JP2001181601A

JP2001181601A - 防汚組成物

Info

Publication number: JP2001181601A
Application number: JP37064599A
Authority: JP
Inventors: Takanobu Maruyama; 貴信丸山; Yoshio Shimizu; 喜雄清水; Masanori Komatsu; 正典小松
Original assignee: Lion Corp
Current assignee: Lion Corp
Priority date: 1999-12-27
Filing date: 1999-12-27
Publication date: 2001-07-03

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】水で濯ぎをともなうような洗浄工程において
も、組成系中にある有効成分が、濯ぎによって流され
ず、対象面に吸着して防汚性を発現する水性防汚組成物
を提供すること。【解決手段】両性高分子電解質を含有する水性防汚組
成物。両性高分子電解質が、第４級アンモニウム基、又
は第３級アミノ基を含有する。この水性防汚組成物は、
硬表面用洗浄剤組成物である。両性高分子電解質を表面
に吸着させた後、水と接触させて、水膜を形成させるこ
とを特徴とする防汚処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、水性防汚組成物に
関するものである。より具体的には、かかる水性防汚組
成物を含有する硬表面用洗浄剤組成物に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、硬表面などに対する防汚性を
高める組成物が開発されている。例えば、浴槽や流し台
などの表面は、皮脂やスカム等の汚れがつきやすく、特
に浴槽は、喫水面への汚れの吸着が多く、水を抜いた後
の喫水面のざらつきが著しい。また、水をぬいてから長
時間放置した場合、吸着した汚れが落ちづらくなるた
め、変色の原因になったり、ざらつきが残る場合もあ
る。このようなことから、種々の表面に対する防汚性を
高める開発がなされている。これに関連する文献とし
て、特開平6-279687号公報には、ポリフルオロアルキル
基含有の（メタ）アクリレートが重合した単位、ブロッ
ク化されたイソシアネート基含有の（メタ）アクリレー
トが重合した単位及びポリオキシアルキレン鎖含有の
（メタ）アクリレートが重合した単位を有する重合体が
開示されている。また、特開平8-41416号公報には、フ
ッ素系共重合体と水溶性ポリエーテル変性シリコーンオ
イルを配合してなるフッ素樹脂塗料用組成物が開示され
ている。また、特開平11-21511号公報には、アクリルシ
リコンと光触媒性酸化物を含有する表面層を形成してい
る光触媒性親水性部材が開示されている。

【０００３】また、特開平6-17007号公報には、マクロ
モノマー、長鎖ポリヒドロキシ化合物、及び有機イソシ
アネートを反応させて得られるポリウレタンプレポリマ
ーと多官能有機アミノ化合物とから得られる水性艶出し
組成物が開示されており、特開平9-137119号公報には、
ポリオール、アルコキシシラン、アルキルシリケート及
びポリイソシアネートが配合された非汚染塗料組成物が
開示されている。更に、特開平9-273079号公報には、濡
れた状態にある繊維製品に適用される防汚剤組成物であ
って、当該防汚剤組成物を適用後水で濯がずそのまま乾
燥するポリマーを含有する防汚剤組成物が開示されてお
り、特開平10-7742号公報には、フルオロシリコーンオ
リゴマーを含有する機能性付与剤が開示されている。こ
のように、防汚剤組成物については種々の開発がなされ
ているが、例えば、浴槽や流し台などの表面を処理する
防汚剤組成物としては、水で濯ぎを行った後防汚性が付
与されるのみならず、入浴時や炊事の際の水では有効成
分が流れ落ちず、防汚機能を発揮し、入浴後にお湯を抜
いたときにざらつきがなく、その有効成分はその後の洗
浄剤を用いた洗浄により脱離されて、再度新しい有効成
分膜が形成されることが望まれる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、水で濯ぎを
ともなうような洗浄工程においても、組成系中にある有
効成分が、濯ぎによって流されず、対象面に吸着して防
汚性を発現する水性防汚組成物を提供することを目的と
する。また、本発明は、かかる水性防汚組成物を含有す
る硬表面用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
更に、本発明は、上記のような防汚性が発揮されるよう
な防汚処理方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の高分子を水性
汚染組成物中に含有させることにより上記課題を解決す
るに至った。即ち、本発明は、両性高分子電解質を含有
する水性防汚組成物を提供する。また、本発明は、かか
る水性防汚組成物を含有する硬表面用洗浄剤組成物を提
供する。また、本発明は、両性高分子電解質を表面に吸
着させた後、水と接触させて、水膜を形成させることを
特徴とする防汚処理方法を提供する。

【０００６】

【発明の実施の形態】まず、本発明に用いられる両性高
分子電解質としては、例えば、アニオン性ビニルモノマ
ー単位（ａ）とカチオン性ビニルモノマー単位（ｂ）と
を共重合したものが挙げられる。また、それ以外のモノ
マー単位として、更に、疎水性ビニルモノマー単位
（ｃ）、非イオン性の親水性モノマー単位（ｄ）を用い
て共重合した両性高分子電解質であってもよい。更に、
本発明における両性高分子電解質は、同一モノマー中
に、カチオン基とアニオン基を有するモノマーからなっ
ていてもよく、これは、上記モノマー単位（ｃ）及び／
又は（ｄ）を含んでいてもよい。アニオン性ビニルモノ
マー単位（ａ）としては、例えば、カルボキシル基含有
ビニルモノマー及びスルホン基含有ビニルモノマーが挙
げられる。カルボキシル基含有モノマー単位の具体例と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、3-ブテン酸、3-メ
チル-ブテン酸、4-ペンテン酸、4-メチル-4-ペンテン
酸、5-ヘキセン酸、5-メチル-5-ヘキセン酸、8-オクテ
ン酸、8-メチル-8-オクテン酸、11-ドデケン酸、11-メ
チル-11-ドデケン酸、15-ヘキサデケン酸、15-メチル-1
5-ヘキサデケン酸等が挙げられる。また、スルホン基含
有モノマー単位の具体例としては、アクリルアミドメタ
ンスルホン酸、アクリルアミドエタンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸アクリレート、エタンスルホン酸アクリレ
ート、アクリルアミドプロパンスルホン酸、2ーアクリル
アミドー2ーメチルプロパンスルホン酸、2ーメタクリルア
ミドー2ーメチルプロパンスルホン酸、2ーアクリルアミドー
nーブタンスルホン酸等が挙げらる。また、これらのカル
ボキシル基及びスルホン基としては、酸型のみでなく、
その塩が含まれる。また、その塩を単独あるいは、酸型
と併用して共重合してもよい。カルボキシル基含有モノ
マー又はスルホン基含有モノマーの塩としては、それぞ
れのアルカリ金属塩、アンモニア、トリエチルアミン、
トリエタノールアミン等の有機アミン塩等が挙げられ
る。また、得られる共重合体のカルボキシル基又はスル
ホン基含有モノマー単位をアルカリ剤で中和して本発明
の高分子としてもよい。なお、本発明の両性高分子電解
質においては、アニオン性ビニルモノマー単位（ａ）
が、３〜８０質量％含まれているのが好ましく、より好
ましくは５〜７０質量％であり、さらに好ましくは１０
〜６５質量％である。

【０００７】また、カチオン性ビニルモノマー単位
（ｂ）としては、３級アミノ基又は４級アンモニウム基
を有するカチオン性ビニルモノマーが挙げられる。この
モノマーのカウンターアニオンとしてはハロゲン、硫酸
化物、蓚酸、クエン酸等が好ましく、より好ましくは塩
化物、臭化物である。具体的には、塩化ジメチルアミノ
エチルアクリレート、塩化ジメチルアミノエチルメタア
クリレート、塩化ジメチルアミノエチルアクリルアミ
ド、塩化ジエチルアミノエチルアクリレート、塩化ジエ
チルアミノエチルメタアクリレート、塩化ジエチルアミ
ノエチルアクリルアミド、塩化ジメチルアミノプロピル
アクリレート、塩化ジメチルアミノプロピルメタアクリ
レート、塩化ジメチルアミノプロビルアクリルアミド、
塩化トリメチルアミノエチルアクリレート、塩化トリメ
チルアミノエチルメタアクリレート、塩化トリメチルア
ミノプロピルアクリレート、塩化トリメチルアミノプロ
ピルメタアクリレート、塩化トリエチルアミノエチルア
クリレート、塩化1ートリメチルアミノー2ーヒドロキシプ
ロピルメタアクリレート、［3ー（メタアクリルアミノ）
プロピル］トリメチルアンモニウムクロライド等が挙げ
られる。なお、本発明の両性高分子電解質においては、
カチオン性ビニルモノマー単位（ｂ）が、２０〜９７質
量％含まれているのが好ましく、より好ましくは３０〜
９５質量％であり、さらに好ましくは３５〜９０質量％
である。

【０００８】疎水性ビニルモノマー単位（ｃ）として
は、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリ
レート、ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルアク
リレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
デシルアクリレート、デシルメタクリレート、2-ヒドロ
キシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルア
クリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-
ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、2-ヒ
ドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート等が挙
げられる。なお、本発明の両性高分子電解質において
は、疎水性ビニルモノマー単位（ｃ）が、０〜２５質量
％含まれているのが好ましく、より好ましくは０〜２０
質量％である。

【０００９】非イオン性の親水性モノマー単位（ｄ）と
しては、アクリルアミド、メタクリルアミド、ポリエチ
レングリコールアクリレート（エチレンオキシドの重合
度１〜３０）、ポリエチレングリコールメタクリレート
（エチレンオキシドの重合度１〜３０）、メトキシポリ
エチレングリコールアクリレート（エチレンオキシドの
重合度２〜３０）、メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート（エチレンオキシドの重合度２〜３０）等
が挙げられる。なお、本発明の両性高分子電解質におい
ては、非イオン性の親水性モノマー単位（ｄ）が、０〜
２５質量％含まれているのが好ましく、より好ましくは
０〜２０質量％である。

【００１０】本発明における両性高分子電解質は、上記
（ａ）〜（ｄ）成分のランダム（コ）ポリマー又はブロ
ック（コ）ポリマーであってもよい。本発明における両
性高分子電解質の具体例としては、以下の化合物（ａ
１）及び（ａ２）が挙げられる。なお、化合物（ａ１）
は、アニオン性ビニルモノマーのアニオン基がカルボキ
シル基である化合物であり、化合物（ａ２）は、アニオ
ン性ビニルモノマーのアニオン基がスルホン基である化
合物である。

【００１１】化合物（ａ１）

【００１２】ここで各モノマー単位中のＲ₁は水素、あ
るいはＣ₁〜Ｃ₃のアルキル鎖を示す。（ａ）アニオン性
ビニルモノマー単位のＲ₂はＣ₀〜Ｃ₁₅のアルキル基を示
し、Ｍは水素、アルカリ金属塩又はアンモニウム誘導体
を示し、あるいはこれらの混合物を示す。カチオン性ビ
ニルモノマー単位のＲ₃はＣ₁〜Ｃ₁₅の直鎖状もしくは分
岐状アルキレン基又はアルケニレン基、あるいはＣ₆の
シクロヘキシル基、フェニル基を示す。Ｒ₄、Ｒ₅はＣ₁
〜Ｃ₃のアルキル基あるいはヒドロキシアルキル基を示
し、Ｒ₆は水素又はＣ₁〜Ｃ₃のアルキル基を示す。Ｒ₄、
Ｒ₅及びＲ₆が同時にアルキル基の時、そのアルキル基の
長さは同じでも、異なっても良い。（ｃ）疎水性ビニル
モノマー単位のＲ₇はＣ₁〜Ｃ₁₅の直鎖状もしくは分岐状
アルキレン基又はアルケニレン基、あるいはＣ₆のシク
ロヘキシル基、フェニル基を示す。（ｄ）非イオン性の
親水性モノマー単位のＡは酸素原子又はNHを示し、Ｒ₈
はＡがNHの時には水素原子であり、Ｒ₈はＡが酸素の時
には、（CH₂CH₂O）nＢで示される。ここで、nが１の時
にはＢは水素原子であり、ｎが2以上30以下の時にはＢ
は水素原子又はCH₃を示す。

【００１３】化合物（ａ２）

【００１４】ここで各モノマー単位の、Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ａ及びＭは化合物（ａ
１）の場合と同一であり、Ｒ₉はＣ₁〜Ｃ₁₅の直鎖状もし
くは分岐状アルキレン基又はアルケニレン基を示し、炭
素鎖状に水酸基を1つ以上含んでいても良い。上記化合
物（ａ１）及び（ａ２）の組成比ａ，ｂ，ｃ，ｄは（ａ
＋ｂ）/（ｃ+ｄ）が100〜50/0〜50質量％を示すのが好
ましく、より好ましくは100〜60/0〜40質量％である。
ａ/ｂの比は20〜80/80〜20モル％であるのが好ましく、
より好ましくは30〜60/60〜30モル％である。ｃとｄは
それぞれ0〜25質量％を示すのが好ましく、より好まし
くは0〜20質量％である。

【００１５】また、同一モノマー中に、カチオン基とア
ニオン基を有するモノマーからなる両性高分子電解質と
しては、次の化合物（ａ３）及び（ａ４）が挙げられ
る。

【００１６】化合物（ａ３）

【００１７】ここで各モノマー単位の、Ｒ₁、Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、Ｒ₈、Ａ及び、Ｍは化合物（ａ１）の場
合と同一であり、Ｒ₁₀はＣ₁〜Ｃ₁₀の直鎖状もしくは分
岐状アルキレン基、又は水酸基を１つ以上含む構造を有
していても良い。

【００１８】化合物（ａ４）ここで各モノマー単位の、Ｒ₁、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、
Ｒ₈、Ａ及びＭは化合物（ａ１）の場合と同一であり、
Ｒ₁₁はＣ₁〜Ｃ₁₀の直鎖状もしくは分岐状アルキレン
基、又は水酸基を１つ以上含む構造を有していても良
い。

【００１９】上記化合物（ａ３）及び（ａ４）の組成比
ｅ、ｆ、ｇについて、ｅ/（ｆ+ｇ）は100〜50/0〜50質
量％を示すのが好ましく、より好ましくは100〜60/0〜4
0質量％である。ベタイン部含有モノマーのベタイン化
率（化合物ａ３のR₁₀-COOM、あるいは化合物ａ4のR₁₁-S
O₃Mのアミン部への付加率、R₁₀-COOM/Ｎ（モル％）、R₁
₁-SO₃M/Ｎ（モル％））は40モル％以上を示し、より好
ましくは45モル％以上を示す。ｆとｄはそれぞれ0〜25
質量％を示し、より好ましくは0〜20質量％を示す。本
発明で用い得る前記化合物（ａ3）のベタイン部含有モ
ノマー単位のカルボン酸基は酸型のみでなく、その塩を
使用しても良く、その塩を単独あるいは、酸型と併用し
て共重合体してもよい。カルボン酸基の塩としては、例
えば、アルカリ金属塩、アンモニア、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン等の有機アミン塩等を用いる
ことができる。また、得られる共重合体のカルボン酸基
をアルカリ剤で中和して本発明の高分子としてもよい。
４級アンモニウム塩のカチオン部のカウンターアニオン
としては、ハロゲンが挙げられ、好ましくは塩化物、臭
化物である。具体的には、例えば、Ｎ−アクリロイルオ
キシエチルＮ，Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ−メチルカ
ルボキシレート、Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，
Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ−メチルカルボキシレー
ト、Ｎ−アクリロイルアミノプロピルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−メチルカルボキシレート、Ｎ−メタク
リロイルアミノプロピルＮ，Ｎ−ジメチルアンモニウム
Ｎ−メチルカルボキシレート等が挙げられる。

【００２０】本発明で用いる前記化合物（ａ4）のベタ
イン部含有モノマー単位のスルホン酸基は酸型のみでな
く、その塩を使用しても良く、その塩を単独あるいは、
酸型と併用して共重合体してもよい。スルホン酸基の塩
としては、例えば、アルカリ金属塩、アンモニア、トリ
エチルアミン、トリエタノールアミン等の有機アミン塩
等を用いることができる。また、得られる共重合体のス
ルホン酸基をアルカリ剤で中和して本発明の高分子とし
てもよい。４級アンモニウム塩のカチオン部のカウンタ
ーアニオンはハロゲンであれば何でもよく、好ましくは
塩化物、臭化物である。具体的には、例えば、Ｎ−アク
リロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ
−（ヒドキシ）プロパンスルホネート、Ｎ−メタクリロ
イルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ−
（ヒドキシ）プロパンスルホネート、Ｎ−アクリロイル
オキシエチルＮ，Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ−プロパ
ンスルホネート、Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，
Ｎ−ジメチルアンモニウムＮ−プロパンスルホネート等
が挙げられる。

【００２１】本発明に用い得る両性高分子電解質として
は、少なくとも1000以上の質量平均分子量を示すものが
好ましく、より好ましくは2000〜8000000であり、さら
に好ましくは2000〜7000000である。また、上述のよう
な両性高分子電解質は、例えば、従来公知の溶液重合、
バルク重合、沈殿重合法等の重合法で重合することによ
り製造することができる。重合温度は用いる溶媒により
異なるが、一般には30〜100℃であるのが好ましく、重
合時間は3〜24時間であるのが好ましい。この際、重合
開始剤として、従来公知の各種のものを使用することが
でき、ラジカル重合を開始する能力を有するものであれ
ば特に制限はなく、例えば、過酸化ベンゾイル、2、2'ー
アゾビスイソブチロニトリル、2、2'ーアゾビス（2ーメチ
ルブチロニトリル）、2、2'ーアゾビス（2、4ージバレロニ
トリル）、2、2'ーアゾビス（2ーアミジノプロパン）２塩
酸塩、2、2'ーアゾビス（N,N'ージメチレンイソブチルアミ
ジン）、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸ア
ンモニウム、過酸化水素等が挙げられ、アゾ化合物が好
ましい。また、本発明に用い得る両性高分子電解質とし
ては、上述のものの他に、蛋白質が挙げられる。両性高
分子電解質性の蛋白質であれば特に制限されないが、具
体的には、例えばアルブミン等が挙げられる。

【００２２】本発明の水性防汚組成物においては、上述
のような両性高分子電解質を単独で含ませることができ
るが、複数を併用することもできる。水性防汚組成物に
おける両性高分子電解質の濃度は、0.01〜30％であるの
が好ましく、より好ましくは0.01〜20％である。残部は
水であるのが好ましい。本発明の水性防汚剤組成物は、
粒状、ゲル状、液体のいずれの形態でも良いが、使用時
の簡便さから、液体であることが好ましい。また、本発
明においては、上述の水性防汚剤組成物を含有する硬表
面用洗浄剤組成物を調製することにより、防汚性や吸着
性に加え、洗浄性を付与することができる。このような
硬表面用洗浄剤組成物には、例えば、アニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤等の界面活性剤のほか、可塑剤（エチル
カルビトール等）、キレート剤（ＥＤＴＡ等）、溶剤
（エタノール等）、ｐＨ調整剤（クエン酸等）及び香料
などを併用することができる。この際、アニオン界面活
性剤及び／又はノニオン界面活性剤を硬表面用洗浄剤中
に０．１〜１０％含有させるのがよい。

【００２３】また、本発明においては、両性高分子電解
質を、対象表面に吸着させた後、水と接触させて、水膜
を形成させることにより、防汚性を付与することができ
る。この際、対象表面としては、ＦＲＰ板（強化プラス
チック）、ステンレスホーロー（ガラス）、人工大理
石、ＡＢＳ樹脂、ポリプロピレン板、ポリエチレン板等
が挙げられる。また、水膜とは、対象面上に水の層を形
成することを指す。このような防汚処理方法は、上述の
本発明の水性防汚組成物又は硬表面用洗浄剤組成物を用
いて行うのが好ましい。

【００２４】

【発明の効果】本発明により、水で濯ぎをともなうよう
な洗浄工程においても、組成系中にある有効成分が、濯
ぎによって流されず、対象面に吸着して防汚性を発現さ
せることが可能となった。

【００２５】

【実施例】以下実施例を用いて本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
本実施例１〜１４は、次の１４種類の両性高分子電解質
を用いて行った。両性高分子電解質１〜１３について
は、以下に記載の重合方法により製造した。なお、以下
の質量％の計算はアニオン性モノマー、あるいはベタイ
ン部のアニオン基を酸型として計算した。 1；アクリル酸/トリメチルアミノエチルメタクリレート
=26/74（質量％）（50/50（モル％）） 2；メタクリル酸/ジメチルアミノエチルメタクリレート
/t-ブチルメタクリレート=25/69/6（質量％） 3；アクリルアミドプロパンスルホン酸/ジメチルアミノ
エチルメタクリレート/ｎ-ブチルメタクリレート=39.4/
55.6/5（質量％） 4；メタクリル酸/ジメチルアミノエチルメタクリレート
/メトキシ（エチレンオキシ（EO=23））メタクリレート
=30/54.8/15.2（質量％） 5；アクリル酸/トリメチルアミノエチルメタクリレート
/エチルメタクリレート/メトキシ（エチレンオキシ（EO
=23））メタクリレート=18.8/66.2/5/10（質量％） 6；ポリＮ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメ
チルアンモニウムＮ−メチルカルボキシレート 7；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−メチルカルボキシレート/t-ブチルメ
タクリレート=98/2（質量％） 8；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−メチルカルボキシレート/メトキシ
（エチレンオキシ（EO=9））メタクリレート=95/5（質
量％） 9；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−メチルカルボキシレート/エチルメタ
クリレート/メトキシ（エチレンオキシ（EO=9））メタ
クリレート=90/2/8（質量％） 10；ポリＮ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメ
チルアンモニウムＮ−（ヒドキシ）プロパンスルホネー
ト 11；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−（ヒドキシ）プロパンスルホネート/t
-ブチルメタクリレート=98/2（質量％） 12；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−（ヒドキシ）プロパンスルホネート/
メトキシ（エチレンオキシ（EO=9））メタクリレート=9
5/5（質量％） 13；Ｎ−メタクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチル
アンモニウムＮ−（ヒドキシ）プロパンスルホネート/
エチルメタクリレート/メトキシ（エチレンオキシ（EO=
9））メタクリレート=90/2/8（質量％） 14；アルブミン（東京化成（株）製）

【００２６】重合方法両性高分子電解質2の重合冷却還流管、滴下ロート、温度計、窒素導入管及び撹拌
装置を取り付けたセパラブルフラスコに、メタクリル酸
13g、ジメチルアミノエチルメタアクリレート35.6g、ｔ
-ブチルアクリレート3.1g、2、2'ーアゾビス（2ーメチルブ
チロニトリル）0.3g、エチルアルコール100gを仕込み、
窒素を吹き込みながら、室温で30分撹拌した。反応系を
75℃に昇温し6時間反応させた。生成物を反応器から取
り出し、溶媒を減圧濃縮して、除去することにより高分
子の固体を得た。この固体を溶解させ、7日間透析し
た。その水溶液を濃縮し、凍結乾燥して両性高分子49g
を得た。得られた高分子の質量平均分子量は20万であっ
た。両性高分子電解質1、4、5も上記と同様の重合方法
により製造した。

【００２７】両性高分子電解質3の重合冷却還流管、滴下ロート、温度計、窒素導入管及び撹拌
装置を取り付けたセパラブルフラスコに、2ーアクリルア
ミドー2ーメチルプロパンスルホン酸14.4g、ジメチルアミ
ノエチルメタアクリレート20.4g、n-ブチルアクリレー
ト1.8g、2、2'ーアゾビス（2ーメチルブチロニトリル）0.2
g、N,N-ジメチルホルムアミド100gを仕込み、窒素を吹
き込みながら、室温で30分撹拌した。反応系を70℃に昇
温し6時間反応させた。生成物を反応器から取り出し、
エタノールで再沈澱させることにより高分子の固体を得
た。この固体を溶解させ、7日間透析した。その水溶液
を濃縮し、凍結乾燥して両性両親媒性高分子34gを得
た。得られた高分子の質量平均分子量は18万であった。

【００２８】両性高分子電解質７（ベタイン構造）の重
合冷却還流管、滴下ロート、温度計、窒素導入管及び撹拌
装置を取り付けたセパラブルフラスコに、ジメチルアミ
ノエチルメタアクリレート49g、ｔ-ブチルアクリレート
1.4g、2、2'ーアゾビス（2ーメチルブチロニトリル）0.31
g、エチルアルコール100gを仕込み、窒素を吹き込みな
がら、80℃で4時間反応を行った。次に、得られた重合
反応液に、エタノール70ｇにブロモ酢酸47.4ｇを溶解し
た液を加えて、十分に撹拌した後、エタノール100ｇに
水酸化カリウム15ｇを溶解した溶液を滴下ロートにて滴
下し、さらに窒素気流下にて5時間、80℃にて両性化反
応を行った。反応後、室温まで冷却静置し濾過して沈殿
物を除去し、減圧乾燥にて溶媒を除き、固形分64ｇ得
た。得られた高分子の質量平均分子量は12万であった。
また、この両性共重合体において、そのカルボキシメチ
ル部位の結合率は、共重合体に含まれる全窒素原子に体
するモル比で、100％であった。両性高分子電解質6、
8、9も上記と同様の重合方法により製造した。

【００２９】両性高分子電解質１１（ベタイン構造）の
重合冷却還流管、滴下ロート、温度計、窒素導入管及び撹拌
装置を取り付けたセパラブルフラスコに、ジメチルアミ
ノエチルメタアクリレート49g、ｔ-ブチルアクリレート
1.9g、2、2'ーアゾビス（2ーメチルブチロニトリル）0.31
g、エチルアルコール100gを仕込み、窒素を吹き込みな
がら、80℃で4時間反応を行った。次に、得られた重合
反応液に、エタノール/水（=50/50質量比）70ｇに2-ヒ
ドロキシ-3-プロパンスルホン酸ナトリウム67.5ｇを溶
解した液を加えて、十分に撹拌した後、さらに窒素気流
下にて5時間、80℃にて両性化反応を行った。反応後、
室温まで冷却静置し濾過して沈殿物を除去し、減圧乾燥
にて溶媒を除き、固形分93ｇ得た。得られた高分子の質
量平均分子量は11万であった。また、この両性共重合体
において、そのスルホベタイン部位の結合率は、共重合
体に含まれる全窒素原子に体するモル比で、100％であ
った。両性高分子電解質10、12、13も上記と同様の重合
方法により製造した。

【００３０】上述の両性高分子電解質１〜１４（実施例
１〜１４）、アクリル酸（日本純薬（株）製ＡＣ−３０
Ｓ：比較例１）及びカチオン化セルロース（ライオン
（株）製ＫＧＰ：比較例２）を用いて、表１に記載の成
分、濃度に従って硬表面用洗浄剤組成物を製造した。な
お、比較例３では、両性高分子電解質を用いなかった。
このようにして調製した各組成物の吸着性、防汚性、仕
上がり感を次の評価法により評価した。結果を表１に記
載する。

【００３１】吸着性（高分子による表面の親水化）各組成物をFRP板、10cm×10cmの面積に調製液0.5gを塗
布し、水で十分濯いだ後、表面が親水化されているかど
うかを、表面の水濡れ性で評価した。 ○；表面が1分以上、水で濡れた状態ができる（良く親
水化されている）。 △；水で濡れた状態が10秒間以下しかできない（あまり
親水化されていない）。 ×；水が流れ落ち、水で濡れた状態ができない（親水化
されていない）。

【００３２】防汚性汚垢［人工皮脂0.05％（オレイン酸45％、トリオレイン
25％、ステアリン酸19.5％、スクワレン4％、流動パラ
フィン４％、コレステロール2.5％）、カーボン0.003
％、脂肪酸石鹸カルシウム（Ｃ14/Ｃ16=50/50％）0.003
％］を用い、お風呂の材質として「FRP板、面積10cm×1
0cm」、流し台の材質として「ステンレス（SUS-316）、
面積10cm×10cm」に対して、調製液0.5gを塗布し、水で
十分濯いだ後、以下の4段階で防汚性を評価した。 ◎；両素材とも汚れが付かない ○；両素材ともほとんど汚れが付かない △；両素材ともやや汚れが付く ×；両素材とも非常に汚れが付く

【００３３】仕上がり感 10人のパネラーがサンプルを家庭に持ち帰り、各家庭の
「お風呂の浴槽（材質/人；FRP6人、ステンレス製2人、
ホーロー1人、人工大理石1人）」、洗浄剤として使用
し、入浴後、お湯を抜いた後の喫水面のざらつき感を本
発明の組成物と市販品を比較し、下記の4段階で評価し
た。 ◎；ざらつきを感じ無い ○；ざらつきをほとんど感じ無い △；ざらつきをやや感じた ×；ざらつきを非常に感じた

【００３４】表１

【００３５】以下の表2、3、4の実施例及び比較例の組
成は高分子化合物の種類と量、水の量以外は、実施例１
と同様とした。表２

【００３６】表３

【００３７】表4 比較例には高分子として、アクリル酸（日本純薬（株）
社製AC-30S）、カチオン化セルロース（ライオン（株）
製KGP）を用い同様に行った。高分子０％：吸着性、防
汚性、仕上がり感とも×。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ１１Ｄ 3/37 ＣＥＡＣ１１Ｄ 3/37 ＣＥＡ 17/00 17/00 // Ｃ０９Ｄ 5/16 Ｃ０９Ｄ 5/16 201/02 201/02 (72)発明者小松正典東京都墨田区本所１丁目３番７号ライオン株式会社内Ｆターム(参考） 4H003 AD02 AD04 BA12 DA05 EB30 FA06 4H020 AA06 AB02 AB07 4J002 BG011 BG071 BG081 BG131 FD026 FD317 GH01 4J038 CG021 CG031 CG141 CG181 CH201 CH231 CJ131 GA06 GA08 GA09 GA13 MA08 MA12 NA05 PC02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】両性高分子電解質を含有する水性防汚組
成物。
【請求項２】両性高分子が第４級アンモニウム基、又
は第３級アミノ基を有する請求項１に記載の水性防汚組
成物。
【請求項３】請求項１又は２に記載の水性防汚組成物
を含有する硬表面用洗浄剤組成物。
【請求項４】両性高分子電解質を表面に吸着させた
後、水と接触させて、水膜を形成させることを特徴とす
る防汚処理方法。