JP2001159708A

JP2001159708A - コレステリック液晶カラーフィルタの製造方法

Info

Publication number: JP2001159708A
Application number: JP34366599A
Authority: JP
Inventors: Takekatsu Sugiyama; 武勝杉山; Mitsuyoshi Ichihashi; 光芳市橋
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-12-02
Filing date: 1999-12-02
Publication date: 2001-06-12

Abstract

(57)【要約】【課題】材料ロスを低減しながら、高品質の多色カラ
ーフィルタを製造することができるコレステリック液晶
カラーフィルタの製造方法の提供。【解決手段】仮支持体１０に設けたコレステリック液
晶層１６を、基板２２にラミネートしてコレステリック
液晶層１６に対して、所定の温度に加熱し、この温度条
件下で活性光線をパターン露光して第一のパターンを形
成する。(工程Ｇ）次にコレステリック液晶層１６に
対して、第一のパターン形成時と異なる温度で加熱し、
この温度条件下で活性光線を第一のパターン形成時と異
なるパターンで露光して第二のパターンを形成する。以
後に必要に応じて第三のパターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置等に
用いられるカラーフィルタの製造方法に関し、詳しく
は、材料ロスを低減し、かつ簡易に高品質なカラーフィ
ルタを製造しうるコレステリック液晶カラーフィルタの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレー等に用いられる
カラーフィルタは、一般に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、
青色（Ｂ）の各画素と、その間隙に表示コントラスト向
上を目的とするブラックマトリクスと、が形成されて構
成される。このようなカラーフィルタは、従来、樹脂中
に顔料を分散させたものや染料を染着させたものが主流
であり、製造方法においても、これらの着色樹脂液をス
ピンコート等によりガラス基板上に塗布して着色レジス
ト層を形成し、フォトリソグラフィーによるパターニン
グを行ってカラーフィルタ画素を形成したり、着色画素
を基板に直接印刷したりすることでカラーフィルタを作
製していた。しかし、例えば、印刷法によるカラーフィ
ルタの製造方法では、画素の解像度が低く、高解像度の
画像パターンには対応が難しいという欠点があり、スピ
ンコート法による製造方法では材料ロスが大きく、また
大面積の基板に塗布する場合の塗布ムラが大きいといっ
た欠点があった。

【０００３】また、電着法による製造方法によると、比
較的解像度が高く、着色層のムラも少ないカラーフィル
タを得ることができるが、製造工程が煩雑であり、液管
理も難しいといった難点を有していた。以上より、カラ
ーフィルタの製造工程としては、材料ロスが少なく高効
率に、かつ簡便に高品質なカラーフィルタを製造しうる
製造方法が要望されていた。

【０００４】上記のような要望に鑑み、特許第２７９４
２４２号や特許第２８７３８８９号では、フィルム転写
法やインクジェット法によるカラーフィルタの製造方法
が開示され、材料ロスが少なく、効率のよいカラーフィ
ルタの製造方法も提案されている。ところが、特にイン
クジェット法では、水溶性高分子からなるインク受容層
を形成した後、所望のパターンに親水化・疎水化処理を
施し、親水化された部分にインクジェット法でＲ，Ｇ，
Ｂの各色のインクを吹きつけカラーフィルター層を得る
ため、得られるカラーフィルターは解像度の点で劣る。
また、隣接するフィルター層間に混色が生じる確率が高
く、位置精度の点でも劣る。

【０００５】一方、カラーフィルタの性能として、透過
率、色純度が高いことが要求されるが、近年、染料を用
いる方法では染料の種類や染着樹脂を最適化することに
より、顔料を用いる方法ではより微細分散した顔料を用
いることにより、その透過性、色純度の向上が図られて
きた。しかし、近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
パネルにおける、カラーフィルタの透過率、色純度に対
する要求は非常に高い。特に、反射型ＬＣＤ用カラーフ
ィルタにおいては、ペーパーホワイトの白表示とコント
ラスト、及び色再現性の両立が難しい一方、従来の製造
方法における、樹脂中に染料を染着させ、或いは、顔料
を分散させて製造されるカラーフィルタは、いずれも光
吸収型のカラーフィルタであるため、さらなる透過率の
向上によ色純度の改善は、ほぼ限界に達していた。

【０００６】このような光吸収型カラーフィルタに対
し、コレステリック液晶を主成分とし、さらに重合性モ
ノマー、重合開始剤等を混合して、パターニングして微
細パターンを形成した偏光利用型カラーフィルタが知ら
れている。前記偏光利用型カラーフィルタは、一定の光
量を反射し、且つ透過して画像表示を行うため、光の利
用効率が高く、透過率、色純度の点においても光吸収型
のカラーフィルタよりも卓越した性能を有する。

【０００７】しかしながら、その製造方法においては、
配向処理を施した基板上にスピンコート法等により成膜
して製造する方法が、均一厚の膜を形成しうる点で好ま
しいという観点から一般に用いられてきたが、その一
方、材料ロスが大きく、高価な液晶素材等を用いる場合
には、コストの点で不利であるといった問題があった。

【０００８】また、前記スピンコート法では、成膜過程
における膜厚のコントロールが難しく、特に、液晶素材
を用いた場合、膜厚により反射率等の性能に影響を与え
やすく、検査による廃率が高くなってしまう要因となっ
ていた。

【０００９】さらに、液晶含有感光性組成物層を有する
材料を用いる場合には、フォトリソグラフィ法によりパ
ターニングしようとすると、液晶成分やカイラル化合物
以外の成分、即ち、液晶の配向移動を抑制しうる、重合
性モノマーや重合開始剤を、前記感光性組成物層中に多
量に含有させることができず、色再現性とパターニン
グ、及び硬化反応性を両立させることが困難であった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、材料ロスを低減しながら、
均一厚かつ高精度で、透過性、色純度に優れた多色のコ
レステリック液晶カラーフィルタを簡易に製造しうるフ
ィルタの製造方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、工程が簡
易であって材料ロスが少なく、均一厚で、より透過性、
色純度に優れたカラーフィルタの製造方法に関し鋭意検
討を重ねた結果、１種のコレステリック液晶層に対して
異なる温度で加熱し、それぞれの温度において、活性光
線をパターン照射してそれぞれのパターンを形成するこ
とによって前記課題を解決することを見出し、本発明を
完成するに至った。即ち、本発明は、

【００１２】＜１＞カラーフィルタを製造する方法であ
って、（ａ）基体上にコレステリック液晶組成物を含有
する層を形成する工程と、（ｂ）該コレステリック液晶
組成物を含有する層全体を加熱し、その加熱温度におい
て活性光線をパターン状に照射して第一のパターンを形
成する工程と、（ｃ）第一のパターンを形成した該コレ
ステリック液晶組成物を含有する層全体を前記（ｂ）工
程における加熱温度と異なる温度で加熱し、その加熱温
度で活性光線を照射して第一のパターンと異なる第二の
パターンを形成する工程と、を有することを特徴とする
コレステリック液晶カラーフィルタの製造方法である。＜２＞前記第二のパターンを形成した該コレステリッ
ク液晶組成物を含有する層全体を前記（ａ）工程および
（ｂ）工程における加熱温度とそれぞれ異なる温度で加
熱し、その加熱温度で活性光線を照射して第一のパター
ンおよび第二のパターンと異なる第三のパターンを形成
する工程を、有することを特徴とする前記＜１＞に記載
のコレステリック液晶カラーフィルタの製造方法であ
る。＜３＞前記のパターンのうち、最終のパターンが形成
されたコレステリック液晶組成物を含有する層に対し
て、全面加熱、または全面加熱しながら、全面照射して
前記コレステリック液晶組成物を含有する層全体を固定
化することを特徴とする前記＜１＞または前記＜２＞に
記載のコレステリック液晶カラーフィルタの製造方法で
ある。＜４＞前記基体を、配向処理することを特徴とする前
記＜１＞乃至前記＜３＞のいずれかに記載のコレステリ
ック液晶カラーフィルタの製造方法である。＜５＞前記コレステリック液晶組成物を含有する層上
に配向膜を設けることを特徴とする前記＜１＞乃至前記
＜４＞のいずれかに記載のコレステリック液晶カラーフ
ィルタの製造方法である。

【００１３】前記＜１＞に記載の発明によれば、（ａ）
工程においては、基体上にラミネート方式、あるいは塗
布方式等の任意の方法でコレステリック液晶組成物を含
有する層（以下、単にコレステリック液晶層という）が
形成される。このコレステリック液晶層には、温度によ
る螺旋構造誘起力が大きいカイラル化合物が組み合され
ており、コレステリック液晶組成物は、温度によって螺
旋ピッチが異なる構造変化を起こすようになっている。
（ｂ）工程においては、コレステリック液晶層全体が加
熱される温度において、設計された螺旋ピッチ構造とな
り、この状態で活性光線をパターン照射すると、このパ
ターン領域でコレステリック液晶組成物が重合あるいは
架橋して第一のパターンが形成される。（ｃ）工程にお
いては、（ｂ）工程における温度と異なる温度で加熱さ
れて前記螺旋ピッチと異なる螺旋ピッチ構造となり、こ
の状態で活性光線をパターン照射すると、このパターン
領域でコレステリック液晶組成物が重合あるいは架橋し
て第二のパターンが形成される。前記＜２＞に記載の発
明によれば、同様にして（ｂ）工程および（ｃ）工程に
おける螺旋ピッチ構造と異なる螺旋ピッチ構造となり、
この状態で活性光線をパターン照射すると、このパター
ン領域でコレステリック液晶組成物が重合あるいは架橋
して第一および第二のパターンと異なる第三のパターン
が形成される。また、必要に応じて上記のような方法に
よって第四のパターンを形成することもできる。前記＜
３＞に記載の発明によれば、コレステリック液晶層の全
体を重合または架橋して固定化する。前記＜４＞に記載
の発明によれば、基体の表面が配向処理されており、こ
の面にコレステリック液晶層を設けると、液晶分子を配
向処理に促した所定の配向となるように配向され、この
状態で固定化すると、透過性に優れ、色純度に富む所望
の色相に発色する。前記＜５＞に記載の発明によれば、
コレステリック液晶層上に配向膜が形成されており、前
記同様にコレステリック液晶層が透過性に優れ、色純度
に富む所望の色相に発色する。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について図面を基に説明する。図１〜図４は、本発明
の一実施の形態を示す工程図である。図１における工程
（Ａ）において、支持体Ａ（仮支持体ともいう）１０に
クッション層１２を介して配向膜１４が形成される。こ
の配向膜は図１の工程（Ｂ）に示すように、ラビング処
理される。このラビング処理は、必ずしも必要ではない
が、ラビング処理した方がより配向がよくなる。次に図
１の工程（Ｃ）に示すように、配向膜１４上にコレステ
リック液晶層１６が形成され、このコレステリック液晶
層１６上にカバーフィルム１８が設けられる。この工程
によって得られたシートを以後、転写シート２０と呼
ぶ。一方、図１の工程（Ｄ）に示すように、支持体Ｂ
（以後、基板という）２２上に配向膜２４が形成され、
ラビング処理される。この工程によって得られた基板を
カラーフィルタ用基板２６と呼ぶ。

【００１５】次に図２の工程（Ｅ）に示すように、カバ
ーフィルム１８を剥がした後、カラーフィルタ用基板２
６の配向膜２４面に転写シート２０のコレステリック液
晶層１６が接触するようにロールを介してラミネートさ
れる。その後、図２（Ｆ）に示すように、転写シート２
０の配向膜１４とクッション層１２との間で剥離され
る。

【００１６】次に図３の工程（Ｇ）に示すように、配向
膜１４の上方にマスク２８Ａが配置され、コレステリッ
ク液晶層１６が所定の温度〔温度（１）]に加熱され、
コレステリック液晶組成物の螺旋ピッチ構造が変化し、
この温度（１）下でコレステリック液晶層１６に対して
活性光線がパターン照射されて照射領域のコレステリッ
ク液晶組成物は光重合、あるいは架橋して第１のパター
ンが形成される。

【００１７】次に図３の工程（Ｅ）に示すように、配向
膜１４の上方にマスク２８Ａと異なるマスク２８Ｂが配
置され、コレステリック液晶層１６が前記温度（１）と
異なる所定の温度〔温度（２）]に加熱されると、コレ
ステリック液晶組成物の螺旋ピッチ構造が変化し、この
温度（２）下でコレステリック液晶層１６に対して工程
（Ｇ）の領域と異なる領域に活性光線がパターン照射さ
れて照射領域のコレステリック液晶組成物は光重合、あ
るいは架橋して第一のパターンと異なる色相の第二のパ
ターンが形成される。この第二のパターンを形成すると
きに用いるマスクは、第一のパターンを形成するときに
用いるマスクと異なる形態のマスクでもよく、また第一
パターンを形成するときのマスクと同じ形態のマスクを
用い、このマスクと異なる位置に配置して第一パターン
を形成するときの活性光線の照射領域と異なる領域に活
性光線を照射してもよい。

【００１８】なお、特に図示していないが、必要に応じ
て工程（Ｅ）の後に前記第二のパターンを形成した該コ
レステリック液晶組成物を含有する層全体を前記（ａ）
工程および（ｂ）工程における加熱温度とそれぞれ異な
る所定の温度に加熱し、その加熱温度で活性光線を照射
して第一のパターンおよび第二のパターンと異なる色相
の第三のパターンを形成することができ、順次のこれら
の工程を繰り返すことができる。

【００１９】次に図４の工程（Ｈ）に示すように、第
一，第二、第三・・のパターンを形成するときと異なる
所定の温度〔温度（３）]でコレステリック液晶層１６
層を全面加熱するか、またはこの加熱条件下でコレステ
リック液晶層１６に対して活性光線を全面照射してコレ
ステリック液晶層を重合、または架橋してコレステリッ
ク液晶層を固定化する。

【００２０】その後、図４の工程（Ｈ）に示すように、
コレステリック液晶層１６の不要物、未露光部が洗浄、
あるいは溶解除去されて目的とするカラーフィルターが
形成される。

【００２１】上記した図1〜図４に示す方法は、ラミネ
ート方式によるカラーフィルタの製造方法の一実施の形
態であるが，本発明は、図示していないが、塗布方式に
よるカラーフィルタの製造方法も包含される。塗布方式
によるカラーフィルタの製造方法においては、図１の工
程（Ｄ）におけるカラーフィルタ用基板２２上に配向膜
２４が形成されたカラーフィルタ用基板２６の配向膜２
４上に塗布方式によってコレステリック液晶層が形成さ
れ、その後、図３の工程（Ｇ）〜図４の工程（Ｊ）が実
施される。

【００２２】以下、各工程をさらに詳細に説明する。な
お、ラミネート方式、および塗布方式に共通な点は纏め
て説明する。＜（Ａ）工程＞（仮支持体）支持体Ａ（仮支持体）としては、化学的及
び熱的に安定であり、かつ撓曲性、化学光線透過性のも
のが挙げられる。具体的には、２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテ
ート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導
体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リイミド類、場合によりポリエチレンフィルムをラミネ
ートした紙等が挙げられる。この他、従来の溶融転写や
昇華転写用支持体として公知の各種支持体、又は通常の
サーマルヘッド転写材料と同様に厚み５μｍ前後の、裏
面に離型処理を施したポリエステルフィルム等も挙げら
れる。上記のうち、裏面に離型処理を施したポリエステ
ルフィルムが特に好ましい。

【００２３】前記仮支持体には、帯電による、塵埃の付
着を防止する目的で、コレステリック液晶層を設ける面
と反対側の面に帯電防止層を形成することもできる。な
お、仮支持体上に直接コレステリック液晶層を設ける場
合には、仮支持体の表面にラビング処理等の配向処理が
施されていてもよい。さらに、仮支持体の表面には、コ
ロナ放電処理、グロー放電処理等の表面処理を施すこと
もできる。

【００２４】前記仮支持体の厚みとしては、コレステリ
ック液晶層をカラーフィルタ用基板にラミネートする場
合の密着性、熱転写時の熱伝導性、凹凸を有する基板へ
の追従性の観点から、１５０μｍ以下が好ましい。一
方、転写性、仮支持体上へのコレステリック液晶層の形
成性、転写材料の取り扱い性の観点から、２μｍ以上が
好ましい。（クッション層）本発明のカラーフィルタの製造方法に
おいては、転写性の向上、即ち、表面に凹凸を有する基
板に転写する場合に、転写するコレステリック液晶層の
追従性を向上させる目的で、仮支持体とコレステリック
液晶層との間にクッション層を設けることが好ましい。

【００２５】前記クッション層は、熱可塑性樹脂層が用
いられ、少なくとも、ガラス転移点（Ｔｇ）が８０℃以
下の、高分子化合物、又は高分子化合物に可塑剤等を混
合することで層のＴｇを８０℃以下にしたものを有して
構成される。但し、前記クッション層（熱可塑性樹脂
層）は、該クッション層上にコレステリック液晶層が直
接設けられる場合には、コレステリック液晶層の成膜時
に使用する溶媒等により溶解されない高分子化合物等を
使用する必要がある。

【００２６】前記熱可塑性樹脂層を形成する高分子化合
物としては、例えば、ポリエチレン類、ポリプロピレン
類、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−アク
リル酸エステル共重合樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレ
ン、塩素化ゴム類、ポリビニルブチラール、ポリビニル
アセタール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンノシ
ド、フェノール樹脂、セルロース誘導体、ポリビニルア
ルコール誘導体、ラテックス類及びこれらの混合物が好
ましい。

【００２７】また、必要に応じて、クッション層中に、
補助バインダーとしてアクリルゴムや線状ポリウレタン
を添加することもでき、これらを添加すると、前記可塑
剤の添加量を低減することができる。従って、可塑剤の
基板や熱転写シート表面へのブリードを抑制でき、転写
時のゴミ欠陥や表面粘着性悪化による耐密着悪化を防止
することが可能となる。

【００２８】クッション層（熱可塑性樹脂層）の層厚と
しては、１〜５０μｍが好ましく，２〜３０μｍがより
好ましい。また、クッション層上、即ち、クッション層
のコレステリック液晶層と接する面上に配向膜を設けな
い場合には、該クッション層の表面をラビング処理等の
配向処理を施すこともできる。

【００２９】前記熱可塑性樹脂層上には、中間層を設け
ることができる。（中間層）この中間層は、コレステリック液晶層の溶剤
等、及び熱可塑性樹脂層の可塑剤や溶剤等の両層相互間
への悪影響を防止する目的で設けられるものであり、該
中間層は、水或いはアルカリ水溶液に分散又は溶解し、
酸素透過性の低い材料より選択されることが好ましい。
前記中間層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、水溶性ポリビニルブチラール、水溶性ナイロン
（水洗にて除去可能）等の水溶性高分子を有して構成す
ることができる。

【００３０】前記中間層には、必要に応じて界面活性剤
を適宜添加することができる。前記界面活性剤として
は、溶解性、塗布性を考慮したうえで、カチオン性、ア
ニオン性、両性、ノニオン性等のいずれのものも使用可
能であるが、中でも、液晶の動作や電圧保持率を阻害し
ない点で、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。前記ノ
ニオン性の界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエ
チレン系、サーフィノール（日信化学（株）製）等のア
セチレングリコール系、メガファックＦ１４２Ｄ（大日
本インキ（株）製）等のフッ素系オリゴマー等が挙げら
れる。さらに、前記中間層には、必要に応じて、色素、
顔料、紫外線吸収剤、消泡剤、マット剤、溶剤等を添加
することもできる。

【００３１】前記中間層の層厚としては、０．１〜５μ
ｍが好ましい。また、中間層としては、特開平５−１７
３３２０号（段落番号〔００１１〕）に記載のものを好
適に使用することができる。さらに、中間層を設け、該
中間層上にコレステリック液晶層を形成する場合には、
中間層を成膜した後、その表面をラビング処理等により
配向処理することが好ましい。従って、この場合に用い
る前記高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアル
コールにポリエチレングリコールを混合したもの、メチ
ルビニルエーテル無水マレイン酸共重合体、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン等の水溶性又は高極
性高分子材料、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アジ
ピン酸ポリエステル等が好ましい。

【００３２】（配向膜）仮支持体上に前記クッション層
を設ける場合には、該クッション性層上に配向膜を設け
ることもできる。

【００３３】前記配向膜の形成に使用可能な材料として
は、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリイ
ミド、ポリアミド、ナイロン、ポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブ
チルテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエステル、ポリシ
クロヘキシルメタクリレート、ポリビニルシンナメー
ト、ポリブレン、ポリアセタール等が挙げられる。配向
膜の膜厚としては、０．０１〜５μｍが好ましく、０．
０１〜１μｍがより好ましい。

【００３４】前記コレステリック液晶層、クッション層
（熱可塑性樹脂層）、中間層、配向膜は、それぞれの構
成成分を適当な溶媒に溶解、又は分散して塗布液上の溶
液とし、公知の塗布方法により塗布乾燥して仮支持体上
に形成することができる。例えば、前記高分子化合物等
を溶剤等に溶解して塗布液状とした後、スピンコート
法、カーテンコート法、バーコート法、或いは、スリッ
トから押し出して塗布する方法により塗布することがで
きる。この場合に用いる溶剤は、用いる高分子の溶解性
を考慮して適宜選択することができ、例えば、メチエチ
ルケトン、アセトン等のケトン類；メタノール、エタノ
ール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びこ
れらのアセテート類等を好適に挙げることができる。

【００３５】＜工程（Ｂ）＞前記仮支持体上に配向膜を
設け、該配向膜表面をラビング処理等の公知の方法で配
向処理を施し、その表面上にコレステリック液晶層を設
けると、液晶分子をその配向処理に促した所定の配向と
なるように配向させることができ、この状態で冷却固定
化させることで透過性に優れ、色純度に富む所望の色相
に発色させることができる。

【００３６】＜工程（Ｃ）＞次に配向膜上にコレステリ
ック液晶層が形成される。（コレステリック液晶層）コレステリック液晶層は、ネ
マチック液晶性化合物、カイラル化合物を含有し、さら
に必要に応じて、重合性モノマー、光重合開始剤、バイ
ンダー樹脂、界面活性剤、熱重合禁止剤、増粘剤、色
素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、溶媒等を含有させ
ることができる。

【００３７】前記ネマチック液晶性化合物は、液晶転移
温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とする
ものであって、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜
０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、重合性液晶
化合物の中から適宜選択することができる。溶融時の液
晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理
を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま
冷却等して固定化させることにより固相として使用する
ことができる。前記ネマチック液晶性化合物の具体例と
しては、下記化合物を挙げることができるが、本発明は
これらのネマチック液晶性化合物に限定されるものでは
ない。

【００３８】

【化１】

【００３９】

【化２】

【００４０】

【化３】

【００４１】前記式中、ｎは、１〜１０００の整数を表
す。前記各例示化合物においては、その側鎖連結基が、
以下の構造に変わったものも同様に好適なものとして挙
げることができる。

【００４２】

【化４】

【００４３】上記のうち、ネマチック液晶性化合物とし
ては、十分な硬化性を確保し、層の耐熱性をする観点か
らは、分子内に重合性基あるいは架橋性基を有するネマ
チック液晶性化合物が好ましい。

【００４４】前記コレステリック液晶組成物の含有量と
しては、コレステリック液晶層の全重量に対して３０〜
９８重量％が好ましく、５０〜９５重量％がより好まし
い。前記含有量が、３０重量％未満であると、ネマチッ
ク液晶性化合物の配向が不十分となることがある。

【００４５】本発明において、前記カイラル化合物は、
捩れ力の温度依存性が大きく、コレステリック液晶組成
物に誘起する螺旋ピッチが温度によって変化する化合物
が好ましい。このカイラル化合物に求められる特性とそ
の分子構造との関係は次の通りである。（１）鎖線構造を誘起する力を大きいことであり、この
ためには、カイラル部位を分子の中心に位置させ、その
周囲をリジッドな構造とする。分子量は３００以上が好
ましい。（２）温度による螺旋構造誘起力が大きいことであり、
このためには、カイラル部位近くの結合が回転したよう
なコンフォマーが複数存在することが好ましい。（３）ネマチック液晶性化合物への溶解性が大きいこと
であり、このためには、溶解度パラメーターのＳＰ値が
ネマチック液晶性化合物とカイラル化合物とが近似して
いることが好ましい。（４）その他、上記重合性の結合基を１つ以上結合した
構造の方が膜の耐熱性が高くなるので好ましい。

【００４６】このような特性を有するカイラル化合物と
しては、例えば、下記の化合物が挙げられる。

【００４７】

【化５】

【００４８】したがって、本発明のコレステリック液晶
層には、ネマチック液晶性化合物自体の選定と共にネマ
チック液晶性化合物と、これらのカイラル化合物との組
み合わせを設定して、それぞれ異なる温度条件で異なる
螺旋構造に変化し、所望の色相を呈するようにすること
が望ましい。

【００４９】また、コレステリック液晶層に含有される
前記重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合を
持つモノマー等が挙げられ、例えば、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。前記
エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例として
は、以下に示す化合物を挙げることができるが、本発明
においては、これらに限定されるものではない。

【００５０】

【化６】

【００５１】前記重合性モノマーの添加量としては、コ
レステリック液晶層の全固形分重量に対し、０．５〜５
０重量％が好ましい。前記添加量が、０．５重量％未満
であると、十分な硬化性を得ることができないことがあ
り、５０重量％を越えると、液晶分子の配向を阻害し、
十分な発色が得られないことがある。

【００５２】さらに、コレステリック液晶層を転写後、
基板上に形成したコレステリック液晶層中の液晶分子の
螺旋ピッチを固定化し、さらにコレステリック液晶層の
膜強度を向上させる目的で、前記光重合開始剤を添加す
ることもできる。前記光重合開始剤としては、公知のも
のの中から適宜選択することができ、例えば、ｐ−メト
キシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−ト
リクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フ
ェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジ
ン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリー
ルビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベ
ンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン等が
挙げられる。

【００５３】前記光重合開始剤の添加量としては、コレ
ステリック液晶層の全固形分重量に対して、０．１〜２
０重量％が好ましく、０．５〜５重量％がより好まし
い。前記添加量が、０．１重量％未満であると、光照射
時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２
０重量％を越えると、紫外線領域から可視光領域での光
透過率が劣ることがある。

【００５４】前記バインダー樹脂としては、例えば、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレ
ン化合物、メチルセルロース、エチルセルロース、アセ
チルセルロース等のセルロース樹脂、側鎖にカルボキシ
ル基を有する酸性セルロース誘導体、ポリビニルフォル
マール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４
８号に記載のメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合
体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイ
ン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が
挙げられる。

【００５５】アクリル酸アルキルエステルのホモポリマ
ー及びメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー
も挙げられ、これらについては、アルキル基がメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ
−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−
エチルヘキシル基等のものを挙げることができる。その
他、水酸基を有するポリマーに酸無水物を添加させたも
の、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸
のホモポリマータ）アクリル酸共重合体やベンジル（メ
タ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマー
の多元共重合体等が挙げられる。

【００５６】コレステリック液晶層中の全固形分に対す
る前記バインダーの含有量としては、０〜５０重量％が
好ましく、０〜３０重量％がより好ましい。前記含有量
が、５０重量％を超えると、ネマチック液晶性化合物の
配向が不十分となることがある。

【００５７】また、保存性の向上のため添加される重合
禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノ
ン、及びこれらの誘導体等が挙げられ、これらは、重合
性化合物に対して、０〜１０重量％添加することが好ま
しく、０〜５重量％添加することがより好ましい。

【００５８】前記各成分は、適当な溶媒に溶解し、塗布
液状の溶液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法によ
り支持体Ａ（仮支持体）上に塗布することにより、コレ
ステリック液晶層を形成することができる。

【００５９】（カバーフィルム）得られたコレステリッ
ク液晶層上には、転写シートの保存時にコレステリック
液晶層を保護する点で、カバーフィルムを設けることが
好ましい。前記カバーフィルムに用いる材質としては、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡ
Ｃ等が挙げられる。前記カバーフィルムの厚みとして
は、１〜１００μｍが好ましく、４〜４０μｍがより好
ましい。

【００６０】なお、配向膜のＴｇは、液晶配向温度より
も高い方が望ましい。また、反射型ＬＣＤの場合、コレ
ステリック液晶層１６とカバーフィルム１８との間に光
吸収層（ブラックベタ）を設けることもできる。この光
吸収層はコレステリック液晶層１６とカバーフィルム１
８との密着性の点からは、紫外線硬化型が好ましい。。
さらにカバーフィルム１８の表面（コレステリック液晶
層１６面側とは反対側の面）には転写シートの走行性等
の点から帯電防止処理が施されていることが好まし
い。。

【００６１】＜工程（Ｄ）＞一方、基板上に配向膜を設
けたカラーフィルタ用基板が形成される。（基板）カラーフィルタ用として用いる基板としては、
公知の光透過性の基板が挙げられ、具体的には、ガラス
板、表面に酸化珪素被膜を形成したソーダガラス板、ポ
リマーフィルム等が挙げられる。前記各種基板表面に
は、ラミネート工程前に、前記配向膜を形成すること、
或いは、常法により配向処理、好ましくはラビング処理
を施されていることが好ましい。前記ラビング処理時の
ラビング角度等は、予め設定するが特に限定はない。

【００６２】＜工程（Ｅ）＞次に工程（Ｃ）に示す転写
シートからカバーフィルムが剥がされて、コレステリッ
ク液晶層面がカラーフィルタ用基板の配向膜に接触する
状態でラミネートされる。このラミネート工程時に加圧
する場合の加圧手段としては、公知の加圧方法の中から
適宜選択することができ、例えば、接着状態の転写シー
トとカラーフィルタ用基板を圧力ローラに挟んで圧着搬
送する方法、加圧パッドを押圧しながら移動させる方
法、減圧下で圧着させる方法等が挙げられる。中でも、
接着時に空気等の混入を回避し、十分な接着性を確保し
うる観点から、圧力ローラーを用いることが好ましい。
加圧時の圧力としては、０．１〜１００ｋｇ／ｍ²が好
ましく、１〜２０ｋｇ／ｍ²がよリ好ましい。圧力ロー
ラーを用いる場合の搬送速度としては、１〜５０ｍ／ｍ
ｉｎが好ましく、０．５〜５ｍ／ｍｉｎがより好まし
い。

【００６３】また、工程（Ｅ）に示すラミネート工程の
代わりにコレステリック液晶層を基板に密着させる工程
であってもよい。この場合、コレステリック液晶層上に
平滑層を設けること、あるいは基板２２とは別の密着時
に使用される支持体に平滑層を設けることが好ましい。
平滑層としては、ＰＶＡ等の水溶性高分子からなる膜等
が挙げられる。

【００６４】＜工程（Ｆ）＞ラミネートによってカラー
フィルタ用基板に転写シートが密着された状態で仮支持
体とクッション層が剥離され、基板上に配向膜、コレス
テリック液晶層、配向膜が順次設けられた基板が形成さ
れる。仮支持体上に、クッション層（熱可塑性樹脂層）
および中間層が形成されている場合、中間層の間で剥離
される。塗布方式の場合、基板上に配向膜、コレステリ
ック液晶層、配向膜が順次塗布方式で設けられた基板が
形成される。

【００６５】＜工程（Ｇ）＞次に工程（Ｇ）における温
度〔温度（１）]は、ネマチック液晶性化合物、カイラ
ル化合物等によって予め設計された温度であり、この温
度においてコレステリック液晶組成物の螺旋ピッチが変
化し、この状態[温度（１）]下でコレステリック液晶層
１６に対して活性光線がパターン照射されて照射領域の
コレステリック液晶組成物は光重合、あるいは架橋して
第１のパターンが形成される。

【００６６】活性光線としては、紫外線が好ましく、具
体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、メタルハライド灯等が挙げられるが、中でも、超高
圧水銀灯が好ましい。前記活性光線の照射量として
は、１０〜８００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、３０〜５０
０ｍＪ／ｃｍ²がより好ましい。前記照射量が、１０ｍ
Ｊ／ｃｍ²未満であると、硬化反応が十分に行われない
ことがあり、８００ｍＪ／ｃｍ²を超えると、作業効率
が低下することがある。

【００６７】＜工程（Ｈ）＞工程（Ｇ）〜工程（Ｈ）に
おいては、第一のパターン、第二のパターンを形成する
場合、あるいはさらに第三のパターン・・を形成する場
合、その加熱温度は、−２０℃〜２００℃の範囲から選
ばれ、目的の温度±５℃に制御されることが好ましく、
より好ましくは目的の温度±２℃の範囲である。コレス
テリック液晶層に対して順次温度を変えて一定の温度に
加熱し、その温度において活性光線を照射するが、加熱
する順序は，解像度、配向速度等の点から低温から高温
側へ順次上げていくことが好ましい。また、それぞれの
パターンを形成するときの温度差はそれぞれの温度にお
ける螺旋構造を変化を明確する点から２０℃以上が好ま
しい。なお、工程（Ｇ）〜工程（Ｈ）に示すパターン露
光の他に、ラミネートされた状態（仮支持体），すなわ
ち透明な仮支持体が付いた状態でパターン露光すること
もできる。

【００６８】＜工程（Ｉ）＞パターン露光後、コレステ
リック液晶層の全面に、１）加熱手段、または２）パタ
ーン露光と異なる波長で光照射する手段によって、コレ
ステリック液晶組成物を熱重合、あるいは光重合させて
螺旋ピッチの構造を固定化する。これらの加熱温度の条
件、光照射の条件は、コレステリック液晶組成物、カイ
ラル化合物等の種類、組み合わせ等により任意に選定さ
れる。

【００６９】＜工程（Ｊ）＞次にコレステリック液晶層
上の不要な部分、例えば、クッション層、中間層等の残
存部分、未露光部は除去される。この工程では、クッシ
ョン層、中間層等成分によって異なるが、水、またはア
ルカリ性物質の希薄水溶液、さらに水と混和性の有機溶
剤を少量添加したものも含まれる。適当なアルカリ性
物質はアルカリ金属水酸化物類（例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸
塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アル
カリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メタケイ酸ナトリウ
ム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリ
ン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例
えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐
酸三ナトリウムである。アルカリ性物質の濃度は、０．
０１重量％〜３０重量％であり、ｐＨは８〜１４が好ま
しい。適当な水と混和性の有機溶剤は、メタノール、エ
タノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタ
ノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノ．エチルエ
ーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、
ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラ
クトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メ
チル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンであ
る。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１重量％〜３０
重量％である。またさらに公知の界面活性剤を添加する
ことができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜１
０重量％が好ましい。

【００７０】＜その他の工程＞カラーフィルタのブラッ
クマトリックス部分は、基板２２上に予め設けてもよ
く、また、工程（Ｊ）に示すカラーフィルタ用基板が形
成された後にブラックマトリックス部分を設けることが
できる。

【００７１】また、転写材料を構成する、前記クッショ
ン層、配向膜には、必要に応じて、バインダ、界面活性
剤、熱重合防止剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収
剤、ゲル化剤、溶媒等を含有させてもよい。さらに、転
写材料における各層間の密着力（接着力）を調整する目
的で、各層中に密着促進剤、離形剤等を使用することも
できる。

【００７２】

【実施例】実施例１（転写材料の製造）仮支持体としてラビング処理された
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートベースフィ
ルムを準備し、その上に、コレステリック液晶層用塗布
液として、下記の処方にて調製した塗布液をスピンコー
ターにて塗布し、１００℃のオーブンにて２分間乾燥
し、コレステリック液晶層を形成し、カバーフィルムと
して１２μｍ厚のポリプロピレンフィルムを該コレステ
リック液晶層上に室温でラミネートし、転写材料を得
る。

【００７３】（コレステリック液晶層用塗布液処方）

【化７】

【００７４】（カラーフィルターの製造）カラーフィル
ターの製造方法について、説明する。（１）フィルター基板の準備ガラス基板上にポリイミド配向膜塗布液をスピンコータ
ーにて塗布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した
後、２５０℃のオーブンで１時間焼成して、配向膜を設
け、さらにその表面をラビングして配向膜付きガラス基
板を得た。（２）フィルター層の形成転写シートからカバーフィルムを除去し、前記配向膜を
備えたガラス基板の配向膜面と、転写シートのコレステ
リック液晶層が接するように重ね合わせ、ラミネータ
（大成ラミネータ株製のファーストラミネータ８Ｂ−５
５０−８０）を用いて、２ｋｇ／ｍ²の加圧、１３０℃
のローラー温度、０．２ｍ／ｍｉｎの送り条件で貼り合
わせた。

【００７５】続いて、該転写シートを貼り合わせたま
ま、ガラス基板をホットプレート上にて１５５℃の温度
で３分間保持して、コレステリック液晶層を赤色発色さ
せ、赤色画素用フォトマスクを介して超高圧水銀灯にて
露光を行った。次に１３０℃の温度で３分間保持して、
コレステリック液晶層を緑色発色させ、緑色画素用フォ
トマスクを介して超高圧水銀灯にて露光を行った。次に
１０５℃の温度で３分間保持して、コレステリック液晶
層を青色発色させ、青色画素用フォトマスクを介して超
高圧水銀灯にて露光を行った。各照射エネルギーは、２
００ｍＪ／ｃｍ²である。続いてポリエチレンテレフタ
レートの仮支持体をコレステリック液晶層との界面で剥
離し、仮支持体を除去した。その後、クロロホルムでコ
レステリック液晶層を現像し、未露光部を除去した。さ
らにフィルタ部の硬化を進めるため、２２０℃のオーブ
ンで２０分間焼成し、赤色画素、緑色画素、青色画素パ
ターンが形成されたカラーフィルタ基板を得た。

【００７６】実施例２（転写材料の製造）仮支持体である厚さ７５μｍのポリ
エチレンテレフタレートベースフィルム上に、熱可塑性
樹脂層用塗布液として下の処方にて調液した塗布液をス
ピンコーターにて塗布し、１００℃のオーブンにて２分
間乾燥して１５μｍ厚の熱可塑性樹脂層を得る。

【００７７】（熱可塑性樹脂層用塗布液処方）・スチレン／アクリル酸共重合体１５重量部（共重合比率６０／４０、重量平均分子量８０００）・２，２−ビス（４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニルプロパン）７重量部・フッ素系界面活性剤１．５重量部（Ｆ−１７６ＰＦ，大日本インキ社製）・プロピレングリコールモノメチルエーテル２８重量部・メチルエチルケトン２７重量部

【００７８】次に該熱可塑性樹脂層の上に、中間層用塗
布液として下記処方にて調液した塗布液をスピンコータ
ーにて塗布し、１００℃のオーブンにて２分間乾燥して
熱可塑性樹脂層の上に１．６μｍ厚の中間層を形成し
た。さらに該中間層表面をナイロン布にてラビング処理
を行った。

【００７９】（中間層用塗布液処方）・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５クラレ社製）１５重量部・ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ−Ｋ３０五協産業社製）６重量部・メタノール１７３重量部・イオン交換水２１１重量部

【００８０】次いでコレステリック液晶層用塗布液とし
て、実施例１と同様の処方にて調製した塗布液をスピン
コーターにて塗布し、１００℃のオーブンにて２分間乾
燥し、コレステリック液晶層を形成し、カバーフィルム
として１２μｍ厚のポリプロピレンフィルムを該コレス
テリック液晶層上に室温でラミネートし、ベースフィル
ム上に熱可塑性樹脂層、中間層、コレステリック液晶層
がこの順に積層された転写材料を得た。

【００８１】（カラーフィルターの製造）カラーフィル
ターの製造方法について、説明する。（１）フィルター基板の準備ガラス基板上にポリイミド配向膜塗布液をスピンコータ
ーにて塗布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した
後、２５０℃のオーブンで１時間焼成して、配向膜を設
け、さらにその表面をラビングして配向処理して、配向
膜付きガラス基板を得た。（２）フィルター層の形成転写シートからカバーフィルムを除去し、前記配向膜を
備えたガラス基板の配向膜面と、転写シートのコレステ
リック液晶層が接するように重ね合わせ、ラミネータ
（大成ラミネータ株製のファーストラミネータ８Ｂ−５
５０−８０）を用いて２ｋｇ／ｍ²の加圧、１３０℃の
ローラ温度、０．２ｍ／ｍｉｎの送り条件で貼り合わせ
た。そしてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、
熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去し
た。

【００８２】続いて、ガラス基板をホットプレート上に
て１５５℃の温度で３分間保持して、コレステリック液
晶層を赤色発色させ、赤色画素用フォトマスクを介して
超高圧水銀灯にて露光を行った。次に１３０℃の温度で
３分間保持して、コレステリック液晶層を緑色発色さ
せ、緑色画素用フォトマスクを介して超高圧水銀灯にて
露光を行った。次に１０５℃の温度で３分間保持して、
コレステリック液晶層を青色発色させ、青色画素用フォ
トマスクを介して超高圧水銀灯にて露光を行った。各照
射エネルギーは、２００ｍＪ／ｃｍ²である。

【００８３】次に所定の処理液（Ｔ−ＰＤ２：富士写真
フィルム社製）を用いて、熱可塑性樹脂層、中間層を除
去した。その後、クロロホルムでコレステリック液晶層
を現像し、未露光部を除去した。さらにフィルタ部の硬
化を進めるため、２２０℃のオーブンで２０分間焼成
し、赤色画素、緑色画素、青色画素パターンが形成され
たカラーフィルタ基板を得た。

【００８４】

【発明の効果】以上のように請求項１に記載の本発明に
よれば、一層のコレステリック液晶層に対する加熱処
理、活性光線のパターン露光により簡便な工程によって
高品質の多色カラーフィルターを製造することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のコレステリック液晶カラーフィルタ
の製造方法の（Ａ）工程〜（Ｄ）工程を示す概略的工程
図である。

【図２】本発明のコレステリック液晶カラーフィルタ
の製造方法の（Ｅ）工程〜（Ｆ）工程を示す概略的工程
図である。

【図３】本発明のコレステリック液晶カラーフィルタ
の製造方法の（Ｇ）工程および（Ｈ）工程を示す概略的
工程図である。

【図４】本発明のコレステリック液晶カラーフィルタ
の製造方法の（Ｉ）工程および（Ｊ）工程を示す概略的
工程図である。

【符号の説明】

１０支持体Ａ（仮体支持体）１２クッション層（熱可塑性樹脂層）１４配向膜１６コレステリック液晶層１８カバーフィルム２０転写シート２２基板２４配向膜２６カラーフィルタ用基板２８マスク

フロントページの続きＦターム(参考） 2H048 BA01 BA64 BB02 BB14 BB15 BB24 BB42 2H091 FA02Y FB04 FB12 FC01 FC10 FC23 FD04 FD16 GA06 LA12 LA18 5C094 AA02 AA43 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 ED02 FB12 FB15 GB10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カラーフィルタを製造する方法であっ
て、（ａ）基体上にコレステリック液晶組成物を含有す
る層を形成する工程と、（ｂ）該コレステリック液晶組
成物を含有する層全体を加熱し、その加熱温度において
活性光線をパターン状に照射して第一のパターンを形成
する工程と、（ｃ）第一のパターンを形成した該コレス
テリック液晶組成物を含有する層全体を前記（ｂ）工程
における加熱温度と異なる温度で加熱し、その加熱温度
で活性光線を照射して第一のパターンと異なる第二のパ
ターンを形成する工程と、を有することを特徴とするコ
レステリック液晶カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】前記第二のパターンを形成した該コレス
テリック液晶組成物を含有する層を前記（ａ）工程およ
び（ｂ）工程における加熱温度とそれぞれ異なる温度で
加熱し、その加熱温度で活性光線を照射して第一のパタ
ーンおよび第二のパターンと異なる第三のパターンを形
成する工程を、有することを特徴とする請求項１に記載
のコレステリック液晶カラーフィルタの製造方法。
【請求項３】前記のパターンのうち、最終のパターン
が形成されたコレステリック液晶組成物を含有する層に
対して、全面加熱、または全面照射して前記コレステリ
ック液晶組成物を含有する層全体を固定化することを特
徴とする請求項１または請求項２に記載のコレステリッ
ク液晶カラーフィルタの製造方法。
【請求項４】前記基体を、配向処理することを特徴と
する請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のコレステ
リック液晶カラーフィルタの製造方法。
【請求項５】前記コレステリック液晶組成物を含有す
る層上に配向膜を設けることを特徴とする請求項１乃至
請求項４のいずれかに記載のコレステリック液晶カラー
フィルタの製造方法。