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JP2001149840A - Coating method and coating device - Google Patents

Coating method and coating device

Info

Publication number
JP2001149840A
JP2001149840A JP33331699A JP33331699A JP2001149840A JP 2001149840 A JP2001149840 A JP 2001149840A JP 33331699 A JP33331699 A JP 33331699A JP 33331699 A JP33331699 A JP 33331699A JP 2001149840 A JP2001149840 A JP 2001149840A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shutter
coating
coating liquid
opening
time
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP33331699A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsusachi Kato
光幸 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP33331699A priority Critical patent/JP2001149840A/en
Publication of JP2001149840A publication Critical patent/JP2001149840A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗液を基材上に間欠して塗布する作業を迅速
に行うことを可能とし、生産性良好に電極を形成するこ
とを可能をする塗布方法及び塗布装置を提供すること。 【解決手段】 走行する基材1に対して、シャッター9
の開閉により塗液8を塗布した塗工部分15と、前記塗
液8を塗布しない未塗工部分16を交互に形成する塗布
方法において、前記基材1の走行速度Vmを測定して、
前記走行速度Vmと前記塗工部分15もしくは未塗工部
分16の長さから、前記塗工部分15もしくは前記未塗
工部分16を形成するために必要な領域形成時間Tcを
算出して、前記シャッター9の開閉速度Vsに基づい
て、前記シャッター9の移動すべき位置までに必要とす
る移動時間Tmを算出して、前記移動時間Tmと前記領
域形成時間Tcを比較して、前記移動時間Tmが前記領
域形成時間Tcよりも大きい場合には、前記シャッター
9の移動量を補正する。
[PROBLEMS] To provide a coating method and a coating apparatus which can quickly perform an operation of applying a coating liquid intermittently on a base material and can form electrodes with good productivity. To provide. SOLUTION: A moving substrate 1 is provided with a shutter 9.
In a coating method of alternately forming a coated portion 15 to which the coating liquid 8 is applied by opening and closing and an uncoated portion 16 to which the coating liquid 8 is not applied, the traveling speed Vm of the base material 1 is measured.
From the traveling speed Vm and the length of the coated portion 15 or the uncoated portion 16, a region forming time Tc required to form the coated portion 15 or the uncoated portion 16 is calculated, Based on the opening / closing speed Vs of the shutter 9, a movement time Tm required to reach the position to which the shutter 9 is to be moved is calculated, and the movement time Tm is compared with the area forming time Tc. Is larger than the region forming time Tc, the moving amount of the shutter 9 is corrected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基材に対して塗液
を間欠して塗布するための塗布方法及び塗布装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating method and a coating apparatus for intermittently applying a coating liquid to a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に非水電解質電池は、用いる非水電
解質の電気伝導度が水系電解質電池に比較して低いの
で、集電体である導電性支持体に形成される電界層の厚
みを薄くして内部抵抗を下げる必要がある。そのため上
記非水電解質電池の円筒型電池、角型電池では電極活物
質充填量を上げるため、シート状の電極を巻回した渦巻
き型構造や、シート状の電極を積み重ねた積層構造が採
用されている。図8に、非水電解質電池として一般的な
リチウムイオン2次電池の構造を示す。この電池におい
ては、電解活物質であるリチウム酸化コバルトを主体と
する電極合剤が、導電性支持体であるアルミニウム箔の
表面に所定の厚さで塗工された陽極板130と、カーボ
ンを主体とした電極合剤が塗工された陰極板131とが
絶縁体からなるセパレーター132を介して積層状に巻
回されている。
2. Description of the Related Art Generally, in a non-aqueous electrolyte battery, the electric conductivity of a non-aqueous electrolyte used is lower than that of an aqueous electrolyte battery. It is necessary to lower the internal resistance. Therefore, in order to increase the electrode active material filling amount in the cylindrical battery and the prismatic battery of the non-aqueous electrolyte battery, a spiral structure in which a sheet-like electrode is wound or a laminated structure in which a sheet-like electrode is stacked is adopted. I have. FIG. 8 shows a structure of a general lithium ion secondary battery as a nonaqueous electrolyte battery. In this battery, an anode plate 130 in which an electrode mixture mainly composed of lithium cobalt oxide serving as an electrolytic active material is applied to a surface of an aluminum foil serving as a conductive support with a predetermined thickness, The cathode plate 131 coated with the electrode mixture described above is wound in a laminated state via a separator 132 made of an insulator.

【0003】そして、陽極板130の内部端部にはアル
ミニウムからなる陽極リード133が接合されており、
この陽極リード133は電池蓋134に接合されてい
る。また、陰極板131の外周部には、ニッケルからな
る陰極リード135が接合されており、この陰極リード
135は電池缶136の底面に接続されている。ところ
で、このような陽極板130を製造する場合には、長い
帯状に連続的に製造し、これを所定の長さに切って、個
々の陽極板130を製造するようにしている。上記陽極
板130においては、前述のように内部端部に陽極リー
ド133を接合する必要があり、上述のように長い帯状
に連続して製造する場合には、電極合剤を塗工した塗工
部分と陽極リード133を接合するために電極合剤を塗
工していない未塗工部分とを、順次に形成する必要があ
る。
An anode lead 133 made of aluminum is joined to the inner end of the anode plate 130,
The anode lead 133 is joined to the battery cover 134. A cathode lead 135 made of nickel is joined to an outer peripheral portion of the cathode plate 131, and the cathode lead 135 is connected to a bottom surface of the battery can 136. Incidentally, when such an anode plate 130 is manufactured, the anode plate 130 is manufactured continuously in a long strip shape, cut into a predetermined length, and the individual anode plates 130 are manufactured. In the anode plate 130, it is necessary to bond the anode lead 133 to the inner end as described above. When the anode plate 130 is to be continuously manufactured in a long strip shape as described above, the coating using the electrode mixture is applied. In order to join the portion and the anode lead 133, it is necessary to sequentially form an uncoated portion where no electrode mixture is applied.

【0004】一方、この陰極板131においても同様で
あり、これを製造する場合には、長い帯状に連続的に製
造し、これを所定の長さに切って個々の陰極板131を
製造するようにしている。上記陰極板131においても
前述のように外周部に陰極リード135を接合する必要
があり、上述のように長い帯状に連続して製造する場合
には、電極合剤を塗工した塗工部分と陰極リード135
を接続するために電極合剤を塗工していない未塗工部分
とを順次に形成する必要がある。
[0004] On the other hand, the same applies to the cathode plate 131. In the case of manufacturing the cathode plate 131, the cathode plate 131 is manufactured continuously in a long strip shape, and cut into predetermined lengths to manufacture the individual cathode plates 131. I have to. The cathode lead 131 also needs to be joined to the outer peripheral portion of the cathode plate 131 as described above, and when the cathode plate 131 is manufactured continuously in a long strip shape as described above, the cathode lead 131 and the coated portion coated with the electrode mixture are used. Cathode lead 135
It is necessary to sequentially form an uncoated portion where the electrode mixture is not applied to connect the electrodes.

【0005】そこで、上記陽極板130及び陰極板13
1を製造する方法としては、従来、長尺の集電体であ
り、導電性支持体である基材の未塗工部分となるべき部
分に予めマスキングを施しておき、これを走行させなが
ら、塗工を行って塗工部分と未塗工部分を交互に形成す
る方法、長尺の基材上の全領域に塗工を行った後、未塗
工部分とすべき部分を削り取って塗工部分と未塗工部分
を交互に形成する方法が挙げられる。
Therefore, the anode plate 130 and the cathode plate 13
As a method of manufacturing 1, a mask is applied in advance to a portion that is to be an uncoated portion of a base material that is a long current collector and is a conductive support, and while this is running, A method of alternately forming a coated part and an uncoated part by performing coating.After coating the entire area on the long base material, the part to be the uncoated part is scraped off and coated. There is a method of alternately forming a portion and an uncoated portion.

【0006】このように、予めマスキングを施すか、塗
工後に未塗工部分とすべき部分を削り取るといった場合
の塗工方式としては、第1の方法として特開平4−28
2558号公報に示されるような電極活物質を含む塗液
を基材の両側に押しだし成形する方法、第2の方法とし
て特開昭63−114058号公報や特開平3−439
58号公報に示されるような引き上げ方式、第3の方法
として特開平1−267953号公報や特開平1−19
4265号公報に示されるような引き下げ方式が提案さ
れている。
[0006] As described above, as a first method, a method of applying masking in advance or shaving off a portion to be uncoated after coating is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-28.
JP-A-63-114058 and JP-A-3-439 disclose a method in which a coating liquid containing an electrode active material is extruded on both sides of a substrate as described in JP-A No.
Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-267953 and 1-19 disclose a lifting method as disclosed in JP-A-58-58, and a third method.
A lowering system as disclosed in Japanese Patent No. 4265 has been proposed.

【0007】また、上記のような塗工方式としては、第
4の方法として、複数の回転するロールを組み合わせ
て、そのロールギャップに電極活物質を含む塗液が通過
することによりロールギャップ内を走行する基材に塗工
が行われるロールコーティング方式もあげられる。この
ようなロールコーティング方式としては、3本リバース
ロール方式、リバースグラビア方式、ダイレクトグラビ
ア方式などがあげられる。
[0007] In the above-mentioned coating method, as a fourth method, a plurality of rotating rolls are combined, and a coating solution containing an electrode active material passes through the roll gap, so that the inside of the roll gap is reduced. There is also a roll coating method in which coating is performed on a traveling base material. Examples of such a roll coating method include a three-roll reverse roll method, a reverse gravure method, and a direct gravure method.

【0008】さらに、上記のような塗工方式としては、
第5の方法として、特開平1−184069号公報や特
開平1−194265号公報、特開平4−242071
号公報に示されるような基材に対し、適当な隙間をもっ
てドクターブレードを配置し、電極活物質を含む塗液を
このドクターブレード前面に貯え、走行する基材に対し
適量の電極合剤液が層状に引き出されることにより基材
に塗工が行われる方式もあげられる。また、上記のよう
な塗工方式としては、第6の方法として、特開平7−6
5816号公報に示されるような、基材に対し、エクス
トリュージョンダイを用いて塗工を行う方式が提案され
ている。
[0008] Further, as the above-mentioned coating method,
As a fifth method, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-184069, 1-194265, and 4-242207
A doctor blade is arranged with an appropriate gap to a base material as shown in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-209, and a coating liquid containing an electrode active material is stored in front of the doctor blade, and an appropriate amount of an electrode mixture liquid is applied to the running base material. There is also a method in which a base material is coated by being drawn out in a layer form. As a coating method as described above, a sixth method is disclosed in
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5816 discloses a method of coating a substrate using an extrusion die.

【0009】一方、上述のように予めマスキングを施し
たり、塗工後に不要な部分を削ったりする方法とは異な
り、塗工時から未塗工部分と塗工部分を順次形成する方
法も提案されている。このような塗工方式としては、第
7の方法として、特開平1−184069号公報に示さ
れるようなドクターブレードと塗工滞留部を有するシャ
ッターを組み合わせた塗工部を、走行する基材上に配置
する間欠塗布方式が提案されている。この方式では、固
定されたドクターブレードと、走行する基材との隙間を
変化させることにより塗工厚みの調整を行い、ドクター
ブレードに塗液を供給するための塗液滞留部を有するシ
ャッターを開閉することにより塗工部分と未塗工部分を
交互に形成する。
[0009] On the other hand, unlike the method of masking in advance or removing unnecessary parts after coating as described above, a method of sequentially forming an uncoated part and a coated part from the time of coating has also been proposed. ing. As such a coating method, as a seventh method, a coating portion combining a doctor blade and a shutter having a coating stagnation portion as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-184069 is applied to a running base material. Has been proposed. In this method, the coating thickness is adjusted by changing the gap between the fixed doctor blade and the moving base material, and the shutter that has a coating liquid retaining section for supplying the coating liquid to the doctor blade is opened and closed. By doing so, a coated portion and an uncoated portion are alternately formed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うな塗工方式には、以下に示すような問題点がある。第
1、第2、第3の方法において、両面同時に塗工できる
ので効率は良いが、基材を両電極合剤塗液の中央に位置
させることが難しく、厚さの均一な薄い電極板を製造す
ることが困難である。さらに、第4の方法においては、
所望の電極厚さに対し、適当な電極合剤となる塗液の粘
弾性挙動と表面張力の関係からリッピング(畝化現象)
と呼ばれる塗膜欠陥が発生しやすい。また、塗液がコー
ティングロール間でアプリケーション、レベリングした
り、転写される際の塗液の飛散、乾燥による粘弾性挙動
の不安定が発生する。さらに、塗液の戻り循環供給経路
において、塗液が大気中に暴露されることによる塗液中
の揮発成分の変化等により、安定した塗工を長時間維持
するのが困難である。
However, the above-mentioned coating method has the following problems. In the first, second, and third methods, since both surfaces can be coated simultaneously, the efficiency is high. However, it is difficult to position the base material at the center of both electrode mixture coating solutions, and a thin electrode plate having a uniform thickness is used. Difficult to manufacture. Further, in the fourth method,
For the desired electrode thickness, ripping (ridge phenomenon) based on the relationship between the viscoelastic behavior and surface tension of the coating liquid that is an appropriate electrode mixture
A coating film defect called “coating defect” easily occurs. In addition, application and leveling of the coating liquid between the coating rolls, and scattering of the coating liquid when the coating liquid is transferred and instability of the viscoelastic behavior due to drying occur. Further, it is difficult to maintain stable coating for a long time due to a change in volatile components in the coating liquid due to exposure of the coating liquid to the atmosphere in the return circulation supply path of the coating liquid.

【0011】また、第5の方法において、塗工が単純で
きわめて効率よく電池電極を得ることができるが、塗工
を停止したりする場合、ドクターブレードに蓄えられた
塗液が無くなるのを待たなければならないという問題が
ある。さらに、第6の方法においては、エクストリュー
ジョンダイに供給する塗液の供給圧力を加減することに
より、上述の第5の方法では不可能であった任意の場所
での塗工停止が可能となる。しかしながら、この方法で
は、塗液の粘弾性挙動に塗工状態が強く左右され、特に
固形分を多く含む塗液を使用する場合には動粘性が極端
に高くなり、所望の塗工厚みと塗工速度が得られないと
いう問題がある。
Further, in the fifth method, the coating is simple and the battery electrode can be obtained very efficiently. However, when the coating is stopped, it is necessary to wait until the coating liquid stored in the doctor blade runs out. There is a problem that must be. Further, in the sixth method, by controlling the supply pressure of the coating liquid to be supplied to the extrusion die, it is possible to stop the coating at an arbitrary place which is impossible in the above-described fifth method. Become. However, in this method, the coating state is strongly influenced by the viscoelastic behavior of the coating liquid, and particularly when a coating liquid containing a large amount of solids is used, the kinematic viscosity becomes extremely high. There is a problem that the working speed cannot be obtained.

【0012】また、上述の第1乃至第6の方法について
は、いずれも電極板に未塗工部分を形成するために、基
材に予めマスキングを行うか、塗工後に未塗工部分とな
る部分を削り取るといった作業が必要とされており、電
池電極製造工程に著しい手間と原材料の一部を除去する
ことによる無駄が発生する。
In each of the above-described first to sixth methods, in order to form an uncoated portion on the electrode plate, masking is performed on the base material in advance, or an uncoated portion is formed after coating. Work such as shaving off the parts is required, which causes considerable trouble in the battery electrode manufacturing process and waste of removing a part of the raw materials.

【0013】これに対し、ドクターブレードと塗液滞留
部を有するシャッターを組み合わせた塗工部を、走行す
る基材上に配置する第7の方法においては、基材に予め
マスキングを行ったり、塗工した後で未塗工部分となる
箇所の塗液を削り取る必要が無い。また、様々な種類の
電池電極の製造において製造装置本体の変更部分が少な
く、極めて高効率に所望の電池電極を得ることができ
る。
On the other hand, in a seventh method of disposing a coating section, which is a combination of a doctor blade and a shutter having a coating liquid retaining section, on a running substrate, the substrate is previously masked or coated. There is no need to scrape off the coating liquid at the locations that will be uncoated after processing. Further, in the production of various types of battery electrodes, there is little change in the manufacturing apparatus main body, and a desired battery electrode can be obtained with extremely high efficiency.

【0014】この第7の方法は塗工速度が向上する程、
シャッターの開閉時間が短縮され、短縮された時間があ
る領域を越えるとシャッターが完全に開く前に(又は閉
じる前に)、再動作する必要が生まれる。その時のシャ
ッターを駆動するモータに与える負荷が、完全に開いた
状態(又は閉じた状態)から駆動するよりも著しく変化
してしまうため、シャッターの動作時間及び動作位置に
変化を与えてしまう。従って、シャッターの動作時間と
塗液の自由落下で塗工長さを決定している塗布装置にお
いて、その変動は寸法精度悪化とともに間欠塗布開始時
の塗布ムラを招き、塗工速度を高速化できない原因とな
っている。
In the seventh method, as the coating speed increases,
The opening and closing time of the shutter is shortened, and when the shortened time exceeds a certain area, it is necessary to restart the operation before the shutter is completely opened (or before it is closed). At that time, the load applied to the motor that drives the shutter changes significantly more than when the motor is driven from a completely open state (or a closed state), and thus the operating time and operating position of the shutter are changed. Therefore, in a coating apparatus in which the coating length is determined by the operation time of the shutter and the free fall of the coating liquid, the fluctuation causes deterioration in dimensional accuracy and coating unevenness at the start of intermittent coating, and the coating speed cannot be increased. Cause.

【0015】そこで本発明は上記課題を解消し、塗液を
基材上に間欠部を有して塗布する作業を迅速に行うこと
を可能とし、生産性良好に電極を形成することを可能を
する塗布方法及び塗布装置を提供することを目的として
いる。
Accordingly, the present invention has solved the above-mentioned problems, and has made it possible to quickly perform an operation of applying a coating liquid on a substrate with an intermittent portion, thereby enabling an electrode to be formed with good productivity. It is an object of the present invention to provide a coating method and a coating apparatus.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記目的は、請求項1の
発明によれば、走行する基材に対して、シャッターの開
閉により塗液を塗布した塗工部分と、前記塗液を塗布し
ない未塗工部分を交互に形成する塗布方法において、前
記基材の走行速度を測定して、前記走行速度と前記塗工
部分もしくは未塗工部分の長さから、前記塗工部分もし
くは前記未塗工部分を形成するために必要な領域形成時
間を算出して、前記シャッターの開閉速度に基づいて、
前記シャッターの移動すべき位置までに必要とする移動
時間を算出して、前記移動時間と前記領域形成時間を比
較して、前記移動時間が前記領域形成時間よりも大きい
場合には、前記シャッターの移動量を補正する塗布方法
により、達成される。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a moving part in which a coating liquid is applied to a running base material by opening and closing a shutter, and the coating liquid is not applied. In a coating method in which an uncoated portion is formed alternately, the traveling speed of the base material is measured, and based on the traveling speed and the length of the coated portion or the uncoated portion, the coated portion or the uncoated portion is measured. Calculate the area formation time required to form the engineering portion, based on the opening and closing speed of the shutter,
Calculate the movement time required to the position to which the shutter should move, compare the movement time with the region formation time, and when the movement time is longer than the region formation time, This is achieved by a coating method that corrects the amount of movement.

【0017】請求項1の構成によれば、シャッターが開
くと基材に対して塗液が塗布されて塗工部分を形成し
て、シャッターが閉じると基材に対して塗液が供給され
ずに未塗工部分が形成される。そして、シャッターを開
閉することにより、塗工部分と未塗工部分を交互に形成
していく。ここで、走行する基材の移動量により基材の
走行速度が算出される。そして、この走行速度により塗
工部分もしくは未塗工部分の長さを形成するのに必要な
領域形成時間が求められる。その後、シャッターの開閉
速度とシャッターの位置上により、シャッターが移動す
べき位置までに必要とする移動時間が算出される。
According to the first aspect of the present invention, when the shutter is opened, the coating liquid is applied to the substrate to form a coating portion, and when the shutter is closed, the coating liquid is not supplied to the substrate. An uncoated portion is formed on the substrate. Then, by opening and closing the shutter, a coated portion and an uncoated portion are alternately formed. Here, the running speed of the base material is calculated based on the moving amount of the running base material. Then, the region forming time required to form the length of the coated portion or the uncoated portion is determined from the traveling speed. Thereafter, a movement time required to reach a position where the shutter should move is calculated based on the opening / closing speed of the shutter and the position of the shutter.

【0018】そこで、この領域形成時間と移動時間が比
較されて、移動時間が領域形成時間よりも長いとき、シ
ャッターが移動すべき移動量が補正される。すなわち、
移動時間が領域形成時間よりも長いとき、シャッターが
ある位置に位置決めされる前に次の動作が行われること
を示している。従って、この位置情報のずれを補正する
ことにより、正しい移動量になるように制御するもので
ある。
Therefore, the region forming time and the moving time are compared, and when the moving time is longer than the region forming time, the moving amount of the shutter to be moved is corrected. That is,
When the moving time is longer than the area forming time, it indicates that the next operation is performed before the shutter is positioned at a certain position. Therefore, by correcting the displacement of the position information, control is performed so that the movement amount is correct.

【0019】上記目的は、請求項2の発明によれば、第
1凹部を有するドクターブレードと、前記ドクターブレ
ードに対向して配置されていて、前記ドクターブレード
側に屈曲した第2凹部を有するシャッターとを有してお
り、前記第1凹部及び前記第2凹部に塗液を収容して、
シャッターの開閉により走行する基材に対して塗液を塗
布する塗工部分と塗液を塗布しない未塗工部分を交互に
形成する塗布装置において、前記シャッターの開閉を行
うためのシャッター駆動部と、前記シャッターの位置情
報を検出するため、前記シャッター駆動部の状態を検出
する位置検出部とを有するシャッター開閉機構と、走行
する前記基材の移動量を検出して、移動量検出信号を出
力するための基材移動量検出部と、前記移動量検出信号
から前記基材の走行速度を測定して、前記走行速度と前
記塗工部分もしくは前記未塗工部分の長さから、前記塗
工部分もしくは前記未塗工部分を形成するために必要な
領域形成時間を算出するとともに、前記位置検出部から
の前記位置検出信号に基づいて前記シャッターの移動す
べき位置までに必要な移動時間を算出して、前記領域形
成時間よりも前記移動時間が大きい場合、前記シャッタ
ーが移動すべき位置情報を補正する機能を有する制御部
とを有する塗布装置により、達成される。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a doctor blade having a first concave portion, and a shutter having a second concave portion which is disposed to face the doctor blade and is bent toward the doctor blade. Having a coating liquid in the first concave portion and the second concave portion,
In a coating device that alternately forms a coating portion that applies a coating liquid to a substrate that travels by opening and closing a shutter and an uncoated portion that does not apply a coating liquid, a shutter driving unit for opening and closing the shutter. A shutter opening / closing mechanism having a position detecting unit for detecting a state of the shutter driving unit to detect position information of the shutter, and detecting a moving amount of the traveling base material and outputting a moving amount detection signal. The traveling speed of the base material is measured from the traveling distance detection signal, and the traveling speed and the length of the coated portion or the uncoated portion are used to calculate the coating speed. The area formation time required to form the portion or the uncoated portion is calculated, and it is necessary to reach the position where the shutter should be moved based on the position detection signal from the position detection section. It calculates the Do travel time, the case where the travel time than the region forming time is greater, by a coating apparatus and a control unit having a function of correcting the positional information the shutter to be moved is achieved.

【0020】請求項2の構成によれば、シャッター駆動
部によりシャッターが開くと、基材上に塗液が塗布され
て、塗工部が形成される。一方、シャッターが閉じる
と、基材上に塗液が供給されずに、未塗工部が形成され
る。このように、基材上に基材上に塗工部と未塗工部を
交互に形成されていく。このとき、基材移動量検出部が
基材の移動量を検出して、移動量検出信号を制御部に送
る。そして、制御部はこの移動量検出信号に基づいて基
材の走行速度を算出する。一方、位置検出部がシャッタ
ー駆動部の位置を検出して位置検出信号を制御部へ送
る。
According to the second aspect of the present invention, when the shutter is opened by the shutter driving unit, the coating liquid is applied on the base material to form a coating portion. On the other hand, when the shutter is closed, the coating liquid is not supplied onto the base material, and an uncoated portion is formed. In this way, a coated portion and an uncoated portion are alternately formed on the substrate. At this time, the substrate movement amount detection unit detects the movement amount of the substrate and sends a movement amount detection signal to the control unit. Then, the control unit calculates the traveling speed of the base material based on the movement amount detection signal. On the other hand, the position detector detects the position of the shutter driver and sends a position detection signal to the controller.

【0021】すると、制御部は、走行速度と塗工部分も
しくは未塗工部分の形成すべき長さから塗工部分もしく
は未塗工部分の領域形成時間を算出する。また、制御部
はシャッターの次に移動すべき位置まで必要とする移動
時間を位置検出信号から算出する。そして、制御部は、
移動時間と領域形成時間を比較して、移動時間が領域形
成時間より大きいとき、モータに出力する位置指令信号
に補正を加える。すなわち、移動時間が領域形成時間よ
り大きいとき、塗工部分もしくは未塗工部分が形成する
までにシャッターが所定の位置に移動しない状態とな
る。従って、次にシャッターを移動させる際には、所定
の移動量よりも小さくする必要がある。そこで、制御部
は、位置指令信号を補正してシャッターの位置を調整す
ることにより塗液の供給量が調整されることとなる。
Then, the controller calculates the area forming time of the coated or uncoated portion from the running speed and the length of the coated or uncoated portion to be formed. Further, the control unit calculates, from the position detection signal, a moving time required for a position to be moved next to the shutter. And the control unit
The movement time is compared with the region formation time. If the movement time is longer than the region formation time, the position command signal output to the motor is corrected. That is, when the moving time is longer than the region forming time, the shutter does not move to the predetermined position until the coated portion or the uncoated portion is formed. Therefore, the next time the shutter is moved, it must be smaller than the predetermined amount of movement. Therefore, the control unit adjusts the position of the shutter by correcting the position command signal, so that the supply amount of the coating liquid is adjusted.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Note that the embodiments described below are preferred specific examples of the present invention,
Although various technically preferable limits are given, the scope of the present invention is not limited to these modes unless otherwise specified in the following description.

【0023】図1は本発明の塗布装置の好ましい実施の
形態を示す構成図であり、図1を参照して塗布装置10
0について説明する。図1の塗布装置100は、巻出し
軸2、乾燥部5、巻取り軸7、塗工部11等を有してい
る。巻出し軸2は、基材1を巻いて収容するものであっ
て、基材1はたとえば延伸加工されたアルミニウム箔か
らなっている。また巻出し軸2は、たとえばACサーボ
モータ等の回転駆動源2aと接続されており、矢印R1
方向に回転して基材1を弛みなく一定の張力と速度で巻
取り軸7へと送る。
FIG. 1 is a block diagram showing a preferred embodiment of a coating apparatus according to the present invention. Referring to FIG.
0 will be described. 1 includes an unwinding shaft 2, a drying unit 5, a winding shaft 7, a coating unit 11, and the like. The unwinding shaft 2 winds and accommodates the substrate 1, and the substrate 1 is made of, for example, a stretched aluminum foil. The unwinding shaft 2 is connected to a rotation drive source 2a such as an AC servomotor, for example,
And feeds the substrate 1 to the winding shaft 7 at a constant tension and speed without loosening.

【0024】巻出し軸2とメインロール3の間にはガイ
ドロール17a、17b、17c、17dが配置されて
おり、このガイドロール17a〜17dは、基材1を所
定のテンションで巻出し軸2からメインロール3へと導
く機能を有している。メインロール3は、基材1に塗液
8を塗布する際の基台となる部位であって、矢印R2方
向に回転可能に配置されている。また、基材1とメイン
ロール3がスリップするのを防止するため、メインロー
ル3の外周面側にはゴムロール4が配置されている。そ
して、メインロール3とゴムロール4は基材1を挟み込
みながら矢印M1方向に送る。また図2に示すように、
メインロール3にはたとえばパルスジェネレータからな
る基材移動量検出部50が接続されていて、基材移動量
検出部50は、基材1の移動量を検出して移動量検出信
号S3を制御部21に送る機能を有している。
Guide rolls 17a, 17b, 17c, and 17d are disposed between the unwinding shaft 2 and the main roll 3, and the guide rolls 17a to 17d squeeze the substrate 1 at a predetermined tension. And has a function of leading the main roll 3 from the main roll. The main roll 3 is a portion serving as a base when the coating liquid 8 is applied to the base material 1, and is arranged rotatably in the direction of arrow R2. Further, a rubber roll 4 is disposed on the outer peripheral surface side of the main roll 3 in order to prevent the substrate 1 and the main roll 3 from slipping. Then, the main roll 3 and the rubber roll 4 are fed in the direction of arrow M1 while sandwiching the substrate 1. Also, as shown in FIG.
The main roll 3 is connected to a substrate movement amount detection unit 50 composed of, for example, a pulse generator. The substrate movement amount detection unit 50 detects the movement amount of the substrate 1 and outputs a movement amount detection signal S3 to the control unit. 21 is provided.

【0025】図1のメインロール3の上側には塗工部1
1が配置されていて、塗工部11は基材1に対して塗液
8を塗布するものである。塗工部11と巻取り軸7の間
には乾燥部5が配置されており、乾燥部5は塗工部11
により塗布された塗液8の溶剤成分を揮発させるもので
ある。巻取り軸7は、塗液8の塗布された基材1を巻き
取るものであって、回転駆動源7aにより矢印R1方向
に回転可能に配置されている。また、乾燥部5と巻取り
軸7の間には、基材1に所定のテンションをかけながら
走行させるためのガイドロール17e、17f及びアウ
トフィールドロール6が配置されている。
On the upper side of the main roll 3 in FIG.
The coating unit 11 is for applying the coating liquid 8 to the substrate 1. A drying unit 5 is disposed between the coating unit 11 and the winding shaft 7.
This is for volatilizing the solvent component of the coating liquid 8 applied by the above. The winding shaft 7 is for winding the substrate 1 on which the coating liquid 8 has been applied, and is arranged so as to be rotatable in the direction of the arrow R1 by a rotation drive source 7a. Further, between the drying unit 5 and the winding shaft 7, guide rolls 17e and 17f and an outfield roll 6 for running the base material 1 while applying a predetermined tension are arranged.

【0026】図2と図3は本発明の塗布装置におけるシ
ャッター開閉機構の一例を示す構成図であり、図2と図
3を参照して塗工部11について説明する。図2のシャ
ッター開閉機構20は、シャッター駆動部22、位置検
出部53等から構成されていて、シャッター駆動部22
は、たとえばACサーボモータからなるモータ51とカ
ム機構52を有している。図3のモータ51の回転軸に
はカム機構52が接続されており、モータ51が回転す
ると、カム機構52がこれに同期して回転する。また、
カム機構52はたとえばシャフト等によりシャッター9
と機械的に接続されており、カム機構52が回転するこ
とによりシャッター9が矢印X方向に移動して開閉する
ようになっている。
FIGS. 2 and 3 are structural views showing an example of a shutter opening / closing mechanism in the coating apparatus according to the present invention. The coating section 11 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. The shutter opening / closing mechanism 20 in FIG. 2 includes a shutter driving unit 22, a position detecting unit 53, and the like.
Has a motor 51 composed of, for example, an AC servomotor and a cam mechanism 52. A cam mechanism 52 is connected to the rotating shaft of the motor 51 shown in FIG. 3, and when the motor 51 rotates, the cam mechanism 52 rotates in synchronization with this. Also,
The cam mechanism 52 is, for example, a
When the cam mechanism 52 rotates, the shutter 9 moves in the direction of the arrow X and opens and closes.

【0027】図2のモータ51は、制御部21からの位
置指令信号S2に基づいて動作するものであって、位置
指令信号S2に示される角度までカム機構52を回転さ
せる。またモータ51にはたとえばパルスジェネレータ
からなる位置検出部53が内蔵されている。位置検出部
53はモータ51の位置角度L2を検出して、制御部2
1に位置検出信号S1を送る機能を有している。この位
置検出信号S1には、モータ51(カム機構52)の位
置角度L2が含まれていて、制御部21はこの位置検出
信号S1により、シャッター9の位置を検出する。
The motor 51 shown in FIG. 2 operates based on a position command signal S2 from the control unit 21, and rotates the cam mechanism 52 to an angle indicated by the position command signal S2. Further, the motor 51 has a built-in position detecting section 53 composed of, for example, a pulse generator. The position detection unit 53 detects the position angle L2 of the motor 51, and
1 has a function of sending a position detection signal S1 to the position detection signal S1. The position detection signal S1 includes the position angle L2 of the motor 51 (cam mechanism 52), and the control unit 21 detects the position of the shutter 9 based on the position detection signal S1.

【0028】制御部21は、たとえば高速サーボコント
ローラとサーボパックにより構成されていて、高速サー
ボコントローラから出力される位置指令信号S2により
モータ51の動作を制御するものである。また、制御部
21は基材移動量検出部50から送られてくる移動量検
出信号S3を用いて基材1の走行速度Vmを算出する機
能を有している。そして制御部21は、後述するよう
に、この走行速度Vm及び位置検出部53から送られる
位置検出信号S1に基づいて位置指令信号S2を補正す
る機能を有している。
The control section 21 is composed of, for example, a high-speed servo controller and a servo pack, and controls the operation of the motor 51 by a position command signal S2 output from the high-speed servo controller. Further, the control unit 21 has a function of calculating the traveling speed Vm of the base material 1 using the movement amount detection signal S3 sent from the base material movement amount detection unit 50. The control unit 21 has a function of correcting the position command signal S2 based on the traveling speed Vm and the position detection signal S1 sent from the position detection unit 53, as described later.

【0029】図2の制御部21から位置指令信号S2が
送られると、モータ51が駆動して位置指令信号S2の
示す角度まで回転する。すると、カム機構52が、モー
タ51の回転に同期して矢印R3方向に回転する。そし
てカム機構52に接続されているシャッター9が矢印X
方向に移動して、シャッター9の開閉が行われる。この
とき、位置検出部53が、モータ51の位置角度L2を
位置検出信号S1として制御部21に送る。これによ
り、制御部21は、シャッター9の位置を把握すること
ができる。ここで、図3のモータ51及びカム機構52
において、たとえばシャッター9を完全に閉じた状態の
角度が0(°)、最大に開いた最大角度が180(°)
になるように設定されている。
When the position command signal S2 is sent from the control unit 21 in FIG. 2, the motor 51 is driven to rotate to the angle indicated by the position command signal S2. Then, the cam mechanism 52 rotates in the direction of the arrow R3 in synchronization with the rotation of the motor 51. Then, the shutter 9 connected to the cam mechanism 52 has an arrow X
, The shutter 9 is opened and closed. At this time, the position detection unit 53 sends the position angle L2 of the motor 51 to the control unit 21 as the position detection signal S1. Thereby, the control unit 21 can grasp the position of the shutter 9. Here, the motor 51 and the cam mechanism 52 shown in FIG.
For example, the angle when the shutter 9 is completely closed is 0 (°), and the maximum angle when the shutter 9 is fully opened is 180 (°).
It is set to be.

【0030】図4は、本発明の塗布装置における塗工部
の一例を示す構成図であり、図4を参照して塗工部11
について説明する。図4の塗工部11はシャッター9、
ドクターブレード10等から構成されていて、シャッタ
ー9とドクターブレード10は対向するように配置され
ている。ドクターブレード10は、シャッター9側に屈
曲しており第1凹部12を形成した断面略コ字状の部材
である。また、ドクターブレード10は、基材1側に向
かってその厚さが薄くなるように形成されている。
FIG. 4 is a block diagram showing an example of a coating unit in the coating apparatus according to the present invention. Referring to FIG.
Will be described. The coating unit 11 in FIG.
The shutter 9 and the doctor blade 10 are arranged so as to face each other. The doctor blade 10 is a member that is bent toward the shutter 9 and has a substantially U-shaped cross section in which the first concave portion 12 is formed. The doctor blade 10 is formed such that its thickness decreases toward the substrate 1 side.

【0031】シャッター9は、ドクターブレード10の
第1凹部12内に収容されていて、ドクターブレード1
0側に屈曲した第2凹部13を形成している。また図5
に示すように、シャッター9の先端部は、厚さが基材1
に向かって薄くなるように形成されていて、ドクターブ
レード10の先端部を若干残すようにして接触可能な形
状を有している。ここで、シャッター9及びドクターブ
レード10の先端部は先細りになっているため、塗液滞
留部14も先細りに形成されている。また、第1凹部1
2と第2凹部13は塗液滞留部14を形成しており、こ
の塗液収容部14に塗液8が収容される。塗液8はたと
えば電解活物質であるリチウム酸化コバルトを主体とす
る電極合剤からなっている。
The shutter 9 is housed in the first recess 12 of the doctor blade 10 and
The second concave portion 13 bent to the 0 side is formed. FIG.
As shown in FIG.
, And has a shape that allows contact with the doctor blade 10 such that the tip of the doctor blade 10 is slightly left. Here, since the tip portions of the shutter 9 and the doctor blade 10 are tapered, the coating liquid retaining portion 14 is also tapered. Also, the first recess 1
The second and second recesses 13 form a coating liquid retaining portion 14, and the coating liquid 8 is stored in the coating liquid storage portion 14. The coating liquid 8 is made of an electrode mixture mainly composed of, for example, lithium cobalt oxide as an electrolytic active material.

【0032】図5のシャッター9が矢印X1方向に移動
すると、シャッター9及びドクターブレード10の先端
部に開口部18が形成される。そして、この開口部18
から塗液8がドクターブレード10の先端部を伝って基
材1に塗布される。このとき、塗液8は、自由落下によ
り基材1に塗布されるものであって、塗液8の塗布量は
開口部18の大きさ、すなわちシャッター9の移動量に
依存する。一方、シャッター9が矢印X2方向に移動し
てドクターブレード10と接触すると、開口部18が閉
じる状態となり、塗液8が基材1に対して塗布されな
い。なお、シャッター9が完全に閉じなくとも、塗液8
の表面張力や粘性等により塗液8が基材1に対して供給
されずに、未塗工部16を形成することができる。
When the shutter 9 in FIG. 5 moves in the direction of arrow X1, an opening 18 is formed at the tip of the shutter 9 and the doctor blade 10. And this opening 18
The coating liquid 8 is applied to the base material 1 along the tip of the doctor blade 10. At this time, the coating liquid 8 is applied to the substrate 1 by free fall, and the amount of the coating liquid 8 applied depends on the size of the opening 18, that is, the amount of movement of the shutter 9. On the other hand, when the shutter 9 moves in the direction of the arrow X2 and comes into contact with the doctor blade 10, the opening 18 is closed, and the coating liquid 8 is not applied to the substrate 1. Note that even if the shutter 9 is not completely closed,
The uncoated portion 16 can be formed without the coating liquid 8 being supplied to the base material 1 due to the surface tension, viscosity, or the like.

【0033】次に、図1乃至図4を参照して、塗布装置
の動作例について説明する。まず、図1の巻出し軸2及
び巻取り軸7が回転して、基材1が矢印M1方向に送ら
れる。このとき、図2の基材移動量検出部50がメイン
ロール3の回転量を検出して、移動量検出信号S3が制
御部21に送られる。ここで、出力される移動量検出信
号S3は、たとえば0.1(mm/パルス)の信号から
なっている。そして制御部21は、移動量検出信号S3
に基づいて基材1の走行速度Vmを算出する。
Next, an example of the operation of the coating apparatus will be described with reference to FIGS. First, the unwinding shaft 2 and the winding shaft 7 in FIG. 1 rotate, and the substrate 1 is fed in the direction of the arrow M1. At this time, the substrate movement amount detection unit 50 in FIG. 2 detects the amount of rotation of the main roll 3 and a movement amount detection signal S3 is sent to the control unit 21. Here, the output movement amount detection signal S3 is, for example, a signal of 0.1 (mm / pulse). Then, the control unit 21 outputs the movement amount detection signal S3
The traveling speed Vm of the base material 1 is calculated based on.

【0034】次に、図2の制御部21の位置指令信号S
2によりモータ51が駆動すると、シャッター9が矢印
X1方向に移動する。すると、図5のシャッター9とド
クターブレード10の間に開口部18が形成され、この
開口部18から塗液8が基材1に対して塗布される。こ
のように基材1上に塗布部分15が形成される。そし
て、図2の制御部21が走行速度Vmと予め定められて
いる塗工部分15の長さから塗工部分15を形成するた
めの領域形成時間Tcを算出する。この領域形成時間T
cが経過すると、制御部21からモータ51に位置指令
信号S2が出力されてシャッター9が閉じられる。する
と、塗工部11から塗液8が出力されず、未塗工部分1
6が形成されていく。
Next, the position command signal S of the control unit 21 shown in FIG.
When the motor 51 is driven by 2, the shutter 9 moves in the arrow X1 direction. Then, an opening 18 is formed between the shutter 9 and the doctor blade 10 in FIG. 5, and the coating liquid 8 is applied to the substrate 1 from the opening 18. Thus, the application portion 15 is formed on the base material 1. Then, the control unit 21 in FIG. 2 calculates a region forming time Tc for forming the coating portion 15 from the traveling speed Vm and the predetermined length of the coating portion 15. This region formation time T
When c has elapsed, the position command signal S2 is output from the control unit 21 to the motor 51, and the shutter 9 is closed. Then, the coating liquid 8 is not output from the coating unit 11 and the uncoated portion 1 is not output.
6 are formed.

【0035】その後、図2の制御部21が、走行速度V
mと予め定められている未塗工部分16の長さLfか
ら、未塗工部分16を形成するための領域形成時間Tc
を算出する。この領域形成時間Tcが経過すると、制御
部21の位置指令信号S2によりシャッター9が開く。
このシャッター9の開閉を繰り替えることにより、塗工
部分15と未塗工部分16が基材1上に交互に形成され
ていく。そして、塗液8を塗布した基材1は図1の乾燥
部5に送られて、塗液8に含まれる溶剤成分が揮発され
る。そして、基材1は、ガイドロール17e、17f及
びアウトフィールドロール6を介して巻取り軸7に巻き
取られる。
Thereafter, the control unit 21 shown in FIG.
The area forming time Tc for forming the uncoated portion 16 is determined from the length Lf of the uncoated portion 16 which is predetermined as m.
Is calculated. When the region forming time Tc has elapsed, the shutter 9 is opened by the position command signal S2 of the control unit 21.
By repeating the opening and closing of the shutter 9, the coated portions 15 and the uncoated portions 16 are alternately formed on the substrate 1. Then, the substrate 1 to which the coating liquid 8 has been applied is sent to the drying unit 5 in FIG. 1, and the solvent component contained in the coating liquid 8 is volatilized. Then, the substrate 1 is wound around the winding shaft 7 via the guide rolls 17 e and 17 f and the outfield roll 6.

【0036】このように、シャッター9の開閉により塗
工部分15と未塗工部分16が形成されていくため、基
材1の走行速度Vmを速めた場合に塗工部分15にムラ
が生じる等の不都合を生じる場合がある。具体的には、
基材1の走行速度Vmを速めると、シャッター9の開閉
速度Vsが追いつかず、シャッター9が完全に閉じる前
に、シャッター9を開く動作しなければならない場合が
生じる。このときのシャッター9がシャッター駆動部2
0に与える負荷は、完全にシャッター9が平常対になっ
た状態から著しく変化してしまうため、シャッター9の
移動時間Tmに変化を与えてしまう。もとより、この塗
布装置10は、シャッターの移動時間Tmと自重塗液落
下による塗液8の供給で塗工部分15の長さを決定して
いる装置なので、その変動は塗工部分の長さに大きな影
響を与える。
As described above, since the coated portion 15 and the uncoated portion 16 are formed by opening and closing the shutter 9, when the traveling speed Vm of the substrate 1 is increased, the coated portion 15 becomes uneven. May cause inconvenience. In particular,
If the traveling speed Vm of the base material 1 is increased, the opening / closing speed Vs of the shutter 9 cannot catch up, and the shutter 9 needs to be opened before the shutter 9 is completely closed. The shutter 9 at this time is the shutter driving unit 2
Since the load applied to 0 significantly changes from a state where the shutter 9 is completely in a normal pair, the moving time Tm of the shutter 9 changes. Naturally, since the coating apparatus 10 determines the length of the coating portion 15 by the movement time Tm of the shutter and the supply of the coating liquid 8 due to the falling of the coating liquid under its own weight, the fluctuation is caused by the length of the coating section. Have a big impact.

【0037】たとえば、シャッター9が完全に閉じられ
る前に、所定の位置まで開く動作が行われるとき、シャ
ッター9が所望の位置よりも開きすぎてしまう。基材1
に対する塗液8の塗布は、塗液8の自由落下により行わ
れているため、シャッター9の開閉度合いが塗布量に大
きく影響することとなる。そこで、シャッターの開閉動
作の制御は以下のように行われる。
For example, when an operation of opening to a predetermined position is performed before the shutter 9 is completely closed, the shutter 9 is opened more than a desired position. Substrate 1
Is applied by free fall of the coating liquid 8, the degree of opening and closing of the shutter 9 greatly affects the coating amount. Therefore, the control of the opening and closing operation of the shutter is performed as follows.

【0038】図6は、本発明の塗布方法の好ましい実施
の形態を示すフローチャート図であり、図6を参照して
塗布方法、特に、シャッター9の動作制御を中心に説明
する。なお、上記実施の形態における電池の電極を塗布
する場合において、塗工部分15よりも未塗工部分16
の方がその長さが短いため、未塗工部分16の形成時に
シャッター9の開閉位置に誤差が生じる場合が多い。従
って、図6においてはシャッター9が閉じている状態か
らシャッター9が開く時の動作制御について言及する。
FIG. 6 is a flow chart showing a preferred embodiment of the coating method of the present invention. The coating method, particularly the operation control of the shutter 9, will be mainly described with reference to FIG. In the case where the electrode of the battery according to the above embodiment is applied, the uncoated portion 16 is more than the coated portion 15.
Since the length is shorter, an error often occurs in the opening / closing position of the shutter 9 when the uncoated portion 16 is formed. Therefore, in FIG. 6, operation control when the shutter 9 is opened from the state in which the shutter 9 is closed will be described.

【0039】まず、図6のST1において、図2の基材
移動量検出部50から基材1の移動量が移動量検出信号
S2として制御部21に送られており、制御部21によ
り移動量検出信号S2に基づいて基材1の走行速度Vm
が算出されている。また、シャッター9は開かれてい
て、モータ51は所定の位置角度L2に位置決めされて
いる。そして、この位置角度L2は、位置検出部52か
ら位置検出信号S1として制御部21に検出される。た
とえば、シャッター9が半分だけ開いているときは、そ
のモータの位置角度L2は90(°)となる。
First, in ST1 of FIG. 6, the movement amount of the base material 1 is sent from the base material movement amount detection unit 50 of FIG. 2 to the control unit 21 as a movement amount detection signal S2. The traveling speed Vm of the substrate 1 based on the detection signal S2
Is calculated. Further, the shutter 9 is opened, and the motor 51 is positioned at a predetermined position angle L2. The position angle L2 is detected by the control unit 21 as the position detection signal S1 from the position detection unit 52. For example, when the shutter 9 is half opened, the position angle L2 of the motor is 90 (°).

【0040】次に、ST2において、制御部21は、走
行速度Vmと未塗工部分16の長さLfから未塗工部分
16を形成するため領域形成時間Tc(=Lf/Vm)
を算出する。また、ST3において、制御部21は、シ
ャッター9が所定の位置角度L2から完全に閉じる状態
(L2=0(°))になるまで所定の移動時間Tsを算
出する。ここで、シャッター9が完全に開いた状態(L
1=180(°))から完全に閉じた状態(L2=0
(°))になるまでの最大移動時間Tsは予め計測され
ている。従って、シャッター9の開閉速度Vsは、Tm
/L1となり、モータ51の位置角度L2から完全に閉
じた状態までの移動時間Tm(=Tm/L1×L2)が
算出される。そして、ST4において、移動時間Tmが
領域形成時間Tcよりも大きいか否かを判断する(Tm
>Tc)。具体的には以下の式(1)のようになる。 Ts×L2/L1>Lf/Vm ・・・式(1)
Next, in ST2, the control unit 21 determines the region forming time Tc (= Lf / Vm) for forming the uncoated portion 16 based on the traveling speed Vm and the length Lf of the uncoated portion 16.
Is calculated. In ST3, the control unit 21 calculates a predetermined moving time Ts until the shutter 9 is completely closed from the predetermined position angle L2 (L2 = 0 (°)). Here, when the shutter 9 is completely opened (L
1 = 180 (°)) to a completely closed state (L2 = 0)
(°)) is measured in advance. Therefore, the opening / closing speed Vs of the shutter 9 is Tm
/ L1, and the movement time Tm (= Tm / L1 × L2) from the position angle L2 of the motor 51 to the completely closed state is calculated. Then, in ST4, it is determined whether or not the movement time Tm is longer than the region formation time Tc (Tm).
> Tc). Specifically, the following equation (1) is obtained. Ts × L2 / L1> Lf / Vm Equation (1)

【0041】この式(1)により、制御部21がシャッ
ター9を開くためにモータ51に送る位置指令信号S2
に補正を加えるか否かを判断する。すなわち、制御部2
1は、未塗工部分16を形成する間にシャッター9を完
全に閉じることができるか否かを判断する。シャッター
9が完全に閉じる前であっても、未塗工部分16が走行
し終えてしまえば、制御部21は、シャッター9を開く
ようにモータ51に対して位置指令信号S2を出力しな
ければならない。これは、シャッター9が完全に閉じて
いない状態であるのに、さらにシャッター9を所定の位
置角度L2まで移動させるように制御してしまうと、シ
ャッター9が開きすぎてしまうという現象が生じるから
である。
According to the equation (1), the position command signal S2 which the control unit 21 sends to the motor 51 to open the shutter 9
It is determined whether or not correction is to be made. That is, the control unit 2
1 judges whether or not the shutter 9 can be completely closed while forming the uncoated portion 16. Even before the shutter 9 is completely closed, if the uncoated portion 16 has finished traveling, the control unit 21 must output the position command signal S2 to the motor 51 so as to open the shutter 9. No. This is because, although the shutter 9 is not completely closed, if the shutter 9 is further controlled to move to the predetermined position angle L2, a phenomenon occurs that the shutter 9 is excessively opened. is there.

【0042】そして、式(1)が成り立たないとき、領
域形成時間Tcが経過した後、ST5において、制御部
21はこのシャッター9の移動量を調整するため、位置
指令信号S2に補正を加えてモータ51に送る。ここ
で、図7は、モータの位置指令信号S2と補正値との関
係を示すグラフ図であり、図7を参照して補正方法につ
いて具体的に説明する。図7において、位置指令信号S
2の位置角度L2がたとえば120(°)のとき、制御
部21は、位置指令信号S2に補正係数=0.85を乗
算して、その算出結果を位置指令信号S2としてモータ
51に送る。そして、補正された位置指令信号S2に基
づいてモータ51が回転し、シャッター9が矢印X1方
向に移動する。これにより、シャッター9が開きすぎる
ことが無くなり、塗工部分15の塗布状態を良好にする
ことができる。
When the formula (1) does not hold, the control section 21 corrects the position command signal S2 to adjust the amount of movement of the shutter 9 in ST5 after the lapse of the region forming time Tc. Send to motor 51. Here, FIG. 7 is a graph showing the relationship between the motor position command signal S2 and the correction value, and the correction method will be specifically described with reference to FIG. In FIG. 7, the position command signal S
When the position angle L2 of No. 2 is, for example, 120 (°), the control unit 21 multiplies the position command signal S2 by a correction coefficient = 0.85 and sends the calculation result to the motor 51 as the position command signal S2. Then, the motor 51 rotates based on the corrected position command signal S2, and the shutter 9 moves in the direction of the arrow X1. Thereby, the shutter 9 does not open too much, and the coating state of the coating portion 15 can be improved.

【0043】たとえば、未塗工部分16の長さLf=2
0(mm)、最大位置移動時間Ts=0.01(秒)、
位置角度L2=90(°)、走行速度50(mm/秒)
としたとき、式(1)より、 0.01×180/90>20/500 0.02>0.04 この場合、移動時間Tmよりも未塗工部分16の領域形
成時間Tcが大きくなり、シャッター9が完全に閉じな
い状態で次の開く動作を行うこととなる。従って、モー
タ51に送る位置指令信号S2に図7に示すグラフ図に
基づいて補正をすることによって、シャッター9の移動
量が調整される。一方、式(1)が成り立つ場合には、
ST7において、制御部21は、位置指令信号S2を補
正することなくモータ51に送る。
For example, the length Lf = 2 of the uncoated portion 16
0 (mm), maximum position movement time Ts = 0.01 (second),
Position angle L2 = 90 (°), running speed 50 (mm / sec)
From the equation (1), 0.01 × 180/90> 20/500 0.02> 0.04 In this case, the region forming time Tc of the uncoated portion 16 becomes longer than the moving time Tm, The next opening operation is performed in a state where the shutter 9 is not completely closed. Accordingly, the amount of movement of the shutter 9 is adjusted by correcting the position command signal S2 sent to the motor 51 based on the graph shown in FIG. On the other hand, when equation (1) holds,
In ST7, the control section 21 sends the position command signal S2 to the motor 51 without correction.

【0044】上記実施の形態によれば、シャッター9の
開閉の運転パラメータを走行速度Vm及び塗工条件によ
って変化させることで、速度指令に対する追従性を走行
速度Vmで一定にし、精度寸法の精度を向上させること
ができる。すなわち、基材1の速度を速くして走行速度
Vmが向上し、シャッター9の開閉移動距離が変化して
も、位置指令に対する追従性は低速域と共通なので、最
終移動位置は変化しない。それによって、高速域の塗工
長さ、品質にも影響を与えることなく、安定した生産が
可能となる。
According to the above-described embodiment, by changing the operating parameters for opening and closing the shutter 9 depending on the traveling speed Vm and the coating conditions, the followability to the speed command is made constant at the traveling speed Vm, and the precision of the precision dimension is improved. Can be improved. That is, even if the traveling speed Vm is improved by increasing the speed of the substrate 1 and the opening / closing movement distance of the shutter 9 changes, the followability to the position command is common to the low-speed range, so that the final movement position does not change. This enables stable production without affecting the coating length and quality in the high-speed range.

【0045】具体的には、基材1の走行速度Vmに対し
てシャッター9の開閉動作が追従できるか否かを予め算
出して、この算出結果に基づいて、シャッターの移動量
を制御することによって、シャッター9の移動量の調整
を自動的に行うことができる。従って、走行速度Vmが
高速になっても、シャッター9が開きすぎることによ
り、塗工状態の悪化を防止することができ、精度よく塗
工部分15及び未塗工部分16を形成することができ
る。従って、走行速度Vmの高速化により生産効率の向
上を図ることができる。
Specifically, it is calculated in advance whether or not the opening / closing operation of the shutter 9 can follow the traveling speed Vm of the base material 1, and the amount of movement of the shutter is controlled based on the calculation result. Thereby, the movement amount of the shutter 9 can be automatically adjusted. Therefore, even if the traveling speed Vm becomes high, the deterioration of the coating state can be prevented by opening the shutter 9 too much, and the coated portion 15 and the uncoated portion 16 can be formed with high accuracy. . Therefore, the production efficiency can be improved by increasing the traveling speed Vm.

【0046】本発明の実施の形態は、上記実施の形態に
限定されない。上記実施の形態において、電池の電極形
成を例示して説明したが、接着剤やその他流動体を塗布
する装置に適用することができる。また、図5におい
て、未塗工部分を基準として、モータ51の回転量を補
正しているが、塗工部分を基準として、モータ51の回
転量を制御するようにしてもよい。また、位置角度L2
を補正するための基準となる図6のグラフ図であるが、
この位置角度L2と補正係数の関係は、モータの種類、
塗布装置10全体の構成等により異なるものであって、
図6のグラフ図に限定されるものではない。
The embodiment of the present invention is not limited to the above embodiment. In the above-described embodiment, the electrode formation of the battery has been described as an example, but the present invention can be applied to an apparatus for applying an adhesive or other fluid. In FIG. 5, the rotation amount of the motor 51 is corrected based on the uncoated portion, but the rotation amount of the motor 51 may be controlled based on the coated portion. Also, the position angle L2
FIG. 7 is a graph of FIG. 6 serving as a reference for correcting
The relationship between the position angle L2 and the correction coefficient depends on the type of motor,
It differs depending on the configuration of the entire coating apparatus 10 and the like.
It is not limited to the graph shown in FIG.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塗液を基材上に間欠して塗布する作業を迅速に行うこと
を可能とし、生産性良好に電極を形成することを可能を
する塗布方法及び塗布装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a coating method and a coating apparatus that can quickly perform an operation of intermittently applying a coating liquid on a base material and can form an electrode with good productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の塗布装置の好ましい実施の形態を示す
構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a preferred embodiment of a coating apparatus of the present invention.

【図2】本発明の塗布装置におけるシャッター開閉機構
の一例を示す構成図。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an example of a shutter opening / closing mechanism in the coating apparatus of the present invention.

【図3】本発明の塗布装置におけるシャッター駆動部の
一例を示す構成図。
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an example of a shutter driving unit in the coating apparatus of the present invention.

【図4】本発明の塗布装置における塗工部の一例を示す
概略斜視図。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of a coating unit in the coating apparatus of the present invention.

【図5】本発明の塗布装置における開口部周辺部位を示
す模式図。
FIG. 5 is a schematic view showing a portion around an opening in the coating apparatus of the present invention.

【図6】本発明の塗布方法の好ましい実施の形態を示す
フローチャート図。
FIG. 6 is a flowchart showing a preferred embodiment of the coating method of the present invention.

【図7】本発明の塗布方法において、位置指令信号を補
正する際に用いられる、位置指令信号と補正係数の関係
を示すグラフ図。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between a position command signal and a correction coefficient used when correcting a position command signal in the coating method of the present invention.

【図8】一般的な非水電解質電池の一例を示す概略斜視
図。
FIG. 8 is a schematic perspective view showing an example of a general nonaqueous electrolyte battery.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基材、2・・・巻出し軸、3・・・メインロー
ルう、5・・・簡素産、6・・・アウトフィールドロー
ル、7・・・巻取り軸、8・・・塗液、9・・・シャッ
ター、10・・・ドクターブレード、11・・・塗工
部、15・・・塗工部分、16・・・未塗工部分、18
・・・開口部、20・・・シャッター開閉機構、21・
・・制御部、22・・・シャッター駆動部、50・・・
移動量検出部、51・・・モータ、52・・・カム機
構、53・・・位置検出部、100・・・塗布装置、L
f・・・未塗工部分の長さ、Tc・・・領域形成時間、
Tm・・・移動時間、Vs・・・シャッターの開閉速
度。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Unwinding shaft, 3 ... Main roll, 5 ... Simple production, 6 ... Outfield roll, 7 ... Winding shaft, 8 ... Coating liquid, 9 shutter, 10 doctor blade, 11 coating part, 15 coating part, 16 uncoated part, 18
... Opening, 20 ... Shutter opening / closing mechanism, 21
..Control unit, 22 ... Shutter drive unit, 50 ...
Moving amount detection unit, 51: motor, 52: cam mechanism, 53: position detection unit, 100: coating device, L
f: length of the uncoated portion, Tc: region forming time,
Tm: moving time, Vs: shutter opening / closing speed.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 走行する基材に対して、シャッターの開
閉により塗液を塗布した塗工部分と、前記塗液を塗布し
ない未塗工部分を交互に形成する塗布方法において、 前記基材の走行速度を測定して、前記走行速度と前記塗
工部分もしくは未塗工部分の長さから、前記塗工部分も
しくは前記未塗工部分を形成するために必要な領域形成
時間を算出して、 前記シャッターの開閉速度に基づいて、前記シャッター
の移動すべき位置までに必要とする移動時間を算出し
て、 前記移動時間と前記領域形成時間を比較して、前記移動
時間が前記領域形成時間よりも大きい場合には、前記シ
ャッターの移動量を補正することを特徴とする塗布方
法。
1. A coating method for alternately forming a coated portion to which a coating liquid is applied by opening and closing a shutter and an uncoated portion to which the coating liquid is not applied to a traveling base material, Measure the traveling speed, from the traveling speed and the length of the coated portion or uncoated portion, to calculate the area forming time required to form the coated portion or the uncoated portion, Based on the opening / closing speed of the shutter, a movement time required to reach a position where the shutter should move is calculated, and the movement time is compared with the region formation time, and the movement time is calculated based on the region formation time. The application amount of the shutter is corrected when the distance is also large.
【請求項2】 第1凹部を有するドクターブレードと、
前記ドクターブレードに対向して配置されていて、前記
ドクターブレード側に屈曲した第2凹部を有するシャッ
ターとを有しており、前記第1凹部及び前記第2凹部に
塗液を収容して、シャッターの開閉により走行する基材
に対して塗液を塗布する塗工部分と塗液を塗布しない未
塗工部分を交互に形成する塗布装置において、 前記シャッターの開閉を行うためのシャッター駆動部
と、前記シャッターの位置情報を検出するため、前記シ
ャッター駆動部の状態を検出する位置検出部とを有する
シャッター開閉機構と、 走行する前記基材の移動量を検出して、移動量検出信号
を出力するための基材移動量検出部と、 前記移動量検出信号から前記基材の走行速度を測定し
て、前記走行速度と前記塗工部分もしくは前記未塗工部
分の長さから、前記塗工部分もしくは前記未塗工部分を
形成するために必要な領域形成時間を算出するととも
に、前記位置検出部からの前記位置検出信号に基づいて
前記シャッターの移動すべき位置までに必要な移動時間
を算出して、前記領域形成時間よりも前記移動時間が大
きい場合、前記シャッターが移動すべき位置情報を補正
する機能を有する制御部とを有することを特徴とする塗
布装置。
2. A doctor blade having a first recess,
A shutter having a second concave portion which is disposed to face the doctor blade and is bent toward the doctor blade, wherein a coating liquid is contained in the first concave portion and the second concave portion; In a coating device that alternately forms a coating portion that applies a coating liquid to a substrate that travels by opening and closing and an uncoated portion that does not apply a coating liquid, a shutter driving unit for opening and closing the shutter, A shutter opening / closing mechanism having a position detecting unit for detecting a state of the shutter driving unit for detecting position information of the shutter; and detecting a moving amount of the traveling base material and outputting a moving amount detection signal. For the substrate movement amount detection unit for, measuring the traveling speed of the substrate from the movement amount detection signal, from the traveling speed and the length of the coated portion or the uncoated portion, Calculate the area forming time required to form the worked part or the uncoated part, and calculate the moving time required to move the shutter based on the position detection signal from the position detecting unit. And a control unit having a function of correcting position information to be moved by the shutter when the movement time is longer than the region formation time.
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