[go: up one dir, main page]

JP2001267489A - Semiconductor device and semiconductor chip - Google Patents

Semiconductor device and semiconductor chip

Info

Publication number
JP2001267489A
JP2001267489A JP2000078654A JP2000078654A JP2001267489A JP 2001267489 A JP2001267489 A JP 2001267489A JP 2000078654 A JP2000078654 A JP 2000078654A JP 2000078654 A JP2000078654 A JP 2000078654A JP 2001267489 A JP2001267489 A JP 2001267489A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor
semiconductor chip
parent
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000078654A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Sakamoto
達哉 阪本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2000078654A priority Critical patent/JP2001267489A/en
Publication of JP2001267489A publication Critical patent/JP2001267489A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W90/722

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】実装基板上における占有面積を縮小できるチッ
プ・オン・チップ構造の半導体装置、およびそのための
半導体チップを提供する。 【解決手段】親チップ1の活性表面には、子チップ2の
接合領域11が設定されており、この接合領域11に
は、導電性材料からなる複数のチップ間接続用バンプ1
2が隆起して形成されている。また、親チップ1の活性
表面には、接合領域11に対向した開口部13を有する
絶縁層14が積層されていて、この絶縁層14の表面か
ら突出した状態に、導電性材料からなる複数の外部接続
用バンプ15が設けられている。子チップ2は、その活
性表面を親チップ1の表面の接合領域11に対向させ
て、各チップ間接続用バンプ21をそれぞれ対応する親
チップ1のチップ間接続用バンプ12に結合させること
により、親チップ1と電気的および機械的に接続されて
いる。
(57) Abstract: A semiconductor device having a chip-on-chip structure capable of reducing an occupied area on a mounting board, and a semiconductor chip for the same are provided. A bonding area (11) of a child chip (2) is set on an active surface of a parent chip (1). The bonding area (11) has a plurality of inter-chip connection bumps (1) made of a conductive material.
2 are raised. An insulating layer 14 having an opening 13 facing the bonding region 11 is laminated on the active surface of the parent chip 1, and a plurality of conductive materials made of a conductive material protrude from the surface of the insulating layer 14. External connection bumps 15 are provided. The child chip 2 has its active surface opposed to the bonding area 11 on the surface of the parent chip 1, and the respective chip-to-chip connection bumps 21 are respectively coupled to the corresponding chip-to-chip connection bumps 12 of the parent chip 1. It is electrically and mechanically connected to the parent chip 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体チップの
表面に別の半導体チップを接合させたチップ・オン・チ
ップ構造を有する半導体装置、およびこのようなチップ
・オン・チップ構造の半導体装置に用いられる半導体チ
ップに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a chip-on-chip structure in which another semiconductor chip is bonded to the surface of a semiconductor chip, and to a semiconductor device having such a chip-on-chip structure. Semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】第1の半導体チップ(親チップ)の表面
に、第2の半導体チップ(子チップ)をその表面を対向
させた状態で接合することにより、チップ・オン・チッ
プ構造の半導体装置を構成することが提案されている。
図3は、チップ・オン・チップ構造の半導体装置の構成
例を示す断面図である。このチップ・オン・チップ構造
では、互いに対向する親チップ91および子チップ92
の表面にそれぞれバンプ93,94が隆起して形成され
ていて、親チップ91のバンプ93と子チップ92のバ
ンプ94とを接合することにより、親チップ91および
子チップ92間の電気接続が達成されている。親チップ
91の表面にはまた、複数個の外部接続用パッド95が
周縁付近に露出して形成されており、親チップ91およ
び子チップ92の接合体は、親チップ91がリードフレ
ーム96のアイランド96a上にダイボンディングされ
ることによって、リードフレーム96に機械的に接続さ
れるとともに、外部接続用パッド95とリードフレーム
96のリード端子96bとがボンディングワイヤ97で
接続されることにより、リードフレーム96に電気的に
接続されている。
2. Description of the Related Art A semiconductor device having a chip-on-chip structure is formed by bonding a second semiconductor chip (child chip) to a surface of a first semiconductor chip (parent chip) with its surfaces facing each other. It has been proposed to construct
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a semiconductor device having a chip-on-chip structure. In this chip-on-chip structure, a parent chip 91 and a child chip 92 facing each other
Bumps 93 and 94 are respectively formed on the surfaces of the bumps 93 and 94. By connecting the bumps 93 of the parent chip 91 and the bumps 94 of the child chip 92, electrical connection between the parent chip 91 and the child chip 92 is achieved. Have been. A plurality of external connection pads 95 are also formed on the surface of the parent chip 91 so as to be exposed in the vicinity of the periphery, and the joined body of the parent chip 91 and the child chip 92 is formed by connecting the parent chip 91 to the island of the lead frame 96. By being die-bonded on the lead frame 96a, the lead frame 96 is mechanically connected to the lead frame 96, and the external connection pad 95 and the lead terminal 96b of the lead frame 96 are connected by the bonding wire 97, thereby forming the lead frame 96. Is electrically connected to

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述のようなチップ・
オン・チップ構造の半導体装置は、親チップ91の周囲
にリード端子96bを配置した構成であるから、装置全
体の平面視におけるサイズが大きく、実装基板上で比較
的大きなスペースを占有する。そこで、この発明の目的
は、実装基板上における占有面積(実装面積)を縮小で
きるチップ・オン・チップ構造の半導体装置、およびそ
のための半導体チップを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION A chip as described above
Since the semiconductor device having the on-chip structure has a configuration in which the lead terminals 96b are arranged around the parent chip 91, the size of the entire device in a plan view is large and occupies a relatively large space on the mounting board. Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor device having a chip-on-chip structure capable of reducing an occupied area (mounting area) on a mounting board, and a semiconductor chip for the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段および発明の効果】前記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、第1の半
導体チップの表面に、この第1の半導体チップとは別の
第2の半導体チップを接合させたチップ・オン・チップ
構造を有する半導体装置であって、前記第1の半導体チ
ップの表面に設定されたチップ接合領域に形成され、前
記第2の半導体チップとの接続のためのチップ間接続部
と、前記第1の半導体チップの表面の前記チップ接合領
域以外の領域に形成され、前記チップ接合領域に前記第
2の半導体チップが接合された状態で、前記第2の半導
体チップよりも表面側に突出した外部接続部とを含むこ
とを特徴とする半導体装置である。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention According to the first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a first semiconductor chip having a second surface separate from the first semiconductor chip; A semiconductor device having a chip-on-chip structure in which semiconductor chips are bonded to each other, wherein the semiconductor device is formed in a chip bonding region set on a surface of the first semiconductor chip, and is connected to the second semiconductor chip. The second semiconductor chip is formed in a region other than the chip bonding region on the surface of the first semiconductor chip, and the second semiconductor chip is bonded to the chip bonding region. An external connection portion protruding to the surface side of the semiconductor chip.

【0005】前記半導体チップの表面とは、トランジス
タなどの機能素子が形成された活性表層領域側の表面を
いう。この構成によれば、第1の半導体チップの表面の
チップ接合領域以外の領域に外部接続部が設けられてお
り、この外部接続部がチップ接合領域に接合された第2
の半導体チップよりも表面側に突出している。これによ
り、第1の半導体チップの表面を実装基板の実装面に対
向させて、この実装面に形成されている配線パターンに
外部接続部を接続することにより、この半導体装置の実
装基板への実装を達成できる。したがって、この半導体
装置はリードフレームが不要であるから、その分だけ装
置サイズを小さくでき、実装基板上での占有面積(実装
面積)を縮小できる。
[0005] The surface of the semiconductor chip refers to the surface on the active surface layer side on which functional elements such as transistors are formed. According to this configuration, the external connection portion is provided in a region other than the chip bonding region on the surface of the first semiconductor chip, and the second external connection portion is bonded to the chip bonding region.
Protrude more toward the front side than the semiconductor chip. Thus, the surface of the first semiconductor chip is opposed to the mounting surface of the mounting substrate, and the external connection portion is connected to the wiring pattern formed on the mounting surface, thereby mounting the semiconductor device on the mounting substrate. Can be achieved. Therefore, since the semiconductor device does not require a lead frame, the device size can be reduced accordingly, and the area occupied on the mounting board (mounting area) can be reduced.

【0006】請求項2記載の発明は、半導体チップの表
面に別の半導体チップを接合させたチップ・オン・チッ
プ構造を有する半導体装置のための半導体チップであっ
て、当該半導体チップの表面に設定されたチップ接合領
域に形成され、前記別の半導体チップとの接続のための
チップ間接続部と、当該半導体チップの表面の前記チッ
プ接合領域以外の領域に形成され、前記チップ接合領域
に前記別の半導体チップが接合された状態で、前記別の
半導体チップよりも表面側に突出する外部接続部とを含
むことを特徴とする半導体チップである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor chip for a semiconductor device having a chip-on-chip structure in which another semiconductor chip is bonded to a surface of the semiconductor chip, wherein the semiconductor chip is set on the surface of the semiconductor chip. An inter-chip connecting portion formed in the formed chip bonding region and connected to the another semiconductor chip, and formed in a region other than the chip bonding region on the surface of the semiconductor chip; And an external connection portion protruding more toward the surface side than the another semiconductor chip in a state where the semiconductor chip is joined.

【0007】この構成により、請求項1に関連して述べ
た効果と同様の効果を奏することができる。すなわち、
この半導体チップを用いてチップ・オン・チップ構造の
半導体装置を作製した場合、半導体装置の実装基板上で
の占有面積が小さくすむ。
With this configuration, the same effect as the effect described in claim 1 can be obtained. That is,
When a semiconductor device having a chip-on-chip structure is manufactured using this semiconductor chip, the area occupied by the semiconductor device on a mounting substrate can be reduced.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態に係る半導体装置の構成を示す断面図
である。この半導体装置は、第1の半導体チップとして
の親チップ1の活性表面に、第2の半導体チップとして
の子チップ2を接合したチップ・オン・チップ構造を有
している。この場合、活性表面とは、トランジスタなど
の機能素子が形成された活性表層領域側の表面を指す。
親チップ1および子チップ2は、いずれもシリコンチッ
プであってもよいが、化合物半導体(ガリウム砒素やガ
リウム燐など)やゲルマニウム半導体などの他の種類の
半導体チップであってもよいし、親チップ1と子チップ
2との半導体の種類が一致している必要もない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention. This semiconductor device has a chip-on-chip structure in which a child chip 2 as a second semiconductor chip is joined to an active surface of a parent chip 1 as a first semiconductor chip. In this case, the active surface refers to a surface on the active surface layer region side on which a functional element such as a transistor is formed.
Each of the parent chip 1 and the child chip 2 may be a silicon chip, but may be another type of semiconductor chip such as a compound semiconductor (such as gallium arsenide or gallium phosphide) or a germanium semiconductor. It is not necessary that the types of semiconductors of the semiconductor chip 1 and the child chip 2 match.

【0009】親チップ1は、たとえば、平面視における
外形が子チップ2よりも大きく形成されている。親チッ
プ1の活性表面には、子チップ2の接合領域11が設定
されており、この接合領域11には、導電性材料からな
る複数のチップ間接続用バンプ12が隆起して形成され
ている。また、親チップ1の活性表面には、接合領域1
1に対向した開口部13を有する絶縁層14が積層され
ていて、この絶縁層14の表面から突出した状態に、導
電性材料からなる複数の外部接続用バンプ15が設けら
れている。チップ間接続用バンプ12および外部接続用
バンプ15は、いずれも、親チップ1の基体をなす半導
体基板上に配設された内部配線に接続されている。
The parent chip 1 has, for example, an outer shape in plan view larger than that of the child chip 2. On the active surface of the parent chip 1, a bonding region 11 of the child chip 2 is set, and in this bonding region 11, a plurality of inter-chip connection bumps 12 made of a conductive material are formed so as to protrude. . In addition, a bonding region 1 is provided on the active surface of the parent chip 1.
An insulating layer 14 having an opening 13 opposed to the insulating layer 14 is laminated, and a plurality of external connection bumps 15 made of a conductive material are provided so as to protrude from the surface of the insulating layer 14. Both the inter-chip connection bumps 12 and the external connection bumps 15 are connected to internal wirings provided on a semiconductor substrate serving as a base of the parent chip 1.

【0010】子チップ2の活性表面には、親チップ1の
各チップ間接続用バンプ12と対応する位置に、それぞ
れ導電性材料からなる複数のチップ間接続用バンプ21
が形成されている。これらのチップ間接続用バンプ21
は、子チップ2の基体をなす半導体基板上に配設された
内部配線に接続されている。子チップ2は、その活性表
面を親チップ1の表面の接合領域11に対向させて、各
チップ間接続用バンプ21をそれぞれ対応する親チップ
1のチップ間接続用バンプ12に結合させることによ
り、親チップ1と電気的および機械的に接続されてい
る。
On the active surface of the child chip 2, a plurality of chip connecting bumps 21 made of a conductive material are provided at positions corresponding to the respective chip connecting bumps 12 of the parent chip 1.
Are formed. These inter-chip connection bumps 21
Are connected to the internal wiring provided on the semiconductor substrate forming the base of the sub chip 2. The child chip 2 has its active surface opposed to the bonding region 11 on the surface of the parent chip 1, and each of the inter-chip connection bumps 21 is bonded to the corresponding inter-chip connection bump 12 of the parent chip 1, respectively. It is electrically and mechanically connected to the parent chip 1.

【0011】このような構成を有する半導体装置は、液
晶用ガラス基板などの実装基板3に直接に実装すること
ができる。すなわち、この半導体装置の実装基板3への
実装は、親チップ1の活性表面を実装基板3の実装面に
対向させて、この実装面に形成されている配線パターン
(図示せず)に外部接続用バンプ15を接続することに
より達成できる。したがって、リードフレームを省略す
ることができ、その分だけ装置サイズを小さくできるの
で、実装基板3上での占有面積(実装面積)が縮小され
る。
The semiconductor device having such a configuration can be directly mounted on a mounting substrate 3 such as a glass substrate for liquid crystal. That is, the semiconductor device is mounted on the mounting substrate 3 by connecting the active surface of the parent chip 1 to the mounting surface of the mounting substrate 3 and externally connecting to a wiring pattern (not shown) formed on the mounting surface. This can be achieved by connecting the bump 15 for use. Therefore, the lead frame can be omitted, and the size of the device can be reduced accordingly, so that the occupied area (mounting area) on the mounting board 3 is reduced.

【0012】なお、外部接続用バンプ15は、その頂面
と接合領域11の表面11aとの間隔が子チップ2の厚
み(たとえば、約30μm)よりも大きくなるように形
成されている。したがって、この半導体装置を実装基板
3に実装したときに、接合領域11に接合された子チッ
プ2の裏面が実装基板3の実装面に接触することはない
ので、外部接続用バンプ15と実装基板3の配線パター
ンとの接続不良を生じるおそれはない。ただし、外部接
続用バンプ15と実装基板3との電気接続が確保できれ
ば、子チップ2の裏面が実装基板3の表面に接触してい
てもよく、たとえば、子チップ2の裏面が実装基板3の
表面に接着剤で接着されていても構わない。
The external connection bump 15 is formed such that the distance between the top surface thereof and the surface 11a of the bonding region 11 is larger than the thickness (for example, about 30 μm) of the child chip 2. Therefore, when this semiconductor device is mounted on the mounting substrate 3, the back surface of the child chip 2 bonded to the bonding region 11 does not contact the mounting surface of the mounting substrate 3, so that the external connection bump 15 and the mounting substrate There is no possibility that a connection failure with the third wiring pattern will occur. However, as long as the electrical connection between the external connection bumps 15 and the mounting substrate 3 can be secured, the back surface of the child chip 2 may be in contact with the surface of the mounting substrate 3. It may be bonded to the surface with an adhesive.

【0013】また、この半導体装置を実装基板3に実装
する際には、半導体装置と実装基板3との間に、たとえ
ばACF(Anisotropic Conductive Film:異方導電性フ
ィルム)が介在されることが好ましい。この場合、外部
接続用バンプ15と実装基板3に形成されている配線パ
ターンとの接合部分では、ACFに含まれている導電性
カプセルが潰れて導電性を発揮し、これにより外部接続
用バンプ15と配線パターンとが良好に電気接続され
る。また、外部接続用バンプ15および配線パターンの
接合部分以外の領域はACFで封止されることになるの
で、チップ間接続用バンプ12,21や外部接続用バン
プ15の腐食を防止できる。そのうえ、ACFによって
開口部13内の空間が密閉されるので、親チップ1およ
び子チップ2の活性表面を保護することもできる。
When the semiconductor device is mounted on the mounting substrate 3, it is preferable that, for example, an ACF (Anisotropic Conductive Film) is interposed between the semiconductor device and the mounting substrate 3. . In this case, at the joint between the external connection bump 15 and the wiring pattern formed on the mounting board 3, the conductive capsule included in the ACF is crushed to exhibit conductivity. And the wiring pattern are electrically connected well. In addition, since the area other than the bonding portion between the external connection bump 15 and the wiring pattern is sealed with the ACF, the corrosion between the chip-to-chip connection bumps 12 and 21 and the external connection bump 15 can be prevented. In addition, since the space in the opening 13 is sealed by the ACF, the active surfaces of the parent chip 1 and the child chip 2 can be protected.

【0014】図2は、親チップ1の製造方法を工程順に
示す断面図である。図2(a)〜(d)に示す各工程は、半導
体チップの個片に切り出される前のウエハWの状態で行
われる。このウエハWは、種々の素子形成工程および配
線形成工程などを経ていて、この配線形成工程で形成さ
れた内部配線16上には、図2(a)に示すように、内部
配線16の一部に対向した開口部17aを有する表面保
護膜(パッシベーション膜)17が積層されている。開
口部17aは、ウエハWの表面全域を覆うように表面保
護膜17を形成した後、その表面保護膜17上にフォト
リソグラフィ技術によってレジスト膜をパターン形成
し、さらに、このレジスト膜をマスクとしてエッチング
を行うことにより形成することができる。
FIG. 2 is a sectional view showing a method of manufacturing the parent chip 1 in the order of steps. Each step shown in FIGS. 2A to 2D is performed in a state of the wafer W before being cut into individual semiconductor chips. The wafer W has undergone various element forming steps, wiring forming steps, and the like. On the internal wiring 16 formed in this wiring forming step, as shown in FIG. A surface protection film (passivation film) 17 having an opening 17a facing the substrate is laminated. The opening 17a is formed by forming a surface protection film 17 so as to cover the entire surface of the wafer W, patterning a resist film on the surface protection film 17 by photolithography, and further etching using the resist film as a mask. Can be formed.

【0015】開口部17aを形成した後には、図2(b)
に示すように、開口部17aを介して露出した内部配線
16上にバンプBが形成される。このバンプBは、たと
えば、表面保護膜17上に開口部17aに対応した開口
を有するレジスト膜をパターン形成した後、バンプ材料
を用いためっきを行うことにより形成できる。バンプB
の形成の後には、図2(c)に示すように、絶縁層14が
選択的に形成される。この絶縁層14は、たとえば、表
面保護膜17およびチップ間接続用バンプ12上の全面
に絶縁層14の材料を堆積させた後、予め設定された子
チップ接合領域11に対向する部分、および子チップ接
合領域11以外の領域に設けられたバンプBに対向する
部分を、エッチング処理で選択的に除去することにより
形成できる。
After the opening 17a is formed, FIG.
As shown in FIG. 5, a bump B is formed on the internal wiring 16 exposed through the opening 17a. The bump B can be formed, for example, by patterning a resist film having an opening corresponding to the opening 17a on the surface protective film 17 and then performing plating using a bump material. Bump B
After the formation, the insulating layer 14 is selectively formed as shown in FIG. The insulating layer 14 is formed, for example, by depositing the material of the insulating layer 14 on the entire surface of the surface protection film 17 and the bumps 12 for connecting the chips, and then facing the preset child chip bonding region 11 and the child. It can be formed by selectively removing a portion facing the bump B provided in a region other than the chip bonding region 11 by an etching process.

【0016】次いで、チップ間接続用バンプ12の形成
工程と同様な工程が行われることにより、図2(d)に示
すように、子チップ接合領域11以外の領域において絶
縁層14から露出したバンプB上に外部接続用バンプ1
5が形成される。こうして形成される外部接続用バンプ
15は、バンプBを介して内部配線16に接続されてい
る。また、子チップ接合領域11に形成されているバン
プBは、子チップ2(図1参照)との接続のためのチッ
プ間接続用バンプ12となる。この後、ウエハWが予め
設定されたスクライブライン(図示せず)に沿って切断
され、これにより、上述した構成を有する複数個の親チ
ップ1の個片が切り出される。
Next, by performing the same step as the step of forming the inter-chip connection bumps 12, as shown in FIG. 2D, the bumps exposed from the insulating layer 14 in regions other than the sub-chip bonding region 11 are formed. External connection bump 1 on B
5 are formed. The external connection bump 15 thus formed is connected to the internal wiring 16 via the bump B. In addition, the bumps B formed in the sub chip bonding region 11 become inter-chip connection bumps 12 for connection with the sub chip 2 (see FIG. 1). Thereafter, the wafer W is cut along a scribe line (not shown) set in advance, whereby pieces of the plurality of parent chips 1 having the above-described configuration are cut out.

【0017】以上、この発明の一実施形態を説明した
が、この発明は、他の形態で実施することもできる。た
とえば、上述の実施形態では、1個の親チップ1上に1
個の子チップ2が接合された構成を例にとって説明した
が、1個の親チップ1上に複数個の子チップ2が接合さ
れてもよい。その他、特許請求の範囲に記載された事項
の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention can be embodied in other forms. For example, in the above embodiment, one parent chip 1 has one
Although the configuration in which the plurality of child chips 2 are joined has been described as an example, a plurality of child chips 2 may be joined on one parent chip 1. In addition, various design changes can be made within the scope of the matters described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態に係る半導体装置の構成
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記半導体装置の製造方法を工程順に示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing the semiconductor device in the order of steps.

【図3】従来のチップ・オン・チップ構造の半導体装置
の構成例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a conventional semiconductor device having a chip-on-chip structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 親チップ(第1の半導体チップ) 2 子チップ(第2の半導体チップ) 3 実装基板 11 子チップ接合領域 12 チップ間接続用バンプ(チップ間接続部) 15 外部接続用バンプ(外部接続部) 21 チップ間接続用バンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Parent chip (1st semiconductor chip) 2 Child chip (2nd semiconductor chip) 3 Mounting board 11 Child chip bonding area 12 Bump for connection between chips (connection part between chips) 15 Bump for external connection (external connection part) 21 Bump for connecting between chips

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1の半導体チップの表面に、この第1の
半導体チップとは別の第2の半導体チップを接合させた
チップ・オン・チップ構造を有する半導体装置であっ
て、 前記第1の半導体チップの表面に設定されたチップ接合
領域に形成され、前記第2の半導体チップとの接続のた
めのチップ間接続部と、 前記第1の半導体チップの表面の前記チップ接合領域以
外の領域に形成され、前記チップ接合領域に前記第2の
半導体チップが接合された状態で、前記第2の半導体チ
ップよりも表面側に突出した外部接続部とを含むことを
特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device having a chip-on-chip structure in which a second semiconductor chip different from the first semiconductor chip is joined to a surface of the first semiconductor chip, An inter-chip connecting portion formed in a chip bonding region set on the surface of the semiconductor chip for connection to the second semiconductor chip; and a region other than the chip bonding region on the surface of the first semiconductor chip. And an external connection portion protruding to a surface side of the second semiconductor chip in a state where the second semiconductor chip is bonded to the chip bonding region.
【請求項2】半導体チップの表面に別の半導体チップを
接合させたチップ・オン・チップ構造を有する半導体装
置のための半導体チップであって、 当該半導体チップの表面に設定されたチップ接合領域に
形成され、前記別の半導体チップとの接続のためのチッ
プ間接続部と、 当該半導体チップの表面の前記チップ接合領域以外の領
域に形成され、前記チップ接合領域に前記別の半導体チ
ップが接合された状態で、前記別の半導体チップよりも
表面側に突出する外部接続部とを含むことを特徴とする
半導体チップ。
2. A semiconductor chip for a semiconductor device having a chip-on-chip structure in which another semiconductor chip is bonded to a surface of a semiconductor chip, wherein the semiconductor chip has a chip bonding region set on the surface of the semiconductor chip. And an inter-chip connection portion for connection with the another semiconductor chip, formed in a region other than the chip bonding region on the surface of the semiconductor chip, and the another semiconductor chip is bonded to the chip bonding region. And an external connection portion protruding to a surface side of the another semiconductor chip in a state in which the semiconductor chip is placed.
JP2000078654A 2000-03-21 2000-03-21 Semiconductor device and semiconductor chip Pending JP2001267489A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000078654A JP2001267489A (en) 2000-03-21 2000-03-21 Semiconductor device and semiconductor chip

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000078654A JP2001267489A (en) 2000-03-21 2000-03-21 Semiconductor device and semiconductor chip

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001267489A true JP2001267489A (en) 2001-09-28

Family

ID=18596039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000078654A Pending JP2001267489A (en) 2000-03-21 2000-03-21 Semiconductor device and semiconductor chip

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001267489A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100406448B1 (en) * 2001-04-02 2003-11-19 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Semiconductor package and its manufacturing method
US8748229B2 (en) 2008-06-11 2014-06-10 Fujitsu Semiconductor Limited Manufacturing method including deformation of supporting board to accommodate semiconductor device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100406448B1 (en) * 2001-04-02 2003-11-19 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Semiconductor package and its manufacturing method
US8748229B2 (en) 2008-06-11 2014-06-10 Fujitsu Semiconductor Limited Manufacturing method including deformation of supporting board to accommodate semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7007496B2 (en) Multi-layer 3D integration die stack
US8786070B2 (en) Microelectronic package with stacked microelectronic elements and method for manufacture thereof
JP3631120B2 (en) Semiconductor device
CN100555592C (en) Chip package structure and manufacturing method thereof
KR20190099731A (en) Method of fabricating semiconductor package including reinforcement top die
JP2000232200A (en) Semiconductor chip and semiconductor device with chip-on-chip structure
JP2003078106A (en) Chip stacked package element and method of manufacturing the same
JP3651346B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2004140037A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
CN101208789A (en) Method of manufacturing components and components
TWI825118B (en) Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
JP3413120B2 (en) Semiconductor device with chip-on-chip structure
CN120376537A (en) Semiconductor package with sidewall connection
US8975760B2 (en) Semiconductor device reducing risks of a wire short-circuit and a wire flow
US9721928B1 (en) Integrated circuit package having two substrates
JP4422380B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH11214448A (en) Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
KR100800476B1 (en) Semiconductor package and manufacturing method thereof and semiconductor module and manufacturing method thereof
US7732934B2 (en) Semiconductor device having conductive adhesive layer and method of fabricating the same
JP3715861B2 (en) Assembling method of semiconductor device
WO2007023747A1 (en) Semiconductor chip, method of manufacturing semiconductor chip, and semiconductor device
JP2001267489A (en) Semiconductor device and semiconductor chip
JPH08255810A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2023060343A (en) semiconductor module
CN100466246C (en) Flexible Substrates for Packaging