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JP2001189010A - Magnetic recording media - Google Patents

Magnetic recording media

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JP2001189010A
JP2001189010A JP37547699A JP37547699A JP2001189010A JP 2001189010 A JP2001189010 A JP 2001189010A JP 37547699 A JP37547699 A JP 37547699A JP 37547699 A JP37547699 A JP 37547699A JP 2001189010 A JP2001189010 A JP 2001189010A
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JP
Japan
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underlayer
magnetic
crystal
magnetic recording
recording medium
Prior art date
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JP37547699A
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Japanese (ja)
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Tomoyuki Maeda
知幸 前田
Satoru Kikitsu
哲 喜々津
Katsutaro Ichihara
勝太郎 市原
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP37547699A priority Critical patent/JP4091228B2/en
Publication of JP2001189010A publication Critical patent/JP2001189010A/en
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 fct構造を持つ磁性膜を用いた場合に、下
地層と磁性層との密着性を改善することができ、動作特
性に優れた面内または垂直磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板(1)と、基板(1)上に形成され
た下地層(21)と、下地層(21)上に形成された磁
性層(3)とを有する磁気記録媒体において、下地層
(21)はバルクで潮解性を示さない物質たとえば{1
00}配向のNaCl型結晶からなり、かつその格子定
数が3.52〜4.20Åであり、磁性層(3)はfc
t構造を持つ結晶粒からなり、かつ磁性金属元素および
貴金属元素を主成分とし、磁性金属元素はFe、Coお
よびNiからなる群より選択される少なくとも1種であ
り、貴金属元素はPt、Pd、AuおよびIrからなる
群より選択される少なくとも1種である。
(57) [PROBLEMS] To provide an in-plane or perpendicular magnetic recording medium which can improve the adhesion between an underlayer and a magnetic layer and has excellent operation characteristics when a magnetic film having an fct structure is used. provide. SOLUTION: In a magnetic recording medium having a substrate (1), an underlayer (21) formed on the substrate (1), and a magnetic layer (3) formed on the underlayer (21), The formation (21) is a bulk non-deliquescent substance, for example, $ 1
The magnetic layer (3) is composed of a NaCl type crystal having a crystal orientation of 00 ° and having a lattice constant of 3.52 to 4.20 °,
The magnetic metal element is composed of crystal grains having a t structure, and has a magnetic metal element and a noble metal element as main components. The magnetic metal element is at least one selected from the group consisting of Fe, Co, and Ni, and the noble metal element is Pt, Pd, It is at least one selected from the group consisting of Au and Ir.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度磁気記録に
適する磁性膜を備えた磁気記録媒体に関する。
The present invention relates to a magnetic recording medium provided with a magnetic film suitable for high-density magnetic recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年のコンピュータの処理速度向上に伴
って、情報の記録・再生を行う磁気記録装置(HDD)
には高速・高密度化が要求されている。現在、HDDの
記録方式としては、磁化が媒体面内方向に向いている面
内記録方式が主流である。しかし、より一層の高密度化
を考えると、磁化反転境界付近における減磁界が小さ
く、鋭い反転磁化が得られる垂直磁気記録の方が適して
いる。また、近年磁気記録媒体で問題になってきている
熱揺らぎ劣化に関しても、垂直媒体は面内記録媒体より
も膜厚を大きく設定することができるために劣化を低く
抑えることができる。
2. Description of the Related Art A magnetic recording apparatus (HDD) for recording / reproducing information with the recent increase in processing speed of a computer.
Requires high speed and high density. At present, the in-plane recording method in which the magnetization is directed in the in-plane direction of the medium is mainly used as the recording method of the HDD. However, considering higher density, perpendicular magnetic recording in which the demagnetizing field near the magnetization reversal boundary is small and sharp reversal magnetization is obtained is more suitable. Further, with respect to thermal fluctuation deterioration, which has recently become a problem in magnetic recording media, the perpendicular medium can be set to have a larger film thickness than the longitudinal recording medium, so that deterioration can be suppressed.

【0003】従来、垂直磁化膜としては、CoCrPt
をはじめとするCoCr系不規則合金磁化膜が主に研究
されてきた。しかし、垂直媒体においても将来的には熱
揺らぎ劣化が問題化することを考えると、従来のCoC
r系よりも垂直磁気異方性の大きな材料が必要となって
くる。その有力な候補として、Fe,CoおよびNiか
ら選択される少なくとも1種の磁性元素と、Pt,P
d,AuおよびIrから選択される少なくとも1種の貴
金属元素とが規則相を形成する、規則相合金系材料の研
究が盛んに行われるようになってきている。特に、fc
t結晶構造を持つ規則合金であるFePtとCoPt
は、それぞれ7×107erg/ccおよび4×107
rg/ccという大きな磁気異方性をc軸方向に有する
ことが知られている。
Conventionally, CoCrPt has been used as a perpendicular magnetization film.
And other CoCr-based disordered alloy magnetized films have been mainly studied. However, considering that thermal fluctuation degradation will become a problem in the perpendicular medium in the future, the conventional CoC
A material having a larger perpendicular magnetic anisotropy than that of the r-type is required. As promising candidates, at least one magnetic element selected from Fe, Co and Ni, and Pt, P
Research on ordered phase alloy-based materials in which at least one noble metal element selected from d, Au, and Ir forms an ordered phase has been actively conducted. In particular, fc
FePt and CoPt are ordered alloys with t crystal structure
Are 7 × 10 7 erg / cc and 4 × 10 7 e, respectively.
It is known to have a large magnetic anisotropy of rg / cc in the c-axis direction.

【0004】このようにc軸方向に大きな磁気異方性を
持つ多結晶薄膜を面内または垂直磁気記録媒体に適用す
るには、各結晶粒を配向成長させる必要がある。一般的
な磁気記録層の形成方法であるスパッタリングを用いて
磁気記録層の配向を制御する有力な方法として、ある結
晶性を持つ下地の上に磁性薄膜を積層する方法が挙げら
れる。これに加えて、磁性薄膜の成膜後および/または
成膜中にアニールすることもある。
In order to apply a polycrystalline thin film having a large magnetic anisotropy in the c-axis direction to an in-plane or perpendicular magnetic recording medium, it is necessary to grow each crystal grain in an oriented manner. As an effective method of controlling the orientation of the magnetic recording layer by using sputtering, which is a general method of forming a magnetic recording layer, a method of laminating a magnetic thin film on a base having a certain crystallinity is exemplified. In addition, annealing may be performed after and / or during the formation of the magnetic thin film.

【0005】具体的には、{100}配向したMgO単
結晶基板上に垂直磁化膜を堆積する方法や、ガラスなど
の非晶質基板上に下地層としてMgO薄膜またはMgO
薄膜とCrなどのシード層もしくはPtなどのバッファ
ー層との積層膜を堆積し、その上に垂直磁化膜を堆積す
る方法が開示されている(特開平9−320847号公
報)。
More specifically, a method of depositing a perpendicular magnetization film on a {100} oriented MgO single crystal substrate, or a method of depositing a MgO thin film or MgO film as an underlayer on an amorphous substrate such as glass.
A method is disclosed in which a laminated film of a thin film and a seed layer such as Cr or a buffer layer such as Pt is deposited, and a perpendicular magnetization film is deposited thereon (JP-A-9-320847).

【0006】しかし、上記のような下地層を用いた場
合、格子整合の悪さから下地層とその上の磁性層との間
に内部応力が発生しやすく、成膜中または磁気記録媒体
としての動作中の熱負荷により磁性層の付着力が低下
し、膜剥離が起こるという問題が発生している。
However, when the underlayer as described above is used, internal stress is likely to be generated between the underlayer and the magnetic layer thereover due to poor lattice matching. There is a problem that the adhesive force of the magnetic layer is reduced due to the heat load inside and the film is peeled off.

【0007】特に、MgOは磁性層との格子整合性の悪
さに加えて、空気中の水分や二酸化炭素と反応して潮解
性を示すため化学的にも不安定である。このため、Mg
Oは基板および磁性層または他の下地層との密着性が著
しく低下するという問題がある。
In particular, MgO is chemically unstable because it reacts with moisture or carbon dioxide in the air and shows deliquescence, in addition to poor lattice matching with the magnetic layer. For this reason, Mg
O has a problem that adhesion to a substrate and a magnetic layer or another underlayer is significantly reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Fe
Pt規則合金に代表されるfct構造を持つ磁性膜を用
いた場合に、下地層と磁性層との格子整合の悪さに起因
する内部応力のために膜剥離が発生しやすいという問題
を解決し、動作特性に優れた面内または垂直磁気記録媒
体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing Fe
In the case where a magnetic film having an fct structure represented by a Pt ordered alloy is used, the problem that film peeling easily occurs due to internal stress caused by poor lattice matching between the underlayer and the magnetic layer, An object of the present invention is to provide an in-plane or perpendicular magnetic recording medium having excellent operation characteristics.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、基板と、前記基板上に形成された下地層と、前記下
地層上に形成された磁性層と、前記磁性層上に形成され
た保護膜とを有する磁気記録媒体において、前記下地層
はバルクで潮解性を示さない物質から構成されることを
特徴とする。
A magnetic recording medium according to the present invention comprises a substrate, an underlayer formed on the substrate, a magnetic layer formed on the underlayer, and a magnetic layer formed on the magnetic layer. Wherein the underlayer is made of a bulk material that does not show deliquescence.

【0010】本発明において、前記磁性層はfct構造
を持つ結晶粒からなり、かつ磁性金属元素および貴金属
元素を主成分とし、前記磁性金属元素はFe、Coおよ
びNiからなる群より選択される少なくとも1種であ
り、前記貴金属元素はPt、Pd、AuおよびIrから
なる群より選択される少なくとも1種である。
In the present invention, the magnetic layer is made of crystal grains having an fct structure and contains a magnetic metal element and a noble metal element as main components, and the magnetic metal element is at least selected from the group consisting of Fe, Co and Ni. One kind, and the noble metal element is at least one kind selected from the group consisting of Pt, Pd, Au and Ir.

【0011】本発明においては、前記下地層として、
{100}配向のNaCl型結晶からなり、かつその格
子定数が3.52〜4.20Åであるものが用いられ
る。前記下地層を構成するNaCl型結晶としては、具
体的には、CrN、NiO、TiO、VO、VNおよび
VCからなる群より選択される少なくとも1種が挙げら
れる。
In the present invention, as the underlayer,
A {100} oriented NaCl-type crystal having a lattice constant of 3.52 to 4.20 is used. Specific examples of the NaCl-type crystal constituting the underlayer include at least one selected from the group consisting of CrN, NiO, TiO, VO, VN, and VC.

【0012】本発明においては、前記下地層として、
{100}配向のCsCl型結晶からなり、かつその格
子定数が2.49〜3.00Åであるものを用いてもよ
い。
In the present invention, as the underlayer,
It may be made of a {100} oriented CsCl type crystal having a lattice constant of 2.49 to 3.00%.

【0013】本発明においては、前記下地層として、
{001}配向のL10型構造または{001}配向の
L12型構造を有する金属間化合物からなり、かつその
格子定数が3.52〜4.20Åであるものを用いても
よい。
In the present invention, as the underlayer,
{001} consists L1 0 type structure or {001} intermetallic compound having an L1 2 type structure in the orientation of the orientation and the lattice constant may be used as a 3.52~4.20A.

【0014】本発明においては、前記下地層と前記磁性
層との間に{100}配向のfcc結晶粒からなる第2
の下地層を設けてもよい。fcc結晶粒からなる前記第
2の下地層の格子定数は3.52〜4.20Åであるこ
とが好ましい。fcc結晶粒からなる前記第2の下地層
としては、Ag、Al、Au、Cu、Ir、Ni、P
t、PdおよびRhからなる群より選択される少なくと
も1種を含有する元素、合金または化合物からなるもの
が挙げられる。
In the present invention, a second layer composed of {100} oriented fcc crystal grains is provided between the underlayer and the magnetic layer.
May be provided. The lattice constant of the second underlayer made of fcc crystal grains is preferably 3.52 to 4.20 °. Ag, Al, Au, Cu, Ir, Ni, P
Examples include elements, alloys, and compounds containing at least one selected from the group consisting of t, Pd, and Rh.

【0015】本発明においては、前記下地層と前記磁性
層との間に{100}配向のbcc結晶粒からなる第2
の下地層を設けてもよい。bcc結晶粒からなる前記第
2の下地層の格子定数が2.49〜3.00Åであるこ
とが好ましい。bcc結晶粒からなる前記第2の下地層
としては、CrおよびFeからなる群より選択される少
なくとも1種を含有する元素、合金または化合物からな
るものが挙げられる。
In the present invention, a second layer composed of {100} oriented bcc crystal grains is provided between the underlayer and the magnetic layer.
May be provided. It is preferable that the lattice constant of the second underlayer made of bcc crystal grains is 2.49 to 3.00 °. Examples of the second underlayer composed of bcc crystal grains include those composed of an element, alloy or compound containing at least one selected from the group consisting of Cr and Fe.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明をより詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0017】本発明において、基板としては、ガラス、
セラミックスなどの非晶質または多結晶質の材料が用い
られる。硬質の材料からなる基板本体に金属またはセラ
ミックスなどを堆積したものを基板として用いてもよ
い。その他、Si、MgO、Al23等の単結晶基板を
用いることができる。
In the present invention, the substrate is glass,
An amorphous or polycrystalline material such as ceramics is used. A substrate obtained by depositing metal or ceramics on a substrate body made of a hard material may be used as the substrate. In addition, a single crystal substrate of Si, MgO, Al 2 O 3 or the like can be used.

【0018】本発明においては、基板上に下地層および
磁性層の薄膜が形成される。薄膜形成方法としては、真
空蒸着法、スパッタリング法、化学気相成長法、レーザ
ーアブレーション法を用いることができる。下地層およ
び/または磁性層の成膜の際に、基板を120〜800
℃に加熱すると、磁性層の規則化が進行して望ましい場
合がある。基板を加熱する代わりに、基板にRFおよび
/またはDC電力を投入するバイアススパッタ、基板へ
のイオンや中性粒子の照射などを行ってもよい。これら
の処理は成膜中だけでなく、成膜後または成膜前に行っ
てもよい。
In the present invention, a thin film of an underlayer and a magnetic layer is formed on a substrate. As a method for forming a thin film, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or a laser ablation method can be used. When forming the underlayer and / or the magnetic layer, the substrate is
Heating to ° C. may be desirable because the ordering of the magnetic layer proceeds. Instead of heating the substrate, bias sputtering for applying RF and / or DC power to the substrate, irradiation of ions or neutral particles to the substrate, or the like may be performed. These processes may be performed not only during film formation but also after film formation or before film formation.

【0019】本発明において、磁性層はfct構造を持
つ結晶粒からなり、かつ磁性金属元素および貴金属元素
を主成分とするものが用いられる。前記磁性金属元素は
Fe、CoおよびNiからなる群より選択される少なく
とも1種であり、前記貴金属元素はPt、Pd、Auお
よびIrからなる群より選択される少なくとも1種であ
る。磁性層の特性向上のために、Ta、W、Mo、B等
の他の元素を添加してもよい。本発明において、磁性層
は磁性粒子間に非磁性体であるCr等の金属またはSi
2等の誘電体が存在する構成でもよい。本発明におい
て、磁性層は特性の異なる2層以上の磁性層を積層させ
たものでもよい。この場合、積層している磁性層間には
交換結合相互作用、静磁結合相互作用のいずれかまたは
両方が作用していてもよい。2層以上の磁性層間に1層
以上の非磁性層が存在していてもよい。このような磁性
層の構成は、システムが要求する磁気特性や製造プロセ
スによって決定されるものである。
In the present invention, the magnetic layer is composed of crystal grains having an fct structure and contains a magnetic metal element and a noble metal element as main components. The magnetic metal element is at least one selected from the group consisting of Fe, Co and Ni, and the noble metal element is at least one selected from the group consisting of Pt, Pd, Au and Ir. Other elements such as Ta, W, Mo, and B may be added to improve the properties of the magnetic layer. In the present invention, the magnetic layer is formed of a non-magnetic metal such as Cr or Si between magnetic particles.
A configuration in which a dielectric such as O 2 exists may be used. In the present invention, the magnetic layer may be formed by laminating two or more magnetic layers having different characteristics. In this case, either or both of the exchange coupling interaction and the magnetostatic coupling interaction may be acting between the stacked magnetic layers. One or more nonmagnetic layers may be present between two or more magnetic layers. The configuration of such a magnetic layer is determined by the magnetic characteristics required by the system and the manufacturing process.

【0020】本発明の媒体を垂直磁気記録媒体として用
いる場合には、磁性結晶粒子はc軸が膜面垂直方向に配
向したfct構造をとる必要がある。ただし、この条件
を全ての粒子が満たしている必要はなく、fct構造で
ある粒子の割合は6割以上であればよく、8割以上であ
ることがより好ましい。c軸配向性に関しては、配向軸
の標準偏差が10°以内であればよく、5°以内である
ことがより好ましい。
When the medium of the present invention is used as a perpendicular magnetic recording medium, the magnetic crystal grains must have an fct structure in which the c-axis is oriented in the direction perpendicular to the film surface. However, not all particles need to satisfy this condition, and the proportion of particles having the fct structure may be 60% or more, and more preferably 80% or more. Regarding the c-axis orientation, the standard deviation of the orientation axis may be within 10 °, more preferably within 5 °.

【0021】磁性層を構成する結晶粒子が規則化してい
るかどうかは、一般的なX線回折装置で確認することが
できる。(001)、(002)、(003)面を表す
ピークがそれぞれ観察できれば、fct構造が存在し、
かつc軸が膜面に垂直に配向しているといえる。(00
1)、(002)、(003)面を表すピークの強度は
具体的にはバックグラウンドレベルに対して有意なピー
クとして観察される強度であればよい。また、面内配向
を示す(111)のピークが観察されても、(00
1)、(002)、(003)面を表すピークがより大
きな強度(100倍以上)で観察できれば、c軸が膜面
に垂直に配向しているといえる。また、磁性粒子が10
nm程度に小さくなり、隣接粒子との間に結晶格子の相
関性(コヒーレンシー)が小さい場合、c軸が膜面に垂
直配向していてもX線回折ではアモルファスのように見
える場合もある。このような場合には透過型電子顕微鏡
(TEM)などによる微細構造観察を行うことで、c軸
の膜面垂直配向を確認することができる。
Whether or not the crystal grains constituting the magnetic layer are regular can be confirmed by a general X-ray diffractometer. If the peaks representing the (001), (002), and (003) planes can be respectively observed, the fct structure exists,
In addition, it can be said that the c-axis is oriented perpendicular to the film surface. (00
Specifically, the intensity of the peaks representing the (1), (002), and (003) planes may be any intensity that is observed as a peak that is significant relative to the background level. Further, even if a (111) peak indicating in-plane orientation is observed, (00)
If the peaks representing the (1), (002), and (003) planes can be observed with higher intensity (100 times or more), it can be said that the c-axis is oriented perpendicular to the film surface. In addition, when the magnetic particles are 10
If the correlation (coherency) of the crystal lattice with the adjacent particles is small, it may appear as amorphous by X-ray diffraction even if the c-axis is oriented perpendicular to the film surface. In such a case, by observing the fine structure using a transmission electron microscope (TEM) or the like, the c-axis perpendicular to the film surface can be confirmed.

【0022】磁性層の膜厚は、システムの要求値によっ
て決定されるが、一般的に200nmより薄いことが好
ましく、50nmより薄いことがより好ましい。ただ
し、0.5nmより薄いと連続膜にならず、磁気記録媒
体には適しない。
The thickness of the magnetic layer is determined by the required value of the system, but is generally preferably smaller than 200 nm, more preferably smaller than 50 nm. However, if the thickness is less than 0.5 nm, the film does not become a continuous film and is not suitable for a magnetic recording medium.

【0023】本発明において、下地層は磁性層の磁気記
録媒体としての機能を補強するために磁性層と基板との
間に挿入される薄膜である。下地層は1つの材料からな
る層でもよいし、いくつかの層から構成される多層膜で
あってもよい。下地層が上記の要件を満たしていれば、
必ずしも薄膜状である必要もない。
In the present invention, the underlayer is a thin film inserted between the magnetic layer and the substrate to reinforce the function of the magnetic layer as a magnetic recording medium. The underlayer may be a layer composed of one material or a multilayer film composed of several layers. If the underlayer meets the above requirements,
It need not necessarily be a thin film.

【0024】本発明において用いられる下地層は、バル
クで潮解性を示さない物質から構成されている。下地層
として潮解性を示す物質を用いた場合、下地層が空気中
の水分を吸収するため、その部分での膜の密着性が著し
く低下し、好ましくない。潮解性を示す物質としては、
周期律表の1族および2族の金属元素およびその酸化物
などが挙げられる。
The underlayer used in the present invention is made of a substance which does not show deliquescence in bulk. It is not preferable to use a deliquescent substance as the underlayer, because the underlayer absorbs moisture in the air, and the adhesion of the film at that portion is significantly reduced. As deliquescent substances,
Examples include metal elements of Group 1 and Group 2 of the periodic table and oxides thereof.

【0025】ここで、fct構造の磁性層をc軸配向さ
せるためには、格子整合性を考慮すれば、下地層として
は磁性層と格子定数が近く、(100)面が磁性層と同
じ構造をしているfcc結晶を{100}配向させるの
が望ましい。しかし、単元素fcc金属は、ガラス基板
や多結晶基板などの格子間隔に直接の対応がとれない基
板に対して{100}配向を得るのが困難である。これ
に対して、本発明では特定の下地層を用いることにより
基板および磁性層の両方に対する良好な格子整合性を得
ることに特徴がある。
Here, in order to make the magnetic layer having the fct structure c-axis oriented, the lattice constant is close to that of the magnetic layer as the underlayer and the (100) plane has the same structure as the magnetic layer in consideration of lattice matching. It is desirable to orient the fcc crystal with {100} orientation. However, it is difficult for a single element fcc metal to obtain a {100} orientation with respect to a substrate such as a glass substrate or a polycrystalline substrate that cannot directly correspond to the lattice spacing. On the other hand, the present invention is characterized in that good lattice matching with both the substrate and the magnetic layer is obtained by using a specific underlayer.

【0026】本発明の1つの実施形態においては、下地
層が{100}配向のNaCl型結晶からなる薄膜から
なっている。NaCl型結晶はガラス基板や多結晶基板
などの基板上で{100}配向膜が得られやすく、かつ
格子が面心立方格子であるため磁性層を構成する結晶粒
子のc軸を膜面に対して垂直方向に配向させるのに有効
である。NaCl型結晶は、fct規則合金結晶粒子か
らなる磁性層との格子整合を考慮すると、一般式M−G
(MはTi、Ta、V、Cr、Co、FeおよびNiか
らなる群より選択される少なくとも1種、GはB、C、
NおよびOからなる群より選択される少なくとも1種)
で表される材料からなることが好ましい。具体的には、
NaCl型結晶をなす材料として、現状の技術で作製が
容易な、CrN、NiO、TiO、VO、VNおよびV
Cなどが挙げられる。NaCl型結晶に1種以上の他の
元素が添加されていてもよい。磁性層の結晶配向性や磁
性層との格子整合性が満たされる限りにおいては、他の
元素が添加された結果として下地層がNaCl型とは異
なる結晶型をとってもよい。NaCl型結晶からなる下
地層の格子定数は3.52〜4.20Åであることが好
ましい。
In one embodiment of the present invention, the underlayer is made of a thin film made of a {100} oriented NaCl type crystal. In the case of NaCl-type crystals, a {100} oriented film is easily obtained on a substrate such as a glass substrate or a polycrystalline substrate, and the lattice is a face-centered cubic lattice. This is effective to orient vertically. The NaCl type crystal has a general formula MG when considering lattice matching with a magnetic layer composed of fct ordered alloy crystal grains.
(M is at least one selected from the group consisting of Ti, Ta, V, Cr, Co, Fe and Ni, G is B, C,
At least one selected from the group consisting of N and O)
It is preferable to consist of the material represented by these. In particular,
CrN, NiO, TiO, VO, VN, VN
C and the like. One or more other elements may be added to the NaCl-type crystal. As long as the crystal orientation of the magnetic layer and the lattice matching with the magnetic layer are satisfied, the underlayer may have a crystal type different from the NaCl type as a result of the addition of other elements. It is preferable that the lattice constant of the underlayer made of the NaCl type crystal is 3.52 to 4.20 °.

【0027】本発明の他の実施形態においては、下地層
が{100}配向のCsCl型結晶からなる薄膜からな
っている。CsCl型結晶はガラス基板や多結晶基板な
どの基板上で{100}配向膜が得られやすく、かつそ
の{100}面がfct結晶の{001}面と格子整合
し得るため磁性層を構成する結晶粒子のc軸を膜面に対
して垂直方向に配向させるのに有効である。CsCl型
結晶としては、CuPd、MnAl、NiAlなど、多
数のものが挙げられる。これらの物質は、バルク状態に
おいてfct磁性層との格子整合が良好でfct磁性層
を垂直配向させるのに適している。種々の実験により、
これらの物質をスパッタリング等によって基板上に堆積
させた場合においても、バルク物質と同等の格子整合が
得られることが明らかになった。CsCl結晶に1種以
上の他の元素が添加されていてもよい。磁性層の結晶配
向性や磁性層との格子整合性が満たされる限りにおいて
は、CsCl結晶に他の元素が添加された結果としてC
sCl型とは異なる結晶型をとってもよい。CsCl型
結晶からなる下地層の格子定数は2.49〜3.00Å
であることが好ましい。
In another embodiment of the present invention, the underlayer is made of a thin film made of {100} oriented CsCl type crystal. The CsCl-type crystal forms a magnetic layer because a {100} oriented film is easily obtained on a substrate such as a glass substrate or a polycrystalline substrate, and the {100} plane can be lattice-matched to the {001} plane of the fct crystal. This is effective for orienting the c-axis of the crystal grain in a direction perpendicular to the film surface. As the CsCl-type crystal, a large number of crystals such as CuPd, MnAl, and NiAl can be cited. These substances have good lattice matching with the fct magnetic layer in the bulk state and are suitable for vertically orienting the fct magnetic layer. Through various experiments,
It has been clarified that even when these substances are deposited on a substrate by sputtering or the like, lattice matching equivalent to that of a bulk substance can be obtained. One or more other elements may be added to the CsCl crystal. As long as the crystal orientation of the magnetic layer and the lattice matching with the magnetic layer are satisfied, as a result of adding other elements to the CsCl crystal, C
A crystal type different from the sCl type may be used. The lattice constant of the underlayer made of the CsCl type crystal is 2.49 to 3.00 °.
It is preferred that

【0028】本発明のさらに他の実施形態においては、
下地層が{001}配向のL10型構造または{00
1}配向のL12型構造を有する金属間化合物からなっ
ている。{001}配向のL10型構造または{00
1}配向のL12型構造を有する金属間化合物はガラス
基板や多結晶基板などの基板上でそれぞれ{001}配
向膜または{100}配向膜が得られやすく、かつ格子
が面心立方格子であるため磁性層を構成する結晶粒子の
c軸を膜面に対して垂直方向に配向させるのに有効であ
る。このような金属間化合物からなる下地層の格子定数
は3.52〜4.20Åであることが好ましい。
In still another embodiment of the present invention,
L1 underlayer {001} orientation 0 type structure or {00
1} is made of an intermetallic compound having an L1 2 -type structure orientation. {001} orientation of L1 0 type structure or {00
1} intermetallic compound having an L1 2 -type structure orientations respectively on a substrate such as a glass substrate or a polycrystalline substrate {001} easily obtained alignment film, or {100} orientation film, and the lattice is in face-centered cubic lattice Therefore, it is effective to orient the c-axis of crystal grains constituting the magnetic layer in a direction perpendicular to the film surface. The lattice constant of the underlayer made of such an intermetallic compound is preferably 3.52 to 4.20 °.

【0029】本発明においては、上記のNaCl結晶や
CsCl結晶などからなる(第1の)下地層と磁性層と
の間に{100}配向のfcc結晶粒からなる第2の下
地層を積層してもよい。基本的には、第1下地層/fc
c第2下地層/fct磁性層の順に積層すればよい。た
だし、各層間で良好な格子整合性を得ることが目的であ
るので、この目的が達成できる限りにおいては、各層の
間に他の層(薄膜状でなくてもよい)が挿入されていて
もよい。fcc結晶の{100}面はfct結晶の{0
01}面と幾何学的に同じ構造であり、第1の下地層に
よっておおむね配置が一致している原子サイトをfct
磁性層の格子定数により近い格子定数を持つものにする
ことができる。
In the present invention, a second underlayer made of {100} oriented fcc crystal grains is laminated between the (first) underlayer made of the above NaCl crystal or CsCl crystal and the magnetic layer. You may. Basically, the first underlayer / fc
It may be laminated in the order of c second underlayer / fct magnetic layer. However, since the purpose is to obtain good lattice matching between the layers, as long as this purpose can be achieved, another layer (not necessarily a thin film) may be inserted between the layers. Good. The {100} plane of the fcc crystal is the {0} of the fct crystal.
Atomic sites that have the same geometrical structure as the {01} plane and whose arrangement is substantially the same by the first underlayer are fct
The magnetic layer can have a lattice constant closer to that of the magnetic layer.

【0030】fcc結晶粒からなる第2の下地層と磁性
層との格子整合性を考えた場合、その格子定数は3.5
2〜4.20Åであることが好ましい。この条件を満た
す物質は、バルク状態においてfct磁性層との格子整
合が良好でfct磁性層を垂直配向させるのに適してい
る。具体的には、fcc結晶粒からなる第2の下地層と
して、Ag、Al、Au、Cu、Ir、Ni、Pt、P
dおよびRhからなる群より選択される少なくとも1種
を含む元素、合金または化合物を用いることができる。
種々の実験により、これらの物質をスパッタリング等に
よって第1の下地層上に堆積させた場合においても、バ
ルク物質と同等の格子整合が得られることが明らかにな
った。fcc結晶に1種以上の他の元素が添加されてい
てもよい。磁性層の結晶配向性や磁性層との格子整合性
が満たされる限りにおいては、第2の下地層に他の元素
が添加された結果としてfcc型とは異なる結晶型をと
ってもよい。
Considering the lattice matching between the second underlayer made of fcc crystal grains and the magnetic layer, the lattice constant is 3.5.
Preferably it is 2 to 4.20 °. A substance that satisfies this condition has good lattice matching with the fct magnetic layer in the bulk state, and is suitable for vertically orienting the fct magnetic layer. Specifically, Ag, Al, Au, Cu, Ir, Ni, Pt, and P are used as the second underlayer made of fcc crystal grains.
An element, alloy or compound containing at least one selected from the group consisting of d and Rh can be used.
Various experiments have revealed that even when these materials are deposited on the first underlayer by sputtering or the like, lattice matching equivalent to that of a bulk material can be obtained. One or more other elements may be added to the fcc crystal. As long as the crystal orientation of the magnetic layer and the lattice matching with the magnetic layer are satisfied, a crystal type different from the fcc type may be obtained as a result of adding another element to the second underlayer.

【0031】本発明においては、上記のNaCl結晶や
CsCl結晶などからなる(第1の)下地層と磁性層と
の間に{100}配向のbcc結晶粒からなる第2の下
地層を積層してもよい。基本的には、第1下地層/bc
c第2下地層/fct磁性層の順に積層すればよい。た
だし、各層間で良好な格子整合性を得ることが目的であ
るので、この目的が達成できる限りにおいては、各層の
間に他の層(薄膜状でなくてもよい)が挿入されていて
もよい。図3に示すように、bcc結晶の{200}面
とfct結晶の{001}面は格子整合することが可能
である。したがって、第1の下地層によっておおむね配
置が一致している原子サイトをfct磁性層の格子定数
により近い格子定数を持つものにすることができる。
In the present invention, a second underlayer made of {100} oriented bcc crystal grains is laminated between the (first) underlayer made of the above NaCl crystal or CsCl crystal and the magnetic layer. You may. Basically, the first underlayer / bc
It may be laminated in the order of c second underlayer / fct magnetic layer. However, since the purpose is to obtain good lattice matching between the layers, as long as this purpose can be achieved, another layer (not necessarily a thin film) may be inserted between the layers. Good. As shown in FIG. 3, the {200} plane of the bcc crystal and the {001} plane of the fct crystal can be lattice-matched. Therefore, it is possible to make the atomic sites whose arrangement is substantially the same by the first underlayer have a lattice constant closer to the lattice constant of the fct magnetic layer.

【0032】bcc結晶粒からなる第2の下地層と磁性
層との格子整合性を考えた場合、その格子定数は2.4
9〜3.00Åであることが好ましい。この条件を満た
す物質は、バルク状態においてfct磁性層との格子整
合が良好でfct磁性層を垂直配向させるのに適してい
る。具体的には、bcc結晶粒からなる第2の下地層と
して、CrおよびFeからなる群より選択される少なく
とも1種を含む元素、合金または化合物を用いることが
できる。種々の実験により、これらの物質をスパッタリ
ング等によって第1の下地層上に堆積させた場合におい
ても、バルク物質と同等の格子整合が得られることが明
らかになった。bcc結晶に1種以上の他の元素が添加
されていてもよい。磁性層の結晶配向性や磁性層との格
子整合性が満たされる限りにおいては、第2の下地層に
他の元素が添加された結果としてbcc型とは異なる結
晶型をとってもよい。
In consideration of the lattice matching between the second underlayer made of bcc crystal grains and the magnetic layer, the lattice constant is 2.4.
It is preferably 9 to 3.00 °. A substance that satisfies this condition has good lattice matching with the fct magnetic layer in the bulk state, and is suitable for vertically orienting the fct magnetic layer. Specifically, an element, alloy or compound containing at least one selected from the group consisting of Cr and Fe can be used as the second underlayer made of bcc crystal grains. Various experiments have revealed that even when these materials are deposited on the first underlayer by sputtering or the like, lattice matching equivalent to that of a bulk material can be obtained. One or more other elements may be added to the bcc crystal. As long as the crystal orientation of the magnetic layer and the lattice matching with the magnetic layer are satisfied, a crystal type different from the bcc type may be obtained as a result of adding another element to the second underlayer.

【0033】本発明において、(第1の)下地層として
NaCl型結晶、CsCl型結晶、またはL10型構造
もしくはL12型構造を有する金属間化合物のいずれを
用いるかは、また第2の下地層としてfcc結晶または
bcc結晶のいずれを用いるかは、磁性層などの他の層
の材料および形成方法に依存する。製造コストを考慮し
た場合、第2の下地層を用いないことが好ましい場合も
ある。
[0033] In the present invention, (first) NaCl-type crystal as the base layer, the one or use of CsCl-type crystal, or L1 0 type structure or an intermetallic compound having an L1 2 type structure, and the second under the Whether the fcc crystal or the bcc crystal is used as the base layer depends on the material and the forming method of another layer such as the magnetic layer. In consideration of manufacturing cost, it may be preferable not to use the second underlayer.

【0034】[0034]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。以下の実施例においては、図1または図2に示す
構造を有する磁気記録媒体を作製した。図1の磁気記録
媒体は、基板1上に、下地層21、磁性層3、および保
護層4を積層した構造を有する。図2の磁気記録媒体
は、基板1上に、下地層21、第2の下地層22、磁性
層3、および保護層4を積層した構造を有する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following examples, magnetic recording media having the structure shown in FIG. 1 or 2 were manufactured. The magnetic recording medium of FIG. 1 has a structure in which an underlayer 21, a magnetic layer 3, and a protective layer 4 are stacked on a substrate 1. The magnetic recording medium of FIG. 2 has a structure in which an underlayer 21, a second underlayer 22, a magnetic layer 3, and a protective layer 4 are stacked on a substrate 1.

【0035】作製した磁性層の微細構造はX線回折法を
用いて評価した。図4に一例としてガラス基板/VO下
地層/FePt磁性層からなる試料のX線回折プロファ
イルを示す。図4では、FePt(001)、(00
2)、(003)ピークが有意な強度で観測されてい
る。このことから、FePt規則相が形成され、(00
1)配向していることがわかる。本発明に含まれる他の
下地層を用いた場合にも同様にFePt規則相の(00
1)配向が確認された。
The microstructure of the manufactured magnetic layer was evaluated by using an X-ray diffraction method. FIG. 4 shows an X-ray diffraction profile of a sample composed of a glass substrate / VO underlayer / FePt magnetic layer as an example. In FIG. 4, FePt (001), (00
2) and (003) peaks are observed with significant intensity. From this, an ordered FePt phase was formed and (00
1) It can be seen that they are oriented. Similarly, when another underlayer included in the present invention is used, the FePt ordered phase (00)
1) The orientation was confirmed.

【0036】なお、第1および第2の下地層の(10
0)配向または(001)配向もX線回折法により確認
できる。また、第1および第2の下地層の格子定数もX
線回折評価により推定できる。
The (10) of the first and second underlayers
The (0) orientation or (001) orientation can also be confirmed by X-ray diffraction. Also, the lattice constants of the first and second underlayers are also X
It can be estimated by line diffraction evaluation.

【0037】試料の密着性はJIS K5400−19
90に規定されている粘着テープを用いた剥離試験(碁
盤目テープ法)に準拠して以下のようにして評価した。
試料面にカッターナイフで1mm間隔に桝目の数が10
×10=100個となるように碁盤目状に切れ目を入れ
た後、粘着テープを貼り付け、消しゴムでこすってテー
プを完全に付着させた。テープを付着させてから1分後
に、テープの一方の端を持って瞬間的に引き剥がした。
引き剥がした後の傷の状態を観察し、JISK5400
−1990と同様に評価点数を与えた。表1に傷の状態
に応じた評価点数の評価基準を示す。
The adhesion of the sample was determined according to JIS K5400-19.
The evaluation was performed as follows based on a peel test (cross-cut tape method) using an adhesive tape specified in No. 90.
The number of cells on the sample surface was 10 at 1 mm intervals with a cutter knife.
After making cuts in a grid pattern so that x10 = 100 pieces, an adhesive tape was stuck and rubbed with an eraser to completely adhere the tape. One minute after the tape was applied, one end of the tape was gripped and pulled off momentarily.
Observe the condition of the wound after peeling it off and observe JIS K5400
Evaluation scores were given as in -1990. Table 1 shows the evaluation criteria of the evaluation score according to the state of the scratch.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】密着性と磁気記録媒体としての特性との関
係は以下のようにして調べた。例として2.5インチガ
ラス基板上に、DCスパッタリングにより、70nmの
Cr下地層、15nmのCoCrPt磁性層、および1
0nmのカーボン保護層を順次堆積したディスク試料を
作製した。その際、Cr下地層の成膜前にガラス基板に
スパッタエッチング処理を施した。また、Cr下地層の
スパッタ圧力を0.1〜10Paの範囲で変化させた。
スパッタエッチング処理の有無およびスパッタ圧力の違
いにより、密着性指標の異なる13個の試料を作製し
た。これらの試料に対して、磁気ヘッドを接触摺動させ
るコンタクト−スタート−ストップ(CSS)実験を行
った。AEセンサーによる異常音発生と目視による検査
により、媒体が破壊されるまでの摺動回数を測定し、そ
の対数値をCSS耐性とした。図5に密着性指標とCS
S耐性との関係を示す。図5から、密着性指標8以上に
おいて、CSS動作に問題のない磁気記録媒体が得られ
ることがわかった。
The relationship between the adhesion and the characteristics as a magnetic recording medium was examined as follows. As an example, a 70 nm Cr underlayer, a 15 nm CoCrPt magnetic layer, and
Disk samples were prepared by sequentially depositing a 0 nm carbon protective layer. At that time, the glass substrate was subjected to sputter etching before the formation of the Cr underlayer. Also, the sputtering pressure of the Cr underlayer was changed in the range of 0.1 to 10 Pa.
Thirteen samples with different adhesion indices were produced depending on the presence or absence of sputter etching and the difference in sputtering pressure. For these samples, a contact-start-stop (CSS) experiment in which a magnetic head was brought into contact and sliding was performed. The number of times of sliding until the medium was destroyed was measured by abnormal sound generation by the AE sensor and visual inspection, and the logarithmic value was taken as CSS resistance. Figure 5 shows the adhesion index and CS.
The relationship with S resistance is shown. From FIG. 5, it was found that a magnetic recording medium having no problem in CSS operation can be obtained when the adhesion index is 8 or more.

【0040】格子定数と密着性指標との関係は以下のよ
うにして調べた。例としてガラス基板/VN第1下地層
/第2下地層/FeNiPt磁性層/Pt保護層という
構造の試料を作製した。ここで、第2の下地層として、
fcc結晶であるPb、Pt、Ni、Ir、Auより複
数の元素を選択して組成を変えることにより、格子定数
を変えたものを形成した。これらの試料について、第2
の下地層の格子定数と密着性指標(評価点数)との関係
を調べた。図6にその結果を示す。この図から、fcc
結晶からなる第2の下地層を用いる場合、その格子定数
が3.52〜4.20Åであれば、好ましい密着性(評
価点数8点以上)が得られることがわかった。
The relationship between the lattice constant and the adhesion index was examined as follows. As an example, a sample having a structure of glass substrate / VN first underlayer / second underlayer / FeNiPt magnetic layer / Pt protective layer was prepared. Here, as the second underlayer,
By changing a composition by selecting a plurality of elements from Pb, Pt, Ni, Ir and Au which are fcc crystals, a crystal having a changed lattice constant was formed. For these samples, the second
The relationship between the lattice constant of the underlayer and the adhesion index (evaluation score) was examined. FIG. 6 shows the result. From this figure, fcc
When the second underlayer made of a crystal was used, it was found that favorable adhesion (evaluation score of 8 or more) was obtained when the lattice constant was 3.52 to 4.20 °.

【0041】また、ガラス基板/CrN第1下地層/第
2下地層/FePtIr磁性層/Pt保護層という構造
の試料を作製した。ここで、第2の下地層として、bc
c結晶であるV、Cr、Feより複数の元素を選択して
組成を変えることにより、格子定数を変えたものを形成
した。これらの試料について、第2の下地層の格子定数
と密着性指標(評価点数)との関係を調べた。その結
果、bcc結晶からなる第2の下地層を用いる場合、そ
の格子定数が2.49〜3.00Åであれば、好ましい
密着性(評価点数8点以上)が得られることがわかっ
た。
A sample having a structure of glass substrate / CrN first underlayer / second underlayer / FePtIr magnetic layer / Pt protective layer was prepared. Here, bc is used as the second underlayer.
By changing a composition by selecting a plurality of elements from V, Cr and Fe which are c crystals, a crystal having a changed lattice constant was formed. For these samples, the relationship between the lattice constant of the second underlayer and the adhesion index (evaluation score) was examined. As a result, it was found that in the case of using the second underlayer made of the bcc crystal, if the lattice constant was 2.49 to 3.00 °, favorable adhesion (eight or more evaluation points) could be obtained.

【0042】実施例1 下地層としてNaCl型結晶からなるものを用い、以下
のようにして図1に示す磁気記録媒体を作製した。
Example 1 A magnetic recording medium shown in FIG. 1 was manufactured as follows using a base layer made of NaCl type crystal.

【0043】ディスク状のガラス基板をマルチチャンバ
ーのスパッタリング装置内に入れ、真空チャンバー内の
圧力を2×10-5以下にして排気した後、0.67Pa
のAr雰囲気とし、RFスパッタリングにより10nm
のNaCl型結晶からなる下地層を成膜した。次の真空
チャンバー内で基板を500℃に加熱した状態で、DC
スパッタリングにより50nmの磁性層を成膜した。次
の真空チャンバー内でDCスパッタリングにより2nm
のPtからなる保護層を成膜した。
The disk-shaped glass substrate was placed in a multi-chamber sputtering apparatus, and the pressure in the vacuum chamber was reduced to 2 × 10 −5 or less, and the chamber was evacuated.
Ar atmosphere of 10 nm by RF sputtering
The underlayer made of the NaCl type crystal was formed. In a state where the substrate is heated to 500 ° C. in the next vacuum chamber, DC
A 50 nm magnetic layer was formed by sputtering. 2 nm by DC sputtering in the next vacuum chamber
A protective layer made of Pt was formed.

【0044】また、第1の下地層としてNaCl型結晶
からなるもの、第2の下地層としてfcc結晶またはb
cc結晶からなるものを用い、以下のようにして図2に
示す磁気記録媒体を作製した。
The first underlayer is made of NaCl type crystal, and the second underlayer is made of fcc crystal or b
A magnetic recording medium shown in FIG. 2 was manufactured as follows using a cc crystal.

【0045】上記と同様にして、ガラス基板上にRFス
パッタリングにより50nmのNaCl型結晶からなる
第1の下地層を成膜し、DCスパッタリングにより10
0nmのfcc結晶からなる第2の下地層を成膜し、基
板を500℃に加熱した状態でDCスパッタリングによ
り50nmの磁性層を成膜し、DCスパッタリングによ
り2nmのPtからなる保護層を成膜した。
In the same manner as described above, a 50 nm-thick first underlayer made of a NaCl-type crystal is formed on a glass substrate by RF sputtering, and a first underlayer is formed by DC sputtering.
A second underlayer made of a 0 nm fcc crystal is formed, a 50 nm magnetic layer is formed by DC sputtering while the substrate is heated to 500 ° C., and a 2 nm protective layer made of Pt is formed by DC sputtering. did.

【0046】同様に、ガラス基板上にRFスパッタリン
グにより50nmのNaCl型結晶からなる第1の下地
層を成膜し、DCスパッタリングにより50nmのbc
c結晶からなる第2の下地層を成膜し、基板を500℃
に加熱した状態でDCスパッタリングにより50nmの
磁性層を成膜し、DCスパッタリングにより2nmのP
tからなる保護層を成膜した。
Similarly, a first underlayer made of a 50 nm NaCl crystal is formed on a glass substrate by RF sputtering, and a 50 nm bc is formed by DC sputtering.
A second underlayer made of c-crystal is formed, and the substrate is heated to 500 ° C.
A magnetic layer having a thickness of 50 nm is formed by DC sputtering in a state where the magnetic layer is heated, and a P layer having a thickness of
A protective layer made of t was formed.

【0047】表2に使用した材料を示す。第1の下地層
としてMgOまたはTiB、第2の下地層としてPbま
たはVを用いた試料は比較例である。
Table 2 shows the materials used. Samples using MgO or TiB as the first underlayer and Pb or V as the second underlayer are comparative examples.

【0048】X線回折によれば、fcc結晶またはbc
c結晶の第2の下地層は(100)配向しており、磁性
層は主として(001)配向のfct構造をとっている
ことがわかった。また、作製した磁気記録媒体の磁気特
性をVSMを用いて評価した結果、全ての試料において
磁化容易方向が膜面に垂直な垂直磁化膜であることがわ
かった。
According to the X-ray diffraction, the fcc crystal or bc
It was found that the second underlayer of the c-crystal was (100) -oriented, and the magnetic layer mainly had the (001) -oriented fct structure. Further, as a result of evaluating the magnetic characteristics of the manufactured magnetic recording medium by using the VSM, it was found that all the samples were perpendicular magnetization films in which the easy magnetization direction was perpendicular to the film surface.

【0049】表2には密着性試験の評価点数を併記す
る。表2から第1の下地層または第1および第2の下地
層として適切な材料を用いた試料では、良好な密着性が
得られることがわかる。
Table 2 also shows the evaluation scores of the adhesion test. From Table 2, it can be seen that a sample using an appropriate material for the first underlayer or the first and second underlayers can obtain good adhesion.

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】なお、VO、NiO、TiOを酸素を分圧
で数%導入して反応性スパッタにより成膜した場合、V
N、CrNを窒素を導入して反応性スパッタにより成膜
した場合、VCをメタンなどの炭素源を導入して反応性
スパッタにより成膜した場合にも表2と同様な結果が得
られた。
When VO, NiO, and TiO are formed by reactive sputtering with oxygen being introduced at a partial pressure of several percent, V
The same results as in Table 2 were obtained when N and CrN were formed by reactive sputtering with nitrogen introduced, and when VC was formed by reactive sputtering with a carbon source such as methane introduced.

【0052】実施例2 下地層としてCsCl型結晶からなるものを用い、以下
のようにして図1に示す磁気記録媒体を作製した。
Example 2 A magnetic recording medium shown in FIG. 1 was manufactured as follows using an underlayer made of CsCl type crystal.

【0053】実施例1と同様にして、ディスク状のSi
基板上にDCスパッタリングにより10nmのCsCl
型結晶からなる下地層を成膜した。次の真空チャンバー
内で基板を500℃に加熱した状態で、DCスパッタリ
ングにより50nmの磁性層を成膜した。次の真空チャ
ンバー内でDCスパッタリングにより2nmのPtから
なる保護層を成膜した。
In the same manner as in Example 1, the disk-shaped Si
10 nm CsCl by DC sputtering on the substrate
An underlayer made of a type crystal was formed. With the substrate heated to 500 ° C. in the next vacuum chamber, a 50 nm magnetic layer was formed by DC sputtering. A protective layer made of 2 nm of Pt was formed by DC sputtering in the next vacuum chamber.

【0054】また、第1の下地層としてCsCl型結晶
からなるもの、第2の下地層としてfcc結晶またはb
cc結晶からなるものを用い、以下のようにして図2に
示す磁気記録媒体を作製した。
The first underlayer is made of CsCl type crystal, and the second underlayer is made of fcc crystal or b
A magnetic recording medium shown in FIG. 2 was manufactured as follows using a cc crystal.

【0055】上記と同様にして、Si基板上にDCスパ
ッタリングにより50nmのCsCl型結晶からなる第
1の下地層を成膜し、DCスパッタリングにより100
nmのfcc結晶からなる第2の下地層を成膜し、基板
を500℃に加熱した状態でDCスパッタリングにより
50nmの磁性層を成膜し、DCスパッタリングにより
2nmのPtからなる保護層を成膜した。
In the same manner as above, a first underlayer made of a CsCl type crystal of 50 nm is formed on a Si substrate by DC sputtering, and a first underlayer of 100 nm is formed by DC sputtering.
A second underlayer made of a fcc crystal of nm is formed, a magnetic layer of 50 nm is formed by DC sputtering while the substrate is heated to 500 ° C., and a protective layer of Pt of 2 nm is formed by DC sputtering. did.

【0056】同様に、Si基板上にDCスパッタリング
により50nmのCsCl型結晶からなる第1の下地層
を成膜し、DCスパッタリングにより50nmのbcc
結晶からなる第2の下地層を成膜し、基板を500℃に
加熱した状態でDCスパッタリングにより50nmの磁
性層を成膜し、DCスパッタリングにより2nmのPt
からなる保護層を成膜した。
Similarly, a first underlayer made of a 50 nm CsCl type crystal is formed on a Si substrate by DC sputtering, and a 50 nm bcc is formed by DC sputtering.
A second underlayer made of a crystal is formed, a 50 nm magnetic layer is formed by DC sputtering while the substrate is heated to 500 ° C., and a 2 nm Pt is formed by DC sputtering.
Was formed.

【0057】表3および表4に使用した材料を示す。第
1の下地層としてMgOまたはBaCd、第2の下地層
としてPbまたはEuを用いた試料は比較例である。
Tables 3 and 4 show the materials used. A sample using MgO or BaCd as the first underlayer and Pb or Eu as the second underlayer is a comparative example.

【0058】X線回折によれば、fcc結晶またはbc
c結晶の第2の下地層は(100)配向しており、磁性
層は主として(001)配向のfct構造をとっている
ことがわかった。
According to X-ray diffraction, fcc crystal or bc
It was found that the second underlayer of the c-crystal was (100) -oriented, and the magnetic layer mainly had the (001) -oriented fct structure.

【0059】表3および表4には密着性試験の評価点数
を併記する。これらの表から第1の下地層または第1お
よび第2の下地層として適切な材料を用いた試料では、
良好な密着性が得られることがわかる。
Tables 3 and 4 also show the evaluation scores of the adhesion test. From these tables, for samples using an appropriate material for the first underlayer or the first and second underlayers,
It can be seen that good adhesion can be obtained.

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】[0061]

【表4】 [Table 4]

【0062】また、上記と同様な方法で第2の下地層の
格子定数と密着性指標(評価点数)との関係を調べた結
果、fcc結晶からなる第2の下地層では格子定数が
3.52〜4.20Å、bcc結晶からなる第2の下地
層では格子定数が2.49〜3.00Åであれば、好ま
しい密着性(評価点数8点以上)が得られることがわか
った。
Further, as a result of examining the relationship between the lattice constant of the second underlayer and the adhesion index (evaluation score) in the same manner as described above, the lattice constant of the second underlayer made of fcc crystal was 3. It was found that if the lattice constant of the second underlayer made of bcc crystal was 52 to 4.20 ° and the lattice constant was 2.49 to 3.00 °, favorable adhesion (8 or more evaluation points) could be obtained.

【0063】実施例3 下地層としてL10型構造またはL12型構造を有する金
属間化合物からものを用い、以下のようにして図1に示
す磁気記録媒体を作製した。
[0063] Using anything by intermetallic compounds having an L1 0 type structure or L1 2 -type structure as Example 3 underlayer was fabricated a magnetic recording medium shown in FIG. 1 as follows.

【0064】実施例1と同様にして、ディスク状の結晶
化ガラス基板上にDCスパッタリングにより10nmの
下地層を成膜した。次の真空チャンバー内で基板を50
0℃に加熱した状態でDCスパッタリングにより50n
mの磁性層を成膜した。次の真空チャンバー内でDCス
パッタリングにより2nmのPtからなる保護層を成膜
した。
In the same manner as in Example 1, an underlayer of 10 nm was formed on a disc-shaped crystallized glass substrate by DC sputtering. Substrate 50 in the next vacuum chamber
50n by DC sputtering with heating to 0 ° C
m magnetic layers were formed. A protective layer made of 2 nm of Pt was formed by DC sputtering in the next vacuum chamber.

【0065】また、第1の下地層としてL10型構造ま
たはL12型構造を有する金属間化合物からなるもの、
第2の下地層としてfcc結晶またはbcc結晶からな
るものを用い、以下のようにして図2に示す磁気記録媒
体を作製した。
[0065] Further, those made of an intermetallic compound having an L1 0 type structure or L1 2 type structure as a first base layer,
A magnetic recording medium shown in FIG. 2 was manufactured as follows using a second underlayer made of fcc crystal or bcc crystal.

【0066】上記と同様にして、結晶化ガラス基板上に
DCスパッタリングにより50nmの第1の下地層を成
膜し、DCスパッタリングにより100nmのfcc結
晶からなる第2の下地層を成膜し、基板を500℃に加
熱した状態でDCスパッタリングにより50nmの磁性
層を成膜し、DCスパッタリングにより2nmのPtか
らなる保護層を成膜した。
In the same manner as described above, a first underlayer of 50 nm was formed on a crystallized glass substrate by DC sputtering, and a second underlayer of 100 nm fcc crystal was formed by DC sputtering. Was heated to 500 ° C., a 50 nm magnetic layer was formed by DC sputtering, and a 2 nm protective layer made of Pt was formed by DC sputtering.

【0067】同様に、結晶化ガラス基板上にDCスパッ
タリングにより50nmの第1の下地層を成膜し、DC
スパッタリングにより50nmのbcc結晶からなる第
2の下地層を成膜し、基板を500℃に加熱した状態で
DCスパッタリングにより50nmの磁性層を成膜し、
DCスパッタリングにより2nmのPtからなる保護層
を成膜した。
Similarly, a first underlayer of 50 nm is formed on a crystallized glass substrate by DC sputtering.
Forming a second underlayer made of a 50 nm bcc crystal by sputtering, forming a 50 nm magnetic layer by DC sputtering while heating the substrate to 500 ° C.,
A 2 nm Pt protective layer was formed by DC sputtering.

【0068】表5〜表7に使用した材料を示す。第1の
下地層としてMgOまたはPt3Sc、第2の下地層と
してPbまたはEuを用いた試料は比較例である。
Tables 5 to 7 show the materials used. Samples using MgO or Pt 3 Sc as the first underlayer and Pb or Eu as the second underlayer are comparative examples.

【0069】X線回折によれば、fcc結晶またはbc
c結晶の第2の下地層は(100)配向しており、磁性
層は主として(001)配向のfct構造をとっている
ことがわかった。
According to X-ray diffraction, fcc crystal or bc
It was found that the second underlayer of the c-crystal was (100) -oriented, and the magnetic layer mainly had the (001) -oriented fct structure.

【0070】表5〜表7には密着性試験の評価点数を併
記する。これらの表から第1の下地層または第1および
第2の下地層として適切な材料を用いた試料では、良好
な密着性が得られることがわかる。
Tables 5 to 7 also show evaluation scores of the adhesion test. From these tables, it can be seen that a sample using an appropriate material for the first underlayer or the first and second underlayers can obtain good adhesion.

【0071】[0071]

【表5】 [Table 5]

【0072】[0072]

【表6】 [Table 6]

【0073】[0073]

【表7】 [Table 7]

【0074】また、上記と同様な方法で第2の下地層の
格子定数と密着性指標(評価点数)との関係を調べた結
果、fcc結晶からなる第2の下地層では格子定数が
3.52〜4.20Å、bcc結晶からなる第2の下地
層では格子定数が2.49〜3.00Åであれば、好ま
しい密着性(評価点数8点以上)が得られることがわか
った。
Further, as a result of examining the relationship between the lattice constant of the second underlayer and the adhesion index (evaluation score) in the same manner as described above, the lattice constant of the second underlayer made of fcc crystal was 3. It was found that if the lattice constant of the second underlayer made of bcc crystal was 52 to 4.20 ° and the lattice constant was 2.49 to 3.00 °, favorable adhesion (8 or more evaluation points) could be obtained.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、F
ePt規則合金に代表されるfct構造を持つ磁性膜を
用いた場合に、下地層と磁性層との密着性を改善するこ
とができ、動作特性に優れた面内または垂直磁気記録媒
体を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, F
When a magnetic film having an fct structure typified by an ePt ordered alloy is used, the adhesion between the underlayer and the magnetic layer can be improved, and an in-plane or perpendicular magnetic recording medium having excellent operation characteristics can be provided. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気記録媒体の一例を示す断面
図。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係る磁気記録媒体の他の例を示す断面
図。
FIG. 2 is a sectional view showing another example of the magnetic recording medium according to the present invention.

【図3】bcc{100}面とfct{001}面との
格子整合を表す模式図。
FIG. 3 is a schematic diagram showing lattice matching between a bcc {100} plane and an fct {001} plane.

【図4】本発明の実施例におけるFePt磁性層のX線
回折プロファイルを示す図。
FIG. 4 is a view showing an X-ray diffraction profile of a FePt magnetic layer in an example of the present invention.

【図5】本発明の実施例における密着性指標とCSS耐
性との関係を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between an adhesion index and CSS resistance in an example of the present invention.

【図6】本発明の実施例における第2の下地層の格子定
数と密着性指標の評価点数との関係を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the lattice constant of a second underlayer and the evaluation score of an adhesion index in an example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板 21…下地層 22…第2の下地層 3…磁性層 4…保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 21 ... Underlayer 22 ... Second underlayer 3 ... Magnetic layer 4 ... Protective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市原 勝太郎 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 Fターム(参考) 5D006 BB01 BB07 CA01 CA05 CA06 DA03 DA08 FA09  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Katsutaro Ichihara 1st address, Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in Toshiba R & D Center (reference) 5D006 BB01 BB07 CA01 CA05 CA06 DA03 DA08 FA09

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、前記基板上に形成された下地層
と、前記下地層上に形成された磁性層とを有する磁気記
録媒体において、前記下地層はバルクで潮解性を示さな
い物質から構成されることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium having a substrate, an underlayer formed on the substrate, and a magnetic layer formed on the underlayer, wherein the underlayer is made of a material that is bulk and does not show deliquescence. A magnetic recording medium characterized by being constituted.
【請求項2】 前記磁性層はfct構造を持つ結晶粒か
らなり、かつ磁性金属元素および貴金属元素を主成分と
し、前記磁性金属元素はFe、CoおよびNiからなる
群より選択される少なくとも1種であり、前記貴金属元
素はPt、Pd、AuおよびIrからなる群より選択さ
れる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記
載の磁気記録媒体。
2. The magnetic layer is made of crystal grains having an fct structure and contains a magnetic metal element and a noble metal element as main components, and the magnetic metal element is at least one selected from the group consisting of Fe, Co and Ni. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the noble metal element is at least one selected from the group consisting of Pt, Pd, Au, and Ir.
【請求項3】 前記下地層は、{100}配向のNaC
l型結晶からなり、かつその格子定数が3.52〜4.
20Åであることを特徴とする請求項1または2記載の
磁気記録媒体。
3. The underlayer is made of {100} oriented NaC.
It is composed of an l-type crystal and has a lattice constant of 3.52-4.
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the angle is 20 [deg.].
【請求項4】 前記下地層を構成するNaCl型結晶が
CrN、NiO、TiO、VO、VNおよびVCからな
る群より選択される少なくとも1種であることを特徴と
する請求項3記載の磁気記録媒体。
4. The magnetic recording according to claim 3, wherein the NaCl-type crystal constituting the underlayer is at least one selected from the group consisting of CrN, NiO, TiO, VO, VN and VC. Medium.
【請求項5】 前記下地層は、{100}配向のCsC
l型結晶からなり、かつその格子定数が2.49〜3.
00Åであることを特徴とする請求項1または2記載の
磁気記録媒体。
5. The method according to claim 1, wherein the underlayer is CsC of {100} orientation.
It is composed of an l-type crystal and has a lattice constant of 2.49 to 3.
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the angle is 00 °.
【請求項6】 前記下地層は、{001}配向のL10
型構造または{001}配向のL12型構造を有する金
属間化合物からなり、かつその格子定数が3.52〜
4.20Åであることを特徴とする請求項1または2記
載の磁気記録媒体。
Wherein said underlayer, {001} L1 orientation 0
Made from the mold structure or {001} intermetallic compound having an L1 2 -type structure orientation, and its lattice constant 3.52~
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the angle is 4.20 °.
【請求項7】 前記下地層と前記磁性層との間に{10
0}配向のfcc結晶粒からなる第2の下地層を設けた
ことを特徴とする請求項1ないし6いずれか1項記載の
磁気記録媒体。
7. The method according to claim 1, wherein the difference between the underlayer and the magnetic layer is $ 10.
7. The magnetic recording medium according to claim 1, further comprising a second underlayer made of fcc crystal grains of 0 ° orientation.
【請求項8】 fcc結晶粒からなる前記第2の下地層
の格子定数が3.52〜4.20Åであることを特徴と
する請求項7記載の磁気記録媒体。
8. The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the lattice constant of the second underlayer made of fcc crystal grains is 3.52 to 4.20 °.
【請求項9】 fcc結晶粒からなる前記第2の下地層
が、Ag、Al、Au、Cu、Ir、Ni、Pt、Pd
およびRhからなる群より選択される少なくとも1種を
含有する元素、合金または化合物からなることを特徴と
する請求項7または8記載の磁気記録媒体。
9. The method according to claim 9, wherein the second underlayer made of fcc crystal grains is made of Ag, Al, Au, Cu, Ir, Ni, Pt, Pd.
9. The magnetic recording medium according to claim 7, comprising an element, alloy or compound containing at least one selected from the group consisting of Rh and Rh.
【請求項10】 前記下地層と前記磁性層との間に{1
00}配向のbcc結晶粒からなる第2の下地層を設け
たことを特徴とする請求項1ないし6いずれか1項記載
の磁気記録媒体。
10. The method according to claim 1, wherein the difference between the underlayer and the magnetic layer is
7. The magnetic recording medium according to claim 1, further comprising a second underlayer made of bcc crystal grains having a 00 [deg.] Orientation.
【請求項11】 bcc結晶粒からなる前記第2の下地
層の格子定数が2.49〜3.00Åであることを特徴
とする請求項10記載の磁気記録媒体。
11. The magnetic recording medium according to claim 10, wherein a lattice constant of the second underlayer made of bcc crystal grains is 2.49 to 3.00 °.
【請求項12】 bcc結晶粒からなる前記第2の下地
層が、CrおよびFeからなる群より選択される少なく
とも1種を含有する元素、合金または化合物からなるこ
とを特徴とする請求項10または11記載の磁気記録媒
体。
12. The method according to claim 10, wherein the second underlayer made of bcc crystal grains is made of an element, alloy or compound containing at least one selected from the group consisting of Cr and Fe. 12. The magnetic recording medium according to item 11,
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