JP2001267278A - 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置 - Google Patents
廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置Info
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- JP2001267278A JP2001267278A JP2000073307A JP2000073307A JP2001267278A JP 2001267278 A JP2001267278 A JP 2001267278A JP 2000073307 A JP2000073307 A JP 2000073307A JP 2000073307 A JP2000073307 A JP 2000073307A JP 2001267278 A JP2001267278 A JP 2001267278A
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】処理液及び洗浄液の種類に応じてそれぞれの廃
液、特に３種類以上の廃液を連続的にかつ有効に分離回
収することができ、従って生産効率を向上させることが
でき、さらには、１００μｍ以下の非常に薄いウェーハ
をその外周部のみの接触で回転保持することができ、さ
らに超音波ジェットノズルによる洗浄やブラシ洗浄をも
可能としたウェーハ回転保持装置を具備した廃液回収機
構付ウェーハ表面処理装置を提供する。 【解決手段】ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処
理するウェーハ表面処理装置であって、表面処理される
ウェーハを回転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェ
ーハ回転保持装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液
回収機構とを有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能
に設けられた複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液
及び洗浄液の種類によって複数個の環状廃液回収樋を使
い分け、それぞれの廃液を分離回収するようにした。
液、特に３種類以上の廃液を連続的にかつ有効に分離回
収することができ、従って生産効率を向上させることが
でき、さらには、１００μｍ以下の非常に薄いウェーハ
をその外周部のみの接触で回転保持することができ、さ
らに超音波ジェットノズルによる洗浄やブラシ洗浄をも
可能としたウェーハ回転保持装置を具備した廃液回収機
構付ウェーハ表面処理装置を提供する。 【解決手段】ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処
理するウェーハ表面処理装置であって、表面処理される
ウェーハを回転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェ
ーハ回転保持装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液
回収機構とを有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能
に設けられた複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液
及び洗浄液の種類によって複数個の環状廃液回収樋を使
い分け、それぞれの廃液を分離回収するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ表面を処
理液や洗浄液によって処理する際に、処理液や洗浄液の
種類に応じてそれぞれの廃液を有効に分離回収すること
ができるようにした廃液回収機構付ウェーハ表面処理装
置に関する。
理液や洗浄液によって処理する際に、処理液や洗浄液の
種類に応じてそれぞれの廃液を有効に分離回収すること
ができるようにした廃液回収機構付ウェーハ表面処理装
置に関する。
【０００２】
【関連技術】デバイスの製造工程におけるウェーハ表面
の処理としては、バックグラインディング後のダメージ
層を除去するためのエッチング処理の他に、現像液のウ
ェーハへの塗布、回路パターンを露光したウェーハ表面
に現像液が塗布されたウェーハに半導体回路を焼き付け
たものの現像処理、ウェーハ表面の洗浄等をあげること
ができる。
の処理としては、バックグラインディング後のダメージ
層を除去するためのエッチング処理の他に、現像液のウ
ェーハへの塗布、回路パターンを露光したウェーハ表面
に現像液が塗布されたウェーハに半導体回路を焼き付け
たものの現像処理、ウェーハ表面の洗浄等をあげること
ができる。
【０００３】このウェーハ表面処理に用いられる装置
は、ウェーハをチャックし回転するウェーハ回転保持装
置とチャックされたウェーハの上面に必要な処理液（薬
液）を供給する処理液供給手段及びウェーハ上面に洗浄
液を供給する洗浄液供給手段等から構成されている（例
えば、特開平８−８８１６８号公報）。
は、ウェーハをチャックし回転するウェーハ回転保持装
置とチャックされたウェーハの上面に必要な処理液（薬
液）を供給する処理液供給手段及びウェーハ上面に洗浄
液を供給する洗浄液供給手段等から構成されている（例
えば、特開平８−８８１６８号公報）。
【０００４】例えば、従来のバックグラインディング後
のダメージ層の除去のためのエッチングは混酸（例え
ば、フッ酸＋硝酸等）を用いて１回行えば足りるもので
あり、上記した公報に開示されるように処理液（例え
ば、混酸）と洗浄液とを回収すればよいものであった。
のダメージ層の除去のためのエッチングは混酸（例え
ば、フッ酸＋硝酸等）を用いて１回行えば足りるもので
あり、上記した公報に開示されるように処理液（例え
ば、混酸）と洗浄液とを回収すればよいものであった。
【０００５】しかし、現在では、上記したエッチング後
の表面改質の必要性が出てきており、上記した最初のエ
ッチング後に表面改質のためのエッチングを１回又は複
数回行うのが通常である。このように複数回の表面処理
を行うとそれだけ時間がかかるために生産効率の低下に
つながるという問題が新たに生じている。また、処理液
（薬液）も複数使うことになるので、その廃液回収を考
慮すると、上記した従来技術のように１種類の処理液と
洗浄液という２種類の使用済の廃液回収を行う装置では
足りず、３種類以上の廃液を回収することのできる装置
の必要性が生じてきた。
の表面改質の必要性が出てきており、上記した最初のエ
ッチング後に表面改質のためのエッチングを１回又は複
数回行うのが通常である。このように複数回の表面処理
を行うとそれだけ時間がかかるために生産効率の低下に
つながるという問題が新たに生じている。また、処理液
（薬液）も複数使うことになるので、その廃液回収を考
慮すると、上記した従来技術のように１種類の処理液と
洗浄液という２種類の使用済の廃液回収を行う装置では
足りず、３種類以上の廃液を回収することのできる装置
の必要性が生じてきた。
【０００６】また、一方では、近年１００μｍ以下の非
常に薄いウェーハに対してエッチング又は洗浄等を行う
際に、その片面処理が必要となるが、その回転保持手段
も従来のようにウェーハ下面を吸着回転保持するような
形式では回転保持が困難になってきており、新しい形式
の回転保持手段が待望されている。
常に薄いウェーハに対してエッチング又は洗浄等を行う
際に、その片面処理が必要となるが、その回転保持手段
も従来のようにウェーハ下面を吸着回転保持するような
形式では回転保持が困難になってきており、新しい形式
の回転保持手段が待望されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した問
題点に鑑みなされたもので、処理液及び洗浄液の種類に
応じてそれぞれの廃液、特に３種類以上の廃液を連続的
にかつ有効に分離回収することができ、従って生産効率
を向上させることができ、さらには、１００μｍ以下の
非常に薄いウェーハをその外周部のみの接触で回転保持
することができ、さらに超音波ジェットノズルによる洗
浄やブラシ洗浄をも可能としたウェーハ回転保持装置を
具備した廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置を提供す
ることを目的とする。
題点に鑑みなされたもので、処理液及び洗浄液の種類に
応じてそれぞれの廃液、特に３種類以上の廃液を連続的
にかつ有効に分離回収することができ、従って生産効率
を向上させることができ、さらには、１００μｍ以下の
非常に薄いウェーハをその外周部のみの接触で回転保持
することができ、さらに超音波ジェットノズルによる洗
浄やブラシ洗浄をも可能としたウェーハ回転保持装置を
具備した廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置は、
ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処理するウェー
ハ表面処理装置であって、表面処理されるウェーハを回
転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェーハ回転保持
装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液回収機構とを
有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能に設けられた
複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液及び洗浄液の
種類によって複数個の環状廃液回収樋を使い分け、それ
ぞれの廃液を分離回収するようにしたことを特徴とす
る。上記した環状廃液回収樋を連続的に上下させること
によってウェーハの表面処理に用いられた処理液及び洗
浄液を連続的に回収することができ、生産効率の向上を
図ることができる。
に、本発明の廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置は、
ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処理するウェー
ハ表面処理装置であって、表面処理されるウェーハを回
転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェーハ回転保持
装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液回収機構とを
有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能に設けられた
複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液及び洗浄液の
種類によって複数個の環状廃液回収樋を使い分け、それ
ぞれの廃液を分離回収するようにしたことを特徴とす
る。上記した環状廃液回収樋を連続的に上下させること
によってウェーハの表面処理に用いられた処理液及び洗
浄液を連続的に回収することができ、生産効率の向上を
図ることができる。
【０００９】上記環状廃液回収樋を３個設けておけば、
３種類の廃液を回収することができる利点がある。
３種類の廃液を回収することができる利点がある。
【００１０】上記ウェーハ回転保持装置としては、上面
に媒体流路を形成した回転円板と、該回転円板の中心部
に穿設された貫通孔と、該回転円板の上面に設けられた
複数個のウェーハ受け部とを有し、該ウェーハ受け部を
介してウェーハを該回転円板の上方に間隔を介在させて
載置し、該回転円板を回転させると、該媒体流路内の媒
体が、回転による遠心力によって外方に排出され、これ
によって該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減
圧状態の吸引力によって、該回転円板の下面側から該貫
通孔を介して吸引された媒体が該回転円板の上面に供給
され、該媒体流路を通って連続的に外方に排出され、こ
のようにして該回転円板が回転している限り該媒体流路
内に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によ
って該ウェーハを下方に吸引し該ウェーハ受け部によっ
て回転保持するようにした構成を有するのが好ましい。
に媒体流路を形成した回転円板と、該回転円板の中心部
に穿設された貫通孔と、該回転円板の上面に設けられた
複数個のウェーハ受け部とを有し、該ウェーハ受け部を
介してウェーハを該回転円板の上方に間隔を介在させて
載置し、該回転円板を回転させると、該媒体流路内の媒
体が、回転による遠心力によって外方に排出され、これ
によって該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減
圧状態の吸引力によって、該回転円板の下面側から該貫
通孔を介して吸引された媒体が該回転円板の上面に供給
され、該媒体流路を通って連続的に外方に排出され、こ
のようにして該回転円板が回転している限り該媒体流路
内に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によ
って該ウェーハを下方に吸引し該ウェーハ受け部によっ
て回転保持するようにした構成を有するのが好ましい。
【００１１】なお、厚さ１００μｍ程度またはそれ以下
の薄いウェーハに自然にソリが発生している場合であっ
ても、本発明に用いられる新規なウェーハ回転保持装置
にそのまま載置して回転保持すると回転による遠心力に
よってウェーハのソリが解消し何の支障もなく回転保持
することができる利点がある。
の薄いウェーハに自然にソリが発生している場合であっ
ても、本発明に用いられる新規なウェーハ回転保持装置
にそのまま載置して回転保持すると回転による遠心力に
よってウェーハのソリが解消し何の支障もなく回転保持
することができる利点がある。
【００１２】本発明に用いられる新規なウェーハ回転保
持装置が、上記回転円板の下面側から上記貫通孔に媒体
を強制供給する媒体強制供給手段をさらに有し、上記減
圧状態を維持しつつ該回転円板の下面側から該貫通孔に
媒体を強制供給するのが好適である。このような構成と
することによって、ウェーハ上面を処理するためにウェ
ーハ上面側に供給される薬液がウェーハ下面側に回り込
むこのを防止することができる利点がある。
持装置が、上記回転円板の下面側から上記貫通孔に媒体
を強制供給する媒体強制供給手段をさらに有し、上記減
圧状態を維持しつつ該回転円板の下面側から該貫通孔に
媒体を強制供給するのが好適である。このような構成と
することによって、ウェーハ上面を処理するためにウェ
ーハ上面側に供給される薬液がウェーハ下面側に回り込
むこのを防止することができる利点がある。
【００１３】上記回転円板の上面に羽根板を放射状、螺
旋状又は渦巻状に設け、上記媒体流路を該回転円板の上
面と相対向する羽根板とウェーハの下面との間に形成す
るのが好適である。
旋状又は渦巻状に設け、上記媒体流路を該回転円板の上
面と相対向する羽根板とウェーハの下面との間に形成す
るのが好適である。
【００１４】上記貫通孔に連通する中空部を軸方向に穿
設した回転シャフトを上記回転円板の下面中央部に垂設
し、該回転シャフト及び該回転円板を回転させると該回
転シャフトの中空部の下端開口部から吸引された媒体が
該中空部及び貫通孔を通って該回転円板の上面に供給さ
れるようにすることも可能である。
設した回転シャフトを上記回転円板の下面中央部に垂設
し、該回転シャフト及び該回転円板を回転させると該回
転シャフトの中空部の下端開口部から吸引された媒体が
該中空部及び貫通孔を通って該回転円板の上面に供給さ
れるようにすることも可能である。
【００１５】上記回転シャフトの適宜位置に取りつけら
れ上記中空部の開口度合を調整することによって上記媒
体流路の減圧状態を調整するようにした減圧調整手段を
さらに設ける構成とすれば、ウェーハ厚さに応じた減圧
状態を自在に設定できるので吸引力が強すぎてウェーハ
が変形する等の事故は皆無となる。
れ上記中空部の開口度合を調整することによって上記媒
体流路の減圧状態を調整するようにした減圧調整手段を
さらに設ける構成とすれば、ウェーハ厚さに応じた減圧
状態を自在に設定できるので吸引力が強すぎてウェーハ
が変形する等の事故は皆無となる。
【００１６】上記ウェーハ受け部はウェーハ下面を受け
る下側ガイドピンとウェーハ外側面を受ける外側ガイド
ピンとによって構成することができる。また、上記ウェ
ーハ受け部は回転円板の上面であれば受け作用に支障の
ない限りどこに設置してもよいが、羽根板の上面に設け
れば、回転円板の上面スペースを有効利用できる利点が
ある。
る下側ガイドピンとウェーハ外側面を受ける外側ガイド
ピンとによって構成することができる。また、上記ウェ
ーハ受け部は回転円板の上面であれば受け作用に支障の
ない限りどこに設置してもよいが、羽根板の上面に設け
れば、回転円板の上面スペースを有効利用できる利点が
ある。
【００１７】上記回転円板の中心部に穿設された貫通孔
の上方に邪魔板を設け、該貫通孔を介して該回転円盤の
上面に供給される媒体を該邪魔板によて羽根板方向に誘
導する構成とすれば、媒体中に不純物等が混入した場合
でも媒体がウェーハの下面に直接吹き付けられることは
ないので不純物等によって汚染されるという事故の防止
や操業中にウェーハが割れた場合の媒体の上方への吹き
出しを防止することができるという有利さがある。
の上方に邪魔板を設け、該貫通孔を介して該回転円盤の
上面に供給される媒体を該邪魔板によて羽根板方向に誘
導する構成とすれば、媒体中に不純物等が混入した場合
でも媒体がウェーハの下面に直接吹き付けられることは
ないので不純物等によって汚染されるという事故の防止
や操業中にウェーハが割れた場合の媒体の上方への吹き
出しを防止することができるという有利さがある。
【００１８】上記回転円板の上面にオリエンテーション
フラット（オリフラ）部を受けるオリフラ受け部又はノ
ッチ部を受けるノッチ受け部を設けておけば、ウェーハ
は回転円板上面に係止されているので、両者は常に一緒
に回転することとなる。したがって、例えウェーハの回
転保持中にウェーハ上面に薬液等が注加されウェーハに
対して回転方向の反対方向への力が加わったとしても、
ウェーハは常に回転円板とともに回転し、両者の間に回
転のズレが生ずることはなく、後述する両者の回転のズ
レによる問題は発生しないという利点がある。
フラット（オリフラ）部を受けるオリフラ受け部又はノ
ッチ部を受けるノッチ受け部を設けておけば、ウェーハ
は回転円板上面に係止されているので、両者は常に一緒
に回転することとなる。したがって、例えウェーハの回
転保持中にウェーハ上面に薬液等が注加されウェーハに
対して回転方向の反対方向への力が加わったとしても、
ウェーハは常に回転円板とともに回転し、両者の間に回
転のズレが生ずることはなく、後述する両者の回転のズ
レによる問題は発生しないという利点がある。
【００１９】上記媒体としては、気体及び／又は液体、
即ち気体単独、例えば空気や、液体単独、例えば純水、
薬液等の他に両者を混合して用いることができる。
即ち気体単独、例えば空気や、液体単独、例えば純水、
薬液等の他に両者を混合して用いることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添
付図面に基づいて説明するが、本発明の技術思想から逸
脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもな
い。
付図面に基づいて説明するが、本発明の技術思想から逸
脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもな
い。
【００２１】図１は本発明の廃液回収機構付ウェーハ表
面処理装置の断面的側面概略説明図でウェーハのロード
時又はアンロード時の状態を示す。図２は図１の状態か
ら廃液回収機構の全体を上昇させて内側廃液回収樋を利
用する状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
図３は図２の状態から内側廃液回収樋のみを降下させて
中間廃液回収樋を利用する状態を示す同上の断面的側面
概略説明図である。図４は図３の状態から中間廃液回収
樋のみを降下させて外側廃液回収樋を利用する状態を示
す同上の断面的側面概略説明図である。
面処理装置の断面的側面概略説明図でウェーハのロード
時又はアンロード時の状態を示す。図２は図１の状態か
ら廃液回収機構の全体を上昇させて内側廃液回収樋を利
用する状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
図３は図２の状態から内側廃液回収樋のみを降下させて
中間廃液回収樋を利用する状態を示す同上の断面的側面
概略説明図である。図４は図３の状態から中間廃液回収
樋のみを降下させて外側廃液回収樋を利用する状態を示
す同上の断面的側面概略説明図である。
【００２２】図１〜図４において、Ｓは本発明の廃液回
収機構付ウェーハ表面処理装置で、中央部を中空部Ｈと
した環状の廃液回収機構５０と、該中空部Ｈの内部に設
けられたウェーハ回転保持装置１０とを有している。該
ウェーハ回転保持装置１０は、ウェーハ保持部１０ａと
該ウェーハ保持部１０ａを回転自在に支承する回転シャ
フト２０とから構成されている。廃液回収機構５０は、
外方に傾斜する環状外側斜面部材５２と該外側斜面部材
５２の先端部を内側に折曲して形成された外側角筒部５
４とを有している。該外側斜面部材５２の内側には該外
側斜面部材５２と同様に傾斜する中間斜面部材５６と該
中間斜面部材５６の先端部を内側に折曲して形成された
中間角筒部５８が設けられている。該中間斜面部材５６
の内側には該中間斜面部材５６と同様に傾斜する内側斜
面部材６０と該中間斜面部材５６の先端部を内側に折曲
して形成された内側角筒部６２が設けられている。
収機構付ウェーハ表面処理装置で、中央部を中空部Ｈと
した環状の廃液回収機構５０と、該中空部Ｈの内部に設
けられたウェーハ回転保持装置１０とを有している。該
ウェーハ回転保持装置１０は、ウェーハ保持部１０ａと
該ウェーハ保持部１０ａを回転自在に支承する回転シャ
フト２０とから構成されている。廃液回収機構５０は、
外方に傾斜する環状外側斜面部材５２と該外側斜面部材
５２の先端部を内側に折曲して形成された外側角筒部５
４とを有している。該外側斜面部材５２の内側には該外
側斜面部材５２と同様に傾斜する中間斜面部材５６と該
中間斜面部材５６の先端部を内側に折曲して形成された
中間角筒部５８が設けられている。該中間斜面部材５６
の内側には該中間斜面部材５６と同様に傾斜する内側斜
面部材６０と該中間斜面部材５６の先端部を内側に折曲
して形成された内側角筒部６２が設けられている。
【００２３】該外側斜面部材５２及び外側角筒部５４は
上下動可能とされており、したがって、廃液回収機構５
０の全体が該ウェーハ回転保持装置１０に対して上下動
可能に配置されている。該中間斜面部材５６及び中間角
筒部５８は該外側斜面部材５２及び外側角筒部５４に対
して上下動可能とされており、該中間斜面部材５６の外
面は該外側斜面部材５２の内面に当接しかつ該中間角筒
部５８の外壁５８ａの外面は外側角筒部５４の内壁５４
ｂの外面と摺動可能とされている。
上下動可能とされており、したがって、廃液回収機構５
０の全体が該ウェーハ回転保持装置１０に対して上下動
可能に配置されている。該中間斜面部材５６及び中間角
筒部５８は該外側斜面部材５２及び外側角筒部５４に対
して上下動可能とされており、該中間斜面部材５６の外
面は該外側斜面部材５２の内面に当接しかつ該中間角筒
部５８の外壁５８ａの外面は外側角筒部５４の内壁５４
ｂの外面と摺動可能とされている。
【００２４】該内側斜面部材６０及び内側角筒部６２は
該中間斜面部材５６及び中間角筒部５８に対して上下動
可能とされており、該内側斜面部材６０の外面は該中間
斜面部材５６の内面に当接しかつ該内側角筒部６２の外
壁６２ａの外面は中間角筒部５８の内壁５８ｂの外面と
摺動可能とされている。
該中間斜面部材５６及び中間角筒部５８に対して上下動
可能とされており、該内側斜面部材６０の外面は該中間
斜面部材５６の内面に当接しかつ該内側角筒部６２の外
壁６２ａの外面は中間角筒部５８の内壁５８ｂの外面と
摺動可能とされている。
【００２５】該外側斜面部材５２、該外側角筒部５４、
該中間斜面部材５６及び中間角筒部５８の外壁５８ａの
一部によって、外側環状廃液回収樋６４が形成される。
該中間斜面部材５６、該中間角筒部５８、該内側斜面部
材６０及び内側角筒部６２の外壁６２ａの一部によっ
て、中間環状廃液回収樋６６が形成される。該内側斜面
部材６０及び該内側角筒部６２によって内側環状廃液回
収樋６８が形成される。
該中間斜面部材５６及び中間角筒部５８の外壁５８ａの
一部によって、外側環状廃液回収樋６４が形成される。
該中間斜面部材５６、該中間角筒部５８、該内側斜面部
材６０及び内側角筒部６２の外壁６２ａの一部によっ
て、中間環状廃液回収樋６６が形成される。該内側斜面
部材６０及び該内側角筒部６２によって内側環状廃液回
収樋６８が形成される。
【００２６】したがって、該廃液回収機構５０は複数個
（図示例では３個）の環状廃液回収樋６４，６６，６８
を備え、該廃液回収樋６４，６６，６８は互いに上下動
可能に取りつけられている。該廃液回収樋６４，６６，
６８の底面は一方向に傾斜せしめられており、傾斜の最
下部に廃液回収管７０，７２，７４が設けられている。
７６は薬液や洗浄液を注加する処理液注加手段で、注加
する薬液等の種類に応じて複数本（図示例では３本）の
注加パイプ７６ａ，７６ｂ，７６ｃが垂設されている。
（図示例では３個）の環状廃液回収樋６４，６６，６８
を備え、該廃液回収樋６４，６６，６８は互いに上下動
可能に取りつけられている。該廃液回収樋６４，６６，
６８の底面は一方向に傾斜せしめられており、傾斜の最
下部に廃液回収管７０，７２，７４が設けられている。
７６は薬液や洗浄液を注加する処理液注加手段で、注加
する薬液等の種類に応じて複数本（図示例では３本）の
注加パイプ７６ａ，７６ｂ，７６ｃが垂設されている。
【００２７】上述した構成により、本発明の廃液回収機
構付ウェーハ表面処理装置Ｓの作用を混酸エッチング、
希フッ酸エッチング及びリンス洗浄を行う場合を例とし
て説明する。まず、図１に示すように廃液回収機構５０
をその外側斜面部材５２の内端の最上端縁部によりウェ
ーハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置よりもや
や下方になるように位置せしめる。この状態でウェーハ
Ｗをウェーハ回転保持装置１０に保持せしめる。
構付ウェーハ表面処理装置Ｓの作用を混酸エッチング、
希フッ酸エッチング及びリンス洗浄を行う場合を例とし
て説明する。まず、図１に示すように廃液回収機構５０
をその外側斜面部材５２の内端の最上端縁部によりウェ
ーハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置よりもや
や下方になるように位置せしめる。この状態でウェーハ
Ｗをウェーハ回転保持装置１０に保持せしめる。
【００２８】次に混酸エッチングを行うには、図２に示
すように、廃液回収機構５０の全体を上昇させて内側角
筒部６２の内壁６２ｂの上端縁部がウェーハ回転保持装
置１０のウェーハＷの保持位置の近傍に位置するように
移動させる。この状態で、ウェーハＷの回転を行うとと
もに処理液注加手段７６を注加位置に移動させて該回転
ウェーハＷの上面に混酸の注加パイプ７６ａから混酸を
注加して混酸エッチングを行う。この時、ウェーハＷの
上面に注加された混酸は回転するウェーハＷの遠心力に
よって外側方に飛散せしめられるが、この飛散した混酸
は開口部６８ａを介して内側廃液回収樋６８内に収容さ
れ、続いて該内側廃液回収樋６８の底面の傾斜に従って
流下して混酸用の廃液回収管７４を介して回収される。
すように、廃液回収機構５０の全体を上昇させて内側角
筒部６２の内壁６２ｂの上端縁部がウェーハ回転保持装
置１０のウェーハＷの保持位置の近傍に位置するように
移動させる。この状態で、ウェーハＷの回転を行うとと
もに処理液注加手段７６を注加位置に移動させて該回転
ウェーハＷの上面に混酸の注加パイプ７６ａから混酸を
注加して混酸エッチングを行う。この時、ウェーハＷの
上面に注加された混酸は回転するウェーハＷの遠心力に
よって外側方に飛散せしめられるが、この飛散した混酸
は開口部６８ａを介して内側廃液回収樋６８内に収容さ
れ、続いて該内側廃液回収樋６８の底面の傾斜に従って
流下して混酸用の廃液回収管７４を介して回収される。
【００２９】希フッ酸エッチングを行うには、図３に示
すように、図２の状態から内側斜面部材６０及び内側角
筒部６２を降下させて、内側斜面部材６０の上端縁部が
ウェーハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置の近
傍に位置するように移動させる。この状態で、ウェーハ
Ｗの回転を行うとともに処理液注加手段７６の希フッ酸
の注加パイプ７６ｂから希フッ酸を注加して希フッ酸エ
ッチングを行う。この時ウェーハＷの上面に注加された
希フッ酸は回転するウェーハＷの遠心力によって外側方
に飛散せしめられるが、この飛散した希フッ酸は開口部
６６ａを介して中間廃液回収樋６６内に収容され、続い
て該中間廃液回収樋６６の底面の傾斜に従って流下して
希フッ酸用の廃液回収管７２を介して回収される。
すように、図２の状態から内側斜面部材６０及び内側角
筒部６２を降下させて、内側斜面部材６０の上端縁部が
ウェーハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置の近
傍に位置するように移動させる。この状態で、ウェーハ
Ｗの回転を行うとともに処理液注加手段７６の希フッ酸
の注加パイプ７６ｂから希フッ酸を注加して希フッ酸エ
ッチングを行う。この時ウェーハＷの上面に注加された
希フッ酸は回転するウェーハＷの遠心力によって外側方
に飛散せしめられるが、この飛散した希フッ酸は開口部
６６ａを介して中間廃液回収樋６６内に収容され、続い
て該中間廃液回収樋６６の底面の傾斜に従って流下して
希フッ酸用の廃液回収管７２を介して回収される。
【００３０】リンス洗浄を行うには、図４に示すよう
に、図３の状態から中間斜面部材５６及び中間角筒部５
８を降下させて、中間斜面部材５６の上端縁部がウェー
ハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置の近傍に位
置するように移動させる。この状態で、ウェーハＷの回
転を行うとともに処理液注加手段７６の純水の注加パイ
プ７６ｃから純水を注加してリンス洗浄を行う。この
時、ウェーハＷの上面に注加された純水は回転するウェ
ーハＷの遠心力によって外側方に飛散せしめられるが、
この飛散した純水は開口部６４ａを介して外側廃液回収
樋６４内に収容され、続いて該外側廃液回収樋６４の底
面の傾斜に従って流下してリンス液用の廃液回収管７０
を介して回収される。
に、図３の状態から中間斜面部材５６及び中間角筒部５
８を降下させて、中間斜面部材５６の上端縁部がウェー
ハ回転保持装置１０のウェーハＷの保持位置の近傍に位
置するように移動させる。この状態で、ウェーハＷの回
転を行うとともに処理液注加手段７６の純水の注加パイ
プ７６ｃから純水を注加してリンス洗浄を行う。この
時、ウェーハＷの上面に注加された純水は回転するウェ
ーハＷの遠心力によって外側方に飛散せしめられるが、
この飛散した純水は開口部６４ａを介して外側廃液回収
樋６４内に収容され、続いて該外側廃液回収樋６４の底
面の傾斜に従って流下してリンス液用の廃液回収管７０
を介して回収される。
【００３１】上記した混酸エッチング、希フッ酸エッチ
ング及びリンス洗浄を終了後、中間斜面部材５６、中間
角筒部５８及び内側斜面部材６０及び内側角筒部６２を
それぞれ上昇させるとともに廃液回収機構５０の全体を
上昇させて、図１に示すように廃液回収機構５０をその
外側斜面部材５２の内端の最上端縁部よりウェーハ回転
保持装置１０のウェーハＷの保持位置よりもやや下方に
なるように位置せしめる。この状態でウェーハＷをウェ
ーハ回転保持装置１０から取り外す。
ング及びリンス洗浄を終了後、中間斜面部材５６、中間
角筒部５８及び内側斜面部材６０及び内側角筒部６２を
それぞれ上昇させるとともに廃液回収機構５０の全体を
上昇させて、図１に示すように廃液回収機構５０をその
外側斜面部材５２の内端の最上端縁部よりウェーハ回転
保持装置１０のウェーハＷの保持位置よりもやや下方に
なるように位置せしめる。この状態でウェーハＷをウェ
ーハ回転保持装置１０から取り外す。
【００３２】上記したウェーハ回転保持装置１０として
は、従来公知の回転状態のウェーハを保持するチャック
手段を用いてもよいが、下記するように新規のウェーハ
回転保持装置１０を用いるのが好適である。以下にその
構成を添付図面中、図５〜図１５によって説明する。
は、従来公知の回転状態のウェーハを保持するチャック
手段を用いてもよいが、下記するように新規のウェーハ
回転保持装置１０を用いるのが好適である。以下にその
構成を添付図面中、図５〜図１５によって説明する。
【００３３】図５は本発明に用いられる新規なウェーハ
回転保持装置の１例を示す斜視的説明図、図６は図５の
ウェーハ回転保持装置にウェーハを回転保持させた状態
を示す斜視的説明図、図７は羽根板の他の例を示す上面
図及び図８は羽根板の別の例を示す上面図である。
回転保持装置の１例を示す斜視的説明図、図６は図５の
ウェーハ回転保持装置にウェーハを回転保持させた状態
を示す斜視的説明図、図７は羽根板の他の例を示す上面
図及び図８は羽根板の別の例を示す上面図である。
【００３４】図中、１０は本発明に用いられる新規なウ
ェーハ回転保持装置で、回転円板１２を有している。該
回転円板１２の中心部には貫通孔１４が穿設されてい
る。該回転円板１２の上面には、複数枚（図示例では１
６枚）の羽根板１６が所定間隔をおいて放射状に立設さ
れている。
ェーハ回転保持装置で、回転円板１２を有している。該
回転円板１２の中心部には貫通孔１４が穿設されてい
る。該回転円板１２の上面には、複数枚（図示例では１
６枚）の羽根板１６が所定間隔をおいて放射状に立設さ
れている。
【００３５】該複数枚の羽根板１６の上面外端部にはウ
ェーハＷの外周部を受けるウェーハ受け部１８が設けら
れている。このウェーハ受け部１８の形状はウェーハＷ
の外周部を受けることができれば特別の限定はないが、
図示例では受け段部とされている。このウェーハ受け部
１８は必ずしも羽根板１６に設ける必要性はなく、支障
がない限り、該回転円板１２の上面に直接設けることも
可能である。また、このウェーハ受け部１８の設置個数
は、ウェーハＷが回転状態でも回転保持できる個数、例
えば３個以上であればよいが、図示例では４個のウェー
ハ受け部１８を対称位置に設けた場合を示した。
ェーハＷの外周部を受けるウェーハ受け部１８が設けら
れている。このウェーハ受け部１８の形状はウェーハＷ
の外周部を受けることができれば特別の限定はないが、
図示例では受け段部とされている。このウェーハ受け部
１８は必ずしも羽根板１６に設ける必要性はなく、支障
がない限り、該回転円板１２の上面に直接設けることも
可能である。また、このウェーハ受け部１８の設置個数
は、ウェーハＷが回転状態でも回転保持できる個数、例
えば３個以上であればよいが、図示例では４個のウェー
ハ受け部１８を対称位置に設けた場合を示した。
【００３６】２０は該回転円板１２の下面中央部に垂設
された回転シャフトで、その内部には上記貫通孔１４に
連通する中空部２２が軸方向に穿設されている。該中空
部２２は該回転シャフト２０の下端で開口し、下端開口
部２４となっている。
された回転シャフトで、その内部には上記貫通孔１４に
連通する中空部２２が軸方向に穿設されている。該中空
部２２は該回転シャフト２０の下端で開口し、下端開口
部２４となっている。
【００３７】該回転シャフト２０の下端部には、減圧調
整手段２６、図示例では減圧調整バルブが取りつけられ
ている。該減圧調整手段２６は、該回転シャフト２０の
中空部２２の開口度合を調整することによって該中空部
２２内を流れる空気量を制御することができる。図示例
では、この減圧調整手段２６を回転シャフト２０の下端
部に設けた場合を示したが、中空部２２の開口度合を調
整できればよいもので、必ずしも下端部に設ける必要は
なく、中間部や上部など適宜位置に設置することができ
る。
整手段２６、図示例では減圧調整バルブが取りつけられ
ている。該減圧調整手段２６は、該回転シャフト２０の
中空部２２の開口度合を調整することによって該中空部
２２内を流れる空気量を制御することができる。図示例
では、この減圧調整手段２６を回転シャフト２０の下端
部に設けた場合を示したが、中空部２２の開口度合を調
整できればよいもので、必ずしも下端部に設ける必要は
なく、中間部や上部など適宜位置に設置することができ
る。
【００３８】２８は該回転シャフト２０の下部に設けら
れたプーリで、モータ３０のモータプーリ３２にプーリ
ベルト３４を介して接続されている。該モータ３０を駆
動するとモータプーリ３２が回転し、その回転はプーリ
ベルト３４を介してプーリ２８に伝達され、該回転シャ
フト２０が回転するように構成されている。
れたプーリで、モータ３０のモータプーリ３２にプーリ
ベルト３４を介して接続されている。該モータ３０を駆
動するとモータプーリ３２が回転し、その回転はプーリ
ベルト３４を介してプーリ２８に伝達され、該回転シャ
フト２０が回転するように構成されている。
【００３９】上述した構成により、その作用を説明す
る。本発明に用いられるウェーハ回転保持装置１０にお
いては、媒体としては、例えば空気等の気体や純水、薬
液等の液体の他に両者を混合したものも用いられるが、
空気を媒体とした場合を例として説明する。
る。本発明に用いられるウェーハ回転保持装置１０にお
いては、媒体としては、例えば空気等の気体や純水、薬
液等の液体の他に両者を混合したものも用いられるが、
空気を媒体とした場合を例として説明する。
【００４０】まず、図６に示したように、ウェーハ受け
部１８を介してウェーハＷを回転円板１２の上面の上方
に、即ち間隔を介在させて、具体的には羽根板１６の上
面の上方に間隔を介在させて配置する。さらに、減圧調
整手段２６によって回転シャフト２０の中空部２２の開
口度合を該ウェーハＷの厚さに対応して最適の減圧状態
となるように調整する。なお、該中空部２２の開口を広
げれば減圧の度合が小となり、その開口を狭めれば減圧
の度合が大となる。
部１８を介してウェーハＷを回転円板１２の上面の上方
に、即ち間隔を介在させて、具体的には羽根板１６の上
面の上方に間隔を介在させて配置する。さらに、減圧調
整手段２６によって回転シャフト２０の中空部２２の開
口度合を該ウェーハＷの厚さに対応して最適の減圧状態
となるように調整する。なお、該中空部２２の開口を広
げれば減圧の度合が小となり、その開口を狭めれば減圧
の度合が大となる。
【００４１】この減圧状態の調整は、上記した中空部２
２の開口度合の他に、回転円板１２の回転速度の調整に
よって行うことができる。回転円板１２の回転を早くす
れば減圧度合は大となり、その回転を遅くすれば減圧度
合は小となる。
２の開口度合の他に、回転円板１２の回転速度の調整に
よって行うことができる。回転円板１２の回転を早くす
れば減圧度合は大となり、その回転を遅くすれば減圧度
合は小となる。
【００４２】さらに、必要に応じて、回転円板１２の上
面への媒体、例えば空気の供給を不図示の媒体（空気）
補給手段によって行い、その補給媒体（空気）量を増減
することによって減圧度合を調整することができる。補
給媒体（空気）量が大となれば減圧度合は小となり、補
給媒体（空気）量が小となれば減圧度合は大となる。
面への媒体、例えば空気の供給を不図示の媒体（空気）
補給手段によって行い、その補給媒体（空気）量を増減
することによって減圧度合を調整することができる。補
給媒体（空気）量が大となれば減圧度合は小となり、補
給媒体（空気）量が小となれば減圧度合は大となる。
【００４３】この状態で、モータ３０を駆動すると、モ
ータプーリ３２、プーリベルト３４及びプーリ２８を介
してモータ３０の回転が回転シャフト２０に伝達され、
該回転シャフト２０に連結された回転円板１２が回転す
る。この回転円板１２が回転すると、回転による遠心力
によって、回転円板１２上面の媒体（空気）が外方に排
出され、すなわち回転円板１２の上面と一対の相対向す
る羽根板１６，１６とウェーハＷの下面との間に形成さ
れた複数の媒体（空気）流路３６を介して該回転円板１
２上の媒体（空気）Ａが外方に排出される。
ータプーリ３２、プーリベルト３４及びプーリ２８を介
してモータ３０の回転が回転シャフト２０に伝達され、
該回転シャフト２０に連結された回転円板１２が回転す
る。この回転円板１２が回転すると、回転による遠心力
によって、回転円板１２上面の媒体（空気）が外方に排
出され、すなわち回転円板１２の上面と一対の相対向す
る羽根板１６，１６とウェーハＷの下面との間に形成さ
れた複数の媒体（空気）流路３６を介して該回転円板１
２上の媒体（空気）Ａが外方に排出される。
【００４４】この媒体（空気）Ａの外方への排出によっ
て該媒体（空気）流路３６内は減圧状態となる。この減
圧状態の吸引力によって該回転シャフト２０の中空部２
２の下端開口部２４から吸気された媒体（空気）Ａが該
中空部２２及び貫通孔１４を通って該回転円板１２の上
面に供給され、引き続いて該媒体（空気）流路３６内を
通って外方に連続的に排気され、該媒体（空気）流路３
６内は引き続いて減圧状態を維持する。
て該媒体（空気）流路３６内は減圧状態となる。この減
圧状態の吸引力によって該回転シャフト２０の中空部２
２の下端開口部２４から吸気された媒体（空気）Ａが該
中空部２２及び貫通孔１４を通って該回転円板１２の上
面に供給され、引き続いて該媒体（空気）流路３６内を
通って外方に連続的に排気され、該媒体（空気）流路３
６内は引き続いて減圧状態を維持する。
【００４５】該回転円板１２が回転を続ける限り、該媒
体（空気）流路３６内は減圧状態となっている。この媒
体（空気）流路３６の減圧状態の吸引力によって該ウェ
ーハＷはその外周部がウェーハ受け部１８に固定回転保
持される。この時、該ウェーハＷの背面は羽根板１６の
上面の上方に位置しており、該羽根板１６の上面に接触
することはない。
体（空気）流路３６内は減圧状態となっている。この媒
体（空気）流路３６の減圧状態の吸引力によって該ウェ
ーハＷはその外周部がウェーハ受け部１８に固定回転保
持される。この時、該ウェーハＷの背面は羽根板１６の
上面の上方に位置しており、該羽根板１６の上面に接触
することはない。
【００４６】この減圧状態による吸引力が強すぎると、
薄いウェーハＷ（例えば、厚さ０.１mm以下）の場合に
は中央部分が垂れ下がるという不都合が生じる場合があ
る。しかし、本発明においては、減圧調整手段２６によ
って回転シャフト２０の中空部２２の開口度合を自在に
制御できるので、薄いウェーハＷの場合には中空部２２
の開口を広げて減圧の度合を小さくして吸引力を弱くし
ウェーハが垂れ下がらずかつウェーハ受け部１８には回
転保持固定されるようにすることができる。
薄いウェーハＷ（例えば、厚さ０.１mm以下）の場合に
は中央部分が垂れ下がるという不都合が生じる場合があ
る。しかし、本発明においては、減圧調整手段２６によ
って回転シャフト２０の中空部２２の開口度合を自在に
制御できるので、薄いウェーハＷの場合には中空部２２
の開口を広げて減圧の度合を小さくして吸引力を弱くし
ウェーハが垂れ下がらずかつウェーハ受け部１８には回
転保持固定されるようにすることができる。
【００４７】なお、厚さ１００μｍ程度又はそれ以下の
薄いウェーハに自然にソリが発生している場合が多い
が、そのような場合であっても本発明のウェーハ回転保
持装置にソリの発生した状態のまま載置して回転保持す
ると回転による遠心力によってウェーハのソリが解消し
て何の支障もなく回転保持することができるので、従来
のように回転保持前にソリを修正する必要がなく、その
分の手間が解消する利点がある。この回転保持によって
ウェーハのソリが修正するものではないので回転を止め
ればソリが復活してしまうことはいうまでもない。
薄いウェーハに自然にソリが発生している場合が多い
が、そのような場合であっても本発明のウェーハ回転保
持装置にソリの発生した状態のまま載置して回転保持す
ると回転による遠心力によってウェーハのソリが解消し
て何の支障もなく回転保持することができるので、従来
のように回転保持前にソリを修正する必要がなく、その
分の手間が解消する利点がある。この回転保持によって
ウェーハのソリが修正するものではないので回転を止め
ればソリが復活してしまうことはいうまでもない。
【００４８】図５及び図６に示した例では、羽根板１６
を回転円板１２上面に放射状に立設した場合を示した
が、図７に示したように螺旋状又は図８に示したように
渦巻状に設けることもできる。放射状又は螺旋状に羽根
板１６を設ける場合には、羽根板１６を複数枚用いて複
数の媒体流路３６を設ける必要があるが、渦巻状に羽根
板１６を設ける場合には羽根板１６を複数枚用いること
も勿論できるが、図８に示したように１枚の羽根板１６
によって１個の媒体流路３６を形成するようにしても同
様の作用効果を達成することができる。
を回転円板１２上面に放射状に立設した場合を示した
が、図７に示したように螺旋状又は図８に示したように
渦巻状に設けることもできる。放射状又は螺旋状に羽根
板１６を設ける場合には、羽根板１６を複数枚用いて複
数の媒体流路３６を設ける必要があるが、渦巻状に羽根
板１６を設ける場合には羽根板１６を複数枚用いること
も勿論できるが、図８に示したように１枚の羽根板１６
によって１個の媒体流路３６を形成するようにしても同
様の作用効果を達成することができる。
【００４９】なお、図示例では、羽根板１６は回転円板
１２の上面に別体として立設する例を示したが、羽根板
１６によって回転円板１２の上面に媒体流路３６が形成
されればよいもので、例えば媒体流路３６の部分を溝状
に穿設して羽根板１６の部分を隆起させた状態で残すこ
とによって、該回転円板１２の上面に一体的に羽根板１
６を設けることも可能である。
１２の上面に別体として立設する例を示したが、羽根板
１６によって回転円板１２の上面に媒体流路３６が形成
されればよいもので、例えば媒体流路３６の部分を溝状
に穿設して羽根板１６の部分を隆起させた状態で残すこ
とによって、該回転円板１２の上面に一体的に羽根板１
６を設けることも可能である。
【００５０】本発明に用いられる新規なウェーハ回転保
持装置は、上記した図示例以外にも種々の変形が可能で
あり、以下に説明する。
持装置は、上記した図示例以外にも種々の変形が可能で
あり、以下に説明する。
【００５１】図９は本発明に用いられる新規なウェーハ
回転保持装置の他の例を示す断面的側面概略説明図であ
る。図１０は図９の回転円板の拡大上面図である。図１
１は図９の回転円板の要部拡大図である。図１２は図１
１の一部断面説明図である。
回転保持装置の他の例を示す断面的側面概略説明図であ
る。図１０は図９の回転円板の拡大上面図である。図１
１は図９の回転円板の要部拡大図である。図１２は図１
１の一部断面説明図である。
【００５２】図５〜図６の図示例では、媒体Ａとしては
空気を用いた場合を説明したが、その他の媒体が使用で
きることは既述した通りである。図９には、媒体Ａとし
て純水と空気を混合した純水ミストを用いる場合が示さ
れている。混合室４０において、純水槽４２から供給さ
れる純水と別途供給される空気とが混合されて純水と空
気とからなる純水ミストＡとなり、導管４４を介して流
量調節器２６Ａに供給される。流量調節器２６Ａで流量
が調節された純水ミストＡは回転シャフト２０の中空部
２２を通って図５〜図６の場合と同様に回転円板１２の
上面側に導入される。
空気を用いた場合を説明したが、その他の媒体が使用で
きることは既述した通りである。図９には、媒体Ａとし
て純水と空気を混合した純水ミストを用いる場合が示さ
れている。混合室４０において、純水槽４２から供給さ
れる純水と別途供給される空気とが混合されて純水と空
気とからなる純水ミストＡとなり、導管４４を介して流
量調節器２６Ａに供給される。流量調節器２６Ａで流量
が調節された純水ミストＡは回転シャフト２０の中空部
２２を通って図５〜図６の場合と同様に回転円板１２の
上面側に導入される。
【００５３】なお、図９における上記空気は、前記した
媒体流路３６内に形成される減圧状態による吸引力によ
って吸引されるようにしてもよいが、本実施例において
は、コンプレッサーやモーター等の媒体強制供給手段３
８によって強制的に該混合室４０に供給され、したがっ
て該混合室４０において混合された純水ミストＡも該媒
体強制供給手段３８の影響を受けて導管４４及び中空部
２２を介して該貫通孔１４に強制的に供給される。この
ような構成とすることによって、ウェーハ上面を処理す
るためにウェーハ上面側に供給される薬液がウェーハ下
面側に回り込むのが防止される。これは強制供給された
媒体Ａがウェーハ下面に吹きつけられることによって行
われるものである。
媒体流路３６内に形成される減圧状態による吸引力によ
って吸引されるようにしてもよいが、本実施例において
は、コンプレッサーやモーター等の媒体強制供給手段３
８によって強制的に該混合室４０に供給され、したがっ
て該混合室４０において混合された純水ミストＡも該媒
体強制供給手段３８の影響を受けて導管４４及び中空部
２２を介して該貫通孔１４に強制的に供給される。この
ような構成とすることによって、ウェーハ上面を処理す
るためにウェーハ上面側に供給される薬液がウェーハ下
面側に回り込むのが防止される。これは強制供給された
媒体Ａがウェーハ下面に吹きつけられることによって行
われるものである。
【００５４】図９において４６は該回転円板１２の中心
部に穿設された貫通孔１４の上方に位置するように該回
転円板１２に設けられた邪魔板である。該貫通孔１４を
介して該回転円板１２の上面に供給される媒体（純水ミ
スト）Ａは該邪魔板４６によって羽根板１６方向に誘導
される。
部に穿設された貫通孔１４の上方に位置するように該回
転円板１２に設けられた邪魔板である。該貫通孔１４を
介して該回転円板１２の上面に供給される媒体（純水ミ
スト）Ａは該邪魔板４６によって羽根板１６方向に誘導
される。
【００５５】この邪魔板４６の設置によって、媒体Ａ中
に不純物が混入した場合でも媒体ＡがウェーハＷの下面
に直接吹き付けられることはないので不純物等によって
汚染されるという事故が防止され、また操業中にウェー
ハＷが割れた場合の媒体Ａの上方への吹き出しが防止さ
れるという利点がある。
に不純物が混入した場合でも媒体ＡがウェーハＷの下面
に直接吹き付けられることはないので不純物等によって
汚染されるという事故が防止され、また操業中にウェー
ハＷが割れた場合の媒体Ａの上方への吹き出しが防止さ
れるという利点がある。
【００５６】媒体Ａとして純水ミストを使用する場合に
は、ウェーハＷを回転させつつ上面側にエッチング液を
供給してエッチングを行う際などに、ウェーハ下面側に
純水ミストによってバックサイドリンスを同時に行うこ
とができるという有利性がある。
は、ウェーハＷを回転させつつ上面側にエッチング液を
供給してエッチングを行う際などに、ウェーハ下面側に
純水ミストによってバックサイドリンスを同時に行うこ
とができるという有利性がある。
【００５７】図９〜図１２の例では、ウェーハ受け部１
８が、図５及び図６に示した例と異なり、図１１及び図
１２によく示されるごとく、ウェーハＷの下面を受ける
下側ガイドピン１８ａとウェーハＷの外側面を受ける外
側ガイドピン１８ｂとから構成されている。なお、上記
説明以外の構成は、図５〜図６の構成と同様であるので
再度の説明は省略する。
８が、図５及び図６に示した例と異なり、図１１及び図
１２によく示されるごとく、ウェーハＷの下面を受ける
下側ガイドピン１８ａとウェーハＷの外側面を受ける外
側ガイドピン１８ｂとから構成されている。なお、上記
説明以外の構成は、図５〜図６の構成と同様であるので
再度の説明は省略する。
【００５８】上記の構成によって、図５〜図６の場合と
同様に、回転円板１２を回転させると、回転による遠心
力によって、回転円板１２上面の媒体が外方に排気さ
れ、即ち貫通孔１４を通った媒体Ａは邪魔板４６の下面
を介して側方に誘導され、続いて回転円板１２の上面と
一対の相対向する羽根板１６，１６とウェーハＷの下面
との間に形成された複数の媒体流路３６を介して該回転
円板１２上の媒体Ａが外方に排出される。
同様に、回転円板１２を回転させると、回転による遠心
力によって、回転円板１２上面の媒体が外方に排気さ
れ、即ち貫通孔１４を通った媒体Ａは邪魔板４６の下面
を介して側方に誘導され、続いて回転円板１２の上面と
一対の相対向する羽根板１６，１６とウェーハＷの下面
との間に形成された複数の媒体流路３６を介して該回転
円板１２上の媒体Ａが外方に排出される。
【００５９】また、上述したように、媒体Ａを強制供給
させることによって、媒体Ａをウェーハ下面に積極的に
吹きつけ、ウェーハ上面側に供給されるエッチング液等
の薬液がウェーハ下面側に廻り込むのを防止することが
できる。この媒体Ａの強制供給は邪魔板４６の有無とは
関係なく行えることはいうまでもない。
させることによって、媒体Ａをウェーハ下面に積極的に
吹きつけ、ウェーハ上面側に供給されるエッチング液等
の薬液がウェーハ下面側に廻り込むのを防止することが
できる。この媒体Ａの強制供給は邪魔板４６の有無とは
関係なく行えることはいうまでもない。
【００６０】本発明に用いられる新規なウェーハ回転保
持装置において、回転保持状態のウェーハＷの上面に薬
液等を注加すると、薬液等の粘性によって回転保持装置
１０の回転方向と逆方向にウェーハＷが引張られ、ウェ
ーハＷの回転と回転保持装置１０の回転との間で回転の
差（ウェーハの回転が低下する）が生じ（図１３）、そ
の回転のズレによってウェーハ下面の下側ガイドピン
との接触摩擦の増大による傷の発生、ウェーハの回転
ムラによるエッチング処理等の処理状態のバラツキの発
生、ウェーハ回転の低下に起因する遠心力の低下によ
る薬液等のウェーハ下面側への廻り込みの増加等の問題
が発生することがある。
持装置において、回転保持状態のウェーハＷの上面に薬
液等を注加すると、薬液等の粘性によって回転保持装置
１０の回転方向と逆方向にウェーハＷが引張られ、ウェ
ーハＷの回転と回転保持装置１０の回転との間で回転の
差（ウェーハの回転が低下する）が生じ（図１３）、そ
の回転のズレによってウェーハ下面の下側ガイドピン
との接触摩擦の増大による傷の発生、ウェーハの回転
ムラによるエッチング処理等の処理状態のバラツキの発
生、ウェーハ回転の低下に起因する遠心力の低下によ
る薬液等のウェーハ下面側への廻り込みの増加等の問題
が発生することがある。
【００６１】このような問題の発生を防止するために、
ウェーハＷのオリエンテーションフラット（オリフラ）
面Ｆに当接するオリフラストッパーピンＦＰ（図１４）
やウェーハＷのノッチ部Ｎに当接するノッチストッパー
ピンＮＰ（図１５）をウェーハＷの上面に立設すること
によってウェーハＷの回転と回転保持装置１０の回転と
の間で回転の差が生じないようにすれば、上記したよう
な両者の回転のズレによる問題が発生することはなくな
る。
ウェーハＷのオリエンテーションフラット（オリフラ）
面Ｆに当接するオリフラストッパーピンＦＰ（図１４）
やウェーハＷのノッチ部Ｎに当接するノッチストッパー
ピンＮＰ（図１５）をウェーハＷの上面に立設すること
によってウェーハＷの回転と回転保持装置１０の回転と
の間で回転の差が生じないようにすれば、上記したよう
な両者の回転のズレによる問題が発生することはなくな
る。
【００６２】このような本発明に用いられる新規なウェ
ーハ回転保持装置は、スピンエッチング装置、スピン乾
燥装置、スピンコーティング装置等のようにウェーハを
回転させつつ処理を行う装置に好適に適用することがで
きる。
ーハ回転保持装置は、スピンエッチング装置、スピン乾
燥装置、スピンコーティング装置等のようにウェーハを
回転させつつ処理を行う装置に好適に適用することがで
きる。
【００６３】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明のウェーハ表
面処理装置によれば、処理液及び洗浄液の種類に応じて
それぞれの廃液、即ち複数の廃液、特に３種類以上の廃
液を連続的にかつ有効に分離回収することができ、従っ
て生産効率を向上させることができ、さらには、１００
μｍ以下の非常に薄いウェーハをその外周部のみの接触
で回転保持することができ、さらに超音波ジェットノズ
ルによる洗浄やブラシ洗浄をも可能となるという効果が
達成される。
面処理装置によれば、処理液及び洗浄液の種類に応じて
それぞれの廃液、即ち複数の廃液、特に３種類以上の廃
液を連続的にかつ有効に分離回収することができ、従っ
て生産効率を向上させることができ、さらには、１００
μｍ以下の非常に薄いウェーハをその外周部のみの接触
で回転保持することができ、さらに超音波ジェットノズ
ルによる洗浄やブラシ洗浄をも可能となるという効果が
達成される。
【００６４】また上述した構成の新規なウェーハ回転保
持装置を用いることによって、真空源装置、加圧空気供
給装置やガス供給装置等を必要とすることなく、簡易な
機構によって回転円板上面に減圧状態を出現せしめ、ウ
ェーハの背面側に接触することなくウェーハの回転保持
を行うことができ、かつ減圧の度合を簡単に調整でき、
薄いウェーハ（厚さ０.１mm以下）であっても変形する
ことなく回転保持することができるという効果をあわせ
て達成することができる。
持装置を用いることによって、真空源装置、加圧空気供
給装置やガス供給装置等を必要とすることなく、簡易な
機構によって回転円板上面に減圧状態を出現せしめ、ウ
ェーハの背面側に接触することなくウェーハの回転保持
を行うことができ、かつ減圧の度合を簡単に調整でき、
薄いウェーハ（厚さ０.１mm以下）であっても変形する
ことなく回転保持することができるという効果をあわせ
て達成することができる。
【図１】 本発明の廃液回収機構付ウェーハ表面処理装
置の断面的側面概略説明図である。
置の断面的側面概略説明図である。
【図２】 図１の状態から廃液回収機構の全体を上昇さ
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
【図３】 図２の状態から内側廃液回収樋のみを降下さ
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
【図４】 図３の状態から中間廃液回収樋のみを降下さ
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
せた状態を示す同上の断面的側面概略説明図である。
【図５】 本発明に用いられるウェーハ回転保持装置の
一つの実施の形態を示す斜視的説明図である。
一つの実施の形態を示す斜視的説明図である。
【図６】 図５のウェーハ回転保持装置にウェーハを回
転保持させた状態を示す斜視的説明図である。
転保持させた状態を示す斜視的説明図である。
【図７】 羽根板の他の例を示す上面図である。
【図８】 羽根板の別の例を示す上面図である。
【図９】 本発明に用いられるウェーハ回転保持装置の
他の実施の形態を示す断面的側面概略説明図である。
他の実施の形態を示す断面的側面概略説明図である。
【図１０】 図９の回転円板の拡大上面図である。
【図１１】 図１０の回転円板の要部拡大図である。
【図１２】 図１１の一部断面説明図である。
【図１３】 ウェーハ回転保持装置に回転保持されてい
るウェーハ上面に薬液を注加した際のウェーハ回転とウ
ェーハ回転保持装置の回転とのズレの発生状態を示す上
面説明図である。
るウェーハ上面に薬液を注加した際のウェーハ回転とウ
ェーハ回転保持装置の回転とのズレの発生状態を示す上
面説明図である。
【図１４】 回転円板上に立設されたオリフラストッパ
ーピンにウェーハのオリフラ面を係止させた状態を示す
上面説明図である。
ーピンにウェーハのオリフラ面を係止させた状態を示す
上面説明図である。
【図１５】 回転円板上に立設されたノッチストッパー
ピンにウェーハのノッチ部を係止させた状態を示す上面
説明図である。
ピンにウェーハのノッチ部を係止させた状態を示す上面
説明図である。
【符号の説明】 １０：ウェーハ回転保持装置、１２：回転円板、１４：
貫通孔、１６：羽根板、１８：ウェーハ受け部、１８
ａ：下側ガイドピン、１８ｂ：外側ガイドピン、２０：
回転シャフト、２２：中空部、２４：下端開口部、２
６：減圧調整手段、２６Ａ：流量調節器、２８：プー
リ、３０：モータ、３２：モータプーリ、１６，１６：
羽根板、３４：プーリベルト、３６：媒体流路、３８：
媒体強制供給手段、４０：混合室、４２：純水槽、４
４：導管、４６：邪魔板、５０：廃液回収機構、５２：
外側斜面部材、５４：外側角筒部、５６：中間斜面部
材、５８：中間角筒部、６０：内側斜面部材、６２：内
側角筒部、６４，６６，６８：環状廃液回収樋、７０，
７２，７４：廃液回収管、７６：処理液注加手段、７６
ａ，７６ｂ，７６ｃ：注加パイプ、Ａ：媒体、ＦＰ：オ
リフラ受け部、ＮＰ：ノッチ受け部、Ｗ：ウェーハ。
貫通孔、１６：羽根板、１８：ウェーハ受け部、１８
ａ：下側ガイドピン、１８ｂ：外側ガイドピン、２０：
回転シャフト、２２：中空部、２４：下端開口部、２
６：減圧調整手段、２６Ａ：流量調節器、２８：プー
リ、３０：モータ、３２：モータプーリ、１６，１６：
羽根板、３４：プーリベルト、３６：媒体流路、３８：
媒体強制供給手段、４０：混合室、４２：純水槽、４
４：導管、４６：邪魔板、５０：廃液回収機構、５２：
外側斜面部材、５４：外側角筒部、５６：中間斜面部
材、５８：中間角筒部、６０：内側斜面部材、６２：内
側角筒部、６４，６６，６８：環状廃液回収樋、７０，
７２，７４：廃液回収管、７６：処理液注加手段、７６
ａ，７６ｂ，７６ｃ：注加パイプ、Ａ：媒体、ＦＰ：オ
リフラ受け部、ＮＰ：ノッチ受け部、Ｗ：ウェーハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ (72)発明者 室岡 秀幸 群馬県群馬郡群馬町棟高1909番地１ 三益 半導体工業株式会社エンジニアリング事業 部内 Ｆターム(参考） 2H096 CA14 GA29 HA19 3B201 AA03 AB01 AB34 AB42 BB22 BB33 BB93 BB96 BB98 CC01 CD11 CD22 4F042 AA02 AA07 CC03 CC09 DF09 DF32 EB07 EB09 5F046 JA05 JA08 LA06 LA07
Claims (13)
- 【請求項１】 ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって
処理するウェーハ表面処理装置であって、表面処理され
るウェーハを回転保持するウェーハ回転保持装置と該ウ
ェーハ回転保持装置の周囲に上下動可能に設けられた廃
液回収機構とを有し、該廃液回収機構が互いに上下動可
能に設けられた複数個の環状廃液回収樋からなり、処理
液及び洗浄液の種類によって複数個の環状廃液回収樋を
使い分け、それぞれの廃液を分離回収するようにしたこ
とを特徴とする廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置。 - 【請求項２】 前記環状廃液回収樋を３個設けたことを
特徴とする請求項１記載のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項３】 前記ウェーハ回転保持装置が、上面に媒
体流路を形成した回転円板と、該回転円板の中心部に穿
設された貫通孔と、該回転円板の上面に設けられた複数
個のウェーハ受け部とを有し、該ウェーハ受け部を介し
てウェーハを該回転円板の上方に間隔を介在させて載置
し、該回転円板を回転させると、該媒体流路内の媒体
が、回転による遠心力によって外方に排出され、これに
よって該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減圧
状態の吸引力によって、該回転円板の下面側から該貫通
孔を介して吸引された媒体が該回転円板の上面に供給さ
れ、該媒体流路を通って連続的に外方に排出され、この
ようにして該回転円板が回転している限り該媒体流路内
に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によっ
て該ウェーハを下方に吸引し該ウェーハ受け部によって
回転保持するようにしたことを特徴とする請求項１又は
２記載のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項４】 前記回転円板の下面側から前記貫通孔に
媒体を強制供給する媒体強制供給手段をさらに有し、前
記減圧状態を維持しつつ該回転円板の下面側から該貫通
孔に媒体を強制供給するようにしたことを特徴とする請
求項１〜３のいずれか１項記載のウェーハ表面処理装
置。 - 【請求項５】 前記回転円板の上面に羽根板を放射状、
螺旋状又は渦巻状に設け、前記媒体流路が該回転円板の
上面と相対向する羽根板とウェーハの下面との間に形成
されることを特徴とする請求項３又は４記載のウェーハ
表面処理装置。 - 【請求項６】 前記貫通孔に連通する中空部を軸方向に
穿設した回転シャフトを前記回転円板の下面中央部に垂
設し、該回転シャフト及び該回転円板を回転させると該
回転シャフトの中空部の下端開口部から吸引された媒体
が該中空部及び貫通孔を通って該回転円板の上面に供給
されるようにしたことを特徴とする請求項３〜５のいず
れか１項記載のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項７】 前記回転シャフトの適宜位置に取りつけ
られ前記中空部の開口度合を調整することによって前記
媒体流路の減圧状態を調整するようにした減圧調整手段
をさらに設けたことを特徴とする請求項６記載のウェー
ハ表面処理装置。 - 【請求項８】 前記ウェーハ受け部がウェーハ下面を受
ける下側ガイドピンとウェーハ外側面を受ける外側ガイ
ドピンとからなることを特徴とする請求項３〜７のいず
れか１項記載のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項９】 前記ウェーハ受け部を羽根板の上面に設
けたことを特徴とする請求項４〜７のいずれか１項記載
のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項１０】 前記回転円板の中心部に穿設された貫
通孔の上方に邪魔板を設け、該貫通孔を介して該回転円
板の上面に供給される媒体を該邪魔板によって羽根板方
向に誘導するようにしたことを特徴とする請求項３〜９
のいずれか１項記載のウェーハ表面処理装置。 - 【請求項１１】 前記回転円板の上面にオリエンテーシ
ョンフラット部を受けるオリフラ受け部を設けたことを
特徴とする請求項３〜１０のいずれか１項記載のウェー
ハ回転保持装置。 - 【請求項１２】 前記回転円板の上面にノッチ部を受け
るノッチ受け部を設けたことを特徴とする請求項３〜１
０のいずれか１項記載のウェーハ回転保持装置。 - 【請求項１３】 前記媒体が気体及び／又は液体である
ことを特徴とする請求項３〜１２のいずれか１項記載の
ウェーハ表面処理装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000073307A JP4257816B2 (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置 |
| TW089113882A TW504776B (en) | 1999-09-09 | 2000-07-12 | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
| SG200204723-1A SG138436A1 (en) | 1999-09-09 | 2000-08-25 | Wafer surface treatment apparatus |
| SG200004814A SG93257A1 (en) | 1999-09-09 | 2000-08-25 | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
| US09/650,367 US6672318B1 (en) | 1999-09-09 | 2000-08-29 | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
| ES00119294T ES2394942T3 (es) | 1999-09-09 | 2000-09-06 | Aparato de sujeción rotatoria de oblea |
| EP00119294A EP1083589B1 (en) | 1999-09-09 | 2000-09-06 | Wafer rotary holding apparatus |
| US10/700,546 US6810888B2 (en) | 1999-09-09 | 2003-11-05 | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000073307A JP4257816B2 (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001267278A true JP2001267278A (ja) | 2001-09-28 |
| JP2001267278A5 JP2001267278A5 (ja) | 2007-01-25 |
| JP4257816B2 JP4257816B2 (ja) | 2009-04-22 |
Family
ID=18591567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000073307A Expired - Lifetime JP4257816B2 (ja) | 1999-09-09 | 2000-03-16 | 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4257816B2 (ja) |
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| KR20200063680A (ko) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
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- 2000-03-16 JP JP2000073307A patent/JP4257816B2/ja not_active Expired - Lifetime
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