JP2001215693A

JP2001215693A - 画像形成材料及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001215693A
Application number: JP2000023902A
Authority: JP
Inventors: Toshitsugu Suzuki; 利継鈴木; Junko Honda; 淳子本田
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-02-01
Filing date: 2000-02-01
Publication date: 2001-08-10
Anticipated expiration: 2020-02-01
Also published as: JP4092840B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】感光性平版印刷版を用いた印刷作業時のクリ
ーナー拭き作業による画像部の溶出、剥がれ、更には修
正液使用で生じる消去フリンジ汚れを改善した画像形成
材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
（１）で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。（式中、Ａは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｘはアルキレンを表し、更にＹはカルボキシル基又
はその塩で置換された基、スルホ基又はその塩、ホスホ
ノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシ
シリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は活性光により可溶化
する、いわゆるポジ型の画像形成層を有する画像形成材
料及びその製造方法に関し、更に詳しくは半導体レーザ
ー等の赤外線による露光で画像形成されるポジ型感光性
平版印刷版等に適した画像形成材料及びその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の画像形成材料、とりわけポジ型感
光性平版印刷版は、一般的にアルミ製の支持体上に、ノ
ボラック樹脂をバインダーとした画像形成層を塗布して
得られている。このような感光性平版印刷版は、印刷作
業時でのクリーナー拭き作業により、次第に画像部の画
像形成層が溶けたり、支持体から剥がれたりする場合が
ある。このような薬品への耐性を上げるため、バインダ
ー樹脂としてアクリル樹脂系樹脂を併用することが知ら
れている。しかし、その方法では耐薬品性の向上が充分
とは言えなかった。また、感光性平版印刷版では、不必
要な画像や削除訂正が必要な画像部が生じることがあっ
て、修正することが必要となる。このような不要な画像
部を除去する修正剤が、特開昭５４−８９８０６号や特
公平５−２２３１号に記載されている。しかし、このよ
うな修正剤を用いても、塗られた修正液の周囲に線状に
インクが付着する部分が生じる、いわゆる消去フリンジ
汚れを完全に抑えることは出来なかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感光
性平版印刷版を用いた印刷作業時のクリーナー拭き作業
による画像部の溶出、剥がれ、更には修正液使用で生じ
る消去フリンジ汚れを改善した画像形成材料及びその製
造方法を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
構成により達成された。

【０００５】１）支持体上に画像形成層を有し、該画像
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び前記一般式
（１）で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。

【０００６】２）支持体上に画像形成層を有し、該画像
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤、一般式（１）
のＹがカルボキシル基で置換された基、スルホ基、ホス
ホノキシ基から選ばれる一般式（１）で示される繰り返
し単位を含む化合物及び有機アミン化合物、有機アニリ
ン化合物、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属塩から選
ばれる化合物を少なくとも１種含有し、レーザー露光に
より画像を形成することを特徴とする画像形成材料。

【０００７】３）支持体上に画像形成層を有し、該画像
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び前記一般式
（２）で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。

【０００８】４）レーザー露光照射により露光部のアル
カリ水性現像液への溶解性が変化することを特徴とする
前記１）、２）又は３）に記載の画像形成材料。

【０００９】５）画像形成層中に分解することにより酸
を発生する化合物及び酸の存在により分解する化合物を
含有することを特徴とする前記１）、２）又は３）に記
載の画像形成材料。

【００１０】６）画像形成層中に分解することにより酸
を発生する化合物及び酸の存在により架橋する化合物を
含有することを特徴とする前記１）、２）又は３）に記
載の画像形成材料。

【００１１】７）支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線
吸収剤、及び一般式（１）又は（２）から選ばれる繰り
返し単位を含む化合物を添加して得られる塗布液を塗設
することを特徴とする画像形成材料の製造方法。

【００１２】８）支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線
吸収剤、一般式（１）のＹがカルボキシル基で置換され
た基、スルホ基、ホスホノキシ基から選ばれる一般式
（１）で示される繰り返し単位を含む化合物及び有機ア
ミン化合物、有機アニリン化合物、水酸化アルカリ金
属、アルカリ金属塩から選ばれる化合物を少なくとも１
種を添加して得られる塗布液を塗設することを特徴とす
る画像形成材料の製造方法。

【００１３】以下、本発明について詳述する。一般式
（１）において、Ｙで表されるカルボキシル基又はその
塩で置換された基としては、具体的にはアルコキシ基、
アリーロキシ基が挙げられる。以下に一般式（１）の具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。

【００１４】

【化３】

【００１５】

【化４】

【００１６】

【化５】

【００１７】

【化６】

【００１８】一般式（１）の繰り返し単位は、樹脂中に
１〜２０ｍｏｌ％含まれていることが好ましく、さらに
好ましくは１〜５ｍｏｌ％である。また画像形成層中に
含まれる一般式（１）の繰り返し単位の含有量は、０．
００１〜０．０１ｍｍｏｌ／ｇである。一般式（１）の
繰り返し単位に含まれるＹとしては、スルホ基が好まし
い。またＹが酸基であるとき、塩の形で存在することが
好ましい。これは画像形成層中に、酸分解性又は酸架橋
性等の酸反応性の化合物を含むときに顕著で、好まし
い。

【００１９】請求項２における有機アミン化合物として
は、具体的にジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエ
タノールアミン、ジテチルエタノールアミン、トリエチ
ルアミン、エチルヘキシルアミン、プロピルアミン、ブ
チルアミン、メトキシプロピルアミン、ジアミノプロパ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ジブチルエタノールアミ
ンが挙げられる。

【００２０】有機アニリン化合物としては、アニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、アミノベンゾニトリル、アミノ安息香酸、アニシジ
ン、Ｎ−エチルアニリン、ジアミノジフェニルエーテ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルトルイジン、トルイジン、ニトロ
アニリン、ニトロトルイジン、フェニレンジアミン、フ
ェネチジン、キシリジン、クレシジンが挙げられる。

【００２１】水酸化アルカリ金属としては、水酸化リチ
ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが挙げられ、
アルカリ金属塩としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、クエン酸ナトリウムが挙げられ
る。

【００２２】これらの化合物は通常、０．００１〜０．
１質量％添加されることが好ましい。一般式（２）の具
体例は以下に示される。

【００２３】

【化７】

【００２４】以下に、一般式（１）又は（２）で示され
る繰り返し単位を含む化合物の比較化合物の例を記す。

【００２５】〔比較化合物Ｒ１の合成〕１００ｍｌの三
口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル（ＰＧＭ）を２５ｍｌ入れ、さらに窒素雰囲気下にお
いてＮ−ヒドロキシフェニルアクリルアミド３．５ｇ
（０．０２３ｍｏｌ）、メタクリル酸メチル３．０ｇ
（０．０３０ｍｏｌ）、メタクリロニトリル１．５１ｇ
（０．０２３ｍｏｌ）、アゾビスイソブチロニトリル
０．１８ｇを溶解後、撹拌しながら温度を７５℃に６時
間保った。その後、ハイドロキノン０．００４ｇを入れ
た後、エバポレーターにて減圧しながら８０℃に保っ
た。ＰＧＭが蒸留され始めたところで、減圧及び加熱を
やめ、これを化合物Ｒ１のＰＧＭ溶液とした。

【００２６】以下、モノマーを下記表の組成に代えて、
同様の方法で一般式（１）又は（２）で示される繰り返
し単位を含む化合物のＲ２及びＣ１〜Ｃ２２を合成し
た。

【００２７】

【表１】

【００２８】

【表２】

【００２９】

【表３】

【００３０】

【表４】

【００３１】なお、表３、４中のＦ１〜Ｆ４の合成は以
下の通りである。〔Ｆ１の合成〕下記のアミノ化合物Ｇ１、０．２０８ｍ
ｏｌを１８０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、０．２０８ｍ
ｏｌの炭酸カリウムを溶かした水５０ｍｌを加えた。こ
こに、メタクリル酸クロリド０．２０８ｍｏｌを溶解し
た５０ｍｌの酢酸エチルを、２５℃で３０分かけて滴下
した。一晩放置後、多量の水にて結析、濾過、乾燥する
ことにより目標のＦ１を得た。

【００３２】同様にして、下記アミノ化合物Ｇ２〜Ｇ４
を用いてＦ２〜Ｆ４を合成した。

【００３３】

【化８】

【００３４】本発明の赤外線吸収剤としては、波長７０
０ｎｍ以上に吸収を持つ赤外線吸収剤、カーボンブラッ
ク、磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤
外線吸収剤は７００〜８５０ｎｍに吸収ピークを有し、
ピークでのモル吸光係数εが１０⁵以上の赤外線吸収剤
である。

【００３５】赤外線吸収剤としては、シアニン系色素、
スクワリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウ
ム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系
色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チオピ
リリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アントラ
キノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分子間
ＣＴ色素等が挙げられる。

【００３６】又、赤外線吸収剤として、特開昭６３−１
３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６
０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４
２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−
３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３
号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−
４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の化合物
も挙げられる。

【００３７】本発明においては、赤外線吸収剤として、
下記一般式（Ｉ）又は（II）で表されるシアニン染料が
特に好ましい。

【００３８】

【化９】

【００３９】式中、Ｚ₁及びＺ₂は各々硫黄原子、セレン
原子又は酸素原子を表し、Ｘ₁及びＸ₂は各々置換基を有
していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ₃及びＲ₄は各々置
換基を表し、Ｒ₃及びＲ₄のどちらか一方はアニオン性解
離性基を有する。Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は各々炭素原子
数１〜３のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Ｌは炭素原子数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。

【００４０】一般式（Ｉ）又は（II）で表されるシアニ
ン色素は、前記一般式（Ｉ）又は（II）がカチオンを形
成し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、
対アニオンとしては、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＣｌＯ₄ ^-、Ｂ
Ｆ₄ ^-、ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ
素等が挙げられる。

【００４１】一般式（Ｉ）及び（II）において、Ｌで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹ
ＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好まし
い。また、この共役結合部分は任意の置換基を有するこ
とができ、また、共役結合部分は複数の置換基により環
を形成させてもよい。

【００４２】一般式（Ｉ）及び（II）において、Ｘ₁で
表される環及びＸ₂で表される環には任意の置換基を有
することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素
原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコ
キシ基、−ＳＯ₃Ｍ及び−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子又は
アルカリ金属原子）から選ばれる基が好ましい。

【００４３】Ｒ₃及びＲ₄は各々任意の置換基であるが、
好ましくは炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは炭素
原子数１〜５のアルコキシ基；−（（ＣＨ₂）_n−Ｏ−）
_k−（ＣＨ₂）_mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整数、ｋ
は０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基を表
す。）；Ｒ₃及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃Ｍで他方が−
Ｒ−ＳＯ₃ ^-（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、Ｍは
アルカリ金属原子を表す）；又はＲ₃及びＲ₄の一方が−
Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ^-（Ｒは炭素原子数
１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）
である。Ｒ₃及びＲ₄は感度及び現像性の点から、Ｒ₃及
びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃ ^-又は−Ｒ−ＣＯＯ^-、他方が
−Ｒ−ＳＯ₃Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭであることが好まし
い。

【００４４】一般式（Ｉ）又は（II）で表されるシアニ
ン色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用
する場合は７５０〜９００ｎｍにおいて、ＹＡＧレーザ
ーを使用する場合は９００〜１２００ｎｍにおいて吸収
ピークを示し、ε＞１×１０ ⁵のモル吸光係数を有する
ものが好ましい。

【００４５】一般式（Ｉ）又は（II）を含め、本発明に
用いられる赤外線吸収剤の代表的具体例を以下に挙げる
が、これらに限定されるものではない。

【００４６】

【化１０】

【００４７】

【化１１】

【００４８】

【化１２】

【００４９】

【化１３】

【００５０】

【化１４】

【００５１】

【化１５】

【００５２】

【化１６】

【００５３】

【化１７】

【００５４】

【化１８】

【００５５】

【化１９】

【００５６】

【化２０】

【００５７】

【化２１】

【００５８】

【化２２】

【００５９】

【化２３】

【００６０】赤外線吸収剤の添加量は０．０１〜１０質
量％で、好ましくは０．１〜５質量％である。

【００６１】これらの赤外線吸収剤は、勿論、公知の方
法によって合成することができるが、下記のような市販
品を用いることもできる。

【００６２】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２、ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２、ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２、ＣＹ−４、ＣＹ−
９、ＣＹ−１０、ＣＹ−２０三井東圧：ＫＩＲ１０３、ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１、ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１、ＰＡ１００５、ＰＡ１００６、Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系）大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎｂｌｕｅ８１２
０みどり化学：ＭＩＲ−１０１、１０１１、１０２１その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等
の各社からも市販されている。

【００６３】本発明において、分解することにより酸を
発生する化合物（以下、酸発生剤という）として、有機
ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感
度及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機
ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有
するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有する
オキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル
基を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。

【００６４】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号、同５５−２４１１３号、同５５−７７７４２号、同
６０−３６２６号及び同６０−１３８５３９号等に記載
の２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系化
合物が挙げられる。２−ハロメチル−１，３，４−オキ
サジアゾール系酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙
げる。

【００６５】

【化２４】

【００６６】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（III）で表される
化合物が好ましい。

【００６７】

【化２５】

【００６８】一般式（III）において、Ｒはアルキル
基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換され
ていてもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例え
ば、フェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を
表し、Ｘはハロゲン原子を表す。一般式（III）で表さ
れるｓ−トリアジン系酸発生剤の化合物例を次に示す。

【００６９】

【化２６】

【００７０】

【化２７】

【００７１】本発明において酸発生剤の含有量は、その
化学的性質及び本発明の画像形成材料の画像形成層の組
成あるいは物性によって広範囲に変えることができる
が、画像形成層の固形分の全質量に対して約０．１〜２
０質量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０
質量％の範囲である。

【００７２】本発明に用いられる酸の存在により分解す
る化合物（以下、酸分解化合物という）としては、具体
的には特開昭４８−８９００３号、同５１−１２０７１
４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９９５
号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５号に
記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭
６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記載さ
れているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０
−３６２５号、同６０−１０２４７号に記載されている
その他の酸分解化合物。さらにまた特開昭６２−２２２
２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化合
物、特開昭６２−２５１７４３号に記載されている炭酸
エステル、特願昭６０−２５１７４４号に記載されてい
るオルト炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号に
記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−
２８０８４２号に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特開昭６３−１０１５３号に記載されているアセタ
ール及びケタール、特開昭６２−２４４０３８号に記載
されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などが挙げられ
る。

【００７３】上記のうち、前記特開昭５３−１３３４２
９号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６
号、同６０−３７５４９号、同６３−１０１５３号及び
特願昭６０−２５１７４４号に記載されているＣ−Ｏ−
Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。

【００７４】それらの中でも、特開昭５３−１３３４２
９号に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又はケタ
ール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用に
よって上昇する有機重合化合物、及び特開昭６３−１０
１５３号に記載の下記構造単位

【００７５】

【化２８】

【００７６】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。本発明に用いられる酸分解化合物の具体例と
しては、前記各公報及び明細書に記載された化合物を挙
げることができる。また、該化合物の合成方法は、前記
各公報及び明細書に記載されている。

【００７７】本発明において酸分解化合物として、−
（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基（ｎは２〜５の整数を表す）を
有する化合物が、感度及び現像性のバランスの点から好
ましい。また、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖
数ｎが３又は４の化合物が特に好ましい。上記−（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基を有する化合物の具体例としては、ジ
メトキシシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれら
の置換誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレ
ングリコールのいずれかとの縮合生成物が挙げられる。

【００７８】また、本発明において酸分解化合物とし
て、下記一般式（IV）で表される化合物が感度及び現像
性の点から好ましい。一般式（IV）において、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₂が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙
げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げら
れ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。
一般式（IV）で表される化合物のうち、ｍ及びｎが１又
は２である化合物が特に好ましい。一般式（IV）で表さ
れる化合物は公知の方法で合成することができる。

【００７９】

【化２９】

【００８０】本発明において、酸分解化合物の含有量
は、画像形成層を形成する組成物の全固形分に対し、５
〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０質
量％である。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２
種以上を混合して用いてもよい。

【００８１】本発明において、酸の存在に架橋する化合
物（以下、酸架橋化合物という）としては、官能基とし
てアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチ
ル基等を少なくとも２個有するアミノ化合物、例えばヘ
キサメチロールメラミン、メラミン誘導体（ヘキサメト
キシメチル化メラミン（三井サイアナミッド（株）製サ
イメル３００シリーズ（１）等））、ベンゾグアナミン
誘導体（メチル／エチル混合アルキル化ベンゾグアナミ
ン樹脂（三井サイアナミッド（株）製サイメル１１００
シリーズ（２））等）、グリコールウリル誘導体（テト
ラメチロールグリコールウリル（三井サイアナミッド
（株）製サイメル１１００シリーズ（３））等）、ま
た、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、
アセトキシメチル基等を有する少なくとも２置換の芳香
族化合物、例えば１，３，５−トリアセトキシメチルベ
ンゼン、１，２，４，５−テトラアセトキシメチルベン
ゼン等が挙げられ、これらはＰｏｌｙｍ．Ｍａｓｔｅ
ｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，６４，２４１（１９９１）に記
載の手法により合成することができる。

【００８２】酸架橋化合物として、上記に加えてレゾー
ル樹脂及びフラン樹脂も使用することができる。さら
に、以下に示す単量体を含む単量体から合成されるアク
リル樹脂を使用することができる。

【００８３】Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒド
ロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを１〜５０モル％、好ましくは
５〜３０モル％共重合体させる態様である。

【００８４】本発明の酸架橋化合物の含有量は、画像形
成層を形成する組成物の全固形分に対し、５〜６０質量
％が好ましく、特に好ましくは１０〜３０質量％であ
る。酸架橋化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種
以上を混合して用いてもよい。

【００８５】本発明には紫外線吸収剤としては、公知の
種々のものを用いることができ、例えばサルチル酸系、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアク
リレート系等が挙げられるが、これらの具体的な若干例
を以下に示す。

【００８６】ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレー
トｐ−オクチルフェニルサリシレートフェニルサリシレート２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−オクトキベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾ
フェノン２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェ
ノン２−（２′−ヒドロキシ−５′−メトキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−
５′−メチルフェニル）−５−ベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−
アミルフェニル）ベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ビス（α，α′
ジメチルベンジルフェニル））−５−クロロベンゾトリ
アゾールこれらの紫外線吸収剤のうち好ましいものは、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート
系のものである。

【００８７】これらの紫外線吸収剤は単独で使用しても
よいし、２種以上を混合して使用してもよい。紫外線吸
収剤の添加量は、使用するレーザー光源（吸収波長、強
度）を考慮して選択されるが、本発明においては、１ｍ
²当たり０．０１〜１０ｇの範囲とすることが好まし
く、特に好ましくは０．１〜５ｇの範囲である。

【００８８】また本発明には可視画性染料として、画像
形成層に下記一般式（Ｖ）〜（VIII）で表される化合物
を含有することができる。

【００８９】

【化３０】

【００９０】一般式（Ｖ）〜（VIII）において、Ｒ₁〜
Ｒ₃は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキル
ヒドロキシ基、アルキルオキシ基を表し、Ｘはハロゲン
原子、アニオン分子、Ｙは硫黄原子、酸素原子を表す。

【００９１】Ｒ₁〜Ｒ₃のアルキル基としては炭素数１〜
５の直鎖或いは分岐のアルキル基であり、好ましくは炭
素数１〜３である。又、アルコキシ基としてはメトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基が好ましく、アルキルヒド
ロキシ基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエ
チル基が好ましく、アルキルオキシ基としては、メトキ
シメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エ
トキシエチル基が好ましい。Ｘはハロゲン原子、アニオ
ン分子であり、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素が好ましく、又アニオン分子としてはスルホン酸、１
／２ＺｎＣｌ₂等が好ましいが、特に制限はない。

【００９２】一般式（Ｖ）〜（VIII）で表される化合物
の画像形成層への添加量は、固形分全体に対して０．１
質量以上、１０質量％以下が好ましく、より好ましくは
０．５質量以上、５質量％以下である。

【００９３】これら一般式（Ｖ）〜（VIII）で表される
化合物の露光波長の吸収極大は、可視画性を有するのに
好ましい波長であればよく、本発明においては赤外露光
系を対象としているのでこの領域の波長を吸収しない波
長であれば制限はない。しかし４００〜７００ｎｍの波
長に感応することが、本発明の効果を奏する上で非常に
好ましい。

【００９４】以下に一般式（Ｖ）〜（VIII）で表される
化合物の具体例を挙げるが、本発明では特にこれらに限
定されるものではない。

【００９５】

【化３１】

【００９６】本発明のバインダーとして機能するノボラ
ック樹脂としては、例えばフェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭５
５−５７８４１号に記載されているようなフェノール・
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭
５５−１２７５５３号に記載されているような、ｐ−置
換フェノールとフェノールもしくは、クレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が挙げられる。

【００９７】画像形成層にはノボラック樹脂のほかに、
アクリル樹脂を含有させることができる。該アクリル樹
脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれらのエステル
類を構成単位とする重合体であり、好ましくは下記一般
式（IX）で表される単量体単位を有する重合体である。
ノボラック樹脂は画像形成層に対して２０〜８０質量％
の範囲で含有させることが好ましく、アクリル樹脂は画
像形成層に対して１〜５０質量％の範囲で含有させるこ
とが好ましく、５〜３０質量％の範囲がより好ましい。

【００９８】

【化３２】

【００９９】一般式（IX）において、Ｒ₁及びＲ₂はそれ
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。
Ｒ₃は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子
又はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基である。Ｒ₄は水素原子、メ
チル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表す。

【０１００】Ｙは置換基を有するものも含むフェニレン
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換されてい
るものである。

【０１０１】Ｘは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る２価の有機基で、ｎは０〜５の整数を表し、好ましく
はｎが０のときである。

【０１０２】一般式（IX）で表される構造単位を有する
重合体は、さらに具体的に、例えば下記（ａ）〜（ｆ）
で表すことができる。

【０１０３】

【化３３】

【０１０４】（ａ）〜（ｆ）において、Ｒ₁〜Ｒ₅はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、
ｍ、ｎ、ｌ、ｋ及びｓはそれぞれの構造単位のモル％を
表す。

【０１０５】本発明の好ましい態様として、画像形成層
がノボラック樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態
様が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オ
キシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール
脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリエチレン
グリコール等が挙げられる。ノボラック樹脂は画像形成
層に対して２０〜８０質量％の範囲で含有させることが
好ましく、ノニオン界面活性剤は画像形成層に対して、
０．０１〜１０質量％の範囲で含有させることが好まし
く、０．１〜１．０質量％の範囲がより好ましい。

【０１０６】本発明の画像形成層には、フッ素系界面活
性剤を０．００１〜５質量％含有させることができる。
経時による非画像部の汚れ発生防止の点から好ましい。
フッ素系界面活性剤としては、例えば次のような化合物
が挙げられる。

【０１０７】

【化３４】

【０１０８】フッ素系界面活性剤としては市販品を用い
ることもでき、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ
−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、
「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも旭硝子
（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４
３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミカル−
住友スリーエム（株）製）、エフトップ「ＥＦ３５
２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新秋
田化成（株）製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、
「８０３６」（いずれもシュベグマン社製）、「ＢＭ１
０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミ
ー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−１７
７」（いずれも大日本インキ化学（株）製）等を挙げる
ことができる。

【０１０９】本発明におけるフッ素系界面活性剤のフッ
素含有割合は、０．０５〜２％、好ましくは０．１〜１
％である。また、保護層への添加量は０．００１〜１０
％が好ましい。上記のフッ素系界面活性剤は、１種又は
２種以上を併用することができ、またその他の界面活性
剤と併用することができる。

【０１１０】本発明の画像形成層には、画像形成層の感
脂性を向上するために親油性の樹脂を添加することがで
きる。

【０１１１】上記親油性の樹脂としては、例えば特開昭
５０−１２５８０６号に記載されているような、炭素数
３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類とアル
デヒドの縮合物、例えばｔブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂などが使用可能である。

【０１１２】本発明の画像形成材料は、画像形成層を形
成する各成分を溶媒に溶解させて、適当な支持体の表面
に塗布し乾燥することにより画像形成層を設けて製造す
ることができる。

【０１１３】使用し得る溶媒として、例えばメチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノイソプロピルエーテル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエ
チルエーテル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチ
ル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、酪酸メチル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、
γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒は、
単独であるいは２種以上を混合して使用することができ
る。

【０１１４】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば回転
塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エアー
スプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途により
異なるが、例えば、固形分として０．０５〜５．０ｇ／
ｍ²の塗布量が好ましい。

【０１１５】本発明の画像形成材料の処理には、従来の
常法が適用される。すなわち、線画像、網点画像等を有
する透明原画を通して露光し、次いで水性現像液で現像
処理することにより、原画に対してネガのレリーフ像を
得ることができる。露光に好適な活性光の光源として
は、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプ、ストロボ、レーザー光等が挙げられ
るが、本発明の感光性組成物は、アルゴンイオンレーザ
ー等の可視光レーザーに対して十分な感度を有してお
り、アルゴンイオンレーザー等の可視光レーザーを用
い、デジタル化された情報に基づいて走査露光するのに
好ましく用いられる。

【０１１６】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、ＰＬＺＴ等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能である。こ
の場合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うこ
とができる。

【０１１７】レーザーの場合には、光をビーム状に絞
り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マ
スク材料を使用せず、直接書き込みを行うのに適してい
る。またレーザーを光源として用いる場合には、露光面
積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画
像形成が可能となる。

【０１１８】本発明で用いられるレーザー光源は、可視
光領域に発振波長を有するものであれば一般によく知ら
れている、ＹＡＧレーザー及びＹＡＧレーザーの第２次
高調波、ガラスレーザー等の固体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザー、ＣＯ₂レーザー、Ａｒイオンレーザー、Ｋｒ
イオンレーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー等の気体レーザ
ー、その他の放電励起分子レーザー、エキシマーレーザ
ー、化学レーザー、色素レーザー、半導体レーザー等を
使用することができる。その中でも、ＹＡＧレーザーの
第２次高調波、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、半導体レーザー、
Ａｒイオンレーザーが好ましい。

【０１１９】半導体レーザーの中では、光学効率を大幅
に低下させることなく焦点において、１／ｅ²直径数μ
ｍ〜数十μｍに絞り込み易いものとして、いわゆるシン
グルモードレーザーダイオードを用いることが好まし
い。レーザー以外の光源としては発光ダイオード（ＬＥ
Ｄ）が挙げられる。複数の発光素子を集積したアレイと
して使用しやすいものは、ＬＥＤおよび半導体レーザー
である。

【０１２０】光源の波長として４００〜５５０ｎｍ前後
のものが求められるときは、半導体レーザーまたはＹＡ
Ｇレーザーと非線形光学効果を有する素子を組み合わせ
て、半波長に変換することも可能である。

【０１２１】レーザーの走査方法としては、円筒外面走
査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査
では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させな
がらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレ
ーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ド
ラム内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側か
ら照射し、光学系の一部又は全部を回転させることによ
り、円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部を
ドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に
副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバ
ノミラーとＦθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主
走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒
外面走査および円筒内面走査の方が光学系の精度を高め
易く、高密度記録には適している。円筒外面走査の場
合、ドラムの回転速度を上げることにより走査速度を上
げることは容易であるが、回転速度の上昇は記録材料に
帯電を生じ易く、これによって埃が吸い寄せられ画像欠
陥が発生する。複数の発行素子を同時に使用する、いわ
ゆるマルチチャンネル露光の場合、円筒外面走査が最も
適している。

【０１２２】本発明の画像形成材料の現像処理に用いら
れる現像液は、公知のいずれのものであってもよいが、
特定の有機溶媒とアルカリ剤と水とを必須成分として含
有した液を用いることが好ましい。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部（非画線部）を溶解または膨潤することが
でき、しかも通常（２０℃）において水に対する溶解度
が１０質量％以下の有機溶媒をいう。このような有機溶
媒としては上記のような特性を有するものでありさえす
ればよく、以下のもののみに限定されるものではない
が、これらを例示するならば、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レプリ
ン酸ブチル等のカルボン酸エステル、エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフ
ェニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メチルア
ミルアルコール等のアルコール類、キシレン等のアルキ
ル置換芳香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素などがある。これらの有機溶媒は一種以上用いて
もよい。これらの有機溶媒の中では、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有
効である。またこれら有機溶媒の現像液中における含有
量は、おおむね０．００１〜２０質量％であり、特に
０．０１〜１０質量％のとき好ましい結果を得る。

【０１２３】他方、現像液中に含有されるアルカリ剤と
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三リン酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ
ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレ
ンアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。

【０１２４】好ましいのはケイ酸カリウム、ケイ酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであ
る。アルカリ剤は単独で用いてもよいし、２種以上混合
してもよい。これらアルカリ剤の現像液中における含有
量は通常０．０５〜８質量％で、好ましくは０．５〜６
質量％である。

【０１２５】また、保存安定性、耐刷性等をより以上に
高めるためには、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液
中に含有させることが好ましい。このような水溶性亜硫
酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金
属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリ
ウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。
これらの亜硫酸塩の現像液組成における含有量は通常
０．０５〜４質量％で、好ましくは０．１〜１質量％で
ある。

【０１２６】また、上述の特定の有機溶媒の水への溶解
を助けるために一定の可溶化剤を含有させることもでき
る。このような可溶化剤としては、用いる特定の有機溶
媒より水易溶性、低分子アルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン系界面活性剤、両性界面活性
剤等も用いることができる。このようなアルコール、ケ
トン類としては、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール、
エトキシブタノール、４−メトキシメチルブタノール、
Ｎ−メチルピロリドン等を用いることが好ましい。ま
た、界面活性剤としては、例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、ｎ−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量について特に制限はないが、一般に現像液全体
に対し約３０質量％以下とすることが好ましい。

【０１２７】

【実施例】実施例１「支持体の作製」厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材
質１０５０、調質Ｈ１６）を、６５℃に保たれた５％水
酸化ナトリウム水溶液で、１分間脱脂処理をおこなった
後水洗し、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に１分
間浸漬し、中和し、更に水洗した。このアルミニウム板
を１．０質量％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、
電流密度１０Ａ／ｄｍ²、処理時間６０秒の条件で交流
電流により電解粗面化を行なった。

【０１２８】次いで５％水酸化ナトリウム水溶液中で、
温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行ない、その
後２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄｍ
²、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を行った。そ
の後、８０℃に保たれた１％酢酸アンモニウム水溶液中
に３０秒間浸漬し、水洗後８０℃で３分間乾燥した。更
に、８５℃に保たれたカルボキシメチルセルロース（Ｃ
ＭＣと以下略す）の水溶液（濃度０．１質量％）に３０
秒浸漬した後、８０℃で５分間乾燥し、支持体を作製し
た。

【０１２９】〈製造例１〉ノボラック樹脂３００ｍｌのセパラブルフラスコに、フェノール３．４
８ｇ、メタクレゾール４５．８４ｇ、パラクレゾール３
０．５６ｇ、ホルマリン（３７％水溶液）３２．１ｇ、
しゅう酸０．１６ｇを仕込み、１１０℃の油浴で３時間
加熱撹拌し反応させ、生成物を減圧乾燥してノボラック
樹脂を得た。このようにして得られた樹脂の重量平均分
子量は３７００だった。

【０１３０】〈製造例２〉酸分解化合物１，１−ジメトキシシクロヘキサン５８ｇ、ジエチレン
グリコール８５ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１９４ｍｇ
およびトルエン２００ｍｌを混合し、１２０℃で撹拌さ
せながら１１時間反応させた。反応終了後、反応によっ
て生成したメタノールおよび反応溶剤を除去し、２００
ｍｌの水で洗浄後、４００ｍｌの１％水酸化ナトリウム
水溶液で洗浄したのち、中性になるまで飽和食塩水で洗
浄した。得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水した
後、減圧蒸留して目的の酸分解化合物を得た。

【０１３１】（感光性組成物）赤外線吸収剤（ＩＲ２５）１質量部酸発生剤（（III）−１）３質量部酸分解化合物（製造例２）２０質量部ノボラック樹脂（製造例１）７３質量部化合物Ｃ１３質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル７００質量部メチルエチルケトン３００質量部前記作製した支持体上に、上記組成を有する感光液を乾
燥質量が２．０ｇ／ｍ ²になるようにワイヤーバーで塗
布し、９５℃雰囲気中９０秒間乾燥させ画像形成材料を
得た。

【０１３２】得られた感光性平版印刷版を、半導体レー
ザー（吸収波長８３０ｎｍ、出力５００ｍＷ）で画像露
光を行った。レーザー半径はピークにおける強度の１／
ｅ²で１３μｍであった。また、解像度は走査方向、副
走査方向とも２０００ｄｐｉ（ｄｐｉとは、１インチ即
ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）とした。画像
露光後、所定濃度に水で希釈したコニカＰＳ版用現像液
ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）で３０℃、３０分間浸漬
し現像させた後、水洗し乾燥を行った。

【０１３３】感度評価上記条件において、露光部が現像されるのに必要な露光
エネルギー（ｍｊ／ｃｍ²）で評価した。

【０１３４】耐薬品性上記、感度評価画像により得られた画像を、ウルトラプ
レートクリーナー（大日精化（株）製）の原液に浸漬さ
せ、水洗し、浸漬前の画像部との比較を目視にて評価を
行った。画像部の侵食が僅かにあり、画像形成層下の支
持体の砂目がやや露出した時間を測定した。

【０１３５】消去性幅０．５ｃｍ、長さ１０ｃｍの画像部を、消去液ＲＰ−
１Ｓ（富士フイルム（株）製）にて消去し、水洗した。
その後、版表面に整面液を塗布し、２５０℃、６分間加
熱後、再び水洗し、現像インキＳＰＯ−１（コニカ
（株）製）を版面に盛り付けた。この時の消去液跡の周
囲に、インキの付着した汚れが認められるか確認した。

【０１３６】 ○：汚れが認められない △：目視では認められないが、ルーペを用いた場合、汚
れが認められる ×：目視で汚れが認められる実施例２〜２２感光性組成物中の化合物Ｃ１をＣ２〜Ｃ２２に置き換え
た以外は、実施例１と同様の評価を実施した。

【０１３７】比較例１感光性組成物中の化合物Ｃ１をＲ１に置き換えた以外
は、実施例１と同様の評価を実施した。

【０１３８】比較例２感光性組成物を下記の内容のものに置き換えた以外は、
実施例１と同様の評価を実施した。

【０１３９】赤外線吸収剤（ＩＲ２５）１質量部酸発生剤（（III）−１）３質量部酸分解化合物（製造例２）２０質量部ノボラック樹脂（製造例１）６１質量部化合物Ｒ１１５質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル７００質量部メチルエチルケトン３００質量部比較例３感光性組成物を下記の内容のものに換えた以外は、実施
例１と同様の評価を実施した。

【０１４０】赤外線吸収剤（ＩＲ２５）１質量部酸発生剤（（III）−１）３質量部酸分解化合物（製造例２）２０質量部ノボラック樹脂（製造例１）７６質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル７００質量部メチルエチルケトン３００質量部

【０１４１】

【表５】

【０１４２】表５から、耐薬品性、消去性において実施
例１〜２２、即ち本発明の試料が比較試料より優れてい
ることが分かる。

【０１４３】

【発明の効果】本発明によって、感光性平版印刷版を用
いた印刷作業時のクリーナー拭き作業による画像部の溶
出、剥がれ、更には修正液使用で生じる消去フリンジ汚
れを改善することができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/40 ５１１Ｇ０３Ｆ 7/40 ５１１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
（１）で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。【化１】（式中、Ａは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｘはアルキレンを表し、更にＹはカルボキシル基又
はその塩で置換された基、スルホ基又はその塩、ホスホ
ノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシ
シリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。）
【請求項２】支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤、一般式（１）の
Ｙがカルボキシル基で置換された基、スルホ基、ホスホ
ノキシ基から選ばれる一般式（１）で示される繰り返し
単位を含む化合物及び有機アミン化合物、有機アニリン
化合物、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属塩から選ば
れる化合物を少なくとも１種含有し、レーザー露光によ
り画像を形成することを特徴とする画像形成材料。
【請求項３】支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
（２）で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。【化２】（式中、Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ同一又は異なる基で水素原
子、ハロゲン原子、アルキル、アルコキシ、アルコキシ
カルボニル、アシル、アリーロキシ、アラルキル、ヒド
ロキシル、シアノ、アミド、ニトロ、アミノ基から選ば
れる基である。但し、少なくとも一つはヒドロキシル基
である。）
【請求項４】レーザー露光照射により露光部のアルカ
リ水性現像液への溶解性が変化することを特徴とする請
求項１、２又は３に記載の画像形成材料。
【請求項５】画像形成層中に分解することにより酸を
発生する化合物及び酸の存在により分解する化合物を含
有することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の画
像形成材料。
【請求項６】画像形成層中に分解することにより酸を
発生する化合物及び酸の存在により架橋する化合物を含
有することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の画
像形成材料。
【請求項７】支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線吸
収剤、及び一般式（１）又は（２）から選ばれる繰り返
し単位を含む化合物を添加して得られる塗布液を塗設す
ることを特徴とする画像形成材料の製造方法。
【請求項８】支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線吸
収剤、一般式（１）のＹがカルボキシル基で置換された
基、スルホ基、ホスホノキシ基から選ばれる一般式
（１）で示される繰り返し単位を含む化合物及び有機ア
ミン化合物、有機アニリン化合物、水酸化アルカリ金
属、アルカリ金属塩から選ばれる化合物を少なくとも１
種を添加して得られる塗布液を塗設することを特徴とす
る画像形成材料の製造方法。