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JP2001035663A - Organic electroluminescence element display device and its manufacture - Google Patents

Organic electroluminescence element display device and its manufacture

Info

Publication number
JP2001035663A
JP2001035663A JP11212436A JP21243699A JP2001035663A JP 2001035663 A JP2001035663 A JP 2001035663A JP 11212436 A JP11212436 A JP 11212436A JP 21243699 A JP21243699 A JP 21243699A JP 2001035663 A JP2001035663 A JP 2001035663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
organic
metal electrode
display device
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11212436A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Ishizuka
真一 石塚
Masami Tsuchida
正美 土田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP11212436A priority Critical patent/JP2001035663A/en
Publication of JP2001035663A publication Critical patent/JP2001035663A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/127Active-matrix OLED [AMOLED] displays comprising two substrates, e.g. display comprising OLED array and TFT driving circuitry on different substrates
    • H10K59/1275Electrical connections of the two substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Control Of El Displays (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase a numerical aperture and facilitate manufacture by joining a back substrate and a transparent substrate installed on the surface with a field effect transistor in which a driving electrode is connected to a metal electrode stacked on an organic material layer which emits light by injection of an electron or a hole on a transparent electrode of an organic EL element of a matrix-shaped luminescent part on the transparent substrate. SOLUTION: An organic EL element in each color luminescent part of red, green, and blue each having plural picture elements is constituted by stacking a transparent electrode 201 on a display side glass substrate 1; an organic material layer 202 containing at least one layer of light emitting organic EL material layer; and a metal electrode 203. One drain electrode 10D of two FETs arranged on the inner surface of a back glass substrate 21 and constituting a switching circuit together with a capacitor is connected to the metal electrode 203 to be used for driving through a connecting electrode 204. The FET is arranged in the back glass substrate 21 on the opposite side to light taking out direction and a numerical aperture is increased, and the display side glass substrate 1 and the back glass substrate 21 are simply laminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子表示装置に関し、また、電子及び正孔
の注入によって発光する有機化合物材料のエレクトロル
ミネッセンス(以下、ELともいう)を利用したかかる
有機EL材料の薄膜からなる発光層を備えた有機EL素
子、並びに、該スイッチング素子、の複数をマトリクス
状に配置した有機EL素子表示装置パネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device for an organic electroluminescence device, and more particularly, to such an organic EL material utilizing electroluminescence (hereinafter, also referred to as EL) of an organic compound material which emits light by injection of electrons and holes. The present invention relates to an organic EL element provided with a light emitting layer composed of a thin film of the above, and an organic EL element display panel in which a plurality of the switching elements are arranged in a matrix.

【0002】[0002]

【従来の技術】低消費電力及び高表示品質並びに薄型化
が可能なディスプレイとして、有機EL素子の複数をマ
トリクス状に配列して構成される有機EL素子ディスプ
レイが注目されている。図1に示すように、各々の有機
EL素子200は、例えばインジウム錫酸化物いわゆる
ITOからなる透明電極201が形成されたガラス板な
どの透明基板1上に、有機化合物を主成分とする電子注
入層、電子輸送層などの電子輸送機能層や、正孔注入
層、正孔輸送層などの正孔輸送機能層や、発光層などか
らなる少なくとも1層の有機材料層202、及び金属電
極203が積層されたものである。透明電極201の陽
極にプラス、金属電極203の陰極にマイナスの電圧を
加え、すなわち、透明電極及び金属電極間に直流を印加
することにより、有機材料層202の中の発光層が発光
する。
2. Description of the Related Art As a display capable of achieving low power consumption, high display quality, and thinness, an organic EL element display formed by arranging a plurality of organic EL elements in a matrix has attracted attention. As shown in FIG. 1, each organic EL element 200 has an electron injection mainly composed of an organic compound on a transparent substrate 1 such as a glass plate on which a transparent electrode 201 made of indium tin oxide (ITO) is formed. Layer, an electron transporting layer such as an electron transporting layer, a hole transporting layer such as a hole injection layer and a hole transporting layer, at least one organic material layer 202 including a light emitting layer, and a metal electrode 203. They are stacked. When a positive voltage is applied to the anode of the transparent electrode 201 and a negative voltage is applied to the cathode of the metal electrode 203, that is, a direct current is applied between the transparent electrode and the metal electrode, the light emitting layer in the organic material layer 202 emits light.

【0003】有機EL素子において、金属陰極から注入
された電子と透明陽極から発光層へ注入された正孔との
再結合によって励起子が生じ、この励起子が放射失活す
る過程で光を放つ。よって、有機EL素子200は、電
気的には、図2のような等価回路にて表すことができ
る。図から分かるように、有機EL素子は、容量成分C
と、該容量成分に並列に結合する非対称導電性の発光ダ
イオード成分Eとからなる容量性の発光素子であると考
えられる。有機EL素子は、直流の発光駆動電圧が電極
間に印加されると、電荷が容量成分Cに蓄積され、続い
て当該素子固有の障壁電圧または発光閾値電圧を越える
と、透明電極(ダイオード成分Eの陽極側)から発光層
を担う有機材料層に電流が流れ始め、この電流に比例し
た強度で発光する。かかる素子の電圧V−電流I−輝度
Lの特性は、ダイオードの特性に類似しており、発光閾
値Vth以下の電圧では電流Iはきわめて小さく、発光閾
値Vth以上の電圧になると電流Iは急激に増加する特性
である。また、電流Iと輝度Lはほぼ比例する。このよ
うな有機EL素子は、発光閾値Vthを超える駆動電圧を
素子に印加すれば当該駆動電圧に応じた電流に比例した
発光輝度を呈し、印加される駆動電圧が発光閾値Vth以
下であれば駆動電流が流れず発光輝度もゼロのままであ
る。
In an organic EL device, excitons are generated by recombination of electrons injected from a metal cathode and holes injected from a transparent anode into a light-emitting layer, and the excitons emit light in the process of deactivation. . Therefore, the organic EL element 200 can be electrically represented by an equivalent circuit as shown in FIG. As can be seen from the figure, the organic EL element has a capacitance component C
And an asymmetric conductive light-emitting diode component E coupled in parallel with the capacitance component. In the organic EL device, when a direct-current light emission drive voltage is applied between the electrodes, the charge is accumulated in the capacitance component C. When the charge exceeds the barrier voltage or the light emission threshold voltage inherent to the device, the transparent electrode (the diode component E Current starts flowing from the anode side) to the organic material layer serving as the light emitting layer, and emits light with an intensity proportional to the current. The characteristic of the voltage V-current I-luminance L of such an element is similar to the characteristic of the diode. The current I is extremely small at a voltage equal to or lower than the light emission threshold Vth, and rapidly increases at a voltage equal to or higher than the light emission threshold Vth. It is an increasing characteristic. The current I and the luminance L are almost proportional. Such an organic EL element exhibits light emission luminance in proportion to a current corresponding to the drive voltage when a drive voltage exceeding the light emission threshold Vth is applied to the element, and is driven when the drive voltage applied is equal to or lower than the light emission threshold Vth. No current flows and the emission luminance remains zero.

【0004】有機EL素子表示装置は、交差している行
と列において配置されたいわゆるマトリクス状に配置さ
れた複数の発光画素すなわち有機EL素子からなる画像
表示配列を有している発光装置である。この有機EL素
子表示装置の駆動方法の一例には、単純マトリクス駆動
方式と呼ばれるものがある。単純マトリクス駆動方式の
表示装置は、複数の陽極線と陰極線とをマトリクス(格
子)状に配置し、このマトリクス状に配置した陽極線と
陰極線の各交点位置毎に有機EL素子を接続し、この陽
極線と陰極線のいずれか一方を一定の時間間隔で順次選
択して走査すると共に、この走査に同期して他方の線を
駆動源で駆動することにより、任意の交点位置の有機E
L素子を発光させるようにしたものである。この方式で
はアクセス時間だけ各有機EL素子が点灯するので大型
画面にするには、大電流及び高電圧が必要となる。
An organic EL element display device is a light emitting device having an image display array composed of a plurality of light emitting pixels arranged in a so-called matrix arranged in intersecting rows and columns, that is, organic EL elements. . As an example of a driving method of the organic EL element display device, there is a method called a simple matrix driving method. The display device of the simple matrix drive system arranges a plurality of anode lines and cathode lines in a matrix (lattice), and connects an organic EL element at each intersection of the anode lines and the cathode lines arranged in the matrix. One of the anode line and the cathode line is sequentially selected and scanned at a predetermined time interval, and the other line is driven by a drive source in synchronization with the scanning, so that the organic E at an arbitrary intersection position is obtained.
This is to make the L element emit light. In this method, since each organic EL element is turned on only for the access time, a large current and a high voltage are required to make a large screen.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】表示装置の大型画面化
には、単純マトリクス駆動方式の有機EL素子表示装置
の他に、アクティブマトリクス駆動方式のものが考えら
れる。これは、上記の陽極線及び陰極線を走査信号ライ
ン及びデータ信号ラインに置き換え各交点位置毎にスイ
ッチング素子に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Trans
istor)を用いてスイッチングによって画素毎に電流を供
給して有機EL素子を発光させるようにしたものであ
る。TFTにはp−Si、a−Siからなる素子や、金
属酸化膜半導体型電界効果トランジスタいわゆるMOS
−FET(Metal Oxide SemiconductorField Effect Tra
nsistor)(以下、FETともいう)が採用され得る。例
えば、MOS−FETは、半導体例えばSi基板上に2
つの反転伝導領域を形成し、該反転伝導領域間の基板表
面上に酸化物SiO2薄膜、金属ゲート電極を順に設
け、金属ゲートから印加される電界により、基板表面の
伝導性を制御するものである。
In order to increase the size of the screen of the display device, in addition to the organic EL device display device of the simple matrix drive system, an active matrix drive system can be considered. This is because the above-described anode line and cathode line are replaced with scanning signal lines and data signal lines, and a thin film transistor (TFT: Thin Film Trans
The organic EL element emits light by supplying a current to each pixel by switching using an istor). TFTs include elements made of p-Si and a-Si, metal oxide semiconductor field effect transistors, so-called MOS transistors.
−FET (Metal Oxide SemiconductorField Effect Tra
nsistor) (hereinafter also referred to as FET). For example, a MOS-FET is formed on a semiconductor such as a Si substrate.
Forming two inversion conduction regions, sequentially providing an oxide SiO 2 thin film and a metal gate electrode on the substrate surface between the inversion conduction regions, and controlling the conductivity of the substrate surface by an electric field applied from the metal gate. is there.

【0006】N型FETを駆動用トランジスタに用い、
同一基板の画素の発光領域内に有機EL素子とFETが
並んで配置されるアクティブ駆動有機EL素子表示装置
パネルが特開平10−161563に記載されている。
かかるパネルでは、発光領域におけるFETの占める面
積が大きいのでパネルの開口率を下げる欠点がある。そ
こで、本発明の目的は、発光領域内の有機EL素子の開
口率の高い有機EL素子表示装置を提供することにあ
る。
Using an N-type FET as a driving transistor,
JP-A-10-161563 describes an active driving organic EL element display panel in which an organic EL element and an FET are arranged side by side in a light emitting region of a pixel on the same substrate.
In such a panel, since the area occupied by the FET in the light emitting region is large, there is a disadvantage that the aperture ratio of the panel is reduced. Therefore, an object of the present invention is to provide an organic EL element display device having a high aperture ratio of an organic EL element in a light emitting region.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子表示装置は、透明基板上に複数の発
光部がマトリクス状に配置された表示配列を有し、前記
発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子を含
み、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明
基板上に形成された透明電極と前記透明電極上に形成さ
れ少くとも1層の電子及び又は正孔の注入によって発光
する有機エレクトロルミネッセンス材料層を含む有機材
料層と前記有機材料層上に形成された金属電極とからな
る、有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置であっ
て、各々が前記有機エレクトロルミネッセンス素子を駆
動せしめる電界効果トランジスタの複数が前記表示配列
に対応して表面上に配置された背面基板を有し、前記電
界効果トランジスタの駆動用電極が前記金属電極に接続
されるように前記背面基板及び前記透明基板を接合する
ことを特徴とする。
The organic electroluminescence element display device of the present invention has a display arrangement in which a plurality of light emitting portions are arranged in a matrix on a transparent substrate, and each of the light emitting portions is formed of an organic electroluminescent device. The organic electroluminescent element includes a transparent electrode formed on the transparent substrate, and at least one layer of an organic electroluminescent material layer formed on the transparent electrode and emitting light by injection of electrons and / or holes. An organic electroluminescence element display device comprising an organic material layer and a metal electrode formed on the organic material layer, wherein a plurality of field effect transistors each driving the organic electroluminescence element correspond to the display arrangement. A rear substrate disposed on the surface, and Driving electrodes is characterized in that bonding the rear substrate and said transparent substrate so as to be connected to the metal electrode.

【0008】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記電界効果トランジスタの駆
動用電極は前記金属電極へ向かう接続用金属電極を有
し、前記接続用金属電極が前記金属電極に当接すること
を特徴とする。本発明の有機エレクトロルミネッセンス
素子表示装置においては、前記電界効果トランジスタが
前記有機エレクトロルミネッセンス素子へ電子を供給し
てこれを駆動せしめるN型電界効果トランジスタであ
り、その駆動用電極がドレイン電極であることを特徴と
する。
In the organic electroluminescence device display device according to the present invention, the driving electrode of the field effect transistor has a connecting metal electrode directed to the metal electrode, and the connecting metal electrode is in contact with the metal electrode. It is characterized by. In the organic electroluminescence element display device of the present invention, the field effect transistor is an N-type field effect transistor that supplies electrons to the organic electroluminescence element and drives the organic electroluminescence element, and the driving electrode is a drain electrode. It is characterized by.

【0009】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記金属電極と前記接続用金属
電極が同一材料からなることを特徴とする。本発明の有
機エレクトロルミネッセンス素子表示装置においては、
前記透明電極が複数の前記発光部を占める共通な連続層
として形成されたことを特徴とする。
In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the metal electrode and the connection metal electrode are made of the same material. In the organic electroluminescence element display device of the present invention,
The transparent electrode is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting units.

【0010】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記有機材料層が複数の前記発
光部を占める共通な連続層として形成されたことを特徴
とする。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置においては、前記接続用金属電極が突出部を有す
ることを特徴とする。
[0010] In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the organic material layer is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions. In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the connection metal electrode has a protrusion.

【0011】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記金属電極が突出部を有する
ことを特徴とする。本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子表示装置においては、前記透明基板の各発光部
の領域内の一部に絶縁物突出部を形成し、前記金属電極
の前記突出部は前記絶縁物突出部に対応して形成される
ことを特徴とする。
In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the metal electrode has a projection. In the organic electroluminescence element display device of the present invention, an insulator protrusion is formed in a part of the transparent substrate in a region of each light emitting unit, and the protrusion of the metal electrode corresponds to the insulator protrusion. It is characterized by being formed.

【0012】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記金属電極が突出部のみを露
出させる開口絶縁膜を有することを特徴とする。本発明
の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置において
は、隣り合う前記発光部における前記N型電界効果トラ
ンジスタ同士が隣接しかつ前記有機エレクトロルミネッ
センス素子同士が隣接することを特徴とする。
[0012] In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the metal electrode has an opening insulating film exposing only the protruding portion. In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting units are adjacent to each other, and the organic electroluminescence elements are adjacent to each other.

【0013】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記N型電界効果トランジスタ
のソース電極が電子供給側に接続され、そのドレイン電
極が前記金属電極に接続されることを特徴とする。本発
明の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置におい
ては、前記背面基板上に形成されかつ前記N型電界効果
トランジスタのゲート電極に接続されたアドレス用電界
効果トランジスタが設けられことを特徴とする。
In the organic electroluminescence device display device according to the present invention, a source electrode of the N-type field effect transistor is connected to an electron supply side, and a drain electrode thereof is connected to the metal electrode. In the organic electroluminescence device display device according to the present invention, an address field effect transistor formed on the back substrate and connected to a gate electrode of the N type field effect transistor is provided.

【0014】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記背面基板上に形成されかつ
前記N型電界効果トランジスタのゲート電極に接続され
たコンデンサを有することを特徴とする。本発明の有機
エレクトロルミネッセンス素子表示装置においては、前
記N型電界効果トランジスタのゲート電極及びソース電
極を覆うとともに、N型電界効果トランジスタのドレイ
ン電極のみを露出する開口を有する絶縁膜が設けられた
ことを特徴とする。
In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the organic electroluminescence device display device further comprises a capacitor formed on the back substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor. In the organic electroluminescence element display device of the present invention, an insulating film that covers the gate electrode and the source electrode of the N-type field effect transistor and has an opening exposing only the drain electrode of the N-type field effect transistor is provided. It is characterized by.

【0015】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、隣り合う前記発光部における前
記N型電界効果トランジスタ同士は、共通カソードライ
ンを中心に対称的に配置されていることを特徴とする。
また、本発明の製造方法においては、透明基板上に複数
の発光部がマトリクス状に配置された表示配列を有し、
前記発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子
を含み、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記
透明基板上に形成された透明電極と前記透明電極上に形
成され少くとも1層の電子及び又は正孔の注入によって
発光する有機エレクトロルミネッセンス材料層を含む有
機材料層と前記有機材料層上に形成された金属電極とか
らなる、有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置の
製造方法であって、複数の発光部に対応して透明基板上
に透明電極、有機材料層及び金属電極を順に積層して複
数の有機エレクトロルミネッセンス素子を形成し、少な
くとも前記金属電極の一部を露出させる有機エレクトロ
ルミネッセンス素子側基板形成工程と、前記複数の発光
部に対応して背面基板上に複数の電界効果トランジスタ
を形成する電界効果トランジスタ側基板形成工程と、前
記電界効果トランジスタの駆動用電極が前記金属電極に
接続されるように前記背面基板及び前記透明基板を接合
する貼合工程と、を含むことを特徴とする。
In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting portions are symmetrically arranged about a common cathode line.
Further, in the manufacturing method of the present invention, a display arrangement in which a plurality of light emitting units are arranged in a matrix on a transparent substrate,
Each of the light emitting units includes an organic electroluminescent element, and the organic electroluminescent element is formed on the transparent electrode formed on the transparent substrate and on the transparent electrode by injection of at least one layer of electrons and / or holes. A method for manufacturing an organic electroluminescent element display device, comprising: an organic material layer including a light emitting organic electroluminescent material layer; and a metal electrode formed on the organic material layer. Forming a plurality of organic electroluminescent elements by sequentially laminating a transparent electrode, an organic material layer, and a metal electrode on a substrate, an organic electroluminescent element side substrate forming step of exposing at least a part of the metal electrode, and Field effect to form multiple field effect transistors on the back substrate corresponding to the light emitting part A transistor side substrate forming step, the driving electrodes of the field effect transistor is characterized in that it comprises a and a bonding step of bonding the rear substrate and said transparent substrate so as to be connected to the metal electrode.

【0016】上記有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法における前記電界効果トランジスタ側
基板形成工程において、前記電界効果トランジスタの駆
動用電極に接続された前記金属電極へ向かう接続用金属
電極形成し、前記貼合工程において、前記接続用金属電
極及び前記金属電極を当接することを特徴とする。上記
有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置の製造方法
における前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板
形成工程において、前記透明電極を、複数の前記発光部
を占める共通な連続層として形成することを特徴とす
る。
In the step of forming the substrate on the field-effect transistor side in the method of manufacturing the organic electroluminescence element display device, a metal electrode for connection to the metal electrode connected to the driving electrode of the field-effect transistor is formed. In the combining step, the connection metal electrode and the metal electrode are brought into contact with each other. In the organic electroluminescence element side substrate forming step in the method of manufacturing an organic electroluminescence element display device, the transparent electrode is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions.

【0017】上記有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法における前記有機エレクトロルミネッ
センス素子側基板形成工程において、前記有機材料層
を、複数の前記発光部を占める共通な連続層として形成
することを特徴とする。上記有機エレクトロルミネッセ
ンス素子表示装置の製造方法における前記有機エレクト
ロルミネッセンス素子側基板形成工程において、前記金
属電極に突出部を形成することを特徴とする。
In the organic electroluminescent element display device manufacturing method, in the organic electroluminescent element side substrate forming step, the organic material layer is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions. . In the organic electroluminescence element display device manufacturing method, in the organic electroluminescence element side substrate forming step, a protrusion is formed on the metal electrode.

【0018】上記有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法における前記電界効果トランジスタ側
基板形成工程において、前記金属電極の突出部のみを通
過させる開口を有する絶縁膜を前記接続用金属電極上に
形成することを特徴とする。上記有機エレクトロルミネ
ッセンス素子表示装置の製造方法における前記電界効果
トランジスタ側基板形成工程において、前記接続用金属
電極に突出部を形成することを特徴とする。
In the step of forming a field effect transistor side substrate in the method of manufacturing an organic electroluminescence element display device, an insulating film having an opening through which only the protruding portion of the metal electrode passes is formed on the connection metal electrode. It is characterized by. In the method for manufacturing an organic electroluminescence element display device, in the step of forming the substrate on the side of the field effect transistor, a protrusion is formed on the connection metal electrode.

【0019】上記有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法における前記有機エレクトロルミネッ
センス素子側基板形成工程において、前記接続用金属電
極の突出部のみを通過させる開口を有する絶縁膜を前記
金属電極上に形成することを特徴とする。
In the organic electroluminescence element side substrate forming step in the method of manufacturing an organic electroluminescence element display device, an insulating film having an opening through which only the protruding portion of the connection metal electrode passes is formed on the metal electrode. It is characterized by the following.

【0020】[0020]

【作用】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置によれば、有機EL素子の光取り出し方向の反対
側すなわち背面にFETを配置してパネルの開口率を向
上でき、高輝度の表示装置が実現できる。さらに、表示
側有機EL素子基板と背面側FET基板との簡易な貼り
合わせ工程によって、アクティブマトリクス駆動方式に
よる有機EL素子表示装置が製造できる。
According to the display device of the present invention, the aperture ratio of the panel can be improved by disposing the FET on the side opposite to the light extraction direction of the organic EL device, that is, on the back surface, and a display device with high luminance can be realized. . Furthermore, an organic EL element display device using an active matrix driving method can be manufactured by a simple bonding process of the display-side organic EL element substrate and the back-side FET substrate.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、本発明による実施例を図
面を参照しつつ説明する。図3に、アクティブマトリク
ス駆動方式による実施例の有機EL素子表示装置におけ
る表示パネルの一部を示す。この表示パネル109は、
透明な表示基板上に、マトリクス状に配置されかつ各々
が赤色R、緑色G及び青色Bの3つの発光部(有機EL
素子)からなる発光画素111の複数からなる画像表示
配列を有している。画素1つの発光部当たり、2個のF
ET10、11及びコンデンサ300からなるスイッチ
ング回路と、有機EL素子200とから構成される。こ
のような発光部組合せユニットが各画素ごとに全画素数
の数だけ集積され、マトリクス状に配置された複数の発
光画素からなる画像表示配列の有機EL素子表示装置の
表示側の基板が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 shows a part of a display panel in an organic EL element display device according to an embodiment using an active matrix driving method. This display panel 109
On a transparent display substrate, three light-emitting portions (organic EL devices) arranged in a matrix and each of which has a red R, a green G, and a blue B
(Image display array) composed of a plurality of light-emitting pixels 111 composed of elements. Two F per light emitting part per pixel
The organic EL device 200 includes a switching circuit including the ETs 10 and 11 and the capacitor 300, and the organic EL element 200. Such a light emitting unit combination unit is integrated by the number of all pixels for each pixel, and a display-side substrate of an organic EL element display device having an image display array including a plurality of light emitting pixels arranged in a matrix is formed. ing.

【0022】この有機EL素子表示装置のガラス表示基
板上には、有機EL素子200及びコンデンサ300を
挟んで平行に伸長する共通カソードライン12及びデー
タ信号ライン13が交互に設けられ、さらにこれらライ
ンから電気的に離間して直交する位置に配列され伸長す
る共通アノードライン15及び走査信号ライン16が設
けられている。データ信号ライン13へのRGB信号に
応じて走査信号ライン16を順次走査して、交点画素の
有機EL素子200を選択発光させる。
On the glass display substrate of this organic EL element display device, a common cathode line 12 and a data signal line 13 extending in parallel with an organic EL element 200 and a capacitor 300 interposed therebetween are alternately provided. A common anode line 15 and a scanning signal line 16 are provided, which are electrically separated and orthogonally arranged and extend. The scanning signal line 16 is sequentially scanned in accordance with the RGB signals to the data signal line 13 to selectively emit light from the organic EL element 200 at the intersection pixel.

【0023】図4は図3に示す実施例に表示パネルの4
つの発光部の回路構成を示す。アドレス用のFET11
のゲートGは、走査回路からの行を走査する走査信号が
供給される走査信号ライン16に接続され、一方、FE
T11のソースSは、フレームメモリのデータに対応し
た書込み回路からの信号が供給されるデータ信号ライン
13に接続されている。
FIG. 4 shows the embodiment of the display panel shown in FIG.
2 shows a circuit configuration of one light emitting unit. FET 11 for address
Is connected to a scanning signal line 16 to which a scanning signal for scanning a row from the scanning circuit is supplied.
The source S of T11 is connected to a data signal line 13 to which a signal from a write circuit corresponding to data in the frame memory is supplied.

【0024】アドレス用FET11のドレインDは、有
機EL素子を駆動する駆動用のN型FET10のゲート
G及びコンデンサ300に接続され、コンデンサ300
を通じて共通カソードライン12に接続されている。有
機EL素子を駆動するN型FET10のソースSは共通
カソードライン12に接続され、FET11のドレイン
Dは有機EL素子200のAl等の金属陰極に接続さ
れ、一方、有機EL素子200のITO陽極すなわち透
明電極を通じて共通アノードライン15に接続されてい
る。FET10のゲートGもコンデンサ300を介して
共通カソードライン12に接続されている。共通カソー
ドライン12及び共通アノードライン15は電源回路に
接続されそれぞれ制御される。
The drain D of the addressing FET 11 is connected to the gate G and the capacitor 300 of the driving N-type FET 10 for driving the organic EL element.
To the common cathode line 12 via The source S of the N-type FET 10 for driving the organic EL element is connected to the common cathode line 12, and the drain D of the FET 11 is connected to the metal cathode such as Al of the organic EL element 200, while the ITO anode of the organic EL element 200, It is connected to a common anode line 15 through a transparent electrode. The gate G of the FET 10 is also connected to the common cathode line 12 via the capacitor 300. The common cathode line 12 and the common anode line 15 are connected to a power supply circuit and controlled respectively.

【0025】このような回路が行及び列に複数配列され
た表示パネル109の単位画素の発光制御動作は、つぎ
の通りである。FET11のゲートGに走査信号ライン
16からオン電圧が供給されると、FET11はソース
Sに供給されるデータの電圧がドレインDへ伝達され
る。FET11のゲートGにオフ電圧が供給されるとF
ET11はカットオフとなり、ソースSに供給されるデ
ータの電圧はドレインに伝達されない。
The light emission control operation of the unit pixel of the display panel 109 in which a plurality of such circuits are arranged in rows and columns is as follows. When an ON voltage is supplied to the gate G of the FET 11 from the scanning signal line 16, the voltage of the data supplied to the source S of the FET 11 is transmitted to the drain D. When an off voltage is supplied to the gate G of the FET 11, F
ET11 is cut off, and the voltage of the data supplied to the source S is not transmitted to the drain.

【0026】従って、FET11のゲートGがオン電圧
の期間に、ソースSの電圧がコンデンサ300に充電さ
れ、その電圧がFET10のゲートGに供給される。F
ET10は導通状態となり、そのゲート電圧と電源回路
から共通アノードライン15及び有機EL素子200を
通じてドレインDにかかる電圧とに基づき電流がドレイ
ンDからソースSへ流れ、有機EL素子200を対応輝
度で発光せしめる。
Therefore, while the gate G of the FET 11 is in the ON voltage, the voltage of the source S is charged in the capacitor 300, and the voltage is supplied to the gate G of the FET 10. F
The ET 10 becomes conductive, and a current flows from the drain D to the source S based on the gate voltage and the voltage applied from the power supply circuit to the drain D through the common anode line 15 and the organic EL element 200, and the organic EL element 200 emits light with the corresponding luminance. Let me know.

【0027】FET11のゲートGがオフ電圧になる
と、FET11は閉塞状態となり、FET10はコンデ
ンサ300に蓄積された電荷によりゲートGの電圧が保
持され、所定時間電流を維持し、有機EL素子200の
発光も維持される。図5に示すように、発光部の有機E
L素子200は表示側の透明基板1上に形成された透明
電極201と透明電極上に形成され少くとも1層の電子
及び又は正孔の注入によって発光する有機エレクトロル
ミネッセンス材料層を含む有機材料層202と有機材料
層上に形成された金属電極203とからなる。有機EL
素子表示装置は、表示側の透明基板1の背面に背面基板
21を有しており、その内面に有機EL素子200を駆
動せしめる電界効果トランジスタ10を含むスイッチン
グ回路が表示配列に対応して配置されている。背面基板
21及び表示側透明基板1は、電界効果トランジスタ1
0の駆動用電極すなわちドレイン電極10Dが対応する
有機EL素子の金属電極203に接続されるように接合
されている。図5に示すように、電界効果トランジスタ
のドレイン電極10Dは接続用金属電極204に接続さ
れ、この接続用金属電極204が金属電極203に当接
するようになっている。また、金属電極203と接続用
金属電極204は同一材料からなる。
When the gate G of the FET 11 is turned off, the FET 11 is closed, the voltage of the gate G is held by the electric charge accumulated in the capacitor 300, the current is maintained for a predetermined time, and the light emission of the organic EL element 200 is performed. Is also maintained. As shown in FIG.
The L element 200 includes an organic material layer including a transparent electrode 201 formed on the display-side transparent substrate 1 and at least one organic electroluminescent material layer formed on the transparent electrode and emitting light by injection of electrons and / or holes. 202 and a metal electrode 203 formed on the organic material layer. Organic EL
The element display device has a rear substrate 21 on the rear surface of the transparent substrate 1 on the display side, and a switching circuit including a field effect transistor 10 for driving the organic EL element 200 is arranged on the inner surface thereof in correspondence with the display arrangement. ing. The rear substrate 21 and the display side transparent substrate 1 are
The driving electrode of 0, that is, the drain electrode 10D is joined so as to be connected to the metal electrode 203 of the corresponding organic EL element. As shown in FIG. 5, the drain electrode 10D of the field-effect transistor is connected to the connection metal electrode 204, and the connection metal electrode 204 is in contact with the metal electrode 203. The metal electrode 203 and the connection metal electrode 204 are made of the same material.

【0028】次に、有機EL素子表示装置のモノクロ表
示パネル109の製造工程を説明する。 (1) 図6〜図12に示すように、表示側の透明基板
1上すなわち内面となる面にITO電極と各種ラインを
形成しその上に絶縁膜を形成して有機EL素子側基板を
作製する。
Next, a process of manufacturing the monochrome display panel 109 of the organic EL element display device will be described. (1) As shown in FIGS. 6 to 12, an ITO electrode and various lines are formed on the transparent substrate 1 on the display side, that is, on an inner surface, and an insulating film is formed thereon to produce an organic EL element side substrate. I do.

【0029】まず、図7に示すように、後述する金属電
極に突出部を形成するためにSiO 2などの透過性を有
する絶縁材料からなる絶縁物突出部50を表示側のガラ
ス基板1上の発光部となるべき領域の中央に形成する。
すなわち後述する背面側基板との貼り合わせを良くする
ため絶縁物突出部50を設けるのである。絶縁物突出部
50は接続領域内に1つだけでなく複数設けることがで
きる。さらに、ガラス基板1上にてAlなどの低い抵抗
率の金属からなる共通アノードライン15すなわちバス
ラインも絶縁物突出部50の周りに離間して成膜する。
図6に示すように、共通アノードライン15は発光部の
開口となる部分を画定すなわち発光領域を区画するため
に、格子編み目状に形成する。
First, as shown in FIG.
SiO to form protrusions on the poles TwoEtc.
The insulating protrusion 50 made of insulating material to be
It is formed at the center of a region to be a light emitting portion on the substrate 1.
That is, the lamination with the back side substrate described later is improved.
Therefore, the insulator protrusion 50 is provided. Insulation protrusion
50 can be provided not only one but also a plurality in the connection area.
Wear. Furthermore, low resistance such as Al on the glass substrate 1
Anode line 15 or bus made of metal
The lines are also formed separately around the insulator protrusions 50.
As shown in FIG. 6, the common anode line 15 is
To define the opening, that is, to define the light emitting area
To form a lattice stitch.

【0030】次に図6に示すように、ガラス基板1上の
絶縁物突出部50及び共通アノードライン15上に、I
TOからなる透明電極(陽極)201を連続的に一様に
成膜する。これにより共通アノードライン15により仕
切られたマトリクス状開口部から見えるITO陽極が形
成される。この有機EL素子表示装置においては、有機
EL素子のITO透明電極(陽極)201はバスライン
の共通アノードライン15に共通に接続される。
Next, as shown in FIG. 6, the insulating protrusion 50 on the glass substrate 1 and the common anode line 15
A transparent electrode (anode) 201 made of TO is continuously and uniformly formed. As a result, an ITO anode that can be seen from the matrix-shaped openings partitioned by the common anode line 15 is formed. In this organic EL element display device, an ITO transparent electrode (anode) 201 of the organic EL element is commonly connected to a common anode line 15 of a bus line.

【0031】また、図8に示すように、共通アノードラ
イン15はガラス基板1上ではなくITO陽極201上
に成膜することもできる。図示しないが、絶縁物突出部
50もガラス基板1上に代えてITO陽極201上に部
分的に膜厚を変えて成膜することもできる。次に、図9
に示すように、絶縁層31をITO陽極201上に共通
アノードライン15上に沿って格子枠状に成膜する。
As shown in FIG. 8, the common anode line 15 can be formed not on the glass substrate 1 but on the ITO anode 201. Although not shown, the insulator protruding portion 50 can also be formed on the ITO anode 201 with a partial thickness change instead of the glass substrate 1. Next, FIG.
As shown in (1), an insulating layer 31 is formed on the ITO anode 201 along the common anode line 15 in a lattice frame shape.

【0032】次に、図10に示すように、絶縁層31及
びITO陽極201上に各有機材料層を順に成膜する。
すなわち、陽極の透明電極201上に正孔注入層、正孔
輸送層、有機発光層、電子注入層を順に成膜し有機材料
層202を連続的に一様に形成する。ここで、カラー表
示パネルとするために透明電極201に対応する上に開
口が位置する所定の成膜用マスクを用い、R、G及びB
の発光有機EL媒体をそれぞれの組で所定膜厚にマスク
蒸着により、独立して成膜することもできる。
Next, as shown in FIG. 10, organic material layers are sequentially formed on the insulating layer 31 and the ITO anode 201.
That is, a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer are sequentially formed on the anode transparent electrode 201, and the organic material layer 202 is formed continuously and uniformly. Here, in order to form a color display panel, R, G, and B are used by using a predetermined film forming mask in which an opening is located above the transparent electrode 201.
The light emitting organic EL media described above can be independently formed into a film having a predetermined thickness in each group by mask vapor deposition.

【0033】次に、有機材料層形成の後、図11に示す
ように、Al−Li等の低仕事関数の金属を、成膜され
た有機材料層202の開口に対応する部分上にマスク蒸
着、あるいはスパッタ等の手段を用いて島状の陰極の金
属電極203として独立して成膜する。このマトリクス
状にパターン分割され配列された金属電極203の膜厚
は支障のない限り厚く被着させても構わない。ガラス基
板1上の絶縁物突出部50に対応する部分が金属電極2
03の突出部となる。金属電極203の突出部が電気的
接続領域となる。
Next, after forming the organic material layer, as shown in FIG. 11, a metal having a low work function such as Al-Li is vapor-deposited on a portion corresponding to the opening of the formed organic material layer 202 by a mask. Alternatively, a film is independently formed as the island-shaped cathode metal electrode 203 using a means such as sputtering. The thickness of the metal electrodes 203 which are divided and arranged in the form of a matrix may be thick as long as there is no problem. The portion corresponding to the insulator protrusion 50 on the glass substrate 1 is the metal electrode 2
03 projection. The protruding portion of the metal electrode 203 becomes an electrical connection region.

【0034】このようにして図12に示す有機EL素子
側基板を作製する。なお、ここでは表示側の基板の金属
電極に突出部を設けているが、反対に背面側の基板の接
続用金属電極204に突出部を設けてよい。この場合、
図13に示すように、突起のない平坦な金属電極203
上に、背面側基板の接続用金属電極204の突出部に対
応しこれを通過させる電気的接続領域を決める開口を有
した絶縁膜32を設ける。背面側基板の電極突出部を除
く金属電極203及び有機材料層202との絶縁を確保
するためである。絶縁膜32の開口から露出する金属電
極203の部分が電気的接続領域となる。
Thus, the organic EL element side substrate shown in FIG. 12 is manufactured. Here, the protruding portion is provided on the metal electrode of the display-side substrate. However, the protruding portion may be provided on the connecting metal electrode 204 of the rear-side substrate. in this case,
As shown in FIG. 13, a flat metal electrode 203 without protrusions
An insulating film 32 having an opening corresponding to the protruding portion of the connecting metal electrode 204 on the rear-side substrate and defining an electrical connection region through which the protruding metal electrode 204 passes is provided thereon. This is to ensure insulation between the metal electrode 203 and the organic material layer 202 except for the electrode protrusions on the rear substrate. The portion of the metal electrode 203 exposed from the opening of the insulating film 32 becomes an electrical connection region.

【0035】(2)次に、FET側基板を作製する。 図14に示すように、背面側の基板21上に、それぞれ
Alなどの低い抵抗率の金属を用いて、下層のアドレス
用FET11のゲート電極11G付きの走査信号ライン
16を成膜し、これらと同時にコンデンサ300の一方
の電極301とこれに接続される駆動用FET10のゲ
ート電極10Gも成膜する。
(2) Next, an FET-side substrate is manufactured. As shown in FIG. 14, a scanning signal line 16 with a gate electrode 11G of a lower addressing FET 11 is formed on a rear substrate 21 using a metal having a low resistivity such as Al. At the same time, one electrode 301 of the capacitor 300 and the gate electrode 10G of the driving FET 10 connected thereto are also formed.

【0036】各導電部を備えている背面基板21の上
に、走査信号ライン16を他の配線から絶縁させるため
にSiO2絶縁材料の絶縁層33を成膜する。絶縁層3
3は配線の絶縁機能の他に、FET10、11の酸化物
SiO2薄膜として機能しかつ、コンデンサ300の誘
電体として機能する。また絶縁層33にはFET11の
ドレイン電極11D用のコンタクトホールCHが形成さ
れている。
An insulating layer 33 made of a SiO 2 insulating material is formed on the rear substrate 21 provided with the respective conductive portions to insulate the scanning signal lines 16 from other wirings. Insulating layer 3
Reference numeral 3 functions as an oxide SiO 2 thin film of the FETs 10 and 11 and also functions as a dielectric of the capacitor 300, in addition to a wiring insulating function. In the insulating layer 33, a contact hole CH for the drain electrode 11D of the FET 11 is formed.

【0037】つぎに、TFT11(アドレス用TFT)
TFT10(駆動用FET)などのスイッチング回路を
形成する。図15に示すように、絶縁層33上にFET
10、11のための所定位置に、それぞれアモルファス
シリコン層(a−Si)及びN型不純物をドープしアモ
ルファスシリコン層(n+−a−Si)を成膜して、そ
の後、所定マスクを用いたエッチングを行い、それぞれ
のFETのチャネル部を形成してFET領域10a、1
1aを形成する。ここで駆動用FET10はN型とする
がアドレス用のFET11はN型でもP型でもよい。こ
のようにして、絶縁層33上のFET領域10a、11
aの所定位置にソース及びドレイン電極10S,10
D,11Dを成膜する。ソース電極10Sは隣接するF
ET10用のFET領域10aを接続するように、ドレ
イン電極10Dは有機EL素子200の透明電極201
に対向するように、形成される。FET11のドレイン
電極11Dはコンデンサ及びドレイン接続用のコンタク
トホールを介してFET領域11aへ掛け渡されてい
る。
Next, the TFT 11 (TFT for address)
A switching circuit such as a TFT 10 (drive FET) is formed. As shown in FIG.
An amorphous silicon layer (a-Si) and an amorphous silicon layer (n + -a-Si) were formed by doping with N-type impurities at predetermined positions for 10 and 11, respectively, and then a predetermined mask was used. Etching is performed to form channel portions of the respective FETs, and the FET regions 10a,
1a is formed. Here, the driving FET 10 is an N-type, but the addressing FET 11 may be an N-type or a P-type. Thus, the FET regions 10a, 11a on the insulating layer 33
a, the source and drain electrodes 10S, 10
D and 11D are formed. The source electrode 10S is connected to the adjacent F
The drain electrode 10D is connected to the transparent electrode 201 of the organic EL element 200 so as to connect the FET region 10a for ET10.
It is formed so that it may face. The drain electrode 11D of the FET 11 is extended to the FET region 11a via a contact hole for connecting a capacitor and a drain.

【0038】次に、図15に示すように、走査信号ライ
ン16に交差するように、絶縁層33上にFET11の
ソース11Sと一体となったデータ信号ライン13を形
成する。ソース11Sはドレイン11Dの反対側であ
る。同様に、走査信号ライン16に交差するように絶縁
層33上に共通カソードライン12を形成する。共通カ
ソードライン12は、これに接続される駆動用FET1
0のソース電極10Sと接続するように、同時にコンデ
ンサ300の他方の電極302と接続するように、一体
的に成膜する。
Next, as shown in FIG. 15, the data signal line 13 integrated with the source 11S of the FET 11 is formed on the insulating layer 33 so as to cross the scanning signal line 16. The source 11S is on the opposite side of the drain 11D. Similarly, the common cathode line 12 is formed on the insulating layer 33 so as to cross the scanning signal line 16. The common cathode line 12 is connected to the driving FET 1 connected thereto.
The film is integrally formed so as to be connected to the 0 source electrode 10S and at the same time to be connected to the other electrode 302 of the capacitor 300.

【0039】なお、この実施例では表示側基板の金属電
極に突出部を設けているが、反対に背面側基板の接続用
電極に突出部を設ける場合、図15の2点鎖線に示す金
属または絶縁突出部51を絶縁膜33上の表示側基板の
金属電極に対応する部分に設けることができる。次に、
コンデンサ及び接続ラインを含むスイッチング回路を形
成した後に、表示側の金属電極と接続するための接続用
金属電極をドレイン10Dへ接続すべく形成する。すな
わち、図16に示すように、駆動用FET10のドレイ
ン電極10Dを露出させる開口を有した開口絶縁層34
をスイッチング回路上に成膜する。
In this embodiment, the protruding portion is provided on the metal electrode of the display-side substrate. On the contrary, when the protruding portion is provided on the connection electrode of the back-side substrate, the metal or metal shown by the two-dot chain line in FIG. The insulating protrusion 51 can be provided on a portion of the insulating film 33 corresponding to the metal electrode of the display-side substrate. next,
After forming a switching circuit including a capacitor and a connection line, a connection metal electrode for connecting to a display-side metal electrode is formed to be connected to the drain 10D. That is, as shown in FIG. 16, the opening insulating layer 34 having an opening exposing the drain electrode 10D of the driving FET 10
Is formed on the switching circuit.

【0040】次に、図17に示すように、ドレイン10
Dのみを露出する絶縁膜34の開口に接続用金属電極2
04をマスク蒸着で形成して、ドレイン10Dへ接続し
た接続用金属電極204を接続する。次に、図18及び
図19に示すように、接続用金属電極204上に、さら
に開口を有する絶縁膜35を形成して、かかる開口が表
示側基板の金属電極203と背面側基板の接続用金属電
極204との接続領域を決定する。
Next, as shown in FIG.
The connection metal electrode 2 is formed in the opening of the insulating film 34 exposing only D.
04 is formed by mask evaporation, and the connection metal electrode 204 connected to the drain 10D is connected. Next, as shown in FIGS. 18 and 19, an insulating film 35 having an opening is further formed on the connecting metal electrode 204, and the opening is used to connect the metal electrode 203 of the display side substrate to the back side substrate. A connection region with the metal electrode 204 is determined.

【0041】次に、貼り合わせ工程として金属電極20
3と接続用金属電極204との接続領域を位置合わせし
て表示側及び背面側基板を貼り合わせ、加熱して融合し
て接合する。このように、図5に示す有機EL素子表示
装置を作製する。また、貼り合わせ金属電極203と接
続用金属電極204とが接触した状態で、内部を排気し
て両基板周囲を封止してもよい。
Next, as a bonding step, a metal electrode 20 is formed.
The display area and the back side substrate are attached to each other by aligning the connection area between the third metal electrode 3 and the connection metal electrode 204, and are bonded together by heating. Thus, the organic EL element display device shown in FIG. 5 is manufactured. Further, in a state where the bonded metal electrode 203 and the connection metal electrode 204 are in contact with each other, the inside may be evacuated to seal the periphery of both substrates.

【0042】このようにして、走査信号ライン16の伸
長方向において隣り合う2つの画素は、有機EL素子と
N型FEETの配置が共通カソードライン12を中心に
対称的となっている有機エレクトロルミネッセンス素子
表示装置が作製される。
As described above, two pixels adjacent to each other in the extension direction of the scanning signal line 16 are connected to the organic EL element.
An organic electroluminescence element display device in which the arrangement of the N-type FEET is symmetric about the common cathode line 12 is manufactured.

【0043】[0043]

【発明の効果】このように、本発明の有機EL素子表示
装置によれば、表示側有機EL素子基板と背面側FET
基板との簡易な貼り合わせ表示パネルであるために、発
光領域内の有機EL素子の開口率が高く、製造も容易
な、高精彩なフルカラーディスプレイが実現できる。
As described above, according to the organic EL device display device of the present invention, the display-side organic EL device substrate and the back-side FET
Since the display panel is simply attached to the substrate, a high-definition full-color display that has a high aperture ratio of the organic EL element in the light emitting region and is easy to manufacture can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 表示装置における有機EL素子の部分拡大断
面図。
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view of an organic EL element in a display device.

【図2】 有機EL素子の等価回路を示す図。FIG. 2 is a diagram showing an equivalent circuit of an organic EL element.

【図3】 本発明による実施例のアクティブマトリクス
駆動方式の有機EL素子表示装置における表示パネルの
一部を示す表示側から見た平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a part of a display panel in an active matrix driving type organic EL element display device according to an embodiment of the present invention, as viewed from the display side.

【図4】 本発明による実施例の有機EL素子表示装置
におけるパネル部のFET及び有機EL素子を示す回路
図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing FETs and organic EL elements in a panel section in the organic EL element display device according to the embodiment of the present invention.

【図5】 本発明による実施例の有機EL素子表示装置
の表示パネルの概略部分断面図。
FIG. 5 is a schematic partial cross-sectional view of a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図6】 本発明による実施例の有機EL素子表示装置
の表示パネルの製造工程における表示側基板の概略部分
平面図。
FIG. 6 is a schematic partial plan view of a display-side substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図7】 図6の線AAの断面図。FIG. 7 is a sectional view taken along line AA in FIG. 6;

【図8】 本発明による他の実施例の有機EL素子表示
装置の表示パネルの製造工程における表示側基板の概略
部分断面図。
FIG. 8 is a schematic partial cross-sectional view of a display substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to another embodiment of the present invention.

【図9】 本発明による実施例の有機EL素子表示装置
の表示パネルの製造工程における表示側基板の概略部分
平面図。
FIG. 9 is a schematic partial plan view of a display-side substrate in a manufacturing process of a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図10】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における表示側基板の概略部
分平面図。
FIG. 10 is a schematic partial plan view of a display-side substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図11】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における表示側基板の概略部
分平面図。
FIG. 11 is a schematic partial plan view of a display-side substrate in a manufacturing process of a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図12】 図11の線AAの断面図。FIG. 12 is a sectional view taken along line AA in FIG. 11;

【図13】 本発明による他の実施例の有機EL素子表
示装置の表示パネルの製造工程における表示側基板の概
略部分平面図。
FIG. 13 is a schematic partial plan view of a display-side substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to another embodiment of the present invention.

【図14】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における背面側基板の概略部
分平面図。
FIG. 14 is a schematic partial plan view of a rear substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL device display device according to an example of the present invention.

【図15】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における背面側基板の概略部
分平面図。
FIG. 15 is a schematic partial plan view of a rear substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL device display device according to an example of the present invention.

【図16】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における背面側基板の概略部
分平面図。
FIG. 16 is a schematic partial plan view of a rear substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL device display device according to an example of the present invention.

【図17】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における背面側基板の概略部
分平面図。
FIG. 17 is a schematic partial plan view of a rear substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図18】 本発明による実施例の有機EL素子表示装
置の表示パネルの製造工程における背面側基板の概略部
分平面図。
FIG. 18 is a schematic partial plan view of a rear substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図19】 図18の線AAの断面図。FIG. 19 is a sectional view taken along line AA in FIG. 18;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 絶縁層 4 有機薄膜 5、6 金属電極 10、11 FET S,10S,11S ソース電極 D,10D,11D ドレイン電極 G,10G,11G ゲート電極 12 カソードライン 13 データ信号ライン 15 アノードライン 16 走査信号ライン 109 表示パネル 200 有機EL素子 300 コンデンサ Reference Signs List 1 substrate 3 insulating layer 4 organic thin film 5, 6 metal electrode 10, 11 FET S, 10S, 11S source electrode D, 10D, 11D drain electrode G, 10G, 11G gate electrode 12 cathode line 13 data signal line 15 anode line 16 scanning Signal line 109 Display panel 200 Organic EL element 300 Capacitor

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Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に複数の発光部がマトリクス
状に配置された表示配列を有し、 前記発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子
を含み、 前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板
上に透明電極と少くとも1層の電子及び又は正孔の注入
によって発光する有機エレクトロルミネッセンス材料層
を含む有機材料層と金属電極とが順に積層されてなる有
機エレクトロルミネッセンス素子表示装置であって、 各々が前記有機エレクトロルミネッセンス素子を駆動せ
しめる電界効果トランジスタの複数が前記表示配列に対
応して表面上に配置された背面基板を有し、前記電界効
果トランジスタの駆動用電極が前記金属電極に接続され
るように前記背面基板及び前記透明基板を接合すること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子表示装
置。
1. A transparent substrate having a display arrangement in which a plurality of light emitting units are arranged in a matrix, each of the light emitting units includes an organic electroluminescent element, and the organic electroluminescent element is disposed on the transparent substrate. An organic electroluminescent element display device comprising a transparent electrode, an organic material layer including at least one layer of an organic electroluminescent material layer that emits light by injection of electrons and / or holes, and a metal electrode, which are sequentially stacked, each comprising: A plurality of field effect transistors for driving the organic electroluminescence element have a back substrate disposed on a surface corresponding to the display arrangement, and a driving electrode of the field effect transistor is connected to the metal electrode. Bonding the back substrate and the transparent substrate to an organic electroluminescent device Nessence element display device.
【請求項2】 前記電界効果トランジスタの駆動用電極
は前記金属電極へ向かう接続用金属電極を有し、前記接
続用金属電極が前記金属電極に当接することを特徴とす
る請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置。
2. The organic electrode according to claim 1, wherein the driving electrode of the field-effect transistor has a connection metal electrode facing the metal electrode, and the connection metal electrode is in contact with the metal electrode. Electroluminescence element display device.
【請求項3】 前記金属電極と前記接続用金属電極が同
一材料からなることを特徴とする請求項2記載の有機エ
レクトロルミネッセンス素子表示装置。
3. The organic electroluminescence element display device according to claim 2, wherein the metal electrode and the connection metal electrode are made of the same material.
【請求項4】 前記電界効果トランジスタが前記有機エ
レクトロルミネッセンス素子へ電子を供給してこれを駆
動せしめるN型電界効果トランジスタであり、その駆動
用電極がドレイン電極であることを特徴とする請求項1
記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
4. The field effect transistor according to claim 1, wherein said field effect transistor is an N-type field effect transistor for supplying electrons to said organic electroluminescence element to drive said element, and a driving electrode thereof is a drain electrode.
The organic electroluminescence element display device according to the above.
【請求項5】 前記透明電極が複数の前記発光部を占め
る共通な連続層として形成されたことを特徴とする請求
項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装
置。
5. The organic electroluminescence element display according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions.
【請求項6】 前記有機材料層が複数の前記発光部を占
める共通な連続層として形成されたことを特徴とする請
求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装
置。
6. The organic electroluminescence element display according to claim 1, wherein the organic material layer is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions.
【請求項7】 前記接続用金属電極が突出部を有するこ
とを特徴とする請求項2記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子表示装置。
7. The organic electroluminescence element display device according to claim 2, wherein the connection metal electrode has a protrusion.
【請求項8】 前記金属電極が突出部を有することを特
徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子表示装置。
8. The organic electroluminescence element display according to claim 1, wherein the metal electrode has a protrusion.
【請求項9】 前記透明基板の各発光部の領域内の一部
に絶縁物突出部を形成し、前記金属電極の前記突出部は
前記絶縁物突出部に対応して形成されることを特徴とす
る請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子
表示装置。
9. The method according to claim 9, wherein an insulating protrusion is formed in a part of the transparent substrate in a region of each light emitting unit, and the protrusion of the metal electrode is formed corresponding to the insulating protrusion. The organic electroluminescence element display device according to claim 8, wherein
【請求項10】 前記金属電極が突出部のみを露出させ
る開口絶縁膜を有することを特徴とする請求項8記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
10. The organic electroluminescence element display device according to claim 8, wherein the metal electrode has an opening insulating film exposing only the protrusion.
【請求項11】 隣り合う前記発光部における前記N型
電界効果トランジスタ同士が隣接しかつ前記有機エレク
トロルミネッセンス素子同士が隣接することを特徴とす
る請求項4記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置。
11. The organic electroluminescent element display device according to claim 4, wherein the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting units are adjacent to each other, and the organic electroluminescent elements are adjacent to each other.
【請求項12】 前記N型電界効果トランジスタのソー
ス電極が電子供給側に接続され、そのドレイン電極が前
記金属電極に接続されることを特徴とする請求項4記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
12. The organic electroluminescence device display according to claim 4, wherein a source electrode of the N-type field effect transistor is connected to an electron supply side, and a drain electrode thereof is connected to the metal electrode.
【請求項13】 前記背面基板上に形成されかつ前記N
型電界効果トランジスタのゲート電極に接続されたアド
レス用電界効果トランジスタが設けられことを特徴とす
る請求項4記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置。
13. The semiconductor device according to claim 1, wherein said N is formed on said back substrate.
5. The organic electroluminescent device display device according to claim 4, further comprising an address field effect transistor connected to a gate electrode of the field effect transistor.
【請求項14】 前記背面基板上に形成されかつ前記N
型電界効果トランジスタのゲート電極に接続されたコン
デンサを有することを特徴とする請求項4記載の有機エ
レクトロルミネッセンス素子表示装置。
14. The semiconductor device according to claim 1, wherein said N is formed on said rear substrate.
5. The organic electroluminescence device display device according to claim 4, further comprising a capacitor connected to a gate electrode of the field effect transistor.
【請求項15】 前記N型電界効果トランジスタのゲー
ト電極及びソース電極を覆うとともに、N型電界効果ト
ランジスタのドレイン電極のみを露出する開口を有する
絶縁膜が設けられたことを特徴とする請求項4記載の有
機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
15. An insulating film which covers a gate electrode and a source electrode of the N-type field-effect transistor and has an opening exposing only a drain electrode of the N-type field-effect transistor is provided. The organic electroluminescence element display device according to the above.
【請求項16】 隣り合う前記発光部における前記N型
電界効果トランジスタ同士は、共通カソードラインを中
心に対称的に配置されていることを特徴とする請求項4
記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
16. The N-type field effect transistors in adjacent light emitting units are symmetrically arranged about a common cathode line.
The organic electroluminescence element display device according to the above.
【請求項17】 透明基板上に複数の発光部がマトリク
ス状に配置された表示配列を有し、 前記発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子
を含み、 前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板
上に透明電極と少くとも1層の電子及び又は正孔の注入
によって発光する有機エレクトロルミネッセンス材料層
を含む有機材料層と金属電極とが順に積層されてなる有
機エレクトロルミネッセンス素子表示装置の製造方法で
あって、 複数の発光部に対応して透明基板上に透明電極、有機材
料層及び金属電極を順に積層して複数の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を形成し、少なくとも前記金属電極
の一部を露出させる有機エレクトロルミネッセンス素子
側基板形成工程と、 前記複数の発光部に対応して背面基板上に複数の電界効
果トランジスタを形成する電界効果トランジスタ側基板
形成工程と、 前記電界効果トランジスタの駆動用電極が前記金属電極
に接続されるように前記背面基板及び前記透明基板を接
合する貼合工程と、を含むことを特徴とする有機エレク
トロルミネッセンス素子表示装置の製造方法。
17. A display arrangement in which a plurality of light emitting units are arranged in a matrix on a transparent substrate, each of the light emitting units includes an organic electroluminescent element, and the organic electroluminescent element is disposed on the transparent substrate. A method for manufacturing an organic electroluminescent element display device, comprising: a transparent electrode, at least one organic material layer including an organic electroluminescent material layer that emits light by injection of electrons and / or holes, and a metal electrode sequentially laminated. A plurality of organic electroluminescent elements formed by sequentially laminating a transparent electrode, an organic material layer, and a metal electrode on a transparent substrate corresponding to the plurality of light emitting portions, and exposing at least a part of the metal electrode; An element-side substrate forming step, and a plurality of electric fields on a rear substrate corresponding to the plurality of light-emitting portions. And a bonding step of bonding the back substrate and the transparent substrate such that a driving electrode of the field effect transistor is connected to the metal electrode. A method for manufacturing an organic electroluminescence element display device, comprising:
【請求項18】 前記電界効果トランジスタ側基板形成
工程において、前記電界効果トランジスタの駆動用電極
に接続された前記金属電極へ向かう接続用金属電極形成
し、前記貼合工程において、前記接続用金属電極及び前
記金属電極を当接することを特徴とする請求項17記載
の製造方法。
18. The method according to claim 18, wherein in the step of forming the field-effect transistor-side substrate, a connection metal electrode is formed toward the metal electrode connected to the drive electrode of the field-effect transistor, and in the bonding step, the connection metal electrode is formed. 18. The method according to claim 17, wherein the metal electrode is brought into contact with the metal electrode.
【請求項19】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子側基板形成工程において、前記透明電極を、複数の前
記発光部を占める共通な連続層として形成することを特
徴とする請求項17記載の製造方法。
19. The manufacturing method according to claim 17, wherein in the step of forming the organic electroluminescence element side substrate, the transparent electrode is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions.
【請求項20】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子側基板形成工程において、前記有機材料層を、複数の
前記発光部を占める共通な連続層として形成することを
特徴とする請求項17記載の製造方法。
20. The method according to claim 17, wherein the organic material layer is formed as a common continuous layer occupying a plurality of the light emitting portions in the organic electroluminescent element side substrate forming step.
【請求項21】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子側基板形成工程において、前記透明基板の各発光部の
領域内の一部に絶縁物突出部を形成し、その後に、前記
透明電極、有機材料層及び金属電極を積層することで、
金属電極に突出部を形成することを特徴とする請求項1
7記載の製造方法。
21. In the organic electroluminescent element-side substrate forming step, an insulator protrusion is formed in a part of a region of each light emitting portion of the transparent substrate, and thereafter, the transparent electrode, the organic material layer, and the metal are formed. By laminating electrodes,
2. A projection is formed on a metal electrode.
7. The production method according to 7.
【請求項22】 前記電界効果トランジスタ側基板形成
工程において、前記金属電極の突出部のみを通過させる
開口を有する絶縁膜を前記接続用金属電極上に形成する
ことを特徴とする請求項21記載の製造方法。
22. The method according to claim 21, wherein in the step of forming the field-effect transistor-side substrate, an insulating film having an opening through which only the protrusion of the metal electrode passes is formed on the connection metal electrode. Production method.
【請求項23】 前記電界効果トランジスタ側基板形成
工程において、前記接続用金属電極に突出部を形成する
ことを特徴とする請求項18記載の製造方法。
23. The method according to claim 18, wherein in the step of forming the field-effect transistor-side substrate, a protrusion is formed on the connection metal electrode.
【請求項24】 前記有機エレクトロルミネッセンス素
子側基板形成工程において、前記接続用金属電極の突出
部のみを通過させる開口を有する絶縁膜を前記金属電極
上に形成することを特徴とする請求項23記載の製造方
法。
24. The organic electroluminescence element-side substrate forming step, wherein an insulating film having an opening through which only the protrusion of the connection metal electrode passes is formed on the metal electrode. Manufacturing method.
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