JP2001110322A - Electrode for plasma display panel, electrode pattern forming apparatus for plasma display panel, and electrode pattern forming method - Google Patents
Electrode for plasma display panel, electrode pattern forming apparatus for plasma display panel, and electrode pattern forming methodInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明により、得られる電極パターンの品質
が良く、低コストであるプラズマディスプレイパネルの
電極と、これを形成する電極パターン形成装置と、電極
パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、電極ラインの中央部の膜厚が
電極の周辺部の膜厚より厚いことを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルの電極であり、本発明であるプラズ
マディスプレイパネルの電極パターン形成装置は、所定
の電極パターンを有する印刷版と、前記電極パターンを
形成する材料を前記印刷版に塗布するローラと、前記印
刷版から前記材料を転写するブランケットローラと、前
記電極パターンを形成する基板を載置する基板載置部
と、前記ブランケットローラと前記基板載置部とを相対
的に移動する移動機構とを有し、前記電極パターンを形
成する材料を前記ブランケットローラと前記基板載置部
上に載置した基板との間に挟み込むことにより、前記基
板上に所定の電極パターンを転写して形成する機構を有
することを特徴とする。
(57) [Problem] To provide an electrode of a plasma display panel which has a good quality of an obtained electrode pattern and is low cost, an electrode pattern forming apparatus for forming the electrode, and an electrode pattern forming method according to the present invention. . SOLUTION: The present invention relates to an electrode of a plasma display panel, wherein the film thickness at the center of the electrode line is larger than the film thickness at the periphery of the electrode. The apparatus includes a printing plate having a predetermined electrode pattern, a roller for applying a material for forming the electrode pattern to the printing plate, a blanket roller for transferring the material from the printing plate, and a substrate for forming the electrode pattern. And a moving mechanism for relatively moving the blanket roller and the substrate mounting portion. The blanket roller and the substrate mounting portion are provided with a material for forming the electrode pattern. It has a mechanism for transferring and forming a predetermined electrode pattern on the substrate by being sandwiched between the substrate and the substrate mounted thereon. .
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネルの電極、プラズマディスプレイパネルの電
極パターン形成装置および電極パターン形成方法に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel electrode, a plasma display panel electrode pattern forming apparatus, and an electrode pattern forming method.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子回路基板やディスプレイ等において
は、近年、基板の大型化が要求されている。このような
中、焼成後の線幅が30〜250μm程度、焼成後の厚
みが1μm以上の微細で且つ電極のパターンを極めて高
い精度で形成するという要求がある。そこで従来より、
その製造にはフォトリソグラフィ法が用いられてきた
が、製造工程が複雑であり、材料ロスが多く、大型露光
装置の開発や設備投資に莫大な費用がかかる為に製造コ
ストが高く、しかも、フォトマスクの適用サイズや塗布
機の仕様に限界があるなどの問題点がある。2. Description of the Related Art In recent years, electronic circuit boards and displays have been required to be larger. Under such circumstances, there is a demand that the line width after firing is about 30 to 250 μm and the thickness after firing is 1 μm or more, and that the electrode pattern is formed with extremely high precision. Therefore,
Although photolithography has been used for its production, the production process is complicated, the material loss is large, and the development cost and capital investment for large-scale exposure equipment are enormous. There are problems such as limitations on the application size of the mask and the specifications of the coating machine.
【0003】このため、工程が簡単で量産性を有する印
刷法を用いることによって低コスト化が試みられてい
る。そして、種々試みられている凹版オフセット印刷法
は、微細パターンを高い精度で形成するという用途に最
も適した印刷法と思われている。For this reason, cost reduction has been attempted by using a printing method which has a simple process and has high productivity. Various intaglio offset printing methods are considered to be the most suitable printing methods for forming fine patterns with high accuracy.
【0004】しかしながら、凹版オフセット印刷法等に
用いられる凹版は金属製の凹版またはガラス製の凹版で
あって、凹版へのインキ充填には一般的にドクターブレ
ードが用いられる。しかしながら、このドクターには耐
久性等の問題点がある。However, the intaglio used in the intaglio offset printing method or the like is an intaglio made of metal or an intaglio made of glass, and a doctor blade is generally used for filling the intaglio with ink. However, this doctor has problems such as durability.
【0005】ゴミ、埃、等の影響で導電性インキの転移
時に1〜20μm程度の膜厚で薄く形成するためピンホ
ールが発生して電極に孔が空くという問題点がある。原
因はいろいろ考えられるが、電極表面にゴミ等の有機物
が付着し、焼成工程で有機物が焼失して孔が空くという
場合、また、印刷法を用いるとゴミ等がブランケットロ
ールに付着してピンホールが発生する場合もある。[0005] Since the conductive ink is formed to be thin with a thickness of about 1 to 20 µm when the conductive ink is transferred due to the influence of dust, dust and the like, there is a problem that a pinhole is generated and a hole is formed in the electrode. There are various possible causes, but if organic matter such as dust adheres to the electrode surface and the organic matter is burned off in the baking process to make holes, or if the printing method is used, dust etc. adheres to the blanket roll and pinholes May occur.
【0006】また、形成した電極パターンの断面形状の
エッジがシャープであっては、電極パターンの上に形成
する所定の層を突き破って前記電極パターンのエッジが
露出してしまう問題点がある。If the edge of the sectional shape of the formed electrode pattern is sharp, there is a problem that the edge of the electrode pattern is exposed by breaking through a predetermined layer formed on the electrode pattern.
【0007】特に、プラズマディスプレイパネルの電極
の上には誘電体層を形成するが、電極パターンのエッジ
がシャープである場合、その上に形成する誘電体層を突
き破って前記エッジが露出してしまう場合がある。ま
た、電極のパターンのエッジがカールしてしまう場合
は、特に、この露出現象が顕著である。In particular, a dielectric layer is formed on an electrode of a plasma display panel. If the edge of the electrode pattern is sharp, the dielectric layer formed on the electrode pattern is broken and the edge is exposed. There are cases. Further, when the edge of the electrode pattern is curled, this exposure phenomenon is particularly remarkable.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点に鑑みてなされたものであって、プラズマディス
プレイパネルの電極、プラズマディスプレイパネルの電
極パターン形成装置および電極パターン形成方法を提供
することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and provides an electrode of a plasma display panel, an apparatus for forming an electrode pattern of a plasma display panel, and a method of forming an electrode pattern. The purpose is to:
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルの電極は、電極ラインの中央部の膜厚が電
極の周辺部の膜厚より厚いことを特徴とする。The electrode of the plasma display panel according to the present invention is characterized in that the film thickness at the center of the electrode line is larger than the film thickness at the periphery of the electrode.
【0010】この電極ラインの中央部の膜厚は1〜4μ
mであることが望ましい。The film thickness at the center of the electrode line is 1 to 4 μm.
m is desirable.
【0011】この電極ラインの比抵抗は2〜10μΩ・
cmであることが望ましい。The specific resistance of this electrode line is 2 to 10 μΩ.
cm.
【0012】この電極ラインのライン幅のうねりは±1
0μm以内であることが望ましい。The swell of the line width of this electrode line is ± 1.
It is desirable that the thickness be within 0 μm.
【0013】この電極オフセット印刷により形成するこ
とが望ましい。It is desirable to form the electrode by offset printing.
【0014】本発明のプラズマディスプレイパネルの電
極パターン形成装置は、所定の電極パターンを有する印
刷版と、前記電極パターンを形成する材料を前記印刷版
に塗布するローラと、前記印刷版から前記材料を転写す
るブランケットローラと、前記電極パターンを形成する
基板を載置する基板載置部と、前記ブランケットローラ
と前記基板載置部とを相対的に移動する移動機構とを有
し、前記電極パターンを形成する材料を前記ブランケッ
トローラと前記基板載置部上に載置した基板との間に挟
み込むことにより、前記基板上に所定の電極パターンを
転写して形成する機構を有する。An apparatus for forming an electrode pattern of a plasma display panel according to the present invention comprises: a printing plate having a predetermined electrode pattern; a roller for applying a material for forming the electrode pattern to the printing plate; A blanket roller for transferring, a substrate mounting portion for mounting a substrate on which the electrode pattern is formed, and a moving mechanism for relatively moving the blanket roller and the substrate mounting portion; A mechanism for transferring and forming a predetermined electrode pattern on the substrate by sandwiching a material to be formed between the blanket roller and the substrate placed on the substrate placing portion;
【0015】この印刷版は、離型性を有する凹版である
ことが望ましい。The printing plate is preferably an intaglio having releasability.
【0016】この基板載置部内に冷却部が設置されてい
ることが望ましい。It is desirable that a cooling unit is provided in the substrate mounting unit.
【0017】さらに、印刷版に形成されている電極パタ
ーンがプラズマディスプレイパネル上に形成する電極パ
ターンより大きめであることが望ましい。Furthermore, it is desirable that the electrode pattern formed on the printing plate is larger than the electrode pattern formed on the plasma display panel.
【0018】本発明の電極パターン形成方法は、基板上
に形成した所定の電極パターンの上に、再度、所定の電
極パターンを重ねて形成することを特徴とする。The electrode pattern forming method according to the present invention is characterized in that a predetermined electrode pattern is formed again on a predetermined electrode pattern formed on a substrate.
【0019】この方法では、基板上に形成した所定の電
極パターンを硬化した後、再度、所定の電極パターンを
重ねて形成することが望ましい。In this method, it is desirable that after the predetermined electrode pattern formed on the substrate is cured, the predetermined electrode pattern is formed again.
【0020】また、基板上に形成した所定の電極パター
ンの上面を平らにした後、再度、所定の電極パターンを
重ねて形成することが望ましい。It is preferable that the upper surface of the predetermined electrode pattern formed on the substrate is flattened and then the predetermined electrode pattern is formed again.
【0021】この方法では、所定の電極パターンを形成
する基板を基板載置部に載置する工程と、前記電極パタ
ーンを有する印刷版に当該電極パターンを形成する材料
を塗布する工程と、当該材料を前記印刷版からブランケ
ットローラに転写する工程と、当該ブランケットローラ
と前記基板載置部とを相対的に移動する工程と、前記電
極パターンを形成する材料を前記ブランケットローラと
前記基板載置部上に固定した基板との間に挟み込むこと
により前記基板上に所定の電極パターンを転写する工程
とを有することが望ましい。In this method, a step of mounting a substrate on which a predetermined electrode pattern is formed on a substrate mounting portion, a step of applying a material for forming the electrode pattern on a printing plate having the electrode pattern, Transferring the material from the printing plate to a blanket roller, relatively moving the blanket roller and the substrate mounting portion, and transferring the material for forming the electrode pattern onto the blanket roller and the substrate mounting portion. And transferring a predetermined electrode pattern onto the substrate by sandwiching the electrode pattern between the substrate and the substrate fixed to the substrate.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
としてプラズマディスプレイパネルの電極の形成装置に
関して図面を参照して詳細に説明する。もちろん、本発
明は、プラズマディスプレイパネルの電極に限る必要は
ない。種々のディスプレイ等の電極パターン形成や各種
配線に利用できるものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, as an example of an embodiment of the present invention, an apparatus for forming an electrode of a plasma display panel will be described in detail with reference to the drawings. Of course, the present invention need not be limited to the electrodes of the plasma display panel. It can be used for forming electrode patterns of various displays and various wirings.
【0023】図1は本発明の実施の形態の一例に係る電
極パターン形成装置を示す図である。図1(A)は、側
面図であり、図1(B)は平面図である。FIG. 1 is a view showing an electrode pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a side view, and FIG. 1B is a plan view.
【0024】図1に示す電極パターン形成装置の主な構
成において、1は印刷ヘッド、2はブランケットロー
ル、3は第1のインキロール群、4は第2のインキロー
ル群、5はガイドレール、7は印刷版盤、8は印刷定
盤、9は基板位置、10は印刷版位置を示す。この他、
印刷ヘッド1を移動する図示しない移動機構により構成
される。In the main structure of the electrode pattern forming apparatus shown in FIG. 1, 1 is a print head, 2 is a blanket roll, 3 is a first ink roll group, 4 is a second ink roll group, 5 is a guide rail, Reference numeral 7 denotes a printing plate, 8 denotes a printing platen, 9 denotes a substrate position, and 10 denotes a printing plate position. In addition,
It is constituted by a moving mechanism (not shown) for moving the print head 1.
【0025】印刷ヘッド1は、印刷版から所定の電極パ
ターンを転写するブランケットロール2と第1のインキ
ングロール群3により構成される。第1のインキングロ
ール群3は、ロールの回転軸方向に揺動する第1のイン
キの練りローラや、印刷版にインキを塗布するインキ付
けロールにより構成される。第2のインキングロール群
4は、インキを蓄えるインキブレード、インキブレード
からインキを出すインキ出しロール、そして、ロールの
回転軸方向に揺動する第2のインキの練りローラにより
構成される。The printing head 1 includes a blanket roll 2 for transferring a predetermined electrode pattern from a printing plate and a first inking roll group 3. The first inking roll group 3 includes a first ink kneading roller that swings in the rotation axis direction of the roll, and an inking roll that applies ink to a printing plate. The second inking roll group 4 includes an ink blade for storing ink, an ink discharging roll for discharging ink from the ink blade, and a second ink kneading roller that swings in the rotation axis direction of the roll.
【0026】図1に示すようにインキブレードを電極パ
ターン形成装置の片側に固定した為、導電性インキの供
給は容易にできる。この構成とは異なり、第2のインキ
ングロール群4を無くして印刷ヘッド1にインキブレー
ドを取り付けてもよい。Since the ink blade is fixed to one side of the electrode pattern forming apparatus as shown in FIG. 1, the supply of the conductive ink can be facilitated. Different from this configuration, the ink blade may be attached to the print head 1 without the second inking roll group 4.
【0027】電極パターンの被形成物であるプラズマデ
ィスプレイパネル用のガラス基板を印刷定盤8の上に載
置する。当該基板は基板位置9のように載置される。電
極パターンの形成された印刷版を印刷版盤7の上に載置
する。当該印刷版は印刷版位置10のように載置され
る。A glass substrate for a plasma display panel, which is an object on which an electrode pattern is formed, is placed on a printing platen 8. The substrate is placed like substrate position 9. The printing plate on which the electrode pattern is formed is placed on the printing plate 7. The printing plate is placed like printing plate position 10.
【0028】電極形成材料である導電性インキは、第2
のインキングロール群4のインキブレードに保持されて
いる。このインキブレードに保持される導電性インキ
を、インキ出しロールから必要量取り出してインキ練り
ローラで練りながら印刷版に導電性インキを充填する。
つまり、導電性インキの流動性が良くなり印刷版への充
填が均一に行われる。この結果、比抵抗の部分的に高く
なる領域がなくなり、電力損失を小さく押さえることが
でき、プラズマディスプレイパネルの発光に寄与する供
給電力を増加することができた。The conductive ink which is an electrode forming material has a
Are held by the ink blades of the inking roll group 4. A necessary amount of the conductive ink held by the ink blade is taken out from an ink-discharge roll, and the printing plate is filled with the conductive ink while being kneaded by an ink kneading roller.
That is, the fluidity of the conductive ink is improved, and the filling of the printing plate is performed uniformly. As a result, there was no region where the specific resistance was partially increased, the power loss could be kept small, and the supply power that contributed to the light emission of the plasma display panel could be increased.
【0029】まず、印刷ヘッド1は、図1に示す電極パ
ターン形成装置の第2のインキングロール群4側から印
刷定盤8に向かってガイドレール5の上をゆっくりと移
動を開始する。第2のインキングロール群4で練られて
均一になった導電性インキを印刷ヘッド1の第1のイン
キングロール群3を介して印刷版に充填する。First, the print head 1 starts moving slowly on the guide rail 5 from the second inking roll group 4 side of the electrode pattern forming apparatus shown in FIG. The printing ink is filled with the conductive ink kneaded and uniformized by the second inking roll group 4 via the first inking roll group 3 of the print head 1.
【0030】ここでは、印刷版として凹版を用いる。凹
版としては、シリコン版、水無し版、あるいはガラス
版、金属版、セラミック版に離型処理を施した印刷版を
用いることができる。また、印刷版に形成した電極パタ
ーンの長さや幅は、焼成工程を経た後、出来上がるガラ
ス基板上の電極パターンより少し大きめに設計して製作
しておく。この設計時の寸法の程度は、予め実験して求
める。具体的には、製造するプラズマディスプレイパネ
ルのガラス基板上に電極パターンを印刷する時の導電材
料の種類、ガラス基板の種類、焼成温度のプロファイル
等に基づいて求めておく。また、印刷時にも電極パター
ンが収縮するため、印刷後の収縮率も見込んでおく必要
がある。これにより、さらに正確にプラズマディスプレ
イパネルの電極パターンの印刷が可能となる。Here, an intaglio is used as the printing plate. As the intaglio plate, a silicon plate, a waterless plate, or a printing plate obtained by subjecting a glass plate, a metal plate, or a ceramic plate to a release treatment can be used. The length and width of the electrode pattern formed on the printing plate are designed and manufactured to be slightly larger than the electrode pattern formed on the glass substrate after the firing step. The degree of the dimension at the time of this design is obtained by experiment in advance. Specifically, it is determined based on the type of the conductive material, the type of the glass substrate, the profile of the firing temperature, and the like when the electrode pattern is printed on the glass substrate of the plasma display panel to be manufactured. Also, since the electrode pattern shrinks during printing, it is necessary to consider the shrinkage ratio after printing. This enables more accurate printing of the electrode pattern of the plasma display panel.
【0031】印刷版にインキを充填した後、印刷ヘッド
1の第1のインキングロール群3でインキを練りながら
第2のインキングロール群4側に戻る。この時、ブラン
ケットロールは印刷版等に触れないように上昇してい
る。この充填動作は1回で行う。しかしながら、凹版の
凹部の深さが深い場合、充填動作を2回以上繰り返すこ
とで凹版に導電性インキを十分充填するとよい。そし
て、第2のインキングロール群4側に戻った時、第2の
インキングロール群4で練られて均一になった導電性イ
ンキを印刷ヘッド1の第1のインキングロール群3に転
移する。再び、印刷ヘッド1は、図1に示す電極パター
ン形成装置の第2のインキングロール群4側から印刷定
盤8に向かってガイドレール5の上をゆっくりと移動を
開始する。After the printing plate is filled with the ink, the printing head 1 returns to the second inking roll group 4 while kneading the ink with the first inking roll group 3. At this time, the blanket roll is raised so as not to touch the printing plate or the like. This filling operation is performed once. However, when the depth of the concave portion of the intaglio plate is deep, it is preferable that the filling operation is repeated twice or more to sufficiently fill the intaglio plate with the conductive ink. Then, when returning to the second inking roll group 4 side, the conductive ink kneaded and uniformized by the second inking roll group 4 is transferred to the first inking roll group 3 of the print head 1. I do. Again, the print head 1 starts moving slowly on the guide rail 5 from the second inking roll group 4 side of the electrode pattern forming apparatus shown in FIG.
【0032】印刷版盤7上に載置した印刷版に塗布した
導電性インキを、印刷版に形成された電極パターンに従
って、印刷ヘッド1のブランケットロール2に転移す
る。ここで用いるブランケットの材料はシリコン、NB
R、ブチルゴム、ウレタン等の材料で製作され、その表
面の硬度が35〜80度がよく、表面光沢度は7〜90
度が良い。そして、次の印刷のために第1のインキング
ロール群3で印刷版盤7上に載置した印刷版に導電性イ
ンキを塗布する。The conductive ink applied to the printing plate placed on the printing plate 7 is transferred to the blanket roll 2 of the printing head 1 according to the electrode pattern formed on the printing plate. The blanket material used here is silicon, NB
It is made of a material such as R, butyl rubber, urethane, etc., and has a surface hardness of 35 to 80 degrees and a surface gloss of 7 to 90 degrees.
Good degree. Then, a conductive ink is applied to the printing plate placed on the printing plate 7 by the first inking roll group 3 for the next printing.
【0033】ブランケットロール2に転移した導電性イ
ンキを印刷定盤8上に載置されたプラズマディスプレイ
パネルのガラス基板に転移することで印刷する。これに
より印刷版に形成された電極パターンに従って、ガラス
基板上に均一に導電粒子が分散した導電性インキの電極
パターンが形成される。この結果、ブランケットから導
電性インキを転移しても、ガラス基板上に転移した電極
パターンの線幅が大きく不均一になったり、大きく蛇行
を生じることがなくなった。ここで、印刷ヘッド1が第
2のインキングロール群4側に戻るときに重ねて印刷し
てもよい。その他、印刷ヘッド1が第2のインキングロ
ール群4側に戻るときに印刷版からブランケットロール
に導電性インキを転移させながら戻り、再び印刷ヘッド
1が前進する時にブランケットロールに導電性インキを
重ね転移してもよい。このようにすることで電極パター
ンを厚く形成できる。また、電極パターンに発生する孔
を防止することが出来る。The conductive ink transferred to the blanket roll 2 is transferred to a glass substrate of a plasma display panel placed on a printing platen 8 for printing. Thereby, the electrode pattern of the conductive ink in which the conductive particles are uniformly dispersed on the glass substrate is formed according to the electrode pattern formed on the printing plate. As a result, even if the conductive ink is transferred from the blanket, the line width of the electrode pattern transferred on the glass substrate does not become large and non-uniform, and no large meandering occurs. Here, when the print head 1 returns to the second inking roll group 4 side, the printing may be overlaid. In addition, when the print head 1 returns to the second inking roll group 4 side, the printing ink returns while transferring the conductive ink from the printing plate to the blanket roll, and when the print head 1 advances again, the conductive ink is overlaid on the blanket roll. May transfer. By doing so, the electrode pattern can be formed thick. Further, holes generated in the electrode pattern can be prevented.
【0034】このようにして、1枚のガラス基板上に形
成された電極パターン上に、もう一度、同じ電極パター
ンを形成することで電極パターンに発生する孔を防止す
ることが出来る。この孔とは、電極パターン上に発生す
る導電性材料が塗布されない領域である。欠陥である孔
をなくすことでガラス基板上の電極パターンは焼成後緻
密な膜とすることができる。この結果、形成される電極
の比抵抗を2〜10μΩ・cmに納めることができる。In this way, by forming the same electrode pattern again on the electrode pattern formed on one glass substrate, holes generated in the electrode pattern can be prevented. The holes are regions where the conductive material generated on the electrode pattern is not applied. By eliminating holes as defects, the electrode pattern on the glass substrate can be a dense film after firing. As a result, the specific resistance of the formed electrode can be set to 2 to 10 μΩ · cm.
【0035】以上を再度繰り返すが、電極パターン形成
装置では、印刷ヘッド1を移動しながら、インキブレー
ドに蓄えられる導電性インキを、印刷版盤7上の印刷版
へ転移し、次にブランケットロール2へ転移して、印刷
定盤8上のガラス基板へ印刷することを2回繰り返す。
もちろん、3回以上繰り返しても同じ効果が得られる。Although the above is repeated again, in the electrode pattern forming apparatus, the conductive ink stored in the ink blade is transferred to the printing plate on the printing plate 7 while moving the printing head 1, and then the blanket roll 2 is moved. Then, printing on the glass substrate on the printing platen 8 is repeated twice.
Of course, the same effect can be obtained even if it is repeated three or more times.
【0036】もちろん、同じパターンの印刷版とブラン
ケットロールとを2組用意して1枚のガラス基板にそれ
ぞれブランケットロールから導電性インキを転移しガラ
ス基板上に2回以上重ね印刷して電極を形成してもよ
い。また、同じパターンの印刷版2枚を用いてブランケ
ットロール上にそれぞれの印刷版から導電性インキを2
回以上重ね転移して、この重ね転移したブランケットロ
ール上の導電性インキをガラス基板上に1回で印刷して
電極を形成してもよい。Of course, two sets of printing plates and blanket rolls having the same pattern are prepared, and conductive ink is transferred from each blanket roll to one glass substrate and printed twice or more times on the glass substrate to form electrodes. May be. In addition, using two printing plates having the same pattern, conductive ink was applied to each of the printing plates on a blanket roll.
The electrode may be formed by printing the conductive ink on the blanket roll, which has been transferred more than once, onto the glass substrate at one time.
【0037】さらに、重ね印刷を行いやすくするため、
ガラス基板上に電極パターンを1回印刷した後、押圧ロ
ールで電極パターンをつぶして2回目以降の印刷を行い
やすくしてもよい。この時の押圧ロールは、シリコンロ
ール、水無し版を巻いたロール、シリコンブランケット
等を用いるのがよい。Further, in order to facilitate overprinting,
After printing the electrode pattern once on the glass substrate, the electrode pattern may be crushed by the pressing roll to facilitate the second and subsequent printing. As the pressing roll at this time, it is preferable to use a silicon roll, a roll wound with a waterless plate, a silicon blanket, or the like.
【0038】重ね印刷を行いやすくするための別な例で
あるが、ガラス基板上に電極パターンを1回印刷した
後、電極パターンを加熱して乾燥させたり、またはイン
キに紫外線硬化樹脂を入れておき紫外線で硬化させると
よい。もちろん、電子線硬化でもよい。例えば、この紫
外線光源は、印刷定盤8の上部に設置して印刷ヘッド1
でガラス基板上に電極パターンを形成した後、シャッタ
ーを開けてガラス基板上の電極パターンを照射する。ま
たは、この紫外線光源は、印刷定盤8の上部に設置して
印刷ヘッド1でガラス基板上に電極パターンを形成した
後、点灯させてガラス基板上の電極パターンを照射す
る。加熱による場合は、常時加熱していてよい。As another example for facilitating overprinting, after printing an electrode pattern once on a glass substrate, the electrode pattern is heated and dried, or an ultraviolet curable resin is added to the ink. It is good to cure with ultraviolet rays. Of course, electron beam curing may be used. For example, the ultraviolet light source is installed above the printing platen 8 and
After forming an electrode pattern on the glass substrate by using, the shutter is opened to irradiate the electrode pattern on the glass substrate. Alternatively, the ultraviolet light source is installed above the printing platen 8 and forms an electrode pattern on the glass substrate with the print head 1 and then turns on to irradiate the electrode pattern on the glass substrate. In the case of heating, heating may be performed at all times.
【0039】ロール等の回転部が有るため電極パターン
の形成装置では、ゴミ、埃の付着を防止する必要があ
る。ガラス基板の周囲、印刷版の周囲、ブランケットロ
ールの周囲に除電装置を設置するとゴミや埃がガラス基
板、印刷版、ブランケットロールに付着しないので良品
率が向上する。Since there is a rotating portion such as a roll, it is necessary for the electrode pattern forming apparatus to prevent dust and dust from adhering. If a static eliminator is installed around the glass substrate, around the printing plate, and around the blanket roll, the yield rate is improved because dust and dust do not adhere to the glass substrate, the printing plate, and the blanket roll.
【0040】印刷版のインキ不用部に導電性インキが付
着するのを防ぐ為、冷却ユニットを設けて印刷版盤7を
10〜25℃に温度制御をするとよい。冷却ユニットは
印刷版盤7の中に埋め込むことをしてもよい。また、印
刷版盤の周囲の温度制御を行うことで印刷版盤7が10
〜25℃になるように温度制御をしても良い。インキ不
用部に導電性インキが付着することにより、結果として
導電性インキがガラス基板に付着する。これは電極パタ
ーンのショートの原因になる。In order to prevent the conductive ink from adhering to the ink-unnecessary portions of the printing plate, a cooling unit may be provided to control the temperature of the printing plate 7 to 10 to 25 ° C. The cooling unit may be embedded in the printing plate 7. Further, by controlling the temperature around the printing plate, the printing plate 7 can
The temperature may be controlled so as to be about 25 ° C. The conductive ink adheres to the glass substrate as a result of the conductive ink adhering to the unnecessary portions. This causes a short circuit of the electrode pattern.
【0041】この他、温度変化によるインキ粘度の変動
を押さえる為、各ロール等にも温度調整ユニットを設け
るとよい。また、導電性インキの転移量等をコントロー
ルするため、印刷定盤8に温度調整ユニットを設けても
よい。In addition, in order to suppress a change in ink viscosity due to a temperature change, a temperature adjusting unit may be provided in each roll or the like. Further, a temperature adjusting unit may be provided on the printing platen 8 in order to control the transfer amount of the conductive ink and the like.
【0042】プラズマディスプレイパネルの電極を形成
する導電性インキとしては、導電性粒子60〜90wt
%、ガラスフリット0〜10wt%、有機成分9〜30
wt%を含み、これらの合計が100wt%となる導電
性インキがよい。この導電性インキのタック値は20以
上が好ましい。インキの種類としては紫外線硬化タイプ
や酸化重合タイプがよい。この他、プラズマディスプレ
イパネルの電極を形成する導電性インキとしては、導電
性粒子60〜90wt%、ガラスフリット0〜10wt
%、有機成分9〜30wt%を含み、無機成分0〜10
wt%程度を加えて、これらの合計が100wt%とな
る導電性インキであってもよい。The conductive ink forming the electrodes of the plasma display panel includes conductive particles of 60 to 90 wt.
%, Glass frit 0-10 wt%, organic component 9-30
%, and the total of these is 100 wt%. The tack value of the conductive ink is preferably 20 or more. As the type of ink, an ultraviolet curing type or an oxidative polymerization type is preferable. In addition, the conductive ink forming the electrodes of the plasma display panel includes conductive particles of 60 to 90 wt% and glass frit of 0 to 10 wt%.
%, An organic component of 9 to 30 wt%, and an inorganic component of 0 to 10
The conductive ink may be added in an amount of about wt%, and the total thereof may be 100 wt%.
【0043】この導電性インキに用いる導電性粒子とし
ては、平均粒径0.01〜2μmがよく、より好ましく
は、平均粒径0.03〜1μmの導電性粒子(具体的に
は、Ag、Au、Cu、Al、Pt、Ni、Pd等の粉
体の単独又は混合物)等がよい。この導電性インキを凹
版に塗布した場合、凹版のインキ不要部分において導電
性インキのはじきが良くなり、凹版からインキがはみだ
すことなく正確に凹版に充填することが可能となる。さ
らに、微少な導電性粒子が均一に分散しているために凹
版への傷等のダメージがなくなる。さらに、この導電性
インキで用いる導電性粒子は、タップ密度2〜5g/c
m 3がよく、より好ましくは、タップ密度3〜5g/c
m3がよい。また、比表面積0.3〜5m2/gがよい。
そして、導電性粒子の形状は、球形、不定形、塊状、フ
レーク状の形状で有ればよい。また、粉体の凝集をおさ
える為、粉体に表面処理をしたり、凝集防止剤または分
散剤を導電性インキに入れると上記効果がより大きくな
る。The conductive particles used in this conductive ink are
The average particle size is preferably 0.01 to 2 μm, more preferably
Are conductive particles having an average particle size of 0.03 to 1 μm (specifically,
Is a powder of Ag, Au, Cu, Al, Pt, Ni, Pd, etc.
Or a mixture of the bodies). This conductive ink is recessed
When applied to the plate, conductive at the ink-free part of the intaglio
The repellency of the water-based ink improves, and the ink protrudes from the intaglio.
It is possible to accurately fill the intaglio without having to do so. Sa
In addition, since fine conductive particles are uniformly dispersed,
Eliminates damage such as scratches on the plate. Furthermore, this conductive
The conductive particles used in the ink have a tap density of 2 to 5 g / c.
m ThreeAnd a tap density of 3 to 5 g / c is more preferable.
mThreeIs good. The specific surface area is 0.3 to 5 mTwo/ G is good.
The shape of the conductive particles can be spherical, irregular, massive,
The shape may be a rake shape. It also reduces powder agglomeration.
Surface treatment on the powder,
The above effect is greater when the powder is added to the conductive ink.
You.
【0044】ガラスフリットを入れた導電性インキにて
電極パターンを形成し、470〜600℃で焼成するこ
とにより電極をガラス基板上に形成する。このようにし
て電極をガラス基板上に形成することにより電極とガラ
ス基板との密着性を良くすることができる。このガラス
フリットの平均粒径は、0.3〜2μmがよく、軟化点
は450〜580℃がよく、このガラスフリットの熱膨
張係数は70〜95×10―7/℃がよい。ガラスフリ
ットの材質は、アルカリ成分を含まないPbO/SiO
2/B2O3系、またはBi2O3系のガラスフリットがよ
い。このような材質はアルカリフリーと呼ばれ、アルカ
リ成分が無いため、電極の劣化が起こりにくい。An electrode pattern is formed with a conductive ink containing glass frit, and the electrode is formed on a glass substrate by firing at 470 to 600 ° C. By forming the electrode on the glass substrate in this manner, the adhesion between the electrode and the glass substrate can be improved. The average particle size of the glass frit, 0.3 to 2 [mu] m C., and a softening point of four hundred and fifty to five hundred eighty ° C. C., the thermal expansion coefficient of the glass frit may have 70~95 × 10- 7 / ℃. The material of the glass frit is PbO / SiO containing no alkali component.
A 2 / B 2 O 3 -based or Bi 2 O 3 -based glass frit is preferred. Such a material is called alkali-free, and since there is no alkali component, deterioration of the electrode hardly occurs.
【0045】そして、この導電性インキをインキ着けロ
ールにより凹版に塗布し充填する。このインキ着けロー
ルは2本用いる。これにより1本目のインキ着けロール
で凹版へ導電性インキを塗布充填して、さらに2本目の
インキ着けロールで凹版にきちんと充填することができ
る。つまり、この2本目のインキ着けロールは凹版への
導電性インキの充填が不足していれば追加充填すること
ができる。逆に、凹版への導電性インキが多ければ取り
除き、再度練りローラで導電性インキを練りながら均一
な流動性、粘性等の維持して再度凹版に塗布充填する働
きをする。もちろん、図示したインキ着けロールより大
きな径を持つローラを用いて、1本のインキ着けロール
で凹版への導電性インキの充填をしてもよい。また、2
本のインキ着けロールは3本以上であってもよい。もっ
とも1本のインキ着けロールでもインキを着けることは
できる。Then, the conductive ink is applied to an intaglio plate by an inking roll and filled. Two inking rolls are used. This makes it possible to apply and fill the conductive ink to the intaglio with the first inking roll, and to properly fill the intaglio with the second inking roll. In other words, the second inking roll can be additionally charged if the intaglio printing plate is insufficiently filled with the conductive ink. Conversely, if the amount of the conductive ink on the intaglio is large, it is removed, and while the conductive ink is kneaded again by the kneading roller, the fluid is maintained and maintained in a uniform flowability, viscosity, etc., and the intaglio is again coated and filled. Of course, it is also possible to use a roller having a larger diameter than the illustrated inking roll to fill the intaglio plate with the conductive ink using one inking roll. Also, 2
The number of inking rolls of the book may be three or more. However, ink can be applied with only one inking roll.
【0046】基板載置部は、凹版に基づいて所定の電極
パターンを形成するガラス基板を載置した後、吸引して
固定するものである。プラズマディスプレイパネルのガ
ラス基板を載置する印刷定盤8に使用する。また、電極
パターンを形成する為の印刷版を載置する印刷版盤7に
も使用することができる。The substrate mounting portion is for mounting a glass substrate on which a predetermined electrode pattern is formed based on the intaglio, and then suction-fixing the glass substrate. It is used for a printing platen 8 on which a glass substrate of a plasma display panel is placed. Further, it can also be used for a printing plate 7 on which a printing plate for forming an electrode pattern is placed.
【0047】図2(A)の基板載置部の平面図に示すよ
うに、2種類の大きさの基板を載置する為、各基板の1
つの角を共通に基準点20とした第1の基板位置25、
第2の基板位置26を設けてある。ここでは、縦方向の
基板の位置決め部材27が1つと横方向の基板の位置決
め部材28が2つで各基板が所定の位置になるように位
置を決める。もちろん、2種類の基板に限らない。ここ
では、各位置決め部材27、28は円柱体である為、ガ
ラス基板との接点が2点で決まる。この為、線で基板と
接する直方体の場合より、基板の位置が決めやすい。さ
らに、位置決め部材27、28で位置決め時に、位置決
め部材27が1個、位置決め部材28が2個と決めた。
この数より多く用いると位置決め部材の位置を調整する
のが難しくなる。この為、基板の大きさにより位置決め
した位置が変化する場合がでてくる。さらに、これらの
基板が固定できるように、各基板の大きさに対応して使
い分ける第1の吸引溝21、第2の吸引溝22、第3の
吸引溝23と各溝に対応した複数の吸引孔24とが加工
されている。As shown in the plan view of the substrate mounting portion in FIG. 2A, in order to mount substrates of two sizes,
A first substrate position 25 with two corners in common as a reference point 20,
A second substrate position 26 is provided. Here, the position is determined such that each of the substrates is at a predetermined position with one vertical substrate positioning member 27 and two horizontal substrate positioning members 28. Of course, it is not limited to two types of substrates. Here, since each of the positioning members 27 and 28 is a cylindrical body, the point of contact with the glass substrate is determined at two points. For this reason, the position of the substrate is easier to determine than in the case of a rectangular parallelepiped contacting the substrate with a line. Further, at the time of positioning by the positioning members 27 and 28, one positioning member 27 and two positioning members 28 were determined.
If more than this number, it is difficult to adjust the position of the positioning member. For this reason, the position at which the positioning is performed may change depending on the size of the substrate. Further, a first suction groove 21, a second suction groove 22, a third suction groove 23, and a plurality of suction holes corresponding to each groove are selectively used according to the size of each substrate so that these substrates can be fixed. The hole 24 is machined.
【0048】また、位置決め部材27、28を用いずに
CCDカメラ等を用いて、基板上に形成したアライメン
トマークや基板のエッジを抽出して基板位置を決めても
良いし、同様にCCDカメラ等を用いて、ガラス基板に
印刷した電極パターンやアライメントマークを用いて次
に印刷されるガラス基板の位置を制御しても良い。The position of the substrate may be determined by using a CCD camera or the like without using the positioning members 27 and 28 to extract the alignment mark formed on the substrate or the edge of the substrate. May be used to control the position of the glass substrate to be printed next using the electrode pattern or alignment mark printed on the glass substrate.
【0049】図2(B)には、基板載置部に加工された
第1の吸引溝21、第3の吸引溝23と複数の吸引孔2
4の断面図を示す。このように、吸引溝の底面に吸引孔
が加工されている。そして、第1の基板位置25にガラ
ス基板が載置された場合は、第1の吸引溝21と第2の
吸引溝22とが選択されて、これらの吸引溝21、22
に対応した吸引孔24が選択されて第1の基板位置に載
置されたガラス基板を吸引し固定する。同様に、第2の
基板位置26にガラス基板が載置された場合は、第1の
吸引溝21と第3の吸引溝23とが選択されて、これら
の吸引溝21、23に対応した吸引孔24が選択されて
第2の基板位置に載置されたガラス基板を吸引し固定す
る。FIG. 2B shows a first suction groove 21 and a third suction groove 23 formed on the substrate mounting portion and a plurality of suction holes 2.
4 shows a sectional view. Thus, the suction hole is formed in the bottom surface of the suction groove. When the glass substrate is placed on the first substrate position 25, the first suction groove 21 and the second suction groove 22 are selected, and these suction grooves 21 and 22 are selected.
Is selected to suck and fix the glass substrate placed on the first substrate position. Similarly, when a glass substrate is placed on the second substrate position 26, the first suction groove 21 and the third suction groove 23 are selected, and the suction corresponding to these suction grooves 21 and 23 is performed. The hole 24 is selected to suck and fix the glass substrate placed on the second substrate position.
【0050】印刷版としての凹版に形成された電極パタ
ーンの平面図を図3に示す。もちろん、このパターンに
限るわけではない。一般にストレート型、中央分割型、
櫛形の電極パターンがある。ここでは、所定の電極パタ
ーンとして、プラズマディスプレイパネルの表示部の電
極のパターン31がガラス基板の中央部に形成され、外
部回路との接続の為に設けた端子部の電極のパターン3
2がガラス基板の対向する両端部に形成され、被形成物
であるガラス基板上に種々の機能を有する層を順次重ね
合わせて多層形成するために用いられる位置合わせ用の
アライメントマーク33が形成されている。このように
凹版を形成することで1回の電極パターン形成動作でメ
インの表示部の電極のパターン31と、接続用の端子部
の電極のパターン32と、位置合わせ用のアライメント
マーク33とが同時に形成することができ、一括で所定
の電極パターンを形成できる。FIG. 3 is a plan view of an electrode pattern formed on an intaglio printing plate. Of course, it is not limited to this pattern. Generally straight type, center split type,
There is a comb-shaped electrode pattern. Here, the electrode pattern 31 of the display section of the plasma display panel is formed in the center of the glass substrate as a predetermined electrode pattern, and the electrode pattern 3 of the terminal section provided for connection with an external circuit is formed.
2 are formed at opposite ends of the glass substrate, and alignment marks 33 for alignment used for sequentially superposing layers having various functions on the glass substrate to be formed to form a multilayer are formed. ing. By forming the intaglio in this way, the electrode pattern 31 of the main display portion, the electrode pattern 32 of the connection terminal portion, and the alignment mark 33 for positioning can be simultaneously formed in one electrode pattern forming operation. Thus, a predetermined electrode pattern can be formed at a time.
【0051】また、電極パターン形成動作を複数回(2
〜3回程度)繰り返すことで電極パターンを重ねて形成
すると、電極パターンをさらに厚くすることが可能であ
り、電極の抵抗を下げることができる。また、ピンホー
ル等の欠陥を減少させる効果もある。The electrode pattern forming operation is performed a plurality of times (2.
When the electrode pattern is formed by repeating the above (about 3 times), the electrode pattern can be further thickened, and the resistance of the electrode can be reduced. It also has the effect of reducing defects such as pinholes.
【0052】印刷版としての凹版は、シリコン版、水無
し版、あるいは、ガラス版、金属版、セラミック版に離
型処理したものである。特に、水無し版(東レ(株)、
プレステック製)がよい。また、版深は、1〜10μm
がよい。さらに好ましくは、3〜8μmがよい。The intaglio plate as a printing plate is obtained by releasing a silicon plate, a waterless plate, or a glass plate, a metal plate, or a ceramic plate. In particular, the waterless version (Toray Industries, Inc.
Presstec). The plate depth is 1 to 10 μm
Is good. More preferably, it is 3 to 8 μm.
【0053】以上に示すような凹版と基板載置部とを有
する図1で示す電極パターン形成装置により導電性イン
キを印刷版である凹版からブランケットロールへ転移
し、ブランケットロールと基板載置部上に固定したガラ
ス基板との間に挟み込むことにより、ガラス基板上に所
定の電極パターンを形成する。これによりガラス基板上
に形成した電極パターンの断面形状は、図4(A)に示
すように電極中央部の膜厚が厚く、周囲の膜厚が薄く湾
曲した電極パターン51となる。このように図1に示す
電極パターン形成装置によりガラス基板上に電極パター
ンを形成することにより、形成した電極パターンの断面
形状のエッジがシャープでなくなる。この時の電極パタ
ーン51と上層の誘電体層54の断面形状は、図4
(B)に示すようになる。この為、図4(C)に示すよ
うに電極パターン52の上に形成する誘電多層のような
所定の層から前記電極パターンのエッジが露出してしま
う問題点を防止することができる。The conductive ink is transferred from the intaglio printing plate to the blanket roll by the electrode pattern forming apparatus shown in FIG. 1 having the intaglio plate and the substrate mounting portion as described above. A predetermined electrode pattern is formed on the glass substrate by being sandwiched between the glass substrate fixed to the substrate. Thus, the cross-sectional shape of the electrode pattern formed on the glass substrate becomes an electrode pattern 51 in which the film thickness at the center of the electrode is large and the film thickness at the periphery is thin as shown in FIG. By forming an electrode pattern on a glass substrate by the electrode pattern forming apparatus shown in FIG. 1, the edge of the cross-sectional shape of the formed electrode pattern is not sharp. At this time, the cross-sectional shapes of the electrode pattern 51 and the upper dielectric layer 54 are shown in FIG.
The result is as shown in FIG. Therefore, it is possible to prevent the problem that the edge of the electrode pattern is exposed from a predetermined layer such as a dielectric multilayer formed on the electrode pattern 52 as shown in FIG.
【0054】このように電極パターンが印刷されるガラ
ス基板には以下の処理のいずれかを行うと、ガラス基板
と電極とのぬれ性や接触面積を制御することができる。
この処理は、ガラス基板と電極とのぬれ性や接触面積を
制御する処理である。もちろん、各処理は組み合わせて
もよい。この処理をガラス基板に行うことにより、電極
パターンの膜厚や形状を制御することができる。 処理1:ガラス基板表面を凹凸形状のある粗い表面にす
る。 処理2:ガラス基板表面にシランカップリング剤を塗布
する。 処理3:ガラス基板表面にコロナ放電処理を行う。 処理4:ガラス基板表面に帯電防止処理を行う。 処理5:ガラス基板表面に樹脂をコーティングする。 処理6:ガラス基板表面を洗浄する。When any of the following processes is performed on the glass substrate on which the electrode pattern is printed, the wettability and the contact area between the glass substrate and the electrode can be controlled.
This process controls the wettability and the contact area between the glass substrate and the electrode. Of course, each process may be combined. By performing this process on a glass substrate, the thickness and shape of the electrode pattern can be controlled. Treatment 1: The surface of the glass substrate is made rough with irregularities. Treatment 2: A silane coupling agent is applied to the surface of the glass substrate. Treatment 3: A corona discharge treatment is performed on the surface of the glass substrate. Process 4: Antistatic treatment is performed on the surface of the glass substrate. Process 5: The surface of the glass substrate is coated with a resin. Process 6: Cleaning the surface of the glass substrate.
【0055】以下、図示はしていないが、重ね印刷の時
の例として3つの例を示す。タイプ1として、印刷ヘッ
ド1のブランケットロールの後ろに押圧ロールを配置す
る。これにより、図1の印刷ヘッド1により電極パター
ンをガラス基板上に形成した後、印刷ヘッド1のブラン
ケットロールの後ろに配置した押圧ロールによりガラス
基板上に形成した電極パターンの上面を押しつぶす。こ
れによりガラス基板上に形成した電極パターンの断面形
状は、上面が平坦で周囲が湾曲した電極パターンとな
る。また、導電性インキにより汚れた押圧ロールは洗浄
ローラにより汚れを洗浄することもできる。これによ
り、常にきれいな押圧ロールの表面でガラス基板上に形
成した電極パターンの上面を押しつぶすことができ、汚
れが電極パターンに付着することがない。Hereinafter, although not shown, three examples are shown as examples at the time of overprinting. As type 1, a pressing roll is arranged behind the blanket roll of the print head 1. Thus, after the electrode pattern is formed on the glass substrate by the print head 1 of FIG. 1, the upper surface of the electrode pattern formed on the glass substrate is crushed by the pressing roll disposed behind the blanket roll of the print head 1. Thereby, the cross-sectional shape of the electrode pattern formed on the glass substrate becomes an electrode pattern having a flat upper surface and a curved periphery. In addition, the pressing roller that has been stained with the conductive ink can be cleaned with a cleaning roller. Thus, the upper surface of the electrode pattern formed on the glass substrate can be constantly crushed by the clean surface of the pressing roll, and dirt does not adhere to the electrode pattern.
【0056】タイプ2として、印刷定盤8の上方にUV
ランプを設置する。印刷ヘッド1のブランケットロール
2から導電性インキをガラス基板に転移した後、UVを
照射する。これと平行して、導電性インキにはUV樹脂
等の光硬化性の樹脂を用いる。このようにすれば、印刷
定盤8の上方に設置したUVランプによりガラス基板上
に電極パターンを形成した状態で前記電極パターンを硬
化できる。As a type 2, a UV is provided above the printing platen 8.
Install the lamp. After transferring the conductive ink from the blanket roll 2 of the print head 1 to the glass substrate, UV irradiation is performed. In parallel with this, a photocurable resin such as a UV resin is used for the conductive ink. In this manner, the electrode pattern can be cured while the electrode pattern is formed on the glass substrate by the UV lamp provided above the printing platen 8.
【0057】タイプ3として、印刷定盤8の上方にUV
ランプを設置する。印刷ヘッド1のブランケットロール
2の後ろに押圧ロールを設ける。このようにすること
で、印刷ヘッド1のブランケットロール2から導電性イ
ンキをガラス基板に転移した後、UVを照射する。これ
により電極パターンを硬化した後、前記電極パターンの
上面を押圧ロールで平坦にして周囲が薄く湾曲した状態
の電極パターンとしてもよい。As a type 3, a UV is provided above the printing platen 8.
Install the lamp. A press roll is provided behind the blanket roll 2 of the print head 1. In this way, after the conductive ink is transferred from the blanket roll 2 of the print head 1 to the glass substrate, UV irradiation is performed. Thus, after the electrode pattern is hardened, the upper surface of the electrode pattern may be flattened by a pressing roll to form an electrode pattern having a thin and curved periphery.
【0058】このように3つタイプで押圧ロールやUV
樹脂を利用して図1に示す電極パターン形成装置の機能
を拡張することによりガラス基板上に形成した電極パタ
ーンの上に再度電極パターンが形成しやすくなる。As described above, the three types include the pressing roll and the UV.
By expanding the function of the electrode pattern forming apparatus shown in FIG. 1 using a resin, an electrode pattern can be easily formed again on an electrode pattern formed on a glass substrate.
【0059】本発明で用いる導電性インキの成分につい
て説明する。The components of the conductive ink used in the present invention will be described.
【0060】本発明で用いる導電性インキの有機成分と
しては、以下のようなものから選べばよい。アルキッド
樹脂、変性アルキッド樹脂、変性エポキシ樹脂、ウレタ
ン化油、ロジン化油、マレイン化油、ポリブデン樹脂、
植物油、鉱物油、マレイン酸樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルオリゴマー、ウ
レタン樹脂、ウレタンオリゴマーである。The organic components of the conductive ink used in the present invention may be selected from the following. Alkyd resin, modified alkyd resin, modified epoxy resin, urethane oil, rosin oil, maleated oil, polybutene resin,
Vegetable oil, mineral oil, maleic acid resin, diallyl phthalate resin, polyester resin, polyester oligomer, urethane resin, urethane oligomer.
【0061】また、導電性インキへの添加剤としては、
以下のようなものから選べばよい。分散剤、湿潤剤、増
粘剤、レベリング剤、地汚れ防止剤、シリコンオイル、
シリコン樹脂、消泡剤、可塑剤などを添加してもよい。As an additive to the conductive ink,
You can choose from the following: Dispersant, wetting agent, thickener, leveling agent, antifouling agent, silicone oil,
You may add a silicone resin, an antifoamer, a plasticizer, etc.
【0062】また、酸化重合タイプの導電性インキで
は、酸化重合触媒、酸化重合抑制剤、重合禁止剤等が用
いられる。In the case of an oxidative polymerization type conductive ink, an oxidative polymerization catalyst, an oxidative polymerization inhibitor, a polymerization inhibitor and the like are used.
【0063】また、UVタイプの導電性インキでは、開
始剤、重合禁止剤、モノマーが用いられる。In the case of a UV type conductive ink, an initiator, a polymerization inhibitor and a monomer are used.
【0064】UVタイプの導電性インキの開始剤として
は、焼成により揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物
を残存させることの無いものである。具体的には、ベン
ゼフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4、4―
ビス(ジメチルアミン)ベンゼフェノン、4、4―ビス
(ジエチルアミン)ベンゼフェノン、α―アミノ・アセ
トフェノン、、4、4―ジクロロベンゼフェノン、4―
ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジル
ケトン、フルオレノン、2、2―ジエトキシアセトフェ
ノン、2、2―ジメトキシ―2―フェニルアセトフェノ
ン、2―ヒドロキシ―2―メチルプロピオフェノン、p
−tert―ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサ
ントン、2―メチルチオキサントン、2―クロロチオキ
サントン、2―イソプロピルチオキサントン、ジエチル
チオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル
メトキシエチルアセタール、ベンゾイルメチルエーテ
ル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−
tert―ブチルアントラキノン、2−アミルアントラ
キノン、β―クロラルアントラキノン、アントロン、ベ
ンズアントラキノン、ジベンズスベロン、メチレンアン
トロン、4―アジドベンジルアセトフェノン、2、6―
ビス(p―アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2、
6―ビス(p―アジドベンジリデン)―4―メチルシク
ロヘキサノン、2―フェニル―1,2―ブタジオン―2
―(o−メトキシカルボニル)オキシム、1―フェニル
―プロパンジオン―2―(o−エトキシカルボニル)オ
キシム、1,3―ジフェニル―プロパントリオン―2―
(o−エトキシカルボニル)オキシム、1―フェニルー
3―エトキシ―プロパントリオン―2―(o−ベンゾイ
ル)オキシム、ミヒラーケトン、2―メチル−[4―
(メチルチオ)フェニル]−2―モルフォリノ―1―プ
ロパン、2―ベンジル―2―ジメチルアミノ―1―(4
―モルフォリノフェニル)―ブタノン−1、ナフタレン
スルフォニルクロライド、キノリンスルホニルクロライ
ド、n−フェニルチオアクリドン、4,4―アゾビスイ
ソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチ
アゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カン
ファーキノン、四臭素化炭素、トリプロモフェニルスル
ホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等
の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールア
ミン等の還元剤との組み合わせが挙げられる。これらを
1種で、または、2種以上の組み合わせで使用すること
ができる。The initiator for the UV-type conductive ink is one which is volatilized and decomposed by firing and does not leave carbides in the film after firing. Specifically, benzphenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-
Bis (dimethylamine) benzephenone, 4,4-bis (diethylamine) benzephenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichlorobenzephenone, 4-
Benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p
-Tert-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, benzylmethoxyethylacetal, benzoylmethylether, benzoinbutylether, anthraquinone, 2-
tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthraquinone, dibensuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-
Bis (p-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,
6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2
-(O-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2-
(O-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4
-Morpholinophenyl) -butanone-1, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, Examples include a combination of a photoreducing dye such as carbon tetrabromide, tripromophenyl sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue and a reducing agent such as ascorbic acid and triethanolamine. These can be used alone or in combination of two or more.
【0065】UVタイプの導電性インキのモノマーとし
ては、焼成により揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化
物を残存させることの無いものであり、多官能および単
官能の反応性モノマーを挙げることができる。具体的に
は、アクリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、2―エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジンアクリ
レート、2―ヒドロキシエチルアクリレート、2―ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、デシルアクリレート、2
―メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリ
コールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、
ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4
―ブタンジオールジアクリレート、1,5―ペンタンジ
オールジアクリレート、1,6―ヘキサンジオールジア
クリレート、1,3―プロパンジオールアクリレート、
1,4―シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,
2―ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロー
ルジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレー
ト、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、
2,2,4―トリメチル―1、3―ペンタジオールジア
クリレート、ジアリルフマレート、1,10―デカンジ
オールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ―
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1―ビニ
ル―2―ピロリドン等が挙げられる。本発明では、上記
のモノマーを1種または2種以上の混合物として使用す
ることができる。The monomers of the UV type conductive ink are those which do not volatilize and decompose upon firing and do not leave carbides in the film after firing, and include polyfunctional and monofunctional reactive monomers. be able to. Specifically, acrylic acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidin acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl Propyl acrylate, isobonyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, decyl acrylate,
-Methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate,
Stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4
-Butanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol acrylate,
1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,
2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol Diacrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate,
2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and the above acrylate Converted to methacrylate, γ-
Methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, and the like. In the present invention, the above monomers can be used as one kind or as a mixture of two or more kinds.
【0066】本発明で用いる導電性インキの無機成分と
して酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタ
ン、酸化ジルコニア、酸化マグネシウム、酸化カルシウ
ム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、炭酸カルシウ
ム等の無機粉体を導電性粒子100重量部に対して10
重量部以下の範囲で含有することができる。このような
無機成分は、その粒子の平均粒径が0.005〜3μm
の範囲が好ましく、感光性導体インキのチクソ性を付与
し、導電性粉体、ガラスフリットの沈降を抑制したり、
また、骨材として焼成時のパターン流出防止の作用をな
すものである。また、コントラストを向上させるため
に、無機粉体として耐火性の黒色顔料を含有させてもよ
い。黒色顔料としては、Co−Cr−Fe、Co−Mn
−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co−Ni−Cr−
Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、Co−Ni−A
l−Cr−Fe、Co−Mn−Al−Cr−Fe−Si
等が挙げられ、導電性粒子100重量部に対して1〜2
0重量部の範囲で含有させることができる。As the inorganic component of the conductive ink used in the present invention, an inorganic powder such as aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide, zirconia, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, and calcium carbonate is used. 10 per 100 parts by weight of particles
It can be contained in the range of not more than part by weight. Such an inorganic component has an average particle diameter of 0.005 to 3 μm.
The range of is preferred, to impart the thixotropy of the photosensitive conductive ink, conductive powder, or to suppress the sedimentation of glass frit,
In addition, it acts as an aggregate to prevent the pattern from flowing out during firing. Further, in order to improve the contrast, a fire-resistant black pigment may be contained as an inorganic powder. As a black pigment, Co-Cr-Fe, Co-Mn
-Fe, Co-Fe-Mn-Al, Co-Ni-Cr-
Fe, Co-Ni-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-A
l-Cr-Fe, Co-Mn-Al-Cr-Fe-Si
And the like, and 1 to 2 parts by weight per 100 parts by weight of the conductive particles.
It can be contained in the range of 0 parts by weight.
【0067】[0067]
【実施例】図1に示すオフセット印刷機を用いて、ガラ
ス基板(型名:PD200)上にプラズマディスプレイ
パネルの背面板の電極パターンを印刷し、その後、この
基板を焼成することでガラス基板上に電極パターンを形
成した。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The electrode pattern of the back plate of a plasma display panel is printed on a glass substrate (model name: PD200) using an offset printing machine shown in FIG. An electrode pattern was formed.
【0068】まず、印刷版盤7の内部に設置した冷却ユ
ニットを調整して印刷版盤7を20℃に設定した。ブラ
ンケットロールには、表面光沢度(グロス値)は70度
のNBRブランケットを用いた。印刷版は、凹版として
版深4μmの東レ(株)製の水無し版(型名:TAP2
4)を用いた。また、この時用いた導電性インキの組成
を以下に示す。このインキのタック値は30であった。 (組成) Ag粉(平均粒径0.3μm、タップ密度4.5g/cm3) 78重量部 ガラスフリット 2重量部 (Bi2O3系、アルカリフリー、熱膨張係数90×10-7/℃、 平均粒径0.8μm、軟化点480℃、Tg430℃) アルキッド樹脂 20重量部First, the cooling unit installed inside the printing plate 7 was adjusted to set the temperature of the printing plate 7 to 20 ° C. An NBR blanket having a surface gloss (gloss value) of 70 degrees was used for the blanket roll. The printing plate is an intaglio plate having a depth of 4 μm and a waterless plate manufactured by Toray Industries, Inc. (model name: TAP2
4) was used. The composition of the conductive ink used at this time is shown below. The tack value of this ink was 30. (Composition) Ag powder (average particle size 0.3 μm, tap density 4.5 g / cm 3 ) 78 parts by weight Glass frit 2 parts by weight (Bi 2 O 3 type, alkali-free, coefficient of thermal expansion 90 × 10 −7 / ° C.) Average particle size 0.8 μm, softening point 480 ° C., Tg 430 ° C.) 20 parts by weight of alkyd resin
【0069】そして、印刷速度600mm/secで、
ガラス基板上へ電極パターンを4回重ね印刷を行った。
印刷後の電極パターンの中央部の膜厚を測定したところ
6μmであった。この後、電極パターンが形成されたガ
ラス基板を570℃で焼成した。この結果、プラズマデ
ィスプレイパネルのガラス基板上に以下の電極パターン
を形成することができた。電極パターンの形状は、図4
(A)に示すような形状であり、中央部が厚く2.5μ
m、周辺部が薄く1.0μm以下の形状であった。電極
パターンのライン幅は、70μmであった。電極パター
ンのライン幅のうねりは、±5μm以内であった。電極
パターンの比抵抗は、2.8μΩ・cmであった。断
線、ショート、孔(ピンホールとも呼ぶ)等の欠陥が無
く、良好な電極が形成できた。この為、電極の上に形成
する誘電体層にも図4(C)に示すような欠陥が発生し
なかった。Then, at a printing speed of 600 mm / sec,
The electrode pattern was superposed and printed on the glass substrate four times.
The thickness of the central part of the electrode pattern after printing was measured and found to be 6 μm. Thereafter, the glass substrate on which the electrode pattern was formed was fired at 570 ° C. As a result, the following electrode patterns could be formed on the glass substrate of the plasma display panel. The shape of the electrode pattern is shown in FIG.
It has a shape as shown in FIG.
m, the peripheral portion was thin and 1.0 μm or less. The line width of the electrode pattern was 70 μm. The undulation of the line width of the electrode pattern was within ± 5 μm. The specific resistance of the electrode pattern was 2.8 μΩ · cm. There were no defects such as disconnection, short circuit, and hole (also called pinhole), and a good electrode could be formed. For this reason, the defect shown in FIG. 4C did not occur in the dielectric layer formed on the electrode.
【0070】[0070]
【発明の効果】本発明により、プラズマディスプレイパ
ネルの電極パターンを高い精度で形成した、すなわち、
求めたい電極パターンの線幅や厚さを忠実に表現した大
型製品の製造が簡単にできる。第1の効果として、電子
回路基板やディスプレイ等において望まれている大型基
板が低コストで可能となる。第2の効果として、電極パ
ターンの材料がブランケットに完全に転移されて所定の
膜厚が得られる。第3の効果として、電極パターンの形
状である線幅がほぼ均一になり、蛇行を押さえることが
できる。第4の効果として、ゴミ、埃、等の影響を受け
ても電極に孔が空かない。第5の効果として、形成した
電極パターンの断面形状のエッジはなだらかである。こ
の為、電極パターンの上に形成する所定の層を突き破っ
て前記電極パターンのエッジが露出してしまうことはな
い。第6の効果として、焼成工程を経て電極が収縮して
も所定の電極パターンが得られる。According to the present invention, an electrode pattern of a plasma display panel is formed with high accuracy, that is,
It is easy to manufacture large products that faithfully express the line width and thickness of the electrode pattern desired. As a first effect, a large substrate desired in an electronic circuit board, a display, or the like can be manufactured at low cost. As a second effect, the material of the electrode pattern is completely transferred to the blanket, and a predetermined film thickness is obtained. As a third effect, the line width, which is the shape of the electrode pattern, becomes substantially uniform, and meandering can be suppressed. As a fourth effect, no hole is formed in the electrode even under the influence of dust, dust and the like. As a fifth effect, the edge of the sectional shape of the formed electrode pattern is gentle. Therefore, there is no possibility that the edge of the electrode pattern is exposed by breaking through a predetermined layer formed on the electrode pattern. As a sixth effect, a predetermined electrode pattern can be obtained even if the electrodes shrink after the firing step.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の実施の形態に係る電極パターン形成装
置を示す図FIG. 1 is a diagram showing an electrode pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態に係る電極パターン形成装
置の印刷定盤を示す図FIG. 2 is a view showing a printing platen of the electrode pattern forming apparatus according to the embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施の形態に係る電極パターンを示す
図FIG. 3 is a diagram showing an electrode pattern according to the embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施の形態に係る電極パターンを形成
した基板を示す図FIG. 4 is a view showing a substrate on which an electrode pattern according to the embodiment of the present invention is formed.
1 印刷ヘッド 2 ブランケットロール 3 インキングロール群 4 ガイドレール 5 インキ定盤 6 印刷版盤 7 印刷定盤 8 基板位置 40 ガラス基板 41 電極パターン 44 誘電体層 REFERENCE SIGNS LIST 1 print head 2 blanket roll 3 inking roll group 4 guide rail 5 ink platen 6 printing plate 7 printing platen 8 substrate position 40 glass substrate 41 electrode pattern 44 dielectric layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 佐々木 賢 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA02 5C040 FA01 FA04 GB03 GC02 GC03 GC18 GC19 JA12 JA19 JA20 JA28 JA31 KA01 KA04 KA09 KA14 KB02 KB03 KB04 KB18 KB29 MA23 MA24 MA25 MA26 5C094 AA05 AA14 AA43 AA44 AA55 BA31 CA19 DA13 EA04 EA10 EB02 FB01 FB02 FB12 GB10 JA05 JA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yozo Kosaka 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Ken Sasaki 1-chome, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. F term (reference) 5C027 AA02 5C040 FA01 FA04 GB03 GC02 GC03 GC18 GC19 JA12 JA19 JA20 JA28 JA31 KA01 KA04 KA09 KA14 KB02 KB03 KB04 KB18 KB29 MA23 MA24 MA25 MA26 5C094 AA05 AA19 DA13 EA04 EA10 EB02 FB01 FB02 FB12 GB10 JA05 JA08
Claims (13)
の膜厚より厚いことを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの電極。1. An electrode for a plasma display panel, wherein a film thickness at a central portion of an electrode line is larger than a film thickness at a peripheral portion of the electrode.
あることを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプ
レイパネルの電極。2. The electrode according to claim 1, wherein the central part of the electrode line has a thickness of 1 to 4 μm.
であることを特徴とする請求項1または2記載のプラズ
マディスプレイパネルの電極。3. The electrode line having a specific resistance of 2 to 10 μΩ · cm.
The electrode of the plasma display panel according to claim 1, wherein:
m以内であることを特徴とする請求項1乃至3記載のプ
ラズマディスプレイパネルの電極。4. An undulation of a line width of an electrode line is ± 10 μm.
4. The electrode of the plasma display panel according to claim 1, wherein the distance is within m.
とする請求項1乃至4記載のプラズマディスプレイパネ
ルの電極。5. The electrode of a plasma display panel according to claim 1, wherein said electrode is formed by offset printing.
記電極パターンを形成する材料を前記印刷版に塗布する
ローラと、前記印刷版から前記材料を転写するブランケ
ットローラと、前記電極パターンを形成する基板を載置
する基板載置部と、前記ブランケットローラと前記基板
載置部とを相対的に移動する移動機構とを有し、前記電
極パターンを形成する材料を前記ブランケットローラと
前記基板載置部上に載置した基板との間に挟み込むこと
により、前記基板上に所定の電極パターンを転写して形
成する機構を有するプラズマディスプレイパネルの電極
パターン形成装置。6. A printing plate having a predetermined electrode pattern, a roller for applying a material for forming the electrode pattern to the printing plate, a blanket roller for transferring the material from the printing plate, and forming the electrode pattern. And a moving mechanism for relatively moving the blanket roller and the substrate mounting section. A material for forming the electrode pattern is transferred to the blanket roller and the substrate mounting section. An electrode pattern forming apparatus for a plasma display panel, comprising: a mechanism for transferring and forming a predetermined electrode pattern on a substrate by sandwiching the electrode pattern between the substrate and a substrate mounted on a mounting portion.
特徴とする請求項5記載のプラズマディスプレイパネル
の電極パターン形成装置。7. The apparatus according to claim 5, wherein the printing plate is an intaglio plate having releasability.
とを特徴とする請求項5または6記載のプラズマディス
プレイパネルの電極パターン形成装置。8. The apparatus according to claim 5, wherein a cooling unit is provided in the substrate mounting unit.
ラズマディスプレイパネル上に形成する電極パターンよ
り大きめであることを特徴とする請求項5乃至7記載の
プラズマディスプレイパネルの電極パターン形成装置。9. The apparatus according to claim 5, wherein an electrode pattern formed on the printing plate is larger than an electrode pattern formed on the plasma display panel.
上に、再度、所定の電極パターンを重ねて形成すること
を特徴とする電極パターン形成方法。10. A method for forming an electrode pattern, wherein a predetermined electrode pattern is formed again on a predetermined electrode pattern formed on a substrate.
硬化した後、再度、所定の電極パターンを重ねて形成す
ることを特徴とする請求項9記載の電極パターン形成方
法。11. The method for forming an electrode pattern according to claim 9, wherein after the predetermined electrode pattern formed on the substrate is cured, the predetermined electrode pattern is formed again.
上面を平らにした後、再度、所定の電極パターンを重ね
て形成することを特徴とする請求項9または10記載の
電極パターン形成方法。12. The electrode pattern forming method according to claim 9, wherein a predetermined electrode pattern is formed again after the upper surface of the predetermined electrode pattern formed on the substrate is flattened.
板載置部に載置する工程と、前記電極パターンを有する
印刷版に当該電極パターンを形成する材料を塗布する工
程と、当該材料を前記印刷版からブランケットローラに
転写する工程と、当該ブランケットローラと前記基板載
置部とを相対的に移動する工程と、前記電極パターンを
形成する材料を前記ブランケットローラと前記基板載置
部上に固定した基板との間に挟み込むことにより前記基
板上に所定の電極パターンを転写する工程とを有するこ
とを特徴とした請求項9乃至11記載の電極パターン形
成方法。13. A step of mounting a substrate on which a predetermined electrode pattern is to be formed on a substrate mounting portion; a step of applying a material for forming the electrode pattern to a printing plate having the electrode pattern; Transferring from a printing plate to a blanket roller, relatively moving the blanket roller and the substrate mounting portion, and fixing a material for forming the electrode pattern on the blanket roller and the substrate mounting portion. And transferring a predetermined electrode pattern onto the substrate by sandwiching the electrode pattern between the substrate and the substrate.
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| JP (1) | JP2001110322A (en) |
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-
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060713 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20081031 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20081111 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090310 |