ましい。
Among them, a hydroxyl group, a cal is a xyl group or its alkali metal salt, an amino group or its hydrogen halide, a sulfonic acid group or its amine, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, an amide group Those having any one of these or a combination thereof and those having a polyoxyethylene group overlapped with a part of the hydrophilic functional group and the main chain segment are preferable because of high hydrophilicity. In addition, those having a urethane bond or a urea bond in the main chain or side chain of the hydrophilic binder polymer are more preferable because not only the hydrophilicity but also the printing durability of the non-image area are improved.

【0058】このバインダーポリマーは必要に応じ、後
述する種々のその他の成分を含んでよい。この三次元架
橋された親水性バインダーポリマーの具体例を以下に例
示する。親水性バインダーポリマーとして、(メタ)ア
クリル酸若しくはそのアルカリ、アミン塩、イタコン酸
若しくはそのアルカリ、アミン塩、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N
−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ジメチ
ロール(メタ)アクリルアミド、3−ビニルプロピオン
酸若しくはそのアルカリ、アミン塩、ビニルスルフォン
酸若しくはそのアルカリ、アミン塩、2−スルホエチル
(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸、アシッドホスホオキシポリ
オキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、
アリルアミン若しくはその鉱酸塩等の水酸基、カルボキ
シル基あるいはその塩、スルホン酸基あるいはその塩、
リン酸あるいはその塩、アミド基、アミノ基、エーテル
基といった親水性基を有する親水性モノマーの中から少
なくとも一種を用いて親水性ホモ若しくはコポリマーを
合成する。
The binder polymer may contain various other components described below, if necessary. Specific examples of the three-dimensionally crosslinked hydrophilic binder polymer are shown below. As the hydrophilic binder polymer, (meth) acrylic acid or its alkali, amine salt, itaconic acid or its alkali, amine salt, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N
-Monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, 3-vinylpropionic acid or its alkali, amine salt, vinylsulfonic acid or its alkali, amine salt, 2-sulfoethyl (meth) acrylate, polyoxyethylene glycol Mono (meth) acrylate, 2-acrylamide-2-
Methylpropanesulfonic acid, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate,
Hydroxyl group such as allylamine or its mineral acid salt, carboxyl group or its salt, sulfonic acid group or its salt,
A hydrophilic homo- or copolymer is synthesized using at least one of phosphoric acid or a salt thereof, a hydrophilic monomer having a hydrophilic group such as an amide group, an amino group, and an ether group.

【0059】親水性ポリマー中の水酸基、カルボキシル
基、アミノ基或いはその塩、エポキシ基といつた官能基
を有する親水性バインダーポリマーは、これらの官能基
を利用し、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリル基等
の付加重合性二重結合、或いはシンナモイル基、シンナ
ミリデン基、シアノシンナミリデン基、p−フェニレン
ジアクリレート基等の環形成基を導入した不飽和基含有
ポリマーを得る。これに、必要により、該不飽和基と共
重合し得る単官能、多官能モノマーと後述の重合開始剤
と後述の他の成分とを加え、適当な溶媒に溶解し、ドー
プを調整する。これを前記の支持体上にコーティングし
乾燥後或いは乾燥を兼ねて三次元架橋させる。
The hydrophilic binder polymer having a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group or a salt thereof, and an epoxy group in the hydrophilic polymer utilizes these functional groups to form a vinyl group, an allyl group, ) An unsaturated group-containing polymer having an addition polymerizable double bond such as an acryl group or a ring-forming group such as a cinnamoyl group, a cinnamylidene group, a cyanosinnamylidene group or a p-phenylenediacrylate group is obtained. If necessary, a monofunctional or polyfunctional monomer copolymerizable with the unsaturated group, a polymerization initiator described below, and other components described below are added, and the mixture is dissolved in an appropriate solvent to adjust a dope. This is coated on the above-mentioned support and subjected to three-dimensional crosslinking after drying or also as drying.

【0060】水酸基、アミノ基、カルボキシル基といっ
た活性水素を含有する親水性バインンダーポリマーは、
イソシアネート化合物或いはブロックポリイソシアネー
ト化合物および後述の他の成分と共に上記の活性水素非
含有溶剤中に添加しドープを調合し支持体に塗布し乾燥
後或いは乾燥を兼ねて反応させ三次元架橋させる。親水
性バインダーポリマーの共重合成分にグリシジル(メ
タ)アクリレートなどのグリシジル基、(メタ)アクリ
ル酸などのカルボキシル基を有するモノマーを併用する
ことができる。グリシジル基を有する親水性バインダー
ポリマーは、架橋剤として、1,2−エタンジカルボン
酸、アジピン酸といったα,ω−アルカン若しくはアル
ケンジカルボン酸、1,2,3−プロパントリカルボン
酸、トリメリット酸等のポリカルボン酸、1,2−エタ
ンジアミン、ジエチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、α,ω−ビス−(3−アミノプロピル)−ポリエチ
レングリコールエーテル等のポリアミン化合物、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリ
コール、テトラエチレングリコール等のオリゴアルキレ
ンまたはポリアルキレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、グリセリン、ペンタエリストール、ソルビトー
ル等のポリヒドロキシ化合物を用い、これらとの開環反
応を利用して三次元架橋ができる。
The hydrophilic binder polymer containing active hydrogen such as hydroxyl group, amino group and carboxyl group is
The isocyanate compound or the blocked polyisocyanate compound and other components described below are added to the above-mentioned solvent containing no active hydrogen, a dope is prepared, coated on a support, and dried or reacted with drying for three-dimensional crosslinking. A monomer having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate and a carboxyl group such as (meth) acrylic acid can be used in combination as a copolymer component of the hydrophilic binder polymer. The hydrophilic binder polymer having a glycidyl group is used as a crosslinking agent such as α, ω-alkane or alkenedicarboxylic acid such as 1,2-ethanedicarboxylic acid and adipic acid, 1,2,3-propanetricarboxylic acid, trimellitic acid and the like. Polycarboxylic acid, 1,2-ethanediamine, diethylenediamine, diethylenetriamine, polyamine compounds such as α, ω-bis- (3-aminopropyl) -polyethylene glycol ether, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, tetraethylene glycol, etc. Using a polyhydroxy compound such as oligoalkylene or polyalkylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, and sorbitol, three-dimensional crosslinking can be performed by utilizing a ring opening reaction with these.

【0061】カルボキシル基、アミノ基を有する親水性
バインダーポリマーは、架橋剤として、エチレンまたは
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチ
レンまたはポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル等のポリエ
ポキシ化合物を用いたエポキシ開環反応等を利用して三
次元架橋することが出来る。
The hydrophilic binder polymer having a carboxyl group or an amino group may be used as a crosslinking agent such as ethylene or propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene or polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether,
Three-dimensional crosslinking can be performed by using an epoxy ring-opening reaction using a polyepoxy compound such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether or trimethylolpropane triglycidyl ether.

【0062】親水性バインダーポリマーが、セルロース
誘導体などの多糖類やポリビニルアルコールあるいはそ
の部分鹸化物、グリシドールホモ若しくはコポリマー若
しくはこれらをベースとした親水性バインダーポリマー
は、これらが含有する水酸基を利用し、前述の架橋反応
し得る官能基を導入し、前述の方法で三次元架橋構造を
もたらすことが出来る。
When the hydrophilic binder polymer is a polysaccharide such as a cellulose derivative, polyvinyl alcohol or a partially saponified product thereof, a glycidol homo or copolymer, or a hydrophilic binder polymer based on these, the hydroxyl groups contained therein are used to make use of the above-mentioned hydroxyl groups. Introducing a functional group capable of performing a cross-linking reaction of the above, it is possible to provide a three-dimensional cross-linked structure by the method described above.

【0063】以上述べた中で、親水性バインダーポリマ
ーが(メタ)アクリル酸もしくはそのアルカリ金属塩お
よびアミン塩、イタコン酸もしくはそのアルカリ金属塩
およびアミン酸塩、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロー
ル(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)
アクリルアミド、アリルアミンもしくはそのハロゲン化
水素酸塩、3−ビニルプロピオン酸もしくはそのアルカ
リ金属塩およびアミン塩、ビニルスルホン酸もしくはそ
のアルカリ金属塩およびアミン塩、2−スルホエチレン
(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸、アシッドホスホオキシポリ
オキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、
アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩等の、カ
ルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基もしく
はそれらの塩、水酸基、アミド基およびエーテル基など
の親水性基を有する親水性モノマーから選ばれる少なく
とも一種を用いて合成した親水性ホモもしくはコポリマ
ー、あるいは、ポリオキシメチレングリコールまたはポ
リオキシエチレングリコールから構成された親水性バイ
ンダーポリマーを上述の方法で三次元架橋したものが好
ましい。
In the above description, the hydrophilic binder polymer is (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth)
Acrylamide, allylamine or its hydrohalide salt, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt and amine salt, vinylsulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethylene (meth) acrylate, polyoxyethylene glycol Mono (meth) acrylate, 2-acrylamide-2-
Methylpropanesulfonic acid, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate,
At least one selected from hydrophilic monomers having a hydrophilic group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid, an amino group or a salt thereof, a hydroxyl group, an amide group and an ether group, such as allylamine or a hydrohalide thereof; And a three-dimensionally crosslinked hydrophilic binder polymer composed of polyoxymethylene glycol or polyoxyethylene glycol by the method described above.

【0064】本発明の平版印刷版原版の上記親水性架橋
断熱層の膜厚は、露光による熱効率の向上の機能を発現
するものであり、このことから、塗布、乾燥後に得られ
る支持体上の塗布量(固形分)は、一般的に0.1〜5
g/m2 が好ましく、より好ましくは0.1g/m2
2g/m2、さらに好ましくは0.2〜1.5g/m2
ある。塗布量が、0.1g/m2未満であると熱効率向
上効果が不十分となり、5g/m2を超えて塗布しても
効果の向上は見られず、かえって耐刷性が劣化するため
好ましくない。
The thickness of the hydrophilic cross-linked heat insulating layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention exhibits a function of improving the thermal efficiency by exposure. The coating amount (solid content) is generally 0.1 to 5
g / m 2 , and more preferably 0.1 g / m 2 to
2 g / m 2, more preferably from 0.2 to 1.5 g / m 2. When the coating amount is less than 0.1 g / m 2 , the effect of improving the thermal efficiency is insufficient, and even when the coating amount is more than 5 g / m 2 , no improvement in the effect is observed, and the printing durability is rather deteriorated. Absent.

【0065】次に本発明の平版印刷版原版が、前述の親
水性断熱層上または親水性架橋断熱層上に有する、熱に
より側鎖が疎水性に変化する親水性高分子化合物を含有
する画像形成層について説明する。本発明の画像形成層
として使用される親水性高分子化合物としては、熱によ
り脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基か
らなる群から選ばれる少なくともいづれかの基を有する
ポリマーであれば、特に限定されないが、下記一般式
(2)および(3)で表される群から選ばれる少なくと
もいづれかであることが好ましい。
Next, the image of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, which contains the hydrophilic high molecular compound whose side chain changes to hydrophobic by heat, which is provided on the above-mentioned hydrophilic heat-insulating layer or hydrophilic cross-linking heat-insulating layer. The formation layer will be described. The hydrophilic polymer compound used as the image forming layer of the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylate group that cause decarboxylation by heat. However, it is preferably at least one selected from the group represented by the following general formulas (2) and (3).

【0066】[0066]

【化4】 Embedded image

【0067】(式中、Xは4族から6族の元素、同酸化
物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物からな
る群から選択され、Pはポリマー主鎖を表し、−L−は
2価の連結基を表し、R4、R5はそれぞれ同じでも異な
っていてもよい1価の基を表し、Mはアルカリ金属、ア
ルカリ土類金属およびオニウムからなる群から選択され
るいずれかを表す。)
(Wherein X is selected from the group consisting of elements of Groups 4 to 6, oxides, sulfides, selenides and tellurides, P represents a polymer main chain, and -L- Represents a divalent linking group, R 4 and R 5 each represent a monovalent group which may be the same or different, and M is any one selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals and onium Represents.)

【0068】R4、R5としては、水素を含む一価の非金
属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原
子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、
アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプ
ト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチ
オ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミ
ノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N
−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′
−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイ
ド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリ
ールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′
−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N
−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリール
ウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト
基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフ
ィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル
基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリ
ールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキル
スルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリー
ルスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスル
ファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共
役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキル
ホスフォノ基(−PO3(alkyl) 2)、ジアリールホスフ
ォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォ
ノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォ
ノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、
アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフ
ォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以
後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキ
シ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホス
フォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキ
シ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオ
キシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフ
ォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキ
ルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその
共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3
(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
RFour, RFiveAs monovalent non-gold containing hydrogen
Group is used, and a preferable example is a halogen atom.
(-F, -Br, -Cl, -I), a hydroxyl group,
Alkyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercap
G, alkylthio, arylthio, alkyldithio
O group, aryldithio group, amino group, N-alkylamido
Group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N
-Arylamino group, acyloxy group, carbamoylo
Xy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-ali
Carbamoyloxy group, N, N-dialkylcarba
Moyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy
S group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy
Group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group,
Silthio group, acylamino group, N-alkyl acylamido
Group, N-arylacylamino group, ureido group, N '
-Alkyl ureido group, N ', N'-dialkyl urea
Group, N'-arylureido group, N ', N'-diali
Ureido group, N'-alkyl-N'-aryluree
Id group, N-alkyl ureido group, N-aryl ureide
Group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N '
-Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-di
Alkyl-N-alkylureido group, N ', N'-dia
Alkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N
-Alkyl ureido group, N'-aryl-N-aryl
Ureido group, N ', N'-diaryl-N-alkyl
RAID group, N ', N'-diaryl-N-aryluree
Id group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkyl
Luureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-
Arylureido group, alkoxycarbonylamino group,
Aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-
Alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-NA
Reyloxycarbonylamino group, N-aryl-NA
Lucoxycarbonylamino group, N-aryl-N-ali
-Carbonyloxyamino group, formyl group, acyl group,
Carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy
Sicarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarba
Moyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-A
Reel carbamoyl group, N, N-diarylcarbamoy
Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group,
Rukylsulfinyl group, arylsulfinyl group,
Killsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group
(-SOThreeH) and its conjugated base group (hereinafter, sulfonato
Group), alkoxysulfonyl group, aryloxys
Ruphonyl group, sulfinamoyl group, N-alkyl sulf
Inamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl
Group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diali
Sulfinamoyl group, N-alkyl-N-aryl
Sulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkyl
Sulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl
Group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diary
Rusulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsul
Famoyl group, phosphono group (-POThreeHTwo) And both
Role base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl
A phosphono group (-POThree(alkyl) Two), Diarylphosph
Ono group (-POThree(aryl)Two), Alkyl aryl phospho
No group (-POThree(alkyl) (aryl)), monoalkylphospho
No group (-POThreeH (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter, referred to as H (alkyl))
Alkylphosphonato group), monoarylphosphine
Ono group (-POThreeH (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter
Hereinafter referred to as an arylphosphonato group),
Group (-OPOThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as phos
Phonatooxy group), dialkylphosphonooxy
Group (-OPOThree(alkyl)Two), Diarylphosphono
Xy group (-OPOThree(aryl)Two), Alkyl aryl phosph
Onoxy group (-OPOThree(alkyl) (aryl)), monoalkyl
Ruphosphonooxy group (-OPOThreeH (alkyl)) and its
Conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group)
), Monoarylphosphonooxy group (-OPOThreeH
(aryl)) and its conjugated base group (hereinafter arylphospho)
Natoxy group), cyano group, nitro group, aryl
Group, alkenyl group and alkynyl group.

【0069】好ましいアルキル基の具体例としては、炭
素原子数が1から20までの直鎖状、分枝状または環状
の置換基を有していてもよいアルキル基を挙げることが
でき、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、
2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボニル基等を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素数3から12までの分岐状、
ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基
がより好ましい。
Specific examples of preferable alkyl groups include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl,
Dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group,
Examples thereof include a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a 2-norbornyl group. Among these, straight-chain having 1 to 12 carbon atoms, branched having 3 to 12 carbon atoms,
Further, a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferable.

【0070】置換アルキル基が有する置換基の例として
は、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好まし
い例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、
−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−
アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−
アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジア
ルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカル
バモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバ
モイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスル
ホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキ
ルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレ
イド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,
N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−
アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−ア
リールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレ
イド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、
N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、
N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、
N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリ
ール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリー
ル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール
−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−ア
リール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−
N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアル
キルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共
役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシス
ルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモ
イル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジ
アルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナ
モイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N
−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルフ
ァモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−
ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモ
イル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−ア
ルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基
(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナ
ト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alky
l)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、
アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(ary
l))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))
及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と
称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(ary
l))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト
基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及び
その共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称
す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alky
l)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(ary
l) 2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OP
3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基
(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、ア
ルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホ
スフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役
塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称
す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
Examples of the substituent of the substituted alkyl group
Is preferably a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen.
Examples include halogen atoms (-F, -Br, -Cl,
-I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy
Group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group,
Alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-
Alkylamino group, N, N-diarylamino group, N-
Alkyl-N-arylamino group, acyloxy group,
Rubamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy
Group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dia
Alkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcar
Bamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarba
Moyloxy group, alkyl sulfoxy group, aryl sulf
Oxy, acylthio, acylamino, N-alkyl
Luacylamino group, N-arylacylamino group, urea
Id group, N'-alkylureido group, N ', N'-dia
Alkyl ureido group, N'-aryl ureido group, N ',
N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-
Arylureido group, N-alkylureido group, NA
Reelureido group, N'-alkyl-N-alkyluree
An id group, an N'-alkyl-N-arylureido group,
An N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group,
An N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group,
N'-aryl-N-alkylureido group, N'-ali
-N-arylureido group, N ', N'-diary
Ru-N-alkylureido group, N ', N'-diaryl
-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-a
Reel-N-alkylureido group, N'-alkyl-
N'-aryl-N-arylureido group, alkoxy
Carbonylamino group, aryloxycarbonylamino
Group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino
Group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino
Group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino
Group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino
Group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxy
Cicarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamo
Yl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dial
A kill carbamoyl group, an N-aryl carbamoyl group,
N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N
-An arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group,
Arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, ant
Sulfonyl group, sulfo group (—SOThreeH) and both
Role base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxys
Ruphonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamo
Yl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-di
Alkylsulfinamoyl group, N-arylsulfina
Moyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N
-Alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulf
Amoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-
Dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamo
Yl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-A
Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group
(-POThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphona
A dialkylphosphono group (—POThree(alky
l)Two), A diarylphosphono group (—POThree(aryl)Two),
Alkylarylphosphono group (-POThree(alkyl) (ary
l)), monoalkylphosphono group (-POThreeH (alkyl))
And its conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group)
), Monoarylphosphono group (-POThreeH (ary
l)) and its conjugated base group (hereinafter, arylphosphonate)
Group), a phosphonooxy group (-OPOThreeHTwo)as well as
Its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonatoxy group)
), A dialkylphosphonooxy group (-OPOThree(alky
l)Two), Diarylphosphonooxy group (—OPOThree(ary
l) Two), An alkylarylphosphonooxy group (—OP
OThree(alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group
(-OPOThreeH (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter a
Alkylphosphonatooxy group)
Sulfonooxy group (-OPOThreeH (aryl)) and its conjugate
A base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group)
), Cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl
And alkynyl groups.

【0071】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1
−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−
クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、な
らびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることがで
きる。これら置換基の内、更により好ましいものとして
はハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルア
ミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオ
キシ基、N−アリールカバモイルオキシ基、アシルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバ
モイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジア
ルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ
基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルス
ルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N
−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォ
ナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォ
ノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナ
ト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナ
ト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、ア
リール基、アルケニル基が挙げられる。
In these substituents, specific examples of the alkyl group include the aforementioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, and mesityl groups. , Cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, phenoxyphenyl, acetoxyphenyl, benzoyloxyphenyl, methylthiophenyl, phenylthiophenyl A methylaminophenyl group, a dimethylaminophenyl group, an acetylaminophenyl group, a carboxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, an ethoxyphenylcarbonyl group,
Examples thereof include a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1
-Propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-
Examples thereof include a chloro-1-ethenyl group, and examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 1-butynyl group, and a trimethylsilylethynyl group.
Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above-described alkyl and aryl groups. Of these substituents, still more preferred are a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, an N, N- Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group,
N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonato group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-alkyl-N
An arylsulfamoyl group, a phosphono group, a phosphonate group, a dialkylphosphono group, a diarylphosphono group, a monoalkylphosphono group, an alkylphosphonato group, a monoarylphosphono group, an arylphosphonato group, a phosphonooxy group, Examples include a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

【0072】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上
の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を
組み合わせる事により得られる置換アルキル基の、好ま
しい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキ
ソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエ
チル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N
−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メ
チル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォ
ノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニ
ルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2
−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−
ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。
On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include those obtained by removing any one of the above hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms to obtain a divalent organic residue. And preferably a straight-chain alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms and a cyclic alkylene group having 5 to 10 carbon atoms. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent with an alkylene group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, and allyl. Oxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N- Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxy Rubonirubuchiru group, chlorophenoxy carbonyl methyl group, a carbamoylmethyl group, N- methylcarbamoyl ethyl, N, N- dipropylcarbamoylmethyl group, N
-(Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group,
Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N
-Dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α- Methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2
-Methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-
Butynyl group, 3-butynyl group and the like.

【0073】アリール基としては、1個から3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽
和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体
例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、
フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、
フルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。また、ア
リール基には上記炭素環式アリール基の他、複素環式
(ヘテロ)アリール基が含まれる。複素環式アリール基
としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が
縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン
基、カルバゾール基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数
1〜5を含むものが用いられる。
Examples of the aryl group include a group in which one to three benzene rings form a condensed ring, and a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Phenyl group, naphthyl group, anthryl group,
Phenanthryl group, indenyl group, acenaphthenyl group,
Examples thereof include a fluorenyl group and the like, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. The aryl group includes a heterocyclic (hetero) aryl group in addition to the carbocyclic aryl group. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl, benzofuryl, thioxanthone, and carbazole groups each having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms such as a benzene ring condensed. Used.

【0074】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示
したものを挙げることができる。この様な、置換アリー
ル基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフ
ェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェ
ニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキ
シルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカル
バモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル
基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリル
オキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボ
ニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチル
カルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモ
イルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイ
ルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カ
ルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナト
フェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルス
ルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファ
モイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル
基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファ
モイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナ
トフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェ
ニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノ
フェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル
基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メ
チルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル
基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル
基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
As the substituted aryl group, those having a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the aforementioned alkyl groups, substituted alkyl groups,
In addition, there can be mentioned those described above as the substituent in the substituted alkyl group. Preferred specific examples of such a substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, and a trifluoromethylphenyl group. ,
Hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxyphenyl, methylthiophenyl, tolylthiophenyl, ethylaminophenyl, diethylaminophenyl, morpholinophenyl, acetyloxyphenyl, benzoyl Oxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxy Carbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N (Methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N- Dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenyl Phosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpro Nirufeniru group, 2-propynyl phenyl group, 2-butynyl phenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

【0075】好ましい−X−の具体例は、−O−、−S
−、−Se−、−NR3 −、−CO−、−SO−、−S
2 −、−PO−を表す。その中でも、熱反応性の観点
から−CO−、−SO−、−SO2 −が特に好ましい。
好ましいR6 の具体例は、R4およびR5と同じであって
も異なっていてもよく、R4およびR5 具体例から選
ぶことができる。
Preferred examples of -X- include -O- and -S
-, - Se -, - NR 3 -, - CO -, - SO -, - S
O 2 — and —PO— are represented. Among them, -CO from the viewpoint of heat reactive -, - SO -, - SO 2 - is particularly preferred.
Specific examples of preferred R 6, which may be different and the same as R 4 and R 5, R 4 and R 5 You can choose from specific examples.

【0076】Lで表される2価の連結基とは、1個から
60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原
子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個
までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子か
ら成り立つものである。より具体的な連結基としては下
記の構造単位で組合わさって構成されるものを挙げるこ
とができる。
The divalent linking group represented by L includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 100 And up to 20 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the linking group include those constituted by combining the following structural units.

【0077】[0077]

【化5】 Embedded image

【0078】Mはカチオンであれば特に限定されない
が、1〜4価の金属カチオンまたは下記一般式(4)で
示されるアンモニウム塩が好ましい。
M is not particularly limited as long as it is a cation, but is preferably a monovalent to tetravalent metal cation or an ammonium salt represented by the following formula (4).

【0079】[0079]

【化6】 Embedded image

【0080】(R7、R8、R9およびR10はそれぞれ同
じでも異なっていてもよい1価の基を表す。)
(R 7 , R 8 , R 9 and R 10 each represent a monovalent group which may be the same or different.)

【0081】Mで表される1〜4の金属カチオンとして
は、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Fr+、B
2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Ra2+、Cu
+、Cu2 +、Ag+、Zn2+、Al3+、Fe2+、Fe3+
Co2+、Ni2+、Ti4+、Zr4+を挙げることができ
る。より好ましくはLi+、Na+、K+、Rb+、C
+、Fr+、Cu+、Ag+を挙げることができる。
The metal cations of 1-4 represented by M include Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Fr + , B
e 2+ , Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ , Ra 2+ , Cu
+, Cu 2 +, Ag + , Zn 2+, Al 3+, Fe 2+, Fe 3+,
Co 2+ , Ni 2+ , Ti 4+ and Zr 4+ can be mentioned. More preferably, Li + , Na + , K + , Rb + , C
Examples include s + , Fr + , Cu + , and Ag + .

【0082】また、上記一般式(4)で示されるアンモ
ニウムイオンにおいて、R7〜R10で表される基の具体
例としては、前記R4〜R6に示したものと同様の基が挙
げられる。上記一般式(4)で示されるアンモニウムイ
オンの具体例としては以下のものを挙げることができ
る。
In the ammonium ion represented by the general formula (4), specific examples of the groups represented by R 7 to R 10 include the same groups as those represented by R 4 to R 6. Can be Specific examples of the ammonium ion represented by the general formula (4) include the following.

【0083】[0083]

【化7】 Embedded image

【0084】Pで表されるポリマー主鎖は下記一般式に
より表される部分構造群の少なくとも一種により選ばれ
る。
The polymer main chain represented by P is selected from at least one of the partial structure groups represented by the following general formula.

【0085】[0085]

【化8】 Embedded image

【0086】本発明におけるカルボン酸基およびカルボ
ン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの
基を有するポリマーは1種のみの単独重合体であって
も、2種以上の共重合体でもよい。本発明におけるカル
ボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる
少なくともいづれかの基を有するポリマーの合成に用い
られるモノマーとしては、以下の具体例に挙げるものが
好ましい。
The polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group in the present invention may be a homopolymer of only one kind or a copolymer of two or more kinds. As the monomer used in the synthesis of the polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylate group in the present invention, those exemplified in the following specific examples are preferable.

【0087】[0087]

【化9】 Embedded image

【0088】[0088]

【化10】 Embedded image

【0089】[0089]

【化11】 Embedded image

【0090】また、本発明におけるカルボン酸基および
カルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづ
れかの基を有するポリマーは、上記モノマーと他のモノ
マーとの共重合体でもよい。用いられる他のモノマーと
しては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリルエ
ステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビ
ニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イ
ミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノ
マー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水
性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善
することができる。
The polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylate group in the present invention may be a copolymer of the above-mentioned monomer and another monomer. As other monomers used, for example, acrylates, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide and the like Known monomers are also included. By copolymerizing such monomers, various physical properties such as film forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity, and stability can be improved.

【0091】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of acrylic esters include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate, and the like.

【0092】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレ
ート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベン
ジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレ
ート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニル
メタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スル
ファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシ
フェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート等が
挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (Hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0093】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0094】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0095】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy methyl styrene, acetoxy methyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0096】共重合体の合成に使用されるこれらの他の
モノマーの割合は、諸物性の改良に充分な量である必要
があるが、割合が大きすぎる場合には、カルボン酸もし
くはカルボン酸塩を含有するモノマーの機能が不十分と
なる。従って、好ましい他のモノマー総割合は80重量
%以下であることが好ましく、さらに好ましくは50重
量%以下である。
The proportion of these other monomers used in the synthesis of the copolymer must be sufficient to improve various physical properties. The function of the monomer containing is insufficient. Therefore, the preferable total ratio of the other monomers is preferably 80% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less.

【0097】以下、本発明における、熱により脱炭酸を
起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群か
ら選ばれる少なくともいづれかの基を有するポリマーの
具体例を以下に示す。
Hereinafter, specific examples of the polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group which cause decarboxylation by heat in the present invention are shown below.

【0098】[0098]

【化12】 Embedded image

【0099】[0099]

【化13】 Embedded image

【0100】[0100]

【化14】 Embedded image

【0101】[0101]

【化15】 Embedded image

【0102】また、本発明の平版印刷版の画像形成層中
には、印刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商
品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画
像形成材料全固形物中に占める割合は、0.05〜15
重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%で
ある。
In the image forming layer of the lithographic printing plate of the present invention, JP-A-6
Nonionic surfactants as described in JP-A-2-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Surfactants can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solids of the image forming material is 0.05 to 15%.
% By weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0103】更に本発明の平版印刷版の画像形成層中に
は必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤
が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエ
ン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用い
られる。
Further, a plasticizer may be added to the image forming layer of the lithographic printing plate of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0104】本発明の平版印刷版の画像形成層は、通常
上記各成分を溶媒に溶かして、適当な中間層上に塗布す
ることにより製造することができる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチル
アセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、
トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定され
るものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して
使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また
塗布、乾燥後に得られる中間層上の塗布量(固形分)
は、一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布する
方法としては、種々の方法を用いることができるが、例
えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カ
ーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレー
ド塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
The image-forming layer of the lithographic printing plate of the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and coating the resulting solution on a suitable intermediate layer. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether,
1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate,
Dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-
Dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone,
Examples include toluene and water, but are not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. Coating amount (solid content) on the intermediate layer obtained after coating and drying
Is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0105】本発明の平版印刷版の画像形成層中には、
塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62
−170950号公報に記載されているようなフッ素系
界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量
は、平版印刷版原版の画像記録層全固形分に対し、0.
01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜0.5重量
%である。
In the image forming layer of the lithographic printing plate of the present invention,
Surfactants for improving coatability, for example,
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-170950 can be added. A preferable addition amount is 0.1 to the total solid content of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor.
The content is preferably from 01 to 1% by weight, more preferably from 0.05 to 0.5% by weight.

【0106】〔光熱変換剤〕本発明の平版印刷版原版
を、レーザー露光により画像形成する場合には、その親
水性断熱層または親水性架橋断熱層、画像形成層および
これらの層間の少なくともいずれかに光熱変換剤を含有
させる。光熱変換剤としては、紫外線、可視光線、赤外
線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質なら
ば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、カーボン
グラファイト、顔料、フタロシアニン系顔料、金属粉、
金属化合物粉等が挙げられる。特に、好ましいのは、波
長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収す
る染料、顔料、または金属粉、金属化合物粉である。
[Light-to-heat converting agent] When the lithographic printing plate precursor of the present invention is used to form an image by laser exposure, at least one of the hydrophilic heat-insulating layer or the hydrophilic cross-linking heat-insulating layer, the image-forming layer and the interlayers A light-to-heat conversion agent. As the photothermal conversion agent, any substance that can convert light into heat by absorbing light such as ultraviolet light, visible light, infrared light, and white light can be used.Examples include carbon black, carbon graphite, pigments, phthalocyanine pigments, and metal powders. ,
Metal compound powder and the like can be mentioned. Particularly preferred are dyes, pigments, metal powders, and metal compound powders that effectively absorb infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0107】染料としては、市販の染料及び文献(例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and metal thiolate complexes.

【0108】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0109】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換アリールベンゾ
(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. And JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169).
Nos. 8-220143, 59-41363 and 59-
No. 84248, No. 59-84249, No. 59-146
Nos. 063 and 59-146061; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475; Fairness 5-135
Nos. 14 and 5-19702 are also preferably used.

【0110】また、好ましい別の染料の例として、米国
特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(I
I)として記載されている近赤外吸収染料を挙げること
ができる。これらの染料のうち特に好ましいものとして
は、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
Examples of other preferred dyes include those represented by formulas (I) and (I) described in US Pat. No. 4,756,993.
Mention may be made of near-infrared absorbing dyes described under I). Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0111】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0112】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印
刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載
されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). I have.

【0113】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、0.1μm〜1μmの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the recording layer, and if it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of the uniformity of the recording layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Examples include a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).

【0114】次に、金属粉体または金属化合物粉体につ
いて説明する。金属化合物とは、具体的には、金属、金
属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属炭化物等の化
合物である。金属としては、Mg、Al、Si、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、G
a、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Pd、
Ag、Cd、In、Sn、Sb、Hf、Ta、W、R
e、Os、Ir、Pt、Au、Pb等が含まれる。この
中でも、熱エネルギーにより、酸化反応等の発熱反応を
とくに容易に起こすものが好ましく、具体的には、A
l、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、
Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、In、Sn、Wが
好ましい。また、輻射線の吸収効率が高く、自己発熱反
応熱エネルギーの大きいものとして、Fe、Co、N
i、Cr、Ti、Zrが好ましい。
Next, the metal powder or the metal compound powder will be described. Specifically, the metal compound is a compound such as a metal, a metal oxide, a metal nitride, a metal sulfide, and a metal carbide. As the metal, Mg, Al, Si, Ti,
V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, G
a, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Pd,
Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hf, Ta, W, R
e, Os, Ir, Pt, Au, Pb and the like. Among them, those which particularly easily cause an exothermic reaction such as an oxidation reaction by thermal energy are preferable.
1, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni,
Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, In, Sn, and W are preferable. In addition, Fe, Co, N have high absorption efficiency of radiation and large heat energy of self-heating reaction.
i, Cr, Ti, and Zr are preferred.

【0115】また、これらの金属単体のみでなく、2成
分以上で構成されていてもよく、また、金属と金属酸化
物、窒化物、硫化物、炭化物等で構成されていてもよ
い。金属単体の方が酸化等の自己発熱反応熱エネルギー
は大きいが、空気中での取り扱いが煩雑で、空気に触れ
ると自然発火する危険がある。そのため、表面から数n
mの厚みは酸化物、窒化物、硫化物、炭化物等で覆われ
ている方が好ましい。さらに、これらは、粒子でも蒸着
膜のような薄膜でもよいが、有機物と併用する際は粒子
のほうが好ましい。粒子の粒径は、10μm以下、好ま
しくは、0.005〜5μm、さらに好ましくは、0.
01〜3μmである。0.01μm以下では、粒子の分
散が難しく、10μm以上では、印刷物の解像度が悪く
なる。
[0115] In addition to these metals alone, they may be composed of two or more components, or may be composed of metals and metal oxides, nitrides, sulfides, carbides and the like. The metal itself has a higher self-heating reaction heat energy such as oxidation, but its handling in the air is complicated, and there is a risk of spontaneous ignition when it comes into contact with the air. Therefore, several n from the surface
The thickness of m is preferably covered with an oxide, nitride, sulfide, carbide or the like. Further, these may be particles or a thin film such as a vapor-deposited film, but when used in combination with an organic substance, particles are preferable. The size of the particles is 10 μm or less, preferably 0.005 to 5 μm, more preferably 0.1 μm.
01 to 3 μm. If it is less than 0.01 μm, it is difficult to disperse the particles, and if it is more than 10 μm, the resolution of the printed matter deteriorates.

【0116】本発明の上記した金属微粉体の中でも、鉄
粉体が好ましい。鉄粉体のいずれも好ましいが、その中
でもα−Feを主成分とする鉄合金粉末が好ましい。こ
れらの粉末には所定の原子以外にAl、Si、S、S
c、Ca、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、P
d、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、Re、
Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、
P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、Bなどの原子を含
んでもかまわない。特にAl、Si、Ca、Y、Ba、
La、Nd、Co、Ni、Bの少なくとも1つをα−F
e以外に含むことが好ましく、Co、Y、Alの少なく
とも一つを含むことがさらに好ましい。Coの含有量は
Feに対して0原子%以上40原子%以下が好ましく、
さらに好ましくは15原子%以上35%以下、より好ま
しくは20原子%以上35原子以下である。Yの含有量
は1.5原子%以上12原子%以下が好ましく、さらに
好ましくは3原子%以上10原子%以下、より好ましく
は4原子%以上9原子%以下である。Alは1.5原子
%以上12原子%以下が好ましく、さらに好ましくは3
原子%以上10原子%以下、より好ましくは4原子%以
上9原子%以下である。鉄合金微粉末には少量の水酸化
物、または酸化物が含まれてもよい。具体的には、特公
昭44−14090号、特公昭45−18372号、特
公昭47−22062号、特公昭47−22513号、
特公昭46−28466号、特公昭46−38755
号、特公昭47−4286号、特公昭47−12422
号、特公昭47−17284号、特公昭47−1850
9号、特公昭47−18573号、特公昭39−103
07号、特公昭46−39639号、米国特許第302
6215号、同3031341号、同3100194
号、同3242005号、同3389014号などに記
載されている。
Among the above-mentioned metal fine powders of the present invention, iron powder is preferred. Any of iron powders is preferable, and among them, an iron alloy powder containing α-Fe as a main component is preferable. These powders contain Al, Si, S, S
c, Ca, Ti, V, Cr, Cu, Y, Mo, Rh, P
d, Ag, Sn, Sb, Te, Ba, Ta, W, Re,
Au, Hg, Pb, Bi, La, Ce, Pr, Nd,
It may contain atoms such as P, Co, Mn, Zn, Ni, Sr, and B. In particular, Al, Si, Ca, Y, Ba,
At least one of La, Nd, Co, Ni, and B is α-F
It is preferable to contain other than e, and it is more preferable to contain at least one of Co, Y, and Al. The content of Co is preferably from 0 atomic% to 40 atomic% with respect to Fe,
More preferably, it is 15 atomic% or more and 35% or less, and more preferably 20 atomic% or more and 35 atoms or less. The content of Y is preferably from 1.5 to 12 at%, more preferably from 3 to 10 at%, and still more preferably from 4 to 9 at%. Al is preferably 1.5 atomic% or more and 12 atomic% or less, and more preferably 3 atomic% or less.
It is at least 10 at% and more preferably at least 4 at% and at most 9 at%. The iron alloy fine powder may contain a small amount of hydroxide or oxide. Specifically, JP-B-44-14090, JP-B-45-18372, JP-B-47-22062, JP-B-47-22513,
JP-B-46-28466, JP-B-46-38755
No., JP-B-47-4286, JP-B-47-12422
No., JP-B-47-17284, JP-B-47-1850
No. 9, JP-B-47-18573, JP-B-39-103
07, Japanese Patent Publication No. 46-39639, U.S. Pat.
No. 6215, No. 3031341, No. 3100194
Nos. 3,242,005 and 3,389,014.

【0117】これらの光熱変換材料は、含有させる層の
全固形分の0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重
量%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%の
割合で使用することができる。顔料又は染料の添加量が
0.01重量%未満であると感度が低くなり、また50
重量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。上
記の光熱変換材料を使用するときの含有させる層材料の
濃度は、露光波長での光学濃度(OD)において、少な
くとも0.3、好ましくは0.5、より好ましくは1.
0以上なければならない。ただしこのときのODは、含
有させる層材料組成物を透明支持体に塗布し透過で測定
したときの値とする。
These light-to-heat conversion materials are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solids of the layer to be contained.
It can be used in an amount of 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight for dyes, and particularly preferably 3.1 to 10% by weight for pigments. If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity becomes low,
If the amount exceeds the weight percentage, stains occur in the non-image area during printing. When the light-to-heat conversion material is used, the concentration of the layer material to be contained is at least 0.3, preferably 0.5, more preferably 1.1, in terms of the optical density (OD) at the exposure wavelength.
Must be 0 or greater. However, the OD at this time is a value when the layer material composition to be contained is applied to a transparent support and measured by transmission.

【0118】〔支持体〕本発明において使用される平版
印刷版用原版の支持体は、その支持体上に設ける中間層
として、親水性高分子化合物とを含有する親水性断熱層
が形成される場合は、下記の具体例中その表面が親水性
のものであれば、特に限定されない。支持体上に設ける
中間層として、架橋構造を有する親水性高分子化合物を
含有する親水性架橋断熱層が形成される場合には、支持
体の表面性は特に限定されない。
[Support] In the support of the lithographic printing plate precursor used in the invention, a hydrophilic heat insulating layer containing a hydrophilic polymer compound is formed as an intermediate layer provided on the support. The case is not particularly limited as long as its surface is hydrophilic in the following specific examples. When a hydrophilic crosslinked heat-insulating layer containing a hydrophilic polymer compound having a crosslinked structure is formed as an intermediate layer provided on the support, the surface properties of the support are not particularly limited.

【0119】平版印刷版用原版の支持体としては、上記
の配慮が必要であるが、寸法的に安定な板状物であれば
特に限定されないが、例えば、紙、プラスチック(例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)
がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミ
ネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィ
ルム等が含まれる。
The support of the lithographic printing plate precursor requires the above considerations, but is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate. For example, paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene) , Polystyrene, etc.)
Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene) , Polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited.

【0120】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is as follows. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0121】上記の支持体において、金属、特にアルミ
ニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処
理、ケイ酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リ
ン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされていることが好ましい。また、
米国特許第2,714,066号明細書に記載されてい
るように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3,181,
461号明細書に記載されているようにアルミニウム板
を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極
酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸
等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有
機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は
二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽
極として電流を流すことにより実施される。
In the above-mentioned support, in the case of a support having a metal surface, particularly an aluminum surface, a graining treatment, a dipping treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or It is preferable that a surface treatment such as an anodic oxidation treatment has been performed. Also,
As described in U.S. Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate grained and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate is disclosed in U.S. Pat.
As described in Japanese Patent No. 461, an aluminum plate which has been subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The anodic oxidation treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or oxalic acid, an organic acid such as sulfamic acid, or an aqueous or non-aqueous solution of a salt thereof alone or in combination of two or more. This is carried out by flowing a current in an electrolytic solution using an aluminum plate as an anode.

【0122】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54−31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法のうち、特に特
開昭55−137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
が、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μm
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗および化学的にエッチングされる。
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, and a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and the chemical method is disclosed in JP-A-54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the official gazette is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof is used. Is preferred. Among such surface-roughening methods, a surface-roughening method combining mechanical surface-roughening and electrochemical surface-roughening as described in JP-A-55-137993 is particularly preferred. Is preferred because of its strong adhesion to the support. The graining by the method as described above is such that the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
It is preferable that the application is performed in such a range as follows. The aluminum plate thus grained is washed with water and chemically etched as required.

【0123】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これらの
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1
分あたり0.3g/m2から40g/m2になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
The etching solution is usually selected from aqueous solutions of bases or acids that dissolve aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etchant component must not be formed on the etched surface. Preferred examples of the etching agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, and dipotassium phosphate as basic substances; and sulfuric acid and persulfuric acid as acidic substances. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof. Metals having a lower ionization tendency than aluminum, such as salts of zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, are not preferable because they form unnecessary films on the etched surface. In these etching agents, the dissolution rate of the aluminum or alloy to be used is set at a immersion time of 1 at the setting of the use concentration and temperature.
Most preferably from minute per 0.3 g / m 2 from being carried out so as to become 40 g / m 2, but no problem even well below or above this.

【0124】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水
素酸等が用いられる。これらのエッチング剤は、使用濃
度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるい
は合金の溶解速度が浸漬時間1分あたり0.3g/m2
ら40g/m2になる様に行なわれるのが最も好ましい
が、これを上回るあるいは下回るものであっても差支え
ない。
The etching is carried out by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution or by applying the etching solution to the aluminum plate.
The treatment is preferably performed so as to be in the range of 10 to 10 g / m 2 . As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmutting process is performed. The acid used for desmut treatment is
Nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borofluoric acid and the like are used. These etchants, use concentration, in the setting of temperature, most preferably the rate of dissolution of aluminum or alloy used is performed as consisting of immersion time 1 minute per 0.3 g / m 2 to 40 g / m 2 It may be higher or lower than this.

【0125】エッチング処理されたアルミニウム板は、
必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この
分野で従来より行なわれている方法で行なうことができ
る。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、
スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれら
の二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアル
ミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウ
ム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができ
る。
The etched aluminum plate is
Washed and anodized as needed. The anodic oxidation can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid,
An anodic oxide film can be formed on the surface of an aluminum support by applying a direct current or an alternating current to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution of sulfamic acid, benzenesulfonic acid, or a combination of two or more of these.

【0126】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第3,511,
661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。
The anodizing treatment conditions cannot be generally determined because they vary depending on the electrolytic solution to be used.
° C, current density 0.5-60 amps / dm 2 , voltage 1-10
0V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are appropriate. Among these anodizing treatments, in particular, British Patent No. 1,4
Anodizing at high current density in sulfuric acid as described in U.S. Pat.
The method of anodizing phosphoric acid as an electrolytic bath described in US Pat. No. 661 is preferable.

【0127】本発明においては、上記の金属、特にアル
ミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処
理、ケイ酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リ
ン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされた後、必要に応じ、支持体の表
面を親水化処理を行う。支持体の表面の親水化処理とし
ては、特に限定されないが、後記のシリケート処理、ポ
リビニルホスホン酸処理、ゾルゲル処理、タモール処理
等が挙げられる。
In the present invention, in the case of a support having a surface of the above-mentioned metal, particularly aluminum, graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, Alternatively, after a surface treatment such as an anodizing treatment is performed, the surface of the support is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilizing treatment of the surface of the support is not particularly limited, and examples thereof include a silicate treatment, a polyvinylphosphonic acid treatment, a sol-gel treatment, and a tamol treatment described below.

【0128】以下、シリケート処理について説明する。
シリケート処理とは、支持体の表面を、アルカリ金属ケ
イ酸塩の水溶液を用いて親水化処理するものである。こ
のアルカリ金属ケイ酸塩による親水化処理は、従来より
知られている種々の方法を採用し得るが、アルカリ金属
ケイ酸塩のアルミニウム支持体表面上への付着量がSi
原子の量として0.1〜8mg/m2 、好ましくは0.
5〜6mg/m2 、さらに好ましくは0.5〜4mg/
2 とする必要がある。該付着量がSi原子の量として
0.1mg/m2 未満の場合は、汚れ性能が劣り、所期
の目的が達せられない。また、現像液中にアルカリ金属
ケイ酸塩を含まない現像液を用いた場合には、現像時の
非画像部の白色化や現像時のカス、ヘドロの発生を防止
できない。また、該付着量がSi原子の量として8mg
/m2 を越える場合は、耐刷性能が劣り、所期の目的が
達せられない。
Hereinafter, the silicate processing will be described.
In the silicate treatment, the surface of the support is subjected to a hydrophilic treatment using an aqueous solution of an alkali metal silicate. For the hydrophilization treatment with the alkali metal silicate, various conventionally known methods can be adopted, but the amount of the alkali metal silicate deposited on the aluminum support surface is reduced to Si.
The amount of atoms is 0.1 to 8 mg / m 2 , preferably 0.1 to 8 mg / m 2 .
5-6 mg / m 2 , more preferably 0.5-4 mg / m 2
m 2 . If the attached amount is less than 0.1 mg / m 2 in terms of the amount of Si atoms, the contamination performance is poor and the intended purpose cannot be achieved. Further, when a developer containing no alkali metal silicate is used in the developer, it is not possible to prevent whitening of a non-image portion during development and generation of scum and sludge during development. Further, the amount of adhesion is 8 mg
If it exceeds / m 2 , the printing durability is poor and the intended purpose cannot be achieved.

【0129】本発明において、上記のアルカリ金属ケイ
酸塩の支持体表面上への付着量は、蛍光X線分析装置
(XRF;X−ray Fluorescence S
pectrometer)を用いて、検量線法によりS
i原子の量(Simg/m2 )として測定される。検量
線を作成するための標準試料は、既知量のSi原子を含
むケイ酸ナトリウム水溶液を、支持体の上の30mmφ
の面積内に均一に滴下後、乾燥させたものが用いられ
る。蛍光X線分析装置の機種としては特に限定はない
が、後記実施例では、理学電機工業(株)製RIX30
00を用い、下記条件にてSi−Kαスペクトルのピー
ク高さよりSi原子の量を測定した。
In the present invention, the amount of the alkali metal silicate adhering to the surface of the support is determined by an X-ray fluorescence spectrometer (XRF; X-ray Fluorescence Science S).
spectrometer) and S
It is measured as the amount of i atoms (Simg / m 2 ). A standard sample for preparing a calibration curve was prepared by applying a sodium silicate aqueous solution containing a known amount of Si atoms to a 30 mmφ on a support.
After uniformly dripping in the area of, dried. Although there is no particular limitation on the model of the X-ray fluorescence spectrometer, RIX30 manufactured by Rigaku Denki Kogyo
Using the sample No. 00, the amount of Si atoms was measured from the peak height of the Si-Kα spectrum under the following conditions.

【0130】 装置 :理学電機工業(株)製RIX3000 X線管球 :Rh 測定スペクトル :Si−Kα 管電圧 :50kV 管電流 :50mA スリット :COARSE 分光結晶 :RX4 検出器 :F−PC 分析面積 :30mmφ ピーク位置(2θ) :144.75deg. バックグランド(2θ):140.70deg.,146.85deg. 積算時間 :80秒/sampleApparatus: RIX3000 manufactured by Rigaku Denki Kogyo KK X-ray tube: Rh Measurement spectrum: Si-Kα Tube voltage: 50 kV Tube current: 50 mA Slit: COARSE Spectral crystal: RX4 Detector: F-PC Analysis area: 30 mmφ Peak position (2θ): 144.75 deg. Background (2θ): 140.70 deg. , 146.85 deg. Integration time: 80 seconds / sample

【0131】この親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩
が0.001〜30重量%、好ましくは0.01〜10
重量%、特に好ましくは0.1〜5重量%で、25℃で
のpHが10〜13であるアルカリ金属ケイ酸塩水溶液
に、後述の陽極酸化処理された支持体を4〜40℃で
0.5〜120秒間、好ましくは2〜30秒間浸漬する
方法により、Si原子の付着量が上記特定量となるよう
アルカリ金属ケイ酸塩濃度、処理温度、処理時間等の処
理条件を適宜選択して、好ましく行うことができる。こ
の親水化処理を行うに当たり、アルカリ金属ケイ酸塩水
溶液のpHが10より低いと液はゲル化し、13.0よ
り高いと陽極酸化皮膜が溶解されてしまうので、この点
注意を要する。
In this hydrophilization treatment, the alkali metal silicate contains 0.001 to 30% by weight, preferably 0.01 to 10% by weight.
Wt.%, Particularly preferably 0.1 to 5 wt%, of an alkali metal silicate aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. By immersing for 0.5 to 120 seconds, preferably for 2 to 30 seconds, processing conditions such as alkali metal silicate concentration, processing temperature, and processing time are appropriately selected so that the attached amount of Si atoms becomes the above specific amount. It can be preferably performed. In performing this hydrophilization treatment, if the pH of the aqueous solution of the alkali metal silicate is lower than 10, the solution gels, and if the pH is higher than 13.0, the anodic oxide film is dissolved.

【0132】本発明の親水化処理に用いられるアルカリ
金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリ
ウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。本発明の親水
化処理においては、必要に応じ、アルカリ金属ケイ酸塩
水溶液のpHを高く調整するために水酸化物を配合する
ことができ、その水酸化物としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。ま
た、必要に応じ、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液にアルカ
リ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよ
い。このアルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウ
ム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリ
ウムのような硝酸塩や、これらのアルカリ土類金属の硫
酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸
塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩とし
ては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリ
ウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化
チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、
オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙
げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは第IVB
族金属塩は単独または2以上組み合わせて使用すること
ができる。これらの金属塩の好ましい使用量範囲は0.
01〜10重量%であり、さらに好ましい範囲は0.0
5〜5.0重量%である。
As the alkali metal silicate used in the hydrophilization treatment of the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. In the hydrophilization treatment of the present invention, if necessary, a hydroxide can be blended to adjust the pH of the aqueous solution of the alkali metal silicate to a high value. As the hydroxide, sodium hydroxide,
Potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like can be mentioned. If necessary, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the aqueous alkali metal silicate solution. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates, and the like of these alkaline earth metals. And water-soluble salts such as borate. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide,
Zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like can be mentioned. Alkaline earth metal salt or IVB
Group metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred use amount range of these metal salts is 0.1.
01 to 10% by weight, and a more preferred range is 0.0
5 to 5.0% by weight.

【0133】本発明においては、上記親水化処理された
支持体を、必要に応じ、酸性水溶液で処理することがで
きる。この酸性水溶液としては、硫酸、硝酸、塩酸、シ
ュウ酸、リン酸などの水溶液が挙げられる。また、この
酸性水溶液処理は、親水化処理された支持体を、上記の
ような酸の濃度0.001〜10重量%、好ましくは
0.01〜1重量%の水溶液に、温度15〜70℃、好
ましくは25〜50℃で、0.5〜120秒間、好まし
くは2〜30秒間程浸漬することにより行うのが適当で
ある。この酸性水溶液処理により、親水化処理により支
持体に付着したアルカリ金属ケイ酸塩の量を減少させる
よう調整することができる。
In the present invention, the support subjected to the hydrophilization treatment can be treated with an acidic aqueous solution, if necessary. Examples of the acidic aqueous solution include aqueous solutions of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, phosphoric acid, and the like. In addition, the acidic aqueous solution treatment converts the support subjected to the hydrophilization treatment to an aqueous solution having an acid concentration of 0.001 to 10% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight, at a temperature of 15 to 70 ° C. The immersion is preferably performed at 25 to 50 ° C. for 0.5 to 120 seconds, preferably for 2 to 30 seconds. By this acidic aqueous solution treatment, adjustment can be made to reduce the amount of the alkali metal silicate attached to the support by the hydrophilic treatment.

【0134】次に、ポリビニルホスホン酸処理について
説明する。ポリビニルホスホン酸処理とは、支持体の表
面を、ポリビニルホスホン酸水溶液で親水化処理するも
のである。ポリビニルホスホン酸水溶液処理に使用され
る水溶液としては、濃度が0.01から10重量%、望
ましくは0.1から5重量%、更に望ましくは0.2か
ら2.5重量%、温度が10℃から70℃で望ましくは
30℃から60℃であり、この水溶液に0.5秒から4
0秒、より望ましくは1秒から20秒浸漬することによ
り行うのが適当である。
Next, the polyvinyl phosphonic acid treatment will be described. The polyvinyl phosphonic acid treatment is a treatment in which the surface of the support is hydrophilized with an aqueous solution of polyvinyl phosphonic acid. The aqueous solution used for the polyvinyl phosphonic acid aqueous solution treatment has a concentration of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.2 to 2.5% by weight, and a temperature of 10 ° C. To 70 ° C., preferably 30 to 60 ° C., and 0.5 seconds to 4
It is appropriate to carry out by immersion for 0 second, more preferably for 1 to 20 seconds.

【0135】ポリビニルホスホン酸水溶液の濃度が0.
01重量%より低くなると後述の陽極酸化皮膜へのポリ
ビニルホスホン酸の吸着量が少なくなり十分な耐刷力を
得られず、一方、濃度が10重量%より高くなるとポリ
ビニルホスホン酸の吸着量が多くなりすぎて払い汚れが
劣化してしまう。また、処理温度が10℃より低くなる
と陽極酸化皮膜へのポリビニルホスホン酸の吸着量が少
なくなり十分な耐刷力が得られず、一方、70℃より高
くなるとポリビニルホスホン酸の吸着量が多くなりすぎ
て払い汚れが劣化してしまう。更に、浸漬時間が0.5
秒よりも短くなると陽極酸化皮膜へのポリビニルホスホ
ン酸の吸着量が少なくなり十分な耐刷力を得られず、一
方、40秒より長くなるとポリビニルホスホン酸の吸着
量が多くなりすぎて払い汚れが劣化してしまう。またポ
リビニルホスホン酸水溶液のpHは1.5以下が好まし
い。
When the concentration of the aqueous solution of polyvinyl phosphonic acid is 0.
When the concentration is less than 01% by weight, the amount of polyvinylphosphonic acid adsorbed to the anodic oxide film described later decreases, and sufficient printing durability cannot be obtained. On the other hand, when the concentration is higher than 10% by weight, the amount of adsorption of polyvinylphosphonic acid increases. It becomes too much, and the payment stain deteriorates. On the other hand, if the treatment temperature is lower than 10 ° C., the amount of polyvinyl phosphonic acid adsorbed on the anodic oxide film decreases, and sufficient printing durability cannot be obtained. It is too much and the dirt on payment deteriorates. Furthermore, the immersion time is 0.5
If the time is shorter than 2 seconds, the amount of adsorption of polyvinylphosphonic acid to the anodic oxide film decreases, and sufficient printing durability cannot be obtained. Will deteriorate. The pH of the aqueous polyvinyl phosphonic acid solution is preferably 1.5 or less.

【0136】次に、ゾルゲル処理について説明する。ゾ
ルゲル処理とは、特開平9−269593号に記載のゾ
ル液もしくは液状組成物を支持体の表面に塗布後、風乾
ないし加熱乾燥させる処理である。この結果、金属−酸
素−金属結合からなる無機高分子がゲル化すると同時に
支持体表面と共有結合する。乾燥は溶媒、残留水及び場
合により触媒を揮散させるために行なうものであるが、
処理後の支持体の使用目的によっては工程を省くことも
できる。この方法に従う液状組成物中の無機高分子部分
と被処理金属表面との間の密着性を高めるため、積極的
に温度をかけることもできる。この場合の乾燥工程は、
溶媒、水等の揮散後も継続して実施し得る。乾燥及び場
合により継続されるその後の加熱における最高温度は金
属表面に植え付けられた官能基が分解しない範囲にある
ことが好ましい。従って、使用できる乾燥温度条件は室
温〜200℃、好ましくは室温〜150℃、更に好まし
くは室温〜120℃である。乾燥時間は一般に30秒〜
30分間、好ましくは45秒〜10分間、更に好ましく
は1分〜3分間である。本発明において用いられる液状
組成物(有機シリコーン化合物もしくはその溶液又はゾ
ル液)の施工方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジ
ング、スピンコーティング、ドクターブレード塗布等、
各種のものも使用することができ、支持体表面の形状や
必要とする処理膜厚等を勘案して決められる。支持体が
金属板である場合、その金属表面を処理する時は、油状
物などが付着していない清浄な面であることが好ましい
が、油状物などの付着により著しく汚染されている場合
を除き、そのままの状態で用いることができる。必要に
応じて、機械的に凹凸をつけたものや、電解析出、電解
エッチング等によって金属表面を粗面化してもよい。ま
た、金属表面に自然酸化皮膜の生成したもの、又は陽極
酸化、接触酸化等によって積極的に表面を酸化させたも
のも好適に使用し得る。地金金属とは別種の酸化物皮膜
を溶射、塗布、CVD法等によって表面に設けたものも
勿論使用し得る。
Next, the sol-gel treatment will be described. The sol-gel treatment is a treatment in which a sol solution or a liquid composition described in JP-A-9-269593 is applied to the surface of a support and then air-dried or heat-dried. As a result, the inorganic polymer comprising the metal-oxygen-metal bond is gelled and simultaneously covalently bonds with the support surface. Drying is performed to evaporate the solvent, residual water and optionally the catalyst,
The step can be omitted depending on the purpose of use of the treated support. In order to increase the adhesion between the inorganic polymer portion in the liquid composition according to this method and the surface of the metal to be treated, a temperature can be positively applied. The drying step in this case is
It can be continuously carried out even after evaporation of the solvent, water and the like. The maximum temperature during drying and, optionally, subsequent heating is preferably in such a range that the functional groups implanted on the metal surface do not decompose. Accordingly, the drying temperature conditions that can be used are room temperature to 200 ° C, preferably room temperature to 150 ° C, and more preferably room temperature to 120 ° C. Drying time is generally 30 seconds to
It is 30 minutes, preferably 45 seconds to 10 minutes, more preferably 1 minute to 3 minutes. The application method of the liquid composition (organic silicone compound or its solution or sol solution) used in the present invention includes brush coating, dip coating, atomizing, spin coating, doctor blade coating, and the like.
Various types can also be used, and are determined in consideration of the shape of the support surface, the required thickness of the processed film, and the like. When the support is a metal plate, when treating the metal surface, it is preferable that the surface is a clean surface free of oils and the like, except when it is significantly contaminated by oils and the like. Can be used as is. If necessary, the metal surface may be roughened by mechanically roughening or electrolytic deposition, electrolytic etching, or the like. In addition, those in which a natural oxide film is formed on the metal surface or those whose surface is positively oxidized by anodic oxidation, contact oxidation or the like can be suitably used. Of course, an oxide film different from the base metal may be provided on the surface by thermal spraying, coating, CVD, or the like.

【0137】また、支持体の裏面には、必要に応じてバ
ックコートが設けられる。かかるバックコートとしては
特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物お
よび特開平6−35174号公報記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Si(OCH3)4 、Si(OC25)4 、S
i(OC37) 4 、Si(OC49)4 などのケイ素のアル
コキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金
属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好ましい。
[0137] If necessary, a back may be provided on the back of the support.
A light coat is provided. As such a back coat
Organic polymer compounds described in JP-A-5-45885 and
Or inorganic or organic compounds described in JP-A-6-35174
Metals obtained by hydrolysis and polycondensation of metal compounds
An oxide coating layer is preferably used. these
Among the coating layers, Si (OCHThree)Four , Si (OCTwo HFive)Four , S
i (OCThree H7) Four , Si (OCFour H9)Four Such as silicon al
Koxy compounds are inexpensive and readily available, and gold obtained from them
A coating layer of a metal oxide is particularly preferable because of its excellent hydrophilicity.

【0138】以上のようにして、本発明の平版印刷版用
原版を作成することができる。この平版印刷版用原版
は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射す
る固体レーザー及び半導体レーザーにより像様に露光さ
れるか、またはサーマル(感熱ヘッド等により像様に加
熱され、画像が形成される。なお、断熱層(中間層)が
架橋されていない親水性断熱層の場合、画像部も下層の
親水性断熱層が湿し水等に溶解し、画像強度および密着
性が低下する問題がある。しかしレーザー照射により、
画像形成層中の、例えば、カルボン酸を発生するポリマ
ーが脱炭酸した後に中間体としてラジカルが発生し、こ
れが下層の親水性断熱層の親水性ポリマーと反応して溶
解しないようにすることができ、画像強度および密着性
を向上することができる。
As described above, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be prepared. The lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm, or is thermally (imagewise heated by a thermal head or the like) to form an image. In the case where the heat insulating layer (intermediate layer) is a non-crosslinked hydrophilic heat insulating layer, the lower part of the hydrophilic heat insulating layer also dissolves in dampening water and the like in the image area, and the image strength and adhesion are reduced. However, by laser irradiation,
In the image forming layer, for example, radicals are generated as intermediates after the carboxylic acid-generating polymer is decarboxylated, and this can react with the hydrophilic polymer of the underlying hydrophilic heat-insulating layer to prevent dissolution. , Image strength and adhesion can be improved.

【0139】本発明においては、溶解処理を行う必要が
なく、レーザー照後すぐに印刷機に印刷版を装着し印刷
を行うことが可能となり、レーザー照射工程と印刷工程
の間に加熱処理を行うことが不要となった。このような
処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等
にかけら、多数枚の印刷に用いられる。なお、本発明の
平版印刷版用原版を感熱ヘッド等により感熱記録する場
合には、前述した赤外線吸収剤を画像形成層中に含有し
ていなくても良い。この場合に用いられる感熱ヘッドと
しては特に限定されないが、ワードプロセッサーの様な
簡単でコンパクトな感熱プリンタあるいは感熱ファクシ
ミリ等が挙げられる。
In the present invention, it is not necessary to perform a dissolution treatment, and it becomes possible to mount a printing plate on a printing machine immediately after laser irradiation and perform printing, and perform a heat treatment between the laser irradiation step and the printing step. It became unnecessary. The planographic printing plate obtained by such a process is used for printing a large number of sheets by using an offset printing machine or the like. When the lithographic printing plate precursor of the invention is subjected to thermal recording using a thermal head or the like, the above-mentioned infrared absorbing agent may not be contained in the image forming layer. The thermal head used in this case is not particularly limited, but may be a simple and compact thermal printer such as a word processor or a thermal facsimile.

【0140】[0140]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 合成例1[親水性高分子化合物(P−1)の合成] 酢酸ビニル60gとアクリル酸メチル40gに重合開始
剤としてベンゾイルパーオキシド0.5gを加えたもの
を、分散安定剤として部分ケン化ポリビニルアルコール
3gとNaCl10gを含む水300ml中に分散させ
た。分散液を65℃において6時間攪拌し、懸濁重合を
行った。得られた共重合体のアクリル酸メチル成分はN
MRスペクトルから同定した結果48モル%であった。
また、30℃におけるベンゼン溶液中での極限粘度は
2.10であった。次に該共重合体8.6gを200g
のメタノールと10gの水及び5NのNaOH40ml
からなるケン化反応液中に添加し攪拌懸濁させ、25℃
において1時間ケン化反応を行った後、温度を65℃に
昇温し、さらに5時間ケン化反応を行った。得られたケ
ン化反応物はメタノールで十分洗浄し、凍結乾燥した。
ケン化度は98.3モル%であり、赤外吸収スペクトル
の測定の結果、1570cm-1に−COO−基に帰属さ
れる強い吸収が確認された。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Synthesis Example 1 [Synthesis of hydrophilic polymer compound (P-1)] A mixture of 60 g of vinyl acetate and 40 g of methyl acrylate and 0.5 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator, and partially saponified polyvinyl as a dispersion stabilizer It was dispersed in 300 ml of water containing 3 g of alcohol and 10 g of NaCl. The dispersion was stirred at 65 ° C. for 6 hours to perform suspension polymerization. The methyl acrylate component of the obtained copolymer is N
The result of identification from the MR spectrum was 48 mol%.
The intrinsic viscosity in a benzene solution at 30 ° C. was 2.10. Next, 8.6 g of the copolymer was added to 200 g.
Methanol and 10 g of water and 40 ml of 5N NaOH
, And suspended by stirring.
After the saponification reaction was performed for 1 hour, the temperature was raised to 65 ° C., and the saponification reaction was further performed for 5 hours. The obtained saponification reaction product was sufficiently washed with methanol and freeze-dried.
The saponification degree was 98.3 mol%, and as a result of measurement of an infrared absorption spectrum, a strong absorption attributed to a -COO- group was confirmed at 1570 cm -1 .

【0141】合成例2[親水性高分子化合物(P−2)
の合成] 酢酸ビニル60gとp−スチレンスルホン酸メチル90
gに重合開始剤としてベンゾイルパーオキシド0.5g
を加えたものを、分散安定剤として部分ケン化ポリビニ
ルアルコール3gとNaCl 10gを含む水300m
l中に分散させた。分散液を65℃において6時間攪拌
し、懸濁重合を行った。得られた共重合体のp−スチレ
ンスルホン酸メチル成分はNMRスペクトルから同定し
た結果45モル%であった。また、30℃におけるベン
ゼン溶液中での極限粘度は2.10であった。次に該共
重合体10.5gを200gのメタノールと10gの水
及び5NのNaOH40mlからなるケン化反応液中に
添加し攪拌懸濁させ、25℃において1時間ケン化反応
を行った後、温度を65℃に昇温し、さらに5時間ケン
化反応を行った。得られたケン化反応物はメタノールで
十分洗浄し、凍結乾燥した。ケン化度は97.9モル%
であり、赤外吸収スペクトルの測定の結果、1150c
-1に−SO3H基に帰属される強い吸収が確認され
た。
Synthesis Example 2 [Hydrophilic polymer compound (P-2)
Synthesis of vinyl acetate 60 g and methyl p-styrenesulfonate 90
g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator
Was added to a dispersion stabilizer containing 300 g of water containing 3 g of partially saponified polyvinyl alcohol and 10 g of NaCl.
l. The dispersion was stirred at 65 ° C. for 6 hours to perform suspension polymerization. The methyl p-styrenesulfonate component of the obtained copolymer was identified by NMR spectrum to be 45 mol%. The intrinsic viscosity in a benzene solution at 30 ° C. was 2.10. Next, 10.5 g of the copolymer was added to a saponification reaction solution consisting of 200 g of methanol, 10 g of water and 40 ml of 5N NaOH, and the suspension was stirred and suspended. Was heated to 65 ° C., and a saponification reaction was further performed for 5 hours. The obtained saponification reaction product was sufficiently washed with methanol and freeze-dried. Degree of saponification is 97.9 mol%
And as a result of the measurement of the infrared absorption spectrum, 1150c
strong absorption attributed to the -SO 3 H group was observed at m -1.

【0142】合成例3[親水性高分子化合物(P−3)
の合成] ポリアクリル酸(分子量25000和光純薬製)18.
0gをジメチルアセトアミドに溶解し2−メタクリロイ
ルオキシエチルイソシアネート(以下MOIと略記)
5.5gとジブチル錫ジラウレート0.1gを添加し3
時間反応した。次いで水酸化ナトリウムでカルボキシル
基の80当量%を部分中和し、アセトンを加えポリマー
を沈殿させ、良く洗浄して精製し親水性ポリマー(P−
3)を得た。
Synthesis Example 3 [Hydrophilic polymer compound (P-3)
Synthesis of polyacrylic acid (molecular weight: 25,000, manufactured by Wako Pure Chemical Industries)
0 g is dissolved in dimethylacetamide to give 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (hereinafter abbreviated as MOI).
5.5 g and 0.1 g of dibutyltin dilaurate were added and 3
Reacted for hours. Then, 80 equivalent% of carboxyl groups were partially neutralized with sodium hydroxide, acetone was added to precipitate the polymer, and the polymer was washed and purified well to obtain a hydrophilic polymer (P-
3) was obtained.

【0143】[親水性断熱層の作成[A−1]]厚さ
0.30mmのアルミニウム板(材質1050)をトリ
クロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと
400メッシュのパミストン−水懸濁液を用いその表面
を砂目立てし、水で良く洗浄した。この板を45℃の2
5%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチン
グを行い、水洗後、更に2%硝酸に20秒間浸漬して水
洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g
/m 2であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として
電流密度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜
を設けた後、水洗乾燥した。更に、上記の処理済みのア
ルミニウム板に、下記溶液[A−1]を塗布し、100
℃で2分間乾燥して親水性層を塗布したアルミニウム板
[A−1]を得た。乾燥後の重量は0.5g/m2であ
った。
[Preparation of hydrophilic heat insulating layer [A-1]] Thickness
Trim 0.30mm aluminum plate (material 1050)
After cleaning and degreasing with chloroethylene, use a nylon brush
Surface using 400 mesh pumicestone-water suspension
Was grained and washed well with water. Place this plate at 45 ° C
Etch for 5 seconds in 5% aqueous sodium hydroxide
After washing with water, immerse in 2% nitric acid for 20 seconds
I washed. At this time, the etching amount of the grained surface is about 3 g.
/ M TwoMet. Next, use this plate with 7% sulfuric acid as electrolyte
Current density 15A / dmTwo3g / mTwoDC anodized film
And then washed with water and dried. In addition, the processed
The following solution [A-1] was applied to a luminium plate,
Aluminum plate coated with hydrophilic layer after drying at 2 ℃ for 2 minutes
[A-1] was obtained. Weight after drying is 0.5 g / mTwoIn
Was.

【0144】 溶液[A−1] 親水性高分子化合物(P−1) 1.0g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルアルコール 5.0g 精製水 5.0gSolution [A-1] Hydrophilic polymer compound (P-1) 1.0 g Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl alcohol 5 5.0 g Purified water 5.0 g

【0145】[親水断熱層の作成[A−2]]上記処理
済みのアルミニウム板に下記溶液[A−2]を塗布し、
100℃で2分間乾燥して親水性層を塗布したアルミニ
ウム板[A−2]を得た。乾燥後の重量は0.6g/m
2であった。
[Preparation of Hydrophilic Heat Insulating Layer [A-2]] The following solution [A-2] was applied to the treated aluminum plate.
After drying at 100 ° C. for 2 minutes, an aluminum plate [A-2] coated with a hydrophilic layer was obtained. Weight after drying is 0.6 g / m
Was 2 .

【0146】 溶液[A−2] 親水性高分子化合物(P−2) 1.0g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルアルコール 5.0g 精製水 5.0g 赤外線吸収色素(具体色素A) 0.08gSolution [A-2] Hydrophilic polymer compound (P-2) 1.0 g Megafac F-177 0.06 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) Methyl alcohol 5 0.0g Purified water 5.0g Infrared absorbing dye (specific dye A) 0.08g

【0147】[0147]

【化16】 Embedded image

【0148】[親水性断熱層の作成[A−3]]上記処
理済みのアルミニウム板に下記溶液[A−3]を塗布
し、100℃で2分間乾燥して親水性層を塗布したアル
ミニウム板[A−3]を得た。乾燥後の重量は0.8g
/m2であった。
[Preparation of hydrophilic heat insulating layer [A-3]] The aluminum plate coated with the hydrophilic layer by applying the following solution [A-3] to the treated aluminum plate and drying at 100 ° C. for 2 minutes. [A-3] was obtained. 0.8g after drying
/ M 2 .

【0149】 溶液[A−3] 親水性高分子化合物(P−3) 1.0g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルアルコール 5.0g 精製水 5.0g 赤外線吸収色素(具体色素A) 0.08gSolution [A-3] Hydrophilic polymer compound (P-3) 1.0 g Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl alcohol 5 0.0g Purified water 5.0g Infrared absorbing dye (specific dye A) 0.08g

【0150】上記処理済みのアルミニウム板に下記溶液
[A−4]を塗布し、100℃で2分乾燥し、UV光で
全面露光700カウント(アイロータリープリンター、
アイグラフィック社製)することにより架橋した親水性
層[A−4]を得た。乾燥後の重量は1.0g/m2
あった。
The following solution [A-4] was applied to the treated aluminum plate, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and exposed to a UV light for 700 counts (Eye rotary printer,
(I Graphic Co., Ltd.) to obtain a crosslinked hydrophilic layer [A-4]. The weight after drying was 1.0 g / m 2 .

【0151】 溶液[A−4] 親水性高分子化合物(P−3) 1.0g 水溶性トリアジン開始剤A 0.1g メチルアルコール 10.0g 精製水 10.0gSolution [A-4] Hydrophilic polymer compound (P-3) 1.0 g Water-soluble triazine initiator A 0.1 g Methyl alcohol 10.0 g Purified water 10.0 g

【0152】[0152]

【化17】 Embedded image

【0153】〔親水性架橋断熱層の作成[A−5]〕
[A−4]と同様の方法で処理されたアルミニウム板に
下記溶液[A−5]を塗布し、100℃で1分乾燥し、
UV光で全面露光700カウント(アイロータリープリ
ンター、アイグラフィック社製)することにより架橋し
た親水性層[A−5]を得た。乾燥後の重量は1.0g
/m2であった。
[Preparation of hydrophilic cross-linked heat insulating layer [A-5]]
The following solution [A-5] was applied to an aluminum plate treated in the same manner as in [A-4], and dried at 100 ° C for 1 minute.
The crosslinked hydrophilic layer [A-5] was obtained by exposing the entire surface to 700 counts (Eye Rotary Printer, manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.) with UV light. 1.0 g after drying
/ M 2 .

【0154】 溶液[A−5] 親水性高分子化合物(P−3) 1.0g 赤外線吸収色素(具体色素1) 0.1g 水溶性トリアジン開始剤A 0.1g メチルアルコール 10.0g 精製水 10.0gSolution [A-5] Hydrophilic polymer compound (P-3) 1.0 g Infrared absorbing dye (specific dye 1) 0.1 g Water-soluble triazine initiator A 0.1 g Methyl alcohol 10.0 g Purified water 10 0.0g

【0155】〔親水性架橋断熱層の作成[A−6]〕下
記溶液[A−6]をコロナ処理した200μ厚のPET
上に塗布し、100℃で10分乾燥することにより架橋
した親水性層[A−6]を得た。乾燥後の重量は0.9
g/m2であった。
[Preparation of hydrophilic cross-linked heat insulating layer [A-6]] A 200 μm thick PET obtained by corona-treating the following solution [A-6]
It was applied on top and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a crosslinked hydrophilic layer [A-6]. 0.9 after drying
g / m 2 .

【0156】 溶液[A−6] コロイダルシリカ 200g (スノーテックスR503,20wt%水分散液、 日産化学工業(株)製) アミノプロピルトリエトキシシラン 5gSolution [A-6] Colloidal silica 200 g (Snowtex R503, 20 wt% aqueous dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Aminopropyltriethoxysilane 5 g

【0157】〔親水性架橋断熱層の作成[A−7]〕酸
化チタン(チタン工業製、粒径0.3μ)50g、ポリ
ビニルアルコール(PVA117,クラレ(株)社製)
の10%水溶液113g及び水240gをガラスビーズ
と共にペイントシェーカー(東洋精機(株)製)で30
分間分散した。更にそこにあらかじめ加水分解したテト
ラエトキシシランの20%(水/エタノール 1/1重
量比)溶液110gとコロイダルシリカ200g(スノ
ーテックスR503,20wt%水分散液、日産化学工
業(株)製)を加え、3分間分散した後、ガラスビーズ
を濾別し、分散物を得た。次にこれをコロナ処理した2
00μ厚PET上に塗布し、100℃で10分乾燥する
ことにより架橋した親水性層[A−7]を得た。乾燥後
の重量は1.1g/m2であった。
[Preparation of hydrophilic cross-linked heat insulating layer [A-7]] 50 g of titanium oxide (manufactured by Titanium Industry, particle size: 0.3 μm), polyvinyl alcohol (PVA117, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Of 10% aqueous solution and 240 g of water together with glass beads by a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.).
Dispersed for minutes. Further, 110 g of a 20% (water / ethanol 1/1 weight ratio) solution of tetraethoxysilane hydrolyzed in advance and 200 g of colloidal silica (Snowtex R503, 20 wt% aqueous dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) were added thereto. After dispersion for 3 minutes, the glass beads were separated by filtration to obtain a dispersion. Next, this was corona treated 2
It was applied on a PET having a thickness of 00 μm and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a crosslinked hydrophilic layer [A-7]. The weight after drying was 1.1 g / m 2 .

【0158】〔親水性架橋断熱層の作成[A−8]〕上
記親水性架橋断熱層[A−7]において酸化チタンの代
わりに下記Fe粒子を用いた他は同様にして架橋した親
水性層を得た。乾燥後の重量は1.2g/m 2であっ
た。合金鉄微粒子粉体でFe:Co:Al:Yの比率が
100:20:5:5であり、粒子サイズは長径0.1
μ、短径0.02μで比表面積が60m2/gのものを
使用。
[Preparation of hydrophilic cross-linked heat-insulating layer [A-8]]
The replacement of titanium oxide in the hydrophilic cross-linked heat insulating layer [A-7]
The parent cross-linked in the same manner except that the following Fe particles were used instead.
An aqueous layer was obtained. Weight after drying is 1.2 g / m TwoSo
Was. Fe: Co: Al: Y ratio in the ferromagnetic iron alloy powder
100: 20: 5: 5, and the particle size is 0.1
μ, minor diameter 0.02μ and specific surface area 60mTwo/ G
use.

【0159】(実施例1〜15) [画像形成層の作成] 画像形成層塗布液の調製カルボン酸基を有する高分子化
合物及び光熱変換剤の種類を表1に示すように変えて画
像形成層塗布液を調製した。この塗布液を、表1に示す
ようにそれぞれ上記の親水性断熱層または親水性架橋断
熱層[A−1]〜[A−7]の表面上に塗布し80℃、
3分間乾燥して感熱性平版印刷版[B−1]〜[B−1
5]を得た。乾燥後の重量は1.0g/m2であった。
(Examples 1 to 15) [Preparation of Image Forming Layer] Preparation of Image Forming Layer Coating Solution The image forming layer was prepared by changing the types of the polymer compound having a carboxylic acid group and the photothermal conversion agent as shown in Table 1. A coating solution was prepared. This coating solution was applied on the surface of the above-mentioned hydrophilic heat-insulating layer or hydrophilic cross-linking heat-insulating layer [A-1] to [A-7] as shown in Table 1, respectively.
After drying for 3 minutes, heat-sensitive lithographic printing plates [B-1] to [B-1]
5]. The weight after drying was 1.0 g / m 2 .

【0160】 (塗布液) カルボン酸基を有する高分子化合物(表1参照) 4.0g 光熱変換剤(表1参照) 0.4g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 20.0g メチルアルコール 7.0g(Coating liquid) Polymer compound having a carboxylic acid group (see Table 1) 4.0 g Light-to-heat converting agent (see Table 1) 0.4 g Megafac F-177 0.06 g (Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. ), Fluorine-based surfactant) methyl ethyl ketone 20.0 g methyl alcohol 7.0 g

【0161】(光熱変換剤の種類) (1) 具体色素A(下記構造) (2)CB:カーボンブラック(MHIブラック、#5
257M) 御国色素(株)社製
(Types of photothermal conversion agent) (1) Specific dye A (the following structure) (2) CB: carbon black (MHI black, # 5)
257M) Mikuni Shigyo Co., Ltd.

【0162】[0162]

【化18】 Embedded image

【0163】(比較例1〜5)上記実施例の断熱層を設
けなかったことと、断熱層の膜厚を変えた以外は上記実
施例と同じ操作を行い、平版印刷版原版[C−1]〜
[C−5]を得た。
(Comparative Examples 1 to 5) Except that the heat insulating layer of the above example was not provided and the film thickness of the heat insulating layer was changed, the same operation as in the above example was carried out to obtain a lithographic printing plate precursor [C-1]. ] ~
[C-5] was obtained.

【0164】[0164]

【表1】 [Table 1]

【0165】(印刷性能評価)得られた平版印刷用原版
[B−1]〜[B−15]、[C−1]〜[C−5]を
波長830nmの赤外線を発する赤外線半導体レーザに
より版面レーザパワー:400mW、走査速度:3.0
m/sで露光した。露光後、現像することなく、ハイデ
ルKOR−D機で印刷した。この時の印刷湿し水条件を
以下に示す。 湿し水:pH8.8(水84.7%、イソプロパノール
(IPA)10%、トリエチルアミン5%、濃塩酸0.
3%) この際、印刷物の画像部にインクが十分着肉しているか
どうかの評価を行った。印刷時の着肉性は1000枚印
刷時及び20000枚印刷時の着肉性を観察した。結果
を表2にしめす。
(Evaluation of Printing Performance) The lithographic printing original plates [B-1] to [B-15] and [C-1] to [C-5] were subjected to plate printing using an infrared semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm. Laser power: 400 mW, scanning speed: 3.0
Exposure was performed at m / s. After the exposure, printing was performed by a Heidel KOR-D machine without developing. The printing fountain solution conditions at this time are shown below. Fountain solution: pH 8.8 (water 84.7%, isopropanol (IPA) 10%, triethylamine 5%, concentrated hydrochloric acid 0.1%).
At this time, it was evaluated whether or not the ink was sufficiently deposited on the image portion of the printed matter. As for the inking property at the time of printing, the inking property at the time of printing 1000 sheets and at the time of printing 20,000 sheets was observed. The results are shown in Table 2.

【0166】[0166]

【表2】 [Table 2]

【0167】(実施例16〜30) [画像形成層の作成] 画像形成層塗布液の調製 カルボキシル基を有する高分子化合物及び光熱変換剤の
種類を表3に示すように変えて画像形成層塗布液を調製
した。この塗布液を、表3に示すようにそれぞれ上記の
親水性断熱層または親水性架橋断熱層[A−1]〜[A
−7]の表面上に塗布し80℃、3分間乾燥して感熱性
平版印刷版[B−16]〜[B−30]を得た。乾燥後
の重量は1.0g/m2であった。
(Examples 16 to 30) [Preparation of image forming layer] Preparation of coating solution for image forming layer Coating of image forming layer by changing the types of the polymer compound having a carboxyl group and the photothermal conversion agent as shown in Table 3 A liquid was prepared. As shown in Table 3, this coating solution was applied to the above-mentioned hydrophilic heat-insulating layer or hydrophilic cross-linked heat-insulating layer [A-1] to [A-1], respectively.
-7] and dried at 80 ° C. for 3 minutes to obtain heat-sensitive lithographic printing plates [B-16] to [B-30]. The weight after drying was 1.0 g / m 2 .

【0168】 (塗布液) カルボキシル基を有する高分子化合物(表3参照) 4.0g 光熱変換剤(表1参照) 0.4g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 20.0g メチルアルコール 7.0g(Coating liquid) Polymer compound having a carboxyl group (see Table 3) 4.0 g Light-to-heat conversion agent (see Table 1) 0.4 g Megafac F-177 0.06 g (Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.) Manufactured, fluorine-based surfactant) methyl ethyl ketone 20.0 g methyl alcohol 7.0 g

【0169】(光熱変換剤の種類) (1) 具体色素A(下記構造) (2)CB:カーボンブラック(MHIブラック、#5
257M) 御国色素(株)社製
(Types of photothermal conversion agent) (1) Specific dye A (the following structure) (2) CB: carbon black (MHI black, # 5)
257M) Mikuni Dye Co., Ltd.

【0170】[0170]

【化19】 Embedded image

【0171】(比較例6〜10)上記実施例の断熱層を
設けなかったことと、断熱層の膜厚を変えた以外は上記
実施例と同じ操作を行い、平版印刷版原版[C−6]〜
[C−10]を得た。
(Comparative Examples 6 to 10) Except that the heat insulating layer of the above example was not provided, and the thickness of the heat insulating layer was changed, the same operation as in the above example was carried out to obtain a lithographic printing plate precursor [C-6]. ] ~
[C-10] was obtained.

【0172】[0172]

【表3】 [Table 3]

【0173】(印刷性能評価)得られた平版印刷用原版
[B−16]〜[B−30]、[C−6]〜[C−1
0]を波長830nmの赤外線を発する赤外線半導体レ
ーザにより版面レーザパワー:400mW、走査速度:
3.0m/sで露光した。露光後、現像することなく、
ハイデルKOR−D機で印刷した。この時の印刷湿し水
は蒸留水を用いた。この際、印刷物の画像部にインクが
十分着肉しているかどうかの評価を行った。印刷時の着
肉性は1000枚印刷時及び20000枚印刷時の着肉
性を観察した。結果を表4に示す。
(Evaluation of Printing Performance) The obtained lithographic printing original plates [B-16] to [B-30], [C-6] to [C-1]
0] using an infrared semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm, plate laser power: 400 mW, scanning speed:
Exposure was performed at 3.0 m / s. After exposure, without developing
Printed on a Heidel KOR-D machine. At this time, distilled water was used as a printing dampening solution. At this time, it was evaluated whether or not the ink was sufficiently deposited on the image portion of the printed matter. As for the inking property at the time of printing, the inking property at the time of printing 1000 sheets and at the time of printing 20,000 sheets was observed. Table 4 shows the results.

【0174】[0174]

【表4】 [Table 4]

【0175】表2および表4から明らかなように、本発
明にかかわる各実施例の平版印刷版用原版はいずれも、
印刷時の画像部の着肉性が20,000枚においても良
好であり、また、非画像部に汚れのない良好な印刷物が
得られ、それぞれ満足すべき結果を得たが、各比較例の
平版印刷版用原版は着肉性が1,000枚においても不
満足なものであった。
As is clear from Tables 2 and 4, the lithographic printing plate precursors of the examples according to the present invention were all
The inking property of the image area at the time of printing was good even at 20,000 sheets, and a good printed matter with no stain on the non-image area was obtained, and satisfactory results were obtained. The lithographic printing plate precursor was unsatisfactory even when the inking property was 1,000 sheets.

【0176】[0176]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、支持体と画像形成層との間に中間層とし
て、親水性断熱層、または親水性架橋断熱層を設けるこ
とにより、支持体付近を親水性にすると同時に中間層が
断熱効果を有し、支持体への熱拡散を抑えることができ
る。すなわち断熱性中間層の導入により露光量を上げる
ことなく、画像形成層の熱極性変換(親水性→疎水性)
が効率よく進行する。その結果、画像強度および密着性
が著しく改善された平版印刷版用原版を提供することが
できるという効果を奏する。また、本発明の平版印刷版
用原版は、赤外線などのレーザー光による画像の走査露
光により直接製版可能であり、画像露光後湿式現像処理
やこすり等の特別な処理を必要とせずに平版印刷版の製
版が可能であり、さらに、画像露光した後そのまま印刷
機に装着し、印刷することができる。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises a hydrophilic heat-insulating layer or a hydrophilic cross-linked heat-insulating layer as an intermediate layer between a support and an image forming layer. At the same time, the vicinity of the support is made hydrophilic, and at the same time, the intermediate layer has a heat insulating effect, so that heat diffusion to the support can be suppressed. That is, the thermal polarity conversion (hydrophilicity → hydrophobicity) of the image forming layer without increasing the exposure amount by introducing the heat insulating intermediate layer.
Progresses efficiently. As a result, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor having significantly improved image strength and adhesion. Further, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be directly made by scanning exposure of an image with laser light such as infrared light, and does not require any special processing such as wet development processing or rubbing after image exposure. After the image exposure, the plate can be directly mounted on a printing press and printed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA13 AA14 AB03 AC08 AD01 BH03 CB41 CB42 CB51 DA35 DA40 FA10 2H096 AA06 BA01 CA01 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 AA30 BA01 BA10 DA03 DA04 DA08 DA10 DA11 DA15 DA33 DA34 DA43 DA44 DA46 DA48 DA50 DA51 DA52 DA53 DA56 DA60 DA61 EA01 EA02 EA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 2H025 AA13 AA14 AB03 AC08 AD01 BH03 CB41 CB42 CB51 DA35 DA40 FA10 2H096 AA06 BA01 CA01 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 AA30 BA01 BA10 DA03 DA04 DA08 DA10 DA33 DA46 DA33 DA46 DA50 DA51 DA52 DA53 DA56 DA60 DA61 EA01 EA02 EA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、親水性断熱層と、熱により
側鎖が疎水性に変化する親水性高分子化合物を含有する
層とをこの順に有する平版印刷版用原版。
1. A lithographic printing plate precursor comprising, in this order, a hydrophilic heat insulating layer and a layer containing a hydrophilic polymer compound whose side chain changes to hydrophobic by heat on a support.
【請求項2】 前記親水性断熱層が架橋構造を有する親
水性高分子化合物を含有することを特徴とする請求項1
に記載の平版印刷版用原版。
2. The method according to claim 1, wherein the hydrophilic heat-insulating layer contains a hydrophilic polymer compound having a crosslinked structure.
The lithographic printing plate precursor described in.
JP2000043032A 2000-02-21 2000-02-21 Original plate for lithographic printing plate Pending JP2001232960A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043032A JP2001232960A (en) 2000-02-21 2000-02-21 Original plate for lithographic printing plate
CN 01100287 CN1310360A (en) 2000-02-21 2001-01-10 Originals for lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043032A JP2001232960A (en) 2000-02-21 2000-02-21 Original plate for lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001232960A true JP2001232960A (en) 2001-08-28

Family

ID=18566015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000043032A Pending JP2001232960A (en) 2000-02-21 2000-02-21 Original plate for lithographic printing plate

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2001232960A (en)
CN (1) CN1310360A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5690645B2 (en) * 2010-05-31 2015-03-25 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, plate making method thereof, and novel polymer compound.

Also Published As

Publication number Publication date
CN1310360A (en) 2001-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1602481B1 (en) Lithographic printing plate precursor
EP0980754B1 (en) Photopolymer composition, lithographic printing plate precursor and method of making lithographic printing plate
JP3775634B2 (en) Master for lithographic printing plate
DE60016660T2 (en) Lithographic printing plate precursor
JP2001277465A (en) Lithographic printing machine and lithographic printing method
JP4105377B2 (en) Master for lithographic printing plate
JP4040217B2 (en) Method for producing planographic printing plate and photosensitive resin composition
JP3672193B2 (en) Planographic printing plate
JP2002166670A (en) Original plate for lithographic printing plate
JP3741342B2 (en) Original plate for lithographic printing plates
JP2001232960A (en) Original plate for lithographic printing plate
JP3627896B2 (en) Photosensitive and thermosensitive lithographic printing plate
JP2000127641A (en) Thermosensitive image forming material and lithographic original plate
JP2002174893A (en) Original plate for planographic printing plate
JP4004651B2 (en) Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate manufacturing method
JP2000343850A (en) Method for forming lithographic printing plate and original plate for lithographic printing plate
JP4054181B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP3761127B2 (en) Original plate for lithographic printing plates
JP3698391B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor
JP4226801B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2000071635A (en) Master for lithographic printing plate
JP2001290262A (en) Original plate for planographic printing plate
JP2001033949A (en) Original plate for planographic printing plate
JP2002113964A (en) Original plate for lithographic printing plate
JP2002055451A (en) Original plate for planographic printing plate