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JP2001284388A - Wire bonding method - Google Patents

Wire bonding method

Info

Publication number
JP2001284388A
JP2001284388A JP2000093103A JP2000093103A JP2001284388A JP 2001284388 A JP2001284388 A JP 2001284388A JP 2000093103 A JP2000093103 A JP 2000093103A JP 2000093103 A JP2000093103 A JP 2000093103A JP 2001284388 A JP2001284388 A JP 2001284388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
bonding
bump
capillary
tail
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000093103A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Katsube
彰夫 勝部
Hideo Nakakoshi
英雄 中越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2000093103A priority Critical patent/JP2001284388A/en
Publication of JP2001284388A publication Critical patent/JP2001284388A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H10W72/50
    • H10W72/015
    • H10W72/0711
    • H10W72/07141
    • H10W72/075
    • H10W72/07511
    • H10W72/07521
    • H10W72/07551
    • H10W72/536
    • H10W72/5363
    • H10W72/5434
    • H10W72/5522
    • H10W72/884
    • H10W90/754

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】2次ボンディング後にバンプ上に形成されるテ
ールの長さを抑制し、2次ボンディング部の接合強度を
高め、かつ実装面積を小さくできるワイヤボンディング
方法を提供する。 【解決手段】2つの接続電極間をワイヤで接続するワイ
ヤボンディング方法において、予め2次側の接続電極2
上に引きちぎり法によってバンプ7を形成し、1次側の
接続電極4上に1次ボンディングを行なった後、バンプ
7上に2次ボンディングを行なう。2次ボンディング位
置を、バンプ7の中心位置からワイヤ5の線径以上でバ
ンプ7の半径以下の距離範囲W内で行なうことで、初期
のテール7aをキャピラリ6の底面6bで成形し、ワイ
ヤホール穴6aに入り込むのを防止する。
(57) Abstract: Provided is a wire bonding method capable of suppressing the length of a tail formed on a bump after secondary bonding, increasing the bonding strength of a secondary bonding portion, and reducing the mounting area. In a wire bonding method for connecting two connection electrodes with a wire, a connection electrode (2) on a secondary side is used in advance.
The bumps 7 are formed thereon by a tearing method, and the primary bonding is performed on the connection electrodes 4 on the primary side, and then the secondary bonding is performed on the bumps 7. By performing the secondary bonding position within a distance range W from the center position of the bump 7 to the wire diameter of the wire 5 and not more than the radius of the bump 7, the initial tail 7a is formed on the bottom surface 6b of the capillary 6, and the wire hole is formed. It is prevented from entering the hole 6a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は2つの接続電極間を
ワイヤで接続するワイヤボンディング方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wire bonding method for connecting two connection electrodes with a wire.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1に示すように、基板1の配線2と、
基板1の上に搭載されたICチップ3のボンディングパ
ッド4とをAuワイヤ5で接続する場合、ボンディング
パッド4上に1次ボンディングを行い、基板1の配線2
に2次ボンディングを行なうのが通例である。なお、こ
れとは逆に、基板1の配線2に1次ボンディングを行
い、ICチップ3のボンディングパッド4に2次ボンデ
ィングを行う場合もある。
2. Description of the Related Art As shown in FIG.
When connecting the bonding pad 4 of the IC chip 3 mounted on the substrate 1 with the Au wire 5, the primary bonding is performed on the bonding pad 4 and the wiring 2 of the substrate 1 is formed.
Usually, secondary bonding is performed. Conversely, primary bonding may be performed on the wiring 2 of the substrate 1 and secondary bonding may be performed on the bonding pads 4 of the IC chip 3.

【0003】ところが、2次側の電極である配線2ある
いはボンディングパッド4が接合性の悪い場合には、ワ
イヤ5との十分な接合強度が得られず、ワイヤ5が2次
側の電極から剥離してしまうという問題がある。接合性
が悪い電極とは、例えば、Cu,Ni,フラッシュAu
メッキなどの接合性の悪い材料で形成された電極、表面
粗さが大きい電極、表面に突起が存在する電極、さらに
は表面が傾斜している電極などである。
However, when the wiring 2 or the bonding pad 4 as the secondary electrode is poor in bonding property, sufficient bonding strength with the wire 5 cannot be obtained, and the wire 5 is separated from the secondary electrode. There is a problem of doing it. Electrodes having poor bonding properties include, for example, Cu, Ni, and flash Au.
Examples of the electrode include an electrode formed of a material having poor bonding properties such as plating, an electrode having a large surface roughness, an electrode having a projection on its surface, and an electrode having a sloped surface.

【0004】そこで、接合性の悪い2次側の電極に対し
てワイヤボンディングの接合強度を向上させる方法とし
て、図2に示すように、2次側の電極2上に予めバンプ
7を形成した後、このバンプ7の上に2次ボンディング
を行なう方法が、例えば特開平3−183139号公報
で提案されている。なお、バンプ7の形成方法は、図3
に示すように、キャピラリ6を用いて電極2上にボンデ
ィングを行なってバンプ7を形成した後、ワイヤ5を上
方へ引っ張ってバンプ7からワイヤ5を引きちぎって切
り離す。このとき、バンプ7上にはテール7aが発生す
る。
Therefore, as a method of improving the bonding strength of wire bonding to a secondary electrode having poor bonding properties, as shown in FIG. 2, a bump 7 is formed on the secondary electrode 2 in advance. A method of performing secondary bonding on the bump 7 has been proposed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-183139. The method for forming the bumps 7 is shown in FIG.
As shown in (1), after bonding is performed on the electrode 2 using the capillary 6 to form the bump 7, the wire 5 is pulled upward, and the wire 5 is torn off from the bump 7 and cut off. At this time, a tail 7 a is formed on the bump 7.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
は、図4のようにバンプ7の中心位置に2次ボンディン
グを行なうため、テール7aがキャピラリ6のワイヤホ
ール6aに入り込んで接合され、2次ボンディング後に
は長いテール7bが発生するという問題がある。また、
このテール7bの長さは非常にばらつきが大きい。その
ため、長いテール7bが他の配線とショートを起こした
り、テール7bがパッケージからはみ出たり、さらにワ
イヤがキャピラリ6のワイヤホール6a内で切断され、
ボールを形成できず装置が停止するといった不具合が発
生することがある。
However, in the conventional method, since the secondary bonding is performed at the center position of the bump 7 as shown in FIG. 4, the tail 7a enters the wire hole 6a of the capillary 6 and is joined. There is a problem that a long tail 7b is generated after the next bonding. Also,
The length of the tail 7b varies greatly. Therefore, the long tail 7b causes a short circuit with other wiring, the tail 7b protrudes from the package, and further, the wire is cut in the wire hole 6a of the capillary 6,
In some cases, a failure such as the ball being unable to be formed and the device being stopped may occur.

【0006】そこで、キャピラリ6のワイヤホール6a
にテール7aが入り込まないように、ワイヤホール6a
をバンプ7より外側に出して2次ボンディングを行なう
方法が特開平10−335368号公報にて提案されて
いる。この場合には、2次ボンディング時にワイヤホー
ル6aにテール7aが入り込むのを防止することができ
るが、2次ボンディング部の接合強度が高くなく、また
実装面積が大きくなり、小型化の点で不利であるという
欠点があった。
Therefore, the wire hole 6a of the capillary 6
Wire hole 6a so that the tail 7a does not enter
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-335368 proposes a method of performing secondary bonding by projecting the outside from the bump 7. In this case, it is possible to prevent the tail 7a from entering the wire hole 6a at the time of the secondary bonding, but the bonding strength of the secondary bonding portion is not high, and the mounting area becomes large, which is disadvantageous in miniaturization. There was a disadvantage that it was.

【0007】そこで、本発明の目的は、2次ボンディン
グ後にバンプ上に形成されるテールの長さを抑制し、2
次ボンディング部の接合強度を高め、かつ実装面積を小
さくできるワイヤボンディング方法を提供することにあ
る。
Accordingly, an object of the present invention is to reduce the length of a tail formed on a bump after secondary bonding,
An object of the present invention is to provide a wire bonding method capable of increasing the bonding strength of a next bonding portion and reducing the mounting area.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、ワイヤを導出するワイヤ
ホールと、このワイヤホールの周囲に設けられた底面と
を有するキャピラリを用い、1次側接続電極から2次側
接続電極へワイヤを接続するワイヤボンディング方法に
おいて、前記2次側接続電極上に予め第1のワイヤを用
いて引きちぎり法によってバンプを形成する工程と、前
記1次側接続電極上に前記キャピラリから導出される第
2のワイヤを用いて1次ボンディングを行なう工程と、
前記バンプ上に前記第2のワイヤを用いて2次ボンディ
ングを行なう工程とを有し、前記2次ボンディングを、
前記キャピラリの底面を前記バンプの引きちぎり時に形
成されるテール部に当接させ、かつ前記キャピラリのワ
イヤホールの中心を前記バンプ上に位置させて行なうこ
とを特徴とするワイヤボンディング方法を提供する。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, the invention according to claim 1 uses a capillary having a wire hole for leading out a wire and a bottom surface provided around the wire hole, In a wire bonding method for connecting a wire from a primary connection electrode to a secondary connection electrode, a step of forming a bump on the secondary connection electrode in advance by a tearing method using a first wire; Performing a primary bonding using a second wire derived from the capillary on a secondary connection electrode;
Performing a secondary bonding on the bump using the second wire, wherein the secondary bonding is performed by:
A wire bonding method is provided wherein the bottom surface of the capillary is brought into contact with a tail portion formed when the bump is torn, and the center of a wire hole of the capillary is positioned on the bump.

【0009】2次ボンディングを、バンプの引きちぎり
時に形成されるテール部にキャピラリの底面が当接し、
かつキャピラリのワイヤホールの中心がバンプ上に位置
するように行なうことにより、バンプに残ったテール部
がキャピラリのワイヤホールに入り込んで接合されるこ
とがなく、2次ボンディング後には長いテールが発生し
ない。しかも、バンプに形成されたテール部がキャピラ
リの底面と接触し、このテールをキャピラリの底面で圧
潰することにより、バンプを成形することができるま
た、本発明では、キャピラリのワイヤホールの中心がバ
ンプ上に位置するように2次ボンディングを行なうの
で、第2のワイヤとバンプとが確実に接合され、2次ボ
ンディング部の接合強度を高くすることができる。ま
た、キャピラリがバンプの外方へ大きく突出しないで済
むので、実装面積を小さくでき、小型化することができ
る。
In the secondary bonding, the bottom of the capillary is brought into contact with the tail formed when the bump is torn,
In addition, since the center of the wire hole of the capillary is positioned on the bump, the tail portion remaining on the bump does not enter the wire hole of the capillary and is joined, and a long tail does not occur after the secondary bonding. . Moreover, the tail part formed on the bump contacts the bottom surface of the capillary, and the tail can be crushed by the bottom surface of the capillary to form the bump. In the present invention, the center of the wire hole of the capillary is bumped. Since the secondary bonding is performed so as to be positioned above, the second wire and the bump are securely bonded, and the bonding strength of the secondary bonding portion can be increased. Further, since the capillary does not need to protrude greatly outside the bump, the mounting area can be reduced and the size can be reduced.

【0010】請求項2のように、2次ボンディング時の
キャピラリのワイヤホールの中心をバンプの中心位置か
らワイヤ線径以上バンプ半径以下の距離範囲内に位置さ
せるのが望ましい。この場合には、キャピラリの中心と
バンプの中心とを前記距離だけオフセットさせてボンデ
ィングするので、バンプに残ったテールがキャピラリの
ワイヤホールに入り込むのを確実に防止でき、キャピラ
リの底面でテールを確実に成形できる。
It is desirable that the center of the wire hole of the capillary at the time of the secondary bonding be located within a distance range from the center position of the bump to the wire diameter or more and the bump radius or less. In this case, bonding is performed by offsetting the center of the capillary and the center of the bump by the above distance, so that the tail remaining on the bump can be reliably prevented from entering the wire hole of the capillary, and the tail can be securely held at the bottom of the capillary. Can be molded into

【0011】2次ボンディングで使用されるキャピラリ
としては、バンプの直径と同等またはこれより大きな直
径の底面を有するキャピラリを使用するのが望ましい。
つまり、キャピラリの中心(ワイヤホールの中心)がバ
ンプの中心位置から最大限(バンプ半径)離れた時で
も、テールを確実に成形できるようにするためである。
As the capillary used in the secondary bonding, it is desirable to use a capillary having a bottom surface having a diameter equal to or larger than the diameter of the bump.
That is, even when the center of the capillary (the center of the wire hole) is at a maximum distance (bump radius) from the center position of the bump, the tail can be reliably formed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図5,図6は本発明にかかるワイ
ヤボンディング方法の一例を示す。この例は、1次側の
接続電極をICチップ3のボンディングパッド4とし、
2次側の接続電極を基板1の配線2としたものであり、
この配線2が接合性の悪い電極とする。図5の(a)の
ように、基板1の配線2上にキャピラリ6によってワイ
ヤ5をボンディングする。そして、キャピラリ6を引き
上げ、引きちぎり法によってバンプ7を形成する(図5
の(b)参照)。この時、バンプ7にはテール7aが形
成される。次に、図5の(c)に示すように、ICチッ
プ3のボンディングパッド4上に1次ボンディングを行
なった後、バンプ7上に2次ボンディングを行なう。こ
のとき、図6のように、配線2上に形成されたバンプ7
の中心位置からワイヤ線径以上バンプ半径以下の距離範
囲W内で2次ボンディングを行なう。そのため、バンプ
7のテール7aがキャピラリ6のワイヤホール6aに入
り込むことがなく、テール7aがキャピラリ6の底面6
bによって圧潰され、成形される。なお、図6では、キ
ャピラリ6の中心をバンプ7の中心からルーピングされ
るワイヤ5と反対側(右側)へオフセットさせたが、ル
ーピングされるワイヤ5と同一側(左側)へオフセット
させてもよいし、ルーピングと交差する方向へオフセッ
トさせてもよい。次に、図5の(d)のようにキャピラ
リ7を引き上げて、ワイヤ5を引きちぎると、2次ボン
ディング後に発生するテール7bは短く、かつ長さばら
つきが小さい。その後、キャピラリ7の先端から突出し
たワイヤ5とトーチ9との間で放電が行なわれ、ボール
10が形成される。そのため、ワイヤボンディング装置
が停止することなく、次のバンプ7を形成することがで
きる。
5 and 6 show an example of a wire bonding method according to the present invention. In this example, the connection electrodes on the primary side are bonding pads 4 of the IC chip 3,
The connection electrode on the secondary side is the wiring 2 of the substrate 1,
This wiring 2 is an electrode having poor bonding properties. As shown in FIG. 5A, the wire 5 is bonded on the wiring 2 of the substrate 1 by the capillary 6. Then, the capillary 6 is pulled up, and the bump 7 is formed by a tearing method.
(B)). At this time, a tail 7 a is formed on the bump 7. Next, as shown in FIG. 5C, after the primary bonding is performed on the bonding pads 4 of the IC chip 3, the secondary bonding is performed on the bumps 7. At this time, as shown in FIG.
Is performed within a distance range W from the wire line diameter to the bump radius from the center position of. Therefore, the tail 7 a of the bump 7 does not enter the wire hole 6 a of the capillary 6, and the tail 7 a
It is crushed and molded by b. In FIG. 6, the center of the capillary 6 is offset from the center of the bump 7 to the opposite side (right side) to the looped wire 5, but may be offset to the same side (left side) as the looped wire 5. Alternatively, it may be offset in a direction intersecting with the looping. Next, as shown in FIG. 5D, when the capillary 7 is pulled up and the wire 5 is torn, the tail 7b generated after the secondary bonding is short and the length variation is small. Thereafter, discharge is performed between the wire 5 protruding from the tip of the capillary 7 and the torch 9 to form the ball 10. Therefore, the next bump 7 can be formed without stopping the wire bonding apparatus.

【0013】図7は2次ボンディング時のテールの長さ
を比較した実験結果を示す。この実験では、ワイヤ5の
線径を20μmとし、バンプ7の半径を40μmとし
た。図7の横軸はバンプ7の中心位置とキャピラリ6の
中心位置との距離、縦軸は2次ボンディング後に発生す
るテール7bの長さを示す。図7から明らかなように、
バンプ7の中心位置とキャピラリ6の中心位置とがほぼ
一致している場合(従来)には、テールの長さが約20
0μmあり、装置停止も発生しているのに対し、バンプ
7の中心位置とキャピラリ6の中心位置との距離を20
μm〜40μmとした場合(本発明)には、テール7b
の長さは50μm以下であり、装置停止は発生しなかっ
た。なお、バンプ7の中心位置とキャピラリ6の中心位
置との距離を50μm以上とした場合(比較例)、つま
りバンプ7の半径以上離れた位置に2次ボンディングを
行なうと、装置停止が多発した。このように、2次ボン
ディングをバンプ7の中心位置からワイヤ線径以上バン
プ半径以下の距離範囲Wで行なうことで、その作用効果
が実証された。
FIG. 7 shows the results of an experiment comparing the lengths of the tails during the secondary bonding. In this experiment, the wire diameter of the wire 5 was set to 20 μm, and the radius of the bump 7 was set to 40 μm. The horizontal axis in FIG. 7 indicates the distance between the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6, and the vertical axis indicates the length of the tail 7b generated after the secondary bonding. As is clear from FIG.
When the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6 substantially match (conventional), the length of the tail is about 20
The distance between the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6 is 20 μm.
When the thickness is set to μm to 40 μm (the present invention), the tail 7b
Was 50 μm or less, and no device stoppage occurred. When the distance between the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6 was set to 50 μm or more (Comparative Example), that is, when the secondary bonding was performed at a position separated by more than the radius of the bump 7, the device stopped frequently. As described above, by performing the secondary bonding in the distance range W from the center position of the bump 7 to the wire diameter or more and the bump radius or less, the operation and effect thereof are proved.

【0014】図8は2次ボンディング時の接合強度を比
較した実験結果を示す。この実験も、ワイヤ5の線径を
20μmとし、バンプ7の半径を40μmとした。図8
の横軸はバンプ7の中心位置とキャピラリ6の中心位置
との距離、縦軸は2次ボンディング部の接合強度であ
る。バンプ7の中心位置とキャピラリ6の中心位置とが
ほぼ一致している場合(従来)には、接合強度が低いの
に対し、バンプ7の中心位置とキャピラリ6の中心位置
との距離を20μm〜40μmとした場合(本発明)に
は、接合強度が従来の2倍以上となった。さらに、バン
プ7の半径以上離れた位置に2次ボンディングを行なっ
た場合(比較例)には、接合強度が本発明に比べて約半
分程度まで低下し、接合強度が不十分であった。したが
って、接合強度の面でも本発明の効果が実証された。
FIG. 8 shows the results of an experiment comparing the bonding strength during secondary bonding. Also in this experiment, the diameter of the wire 5 was set to 20 μm, and the radius of the bump 7 was set to 40 μm. FIG.
Is the distance between the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6, and the vertical axis is the bonding strength of the secondary bonding portion. When the center position of the bump 7 substantially coincides with the center position of the capillary 6 (conventional), while the bonding strength is low, the distance between the center position of the bump 7 and the center position of the capillary 6 is 20 μm or less. When the thickness was 40 μm (the present invention), the bonding strength was twice or more that of the related art. Furthermore, when the secondary bonding was performed at a position separated by more than the radius of the bump 7 (comparative example), the bonding strength was reduced to about half as compared with the present invention, and the bonding strength was insufficient. Therefore, the effect of the present invention was also demonstrated in terms of bonding strength.

【0015】図5では1次側の接続電極をICチップ3
のボンディングパッド4とし、2次側の接続電極を基板
1の配線2としたが、1次側の接続電極を基板1の配線
2とし、2次側の接続電極をICチップ3のボンディン
グパッド4としてもよい。また、複数のICチップ3が
隣接して配置されている場合には、1次側の接続電極を
ICチップのボンディングパッドとし、2次側の接続電
極を別のICチップのボンディングパッドとしてもよ
い。さらに、同一チップ内あるいは同一基板内の接続電
極間をワイヤボンディングする場合にも用いることがで
きる。
In FIG. 5, the connection electrode on the primary side is connected to the IC chip 3.
The connection electrode on the secondary side is the wiring 2 on the substrate 1. The connection electrode on the primary side is the wiring 2 on the substrate 1, and the connection electrode on the secondary side is the bonding pad 4 on the IC chip 3. It may be. When a plurality of IC chips 3 are arranged adjacent to each other, the primary connection electrodes may be used as bonding pads of the IC chip, and the secondary connection electrodes may be used as bonding pads of another IC chip. . Further, the present invention can also be used for wire bonding between connection electrodes in the same chip or the same substrate.

【0016】前記実施例では、バンプを形成する第1の
ワイヤとルーピングを行なう第2のワイヤとは、同種金
属(例えばAu−Au,Au合金−Au合金,Cu−C
u等)である場合に限らず、異種金属(Au−Au合
金,Au−Cu,Au合金−Cuまたはこの逆)であっ
てもよい。つまり、バンプ形成時に形成されるキャピラ
リと、2次ボンディングで使用されるキャピラリとが同
一キャピラリである必要はない。ただし、同種金属を用
いた場合には、バンプ形成とボンディングとを同一キャ
ピラリで引き続いて行なうことができる。また、配線材
料、ICチップのボンディングパッドについても、バン
プ材料およびルーピングを行なうワイヤと同種金属およ
び異種金属であってもよい。
In the above embodiment, the first wire for forming the bump and the second wire for looping are made of the same metal (for example, Au-Au, Au alloy-Au alloy, Cu-C
u), and may be a dissimilar metal (Au-Au alloy, Au-Cu, Au alloy-Cu or vice versa). That is, the capillary formed at the time of bump formation and the capillary used for the secondary bonding do not need to be the same capillary. However, when the same kind of metal is used, the bump formation and the bonding can be performed successively with the same capillary. Also, the wiring material and the bonding pad of the IC chip may be the same metal or different metal as the bump material and the wire for looping.

【0017】本発明において、2次ボンディングのキャ
ピラリについては、底面が平面でなくてもよく、接続電
極と平行でなくてもよい。さらに、ワイヤホールに対し
て底面が点対称形状である必要もない。少なくとも、2
次ボンディング時に、底面でバンプのテールを押圧して
成形できればよい。
In the present invention, the bottom surface of the secondary bonding capillary may not be flat and may not be parallel to the connection electrode. Further, the bottom surface does not need to be point-symmetrical with respect to the wire hole. At least 2
At the time of the next bonding, it suffices if the bottom of the bump can be pressed and molded at the bottom.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、バンプ上への2次ボンディングを、バンプの引
きちぎり時に形成されるテールにキャピラリの底面が当
接し、かつキャピラリのワイヤホールの中心がバンプ上
に位置するように行なったので、バンプ形成時に発生し
たテールがキャピラリのワイヤホールに入り込むのを確
実に防止でき、かつテールをキャピラリの底面で確実に
成形できる。そのため、2次ボンディング後に発生する
テールの長さが抑制され、かつ長さばらつきを小さくで
きる。また、キャピラリの底面がバンプのテール部に当
接し、かつキャピラリのワイヤホール中心がバンプ上に
位置するように2次ボンディングを行なったので、2次
ボンディングのみでは困難であった接合性の悪い電極に
対して、十分な接合強度でワイヤボンディングを行なう
ことができるという効果を有する。さらに、本発明で
は、キャピラリのワイヤホールの中心がバンプ上に位置
するように2次ボンディングを行なうので、キャピラリ
がバンプの外方へ大きく突出せず、実装面積を小さくで
き、小型化の点で有利である。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the secondary bonding on the bump is performed by contacting the bottom surface of the capillary with the tail formed when the bump is torn, and by using the wire of the capillary. Since the center of the hole is located on the bump, the tail generated during the formation of the bump can be reliably prevented from entering the wire hole of the capillary, and the tail can be reliably formed on the bottom surface of the capillary. Therefore, the length of the tail generated after the secondary bonding is suppressed, and the length variation can be reduced. Also, since the secondary bonding was performed such that the bottom surface of the capillary was in contact with the tail portion of the bump and the center of the wire hole of the capillary was located on the bump, an electrode having poor bonding properties, which was difficult only with the secondary bonding, was used. However, there is an effect that wire bonding can be performed with sufficient bonding strength. Further, in the present invention, since the secondary bonding is performed so that the center of the wire hole of the capillary is located on the bump, the capillary does not protrude greatly outside the bump, the mounting area can be reduced, and the size of the device can be reduced. It is advantageous.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のワイヤボンディング方法の一例の図であ
る。
FIG. 1 is a diagram of an example of a conventional wire bonding method.

【図2】従来のワイヤボンディング方法の他の例の図で
ある。
FIG. 2 is a diagram of another example of a conventional wire bonding method.

【図3】バンプ形成時の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view when a bump is formed.

【図4】従来の2次ボンディング時の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view at the time of conventional secondary bonding.

【図5】本発明のワイヤボンディング方法の一例の工程
図である。
FIG. 5 is a process chart of an example of the wire bonding method of the present invention.

【図6】本発明のワイヤボンディング方法の要部を示す
拡大図である。
FIG. 6 is an enlarged view showing a main part of the wire bonding method of the present invention.

【図7】本発明と従来例および比較例のテール長さの比
較図である。
FIG. 7 is a comparison diagram of tail lengths of the present invention, a conventional example, and a comparative example.

【図8】本発明と従来例および比較例の接合強度の比較
図である。
FIG. 8 is a comparison diagram of bonding strength between the present invention, a conventional example, and a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 配線 3 ICチップ 4 ボンディングパッド 5 ワイヤ 6 キャピラリ 6a ワイヤホール 6b 底面 7 バンプ 7a,7b テール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Wiring 3 IC chip 4 Bonding pad 5 Wire 6 Capillary 6a Wire hole 6b Bottom surface 7 Bump 7a, 7b Tail

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワイヤを導出するワイヤホールと、このワ
イヤホールの周囲に設けられた底面とを有するキャピラ
リを用い、1次側接続電極から2次側接続電極へワイヤ
を接続するワイヤボンディング方法において、前記2次
側接続電極上に予め第1のワイヤを用いて引きちぎり法
によってバンプを形成する工程と、前記1次側接続電極
上に前記キャピラリから導出される第2のワイヤを用い
て1次ボンディングを行なう工程と、前記バンプ上に前
記第2のワイヤを用いて2次ボンディングを行なう工程
とを有し、前記2次ボンディングを、前記キャピラリの
底面を前記バンプの引きちぎり時に形成されるテール部
に当接させ、かつ前記キャピラリのワイヤホールの中心
を前記バンプ上に位置させて行なうことを特徴とするワ
イヤボンディング方法。
1. A wire bonding method for connecting a wire from a primary connection electrode to a secondary connection electrode using a capillary having a wire hole for leading a wire and a bottom surface provided around the wire hole. Forming a bump on the secondary connection electrode in advance by a tearing method using a first wire; and forming a bump on the primary connection electrode using a second wire derived from the capillary. A step of performing a secondary bonding and a step of performing a secondary bonding on the bump using the second wire, wherein the secondary bonding is formed when the bottom surface of the capillary is torn off the bump. Wire bonding, wherein the wire bonding is performed by bringing the capillary into contact with a tail portion and positioning the center of a wire hole of the capillary on the bump. Law.
【請求項2】前記2次ボンディングにおいて、前記キャ
ピラリのワイヤホールの中心を前記バンプの中心位置か
らワイヤ線径以上バンプ半径以下の範囲内に位置させる
ことを特徴とする請求項1に記載のワイヤボンディング
方法。
2. The wire according to claim 1, wherein, in the secondary bonding, a center of a wire hole of the capillary is located within a range from a wire center diameter to a bump radius from a center position of the bump. Bonding method.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6921016B2 (en) 2002-02-19 2005-07-26 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment
US7064425B2 (en) 2002-02-19 2006-06-20 Seiko Epson Corporation Semiconductor device circuit board, and electronic equipment
US7371675B2 (en) 2004-03-11 2008-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Method and apparatus for bonding a wire
JP7005820B1 (en) * 2021-02-16 2022-01-24 三菱電機株式会社 Optical communication module and its manufacturing method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6921016B2 (en) 2002-02-19 2005-07-26 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment
US7064425B2 (en) 2002-02-19 2006-06-20 Seiko Epson Corporation Semiconductor device circuit board, and electronic equipment
US7314818B2 (en) 2002-02-19 2008-01-01 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment
US7371675B2 (en) 2004-03-11 2008-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Method and apparatus for bonding a wire
JP7005820B1 (en) * 2021-02-16 2022-01-24 三菱電機株式会社 Optical communication module and its manufacturing method
WO2022176000A1 (en) * 2021-02-16 2022-08-25 三菱電機株式会社 Optical communication module and manufacturing method therefor

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