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JP2001284698A - Light emitting element - Google Patents

Light emitting element

Info

Publication number
JP2001284698A
JP2001284698A JP2000102149A JP2000102149A JP2001284698A JP 2001284698 A JP2001284698 A JP 2001284698A JP 2000102149 A JP2000102149 A JP 2000102149A JP 2000102149 A JP2000102149 A JP 2000102149A JP 2001284698 A JP2001284698 A JP 2001284698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
light emitting
frequency
magnetic loss
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000102149A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinya Watanabe
真也 渡辺
Koji Kamei
浩二 亀井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokin Corp
Original Assignee
Tokin Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokin Corp filed Critical Tokin Corp
Priority to JP2000102149A priority Critical patent/JP2001284698A/en
Priority to EP01108485A priority patent/EP1143480A1/en
Priority to KR1020010017978A priority patent/KR20010095324A/en
Priority to CN01119208A priority patent/CN1324090A/en
Priority to US09/826,145 priority patent/US6703778B2/en
Priority to SG200102011A priority patent/SG106053A1/en
Priority to NO20011710A priority patent/NO20011710L/en
Publication of JP2001284698A publication Critical patent/JP2001284698A/en
Priority to US10/763,363 priority patent/US20040150342A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress a high-frequency radiating noise radiated from a light emitting element without taking a space. SOLUTION: A mesh-like magnetic loss film (15) is partly formed at least on a surface of a light emitting window (13) in the light emitting element (10) having the window (13). In this case, as the film (15), a granular magnetic thin film can be used. The film may, for example, be a sputtered film formed by a sputtering method using a mask or may be a knitted film formed by knitting wires.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光窓を持つ発光
素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device having a light emitting window.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高速動作する高集積な半導体素子
の普及が著しい。その例として,ランダムアクセスメモ
リ(RAM),リードオンリーメモリ(ROM),マイ
クロプロセッサ(MPU),中央演算処理装置(CP
U)又は画像プロセッサ算術論理演算装置(IPAL
U)等の論理回路素子がある。これらの能動素子におい
ては,演算速度や信号処理速度が日進月歩の勢いで高速
化されており、高速電子回路を伝播する電気信号は、電
圧,電流の急激な変化を伴うために,誘導性の高周波ノ
イズの主要因となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, highly integrated semiconductor elements that operate at high speed have become remarkably popular. For example, random access memory (RAM), read only memory (ROM), microprocessor (MPU), central processing unit (CP)
U) or an image processor arithmetic logic unit (IPAL)
U) and the like. In these active elements, the operation speed and signal processing speed are increasing at a rapid pace, and electric signals propagating through high-speed electronic circuits are accompanied by abrupt changes in voltage and current. It is the main cause of noise.

【0003】一方,電子部品や電子機器の軽量化,薄型
化,小型化の流れも止まる事を知らぬが如く急速な勢い
で進行している。それに伴い,半導体素子の集積度や、
プリント配線基板への電子部品実装密度の高密度化が著
しい。従って、過密に集積あるいは実装された電子素子
や信号線が、互いに極めて接近することになり,前述し
た信号処理速度の高速化と併わせて、高周波輻射ノイズ
が誘発され易い状況となっている。
On the other hand, electronic components and electronic devices are progressing at a rapid pace, as it is not known that the flow of weight reduction, thinning, and miniaturization will stop. Along with that, the degree of integration of semiconductor devices,
The mounting density of electronic components on printed wiring boards has been remarkably increased. Therefore, electronic elements and signal lines that are densely integrated or mounted are extremely close to each other, and high-frequency radiation noise is likely to be induced along with the above-described increase in signal processing speed.

【0004】このような高周波輻射ノイズは、例えば、
光ディスクドライブ用の光学ピックアップに使用される
レーザダイオードなどの発光素子から放射される場合も
ある。何故なら、レーザダイオードは高速で動作する場
合があり、このような場合にはレーザダイオードからは
光(赤外線)ばかりでなく高周波輻射ノイズをも放射さ
れるからである。
[0004] Such high-frequency radiation noise is, for example,
The light may be emitted from a light emitting element such as a laser diode used in an optical pickup for an optical disk drive. This is because a laser diode may operate at high speed, and in such a case, not only light (infrared rays) but also high-frequency radiation noise is emitted from the laser diode.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては、上記発光素子から放射される高周波輻射ノイ
ズに対しては何の対策も施されていなかった。
However, no countermeasures have been taken in the past for high frequency radiation noise radiated from the light emitting element.

【0006】したがって、本発明の目的は、高周波輻射
ノイズを抑制することが可能な発光素子を提供すること
にある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a light emitting device capable of suppressing high frequency radiation noise.

【0007】本発明の他の目的は、スペースをとらずに
上記抑制効果を達成することができる発光素子を提供す
ることにある。
Another object of the present invention is to provide a light-emitting element which can achieve the above-mentioned suppression effect without taking up space.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以前に高
周波での磁気損失の大きな複合磁性体を発明し、これを
不要輻射源の近傍に配置する事で、上記した半導体素子
や電子回路などから発生する不要輻射を効果的に抑制す
る方法を見出している。この様な磁気損失を利用した不
要輻射減衰の作用機構については、最近の研究から、不
要輻射源となっている電子回路に対して等価的な抵抗成
分が付与されることによることが分かっている。ここ
で、等価的な抵抗成分の大きさは、磁性体の磁気損失項
μ”の大きさに依存している。より詳しくは、電子回路
に等価的に挿入される抵抗成分の大きさは、磁性体の面
積が一定の場合にはμ”と磁性体の厚さに略比例する。
したがって、より小さなあるいはより薄い磁性体で所望
の不要輻射減衰を得るためには、より大きなμ”が必要
になってくる。例えば、半導体素子のモールド内部のよ
うな微小領域において磁気損失体を用いた不要輻射対策
を行う為には、磁気損失項μ”がきわめて大きな値であ
る必要があり、従来の磁気損失材料に比べて格段に大き
なμ”を有する磁性体が求められていた。本発明は、か
かる現状に鑑みてなされたものである。
The present inventors have previously invented a composite magnetic material having a large magnetic loss at a high frequency and arranged it near an unnecessary radiation source, so that the above-described semiconductor element or electronic device can be obtained. A method has been found for effectively suppressing unnecessary radiation generated from a circuit or the like. Recent studies have shown that the mechanism of the unwanted radiation attenuation using such magnetic loss is due to the addition of an equivalent resistance component to the electronic circuit that is the unwanted radiation source. . Here, the magnitude of the equivalent resistance component depends on the magnitude of the magnetic loss term μ ″ of the magnetic material. More specifically, the magnitude of the resistance component equivalently inserted into the electronic circuit is: When the area of the magnetic body is constant, μ ″ is substantially proportional to the thickness of the magnetic body.
Therefore, in order to obtain a desired unnecessary radiation attenuation with a smaller or thinner magnetic body, a larger μ ″ is required. For example, a magnetic loss body is used in a minute area such as the inside of a mold of a semiconductor device. In order to take measures against unnecessary radiation, the magnetic loss term μ ″ needs to be an extremely large value, and a magnetic material having a much larger μ ″ than conventional magnetic loss materials has been required. Has been made in view of the current situation.

【0009】また、本発明者らは、スパッタ法あるいは
蒸着法による軟磁性体の研究過程において、微小な磁性
金属粒子が、セラミックスのような非磁性体中に均質に
分散されたグラニュラー磁性体の優れた透磁率特性に着
目し、磁性金属粒子とそれを囲う非磁性体の微細構造を
研究した結果、グラニュラー磁性体中に占める磁性金属
粒子の濃度が特定の範囲にある場合に、高周波領域にお
いて優れた磁気損失特性が得られる事を見出した。M−
X−Y(Mは磁性金属元素、YはOあるいはN,Fのい
づれか、XはM、Y以外の元素)なる組成を有するグラ
ニュラー磁性体については、これまでに多くの研究がな
され、低損失で大きな飽和磁化を有する事が知られてい
る。このM−X−Yグラニュラー磁性体において、飽和
磁化の大きさは、M成分の占める体積率に依存するの
で、大きな飽和磁化を得るためには、M成分の比率を高
くする必要がある。そのため、高周波インダクタ素子あ
るいはトランス等の磁心として用いるような一般的な用
途にはM−X−Yグラニュラー磁性体中のM成分の割合
は、M成分のみからなるバルク金属磁性体の飽和磁化の
おおむね80%以上の飽和磁化が得られる範囲に限られ
ていた。
In the course of research on a soft magnetic material by a sputtering method or a vapor deposition method, the present inventors have developed a method of forming a granular magnetic material in which fine magnetic metal particles are homogeneously dispersed in a non-magnetic material such as ceramics. Focusing on the excellent permeability characteristics, we studied the microstructure of magnetic metal particles and the surrounding nonmagnetic material, and as a result, when the concentration of magnetic metal particles in the granular magnetic material is in a specific range, in the high frequency region It has been found that excellent magnetic loss characteristics can be obtained. M-
Many studies have been made on a granular magnetic material having a composition of XY (M is a magnetic metal element, Y is O or any of N and F, and X is an element other than M and Y), and many studies have been made so far. Is known to have a large saturation magnetization. In the M-XY granular magnetic material, the magnitude of the saturation magnetization depends on the volume ratio occupied by the M component. Therefore, in order to obtain a large saturation magnetization, it is necessary to increase the ratio of the M component. Therefore, in a general use such as a magnetic core of a high-frequency inductor element or a transformer, the ratio of the M component in the M-XY granular magnetic material is substantially equal to the saturation magnetization of the bulk metal magnetic material including only the M component. It is limited to a range where a saturation magnetization of 80% or more can be obtained.

【0010】本発明者らは、M−X−Y(Mは磁性金属
元素、YはOあるいはN,Fのいづれか、XはM、Y以
外の元素)なる組成を有するグラニュラー磁性体におい
て、M成分の占める割合を広い範囲で検討した結果、い
ずれの組成系でも磁性金属Mが特定濃度の範囲にある場
合に、高周波領域で大きな磁気損失を示すことを見出
し、本発明に至った。
The present inventors have proposed a granular magnetic material having a composition of M-XY (M is a magnetic metal element, Y is O or any of N and F, and X is an element other than M and Y). As a result of examining the ratio of the components in a wide range, it was found that in any composition system, when the magnetic metal M was in a specific concentration range, a large magnetic loss was exhibited in a high frequency region, and the present invention was reached.

【0011】M成分の比率が、M成分のみからなるバル
ク金属磁性体の飽和磁化に対して80%以上の飽和磁化
を示すような最も高い領域は、従来より盛んに研究され
ている高飽和磁化で低損失なM−X−Yグラニュラー磁
性体の領域である。この領域にある材料は、実数部透磁
率(μ’)と飽和磁化の値が共に大きいため、前述した
高周波インダクタのような高周波マイクロ磁気デバイス
に用いられるが、電気抵抗を左右するX−Y成分の占め
る割合が少ないので、電気抵抗率が小さい。その為に膜
厚が厚くなると高周波領域でのうず電流損失の発生に伴
って高周波での透磁率が劣化するので、ノイズ対策に用
いるような比較的厚い磁性膜には不向きである。M成分
の比率が、M成分のみからなるバルク金属磁性体の飽和
磁化の80%以下で60%以上となる飽和磁化を示す領
域は、電気抵抗率がおおむね100μΩ・cm以上と比
較的大きい為に、材料の厚さが数μm程度あってもうず
電流による損失が少なく、磁気損失はほとんど自然共鳴
による損失となる。その為、磁気損失項μ”の周波数分
散巾が狭くなるので、挟帯域な周波数範囲でのノイズ対
策(高周波電流抑制)に適している。M成分の比率が、
M成分のみからなるバルク金属磁性体の飽和磁化の60
%以下で35%以上の飽和磁化を示す領域は、電気抵抗
率がおおむね500μΩ・cm以上と更に大きいため
に、うず電流による損失は極めて小さく、M成分間の磁
気的な相互作用が小さくなることで、スピンの熱擾乱が
大きくなり自然共鳴の生じる周波数に揺らぎが生じ、そ
の結果、磁気損失項μ”は広い範囲で大きな値を示すよ
うになる。したがって、この組成領域は広帯域な高周波
電流の抑制に適している。
The highest region where the ratio of the M component shows a saturation magnetization of 80% or more with respect to the saturation magnetization of the bulk metal magnetic material consisting of only the M component is a high saturation magnetization which has been actively studied conventionally. And is a region of a low loss MXY granular magnetic material. Since the material in this region has a large real part magnetic permeability (μ ′) and a large saturation magnetization, it is used for a high-frequency micro magnetic device such as the above-described high-frequency inductor. , The electrical resistivity is small. Therefore, when the film thickness is increased, the magnetic permeability at a high frequency deteriorates due to the occurrence of eddy current loss in a high frequency region, so that it is not suitable for a relatively thick magnetic film used for noise suppression. The region showing the saturation magnetization where the ratio of the M component is 80% or less and 60% or more of the saturation magnetization of the bulk metal magnetic material composed of only the M component is because the electric resistivity is relatively large, approximately 100 μΩ · cm or more. Even if the thickness of the material is about several μm, the loss due to the eddy current is small, and the magnetic loss is almost a loss due to natural resonance. Therefore, since the frequency dispersion width of the magnetic loss term μ ″ becomes narrow, it is suitable for noise suppression (high-frequency current suppression) in a narrow band frequency range.
60 of saturation magnetization of bulk metal magnetic material consisting only of M component
%, The region exhibiting a saturation magnetization of 35% or more has an electric resistivity of approximately 500 μΩ · cm or more, so that the loss due to the eddy current is extremely small and the magnetic interaction between the M components becomes small. Then, the thermal disturbance of the spin becomes large, and the frequency at which the natural resonance occurs fluctuates, and as a result, the magnetic loss term μ ″ shows a large value in a wide range. Suitable for suppression.

【0012】一方、M成分の比率が本発明の領域よりも
更に小さな領域は、M成分間の磁気的相互作用がほとん
ど生じなくなるので超常磁性となる。
On the other hand, a region in which the ratio of the M component is smaller than the region of the present invention becomes superparamagnetic because almost no magnetic interaction occurs between the M components.

【0013】電子回路の直近に磁気損失材料を配設して
高周波電流を抑制する際の材料設計の目安は、磁気損失
項μ”と磁気損失材料の厚さδの積μ”・δで与えら
れ、数100MHzの周波数の高周波電流に対して効果
的な抑制を得るには、おおむねμ”・δ≧1000(μ
m)が必要となる。したがって、μ”=1000の磁気
損失材料では1μm以上の厚さが必要になり、うず電流
損失の生じ易い低電気抵抗な材料は好ましくなく、電気
抵抗率が100μΩcm以上となるような組成、すなわ
ち本発明の組成系では、M成分の比率が、M成分のみか
らなるバルク金属磁性体の飽和磁化の80%以下となる
飽和磁化を示し、かつ、超常磁性の発現しない領域即
ち、M成分のみからなるバルク金属磁性体の飽和磁化に
対して35%以上の飽和磁化を示す領域が適している。
A guide for designing a material when a high-frequency current is suppressed by disposing a magnetic loss material in the immediate vicinity of an electronic circuit is given by a product μ ″ · δ of a magnetic loss term μ ″ and a thickness δ of the magnetic loss material. Therefore, in order to obtain effective suppression of a high-frequency current having a frequency of several hundred MHz, it is necessary to roughly set μ ″ · δ ≧ 1000 (μ
m) is required. Therefore, a magnetic loss material of μ ″ = 1000 requires a thickness of 1 μm or more, and a material having low electric resistance that easily causes eddy current loss is not preferable. In the composition system of the present invention, the ratio of the M component shows saturation magnetization in which the saturation magnetization is 80% or less of the saturation magnetization of the bulk metal magnetic material composed of only the M component, and a region where superparamagnetism does not appear, that is, only the M component. A region showing 35% or more of the saturation magnetization of the bulk metal magnetic material is suitable.

【0014】本発明は、上述したグラニュラー磁性薄膜
のような磁気損失膜を応用した発明である。ここで、
「グラニュラー磁性薄膜」とは、磁性を担う粒子の平均
粒径が数nm〜数十nmと極めて小さく、各々の粒子が
セラミックス成分からなる粒界にて区切られた微細構造
を有し、数十MHz〜数GHzの高周波において非常に
大きな磁気的損失を示す磁性薄膜のことをいい、この技
術分野では「微結晶薄膜」とも呼ばれている。
The present invention is an application of a magnetic loss film such as the above-mentioned granular magnetic thin film. here,
“Granular magnetic thin film” refers to a particle having a very small average particle diameter of several nanometers to several tens of nanometers, and has a fine structure in which each particle is separated by a grain boundary made of a ceramic component. It refers to a magnetic thin film that exhibits a very large magnetic loss at a high frequency of MHz to several GHz, and is also called a “microcrystalline thin film” in this technical field.

【0015】すなわち、本発明によれば、発光窓を持つ
発光素子に於いて、発光窓の表面の少なくとも一部に磁
気損失膜を形成してなる発光素子が得られる。磁気損失
膜はメッシュ状を呈していることが好ましい。磁気損失
膜としては、グラニュラー磁性薄膜を使用することがで
きる。グラニュラー磁性薄膜は、例えば、マスクを用い
たスパッタ法により形成されたスパッタ膜であっても良
いし、線で編みかけを行うことにより形成された編みか
け膜であっても良い。
That is, according to the present invention, in a light emitting device having a light emitting window, a light emitting device having a magnetic loss film formed on at least a part of the surface of the light emitting window can be obtained. The magnetic loss film preferably has a mesh shape. As the magnetic loss film, a granular magnetic thin film can be used. The granular magnetic thin film may be, for example, a sputtered film formed by a sputtering method using a mask or a knitted film formed by knitting with a line.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下,本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1を参照して、本発明の一実施の形態に
係る発光素子10について説明する。図示の発光素子1
0は、光ディスクドライブ用の光学ピックアップに使用
されるレーザダイオードである。図示の発光素子(レー
ザダイオード)10は、基台11と、この基台11上に
搭載されたレーザダイオードチップ12と、このレーザ
ダイオードチップ12を覆うように基台11に取付けら
れた樹脂製の発光窓13と、この発光窓13とは逆方向
に基台11から延在する3本の足14とを有する。
Referring to FIG. 1, a light emitting device 10 according to one embodiment of the present invention will be described. Illustrated light emitting element 1
Reference numeral 0 denotes a laser diode used for an optical pickup for an optical disk drive. The illustrated light emitting element (laser diode) 10 includes a base 11, a laser diode chip 12 mounted on the base 11, and a resin-made resin attached to the base 11 so as to cover the laser diode chip 12. It has a light emitting window 13 and three legs 14 extending from the base 11 in a direction opposite to the light emitting window 13.

【0018】このような構造の発光素子(レーザダイオ
ード)10において、本発明では、発光窓13の表面の
下部(基台11側)にメッシュ状の磁気損失膜15を形
成している。ここで、発光窓13の表面の下部にのみ磁
気損失膜15を設けたのは、レーザダイオードチップ1
2から出射されるレーザ光が発光窓13を透過するのに
妨害とならないようにするためである。
In the light emitting element (laser diode) 10 having such a structure, in the present invention, a mesh-shaped magnetic loss film 15 is formed below the surface of the light emitting window 13 (on the base 11 side). Here, the reason why the magnetic loss film 15 is provided only under the surface of the light emitting window 13 is that the laser diode chip 1
This is to prevent the laser light emitted from 2 from interfering with the transmission through the light emitting window 13.

【0019】ここで、磁気損失膜15としては、本発明
者らが既に出願済み(平成12年1月24日出願の20
00年特願第52507号)のグラニュラー磁性薄膜
(以下、「先願」と呼ぶ。)を使用することができる。
そのようなグラニュラー磁性薄膜は、先願の明細書中に
記載されているように、スパッタ法や反応性スパッタ法
或いは蒸着法を用いて製造することができる。換言すれ
ば、グラニュラー磁性薄膜は、スパッタ法や反応性スパ
ッタ法により形成されたスパッタ膜であっても良いし、
或いは、蒸着法により形成された蒸着膜であっても良
い。尚、グラニュラー磁性薄膜を製造する場合、実際に
は、上記スパッタ膜や上記蒸着膜を所定温度にて所定時
間、真空磁場中で熱処理を施している。
Here, as the magnetic loss film 15, the present inventors have already filed an application (20 filed on Jan. 24, 2000).
A granular magnetic thin film (hereinafter, referred to as “prior application”) of Japanese Patent Application No. 52507 (2000) can be used.
Such a granular magnetic thin film can be manufactured by a sputtering method, a reactive sputtering method, or an evaporation method as described in the specification of the prior application. In other words, the granular magnetic thin film may be a sputtered film formed by a sputtering method or a reactive sputtering method,
Alternatively, a vapor deposition film formed by a vapor deposition method may be used. When manufacturing a granular magnetic thin film, actually, the sputtered film or the deposited film is heat-treated in a vacuum magnetic field at a predetermined temperature for a predetermined time.

【0020】尚、グラニュラー磁性薄膜の詳細な製造方
法については、上記先願に詳しく説明してあるので、そ
れを参照されたい。ここで、本発明では、磁気損失膜
(グラニュラー磁性薄膜)15をメッシュ状に形成する
必要があるので、そのような膜は、マスクを用いたスパ
ッタ法により形成されたスパッタ膜や、線で編みかけを
行うことにより形成された編みかけ膜であれば良い。
The detailed manufacturing method of the granular magnetic thin film is described in detail in the above-mentioned prior application, so please refer to it. Here, in the present invention, since the magnetic loss film (granular magnetic thin film) 15 needs to be formed in a mesh shape, such a film is formed by a sputtered film formed by a sputtering method using a mask or a knitted line. What is necessary is just a knitting film formed by performing the knitting.

【0021】このようにして形成されるグラニュラー磁
性薄膜は、膜厚が薄く(例えば、2.0μm以下)て
も、数十MHz〜数GHzの高周波において非常に大き
な磁気的損失を示すことを、本発明者らは実験で既に確
認している。
The granular magnetic thin film thus formed exhibits a very large magnetic loss at a high frequency of several tens of MHz to several GHz even if the thickness is small (for example, 2.0 μm or less). The inventors have already confirmed by experiments.

【0022】そして、本発明者らは、準マイクロ波帯に
磁気損失項μ”分散を示す本発明に係るグラニュラー磁
性薄膜は、厚さが約500倍の複合磁性体シートと同等
の高周波電流抑制効果を示すことを実験で既に確認して
いる。従って、本発明に係るグラニュラー磁性薄膜は、
1GHzに近い高速クロックで動作するような半導体集
積素子等のEMI対策に用いる材料として有望であると
いえる。
The present inventors have found that the granular magnetic thin film according to the present invention, which exhibits a magnetic loss term μ ″ dispersion in the quasi-microwave band, has the same high-frequency current suppression as a composite magnetic sheet having a thickness of about 500 times. The effect has already been confirmed by experiments, and therefore, the granular magnetic thin film according to the present invention has
It can be said that it is promising as a material used for EMI countermeasures such as a semiconductor integrated device that operates with a high-speed clock near 1 GHz.

【0023】次に、図2を参照して、磁気損失膜15と
してのグラニュラー磁性薄膜を製造する装置の一例とし
てスパッタリング製造装置について説明する。このスパ
ッタリング製造装置は、真空容器(チャンバ)18と、
このチャンバ18に結合されたガス供給装置22及び真
空ポンプ23とを備える。チャンパ18内では、シャッ
タ21を挟んで基板23とターゲット25とが対向した
配置されている。ターゲット25は、組成分X,Y、或
いは組成分Xから成るチップ24を所定の間隔で配置さ
れた組成分Mから成る。チップ24及びターゲット25
の支持部側には、RF電源26の一端が接続され、RF
電源26の他端は接地されている。
Next, a sputtering manufacturing apparatus will be described as an example of an apparatus for manufacturing a granular magnetic thin film as the magnetic loss film 15 with reference to FIG. This sputtering manufacturing apparatus includes a vacuum container (chamber) 18,
A gas supply device 22 and a vacuum pump 23 are connected to the chamber 18. In the champ 18, a substrate 23 and a target 25 are arranged to face each other with a shutter 21 interposed therebetween. The target 25 is composed of the components X, Y, or the components M in which the chips 24 composed of the components X are arranged at predetermined intervals. Chip 24 and target 25
Is connected to one end of an RF power source 26,
The other end of the power supply 26 is grounded.

【0024】次に、このような構成のスパッタリング製
造装置を用いて製造されるグラニュラー磁性薄膜(試料
1)の製造例について説明する。
Next, an example of manufacturing a granular magnetic thin film (sample 1) manufactured by using the sputtering manufacturing apparatus having such a configuration will be described.

【0025】先ず、ターゲット25となる直径φ=10
0mmのFe製円板上にチップ24となる寸法=縦5m
m×横5mm×厚さ2mmの総計120個のAl23
ップを配備した。そして、真空ポンプ27で真空容器1
8内を真空度約1.33×10-4Paとなるように保っ
た状態で、ガス供給装置22により真空容器18内へA
rガスを供給することにより、真空容器18内をArガ
ス雰囲気にする。この状態において、RF電源26より
高周波の電源を供給する。このような条件下において、
スパッタ法により基板23となるガラス基板上に磁性薄
膜を成膜した。その後、更に得られた磁性薄膜を300
℃の温度条件の真空磁場中で2時間熱処理を施すことに
よって、上述したグラニュラー磁性薄膜による試料1を
得た。
First, the diameter φ of the target 25 is 10
Size of chip 24 on 0 mm Fe disk = 5 m long
A total of 120 Al 2 O 3 chips of mx 5 mm wide x 2 mm thick were provided. Then, the vacuum container 1 is
While keeping the inside of the chamber 8 at a degree of vacuum of about 1.33 × 10 −4 Pa, the gas supply device 22 puts A into the vacuum vessel 18.
By supplying r gas, the inside of the vacuum vessel 18 is brought into an Ar gas atmosphere. In this state, high-frequency power is supplied from the RF power supply 26. Under such conditions,
A magnetic thin film was formed on a glass substrate serving as the substrate 23 by a sputtering method. Then, the obtained magnetic thin film was further
By performing a heat treatment in a vacuum magnetic field at a temperature of 2 ° C. for 2 hours, the above-mentioned sample 1 of the granular magnetic thin film was obtained.

【0026】このようにして得られた試料1を蛍光X線
分析したところ膜の組成は、Fe72Al1117の組成を
有し、膜厚は2.0μm、直流抵抗率は530μΩ・c
mであった。また、試料1の異方性磁界Hkは18(O
e)であり、飽和磁化Msは1.68T(テスラ)であ
った。さらに、試料1の複素透磁率特性上で磁気損失項
μ”にあっても最大値μ”maxに対して50%以上とな
る周波数帯域をその中心周波数で規格化した半幅分相当
の半値巾μ”50は148%であった。また、試料1の飽
和磁化Ms(M−X−Y)と組成分Mのみから成る金属
磁性体の飽和磁化Ms(M)との比率{Ms(M−X−
Y)/Ms(M)}×100%は72.2%であった。
When the sample 1 thus obtained was subjected to fluorescent X-ray analysis, the film composition was Fe 72 Al 11 O 17 , the film thickness was 2.0 μm, and the DC resistivity was 530 μΩ · c.
m. Further, the anisotropic magnetic field H k of sample 1 18 (O
a e), the saturation magnetization M s was 1.68T (tesla). Further, even if the magnetic loss term is “μ” on the complex magnetic permeability characteristic of the sample 1, a frequency band in which 50% or more of the maximum value “μ” max is equivalent to a half width μ corresponding to a half width standardized by its center frequency. 50 was 148%. The ratio {M s (M s (M s (M)) of the saturation magnetization M s (M-X-Y) of the sample 1 to the saturation magnetization M s (M) of the metal magnetic material composed only of the composition M was used. MX-
Y) / M s (M)} × 100% was 72.2%.

【0027】又、試料1の磁気損失特性を検証するため
に、周波数fに対する透磁率μ特性(μ−f特性)を次
のようにして調べた。すなわち、μ−f特性の測定は、
短冊状に加工した検出コイルに試料1を挿入して、バイ
アス磁場を印加しながらインピーダンスを測定すること
により行った。この結果に基づいて、磁気損失項μ”の
周波数特性(μ”−f特性)を得た。
Further, in order to verify the magnetic loss characteristics of the sample 1, the magnetic permeability μ characteristics (μ-f characteristics) with respect to the frequency f were examined as follows. That is, the measurement of the μ-f characteristic is as follows.
This was performed by inserting the sample 1 into the detection coil processed into a strip shape and measuring the impedance while applying a bias magnetic field. Based on this result, the frequency characteristic (μ ″ -f characteristic) of the magnetic loss term μ ″ was obtained.

【0028】図3はこの試料1のμ”−f特性を示す図
である。図3において、横軸は周波数f(MHz)を、
縦軸は磁気損失項μ”をそれぞれ表している。図3か
ら、試料1の磁気損失項μ”は、その分散がやや急峻で
ピーク値が非常に大きくなっており、共鳴周波数も70
0MHz付近と高くなっていることが判る。
FIG. 3 is a graph showing the μ ″ -f characteristic of the sample 1. In FIG. 3, the horizontal axis represents the frequency f (MHz),
The vertical axis represents the magnetic loss term μ ″. From FIG. 3, the magnetic loss term μ ″ of the sample 1 has a slightly steep variance, a very large peak value, and a resonance frequency of 70 μm.
It can be seen that it is as high as around 0 MHz.

【0029】更に、図4に示すような高周波電磁干渉抑
制効果測定装置30を用いて試料1における高周波電磁
干渉抑制効果を検証実験した。但し、高周波電磁干渉抑
制効果測定装置30は、線路長が75mmで特性インピ
ーダンスZc=50Ωのマイクロストリップ線路31の
長手方向の両側にマイクロストリップ線路31と図示し
ないネットワークアナライザ(HP8753D)とを接
続するための同軸線路32を配備した上で、マイクロス
トリップ線路31の試料配置部31aの真上に磁性体試
料33を配置することにより、2ポート間の伝送特性S
21を測定可能なものである。
Further, a verification experiment was conducted on the high-frequency electromagnetic interference suppression effect of the sample 1 using a high-frequency electromagnetic interference suppression effect measuring device 30 as shown in FIG. However, the high-frequency electromagnetic interference suppression effect measuring device 30 connects the microstrip line 31 and a network analyzer (HP8753D) (not shown) to both sides in the longitudinal direction of the microstrip line 31 having a line length of 75 mm and a characteristic impedance Zc = 50Ω. And the magnetic sample 33 is arranged just above the sample arrangement portion 31a of the microstrip line 31 so that the transmission characteristics S between the two ports can be improved.
21 can be measured.

【0030】この高周波電磁干渉抑制効果測定装置30
の構成のように、伝送路の真近に磁気損失材料を配置し
た伝送路に等価的な抵抗成分を付与することで高周波電
流を抑制する場合において、高周波電流の抑制効果の大
きさは磁気損失項μ”の大きさと磁性体の厚さδとの積
μ”・δにほぼ比例すると考えられる。
This high frequency electromagnetic interference suppression effect measuring device 30
In the case where the high-frequency current is suppressed by applying an equivalent resistance component to the transmission line in which the magnetic loss material is disposed immediately adjacent to the transmission line as in the configuration of This is considered to be substantially proportional to the product μ ″ · δ of the size of the term μ ″ and the thickness δ of the magnetic body.

【0031】図5は、高周波電流抑制効果測定装置30
により試料磁性体の高周波電流抑制効果を測定した結果
を示す周波数f(MHz)に対する伝送特性S21(d
B)を示したものである。
FIG. 5 shows a high-frequency current suppression effect measuring device 30.
The transmission characteristics S 21 (d) for the frequency f (MHz) showing the result of measuring the high-frequency current suppression effect of the sample magnetic material by
B).

【0032】図5から、試料1の伝送特性S21は、10
0MHz以上から減少し、2GHz近くで−10dBの
極小値を示した後に増加していることが判る。この結果
により、伝送特性S21が磁性体の磁気損失項μ”の分散
に依存すると共に、抑制効果の大きさが上述した積μ”
・δに依存することが判る。
FIG. 5 shows that the transmission characteristic S 21 of the sample 1 is 10
It can be seen that the frequency decreases from 0 MHz or higher, reaches a minimum value of -10 dB near 2 GHz, and then increases. This result, transmission characteristics S 21 magnetic loss term μ of the magnetic material "as well as dependent on the dispersion of the product μ the size of the inhibitory effect was described above"
・ It turns out that it depends on δ.

【0033】ところで、このような試料1のような磁性
体は、図6に示されるように、寸法がlであって、透磁
率μ、誘電率εの分布定数線路として構成されるものと
みなすことができる。この場合、単位長さ(Δl)当た
りの等価回路定数として、直列接続された形態の単位イ
ンダクタンスΔL、単位抵抗ΔR、並びにこれらと接地
線との間に介在される単位静電容量ΔC、単位接地コン
ダクタンスΔGを有する。これらを伝送特性S21に基づ
いて試料寸法に換算した場合、試料1は、等価回路定数
としてインダクタンスL、抵抗R、並びに静電容量C、
接地コンダクタンスGを有する等価回路とみなすことが
できる。
By the way, as shown in FIG. 6, it is assumed that such a magnetic material as the sample 1 has a dimension 1 and is configured as a distributed constant line having a magnetic permeability μ and a dielectric constant ε. be able to. In this case, as an equivalent circuit constant per unit length (Δl), a unit inductance ΔL, a unit resistance ΔR in a form of series connection, a unit capacitance ΔC interposed between these and a ground line, a unit ground It has a conductance ΔG. When converted them to sample dimensions based on the transmission characteristic S 21, sample 1, the inductance L, resistance R, and the capacitance C as the equivalent circuit constant,
It can be regarded as an equivalent circuit having the ground conductance G.

【0034】ここでの高周波電磁干渉の抑制効果での検
討のように、磁性体のマイクロストリップ線路31上に
配置した場合、伝送特性S21の変化は等価回路において
主にインダクタンスLに対して直列に付加される抵抗R
の成分によるものであることから、抵抗Rの値を求めて
その周波数依存性を調べることができる。
As described in the examination of the effect of suppressing high-frequency electromagnetic interference, when the transmission characteristics S21 are arranged on the microstrip line 31 made of a magnetic material, the change in the transmission characteristic S21 is mainly in series with the inductance L in the equivalent circuit. Added resistance R
Therefore, the value of the resistor R can be obtained and its frequency dependence can be examined.

【0035】図7は、図5に示した伝送特性S21におい
て、図6に示した等価回路のインダクタンスLに対して
直列に付加される抵抗Rの値に基づいて算出した、周波
数f(MHz)に対する抵抗値R(Ω)の特性を示した
ものである。
FIG. 7 shows the frequency f (MHz) calculated based on the value of the resistance R added in series to the inductance L of the equivalent circuit shown in FIG. 6 in the transmission characteristic S 21 shown in FIG. 4) shows the characteristics of the resistance value R (Ω) with respect to the above-mentioned values.

【0036】図7から、抵抗値Rは準マイクロ波帯の領
域で単調に増加し、3GHzでは数10Ωとなり、その
周波数依存特性は1GHz付近に極大を持った磁気損失
項μ”の周波数分散とは異なる傾向になっていることが
判る。これは上述した積μ”・δに加えて波長に対する
試料寸法の比率が単調増加することを反映している結果
と考えられる。
From FIG. 7, it can be seen that the resistance value R monotonically increases in the quasi-microwave band region, and becomes several tens of ohms at 3 GHz, and its frequency dependence shows the frequency dispersion of the magnetic loss term μ ″ having a maximum near 1 GHz. It can be understood that this is a result of reflecting that the ratio of the sample size to the wavelength monotonically increases in addition to the above-mentioned product μ ″ · δ.

【0037】以上の結果から、準マイクロ波帯に磁気損
失項μ”分散を示す試料は、厚さが約500倍の複合磁
性体シートと同等の高周波電流抑制効果を示すため、1
GHzにおける高周波電磁干渉抑制対策へ適用すること
が有効であるといえる。
From the above results, the sample exhibiting the magnetic loss term μ ″ dispersion in the quasi-microwave band exhibits the same high-frequency current suppressing effect as the composite magnetic sheet having a thickness of about 500 times,
It can be said that it is effective to apply to measures for suppressing high-frequency electromagnetic interference at GHz.

【0038】尚、本発明は上述した実施の形態に限定せ
ず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で、種々の変更・
変形が可能なのは勿論である。例えば、本発明の実施の
形態では、グラニュラー磁性薄膜の製造方法としてマス
クを使用したスパッタ法による製造例のみを示したが、
真空蒸着法やイオンビーム蒸着法、ガス・デポジション
法などの他の製造方法でも良く、本発明に係る磁気損失
膜が均一に形成できる方法であれば、製法に限定されな
い。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
Of course, deformation is possible. For example, in the embodiment of the present invention, only a manufacturing example by a sputtering method using a mask has been described as a method for manufacturing a granular magnetic thin film.
Other manufacturing methods such as a vacuum evaporation method, an ion beam evaporation method, and a gas deposition method may be used, and the manufacturing method is not limited as long as the magnetic loss film according to the present invention can be uniformly formed.

【0039】また、本発明の実施の形態では、成膜後に
真空磁場中での熱処理を施しているが、アズ・デポジシ
ョンの膜で、本発明の性能が得られる組成あるいは成膜
法であれば、実施の形態に記載の成膜後処理に限定され
ない。
In the embodiment of the present invention, a heat treatment in a vacuum magnetic field is performed after the film is formed. However, any composition or film forming method that can obtain the performance of the present invention with an as-deposited film can be used. For example, the present invention is not limited to the post-film formation processing described in the embodiment.

【0040】さらに、上述した実施の形態では、発光素
子10としてレーザダイオードを例に挙げ、レーザダイ
オードの発光窓13に磁気損失膜15を形成した例につ
いて説明したが、例えば、発光素子がリモートコントロ
ーラの赤外線I/Oユニットでその発光窓に適用した
り、発光素子が薄膜トランジスタ(TFT)を使用した
アクティブ・マトリクス型の液晶ディスプレイでその表
示窓に適用するようにしても良いのは勿論である。ま
た、上記実施の形態では、発光素子10の発光窓13の
表面の一部にメッシュ状の磁気損失膜15を形成した場
合の例についてのみ述べているが、例えば、発光窓13
の表面全面にメッシュ状の磁気損失膜15を形成しても
良い。また、メッシュ状の代りに、縞状、格子状、或い
は市松模様に形成しても良い。とにかく、隙間のある状
態で磁気損失膜15を形成できれば良い。さらに、上記
実施の形態では、磁気損失膜15がメッシュ状を呈して
いる場合を例に挙げて説明したが、発光窓13の表面の
下部にのみ磁気損失膜15を設ける場合には、レーザダ
イオードチップ12から出射されるレーザ光が発光窓1
3を透過するのに妨害とならないように膜全体で覆って
もよいのは勿論である。
Further, in the above-described embodiment, a laser diode is taken as an example of the light emitting element 10 and the magnetic loss film 15 is formed in the light emitting window 13 of the laser diode. Of course, the infrared I / O unit may be applied to the light emitting window, or the active matrix type liquid crystal display using the thin film transistor (TFT) as the light emitting element may be applied to the display window. In the above-described embodiment, only the example in which the mesh-shaped magnetic loss film 15 is formed on a part of the surface of the light emitting window 13 of the light emitting element 10 is described.
A mesh-shaped magnetic loss film 15 may be formed on the entire surface of the substrate. Further, instead of the mesh shape, a stripe shape, a lattice shape, or a checkered pattern may be formed. Anyway, it suffices if the magnetic loss film 15 can be formed with a gap. Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the magnetic loss film 15 has a mesh shape has been described as an example. However, when the magnetic loss film 15 is provided only below the surface of the light emitting window 13, a laser diode is used. The laser light emitted from the chip 12 is
Of course, the entire film may be covered so as not to hinder transmission of the light.

【0041】また、上記実施の形態では、磁気損失膜1
5がグラニュラー磁性薄膜である場合を例に挙げて説明
したが、それに限定されず、数十MHz〜数GHzの高
周波において非常に大きな磁気的損失を示すものであれ
ばどのような膜でも良い。
In the above embodiment, the magnetic loss film 1
Although the case where 5 is a granular magnetic thin film has been described as an example, the invention is not limited thereto, and any film may be used as long as it shows a very large magnetic loss at a high frequency of several tens MHz to several GHz.

【0042】[0042]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、発光
素子の発光窓の表面の少なくとも一部にメッシュ状の磁
気損失膜を形成しているので、スペースをとらずに、発
光素子から放射される高周波輻射ノイズを抑制すること
ができる。
As described above, according to the present invention, since the mesh-shaped magnetic loss film is formed on at least a part of the surface of the light emitting window of the light emitting element, the space from the light emitting element can be reduced without taking up space. High-frequency radiation noise emitted can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による発光素子(レーザ
ダイオード)の一例を示す概略正面図である。
FIG. 1 is a schematic front view showing an example of a light emitting device (laser diode) according to an embodiment of the present invention.

【図2】スパッタ法による試料作製装置の概略断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a sample manufacturing apparatus using a sputtering method.

【図3】磁気損失膜としての試料1に係る磁気損失項
μ”の周波数依存性の一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of frequency dependence of a magnetic loss term μ ″ according to a sample 1 as a magnetic loss film.

【図4】磁気損失膜としての試料1からなる高周波電流
抑制体の抑制効果を見るための測定系を示す斜視図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view showing a measurement system for observing the suppression effect of a high-frequency current suppressor made of a sample 1 as a magnetic loss film.

【図5】磁気損失膜としての試料1の伝送特性(S21
の周波数特性を示す図である。
FIG. 5 shows the transmission characteristics of sample 1 as a magnetic loss film (S 21 )
FIG. 4 is a diagram showing frequency characteristics of the multiplexed signal;

【図6】磁気損失膜である磁性体の等価回路を示す図で
ある。
FIG. 6 is a diagram showing an equivalent circuit of a magnetic body that is a magnetic loss film.

【図7】磁気損失膜としての試料1の伝送特性(S21
より算出した抵抗値Rの周波数特性を示す図である。
FIG. 7: Transmission characteristics of sample 1 as a magnetic loss film (S 21 )
FIG. 9 is a diagram illustrating frequency characteristics of a resistance value R calculated by the calculation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 発光素子(レーザダイオード) 11 基台 12 レーザダイオードチップ 13 発光窓 14 足 15 磁気損失膜(グラニュラー磁性薄膜) Reference Signs List 10 light emitting element (laser diode) 11 base 12 laser diode chip 13 light emitting window 14 foot 15 magnetic loss film (granular magnetic thin film)

フロントページの続き Fターム(参考) 5E049 AA01 AC00 BA27 CB06 CB10 EB05 GC04 5F041 AA21 DA42 DA46 DA55 DA58 5F073 BA04 EA29 FA30 Continued on the front page F term (reference) 5E049 AA01 AC00 BA27 CB06 CB10 EB05 GC04 5F041 AA21 DA42 DA46 DA55 DA58 5F073 BA04 EA29 FA30

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光窓を持つ発光素子に於いて、前記発
光窓の表面の少なくとも一部に磁気損失膜を形成してな
る発光素子。
1. A light-emitting element having a light-emitting window, wherein a magnetic loss film is formed on at least a part of a surface of the light-emitting window.
【請求項2】 前記磁気損失膜がメッシュ状を呈してい
る、請求項1に記載の発光素子。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein said magnetic loss film has a mesh shape.
【請求項3】 前記磁気損失膜がグラニュラー磁性薄膜
である、請求項1又は2に記載の発光素子。
3. The light emitting device according to claim 1, wherein the magnetic loss film is a granular magnetic thin film.
【請求項4】 前記グラニュラー磁性薄膜がマスクを用
いたスパッタ法により形成されたスパッタ膜である、請
求項3に記載の発光素子。
4. The light emitting device according to claim 3, wherein the granular magnetic thin film is a sputtered film formed by a sputtering method using a mask.
【請求項5】 前記グラニュラー磁性薄膜が線で編みか
けを行うことにより形成された編みかけ膜である、請求
項3に記載の発光素子。
5. The light emitting device according to claim 3, wherein the granular magnetic thin film is a knitted film formed by knitting with a wire.
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