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JP2001189007A - Magnetic disk and method of magnetic recording by using floppy disk - Google Patents

Magnetic disk and method of magnetic recording by using floppy disk

Info

Publication number
JP2001189007A
JP2001189007A JP2000206457A JP2000206457A JP2001189007A JP 2001189007 A JP2001189007 A JP 2001189007A JP 2000206457 A JP2000206457 A JP 2000206457A JP 2000206457 A JP2000206457 A JP 2000206457A JP 2001189007 A JP2001189007 A JP 2001189007A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
floppy disk
magnetic
carbon
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000206457A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Usuki
一幸 臼杵
Kazutoshi Katayama
和俊 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000206457A priority Critical patent/JP2001189007A/en
Publication of JP2001189007A publication Critical patent/JP2001189007A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic disk having high hardness and low coefficient of friction and a magnetic recording method which uses a floppy (R) disk. SOLUTION: In the magnetic disk produced by laminating a magnetic film, protective film and lubricant film on at least one surface of a flexible nonmagnetic supporting body, the protective film consists of a carbon film containing hydrogen, nitrogen and rare gas elements and has 0.5 to 8.0 atomic % nitrogen content and 0.5 to 1.2 atomic % content of rare gas elements. In the magnetic recording method which uses a floppy disk, magnetic signals are recorded and reproduced in a floppy disk device equipped with a head or a slider having a carbon protective film on its surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は面記録密度が高い磁
気記録媒体、および十分な実用信頼性を有する大容量フ
ロッピーディスクを用いた磁気記録方式に関する。
The present invention relates to a magnetic recording medium having a high areal recording density and a magnetic recording system using a large-capacity floppy disk having sufficient practical reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気テープ、ハードディスク等の磁気記
録媒体においては、スパッタリング法や蒸着法等の真空
成膜法によって作製した強磁性金属薄膜を記録層とする
蒸着テープや金属薄膜型ハードディスク等の磁気記録媒
体が実用化されている。このような磁気記録媒体では、
高い磁気エネルギーが容易に得られ、さらに非磁性基板
の表面を平滑にすることによって平滑な表面性を容易に
達成できるため、スペーシング損失が少なく、高い電磁
変換特性を得られるという特徴があるため高密度記録材
料の製造方法に適している。特にスパッタリング法は蒸
着法よりさらに磁気エネルギーを高めることができるた
め、ハードディスクの様な高い面記録密度が要求される
磁気記録媒体に採用されている。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium such as a magnetic tape or a hard disk, a magnetic tape such as a vapor-deposited tape or a metal thin-film hard disk having a recording layer of a ferromagnetic metal thin film produced by a vacuum film forming method such as a sputtering method or a vapor-depositing method. Recording media have been put to practical use. In such a magnetic recording medium,
Since high magnetic energy can be easily obtained and smooth surface properties can be easily achieved by smoothing the surface of the non-magnetic substrate, there is a feature that the spacing loss is small and high electromagnetic conversion characteristics can be obtained. It is suitable for a method for producing a high-density recording material. In particular, the sputtering method can increase the magnetic energy further than the vapor deposition method, and is therefore used for a magnetic recording medium such as a hard disk, which requires a high surface recording density.

【0003】一方、フロッピーディスク型の磁気記録媒
体はハードディスクと比較して、対衝撃性に優れ、低コ
ストであるために2HDクラスを中心に非常に広く使用
されているが、さらに最近は薄層塗布技術を用いたZi
p(アイオメガ社)に代表されるような高密度磁気記録
媒体も用いられている。このような磁気記録媒体では3
000rpm程度の高速で記録再生を行うことによっ
て、ハードディスクに近い高速の転送速度を達成してい
る。しかしながら、その記録密度は未だハードディスク
の1/20以下である。これはハードディスクのように
磁性層をスパッタリング法で作製したフロッピーディス
ク型の磁気記録媒体が、未だ実用化には至っていないこ
とが大きな要因である。これには様々な理由があるが、
その理由の一つにこの様なフロッピーディスクを用いた
磁気記録方式では十分な走行耐久性を確保し、実用信頼
性を得ることが困難であることがあげられる。
On the other hand, floppy disk type magnetic recording media have been widely used mainly in the 2HD class because of their excellent impact resistance and low cost as compared with hard disks. Zi using coating technology
High-density magnetic recording media such as p (Iomega) are also used. In such a magnetic recording medium, 3
By performing recording and reproduction at a high speed of about 000 rpm, a high-speed transfer speed close to that of a hard disk is achieved. However, the recording density is still less than 1/20 that of a hard disk. This is largely due to the fact that a floppy disk type magnetic recording medium, such as a hard disk, in which a magnetic layer is formed by a sputtering method has not yet been put to practical use. There are various reasons for this,
One of the reasons is that it is difficult for such a magnetic recording system using a floppy disk to secure sufficient running durability and obtain practical reliability.

【0004】スパッタリング法で磁性膜を作製するフロ
ッピーディスクが従来の塗布法で作製されるフロッピー
ディスクよりも耐久性を確保するのが困難である理由
は、塗布法で作製されるフロッピーディスクは磁性膜中
に磁性粒子の他に硬質微粒子や潤滑剤を含有しているた
め潤滑性と耐摩耗性に優れるのに対し、スパッタリング
法で作製されるフロッピーディスクの場合は磁性膜が摩
耗しやすい金属薄膜であるためである。そこで従来から
ハードディスクと同様に磁性膜上に耐摩耗性の保護膜、
さらにその上に潤滑膜を形成し、潤滑性と耐摩耗性を高
める検討が行われている。しかしながらフロッピーディ
スクではこのようなハードディスクと同様な保護膜や潤
滑膜を形成しても、走行耐久性を向上させる効果はある
ものの、必ずしも十分な実用信頼性を得ることができて
いない。これはハードディスクの場合、ディスクの回転
数を増加させるとヘッドに働く浮上力の効果でヘッドが
浮上し、ヘッドとハードディスクが接触しない状態で使
用されるのに対し、フロッピーディスクではディスクの
回転数を増加させてもディスクの振動(面ぶれ)が大き
いため、ヘッドが安定に浮上することができず、高速回
転時においてもヘッドとフロッピーディスクが頻繁に接
触してしまうためである。
The reason that it is more difficult to secure the durability of a floppy disk for producing a magnetic film by a sputtering method than to a floppy disk produced by a conventional coating method is that a floppy disk produced by a coating method is a magnetic film. In addition to magnetic particles, it contains hard fine particles and a lubricant, so it has excellent lubricity and wear resistance.On the other hand, floppy disks made by the sputtering method use a thin metal film whose magnetic film is easily worn. Because there is. Therefore, like a hard disk, a wear-resistant protective film on a magnetic film,
Further, studies have been made to form a lubricating film thereon to enhance lubricity and wear resistance. However, even if a protective film or a lubricating film similar to such a hard disk is formed on a floppy disk, although sufficient effect of improving running durability is obtained, sufficient practical reliability cannot always be obtained. In the case of a hard disk, when the rotational speed of the disk is increased, the head floats due to the effect of the floating force acting on the head, and the head is used in a state where the hard disk does not come into contact. Even if it is increased, the vibration of the disk (runout) is large, so that the head cannot float stably, and the head and the floppy disk frequently come into contact even at high speed rotation.

【0005】従ってフロッピーディスクで走行耐久性を
高め、実用信頼性を確保するためには (1)潤滑性に優れる潤滑膜 (2)耐摩耗性に優れる保護膜 (3)ヘッドとディスクが接触しても高い摩擦力を発生
させない制御された表面粗さ (4)接触の頻度を少なくするための少ない面ぶれ を確保することが必要となる。特に潤滑膜と保護膜はハ
ードディスクで使用されるものよりも接触摺動における
耐久性の高いものが要求される。
Therefore, in order to increase the running durability of a floppy disk and secure practical reliability, (1) a lubricating film having excellent lubricating properties, (2) a protective film having excellent abrasion resistance, and (3) a head and a disk contacting each other. Controlled surface roughness that does not generate high frictional force (4) It is necessary to secure a small surface runout to reduce the frequency of contact. In particular, a lubricating film and a protective film are required to have higher durability in contact sliding than those used in a hard disk.

【0006】耐耗性に優れる保護膜としてはハードディ
スクや蒸着等によって形成した金属薄膜型磁性層を有す
るビデオテープの保護膜として使用されているダイヤモ
ンド状炭素(DLC)と呼ばれる炭素と水素からなる非
晶質炭素膜が最も一般的である。ダイヤモンド状炭素は
作製が比較的容易であり、硬質かつ摩擦力が低く、焼き
付きを生じにくい等の優れた特徴を有している。しかし
ながら、一般に用いられている炭素と水素を含むダイヤ
モンド状炭素をフロッピーディスク用の保護膜として用
いても十分な耐久性が得られないことがわかった。これ
はダイヤモンド状炭素を保護膜とした場合、ヘッドとデ
ィスクが繰り返し接触することによって徐々に摩擦力が
上昇し、ダイヤモンド状炭素膜の破壊または磁性膜の破
壊が発生し、引っかき傷状の傷が生じるものと考えられ
る。摩擦力の上昇を抑制するためには潤滑剤の構造およ
び潤滑剤と保護膜の吸着性、保護膜の表面処理、保護膜
の特性などの様々な改良法が考えられるが、潤滑剤や保
護膜が多少消耗、摩耗しても低い摩擦力を維持するため
には保護膜自体の摩擦係数低減が最も有効な手法である
と考えられる。
[0006] As a protective film having excellent wear resistance, there is a non-conductive film made of carbon and hydrogen called diamond-like carbon (DLC) used as a protective film for a videotape having a metal thin film type magnetic layer formed by a hard disk or vapor deposition. Amorphous carbon films are most common. Diamond-like carbon has excellent characteristics such as being relatively easy to produce, hard and low in frictional force, and less likely to cause seizure. However, it was found that sufficient durability could not be obtained even when commonly used diamond-like carbon containing carbon and hydrogen was used as a protective film for a floppy disk. This is because when diamond-like carbon is used as a protective film, the frictional force gradually increases due to repeated contact between the head and the disk, causing breakage of the diamond-like carbon film or the magnetic film, causing scratch-like scratches. It is thought to occur. In order to suppress the increase in frictional force, various improvements such as the structure of the lubricant, the adsorptivity between the lubricant and the protective film, the surface treatment of the protective film, and the characteristics of the protective film can be considered. In order to maintain a low frictional force even if it is somewhat worn or worn, reduction of the friction coefficient of the protective film itself is considered to be the most effective method.

【0007】例えばハードディスクの保護膜を改質する
方法としては、ダイヤモンド状炭素を構成する炭素、水
素に加え第三の元素を添加する方法があり、なかでも窒
素を添加する窒素添加ダイヤモンド状炭素は摩擦力を低
減させる効果があることが報告されている。例えば特開
平7−334830号公報、特開平1−320622号
公報等には、窒素を含有するダイヤモンド状炭素膜を保
護膜とすることが記載されている。また、特開平6−3
33231号公報には、水素、窒素を含有した保護膜と
極性基を有する潤滑剤層を設けることが記載されてお
り、USP5567512(特開平8−106629号
公報)には、窒素原子の表面密度の割合を特定した炭素
保護膜が記載されている。また、特開平9−28881
8号公報には、窒素を含有した10〜20nmの厚さの
炭素保護膜を設けることが記載されており、また、特開
平10−143836号公報には、炭素保護膜中の窒素
濃度を厚さ方向に変化させるとともに特定の化学構造の
物質を潤滑剤とすることが記載されている。さらに米国
特許第5776602号明細書には、特定の範囲のラマ
ンスペクトルを有する窒素含有炭素保護膜が記載されて
おり、また欧州特許第54720号には、水素、窒素を
含む厚さが20nmよりも薄い炭素保護膜を設けること
が記載されている。
For example, as a method of modifying the protective film of a hard disk, there is a method of adding a third element in addition to carbon and hydrogen constituting diamond-like carbon. Among them, nitrogen-added diamond-like carbon in which nitrogen is added is used. It is reported that it has an effect of reducing frictional force. For example, JP-A-7-334830 and JP-A-1-320622 describe that a diamond-like carbon film containing nitrogen is used as a protective film. Also, JP-A-6-3
No. 33231 describes that a protective film containing hydrogen and nitrogen and a lubricant layer having a polar group are provided. US Pat. No. 5,567,512 (JP-A-8-106629) discloses that the surface density of nitrogen atoms is reduced. A carbon protective film having a specified ratio is described. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-28881
No. 8 describes that a carbon protective film containing nitrogen and having a thickness of 10 to 20 nm is provided, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-143836 discloses that the nitrogen concentration in the carbon protective film is increased. It describes that a substance having a specific chemical structure is used as a lubricant while being changed in a vertical direction. Further, US Pat. No. 5,776,602 describes a nitrogen-containing carbon protective film having a Raman spectrum in a specific range, and EP 54720 describes a film containing hydrogen and nitrogen having a thickness of more than 20 nm. It is described that a thin carbon protective film is provided.

【0008】一方、前述のフロッピーディスクと摺動す
る磁気ヘッドは一般的に浮上および接触状態を制御する
ためのスライダーに搭載されている。フロッピーディス
クのスライダーはハードディスクドライブに使用されて
いるスライダーと同様にAl 23−TiC等のセラミッ
クスによって作られているが、特開平8−45045号
公報等に記載されているハードディスクドライブのスラ
イダーのように、スライダー表面に炭素保護膜を形成し
ていない。これは従来の薄膜塗布型フロッピーディスク
を磁気記録媒体として用いる場合は、高硬度炭素保護膜
を設けても、この保護膜がフロッピーディスクとの摺動
によって短時間で摩耗してしまい、その効果が非常に小
さいことが原因と考えられる。
On the other hand, the disk slides with the floppy disk.
Magnetic heads generally control flying and contact conditions
It is mounted on a slider. Floppy disk
Slider is used for hard disk drive
Al as well as the slider TwoOThree-Ceramics such as TiC
Made by the box, Japanese Patent Laid-Open No. 8-45045
Hard disk drive slurs described in publications
Like a slider, a carbon protective film is formed on the slider surface.
Not. This is a conventional thin-film coated floppy disk
When using as a magnetic recording medium, a hard carbon protective film
This protective film slides with the floppy disk even if
Wears out in a short time, and the effect is very small.
The cause is thought to be.

【0009】ハードディスクドライブのスライダーの表
面はディスクの回転によって発生する空気流によって安
定して浮上するように作製されているが、フロッピーデ
ィスクの場合はハードディスクの場合と異なり、安定し
た浮上が得られ難いため、非常に軽微な接触摺動となる
ように作製されている。したがって媒体の摩耗のみなら
ず、ヘッドやスライダーの摩耗もシステムの信頼性を評
価する上で非常に重要である。ヘッドが摩耗すると記録
再生が困難になるし、またスライダーが摩耗すると摩耗
によって生じた粉体がヘッドとディスクの間に進入する
ことで記録信号の読み取り時に読み取りエラーとなった
り、さらにはフロッピーディスクに傷を発生する等の障
害を発生する。上記のようなディスクとヘッドの摩耗の
問題は従来のフロッピーディスクシステムより記録密度
を向上させた大容量フロッピーディスクを用いた磁気記
録方式の場合は実用信頼性を確保する上で非常に重要で
あり、特にフロッピーディスクに金属薄膜型のフロッピ
ーディスクを使用しようとすると、この問題の解決は非
常に困難であった。そこで本発明はこの課題に対して、
金属薄膜型フロッピーディスクを用いる高記録密度のフ
ロッピーディスクを用いた磁気記録方式において十分な
実用信頼性を確保しようとするものである。また、一般
的なダイヤモンド状炭素をフロッピーディスク用の保護
膜として用いても十分な耐久性が得られないことがわか
った。これはダイヤモンド状炭素を保護膜とした場合、
ヘッドとディスクが繰り返し接触することによって、徐
々に摩擦力が上昇し、ダイヤモンド状炭素膜の破壊また
は磁性膜の破壊が発生し、スクラッチに至るものと考え
られる。
The surface of the slider of the hard disk drive is made to float stably by the air flow generated by the rotation of the disk. However, unlike the case of the hard disk, it is difficult to obtain a stable floating of the floppy disk unlike the hard disk. Therefore, it is manufactured to have very slight contact sliding. Therefore, not only the wear of the medium but also the wear of the head and the slider are very important in evaluating the reliability of the system. If the head wears, it becomes difficult to read / write.If the slider wears, the powder generated by the wear enters between the head and the disk, causing a reading error when reading the recording signal, and furthermore, the floppy disk cannot be read. Causes damage such as scratching. The problem of disk and head wear as described above is very important in securing practical reliability in the case of a magnetic recording system using a large-capacity floppy disk whose recording density has been improved compared to the conventional floppy disk system. This problem has been very difficult to solve, especially when trying to use a metal thin film type floppy disk as the floppy disk. Therefore, the present invention solves this problem.
It is an object of the present invention to secure sufficient practical reliability in a magnetic recording system using a high-density floppy disk using a metal thin-film type floppy disk. Further, it was found that sufficient durability could not be obtained even when general diamond-like carbon was used as a protective film for a floppy disk. This is when diamond-like carbon is used as the protective film,
It is considered that the friction between the head and the disk repeatedly increases gradually, causing the diamond-like carbon film or the magnetic film to break, leading to scratching.

【0010】摩擦力の上昇を抑制するためには潤滑剤の
構造および潤滑剤と保護膜の吸着性、保護膜の表面処
理、保護膜の特性などの様々な改良法が考えられるが、
潤滑剤や保護膜が多少消耗、摩耗しても低い摩擦力を維
持するためには保護膜自体の摩擦係数低減が最も有効な
手法であると考えられる。しかしながら、フロッピーデ
ィスクの保護膜において、ダイヤモンド状炭素に窒素を
添加すると多くの場合、確かに摩擦係数は低減するもの
の、走行耐久性は逆に低下してしまうことが多いことが
わかった。これは作製条件や窒素含有率の違いによって
摩擦係数は低減するものの、硬度が低下し、十分な耐摩
耗性が得られないためと考えられる。
In order to suppress the increase in the frictional force, various methods for improving the structure of the lubricant, the adsorptivity between the lubricant and the protective film, the surface treatment of the protective film, and the characteristics of the protective film are considered.
It is considered that the reduction of the coefficient of friction of the protective film itself is the most effective method for maintaining a low frictional force even when the lubricant and the protective film are somewhat worn and worn. However, it has been found that, in many cases, when nitrogen is added to diamond-like carbon in a protective film of a floppy disk, although the friction coefficient certainly decreases in many cases, the running durability often decreases. This is presumably because the friction coefficient is reduced due to the difference in the manufacturing conditions and the nitrogen content, but the hardness is reduced and sufficient wear resistance is not obtained.

【0011】通常、ダイヤモンド状炭素に窒素を添加す
ると窒素添加量の増加に伴い摩擦力は徐々に低下(良
化)し、逆に硬度は徐々に低下(悪化)してしまう。し
たがって、フロッピーディスクのような厳しい摺動条件
において十分な走行耐久性を確保するためには、十分な
硬度と摩擦係数を両立するための適切な組成および構造
の保護膜を作製しなければならない。このような課題に
対し、硬質のダイヤモンド状炭素上に比較的軟質の窒素
添加ダイヤモンド状炭素を積層する方法も提案されてい
るが、製造工程が複雑になるなどの問題があった。ディ
スクとヘッドの摩耗の問題は従来のフロッピーディスク
システムより記録密度を向上させた大容量フロッピーデ
ィスクを用いた磁気記録方式の場合は実用信頼性を確保
する上で非常に重要であり、特にフロッピーディスクに
金属薄膜型のフロッピーディスクを使用しようとする
と、この問題の解決は非常に困難であった。
Normally, when nitrogen is added to diamond-like carbon, the frictional force gradually decreases (improves) and the hardness gradually decreases (deteriorates) with an increase in the amount of nitrogen added. Therefore, in order to ensure sufficient running durability under severe sliding conditions such as a floppy disk, it is necessary to produce a protective film having an appropriate composition and structure to achieve both a sufficient hardness and a friction coefficient. To cope with such a problem, a method of laminating relatively soft nitrogen-added diamond-like carbon on hard diamond-like carbon has also been proposed, but there is a problem that the manufacturing process becomes complicated. The problem of disk and head wear is very important for magnetic recording using a large-capacity floppy disk with a higher recording density than conventional floppy disk systems, in order to ensure practical reliability. It was very difficult to solve this problem when trying to use a metal thin film type floppy disk.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は高い硬度と低
い摩擦係数を両立する保護膜を作製し、ハードディスク
の様な剛性支持体を用いたものに限らず、フロッピーデ
ィスクのような厳しい摺動条件下で使用される場合にお
ていも、十分な走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供
することを課題とするものである。また、高い硬度と低
い摩擦係数を両立した保護膜を有して、ハードディスク
およびフロッピーディスクいずれの磁気ディスクにおい
ても優れた走行耐久性を得ることができる磁気記録媒体
を提供することを課題とするものである。また、金属薄
膜型フロッピーディスクを用いる高記録密度のフロッピ
ーディスクを用いた磁気記録方式において十分な実用信
頼性を確保することを課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In the present invention, a protective film having both a high hardness and a low coefficient of friction is manufactured, and not only the one using a rigid support such as a hard disk but also the severe sliding such as a floppy disk. It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having sufficient running durability even when used under conditions. It is another object of the present invention to provide a magnetic recording medium having a protective film having both high hardness and a low coefficient of friction, and capable of obtaining excellent running durability in both hard disks and floppy disks. It is. Another object of the present invention is to secure sufficient practical reliability in a magnetic recording system using a high recording density floppy disk using a metal thin film type floppy disk.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の課題は、可撓性
支持体の少なくとも一方の面に磁性膜、保護膜、潤滑膜
を積層した構成の磁気ディスクにおいて、保護膜は少な
くとも炭素、水素および窒素を含有する磁気ディスクに
よって解決することができる。また、可撓性支持体もし
くは剛性支持体の少なくとも一方の面に磁性層、保護
膜、潤滑膜を積層した構成の磁気ディスクにおいて、保
護膜は少なくとも炭素、水素、窒素および希ガス元素を
含有する磁気ディスクである。保護膜の窒素含有率が
0.5〜8.0atm%である前記の磁気ディスクであ
る。また、保護膜の水素含有率が25〜35atm%で
ある前記の磁気ディスクである。保護膜の炭素含有率が
60〜70atm%である前記の磁気ディスクである。
保護膜の希ガス元素含有率が0.5〜1.2atm%で
ある前記の磁気ディスクである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic disk having a structure in which a magnetic film, a protective film and a lubricating film are laminated on at least one surface of a flexible support. And a magnetic disk containing nitrogen. In a magnetic disk having a structure in which a magnetic layer, a protective film, and a lubricating film are laminated on at least one surface of a flexible support or a rigid support, the protective film contains at least carbon, hydrogen, nitrogen, and a rare gas element. It is a magnetic disk. The magnetic disk according to the above, wherein the nitrogen content of the protective film is 0.5 to 8.0 atm%. Further, in the above magnetic disk, the protective film has a hydrogen content of 25 to 35 atm%. The magnetic disk according to the above, wherein the carbon content of the protective film is 60 to 70 atm%.
The magnetic disk according to the above, wherein the protective film has a rare gas element content of 0.5 to 1.2 atm%.

【0014】また、磁気ディスクの製造方法において、
可撓性支持体もしくは剛性支持体の少なくとも一方の面
に磁性膜を成膜した後、この磁性膜に負バイアスを印加
した状態で、炭化水素、窒素、希ガス類元素の混合ガス
を原料としたプラズマCVD法によって磁性膜表面に保
護膜を成膜する磁気ディスクの製造方法である。磁性膜
をスパッタリング法で形成する前記の磁気ディスクの製
造方法である。
In the method for manufacturing a magnetic disk,
After a magnetic film is formed on at least one surface of a flexible support or a rigid support, a plasma using a mixed gas of hydrocarbon, nitrogen, and rare gas as a raw material is applied while a negative bias is applied to the magnetic film. This is a method for manufacturing a magnetic disk in which a protective film is formed on the surface of a magnetic film by a CVD method. This is a method for manufacturing a magnetic disk, wherein the magnetic film is formed by a sputtering method.

【0015】また、本発明は、フロッピーディスクを用
いた磁気記録方式において、可撓性支持体の少なくとも
一方に強磁性金属薄膜、炭素保護膜を積層したフロッピ
ーディスクを磁気記録媒体とするとともに、ヘッドまた
はスライダー表面に炭素保護膜を設けたフロッピーディ
スク装置で磁気信号の記録再生を行うフロッピーディス
クを用いた磁気記録方式である。フロッピーディスクの
炭素保護膜の硬度がヘッドまたはスライダー表面の炭素
保護膜の硬度よりも低い前記のフロッピーディスクを用
いた前記の磁気記録方式である。フロッピーディスクの
炭素保護膜の微小硬度が20GPaから40GPaの範
囲であり、ヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の
微小硬度が30GPa以上であり、かつフロッピーディ
スクの炭素保護膜の硬度がヘッドまたはスライダー表面
の炭素保護膜の硬度よりも低い前記のフロッピーディス
クを用いた前記の磁気記録方式である。
Further, according to the present invention, in a magnetic recording system using a floppy disk, a magnetic recording medium comprises a floppy disk having a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film laminated on at least one of a flexible support and a head. Alternatively, a magnetic recording system using a floppy disk for recording and reproducing a magnetic signal with a floppy disk device provided with a carbon protective film on a slider surface. In the above magnetic recording system using the floppy disk, the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider. The microhardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa, the microhardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30 GPa or more, and the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is the surface of the head or the slider. The magnetic recording system using the floppy disk having a hardness lower than that of the carbon protective film.

【0016】フロッピーディスクを用いた磁気記録方式
において、可撓性支持体の少なくとも一方に強磁性金属
薄膜を有し、強磁性金属薄膜上には少なくとも炭素、水
素および窒素を含んだ炭素保護膜を積層したフロッピー
ディスクを磁気記録媒体とするとともに、ヘッドまたは
スライダー表面に炭素保護膜を設けたフロッピーディス
ク装置で磁気信号の記録再生を行うことを特徴としたフ
ロッピーディスクを用いた前記の磁気記録方式である。
フロッピーディスクの炭素保護膜の水素含有率が25〜
35atm%、窒素含有率が0.5〜8.0atm%で
あるフロッピーディスクを用いた前記の磁気記録方式で
ある。フロッピーディスクの炭素保護膜が、少なくとも
炭素、水素、窒素および希ガス元素を含有する前記のフ
ロッピーディスクを用いた前記の磁気記録方式である。
フロッピーディスクの炭素保護膜が、少なくとも炭素、
水素、窒素および希ガス元素を含有し、その水素含有率
が25〜35atm%、窒素含有率が0.5〜8.0a
tm%、希ガス元素含有率が0.5〜1.2atm%で
ある前記のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式で
ある。
In a magnetic recording system using a floppy disk, a ferromagnetic metal thin film is provided on at least one of the flexible supports, and a carbon protective film containing at least carbon, hydrogen and nitrogen is provided on the ferromagnetic metal thin film. The above-mentioned magnetic recording method using a floppy disk characterized in that the laminated floppy disk is used as a magnetic recording medium, and recording and reproduction of a magnetic signal is performed by a floppy disk device provided with a carbon protective film on the head or slider surface. is there.
Hydrogen content of carbon protective film of floppy disk is 25 ~
The above magnetic recording method using a floppy disk having a nitrogen content of 0.5 to 8.0 atm% at 35 atm%. The above magnetic recording system using the above floppy disk wherein the carbon protective film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and a rare gas element.
The carbon protective film of the floppy disk is at least carbon,
Contains hydrogen, nitrogen and a rare gas element, and has a hydrogen content of 25 to 35 atm% and a nitrogen content of 0.5 to 8.0 a.
tm% and a rare gas element content of 0.5 to 1.2 atm%.

【0017】また、フロッピーディスクを用いた磁気記
録方式において、可撓性支持体の少なくとも一方に強磁
性金属薄膜を有し、強磁性金属薄膜上に少なくとも炭
素、水素および窒素を含んだ炭素保護膜を積層したフロ
ッピーディスクを磁気記録媒体とするとともに、ヘッド
またはスライダー表面に少なくとも炭素と水素を含んだ
炭素保護膜を設けたフロッピーディスク装置で磁気信号
の記録再生を行うフロッピーディスクを用いた磁気記録
方式である。フロッピーディスクの炭素保護膜の水素含
有率が25〜35atm%、窒素含有率が0.5〜8.
0atm%である上記のフロッピーディスクを用いた磁
気記録方式である。フロッピーディスクの炭素俣護膜が
少なくとも炭素、水素、窒素および希ガス元素を含有す
る上記のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式であ
る。フロッピーディスクの炭素保護膜が少なくとも炭
素、水素、窒素および祈ガス元素を含有し、その水素含
有率が25〜35atm%、窒素含有率が0.5〜8.
0atm%、希ガス元素含有率が0.5〜1.2atm
%である上記のフロッピーディスクを用いた磁気記録方
式である。フロッピーディスクの炭素保護膜の微小硬度
が20Gpaから40GPaの範囲であり、ヘッドまた
はスライダー表面の炭素保護膜の微小硬度が30GPa
以上であり、かつフロッピーディスクの炭素保護膜の硬
度がヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の硬度よ
りも低いことを特徴とするフロッピーディスクを用いた
磁気記録方式である。
In a magnetic recording system using a floppy disk, at least one of the flexible supports has a ferromagnetic metal thin film, and a carbon protective film containing at least carbon, hydrogen and nitrogen on the ferromagnetic metal thin film. A magnetic recording method using a floppy disk that records and reproduces a magnetic signal in a floppy disk device having a carbon protective film containing at least carbon and hydrogen on the surface of a head or a slider while using a floppy disk on which magnetic layers are laminated as a magnetic recording medium It is. The hydrogen content of the carbon protective film of the floppy disk is 25-35 atm%, and the nitrogen content is 0.5-8.
This is a magnetic recording method using the above-mentioned floppy disk of 0 atm%. This is a magnetic recording system using the above-mentioned floppy disk in which the carbon film protective film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and a rare gas element. The carbon protective film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and palladium gas elements, and has a hydrogen content of 25 to 35 atm% and a nitrogen content of 0.5 to 8 atm.
0 atm%, rare gas element content is 0.5 to 1.2 atm
% Is a magnetic recording system using the above floppy disk. The micro hardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa, and the micro hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30 GPa.
This is a magnetic recording method using a floppy disk, wherein the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の磁気ディスクは、保護膜
に特徴を有している。保護膜は、炭素、水素、窒素より
構成されるものである。好ましくはさらに希ガス類元素
を含有するものである。さらにこの保護膜は好ましく
は、窒素の含有率が0.5〜8.0atm%、水素含有
率が25〜35atm%、炭素含有率が60〜70at
m%、希ガス元素含有率が0.5〜1.2atm%の比
率で構成されるものである。この各元素の含有率では硬
度と摩擦係数を極めて高いレベルで両立できるものであ
る。これらの元素含有率はラザフォード後方散乱法など
の既知の手法によって測定することができる。窒素はこ
れより少ないと、摩擦係数が増加し、これより多いと硬
度が著しく低下する。より、好ましい含有率は2〜5a
tm%である。希ガス類元素はこれより少ないと硬度が
低下し、これより多いと内部応力が高くなって、膜の剥
離を起こしやすくなる。より、好ましい含有率は0.5
〜1.0atm%である。炭素はこれより少なくても多
くても硬度が低下する。より、好ましい含有率は64〜
67atm%である。水素はこれより少ないと硬度が低
下し、多いと摩擦係数が増加する。より、好ましい含有
率は28〜33atm%である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The magnetic disk of the present invention has a feature in a protective film. The protective film is made of carbon, hydrogen, and nitrogen. Preferably, it further contains a rare gas element. Further, the protective film preferably has a nitrogen content of 0.5 to 8.0 atm%, a hydrogen content of 25 to 35 atm%, and a carbon content of 60 to 70 atm.
m% and a rare gas element content of 0.5 to 1.2 atm%. With the contents of these elements, the hardness and the friction coefficient can be made compatible at an extremely high level. These element contents can be measured by a known method such as Rutherford backscattering method. Below this, the coefficient of friction increases, above which the hardness decreases significantly. More preferable content is 2-5a
tm%. If the amount of the rare gas element is less than this, the hardness decreases, and if it is more than this, the internal stress increases and the film is liable to peel. More preferably, the content is 0.5
~ 1.0 atm%. Less or more carbon will reduce hardness. More preferably, the content is 64 to
67 atm%. If the amount of hydrogen is smaller than this, the hardness decreases, and if it is larger, the coefficient of friction increases. More preferably, the content is 28 to 33 atm%.

【0019】本発明の特徴は高い硬度と低い摩擦係数を
両立できることである。硬度は実際に保護膜として使用
するような薄膜では下地基材の影響を強く受けるため、
正確に測定することができない。そこで、一般的には単
結晶シリコン基板などの均一である程度硬質な基板上に
0.1〜1μm程度の膜厚で保護膜を作製し、原子間力
顕微鏡(AFM)を応用した微小硬度計を用いて押し込
み深さが膜厚の1/5以下となるような条件で硬度を測
定する。たとえば、このような微小硬度計の例として
は、2枚の電極板の中間に圧子が取り付けられたピック
アップ電極が置かれており、電極の動きに伴う静電容量
の変化を用いて、力と変位を非常に高感度に検出する方
法で測定する方法があげられる。以下より、具体的に微
小硬度測定装置(HYSITRON社製 TRIBOS
COPE)を用いて測定する方法について述べる。ダイ
ヤモンド圧子は先端稜角90度、先端曲率半径35〜5
0nmの三角錘型で、保護層に直角に当て、最大荷重P
=600μNまで徐々に印加し、最大荷重到達後に荷重
を0にまで徐々に戻す。この時の最大荷重Pを圧子接触
部の投影面積Aで除した値P/Aを硬度として算出す
る。圧子接触部の投影面積Aは、押し込み試験によって
得られた深さ−荷重曲線のうち、徐荷曲線の初期30%
を直線に近似して外挿、深さ軸と交差する点を圧子接触
部の接触深さhとし、圧子の形状よりhの関数として求
められる。なお、標準試料として、溶融石英を押し込ん
だ結果得られる硬さが8〜10GPaとなるよう、事前
に装置を校正して測定した。本発明の保護膜はこのよう
な測定法で測定した場合の硬度が30〜40GPaであ
り、反応性スパッタリング法で作製した炭素、水素、窒
素よりなる保護膜の硬度20〜30GPaより著しく高
いことが特徴である。
A feature of the present invention is that both high hardness and low coefficient of friction can be achieved. Hardness is strongly affected by the base material in thin films actually used as a protective film,
It cannot be measured accurately. Therefore, in general, a protective film having a thickness of about 0.1 to 1 μm is formed on a uniform and somewhat hard substrate such as a single crystal silicon substrate, and a microhardness tester to which an atomic force microscope (AFM) is applied is used. The hardness is measured under such conditions that the indentation depth is 1/5 or less of the film thickness. For example, as an example of such a microhardness tester, a pickup electrode with an indenter placed between two electrode plates is used. There is a method of measuring displacement by a method of detecting displacement with very high sensitivity. More specifically, a micro-hardness measuring device (TRIBOS manufactured by HYSITRON) will be described below.
(COPE) will be described. The diamond indenter has a tip angle of 90 degrees and a tip curvature radius of 35 to 5.
0nm triangular pyramid, applied to protective layer at right angle, maximum load P
= 600 μN, and the load is gradually returned to 0 after reaching the maximum load. The value P / A obtained by dividing the maximum load P at this time by the projected area A of the indenter contact portion is calculated as the hardness. The projected area A of the indenter contact portion is an initial 30% of the unloading curve among the depth-load curves obtained by the indentation test.
Is approximated as a straight line and extrapolated, and the point of intersection with the depth axis is defined as the contact depth h of the indenter contact portion, and is obtained as a function of h from the shape of the indenter. In addition, the apparatus was calibrated and measured in advance so that the hardness obtained as a result of pressing the fused quartz as a standard sample was 8 to 10 GPa. The protective film of the present invention has a hardness of 30 to 40 GPa as measured by such a measuring method, and the hardness of the protective film made of carbon, hydrogen, and nitrogen produced by the reactive sputtering method is significantly higher than 20 to 30 GPa. It is a feature.

【0020】一方、摩擦係数は磁気記録媒体の形態で測
定することができる。測定は実際の磁気ヘッドとの摩擦
力を測定してもよいし、代用評価としてボールオンディ
スク、ピンオンディスクの形態で測定してもよい。特
に、本発明の効果が現れるのは、1カ所を繰り返し摺動
した場合の摩擦係数であり、一般的なDLC膜が繰り返
し摺動で徐々に摩擦力が上昇し、スクラッチが発生する
ような摺動条件でも長期間に渡って低い摩擦力を維持す
ることができる。また、摩擦係数が低い窒素含有率の高
い保護膜が徐々に磨耗してしまう条件でも本発明の保護
膜はほとんど摩耗が 本発明の磁気ディスクの保護膜
は、非磁性支持体の少なくとも一方に磁性膜をスパッタ
リング法で作製した後、この磁性膜に負バイアスを印加
した状態で、炭化水素、窒素の混合ガスを原料としたプ
ラズマCVD法によって磁性膜表面に主に炭素、水素、
窒素より構成された保護膜を作製し、さらにこの表面に
潤滑膜を作製することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法によって作製できる。本方法で作製した保護膜は、
反応性スパッタリングで作製した同様な保護層より高硬
度であり、磁気ディスクの走行耐久性を著しく向上させ
ることができる。
On the other hand, the coefficient of friction can be measured in the form of a magnetic recording medium. The measurement may be performed by measuring the frictional force with the actual magnetic head, or may be performed in the form of a ball-on-disk or a pin-on-disk as a substitute evaluation. In particular, the effect of the present invention appears in the friction coefficient when sliding repeatedly at one location, and the sliding force is such that a general DLC film gradually increases the frictional force due to repeated sliding and causes scratching. Even under dynamic conditions, a low frictional force can be maintained for a long period of time. Further, even under the condition that the protective film having a low coefficient of friction and having a high nitrogen content gradually wears, the protective film of the present invention hardly wears, and the protective film of the magnetic disk of the present invention has a magnetic property on at least one of the nonmagnetic support. After the film is formed by the sputtering method, in a state where a negative bias is applied to the magnetic film, mainly carbon, hydrogen, and the like are formed on the surface of the magnetic film by a plasma CVD method using a mixed gas of hydrocarbon and nitrogen as a raw material.
A protective film made of nitrogen is produced, and a lubricating film is further produced on this surface. The protective film produced by this method
It has higher hardness than a similar protective layer formed by reactive sputtering, and can significantly improve the running durability of a magnetic disk.

【0021】本発明の製造方法では磁性膜に負バイアス
を印加することで、反応ガス中の炭化水素が分解して生
成する水素イオンおよび希ガスイオンによるエッチング
効果を高めているため、硬質のDLCを作製できる。磁
性膜に印加するバイアスは装置によって変化するため、
いちがいには決まらないが、−100Vから−500V
程度である。印加するバイアスには最適値があり、バイ
アスが高すぎると保護膜中の希ガス含有率が高くなり、
保護膜の内部応力が高くなり、膜の剥離を起こしやすく
なる。逆にバイアスが低すぎると、エッチング効果が低
くなるため、膜中の水素および窒素の含有率が高くな
り、硬度が著しく低下する。また、プラズマを挟んで基
板と対向する位置に正バイアスを印加してバイアス勾配
を高めるとさらにバイアス印加の効果が得やすくなる。
In the manufacturing method of the present invention, a negative bias is applied to the magnetic film to enhance the etching effect by hydrogen ions and rare gas ions generated by the decomposition of hydrocarbons in the reaction gas. Can be produced. Since the bias applied to the magnetic film varies depending on the device,
Although it is not decided, -100V to -500V
It is about. The bias to be applied has an optimum value, and if the bias is too high, the rare gas content in the protective film increases,
The internal stress of the protective film is increased, and the film is easily peeled. Conversely, if the bias is too low, the etching effect is reduced, so that the contents of hydrogen and nitrogen in the film are increased, and the hardness is significantly reduced. Further, when a positive bias is applied to a position facing the substrate with the plasma interposed therebetween to increase the bias gradient, the effect of applying the bias is more easily obtained.

【0022】本発明の保護膜を作製する際に使用する原
料ガスは、エチレン、アセチレン、メタン、エタン、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭素と水素からなる炭化水素類
と窒素およびアルゴン、ヘリウムなどの希ガスの混合ガ
スを用いる。炭化水素ガスの炭素と水素の含有率は保護
膜の特性に大きく影響する。例えばメタンのように炭素
に対する水素の比率が高いと膜中の水素含有率が高くな
り、硬度が十分に高くならない場合がある。逆にアセチ
レンのように炭素に対する水素の比率が低いと窒素含有
率が高すぎる、または膜の有機性が高い等の理由により
硬度が十分に上がらない場合がある。したがって、好ま
しくはエチレンのように水素/炭素比が2/1程度の原
料である。原料の混合比は炭化水素/窒素比で5/5〜
9/1程度が好ましい。これより炭化水素が多いと窒素
含有率が低くなり、摩擦係数の低減効果が小さくなる。
また、これより窒素が多いと窒素含有率が高くなり、硬
度が低下する。さらに(炭化水素+窒素)/希ガス比は
1/1〜1/3程度が好ましく、これより希ガスが少な
いとエッチング効果が低くなり、硬度が十分に上がら
ず、これより希ガスが多いと、膜中の希ガス含有率が高
くなり、膜の剥離が起こりやすくなる。使用できる希ガ
スはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノ
ンなどがあげられるが、好ましくはアルゴン、ネオン、
ヘリウム、さらに好ましくはアルゴンである。本発明に
おけるプラズマ発生の方法は特に限定されず、高周波プ
ラズマ、ECRプラズマなどが使用できる。
The raw material gas used for producing the protective film of the present invention includes hydrocarbons composed of carbon and hydrogen such as ethylene, acetylene, methane, ethane, benzene and toluene, and rare gases such as nitrogen and argon and helium. Is used. The content of carbon and hydrogen in the hydrocarbon gas greatly affects the properties of the protective film. For example, when the ratio of hydrogen to carbon is high, such as methane, the hydrogen content in the film increases, and the hardness may not be sufficiently high. Conversely, if the ratio of hydrogen to carbon is low, as in acetylene, the nitrogen content may be too high, or the hardness of the film may not be sufficiently increased due to high organicity of the film. Therefore, it is preferably a raw material such as ethylene having a hydrogen / carbon ratio of about 2/1. The mixing ratio of the raw materials is 5/5 to hydrocarbon / nitrogen ratio.
About 9/1 is preferable. When the amount of hydrocarbons is larger than this, the nitrogen content decreases, and the effect of reducing the friction coefficient decreases.
If the nitrogen content is higher than this, the nitrogen content increases, and the hardness decreases. Further, the ratio of (hydrocarbon + nitrogen) / rare gas is preferably about 1/1 to 1/3. If the ratio of the rare gas is less than this, the etching effect is reduced, the hardness is not sufficiently increased, and if the amount of the rare gas is more than this, In addition, the content of the rare gas in the film increases, and the film is easily peeled. Noble gases that can be used include helium, neon, argon, krypton, xenon, etc., but preferably argon, neon,
Helium, more preferably argon. The method for generating plasma in the present invention is not particularly limited, and high-frequency plasma, ECR plasma, or the like can be used.

【0023】図1は高周波プラズマを利用したCVD装
置の一例を説明する図である。表面に金属薄膜1を形成
した支持体2は、ロール3から巻き出され、パスローラ
4によってバイアス電源5からバイアス電圧が金属薄膜
1に給電される。一方、炭化水素、窒素、希ガス等を含
有する原料気体6は、高周波電源7から印加された電圧
によって発生したプラズマによって、成膜ロール8上の
金属薄膜上に窒素、希ガスを含有した炭素保護膜9を形
成され、巻き取りロール10に巻き取られる。
FIG. 1 is a view for explaining an example of a CVD apparatus utilizing high-frequency plasma. The support 2 having the metal thin film 1 formed on its surface is unwound from a roll 3, and a bias voltage is supplied to the metal thin film 1 from a bias power supply 5 by a pass roller 4. On the other hand, the source gas 6 containing hydrocarbons, nitrogen, rare gas, etc., is converted into carbon containing nitrogen, rare gas on the metal thin film on the film forming roll 8 by plasma generated by the voltage applied from the high frequency power supply 7. The protective film 9 is formed, and is wound up by a winding roll 10.

【0024】成膜時には、保護膜を形成する際の基板温
度は高温にするより室温の方が若干硬度が高くなり、ま
た基板に熱による損傷を与えにくいため好ましい。本発
明の保護膜は磁性膜に対する密着性に優れるが、保護膜
を作製する前に磁性膜表面を希ガスや水素ガスによるグ
ロー処理などによってクリーニングすることで高い密着
性を確保することができる。また、磁性膜表面にシリコ
ン中間層を作製すると密着性をさらに高めることができ
る。以上のような作製方法で得られた本発明の保護膜は
非常に硬質な非晶質水素化炭素膜の水素の一部を窒素で
置換した構造と考えられる。膜の基本構造がダイヤモン
ド状炭素と同じであることはラマン分光法によって知る
ことができる。ダイヤモンド状炭素膜のラマンスペクト
ルを調べるとラマンシフト1000〜1800cm-1
ブロードなピークが観察され、このピークは1540c
-1にGピークと言われる主ピーク、1390cm-1
Dピークといわれるショルダーからなることが知られて
いる。本発明の保護膜のラマンスペクトルも前述のDL
Cのラマンスペクトルと同様のスペクトルを示す。sp
3構造とsp2構造の比率が反映されると言われている|
d/1g比は本発明の保護膜では1.10〜1.60、
sp結晶子サイズが反映されると言われるGピーク保護
波数は1540〜1560cm-1と一般的な数値であ
る。一方、膜の有機性が反映されると言われるバックグ
ランドを含んだGピーク強度Bとバックグランドを含ま
ないGピーク強度Aの比B/Aは1.20〜1.25と
低く、有機性は低い。
At the time of film formation, the substrate temperature for forming the protective film is preferably slightly higher at room temperature than at a higher temperature because the substrate is hardly damaged by heat. Although the protective film of the present invention has excellent adhesion to a magnetic film, high adhesion can be ensured by cleaning the surface of the magnetic film by a glow treatment with a rare gas or a hydrogen gas before forming the protective film. Further, if a silicon intermediate layer is formed on the surface of the magnetic film, the adhesion can be further improved. It is considered that the protective film of the present invention obtained by the above manufacturing method has a structure in which a part of hydrogen of an extremely hard amorphous hydrogenated carbon film is replaced with nitrogen. It can be known by Raman spectroscopy that the basic structure of the film is the same as that of diamond-like carbon. When the Raman spectrum of the diamond-like carbon film is examined, a broad peak is observed at a Raman shift of 1000 to 1800 cm −1 , and this peak is 1540 c
It is known that a main peak called G peak at m -1 and a shoulder called D peak at 1390 cm -1 are formed. The Raman spectrum of the protective film of the present invention is also the same as that of the aforementioned DL.
A spectrum similar to the Raman spectrum of C is shown. sp
It is said that the ratio of 3 structure and sp 2 structure is reflected |
The d / 1g ratio is 1.10 to 1.60 in the protective film of the present invention,
The G peak protection wave number, which is said to reflect the sp crystallite size, is a general value of 1540 to 1560 cm -1 . On the other hand, the ratio B / A of the G peak intensity B including the background, which is said to reflect the organic nature of the film, and the G peak intensity A not including the background is as low as 1.25 to 1.25. Is low.

【0025】本発明の保護膜において窒素は主にsp3
またはsp2炭素と結合しており、安定な状態で膜中に
存在することがX線光電子分光分析装置(ESCA X
PS)およびFT−IR法によって確認されている。ス
パッタリング法で作製した窒素含有率20atm%以上
の膜にみられるC≡N結合は検出限界以下であり、この
ような結合では存在しないものと考えられる。本発明の
保護膜の密度は1.7〜2.lg/cm3 と高く緻密で
ある。密度はラザフォード後方散乱法の原子数密度から
求めることができる。本発明の保護膜は膜厚3〜20n
mで使用することが好ましい。膜厚がこれより薄いと保
護膜としての効果が現れず、これより厚いと磁気的なス
ペーシングにより磁気記録媒体としての電磁変換特性が
低下するので好ましくない。また本発明の保護膜は一般
的な反応性スパッタリング法によって作製される保護膜
より、10nm以下の薄膜での耐久性に優れるという特
徴を有する。
In the protective film of the present invention, nitrogen is mainly sp3
Alternatively, it may be bonded to sp2 carbon and exist in the film in a stable state by an X-ray photoelectron spectrometer (ESCA X
PS) and the FT-IR method. The C≡N bond found in a film having a nitrogen content of 20 atm% or more formed by a sputtering method is below the detection limit, and it is considered that such a bond does not exist. The density of the protective film of the present invention is 1.7 to 2. lg / cm 3 and high density. The density can be obtained from the atomic number density of Rutherford backscattering method. The protective film of the present invention has a thickness of 3 to 20 n.
It is preferred to use m. If the film thickness is smaller than this, the effect as a protective film does not appear, and if it is larger than this, electromagnetic conversion characteristics as a magnetic recording medium deteriorate due to magnetic spacing, which is not preferable. Further, the protective film of the present invention has a feature that it is more excellent in durability as a thin film of 10 nm or less than a protective film formed by a general reactive sputtering method.

【0026】以降は可撓性支持体上を用いた磁気ディス
クであるフロッピーディスクにおける好ましい実施形態
について記載するが、本発明は、非磁性支特体としては
剛性支持体も使用することができる。ハードディスクの
形態で使用する場合には円盤状のアルミニウム、ガラ
ス、力ーボン、シリコン、ポリカーボネートなどの基板
が使用できる。またビデオテープなどのテープの形態と
して便用する場合にはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリイミドフィルム、ポリア
ミドフィルム等の厚み3〜20μmの可撓性高分子フィ
ルムが使用できる。フロッピーディスクの形態として使
用する場合にはポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン
ナフタレートなどの厚さ20〜100μmの可撓性高分
子フィルムが使用できる。高い電磁変換特性を確保する
ために磁性膜面の表面粗さはRaで2nm以下であり最
大表面粗さRmaxは60nm以下が好ましい。
Hereinafter, a preferred embodiment of a floppy disk, which is a magnetic disk using a flexible support, will be described. However, in the present invention, a rigid support can also be used as a nonmagnetic support. When used in the form of a hard disk, a disk-shaped substrate made of aluminum, glass, steel, silicon, polycarbonate or the like can be used. When the tape is used as a video tape or the like, a flexible polymer film having a thickness of 3 to 20 μm such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, a polyimide film, or a polyamide film can be used. When used in the form of a floppy disk, a flexible polymer film having a thickness of 20 to 100 μm such as polyimide, polyamide, or polyethylene naphthalate can be used. In order to ensure high electromagnetic conversion characteristics, the surface roughness of the magnetic film surface is preferably 2 nm or less in Ra, and the maximum surface roughness Rmax is preferably 60 nm or less.

【0027】本発明のフロッピーディスクはウエブ状、
シート状、円盤状のフロッピーディスク原反をドーナツ
状のディスク形態に打ち抜いて使用する。このときのデ
ィスクの大きさは、1.8型、2.5型、3.5型、
3.7型、5型等の任意の大きさのものを使用すること
ができる。本発明で使用するディスク厚みは20〜10
0μmであることが好ましく、より好ましくは30μm
〜80μmである。30μmよりも厚みが薄い場合には
静的なカールや変形量が大きくなり、80μmよりも厚
い場合には、ヘッドとディスクが接触したしたときの衝
撃を緩和できな<なる。
The floppy disk of the present invention has a web shape,
Sheet and disk-shaped raw floppy disks are punched into donut-shaped disks for use. At this time, the size of the disk is 1.8 type, 2.5 type, 3.5 type,
Any size such as 3.7 type, 5 type, etc. can be used. The disk thickness used in the present invention is 20 to 10
0 μm, more preferably 30 μm
8080 μm. When the thickness is less than 30 μm, the amount of static curl and deformation increases, and when the thickness is more than 80 μm, the impact when the head and the disk come into contact cannot be reduced.

【0028】しかしポリイミドフィルムまたはアラミド
フィルムの磁性膜面の表面性が上記のフィルムほど平滑
でない場合はフィルムの磁性膜面にまず平滑化を目的と
した下塗り膜を作製する必要がある。この場合、下塗り
膜の素材としては平滑化効果が高い、熱硬化型イミドや
熱硬化型シリコン樹脂を用いることが好ましい。この下
塗り膜の厚みとしては0.1〜3μmが好ましい。熱硬
化性樹脂は例えばエポキシ基を有するシランカップリン
グ剤や熱硬化性イミドを含有するモノマーを塗布した
後、熱硬化させる方法によって作製できる。この熱硬化
性イミドは分子内にイミド構造と重合可能な末端基を有
するモノマーを指す。このモノマーは加熱によって重合
し、ポリイミド構造となるため耐熱性に優れる。この熱
可塑性イミドは接着前はモノマーの状態であるため、溶
解できる溶剤の種類が多く、多くの一般的な溶剤に可溶
である。このため溶剤の乾燥が容易である。さらに溶液
粘度が低く、精密な濾過が可能であるため、異物の混入
も少ない。この様な熱硬化型イミドとしては例えば下記
化学式1で表されるビスアリルナジイミドが特に有効で
ある。
However, when the surface property of the magnetic film surface of the polyimide film or the aramid film is not as smooth as the above-mentioned films, it is necessary to first prepare an undercoat film for the purpose of smoothing on the magnetic film surface of the film. In this case, it is preferable to use a thermosetting imide or a thermosetting silicone resin having a high smoothing effect as a material of the undercoat film. The thickness of the undercoat film is preferably 0.1 to 3 μm. The thermosetting resin can be produced, for example, by a method of applying a silane coupling agent having an epoxy group or a monomer containing a thermosetting imide, followed by thermosetting. This thermosetting imide refers to a monomer having an imide structure and a polymerizable terminal group in the molecule. This monomer is polymerized by heating to form a polyimide structure and thus has excellent heat resistance. Since this thermoplastic imide is in a monomer state before bonding, it can be dissolved in many types of solvents and is soluble in many common solvents. Therefore, drying of the solvent is easy. Furthermore, since the solution viscosity is low and precise filtration is possible, contamination of foreign matters is small. As such a thermosetting imide, for example, bisallylnadiimide represented by the following chemical formula 1 is particularly effective.

【0029】[0029]

【化1】 Embedded image

【0030】ただし、R1、R2は独立に選択された水素
またはメチル基、R3は脂肪族または芳香族の炭化水素
基等の2価の連結基である。化学式1で示される化合物
においてR1、R2はそれぞれ独立に選択される水素また
はメチル基、R3 は脂肪族、芳香族等の2価の連結基で
あり、例えば、直鎖または分岐構造のアルキレン基およ
びアルケニル基、シクロアルキレン基、アルキレン基を
有するシクロアルキレン基、芳香族基、アルキレン基を
有する芳香族基、ポリオキシアルキレン基、カルボニル
基、エーテル基等などがあげられる。この様な化合物は
特開昭59−80662号公報、特開昭60−1788
62号公報、特開昭61−18761号公報、特開昭6
3−170358号公報、特開平7−53516号公報
などに記載されている公知の合成法で合成された公知の
化合物を使用することができる。この様な化合物は丸善
石油化学社からBANIシリーズ、ANIシリーズとし
て市販されている。
However, R 1 and R 2 are independently selected hydrogen or methyl groups, and R 3 is a divalent linking group such as an aliphatic or aromatic hydrocarbon group. In the compound represented by the chemical formula 1, R 1 and R 2 are independently selected hydrogen or a methyl group, and R 3 is a divalent linking group such as an aliphatic group or an aromatic group. Examples include an alkylene group and an alkenyl group, a cycloalkylene group, a cycloalkylene group having an alkylene group, an aromatic group, an aromatic group having an alkylene group, a polyoxyalkylene group, a carbonyl group, an ether group, and the like. Such compounds are disclosed in JP-A-59-80662 and JP-A-60-1788.
No. 62, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
Known compounds synthesized by a known synthesis method described in, for example, JP-A-3-170358 and JP-A-7-53516 can be used. Such compounds are commercially available from Maruzen Petrochemical Company as BANI series and ANI series.

【0031】また公知のとおり、媒体表面に高さが非常
に低い微小突起を設けることによって、媒体と摺動部材
との真実接触面積を低減し、摺動特性を改善することが
できるため、フィルムの磁性膜面には微小突起構造を有
するものが特に好ましい。この様な微小突起構造を作製
する方法としては球状シリカ粒子を塗布する方法、エマ
ルジョンを塗布して有機物の突起を形成する方法などが
使用できるが、耐熱性を確保するためシリカ粒子が好ま
しい。また突起をフィルム表面に固定するためにバイン
ダーを用いることも可能であるが、耐熱性を確保するた
め、十分な耐熱性を有する樹脂が好ましく、このような
素材としては熱硬化性イミドや熱硬化性シリコーン樹脂
を用いることが特に好ましい。微小突起の高さは5〜6
0nm、好ましくは10〜30nmであり、その密度は
0.1〜100個/μm2 、好ましくは1〜30個/μ
2 である。微小突起の高さが高すぎると記録再生ヘッ
ドと媒体のスペーシングによって電磁変換特性が劣化
し、微小突起が低すぎると摺動特性の改善効果が少なく
なる。微小突起の密度が少なすぎる場合は摺動特性の改
蕎効果が少なくなり、多すぎると凝集粒子の増加によっ
て高い突起が増加して電磁変換特性が劣化する。またバ
インダーの塗膜厚みは20nm以下が好ましい。 バイ
ンダーが厚すぎると乾燥後にフィルム裏面と接着(ブロ
ッキング)を生じる場合がある。
As is well known, by providing micro projections having a very low height on the surface of the medium, the real contact area between the medium and the sliding member can be reduced and the sliding characteristics can be improved. It is particularly preferable that the magnetic film surface has a minute projection structure. As a method of producing such a fine projection structure, a method of applying spherical silica particles, a method of applying an emulsion to form organic projections, and the like can be used, but silica particles are preferable in order to ensure heat resistance. It is also possible to use a binder to fix the projections to the film surface, but a resin having sufficient heat resistance is preferable to ensure heat resistance. Examples of such a material include thermosetting imide and thermosetting resin. It is particularly preferable to use a functional silicone resin. The height of the microprojections is 5-6
0 nm, preferably 10-30 nm, and the density is 0.1-100 / μm 2 , preferably 1-30 / μm 2 .
m 2 . If the height of the minute projections is too high, the electromagnetic conversion characteristics are degraded by the spacing between the recording / reproducing head and the medium, and if the height of the minute projections is too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. If the density of the fine projections is too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. If the density is too high, the number of high projections increases due to the increase in aggregated particles, and the electromagnetic conversion characteristics deteriorate. The thickness of the coating film of the binder is preferably 20 nm or less. If the binder is too thick, it may adhere (block) to the back surface of the film after drying.

【0032】本発明の磁気ディスクにおける磁性層とな
る強磁性金属薄膜は従来より公知のスパッタリング法に
よって成膜したものが使用できる。組成としてはコバル
トを主体とした従来より公知の金属または合金が挙げら
れ、具体的にはCo−Cr、Co−Ni−Cr、Co−
Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−Cr−Ta−P
t、Co−Cr−Pt−Si、Co−Cr−Pt−B等
が使用できる。特に電磁変換特性を改善するためにCo
−Cr−Pt、Co−Cr−Pt−Taが好ましい。磁
性層の厚みは10〜30nmとするのが望ましい。また
この場合磁性膜の静磁気特性を改善するための下地膜を
設けることが好ましく、この下地膜の組成としては従来
より公知の金属または合金などがあげられ、具体的には
Cr、V、Ti、Ta、W、Si等またはこれらの合金
が使用でき、中でもCr、Cr−Ti、Cr−Vが特に
好ましい。この下地膜の厚みとしては5nm〜50nm
であり、好まし<は10nm〜30nmである。さらに
下地膜の結晶配向性を制御するために、下地膜の下にシ
ード層を用いることが好ましく、具体的にはTa、M
o、W、V、Zr、Cr、Rh、Hf、Nb、Mn、N
i、Al、Ru、Tiまたはこれらの合金、特に好まし
くはTa、Cr、Tiまたはこれらの合金であり、この
厚みは15〜60nmである。またスパッタリング法で
磁性膜を作製する場合には、基板を加熱した状態で成膜
する事が好ましく、そのときの温度は200℃前後であ
る。
As the ferromagnetic metal thin film serving as the magnetic layer in the magnetic disk of the present invention, a thin film formed by a conventionally known sputtering method can be used. The composition includes a conventionally known metal or alloy mainly composed of cobalt, and specifically, Co-Cr, Co-Ni-Cr, Co-
Cr-Ta, Co-Cr-Pt, Co-Cr-Ta-P
t, Co-Cr-Pt-Si, Co-Cr-Pt-B, etc. can be used. In particular, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics, Co
-Cr-Pt and Co-Cr-Pt-Ta are preferred. It is desirable that the thickness of the magnetic layer be 10 to 30 nm. In this case, it is preferable to provide a base film for improving the magnetostatic characteristics of the magnetic film. The base film may be composed of a conventionally known metal or alloy, specifically, Cr, V, Ti , Ta, W, Si and the like or alloys thereof can be used. Among them, Cr, Cr-Ti and Cr-V are particularly preferable. The thickness of the underlayer is 5 nm to 50 nm.
And preferably <10 nm to 30 nm. Further, in order to control the crystal orientation of the underlayer, it is preferable to use a seed layer under the underlayer.
o, W, V, Zr, Cr, Rh, Hf, Nb, Mn, N
i, Al, Ru, Ti or an alloy thereof, particularly preferably Ta, Cr, Ti or an alloy thereof, and has a thickness of 15 to 60 nm. When a magnetic film is formed by a sputtering method, it is preferable to form the film while the substrate is heated, and the temperature at that time is about 200 ° C.

【0033】本発明の磁気ディスクにおいて、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記保護膜上に潤滑膜
や防錆剤を作製する必要がある。潤滑剤としては公知の
炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが
使用できる。炭化水素系潤滑剤としてはステアリン酸、
オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル等の
エステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸
類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、ス
テアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコー
ル類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、ス
テアリルアミン等のアミン類などが挙げられる。
In the magnetic disk of the present invention, in order to improve running durability and corrosion resistance, it is necessary to form a lubricating film and a rust preventive on the protective film. As the lubricant, known hydrocarbon-based lubricants, fluorine-based lubricants, extreme pressure additives and the like can be used. Stearic acid, as a hydrocarbon-based lubricant
Carboxylic acids such as oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecylsulfonic acid, phosphoric esters such as monooctadecyl phosphate, alcohols such as stearyl alcohol and oleyl alcohol, and carboxylic acids such as stearamide. Examples thereof include acid amides and amines such as stearylamine.

【0034】フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては
パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエ
チレンオキシド重合体、パーフルオロ−n一プロピレン
オキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロ
イソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF
2O)nまたはこれらの共重合体等である。またフォホス
ファゼン環にフッ素またはフッ素化アルキル基を導入し
た化合物も熱的、化学的に安定であり、使用できる。極
圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等のリン酸エステ
ル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、
トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステ
ルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等のイオ
ウ系極圧剤などが挙げられる。上記潤滑剤は単独もしく
は複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を保護膜
上に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、
ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディッ
プコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着さ
せればよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m
2 が好ましく、2〜20mg/m2が特に好ましい。
Examples of the fluorine-based lubricant include lubricants in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Examples of the perfluoropolyether group include a perfluoromethylene oxide polymer, a perfluoroethylene oxide polymer, a perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , and a perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3 ) CF
2 O) n or a copolymer thereof. Further, a compound in which a fluorine or fluorinated alkyl group is introduced into a phosphazene ring is thermally and chemically stable and can be used. As extreme pressure additives, phosphoric esters such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite,
Examples include thiophosphites such as trilauryl trithiophosphite and the like, thiophosphoric esters, and sulfur-based extreme pressure agents such as dibenzyl disulfide. The above lubricants are used alone or in combination of two or more. As a method of applying these lubricants on the protective film, the lubricant is dissolved in an organic solvent,
It may be applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or the like, or may be applied by a vacuum evaporation method. The amount of lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m
2 is preferable, and 2 to 20 mg / m 2 is particularly preferable.

【0035】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル
側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合
物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環
類およびこの誘導体等が挙げられる。このような目的で
使用可能なテトラザインデン環化合物には、下記に示す
ものが挙げられる。
Examples of the rust preventives usable in the present invention include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine and pyrimidine, derivatives having an alkyl side chain introduced into their mother nucleus, benzothiazole, 2-mercapto And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as benzothiazole, tetrazaindene ring compounds and thiouracil compounds, and derivatives thereof. The tetrazaindene ring compounds that can be used for such purposes include the following.

【0036】[0036]

【化2】 Embedded image

【0037】ここで、Rには、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミド基から選ばれる炭化水素基である。
特に好ましくは、炭素数3以上20以下であり、アルコ
キシの場合にはROCOCH2 −のRは、C37−、C
613−、フェニル、またアルキル基の場合には、C6
13−、C919−、C1735−が挙げられ、アルキルア
ミドの場合にはRNHCOCH2−のRはフェニル、C3
7−が挙げられる。また、チオウラシル環化合物に
は、下記に示すものが挙げられる。ただし、Rは、上記
したテトラザインデン環化合物におけるものと同様のも
のから選ばれる。
Here, R is a hydrocarbon group selected from an alkyl group, an alkoxy group and an alkylamide group.
Particularly preferably, it has 3 to 20 carbon atoms, and in the case of alkoxy, R of ROCOCH 2 — is C 3 H 7 —, C 3
6 H 13- , phenyl or, in the case of an alkyl group, C 6 H
13 -, C 9 H 19 - , C 17 H 35 - , and the like, in the case of alkylamide RNHCOCH 2 - of R phenyl, C 3
H 7 -, and the like. Further, examples of the thiouracil ring compound include the following. However, R is selected from the same as those in the above-mentioned tetrazaindene ring compound.

【0038】[0038]

【化3】 Embedded image

【0039】本発明の媒体をフロッピーディスクとして
使用する場合にはディスクを公知の通りカートリッジに
組み込んだ状態で使用する。カートリッジ外部からの汚
れの付着を防止するだけでなく、フロッピーディスクの
回転安定性を確保する上で非常に重要である。また、本
発明のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式は、可
撓性支持体の少なくとも一方に強磁性金属薄膜、炭素保
護膜を積層した構成のフロッピーディスクを磁気記録媒
体とし、この磁気記録媒体に対してヘッドまたはスライ
ダー表面に炭素保護膜を設けたフロッピーディスク装置
によって記録信号の記録再生を行うこととしたフロッピ
ーディスクを用いた磁気記録方式である。このフロッピ
ーディスクを用いた磁気記録方式は、前記ディスクとヘ
ッドの組み合わせた効果によって高い実用信頼性を達成
するものであり、どちらか一方が欠けると本発明の効果
は得られなくなる。
When the medium of the present invention is used as a floppy disk, the disk is used in a state of being incorporated in a cartridge as is well known. It is very important not only to prevent the attachment of dirt from the outside of the cartridge but also to secure the rotational stability of the floppy disk. Further, the magnetic recording system using the floppy disk of the present invention uses a floppy disk having a configuration in which a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film are laminated on at least one of a flexible support as a magnetic recording medium, and On the other hand, this is a magnetic recording system using a floppy disk in which a recording signal is recorded and reproduced by a floppy disk device provided with a carbon protective film on the surface of a head or a slider. The magnetic recording system using the floppy disk achieves high practical reliability by the effect of the combination of the disk and the head. If either one is missing, the effect of the present invention cannot be obtained.

【0040】本発明のフロッピーディスクを用いた磁気
記録方式においてはフロッピーディスクとヘッドまたは
スライダーを接触して摺動する場合、ディスクの炭素保
護膜とヘッドまたばスライダーの炭素保護膜の間に潤滑
剤が存在した状態の摩擦となる。一部の炭素同士の摩擦
は非常に摩擦係数が低く、摩耗量が少ないことが知られ
ており、本発明のフロッピーディスクを用いた磁気記録
方式ではこの様な良好な摺動状態が達成されるものと考
えられる。また、フロッピーディスクの潤滑剤はディス
クとヘッドの両方の表面において化学的に不活性な炭素
と接するため、化学的な分解を受けにくく、長期間にわ
たってその潤滑効果を維持することができる。本発明に
おいて、フロッピーディスクの炭素保護膜が無かった
り、シリカ等の他の保護膜を使用した場合にはディスク
表面またはヘッドの炭素保護膜の摩耗が進行し、ディス
クの傷やヘッド出力の低下などの故障を短時間うちに発
生しやすくなる。またヘッドの炭素保護膜が無かった
り、シリカなどの保護膜を使用した場合には、フロッピ
ーディスクの炭素保護膜の摩耗と潤滑剤の分解が顕著と
なり、ディスクの寿命が非常に短くなってしまうことが
多い。
In the magnetic recording system using a floppy disk of the present invention, when the floppy disk and the head or slider are slid in contact with each other, a lubricant is provided between the carbon protective film of the disk and the carbon protective film of the head or slider. It becomes friction in the state that existed. It is known that the friction between some carbons has a very low coefficient of friction and a small amount of wear, and such a good sliding state is achieved by the magnetic recording system using the floppy disk of the present invention. It is considered something. Further, since the lubricant of the floppy disk comes into contact with chemically inert carbon on the surfaces of both the disk and the head, the lubricant is hardly subjected to chemical decomposition, and the lubricating effect can be maintained for a long period of time. In the present invention, when the carbon protective film of the floppy disk is not provided, or when another protective film such as silica is used, the wear of the carbon protective film on the disk surface or the head proceeds, and the disk is damaged or the head output is reduced. Failure easily occurs in a short time. If the head does not have a carbon protective film, or if a protective film such as silica is used, the wear of the carbon protective film of the floppy disk and the decomposition of the lubricant will be remarkable, and the life of the disk will be extremely shortened. There are many.

【0041】本発明の効果はフロッピーディスクの炭素
保護膜の硬度が、ヘッドまたはスライダー表面の炭素保
護膜の硬度よりも小さい場合に大きく、特にフロッピー
ディスクの炭素保護膜の微小硬度が20Gpaから40
GPaの範囲であり、かつヘッドまたはスライダー表面
の炭素保護膜の微小硬度が30GPa以上である場合に
この効果は顕著なものとなる。フロッピーディスクとヘ
ッド保護膜が同一の炭素保護膜の場合は、極わずかであ
るものの炭素保護膜の摩耗が進行し、長期間の使用によ
って同一部分での摺動時間がディスクと比較して相対的
に長いヘッドの保護膜が、ディスクより先に摩耗して消
失することがある。そこでヘッド保護膜の硬度をフロッ
ピーディスク保護膜の硬度よりも高くすることでヘッド
保護膜の寿命を延ばすことができるためである。
The effect of the present invention is large when the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is smaller than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider. In particular, the micro hardness of the carbon protective film of the floppy disk is 20 to 40 Gpa.
This effect is remarkable when it is in the GPa range and the micro hardness of the carbon protective film on the head or slider surface is 30 GPa or more. When the floppy disk and the head protective film are the same carbon protective film, the wear of the carbon protective film progresses, although it is very slight, and the sliding time in the same part after a long-term use is relatively shorter than that of the disk. In some cases, the protective film of the long head may be worn away before the disk and disappear. Therefore, by making the hardness of the head protective film higher than the hardness of the floppy disk protective film, the life of the head protective film can be extended.

【0042】さらにフロッピーディスクの炭素保護膜の
微小硬度を20Gpaから40GPaの範囲とし、かつ
ヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の微小硬度を
30GPa以上とした場合には、それぞれの保護膜が十
分な耐摩耗性を達成できるために、フロッピーディスク
の実用信頼性を著しく高めることができる。それぞれの
保護膜の微小硬度が20Gpaよりも小さい場合には耐
摩耗性が不十分のために、保護膜の摩耗が進行し、フロ
ッピーディスクの寿命が短くなることがある。またフロ
ッピーディスクの保護膜の微小硬度を40Gpaよりも
大きくするとヘッドの保護膜の寿命を短くしたり、摩擦
係数の増加による磁性膜の剥離等が生じることがある。
Further, when the microhardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa and the microhardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30 GPa or more, each of the protective films has a sufficient resistance. Since the wearability can be achieved, the practical reliability of the floppy disk can be significantly improved. If the microhardness of each protective film is less than 20 GPa, the wear resistance of the protective film may increase due to insufficient wear resistance, and the life of the floppy disk may be shortened. If the microhardness of the protective film of the floppy disk is set to be larger than 40 GPa, the life of the protective film of the head may be shortened, or the magnetic film may be separated due to an increase in the coefficient of friction.

【0043】本発明のヘッドまたはスライダーに使用す
る炭素保護膜としては、磁気記録媒体に形成する炭素保
護膜と同様のものを用いることができる。具体的には、
一般的なアモルファス炭素膜やグラファイト膜、ダイヤ
モンド膜などが使用できる。なかでもダイヤモンド状炭
素膜(DLC膜)と称されるアモルファス炭素膜は容易
に高硬度の保護膜を作製することができ、製造条件によ
って硬度や摩擦係数といった特性を容易に制御できるた
め、本発明の炭素保護膜として好適である。本発明のヘ
ッドまたはスライダーの保護膜は炭素膜の中でもダイヤ
モンド状炭素膜またはダイヤモンド膜が好ましく、より
好ましくはダイヤモンド状炭素膜である。
As the carbon protective film used for the head or slider of the present invention, the same carbon protective film formed on the magnetic recording medium can be used. In particular,
A general amorphous carbon film, graphite film, diamond film, or the like can be used. Above all, an amorphous carbon film called a diamond-like carbon film (DLC film) can easily form a high-hardness protective film and can easily control properties such as hardness and friction coefficient depending on manufacturing conditions. It is suitable as a carbon protective film. The protective film of the head or the slider of the present invention is preferably a diamond-like carbon film or a diamond film among carbon films, and more preferably a diamond-like carbon film.

【0044】ヘッドまたはスライダーの保護膜の硬度は
フロッピーディスク保護膜の硬度より高いものが好まし
く、このように硬度を調整することで、ヘッド保護膜の
寿命を延ばすことができる。さらにヘッドまたはスライ
ダーの保護膜の硬度は、30GPa以上であることが好
ましい。保護膜の厚みは膜厚が厚いと電磁変換特性の悪
化や密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐摩耗性が不足
するために、膜厚1nmから30nmが好ましく、2n
mから10nmが特に好ましい。特に好ましいヘッドま
たはスライダー保護膜は炭素、水素、希ガス類元素から
構成され、炭素含有率が50〜80atm%、水素含有
率が20〜50atm%希ガス類元素の含有率が0.5
〜1.2atm%の比率で構成されるものである。これ
らの元秦含有率はラザフォード後方散乱法などの既知の
手法によって測定することができる。水素の含有率が2
0atm%より少ないと硬度が低下し、50atm%よ
り多いと摩擦係数が増加する。より好ましい含有率は3
5〜45atm%である。また、希ガス類元素が0.5
atm%より少ないと硬度が低下し、1.2atm%よ
りも多いと内部応力が高くなって膜の剥離を起こしやす
くなる。より好ましい含有率は、5〜1.0atm%で
ある。
The hardness of the protective film of the head or the slider is preferably higher than the hardness of the protective film of the floppy disk. By adjusting the hardness in this manner, the life of the protective film of the head can be extended. Further, the hardness of the protective film of the head or the slider is preferably 30 GPa or more. The thickness of the protective film is preferably from 1 nm to 30 nm when the film thickness is large, since the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated and the adhesion is deteriorated when the film thickness is large, and the wear resistance is insufficient when the film thickness is small.
m to 10 nm is particularly preferred. A particularly preferred head or slider protective film is composed of carbon, hydrogen, and a rare gas element, and has a carbon content of 50 to 80 atm%, a hydrogen content of 20 to 50 atm% and a rare gas content of 0.5.
1.21.2 atm%. These Motohata contents can be measured by a known method such as Rutherford backscattering method. Hydrogen content is 2
If it is less than 0 atm%, the hardness decreases, and if it is more than 50 atm%, the friction coefficient increases. A more preferred content is 3
5 to 45 atm%. Further, when the rare gas element is 0.5
If it is less than atm%, the hardness is reduced, and if it is more than 1.2 atm%, the internal stress is increased and the film is easily peeled. A more preferred content is 5 to 1.0 atm%.

【0045】本発明のフロッピーディスクを用いた磁気
記録方式で使用するヘッドはハードディスクドライブで
使用されているインダクティブヘツド、磁気抵抗素子を
用いたMRヘッドが使用できる。記録密度を高めるた
め、再生ヘッドにMRヘッドを使用することが好まし
い。また、一般的なMRヘッドの他にG−MRヘッド、
デュアルストライプ型MRヘッド等が使用できる。なか
でもデュアルストライプ型MRヘッドはヘッドの構造に
よってサーマルアスペリティーの発生を軽減させること
ができるので本発明のフロッピーディスクシステムに好
適である。
As the head used in the magnetic recording system using the floppy disk of the present invention, an inductive head used in a hard disk drive or an MR head using a magnetoresistive element can be used. In order to increase the recording density, it is preferable to use an MR head as the reproducing head. In addition to a general MR head, a G-MR head,
A dual stripe type MR head or the like can be used. Among them, the dual stripe type MR head is suitable for the floppy disk system of the present invention since the occurrence of thermal asperity can be reduced by the structure of the head.

【0046】ヘッドを取り付けたスライダーはハードデ
ィスクドライブで使用されるものと同様な構造のものが
使用できる。例えばテーパーフラット型の正圧スライダ
ーやこのレールにスロットを設けたたもの、トライパッ
ドスライダ、負圧スライダー等が使用でき、なかでもテ
ーパーフラット型の正圧スライダーやこのレールにスロ
ットを設けたものがフロッピーディスクと組み合わせた
場合、ディスクの面ぶれの影響を受け難いため好まし
い。スライダーは例えばAl23−TiC、アルミナ、
ジルコニア、CaTiO3 等のセラミックスを材料とし
て作製したものである。このスライダー上に本発明の炭
素保護膜を設ける際には、前述のように密着性を改善す
るためケイ素またはその酸化物や窒化物等の中間層を設
けることが好ましい。この中間層の厚みは1〜5nm程
度が好ましい。またスライダーの大きさはハードディス
クで使用される一般的な大きさのものが使用できる。な
かでもディスク振動への迫従性や入手の容易性からは、
いわゆるナノスライダー(50%スライダー)、ピコス
ライダー(30%スライダー)と呼ばれる大きさのもの
が好適である。
The slider having the head mounted thereon may have the same structure as that used in the hard disk drive. For example, a tapered flat type positive pressure slider or one with a slot in this rail, a tri-pad slider, a negative pressure slider, etc. can be used, and among them, a tapered flat type positive pressure slider or one with a slot in this rail A combination with a floppy disk is preferable because it is less susceptible to disk runout. The slider is, for example, Al 2 O 3 —TiC, alumina,
It is produced using ceramics such as zirconia and CaTiO 3 as materials. When the carbon protective film of the present invention is provided on this slider, it is preferable to provide an intermediate layer of silicon or its oxide or nitride in order to improve the adhesion as described above. The thickness of this intermediate layer is preferably about 1 to 5 nm. The slider can be of a general size used for a hard disk. Above all, from the obedience to disk vibration and the availability,
What is called a nano slider (50% slider) and a picos slider (30% slider) are suitable.

【0047】ヘッドおよびスライダーを作製する方法と
しては、ハードディスクドライブ用ヘツドの製造方法と
同様の方法を用いて製造することができる。例えばAl
23−TiC等のスライダー材料の基板上に多数のヘッ
ド素子をスパッタリング法などで一度に形成し、この基
板からスライダーを切り出し洗浄した後、スライダーの
摺動面表面に密着層および炭素保護膜を形成し、さらに
浮上を制御するための表面形状をイオンミリング等で形
成する方法等が挙げられる。スライダーに適切な加重を
付与しながらディスク振動に追従させるためにバネ状の
部材等からなるサスペンション機構もハードディスクド
ライブと同様な形式のものが使用できる。なかでも、そ
の適正加重が9.8〜58.8mN(1〜6gf)程度
の加重のものが適している。加重が9.8mNよりも軽
いと、ヘッドはディスクから跳躍しやすくなり、再生信
号のドロップアウトを発生する。逆に加重が58.8m
Nよりも重いディスクが摩耗しやすくなり、ディスクの
寿命が短くなってしまう。またヘッド駆動機構としては
いわゆるインライン型のものとトランスバース型のもの
の両方が使用できるが、ディスク径が3.5型といった
比較的大きい場合にはトランスバース型が好ましい。こ
れはトランスバース型のヘッド駆動機構を用いることに
よってシェルのヘッド窓を小さくすることができ、これ
によってディスクの面ぶれを軽減することができるから
である。本発明では2つのヘッドをフロッピーディスク
の表裏の両面に対して対称となるように組み合わせて使
用する。
As a method for manufacturing the head and the slider, the head and the slider can be manufactured using the same method as the method for manufacturing the head for the hard disk drive. For example, Al
A large number of head elements are formed at once on a substrate made of a slider material such as 2 O 3 —TiC by a sputtering method or the like, and the slider is cut out from the substrate and washed, and then an adhesion layer and a carbon protective film are formed on the sliding surface of the slider. And a method of forming a surface shape for controlling floating by ion milling or the like. A suspension mechanism composed of a spring-like member or the like for applying a suitable weight to the slider and following the disk vibration may be of the same type as the hard disk drive. Among them, those having an appropriate weight of about 9.8 to 58.8 mN (1 to 6 gf) are suitable. If the weight is less than 9.8 mN, the head easily jumps from the disk, and a dropout of the reproduced signal occurs. Conversely, the weight is 58.8m
A disk heavier than N tends to wear out, shortening the life of the disk. As the head drive mechanism, both a so-called in-line type and a transverse type can be used. If the disk diameter is relatively large such as 3.5 type, the transverse type is preferable. This is because the head window of the shell can be made smaller by using the transverse type head driving mechanism, thereby reducing the disk runout. In the present invention, two heads are used in combination so as to be symmetrical with respect to both sides of the floppy disk.

【0048】本発明のフロッピーディスクカートリッジ
を形成するシェルとしては、ABS樹脂などが使用でき
る。また内部のディスクを保護するため、想定される外
力に対し、大きく変形しない強度が必要である。また回
転時の振動を防止するため、ディスクサイズと回転数に
応じた強度と構造にすることが好ましい。上側シェルと
下側シェルで形成される内部空間幅は0.5〜2.0m
mの範囲であることが好ましい。これより狭いと回転中
もフロッピーディスクとシェルもしくはライナーが強く
接触し、ディスクの摩耗が顕著となる。これより広いと
ディスクの回転を規制する効果が少なくなる。
As the shell forming the floppy disk cartridge of the present invention, ABS resin or the like can be used. Further, in order to protect the internal disk, it is necessary to have a strength that does not significantly deform under an assumed external force. Further, in order to prevent vibration during rotation, it is preferable to have a strength and a structure corresponding to the disk size and the number of rotations. The inner space width formed by the upper shell and the lower shell is 0.5 to 2.0 m
It is preferably in the range of m. If the width is smaller than this, the floppy disk and the shell or liner are in strong contact even during rotation, and the wear of the disk becomes remarkable. If it is wider than this, the effect of restricting the rotation of the disk is reduced.

【0049】シェル内側のフロッピーディスクと接触す
る表面にはフロッピーディスクのクリーニング、フロッ
ピーディスクとシェルの接着防止のため、ライナーが設
けられることが好ましい。ライナーの素材としては、レ
ーヨン繊維、ポリノジック繊維、キュプラ繊維、アセテ
ート繊維等のセルロース系繊維を中心としてポリエステ
ル系繊維、アクリル系繊維を配合した不織布を使用する
ことができる。またライナーには防錆剤、潤滑剤、制電
剤、防かび剤などが含有されていても良い。本発明にお
けるディスクの回転数は2000rpm以上、好ましく
は2500rpmないし7200rpmの範囲である。
回転数が低すぎるとヘッドに働く浮上力が小さく、ディ
スクとヘッドの接触頻度が著しく高くなって、寿命が低
下するとともに、高密度記録に必要なテータ転送速度が
低くなり好ましくない。また回転数が高すぎると、ディ
スクの振動に周期が1周期ではない振動が発生し、ヘッ
ドがディスクに追従できなくなるため、エラレートが悪
化したり、ディスクが摩耗しやすくなる。
It is preferable that a liner is provided on the inner surface of the shell in contact with the floppy disk for cleaning the floppy disk and preventing adhesion between the floppy disk and the shell. As the material of the liner, a non-woven fabric containing polyester-based fibers and acrylic-based fibers, mainly cellulose-based fibers such as rayon fibers, polynosic fibers, cupra fibers, and acetate fibers can be used. Further, the liner may contain a rust inhibitor, a lubricant, an antistatic agent, a fungicide, and the like. The rotation speed of the disk in the present invention is 2000 rpm or more, preferably in the range of 2500 rpm to 7200 rpm.
If the number of rotations is too low, the floating force acting on the head is small, the frequency of contact between the disk and the head is significantly increased, the life is shortened, and the data transfer speed required for high-density recording is undesirably reduced. On the other hand, if the rotation speed is too high, the vibration of the disk is not one cycle, and the head cannot follow the disk, so that the error rate deteriorates and the disk is easily worn.

【0050】[0050]

【実施例】以下に実施例を示し本発明を説明する。 実施例1−1〜1−20、比較例1−1〜1−3 摺動特性評価用ハードディスクと摺動特性評価用フロッ
ピーディスク、および硬度測定用試料にそれぞれ同様に
保護膜を作製し、それぞれの保護膜の各成分を測定する
とともに、硬度測定用試料については硬度試験を、また
ハードディスクについてはボールオンディスク試験(B
OD試験)およびコンタクトストップ−スタート試験
(CSS試験)を行い、フロッピーディスクについて
は、摩擦試験と耐久性試験を行った。
The present invention will be described below with reference to examples. Examples 1-1 to 1-20 and Comparative Examples 1-1 to 1-3 Protective films were prepared in the same manner on the sliding property evaluation hard disk, the sliding property evaluation floppy disk, and the hardness measurement sample, respectively. In addition to measuring each component of the protective film, a hardness test was performed for a sample for hardness measurement, and a ball-on-disk test (B
An OD test) and a contact stop-start test (CSS test) were performed, and a friction test and a durability test were performed on the floppy disk.

【0051】(摺動特性評価用ハードディスクの作製)
表面が鏡面研磨されたNi−Pめっきが施されたハード
ディスク用アルミニウム基板を200℃に加熱した後、
DCマグネトロンスパッタリング法でCr−Ti下地層
を30nm成膜し、引き続きCo−Cr−Pt磁性層を
25nm成膜した。さらにこの表面をアルゴングローで
清浄化した後、この上に表1記載の成膜条件で実施例1
〜18、比較例1〜2は高周波プラズマCVD法によっ
て、実施例19〜20、比較例3はグラファイトをター
ゲツトとした反応性スパッタリング法で、それぞれ厚み
20nmの保護膜を成膜した。次にこの保護膜上にパー
フルオロポリエーテル系潤滑剤(アウジモント社製 F
OMBLlN Z−DOL)とフッ素を導入したホスフ
ァゼン環化合物(ダウケミカル社製 X−1P)をフッ
素系溶剤(住友3M社製 HFE−7200)に溶解し
た溶液を細孔径0.1μmのフィルターで濾過した後、
ディップコート法で塗布して厚み1nmの潤滑膜を作製
した。
(Preparation of Hard Disk for Evaluation of Sliding Characteristics)
After heating the aluminum substrate for hard disk on which the Ni-P plating whose surface is mirror-polished was applied to 200 ° C.,
A 30 nm Cr-Ti underlayer was formed by DC magnetron sputtering, followed by a 25 nm Co-Cr-Pt magnetic layer. Further, after this surface was cleaned with argon glow, Example 1 was formed thereon under the film forming conditions shown in Table 1.
18 and Comparative Examples 1 and 2 were formed by high-frequency plasma CVD, and Examples 19 to 20 and Comparative Example 3 were formed by a reactive sputtering method using graphite as a target. Next, a perfluoropolyether-based lubricant (Audimont F.
A solution in which a phosphazene ring compound (OMBL1N Z-DOL) and fluorine introduced (X-1P manufactured by Dow Chemical Company) were dissolved in a fluorine-based solvent (HFE-7200 manufactured by Sumitomo 3M) was filtered through a filter having a pore diameter of 0.1 μm. rear,
A lubricating film having a thickness of 1 nm was formed by applying a dip coating method.

【0052】(摺動特性評価用フロッピーディスク)両
面の最大突起粗さが200nm、厚み75μmのポリイ
ミドフィルムの両面に熱硬化型イミド樹脂(丸善石油化
学社製 BANl−NB)をエタノールとシクロヘキサ
ノンの混合溶剤に溶解した溶液を細孔径0.1μmのメ
ンブランフィルターで濾過した後、ディップコート法で
塗布し、250℃で12時間加熱し、下塗り膜を作製し
た。さらにこの上にシクロヘンキサノンに分散した粒子
径18nmのオルガノシリカゾルをディップコート法で
塗布した後、250℃で1時間乾燥して、下塗り膜表面
に微小突起を形成した。この微小突起の密度は10個/
μm2 であった。次にこの支持体をホルダーに挟み込ん
だ状態で磁性膜形成用のスパッタリング装置に設置し、
支持体を200℃に加熱した後、直流マグネトロンスパ
ッタリング法でCr−Ti下地膜を30nmの厚さに成
膜し、引き続きCo−Cr−Pt磁性膜を25nm成膜
した。この下地膜、磁性膜は支持体の両面に対して成膜
した。さらにこの磁性膜表面をアルゴングロー放電によ
って清浄化した後、この上に表1記載の成膜条件で実施
例1〜18、比較例1〜2は高周波プラズマCVD法に
よって、実施例19〜20、比較例3はグラファイトを
ターゲットとした反応性スパッタリング法で、それぞれ
厚み20nmの保護膜を成膜した。次にこの試料をホル
ダーから取り出し、保護膜上にパーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤(アウジモント社製 FOMBLlN Z−
DOL)とフッ素を導入したホスファゼン環化合物(ダ
ウケミカル社製 X−1P)をフッ素系溶剤(住友3M
社製HFE−7200)に溶解した溶液を細孔径0.1
μmのフィルターで濾過した後、ディップコート法で塗
布して厚み1nmの潤滑膜を作製した。そしてこの試料
を3.7型の磁気ディスク形状に打ち抜き、カートリッ
ジに組み込んでフロッピーディスクを作製した。
(Floppy Disk for Sliding Characteristics Evaluation) A thermosetting imide resin (BAN1-NB manufactured by Maruzen Petrochemical Co.) was mixed on both sides of a polyimide film having a maximum projection roughness of 200 nm and a thickness of 75 μm on both sides by mixing ethanol and cyclohexanone. The solution dissolved in the solvent was filtered through a membrane filter having a pore diameter of 0.1 μm, applied by a dip coating method, and heated at 250 ° C. for 12 hours to prepare an undercoat film. Further, an organosilica sol having a particle diameter of 18 nm dispersed in cyclohexanone was applied thereon by a dip coating method, and then dried at 250 ° C. for 1 hour to form fine protrusions on the undercoat film surface. The density of these microprojections is 10 /
μm 2 . Next, in a state where the support is sandwiched by a holder, the support is installed in a sputtering apparatus for forming a magnetic film,
After heating the support to 200 ° C., a 30 nm thick Cr—Ti underlayer was formed by DC magnetron sputtering, followed by a 25 nm Co—Cr—Pt magnetic film. The base film and the magnetic film were formed on both sides of the support. Further, after the surface of the magnetic film was cleaned by argon glow discharge, Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2 were formed on the magnetic film by the high frequency plasma CVD method under the film forming conditions shown in Table 1 to obtain Examples 19 to 20, In Comparative Example 3, a protective film having a thickness of 20 nm was formed by a reactive sputtering method using graphite as a target. Next, this sample was taken out of the holder, and a perfluoropolyether-based lubricant (FOMBLIN Z-manufactured by Ausimont, Inc.) was placed on the protective film.
DOL) and a phosphazene ring compound (X-1P manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) into which fluorine has been introduced.
HFE-7200 (manufactured by the company) with a pore size of 0.1
After filtration through a μm filter, the mixture was applied by a dip coating method to form a lubricating film having a thickness of 1 nm. Then, this sample was punched into a 3.7-type magnetic disk shape and assembled into a cartridge to produce a floppy disk.

【0053】(硬度測定用試料)鏡面研磨された単結晶
シリコン基板をアルゴングローで清浄化した後、この上
に表1記載の成膜条件で実施例1−1〜18、比較例1
−1〜1−2は高周波プラズマCVD法によって、実施
例1−19〜1−20、比較例1−3はグラファイトを
ターゲットとした反応性スパッタリング法で、それぞれ
厚みが0.15μmとなる様に保護膜を形成した。作製
した試料は以下の観点から評価を行った。結果を表2に
示した。
(Sample for Hardness Measurement) After the mirror-polished single crystal silicon substrate was cleaned with argon glow, Examples 1-1 to 18 and Comparative Example 1 were formed thereon under the film forming conditions shown in Table 1.
-1 to 1-2 are high-frequency plasma CVD methods, Examples 1-19 to 1-20, and Comparative Example 1-3 are reactive sputtering methods using graphite as targets, each having a thickness of 0.15 μm. A protective film was formed. The prepared sample was evaluated from the following viewpoints. The results are shown in Table 2.

【0054】(評価方法) (1)ボールオンディスク試験による摩擦係数、耐久性
の評価 摺動子として直径1/4インチのAl23−TiCボー
ルを用いたボールオンディスク試験を行った。加重は1
0gf、測定半径位置は30mm、ディスク回転数は6
0rpmとした。試験中摺動子に加わる摩擦力を歪みゲ
ージで測定し、摩擦係数を求めた。摩擦係数が0.5を
超えた時点で試験終了とし、最大300分まで試験を行
った。試験環境は23℃50%とした。結果をBOD1
として、時間を分を単位として表した。また10gfで
300分以上の耐久性を示した試料は加重20gfにつ
いても同様に試験し、BOD2として同様に表した。 (2)CSS試験による耐久性評価 磁気ヘッドを搭載したテーパーフラット型Al23−T
iCスライダーを用いてハードディスク等に要求される
CSS試験、すなわち密着状態で回転を停止した後に回
転を密着状態で回転を開始するコンタクトストップとス
タートによる試験を行った。CSSサイクルは0〜30
00rpm加速3秒、3000rpm維持:10秒、3
000〜0rpm減速3秒、静止3秒を1サイクルと
し、10000サイクルまで試験を行った。加重は5g
f、測定半径位置は35mmとした。試験中摺動子に加
わる摩擦カを歪みゲージで測定し、減速時の摩擦力が5
gfを超えたサイクル数で耐久性を評価した。評価環境
は23℃50%とした。表において、測定結果のサイク
ル数を1000倍の倍率で記載した。
(Evaluation Method) (1) Evaluation of friction coefficient and durability by ball-on-disk test A ball-on-disk test was performed using Al 2 O 3 —TiC balls having a diameter of 1/4 inch as a slider. Weight is 1
0 gf, measurement radius position is 30 mm, disk rotation speed is 6
It was set to 0 rpm. The friction force applied to the slider during the test was measured with a strain gauge, and the friction coefficient was determined. The test was terminated when the coefficient of friction exceeded 0.5, and the test was performed for up to 300 minutes. The test environment was 23 ° C. and 50%. The result is BOD1
The time was expressed in minutes. In addition, a sample that exhibited a durability of 300 minutes or more at 10 gf was similarly tested with a load of 20 gf, and was similarly expressed as BOD2. (2) Durability evaluation by CSS test Tapered flat type Al 2 O 3 -T equipped with a magnetic head
Using an iC slider, a CSS test required for a hard disk or the like, that is, a contact stop and start test in which rotation was stopped in a close contact state and then rotation was started in a close contact state was performed. CSS cycle is 0-30
00 rpm acceleration 3 seconds, 3000 rpm maintenance: 10 seconds, 3
The test was performed up to 10,000 cycles with 3 cycles of deceleration of 000 to 0 rpm and 3 seconds of rest as one cycle. Weight is 5g
f, the measurement radius position was 35 mm. The friction force applied to the slider during the test was measured with a strain gauge, and the frictional force during deceleration was 5
The durability was evaluated with the number of cycles exceeding gf. The evaluation environment was 23 ° C. and 50%. In the table, the number of cycles in the measurement results is shown at a magnification of 1000 times.

【0055】(3)フロッピーディスクの摩擦力測定 フロツピーデイスクについてフロツピーディスクドライ
ブ:(富士写真フイルム社製Zipドライブ)を用いた
摩擦力測定を行った。フロッピーディスクをスピンドル
に設置し、3000rpmで回転させた状態で、Zip
100用ヘッドを荷重5gfとなるようにディスクの両
面から押し当て、このときにヘッドに加わる摩擦力を歪
みゲージで測定した。なお、摩擦力は、走行開始1分後
における上側のヘッドと下側のヘッドの摩擦力の平均値
とした。測定環境は23℃50%RHとした。 (4)フロッピーディスクドライブによる固定トラック
耐久試験 フロツピーデイスクについてフロツピーディスクドライ
ブ:(富士写真フイルム社製Zipドライブを用いた走
行耐久試験を行った。ヘッドを半径20mmの位置に固
定し、ディスクの両面について8MHzの信号の記録一
再生を1分の周期で繰り返し、再生出力が初期出力の一
6dBに減衰するまでの時間を評価した。試験は最大3
00時間まで行った。環境は23℃50%RHとした。 (5)硬度 硬度測定用の試料を、微小硬度計(HYSITRON社
製 TRIBOSCOPE)を用いて測定した。測定に
用いたダイヤモンド圧子は先端稜角90度、先端曲率半
径35〜50nmの三角錘型で、保護層に直角に当て、
最大荷重P=600μNまで徐々に印加し、最大荷重到
達後に荷重を0にまで徐々に戻す。この時の最大荷重P
を圧子接触部の投影面積Aで除した値P/Aを硬度とし
て算出した。圧子接触部の投影面積Aは、押し込み試験
によって得られた深さ−荷重曲線のうち、徐荷曲線の初
期30%を直線に近似して外挿、深さ軸と交差する点を
圧子接触部の接触深さhとし、圧子の形状よりhの関数
として求められる。なお、標準試料として、溶融石英を
押し込んだ結果得られる硬さが8〜10GPaとなるよ
う、事前に装置を校正して測定した。 (6)化学組成 硬度測定用試料についてC、H、N、希ガス組成をラザ
フォード後方散乱法を用いて調べた。
(3) Measurement of Friction Force of Floppy Disk Friction force of a floppy disk was measured using a floppy disk drive (Zip drive manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). With the floppy disk set on the spindle and rotating at 3000 rpm, Zip
A 100 head was pressed from both sides of the disc so as to have a load of 5 gf, and the frictional force applied to the head at this time was measured with a strain gauge. The frictional force was an average value of the frictional force between the upper head and the lower head one minute after the start of traveling. The measurement environment was 23 ° C. and 50% RH. (4) Fixed Track Endurance Test Using Floppy Disk Drive Floppy disk drive: (A running endurance test was performed using a Zip drive manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The recording and reproduction of an 8 MHz signal on both sides were repeated at a cycle of 1 minute, and the time required for the reproduction output to attenuate to 16 dB of the initial output was evaluated.
Up to 00 hours. The environment was 23 ° C. and 50% RH. (5) Hardness A sample for hardness measurement was measured using a micro hardness tester (TRIBOSCOPE manufactured by HYSITRON). The diamond indenter used for the measurement was a triangular pyramid with a tip ridge angle of 90 degrees and a tip curvature radius of 35 to 50 nm.
The load is gradually applied up to the maximum load P = 600 μN, and after the maximum load is reached, the load is gradually returned to 0. Maximum load P at this time
Was divided by the projected area A of the indenter contact portion, and the value P / A was calculated as the hardness. The projected area A of the indenter contact portion is obtained by extrapolating the initial 30% of the unloading curve from the depth-load curve obtained by the indentation test by approximating the straight line to a straight line, and setting the point intersecting the depth axis with the indenter contact portion. Is obtained as a function of h from the shape of the indenter. In addition, the apparatus was calibrated and measured in advance so that the hardness obtained as a result of pressing the fused quartz as a standard sample was 8 to 10 GPa. (6) Chemical Composition C, H, N, and rare gas compositions of the hardness measurement samples were examined by using Rutherford backscattering method.

【0056】[0056]

【表1】 試料 炭化水素ガス種 窒素 希ガス種 基板バイアス 投入電力 流量 流量 流量 電圧 (ccm) (ccm) (ccm) (V) (W) 実施例1-1 エチレン アルゴン −500 500 75 75 300 実施例1-2 エチレン アルゴン −500 500 90 60 300 実施例1-3 エチレン アルゴン −500 500 105 45 300 実施例1-4 エチレン アルゴン −500 500 120 30 300 比較例1-1 エチレン アルゴン −500 500 135 15 300 比較例1-2 エチレン アルゴン −500 500 150 0 300 実施例1-5 エチレン アルゴン −500 500 60 90 300 実施例1-6 エチレン アルゴン −600 500 90 60 300 実施例1-7 エチレン アルゴン −700 500 90 60 300 実施例1-8 エチレン アルゴン −300 500 90 60 300 実施例1-9 エチレン アルゴン −500 500 90 60 500 実施例1-10 エチレン ヘリウム −500 500 90 60 300 実施例1-11 エチレン −− −500 500 90 300 0 実施例1-12 メタン アルゴン −500 500 150 150 300 実施例1-13 メタン アルゴン −500 500 150 60 300 実施例1-14 アセチレン アルゴン −500 500 60 90 300 実施例1-15 アセチレン アルゴン −500 500 90 60 300 実施例1-16 エチレン アルゴン −500 700 90 60 300 実施例1-17 エチレン アルゴン −500 300 90 60 300 実施例1-18 水素 アルゴン 0 700 10 5 10 実施例1-19 水素 アルゴン 0 700 10 3 10 実施例1-20 水素 アルゴン −200 700 10 5 10 比較例1-3 水素 アルゴン 0 700 10 0 10[Table 1] Sample Hydrocarbon gas species Nitrogen rare gas species Substrate bias Input power Flow rate Flow rate Voltage (ccm) (ccm) (ccm) (V) (W) Example 1-1 Ethylene argon -500 500 75 75 300 Implementation Example 1-2 Ethylene argon-500 500 90 60 300 Example 1-3 Ethylene argon-500 500 105 45 300 Example 1-4 Ethylene argon-500 500 120 30 300 Comparative example 1-1 Ethylene argon-500 500 135 15 15 300 Comparative Example 1-2 Ethylene argon -500 500 1500 300 Example 1-5 Ethylene argon -500 500 60 90 300 Example 1-6 Ethylene argon -600 500 90 60 300 Example 1-7 Ethylene argon -700 500 90 60 300 Example 1-8 Ethylene Argon 300 500 90 60 300 Example 1-9 Ethylene Argon -500 500 90 60 500 Example 1-10 Ethylene Helium -500 500 90 60 300 Example 1-11 Ethylene -500 500 90 300 0 Example 1-12 Methane argon -500 500 150 150 300 Example 1-13 Methane argon -500 500 150 60 300 Example 1-14 Acetylene argon -500 500 60 90 300 Example 1-15 Acetylene argon -500 500 90 60 300 Example 1 -16 Ethylene argon -500 700 90 60 300 Example 1-17 Ethylene argon -500 300 90 60 300 Example 1-18 Hydrogen argon 0 700 10 5 10 Example 1-19 Hydrogen argon 0 700 10 3 10 Example 1 -20 hydrogen argon -2 0 700 10 5 10 Comparative Example 1-3 hydrogen argon 0 700 10 0 10

【0057】[0057]

【表2】 各成分と含有率(atm%) 硬度 BOD1 BOD2 CSS FD摩擦 FD耐久 試料 炭素 水素 窒素 希ガス GPa (分) (分) (×1000)(gf) (時) 実施例1-1 62.0 29.5 7.4 1.1 32.7 >300 >300 >10 0.4 >300 実施例1-2 66.6 29.2 3.3 0.9 36.9 >300 263 >10 0.4 >300 案施例1-3 64.9 31.7 2.6 0.8 37.0 >300 243 >10 0.6 >300 実施例1-4 65.9 32.7 0.7 0.7 36.5 >300 5 >10 0.8 >300 比較例1-1 66.4 33.0 0 0.5 38.7 >300 2 7.8 1.2 190 比較例1-2 60.6 39.0 0 0.4 40.8 28 -- 1.7 1.5 259 実施例1-5 60.9 28.0 9.6 1.5 28.1 >300 261 0.1 0.5 16 実施例1-6 67.4 28.4 3.0 1.2 37.1 >300 >300 >10 0.5 >300 実施例1-7 68.2 27.0 3.3 1.5 39.2 12 -- O.9 0.4 98 実施例1-8 59.2 35.2 5.2 0.4 27.6 >300 2 0.5 0.5 >300 実施例1-9 66.5 28.8 3.5 1.2 37.1 >300 221 >10 0.6 >300 実施例1-10 63.8 30.3 4.7 1.2 30.9 >300 >300 >10 0.4 >300 実施例1-11 57.2 37.5 5.3 0 29.4 74 -- 0.4 0.9 3 実施例1-12 60.2 32.5 6.5 0.8 28.2 >300 2 7.5 0.6 >300 実施例1-13 60.6 33.5 5.2 0.7 29.1 >300 8 9.8 0.6 >300 実施例1-14 66.9 25.1 7.1 0.9 34.2 >300 32 5.4 0.5 261 実施例1-15 68.7 25.7 4.8 0.8 35.3 >300 55 >10 0.6 >300 実施例1-16 66.1 29.6 3.4 0.9 35.4 >300 191 >10 0.5 >300 実施例1-17 65.2 31.9 2.4 0.5 32.4 >300 9 7.9 0.5 290 実施例1-18 57.7 30.2 12.1 O 22.2 241 -- 1.5 0.6 21 実施例1-19 63.7 28.8 7.5 0.4 23.6 164 -- 1.2 0.8 87 実施例1-20 59.1 26.4 13.8 0.7 26.1 56 -- 2.6 0.8 7 比較例1-3 78.7 20.9 0 0.4 19.8 10 -- 1.9 1.6 20 [Table 2] Each component and content (atm%) Hardness BOD1 BOD2 CSS FD friction FD durability sample Carbon hydrogen Nitrogen Noble gas GPa (min) (min) (× 1000) (gf) (hour) Examples 1-1 62.0 29.5 7.4 1.1 32.7>300>300> 10 0.4> 300 Example 1-2 66.6 29.2 3.3 0.9 36.9> 300 263> 10 0.4> 300 Example 1-3 64.9 31.7 2.6 0.8 37.0> 300 243> 10 0.6> 300 Example 1-4 65.9 32.7 0.7 0.7 36.5> 300 5> 10 0.8> 300 Comparative Example 1-1 66.4 33.0 0 0.5 38.7> 300 2 7.8 1.2 190 Comparative Example 1-2 60.6 39.0 0 0.4 40.8 28-1.7 1.5 259 Example 1-5 60.9 28.0 9.6 1.5 28.1> 300 261 0.1 0.5 16 Example 1-6 67.4 28.4 3.0 1.2 37.1>300>300> 10 0.5> 300 Example 1-7 68.2 27.0 3.3 1.5 39.2 12-O. 9 0.4 98 Example 1-8 59.2 35.2 5.2 0.4 27.6> 300 2 0.5 0.5> 300 Example 1-9 66.5 28.8 3.5 1.2 37.1> 300 221> 10 0.6> 300 Example 1-10 63.8 30.3 4.7 1.2 30.9> 300 >300> 10 0.4> 300 Example 1-11 57.2 37.5 5.3 0 29.4 74-0.4 0.9 3 Example 1-12 60.2 32.5 6.5 0.8 28.2> 300 2 7.5 0.6> 300 Example 1-13 60.6 33.5 5.2 0.7 29.1 > 300 8 9.8 0.6> 300 Example 1 14 66.9 25.1 7.1 0.9 34.2> 300 32 5.4 0.5 261 Example 1-15 68.7 25.7 4.8 0.8 35.3> 300 55> 10 0.6> 300 Example 1-16 66.1 29.6 3.4 0.9 35.4> 300 191> 10 0.5> 300 Example 1-17 65.2 31.9 2.4 0.5 32.4> 300 9 7.9 0.5 290 Example 1-18 57.7 30.2 12.1 O 22.2 241-1.5 0.6 21 Example 1-19 63.7 28.8 7.5 0.4 23.6 164-1.2 0.8 87 Example 1 20 59.1 26.4 13.8 0.7 26.1 56-2.6 0.8 7 Comparative Example 1-3 78.7 20.9 0 0.4 19.8 10-1.9 1.6 20

【0058】上記実施例および比較例が示すように、 ・エチレンと窒素の流量を変化させることによって炭
素、水素、窒素、希ガスの含有率が変化し、窒素流量が
少なくなると保護膜中の窒素および希ガス含有率が減少
する。これに伴って保護膜の硬度は高くなるが摺動特性
が低下する。これは繰り返し摺動時の摩擦係数の上昇が
生じるためである。−方、窒素ガスの流量を多くしすぎ
ると硬度が低下し、摺動特性が劣化する。これは硬度低
下によって保護膜が摩耗しやすくなるためと考えられ
る。 ・基板バイアス電圧を増加させると保護膜中の希ガスの
含有率が増加し、逆に基板バイアス電圧を減少させると
希ガスの含有率が減少する。これらの場合、ともに摺動
特性は劣化するが、希ガスの含有率が多い場合は保護膜
の内部応カの増加、少ない場合は硬度低下が原因と考え
られる。 ・希ガスをアルゴンからヘリウムに変更すると摺動特性
はあまり変化しないが、硬度が低下する。また希ガスを
添加しないと保護膜中の水素、窒素含有率が高くなり、
硬度および摺動特性がともに低下する。膜の有機性が高
くなるためと考えられる。 ・炭化水素ガスとしてメタンを使用すると保護膜中の水
素含有率が多くなり、硬度および摺動特性が低下する傾
向にある。またアセチレンを使用すると逆に水素含有率
が低下する傾向になる。 ・高周波電力を変化させると希ガス含有率が若干変化
し、硬度、摺動特性ともに若干低下した。 ・反応性スパッタリング法で作製した保護膜は硬度が低
く、耐久性も同様の組成のCVD成膜品と比較すると劣
る。本発明によって作製した保護膜は高い硬度と低い摩
擦係数を両立することができ、その結果、ハードディス
クおよびフロッピーディスクいずれの磁気ディスクにお
いても優れた走行耐久性を得ることができる。
As can be seen from the above Examples and Comparative Examples, by changing the flow rates of ethylene and nitrogen, the contents of carbon, hydrogen, nitrogen, and a rare gas change, and when the flow rate of nitrogen decreases, the nitrogen in the protective film decreases. And the noble gas content is reduced. As a result, the hardness of the protective film increases, but the sliding characteristics deteriorate. This is because the friction coefficient increases during repeated sliding. On the other hand, if the flow rate of the nitrogen gas is too large, the hardness decreases, and the sliding characteristics deteriorate. It is considered that this is because the protective film is easily worn due to the decrease in hardness. When the substrate bias voltage is increased, the content of the rare gas in the protective film is increased. Conversely, when the substrate bias voltage is reduced, the content of the rare gas is reduced. In these cases, the sliding characteristics deteriorate in both cases. However, it is considered that when the content of the rare gas is high, the internal reaction of the protective film increases, and when the content is low, the hardness decreases. -When the rare gas is changed from argon to helium, the sliding characteristics do not change much, but the hardness decreases. Also, if no rare gas is added, the content of hydrogen and nitrogen in the protective film increases,
Both hardness and sliding characteristics are reduced. It is considered that the organic property of the film is increased. -When methane is used as the hydrocarbon gas, the hydrogen content in the protective film increases, and the hardness and sliding characteristics tend to decrease. Conversely, when acetylene is used, the hydrogen content tends to decrease. -When the high frequency power was changed, the rare gas content slightly changed, and both the hardness and the sliding characteristics were slightly lowered. -The protective film formed by the reactive sputtering method has low hardness and is inferior in durability to a CVD film having the same composition. The protective film produced according to the present invention can achieve both high hardness and a low coefficient of friction, and as a result, excellent running durability can be obtained for both hard disks and floppy disks.

【0059】実施例2−1〜2−15および比較例2−
1〜2−3 (フロッピーディスクの作製)両面の最大突起粗さが2
00nm、厚み50μmのポリイミドフィルムの両面に
熱硬化型イミド樹脂(丸善石油化学社製 BANI−N
B)をディツプコート法で塗布した後、250℃で12
時間焼成し、膜厚1.7μmの下塗り膜を作製した。さ
らに下塗り膜上に粒子径18nmのオルガノシリカゾル
をディップコート法で塗布した後、250℃で1時間乾
燥して、下塗り膜表面に微小突起を形成した。形成した
微小突起の密度は10個/μm2 であった。次にこの支
持体をホルダーに挟み込んだ状態でスパッタリング装置
に設置し、支持体を200℃に加熱しながら、DCマグ
ネトロンスパッタリング法でCr−Ti下地膜を30n
m成膜し、引き続きCo−Cr−Pt磁性膜を25nm
成膜した。この下地膜、磁性膜は支持体の両面に対して
成膜した。さらにこの磁性膜表面をアルゴングローによ
って清浄化処理した後、この上に表3記載の成膜条件で
RFプラズマCVD法によって厚み20nmの保護膜を
成膜した。次にこの試料をホルダーから取り出し、保護
膜上にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤(アウジモン
ト社製FOMBLIN Z−DOL)をフッ素系溶剤
(住友スリーエム社製 HFE−7200)に溶解した
溶液をディップコート法で塗布して厚み1nmの潤滑膜
を作製した。そしてこの試料を3.7型の磁気ディスク
形状に打ち抜き、シェルに組み込んでフロッピーディス
クを作製した。
Examples 2-1 to 2-15 and Comparative Example 2-
1-2 (Production of floppy disk) Maximum protrusion roughness on both sides is 2
A thermosetting imide resin (BANI-N manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)
After B) was applied by dip coating, 12
After firing for an hour, an undercoat film having a thickness of 1.7 μm was formed. Further, an organosilica sol having a particle diameter of 18 nm was applied on the undercoating film by dip coating, and then dried at 250 ° C. for 1 hour to form fine projections on the undercoating film surface. The density of the formed microprojections was 10 / μm 2 . Next, the support was placed in a sputtering apparatus with the support sandwiched between holders, and while the support was heated to 200 ° C., a 30 nm Cr—Ti underlayer was formed by DC magnetron sputtering.
m, followed by a Co-Cr-Pt magnetic film of 25 nm.
A film was formed. The base film and the magnetic film were formed on both sides of the support. Further, after the surface of the magnetic film was cleaned by argon glow, a protective film having a thickness of 20 nm was formed thereon by RF plasma CVD under the film forming conditions shown in Table 3. Next, the sample was taken out of the holder, and a solution prepared by dissolving a perfluoropolyether-based lubricant (FOMBLIN Z-DOL manufactured by Ausimont) in a fluorine-based solvent (HFE-7200 manufactured by Sumitomo 3M) on the protective film was subjected to dip coating. To form a lubricating film having a thickness of 1 nm. Then, this sample was punched into a 3.7-type magnetic disk shape and assembled into a shell to produce a floppy disk.

【0060】(磁気ヘッドの作製)磁気記録信号の再生
素子にMR素子を用いたMRヘッドを搭載したテーパー
フラット2レール型のAl23−TrCスライダー(ナ
ノスライダー)の摺動面表面をアルゴングローで清浄化
した後、密着層としてケイ素膜をDCマグネトロンスパ
ッタリング法で厚みが5nmとなるように作製した後、
この上に表3記載の成膜条件でRFプラズマCVD法に
よって厚みが10nmとなるように炭素保護膜を成膜し
た。このスライダーをサスペンションに取り付け、トラ
ンスパース型のヘッド駆動機構を有する磁気ヘッドを作
製した。
(Fabrication of Magnetic Head) The sliding surface of a tapered flat 2-rail type Al 2 O 3 —TrC slider (nano slider) equipped with an MR head using an MR element as a magnetic recording signal reproducing element is argon. After cleaning with glow, a silicon film was formed as an adhesion layer by DC magnetron sputtering so as to have a thickness of 5 nm.
A carbon protective film was formed thereon by RF plasma CVD under the film forming conditions shown in Table 3 so as to have a thickness of 10 nm. The slider was mounted on a suspension to produce a magnetic head having a trans-perspective head drive mechanism.

【0061】(硬度測定用試料)フロッピーディスクお
よび磁気ヘッドとは別に硬度測定用試料を作製した。こ
の試料は鏡面研磨された単結晶シリコン基板をアルゴン
グローで清浄化した後、フロッピーディスクおよびスラ
イダーの保護膜と同様の条件で、膜厚が0.1μmとな
るように作製した。(走行耐久評価)表3記載の成膜条
件で炭素保護膜を形成したフロッピーディスクおよび磁
気ヘッドを表4の組み合わせで使用し、フロッピーディ
スクの中心からの半径位置32mmのトラックにおいて
走行耐久テストを行った。試験は1分サイクルでディス
クの両面について12MHzの信号を記録−再生を繰り
返し、再生出力が初期出力の−6dBに滅衰するまでの
時間を評価した。試験は最大300時間までった。加重
は34.3mN、評価環境は23℃10%RHとした。
結果は表4に併せて示した。
(Sample for Hardness Measurement) A sample for hardness measurement was prepared separately from the floppy disk and the magnetic head. This sample was prepared by cleaning a mirror-polished single-crystal silicon substrate with argon glow and then forming a film having a thickness of 0.1 μm under the same conditions as those of the protective films of the floppy disk and the slider. (Evaluation of running durability) Using a combination of the floppy disk and the magnetic head on which the carbon protective film was formed under the film forming conditions shown in Table 3 in Table 4, a running durability test was performed on a track having a radial position of 32 mm from the center of the floppy disk. Was. In the test, a 12-MHz signal was repeatedly recorded and reproduced on both sides of the disk in a one-minute cycle, and the time until the reproduction output decreased to the initial output of -6 dB was evaluated. The test lasted up to 300 hours. The load was 34.3 mN, and the evaluation environment was 23 ° C. and 10% RH.
The results are shown in Table 4.

【0062】(保護膜の硬度測定)硬度測定用の試料に
ついて以下の微小硬度計による押し込み試験を行い、硬
度を求めた。 微小硬度測定装計:TRIBOSCOPE(HYSIT
RON社)を用いて、 圧子:ダイヤモンド製圧子 先端稜角90°、先端曲率半径35〜50nm(型番:
T1−037) 最大荷重:15μN 測定時間:5秒間 の条件で、測定試料を1cm角に切り出し、金属板上に
両面粘着テープで貼り付け、測定試料を取り付けた金属
板を測定装置に取り付けて最大荷重を印加し、荷重を0
にまで徐々に戻す操作を行い、この時の、もぐり込み量
を原子間力顕微鏡(ディジタルインスツルメンツ社 N
anoScopeII)で測定するとともに、最大荷重
Pを圧子接触部の投影面積Aで除した値P/Aを硬度と
し、測定結果を表3に示した。
(Measurement of Hardness of Protective Film) A sample for hardness measurement was subjected to an indentation test using a microhardness meter as described below, and the hardness was determined. Micro hardness measurement instrument: TRIBOSCOPE (HYSIT
Indenter: Diamond indenter Tip angle 90 °, Tip radius of curvature 35-50 nm (Model number:
T1-037) Maximum load: 15 μN Measurement time: 5 seconds Under conditions of 5 seconds, a measurement sample was cut out into a 1 cm square, affixed on a metal plate with a double-sided adhesive tape, and the metal plate on which the measurement sample was mounted was mounted on a measurement device and the maximum. Apply a load and set the load to 0
Operation, and the amount of penetration at this time is measured by an atomic force microscope (Digital Instruments N
(AnoScopeII), and the hardness was defined as a value P / A obtained by dividing the maximum load P by the projected area A of the indenter contact portion.

【0063】(保護膜の化学組成)硬度測定用試料につ
いてC、H、N、および希ガス組成をX線光電子分光分
析装置(ESCA XPS)を用いてラザフォード後方
散乱法によって調べ、その結果を表3に示した。
(Chemical Composition of Protective Film) The C, H, N, and rare gas compositions of the hardness measurement samples were examined by Rutherford backscattering method using an X-ray photoelectron spectrometer (ESCA XPS), and the results were tabulated. 3 is shown.

【0064】[0064]

【表3】 試料 気体流量(ccm) 基板 投入 含有率(atm%) 硬度24 窒素 アルコ゛ン ハ゛イアス 電力 炭素 水素 窒素 希カ゛ス (GPa) A 60 90 300 -500V 500W 60.9 28.0 9.6 1.5 28.1 B 75 75 300 -500V 500W 62.0 29.5 7.4 1.1 32.7 C 90 60 300 -500V 500W 66.6 29.2 3.3 0.9 36.9 O 90 60 300 -300V 500W 59.2 35.2 5.2 0.4 27.6 E 105 45 300 -500V 500W 64.9 31.7 2.6 0.8 37.0 F 120 30 300 -500V 500W 65.9 32.7 0.7 0.7 36.5 G 135 15 300 -500V 500W 66.4 33.0 0 0.5 38.7 H 150 1 300 -500V 500W 60.6 39.0 0 0.4 40.8 I 150 0 300 -300V 500W 57.4 42.3 0 0.3 21.5 J 150 0 300 -200V 500W 40.3 59.7 0 0.0 8.9 K 炭素保護膜無し[Table 3] Sample gas flow rate (ccm) Substrate input content (atm%) Hardness C 2 H 4 nitrogen Alcohol bias Electric power carbon hydrogen nitrogen rare gas (GPa) A 60 90 300 -500V 500W 60.9 28.0 9.6 1.5 28.1 B 75 75 300 -500V 500W 62.0 29.5 7.4 1.1 32.7 C 90 60 300 -500V 500W 66.6 29.2 3.3 0.9 36.9 O 90 60 300 -300V 500W 59.2 35.2 5.2 0.4 27.6 E 105 45 300 -500V 500W 64.9 31.7 2.6 0.8 37.0 F 120 30 300- 500V 500W 65.9 32.7 0.7 0.7 36.5 G 135 15 300 -500V 500W 66.4 33.0 0 0.5 38.7 H 150 1 300 -500V 500W 60.6 39.0 0 0.4 40.8 I 150 0 300 -300V 500W 57.4 42.3 0 0.3 21.5 J 150 0 300 -200V 500W 40.3 59.7 0 0.0 8.9 K Without carbon protective film

【0065】[0065]

【表4】 試料 フロッピーディスク 磁気ヘッドの 走行耐久時間 の炭素保護膜の種類 炭素保護膜の種類 (h) 実施例2−1 A H 248 実施例2−2 B H >300 実施例2−3 C H >300 実施例2−4 C H >300 実施例2−5 C G 212 実施例2−6 C I 255 実施例2−7 C J 38 実施例2−8 D H >300 実施例2−9 E H >300 実施例2−10 F H >300 実施例2−11 G H 289 実施例2−12 H H 98 実施例2−13 H C 59 実施例2−14 I H 98実施例2−15 J H 44 比較例2−1 C K 12 比較例2−2 K H 0 比較例2−3 K K 0Table 4 Sample Floppy disk Type of carbon protective film for running durability time of magnetic head Type of carbon protective film (h) Example 2-1 AH248 Example 2-2 BH> 300 Example 2-3C H> 300 Example 2-4 CH> 300 Example 2-5 CG 212 Example 2-6 CI 255 Example 2-7 C J38 Example 2-8 DH> 300 Example 2-9 EH> 300 Example 2-10 FH> 300 Example 2-11 GH289 Example 2-12 HH98 Example 2-13 HC59 Example 2-14 IH98 Example 2-15 JH44 Comparative Example 2-1 CK12 Comparative Example 2-2 KH0 Comparative Example 2-3 KK0

【0066】[0066]

【発明の効果】以上のようにフロッピーディスクおよび
磁気ヘッドに炭素保護膜を設けたものは、フロッピーデ
ィスクあるいは磁気ヘッドのいずれかに炭素保護膜を設
けなかった組み合わせのフロッピーディスクを用いた記
録方式に比べて、大幅に走行耐久性が劣ることがわか
る。また、磁気ヘッドの炭素保護膜の硬度が30GPa
以上かつフロッピーディスクの保護膜の硬度が20〜4
0GPaで、磁気ヘッドの炭素保護膜の硬度がフロッピ
ーディスクの炭素保護膜よりも大きいフロッピーディス
ク記録方式は特にその耐久性の向上効果が大きいことが
わかる。磁気ヘッドには炭素と水素を中心とした炭素保
護膜、フロッピーディスクに炭素、水素、窒素を中心と
した炭素保護膜を設けることによって、耐久性が向上す
ることがわかる。また、フロッピーディスクおよび磁気
ヘッドの両者に炭素保護膜を設けたので、金属薄膜から
なる磁性層を形成した高密度記録が可能なフロッピーデ
ィスクにあっても充分な実用信頼性を確保することがで
きる。
As described above, the floppy disk and the magnetic head provided with the carbon protective film have a recording method using a floppy disk in which the carbon protective film is not provided on either the floppy disk or the magnetic head. In comparison, it can be seen that the running durability is significantly inferior. Further, the hardness of the carbon protective film of the magnetic head is 30 GPa.
And the hardness of the protective film of the floppy disk is 20 to 4
It can be seen that, at 0 GPa, the floppy disk recording method in which the hardness of the carbon protective film of the magnetic head is larger than the hardness of the carbon protective film of the floppy disk has a particularly large effect of improving durability. It can be seen that durability is improved by providing the magnetic head with a carbon protective film centered on carbon and hydrogen and the floppy disk with a carbon protective film centered on carbon, hydrogen and nitrogen. Further, since the carbon protective film is provided on both the floppy disk and the magnetic head, sufficient practical reliability can be ensured even for a high-density floppy disk having a magnetic layer formed of a metal thin film. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は高周波プラズマを利用したCVD装置の
一例を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a CVD apparatus using high-frequency plasma.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…金属薄膜、2…支持体、3−ロール、4…パスロー
ラ、5…バイアス電源、6…原料気体、7…高周波電
源、8…成膜ロール、9…炭素保護膜、10…巻き取り
ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal thin film, 2 ... Support, 3-roll, 4 ... Pass roller, 5 ... Bias power supply, 6 ... Raw material gas, 7 ... High frequency power supply, 8 ... Film forming roll, 9 ... Carbon protective film, 10 ... Winding roll

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D006 AA02 AA05 DA02 EA03 FA02 FA05 5D111 BB28 BB37 BB48 FF01 FF44 5D112 AA05 AA07 AA11 AA24 BC05 BC08 FA04 FA10 FB09 FB26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5D006 AA02 AA05 DA02 EA03 FA02 FA05 5D111 BB28 BB37 BB48 FF01 FF44 5D112 AA05 AA07 AA11 AA24 BC05 BC08 FA04 FA10 FB09 FB26

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性支持体の少なくとも一方の面に磁
性膜、保護膜、潤滑膜を積層した構成の磁気ディスクに
おいて、保護膜は少なくとも炭素、水素および窒素を含
有することを特徴とする磁気ディスク。
1. A magnetic disk having a structure in which a magnetic film, a protective film and a lubricating film are laminated on at least one surface of a flexible support, wherein the protective film contains at least carbon, hydrogen and nitrogen. Magnetic disk.
【請求項2】 可撓性支持体もしくは剛性支持体の少な
くとも一方の面に磁性層、保護膜、潤滑膜を積層した構
成の磁気ディスクにおいて、保護膜は少なくとも炭素、
水素、窒素および希ガス元素を含有することを特徴とす
る磁気ディスク。
2. A magnetic disk having a structure in which a magnetic layer, a protective film, and a lubricating film are laminated on at least one surface of a flexible support or a rigid support, wherein the protective film is made of at least carbon,
A magnetic disk containing hydrogen, nitrogen and a rare gas element.
【請求項3】 保護膜の窒素含有率が0.5〜8.0a
tm%であることを特徴とする請求項1または2記載の
磁気ディスク。
3. The protective film has a nitrogen content of 0.5 to 8.0 a.
3. The magnetic disk according to claim 1, wherein the magnetic disk is tm%.
【請求項4】 保護膜の水素含有率が25〜35atm
%であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁
気ディスク。
4. The protective film has a hydrogen content of 25 to 35 atm.
%. 3. The magnetic disk according to claim 1, wherein
【請求項5】 保護膜の炭素含有率が60〜70atm
%であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁
気ディスク。
5. The protective film having a carbon content of 60 to 70 atm.
%. 3. The magnetic disk according to claim 1, wherein
【請求項6】 保護膜の希ガス元素含有率が0.5〜
1.2atm%であることを特徴とする請求項2に記載
の磁気ディスク。
6. The protective film has a rare gas element content of 0.5 to 0.5.
3. The magnetic disk according to claim 2, wherein the content is 1.2 atm%.
【請求項7】 磁気ディスクの製造方法において、可撓
性支持体もしくは剛性支持体の少なくとも一方の面に磁
性膜を成膜した後、この磁性膜に負バイアスを印加した
状態で、炭化水素、窒素、希ガス類元素の混合ガスを原
料としたプラズマCVD法によって磁性膜表面に保護膜
を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
7. A method of manufacturing a magnetic disk, comprising: forming a magnetic film on at least one surface of a flexible support or a rigid support; and applying a hydrocarbon to the magnetic film while applying a negative bias to the magnetic film. A method for manufacturing a magnetic disk, comprising forming a protective film on a magnetic film surface by a plasma CVD method using a mixed gas of nitrogen and a rare gas element as a raw material.
【請求項8】 磁性膜をスパッタリング法で形成するこ
とを特徴とする請求項7記載のディスクの製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the magnetic film is formed by a sputtering method.
【請求項9】 フロッピーディスクを用いた磁気記録方
式において、可撓性支持体の少なくとも一方に強磁性金
属薄膜、炭素保護膜を積層したフロッピーディスクを磁
気記録媒体とするとともに、ヘッドまたはスライダー表
面に炭素保護膜を設けたフロッピーディスク装置で磁気
信号の記録再生を行うことを特徴としたフロッピーディ
スクを用いた磁気記録方式。
9. A magnetic recording system using a floppy disk, wherein a magnetic recording medium is a floppy disk in which a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film are laminated on at least one of a flexible support and a head or slider surface is provided. A magnetic recording system using a floppy disk, characterized in that a magnetic signal is recorded and reproduced by a floppy disk device provided with a carbon protective film.
【請求項10】 フロッピーディスクの炭素保護膜の硬
度がヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の硬度よ
りも低いことを特徴とする請求項9記載のフロッピーデ
ィスクを用いた磁気記録方式。
10. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 9, wherein the hardness of the carbon protective film on the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider.
【請求項11】 フロッピーディスクの炭素保護膜の微
小硬度が20GPaから40GPaの範囲であり、ヘッ
ドまたはスライダー表面の炭素保護膜の微小硬度が30
GPa以上であり、かつフロッピーディスクの炭素保護
膜の硬度がヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の
硬度よりも低いことを特徴とする請求項9記載のフロッ
ピーディスクを用いた磁気記録方式。
11. The micro-hardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa, and the micro-hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30.
10. The magnetic recording method using a floppy disk according to claim 9, wherein the hardness is not less than GPa and the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider.
【請求項12】 フロッピーディスクを用いた磁気記録
方式において、可撓性支持体の少なくとも一方に強磁性
金属薄膜を有し、強磁性金属薄上には少なくとも炭素、
水素および窒素を含んだ炭素保護膜を積層したフロッピ
ーディスクを磁気記録媒体とするとともに、ヘッドまた
はスライダー表面に炭素保護膜を設けたフロッピーディ
スク装置で磁気信号の記録再生を行うことを特徴とした
フロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
12. A magnetic recording system using a floppy disk, wherein at least one of the flexible supports has a ferromagnetic metal thin film, and at least carbon,
A floppy disk characterized by using a floppy disk laminated with a carbon protective film containing hydrogen and nitrogen as a magnetic recording medium and recording / reproducing a magnetic signal with a floppy disk device having a carbon protective film on a head or a slider surface. A magnetic recording method using a disk.
【請求項13】 フロッピーディスクの炭素保護膜の水
素含有率が25〜35atm%、窒素含有率が0.5〜
8.0atm%であることを特徴とする請求項12に記
載のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
13. The carbon protective film of the floppy disk has a hydrogen content of 25 to 35 atm% and a nitrogen content of 0.5 to 35 atm%.
13. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 12, wherein the amount is 8.0 atm%.
【請求項14】 フロッピーディスクの炭素保護膜が少
なくとも炭素、水素、窒素および希ガス元素を含有する
ことを特徴とする請求項12に記載のフロッピーディス
クを用いた磁気記録方式。
14. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 12, wherein the carbon protective film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and a rare gas element.
【請求項15】 フロッピーディスクの炭素保護膜が少
なくとも炭素、水素、窒素および希ガス元素を含有し、
その水素含有率が25〜35atm%、窒素含有率が
0.5〜8.0atm%、希ガス元素含有率が0.5〜
1.2atm%であることを特徴とする請求項12に記
載のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
15. The carbon protective film of a floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and a rare gas element,
The hydrogen content is 25-35 atm%, the nitrogen content is 0.5-8.0 atm%, and the rare gas element content is 0.5-atm.
13. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 12, wherein the amount is 1.2 atm%.
【請求項16】 フロッピーディスクの炭素保護膜の微
小硬度が20GPaから40GPaの範囲であり、ヘッ
ドまたはスライダー表面の炭素保護膜の微小硬度が30
GPa以上であり、かつフロッピーディスクの炭素保護
膜の硬度がヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の
硬度よりも低いことを特徴とする請求項12に記載のフ
ロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
16. The micro hardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa, and the micro hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30 GPa.
13. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 12, wherein the hardness is not less than GPa and the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider.
【請求項17】 フロッピーディスクを用いた磁気記録
方式において、可撓性支持体の少なくとも一方に強磁性
金属薄膜を有し、強磁性金属薄膜上に少なくとも炭素、
水素および窒素を含んだ炭素保護膜を積層したフロッピ
ーディスクを磁気記録媒体とするとともに、ヘッドまた
はスライダー表面に少なくとも炭素と水素を含んだ炭素
保護膜を設けたフロッピーディスク装置で磁気信号の記
録再生を行うことを特徴としたフロッピーディスクを用
いた磁気記録方式。
17. A magnetic recording system using a floppy disk, wherein at least one of the flexible supports has a ferromagnetic metal thin film, and at least carbon,
A magnetic recording medium is a floppy disk on which a carbon protective film containing hydrogen and nitrogen is laminated, and recording and reproduction of magnetic signals is performed by a floppy disk device having a carbon protective film containing at least carbon and hydrogen on the surface of a head or a slider. A magnetic recording method using a floppy disk characterized by performing.
【請求項18】 フロッピーディスクの炭素保護膜の水
素含有率が25〜35atm%、窒素含有率が0.5〜
8.0atm%であることを特徴とする請求項17に記
載のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
18. The carbon protective film of the floppy disk has a hydrogen content of 25 to 35 atm% and a nitrogen content of 0.5 to 35 atm%.
18. The magnetic recording method using a floppy disk according to claim 17, wherein the magnetic recording method is 8.0 atm%.
【請求項19】 フロッピーディスクの炭素俣護膜が少
なくとも炭素、水素、窒素および希ガス元素を含有する
ことを特徴とする請求項17に記載のフロッピーディス
クを用いた磁気記録方式。
19. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 17, wherein the carbon film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and a rare gas element.
【請求項20】 フロッピーディスクの炭素保護膜が少
なくとも炭素、水素、窒素および祈ガス元素を含有し、
その水素含有率が25〜35atm%、窒素含有率が
0.5〜8.0atm%、希ガス元素含有率が0.5〜
1.2atm%であることを特徴とする請求項17に記
載のフロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
20. The carbon protective film of the floppy disk contains at least carbon, hydrogen, nitrogen and palladium gas element,
The hydrogen content is 25-35 atm%, the nitrogen content is 0.5-8.0 atm%, and the rare gas element content is 0.5-atm.
18. The magnetic recording method using a floppy disk according to claim 17, wherein the magnetic recording method is 1.2 atm%.
【請求項21】 フロッピーディスクの炭素保護膜の微
小硬度が20Gpaから40GPaの範囲であり、ヘッ
ドまたはスライダー表面の炭素保護膜の微小硬度が30
GPa以上であり、かつフロッピーディスクの炭素保護
膜の硬度がヘッドまたはスライダー表面の炭素保護膜の
硬度よりも低いことを特徴とする請求項17に記載のフ
ロッピーディスクを用いた磁気記録方式。
21. The micro hardness of the carbon protective film of the floppy disk is in the range of 20 GPa to 40 GPa, and the micro hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider is 30 GPa.
18. The magnetic recording system using a floppy disk according to claim 17, wherein the hardness is not less than GPa and the hardness of the carbon protective film of the floppy disk is lower than the hardness of the carbon protective film on the surface of the head or the slider.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010020830A (en) * 2008-07-10 2010-01-28 Panasonic Corp Protective layer of magnetic recording medium
JP2010092564A (en) * 2008-10-10 2010-04-22 Hoya Corp Method for manufacturing magnetic disk

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