[go: up one dir, main page]

JP2001179151A - グラビア塗工方法およびグラビア塗工機 - Google Patents

グラビア塗工方法およびグラビア塗工機

Info

Publication number
JP2001179151A
JP2001179151A JP36790299A JP36790299A JP2001179151A JP 2001179151 A JP2001179151 A JP 2001179151A JP 36790299 A JP36790299 A JP 36790299A JP 36790299 A JP36790299 A JP 36790299A JP 2001179151 A JP2001179151 A JP 2001179151A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gravure
base material
coating agent
gravure roll
attitude control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP36790299A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinari Yasui
義成 康井
Takashi Iwasaki
隆司 岩崎
Minoru Yamada
稔 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yasui Seiki Co Ltd
Original Assignee
Yasui Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yasui Seiki Co Ltd filed Critical Yasui Seiki Co Ltd
Priority to JP36790299A priority Critical patent/JP2001179151A/ja
Publication of JP2001179151A publication Critical patent/JP2001179151A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆる種類の薄い基材に対して塗工剤を極
めて精度よく、かつ、確実に均一厚さでべた塗りするこ
とのできるグラビア塗工方法およびグラビア塗工機を提
供すること。 【解決手段】 直径が約20mm〜約50mmの一対の平行
な自由回転自在な姿勢制御ロールによって上面を支持さ
れた状態で両姿勢制御ロールの軸方向と直交方向に走行
している連続体状の基材の両姿勢制御ロール間の下方
に、両姿勢制御ロールと平行に配置され、かつ、外周面
の全周にグラビアパターンが形成された直径が約20mm
〜約50mmのグラビアロールを、基材と相対速度を有す
る周速度で回転させるとともに、このグラビアロールの
表面からドクタブレードによって余剰塗工剤を塗工を施
す前に拭取って、定量の塗工剤を基材の上面が自由状態
にある位置におけるその基材の下面に塗工して、基材に
塗工剤をべた塗りすることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はグラビア塗工方法お
よびグラビア塗工機係り、特に薄い基材に対しても、塗
工剤を均一厚さでべた塗りすることのできるグラビア塗
工方法およびグラビア塗工機に関する。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】本出願人
は実公平2−7663号公報および特公平5−5355
3号公報において、それまで良好な塗工が不可能とされ
ていた厚さが2μm〜9μm位いの薄い基材に対しても
縦皺が発生することなく常に良好な塗工を施すことがで
き、また、スムーザーを用いることなくグラビアロール
のみで塗工厚が均一なべた塗りを施すことができ、構成
も簡単で、コストも低廉であるマイクログラビア塗工シ
ステムを提案している。
【0003】更に、今日においては薄い基材に対してよ
り一層精度よく、より確実に縦皺等を発生させないで塗
工厚が均一なべた塗りを施すことが要望されている。こ
れは、今日の薄い基材はその種類が多岐に亘っており、
しかも基材自身が縦皺等の変形を起こしやすい剛性の小
さいいわゆる腰の弱いものが多くなって来ているからで
ある。特に、コンデンサ等の電子部品用の素材を形成す
るために行われる薄膜コーティング用の基材にこの傾向
が強いものである。
【0004】本発明はこれらの点に鑑みてなされたもの
であり、あらゆる種類の薄い基材に対して塗工剤を極め
て精度よく、かつ、確実に均一厚さでべた塗りすること
のできるグラビア塗工方法およびグラビア塗工機を提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に請求項1に記載の本発明のグラビア塗工方法は、直径
が約20mm〜約50mmの一対の平行な自由回転自在な姿
勢制御ロールによって上面を支持された状態で両姿勢制
御ロールの軸方向と直交方向に走行している連続体状の
基材の前記両姿勢制御ロール間の下方に、両姿勢制御ロ
ールと平行に配置され、かつ、外周面の全周にグラビア
パターンが形成された直径が約20mm〜約50mmのグラ
ビアロールを、前記基材と相対速度を有する周速度で回
転させるとともに、このグラビアロールの表面からドク
タブレードによって余剰塗工剤を塗工を施す前に拭取っ
て、定量の塗工剤を前記基材の上面が自由状態にある位
置におけるその基材の下面に塗工して、前記基材に塗工
剤をべた塗りすることを特徴とする。
【0006】また、請求項3に記載の本発明のグラビア
塗工機は、走行している連続体状の基材の上面を支持す
る直径が約20mm〜約50mmの一対の平行な自由回転自
在な姿勢制御ロールと、両姿勢制御ロールの間で走行し
ている連続体状の基材の上面が自由状態にある位置にお
けるその基材の下面に塗工剤を塗工するグラビアロール
であって、両姿勢制御ロールと平行に配置され、かつ、
外周面の全周にグラビアパターンが形成された直径が約
20mm〜約50mmのグラビアロールと、このグラビアロ
ールの表面から余剰塗工剤を塗工を施す前に拭取って定
量の塗工剤を塗工部へ供給せしめるドクターブレードと
を有することを特徴とする。
【0007】また、請求項1または請求項3において、
各姿勢制御ロールはそれぞれグラビアロールに近接して
配置されていることを特徴とする。
【0008】本発明においては、請求項3に記載のグラ
ビア塗工機を用いて請求項1に記載の方法によって、平
行な一対の姿勢制御ロールによって上面を支持された状
態で走行している連続体状の基材の上面が自由状態にあ
る位置におけるその基材の下面に塗工剤を塗工すると、
両姿勢制御ロールとグラビアロールとの間に基材が縦皺
等の変形を発生させることなく平坦状に保持して展張さ
れて走行させられ、塗工剤が極めて精度よく、かつ、確
実に均一厚さにべた塗りされる。
【0009】更に、両姿勢制御ロールをそれぞれグラビ
アロールに近接して配置すると、両姿勢制御ロールとグ
ラビアロールとの間における基材の平坦性をより確実に
保持することができ、塗工剤を極めて精度よく、かつ、
確実に均一厚さにべた塗りすることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
から図10について説明する。
【0011】図1から図3は本発明方法を適用するグラ
ビア塗工機の一例を示し、図4および図5はこれに用い
るグラビアロールの1例を示す。
【0012】先ず、図1および図2においては、連続体
状の基材10を図1の左から右へ水平に走行させてい
る。この基材10は原反ロール(図示せず)から繰り出
され、途中図1に示すように、展張ロール11、一対の
姿勢制御ロール12、12および展張ロール11によっ
て展張され、最後に巻取りロール(図示せず)によって
巻取られる。一対の姿勢制御ロール12、12は直径が
約20mm〜約50mmとされ、自由回転自在に支持されて
いる。そして、一対の姿勢制御ロール12、12の中間
部分の基材10の下方に直径を約20mm〜約50mmとす
るとともに姿勢制御ロール12と同一直径とされ外周面
をセラミックス材としたグラビアロール13が軸方向を
基材10の走行方向と直交させるようにして横架されて
いる。このグラビアロール13は、公知の適宜な昇降駆
動機構(図示せず)によって上下動させられる基台14
上に立設された1対の支持部材15、15に軸受16、
16をもって回転自在に支持されている。このグラビア
ロール13には駆動モータからカップリング(共に図示
せず)を介して回転力が伝達される。本実施形態におい
ては、グラビアロール13は基材10の走行方向と接触
部にて逆方向(図1の反時計方向)に回転させられる。
また、グラビアロール13のセラミックス材からなる外
周面には基材10の全幅より狭い幅のグラビアパターン
17が全周に亘ってに刻設されている。このグラビアロ
ール13の下方の基台14上にはオーバーフロー受容器
18が緊締ボルト19によって固定されている。そし
て、このオーバーフロー受容器18上にはグラビアロー
ル13に塗工剤を供給する塗工剤供給ノズル20が固着
されている。この塗工剤供給ノズル20は図2に示すよ
うにグラビアロール13のグラビアパターン17と同一
幅に形成されている。また、図1に示すように、塗工剤
供給ノズル20は2つ割れのノズルピース20a、20
bを下半部に薄肉挟在物21を介装して相互に緊締固着
して一体的に形成されている。そして、その薄肉挟在物
21の上部には外部から送給されて来る塗工剤を一旦貯
留する幅方向に長い断面円形の塗工剤貯留部22が形成
されている。そして、この塗工剤貯留部22の上部には
薄肉挟在物21を介在させないことにより形成した細長
い連通溝23が形成されている。そして、塗工剤供給ノ
ズル20の上端部には、塗工剤貯留部22から連通溝2
3を通して送給されて来る塗工剤を貯留してグラビアロ
ール13のグラビアパターン17へ塗布させる上方に開
いた細長いノズル部24が形成されている。このノズル
部24の長さはグラビアロール13のグラビアパターン
17の幅と同一に形成されており、塗工剤供給ノズル2
0の幅方向両端部にはそれぞれノズル部24の両端部を
閉塞する幅規制用閉塞部材28、28が固着されてい
る。また、グラビアロール13のグラビアパターン17
がノズル部24内に貯留する塗工剤を基材10の下面に
塗工する直前に、そのグラビアパターン17に塗布され
ている余剰塗工剤を拭取るドクタブレード25が設けら
れている。このドクタブレード25はグラビアロール1
3と平行な枢軸26に回動自在に支承されたホルダ27
に取付けられている。そして、このドクタブレード25
はグラビアロール13のグラビアパターン17内に全幅
に亘って適正量の塗工剤を充填させるとともに、そのグ
ラビアパターン17の両端から外側部分の塗工剤をも拭
取るように機能する。
【0013】図3に示すように、前記展張ロール11、
11および姿勢制御ロール12、12は、枢軸29をも
って揺動自在とされている上部ユニット30にそれぞれ
回転自在に装着されている。特に、一対の姿勢制御ロー
ル12、12は、グラビアロール13との平行度の調整
のために、その両端部をラジアルベアリング、スラスト
ベアリング等を組み合わせた公知の位置調整手段31を
もって上部ユニット30に装着されている。更に、一対
の姿勢制御ロール12、12はそれぞれが基材10に接
触して基材10が走行すると極めて軽く回転できるよう
枢支されているとともに、その回転の触れ精度を0.0
05〜0.008mm以内にして支承されている。そし
て、上部ユニット30を移動させて、一対の姿勢制御ロ
ール12、12間に展張される基材10をグラビアロー
ル13の上面に接離させるようにしている。更に、両姿
勢制御ロール12、12とグラビアロール13との軸間
距離を各ロール12、13の直径程度の大きさにして近
接して配置させて、両姿勢制御ロール12、12とグラ
ビアロール13との間における基材の平坦性をより確実
に保持することができるようにしている。
【0014】図4はグラビアロール13の詳細を示して
いる。本実施の形態においては、グラビアロール13は
次にのようにして製作される。まず、剛性および靱性を
有する鋼鉄等の金属製ロール芯13aの外周面にセラミ
ック材粉末をプラズマ溶射させて所定厚さのセラミック
材層13bを形成する。次に、セラミック材層13bの
外周面を円筒研磨し、その後レーザ彫刻により、グラビ
アパターン17を彫刻する。このグラビアパターン17
としては、多数の平行な傾斜溝17aとされている。各
傾斜溝17aはそれぞれレーザ彫刻によって彫られる小
円穴をその傾斜方向に一部を重複させて連続彫刻するこ
とによって形成される。更に、各傾斜溝17aの軸方向
両端部の所定長Lは、図5に示すように、端部に向けて
次第に溝深さが浅くなるように形成されている。このよ
うにして各傾斜溝17aが彫刻された後に、必要に応じ
てバーチカル研磨を行うとよい。
【0015】次に、図1から図3に示したグラビア塗工
機並びに図4および図5に示したグラビアロール13を
用いて、本発明方法による塗工剤のべた塗りを工程に従
って説明する。
【0016】上部ユニット30を図1の鎖線位置に移動
させて定位させ、その後基材10を所定速度で図1の左
から右方向へ走行させる。同時に塗工剤供給ノズル20
のノズル部24内へ塗工剤貯留部22および連通溝23
を通して塗工剤を送給するとともにグラビアロール13
を同図反時計方向に回転させる。これによりノズル部2
4内の塗工剤中にグラビアロール13のグラビアパター
ン17の下部が浸漬され、グラビアパターン17内に塗
工剤が充填供給されグラビアパターン17の回転に応じ
てドクタブレード25方向へ進行して行く。この時のノ
ズル部24内への塗工剤の送給量は、グラビアパターン
17への塗工剤の供給量と同量もしくは若干多い量とす
るとよい。そして、グラビアパターン17に塗布された
塗工剤はドクタブレード25において拭取られグラビア
パターン17の全幅のみに適正量だけ充填供給される。
このドクタブレード25によって拭取られた余剰塗工剤
は、再びグラビアパターン17に供給されたり、塗工剤
供給ノズル20の表面を流下してオーバーフロー受容器
18内に貯留された後に再び塗工剤貯留部22内に戻さ
れたりする。このようにしてグラビアロール13のグラ
ビアパターン17内に適正量の塗工剤が供給されるよう
になったら、図1の鎖線位置に移動させて定位させられ
て走行している基材10の下面に向けてグラビアロール
13を基台14と一緒に上昇させる。または、上部ユニ
ット30を図1の鎖線位置まで移動させて、グラビアロ
ール13のグラビアパターン17を基材10の下面に接
触させてグラビアパターン17内の塗工剤を基材10の
下面に塗工する。
【0017】この場合、両姿勢制御ロール12、12に
よって上面を支持された状態で走行している連続体状の
基材10の上面が自由状態にある位置の基材10の下面
にグラビアロール13を接触させて塗工剤を塗工するこ
ととなり、互いに平行な両姿勢制御ロール12、12と
グラビアロール13との間に基材10が縦皺等の変形を
発生させることなく平坦状に保持して展張されて走行さ
せられる。特に、本実施形態においては、両姿勢制御ロ
ール12、12とグラビアロール13とが近接して配置
されているために、両姿勢制御ロール12、12とグラ
ビアロール13との間における基材10の平坦性をより
確実に保持することができる。
【0018】その上更に、本実施形態においては、基材
10の走行方向とグラビアパターン17の回転方向とが
相互の接触部において逆方向であるから、グラビアパタ
ーン17は基材10の下面に対して滑りを生じているこ
ととなる。これにより基材10の下面に塗工されたグラ
ビアパターン17のパターンが基材10の走行方向と逆
方向に滑ることとなり基材10の下面に塗工剤が均一に
平滑されたべた塗り状態に塗工される。この場合に、塗
工厚は基材10とグラビアロール13との相対速度差を
変えることにより調整する。これにより本発明方法によ
ればスムージング装置を省くことができる。また、基材
10についてグラビアロール13の反対側に加圧用のゴ
ムローラ等を設けないので、基材10が薄い場合でも縦
皺が発生することなく極めて良好に塗工剤を塗工するこ
とができる。また、グラビアロール13および両姿勢制
御ロール12、12が細いので、基材10の下面との接
触面積が、直径の大きい従来のグラビアロールに比べて
極めて小さくなり、基材10へ極めて良好に均一に塗工
剤を塗工することができるとともに、基材10への接触
および離れぎわが良くなり、塗布の開始および停止の位
置を正確に行なうことができる。更に、グラビアロール
13のコストも低廉となり、機械全体も小型になり、上
下動の駆動力も小さくて済む。
【0019】更に、本実施の形態においては、グラビア
ロール13の外周面がセラミックス材層13bからなる
セラミックス製であるために、グラビアパターン17を
セラミックス製のロール表面にレーザ溶射法によって自
由に刻設することができ、極めて精度のよいグラビアロ
ール13を製造することができる。従って、本実施の形
態のセラミックス製のグラビアロール13は、金属製グ
ラビアロールに比較して、耐久性に優れており、転造用
の高価なマザーミールが不用となり、製造すべきグラビ
アパターンが異なる毎のマザーミールも不要となり、し
かも転造時にマザーミールをグラビアロール用の円筒ロ
ールに強く押し付けるものではないために、グラビアロ
ール13の仕上がり精度を容易に高く維持することがで
きる。更に、グラビアパターン17を多数の平行な傾斜
溝17aとすることにより、塗工剤をより均一に塗工さ
せることができ、極めて均一な厚さのべた塗りを施すこ
とができる。更に、傾斜溝17aからなるグラビアパタ
ーン17の両端部において端部に向けて次第に溝深さが
浅くなるように形成することにより、当該両端部におけ
る塗工厚さが他の部分より厚くなることを確実に防止す
ることができ、塗工剤をより均一に塗工させることがで
きる。
【0020】更に、本実施の形態による良好な塗工作用
について、先ず、図6から図10に基づいて、本実施の
形態において小径なグラビアロール13とドクタブレー
ド25とを設けた点について説明する。
【0021】本実施の形態においては小径なグラビアロ
ール13を用いるとともに、ドクタブレード25によっ
て正確に計量されたグラビアパターン17内の塗工剤を
基材10への塗工部に供給し、その塗工部で基材10の
走行速度とグラビアロール13の周速度とを異ならせる
ようにして塗工を行なうようにしており、これにより本
実施の形態によれば従来では達し得なかった良好な塗工
剤の塗工が行なわれる。
【0022】即ち、図6に示すように、本実施の形態の
小径なグラビアロール13と従来の大径なグラビアロー
ル13aとを同一の巻付け角αをもって基材10に下面
から接触させると、基材10に対するグラビアロール1
3、13aの接触周方向長さは当然本実施の形態のグラ
ビアロール13の方が短かくなり、その結果基材10と
グラビアロール13、13aとの接触面積も本実施の形
態のグラビアロール13の方が小さくなる。この接触周
方向長さおよび接触面積の大小の相違並びに、ドクタブ
レード25によって正確に計量した塗工剤を塗工部へ供
給することにより、本実施の形態が従来例では達成し得
なかった極めて良好な塗工を以下のようにして施すこと
ができる。
【0023】先ず、グラビアロールの外周面に形成され
たグラビアパターン17内に貯留されて基材10との接
触部まで移送された塗工剤は、基材10と接することに
より基材10側に転写されるものであるが、そのグラビ
アロール13、13aと基材10との接触部を微視的に
観察すると、グラビアロール13、13aと基材10と
の間に走行速度差がある場合には、グラビアロール1
3、13aと基材10との間に薄い塗工剤層が前記巻付
け角+この巻付け角より基材10の走行方向の前後側に
若干広がっている基材10とグラビアロール13、13
aとの間の楔形断面の小空間35、35aからなる角度
の範囲に形成され、同塗工剤層部分より塗工剤が基材1
0に塗工される。
【0024】ところが、図7(a)に示すようにグラビ
アロール13aの直径が大きい場合には、例えば本実施
の形態のようにグラビアロール13aを基材10と逆方
向に回転させると、グラビアロール13aと基材10と
の間に生じる摩擦力が極めて大きくなる。この大きな摩
擦力の存在下で基材10を円滑に走行させるためには、
基材10に前記摩擦力より大きな展張力を付与して走行
させなければならない。基材10に大きな展張力が作用
すると、その展張力のグラビアロール13aの中心方向
に向う分力によって基材10はグラビアロール13aの
外周面に向けて押付けられ、両者間に形成される塗工剤
層(同図において塗工剤を斜線で示している(図8、図
9において同じ))を排除して、前記巻付け角αの中央
部分においてグラビアロール13aの外周面に直接接触
してしまい、両者間の摩擦力を更に増大させてしまう。
これに伴って基材10に付与すべき展張力Fを更に増大
させなければならない。このような大きな展張力Fが薄
い基材10に作用すると、図8(a)に示すようにその
基材10に展張方向すなわち長手方向に延びる複数の縦
皺32、32…が発生し、基材10とグラビアロール1
3aとの間隔が基材10の幅方向に不均一となり、基材
10とグラビアロール13aとの間の塗工剤層の基材1
0の幅方向における塗工剤量も不均一となり、結局基材
10への塗工剤の塗布量も不均一となって、塗工むらが
発生した。この塗工むらの形態としては、基材10の縦
皺32に沿って塗工量の多い部分と少ない部分とからな
る複数の縦縞33、33…が発生する。また、従来例に
おいてはグラビアロール13aと基材10との間の摩擦
力が大きいため、基材10を等速で走行させることが困
難であり、基材10の走行速度は早くなったり遅くなっ
たりを繰返す不等速走行となり、塗工量の多い部分と少
ない部分とが基材10の長手方向に繰返えされる横縞3
4状の塗工むらが発生する。更に、従来例においては、
グラビアロール13aの直径が大きいため、基材10の
走行方向前方側が基材10とグラビアロール13aとの
間に形成される楔形断面の小空間25aに貯留されてい
る塗工剤層から離れる際に、基材10に縦皺が生じるこ
とがあった。なぜなら、前記小空間35a部分におい
て、楔形の頂点から基材10の走行方向に向けて基材1
0とグラビアロール13aとの間隔の拡大率が小さく、
換言すれば、楔形が非常に鋭くなり、同小空間35a内
に貯留される塗工剤層のグラビアロール13aに対する
周方向長さが長くなるとともに、その塗工剤層の端部か
ら離れようとする基材10部分との間に作用する剥離力
が大きくなり、基材10に複数の縦皺が発生し、塗工む
らが生じていた。従来例においてはこれらの不具合部分
が複合的に作用し合って、塗工剤を均一に塗工すること
ができなかった。このようであるから塗工厚さを調整す
ることもできなかった。
【0025】また、従来のように小径なロールのみを用
いて塗工剤を基材に塗布して、前述した大径なロールの
問題点を克服するようにしても、ロールによって塗工部
まで搬送される塗工剤量を正確に所定量に計量するもの
ではないため、そのロールによる塗工工程のみでは塗工
厚を均一にすることは不可能であり、結局スムーザーを
設けなければならなかった。
【0026】一方、本実施の形態によれば、図6に示す
ようにグラビアロール13の直径を小さくしたので、前
述したようにグラビアロール13と基材10との接触面
積が小さくなり、グラビアロール13を基材10と逆方
向に回転させても、グラビアロール13と基材10との
間に生じる摩擦力は極めて小さく抑えられる。
【0027】従って、図7(b)に示すように基材10
を円滑に走行させるために必要な基材10に付与する展
張力fも小さく抑えられる。この展張力fが小さいこと
により、その展張力fのグラビアロール13の中心方向
に向う分力も小さく抑えられ、基材10の下面が直接グ
ラビアロール13の外周面に接触することが無くなり、
基材10とグラビアロール13との間に薄い塗工剤層が
確実に形成される。この薄い塗工剤層が形成されること
により、基材10とグラビアロール13との間の摩擦力
が一層小さく抑えられ、基材10に付与する展張力fも
小さく抑えられる。
【0028】よって、本実施の形態によれば、基材10
が厚さ数μmmと極めて薄い場合であっても、従来のよう
な縦皺32が生じることが無い。
【0029】そして、基材10とグラビアロール13と
の間の摩擦力が小さいこと、および両者間に薄い塗工剤
層が形成されていることにより、基材10の走行に対す
る抵抗力は極めて小さいものであり、基材10を一定速
度で走行させることができる。
【0030】更に、基材10とグラビアロール13との
間に形成される小空間35の楔形の鋭さは、グラビアロ
ール13の直径が小さいため従来例に比べて鋭くなり、
その小空間35に貯留される塗工剤層のグラビアロール
13の周方向長さも短くなるとともに、塗工剤層の端部
から離れようとする基材10の部分との間に作用する剥
離力も小さく抑えられ、基材10に縦皺が発生すること
もない。
【0031】更に、本実施の形態においては、基材10
が一定速度で走行することにより、小空間35の塗工剤
層から一定量の塗工剤が基材10に転写されることとな
り、しかもその転写される塗工剤量と同量の塗工剤を、
ドクタブレード25によって正確に計量された定周速回
転中のグラビアロール13の各グラビアパターン17を
介して供給することにより、基材10の走行速度とグラ
ビアロール13の周速との比が所定値となった時に、塗
工剤の転写量と供給量とが同一となってバランスし、基
材10への塗工剤の塗工厚が一定の塗工が施される。図
10はその塗工厚と前記両速度比との関係を示してい
る。この小空間35における塗工剤の転写と供給とのバ
ランスは、塗工剤の性質すなわち表面張力や粘度と、グ
ラビアロール13の回転および基材10の走行によって
塗工剤へ付与されるそれぞれの運動力等がバランスする
ことにより得られる。
【0032】次に、両姿勢制御ロール12、12を設け
たことによる作用を説明する。
【0033】本実施の形態においては、両姿勢制御ロー
ル12、12によって上面を支持された状態で走行して
いる連続体状の基材10の上面が自由状態にある位置の
基材10の下面にグラビアロール13を接触させて塗工
剤を塗工するようにしているので、互いに平行な両姿勢
制御ロール12、12とグラビアロール13との間に基
材10が縦皺等の変形を発生させることなく平坦状に保
持して展張されて走行させられる。特に、本実施の形態
においては、両姿勢制御ロール12、12とグラビアロ
ール13とが近接して配置されているために、両姿勢制
御ロール12、12とグラビアロール13との間におけ
る基材10の平坦性をより確実に保持することができ
る。
【0034】そして、本実施の形態においては、これら
の作用が相剰的に作用し合って、平坦性をもって走行し
ている基材10とグラビアロール13との間に形成され
る塗工剤層を常に一定状態に保持し、基材10に対して
塗工剤が極めて精度よく、かつ、確実に均一厚さにべた
塗りされる。
【0035】また、本実施の形態においては、楔形断面
の小空間35内に貯留されている塗工剤層から基材10
へ塗工剤を転写するものであり、スムージングナイフ、
スムージングローラ等のスムージング機構を用いること
なく、グラビアロール13の彫刻パターンを平滑化した
塗工厚が均一なべた塗り状の塗工を施すことができる。
【0036】更に、図9に示すように基材10とグラビ
アロール13との間に形成される塗工剤層はグラビアロ
ール13の軸方向と正確に平行に形成されているため、
基材10に対する塗工開始位置および塗工終了位置にお
ける塗工剤の塗布部分の端部を基材10の走行方向と正
確に直交するように形成することができ、塗工仕上がり
も極めて良質のものとすることができる。
【0037】しかも、図10に示すように基材10の走
行速度に対するグラビアロール13の周速度の相対速度
を変えることにより、基材10への塗工剤の塗工厚を調
整することができる。
【0038】なお、図1においてはグラビアロール13
を基材10と反対方向に回転させたが、ドクタブレード
25をグラビアロール13に対して反対側に設けるとと
もに、グラビアロール13を同図において時計方向に回
転させ、更に基材10とグラビアロール13とに相対速
度差を設けることにより、基材10の下面に塗工剤が平
滑化された塗工を施すように形成してもよい。この場
合、基材10の走行速度よりグラビアロール13の周速
度を大きくすると、特に2倍程度の速度にすると、塗工
剤の平滑化が極めて良好に行なわれる。
【0039】そして、塗工剤の粘度が高い場合にはグラ
ビアロール13を基材10と逆方向に回転させ、その粘
度が低い場合にはグラビアロール13を基材10と同方
向に回転させると、塗工剤の平滑化を良好に行なうこと
ができる。また、基材10とグラビアロール13との相
対速度をグラビアロール13の回転速度を変えて調整す
ることにより、例えば図10の特性図に示すように前記
平滑化の調整と併せて基材10への塗工剤の塗工厚を調
整することができる。
【0040】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、必要に応じて変更することができる。
例えば、前記実施の形態におけるグラビアパターンをロ
ールの軸方向に複数に分割して間欠的に設けてストライ
ブ彫刻としたり、ロールの周方向にも部分的に形成する
ようにしてもよい。また、前記実施の形態におけるグラ
ビアパターンは傾斜溝としたが、これを格子状や台形状
のパターンとしてもよい。また、グラビアロールとして
金属材製のものを用いてもよい。
【0041】
【発明の効果】本発明のグラビア塗工方法およびグラビ
ア塗工機はこのように構成され作用するものであるか
ら、あらゆる種類の薄い基材に対して塗工剤を極めて精
度よく、かつ、確実に均一厚さでべた塗りすることので
きる。
【0042】更に、本発明においては、請求項3に記載
のグラビア塗工機を用いて請求項1に記載の方法によっ
て塗工を施すことにより、平行な一対の姿勢制御ロール
によって上面を支持された状態で走行している連続体状
の基材の上面が自由状態にある位置におけるその基材の
下面に塗工剤を塗工することができ、これにより両姿勢
制御ロールとグラビアロールとの間に基材が縦皺等の変
形を発生させることなく平坦状に保持して展張されて走
行させられ、塗工剤が極めて精度よく、かつ、確実に均
一厚さにべた塗りされる。
【0043】更に、両姿勢制御ロールをそれぞれグラビ
アロールに近接して配置することにより、両姿勢制御ロ
ールとグラビアロールとの間における基材の平坦性をよ
り確実に保持することができ、塗工剤を極めて精度よ
く、かつ、確実に均一厚さにべた塗りすることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のグラビア塗工方法を実施するための
グラビア塗工機の一例を示す縦断面図
【図2】 図1のII−II線に沿った縮小断面図
【図3】 上部ユニットを示す縦断面図
【図4】 図1のIV部の拡大半断面図
【図5】 図4のV−V線に沿った断面図
【図6】 本発明方法と従来例との要部の構成を比較す
る概略図
【図7】 (a)(b)はそれぞれ従来例と本発明とに
おける基材とグラビアロールとの間に形成される塗工剤
層を示す説明図
【図8】 (a)(b)はそれぞれ従来例における塗工
状態を示す概略斜視図
【図9】 本発明の図7と同様の図
【図10】 グラビアロールの周速度/基材の走行速度
からなる相対速度と基材への塗工剤の塗工厚との関係を
示す特性図
【符号の説明】
10 基材 12 姿勢制御ロール 13 グラビアロール 17 グラビアパターン 25 ドクターブレード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 稔 神奈川県海老名市門沢橋149−1 株式会 社康井精機厚木工場内 Fターム(参考) 4D075 AC25 AC34 AC94 DA03 4F040 AA22 BA12 BA26 CB27 4F042 AA22 DD03 DD04 DD07

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直径が約20mm〜約50mmの一対の平行
    な自由回転自在な姿勢制御ロールによって上面を支持さ
    れた状態で両姿勢制御ロールの軸方向と直交方向に走行
    している連続体状の基材の前記両姿勢制御ロール間の下
    方に、両姿勢制御ロールと平行に配置され、かつ、外周
    面の全周にグラビアパターンが形成された直径が約20
    mm〜約50mmのグラビアロールを、前記基材と相対速度
    を有する周速度で回転させるとともに、このグラビアロ
    ールの表面からドクタブレードによって余剰塗工剤を塗
    工を施す前に拭取って、定量の塗工剤を前記基材の上面
    が自由状態にある位置におけるその基材の下面に塗工し
    て、前記基材に塗工剤をべた塗りすることを特徴とする
    グラビア塗工方法。
  2. 【請求項2】 各姿勢制御ロールはそれぞれグラビアロ
    ールに近接して配置されていることを特徴とする請求項
    1に記載のグラビア塗工方法。
  3. 【請求項3】 走行している連続体状の基材の上面を支
    持する直径が約20mm〜約50mmの一対の平行な自由回
    転自在な姿勢制御ロールと、両姿勢制御ロールの間で走
    行している連続体状の基材の上面が自由状態にある位置
    におけるその基材の下面に塗工剤を塗工するグラビアロ
    ールであって、両姿勢制御ロールと平行に配置され、か
    つ、外周面の全周にグラビアパターンが形成された直径
    が約20mm〜約50mmのグラビアロールと、このグラビ
    アロールの表面から余剰塗工剤を塗工を施す前に拭取っ
    て定量の塗工剤を塗工部へ供給せしめるドクターブレー
    ドとを有することを特徴とするグラビア塗工機。
  4. 【請求項4】 各姿勢制御ロールはそれぞれグラビアロ
    ールに近接して配置されていることを特徴とする請求項
    3に記載のグラビア塗工機。
JP36790299A 1999-12-24 1999-12-24 グラビア塗工方法およびグラビア塗工機 Pending JP2001179151A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36790299A JP2001179151A (ja) 1999-12-24 1999-12-24 グラビア塗工方法およびグラビア塗工機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36790299A JP2001179151A (ja) 1999-12-24 1999-12-24 グラビア塗工方法およびグラビア塗工機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001179151A true JP2001179151A (ja) 2001-07-03

Family

ID=18490492

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36790299A Pending JP2001179151A (ja) 1999-12-24 1999-12-24 グラビア塗工方法およびグラビア塗工機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001179151A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006064646A1 (ja) * 2004-11-26 2006-06-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 薄膜の間欠塗工方法
JP2007034140A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Yasui Seiki:Kk 薄膜生成装置
EP1653532A4 (en) * 2004-02-20 2007-09-26 Matsushita Electric Industrial Co Ltd METHOD FOR PRODUCING A LITHIUM ION SECONDARY BATTERY
US8067058B2 (en) 2006-12-28 2011-11-29 Panasonic Corporation Method for producing battery electrode and apparatus for producing battery electrode
CN115443194A (zh) * 2020-04-07 2022-12-06 株式会社Lg化学 凹版涂布机测试装置和凹版涂布机
US11990623B2 (en) * 2017-11-30 2024-05-21 Collin Lab & Pilot Solutions Gmbh Method for applying polymer patches onto a substrate

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1653532A4 (en) * 2004-02-20 2007-09-26 Matsushita Electric Industrial Co Ltd METHOD FOR PRODUCING A LITHIUM ION SECONDARY BATTERY
US7575606B2 (en) 2004-02-20 2009-08-18 Panasonic Corporation Method for producing lithium ion secondary battery
US8302559B2 (en) 2004-02-20 2012-11-06 Panasonic Corporation Method of producing lithium ion secondary battery
WO2006064646A1 (ja) * 2004-11-26 2006-06-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 薄膜の間欠塗工方法
US7842332B2 (en) 2004-11-26 2010-11-30 Panasonic Corporation Method for intermittently applying thin-film coatings
EP1825929A4 (en) * 2004-11-26 2011-01-05 Panasonic Corp INTERMITTENT COATING PROCESS FOR THIN FILMS
CN101068629B (zh) * 2004-11-26 2011-09-21 松下电器产业株式会社 薄膜的间歇涂装方法
JP2007034140A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Yasui Seiki:Kk 薄膜生成装置
US8067058B2 (en) 2006-12-28 2011-11-29 Panasonic Corporation Method for producing battery electrode and apparatus for producing battery electrode
US11990623B2 (en) * 2017-11-30 2024-05-21 Collin Lab & Pilot Solutions Gmbh Method for applying polymer patches onto a substrate
CN115443194A (zh) * 2020-04-07 2022-12-06 株式会社Lg化学 凹版涂布机测试装置和凹版涂布机
US12042814B2 (en) 2020-04-07 2024-07-23 Lg Chem, Ltd. Gravure coater test apparatus and gravure coater

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH027663Y2 (ja)
CN101068629B (zh) 薄膜的间歇涂装方法
US3951102A (en) Roller coating apparatus
JP2001179151A (ja) グラビア塗工方法およびグラビア塗工機
US2273967A (en) Method of making coating deposit rollers
JP5623858B2 (ja) 塗工装置
JPS6258310B2 (ja)
JPH06316896A (ja) サイズプレスロールによる紙または厚紙の塗被加工方法と塗工装置
JPH0553553B2 (ja)
JP2001191016A (ja) グラビア塗工方法およびグラビア塗工機
JPH03114564A (ja) 多色グラビア塗工方法および装置
JP2001104852A (ja) グラビア塗工方法、グラビア塗工機およびこれらに用いられるグラビアロール
CN113385363A (zh) 涂布装置
JP2002346448A (ja) 塗工装置と塗工方法及び剥離紙の製造方法
JP4714961B2 (ja) 塗布装置
JP3991226B2 (ja) 塗工装置
JP3696257B2 (ja) 微小凹部を有する基材に対する塗工方法および塗工装置
JP2007326080A (ja) ロッド塗布方法及び装置
JP3797301B2 (ja) ペースト塗布装置
JP5367322B2 (ja) 塗工装置
JP4217939B2 (ja) ロッド塗布方法及び装置
JPH10202156A (ja) ロールコータ
JP2004305969A (ja) ロールコート方法および装置
JPH05337418A (ja) 塗布方法及び塗布装置
JPS6242764A (ja) フイルム又はシ−トの両面コ−テイング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050915

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080219

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080421

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080729

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080929

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20081112

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20090116