JP2001168360A - 太陽電池モジュールおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光入射側における光の反射による光公害等が
有効に防止された太陽電池モジュールおよびそれを簡易
かつ安価に製造する方法が提供される。 【解決手段】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
板１と、透明絶縁基板１の第１の面上に形成された透明
電極層２と、透明電極層２上に形成された光半導体層３
と、光半導体層３上に形成された裏面電極層４と、透明
絶縁基板１の光が入射される第２の面上に形成された凹
凸表面テクスチャを有する防眩膜１０とを備える。凹凸
表面テクスチャを有する太陽電池モジュールの受光面の
６０°光沢度は、６０以下である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュー
ルおよびその製造方法に関するものであり、特に太陽光
発電に用いられる太陽電池モジュールおよびその製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、クリーンエネルギの利用がますま
す叫ばれるようになり、それに伴い太陽電池の利用の促
進が図られている。また、太陽電池の量産化に相俟っ
て、製造コストの低減化が進みつつある。太陽電池利用
の形式としては、かっては、大規模に並べて行なった太
陽電池発電所の形態や、人里離れたところでの電源確保
のための形態が主流であった。しかしながら、近年、市
街地で住宅の屋根やビルの外壁に太陽電池モジュールパ
ネルを取付けて電力を発生し、そのエネルギを従来の電
力会社の電気と同様に利用することが主流となりつつあ
る。

【０００３】係る太陽電池モジュールパネルは、表面カ
バーガラスと裏面カバーフィルムとの間に、複数の光起
電力素子が樹脂で封止されたものである。表面カバーガ
ラスとしては、かつては透明ガラスで鏡面をなすものが
用いられていたため、光公害の問題が生じていた。この
問題を解決するため、たとえばガラスをプレス加工して
表面に特有の形状を形成した型板ガラスの利用が検討さ
れている。また、特開平１１−７４５５２号公報には、
ガラス基板の光入射面に凹凸形状を形成する技術が開示
されている。

【０００４】一方、太陽電池モジュールのコストを大幅
に低減する構造として、表面カバーガラスと同じサイズ
の透明絶縁基板に、光の入射側から透明電極層、半導体
層、裏面電極層をパターニングしながら順次形成して得
られる、基板一体型薄膜系太陽電池モジュールが提案さ
れている。この構造の特徴は、各光起電力素子の配線
間、および素子とカバーガラスの間に充填する封止樹脂
が必要ないことであり、コスト面の利点のみならず、表
面カバーガラスにおける光の吸収によるエネルギ損失、
ならびに樹脂の黄変による特性劣化がないことである。

【０００５】図１１は、従来の太陽電池モジュールの一
例の概略構成を示す断面図である。図１１を参照して、
この太陽電池モジュールは、透明絶縁基板１と、透明絶
縁基板１の光入射面と異なる面上に形成された透明電極
層２と、透明電極層２上に形成された光半導体層３と、
光半導体層３上に形成された裏面電極層４とを備えてい
る。透明電極層２、光半導体層３、および裏面電極層４
が順次積層されて構成される光半導体素子５は、複数の
領域に分離され、各領域は互いに電気的に直列または並
列に接続されている。

【０００６】また、この太陽電池モジュールは、光半導
体素子５を保護するため、充填樹脂６、および裏面カバ
ーフィルム７により封止、保護されている。さらに、こ
のように封止された太陽電池には、フレーム８が取付け
られている。

【０００７】このように構成される従来の太陽電池モジ
ュールの製造工程には、プラズマＣＶＤ、スパッタ等の
成膜工程の他、レーザ加工工程等が含まれる。そのた
め、従来の太陽電池モジュールにおいては、これらの工
程を安定的に行なうため、一般に透明絶縁基板１の光入
射面側の表面は、平坦な面に形成されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに構成される従来の太陽電池モジュールを屋根やビル
の外壁に配列した場合、太陽と太陽電池モジュールとの
角度によっては、太陽光が反射して隣接する家屋の中を
照らしたりする等の光公害の問題が一部で指摘されてい
た。

【０００９】そこで、このような問題を解決するため、
前述したように基板の表面を光を散乱する型板ガラスに
することが検討されているが、こうしたガラスを用いた
場合、型板ガラスのテクスチャ仕様の細かな検討あるい
は特別なレーザ加工条件が必要となり、これに伴うコス
トの増加が発生するという問題があった。

【００１０】また、特開平１１−７４５５２号公報に開
示されるように、ガラス基板自体に凹凸形状を形成する
場合には、ガラスの加工は高温や反応性の高いフッ酸等
の溶液の使用を伴うため、モジュール完成後には実施で
きないという問題があった。また、モジュール作製前に
予めガラス基板自体に加工を施しておいた場合では、半
導体層や電極層のレーザによるカットをガラス基板面よ
り行なうことができない等の問題があった。さらに、ガ
ラス基板に凹凸形状を形成する方法としては、ブラスト
処理も考えられるが、ガラスの強度が弱くなるという問
題があった。

【００１１】一方、従来の太陽電池モジュールの製造に
おいては、ロットによりガラス基板の色調に差があるた
め、完成した太陽電池モジュールにおいても、色調に差
が生じてしまうという問題もあった。

【００１２】この発明の目的は、上述の問題点を解決
し、光入射側における光の反射による光公害等が有効に
防止され、かつ色調の統一された太陽電池モジュールお
よびその製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】この発明による１つの局
面に従って、太陽電池モジュールが提供される。この太
陽電池モジュールは、第１および第２の面を有する透明
絶縁基板と、透明絶縁基板の第１の面上に形成された第
１電極層と、第１電極層上に形成された光半導体層と、
光半導体層上に形成された第２電極層と、透明絶縁基板
の光が入射される第２の面上に形成された防眩膜とを備
える。

【００１４】防眩膜は、有機材バインダと有機材粒子、
有機材バインダと無機材粒子、無機材バインダと有機材
粒子、または無機材バインダと無機材粒子とを含む。

【００１５】好ましくは、有機材バインダは、アクリル
系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合樹脂、また
はこれらの樹脂あるいは混合樹脂を主成分とするとよ
い。

【００１６】たとえば、有機材バインダのアクリル系樹
脂としては、以下の構造：

【００１７】

【化２】

【００１８】（式中、Ｒ₁は炭素数１〜１０のアルキル
基、Ｒ₂は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル
基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ば
れた一価の炭化水素基、ａは０、１または２を示す）で
表わされる基を含有する加水分解性シリル基含有アクリ
ル共重合体を含み、フッ素系樹脂としては、水酸基含有
フッ素系樹脂であるとよい。

【００１９】好ましくは、有機材粒子は、アクリル系樹
脂、フッ素系樹脂、ポリエチレンワックス、またはこれ
らの少なくとも２種以上の混合物からなるとよい。

【００２０】好ましくは、無機材粒子は、シリカからな
るとよい。好ましくは、無機材バインダは、シリカまた
はアルキルシリケートから形成されるとよい。

【００２１】アルキルシリケートとして、エチルシリケ
ート、ブチルシリケート、またはこれらの混合物、また
はこれらあるいはこれらの混合物を主成分とするものか
ら形成されるとよい。

【００２２】さらに、無機材バインダは、有機材によっ
て複合化されていてもよい。好ましくは、バインダに、
触媒が添加されているとよい。

【００２３】さらに、触媒は、有機スズ化合物を含有す
るとよい。好ましくは、粒子の直径が１〜１０μｍであ
って、バインダと粒子との混合重量比は、バインダの重
量を１００としたとき、粒子の重量が１〜１０であると
よい。

【００２４】さらに、好ましくは、透明絶縁基板と防眩
膜との間に介在された、界面処理剤からなる膜をさらに
備えるとよい。

【００２５】また、防眩膜は、表面に凹凸形状が形成さ
れているとよい。さらに、防眩膜上に形成された表面保
護膜をさらに備えるとよい。

【００２６】この発明による他の局面に従って、太陽電
池モジュールが提供される。この太陽電池モジュール
は、第１と第２の主面を有する透明絶縁基板の第１主面
上に順に積層された透明電極層、半導体光電変換層、お
よび裏面電極層と、透明絶縁基板の第２主面上に形成さ
れた防眩膜とを備え、防眩膜は有機系ポリマー、無機系
ポリマー、またはそれらの複合材料を含み、光を散乱さ
せるのに適した微細な凹凸を含む表面を有していること
を特徴とする。

【００２７】好ましくは、防眩膜に含まれる有機系ポリ
マーとしては、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、または
これらの混合材料が用いられているとよい。

【００２８】たとえば、防眩膜に含まれるアクリル系樹
脂としては、以下の構造：

【００２９】

【化３】

【００３０】（式中、Ｒ₁は炭素数１〜１０のアルキル
基、Ｒ₂は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル
基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ば
れた一価の炭化水素基、ａは０、１または２を示す）で
表わされる基を含有する加水分解性シリル基含有アクリ
ル共重合体を含み、フッ素系樹脂としては、水酸基含有
フッ素系樹脂であることを特徴とするとよい。

【００３１】好ましくは、防眩膜に触媒が添加されてい
るとよい。さらに、好ましくは、触媒が、有機スズ化合
物を含有するとよい。

【００３２】好ましくは、防眩膜に含まれる無機系ポリ
マーの原料として、アルキルシリケートが用いられてい
るとよい。

【００３３】アルキルシリケートとして、エチルシリケ
ート、ブチルシリケート、またはこれらの混合材料が含
まれていることが好ましい。

【００３４】好ましくは、防眩膜は、無機系ポリマーか
ら得られたシリカを含むとよい。さらに、好ましくは、
透明絶縁基板の第２主面と防眩膜との間に、界面処理剤
が介在させられているとよい。

【００３５】さらに好ましくは、防眩膜の凹凸表面上に
形成された汚染防止膜をさらに備え、この汚染防止膜は
平坦な表面を有しているとよい。

【００３６】この発明によるさらに他の局面に従って、
太陽電池モジュールが提供される。この太陽電池モジュ
ールは、第１と第２の主面を有する透明絶縁基板の第１
主面上に順に積層された透明電極層、半導体光電変換
層、および裏面電極層を含み、透明絶縁基板の第２主面
は光を散乱させるのに適した微細な凹凸を含む凹凸表面
テクスチャを有する防眩膜によって覆われているか、ま
たはそれ自体が凹凸表面テクスチャを有するように加工
されており、凹凸表面テクスチャはその凹凸を略維持す
る表面膜によって覆われており、表面膜は有機系ポリマ
ー、無機系ポリマー、またはそれらの複合材料を含む。

【００３７】好ましくは、表面膜に含まれる有機系ポリ
マーとしては、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、または
これらの混合材料が用いられているとよい。

【００３８】たとえば、表面膜に含まれるアクリル系樹
脂としては、以下の構造：

【００３９】

【化４】

【００４０】（式中、Ｒ₁は炭素数１〜１０のアルキル
基、Ｒ₂は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル
基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ば
れた一価の炭化水素基、ａは０、１または２を示す）で
表わされる基を含有する加水分解性シリル基含有アクリ
ル共重合体を含み、フッ素系樹脂としては、水酸基含有
フッ素系樹脂であることを特徴とするとよい。

【００４１】好ましくは、表面膜に含まれる無機系ポリ
マーの原料として、アルキルシリケートが用いられてい
るとよい。

【００４２】アルキルシリケートとして、エチルシリケ
ート、ブチルシリケート、またはこれらの混合材料が含
まれていることが好ましい。

【００４３】好ましくは、表面膜に含まれる無機系ポリ
マーは、シリカを含むとよい。この発明によるさらに他
の局面に従って、太陽電池モジュールが提供される。こ
の太陽電池モジュールは、透明基板、半導体光電変換
層、充填樹脂、および裏面カバーを備えた太陽電池モジ
ュールであって、透明基板の光入射面は光を散乱させる
防眩膜によって覆われているか、またはそれ自体が凹凸
表面テクスチャを有するように加工されており、防眩膜
または凹凸表面テクスチャを有する太陽電池モジュール
の受光面の６０°光沢度が、６０以下であることを特徴
としている。

【００４４】好ましくは、防眩膜または凹凸表面テクス
チャを有する太陽電池モジュールの受光面の６０°光沢
度は、４５以下であるとよい。

【００４５】また、好ましくは、防眩膜または凹凸表面
テクスチャを有する太陽電池モジュールの受光面の２０
°光沢度が２０以下、さらに好ましくは１０以下である
とよい。

【００４６】この発明によるさらに他の局面に従って、
太陽電池モジュールの製造方法が提供される。

【００４７】この太陽電池モジュールの製造方法は、第
１および第２の面を有する透明絶縁基板の第１の面上
に、第１電極層を形成するステップと、形成された第１
電極層上に光半導体層を形成するステップと、形成され
た光半導体層上に第２電極層を形成するステップと、透
明絶縁基板の光が入射される第２の面上に、バインダと
粒子とを含む防眩膜を形成するステップとを備え、防眩
膜は、透明絶縁基板の第１の面上に第１電極層、光半導
体層、および第２電極層を形成した後に形成することを
特徴としている。

【００４８】防眩膜は、有機材バインダと有機材粒子、
有機材バインダと無機材粒子、無機材バインダと有機材
粒子、または無機材バインダと無機材粒子とを含む。

【００４９】好ましくは、バインダに、触媒が添加され
ているとよい。さらに、好ましくは、触媒が、有機スズ
化合物を含有するとよい。

【００５０】この発明によるさらに他の局面に従って、
太陽電池モジュールが提供される。この太陽電池モジュ
ールは、第１および第２の面を有する透明絶縁基板と、
透明絶縁基板の第１の面上に形成された第１電極層と、
第１電極層上に形成された光半導体層と、光半導体層上
に形成された第２電極層と、透明絶縁基板の光が入射さ
れる第２の面上に形成された防眩膜とを備え、防眩膜の
算術平均粗さＲａが０．１〜１０μｍの範囲にあること
を特徴としている。

【００５１】防眩膜は、有機材バインダと有機材粒子、
有機材バインダと無機材粒子、無機材バインダと有機材
粒子、または無機材バインダと無機材粒子とを含む。

【００５２】好ましくは、防眩膜に触媒が添加されてい
るとよい。さらに、好ましくは、触媒が、有機スズ化合
物を含有するとよい。

【００５３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明による第１実施の
形態の太陽電池モジュールの概略構成を示す断面図であ
る。なお、本願の各図においては、図面の明瞭化と簡略
化のために寸法関係は適宜に変更されており、実際の寸
法関係を反映してはいない。特に、防眩膜表面の微細な
凹凸は誇張されて示されている。

【００５４】図１を参照して、この太陽電池モジュール
は、透明絶縁基板１と、透明絶縁基板１の光入射面と異
なる面上に形成された透明電極層２と、透明電極層２上
に形成された光半導体層３と、光半導体層３上に形成さ
れた裏面電極層４とを備えている。透明電極層２、光半
導体層３および裏面電極層４が順次積層されて構成され
る光半導体素子５は、複数の領域に分離され、各領域は
互いに電気的に直列または並列に接続されている。

【００５５】また、この太陽電池モジュールは、光半導
体素子５を保護するため、充填樹脂６、および裏面カバ
ーフィルム７により、封止、保護されている。さらに、
このように封止された太陽電池には、透明絶縁基板１、
充填樹脂６および裏面カバーフィルム７等を保持すると
ともに、屋根等の架台等に取付けるために用いられるフ
レーム８が取付けられている。但し、本願発明は、フレ
ームの有無に制限されるものではなく、フレーム無しの
もの、瓦に埋め込まれたもの等も本願発明に含まれる。

【００５６】さらに、透明絶縁基板１の光入射面側に
は、界面処理剤からなる膜４０を介して、本願発明の特
徴である防眩膜１０が形成されている。防眩膜１０の表
面には、凹凸形状が形成されている。さらに、凹凸形状
が形成された防眩膜１０の表面には、表面が平坦な表面
保護膜５０がさらに形成されている。

【００５７】防眩膜１０としては、光入射面側から入射
した光を乱反射するものであってもよいし、また、入射
した光の透過率を向上させ、反射するものを減少させる
ものでもよい。具体的には、防眩膜１０としては、有機
材バインダと有機材粒子とを含むもの、有機材バインダ
と無機材粒子とを含むもの、無機材バインダと有機材粒
子とを含むもの、無機材バインダと無機材粒子とを含む
もの、等が挙げられる。

【００５８】防眩膜１０を構成する有機材バインダとし
て用いることができる樹脂の特性としては、十分な耐候
性を有し、光の透過性がよく、成膜化のプロセスにおい
て太陽電池素子を劣化させない温度、具体的には２００
℃以下、より好ましくは１５０℃以下で成膜する材料が
好ましく用いられる。

【００５９】本発明に用いられる有機材バインダは、ア
クリル系樹脂、フッ素系樹脂、あるいはそれらの混合樹
脂、またはこれらの樹脂あるいは混合樹脂を含有するも
のが用いられる。

【００６０】また、これらの樹脂あるいは樹脂混合物
は、先の特性を満たすものであれば特に限定されない
が、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、あるいはそれらの
混合樹脂がバインダ樹脂中で５０重量％以上、好ましく
は８０重量％以上、さらには９５重量％以上含有されて
いることが好ましい。

【００６１】アクリル系樹脂としては、アクリルモノマ
ーを主成分とするモノマーを重合あるいは共重合して得
られる樹脂が好ましい。また、フッ素系樹脂としては、
フッ素含有モノマーを用いて重合して得られる樹脂であ
ることが好ましい。

【００６２】アクリル系樹脂としてさらには、加水分解
性シリル基を含有する樹脂が好ましい。具体的には、主
鎖が実質的にポリビニル型結合からなり、末端あるいは
側鎖に加水分解性基と結合した珪素原子を１分子中に少
なくとも１個有するシリル基含有ビニル樹脂であるとよ
い。また、ビニルモノマーと加水分解性シリル基含有モ
ノマーとの共重合により得られ、主鎖または側鎖にウレ
タン結合あるいはシロキサン結合を一部含んでもよい。

【００６３】ビニルモノマーとしては特に限定はなく、
メチル（メタ）クリレート、エチル（メタ）クリレー
ト、ブチル（メタ）クリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）クリレート、ステアリル（メタ）クリレート、
ベンジル（メタ）クリレート、シクロヘキシル（メタ）
クリレート、トリフルオロエチル（メタ）クリレート、
ペンタフルオロプロピル（メタ）クリレート、ポリカル
ボン酸（マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等）の炭素
数１〜２０の直鎖または分岐のアルコールとのジエステ
ルまたはハーフエステル等の不飽和カルボン酸のエステ
ル；スチレン、ａ−メチルスチレン、クロロスチレン、
スチレンスルホン酸、４−ヒドロキシスチレン、ビニル
トルエン等の芳香族炭化水素系ビニル化合物；酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、ジアリルフタレート等のビニ
ルエステルやアリル化合物；（メタ）クリロニトリル等
のニトリル基含有ビニル化合物；グリシジル（メタ）ク
リレート等のエポキシ基含有ビニル化合物；ジメチルア
ミノエチル（メタ）クリレート、ジエチルアミノエチル
（メタ）クリレート、ビニルピリジン、アミノエチルビ
ニルエーテル等のアミノ基含有ビニル化合物；（メタ）
クリルアミド、イタコン酸ジアミド、ａ−エチル（メ
タ）クリルアミド、クロトンアミド、マレイン酸ジアミ
ド、フマル酸ジアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ブ
トキシメチル（メタ）クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、アクリロ
イルモルホリン等のアミド基含有ビニル化合物；２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシエチルビニ
ルエーテル、Ｎ−メチロール（メタ）クリルアミド、ア
ロニクス５７００（東亜合成（株）製）、Placcel FA-
1、Placcel FA-4、Placcel FM-1、Placcel FM-4（以上
ダイセル化学（株）製）等の水酸基含有ビニル化合物；
（メタ）クリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸
およびそれらの塩（アルカリ金属塩、アンモニウム塩、
アミン塩等）、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸、
酸無水物、またはその塩；ビニルメチルエーテル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、クロロプレン、プロピレン、
ブタジエン、イソプレン、マレイミド、Ｎ−ビニルイミ
ダゾール、ビニルスルホン酸等のその他のビニル化合物
等が挙げられる。

【００６４】アルコキシシランビニルモノマーとして
は、具体的には、

【００６５】

【化５】

【００６６】等が挙げられる。これらアルコキシシラン
ビニルモノマー単位は、加水分解性シリル基含有ビニル
系共重合体の中で、好ましくは５〜９０重量％、さらに
好ましくは２０〜８０重量％、特に好ましくは３０〜７
０重量％含まれる。

【００６７】アルコキシシランビニルモノマーとビニル
モノマーの共重合体の製造方法については、たとえば特
開昭５４−３６３９５、同５７−３６１０９、同５８−
１５７８１０等に示される方法を用いればよい。アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ系ラジカル開始剤を用い
た溶液重合が最も好ましい。また必要に応じてｎ−ドデ
シルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ブ
チルメルカプタン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、（Ｈ
₃ＣＯ）₃Ｓｉ−Ｓ−Ｓ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、（ＣＨ
₃Ｏ）₃Ｓｉ−Ｓ₈−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃等の連鎖移動剤を
用い、分子量調節をすることができる。特に加水分解性
シリル基を分子中に有する連鎖移動剤、たとえばγ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシランを用いれば、シリ
ル基含有ビニル系共重合体の末端に加水分解性シリル基
を導入することができる。重合溶剤は炭化水素類（トル
エン、キシレン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等）、
酢酸エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコ
ール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ｎ−ブタノール等）、エーテル類（エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等）、ケトン
類（メチルエチルケトン、アセト酢酸エチル、アセチル
アセトン、ジアセトンアルコール、メチルイソブチルケ
トン、アセトン等）の如き非反応性の溶剤であれば特に
限定はない。

【００６８】フッ素系樹脂としてさらには、水酸基を含
有している樹脂であることが好ましい。たとえばその一
例である水酸基含有フッ素系共重合体は、クロロトリ
フルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、トリフル
オロエチレン等のフルオロオレフィン；ＣＨ₂＝ＣＨＣ
ＯＯＣＨ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂Ｃ
Ｆ ₃、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）₂、ＣＨ₃＝Ｃ
（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）₂、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＦ₃、ＣＨ ₂
＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₃、ＣＨ₂＝Ｃ
（ＣＨ₃）ＣＯＯＣＦ₃等を含む（メタ）アクリル酸フル
オロアルキル等のフッ素含有ビニルモノマー、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニル
エーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキ
シヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニ
ルエーテル；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロール
メタクリルアミド、アロニクス５７００（東亜合成
（株）製）、Placcel FA-1、同FA-4、同FM-1、同FM-4
（以上ダイセル化学（株）製）等の水酸基含有ビニルモ
ノマー、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテ
ル；シクロヘキシルビニルエーテル；マレイン酸、フマ
ール酸、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシルアル
キルビニルエーテル等のカルボキシル基含有モノマー；
エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル；メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等
の不飽和カルボン酸エステル；ビニルトリエトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン等の加水分解性シリル基含有モノマー等；上
記、、を共重合して得られる水酸基価５〜３００
ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは１０〜２５０ｍｇＫＯＨ／
ｇのものである。

【００６９】加水分解性シリル基を含有する樹脂として
は、鐘淵化学工業株式会社製ゼムラック（登録商標）、
水酸基を含有するフッ素系樹脂あるいは樹脂組成物とし
ては、旭硝子株式会社製のルミフロン、ボンフロン、株
式会社トウベ製ニューガメット、大日本塗料株式会社製
Ｖフロン（いずれも登録商標）が例示できる。

【００７０】ルミフロンは、以下に示す基本物性を有し
ている。

【００７１】

【表１】

【００７２】ゼムラックは、以下に示す分子構造を含ん
でいる。

【００７３】

【化６】

【００７４】（式中、Ｒ₁は炭素数１〜１０のアルキル
基、Ｒ₂は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル
基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ば
れた一価の炭化水素基、ａは０、１または２を示す） また、防眩膜１０を構成する無機材バインダとしては、
一般式：

【００７５】

【化７】

【００７６】（式中、Ｒ₃は炭素数１〜１０のアルキル
基、アリール基およびアラルキル基から選ばれた１価の
炭化水素基、Ｒ₄は炭素数１〜１０のアルキル基、アリ
ール基およびアラルキル基から選ばれた１価の炭化水素
基、ｂは０または１を示す）で表わされるシリコン含有
化合物および／またはその部分加水分解縮合物が用いら
れる。

【００７７】上記一般式において、Ｒ₃は炭素数１〜１
０のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル
基、アリール基、好ましくは炭素数６〜９のアリール基
およびアラルキル基、好ましくは炭素数７〜９のアラル
キル基から選ばれた１価の炭化水素基であり、Ｒ₄は炭
素数１〜１０のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４の
アルキル基、アリール基、好ましくは炭素数６〜９のア
リール基およびアラルキル基、好ましくは炭素数７〜９
のアラルキル基から選ばれた１価の炭化水素基である。
また、ｂは０または１、すなわち、同一分子内に（Ｒ₃
Ｏ）基が３〜４個存在する。なお、同一分子内に存在す
る３〜４個の（Ｒ₃Ｏ）基は、同一であってもよく、異
なっていてもよい。

【００７８】前記Ｒ₃またはＲ₄における炭素数１〜１０
のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数６〜９のアリール基および炭素数７〜９のアラル
キル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基などが挙げ
られる。

【００７９】前記シリコン含有化合物の具体例として
は、たとえばテトラメチルシリケート、テトラエチルシ
リケート、テトラ−ｎ−プロピルシリケート、テトラ−
ｉ−プロピルシリケート、テトラ−ｎ−ブチルシリケー
ト、テトラ−ｉ−ブチルシリケート、テトラ−ｔ−ブチ
ルシリケートなどのテトラアルキルシリケート；メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オク
タデシルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−オ
クチルオキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシランなどのアルキルトリアル
コキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシランなどのアリールトリアルコキシシラ
ン、メチルトリフェノキシシランなどのアルキルトリア
リールオキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシランなどのグリシドキシトリアルコキシシラン
などのトリアルコキシシランまたはトリアリールオキシ
シランなどが挙げられる。

【００８０】また、前記シリコン含有化合物の部分加水
分解縮合物としては、たとえば通常の方法で前記テトラ
アルキルシリケート、トリアルコキシシラン、トリアリ
ールオキシシランなどに水を添加し、部分加水分解させ
て縮合させたものが挙げられる。その具体例としては、
たとえばＭＳＩ５１、ＥＳＩ４０、ＨＡＳ−１、ＨＡＳ
−１０（以上、コルコート（株）製）などのテトラアル
キルシリケート部分加水分解縮合物や、たとえばＡＦＰ
−１（信越化学工業（株）製）などのトリアルコキシシ
ラン部分加水分解縮合物、ＴＳＢ４２００、ＴＳＢ４３
００、ＴＳＢ４４００、ベルクリーンなどが挙げられ
る。

【００８１】なお、ＭＳＩ５１は、式：

【００８２】

【化８】

【００８３】で表わされる部分加水分解縮合物である。
無機バインダは、単独でまたは２種以上を混合したもの
またはこれらの混合物、またはこれらあるいはこれらの
混合物を主成分とするものより形成された材料が用いら
れる。また、無機材バインダは、有機分子が無機材バイ
ンダ分子構造内に付加されたもの、あるいは無機分子と
有機分子とが混合されたもの、あるいは無機材バインダ
中に有機材バインダが分散されたものでもよい。

【００８４】これらの無機材バインダには、ゼムラック
と同様に塗膜前に触媒を添加することで、成膜スピード
をコントロールすることも可能であり好ましい。硬化触
媒として、ゼムラックと同様に、具体的にはジブチルス
ズジラウレート、ジブチルスズジマレート、ジオクチル
スズジラウレート、ジオクチルスズジマレート、オクチ
ル酸スズ等の有機スズ化合物；リン酸、モノメチルホス
フェート、モノエチルホスフェート、モノブチルホスフ
ェート、モノオクチルホスフェート、モノデシルホスフ
ェート、ジメチルホスフェート、ジエチルホスフェー
ト、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、
ジデシルホスフェート等のリン酸またはリン酸エステ
ル；プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、シク
ロヘキセンオキサイド、グリシジルメタクリレート、グ
リシドール、アクリルグリシジルエーテル、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、

【００８５】

【化９】

【００８６】カーデユラＥ（油化シエル（株）製）、エ
ピコート８２８（油化シエル（株）製）、エピコート１
００１（油化シエル（株）製）等のエポキシ化合物とリ
ン酸およびまたはモノ酸性リン酸エステルとの付加反応
物；有機チタネート化合物；有機アルミニウム化合物；
マレイン酸、パラトルエンスルホン酸等の酸性化合物；
エチレンジアミン、ヘキサンジアミンなどの脂肪族ジア
ミン類；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミンなどの脂肪族ポリアミン
類；ピペリジン、ピペラジンなどの脂環式アミン類；そ
の他メタフェニレンジアミンなどの芳香族アミン類、エ
タノールアミン類、トリエチルアミン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン；ヘキシルアミ
ン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ドデシルアミン、ドデシルアミン等のアミン類；これら
アミンと酸性リン酸エステルとの反応物；水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ性化合物、またはｎ
−ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプタ
ン等アルキルメルカプタン；ｒ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等メルカプトシラン；２−メルカプト
プロピオン酸、チオサリチル酸等カルボン酸；チオグリ
コール酸２−エチルヘキシル等エステル化合物；カプキ
ユア３−８００（ダイヤモンドシャムロックケミカルズ
社製、両末端がメルカプト基であるポリエーテル）等の
ポリマーや、チオフェノール、チオ安息香酸等メルカプ
ト基含有化合物等が挙げられる。これらの硬化触媒のう
ち、有機スズ化合物、酸性リン酸エステル、アミン類、
酸性リン酸エステルとアミン類との反応物、飽和または
不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物、反応性シリ
コン化合物、有機チタネート化合物、有機アルミニウム
化合物、またはこれらの混合物が好ましく、特には有機
スズ化合物あるいは有機スズ化合物を含有した硬化触媒
が好ましい。中でも、有機スズ化合物とアミン類、およ
びまたはメルカプト化合物を用いた硬化触媒が好まし
い。

【００８７】無機材バインダとして用いることができる
樹脂等の特性としては、十分な耐候性を有し、光の透過
性がよく、成膜化プロセスにおいて太陽電池素子を劣化
させない温度、具体的には２００℃以下、より好ましく
は１５０℃以下で成膜する材料が好ましく用いられる。

【００８８】このような無機材バインダの材料としてよ
り具体的には、たとえば、市場で入手可能なＴＳＢ４２
００、ＴＳＢ４３００、ＴＳＢ４４００、または有機材
バインダがさらに混合されたベルクリーン（登録商標）
等が好ましく用いられる。

【００８９】「ＴＳＢ４２００」、「ＴＳＢ４３０
０」、「ＴＳＢ４４００」は、（有）テー・エス・ビー
製の無機ワニスである。「ＴＳＢ４２００」はエチルシ
リケート、「ＴＳＢ４４００」はブチルシリケートをそ
れぞれ主体とするものであり、「ＴＳＢ４３００」はエ
チルシリケートとブチルシリケートの混合物である。こ
れらはいずれも、耐候性を有する耐熱絶縁材料として作
用するものである。

【００９０】また、「ベルクリーン」は、日本油脂株式
会社製のセラミック系塗料であり、特殊セラミック成分
を高耐久性有機成分と複合化したものである。

【００９１】一方、防眩膜１０を構成する有機材粒子と
しては、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレン
ワックス、またはこれらの少なくとも２種以上の混合物
からなるもの、またはこれらの樹脂あるいは混合樹脂を
主成分とするものが用いられる。具体的には、たとえ
ば、φ８μｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレー
ト）からなる積水化成製ＭＢＸ−８、平均φ１５μｍ、
最大φ３０μｍのＰＥ（ポリエチレン）からなる楠本化
成製ＳＥ４８０−１０Ｔ等が用いられる。

【００９２】また、防眩膜１０を構成する無機材粒子と
しては、シリカからなるものが用いられる。具体的に
は、たとえば、φ４μｍのシリカからなるデグサジャパ
ン製ＴＳ１００、φ２μｍのシリカからなるデグサジャ
パン製デグサＯＫ−６０７、φ０．０７〜０．１μｍの
シリカゾルからなる日産化学工業株式会社製ＥＧ−ＳＴ
−ＺＬ等が用いられる。

【００９３】また、有機材または無機材粒子の直径は、
好ましくは０．０５〜２００μｍ、より好ましくは０．
５〜１００μｍ、特に好ましくは１〜１０μｍであると
よい。粒子の直径がこの範囲にあれば、反射の程度を低
下させることができる。

【００９４】また、有機材または無機材バインダと有機
材または無機材粒子との混合重量比は、有機材または無
機材粒子径が１μｍ未満である場合、有機材または無機
材バインダの重量を１００としたとき、有機材または無
機材粒子の重量が５０〜２０００、特には１００〜１５
００であることが好ましい。

【００９５】また、有機材または無機材粒子径が１μｍ
以上、好ましくは１〜１０μｍである場合は、有機材ま
たは無機材バインダと有機材または無機材粒子との混合
重量比は、有機材または無機材バインダの重量を１００
としたとき、有機材または無機材粒子の重量が０．１〜
９８、さらには１〜５０、特には１〜１０であることが
好ましい。粒子径が小さいと本発明の防眩効果が十分に
発揮されず、また反対に粒子径が大きいとバインダ樹脂
に対する分散性が低下して好ましくない。

【００９６】また、防眩膜１０の厚さは、０．１〜５０
０μｍ、さらには０．５〜１００μｍ、特に１〜３０μ
ｍであることが好ましい。

【００９７】図２は、本願発明による太陽電池モジュー
ルの一例の防眩膜１０の部分を一部拡大して示す断面図
である。

【００９８】図示はしていないが、これらの防眩膜は単
層であってもよいし、違う材質や形状、膜厚である防眩
膜を複層に重ね合わせることで防眩効果や透過率の向上
に有効な場合もある。

【００９９】この太陽電池モジュールの防眩膜１０にお
いては、図２に示すように、有機材または無機材バイン
ダ２０中に有機材または無機材粒子３０が単層に配置さ
れている。このような構造とすることにより、透過率の
低下を防止することができる。

【０１００】また、図３は、本願発明による太陽電池モ
ジュールの他の例の防眩膜１０の部分を一部拡大して示
す断面図である。

【０１０１】この太陽電池モジュールの防眩膜１０にお
いては、図３に示すように、有機材または無機材バイン
ダ２０中に有機材または無機材粒子３０が複層に配置さ
れている。このような構造とすることにより、防眩効果
を増大させることができる。

【０１０２】このように有機材または無機材粒子の層
は、防眩膜の一面全体に単層あるいは複層に形成されて
もよいし、単層と複層が混じり合って形成されてもよ
い。

【０１０３】このように透明絶縁基板の光入射面側に防
眩膜を形成することにより、太陽電池モジュールに入射
した太陽光は、大部分においては発電に寄与することと
なる。一方、表面から反射される入射光の２〜４％程度
の成分は不特定の方向に反射されるようになるが、乱反
射して散乱された太陽光は、平行光線ではない。そのた
め、太陽電池モジュールから反射された光は、全体とし
てぼやけた状態となり、直接太陽電池を見ても眩しく感
じられるようなことがなくなる。

【０１０４】なお、この実施の形態による太陽電池モジ
ュールにおいて、透明電極層２としては、ＩＴＯ、Ｓｎ
Ｏ₂、またはこれらの積層体であるＩＴＯ／ＳｎＯ₂、あ
るいはＺｎＯ等の光を透過し得る材料が用いられる。

【０１０５】また、光半導体層３は、非晶質シリコンａ
−Ｓｉ、水素化非晶質シリコンａ−Ｓｉ：Ｈ、水素化非
晶質シリコンカーバイドａ−ＳｉＣ：Ｈ、非晶質シリコ
ンナイトライド等の他、シリコンと炭素、ゲルマニウ
ム、錫等の他の元素との合金からなる非晶質シリコン系
半導体の非晶質または微結晶を、ｐｉｎ型、ｎｉｐ型、
ｎｉ型、ｐｎ型、ＭＩＳ型、ヘテロ接合型、ホモ接合
型、ショットキバリア型あるいはこれら組合せた型等に
合成した半導体層が用いられる。この他、光半導体層と
しては、ＣｄＳ系、ＧａＡｓ系、ＩｎＰ系等であっても
よく、何ら限定されるものではない。

【０１０６】また、裏面電極層４としては、金属、また
は金属と金属酸化物との複合膜等が用いられる。

【０１０７】さらに、充填樹脂６としては、シリコン、
エチレンビニルアセテート、ポリビニルブチラール等が
用いられる。また、裏面カバーフィルム７としては、フ
ッ素系樹脂フィルムやポリエチレンテレフタレートある
いはアルミニウム等の金属フィルムやＳｉＯ₂等の薄膜
をラミネートした多層構造のフィルム等が用いられる。

【０１０８】なお、この実施の形態においては、薄膜系
の太陽電池モジュールについて説明するが、本願発明
は、結晶系の太陽電池モジュールにも適用できることは
言うまでもない。

【０１０９】次に、図１に示した第１実施形態の太陽電
池モジュールの製造方法について説明する。

【０１１０】まず、透明絶縁基板１の光入射面と異なる
面上に、透明電極層２、光半導体層３および裏面電極層
４を順次形成する。これらの各層を、レーザスクライブ
等のパターニング手段によって、複数の領域に分離す
る。たとえば、透明電極層２は、レーザ加工、エッチン
グ、リフトオフ等の方法により、所定のパターン形状に
形成する。また、裏面電極層４は、蒸着またはスパッタ
法等により成膜した後、同様にレーザ加工、エッチン
グ、リフトオフ等の方法により、所定のパターン形状に
形成する。

【０１１１】このようにして、透明電極層２、光半導体
層３および裏面電極層４からなる光半導体素子５を透明
絶縁基板１上に形成した後、これらを保護するため、充
填樹脂６で封止固着し、さらに裏面カバーフィルム７を
装着する。

【０１１２】続いて、光半導体素子５が形成された透明
絶縁基板１の光入射面側に、本願発明の特徴である、防
眩膜１０を形成する。

【０１１３】防眩膜の形成は、第２電極層を形成し、ス
クライブした後ならいつでも可能であり、直後でも裏面
封止後でも端子ＢＯＸ取付け後でも、屋根等に設置した
後でも、塗膜方法にもよるが、特に限定されるものでは
ない。

【０１１４】このとき、透明絶縁基板１と防眩膜１０と
の間に界面処理剤からなる膜４０を介在させるとよい。
このような膜４０を介在させることにより、透明絶縁基
板１と防眩膜１０との接着強度が増大するとともに、塗
装むらが減少される。

【０１１５】また、この実施の形態においては、光半導
体素子５を形成した後に防眩膜１０を形成している。逆
に防眩膜１０を形成した後に光半導体素子５を形成する
とすると、光半導体素子５の形成の際にレーザ照射を行
なう場合、焦点がぼけてしまうといった問題や、光半導
体素子５の形成の際に真空チャンバを使用できないとい
った問題が生じるおそれがあるからである。

【０１１６】図４および図５は、本発明による太陽電池
モジュールの製造方法の一例を説明するための断面図で
あって、防眩膜１０の形成方法の一例を示す図である。

【０１１７】まず、図４を参照して、封止された太陽電
池モジュールの透明絶縁基板１の光入射面上に、有機材
または無機材粒子３０が混入された有機材または無機材
バインダ樹脂２０を塗布する。

【０１１８】このとき、粒子３０のサイズが大きい場合
には、図５に示すように、バインダ樹脂２０を成膜させ
る際に、粒子３０の分布によって防眩膜１０の表面に凹
凸形状が形成される。

【０１１９】また、図６は、本発明による太陽電池モジ
ュールの製造方法の他の例を説明するための断面図であ
って、防眩膜１０の形成方法の他の例を示す図である。

【０１２０】図６を参照して、有機材または無機材バイ
ンダ樹脂２０を塗布した後、所定のパターン形状を有す
るクロスが巻付けられたローラ９を、矢印Ａに示すよう
に回転させながら矢印Ｂに示すように移動させて所定パ
ターンを転写した後、バインダ樹脂２０を製膜させるこ
とにより、防眩膜１０の表面に凹凸形状を形成すること
もできる。

【０１２１】なお、防眩膜１０の光入射面に凹凸形状を
形成する方法としては、上述したような混入された粒子
による作用を利用する方法、あるいはバインダ樹脂を塗
布して型押し等により成形した後成膜させる方法等の
他、バインダ樹脂を塗布する際のノズルの形状等の工夫
によっても、表面を凹凸形状に形成することができる。

【０１２２】また、図１に示すこの実施の形態において
は、表面に凹凸形状が形成された防眩膜１０の表面に、
さらに表面の平坦な表面保護膜５０を形成している。こ
のような表面保護膜５０を形成することにより、表面に
埃が溜まって光電変換率が低下してしまうことを有効に
防止することができる。

【０１２３】また、図７において、本発明の実施の形態
のさらに他の例として、薄膜系太陽電池モジュールの一
部が模式的な断面図で示されている。

【０１２４】図７の薄膜太陽電池モジュールにおいて
は、特開平１１−７４５５２号公報に開示されているよ
うな微細な凹凸を含む表面を有するガラス基板ではなく
て、平坦な両面を有するガラス板が、カバーガラスを兼
ねる透明絶縁基板１として用いられている。

【０１２５】透明絶縁基板１の下面上には、ＳｎＯ₂等
の周知のＴＣＯからなる透明電極層２、シリコン等から
なる任意の周知の半導体薄膜光電変換層３、およびＡｇ
等からなる周知の裏面電極層４が順に積層されている。
これらの層２，３，４は、図７の紙面に直交する方向に
延びる透明電極分割溝２ａ、半導体層分割溝３ａ、およ
び裏面電極分割溝４ａによって、それぞれ複数の細長い
短冊状の領域に分割されている。これらの複数の領域の
うちで、互いに重複して積層した短冊状の透明電極層
２、半導体光電変換層３および裏面電極層４が１つの短
冊状の太陽電池セル５を形成している。そして、任意の
１つのセル５の透明電極２は、半導体層分割溝３ａを介
して、左隣のセル５の裏面電極層４に接続されている。
すなわち、複数のセル５は、電気的に互いに直列接続す
るように集積化されている。

【０１２６】このように集積化された複数のセルの背面
は、裏面電極層４を周知の充填樹脂層６で覆い、その上
に周知の耐候性背面カバーフィルム７を積層することに
よって封止されて保護されている。

【０１２７】他方、透明絶縁基板１の上面上には、透光
性の防眩膜１０が形成されている。この防眩膜１０の上
表面には、光を散乱させるのに適した微細な凹凸が形成
されている。防眩膜１０の材料としては、有機系ポリマ
ー、無機系ポリマー、またはそれらの複合材料を用いる
ことができる。また、これらの材料の複数からなる層が
用いられてもよい。たとえば、屈折率の異なる材料を組
合せて防眩効果を向上したり、表面硬度や耐摩耗性の向
上のために無機系ポリマーを表面に塗膜したり、表面の
クラックやひずみを吸収するために有機系ポリマーを表
面に塗膜したり、あるいは汚染防止のために撥水性の高
いフッ素系樹脂や水の分散性のよい無機系ポリマーを表
面に塗布する場合ある。

【０１２８】この実施の形態における防眩膜１０に用い
られる有機系ポリマーとしては、図１に示す実施の形態
に用いられる有機材バインダと同様のアクリル系樹脂、
フッ素系樹脂、あるいはそれらの混合樹脂、またはこれ
らの樹脂あるいは混合樹脂を含有するものが用いられ得
る。

【０１２９】防眩膜１０用のポリマーの特性に関して
は、十分な耐候性を有し、光の透過性が良好で、硬化さ
せるプロセスにおいて太陽電池セルを劣化させない温
度、具体的には２００℃以下、より好ましくは１５０℃
以下で硬化する材料が望まれる。

【０１３０】防眩膜１０に含まれる無機系ポリマーの原
料としては、一般式（ＩＩ）で表わされるアルキルシリ
ケートおよび／またはその縮合物を用いることができ、
アルキルシリケートとしては具体的には、たとえばメチ
ルシリケート、エチルシリケート、ブチルシリケート、
またはこれらの混合物を含むことができる。また、この
ような無機系ポリマーは、究極的にシリカに変換されて
もよい。さらに、無機系ポリマーには、有機分子が無機
系ポリマー分子構造内に付加されたもの、また無機分子
と有機分子が混合されたもの、または無機系ポリマー中
に有機系ポリマーが分散されたものでもよい。これらの
無機系ポリマーにおいては、塗付前に触媒を添加するこ
とによって、硬化するまでの成膜スピードをコントロー
ルすることも可能であり、好ましい。硬化触媒として、
ゼムラックと同様に、具体的にはジブチルスズジラウレ
ート、ジブチルスズジマレート、ジオクチルスズジラウ
レート、ジオクチルスズジマレート、オクチル酸スズ等
の有機スズ化合物；リン酸、モノメチルホスフェート、
モノエチルホスフェート、モノブチルホスフェート、モ
ノオクチルホスフェート、モノデシルホスフェート、ジ
メチルホスフェート、ジエチルホスフェート、ジブチル
ホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジデシルホス
フェート等のリン酸またはリン酸エステル；プロピレン
オキサイド、ブチレンオキサイド、シクロヘキセンオキ
サイド、グリシジルメタクリレート、グリシドール、ア
クリルグリシジルエーテル、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、

【０１３１】

【化１０】

【０１３２】カーデユラＥ（油化シエル（株）製）、エ
ピコート８２８（油化シエル（株）製）、エピコート１
００１（油化シエル（株）製）等のエポキシ化合物とリ
ン酸およびまたはモノ酸性リン酸エステルとの付加反応
物；有機チタネート化合物；有機アルミニウム化合物；
マレイン酸、パラトルエンスルホン酸等の酸性化合物；
エチレンジアミン、ヘキサンジアミンなどの脂肪族ジア
ミン類；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミンなどの脂肪族ポリアミン
類；ピペリジン、ピペラジンなどの脂環式アミン類；そ
の他メタフェニレンジアミンなどの芳香族アミン類、エ
タノールアミン類、トリエチルアミン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキシルアミ
ン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ドデシルアミン：ドデシルアミン等のアミン類；これら
アミンと酸性リン酸エステルとの反応物；水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ性化合物、またはｎ
−ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプタ
ン等アルキルメルカプタン；ｒ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等メルカプトシラン；２−メルカプト
プロピオン酸、チオサリチル酸等カルボン酸；チオグリ
コール酸２−エチルヘキシル等エステル化合物；カプキ
ユア３−８００（ダイヤモンドシャムロックケミカルズ
社製、両末端がメルカプト基であるポリエーテル）等の
ポリマーや、チオフェノール、チオ安息香酸等メルカプ
ト基含有化合物等が挙げられる。これらの硬化触媒のう
ち、有機スズ化合物、酸性リン酸エステル、アミン類、
酸性リン酸エステルとアミン類との反応物、飽和または
不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物、反応性シリ
コン化合物、有機チタネート化合物、有機アルミニウム
化合物、またはこれらの混合物が好ましく、特には有機
スズ化合物あるいは有機スズ化合物を含有した硬化触媒
が好ましい。中でも、有機スズ化合物とアミン類、およ
びまたはメルカプト化合物を用いた硬化触媒が好まし
い。

【０１３３】このような防眩膜１０用の無機系ポリマー
としては、より具体的には、たとえばＴＳＢ４２００、
ＴＳＢ４３００、ＴＳＢ４４００、ベルクリーン等が好
ましく用いられ得る。

【０１３４】防眩膜１０の平均厚さは、０．１から５０
０μｍの範囲内にあることが好ましい。この理由は、防
眩膜１０の厚さが０．１μｍ以下の場合には光散乱に適
した凹凸を形成することが困難になるからであり、逆に
５００μｍより厚くなれば防眩膜１０の透光性が低下し
て太陽電池セル５に至る光を減少させるおそれが生じる
からである。なお、防眩膜１０の厚さ範囲は０．５〜１
００μｍがより好ましく、１〜３０μｍがさらに好まし
い。

【０１３５】防眩膜１０は、太陽電池モジュールの完成
後にカバーガラス１の外表面上に形成することができ
る。ただし、防眩膜１０が形成される時期については、
第２電極層を形成して、それをスクライブした後ならい
つでも可能であり、その直後でも、裏面封止後でも、端
子ＢＯＸ取付後でも、屋根等に設置した後でも、塗膜方
法にもよるが特に限定されるものではない。

【０１３６】防眩膜用材料は、たとえばピアノ線コー
タ、スプレー、スクリーン印刷などを利用してガラス基
板１上に所定の厚さで塗布され得る。そして、たとえば
図８に示されているように、矢印Ａ方向に回転しかつＢ
方向に進むエンボスローラ９を用いることによって、防
眩膜１０の表面に微細な凹凸を形成することができる。
もちろん、このような微細な表面凹凸構造の形成は、エ
ンボスロールに限られず、エンボスフィルム転写、サン
ドブラストなどを利用して形成することもできる。防眩
膜用塗材はその硬化前においてはガラス基板１よりはる
かに軟質のものであるので、このような凹凸表面形成加
工は太陽電池モジュールの他の部分に何らの損傷をも与
えることなく容易に行なうことができる。

【０１３７】また、防眩膜１０の凹凸表面上に平滑な表
面を有する汚れ防止膜が付加的に付与されてもよい。す
なわち、防眩膜１０の微細な凹凸表面には汚れが付着し
やすい傾向にあるが、その凹凸表面を汚れ防止膜で平坦
化することによって、太陽電池モジュールの表面の汚れ
を軽減することができる。

【０１３８】ところで、上述のような防眩膜用のポリマ
ー材料は空気とガラス基板との中間の屈折率を有するの
で、防眩膜１０は太陽電池セル５内への光透過性を改善
する効果をも生じる。また、太陽電池セル５内への光透
過性をさらに改善させるためには、防眩膜１０が複数の
防眩サブ層を含むように形成されてもよい。これらの防
眩サブ層は互いに異なる組成または物性を有する材料で
形成されることが好ましい。なぜならば、屈折率の異な
る複数のサブ層によって防眩膜１０内で屈折率の傾斜を
生じさせることができ、それによって太陽電池セル５内
への光の透過性をさらに改善することができるからであ
る。

【０１３９】なお、上述の防眩膜１０のための材料とし
て、有機系ポリマーは柔軟であってひび割れしにくい点
で好ましく、他方、無機系ポリマーは耐候性や耐熱性が
高いという点で好ましい。

【０１４０】以上のように形成された防眩膜１０および
場合によって付加された汚れ防止膜は、ガラス基板１の
全面を覆っているので、メーカーやロットごとのばらつ
きによるガラス基板１の色調の違いをマスクすることが
でき、屋根の上に並べられた複数の太陽電池モジュール
間の色調を統一して美観を高めることもできる。

【０１４１】図９において、本発明の実施の形態のさら
に他の例として、薄膜系太陽電池モジュールの一部が模
式的な断面図で示されている。

【０１４２】図９の薄膜太陽電池モジュールは、図８に
示す薄膜太陽電池モジュールと同様の構造であって、防
眩膜１０の凹凸表面テクスチャ上に、その凹凸を平坦化
する表面膜(汚れ防止膜)１１が形成されていることを特
徴としている。表面膜１１の材料としては、有機系ポリ
マー、無機系ポリマー、またはそれらの複合材料を用い
ることができる。

【０１４３】この実施の形態における表面膜１１に用い
られる有機系ポリマーとしては、図１に示す実施の形態
に用いられる有機材バインダと同様にアクリル系樹脂、
フッ素系樹脂、あるいはそれらの混合樹脂、またはこれ
らの樹脂あるいは混合樹脂を含有するものが用いられ得
る。

【０１４４】表面膜１１用のポリマーの特性に関して
は、十分な耐候性を有し、光の透過性が良好で、硬化さ
せるプロセスにおいて太陽電池セルを劣化させない温
度、具体的には２００℃以下、より好ましくは１５０℃
以下で硬化する材料が望まれる。

【０１４５】表面膜１１に含まれる無機系ポリマーの原
料としては、図７に示す実施の形態における防眩膜１０
に用いられる無機系ポリマーと同様のアルキルシリケー
トを用いることができる。

【０１４６】表面膜１１の平均厚さは、０．１から１０
μｍの範囲内にあることが好ましい。この理由は、表面
膜１１の厚さが０．１μｍ以下の場合には凹凸表面テク
スチャを平坦化することが困難になるからであり、逆に
１０μｍより厚くなれば透光性が低下して太陽電池セル
５に至る光を減少させるおそれが生じるからである。

【０１４７】防眩膜１０用の材料としては、表面膜１１
と同様な材料を用いることができる。表面膜１１と防眩
膜１０の材料は、防眩膜１０の光散乱効果の観点から
は、互いに異なる材料で形成されていることが好まし
い。しかし、表面膜１１と防眩膜１０が同じ材料で形成
されても、一旦形成された防眩膜１０の凹凸表面は表面
膜１１との間に明瞭な界面を形成し、その凹凸界面によ
って光散乱効果は維持される。したがって、表面膜１１
によって防眩膜１０の凹凸表面を平滑化してごみの付着
を低減させてもよく、防眩効果を重視して凹凸を維持す
るように表面膜１１を形成してもよい。

【０１４８】汚れ防止のために表面膜１１がフッ素系樹
脂で形成される場合、その表面は良好な撥水性を有し、
雨水などによる塵の付着が減少する。他方、表面膜１１
がアルキルシリケートから形成される場合、太陽電池モ
ジュールの表面の耐薬品性が向上するとともに、親水性
が良好になって、汚染されたとしてもそれが均一化され
て目立ちにくくなるという効果を生じる。

【０１４９】また、表面膜１１の硬度、耐摩耗性、耐候
性の向上のためには無機系ポリマーが好ましく用いら
れ、ひび割れの防止には有機系ポリマーが好ましく用い
られる。

【０１５０】以上のように形成された表面膜１１は、ガ
ラス基板１の全面を覆っているので、メーカーやロット
ごとのばらつきによるガラス基板１の色調の違いをマス
クすることができ、屋根の上に並べられた複数の太陽電
池モジュール間の色調を統一して美観を高めることもで
きる。

【０１５１】図１０は、本発明による太陽電池モジュー
ルのさらに他の例の防眩膜１０の部分を一部拡大して示
す断面図である。

【０１５２】以上においては、防眩膜の表面に微細な凹
凸形状が形成されている例について主として説明してき
たが、防眩膜の表面は図１０に示すように平坦であって
も、たとえばバインダと粒子の屈折率の差によって、防
眩効果を発揮できる場合がある。

【０１５３】また、本発明による太陽電池モジュールに
おいて、防眩膜は、その防眩効果を得るために、算術平
均粗さＲａが０．１〜１０μｍであることが好ましく、
さらには０．２〜５μｍ、さらには０．２〜２μｍであ
ることが好ましい。

【０１５４】

【実施例】以下、実際にガラス基板に種々の条件で防眩
膜を形成し、光学特性等の評価を行なったので、その結
果を示す。

【０１５５】（実施例１）表面が平坦なガラス基板の一
方の面にＴＣＯ（透明導電性酸化物）膜を形成し、他方
の面に以下の条件で防眩膜を形成した。

【０１５６】まず、有機材バインダとして鐘淵化学工業
株式会社製「ゼムラックＹ３６２３」を用い、これに硬
化剤として鐘淵化学工業株式会社製ＢＴ１２０Ｓ（有機
スズ化合物、アミン類、メルカプト化合物の混合あるい
は反応物）と、希釈剤としてキシレンとを用いて、固形
分２５％まで希釈した。

【０１５７】また、有機材粒子としては、積水化成製Ｐ
ＭＭＡ「ＭＢＸ−８」（φ８μｍ）を用い、これを前述
したバインダ樹脂中にシェーカを用いて分散させた。粒
子の配合率は、バインダ樹脂：粒子＝１００：１０とな
るように調製した。

【０１５８】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、常温で５分間乾燥させた後、
８０℃で３０分間さらに乾燥させた。

【０１５９】このようにして、ガラス基板の一方の面上
にＴＣＯ膜が、他方の面上に乱反射膜が形成された実施
例１のサンプルが得られた。

【０１６０】この実施例１のサンプルについて、防眩膜
形成面側から光を照射して、「６０°光沢度」、「２０
°光沢度」、「全透過率」を測定し、光学特性を評価し
た。

【０１６１】「６０°光沢度」は、ＪＩＳ Ｚ ８７４
１−１９８３の鏡面光沢度測定法に従い、６０°鏡面光
沢度を測定した。

【０１６２】「２０°光沢度」は、ＪＩＳ Ｚ ８７４
１−１９８３の鏡面光沢度測定法に従い、２０°鏡面光
沢度を測定した。

【０１６３】次に、実施例１のサンプルについて、膜厚
測定とＸカット試験を行ない、初期膜を評価した。

【０１６４】「Ｘカット試験」は、ＪＩＳ Ｋ ５４０
０に従って行ない、全面が剥がれてしまった場合を０
点、欠陥のない場合を１０点として、良好なほど点数が
高くなるように評価した。

【０１６５】さらに、実施例１のサンプルについて、Ｊ
ＩＳ Ｃ ８９３８に従い、耐久性試験を行ない、その
後の膜を評価した。

【０１６６】耐久性試験は、８５℃中に２６４時間放
置、８５℃、湿度８５％中に２７０時間放置、８５
℃、湿度８５％と−２０℃との間を１０サイクル繰返
す、という３つの条件について行ない、試験後の膜につ
いてＸカット試験と外観の評価を行なった。

【０１６７】（実施例２）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：２０となるように粒子の配合率を調製し、実施例１
と同様にして実施例２のサンプルを作製した。

【０１６８】このようにして得られた実施例２のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１６９】（実施例３）有機材粒子として、楠本化成
製ＰＥ「ＳＥ４８０−１０Ｔ」（平均φ１５μｍ、最大
φ３０μｍ）を用いて、バインダ樹脂：粒子＝１００：
２．５となるように粒子の配合率を調製し、実施例１と
同様にして実施例３のサンプルを作製した。

【０１７０】このようにして得られた実施例３のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして光学特性、初期膜お
よび耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１７１】（実施例４）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：５となるように粒子の配合率を調製し、実施例３と
同様にして実施例４のサンプルを作製した。

【０１７２】このようにして得られた実施例４のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期膜
および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１７３】（比較例１）実施例１と同様の表面が平坦
なガラス基板の一方の面にＴＣＯ膜を形成し、他方の面
に防眩膜を形成しない比較例１のサンプルを作製した。

【０１７４】このようにして得られた比較例１のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして、光学特性の評価を
行なった。

【０１７５】また、比較例１のサンプルについて、実施
例５と同様にして、算術平均粗さＲａの測定を行なっ
た。その結果、比較例１のサンプルの防眩膜の算術平均
粗さＲａは、０．０１０μｍであった。

【０１７６】（比較例２）図１２は、従来の太陽電池モ
ジュールの他の例の概略構成を示す断面図である。

【０１７７】図１２を参照して、この太陽電池モジュー
ルにおいては、ガラス基板として、半導体層形成面側に
エンボス加工により凹凸形状が形成された強化エンボス
ガラス１１１が用いられている。

【０１７８】この従来の太陽電池モジュールに用いられ
る強化エンボスガラス１１１を比較例２のサンプルと
し、この比較例２のサンプルについても、凹凸が形成さ
れた方とは反対の方向から光を照射し、実施例１と同様
に、光学特性の評価を行なった。

【０１７９】以上説明した実施例１〜４、比較例１〜２
のサンプルの防眩膜の成膜条件、および評価結果を、表
２〜表４にまとめて示す。

【０１８０】

【表２】

【０１８１】

【表３】

【０１８２】

【表４】

【０１８３】（実施例５）表面が平坦なガラス基板の一
方の面にＴＣＯ（透明導電性酸化物）膜を形成し、他方
の面に以下の条件で防眩膜を形成した。

【０１８４】まず、有機材バインダとして鐘淵化学工業
株式会社製「ゼムラックＹ３６２３」を用い、これに硬
化剤として鐘淵化学工業株式会社製ＢＴ１２０Ｓ（有機
スズ化合物、アミン類、メルカプト化合物の混合あるい
は反応物）と、希釈剤としてキシレンとを用いて、固形
分２５％まで希釈した。

【０１８５】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「ＴＳ１００」（φ４μｍ）を用い、これを
前述したバインダ樹脂中にシェーカを用いて分散させ
た。粒子の配合率は、バインダ樹脂：粒子＝１００：
２．５となるように調製した。

【０１８６】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、常温で５分間乾燥させた後、
８０℃で３０分間さらに乾燥させた。

【０１８７】このようにして、ガラス基板の一方の面上
にＴＣＯ膜が、他方の面上に乱反射膜が形成された実施
例５のサンプルが得られた。

【０１８８】このようにして得られた実施例５のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１８９】また、実施例５のサンプルについて、防眩
膜の算術平均粗さＲａを測定した。なお、算術平均粗さ
の測定は、（株）エリオニクス製電子線３次元粗さ解析
装置ＥＲＡ−８０００を用いて行なった。測定条件は、
測定倍率を２０００倍とし、観察領域を６０μｍ×４５
μｍとし、測定点数をＸ方向に３００点（横軸）、Ｙ方
向に２２５点（縦軸）として、測定を行なった。

【０１９０】その結果、実施例５のサンプルの防眩膜の
算術平均粗さＲａは、０．３７９μｍであった。

【０１９１】（実施例６）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：５となるように粒子の配合率を調製し、実施例５と
同様にして実施例６のサンプルを作製した。

【０１９２】このようにして得られた実施例６のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１９３】（実施例７）ゼムラックＹ３６２３の代わ
りに、鐘淵化学工業株式会社製ゼムラックＹＣ５９２０
を用いて、バインダ樹脂：粒子＝１００：５となるよう
に粒子の配合率を調製し、実施例５と同様にして実施例
７のサンプルを作製した。

【０１９４】このようにして得られた実施例７のサンプ
ルについて、実施例１と同様にして光学特性、初期膜お
よび耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０１９５】（実施例８）表面が平坦なガラス基板の一
方の面にＴＣＯ膜を形成した後、アセトンとＩＰＡ（イ
ソプロピルアルコール）を用いて基板の前処理を行なっ
た後、基板の他方の面に以下の条件で乱反射膜を形成し
た。

【０１９６】まず、有機材バインダとして、旭硝子株式
会社製「ボンフロン♯２０５０ＳＲ」を用い、これを専
用シンナーを用いて２倍に希釈した。

【０１９７】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「ＯＫ−６０７」（φ２μｍ）を用い、これ
を前述したバインダ樹脂中に分散させた。配合率は、バ
インダ樹脂：粒子＝１００：５となるように調製した。

【０１９８】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、常温で乾燥させた。

【０１９９】このようにして、ガラス基板の一方の面に
ＴＣＯ膜が、他方の面に乱反射膜が形成された実施例８
のサンプルが得られた。

【０２００】この実施例８のサンプルについて、実施例
１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行な
った。

【０２０１】（実施例９）バインダ樹脂中に粒子が分散
された液をガラス基板上にスプレーにより２回塗布し、
他は実施例８と同様にして、実施例９のサンプルを作製
した。

【０２０２】この実施例９のサンプルについて、実施例
１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行な
った。

【０２０３】（実施例１０）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：３となるように粒子の配合率を調製し、実施例８と
同様にして実施例１０のサンプルを作製した。

【０２０４】このようにして得られた実施例１０のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２０５】（実施例１１）バインダ樹脂に粒子が分散
された液をガラス基板上にスプレーにより２回塗布し、
他の条件は実施例１０と全く同様にして、実施例１１の
サンプルを作製した。

【０２０６】このようにして得られた実施例１１のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２０７】（実施例１２）バインダ樹脂として、ボン
フロン♯２０２０ＳＲのみを用い、希釈剤を用いない
で、かつ、バインダ樹脂：粒子＝１００：５となるよう
に粒子の配合率を調製し、実施例８と同様にして実施例
１２のサンプルを作製した。

【０２０８】このようにして得られた実施例１２のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２０９】また、実施例１２のサンプルについて、実
施例５と同様にして、算術平均粗さＲａの測定を行なっ
た。その結果、実施例１２のサンプルの防眩膜の算術平
均粗さＲａは、０．３８６μｍであった。

【０２１０】（実施例１３）バインダ樹脂に粒子が分散
された液をガラス基板上にスプレーにより２回塗布し、
他の条件は実施例１２と全く同様にして、実施例１３の
サンプルを作製した。

【０２１１】このようにして得られた実施例１３のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２１２】（実施例１４）基板の前処理として、アセ
トンのみを用い、バインダ樹脂：粒子＝１００：５とな
るように粒子の配合率を調製し、８番手のピアノ線コー
タを用いてバインダ樹脂に粒子が分散された液をガラス
基板上に塗布し、実施例８と同様にして実施例１４のサ
ンプルを作製した。

【０２１３】このようにして得られた実施例１４のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２１４】（実施例１５）１６番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例１４と全く同様にして実施
例１５のサンプルを作製した。

【０２１５】このようにして得られた実施例１５のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２１６】（実施例１６）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：３となるように粒子の配合率を調製し、８番手のピ
アノ線コータを用いて、実施例１４と同様にして実施例
１６のサンプルを作製した。

【０２１７】このようにして得られた実施例１６のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２１８】（実施例１７）１６番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例１６と全く同様にして実施
例１７のサンプルを作製した。

【０２１９】このようにして得られた実施例１７のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２２０】（実施例１８）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：５となるように粒子の配合率を調製し、８番手のピ
アノ線コータを用いて、他の条件は実施例１４と全く同
様にして、実施例１８のサンプルを作製した。

【０２２１】このようにして得られた実施例１８のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２２２】（実施例１９）１６番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例１８と全く同様にして、実
施例１９のサンプルを作製した。

【０２２３】このようにして得られた実施例１９のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２２４】（実施例２０）無機材粒子として、日産化
学工業（株）製シリカゾル「ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ」（φ
０．０７〜０．１μｍ）を用い、バインダ樹脂：粒子＝
１００：１９００となるように粒子の配合率を調製し、
他の条件は実施例１６と全く同様にして、実施例２０の
サンプルを作製した。

【０２２５】このようにして得られた実施例２０のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２２６】（実施例２１）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：９００となるように粒子の配合率を調製し、実施例
２０と同様にして実施例２１のサンプルを作製した。

【０２２７】このようにして得られた実施例２１のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２２８】（実施例２２）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：４００となるように粒子の配合率を調製し、実施例
２０と同様にして実施例２２のサンプルを作製した。

【０２２９】このようにして得られた実施例２２のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２３０】（実施例２３）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：９０となるように粒子の配合率を調製し、実施例２
０と同様にして実施例２３のサンプルを作製した。

【０２３１】このようにして得られた実施例２３のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２３２】（実施例２４）バインダ樹脂：粒子＝１０
０：６７となるように粒子の配合率を調製し、実施例２
０と同様にして実施例２４のサンプルを作製した。

【０２３３】このようにして得られた実施例２４のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２３４】以上説明した実施例５〜２４、比較例１〜
２のサンプルの防眩膜の製膜条件、および評価結果を、
表５〜表７にまとめて示す。

【０２３５】

【表５】

【０２３６】

【表６】

【０２３７】

【表７】

【０２３８】（実施例２５）表面が平坦なガラス基板の
一方の面にＴＣＯ（透明導電性酸化物）膜を形成した
後、トルエンとアセトンを用いて基板の前処理を行なっ
た後、基板の他方の面に以下の条件で防眩膜を形成し
た。

【０２３９】まず、無機材バインダとして、（有）テー
・エス・ビー製「ＴＳＢ４３００」を用い、これにエタ
ノールを添加した。

【０２４０】また、有機材粒子としては、積水化成製Ｐ
ＭＭＡ「ＭＢＸ−８」（φ８μｍ）を用い、これを前述
したバインダ中に分散させた。粒子の配合率は、バイン
ダ：粒子＝１００：１０となるように調製した。

【０２４１】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、風乾で１０分間乾燥させた
後、６０℃で１時間、さらに１２０℃で１時間乾燥させ
た。

【０２４２】このようにして、ガラス基板の一方の面上
にＴＣＯ膜が、他方の面上に乱反射膜が形成された実施
例２５のサンプルが得られた。

【０２４３】このようにして得られた実施例２５のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２４４】（実施例２６）バインダ：粒子＝１００：
２０となるように粒子の配合率を調製し、実施例２５と
同様にして実施例２６のサンプルを作製した。

【０２４５】このようにして得られた実施例２６のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２４６】（実施例２７）有機材粒子として、楠本化
成製ＰＥ「ＳＥ４８０−１０Ｔ」（平均φ１５μｍ、最
大φ３０μｍ）を用いて、バインダ：粒子＝１００：
２．５となるように粒子の配合率を調整し、実施例２５
と同様にして実施例２７のサンプルを作製した。

【０２４７】このようにして得られた実施例２７のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２４８】（実施例２８）バインダ：粒子＝１００：
５となるように粒子の配合率を調整し、実施例２７と同
様にして実施例２８のサンプルを作製した。

【０２４９】この実施例２８のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０２５０】以上説明した実施例２５〜２８、比較例１
〜２のサンプルの防眩膜の成膜条件、および評価結果
を、表８〜表９にまとめて示す。

【０２５１】

【表８】

【０２５２】

【表９】

【０２５３】（実施例２９）表面が平坦なガラス基板の
一方の面にＴＣＯ（透明導電性酸化物）膜を形成した
後、トルエンとアセトンを用いて基板の前処理を行なっ
た後、基板の他方の面に以下の条件で防眩膜を形成し
た。

【０２５４】まず、無機材バインダとして、（有）テー
・エス・ビー製「ＴＳＢ４４００」を用い、これに加水
分解触媒としてＨＣｌを添加した。

【０２５５】また、無機材粒子としては、日産化学工業
（株）製シリカゾル「ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ」（φ０．０７
〜０．１μｍ）を用い、これを前述したバインダ中に手
まぜで分散させた。粒子の配合率は、バインダ：粒子＝
５：９５となるように調製した。

【０２５６】このようにして得られた液をガラス基板上
にＮｏ．８のバーコータにより塗布し、風乾で１０分間
乾燥させた後、６０℃で１時間、さらに１２０℃で１時
間乾燥させた。

【０２５７】このようにして、ガラス基板の一方の面上
にＴＣＯ膜が、他方の面上に乱反射膜が形成された実施
例２９のサンプルが得られた。

【０２５８】このようにして得られた実施例２９のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０２５９】（実施例３０）バインダ：粒子＝１０：９
０となるように粒子の配合率を調製し、実施例２９と同
様にして実施例３０のサンプルを作製した。

【０２６０】このようにして得られた実施例３０のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０２６１】（実施例３１）バインダ：粒子＝２０：８
０となるように粒子の配合率を調整し、実施例２９と同
様にして実施例３１のサンプルを作製した。

【０２６２】このようにして得られた実施例３１のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。

【０２６３】（実施例３２）バインダ：粒子＝２０：８
０となるように粒子の配合率を調整し、バインダ中に粒
子が分散された液をガラス基板上に３０μｍのアプリケ
ータを用いて塗布し、他は実施例２９と同様にして実施
例３２のサンプルを作製した。

【０２６４】この実施例３２のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、初期膜、および耐久性試
験後の膜の評価を行なった。

【０２６５】（実施例３３）表面が平坦なガラス基板の
一方の面にＴＣＯ膜を形成した後、特に基板の前処理は
行なわずに、基板の他方の面に以下の条件で乱反射膜を
形成した。

【０２６６】まず、無機材バインダとして、（有）テー
・エス・ビー製「ＴＳＢ４３００」を用い、これにエタ
ノールを添加した。

【０２６７】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「ＯＫ−４１２」（φ４μｍ）を用い、これ
を前述したバインダ中に分散ばねを用いて分散させた。
配合率は、バインダ：粒子＝８０：２０となるように調
整した。

【０２６８】このようにして得られた液をガラス基板上
にＮｏ．８のバーコータを用いて塗布し、風乾で１０分
間乾燥させた後、６０℃で１時間、さらに１２０℃で１
時間乾燥させた。

【０２６９】このようにして、ガラス基板の一方の面に
ＴＣＯ膜が、他方の面に乱反射膜が形成された実施例３
３のサンプルが得られた。

【０２７０】この実施例３３のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０２７１】（実施例３４）バインダ：粒子＝９０：１
０となるように粒子の配合率を調整し、実施例３３と同
様にして実施例３４のサンプルを作製した。

【０２７２】このようにして得られた実施例３４のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２７３】（実施例３５）バインダ：粒子＝９５：５
となるように粒子の配合率を調整し、実施例３３と同様
にして実施例３５のサンプルを作製した。

【０２７４】このようにして得られた実施例３５のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２７５】（実施例３６）バインダ：粒子＝９８：２
となるように粒子の配合率を調整し、バインダ中に粒子
が分散された液をガラス基板上に塗布した後に特に乾燥
処理を行なうことなく、実施例３６のサンプルを作製し
た。

【０２７６】この実施例３６のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０２７７】（実施例３７）無機材粒子として、デグサ
ジャパン製シリカ「ＴＳ１００」（φ４μｍ）を用い、
バインダ：粒子＝９５：５となるように粒子の配合率を
調整し、実施例３６と同様にして実施例３７のサンプル
を作製した。

【０２７８】このようにして得られた実施例３７のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２７９】（実施例３８）バインダ：粒子＝９８：２
となるように粒子の配合率を調整し、実施例３７と同様
にして実施例３８のサンプルを作製した。

【０２８０】このようにして得られた実施例３８のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２８１】（実施例３９）バインダ：粒子＝９９：１
となるように粒子の配合率を調整し、実施例３７と同様
にして実施例３９のサンプルを作製した。

【０２８２】このようにして得られた実施例３９のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２８３】（実施例４０）バインダとして、（有）テ
ー・エス・ビー製「ＴＳＢ４２００」を用い、無機材粒
子として、日産化学工業（株）製シリカゾル「ＥＧ−Ｓ
Ｔ−ＺＬ」（φ０．０７〜０．１μｍ）を用い、バイン
ダ：粒子＝６０：４０となるように粒子の配合率を調整
し、実施例３７と同様にして実施例４０のサンプルを作
製した。

【０２８４】このようにして得られた実施例４０のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２８５】（実施例４１）バインダに粒子が分散され
た液をガラス基板上にＮｏ．３のバーコータを用いて塗
布し、他の条件は実施例４０と全く同様にして、実施例
４１のサンプルを作製した。

【０２８６】このようにして得られた実施例４１のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２８７】（実施例４２）バインダ：粒子＝４０：６
０となるように粒子の配合率を調整し、他の条件は実施
例４１と全く同様にして、実施例４２のサンプルを作製
した。

【０２８８】このようにして得られた実施例４２のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２８９】（実施例４３）バインダ：粒子＝２０：８
０となるように粒子の配合率を調整し、実施例４２と全
く同様にして、実施例４３のサンプルを作製した。

【０２９０】このようにして得られた実施例４３のサン
プルについて、実施例１と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。

【０２９１】（実施例４４）表面が平坦なガラス基板の
一方の面にＴＣＯ膜を形成した後、トルエンを用いて基
板の前処理を行なった後、基板の他方の面に以下の条件
で乱反射膜を形成した。

【０２９２】まず、無機材バインダとして、有機材樹脂
が混合された日本油脂株式会社製「ベルクリーン」を用
い、これを希釈することなく、硬化剤を添加した。

【０２９３】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「ＴＳ１００」（φ４μｍ）を用い、これを
前述したバインダ中に分散羽根を用いて分散させた。粒
子の配合率は、バインダ：粒子＝９７：３となるように
調整した。

【０２９４】このようにして得られた液を、ガラス基板
上にＮｏ．３のバーコータを用いて塗布し、風乾で１０
分間乾燥させた。

【０２９５】このようにして、ガラス基板の一方の面に
ＴＣＯ膜が、他方の面に乱反射膜が形成された実施例４
４のサンプルが得られた。

【０２９６】この実施例４４のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０２９７】（実施例４５）バインダ中に粒子が分散さ
れた液を、ガラス基板上にＮｏ．８のバーコータを用い
て塗布し、他は実施例４４と全く同様にして、実施例４
５のサンプルを作製した。

【０２９８】この実施例４５のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０２９９】（実施例４６）バインダ中に粒子が分散さ
れた液を、ガラス基板上にＮｏ．１６のバーコータを用
いて塗布し、他は実施例４４と全く同様にして、実施例
４６のサンプルを作製した。

【０３００】この実施例４６のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０３０１】（実施例４７）バインダ：粒子＝９５：５
となるように粒子の配合率を調整し、バインダ中に粒子
が分散された液を、ガラス基板上にＮｏ．３のバーコー
タを用いて塗布し、他は実施例４４と全く同様にして、
実施例４７のサンプルを作製した。

【０３０２】この実施例４７のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０３０３】（実施例４８）バインダ中に粒子が分散さ
れた液を、ガラス基板上にＮｏ．８のバーコータを用い
て塗布し、他は実施例４７と全く同様にして、実施例４
８のサンプルを作製した。

【０３０４】この実施例４８のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０３０５】（実施例４９）バインダ中に粒子が分散さ
れた液を、ガラス基板上にＮｏ．１６のバーコータを用
いて塗布し、他は実施例４７と全く同様にして、実施例
４９のサンプルを作製した。

【０３０６】この実施例４９のサンプルについて、実施
例１と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行
なった。

【０３０７】以上説明した実施例２９〜４９、比較例１
〜２のサンプルの防眩膜の成膜条件、および評価結果
を、表１０〜表１２にまとめて示す。

【０３０８】

【表１０】

【０３０９】

【表１１】

【０３１０】

【表１２】

【０３１１】

【発明の効果】本発明による太陽電池モジュールは、透
明絶縁基板の光入射面に防眩膜を備えているため、光の
反射による光公害等の問題が有効に防止される。

【０３１２】また、この太陽電池モジュールの製造方法
は、透明絶縁基板の表面に素子部分を形成後、防眩膜を
形成することにより、基板として高価な型板ガラス等を
用いることなく、太陽電池モジュールの外観を、映り込
みや光公害を防止するように改善できる。また、最後に
防眩膜を形成するようにすることにより、従来の基本的
な太陽電池モジュールの製造工程を何ら変更させること
なく、上記外観の改善を達成することができる。

【０３１３】たとえば、防眩膜が、バインダ樹脂と粒子
がともに有機材同士からなる場合には、密着性がよく、
粒子の欠落や膜自体の剥離が少なくなるため、優れた太
陽電池モジュールが得られる。

【０３１４】また、防眩膜が、有機材バインダと有機材
粒子とからなる場合には、実用上影響するほど入射光量
が減少することもなく、太陽光を有効に利用することが
できる。さらに、無機材粒子は、劣化の問題も少ないた
め、耐候性の点でも優れた太陽電池モジュールが得られ
る。

【０３１５】また、防眩膜が、無機材バインダと有機材
粒子とを組合せている場合には、入射光量が減少するこ
ともなく、太陽光を有効に利用することができるととも
に、有機材粒子がバインダ層のひずみを緩和して、割れ
やヒビが発生しにくくなるため、耐候性の点でも優れた
太陽電池モジュールが得られる。

【０３１６】また、防眩膜が、無機材バインダと無機材
粒子とを組合せている場合には、実際上影響するほど入
射光量が減少することもなく、太陽光を有効に利用する
ことができるとともに、同じ無機材同士であることから
密着性がよくなっている。さらに、無機材バインダおよ
び無機材粒子はともに、劣化の問題も少ないため、耐候
性の点でも優れた太陽電池モジュールが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による太陽電池モジュールの一例の概
略構成を示す断面図である。

【図２】 本発明による太陽電池モジュールの一例の防
眩膜の部分を一部拡大して示す断面図である。

【図３】 本発明による太陽電池モジュールの他の例の
防眩膜の部分を一部拡大して示す断面図である。

【図４】 本発明による太陽電池モジュールの製造方法
の一例を説明するための断面図である。

【図５】 本発明による太陽電池モジュールの製造方法
の一例を説明するための断面図である。

【図６】 本発明による太陽電池モジュールの製造方法
の他の例を説明するための断面図である。

【図７】 本発明による太陽電池モジュールのさらに他
の例の一部を示す模式的な断面図である。

【図８】 太陽電池モジュールのカバーガラス上に微細
な凹凸表面を有する防眩膜を形成する工程を示す模式的
な断面図である。

【図９】 太陽電池モジュールの防眩膜上に汚れ防止膜
をさらに付加した状態を示す模式的な断面図である。

【図１０】 本発明による太陽電池モジュールのさらに
他の例の防眩膜の部分を一部拡大して示す断面図であ
る。

【図１１】 従来の太陽電池モジュールの一例の概略構
成を示す断面図である。

【図１２】 従来の太陽電池モジュールの他の例の概略
構成を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 透明絶縁基板、２ （前面）透明電極層、２ａ 透
明電極層分割溝、３光半導体層（半導体光電変換層）、
３ａ 光電変換層分割溝、４ 裏面電極層、４ａ 裏面
電極層分割溝、５ 光半導体素子（太陽電池セル）、６
充填樹脂（背面保護充填層）、７ 裏面カバーフィル
ム（背面保護フィルム）、８ フレーム、９ （エンボ
ス）ローラ、１０ 防眩膜、１１ 汚れ防止膜（表面
膜）、２０ 有機材または無機材バインダ、３０ 有機
材または無機材粒子。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平11−153573 (32)優先日 平成11年６月１日(1999．6．1) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−165882 (32)優先日 平成11年６月11日(1999．6．11) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−165883 (32)優先日 平成11年６月11日(1999．6．11) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−272454 (32)優先日 平成11年９月27日(1999．9．27) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） Ｆターム(参考） 4F100 AA01E AA17 AA20H AA33 AB01 AG00 AH08E AH08H AK01E AK04E AK17E AK25E AK25J AK52E AK68 AK79E AL01E AL05E AR00A AS00B AS00C AS00D BA05 BA07 BA10D BA10E CA18E CA30E DD07E DE01E EH612 EH661 GB41 JG01 JG04A JK14 JL00 JL06 JL06E JL08E JL08H JL09 JN01A JN01B JN21E JN30E YY00E 5F051 BA11 EA01 EA20 GA03 HA20

Claims (37)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
   板と、 前記透明絶縁基板の前記第１の面上に形成された第１電
   極層と、 前記第１電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第２電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に形
   成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜は、有機材バインダと有機材粒子とを含む、
   太陽電池モジュール。
2. 【請求項２】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
   板と、 前記透明絶縁基板の前記第１の面上に形成された第１電
   極層と、 前記第１電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第２電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に形
   成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜は、有機材バインダと無機材粒子とを含む、
   太陽電池モジュール。
3. 【請求項３】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
   板と、 前記透明絶縁基板の前記第１の面上に形成された第１電
   極層と、 前記第１電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第２電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に形
   成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜は、無機材バインダと有機材粒子とを含む、
   太陽電池モジュール。
4. 【請求項４】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
   板と、 前記透明絶縁基板の前記第１の面上に形成された第１電
   極層と、 前記第１電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第２電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に形
   成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜は、無機材バインダと無機材粒子とを含む、
   太陽電池モジュール。
5. 【請求項５】 第１と第２の主面を有する透明絶縁基板
   の前記第１主面上に順に積層された透明電極層、半導体
   光電変換層、および裏面電極層と、 前記透明絶縁基板の前記第２主面上に形成された防眩膜
   とを備え、 前記防眩膜は有機系ポリマー、無機系ポリマー、または
   それらの複合材料を含み、光を散乱させるのに適した微
   細な凹凸を含む表面を有していることを特徴とする、太
   陽電池モジュール。
6. 【請求項６】 第１と第２の主面を有する透明絶縁基板
   の前記第１主面上に順に積層された透明電極層、半導体
   光電変換層、および裏面電極層を含み、 前記透明絶縁基板の前記第２主面は光を散乱させるのに
   適した微細な凹凸を含む凹凸表面テクスチャを有する防
   眩膜によって覆われているか、またはそれ自体が前記凹
   凸表面テクスチャを有するように加工されており、 前記凹凸表面テクスチャはその凹凸を略維持する表面膜
   によって覆われており、 前記表面膜は、有機系ポリマー、無機系ポリマー、また
   はそれらの複合材料を含むことを特徴とする、太陽電池
   モジュール。
7. 【請求項７】 透明基板、半導体光電変換層、充填樹
   脂、および裏面カバーを備えた太陽電池モジュールであ
   って、 前記透明基板の光入射面は光を散乱させる防眩膜によっ
   て覆われているか、またはそれ自体が凹凸表面テクスチ
   ャを有するように加工されており、 前記防眩膜または前記凹凸表面テクスチャを有する前記
   太陽電池モジュールの受光面の６０°光沢度が、６０以
   下であることを特徴とする、太陽電池モジュール。
8. 【請求項８】 第１および第２の面を有する透明絶縁基
   板と、 前記透明絶縁基板の前記第１の面上に形成された第１電
   極層と、 前記第１電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第２電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に形
   成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜の算術平均粗さＲａが０．１〜１０μｍの範
   囲にあることを特徴とする、太陽電池モジュール。
9. 【請求項９】 前記防眩膜に、触媒が添加されているこ
   とを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の太陽
   電池モジュール。
10. 【請求項１０】 前記触媒が、有機スズ化合物を含有す
    ることを特徴とする、請求項９記載の太陽電池モジュー
    ル。
11. 【請求項１１】 前記有機材バインダは、アクリル系樹
    脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合樹脂、またはこ
    れらの樹脂あるいは混合樹脂を主成分とする、請求項１
    または２記載の太陽電池モジュール。
12. 【請求項１２】 前記有機材粒子は、アクリル系樹脂、
    フッ素系樹脂、ポリエチレンワックス、またはこれらの
    少なくとも２種以上の混合物、またはこれらの樹脂ある
    いは混合物を主成分とする、請求項１または３記載の太
    陽電池モジュール。
13. 【請求項１３】 前記有機系ポリマーとして、アクリル
    系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合材料が用い
    られていることを特徴とする、請求項５または６記載の
    太陽電池モジュール。
14. 【請求項１４】 前記アクリル系樹脂は、以下の分子構
    造： 【化１】 （式中、Ｒ₁は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ₂は水素
    原子または炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基お
    よびアラルキル基よりなる群から選ばれた一価の炭化水
    素基、ａは０、１または２を示す）で表わされる基を含
    有する加水分解性シリル基含有アクリル共重合体を含
    み、前記フッ素系樹脂は、水酸基含有フッ素系樹脂であ
    る、請求項１１または１３記載の太陽電池モジュール。
15. 【請求項１５】 前記無機材バインダは、アルキルシリ
    ケートから形成される、請求項３または４記載の太陽電
    池モジュール。
16. 【請求項１６】 前記無機系ポリマーの原料として、ア
    ルキルシリケートが用いられていることを特徴とする、
    請求項５または６記載の太陽電池モジュール。
17. 【請求項１７】 前記アルキルシリケートとして、エチ
    ルシリケート、ブチルシリケート、またはこれらの混合
    物が含まれている、請求項１５または１６記載の太陽電
    池モジュール。
18. 【請求項１８】 前記無機材バインダを、有機材によっ
    て複合化した、請求項３または４記載の太陽電池モジュ
    ール。
19. 【請求項１９】 前記無機材バインダは、シリカからな
    る、請求項３または４記載の太陽電池モジュール。
20. 【請求項２０】 前記無機材粒子は、シリカからなる、
    請求項２または４記載の太陽電池モジュール。
21. 【請求項２１】 前記無機系ポリマーはシリカを含むこ
    とを特徴とする、請求項５または６記載の太陽電池モジ
    ュール。
22. 【請求項２２】 前記粒子の直径が１〜１０μｍであっ
    て、前記バインダと前記粒子との混合重量比は、前記バ
    インダの重量を１００としたとき、前記粒子の重量が１
    〜１０である、請求項１〜４のいずれかに記載の太陽電
    池モジュール。
23. 【請求項２３】 前記透明絶縁基板と前記防眩膜との間
    に介在された、界面処理剤からなる膜をさらに備えた、
    請求項１〜５のいずれかに記載の太陽電池モジュール。
24. 【請求項２４】 前記防眩膜の前記凹凸表面上に形成さ
    れた汚染防止膜をさらに備え、この汚染防止膜は平坦な
    表面を有していることを特徴とする、請求項５記載の太
    陽電池モジュール。
25. 【請求項２５】 前記防眩膜または前記凹凸表面テクス
    チャを有する前記太陽電池モジュールの受光面の６０°
    光沢度が、４５以下であることを特徴とする、請求項７
    記載の太陽電池モジュール。
26. 【請求項２６】 前記防眩膜または前記凹凸表面テクス
    チャを有する前記太陽電池モジュールの受光面の２０°
    光沢度が、２０以下であることを特徴とする、請求項７
    または２５記載の太陽電池モジュール。
27. 【請求項２７】 前記防眩膜または前記凹凸表面テクス
    チャを有する前記太陽電池モジュールの受光面の２０°
    光沢度が、１０以下であることを特徴とする、請求項２
    ６記載の太陽電池モジュール。
28. 【請求項２８】 前記防眩膜が、有機材バインダと有機
    材粒子とを含む、請求項８記載の太陽電池モジュール。
29. 【請求項２９】 前記防眩膜が、有機材バインダと無機
    材粒子とを含む、請求項８記載の太陽電池モジュール。
30. 【請求項３０】 前記防眩膜が、無機材バインダと有機
    材粒子とを含む、請求項８記載の太陽電池モジュール。
31. 【請求項３１】 前記防眩膜が、無機材バインダと無機
    材粒子とを含む、請求項８記載の太陽電池モジュール。
32. 【請求項３２】 第１および第２の面を有する透明絶縁
    基板の前記第１の面上に、第１電極層を形成するステッ
    プと、 前記形成された第１電極層上に光半導体層を形成するス
    テップと、 前記形成された光半導体層上に第２電極層を形成するス
    テップと、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に、
    有機材バインダと有機材粒子とを含む防眩膜を形成する
    ステップとを備え、 前記防眩膜は、前記透明絶縁基板の第１の面上に第１電
    極層、光半導体層、および第２電極層を形成した後に形
    成することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方
    法。
33. 【請求項３３】 第１および第２の面を有する透明絶縁
    基板の前記第１の面上に、第１電極層を形成するステッ
    プと、 前記形成された第１電極層上に光半導体層を形成するス
    テップと、 前記形成された光半導体層上に第２電極層を形成するス
    テップと、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に、
    有機材バインダと無機材粒子とを含む防眩膜を形成する
    ステップとを備え、 前記防眩膜は、前記透明絶縁基板の第１の面上に第１電
    極層、光半導体層、および第２電極層を形成した後に形
    成することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方
    法。
34. 【請求項３４】 第１および第２の面を有する透明絶縁
    基板の前記第１の面上に、第１電極層を形成するステッ
    プと、 前記形成された第１電極層上に光半導体層を形成するス
    テップと、 前記形成された光半導体層上に第２電極層を形成するス
    テップと、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に、
    無機材バインダと有機材粒子とを含む防眩膜を形成する
    ステップとを備え、 前記防眩膜は、前記透明絶縁基板の第１の面上に第１電
    極層、光半導体層、および第２電極層を形成した後に形
    成することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方
    法。
35. 【請求項３５】 第１および第２の面を有する透明絶縁
    基板の前記第１の面上に、第１電極層を形成するステッ
    プと、 前記形成された第１電極層上に光半導体層を形成するス
    テップと、 前記形成された光半導体層上に第２電極層を形成するス
    テップと、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第２の面上に、
    無機材バインダと無機材粒子とを含む防眩膜を形成する
    ステップとを備え、 前記防眩膜は、前記透明絶縁基板の第１の面上に第１電
    極層、光半導体層、および第２電極層を形成した後に形
    成することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方
    法。
36. 【請求項３６】 前記バインダに、触媒が添加されてい
    ることを特徴とする、請求項３２〜３５のいずれかに記
    載の太陽電池モジュールの製造方法。
37. 【請求項３７】 前記触媒は、有機スズ化合物を含有す
    ることを特徴とする、請求項３６記載の太陽電池モジュ
    ールの製造方法。