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JP2001226365A - Oxetane compound, method of preparing the same and polymerizable composition - Google Patents

Oxetane compound, method of preparing the same and polymerizable composition

Info

Publication number
JP2001226365A
JP2001226365A JP2000041476A JP2000041476A JP2001226365A JP 2001226365 A JP2001226365 A JP 2001226365A JP 2000041476 A JP2000041476 A JP 2000041476A JP 2000041476 A JP2000041476 A JP 2000041476A JP 2001226365 A JP2001226365 A JP 2001226365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
oxetane
polymerizable composition
oxetane compound
cationically polymerizable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000041476A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshifumi Asai
佳文 浅井
Tetsuo Kudo
哲雄 工藤
Hiroshi Uchida
博 内田
Shoichiro Wakabayashi
正一郎 若林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP2000041476A priority Critical patent/JP2001226365A/en
Publication of JP2001226365A publication Critical patent/JP2001226365A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxetane compound for cationic polymerization having high polymerizing property and improved heat resistance, a method of preparing the compound and further a cationically polymerizable composition containing the compound. SOLUTION: An oxetane compound expressed by the general formula 1. The compound is obtained by carrying out the transesterification of a carbonic acid diester with an alicyclic diol followed by decarboxylation. The cationically polymerizable composition is obtained by compounding the compound with a cationic-polymerization initiator.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カチオン重合用の
オキセタン化合物、オキセタン化合物の製造方法及びオ
キセタン化合物を含むカチオン重合性組成物に関するも
のである。なお、該オキセタン化合物を用いた光硬化性
または熱硬化性樹脂は、耐熱性、機械特性及び密着性に
優れ、塗料及び接着剤などに好適である。
The present invention relates to an oxetane compound for cationic polymerization, a method for producing the oxetane compound, and a cationically polymerizable composition containing the oxetane compound. In addition, a photocurable or thermosetting resin using the oxetane compound has excellent heat resistance, mechanical properties, and adhesion, and is suitable for a paint, an adhesive, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、カチオン重合用化合物として
は、エポキシド化合物が主に用いられていた。エポキシ
ド化合物は耐薬品性、密着性が良好な皮膜が得られると
いう特徴があり、広く用いられている。しかしながら、
従来の光硬化型のエポキシド化合物は、末端カチオンの
連鎖移動が起こりやすいため、高分子量化が難しく、得
られる皮膜が堅くてもろいという欠点があった。
2. Description of the Related Art Up to now, epoxide compounds have been mainly used as compounds for cationic polymerization. Epoxide compounds are widely used because of their characteristic that a film having good chemical resistance and adhesion can be obtained. However,
Conventional photocurable epoxide compounds have the drawback that, since chain transfer of terminal cations easily occurs, it is difficult to increase the molecular weight, and the resulting film is hard and brittle.

【0003】一方、オキセタン化合物は、高いカチオン
重合反応性を有し、エポキシド化合物に対して初期重合
速度は劣るものの、高分子量化が可能であり、機械特
性、密着性に優れた良好な皮膜が得られる。これらの特
徴から、オキセタン化合物は、単独重合物として、また
エポキシド化合物との共重合体としての用途が期待され
ている。
On the other hand, oxetane compounds have high cationic polymerization reactivity, and although the initial polymerization rate is inferior to epoxide compounds, high molecular weight is possible and a good film excellent in mechanical properties and adhesion is obtained. can get. From these characteristics, the oxetane compound is expected to be used as a homopolymer or as a copolymer with an epoxide compound.

【0004】これらに使用されているオキセタン化合物
の代表的なものは一般式3で表される(DE 1,02
1,858)。
Representative oxetane compounds used in these compounds are represented by the general formula 3 (DE 1,02
1,858).

【0005】(一般式3)(General formula 3)

【0006】[0006]

【化3】 (式中Rは2以上の原子価を有する芳香族残基であり、
nは1または2である)さらに特開平6−16804で
は一般式4で表されるオキセタン化合物の記載がある。
Embedded image (Wherein R is an aromatic residue having a valence of 2 or more;
(n is 1 or 2) Further, JP-A-6-16804 describes an oxetane compound represented by the general formula 4.

【0007】(一般式4)(General formula 4)

【0008】[0008]

【化4】 (式中、R1は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、
フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル
基、チエニル基、フルオロ基である。R2は鎖状または
分岐状ポリ(アルキレンオキシ)基、キシレン基、シロ
キサン結合及びエステル結合からなる群から選ばれる多
価基であり、Zは酸素原子または硫黄原子である。mは
2,3または4である。) また、重合性は環の歪みエネルギーの大きさに依存する
ため、重合性をさらに向上させるために環の歪みエネル
ギーの大きなスピロ環構造を有するオキセタン化合物の
検討も進められている。これら化合物としては化学式1
(US3388105) (化学式1)
Embedded image (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
A fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group, a furyl group, a thienyl group, and a fluoro group. R 2 is a polyvalent group selected from the group consisting of a chain or branched poly (alkyleneoxy) group, a xylene group, a siloxane bond and an ester bond, and Z is an oxygen atom or a sulfur atom. m is 2, 3 or 4. Further, since the polymerizability depends on the magnitude of the strain energy of the ring, an oxetane compound having a spiro ring structure having a large ring strain energy has been studied in order to further improve the polymerizability. These compounds have the chemical formula 1
(US3388105) (Chemical formula 1)

【0009】[0009]

【化5】 で表される化合物が挙げられ、一般式2及び一般式3で
示したオキセタン化合物と比較して重合性は改善され
る。しかし実用的には、耐熱性の点で要求物性を満たさ
ないため、耐熱性が改善されたオキセタン化合物の開発
が望まれている。さらに、化学式2(US311068
8)、 (化学式2)
Embedded image The polymerizability is improved as compared with the oxetane compounds represented by the general formulas 2 and 3. However, practically, since the required physical properties are not satisfied in terms of heat resistance, development of an oxetane compound having improved heat resistance is desired. Furthermore, chemical formula 2 (US3110068)
8), (Chemical formula 2)

【0010】[0010]

【化6】 化学式3(Chem.Lett.,11,1785−8
(1985))で示すオキセタン化合物も知られている
が、これらの化合物は二重結合を有するため、硬化 (化学式3)
Embedded image Chemical formula 3 (Chem. Lett., 11, 1785-8)
(1985)) are also known, but since these compounds have a double bond, they are cured (Chemical Formula 3).

【0011】[0011]

【化7】 中にパーオキサイドの発生が懸念され、加工性の面から
好ましくなく、また保存安定性が悪い欠点があり、新た
なオキセタン化合物の開発が望まれていた。
Embedded image There is a concern that peroxide may be generated therein, which is not preferable from the viewpoint of processability, and has a disadvantage that storage stability is poor. Therefore, development of a new oxetane compound has been desired.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、カチオン重
合性が改善され、高分子量化が可能な耐熱性を改良した
オキセタン化合物、該化合物の製造法及び該化合物を含
むカチオン重合性組成物を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an oxetane compound having improved cationic polymerizability and improved heat resistance capable of increasing the molecular weight, a method for producing the compound, and a cationic polymerizable composition containing the compound. The task is to provide.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々のオ
キセタン化合物についてそのカチオン重合性を検討した
ところ、一般式1で表される構造を有するオキセタン化
合物が重合性及び耐熱性が高いことを見いだし、本発明
を完成させた。すなわち、発明は以下の各発明からな
る。 (1)一般式1で表されるオキセタン化合物。
Means for Solving the Problems The present inventors have studied the cationic polymerizability of various oxetane compounds and found that the oxetane compound having the structure represented by the general formula 1 has high polymerizability and heat resistance. And completed the present invention. That is, the invention consists of the following inventions. (1) An oxetane compound represented by the general formula 1.

【0014】(一般式1)(General formula 1)

【0015】[0015]

【化8】 (式中、R1はフッ素、塩素、臭素または炭素数1〜2
0個のアルキル基、アリール基、フルオロアルキル基、
クロロアルキル基、ブロモアルキル基である。) (2)一般式1におけるR1がメチル基であることを特
徴とする(1)に記載のオキセタン化合物。 (3)(1)に記載のオキセタン化合物の製造方法にお
いて、出発原料が一般式2で示される脂環式ジオールで
あることを特徴とするオキセタン化合物 (一般式2)
Embedded image (Wherein, R 1 is fluorine, chlorine, bromine, or C 1-2
0 alkyl groups, aryl groups, fluoroalkyl groups,
A chloroalkyl group and a bromoalkyl group. ) (2) an oxetane compound according to R 1 in the general formula 1 is characterized in that it is a methyl group (1). (3) The method for producing an oxetane compound according to (1), wherein the starting material is an alicyclic diol represented by the general formula 2 (general formula 2)

【0016】[0016]

【化9】 (式中、R1はフッ素、塩素、臭素または炭素数1〜2
0個のアルキル基、アリール基、フルオロアルキル基、
クロロアルキル基、ブロモアルキル基である。)の製造
方法。 (4)脂環式ジオールが2−メチル−シクロヘキサン−
1,1−ジメタノールであり、オキセタン化合物が一般
式1のR1がメチル基である(3)に記載のオキセタン
化合物の製造方法。 (5)脂環式ジオールと炭酸ジエステルとを反応させた
後、オキセタン化反応を行うことを特徴とする(3)に
記載のオキセタン化合物の製造方法。 (6)炭酸ジエステルが炭酸ジメチルエステルであるこ
とを特徴とする(5)に記載のオキセタンの製造方法。 (7)(1)に記載のオキセタン化合物とエポキシド化
合物を含むカチオン重合性組成物。 (8)(1)に記載のオキセタン化合物、エポキシド化
合物と光カチオン重合開始剤を含むカチオン重合性組成
物。 (9)(1)に記載のオキセタン化合物、エポキシド化
合物と熱カチオン重合開始剤を含むカチオン重合性組成
物。 (10)エポキシド化合物がビスフェノールA型オリゴ
マーであることを特徴とする(7)に記載のカチオン重
合性組成物。 (11)エポキシド化合物の分子量が1000未満であ
ることを特徴とする(7)に記載のカチオン重合性組成
物。 (12)光カチオン重合開始剤がトリアリールスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェトであることを特徴とする
(8)または(10)に記載のカチオン重合性組成物。 (13)熱カチオン重合開始剤が2−ブテニルテトラメ
チレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートであ
ることを特徴とする(9)または(10)に記載のカチ
オン重合性組成物。
Embedded image (Wherein, R 1 is fluorine, chlorine, bromine, or C 1-2
0 alkyl groups, aryl groups, fluoroalkyl groups,
A chloroalkyl group and a bromoalkyl group. ) Manufacturing method. (4) The alicyclic diol is 2-methyl-cyclohexane-
The method for producing an oxetane compound according to (3), wherein the oxetane compound is 1,1-dimethanol and R1 in the general formula 1 is a methyl group. (5) The method for producing an oxetane compound according to (3), wherein an oxetane-forming reaction is performed after reacting the alicyclic diol with the carbonic acid diester. (6) The method for producing oxetane according to (5), wherein the carbonate diester is dimethyl carbonate. (7) A cationically polymerizable composition containing the oxetane compound and the epoxide compound according to (1). (8) A cationically polymerizable composition comprising the oxetane compound, the epoxide compound and the cationic photopolymerization initiator according to (1). (9) A cationically polymerizable composition comprising the oxetane compound, the epoxide compound and the thermal cationic polymerization initiator according to (1). (10) The cationically polymerizable composition according to (7), wherein the epoxide compound is a bisphenol A type oligomer. (11) The cationically polymerizable composition according to (7), wherein the epoxide compound has a molecular weight of less than 1,000. (12) The cationically polymerizable composition according to (8) or (10), wherein the photocationic polymerization initiator is triarylsulfonium hexafluorophosphate. (13) The cationically polymerizable composition according to (9) or (10), wherein the thermal cationic polymerization initiator is 2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明のオキセタン化合物は、重
合性が高くまたオキセタン基に隣接する5−位のアルキ
ル基の効果により無置換スピロオキセタン化合物や7−
位置換スピロオキセタンよりも耐熱性が高い。さらに、
化学式1及び化学式3のように二重結合を持たないた
め、長期の保存安定性及び加工性に優れている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The oxetane compound of the present invention has high polymerizability and is unsubstituted spirooxetane compound or 7-position compound due to the effect of the 5-position alkyl group adjacent to the oxetane group.
Higher heat resistance than position-substituted spirooxetane. further,
Since it does not have a double bond as in Chemical Formulas 1 and 3, it has excellent long-term storage stability and processability.

【0018】本発明のオキセタン化合物は、どのような
方法を用いて合成しても良いが、対応するジオールを出
発原料として用いる方法が好適に用いられる。一般式2
に示す (一般式2)
The oxetane compound of the present invention may be synthesized by any method, but a method using the corresponding diol as a starting material is preferably used. General formula 2
(General formula 2)

【0019】[0019]

【化10】 脂環式ジオールを出発原料として反応式1に示すよう
に、炭酸ジエステルとのエ (反応式1)
Embedded image Using an alicyclic diol as a starting material, reaction with a carbonic acid diester as shown in Reaction Formula 1 (Reaction Formula 1)

【0020】[0020]

【化11】 ステル交換反応、脱炭酸反応の2段階の反応により合成
する方法が挙げられる。
Embedded image There is a method of synthesizing by a two-stage reaction of a steal exchange reaction and a decarboxylation reaction.

【0021】エステル交換反応は触媒の存在下、加熱状
態で、生成するアルコールを系外に留去することにより
行われる。触媒はLi、Na、K、Csなどのアルカリ
金属またはMg、Caのようなアルカリ土類金属からな
る群から選ばれる少なくとも1種の金属またはその金属
塩が好適に用いられる。反応温度は50〜200℃であ
り、好ましくは70〜150℃である。反応圧力は常圧
が最適であるが、加圧あるいは減圧であっても問題は無
い。また、反応溶媒としては本反応に悪影響を与えない
ものであれば良くトルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンな
どの炭化水素、1、4−ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル、クロロベンゼンジクロロメタン、ク
ロロメタン、四塩化炭素などの塩素化物などが好適に用
いられる。また、過剰の炭酸ジエステルを溶媒として用
いることは特に本反応においては有利であり、好適に用
いられる。
The transesterification is carried out in the presence of a catalyst in a heated state by distilling off the generated alcohol out of the system. As the catalyst, at least one metal selected from the group consisting of alkali metals such as Li, Na, K, and Cs or alkaline earth metals such as Mg and Ca, or a metal salt thereof is suitably used. The reaction temperature is 50 to 200 ° C, preferably 70 to 150 ° C. The reaction pressure is optimally normal pressure, but there is no problem even if pressure is increased or reduced. The reaction solvent may be any solvent that does not adversely affect the reaction, such as hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, hexane, heptane, octane, and cyclohexane; 1,4-dioxane; ethers such as tetrahydrofuran; chlorobenzene dichloromethane; Chlorinated compounds such as chloromethane and carbon tetrachloride are preferably used. The use of an excess of carbonic acid diester as a solvent is particularly advantageous in this reaction, and is preferably used.

【0022】脱炭酸反応は、触媒の存在下、加熱状態で
行われる。触媒はエステル交換反応と同じである。従っ
て、エステル交換反応の触媒をそのまま使用することが
できる。もちろん、新たに触媒を追加することも可能で
あり、エステル交換で使用した触媒を除去した後、新た
に触媒を添加することも可能であるが、連続的に継続し
て使用するほうが有利である。
The decarboxylation reaction is carried out in the presence of a catalyst in a heated state. The catalyst is the same as in the transesterification reaction. Therefore, the catalyst for the transesterification reaction can be used as it is. Of course, it is also possible to add a new catalyst, and it is possible to add a new catalyst after removing the catalyst used in the transesterification, but it is more advantageous to use the catalyst continuously and continuously. .

【0023】反応温度は150〜350℃であり、好ま
しくは180〜300℃である。発生する二酸化炭素は
系外に排出される。
The reaction temperature is from 150 to 350 ° C., preferably from 180 to 300 ° C. The generated carbon dioxide is discharged out of the system.

【0024】本発明の炭酸ジエステルとしては、炭酸ジ
メチルエステル、炭酸ジエチルエステル、炭酸ジフェニ
ルエステルなどが好適に用いられるがこれらに限定され
るものではなく、また炭酸ジメチルエステルが最も好適
に用いられる。
As the diester carbonate of the present invention, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate and the like are preferably used, but not limited thereto, and dimethyl carbonate is most preferably used.

【0025】本発明に用いられる脂環式ジオールとして
は一般式2で示される化合物が用い (一般式2)
As the alicyclic diol used in the present invention, a compound represented by the general formula 2 is used (general formula 2)

【0026】[0026]

【化12】 られる。ここにR1はフッ素、塩素、臭素または炭素数
1〜20個のアルキル基、アリール基、フルオロアルキ
ル基、クロロアルキル基、ブロモアルキル基であるがこ
れらに限定されるものではない。またR1がメチル基で
ある化合物が最も好適に用いられる。
Embedded image Can be Here, R1 is fluorine, chlorine, bromine, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a fluoroalkyl group, a chloroalkyl group, or a bromoalkyl group, but is not limited thereto. Compounds in which R1 is a methyl group are most preferably used.

【0027】本発明に用いられる炭酸ジエステルと脂環
式ジオールの割合(炭酸ジエステル(mol)/脂環式
ジオール(mol))は0.5〜5であることが好適で
あり、1〜2が特に好適である。炭酸ジエステルと脂環
式ジオールの割合が大きすぎると、ポリカーボネートな
どを副生し、環状カーボネートの収率低下、目的物であ
るオキセタン化合物の収率低下を招く。
The ratio of the carbonic acid diester to the alicyclic diol (carbonic acid diester (mol) / alicyclic diol (mol)) used in the present invention is preferably 0.5 to 5; Particularly preferred. If the ratio between the carbonic acid diester and the alicyclic diol is too large, polycarbonate and the like are produced as by-products, leading to a decrease in the yield of the cyclic carbonate and a decrease in the yield of the oxetane compound as the target product.

【0028】本発明のオキセタン化合物の原料となる脂
環式ジオールは、公知のディールス−アルダー反応及
び、カニッツアーロ反応により容易に合成可能である。
The alicyclic diol used as a raw material of the oxetane compound of the present invention can be easily synthesized by a known Diels-Alder reaction and Cannisterro reaction.

【0029】本発明の重合性組成物は少なくとも本発明
のオキセタン化合物とエポキシド化合物からなってお
り、さらに、本発明のオキセタン化合物とエポキシド化
合物及びカチオン重合開始剤からなっている。
The polymerizable composition of the present invention comprises at least the oxetane compound of the present invention and an epoxide compound, and further comprises the oxetane compound of the present invention, an epoxide compound and a cationic polymerization initiator.

【0030】エポキシド化合物としてはエポキシ基を含
有するモノマー及びそのオリゴマーであればいずれも使
用可能であるが、具体例としては従来公知の芳香族エポ
キシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシドが挙げ
られる。本発明におけるオリゴマーとしては低分子量の
化合物が好ましく、分子量1000未満のオリゴマーが
さらに好ましい。芳香族エポキシドとして好ましいもの
は、少なくとも1個の芳香環を有する多価フェノールあ
るいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒ
ドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシ
ジルエーテルであり、例えばビスフェノールAあるいは
そのアルキレンオキサイド付加体のジあるいはポリグリ
シジルエーテル、水添ビスフェノールAあるいはそのア
ルキレンオキサイド付加体のジあるいはポリグリシジル
エーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂などが挙
げられる。ここにアルキレンオキサイドとしてはエチレ
ンオキサイド及びプロピレンオキサイドなどが挙げられ
る。
As the epoxide compound, any monomers and oligomers containing an epoxy group can be used, and specific examples thereof include conventionally known aromatic epoxides, alicyclic epoxides and aliphatic epoxides. As the oligomer in the present invention, a compound having a low molecular weight is preferable, and an oligomer having a molecular weight of less than 1,000 is more preferable. Preferred as the aromatic epoxide are polyhydric phenols having at least one aromatic ring or di- or polyglycidyl ethers produced by reacting an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin, for example, bisphenol A or its alkylene oxide addition. Di- or polyglycidyl ethers, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolak epoxy resins. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

【0031】脂環式エポキシドとしては少なくとも1個
のシクロヘキセンまたはシクロペンテンなどのシクロア
ルカン環を有する化合物を過酸化水素、過酸などの適当
な酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロ
ヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含
有化合物が好ましい。
As the alicyclic epoxide, cyclohexene oxide or cyclopentene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Contained compounds are preferred.

【0032】脂肪族エポキシドの好ましいものとして
は、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキ
サイド付加体のジあるいはポリグリシジルエーテルなど
が挙げられ、代表例としてエチレングリコールのジグリ
シジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジル
エーテルまたは1,6−ヘキサンジオールのジグリシジ
ルエーテルなどのアルキレングリコールのジグリシジル
エーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイ
ド付加体のジまたはトリグリシジルエーテルなどの多価
アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレング
リコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるい
はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエー
テルなどが挙げられる。ここでアルキレンオキサイドと
してはエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドな
どが挙げられる。これらの他に脂肪族高級アルコールの
モノグリシジルエーテルなども用いることができる。
Preferred examples of the aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols and alkylene oxide adducts thereof. Representative examples are diglycidyl ether of ethylene glycol and diglycidyl ether of propylene glycol. Or polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, di- or triglycidyl ether of glycerin or an alkylene oxide adduct thereof, polyethylene glycol or alkylene oxide thereof. Diglycidyl ether, polypropylene glycol or its alkylene oxide adduct diglycidyl ether, etc. . Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide. In addition to these, monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols and the like can also be used.

【0033】紫外線または熱によりカチオン重合を開始
させる化合物としては、従来公知の多種多様なカチオン
重合開始剤を用いることができる。これらの開始剤のう
ちで好ましいものとしてはジアリールヨードニウム塩、
トリアリールスルホニウム塩及びテトラメチレンスルホ
ニム塩が挙げられ、光カチオン重合開始剤としてはトリ
アリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートが最
も好適に用いられ、熱カチオン重合開始剤としては2−
ブテニルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネートが最も好適に用いられる。
As the compound for initiating cationic polymerization by ultraviolet light or heat, various conventionally known cationic polymerization initiators can be used. Among these initiators, preferred are diaryliodonium salts,
Triarylsulfonium salts and tetramethylenesulfonium salts are exemplified. As the photocationic polymerization initiator, triarylsulfonium hexafluorophosphate is most preferably used, and as the thermal cationic polymerization initiator,
Butenyl tetramethylene sulfonium hexafluoroantimonate is most preferably used.

【0034】本発明の重合性組成物を硬化する際に用い
る開始剤の量は、エポキシド化合物の仕込み量、組成物
中の水分量、希釈溶剤を用いる場合は、溶剤の種類、
量、硬化温度などの条件によって異なり、一概に限定は
できないが、本発明の硬化方法における触媒の使用量は
組成物中0.1〜30phrであり、好ましくは0.5
〜20phrである。
The amount of the initiator to be used for curing the polymerizable composition of the present invention is determined by the amount of the epoxide compound charged, the amount of water in the composition, and the type of the solvent when a diluting solvent is used.
The amount used of the catalyst in the curing method of the present invention is from 0.1 to 30 phr, preferably from 0.5 to 30 phr in the composition.
~ 20 phr.

【0035】本発明における重合性組成物は必要に応じ
て溶剤または分散媒の存在下で用いることもできる。こ
こで使用しうる溶剤または分散媒は例えば、トルエン、
キシレン、エチルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、シクロヘキサンなどの炭化水素溶剤、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素、クロルベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素系溶剤、メタノール、エタノー
ル、プロパンパノール、イソプロパノール、ブタノ−
ル、ペンタノール、ヘキサノールなどのアルコール系溶
剤、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、セロソル
ブなどのエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶
剤などを用いることができるがこれらに限定されるもの
ではない。
The polymerizable composition of the present invention can be used in the presence of a solvent or a dispersion medium, if necessary. Solvents or dispersion media that can be used here, for example, toluene,
Hydrocarbon solvents such as xylene, ethylbenzene, hexane, heptane, octane, and cyclohexane; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, and chlorobenzene; methanol, ethanol, propampanol, isopropanol, and butano-
Alcohol solvents such as toluene, pentanol and hexanol; ether solvents such as diethyl ether, dipropyl ether and cellosolve; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; acetate esters such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate. A solvent or the like can be used, but is not limited thereto.

【0036】[0036]

【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて、本発明
を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。 (実施例1)[本発明オキセタン化合物の合成] 1L3つ口フラスコに2−メチル−シクロヘキサン−
1,1−ジメタノール474g(3.0mol)、炭酸
ジメチル405g(4.5mol)、炭酸カリウム1.
4g(基質に対して0.3質量%)を入れ、オイルバス
中100℃の温度で加熱撹拌し、生成するメタノールを
常圧で系外へ留去しつつ反応を14時間行った。最終的
に反応容器内を10mmHgまで減圧にし、相当する環
状炭酸エステルを収率95%で得た。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. (Example 1) [Synthesis of oxetane compound of the present invention] In a 1 L three-necked flask, 2-methyl-cyclohexane-
474 g (3.0 mol) of 1,1-dimethanol, 405 g (4.5 mol) of dimethyl carbonate, 1.
4 g (0.3% by mass based on the substrate) was added, and the mixture was heated and stirred in an oil bath at a temperature of 100 ° C., and the reaction was carried out for 14 hours while distilling off generated methanol outside the system at normal pressure. Finally, the pressure in the reaction vessel was reduced to 10 mmHg, and the corresponding cyclic carbonate was obtained in a yield of 95%.

【0037】得られた環状炭酸エステルをそのまま25
0℃で加熱拡攪拌し、生じた炭酸ガスを冷却装置の上部
より系外へ排出しつつ反応を10時間行った。この反応
溶液を蒸留精製し、無色透明な液体230gを得た。得
られた液体の1H−NMR(CDCl3)及び13C−N
MR(CDCl3)の測定結果を以下に示す。また、測
定チャートを図1及び図2に示す。1 H−NMR:δ(ppm);0.9〜1.1(m,3
H,−CH3)、1.2〜1.8(m,8H,シクロヘ
キサン環−CH2−)、1.9〜2.0(m,1H,−
CH−)、4.1〜4.5(m,4H,オキセタン環−
CH2−O−)13 C−NMR:δ(ppm);15(−CH3)、22
〜35(シクロヘキサン環−CH2−)、36(シクロ
ヘキサン環−CH−)、43〜44(スピロC)、65
〜80(オキセタン環−CH2−)これにより、本液体
が目的とする2−オキサスピロ[3,5]−5−メチル
ノナン(以下「化合物1」という。)であることが明ら
かである。さらに、得られた化合物の純度はガスクロマ
トグラフィーの結果、97.8%であり、全収率は55
%であった。ガスクロマトグラフのカラムはOV−17
を充填した1.1mガラスカラムであり、検出はFID
で行った。 (比較例1)[既存オキセタンの合成] 公知の方法(J.O.C.,26,4654(196
1))により合成した4−メチルシクロヘキサン−1,
1−ジメタノール474g(3.0mol)を1L3つ
口フラスコに入れ、次いで炭酸ジメチル405g(4.
5mol)、炭酸カリウム1.4g(基質に対して0.
3質量%)を入れ、オイルバス中100℃の温度で加熱
撹拌し、生成するメタノールを系外へ留去しつつ反応を
行った。最終的に反応容器内を減圧し、実施例1と同様
に相当する環状炭酸エステルを収率20%で得た。
The obtained cyclic carbonate was used as it was in 25
The mixture was heated and spread at 0 ° C., and the reaction was carried out for 10 hours while discharging the generated carbon dioxide gas from the upper part of the cooling device to the outside of the system. This reaction solution was purified by distillation to obtain 230 g of a colorless and transparent liquid. 1 H-NMR (CDCl 3) and 13 C-N of the obtained liquid
The measurement results of MR (CDCl3) are shown below. 1 and 2 show measurement charts. 1 H-NMR: δ (ppm); 0.9 to 1.1 (m, 3
H, —CH 3 ), 1.2 to 1.8 (m, 8H, cyclohexane ring —CH 2 —), 1.9 to 2.0 (m, 1H, −).
CH-), 4.1 to 4.5 (m, 4H, oxetane ring-
CH 2 —O—) 13 C-NMR: δ (ppm); 15 (—CH 3 ), 22
To 35 (cyclohexane ring -CH 2- ), 36 (cyclohexane ring -CH-), 43 to 44 (spiro C), 65
80 (oxetane ring -CH 2 -) Thus, it is apparent that the present liquid is an object of 2- oxaspiro [3,5] -5- nonanoic (hereinafter referred to as "Compound 1".). Further, the purity of the obtained compound was 97.8% as a result of gas chromatography, and the total yield was 55%.
%Met. The column of the gas chromatograph is OV-17.
1.1m glass column packed with
I went in. (Comparative Example 1) [Synthesis of existing oxetane] Known method (JOC, 26, 4654 (196)
4-methylcyclohexane-1, synthesized according to 1)),
474 g (3.0 mol) of 1-dimethanol was placed in a 1 L three-necked flask, and then 405 g of dimethyl carbonate (4.
5 mol), 1.4 g of potassium carbonate (0.
3% by mass), and the mixture was heated and stirred at a temperature of 100 ° C. in an oil bath to carry out a reaction while distilling off generated methanol to the outside of the system. Finally, the pressure in the reaction vessel was reduced, and the corresponding cyclic carbonate was obtained in a yield of 20% in the same manner as in Example 1.

【0038】得られた環状炭酸エステルを250℃の温
度で加熱し、生じた炭酸ガスを系外へ排出しつつ反応を
行った。生じた反応溶液を蒸留精製し、目的とする2−
オキサスピロ[3,5]−7−メチルノナン(以下「比
較物1」という。)20.9gを得た。得られた比較物
1の純度はGC分析の結果、97.1%であり、全収率
は5%であった。 (比較例2)[既存オキセタンの合成] 2−カルベトキシシクロヘキサノンを510g(3.0
mol)仕込み、公知の方法(Chem.Lett.,
1785(1985))により8段階の反応を経て5−
メチル−2−オキサスピロノナン−5−オール(以下
「比較物2」という。)174.2gを得た。得られた
化合物の純度はGC分析の結果、97.4%であり、全
収率は44%であった。 (実施例2)[本発明オキセタンを含む光カチオン重合
性組成物及び重合] 200mlビーカーに化合物1を10phr、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂(エピコート828:油化シェ
ルエポキシ社製。以下「EPOXY Resin」とい
う。)90phr仕込み、混合した後、この粘稠な液を
ギヤオーブン中で50℃に加熱し、テフロン製スパチュ
ラで均一に攪拌した後、重合開始剤としてUVI−69
90(ユニオンカーバイト社製)0.5mol%を添加
し、ポリエチレンフィルム上に約6.0μmになるよう
にバーコーダーで塗布し光重合用サンプルを作成し、紫
外線を照射して光重合を行った。紫外線照射にはHAM
AMATSU PHOTONICS K.K.製PHO
TOCURE 200紫外線ランプを用いた。紫外線の
照射強度は45mJ/(s・cm2)とした。
The obtained cyclic carbonate was heated at a temperature of 250 ° C., and the reaction was performed while discharging the generated carbon dioxide gas out of the system. The resulting reaction solution is purified by distillation to obtain the desired 2-
20.9 g of oxaspiro [3,5] -7-methylnonane (hereinafter referred to as “Comparative 1”) was obtained. The purity of the obtained comparative product 1 was 97.1% by GC analysis, and the total yield was 5%. Comparative Example 2 Synthesis of Existing Oxetane 510 g of 2-carbethoxycyclohexanone (3.0 g)
mol), a known method (Chem. Lett.,
1785 (1985)) through an 8-step reaction.
174.2 g of methyl-2-oxaspirononan-5-ol (hereinafter referred to as “Comparative 2”) was obtained. As a result of GC analysis, the purity of the obtained compound was 97.4%, and the total yield was 44%. (Example 2) [Cationic photopolymerizable composition containing oxetane of the present invention and polymerization] Compound 1 (10 phr) in a 200 ml beaker, bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828: manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd .; hereinafter referred to as “EPOXY Resin”) ) After charging 90 phr and mixing, the viscous liquid was heated to 50 ° C. in a gear oven, uniformly stirred with a Teflon spatula, and then UVI-69 was used as a polymerization initiator.
90 (manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) was added, and the mixture was coated on a polyethylene film with a bar coder so as to have a thickness of about 6.0 μm to prepare a sample for photopolymerization. Was. HAM for UV irradiation
AMATSU PHOTONICS K. K. PHO
A TOCURE 200 UV lamp was used. The irradiation intensity of the ultraviolet light was 45 mJ / (s · cm 2 ).

【0039】光重合速度は、上記条件で光重合中にPE
RKIN ELMER Spectrometer G
X赤外分析計を用いて、オキセタン化合物に特徴的な環
状エーテルの980cm-1を、EPOXY Resin
については、1100cm-1に由来する吸収を経時的に
測定し、転化率を求めた。 (比較例3)[オキセタンを含まない光カチオン重合性
組成物及び重合] 化合物1を使用しない(0phr)以外は実施例2と同
様な方法で光重合用サンプルを作成し、実施例2と同様
に測定を行った。 (比較例4)[既存オキセタンを含む光カチオン重合性
組成物及び重合] 化合物1の代わりに比較物1を使用した以外は実施例2
と同様な方法で光重合用サンプルを作成し、実施例2と
同様に測定を行った。 (比較例5)[既存オキセタンを含む光カチオン重合性
組成物及び重合] 化合物1の代わりに比較物2を使用した以外は実施例3
と同様な方法で光重合用サンプルを作成し、実施例2と
同様に測定を行った。
The photopolymerization rate was determined during the photopolymerization under the above conditions.
RKIN ELMER Spectrometer G
Using an X-infrared spectrometer, 980 cm −1 of a cyclic ether characteristic of an oxetane compound was analyzed using EPOXY Resin.
For, the absorption derived from 1100 cm -1 was measured over time to determine the conversion. (Comparative Example 3) [Photocationic polymerizable composition containing no oxetane and polymerization] A sample for photopolymerization was prepared in the same manner as in Example 2 except that Compound 1 was not used (0 phr), and the same as in Example 2. Was measured. (Comparative Example 4) [Cation cationically polymerizable composition containing existing oxetane and polymerization] Example 2 except that Compound 1 was used instead of Compound 1.
A sample for photopolymerization was prepared in the same manner as described above, and the measurement was performed in the same manner as in Example 2. (Comparative Example 5) [Photocationic polymerizable composition containing existing oxetane and polymerization] Example 3 except that compound 2 was used instead of compound 1.
A sample for photopolymerization was prepared in the same manner as described above, and the measurement was performed in the same manner as in Example 2.

【0040】実施例2及び比較例3〜5の測定結果を図
3に示す。オキセタン化合物を含まない比較例3の場合
照射初期の立ち上がりは良好であるが転化率は5秒後で
あっても32%であり硬化速度が遅いことが分かる。一
方、オキセタン化合物を含む系では初期の転化率は低い
が照射2秒後付近より転化率は向上し、5秒後には比較
例4では64%に比較例5では60%となっている。ま
た、本発明のオキセタンを含む実施例2では特に3秒以
降の硬化速度が高く5秒後では83%まで達している。 (鉛筆硬度測定)5秒照射後における、それぞれの塗膜
の鉛筆硬度をJIS K 5400にしたがって測定し
た。その結果を表1に示す。EPOXY Resinの
みで硬化
FIG. 3 shows the measurement results of Example 2 and Comparative Examples 3 to 5. In the case of Comparative Example 3 containing no oxetane compound, the rise at the beginning of irradiation was good, but the conversion was 32% even after 5 seconds, indicating that the curing rate was low. On the other hand, in the system containing the oxetane compound, the initial conversion rate is low, but the conversion rate is improved from around 2 seconds after irradiation, and after 5 seconds, it is 64% in Comparative Example 4 and 60% in Comparative Example 5. In Example 2 containing oxetane of the present invention, the curing speed was particularly high after 3 seconds and reached 83% after 5 seconds. (Measurement of Pencil Hardness) The pencil hardness of each coating film after irradiation for 5 seconds was measured according to JIS K5400. Table 1 shows the results. Cure with EPOXY Resin only

【0041】[0041]

【表1】 させた比較例3の場合、鉛筆硬度はHである。比較例4
はHであり比較例3と同等であるが比較例5は柔らかく
Bである。一方、本発明のオキセタンを含む実施例2で
は鉛筆硬度は2Hであり、短時間で十分な硬度を有する
塗膜が得られることがわかる。 (実施例3)[本発明オキセタンを含む熱カチオン重合
性組成物及び重合] 200mlビーカーに化合物1を10phr、EPOX
Y Resinを90phrさらに、熱重合開始剤(オ
プトンCP−66:旭電化工業社製)を2.5mol%
添加し50℃に加温した。均一に溶解後、真空脱気し窒
素置換後厚さ3mm、200mm×100mmの型(ガ
ラス版)中に上記樹脂液を流し込んだ。この型を60℃
のオーブンにいれ1時間加熱重合させ、硬化物を得た。 (比較例6)[キセタンを含まない熱カチオン重合性組
成物及び重合] 化合物1を使用しない(0phr)以外は実施例3と同
様な方法で熱重合用サンプルを作成し、さらに同様な方
法で加熱重合させ、硬化物を得た。 (比較例7)[既存オキセタンを含む熱カチオン重合性
組成物及び重合] 化合物1の代わりに比較物1を使用した以外は実施例3
と同様な方法で熱重合サンプルを作成し、さらに同様な
方法で加熱重合させ、硬化物を得た。 (比較例8)[既存オキセタンを含む熱カチオン重合性
組成物及び重合] 化合物1の代わりに比較物2を使用した以外は実施例3
と同様な方法で熱重合サンプルを作成し、さらに同様な
方法で加熱重合させ、硬化物を得た (熱変形温度測定)実施例3及び比較例6〜8で得られ
た硬化物をJIS K 7207に従い、熱変形温度
(HDT温度)を測定した。結果を表2に示す。比較例
6(EPOX
[Table 1] In the case of Comparative Example 3 performed, the pencil hardness is H. Comparative Example 4
Is H, which is equivalent to Comparative Example 3, but Comparative Example 5 is soft and B. On the other hand, in Example 2 containing oxetane of the present invention, the pencil hardness was 2H, and it can be seen that a coating film having sufficient hardness can be obtained in a short time. (Example 3) [Thermal cationically polymerizable composition containing oxetane of the present invention and polymerization] Compound 1 was added in a 200 ml beaker at 10 phr and EPOX.
90 phr of Y Resin and 2.5 mol% of a thermal polymerization initiator (Opton CP-66: manufactured by Asahi Denka Kogyo KK)
The mixture was heated to 50 ° C. After uniformly dissolving, the resin solution was poured into a mold (glass plate) having a thickness of 3 mm and a size of 200 mm × 100 mm after vacuum degassing and replacement with nitrogen. 60 ° C
And heated and polymerized for 1 hour to obtain a cured product. (Comparative Example 6) [Thermal cationic polymerizable composition containing no xetane and polymerization] A sample for thermal polymerization was prepared in the same manner as in Example 3 except that Compound 1 was not used (0 phr), and further the same method was used. Heat polymerization was performed to obtain a cured product. (Comparative Example 7) [Thermal cationically polymerizable composition containing existing oxetane and polymerization] Example 3 except that Compound 1 was used instead of Compound 1.
A thermopolymerized sample was prepared in the same manner as described above, and further heat-polymerized in the same manner to obtain a cured product. (Comparative Example 8) [Thermal cationic polymerizable composition containing existing oxetane and polymerization] Example 3 except that compound 2 was used instead of compound 1.
A heat-polymerized sample was prepared in the same manner as described above, and further heat-polymerized in the same manner to obtain a cured product (measurement of thermal deformation temperature). According to 7207, the heat distortion temperature (HDT temperature) was measured. Table 2 shows the results. Comparative Example 6 (EPOX

【0042】[0042]

【表2】 Y Resin単独)の熱変形温度は150℃であるの
に対し、比較例7は147℃、比較例8は142℃であ
り、既存のオキセタンを添加した系はむしろ熱変形温度
の低下をきたしている。一方、本発明のオキセタンを添
加した実施例3では熱変形温度は151℃でありEPO
XY Resinとほぼ同の熱変形温度を維持してい
る。
[Table 2] Y Resin alone has a heat distortion temperature of 150 ° C., whereas Comparative Example 7 has a heat deformation temperature of 147 ° C. and Comparative Example 8 has a heat deformation temperature of 142 ° C. I have. On the other hand, in Example 3 in which oxetane of the present invention was added, the heat deformation temperature was 151 ° C.
It maintains the same thermal deformation temperature as XY Resin.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば重合性が改善され、高分
子量が可能な耐熱性を改善したオキセタン化合物が提供
され、該化合物の製造法及び該化合物を含むカチオン重
合性組成物が提供される。
According to the present invention, there is provided an oxetane compound having improved polymerizability, a high molecular weight and improved heat resistance, a method for producing the compound, and a cationically polymerizable composition containing the compound. You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】化合物1(2−オキサスピロ[3,5]−5−
メチルノナン)の1H−NMRの測定結果である。
FIG. 1. Compound 1 (2-oxaspiro [3,5] -5
2 shows the measurement results of 1 H-NMR of methyl nonane).

【図2】化合物1(2−オキサスピロ[3,5]−5−
メチルノナン)の13C−NMRの測定結果である。
FIG. 2. Compound 1 (2-oxaspiro [3,5] -5-
Nonanoic) is a 13 C-NMR measurement results of the.

【図3】光重合の経時変化である。FIG. 3 is a time course of photopolymerization.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内田 博 大分県大分市大字中ノ州2番地 昭和電工 株式会社大分工場技術開発部内 (72)発明者 若林 正一郎 大分県大分市大字中ノ州2番地 昭和電工 株式会社大分工場技術開発部内 Fターム(参考) 4C048 TT08 UU05 XX01 XX02 XX04 4J005 AA07 AA11 BB01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Uchida 2nd Nakanoshu, Oaza Oita City, Oita Prefecture Showa Denko Corporation Technology Development Department, Oita Factory (72) Inventor Shoichiro Wakabayashi 2nd Onaka Nakanoshu, Oita City, Oita Prefecture Showa Denko Co., Ltd. Oita Factory Technology Development Department F term (reference) 4C048 TT08 UU05 XX01 XX02 XX04 4J005 AA07 AA11 BB01

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式1で表されるオキセタン化合物。
(一般式1) 【化1】 (式中、R1はフッ素、塩素、臭素または炭素数1〜2
0個のアルキル基、アリール基、フルオロアルキル基、
クロロアルキル基、ブロモアルキル基である。)
An oxetane compound represented by the general formula 1.
(General formula 1) (Wherein, R 1 is fluorine, chlorine, bromine, or C 1-2
0 alkyl groups, aryl groups, fluoroalkyl groups,
A chloroalkyl group and a bromoalkyl group. )
【請求項2】一般式1におけるR1がメチル基であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のオキセタン化合物。
Wherein the oxetane compound of claim 1 wherein R 1 in the general formula 1 is characterized in that it is a methyl group.
【請求項3】請求項1に記載のオキセタン化合物の製造
方法において、出発原料が一般式2で示される脂環式ジ
オールであることを特徴とするオキセタン化合物(一般
式2) 【化2】 (式中、R1はフッ素、塩素、臭素または炭素数1〜2
0個のアルキル基、アリール基、フルオロアルキル基、
クロロアルキル基、ブロモアルキル基である。)の製造
方法。
3. The method for producing an oxetane compound according to claim 1, wherein the starting material is an alicyclic diol represented by the general formula 2 (general formula 2). (Wherein, R 1 is fluorine, chlorine, bromine, or C 1-2
0 alkyl groups, aryl groups, fluoroalkyl groups,
A chloroalkyl group and a bromoalkyl group. ) Manufacturing method.
【請求項4】脂環式ジオールが2−メチル−シクロヘキ
サン−1,1−ジメタノールであり、オキセタン化合物
が一般式1のR1がメチル基である請求項3に記載のオ
キセタン化合物の製造方法。
4. The process for producing an oxetane compound according to claim 3, wherein the alicyclic diol is 2-methyl-cyclohexane-1,1-dimethanol, and the oxetane compound is a compound represented by the general formula 1 wherein R1 is a methyl group.
【請求項5】脂環式ジオールと炭酸ジエステルとを反応
させた後、オキセタン化反応を行うことを特徴とする請
求項3に記載のオキセタン化合物の製造方法。
5. The process for producing an oxetane compound according to claim 3, wherein an oxetane-forming reaction is carried out after reacting the alicyclic diol with the carbonic acid diester.
【請求項6】炭酸ジエステルが炭酸ジメチルエステルで
あることを特徴とする請求項5に記載のオキセタンの製
造方法。
6. The method for producing oxetane according to claim 5, wherein the diester carbonate is dimethyl carbonate.
【請求項7】請求項1に記載のオキセタン化合物とエポ
キシド化合物を含むカチオン重合性組成物。
7. A cationically polymerizable composition comprising the oxetane compound according to claim 1 and an epoxide compound.
【請求項8】請求項1に記載のオキセタン化合物、エポ
キシド化合物と光カチオン重合開始剤を含むカチオン重
合性組成物。
8. A cationically polymerizable composition comprising the oxetane compound according to claim 1, an epoxide compound and a cationic photopolymerization initiator.
【請求項9】請求項1に記載のオキセタン化合物、エポ
キシド化合物と熱カチオン重合開始剤を含むカチオン重
合性組成物。
9. A cationically polymerizable composition comprising the oxetane compound according to claim 1, an epoxide compound and a thermal cationic polymerization initiator.
【請求項10】エポキシド化合物がビスフェノールA型
オリゴマーであることを特徴とする請求項7に記載のカ
チオン重合性組成物。
10. The cationically polymerizable composition according to claim 7, wherein the epoxide compound is a bisphenol A type oligomer.
【請求項11】エポキシド化合物の分子量が1000未
満であることを特徴とする請求項7に記載のカチオン重
合性組成物。
11. The cationically polymerizable composition according to claim 7, wherein the epoxide compound has a molecular weight of less than 1,000.
【請求項12】光カチオン重合開始剤がトリアリールス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェトであることを特徴
とする請求項8または10に記載のカチオン重合性組成
物。
12. The cationically polymerizable composition according to claim 8, wherein the cationic photopolymerization initiator is triarylsulfonium hexafluorophosphate.
【請求項13】熱カチオン重合開始剤が2−ブテニルテ
トラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
トであることを特徴とする請求項9または10に記載の
カチオン重合性組成物。
13. The cationically polymerizable composition according to claim 9, wherein the thermal cationic polymerization initiator is 2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001310938A (en) * 2000-04-28 2001-11-06 Showa Denko Kk Polymerizable composition, its cured product and production method
JP2003055362A (en) * 2001-08-06 2003-02-26 Showa Denko Kk Alicyclic compound
WO2007111074A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111092A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111075A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111098A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001310938A (en) * 2000-04-28 2001-11-06 Showa Denko Kk Polymerizable composition, its cured product and production method
JP2003055362A (en) * 2001-08-06 2003-02-26 Showa Denko Kk Alicyclic compound
WO2007111074A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111092A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111075A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
WO2007111098A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing same

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