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JP2001031679A - ナフチリジン誘導体及びその製法 - Google Patents

ナフチリジン誘導体及びその製法

Info

Publication number
JP2001031679A
JP2001031679A JP11237698A JP23769899A JP2001031679A JP 2001031679 A JP2001031679 A JP 2001031679A JP 11237698 A JP11237698 A JP 11237698A JP 23769899 A JP23769899 A JP 23769899A JP 2001031679 A JP2001031679 A JP 2001031679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
lower alkyl
unsubstituted
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11237698A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuzo Ukita
辰三 浮田
Kenji Omori
謙司 大森
Kohei Yoshikawa
公平 吉川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanabe Pharma Corp
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanabe Seiyaku Co Ltd filed Critical Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority to JP11237698A priority Critical patent/JP2001031679A/ja
Publication of JP2001031679A publication Critical patent/JP2001031679A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れたＰＤＥ Ｖ阻害作用に基づく循環器系
疾患の予防・治療剤として有用であるナフチリジン誘導
体及びその製法を提供するものである。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジン環または置
換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環Ｂは保護され
ていてもよい水酸基、置換もしくは非置換低級アルキル
基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基及びハロゲン
原子から選ばれる同一または異なる２〜４個の置換基を
有するベンゼン環または１〜２個の低級アルキレンジオ
キシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原子、置換もし
くは非置換アリール基、置換もしくは非置換低級アルキ
ル基、置換もしくは非置換複素環式基または置換もしく
は非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子またはエステル残基
を表わす。）で示されるナフチリジン誘導体またはその
薬理的に許容しうる塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬として有用なｃ
ＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼ（ＰＤＥ）阻害作用
〔ＰＤＥ Ｖ阻害作用〕を有する新規ナフチリジン誘導
体に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、細胞内セカンドメッセンジャー
であるｃＧＭＰは、生体内の組織に広く分布するホスホ
ジエステラーゼ（ＰＤＥ）により分解され不活性化され
るが、該ＰＤＥ活性を阻害すると、細胞内のｃＧＭＰの
濃度が上昇し、その結果、種々の薬理作用、例えば、血
管平滑筋弛緩作用、気管支平滑筋弛緩作用等が発現する
ことが知られている。
【０００３】また、このようなｃＧＭＰ特異的ＰＤＥ阻
害薬（即ち、ＰＤＥ Ｖ阻害薬）は、血小板凝集抑制作
用、血管拡張作用等を示す〔Ｃ．Ｄ．Ｎｉｃｈｏｌｓｏ
ｎら，トレンズ・イン・ファーマコロジカル・サイエン
シーズ，第１２巻，第１９頁（１９９１）（Ｔｒｅｎｄ
ｓ ｉｎ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｉｃａｌ Ｓｃｉｅ
ｎｃｅｓ）〕ことが知られている。
【０００４】したがって、ＰＤＥ Ｖ阻害薬は、気管支
喘息、血栓症、うつ病、脳血管閉塞後の中枢機能低下
症、脳血管痴呆症及び心不全などの治療薬として有用で
あると考えられている。
【０００５】また、近年上記のようなＰＤＥ Ｖ阻害作
用を有する縮合ピリダジン系化合物等が、高血圧症、狭
心症、心筋梗塞、慢性及び急性心不全、肺高血圧症等の
予防・治療に有用であることが知られている（特開平８
−２２５５４１号等）。
【０００６】更に、ＰＤＥ Ｖ阻害作用を有する１−
〔４−エトキシ−３−（６，７−ジヒドロ−１−メチル
−７−オキソ−３−プロピル−１Ｈ−ピラゾロ〔４，３
−ｄ〕ピリミジン−５−イル）フェニルスルホニル〕−
４−メチルピペラジン〔一般名；シルデナフィル（ＳＩ
ＬＤＥＮＡＦＩＬ）〕が陰茎勃起不全等の疾患の治療に
有用であることも報告されている〔Ｂｏｏｌｅｌｌ Ｍ
ら，ザ・ジャーナル・オブ・ウロロジー サプリメン
ト，第１５５巻，第５号，第４９５Ａ頁７３９（１９９
６年）（Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｕｒｏｌｏｇ
ｙ，Ｓｕｐｐｌｙｍｅｎｔ），Ｔｅｒｒｅｔｔ Ｎ Ｋ
ら，バイオオルガニック・アンド・メディシナル・ケミ
ストリー・レターズ，第６巻，第１５号，第１８１９頁
（１９９６年）（Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉ
ｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ）及
びＢａｌｌａｒｄ Ｓ Ａら，ブリティシュ・ジャーナ
ル・オブ・ファーマコロジー プロシーディング・サプ
リメント，第１１８巻，１５３Ｐ（１９９６年）（Ｂｒ
ｉｔｉｓｈ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｏ
ｌｏｇｙ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ｓｕｐｐｌｙｍｅｎ
ｔ）〕。しかしながら、シルデナフィルには、頭痛、顔
面紅潮、消化管障害、鼻炎、色覚異常〔Ｉｒｗｉｎ Ｇ
ら，ザ・ニュー・イングラド・ジャーナル・オブ・メデ
ィシン，第３３８巻，第２０号，第１３９７−１４０４
頁（１９９８年）（Ｔｈｅ Ｎｅｗ Ｅｎｇｌａｎｄ
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ），Ａ Ｍｏ
ｒａｌｅｓら，インターナショナル・ジャーナル・オブ
・インポテンス・リサーチ，第１０巻，第２号，第６９
−７３頁（１９９８年）（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍｐｏｔｅｎｃｅ Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ）及びＧｏｌｄｅｎｂｅｒｇ Ｍ Ｍ，クリ
ニカル・セラピューティクス，第２０巻，第６号，第１
０３３−１０４８頁（１９９８年）（Ｃｌｉｎｉｃａｌ
Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ）〕及び勃起持続症〔ｈｔ
ｔｐ：／／ｗｗｗ．ｆｄａ．ｇｏｖ／ｂｂｓ／ｔｏｐｉ
ｃｓ／ＡＮＳＷＥＲＳ／ＡＮＳ００９２６．ｈｔｍｌ〕
等の副作用があることも報告されている。また、イヌの
実験において、シルデナフィルは網膜組織の光応答の影
響に関してＰＤＥ ＶＩ阻害作用と相関していることが
報告〔ＡＭｏｒａｌｅｓら，インターナショナル・ジャ
ーナル・オブ・インポテンス・リサーチ，第１０巻，第
２号，第６９−７３頁（１９９８年）（Ｉｎｔｅｒｎａ
ｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍｐｏｔｅｎ
ｃｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ）〕されており、一方、網膜の
ＰＤＥ ＶＩが視覚機能において重要な役割を奏してい
ることも報告〔Ａ Ｍｏｒａｌｅｓら，インターナショ
ナル・ジャーナル・オブ・インポテンス・リサーチ，第
１０巻，第２号，第６９−７３頁（１９９８年）（Ｉｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍ
ｐｏｔｅｎｃｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ）及びＭ Ｅｓｔｒ
ａｄｅら，ヨーロピアン・ジャーナル・オブ・ファーマ
コロジー，第３５２巻，第１５７−１６３頁（１９９８
年）（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈ
ａｒｍａｃｏｌｏｇｙ）〕されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れたホス
ホジエステラーゼＶ（ＰＤＥ Ｖ）阻害作用を有する新
規ナフチリジン誘導体及びその製法を提供するものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ〕
【０００９】
【化３３】
【００１０】（式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジ
ン環または置換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環
Ｂは保護されていてもよい水酸基、置換もしくは非置換
低級アルキル基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基
及びハロゲン原子から選ばれる同一または異なる２〜４
個の置換基を有するベンゼン環または１〜２個の低級ア
ルキレンジオキシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原
子、置換もしくは非置換アリール基、置換もしくは非置
換低級アルキル基、置換もしくは非置換複素環式基また
は置換もしくは非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子または
エステル残基を表わす。）で示されるナフチリジン誘導
体またはその薬理的に許容しうる塩に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の目的化合物〔Ｉ〕におけ
る環Ａ上の置換基としては、例えば、置換もしくは非置
換低級アルコキシ基、ハロゲン原子、保護された水酸
基、置換もしくは非置換含窒素複素環式基、置換もしく
は非置換低級アルキルチオ基、置換もしくは非置換アミ
ノ基、置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしく
は非置換アリール基、複素環式基置換オキシ基、オキシ
ド基またはオキソ基等が挙げられる。
【００１２】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
低級アルコキシ基の具体例としては、低級アルキレンジ
オキシフェニル基；ベンズイミダゾリル基；低級アルキ
ル基置換イミダゾリル基；イミダゾリル基；シアノ基；
カルボキシル基；ピリジル基；Ｎ−オキシドピリジル
基；水酸基置換低級アルキル基で置換されたピリジル
基；ピロリジニル基；低級アルキル基置換ピロリジニル
基；オキソ基置換ピロリジニル基；イソキノリル基；低
級アルキル基で置換されていてもよいピリミジニル基；
Ｎ−オキシドピリミジニル基；ピラジニル基；キナゾリ
ニル基；フタラジニル基；低級アルコキシカルボニル基
置換ピペリジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基置
換ピリジル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；ピペ
リジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基置換ピペラ
ジニル基；低級アルキル基置換ピペラジニル基；ピペラ
ジニル基；キノリル基；テトラゾリル基；チアゾリル
基；チエニル基；フリル基；低級アルキル基及び低級ア
ルコキシカルボニル基で置換されたピロリル基；モノも
しくはジ低級アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置換
低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；水酸基；カルバ
モイル基；低級アルコキシカルボニル基；シクロ低級ア
ルキル基；フェニル基；水酸基置換低級アルキル基で置
換されたフェニル基；カルボキシル基置換フェニル基；
低級アルコキシカルボニル基置換フェニル基；ベンゾイ
ル基；モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル
基；ニトロ基置換フェニル基；ナフチル基；モノもしく
はジハロゲノフェニル基；カルバモイル基置換フェニル
基；スルファモイル基置換フェニル基；保護されていて
もよいアミノ基でモノもしくはジ置換されたフェニル
基；ビフェニリル基；ハロゲン原子及びニトロ基でジ置
換されたフェニル基；ジ低級アルキルアミノ基置換フェ
ニル基；及び低級アルキル基置換フェニル基から選ばれ
る基で置換されていてもよい低級アルコキシ基が挙げら
れる。
【００１３】環Ａ上の置換基である保護された水酸基の
具体例としては、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
基、低級アルカノイルオキシ基、トリ低級アルキルシリ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ベンジルオキシ
基、低級アルコキシ基置換ベンジルオキシ基等が挙げら
れる。
【００１４】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
含窒素複素環式基の具体例としては、テトラゾリル基、
トリアゾリル基、ピロリジニル基、水酸基置換低級アル
キル基で置換されたピロリジニル基、水酸基置換ピロリ
ジニル基、ピペリジル基、水酸基置換ピペリジル基、モ
ルホリニル基、ピペラジニル基、ピリミジニル基置換ピ
ペラジニル基、水酸基置換低級アルキル基で置換された
ピペラジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基が挙げら
れる。
【００１５】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
低級アルキルチオ基の具体例としては、低級アルキレン
ジオキシフェニル基；ベンズイミダゾリル基；低級アル
キル基置換イミダゾリル基；シアノ基；カルボキシル
基；ピリジル基；Ｎ−オキシドピリジル基；水酸基置換
低級アルキル基で置換されたピリジル基；ピロリジニル
基；イソキノリル基；低級アルキル基で置換されていて
もよいピリミジニル基；ピラジニル基；キナゾリニル
基；フタラジニル基；低級アルコキシカルボニル基置換
ピペリジル基；ピペリジル基；キノリル基；テトラゾリ
ル基；チエニル基；フリル基；低級アルキル基及び低級
アルコキシカルボニル基で置換されたピロリル基；モノ
もしくはジ低級アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置
換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；水酸基；カル
バモイル基；低級アルコキシカルボニル基；シクロ低級
アルキル基；フェニル基；水酸基置換低級アルキル基で
置換されたフェニル基；カルボキシル基置換フェニル
基；低級アルコキシカルボニル基置換フェニル基；ベン
ゾイル基；モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニ
ル基；ニトロ基置換フェニル基；ナフチル基；モノもし
くはジハロゲノフェニル基；カルバモイル基置換フェニ
ル基；スルファモイル基置換フェニル基；保護されてい
てもよいアミノ基でモノもしくはジ置換されたフェニル
基；ビフェニリル基；ハロゲン原子及びニトロ基でジ置
換されたフェニル基；ジ低級アルキルアミノ基置換フェ
ニル基；及び低級アルキル基置換フェニル基から選ばれ
る基で置換されていてもよい低級アルキルチオ基が挙げ
られる。
【００１６】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
アミノ基の具体例としては、保護されていてもよいアミ
ノ基；フェニル基置換低級アルキル基、ピリジル基置換
低級アルキル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基置
換低級アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、ピリミ
ジニル基置換低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で
置換された低級アルキル基、ピリジル基置換アミノ基、
ハロゲノ低級アルキル基置換ピリミジニル基で置換され
たアミノ基、ピリジルカルボニル基置換アミノ基および
保護されていてもよいアミノ基から選ばれる同一または
異なる１〜２個の置換基を有するアミノ基が挙げられ
る。
【００１７】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
低級アルキル基の具体例としては、低級アルキレンジオ
キシフェニル基；ベンズイミダゾリル基；低級アルキル
基置換イミダゾリル基；シアノ基；カルボキシル基；ピ
リジル基；Ｎ−オキシドピリジル基；水酸基置換低級ア
ルキル基で置換されたピリジル基；ピロリジニル基；イ
ソキノリル基；低級アルキル基で置換されていてもよい
ピリミジニル基；ピラジニル基；キナゾリニル基；フタ
ラジニル基；低級アルコキシカルボニル基置換ピペリジ
ル基；ピペリジル基；キノリル基；テトラゾリル基；チ
エニル基；フリル基；低級アルキル基及び低級アルコキ
シカルボニル基で置換されたピロリル基；モノもしくは
ジ低級アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置換低級ア
ルコキシ基；低級アルコキシ基；水酸基；カルバモイル
基；低級アルコキシカルボニル基；シクロ低級アルキル
基；フェニル基；ヒドロキシ低級アルキル基で置換され
たフェニル基；カルボキシル基置換フェニル基；低級ア
ルコキシカルボニル基置換フェニル基；ベンゾイル基；
モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基；ニト
ロ基置換フェニル基；ナフチル基；モノもしくはジハロ
ゲノフェニル基；カルバモイル基置換フェニル基；スル
ファモイル基置換フェニル基；保護されていてもよいア
ミノ基で、モノもしくはジ置換されたフェニル基；ビフ
ェニリル基；ハロゲン原子及びニトロ基でジ置換された
フェニル基；ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基；
及び低級アルキル基置換フェニル基から選ばれる基で置
換されていてもよい低級アルキル基が挙げられる。
【００１８】環Ａ上の置換基である置換もしくは非置換
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル
基、インダニル基、フルオレニル基、アントラセニル
基、フェナントレニル基またはインデニル基が挙げられ
る。
【００１９】環Ａ上の置換基である複素環式基置換オキ
シ基の具体例としては、テトラヒドロフラニル基置換オ
キシ基、オキソ基置換テトラヒドロフラニル基置換オキ
シ基、保護されていてもよいピペリジニル基置換オキシ
基、オキソ基置換ピペリジニル基置換オキシ基、保護さ
れていてもよいピロリジニル基置換オキシ基、オキソ基
置換ピロリジニル基置換オキシ基が挙げられる。
【００２０】環Ａのうち、好ましくは、例えば、環Ａが
式：
【００２１】
【化３４】
【００２２】で示される環であり、Ａ1が（１）水素原
子、（２）置換もしくは非置換低級アルコキシ基、
（３）ハロゲン原子、（４）保護された水酸基、（５）
置換もしくは非置換含窒素複素環式基、（６）置換もし
くは非置換低級アルキルチオ基、（７）置換もしくは非
置換アミノ基、（８）置換もしくは非置換アルキル基、
（９）置換もしくは非置換アリール基、または（１０）
複素環式基置換オキシ基、Ａ2が（１）水素原子または
（２）置換もしくは非置換低級アルキル基であるものが
挙げられ、より好ましくは、環Ａが式：
【００２３】
【化３５】
【００２４】で示される環であり、Ａ1が（１）水素原
子、（２）置換もしくは非置換低級アルコキシ基、
（３）ハロゲン原子、（４）保護された水酸基、（５）
置換もしくは非置換含窒素複素環式基、（６）置換もし
くは非置換低級アルキルチオ基、（７）置換もしくは非
置換アミノ基、（８）置換もしくは非置換アルキル基、
（９）置換もしくは非置換アリール基、または（１０）
複素環式基置換オキシ基、Ａ2が（１）水素原子または
（２）置換もしくは非置換低級アルキル基であるのもの
が挙げられる。
【００２５】環Ａ上の置換基Ａ1の具体例としては、
（ｉ）低級アルキレンジオキシフェニル基；ベンズイミ
ダゾリル基；低級アルキル基置換イミダゾリル基；イミ
ダゾリル基；シアノ基；カルボキシル基；ピリジル基；
Ｎ−オキシドピリジル基；水酸基置換低級アルキル基で
置換されたピリジル基；ピロリジニル基；低級アルキル
基置換ピロリジニル基；オキソ基置換ピロリジニル基；
イソキノリル基；低級アルキル基置換ピリミジニル基；
ピリミジニル基；Ｎ−オキシドピリミジニル基；ピラジ
ニル基；キナゾリニル基；フタラジニル基；低級アルコ
キシカルボニル基置換ピペリジル基；ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル基置換ピリジル基；低級アルキル基置換ピ
ペリジル基；ピペリジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル基置換ピペラジニル基；低級アルキル基置換ピペラ
ジニル基；ピペラジニル基；キノリル基；テトラゾリル
基；チアゾリル基；チエニル基；フリル基；低級アルキ
ル基及び低級アルコキシカルボニル基で置換されたピロ
リル基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；低級ア
ルコキシ基置換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；
水酸基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル
基；シクロ低級アルキル基；フェニル基；水酸基置換低
級アルキル基で置換されたフェニル基；カルボキシル基
置換フェニル基；低級アルコキシカルボニル基置換フェ
ニル基；ベンゾイル基；モノもしくはジ低級アルコキシ
基置換フェニル基；ニトロ基置換フェニル基；ナフチル
基；モノもしくはジハロゲノフェニル基；カルバモイル
基置換フェニル基；スルファモイル基置換フェニル基；
ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオ
キシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−
トリクロロエチルオキシカルボニル基もしくは低級アル
カノイル基により保護されていてもよいアミノ基で、モ
ノもしくはジ置換されたフェニル基；ビフェニリル基；
ハロゲン原子及びニトロ基でジ置換されたフェニル基；
ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基；及び低級アル
キル基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉ
ｉｉ）トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、（ｉ
ｖ）テトラゾリル基、（ｖ）トリアゾリル基、（ｖｉ）
水酸基置換低級アルキル基または水酸基で置換されてい
てもよいピロリジニル基、（ｖｉｉ）水酸基で置換され
ていてもよいピペリジル基、（ｖｉｉｉ）モルホリニル
基、（ｉｘ）水酸基置換低級アルキル基またはピリミジ
ニル基で置換されていてもよいピペラジニル基、（ｘ）
ピリジル基、（ｘｉ）イミダゾリル基、（ｘｉｉ）低級
アルキレンジオキシフェニル基；ベンズイミダゾリル
基；低級アルキル基置換イミダゾリル基；シアノ基；カ
ルボキシル基；ピリジル基；Ｎ−オキシドピリジル基；
水酸基置換低級アルキル基で置換されたピリジル基；ピ
ロリジニル基；イソキノリル基；低級アルキル基置換ピ
リミジニル基；ピリミジニル基；ピラジニル基；キナゾ
リニル基；フタラジニル基；低級アルコキシカルボニル
基置換ピペリジル基；ピペリジル基；キノリル基；テト
ラゾリル基；チエニル基；フリル基；低級アルキル基及
び低級アルコキシカルボニル基で置換されたピロリル
基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；低級アルコ
キシ基置換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；水酸
基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル基；シ
クロ低級アルキル基；フェニル基；水酸基置換低級アル
キル基で置換されたフェニル基；カルボキシル基置換フ
ェニル基；低級アルコキシカルボニル基置換フェニル
基；ベンゾイル基；モノもしくはジ低級アルコキシ基置
換フェニル基；ニトロ基置換フェニル基；ナフチル基；
モノもしくはジハロゲノフェニル基；カルバモイル基置
換フェニル基；スルファモイル基置換フェニル基；ベン
ジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−ト
リクロロエチルオキシカルボニル基もしくは低級アルカ
ノイル基により保護されていてもよいアミノ基で、モノ
もしくはジ置換されたフェニル基；ビフェニリル基；ハ
ロゲン原子及びニトロ基でジ置換されたフェニル基；ジ
低級アルキルアミノ基置換フェニル基；及び低級アルキ
ル基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていても
よい低級アルキルチオ基、（ｘｉｉｉ）ベンジルオキシ
カルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルオキシカルボニル基もしくは低級アルカノイル基によ
り保護されていてもよいアミノ基、（ｘｉｖ）フェニル
基置換低級アルキル基；ピリジル基置換低級アルキル
基；低級アルキル基；低級アルコキシ基置換低級アルキ
ル基；水酸基置換低級アルキル基；ピリミジニル基置換
低級アルキル基；低級アルキルアミノ基で置換された低
級アルキル基；ピリジル基置換アミノ基；ハロゲノ低級
アルキル基置換ピリミジニル基で置換されたアミノ基；
ピリジルカルボニル基置換アミノ基；ベンジルオキシカ
ルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基もしくは低級アル
カノイル基により置換されていてもよいアミノ基から選
ばれる同一または異なる１〜２個の置換基を有するアミ
ノ基、（ｘｖ）低級アルキル基、または（ｘｖｉ）テト
ラヒドロフラニル基置換オキシ基等が挙げられる。
【００２６】環Ａ上の置換基Ａ2の具体例としては、低
級アルキレンジオキシフェニル基；ベンズイミダゾリル
基；低級アルキル基置換イミダゾリル基；イミダゾリル
基；シアノ基；カルボキシル基；ピリジル基；Ｎ−オキ
シドピリジル基；水酸基置換低級アルキル基で置換され
たピリジル基；ピロリジニル基；低級アルキル基置換ピ
ロリジニル基；オキソ基置換ピロリジニル基；イソキノ
リル基；低級アルキル基置換ピリミジニル基；ピリミジ
ニル基；Ｎ−オキシドピリミジニル基；ピラジニル基；
キナゾリニル基；フタラジニル基；低級アルコキシカル
ボニル基置換ピペリジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル基置換ピリジル基；低級アルキル基置換ピペリジル
基；ピペリジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基置
換ピペラジニル基；低級アルキル基置換ピペラジニル
基；ピペラジニル基；キノリル基；テトラゾリル基；チ
アゾリル基；チエニル基；フリル基；低級アルキル基及
び低級アルコキシカルボニル基で置換されたピロリル
基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；低級アルコ
キシ基置換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；水酸
基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル基；シ
クロ低級アルキル基；フェニル基；ヒドロキシ低級アル
キル基で置換されたフェニル基；カルボキシル基置換フ
ェニル基；低級アルコキシカルボニル基置換フェニル
基；ベンゾイル基；モノもしくはジ低級アルコキシ基置
換フェニル基；ニトロ基置換フェニル基；ナフチル基；
モノもしくはジハロゲノフェニル基；カルバモイル基置
換フェニル基；スルファモイル基置換フェニル基；ベン
ジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−ト
リクロロエチルオキシカルボニル基もしくは低級アルカ
ノイル基により保護されていてもよいアミノ基で、モノ
もしくはジ置換されたフェニル基；ビフェニリル基；ハ
ロゲン原子及びニトロ基でジ置換されたフェニル基；ジ
低級アルキルアミノ基置換フェニル基；及び低級アルキ
ル基置換フェニル基から選ばれる基で置換されていても
よい低級アルキル基等が挙げられる。
【００２７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕の環Ｂとして
は、保護されていてもよい水酸基、置換もしくは非置換
低級アルキル基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基
及びハロゲン原子から選ばれる同一または異なる２〜４
個の置換基を有するベンゼン環または１〜２個の低級ア
ルキレンジオキシ基を有するベンゼン環などが挙げられ
る。
【００２８】これら環Ｂの具体例としては、（１）ベン
ジル基、フェネチル基、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、マロニル基、アクリロイル基もしくはベン
ゾイル基により保護されていてもよい水酸基；低級アル
キル基；低級アルコキシ基；及びハロゲン原子から選ば
れる同一または異なる２〜４個の置換基を有するベンゼ
ン環または（２）１〜２個の低級アルキレンジオキシ基
を有するベンゼン環が挙げられる。
【００２９】環Ｂのうち、好ましくは、例えば、環Ｂが
式：
【００３０】
【化３６】
【００３１】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及
びＢ3は同一または異なって、保護されていてもよい水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン原子であるものが挙げられ、より好ましくは、例え
ば、環Ｂが式：
【００３２】
【化３７】
【００３３】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及
びＢ3は同一または異なって、保護されていてもよい水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン原子であるものが挙げられる。
【００３４】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換も
しくは非置換アリール基である場合、当該アリール基と
しては、一部が飽和していてもよい単環、二環もしくは
三環式の６〜１４員アリール基が挙げられる。単環式ア
リール基としてはフェニル基、シクロヘキサジエニル
基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。二環式アリー
ル基としてはナフチル基、インデニル基、インダニル
基、アズレニル基等が挙げられる。また、三環式アリー
ル基としてはフルオレニル基、フェナントレニル基、ア
ントラセニル基等が挙げられる。
【００３５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換も
しくは非置換複素環式基である場合、当該複素環式基と
しては、一部が飽和していてもよい単環式または二環式
の５〜１２員の複素環式基が挙げられ、具体的には、一
部が飽和していてもよい単環式または二環式の５〜１２
員芳香族複素環式基あるいは単環もしくは二環式の５〜
１２員脂肪族複素環式基が挙げられる。
【００３６】単環式または二環式の５〜１２員芳香族複
素環式基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子か
ら選ばれる１〜４個の異項原子を含む単環もしくは二環
式の５〜１０員芳香族複素環式基であるものが好まし
く、例えば、ピラニル基、インダゾリル基、ベンゾトリ
アゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、フリル基、
チエニル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキ
サゾリル基、オキサゾリニル基、ピラゾリル基、フタラ
ジニル基、キナゾリニル基、チエノピリミジニル基、ピ
リジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニ
ル基、トリアジニル基、テトラゾリル基、キノリル基、
イソキノリル基、キノキサリニル基、インドリル基、ベ
ンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾ
リル基またはベンズイミダゾリル基等が挙げられる。
【００３７】単環もしくは二環式の５〜１２員の脂肪族
複素環式基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子
から選ばれる１〜４個の異項原子を含む単環式５〜１０
員脂肪族複素環式基であるものが好ましく、例えばピペ
ラジニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ピラゾリ
ジニル基、キヌクリジニル基、チオモルホリノ基、モル
ホリノ基、ヘキサヒドロピリミジニル基、テトラヒドロ
フラニル基、テトラヒドロピラニル基またはジオキサニ
ル基等が挙げられる。
【００３８】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換低
級アルキル基である場合、低級アルキル基上の置換基と
しては、例えば、ピペリジル基、ピリジル基、低級アル
キル基置換ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリジル
基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル基、イミ
ダゾリル基、低級アルキル基置換ピペリジル基、フリル
基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、低級アルキ
ル基及びオキソ基で置換されたジヒドロピリジル基、ピ
ペラジニル基、低級アルコキシカルボニル基置換ピペラ
ジニル基、シクロ低級アルキル基、フェニル基、低級ア
ルキレンジオキシフェニル基、低級アルコキシカルボニ
ル基、水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基、保護され
ていてもよいカルボキシル基、低級アルコキシ基、保護
されていてもよいアミノ基、カルバモイル基、ジ低級ア
ルキルアミノ基、ピリジルカルボニルオキシ基等が挙げ
られる。
【００３９】また、Ｒ1における低級アルキル基は、上
記置換基を同一または異なって１〜３個有していてもよ
い。
【００４０】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換ア
リール基である場合、アリール基上の置換基としては、
例えば、ハロゲン原子、モノもしくはジ低級アルキルア
ミノ基、モルホリノ基、低級アルキル基置換ピリミジニ
ル基、低級アルキル基置換ピラゾリル基、水酸基置換低
級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基、低級ア
ルカノイル基置換アミノ基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキル基、保護されていてもよい水酸基、カルボキシル
基置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基置
換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基置換低
級アルコキシ基、カルバモイル基、保護されていてもよ
いカルボキシル基、低級アルキルチオ基、低級アルコキ
シカルボニル基、ニトロ基、トリハロゲノ低級アルキル
基、モルホリノカルボニル基、カルボキシル基置換低級
アルコキシ基、ジ（低級アルキルスルホニル）アミノ
基、モルホリノ低級アルキルカルバモイル基置換低級ア
ルコキシ基、スルファモイル基、保護されていてもよい
アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキル基
及びアミノ基の保護基で置換されたアミノ基、低級アル
キレンジオキシ基、保護されていてもよいアミノ基で置
換されたカルバモイル基、低級アルキルスルフィニル
基、低級アルキルスルホニル基等が挙げられる。
【００４１】また、Ｒ1におけるアリール基は、上記置
換基を同一または異なって１〜４個有していてもよい。
【００４２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換複
素環式基である場合、複素環式基上の置換基としては、
水酸基、ハロゲン原子、低級アルキル基、フェニル基置
換低級アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、オキソ
基、低級アルコキシ基、保護されていてもよいアミノ
基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基、フェニル低
級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、カルバモイル基等が挙げられる。
【００４３】また、Ｒ1における複素環式基は、上記置
換基を同一または異なって１〜４個有していてもよい。
【００４４】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ1が置換ア
ミノ基である場合、アミノ基上の置換基としては、アミ
ノ基の保護基、ピリジル基、低級アルカノイル基、低級
アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、フェニル基、
低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基、トリハ
ロゲノ低級アルカノイル基等が挙げられる。
【００４５】また、Ｒ1におけるアミノ基は、上記置換
基を同一または異なって１〜２個有していてもよい。
【００４６】Ｒ1の具体例としては、（ｉ）水素原子、
（ｉｉ）ピペリジル基；ピリジル基；低級アルキル基置
換ピリジル基；低級アルコキシ基置換ピリジル基；低級
アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル基；イミダゾリル
基；低級アルキル基置換ピペリジル基；フリル基；モル
ホリノ基；テトラヒドロフリル基；低級アルキル基及び
オキソ基で置換されたジヒドロピリジル基；ピペラジニ
ル基；低級アルコキシカルボニル基置換ピペラジニル
基；シクロ低級アルキル基；フェニル基；低級アルキレ
ンジオキシフェニル基；低級アルコキシカルボニル基；
水酸基；水酸基置換低級アルコキシ基；カルボキシル
基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカルボニル基、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
ルボニル基もしくは低級アルカノイル基により保護され
ていてもよいアミノ基；カルバモイル基；ジ低級アルキ
ルアミノ基；及びピリジルカルボニルオキシ基から選ば
れる同一または異なる１〜３個の基で置換されていても
よい低級アルキル基、（ｉｉｉ）ハロゲン原子；モノも
しくはジ低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；低級ア
ルキル基置換ピリミジニル基；低級アルキル基置換ピラ
ゾリル基；水酸基置換低級アルキル基；ベンジルオキシ
カルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロ
エチルオキシカルボニル基または低級アルカノイル基で
保護されていてもよいアミノ基；低級アルカノイル基置
換アミノ基；低級アルコキシ基；低級アルキル基；ベン
ジル基、フェネチル基、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、マロニル基、アクリロイル基またはベンゾ
イル基で保護されていてもよい水酸基；カルボキシル基
置換低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換
低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換低級
アルコキシ基；カルバモイル基；カルボキシル基；低級
アルキルチオ基；低級アルコキシカルボニル基；ニトロ
基；トリハロゲノ低級アルキル基；モルホリノカルボニ
ル基；カルボキシル基置換低級アルコキシ基；ジ（低級
アルキルスルホニル）アミノ基；モルホリノ低級アルキ
ルカルバモイル基置換低級アルコキシ基；スルファモイ
ル基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベン
ジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキ
シカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基また
は低級アルカノイル基で保護されていてもよいアミノ基
で置換された低級アルキル基；ベンジルオキシカルボニ
ル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−
フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオ
キシカルボニル基及び低級アルカノイル基から選ばれる
いずれか１つの保護基、及び低級アルキル基で置換され
たアミノ基；低級アルキレンジオキシ基；ベンジルオキ
シカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロ
ロエチルオキシカルボニル基または低級アルカノイル基
で保護されていてもよいアミノ基で置換されたカルバモ
イル基；低級アルキルスルフィニル基；及び低級アルキ
ルスルホニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個
の基で置換されていてもよいフェニル基またはナフチル
基、（ｉｖ）水酸基；ハロゲン原子；低級アルキル基；
フェニル基置換低級アルキル基；水酸基置換低級アルキ
ル基；オキソ基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカ
ルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロ
エチルオキシカルボニル基または低級アルカノイル基で
保護されていてもよいアミノ基；モノもしくはジ低級ア
ルキルアミノ基；フェニル低級アルコキシカルボニル
基；低級アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；及
びカルバモイル基から選ばれる同一または異なる１〜４
個の基で置換されていてもよい５〜１２員複素単環式基
もしくは二環式基、または（ｖ）ベンジルオキシカルボ
ニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９
−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチル
オキシカルボニル基、ピリジル基、低級アルカノイル
基、低級アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、フェ
ニル基、低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基
またはトリハロゲノ低級アルカノイル基から選ばれる同
一または異なる基でモノもしくはジ置換されていてもよ
いアミノ基等が挙げられる。
【００４７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のＲ2として
は、水素原子またはベンジル基、ニトロベンジル基、保
護されていてもよいアミノベンジル基、低級アルコキシ
ベンジル基等の置換もしくは非置換アリール低級アルキ
ル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の
低級アルキル基、シクロペンチル基等のシクロ低級アル
キル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチ
ル基等のシクロ低級アルキル基置換低級アルキル基、低
級アルコキシ基置換低級アルキル基、水酸基置換低級ア
ルキル基、あるいはトリメチルシリルメチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルメチル基等のトリ低級アルキ
ルシリル低級アルキル基の如きエステル残基であるもの
が挙げられる。
【００４８】上記本発明の目的化合物〔Ｉ〕が保護され
たアミノ基を有する場合は、当該アミノ基の保護基とし
ては、例えば、置換もしくは非置換低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルカノイル基等が挙げられ、具体的に
は、ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカル
ボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，
２−トリクロロエチルオキシカルボニル基、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等が挙げ
られる。このうち好ましいものとしては、置換もしくは
非置換低級アルコキシカルボニル基が挙げられ、具体的
には、ベンジルオキシカルボニル基及びｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル基が挙げられる。
【００４９】また、本発明の目的化合物〔Ｉ〕が保護さ
れた水酸基を有する場合は、当該水酸基の保護基として
は、置換もしくは非置換アリール低級アルキル基、アシ
ル基等の慣用の保護基を挙げることができる。このうち
好ましいものとしては、例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基等の如き非置換アリール低級アルキル基、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、マロニル基、アクリ
ロイル基、ベンゾイル基等のアシル基が挙げられる。
【００５０】更に、本発明の目的化合物〔Ｉ〕が保護さ
れたカルボキシル基を有する場合は、当該カルボキシル
基の保護基としては、加水分解または加水素分解により
脱離し得る保護基であり、例えば、低級アルキル基また
はハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基
から選ばれる１〜２個の基で置換されていてもよいベン
ジル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、
プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、４−ク
ロロベンジル基、４−フルオロベンジル基、４−メチル
ベンジル基、４−メトキシベンジル基が挙げられる。こ
のうち好ましくは、メチル基、エチル基、ベンジル基が
挙げられる。
【００５１】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、好まし
い化合物としては、Ｒ1が置換もしくは非置換アリール
基、置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは
非置換複素環式基または置換もしくは非置換アミノ基で
ある化合物が挙げられる。
【００５２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、より好
ましい化合物としては、環Ａが式：
【００５３】
【化３８】
【００５４】で示される環であり、Ａ1が（１）水素原
子、（２）低級アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル
基及び低級アルキルアミノ基から選ばれる同一または異
なる１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基；
水酸基置換低級アルキル基で置換されていてもよいピリ
ジル基；低級アルキル基で置換されていてもよいピリミ
ジニル基；低級アルキル基で置換されていてもよいイミ
ダゾリル基；ピラジニル基；Ｎ−オキシドピリジル基；
Ｎ−オキシドピリミジニル基；テトラゾリル基；チアゾ
リル基；ピロリジニル基；低級アルキル基置換ピロリジ
ニル基；オキソ基置換ピロリジニル基；モルホリニル
基；保護されていてもよいピペラジニル基；低級アルキ
ル基置換ピペラジニル基；保護されていてもよいピペリ
ジル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；低級アルキ
ルアミノ基；シアノ基；シクロ低級アルキル基；低級ア
ルコキシ基；および水酸基から選ばれる基で置換されて
いてもよい低級アルコキシ基、（３）ハロゲン原子、
（４）トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、（５）
テトラゾリル基、（６）トリアゾリル基、（７）水酸基
置換低級アルキル基または水酸基で置換されていてもよ
いピロリジニル基、（８）水酸基で置換されていてもよ
いピペリジル基、（９）モルホリニル基、（１０）水酸
基置換低級アルキル基またはピリミジニル基で置換され
ていてもよいピペラジニル基、（１１）ピリジル基、
（１２）イミダゾリル基、（１３）フェニル基で置換さ
れていてもよい低級アルキルチオ基、（１４）フェニル
基置換低級アルキル基、ピリジル基置換低級アルキル
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基置換低級アルキ
ル基、水酸基置換低級アルキル基、ピリミジニル基置換
低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低
級アルキル基、ピリジル基置換アミノ基、ハロゲノ低級
アルキル基置換ピリミジニル基で置換されたアミノ基、
ピリジルカルボニル基置換アミノ基および保護されてい
てもよいアミノ基から選ばれる同一または異なる１〜２
個の置換基を有するアミノ基、（１５）低級アルキル
基、または（１６）テトラヒドロフラニル基置換オキシ
基、Ａ2が（１）水素原子または（２）低級アルコキシ
基及びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる同一または
異なる１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル
基；ピリジル基；低級アルコキシ基；水酸基；およびピ
リミジニル基から選ばれる基で置換されていてもよい低
級アルキル基、環Ｂが式：
【００５５】
【化３９】
【００５６】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及
びＢ3が同一または異なって、保護されていてもよい水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン原子、Ｒ1が保護されていてもよいアミノ基、アミノ
基部分が保護されていてもよいアミノ基置換低級アルキ
ル基、カルバモイル基、保護されていてもよいカルボキ
シル基、水酸基部分が保護されていてもよい水酸基置換
低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で
置換されていてもよいフェニル基；低級アルキル基置換
ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリジル基、ピリジ
ル基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル基、カ
ルバモイル基、保護されていてもよいカルボキシル基及
び保護されていてもよい水酸基から選ばれる基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基；保護されていてもよい
アミノ基；またはアミノ基部分が保護されていてもよい
低級アルキルアミノ基、Ｒ2が水素原子、低級アルキル
基、シクロ低級アルキル基置換低級アルキル基または水
酸基置換低級アルキル基である化合物が挙げられる。
【００５７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、更に好
ましい化合物としては、環Ａが式：
【００５８】
【化４０】
【００５９】で示される環であり、Ａ1が（１）水素原
子、（２）低級アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル
基及び低級アルキルアミノ基から選ばれる同一または異
なる１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基；
水酸基置換低級アルキル基で置換されていてもよいピリ
ジル基；低級アルキル基で置換されていてもよいピリミ
ジニル基；低級アルキル基で置換されていてもよいイミ
ダゾリル基；ピラジニル基；Ｎ−オキシドピリジル基；
Ｎ−オキシドピリミジニル基；テトラゾリル基；チアゾ
リル基；ピロリジニル基；低級アルキル基置換ピロリジ
ニル基；オキソ基置換ピロリジニル基；モルホリニル
基；保護されていてもよいピペラジニル基；低級アルキ
ル基置換ピペラジニル基；保護されていてもよいピペリ
ジル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；低級アルキ
ルアミノ基、シアノ基、シクロ低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基；および水酸基から選ばれる基で置換されて
いてもよい低級アルコキシ基、（３）ハロゲン原子、
（４）テトラゾリル基、（５）トリアゾリル基、（６）
水酸基置換低級アルキル基または水酸基で置換されてい
てもよいピロリジニル基、（７）水酸基で置換されてい
てもよいピペリジル基、（８）モルホリニル基、（９）
水酸基置換低級アルキル基またはピリミジニル基で置換
されていてもよいピペラジニル基、（１０）ピリジル
基、（１１）イミダゾリル基、（１２）フェニル基で置
換されていてもよい低級アルキルチオ基、（１３）フェ
ニル基置換低級アルキル基、ピリジル基置換低級アルキ
ル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基置換低級アル
キル基、水酸基置換低級アルキル基、ピリミジニル基置
換低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された
低級アルキル基、ピリジル基置換アミノ基、ハロゲノ低
級アルキル基置換ピリミジニル基で置換されたアミノ
基、ピリジルカルボニル基置換アミノ基および保護され
ていてもよいアミノ基から選ばれる同一または異なる１
〜２個の置換基を有していてもよいアミノ基、（１４）
低級アルキル基、または（１５）テトラヒドロフラニル
基置換オキシ基、Ａ2が（１）水素原子または（２）低
級アルコキシ基及びジ低級アルキルアミノ基から選ばれ
る同一または異なる１〜２個の置換基を有していてもよ
いフェニル基；ピリジル基；低級アルコキシ基；水酸
基；およびピリミジニル基から選ばれる基で置換されて
いてもよい低級アルキル基、環Ｂが式：
【００６０】
【化４１】
【００６１】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及
びＢ3が同一または異なって、保護されていてもよい水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン原子、Ｒ1が保護されていてもよいアミノ基、アミノ
基部分が保護されていてもよいアミノ基置換低級アルキ
ル基、カルバモイル基及び低級アルコキシ基から選ばれ
る基で置換されていてもよいフェニル基；低級アルキル
基置換ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリジル基、
ピリジル基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル
基、カルバモイル基及び保護されていてもよい水酸基か
ら選ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル基；
保護されていてもよいアミノ基；またはアミノ基部分が
保護されていてもよい低級アルキルアミノ基、Ｒ2が低
級アルキル基である化合物が挙げられる。
【００６２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、薬効上
好ましい化合物としては、環Ａが、式：
【００６３】
【化４２】
【００６４】で示される環であり、Ａ1が（１）低級ア
ルコキシ基、水酸基置換低級アルキル基及び低級アルキ
ルアミノ基から選ばれる同一または異なる１〜２個の置
換基を有していてもよいフェニル基；水酸基置換低級ア
ルキル基で置換されていてもよいピリジル基；ピリミジ
ニル基；低級アルキル基で置換されていてもよいイミダ
ゾリル基；ピラジニル基、Ｎ−オキシドピリジル基；Ｎ
−オキシドピリミジニル基；テトラゾリル基；チアゾリ
ル基；ピロリジニル基；低級アルキル基置換ピロリジニ
ル基；オキソ基置換ピロリジニル基；モルホリニル基；
保護されていてもよいピペラジニル基；低級アルキル基
置換ピペラジニル基；保護されていてもよいピペリジル
基；低級アルキル基置換ピペリジル基；低級アルコキシ
基；および水酸基から選ばれる基で置換されていてもよ
い低級アルコキシ基、（２）フェニル基で置換された低
級アルキルチオ基、（３）保護されていてもよいアミノ
基、（４）アミノ基部分が保護されていてもよい低級ア
ルキルアミノ基、（５）低級アルキル基部分がピリジル
基で置換された低級アルキルアミノ基、（６）低級アル
キル基部分がピリジル基で置換されていてもよいジ低級
アルキルアミノ基、（７）低級アルキルアミノ基置換低
級アルキル基で置換されたアミノ基、（８）保護されて
いてもよいヒドラジノ基、（９）ピリジル基置換ヒドラ
ジノ基、（１０）ピリジルカルボニル基置換ヒドラジノ
基、または（１１）テトラヒドロフラニル基置換オキシ
基、Ａ2がジ低級アルコキシ基置換フェニル基で置換さ
れた低級アルキル基、環Ｂが式：
【００６５】
【化４３】
【００６６】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1及びＢ3
が同一または異なって、低級アルコキシ基、Ｂ2が低級
アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子、Ｒ
1が（１）アミノ基、アミノ基置換低級アルキル基、カ
ルバモイル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置
換されていてもよいフェニル基、（２）低級アルキル基
置換ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリジル基、ピ
リジル基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル
基、カルバモイル基及び水酸基から選ばれる基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基、（３）アミノ基または
（４）低級アルキルアミノ基、Ｒ2が低級アルキル基で
ある化合物が挙げられる。
【００６７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、より薬
効上好ましい化合物としては、環Ａが、式：
【００６８】
【化４４】
【００６９】で示される環であり、Ａ1が（１）低級ア
ルコキシ基または水酸基置換低級アルキル基で置換され
たフェニル基；水酸基置換低級アルキル基で置換されて
いてもよいピリジル基；ピリミジニル基；低級アルキル
基で置換されていてもよいイミダゾリル基；ピラジニル
基；Ｎ−オキシドピリジル基；Ｎ−オキシドピリミジニ
ル基；テトラゾリル基；チアゾリル基；ピロリジニル
基；低級アルキル基置換ピロリジニル基；オキソ基置換
ピロリジニル基；モルホリニル基；保護されていてもよ
いピペラジニル基；低級アルキル基置換ピペラジニル
基；保護されていてもよいピペリジル基；低級アルキル
基置換ピペリジル基；低級アルコキシ基；および水酸基
から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ
基、（２）フェニル基で置換された低級アルキルチオ
基、（３）低級アルキル基部分がピリジル基で置換され
た低級アルキルアミノ基または（４）低級アルキル基部
分がピリジル基で置換されていてもよいジ低級アルキル
アミノ基、環Ｂが、式：
【００７０】
【化４５】
【００７１】で示されるベンゼン環であり、Ｂ1及びＢ3
が同一または異なって、低級アルコキシ基、Ｂ2が低級
アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子、Ｒ
1が（１）アミノ基及び低級アルコキシ基から選ばれる
基で置換されていてもよいフェニル基または（２）低級
アルキル基置換ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリ
ジル基、ピリジル基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシド
ピリジル基及び水酸基から選ばれる基で置換されていて
もよい低級アルキル基、Ｒ2が低級アルキル基である化
合物が挙げられる。
【００７２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、更に薬
効上好ましい化合物としては、環Ａが、式：
【００７３】
【化４６】
【００７４】で示される環であり、Ａ1が（１）ピリジ
ル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、低級アルキル基
置換イミダゾリル基、低級アルコキシ基および水酸基か
ら選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ
基、（２）ピリジル基置換低級アルキル基で置換された
アミノ基、環Ｂがトリ低級アルコキシ基置換フェニル
基、Ｒ1が低級アルキル基置換ピリジル基または低級ア
ルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル基で置換された低級
アルキル基、Ｒ2が低級アルキル基である化合物が挙げ
られる。
【００７５】上記化合物のうち、具体的には、Ａ1が２
−ピリジルメトキシ基、２−ピラジニルメトキシ基、２
−ピリミジニルメトキシ基、２−（２−ピリジル）エト
キシ基、（１−メチルイミダゾール−２−イル）メトキ
シ基、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−ヒド
ロキシエトキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基または
２−ピリジルメチルアミノ基、環Ｂが３，４，５−トリ
メトキシフェニル基、Ｒ１が（２−メチルピリジン−４
−イル）メチル基または（２−メチル−Ｎ−オキシドピ
リジン−４−イル）メチル基である化合物が挙げられ
る。
【００７６】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、特に薬
効上好ましい化合物としては、環Ａが、式：
【００７７】
【化４７】
【００７８】で示される環であり、Ａ1がピリジル基置
換低級アルコキシ基、ピリミジニル基置換低級アルコキ
シ基、（１−メチルイミダゾール−２−イル）低級アル
コキシ基、低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基、水
酸基置換低級アルコキシ基、ピリジル基置換低級アルキ
ル基で置換されたアミノ基、環Ｂがトリ低級アルコキシ
基置換フェニル基、Ｒ1が低級アルキル基置換ピリジル
基で置換された低級アルキル基、Ｒ2が低級アルキル基
である化合物が挙げられる。
【００７９】上記化合物のうち、とりわけ、Ａ1がピリ
ミジニル基置換低級アルコキシ基、環Ｂがトリ低級アル
コキシ基置換フェニル基、Ｒ1が低級アルキル基置換ピ
リジル基で置換された低級アルキル基である化合物が好
ましい。
【００８０】本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、環Ａ及び環
Ｂ上の置換基及び／またはＲ1が不斉原子を有する場
合、当該不斉原子に基づく光学異性体として存在しうる
が、本発明はこれらの光学異性体及びその混合物のいず
れをも含むものである。
【００８１】本発明の目的化合物〔Ｉ〕またはその薬理
的に許容しうる塩は、ｃＧＭＰ特異的ＰＤＥ阻害作用、
特に優れた選択的ホスホジエステラーゼＶ（ＰＤＥ
Ｖ）阻害作用を有し、ＰＤＥ Ｖ阻害作用に基づき、優
れた血管拡張作用、肺動脈圧低下作用、陰茎内圧上昇作
用、摘出血管弛緩作用、海綿体弛緩作用、血管平滑筋増
殖抑制作用、心肥大抑制作用、血小板凝集抑制作用等を
示す。
【００８２】従って、本発明の目的化合物〔Ｉ〕または
その薬理的に許容し得る塩は、慢性心不全、狭心症、陰
茎勃起不全、高血圧症、肺高血圧症、動脈硬化、ＰＴＣ
Ａ後再狭窄等の予防・治療剤として有用な医薬化合物で
あり、かつ、副作用をほとんど示さず、低毒性であると
いう特長を有するため、医薬として安全性が高いという
特長をも有する。
【００８３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、遊離の形で
も、また、薬理的に許容し得る塩の形でも医薬用途に使
用することができる。化合物〔Ｉ〕の薬理的に許容しう
る塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸
塩または臭化水素酸塩の如き無機酸塩、酢酸塩、フマル
酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トシル酸塩またはマ
レイン酸塩の如き有機酸塩等が挙げられる。また、カル
ボキシル基等の置換基を有する場合には塩基との塩（例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩また
はカルシウム塩の如きアルカリ土類金属塩）が挙げられ
る。
【００８４】本発明の目的化合物〔Ｉ〕またはその塩
は、その分子内塩や付加物、それらの溶媒和物あるいは
水和物等をいずれも含むものである。
【００８５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕またはその薬理
的に許容しうる塩は経口的にも非経口的にも投与するこ
とができ、また、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、注
射剤、吸入剤等の慣用の医薬製剤として用いることがで
きる。
【００８６】本発明の目的化合物〔Ｉ〕またはその薬理
的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、
体重、状態によっても異なるが、注射剤とすれば、通
常、１日当り約０．０００１〜０．５ｍｇ／ｋｇ、とり
わけ約０．０００５〜０．１ｍｇ／ｋｇ程度、経口剤と
すれば、通常、１日当り約０．００１〜３０ｍｇ／ｋ
ｇ、とりわけ約０．０５〜１０ｍｇ／ｋｇ程度とするの
が好ましい。
【００８７】本発明によれば、目的化合物〔Ｉ〕は、下
記〔Ａ法〕または〔Ｂ法〕によって製造することができ
る。
【００８８】〔Ａ法〕本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、一
般式〔ＩＩ〕
【００８９】
【化４８】
【００９０】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその塩と、一般式〔ＩＩ
Ｉ〕
【００９１】
【化４９】
【００９２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応さ
せることにより製造することができる。
【００９３】〔Ｂ法〕本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、一
般式〔ＩＩ〕
【００９４】
【化５０】
【００９５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその塩を加水分解反応に
付して、一般式〔ＩＶ〕
【００９６】
【化５１】
【００９７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、当該生成物〔Ｉ
Ｖ〕と、一般式〔ＩＩＩ〕
【００９８】
【化５２】
【００９９】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応さ
せることにより製造することができる。なお、一般式
〔ＩＶ〕で示される化合物は、溶液中では次の構造を有
する互変異性体
【０１００】
【化５３】
【０１０１】として存在する。
【０１０２】これら〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕で得られる化
合物〔Ｉ〕は、所望により、その薬理的に許容しうる塩
とすることができる。
【０１０３】上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕は以下のように
して実施することができる。
【０１０４】〔Ａ法〕化合物〔ＩＩ〕またはその塩とア
ミン化合物〔ＩＩＩ〕またはその塩との反応は、溶媒中
または無溶媒で実施することができる。溶媒としては、
本反応を阻害しない溶媒をいずれも用いることができ、
例えば、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、エチレングリコール、Ｎ−メチルピロリドン、キシ
レン、ジクロロエタン等を好適に用いることができる。
本反応は、２０〜１５０℃、とりわけ、４０〜１３０℃
で好適に進行する。
【０１０５】〔Ｂ法〕化合物〔ＩＩ〕またはその塩の加
水分解反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施することが
できる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等を
好適に用いることができる。溶媒としては、水またはメ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等と水との混合溶媒
を適宜用いることができる。本反応は、０〜８０℃、と
りわけ５〜６０℃で好適に進行する。
【０１０６】化合物〔ＩＶ〕とアミン化合物〔ＩＩＩ〕
またはその塩との反応は、脱酸剤の存在下または非存在
下、適当な溶媒中または無溶媒で実施することができ
る。脱酸剤としては、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン、トリエチルアミン、ピリジン、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等を
好適に用いることができる。溶媒としては、上記〔Ａ
法〕で記載の溶媒をいずれも好適に用いることができ
る。本反応は、２０〜１４０℃、とりわけ３０〜１００
℃で好適に進行する。
【０１０７】また上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕で用いられ
るアミン化合物〔ＩＩＩ〕のＲ1がアミノ基或いはアミ
ノ基を含む置換基である場合は、当該アミノ基に保護基
（例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基等の如き置換もしくは非置換低級ア
ルコキシカルボニル基、ホルミル、アセチル基、プロピ
オニル基等の如き低級アルカノイル基等）を導入してか
ら本反応を実施するのが望ましい。
【０１０８】上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕で得られる化合
物〔Ｉ〕のＲ2が水素原子である化合物、即ち、一般式
〔Ｉ−ａ〕
【０１０９】
【化５４】
【０１１０】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物は常法でエステル化することに
より、一般式〔Ｉ−ｂ〕
【０１１１】
【化５５】
【０１１２】（式中、Ｒ21はエステル残基を表し、他の
記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物に
変換することができる。例えば、化合物〔Ｉ−ｂ〕は、
化合物〔Ｉ−ａ〕とアルキル化剤とを、脱酸剤の存在下
または非存在下、溶媒中で反応させることにより製する
ことができる。脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、
炭酸アルカリ金属等の無機塩基、Ｎ−メチルモルホリ
ン、トリエチルアミン、ピリジン、１，５−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，８−ジアザビ
シクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン等の有機塩基
を好適に用いることができる。アルキル化剤としては、
ジアゾメタン、ジアゾエタン等のジアゾアルカン、硫酸
ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジアルキル、ヨウ化メ
チル、臭化メチル、臭化エチル等のアルキルハライド、
トリメチルシリルジアゾメタン等のトリ低級アルキルシ
リルジアゾアルカン、ベンジルクロリド、ベンジルブロ
ミド等のアリール低級アルキルハライド等が挙げられ
る。アルキル化剤として硫酸ジアルキル、アルキルハラ
イドまたはアリール低級アルキルハライドを使用する場
合は、脱酸剤を化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常１〜５
当量、好ましくは１〜２当量用いることができる。本反
応は、０〜６０℃、とりわけ５〜４０℃で好適に進行す
る。また、アルキル化剤としてジアゾアルカンを使用す
る場合、化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常１〜５当量、
好ましくは、１〜２当量用いることができる。本反応
は、０〜５０℃、とりわけ５〜３０℃で好適に進行す
る。なお、Ｒ2がメチル基である化合物〔Ｉ−ｂ〕は、
前記の方法において、アルキル化剤としてトリメチルシ
リルジアゾメタンを用いれば、緩和な条件下で製造する
ことができる。溶媒としては、水の他、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド、あるいはこれ
らの混合溶媒を用いることができる。
【０１１３】また、化合物〔Ｉ−ｂ〕は、化合物〔Ｉ−
ａ〕とメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等の低級アルコールを、光延等の方法（シンセシス
（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），第１〜２８頁，１９８１年）
に準じて製することもできる。具体的には、ジエチルア
ゾジカルボキシレート及びトリフェニルホスフィンの存
在下、化合物〔Ｉ−ａ〕と低級アルコールをテトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼ
ン、トルエン、ジメトキシエタン等の溶媒中反応させる
ことにより製することができる。本反応は、例えば、−
１０〜６０℃、とりわけ、５〜４０℃で好適に進行す
る。
【０１１４】また、化合物〔Ｉ−ｂ〕は、化合物〔Ｉ−
ａ〕と酸性条件下、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等の低級アルコールや、ベンジルアル
コール、フェネチルアルコール等のアリール低級アルコ
ールと反応させることにより製することもできる。酸性
条件とするための酸としては、例えば、硫酸、塩化水
素、ｐ−トルエンスルホン酸等を用いることができる。
当該酸は化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常、０．０１〜
２０当量、好ましくは、０．１〜１０当量用いることが
できる。本反応は、該アルコール中、加熱還流下で好適
に進行する。
【０１１５】ここで、上記化合物〔Ｉ−ａ〕が、環Ａ、
環Ｂ及び／またはＲ1に、１個以上のカルボキシル基ま
たはモノ置換もしくは非置換アミノ基を有する化合物で
ある場合には、同化合物を上記アルキル化剤と反応させ
ることにより、カルボキシル基がアルキル化された対応
化合物或いは該アミノ基がモノ−もしくはジ低級アルキ
ルアミノ基に変換された化合物に変換することもでき
る。
【０１１６】前記本発明に係る化合物〔Ｉ〕の製造に際
しては、化合物〔Ｉ−ａ〕、〔ＩＩ〕、〔ＩＩＩ〕及び
〔ＩＶ〕は塩の形でも使用することができ、このような
塩としては、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム
の如きアルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリン等の有機塩基との塩、塩化水素、
臭化水素、硝酸、硫酸等の無機酸との塩、酢酸、ギ酸、
シュウ酸、クエン酸、マロン酸等の有機酸との塩等が挙
げられる。
【０１１７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、上記の如く
して得られる化合物の環Ａ上の置換基及び／または基Ｒ
1を目的とする他の置換基へ変換することによっても製
造することができる。このような置換基の変換方法は、
目的とする置換基の種類に応じて適宜選択すればよい
が、例えば次の（ａ法）〜（ｍ法）の如く実施すること
ができる。
【０１１８】（ａ法）：一般式〔Ｉ〕における環Ａ、環
Ａ上の置換基及び／又はＲ1上の置換基が、置換または
非置換Ｎ−オキシドピリジン環である目的化合物〔Ｉ〕
は、環Ａ、環Ａ上の置換基及び／又はＲ1上の置換基が
対応する置換または非置換ピリジン環である化合物を、
溶媒の存在下、酸化剤により酸化することにより製する
ことができる。溶媒としては、例えば、塩化メチレン、
クロロホルム、メタノール、水、酢酸等が挙げられる。
酸化剤としては、ｍ−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸
化水素、過トリフルオロ酢酸等の過酸化物、過ヨウ素酸
ナトリウム、四酸化オスミウム、亜臭素酸ナトリウム等
が挙げられる。また、酸化剤を出発原料に対し、１〜１
０当量使用すればいい。本反応は、例えば、０〜１００
℃、とりわけ室温〜５０℃で好適に進行する。
【０１１９】（ｂ法）：一般式〔Ｉ〕における環Ａが、
置換または非置換オキソ基置換ジヒドロピリジン環であ
る目的化合物〔Ｉ〕は、環Ａが、対応する置換または非
置換Ｎ−オキシドピリジン環である化合物を、例えば、
溶媒の存在下または非存在下、酸無水物と反応し、転位
生成物を得た後、塩基処理することにより製することが
できる。溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、トルエン、１，２−ジ
クロロエタン、酢酸等が挙げられる。酸無水物として
は、例えば、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等が挙げ
られる。塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリ
ウム及び水酸化ナトリウム等が挙げられる。酸無水物と
の反応は、例えば、５０〜１５０℃で実施することがで
きる。塩基処理は、例えば、０〜６０℃で実施すること
ができる。
【０１２０】（ｃ法）：一般式〔Ｉ〕における環Ａが、
テトラゾリル基で置換されたピリジン環である目的化合
物〔Ｉ〕は、環Ａが、対応するＮ−オキシドピリジン環
である化合物を、例えば、溶媒中、シアノ化剤と塩基と
を用いてシアノ化した後、溶媒中、アジ化金属を用いて
テトラゾリル化させることにより製することができる。
シアノ化反応の溶媒としては、例えば、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム等が、シアノ化剤と
しては、トリメチルシリルシアニド、ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルシアニド等が、塩基としては、例えば、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−
エン、トリエチルアミン等が挙げられる。本反応は、例
えば、２０〜１３０℃で実施することができる。テトラ
ゾリル化反応の溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン等が、アジ化金属として
は、例えば、アジ化ナトリウム、アジ化トリブチルスズ
等が挙げられる。本反応は、例えば、４０〜１００℃で
実施することができる。
【０１２１】（ｄ法）：一般式〔Ｉ〕における環Ａ上の
置換基がテトラゾリル基を有する目的化合物〔Ｉ〕は、
環Ａ上の置換基が対応するシアノ基を有する化合物を、
溶媒中、アジ化金属を用いてテトラゾリル化させること
により製することができる。溶媒としては、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン
等が、アジ化金属としては、例えば、アジ化ナトリウ
ム、アジ化トリブチルスズ等が挙げられる。本反応は、
例えば、４０〜１００℃で実施することができる。
【０１２２】（ｅ法）：一般式〔Ｉ−ｃ〕
【０１２３】
【化５６】
【０１２４】（式中、環Ａ1は、式：
【０１２５】
【化５７】
【０１２６】で示されるオキソ基置換ジヒドロピリジン
環であり、Ａ21は置換または非置換低級アルキル基を表
わし、他の記号は前記と同一意味を有する。）および／
または一般式〔Ｉ−ｄ〕
【０１２７】
【化５８】
【０１２８】（式中、環Ａ2は、式：
【０１２９】
【化５９】
【０１３０】で示されるピリジン環であり、他の記号は
前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、一般
式〔Ｉ−ｅ〕
【０１３１】
【化６０】
【０１３２】（式中、環Ａ3は、式：
【０１３３】
【化６１】
【０１３４】で示されるオキソ基置換ジヒドロピリジン
環であり、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示
される化合物またはその塩と、一般式〔Ｖ〕
【０１３５】
【化６２】
【０１３６】（式中、Ｘは脱離基を表わし、他の記号は
前記と同一意味を有する。）で示される化合物を反応さ
せることにより製造することができる。
【０１３７】化合物〔Ｖ〕における脱離基としては、水
酸基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−ト
シルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基あるいは塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げ
られる。
【０１３８】即ち、化合物〔Ｉ−ｅ〕と化合物〔Ｖ〕と
の反応は、脱離基Ｘが水酸基である場合、例えば、光延
等の方法（シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），第１〜
２８頁，１９８１年）に準じて行うことができる。具体
的には、ジエチルアゾジカルボキシレート及びトリフェ
ニルホスフィンの存在下、化合物〔Ｉ−ｅ〕と化合物
〔Ｖ〕をテトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、クロロホルム、塩
化メチレン、ベンゼン、トルエン、ジメトキシエタン等
の溶媒中反応させることにより製することができる。本
反応は、例えば、０〜６０℃、とりわけ、５〜４０℃で
好適に進行する。
【０１３９】また、化合物〔Ｉ−ｅ〕と化合物〔Ｖ〕と
の反応は、化合物〔Ｖ〕の脱離基Ｘが、トリフルオロメ
タンスルホニルオキシ基、ｐ−トシルオキシ基、メタン
スルホニルオキシ基、或いは塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子等のハロゲン原子である場合には、溶媒中、塩基
の存在下に実施することができる。本反応は、上記塩基
と銅触媒の存在下或いは非存在下で実施することも可能
である。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等が挙げられる。塩基としては、例えば、
水素化ナトリウム等の如き水素化アルカリ金属、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の如
きアルカリ金属アルコキシド、水酸化ナトリウム等の如
き水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸銀等の如き炭酸金属等の無機塩基や、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン、Ｎ
−メチルモルホリン、トリエチルアミン等の有機塩基を
挙げることができる。また、塩基の使用量としては、化
合物〔Ｉ−ｅ〕に対して、通常１〜５当量、好ましく
は、１〜２当量用いることができるが、基Ｒ１がモノ置
換されていてもよいアミノ基或いはモノ置換されていて
もよいアミノ基を含む置換基である場合は、当該アミノ
基に保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
の如き低級アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基等の如きアリール低級アルコキシカルボニル
基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基等の如き
低級アルカノイル基等）を導入してから本反応を実施す
るのが望ましい。
【０１４０】銅触媒としては、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅
（Ｉ）、銅粉（０）、酸化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）等
が挙げられる。本反応は、例えば、１０〜１６０℃、と
りわけ、２０〜１２０℃で好適に進行する。
【０１４１】（ｆ法）： 一般式〔Ｉ−ｆ〕
【０１４２】
【化６３】
【０１４３】（式中、環Ａ4は、式：
【０１４４】
【化６４】
【０１４５】で示されるピリジン環であり、Ａ11は置換
もしくは非置換低級アルコキシ基、置換もしくは非置換
低級アルキルチオ基または置換もしくは非置換アミノ基
を表わし、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示
される化合物は、一般式〔Ｉ−ｇ〕
【０１４６】
【化６５】
【０１４７】（式中、環Ａ5は、式：
【０１４８】
【化６６】
【０１４９】で示されるピリジン環であり、Ａ12はハロ
ゲン原子を表わし、他の記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその塩と、一般式〔Ｖ
Ｉ〕
【０１５０】
【化６７】
【０１５１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物を、溶媒中、塩基の存在下或い
は非存在下で反応させることにより製造することができ
る。
【０１５２】溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド等を挙げること
ができる。塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等
の如き水素化アルカリ金属、ナトリウムアミド等の如き
アルカリ金属アミド、ナトリウムメトキシド、カリウム
ｔｅｒｔ−ブトキシド等の如きアルカリ金属アルコキシ
ド、水酸化ナトリウム等の如き水酸化アルカリ金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸銀等
の如き炭酸金属等の無機塩基や、Ｎ−メチルモルホリ
ン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を挙げる
ことができる。また、塩基の使用量としては、化合物
〔Ｉ−ｇ〕に対して、通常１〜５当量、好ましくは、１
〜３当量用いることができる。また、本反応は上記塩基
に加えて、酢酸パラジウム、テトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム等の金属触媒及びトリフェニルホス
フィン、１，１'−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェ
ロセン等の添加剤の存在下実施することもできる。金属
触媒の使用量としては、化合物〔Ｉ−ｇ〕に対して、例
えば、０．０２〜０．５当量用いることができる。な
お、基Ｒ1がモノ置換されていてもよいアミノ基或いは
モノ置換されていてもよいアミノ基を含む置換基である
場合は、当該アミノ基に保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基の如き低級アルコキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基等の如きアリール低級
アルコキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基等の如き低級アルカノイル基等）を導入し
てから本反応を実施するのが望ましい。
【０１５３】（ｇ法）：化合物〔Ｉ−ｇ〕は、化合物
〔Ｉ−ｄ〕またはその塩を、溶媒の存在下または非存在
下、ハロゲン化することにより製造することができる。
【０１５４】溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドを挙げることができる。ハロゲン化剤とし
ては、例えば、オキシ塩化リンを挙げることができる。
また、ハロゲン化剤の使用量としては、化合物〔Ｉ−
ｄ〕に対して、通常２〜５０当量、好ましくは、５〜３
０当量用いることができる。本反応は、例えば５０〜１
２０℃で実施することができる。
【０１５５】（ｈ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ1がアミノ基を含有する置換
基（例えば、アミノ低級アルキル基置換アリール基、ア
ミノ基置換アリール基で置換された低級アルキル基低級
アルキルアミノ基等）である目的化合物〔Ｉ〕は、環Ａ
上の置換基及び／または基Ｒ1がモノもしくはジ低級ア
ルカノイルアミノ基または保護されたアミノ基を含有す
る置換基である対応化合物〔Ｉ〕から、低級アルカノイ
ル基またはアミノ基の保護基を除去することにより製す
ることができる。当該保護基または低級アルカノイル基
の除去は常法（例えば、酸処理、塩基処理、接触還元
等）によって実施することができる。本反応のうち、酸
処理による反応は、例えば、５〜１２０℃、塩基処理に
よる反応は、５〜４０℃、接触還元による反応は、１０
〜４０℃で実施することができる。
【０１５６】（ｉ法）：化合物〔Ｉ−ｅ〕は、化合物
〔Ｉ−ｄ〕またはその塩を、溶媒の存在下、酸により加
水分解することにより製造することができる。
【０１５７】溶媒としては、例えば、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール、酢
酸、水等が挙げられる。酸としては、例えば、塩酸、臭
化水素酸、硫酸等の鉱酸、トリクロロボラン、四塩化チ
タン、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等のルイス
酸が挙げられる。本反応は、例えば、０〜１００℃で実
施することができる。
【０１５８】（ｊ法）： 一般式〔Ｉ−ｈ〕
【０１５９】
【化６８】
【０１６０】（式中、環Ａ6は、式：
【０１６１】
【化６９】
【０１６２】で示されるピリジン環であり、他の記号は
前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、化合
物〔Ｉ−ｇ〕またはその塩を、溶媒の存在下、還元する
ことにより製造することができる。
【０１６３】溶媒としては、例えば、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル、酢酸等またはこれらの混合溶媒が、還元剤として
は、例えば、水素−パラジウム炭素、水素−パラジウム
黒等が挙げられる。本反応は、例えば、０〜５０℃で実
施することができる。
【０１６４】（ｋ法）： 一般式〔Ｉ−ｉ〕
【０１６５】
【化７０】
【０１６６】（式中、環Ａ7は、式：
【０１６７】
【化７１】
【０１６８】で示されるピリジン環であり、Ｔｆはトリ
フルオロメタンスルホニル基を表し、他の記号は前記と
同一意味を有する。）で示される化合物は、化合物〔Ｉ
−ｅ〕またはその塩を、溶媒の存在下、脱酸剤の存在
下、トリフルオロメタンスルホニル化することにより製
造することができる。
【０１６９】溶媒としては、例えば、塩化メチレン、ク
ロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が、脱酸
剤としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジ
イソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等が
挙げられる。トリフルオロメタンスルホニル化剤として
は、例えば、無水トリフルオロメタンスルホン酸、トリ
フルオロメタンスルホニルクロリド等が挙げられる。ト
リフルオロメタンスルホニル化剤の使用量は、化合物
〔Ｉ−ｅ〕に対し、通常、１〜５当量、好ましくは、１
〜２当量用いることができる。本反応は、例えば、−２
０〜７０℃、好ましくは、０〜４０℃で実施することが
できるが、基Ｒ1がモノ若しくはジ置換されていてもよ
いアミノ基を含む置換基又は水酸基を含む置換基である
場合は、アミノ基及び水酸基に保護基を導入してから本
反応を実施するのが好ましい。
【０１７０】（ｌ法）： 一般式〔Ｉ−ｊ〕
【０１７１】
【化７２】
【０１７２】（式中、環Ａ8は、式：
【０１７３】
【化７３】
【０１７４】で示されるピリジン環であり、Ａ13は置換
もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは非置換ア
リール基、置換もしくは非置換芳香族複素環式基又はシ
アノ基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）
で示される化合物は、化合物〔Ｉ−ｇ〕または化合物
〔Ｉ−ｉ〕と、一般式〔ＶＩＩ〕
【０１７５】
【化７４】
【０１７６】（式中、Ｍｔｌは水酸基、ハロゲン原子、
シアノ基、低級アルキル基、アリール基、低級アルコキ
シ基、アリールオキシ基、およびアリールチオ基から選
ばれる基で配位されていてもよい金属を表し、他の記号
は前記と同一意味を有する。）で示される金属化合物
を、溶媒の存在下、触媒の存在下、添加剤の存在下又は
非存在下、反応させることにより製造することができ
る。
【０１７７】金属としては、ホウ素、スズ、亜鉛、マグ
ネシウム、アルミニウム、リチウム等の金属が挙げられ
る。溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。触
媒としては、酢酸パラジウム、テトラキストリフェニル
ホスフィンパラジウム、ビストリフェニルホスフィンパ
ラジウムジクロリド等が挙げられる。添加剤としては、
トリフェニルホスフィン、トリ−ｏ−トルイルホスフィ
ン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。化合
物〔ＶＩＩ〕の使用量は、化合物〔Ｉ−ｇ〕又は化合物
〔Ｉ−ｉ〕に対し、１〜３当量、好ましくは、１〜１．
５当量用いることができる。触媒の使用量は、化合物
〔Ｉ−ｇ〕又は化合物〔Ｉ−ｉ〕に対し、０．０１〜
０．２当量、好ましくは、０．０５〜０．１当量用いる
ことができる。本反応は、例えば、０〜１２０℃、好ま
しくは、１０〜１００℃で実施することができる。
【０１７８】（ｍ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ1がアシル化されたアミノ基
またはヒドラジノ基を含有する置換基（例えば、低級ア
ルカノイルアミノ基、置換もしくは非置換アリールカル
ボニルアミノ基、複素環式基置換カルボニル基で置換さ
れたアミノ基等）である目的化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の
置換基及び／または基Ｒ1がアミノ基またはヒドラジノ
基を含有する置換基である対応化合物〔Ｉ〕に、対応す
るカルボン酸またはその反応性誘導体を反応させること
により製することができる。当該アシル化反応は常法
（例えば、対応カルボン酸を酸ハライド、混合酸無水物
等に変換して反応させる方法、縮合剤を用いる方法等）
によって実施することができる。本反応は、例えば、−
３０〜６０℃で実施することができる。
【０１７９】原料化合物〔ＩＩ〕は、例えば、一般式
〔ｉ〕
【０１８０】
【化７５】
【０１８１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物と一般式〔ｉｉ〕
【０１８２】
【化７６】
【０１８３】（式中、Ｘ1はハロゲン原子、Ｚ1はカルボ
キシル基の保護基を表す。）で示されるマロン酸化合物
とを塩基（例えば、炭酸カリウム等）の存在下反応させ
て、一般式〔ｉｉｉ〕
【０１８４】
【化７７】
【０１８５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、化合物〔ｉｉ
ｉ〕から保護基を除去（例えば、酸処理、接触還元等）
することにより、一般式〔ｉｖ〕
【０１８６】
【化７８】
【０１８７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、さらに該生成物を酸（例
えば、塩化水素、酢酸等）の存在下または非存在下、脱
炭酸反応及び脱水反応（例えば加熱処理等）し、要すれ
ば、当該生成物のカルボキシル基を常法によりエステル
化することにより製することができる。
【０１８８】Ｚ1のカルボキシル基の保護基としては、
例えば、低級アルキル基、ベンジル基、アリル基等が挙
げられる。
【０１８９】なお、上記化合物〔ｉ〕と化合物〔ｉｉ〕
との反応において、塩基として弱塩基（例えば、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）を用いることによ
り、一般式〔ｖｉ〕
【０１９０】
【化７９】
【０１９１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、塩基（例えば、
炭酸カリウム、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］
ウンデセ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．
３．０］ノネ−５−エン等）の存在下環化して化合物
〔ｉｉｉ〕を得ることもできる。
【０１９２】また、原料化合物〔ＩＩ〕のうち一般式
〔ＩＩ−ａ〕
【０１９３】
【化８０】
【０１９４】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物は、例えば、一般式〔ｉ−ａ〕
【０１９５】
【化８１】
【０１９６】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物と一般式〔ｖ〕
【０１９７】
【化８２】
【０１９８】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるジアゾマロン酸化合物とを金属触媒
（例えば、酢酸ロジウム、トリフルオロ酢酸ロジウム等
のロジウム触媒等）の存在下反応した後、塩基（例え
ば、炭酸カリウム、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデセ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノネ−５−エン等）で処理して、一般式
〔ｉｉｉ−ａ〕
【０１９９】
【化８３】
【０２００】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とした後、保護基を除去（例え
ば、酸処理、接触還元等）し、次いで該化合物を酸（例
えば、塩化水素、酢酸等）の存在下または非存在下、脱
炭酸反応及び脱水反応（例えば加熱処理等）し、要すれ
ば、当該生成物のカルボキシル基を常法によりエステル
化することにより製することができる。
【０２０１】また、化合物〔ｉ〕は、慣用の方法に従っ
て製することができ、例えば、一般式〔ｖｉｉ〕
【０２０２】
【化８４】
【０２０３】（式中、Ｙはモノ−もしくはジ低級アルキ
ルアミノ基を表し、他の記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物を、溶媒中（例えば、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル等）、塩基（ｎ−ブチル
リチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム等）の存在下、一般
式〔ｖｉｉｉ〕
【０２０４】
【化８５】
【０２０５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物と反応させて、一般式〔ｉｘ〕
【０２０６】
【化８６】
【０２０７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、該化合物を酸
（例えば、塩酸、硫酸等）で処理することにより、一般
式〔ｘ〕
【０２０８】
【化８７】
【０２０９】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、さらに、溶媒中（例え
ば、水、ピリジンと水との混合溶媒等）、当該化合物を
塩基（水酸化ナトリウム等の無機塩基）の存在下、酸化
剤（過マンガン酸カリウム、亜塩素酸ナトリウム等）で
処理することにより製することができる。
【０２１０】なお、化合物〔ｉ−ａ〕は、一般式〔ｉ−
ｂ〕
【０２１１】
【化８８】
【０２１２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物のカルボキシル基部分を保護基
で、常法により保護した後、上記（ａ法）と同様の方法
でＮ−オキシド化して、次いで、オキシハロゲン化リン
等でハロゲン化し、再び、カルボキシル基部分の保護基
を脱保護することにより製することができる。
【０２１３】なお、化合物〔ｉｉ〕は、一般式〔ｘｉ〕
【０２１４】
【化８９】
【０２１５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるマロン酸ジエステルとハロゲン化剤と
を反応させることにより製することができる。本反応
は、塩基の存在下に実施するのが望ましい。また、溶媒
の非存在下で実施することもできるが、溶媒の存在下実
施するのが望ましい。ハロゲン化剤としては、例えば、
Ｎ−ブロモこはく酸イミド、Ｎ−クロロこはく酸イミ
ド、Ｎ−ヨードこはく酸イミド、臭素、ヨウ素、臭化
銅、塩化銅等が挙げられ、このうち、Ｎ−ブロモこはく
酸イミド、Ｎ−クロロこはく酸イミド等が好ましく、通
常、化合物〔ｘｉ〕に対して、１．０〜１．０５当量用
いることができる。塩基としては、１，８−ジアザビシ
クロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］ノネ−５−エン、トリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基が挙
げられ、このうち、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデセ−７−エン、トリエチルアミン等が好まし
く、通常化合物〔ｘｉ〕に対して、０．００１〜０．１
当量、好ましくは０．００５〜０．０５当量用いること
ができる。溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，
３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、トルエン、メチ
レンクロリド、クロロホルム等が挙げられる。反応は、
例えば、−３０〜４０℃、好ましくは、−１５℃〜２５
℃で実施することができる。
【０２１６】なお、本反応は、ハロゲン化剤としてＮ−
ブロモこはく酸イミド等を、塩基として１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン、トリエチ
ルアミン等を、溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等を用いることにより好適に進行する。
【０２１７】特に、Ｚ1がｔｅｒｔ−ブチル基の場合
は、ハロゲン化剤としてＮ−ブロモこはく酸イミドを、
塩基として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウン
デセ−７−エンを、溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドを用いることにより好適に進行する。
【０２１８】また、特に、Ｚ1がベンジル基の場合は、
ハロゲン化剤としてＮ−ブロモこはく酸イミドを、塩基
としてトリエチルアミンを、溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドを用いることにより好適に進行する。
【０２１９】なお、本発明において、アルキル基とは、
炭素数１〜１６のアルキル基を表わし、このうち、とり
わけ炭素数１〜８の直鎖状または分岐鎖状のものが好ま
しい。低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アル
キレン基とは、炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ
基及びアルキレン基を表わし、このうち、とりわけ炭素
数１〜４のものが好ましい。ハロゲン原子とは、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等を表わす。また、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基とは、炭素数２〜７のアルケ
ニル基及びアルキニル基を表し、このうち、とりわけ炭
素数２〜５の直鎖状または分岐鎖状のものが好ましい。
低級アルキレンジオキシ基、低級アルカノイル基とは、
炭素数１〜７のアルキレンジオキシ基及びアルカノイル
基を表し、このうち、とりわけ、炭素数１〜５の直鎖状
または分岐鎖状のものが好ましい。更に、シクロ低級ア
ルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表
し、このうち、とりわけ炭素数３〜６のものが好まし
い。
【０２２０】
【実施例】上記例示の各方法で合成される本発明の目的
化合物〔Ｉ〕の具体例（実施例）を下記に示すが、これ
により本発明が限定されるものではない。
【０２２１】実施例 １ （１）８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−８Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６−
カルボン酸（参考例３４で得られた化合物）４００ｍｇ
及びアニリン３０６μｌの１，３−ジメチル−２−イミ
ダゾリジノン３ｍｌ溶液を１００℃で終夜撹拌する。反
応液に水と酢酸エチルを加え抽出し、抽出液を洗浄、乾
燥後、溶媒を留去することにより、７，８−ジヒドロ−
８−オキソ−７−フェニル−５−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボ
ン酸を得る。
【０２２２】（２）上記（１）で得られた化合物を酢酸
エチル５ｍｌとメタノ−ル１ｍｌの混液に溶解させ、ト
リメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（２Ｍ）５
６０μｌを加えて、室温で１時間反応させる。反応液に
水と酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を分取し、洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝１
０：１）で精製することにより、７，８−ジヒドロ−８
−オキソ−７−フェニル−５−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン
酸メチルエステル９２ｍｇを得る。
【０２２３】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例 ２ （１）参考例３４で得られた化合物と４−ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノアニリンとを実施例１（１）及
び（２）と同様に処理することにより、７−（４−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノフェニル）−７，８−
ジヒドロ−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸
メチルエステルを得る。
【０２２４】ｍ．ｐ．１８３−１８５℃（分解） （２）上記（１）で得られた化合物６３０ｍｇをクロロ
ホルム３ｍｌ及びメタノール３ｍｌの混液に溶解し、室
温で４Ｍ塩化水素−酢酸エチル溶液５ｍｌを加え、終夜
撹拌する。析出した結晶をろ取し、ジエチルエーテルで
洗浄することにより、７−（４−アミノフェニル）−
７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステル・塩酸塩５１０ｍｇを得る。
【０２２５】ｍ．ｐ．２１１−２１４℃（分解） 実施例 ３〜４ 対応原料化合物を実施例１（１）及び（２）と同様に処
理することにより、第１表記載の化合物を得る。
【０２２６】
【表１】
【０２２７】実施例 ５〜７ 対応原料化合物を実施例１（１）、（２）及び実施例２
（２）と同様に処理することにより、第２表記載の化合
物を得る。
【０２２８】
【表２】
【０２２９】実施例 ８ 実施例４で得られた化合物を、実施例２（２）と同様に
処理することにより、２−（２−メチルピリジン−４−
イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，６−ナフ
チリジン−３−カルボン酸メチルエステル・２塩酸塩を
得る。
【０２３０】ｍ．ｐ．１７５−１７８℃（分解） 実施例 ９ （１）実施例２（１）で得られた化合物２８．７ｇのク
ロロホルム６００ｍｌ溶液に、氷冷下、３−クロロ過安
息香酸５５．１ｇのクロロホルム１２００ｍｌ溶液を滴
下し、室温で終夜撹拌する。反応液をチオ硫酸ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製する
ことにより、７−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
アミノフェニル）−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステル−Ｎ−オキ
シド１４．０ｇを得る。
【０２３１】ｍ．ｐ．２４６−２４８℃（分解） （２）上記（１）で得られた化合物を実施例２（２）と
同様に処理することにより、７−（４−アミノフェニ
ル）−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−
６−カルボン酸メチルエステル−Ｎ−オキシド・塩酸塩
を得る。
【０２３２】ｍ．ｐ．２１７−２２０℃（分解） 実施例 １０ 実施例９（１）で得られた化合物１．０ｇのテトラヒド
ロフラン２０ｍｌ溶液にトリメチルシリルシアニド２７
７μｌを加え、次いで１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデセ−７−エン６００μｌを加え、室温で
終夜撹拌する。反応液に水及び酢酸エチルを加えて抽出
し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）で精製することにより、７−
（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノフェニル）
−２−シアノ−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフ
チリジン−６−カルボン酸メチルエステル１５７ｍｇを
得る。
【０２３３】ｍ．ｐ．１９０−１９４℃ 実施例 １１ （１）実施例１０で得られた化合物１００ｍｇのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド溶液３ｍｌに、アジ化ナトリウ
ム２８ｍｇ及び塩化アンモニウム２３ｍｇを加え、７０
℃で９時間撹拌する。反応液を室温までもどした後、水
及びクロロホルムを加えて抽出し、抽出液を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去することにより、７−（４−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノフェニル）−７，８−ジヒド
ロ−８−オキソ−２−（テトラゾール−５−イル）−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステルを得る。
【０２３４】（２）上記（１）で得られた化合物を実施
例２（２）と同様に処理することにより、７−（４−ア
ミノフェニル）−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−２−
テトラゾリル−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
ステル・塩酸塩４０ｍｇを得る。
【０２３５】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例 １２ （１）実施例９（１）で得られた化合物１２．０ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液１２０ｍｌに無水ト
リフルオロ酢酸４４．０ｇを加え、室温で終夜撹拌す
る。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢
酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去することにより、７−（４−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノフェニル）−２，８−ジオキソ−
１，２，７，８−テトラヒドロ−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステル８．２ｇを得る。
【０２３６】（２）上記（１）で得られた化合物６．５
ｇのクロロホルム３０ｍｌ溶液に４Ｍ塩化水素−ジオキ
サン溶液３０ｍｌを加え、室温で終夜撹拌する。反応液
を濃縮し、残渣にクロロホルム及び飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去し、残渣に酢酸エチルを加え、結晶をろ取する
ことにより、７−（４−アミノフェニル）−２，８−ジ
オキソ−１，２，７，８−テトラヒドロ−５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジ
ン−６−カルボン酸メチルエステル５．３ｇを得る。
【０２３７】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例 １３ 実施例１２（２）で得られた化合物２５０ｍｇのテトラ
ヒドロフラン１０ｍｌ溶液に、３，５−ジメトキシベン
ジルアルコール１３２ｍｇ及びトリフェニルフォスフィ
ン２０６ｍｇを加え、室温で撹拌する。次いで、アゾジ
カルボン酸ジエチル１２４μｌを加えて室温で３０分間
撹拌する。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝１
０：１）で精製することにより、先の溶出画分（ａ）７
−（４−アミノフェニル）−１−（３，５−ジメトキシ
ベンジル）−２，８−ジオキソ−１，２，７，８−テト
ラヒドロ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステ
ル１７０ｍｇ及び後の溶出画分（ｂ）７−（４−アミノ
フェニル）−７，８−ジヒドロ−２−（３，５−ジメト
キシベンジルオキシ）−８−オキソ−５−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６
−カルボン酸メチルエステル１８ｍｇを得る。
【０２３８】（実施例１３（ａ））：ｍ．ｐ．２０７−
２０９℃（分解） （実施例１３（ｂ））：ｍ．ｐ．１８７−１８８℃（分
解） 実施例 １４〜１６ 実施例１２（２）で得られた化合物と対応原料化合物と
を実施例１３と同様に処理することにより、第３及び４
表記載の化合物を得る。
【０２３９】
【表３】
【０２４０】
【表４】
【０２４１】実施例 １７ （１）実施例１２（２）で得られた化合物３００ｍｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液５ｍｌに、３−ピコ
リルクロライド・塩酸塩１０８ｍｇ及び炭酸カリウム１
８２ｍｇを加え、８０℃で終夜撹拌する。反応液に酢酸
エチル及び水を加え抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精
製することにより、先の溶出画分（ａ）７−（４−アミ
ノフェニル）−２，８−ジオキソ−１−（３−ピリジル
メチル）−１，２，７，８−テトラヒドロ−５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジ
ン−６−カルボン酸メチルエステル１８５ｍｇ及び後の
溶出画分（ｂ）７−（４−アミノフェニル）−７，８−
ジヒドロ−８−オキソ−２−（３−ピリジルメトキシ）
−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７
−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステル２５ｍ
ｇを得る。
【０２４２】（２）上記（１）で得られた化合物（ａ）
２００ｍｇのクロロホルム３ｍｌ溶液に、４Ｍ塩化水素
−酢酸エチル溶液２５０μｌを加え、３０分間撹拌す
る。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、ろ取す
ることにより、７−（４−アミノフェニル）−２，８−
ジオキソ−１−（３−ピリジルメチル）−１，２，７，
８−テトラヒドロ−５−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチ
ルエステル・２塩酸塩を１８５ｍｇを得る。
【０２４３】ｍ．ｐ．１０９−１１１℃（分解） （３）上記（１）で得られた化合物（ｂ）を上記（２）
と同様に処理することにより、７−（４−アミノフェニ
ル）−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−２−（３−ピリ
ジルメトキシ）−５−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチル
エステル・２塩酸塩を得る。
【０２４４】ｍ．ｐ．１６３−１６８℃（分解） 実施例 １８〜１９ 実施例１２（２）で得られた化合物と対応原料化合物と
を実施例１７（１）及び（２）と同様に処理することに
より、第５及び６表記載の化合物を得る。
【０２４５】
【表５】
【０２４６】
【表６】
【０２４７】実施例 ２０ （１）実施例１２（２）で得られた化合物１．０ｇのク
ロロホルム１２ｍｌ溶液に、９−フルオレニルメチルオ
キシカルボニルクロライド５４２ｍｇを加え、室温で３
時間撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ク
ロロホルム：アセトン＝３：１）で精製することによ
り、７−〔４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ）フェニル〕−２，８−ジオキソ−１，２，
７，８−テトラヒドロ−５−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸
メチルエステル９８０ｍｇを得る。
【０２４８】ｍ．ｐ．＞２５０℃ （２）上記（１）で得られた化合物３００ｍｇのトルエ
ン５ｍｌ溶液に、ベンジルブロミド５６μｌ及び炭酸銀
２３７ｍｇを加え、１００℃で２時間撹拌する。反応液
中の不溶物をろ過後、ろ液を濃縮し、残渣をテトラヒド
ロフランに溶解する。溶液にピペリジン４２μｌを加
え、室温で終夜撹拌する。反応液にクロロホルム及び水
を加え、抽出し、抽出液を、洗浄、乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝１０：１）で精製するこ
とにより、７−（４−アミノフェニル）−２−ベンジル
オキシ−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジ
ン−６−カルボン酸メチルエステル２００ｍｇを得る。
【０２４９】ｍ．ｐ．２１２−２１４℃ 実施例 ２１ （１）２−クロロ−５，８−ジヒドロ−６−ヒドロキシ
−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−６Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６−カル
ボン酸（参考例４２で得られた化合物）１．０ｇ、４−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノアニリン１．０ｇ
の１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン５ｍｌ溶液
を８０℃で１５分撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液と酢酸エチルを加え、水層を分取する。水
層にクエン酸を加え酸性とした後、クロロホルム抽出
し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去することによ
り、２−クロロ−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−７−
（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノフェニル）
−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７
−ナフチリジン−６−カルボン酸を得る。
【０２５０】（２）上記（１）で得られた化合物のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液にヨウ化メチル１
８２μｌ及び炭酸カリウム３３７ｍｇを加えて、室温で
２時間反応させる。反応液に酢酸エチルを加え、有機層
を分取し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、
２−クロロ−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−７−（４
−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノフェニル）−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステル１．１１ｇ
を得る。
【０２５１】ｍ．ｐ．２３２−２３４℃（分解） （３）上記（２）で得られた化合物３００ｍｇを４Ｍ塩
化水素−ジオキサン溶液５ｍｌを加え、室温で３時間撹
拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチル及び飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え抽出する。有機層を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣にジエチルエーテルを
加え、ろ取することにより、７−（４−アミノフェニ
ル）−２−クロロ−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステル２３０ｍｇ
を得る。
【０２５２】ｍ．ｐ．２４６−２５３℃（分解） 実施例 ２２ ２−クロロ−５，８−ジヒドロ−５−（３，５−ジメト
キシ−４−メチルフェニル）−６−ヒドロキシ−８−オ
キソ−６Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６−カル
ボン酸（参考例４３で得られた化合物）と４−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルアミノアニリンとを実施例２１
（１）、（２）及び（３）と同様に処理することによ
り、７−（４−アミノフェニル）−２−クロロ−７，８
−ジヒドロ−５−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフ
ェニル）−８−オキソ−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステルを得る。
【０２５３】ｍ．ｐ．２４０−２５０℃（分解） 実施例 ２３ ２−クロロ−５，８−ジヒドロ−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−６−ヒドロキシ−８−オキソ−
６Ｈ−ピラノ〔３，４−ｂ〕ピリジン−６−カルボン酸
（参考例４２で得られた化合物）と４−ピコリルアミン
とを実施例２１（１）及び実施例１（２）と同様に処理
することにより、２−クロロ−７，８−ジヒドロ−８−
オキソ−７−（４−ピリジルメチル）−５−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−
６−カルボン酸メチルエステルを得る。
【０２５４】ｍ．ｐ．１７３−１７５℃ 実施例 ２４ （１）（ピラジン−２−イル）メチルアルコール５３ｍ
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌ溶液に６２％
水素化ナトリウム１９ｍｇを加え、室温で１０分間撹拌
する。反応液に実施例２１（３）で得られた化合物２０
０ｍｇを加え、室温で３時間撹拌する。反応液に酢酸エ
チル及び水を加え、抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝３：１）で精製す
ることにより、７−（４−アミノフェニル）−７，８−
ジヒドロ−８−オキソ−２−〔（ピラジン−２−イル）
メトキシ〕−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
ステルを得る。
【０２５５】（２）上記（１）で得られた化合物を実施
例１７（２）と同様に処理することにより、７−（４−
アミノフェニル）−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−２
−〔（ピラジン−２−イル）メトキシ〕−５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジ
ン−６−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩１８７ｍｇ
を得る。
【０２５６】ｍ．ｐ．１４０−１４５℃（分解） 実施例 ２５〜３３ 対応原料化合物を実施例２４（１）及び（２）または実
施例２４（１）と同様に処理することにより、第７表記
載の化合物を得る。
【０２５７】
【表７】
【０２５８】実施例 ３４ （１）実施例２１（３）で得られた化合物２５０ｍｇの
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン３ｍｌ溶液
に、Ｎ−メチルベンジルアミン６５１μｌを加え、１２
０℃で３時間撹拌する。反応液を室温にもどした後、酢
酸エチル及び水を加え、抽出し、抽出液を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝１０：１）
で精製することにより、７−（４−アミノフェニル）−
２−（Ｎ−メチルベンジルアミノ）−７，８−ジヒドロ
−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
ステルを得る。
【０２５９】（２）上記（１）で得られた化合物を実施
例１７（２）と同様に処理することにより、７−（４−
アミノフェニル）−２−（Ｎ−メチルベンジルアミノ）
−７，８−ジヒドロ−８−オキソ−５−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−
カルボン酸メチルエステル・２塩酸塩５５ｍｇを得る。
【０２６０】ｍ．ｐ．１３２−１３６℃（分解） 実施例 ３５〜３７ 対応原料化合物を実施例３４（１）及び（２）と同様に
処理することにより、第８表記載の化合物を得る。
【０２６１】
【表８】
【０２６２】実施例 ３８〜４５ 対応原料化合物を実施例２１（１）及び（２）または実
施例２１（１）、（２）及び（３）と同様に処理するこ
とにより、第９表記載の化合物を得る。
【０２６３】
【表９】
【０２６４】実施例 ４６〜５４ 対応原料化合物を実施例２１（１）及び（２）または実
施例２１（１）及び実施例１（２）と同様に処理するこ
とにより、第１０表記載の化合物を得る。
【０２６５】
【表１０】
【０２６６】実施例 ５５ 参考例４２で得られた化合物１ｇ及び４−アミノメチル
−２，６−ジメチルピリジン３３８ｍｇのテトラヒドロ
フラン１５ｍｌ溶液を、室温で１時間、５０℃で３０分
撹拌する。反応液から溶媒を留去し、残渣に塩化メチレ
ン３０ｍｌを加えて溶解し、メタノール６６２ｍｇ及び
トリフェニルホスフィン１．６３ｇを加えた後、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート１．３ｍｌを加えて室温で３
０分撹拌する。反応液に酢酸エチル及びクエン酸水溶液
を加えて、水層を分液し、水層に炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え塩基性とした後、酢酸エチルで抽出し、洗
浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣にジエチルエーテル
を加えて結晶化することにより、２−クロロ−７，８−
ジヒドロ−７−（２，６−ジメチルピリジン−４−イ
ル）メチル−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン
酸メチルエステル８６３ｍｇを得る。
【０２６７】ｍ．ｐ．２１２−２１４℃ 実施例 ５６〜５８ 対応原料化合物を実施例５５と同様に処理することによ
り、第１１表記載の化合物を得る。
【０２６８】
【表１１】
【０２６９】実施例 ５９〜１３０ 対応原料化合物を実施例２４（１）及び（２）または実
施例２４（１）と同様に処理することにより、第１２〜
２０表記載の化合物を得る。但し、実施例８１〜８４
は、塩酸塩に代えて第１４表記載の酸を用いる。
【０２７０】
【表１２】
【０２７１】
【表１３】
【０２７２】
【表１４】
【０２７３】
【表１５】
【０２７４】
【表１６】
【０２７５】
【表１７】
【０２７６】
【表１８】
【０２７７】
【表１９】
【０２７８】
【表２０】
【０２７９】実施例 １３１ 実施例１１８で得られた化合物９０ｍｇ、アジ化ナトリ
ウム５５ｍｇ及び塩化アンモニウム４６ｍｇのＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド２ｍｌ懸濁液を７０℃で４時間撹
拌する。反応液に水及び酢酸エチルを加え、酢酸エチル
で抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：
メタノール＝１０：１）により精製することにより、
７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−
イル）メチル〕−８−オキソ−２−（テトラゾール−５
−イル）メトキシ−５−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチ
ルエステル９ｍｇを無色粉末として得る。
【０２８０】実施例 １３２ 実施例８０で得られた化合物５００ｍｇのクロロホルム
１５ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸２４０ｍｇを加
え、室温で終夜撹拌する。反応液にクロロホルム及び炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出
し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセト
ン＝１：１）で精製することにより、７，８−ジヒドロ
−７−〔（２−メチル−Ｎ−オキシドピリジン−４−イ
ル）メチル〕−８−オキソ−２−（２−ピリミジニルメ
トキシ）−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステ
ル（実施例１３２（ａ））及び７，８−ジヒドロ−７−
〔（２−メチル−Ｎ−オキシドピリジン−４−イル）メ
チル〕−８−オキソ−２−〔（Ｎ−オキシドピリミジン
−２−イル）メトキシ〕−５−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン
酸メチルエステル（実施例１３２（ｂ））を得る。
【０２８１】（実施例１３２（ａ））：粉末 （実施例１３２（ｂ））：ｍ．ｐ．１４７−１５３℃
（分解） 実施例 １３３ 実施例１１９で得られた化合物を、実施例１３２と同様
に処理することにより、７，８−ジヒドロ−７−〔（２
−メチル−Ｎ−オキシドピリジン−４−イル）メチル〕
−８−オキソ−２−メトキシ−５−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カル
ボン酸メチルエステルを得る。
【０２８２】ｍ．ｐ．１９０−１９８℃（分解） 実施例 １３４ 実施例８０で得られた化合物３ｇ、濃塩酸１５ｍｌ及び
ジオキサン６０ｍｌを１００〜１１０℃で５日間撹拌す
る。反応液を放冷し、炭酸水素ナトリウム水溶液及びク
ロロホルムを加えて、クロロホルムで抽出し、洗浄、乾
燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：
１）で精製することにより、７−〔（２−メチルピリジ
ン−４−イル）メチル〕−２，８−ジオキソ−１，２，
７，８−テトラヒドロ−５−（３，５−ジメトキシ−４
−ヒドロキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−
カルボン酸メチルエステル（実施例１３４（ａ））２８
０ｍｇ及び７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メ
チル〕−２，８−ジオキソ−１，２，７，８−テトラヒ
ドロ−５−（３，４、５−トリメトキシフェニル）−
１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステル
（実施例１３４（ｂ））を得る。
【０２８３】（実施例１３４（ａ））：ｍ．ｐ．２４６
−２４７℃（分解） （実施例１３４（ｂ））：ｍ．ｐ．１７７−１７８℃ 実施例 １３５ 実施例８０で得られた化合物１ｇ、濃塩酸５ｍｌ及び４
Ｍ塩化水素−ジオキサン溶液１０ｍｌを１００℃で１５
分間撹拌する。反応液を放冷し、炭酸水素ナトリウム水
溶液及びクロロホルムを加えて、クロロホルムで抽出
し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルで
ろ取することにより、実施例１３４（ｂ）で得られた化
合物８３２ｍｇを得る。
【０２８４】実施例 １３６ 実施例５４で得られた化合物２００ｍｇ及びシクロヘキ
シルメタノール４４０μｌのテトラヒドロフラン３ｍｌ
溶液に、室温下、６２％水素化ナトリウム１１２ｍｇを
加えて、室温で5時間撹拌する。反応液に酢酸を加えて
反応を終了させ、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてア
ルカリ性とし、酢酸エチルで抽出、洗浄、乾燥後、溶媒
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶媒；酢酸エチル）で精製することにより、７，８
−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）
メチル〕−８−オキソ−２−シクロヘキシルメトキシ−
５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−
ナフチリジン−６−カルボン酸シクロヘキシルメチルエ
ステル及び７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリ
ジン−４−イル）メチル〕−８−オキソ−２−メトキシ
−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７
−ナフチリジン−６−カルボン酸シクロヘキシルメチル
エステルを得る。これらの化合物をそれぞれ実施例１７
（２）と同様に処理することにより、７，８−ジヒドロ
−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
８−オキソ−２−シクロヘキシルメトキシ−５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジ
ン−６−カルボン酸シクロヘキシルメチルエステル・塩
酸塩（実施例１３６（ａ））５５ｍｇ及び７，８−ジヒ
ドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチ
ル〕−８−オキソ−２−メトキシ−５−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−
カルボン酸シクロヘキシルメチルエステル・塩酸塩（実
施例１３６（ｂ））３５ｍｇを得る。
【０２８５】（実施例１３６（ａ））：ｍ．ｐ．１６４
−１６６℃（分解） （実施例１３６（ｂ））：ｍ．ｐ．２０３−２０６℃
（分解） 実施例 １３７ 実施例８０で得られた化合物１ｇのテトラヒドロフラン
５ｍｌ及びメタノール５ｍｌ混合溶液に、２Ｍ水酸化ナ
トリウム水溶液５ｍｌを加えて、室温で終夜撹拌する。
反応液にクエン酸水溶液を加えｐＨ４とし、クロロホル
ムで抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をジエ
チルエーテルで結晶化することにより、７，８−ジヒド
ロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕
−８−オキソ−２−〔（ピリミジン−２−イル）メトキ
シ〕−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸３５２ｍｇを得
る。
【０２８６】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例 １３８〜１５５ 対応原料化合物を実施例３４（１）及び（２）または実
施例３４（１）と同様に処理することにより、第２１〜
２３表記載の化合物を得る。但し、実施例１４０は塩酸
に代えてメタンスルホン酸を用いる。
【０２８７】
【表２１】
【０２８８】
【表２２】
【０２８９】
【表２３】
【０２９０】実施例 １５６ 参考例４６で得られた化合物１ｇと４−アミノメチル−
２−メチルピリジン３６２ｍｇのテトラヒドロフラン１
００ｍｌ懸濁液を、室温で１５分間、５０℃で４時間撹
拌後、反応液から溶媒を留去する。残渣を塩化メチレン
２００ｍｌに溶解し、トリフェニルホスフィン１．９４
ｇ、メタノール３９５ｍｇおよびジエチルアゾジカルボ
キシレート８５９ｍｇを加え、室温で２時間撹拌する。
反応液から溶媒を留去し、酢酸エチルおよびクエン酸水
溶液を加え、クエン酸水溶液で抽出する。水層を炭酸カ
リウム水溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液でアルカ
リ性とし、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗、乾燥
後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶媒；ｎ−ヘキサン：アセトン＝１：１）で精
製し、ジエチルエーテルで結晶化することにより、２−
（２−メチルピリジン−４−イル）メチル−１,２−ジ
ヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−２，７−ナフチリジン−８−メトキシ−３
−カルボン酸メチルエステル７４７ｍｇを得る。
【０２９１】ｍ．ｐ．１６７−１７１℃（分解） 実施例 １５７〜１５８ 対応原料化合物を実施例１５６と同様に処理することに
より、第２４表記載の化合物を得る。
【０２９２】
【表２４】
【０２９３】実施例 １５９ 実施例１５６で得られた化合物１．９ｇのＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１９ｍｌ溶液に、オキシ塩化リン３．
５ｍｌを加えて８０℃で２０分撹拌し、さらにオキシ塩
化リン１．４ｍｌを加えて同温で２０分撹拌する。反応
液を放冷後、炭酸カリウム水溶液（１８ｇ／１００ｍｌ
水）に注ぎ、結晶をろ取する。結晶をクロロホルム１５
０ｍｌに溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾
燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝１０：１
〜５：１）で精製することにより、２−（２−メチルピ
リジン−４−イル）メチル−１,２−ジヒドロ−１−オ
キソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
２，７−ナフチリジン−８−クロロ−３−カルボン酸メ
チルエステル５４３ｍｇを得る。
【０２９４】ｍ．ｐ．２１０−２１５℃ 実施例 １６０〜１６１ 対応原料化合物を実施例１５９と同様に処理することに
より、第２５表記載の化合物を得る。
【０２９５】
【表２５】
【０２９６】実施例 １６２ 実施例１５６で得られた化合物２．２７ｇのメタノール
３０ｍｌおよびジオキサン３０ｍｌ混合溶液に、濃塩酸
５ｍｌを加えて６０℃で５時間加熱撹拌する。反応液か
ら溶媒を留去し、クロロホルムおよび飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出し、洗浄、乾
燥後溶媒を留去する。残渣をジエチルエーテルで結晶化
することにより、２−〔（２−メチルピリジン−４−イ
ル）メチル〕−１，８−ジオキソ−１，２，７，８−テ
トラヒドロ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−２，７−ナフチリジン−３−カルボン酸メチルエ
ステル２．３８ｇを得る。
【０２９７】ｍ．ｐ．１９４−１９７℃ 実施例 １６３−１６４ 実施例１６２で得られた化合物と対応原料化合物を実施
例１７と同様に処理することにより、第２６表記載の化
合物を得る。
【０２９８】
【表２６】
【０２９９】実施例 １６５ （１）実施例１６２で得られた化合物２００ｍｇと２−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチルブロ
ミド３１２ｍｇとを、実施例１７（１）と同様に処理す
ることにより、油状の２−〔（２−メチルピリジン−４
−イル）メチル〕−７−〔２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル〕−１，８−ジオキソ−１，
２，７，８−テトラヒドロ−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−３−カルボ
ン酸メチルエステル２９９ｍｇを得る。
【０３００】（２）上記（１）で得られた化合物２９９
ｍｇのテトラヒドロフラン３ｍｌ溶液に、酢酸９３μｌ
およびテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒド
ロフラン溶液（１Ｍ）１．２ｍｌを加えて室温で終夜撹
拌する。反応液に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥後溶
媒を留去する。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１〜
１０：１）で精製することにより、２−〔（２−メチル
ピリジン−４−イル）メチル〕−７−（２−ヒドロキシ
エチル）−１，８−ジオキソ−１，２，７，８−テトラ
ヒドロ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
２，７−ナフチリジン−３−カルボン酸メチルエステル
を得、さらに実施例１７（２）と同様に処理することに
より、２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチ
ル〕−７−（２−ヒドロキシエチル）−１，８−ジオキ
ソ−１，２，７，８−テトラヒドロ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−３
−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩４４ｍｇを得る。
【０３０１】ｍ．ｐ．１８６−１８８℃ 実施例 １６６ 対応原料化合物を実施例１６５と同様に処理することに
より、第２７表記載の化合物を得る。
【０３０２】
【表２７】
【０３０３】実施例 １６７ （１）実施例１６２で得られた化合物２００ｍｇ、２−
ヒドロキシメチルピリミジン４０２ｍｇおよびトリフェ
ニルホスフィン９６０ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍ
ｌ溶液に、窒素雰囲気下、ジエチルアゾジカルボキシレ
ート１．６５９ｍｌを加え室温で１．５時間撹拌する。
反応液に酢酸エチルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液を
加え、酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝３０：１）で精製するこ
とにより、２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メ
チル〕−７−〔（ピリミジン−２−イル）メチル〕−
１，８−ジオキソ−１，２，７，８−テトラヒドロ−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，７−ナ
フチリジン−３−カルボン酸メチルエステル１７１ｍｇ
を得る。
【０３０４】（２）上記（１）で得られた化合物１７１
ｍｇを実施例１７（２）と同様に処理することにより、
２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−７
−〔（ピリミジン−２−イル）メチル〕−１，８−ジオ
キソ−１，２，７，８−テトラヒドロ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−
３−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩１４６ｍｇを得
る。
【０３０５】ｍ．ｐ．１９０−１９４℃ 実施例 １６８ 対応原料化合物を実施例１６７と同様に処理することに
より、第２８表記載の化合物を得る。
【０３０６】
【表２８】
【０３０７】実施例 １６９ （１）実施例１５９で得られた化合物３００ｍｇおよび
２−ヒドロキシメチルピリミジン７１ｍｇのテトラヒド
ロフラン８０ｍｌ溶液に、６２．５％水素化ナトリウム
２５ｍｇを加え、室温で４．５時間撹拌する。反応液に
水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出し、洗
浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝
１：１）で精製することにより、２−（２−メチルピリ
ジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキ
ソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，
７−ナフチリジン−８−（ピリミジン−２−イル）メト
キシ−３−カルボン酸メチルエステル２４１ｍｇを得
る。
【０３０８】ｍ．ｐ．１２１−１２４℃ （２）上記（１）で得られた化合物を実施例１７（２）
と同様に処理することにより、２−（２−メチルピリジ
ン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキソ
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，７
−ナフチリジン−８−（ピリミジン−２−イル）メトキ
シ−３−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩を得る。
【０３０９】ｍ．ｐ．１６０−１６３℃（分解） 実施例 １７０〜１８８ 対応原料化合物を、実施例１６９（１）または実施例１
６９（１）及び実施例１７（２）と同様に処理すること
により、第２９〜３３表記載の化合物を得る。
【０３１０】
【表２９】
【０３１１】
【表３０】
【０３１２】
【表３１】
【０３１３】
【表３２】
【０３１４】
【表３３】
【０３１５】実施例 １８９ 実施例１８３で得られた化合物１．７ｇをメタノール２
０ｍｌ、酢酸５ｍｌ及び水５ｍｌの混合液に加え、５５
℃で４時間撹拌する。反応液からメタノールを留去し、
残渣に氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
て、酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、水及び食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を
留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶媒；クロロホルム〜クロロホルム：アセトン＝１：
２）で精製し、ジイソプロピルエーテルで処理すること
により、２−（２−メチルピリジン−４−イル）メチル
−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
（イミダゾール−２−イル）メトキシ−３−カルボン酸
メチルエステル５０ｍｇを粉末として得る。
【０３１６】実施例 １９０ （１）実施例１５９で得られた化合物８０ｍｇおよび２
−（２−アミノエチル）ピリジン５８ｍｇのジオキサン
４ｍｌ溶液を、８０℃で５時間撹拌する。反応液に炭酸
水素ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加え、酢酸エチ
ルで抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：アセトン＝５：１〜２：１）で精製することによ
り、２−（２−メチルピリジン−４−イル）メチル−
１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
［２−（ピリジン−２−イル）エチルアミノ］−３−カ
ルボン酸メチルエステルを得る。
【０３１７】（２）上記（１）で得られた化合物を実施
例１７（２）と同様に処理することにより、２−（２−
メチルピリジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ
−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−２，７−ナフチリジン−８−［２−（ピリジン−
２−イル）エチルアミノ］−３−カルボン酸メチルエス
テル・２塩酸塩４４ｍｇを粉末として得る。
【０３１８】実施例 １９１〜２２２ 対応原料化合物を、実施例１９０と同様に処理すること
により、第３４〜３８表記載の化合物を得る。
【０３１９】
【表３４】
【０３２０】
【表３５】
【０３２１】
【表３６】
【０３２２】
【表３７】
【０３２３】
【表３８】
【０３２４】実施例 ２２３ （１）実施例１５９で得られた化合物３．０ｇ、β−ア
ラニンベンジルエステル・トシル酸塩６．２ｇ及びトリ
エチルアミン４．２ｇの１，３−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン３０ｍｌ混合液を、８０℃で１２時間撹拌す
る。反応液に酢酸エチル及び炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥後、溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶媒；酢酸エチル）で精製することにより、２−（２
−メチルピリジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒド
ロ−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−２，７−ナフチリジン−８−〔２−（ベンジル
オキシカルボニル）エチルアミノ〕−３−カルボン酸メ
チルエステルを得る。該化合物をテトラヒドロフラン２
０ｍｌ及びメタノール２０ｍｌ混合液に溶解し、パラジ
ウム炭素（ｗｅｔ）５００ｍｇを加え、水素雰囲気下
（１気圧）２時間撹拌する。反応液からパラジウム炭素
をろ去し母液を濃縮することにより、２−（２−メチル
ピリジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−
オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
２，７−ナフチリジン−８−（２−カルボキシエチルア
ミノ）−３−カルボン酸メチルエステル（化合物Ａ）
１．２５ｇを粉末として得る。
【０３２５】実施例 ２２４ 実施例２２３で得られた化合物Ａ１００ｍｇ及びモルホ
リン３１ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌ溶
液に、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール３３ｍｇ及び
１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド・塩酸塩４１ｍｇを加え、室温で２時間撹拌
する。反応液に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチルで
抽出し、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄、乾燥
後、溶媒を留去することにより、２−（２−メチルピリ
ジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキ
ソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，
７−ナフチリジン−８−〔２−（モルホリノカルボニ
ル）エチルアミノ〕−３−カルボン酸メチルエステルを
得る。該化合物を実施例１７（２）と同様に処理するこ
とにより、２−（２−メチルピリジン−４−イル）メチ
ル−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８
−〔２−（モルホリノカルボニル）エチルアミノ〕−３
−カルボン酸メチルエステル・２塩酸塩７６ｍｇを粉末
として得る。
【０３２６】実施例 ２２５ 対応原料化合物を、実施例２２４と同様に処理すること
により、第３９表記載の化合物を得る。
【０３２７】
【表３９】
【０３２８】実施例 ２２６ 実施例１５９で得られた化合物２００ｍｇにトルエン１
５ｍｌ、２−アミノピリジン４８ｍｇ、１，１'−ビス
（ジフェニルホスフィノ）フェロセン６６ｍｇ、酢酸パ
ラジウム１８ｍｇ、炭酸セシウム５２４ｍｇの順で加
え、窒素雰囲気下、１００℃で１．５時間撹拌する。反
応液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ去した後、水洗、
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；クロロホルム：ｎ−ヘキサン＝
５：１）で精製することにより、２−（２−メチルピリ
ジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキ
ソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，
７−ナフチリジン−８−（２−ピリジルアミノ）−３−
カルボン酸メチルエステルを得る。該化合物を実施例１
７（２）と同様に処理することにより、２−（２−メチ
ルピリジン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１
−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−２，７−ナフチリジン−８−（２−ピリジルアミノ）
−３−カルボン酸メチルエステル・２塩酸塩２４３ｍｇ
を得る。
【０３２９】ｍ．ｐ．１８４−１９３℃（分解） 実施例 ２２７ 対応原料化合物を、実施例２２６と同様に処理すること
により、第４０表記載の化合物を得る。
【０３３０】
【表４０】
【０３３１】実施例 ２２８ 実施例２１９で得られた化合物４００ｍｇにギ酸６ｍｌ
を加え、終夜加熱還流する。反応液に酢酸エチル及び炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；酢酸エチル〜クロロホルム：メ
タノール＝２０：１）で精製し、ジエチルエーテルで結
晶化することにより、２−（２−メチルピリジン−４−
イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，７−ナフ
チリジン−８−アミノ−３−カルボン酸メチルエステル
１９５ｍｇを得る。
【０３３２】ｍ．ｐ．１８９−１９１℃（分解） 実施例 ２２９ 実施例２０４で得られた化合物３３２ｍｇを実施例２
（２）と同様に処理することにより、２−（２−メチル
ピリジン−４−イル）メチル−８−ヒドラジノ−１，２
−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−２，７−ナフチリジン−３−カルボン
酸メチルエステル・３塩酸塩２５４ｍｇを得る。
【０３３３】ｍ．ｐ．１９３−１９５℃（分解） 実施例 ２３０ ピコリン酸２３ｍｇおよび１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール５４ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌ
溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド・塩酸塩２７３ｍｇを加え室温で１
０分撹拌する。反応液に、実施例２２９で得られた化合
物８０ｍｇを加えて、室温で３時間撹拌する。反応液に
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチルで
抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残渣を薄層シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝９：１（２回展開する））で精製し、
ジエチルエーテルで結晶化することにより、２−（２−
メチルピリジン−４−イル）メチル−８−〔Ｎ'−（ピ
リジン−２−イルカルボニル）ヒドラジノ〕−１，２−
ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−２，７−ナフチリジン−３−カルボン酸
メチルエステル７６ｍｇを粉末として得る。
【０３３４】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例 ２３１−２３２ 対応原料化合物を、実施例２３０と同様に処理すること
により、第４１表記載の化合物を得る。
【０３３５】
【表４１】
【０３３６】実施例 ２３３ （１）実施例５４で得られた化合物１．５ｇを実施例２
４（１）と同様に処理することにより７，８−ジヒドロ
−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
８−オキソ−２−（４−メトキシベンジルオキシ）−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステルを得る。
【０３３７】（２）上記（１）で得られた化合物をクロ
ロホルムに溶解し、４Ｍ塩酸を加えて室温で３時間撹拌
する。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えアルカ
リ性とし、クロロホルムで抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒
を留去する。残渣を、アセトン−ジエチルエーテル混合
溶液により結晶化することにより、７−〔（２−メチル
ピリジン−４−イル）メチル〕−２，８−ジオキソ−
１，２，７，８−テトラヒドロ−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステル（実施例１３４（ｂ）で得られ
た化合物）１．１５ｇを得る。
【０３３８】ｍ．ｐ．１７７−１７８℃ （３）上記（２）で得られた化合物１００ｍｇを、実施
例１７（２）と同様に処理することにより、７−〔（２
−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−２，８−ジオ
キソ−１，２，７，８−テトラヒドロ−５−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−
６−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩１１１ｍｇを淡
黄色結晶として得る。
【０３３９】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解） 実施例 ２３４ 実施例１５９で得られた化合物を実施例２３３と同様に
処理することにより、２−〔（２−メチルピリジン−４
−イル）メチル〕−１，８−ジオキソ−１，２，７，８
−テトラヒドロ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−２，７−ナフチリジン−３−カルボン酸メチル
エステル・塩酸塩（実施例１６２で得られた化合物の塩
酸塩）を得る。
【０３４０】ｍ．ｐ．２０７−２１０℃（分解） 実施例 ２３５ 実施例２３３で得られた化合物５０８ｍｇ及びピリジン
２５０μｌの塩化メチレン１０ｍｌ懸濁液に、０℃で、
無水トリフルオロメタンスルホン酸２０８μｌを加え、
１０℃に昇温して結晶を溶解させた後、５℃で１５分間
撹拌する。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液及び酢酸
エチルを加え、酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥後、溶
媒を留去する。残渣にジイソプロピルエーテルを加え、
撹拌晶析することにより、７，８−ジヒドロ−８−オキ
ソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕
−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフ
チリジン−６−カルボン酸メチルエステル５５２ｍｇを
得る。
【０３４１】ｍ．ｐ．１３８−１４０℃ 実施例 ２３６ 実施例５４で得られた化合物３００ｍｇ及びトリエチル
アミン８４μｌのテトラヒドロフラン５ｍｌ及びメタノ
ール３ｍｌ混合溶液に、パラジウム炭素（５０％ｗｅ
ｔ）１５０ｍｇを加えて、水素雰囲気下（１気圧）室温
で終夜撹拌する。反応液からパラジウム炭素をろ去し、
ろ液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶媒；酢酸エチル〜クロロホルム：アセトン＝
１：２）により精製することにより、７，８−ジヒドロ
−８−オキソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イ
ル）メチル〕−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
ステルを得る。本品を塩化メチレンに溶解し、４Ｍ塩化
水素−ジオキサン溶液を加えて濃縮し、酢酸エチルで結
晶化することにより、７，８−ジヒドロ−８−オキソ−
７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−５
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナ
フチリジン−６−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩２
００ｍｇを得る。
【０３４２】ｍ．ｐ．１９５−２０１℃（分解） 実施例 ２３７〜２４０ 対応原料化合物を実施例２３６と同様に処理することに
より、第４２表記載の化合物を得る。
【０３４３】
【表４２】
【０３４４】実施例 ２４１ 実施例５４で得られた化合物２００ｍｇ、ジエチル（３
−ピリジル）ボラン６９ｍｇ、酢酸パラジウム９ｍｇ、
トリ−ｏ−トルイルホスフィン２４ｍｇ、炭酸ナトリウ
ム６３ｍｇ及び水１ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド５ｍｌ溶液を、アルゴン雰囲気下、９０℃で１時間撹
拌する。反応液に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル
で抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：酢酸エチル＝１０：１）により精製することによ
り、７，８−ジヒドロ−８−オキソ−７−〔（２−メチ
ルピリジン−４−イル）メチル〕−２−（ピリジン−３
−イル）−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステ
ル１０６ｍｇを得る。本品をクロロホルムに溶解し、４
Ｍ塩化水素−ジオキサン溶液４３μｌを加えて濃縮し、
ジエチルエーテルで結晶化する。得られた結晶をメタノ
ールに溶解し、アセトンおよびジエチルエーテルを加え
て結晶化することにより、７，８−ジヒドロ−８−オキ
ソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕
−２−（ピリジン−３−イル）−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステル・２塩酸塩６５ｍｇを得る。
【０３４５】ｍ．ｐ．１９６−２０４℃（分解） 実施例 ２４２ 実施例１５９で得られた化合物を実施例２４１と同様に
処理することにより、第４３表記載の化合物を得る。
【０３４６】
【表４３】
【０３４７】実施例 ２４３ 実施例５４で得られた化合物２００ｍｇと（ピリジン−
４−イル）ボロン酸６９．２ｍｇを実施例２４１と同様
に処理することにより、７，８−ジヒドロ−８−オキソ
−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
２−（ピリジン−４−イル）−５−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カル
ボン酸メチルエステル・２塩酸塩１３６ｍｇを得る。
【０３４８】ｍ．ｐ．２０２−２０５℃（分解） 実施例 ２４４ 実施例５４で得られた化合物２００ｍｇとトリエチルボ
ラン５８８μｌを実施例２４１と同様に処理することに
より、７，８−ジヒドロ−８−オキソ−７−〔（２−メ
チルピリジン−４−イル）メチル〕−２−エチル−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフ
チリジン−６−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩８５
ｍｇを粉末として得る。
【０３４９】実施例 ２４５ 実施例５４で得られた化合物３００ｍｇ及びテトラキス
トリフェニルホスフィンパラジウム３５ｍｇのジオキサ
ン５ｍｌ溶液を、窒素雰囲気下、トリメチルアルミニウ
ム（１Ｍ）ｎ−ヘキサン溶液８８２μｌをゆっくり滴下
した後、室温で３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹
拌する。反応液を氷冷し、２％炭酸カリウム水溶液を５
ｍｌ加え、酢酸エチルを加えてセライトろ過し、ろ液を
酢酸エチルで抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；酢酸
エチル）により精製し、ジエチルエーテルで結晶化する
ことにより、７，８−ジヒドロ−８−オキソ−７−
〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−２−メ
チル−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステル
を得る。本品をクロロホルムに溶解し、４Ｍ塩化水素−
ジオキサン溶液を加えて濃縮し、クロロホルム−アセト
ン混合溶液で結晶化することにより、７，８−ジヒドロ
−８−オキソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イ
ル）メチル〕−２−メチル−５−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボ
ン酸メチルエステル・塩酸塩２１５ｍｇを得る。
【０３５０】ｍ．ｐ．１９０−１９７℃（分解） 実施例 ２４６ 実施例５４で得られた化合物２００ｍｇ、（２−ピリジ
ル）トリｎ−ブチルスズ１８８ｍｇ及びビストリフェニ
ルホスフィンパラジウムジクロリド２８ｍｇのＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド４ｍｌ溶液を、アルゴン雰囲気
下、９０℃で１時間撹拌する。反応液を室温まで冷却
後、フッ化カリウム水溶液を加え３０分撹拌する。不溶
物をセライトろ過し、ろ液に酢酸エチル及び水を加え、
酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；酢
酸エチル）により精製することにより、７，８−ジヒド
ロ−８−オキソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イ
ル）メチル〕−２−（ピリジン−２−イル）−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフ
チリジン−６−カルボン酸メチルエステルを得る。本品
をクロロホルムに溶解し、４Ｍ塩化水素−ジオキサン溶
液を加えて濃縮し、クロロホルム−酢酸エチル混合溶液
で結晶化することにより、７，８−ジヒドロ−８−オキ
ソ−７−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕
−２−（ピリジン−２−イル）−５−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カ
ルボン酸メチルエステル・２塩酸塩２６０ｍｇを得る。
【０３５１】ｍ．ｐ．１８５−１９３℃（分解） 実施例 ２４７ 実施例５４で得られた化合物８８８ｍｇ及びシアン化亜
鉛４０９ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｍｌ混
合液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
８０ｍｇを加え、窒素雰囲気下、１２０℃で１．５時間
撹拌する。反応液に酢酸エチルを加えて不溶物をろ去
し、ろ液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄、乾
燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：
１）で精製し、酢酸エチル−ジエチルエーテル混合液に
より結晶化することにより、２−シアノ−７，８−ジヒ
ドロ−７−（２−メチルピリジン−４−イル）メチル−
８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
ステル５７１ｍｇを得る。
【０３５２】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃ 実施例 ２４８ 実施例２４７で得られた化合物１００ｍｇを実施例１３
１と同様に処理することにより、２−（テトラゾール−
５−イル）−７，８−ジヒドロ−７−（２−メチルピリ
ジン−４−イル）メチル−８−オキソ−５−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−
６−カルボン酸メチルエステルを得る。該化合物を実施
例１７（２）と同様に処理することにより、２−（テト
ラゾール−５−イル）−７，８−ジヒドロ−７−（２−
メチルピリジン−４−イル）メチル−８−オキソ−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，７−ナフ
チリジン−６−カルボン酸メチルエステル・塩酸塩２５
ｍｇを無色粉末として得る。
【０３５３】実施例 ２４９ 実施例１５９で得られた化合物４．０ｇを実施例２４７
と同様に処理することにより、２−（２−メチルピリジ
ン−４−イル）メチル−１，２−ジヒドロ−１−オキソ
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２，７
−ナフチリジン−８−シアノ−３−カルボン酸メチルエ
ステル３．１５ｇを得る。
【０３５４】ｍ．ｐ．１９６−１９７℃（分解） 実施例 ２５０ 実施例２４９で得られた化合物１．５ｍｇ及び１０％パ
ラジウム炭素（ｗｅｔ）１．０ｇのメタノール３０ｍｌ
及びテトラヒドロフラン３０ｍｌ懸濁液に、４Ｍ塩化水
素−ジオキサン溶液３ｍｌを加え、水素雰囲気下（１気
圧）、室温で２日間撹拌する。反応液から触媒をろ去
し、母液を濃縮後、酢酸エチルで処理することにより、
２−（２−メチルピリジン−４−イル）メチル−１，２
−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−アミノメ
チル−３−カルボン酸メチルエステル・３塩酸塩１．９
３ｇを粉末として得る。
【０３５５】実施例 ２５１ 実施例２５０で得られた化合物１５０ｍｇ及びニコチン
酸４５ｍｇを実施例２３０と同様に処理することによ
り、２−（２−メチルピリジン−４−イル）メチル−
１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
（ニコチノイルアミノメチル）−３−カルボン酸メチル
エステル５１ｍｇを得る。
【０３５６】ｍ．ｐ．１６４−１６６℃ 参考例 １ Ｎ−メチル−ピコリン酸アミド１０ｇのテトラヒドロフ
ラン１５０ｍｌ溶液に、−７８℃でｎ−ブチルリチウム
のヘキサン溶液（１．６Ｍ）１８５ｍｌを滴下し、３０
分間撹拌する。次いで３，４，５−トリメトキシベンズ
アルデヒド１４．４ｇのテトラヒドロフラン溶液５０ｍ
ｌを滴下した後、０℃まで昇温し、反応液に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液及び酢酸エチルを加え、抽出する。抽
出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジオキサン
に溶解し、濃塩酸１０ｍｌを加え１時間加熱還流する。
反応液から溶媒を留去し、残渣にクロロホルム及び飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、抽出する。抽出液を
洗浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、５−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）フロ［３，４−ｂ］ピ
リジン−７（５Ｈ）−オン９．２ｇを得る。
【０３５７】ｍ．ｐ．１５９−１６０℃ 参考例 ２ ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン５０ｍｌの
１，２−ジメトキシエタン８００ｍｌ溶液に、−７８℃
でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）１８
５ｍｌを滴下し、１時間撹拌する。反応溶液にＮ，Ｎ−
ジイソプロピルニコチンアミド４０．８ｇの１，２−ジ
メトキシエタン溶液２００ｍｌを加え、１５分間撹拌
し、次いで３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒド
３８．８ｇの１，２−ジメトキシエタン溶液２００ｍｌ
を加える。０℃まで昇温し、反応液に水及び酢酸エチル
を加え、抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をジオキサン２００ｍｌに溶解し、濃塩酸４０
ｍｌを加え３時間加熱還流する。反応液から溶媒を留去
し、残渣にクロロホルム及び飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を
留去することにより、１−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）フロ［３，４−ｃ］ピリジン−３（１Ｈ）−
オン３２．５ｇを得る。
【０３５８】ｍ．ｐ．１４７−１４９℃ 参考例 ３ Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン２０．４ｍｌのジエチル
エーテル１００ｍｌ溶液に、−２０℃でｎ−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）９１ｍｌを滴下した
後、反応液を−７８℃に冷却する。次いで、反応液に
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルイソニコチンアミド２０ｇのジ
エチルエーテル溶液１５０ｍｌを加え、２時間撹拌す
る。反応液に３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒ
ド１９ｇのテトラヒドロフラン１５０ｍｌ溶液を加え、
０℃まで昇温した後、反応液に水及び酢酸エチルを加
え、抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をジオキサン２００ｍｌに溶解し、濃塩酸２０ｍｌ
を加え１時間加熱還流する。反応液から溶媒を留去し、
残渣にクロロホルム及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え、抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去
することにより、３−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）フロ［３，４−ｃ］ピリジン−１（３Ｈ）−オン
７．９３ｇを得る。
【０３５９】ｍ．ｐ．１４４−１４５℃ 参考例 ４〜８ 対応原料化合物を参考例１と同様に処理することによ
り、第４４表記載の化合物を得る。
【０３６０】
【表４４】
【０３６１】参考例 ９ Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−メトキシニコチン酸アミ
ド２１６ｇのテトラヒドロフラン２リットル溶液に、
２，２，６，６−テトラメチルピぺリジン７７．１ｍｌ
およびテトラメチルエチレンジアミン１９３ｍｌを加
え、−７０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶
液（１．６Ｍ）を４０分かけて滴下する。反応液を−６
５〜−７０℃で２０分撹拌した後、同温下、３,４,５−
トリメトキシベンズアルデヒド１７９ｇのテトラヒドロ
フラン６００ｍｌ溶液を滴下する。−７０℃で３０分撹
拌した後、反応液に、酢酸５５ｇ続いて水２００ｍｌを
滴下する。反応液からテトラヒドロフランを約２リット
ル留去し、これに水および酢酸エチルを加え酢酸エチル
で抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をジエ
チルエーテルおよびジイソプロピルエーテルの混合溶液
でろ取することにより、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−
メトキシ−４−［ヒドロキシ−（３,４,５−トリメトキ
シフェニル）メチル］−ニコチンアミドを得る。この化
合物を酢酸４００ｍｌおよびジオキサン５００ｍｌ混合
溶液に溶解し、８０〜９０℃で４時間撹拌する。反応液
から溶媒を留去し、酢酸エチル３００ｍｌおよび水１リ
ットルを加え撹拌晶析する。結晶をろ取した後、水およ
びジエチルエーテルで洗浄することにより、１−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−４−メトキシ−フロ
［３，４−ｃ］ピリジン−３（１Ｈ）−オン１８４ｇを
得る。ろ液に、酢酸エチルを加え抽出し、洗浄、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣の結晶をジエチルエーテルで洗
浄することにより、さらに１７ｇを得る。
【０３６２】ｍ．ｐ．１６４−１６６℃ 参考例 １０ 参考例１で得られた化合物１０８ｇの２０％水酸化カリ
ウム水溶液５００ｍｌに、５０℃で過マンガン酸カリウ
ム８５ｇを加え、２時間撹拌する。反応液を氷冷し、エ
タノールを加えて、過剰の過マンガン酸カリウムをつぶ
した後、不溶物をろ過する。ろ液に、氷冷下、濃塩酸を
ｐＨ２になるまで加え、析出する結晶をろ取することに
より、３−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）ピ
コリン酸１１０ｇを得る。
【０３６３】ｍ．ｐ．１５７−１５８℃ 参考例 １１〜１６ 対応原料化合物を参考例１０と同様に処理することによ
り、第４５表記載の化合物を得る。
【０３６４】
【表４５】
【０３６５】参考例 １７ 参考例１０で得られた化合物１１０ｇのＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド７００ｍｌ溶液に、炭酸カリウム４７．
９ｇ及びヨウ化メチル３２ｍｌを加えて、室温で終夜撹
拌する。反応液から溶媒を留去し、クロロホルム及び水
を加え、抽出する。抽出液を、洗浄、乾燥後、溶媒を留
去することにより、３−（３，４，５−トリメトキシベ
ンゾイル）ピコリン酸メチルエステル１０２ｇを得る。
【０３６６】ｍ．ｐ．１５４−１５７℃ 参考例 １８ 参考例１３で得られた化合物を参考例１７と同様に処理
することにより、３−（３，５−ジメトキシ−４−メチ
ルベンゾイル）ピコリン酸メチルエステルを得る。
【０３６７】ｍ．ｐ．１６６−１６８℃ 参考例 １９ 参考例１７で得られた化合物１０２ｇのクロロホルム１
０００ｍｌ溶液に、３−クロロ過安息香酸２１３ｇのク
ロロホルム溶液１５００ｍｌを滴下し、室温で終夜撹拌
する。不溶物をろ別し、ろ液にチオ硫酸ナトリウム水溶
液を加えて洗浄する。クロロホルム層を、洗浄、乾燥
後、溶媒を留去することにより、３−（３，４，５−ト
リメトキシベンゾイル）ピコリン酸メチルエステル−Ｎ
−オキシド４２ｇを得る。
【０３６８】ｍ．ｐ．１６６−１６８℃ 参考例 ２０ 参考例１８で得られた化合物を参考例１９と同様に処理
することにより、３−（３，５−ジメトキシ−４−メチ
ルベンゾイル）ピコリン酸メチルエステル−Ｎ−オキシ
ドを得る。
【０３６９】ｍ．ｐ．１３９−１４１℃ 参考例 ２１ 参考例１９で得られた化合物２４．９ｇのオキシ塩化リ
ン７５ｍｌ溶液を３０分間加熱還流する。反応液を濃縮
し、残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、次い
で酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去する。残渣に酢酸エチルを加えて結晶化
することにより、６−クロロ−３−（３，４，５−トリ
メトキシベンゾイル）ピコリン酸メチルエステル１２．
４ｇを得る。
【０３７０】ｍ．ｐ．１２７−１２９℃ 参考例 ２２ 参考例２０で得られた化合物を参考例２１と同様に処理
することにより、６−クロロ−３−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルベンゾイル）ピコリン酸メチルエステル
を得る。
【０３７１】ｍ．ｐ．１３４−１３６℃ 参考例 ２３ 参考例２１で得られた化合物２２ｇのメタノール溶液１
５０ｍｌに、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液６０ｍｌを加
え、室温で３０分間撹拌する。反応液に２Ｍ塩酸６０ｍ
ｌとクロロホルムを加え、抽出する。抽出液を洗浄、乾
燥後、溶媒を留去することにより、参考例１４で得られ
た化合物と同じ化合物１９．５ｇを得る。
【０３７２】参考例 ２４ 参考例２２で得られた化合物を参考例２３と同様に処理
することにより、第３４表記載の６−クロロ−３−
（３，５−ジメトキシ−４−メチルベンゾイル）ピコリ
ン酸を得る。
【０３７３】ｍ．ｐ．１９９−２０１℃ 参考例 ２５ 参考例７で得られた化合物を参考例１０と同様に処理す
ることにより、６−クロロ−３−（４−クロロ−３，５
−ジメトキシベンゾイル）ピコリン酸を得る。
【０３７４】ｍ．ｐ．２１５−２１６℃ 参考例 ２６ 参考例１０で得られた化合物５９ｇのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５００ｍｌ溶液に、炭酸カリウム５６．５
ｇを加え、室温で１５分撹拌し、次いでブロモマロン酸
ジベンジル８１ｇを加え、室温で１５分間撹拌する。反
応液に、酢酸エチル及び水を加え、抽出し、抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、５−ヒドロキ
シ−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−５，８−ジヒドロ−６Ｈ−ピラノ［３，４−
ｂ］ピリジン−６，６−ジカルボン酸ジベンジルエステ
ル７２．２ｇを得る。
【０３７５】ｍ．ｐ．１７３−１７５℃ 参考例 ２７〜２８ 対応原料化合物を参考例２６と同様に処理することによ
り、第４６表記載の化合物を得る。
【０３７６】
【表４６】
【０３７７】参考例 ２９ 参考例１４で得られた化合物２．６５ｇのトルエン５０
ｍｌ溶液に酢酸ロジウム３３ｍｇを加え、８０℃でジア
ゾマロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル１．８３ｇを
滴下し、２時間撹拌する。反応液に、氷冷下、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン１．
１３ｍｌを加え、１５分間撹拌する。反応液に水を加
え、有機層を分取し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロ
ロホルム：アセトン＝３０：１）で精製することによ
り、２−クロロ−５−ヒドロキシ−８−オキソ−５−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５，８−ジヒ
ドロ−６Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６，６−
ジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル３．１ｇを
得る。
【０３７８】ｍ．ｐ．１１８−１２２℃ 参考例 ３０〜３３ 対応原料化合物を参考例２９と同様に処理することによ
り、第４７表記載の化合物を得る。
【０３７９】
【表４７】
【０３８０】参考例 ３４ 参考例２６で得られた化合物３．７７ｇのジオキサン４
０ｍｌ溶液に、１０％パラジウム−炭素２００ｍｇ及び
酢酸３滴を加え、水素加圧下（３５ｐｓｉ）、室温で２
時間振とうする。反応液からパラジウム−炭素をろ別
し、ろ液を濃縮する。残渣をジオキサン５０ｍｌに溶解
して６時間加熱還流し、反応液を室温までもどした後、
ジエチルエーテルを加え、析出する結晶をろ取すること
により、８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−８Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６
−カルボン酸１．８ｇを得る。
【０３８１】ｍ．ｐ．２２３−２２４℃ 参考例 ３５〜３６ 対応原料化合物を参考例３４と同様に処理することによ
り、第４８表記載の化合物を得る。
【０３８２】
【表４８】
【０３８３】参考例 ３７ 参考例２９で得られた化合物３．０ｇを４Ｍ塩化水素−
ジオキサン２０ｍｌ溶液に溶解し、室温で終夜撹拌す
る。反応液を濃縮し、残渣をジオキサン２０ｍｌに溶解
して８時間加熱還流する。反応液を室温までもどした
後、析出する結晶をろ取することにより、２−クロロ−
８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−８Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６−カル
ボン酸１．６ｇを得る。
【０３８４】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 参考例 ３８〜４０ 対応原料化合物を参考例３７と同様に処理することによ
り、第４９表記載の化合物を得る。
【０３８５】
【表４９】
【０３８６】参考例 ４１ 参考例３３で得られた化合物１．０ｇの酢酸５ｍｌ溶液
を１２０−１２５℃で４時間加熱撹拌する。反応液を放
冷し、ジエチルエーテル５ｍｌを加え、１０分撹拌した
後、結晶をろ取することにより、８−メトキシ−１−オ
キソ−４−（３,４,５−トリメトキシフェニル）−１Ｈ
−ピラノ［３，４−ｃ］ピリジン−３−カルボン酸４５
２ｍｇを得るｍ．ｐ．２８０−２８２℃（分解） 参考例 ４２ 参考例３７で得られた化合物５．０ｇのＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド５０ｍｌ懸濁液に、氷冷下、２Ｍ水酸化
ナトリウム水溶液１４ｍｌを加え、室温で１０分間撹拌
する。反応液に、酢酸エチル及びクエン酸水溶液を加
え、抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する
ことにより、２−クロロ−５，８−ジヒドロ−６−ヒド
ロキシ−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−６Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６
−カルボン酸４．６４ｇを得る。
【０３８７】ｍ．ｐ．１２２−１２４℃（分解） 参考例 ４３〜４６ 対応原料化合物を参考例４２と同様に処理することによ
り、第５０表記載の化合物を得る。
【０３８８】
【表５０】
【０３８９】参考例 ４７ （１）参考例１４で得られた化合物２０ｇと炭酸水素カ
リウム５．７ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００
ｍｌ懸濁液を５０℃で２時間撹拌し、次いでブロモマロ
ン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル２５．２ｇのＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド４０ｍｌ溶液を滴下し、同温で３時間反
応させる。反応液に、酢酸エチル及び水を加え抽出し、
抽出液を水洗する。乾燥後、溶媒を留去し、得られた残
渣をヘキサン−ジエチルエーテル混液より結晶化し、ろ
取することにより、２−〔６−クロロ−３−（３，４，
５−トリメトキシベンゾイル）ピリジン−２−カルボニ
ルオキシ〕マロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル２
３．７ｇを得る。
【０３９０】ｍ．ｐ．１１３−１１５℃ （２）上記（１）で得られた化合物２３．６ｇのトルエ
ン２００ｍｌ溶液に、氷冷下、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセ−７−エン６．２ｍｌを加え
る。室温で３０分反応させた後、反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加える。有機層を水洗、乾燥後、溶媒
を留去し、２−クロロ−５−ヒドロキシ−８−オキソ−
５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５，８−
ジヒドロ−６Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６，
６−ジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（参考
例２９で得られた化合物）を得る。
【０３９１】（３）上記（２）で得られた化合物を、４
Ｍ塩化水素−酢酸エチル溶液５００ｍｌに溶解し、室温
で終夜反応させる。反応液を濃縮し、２−クロロ−５−
ヒドロキシ−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−５，８−ジヒドロ−６Ｈ−ピラノ
［３，４−ｂ］ピリジン−６，６−ジカルボン酸を得
る。
【０３９２】（４）上記（３）で得られた化合物を、ジ
オキサン２００ｍｌに溶解し、３時間加熱還流させた
後、ジオキサンを留去する。残渣に酢酸エチルを加えて
結晶をろ取することにより、２−クロロ−８−オキソ−
５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−８Ｈ−ピ
ラノ［３，４−ｂ］ピリジン−６−カルボン酸（参考例
３７で得られた化合物）１２．２ｇを得る。
【０３９３】ｍ．p．：＞２５０℃ 参考例 ４８ 参考例１６で得られた化合物を参考例４７と同様に処理
することにより下記化合物を得る。
【０３９４】２−［４−（３，４，５−トリメトキシベ
ンゾイル）−２−メトキシピリジン−３−カルボニルオ
キシ］マロン酸ジｔｅｒｔ−ブチルエステル（参考例４
８（１）） ４−ヒドロキシ−８−メトキシ−１−オキソ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，４−ジヒ
ドロ−ピラノ［３，４−ｃ］ピリジン−３，３−ジカル
ボン酸ジｔｅｒｔ−ブチルエステル（参考例４８
（２）） ４−ヒドロキシ−８−メトキシ−１−オキソ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１，４−ジヒ
ドロ−ピラノ［３，４−ｃ］ピリジン−３，３−ジカル
ボン酸（参考例４８（３）） ｍ．ｐ．２６４−２６７℃（分解） １−オキソ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−８−メトキシ−１Ｈ−ピラノ［３，４−ｃ］ピリ
ジン−３−カルボン酸（参考例４８（４））（参考例３
７で得られた化合物） 参考例 ４９ 参考例１４で得られた化合物２．０ｇと炭酸水素カリウ
ム５７０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ
懸濁液を５０℃で２時間撹拌する。次いで、ブロモマロ
ン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル２．５ｇのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５ｍｌ溶液を加えて、同温で２時間反応さ
せる。反応液に、酢酸エチル及び水を加えて抽出する。
抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をトルエ
ン５０ｍｌに溶解し、氷冷下、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセ−７−エン８．７ｇを滴下後、
同温で３０分撹拌する。反応液に水を加えて洗浄、有機
層を再び水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残渣を、４Ｍ
塩化水素−酢酸エチル溶液３００ｍｌに溶解し、室温で
終夜反応させる。反応液を濃縮し、残渣をジオキサン１
００ｍｌに溶解し、３時間加熱還流させる。反応液を濃
縮、酢酸エチルを加えて結晶をろ取することにより、２
−クロロ−８−オキソ−５−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−８Ｈ−ピラノ［３，４−ｂ］ピリジン−
６−カルボン酸（参考例３７で得られた化合物）１２．
２ｇを得る。
【０３９５】参考例 ５０ マロン酸ジベンジル１００ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド３００ｍｌ溶液に、Ｎ−ブロモこはく酸イミド６
２．６ｇを加えて溶解した後、氷冷下、トリエチルアミ
ン０．４８９ｍｌをゆっくり滴下し、1時間間撹拌す
る。反応液に水と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出
する。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去することによ
り、油状のブロモマロン酸ジベンジル１２７ｇを得る。
【０３９６】参考例 ５１ マロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル１００ｇのＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３００ｍｌ溶液に、Ｎ−ブロモこはく
酸イミド８２．３ｇを加えて溶解した後、−２℃に冷却
し、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−
７−エン０．６９ｍｌをゆっくり滴下し、１時間撹拌す
る。反応液に水と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出
する。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去することによ
り、油状のブロモマロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル１３６
ｇを得る
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｐ 7/02 Ａ６１Ｐ 7/02 9/00 9/00 9/10 １０１ 9/10 １０１ 9/12 9/12 11/00 11/00 11/06 11/06 43/00 １１１ 43/00 １１１ Ｆターム(参考） 4C065 AA05 BB09 CC01 DD02 HH03 HH04 HH08 HH09 JJ04 KK02 KK03 KK04 LL03 LL04 LL07 LL09 PP03 PP07 PP09 PP10 PP12 PP13 PP14 PP15 PP16 PP17 QQ01 QQ04 4C086 AA03 AA04 CB09 GA02 GA07 GA08 GA09 GA10 GA12 MA01 NA14 ZA12 ZA15 ZA36 ZA39 ZA40 ZA42 ZA59 ZC20

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジン環または置
    換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環Ｂは保護され
    ていてもよい水酸基、置換もしくは非置換低級アルキル
    基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる同一または異なる２〜４個の置換基を
    有するベンゼン環または１〜２個の低級アルキレンジオ
    キシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原子、置換もし
    くは非置換アリール基、置換もしくは非置換低級アルキ
    ル基、置換もしくは非置換複素環式基または置換もしく
    は非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子またはエステル残基
    を表わす。）で示されるナフチリジン誘導体またはその
    薬理的に許容しうる塩。
  2. 【請求項２】 Ｒ1が置換もしくは非置換アリール基、
    置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは非置
    換複素環式基または置換もしくは非置換アミノ基である
    請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】 環Ａが式： 【化２】 で示される環であり、Ａ1が（１）水素原子、（２）置
    換もしくは非置換低級アルコキシ基、（３）ハロゲン原
    子、（４）保護された水酸基、（５）置換もしくは非置
    換含窒素複素環式基、（６）置換もしくは非置換低級ア
    ルキルチオ基、（７）置換もしくは非置換アミノ基、
    （８）置換もしくは非置換アルキル基、（９）置換もし
    くは非置換アリール基、または（１０）複素環式基置換
    オキシ基、Ａ2が（１）水素原子または（２）置換もし
    くは非置換低級アルキル基である請求項１又は２記載の
    化合物。
  4. 【請求項４】 環Ｂが式： 【化３】 で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及びＢ3が同一
    または異なって、保護されていてもよい水酸基、低級ア
    ルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子である
    請求項３記載の化合物。
  5. 【請求項５】 環Ａが式： 【化４】 で示される環であり、Ａ1が（１）水素原子、（２）置
    換もしくは非置換低級アルコキシ基、（３）ハロゲン原
    子、（４）保護された水酸基、（５）置換もしくは非置
    換含窒素複素環式基、（６）置換もしくは非置換低級ア
    ルキルチオ基、（７）置換もしくは非置換アミノ基、
    （８）置換もしくは非置換アルキル基、（９）置換もし
    くは非置換アリール基、または（１０）複素環式基置換
    オキシ基、Ａ2が（１）水素原子または（２）置換もし
    くは非置換低級アルキル基である請求項４記載の化合
    物。
  6. 【請求項６】 環Ａが式： 【化５】 で示される環であり、Ａ1が（１）水素原子、（２）低
    級アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル基及び低級ア
    ルキルアミノ基から選ばれる同一または異なる１〜２個
    の置換基を有していてもよいフェニル基；水酸基置換低
    級アルキル基で置換されていてもよいピリジル基；低級
    アルキル基で置換されていてもよいピリミジニル基；低
    級アルキル基で置換されていてもよいイミダゾリル基；
    ピラジニル基；Ｎ−オキシドピリジル基；Ｎ−オキシド
    ピリミジニル基；テトラゾリル基；チアゾリル基；ピロ
    リジニル基；低級アルキル基置換ピロリジニル基；オキ
    ソ基置換ピロリジニル基；モルホリニル基；保護されて
    いてもよいピペラジニル基；低級アルキル基置換ピペラ
    ジニル基；保護されていてもよいピペリジル基；低級ア
    ルキル基置換ピペリジル基；低級アルキルアミノ基；シ
    アノ基；シクロ低級アルキル基；低級アルコキシ基；お
    よび水酸基から選ばれる基で置換されていてもよい低級
    アルコキシ基、（３）ハロゲン原子、（４）トリフルオ
    ロメタンスルホニルオキシ基、（５）テトラゾリル基、
    （６）トリアゾリル基、（７）水酸基置換低級アルキル
    基または水酸基で置換されていてもよいピロリジニル
    基、（８）水酸基で置換されていてもよいピペリジル
    基、（９）モルホリニル基、（１０）水酸基置換低級ア
    ルキル基またはピリミジニル基で置換されていてもよい
    ピペラジニル基、（１１）ピリジル基、（１２）イミダ
    ゾリル基、（１３）フェニル基で置換されていてもよい
    低級アルキルチオ基、（１４）フェニル基置換低級アル
    キル基、ピリジル基置換低級アルキル基、低級アルキル
    基、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、水酸基置換
    低級アルキル基、ピリミジニル基置換低級アルキル基、
    低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、ピ
    リジル基置換アミノ基、ハロゲノ低級アルキル基置換ピ
    リミジニル基で置換されたアミノ基、ピリジルカルボニ
    ル基置換アミノ基および保護されていてもよいアミノ基
    から選ばれる同一または異なる１〜２個の置換基を有し
    ていてもよいアミノ基、（１５）低級アルキル基、また
    は（１６）テトラヒドロフラニル基置換オキシ基、Ａ2
    が（１）水素原子または（２）低級アルコキシ基及びジ
    低級アルキルアミノ基から選ばれる同一または異なる１
    〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基；ピリジ
    ル基；低級アルコキシ基；水酸基；およびピリミジニル
    基から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル
    基、環Ｂが式： 【化６】 で示されるベンゼン環であり、Ｂ1、Ｂ2及びＢ3が同一
    または異なって、保護されていてもよい水酸基、低級ア
    ルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子、Ｒ1
    が保護されていてもよいアミノ基、アミノ基部分が保護
    されていてもよいアミノ基置換低級アルキル基、カルバ
    モイル基、保護されていてもよいカルボキシル基、水酸
    基部分が保護されていてもよい水酸基置換低級アルキル
    基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されてい
    てもよいフェニル基；低級アルキル基置換ピリジル基、
    低級アルコキシ基置換ピリジル基、ピリジル基、低級ア
    ルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル基、カルバモイル
    基、保護されていてもよいカルボキシル基及び保護され
    ていてもよい水酸基から選ばれる基で置換されていても
    よい低級アルキル基；保護されていてもよいアミノ基；
    またはアミノ基部分が保護されていてもよい低級アルキ
    ルアミノ基、Ｒ2が水素原子、低級アルキル基、シクロ
    低級アルキル基置換低級アルキル基または水酸基置換低
    級アルキル基である請求項１又は２記載の化合物。
  7. 【請求項７】 環Ａが式： 【化７】 で示される環であり、Ａ1が（１）水素原子、（２）低
    級アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル基及び低級ア
    ルキルアミノ基から選ばれる同一または異なる１〜２個
    の置換基を有していてもよいフェニル基；水酸基置換低
    級アルキル基で置換されていてもよいピリジル基；低級
    アルキル基で置換されていてもよいピリミジニル基；低
    級アルキル基で置換されていてもよいイミダゾリル基；
    ピラジニル基；Ｎ−オキシドピリジル基；Ｎ−オキシド
    ピリミジニル基；テトラゾリル基；チアゾリル基；ピロ
    リジニル基；低級アルキル基置換ピロリジニル基；オキ
    ソ基置換ピロリジニル基；モルホリニル基；保護されて
    いてもよいピペラジニル基；低級アルキル基置換ピペラ
    ジニル基；保護されていてもよいピペリジル基；低級ア
    ルキル基置換ピペリジル基；低級アルキルアミノ基；シ
    アノ基；シクロ低級アルキル基；低級アルコキシ基；お
    よび水酸基から選ばれる基で置換されていてもよい低級
    アルコキシ基、（３）ハロゲン原子、（４）トリフルオ
    ロメタンスルホニルオキシ基、（５）テトラゾリル基、
    （６）トリアゾリル基、（７）水酸基置換低級アルキル
    基または水酸基で置換されていてもよいピロリジニル
    基、（８）水酸基で置換されていてもよいピペリジル
    基、（９）モルホリニル基、（１０）水酸基置換低級ア
    ルキル基またはピリミジニル基で置換されていてもよい
    ピペラジニル基、（１１）ピリジル基、（１２）イミダ
    ゾリル基、（１３）フェニル基で置換されていてもよい
    低級アルキルチオ基、（１４）フェニル基置換低級アル
    キル基、ピリジル基置換低級アルキル基、低級アルキル
    基、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、水酸基置換
    低級アルキル基、ピリミジニル基置換低級アルキル基、
    低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、ピ
    リジル基置換アミノ基、ハロゲノ低級アルキル基置換ピ
    リミジニル基で置換されたアミノ基、ピリジルカルボニ
    ル基置換アミノ基および保護されていてもよいアミノ基
    から選ばれる同一または異なる１〜２個の置換基を有し
    ていてもよいアミノ基、（１５）低級アルキル基、また
    は（１６）テトラヒドロフラニル基置換オキシ基、Ａ2
    が（１）水素原子または（２）低級アルコキシ基及びジ
    低級アルキルアミノ基から選ばれる同一または異なる１
    〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基；ピリジ
    ル基；低級アルコキシ基；水酸基；およびピリミジニル
    基から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル
    基、Ｒ1が保護されていてもよいアミノ基、アミノ基部
    分が保護されていてもよいアミノ基置換低級アルキル
    基、カルバモイル基及び低級アルコキシ基から選ばれる
    基で置換されていてもよいフェニル基；低級アルキル基
    置換ピリジル基、低級アルコキシ基置換ピリジル基、ピ
    リジル基、低級アルキル基置換Ｎ−オキシドピリジル
    基、カルバモイル基及び保護されていてもよい水酸基か
    ら選ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル基；
    保護されていてもよいアミノ基；またはアミノ基部分が
    保護されていてもよい低級アルキルアミノ基である請求
    項６記載の化合物。
  8. 【請求項８】 環Ｂが（１）ベンジル基、フェネチル
    基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、マロニ
    ル基、アクリロイル基もしくはベンゾイル基により保護
    されていてもよい水酸基；低級アルキル基；低級アルコ
    キシ基；及びハロゲン原子から選ばれる同一または異な
    る２〜４個の置換基を有するベンゼン環または（２）１
    〜２個の低級アルキレンジオキシ基を有するベンゼン環
    である請求項１又は２記載の化合物。
  9. 【請求項９】 環Ａが（１）（ｉ）低級アルキレンジオ
    キシフェニル基；ベンズイミダゾリル基；低級アルキル
    基置換イミダゾリル基；イミダゾリル基；シアノ基；カ
    ルボキシル基；ピリジル基；Ｎ−オキシドピリジル基；
    水酸基置換低級アルキル基で置換されたピリジル基；ピ
    ロリジニル基；低級アルキル基置換ピロリジニル基；オ
    キソ基置換ピロリジニル基；イソキノリル基；低級アル
    キル基置換ピリミジニル基；ピリミジニル基；Ｎ−オキ
    シドピリミジニル基；ピラジニル基；キナゾリニル基；
    フタラジニル基；低級アルコキシカルボニル基置換ピペ
    リジル基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基置換ピペリ
    ジル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；ピペリジル
    基；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基置換ピペラジニル
    基；低級アルキル基置換ピペラジニル基；ピペラジニル
    基；キノリル基；テトラゾリル基；チアゾリル基；チエ
    ニル基；フリル基；低級アルキル基及び低級アルコキシ
    カルボニル基で置換されたピロリル基；モノもしくはジ
    低級アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置換低級アル
    コキシ基；低級アルコキシ基；水酸基；カルバモイル
    基；低級アルコキシカルボニル基；シクロ低級アルキル
    基；フェニル基；水酸基置換低級アルキル基で置換され
    たフェニル基；カルボキシル基置換フェニル基；低級ア
    ルコキシカルボニル基置換フェニル基；ベンゾイル基；
    モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基；ニト
    ロ基置換フェニル基；ナフチル基；モノもしくはジハロ
    ゲノフェニル基；カルバモイル基置換フェニル基；スル
    ファモイル基置換フェニル基；ベンジルオキシカルボニ
    ル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−
    フルオレニルメトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキ
    シカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシ
    カルボニル基もしくは低級アルカノイル基により保護さ
    れていてもよいアミノ基で、モノもしくはジ置換された
    フェニル基；ビフェニリル基；ハロゲン原子及びニトロ
    基でジ置換されたフェニル基；ジ低級アルキルアミノ基
    置換フェニル基；及び低級アルキル基置換フェニル基か
    ら選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ
    基、（ｉｉ）ハロゲン原子、（ｉｉｉ）トリフルオロメ
    タンスルホニルオキシ基、（ｉｖ）テトラゾリル基、
    （ｖ）トリアゾリル基、（ｖｉ）水酸基置換低級アルキ
    ル基または水酸基で置換されていてもよいピロリジニル
    基、（ｖｉｉ）水酸基で置換されていてもよいピペリジ
    ル基、（ｖｉｉｉ）モルホリニル基、（ｉｘ）水酸基置
    換低級アルキル基またはピリミジニル基で置換されてい
    てもよいピペラジニル基、（ｘ）ピリジル基、（ｘｉ）
    イミダゾリル基、（ｘｉｉ）低級アルキレンジオキシフ
    ェニル基；ベンズイミダゾリル基；低級アルキル基置換
    イミダゾリル基；シアノ基；カルボキシル基；ピリジル
    基；Ｎ−オキシドピリジル基；水酸基置換低級アルキル
    基で置換されたピリジル基；ピロリジニル基；イソキノ
    リル基；低級アルキル基置換ピリミジニル基；ピリミジ
    ニル基；ピラジニル基；キナゾリニル基；フタラジニル
    基；低級アルコキシカルボニル基置換ピペリジル基；ピ
    ペリジル基；キノリル基；テトラゾリル基；チエニル
    基；フリル基；低級アルキル基及び低級アルコキシカル
    ボニル基で置換されたピロリル基；モノもしくはジ低級
    アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置換低級アルコキ
    シ基；低級アルコキシ基；水酸基；カルバモイル基；低
    級アルコキシカルボニル基；シクロ低級アルキル基；フ
    ェニル基；水酸基置換低級アルキル基で置換されたフェ
    ニル基；カルボキシル基置換フェニル基；低級アルコキ
    シカルボニル基置換フェニル基；ベンゾイル基；モノも
    しくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基；ニトロ基置
    換フェニル基；ナフチル基；モノもしくはジハロゲノフ
    ェニル基；カルバモイル基置換フェニル基；スルファモ
    イル基置換フェニル基；ベンジルオキシカルボニル基、
    ４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
    レニルメトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
    ボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボ
    ニル基もしくは低級アルカノイル基により保護されてい
    てもよいアミノ基で、モノもしくはジ置換されたフェニ
    ル基；ビフェニリル基；ハロゲン原子及びニトロ基でジ
    置換されたフェニル基；ジ低級アルキルアミノ基置換フ
    ェニル基；及び低級アルキル基置換フェニル基から選ば
    れる基で置換されていてもよい低級アルキルチオ基、
    （ｘｉｉｉ）ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキ
    シベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメト
    キシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
    ２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基もし
    くは低級アルカノイル基により保護されていてもよいア
    ミノ基、（ｘｉｖ）フェニル基置換低級アルキル基；ピ
    リジル基置換低級アルキル基；低級アルキル基；低級ア
    ルコキシ基置換低級アルキル基；水酸基置換低級アルキ
    ル基；ピリミジニル基置換低級アルキル基；低級アルキ
    ルアミノ基で置換された低級アルキル基；ピリジル基置
    換アミノ基；ハロゲノ低級アルキル基置換ピリミジニル
    基で置換されたアミノ基；ピリジルカルボニル基置換ア
    ミノ基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベ
    ンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
    ニル基もしくは低級アルカノイル基により置換されてい
    てもよいアミノ基から選ばれる同一または異なる１〜２
    個の置換基を有するアミノ基、（ｘｖ）低級アルキル
    基、または（ｘｖｉ）テトラヒドロフラニル基置換オキ
    シ基から選ばれる基で置換されていてもよいピリジン
    環、（２）Ｎ−オキシドピリジン環、または（３）ピリ
    ジン環部分が、低級アルキレンジオキシフェニル基；ベ
    ンズイミダゾリル基；低級アルキル基置換イミダゾリル
    基；シアノ基；カルボキシル基；ピリジル基；Ｎ−オキ
    シドピリジル基；水酸基置換低級アルキル基で置換され
    たピリジル基；ピロリジニル基；イソキノリル基；低級
    アルキル基置換ピリミジニル基；ピリミジニル基；ピラ
    ジニル基；キナゾリニル基；フタラジニル基；低級アル
    コキシカルボニル基置換ピペリジル基；ピペリジル基；
    キノリル基；テトラゾリル基；チエニル基；フリル基；
    低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル基で置換
    されたピロリル基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ
    基；低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基；低級アル
    コキシ基；水酸基；カルバモイル基；低級アルコキシカ
    ルボニル基；シクロ低級アルキル基；フェニル基；ヒド
    ロキシ低級アルキル基で置換されたフェニル基；カルボ
    キシル基置換フェニル基；低級アルコキシカルボニル基
    置換フェニル基；ベンゾイル基；モノもしくはジ低級ア
    ルコキシ基置換フェニル基；ニトロ基置換フェニル基；
    ナフチル基；モノもしくはジハロゲノフェニル基；カル
    バモイル基置換フェニル基；スルファモイル基置換フェ
    ニル基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベ
    ンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシ
    カルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，
    ２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基もしくは
    低級アルカノイル基により保護されていてもよいアミノ
    基で、モノもしくはジ置換されたフェニル基；ビフェニ
    リル基；ハロゲン原子及びニトロ基でジ置換されたフェ
    ニル基；ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基；及び
    低級アルキル基置換フェニル基から選ばれる基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基で置換されていてもよ
    い、オキソ基置換ジヒドロピリジン環である請求項８記
    載の化合物。
  10. 【請求項１０】 Ｒ1が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ピペ
    リジル基；ピリジル基；低級アルキル基置換ピリジル
    基；低級アルコキシ基置換ピリジル基；低級アルキル基
    置換Ｎ−オキシドピリジル基；イミダゾリル基；低級ア
    ルキル基置換ピペリジル基；フリル基；モルホリノ基；
    テトラヒドロフリル基；低級アルキル基及びオキソ基で
    置換されたジヒドロピリジル基；ピペラジニル基；低級
    アルコキシカルボニル基置換ピペラジニル基；シクロ低
    級アルキル基；フェニル基；低級アルキレンジオキシフ
    ェニル基；低級アルコキシカルボニル基；水酸基；水酸
    基置換低級アルコキシ基；カルボキシル基；低級アルコ
    キシ基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベ
    ンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオ
    キシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
    ２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基もし
    くは低級アルカノイル基により保護されていてもよいア
    ミノ基；カルバモイル基；ジ低級アルキルアミノ基；及
    びピリジルカルボニルオキシ基から選ばれる同一または
    異なる１〜３個の基で置換されていてよい低級アルキル
    基、（ｉｉｉ）ハロゲン原子；モノもしくはジ低級アル
    キルアミノ基；モルホリノ基；低級アルキル基置換ピリ
    ミジニル基；低級アルキル基置換ピラゾリル基；水酸基
    置換低級アルキル基；ベンジルオキシカルボニル基、４
    −メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレ
    ニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
    ルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカル
    ボニル基または低級アルカノイル基で保護されていても
    よいアミノ基；低級アルカノイル基置換アミノ基；低級
    アルコキシ基；低級アルキル基；ベンジル基、フェネチ
    ル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、マロ
    ニル基、アクリロイル基またはベンゾイル基で保護され
    ていてもよい水酸基；カルボキシル基置換低級アルキル
    基；低級アルコキシカルボニル基置換低級アルキル基；
    低級アルコキシカルボニル基置換低級アルコキシ基；カ
    ルバモイル基；カルボキシル基；低級アルキルチオ基；
    低級アルコキシカルボニル基；ニトロ基；トリハロゲノ
    低級アルキル基；モルホリノカルボニル基；カルボキシ
    ル基置換低級アルコキシ基；ジ（低級アルキルスルホニ
    ル）アミノ基；モルホリノ低級アルキルカルバモイル基
    置換低級アルコキシ基；スルファモイル基；ベンジルオ
    キシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボ
    ニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、
    ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリク
    ロロエチルオキシカルボニル基または低級アルカノイル
    基で保護されていてもよいアミノ基で置換された低級ア
    ルキル基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシ
    ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチル
    オキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
    基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基
    及び低級アルカノイル基から選ばれるいずれか１つの保
    護基、及び低級アルキル基で置換されたアミノ基；低級
    アルキレンジオキシ基；ベンジルオキシカルボニル基、
    ４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
    レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
    カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
    ルボニル基または低級アルカノイル基で保護されていて
    もよいアミノ基で置換されたカルバモイル基；低級アル
    キルスルフィニル基；及び低級アルキルスルホニル基か
    ら選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置換されて
    いてもよいフェニル基またはナフチル基、（ｉｖ）水酸
    基；ハロゲン原子；低級アルキル基；フェニル基置換低
    級アルキル基；水酸基置換低級アルキル基；オキソ基；
    低級アルコキシ基；ベンジルオキシカルボニル基、４−
    メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニ
    ルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
    ボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボ
    ニル基または低級アルカノイル基で保護されていてもよ
    いアミノ基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；フ
    ェニル低級アルコキシカルボニル基；低級アルコキシカ
    ルボニル基；カルボキシル基；及びカルバモイル基から
    選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置換されてい
    てもよい５〜１２員複素単環式基もしくは二環式基、ま
    たは（ｖ）ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシ
    ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチル
    オキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
    基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル
    基、ピリジル基、低級アルカノイル基、低級アルキル
    基、水酸基置換低級アルキル基、フェニル基、低級アル
    カノイルオキシ基置換低級アルキル基またはトリハロゲ
    ノ低級アルカノイル基から選ばれる同一または異なる基
    でモノもしくはジ置換されていてもよいアミノ基である
    請求項９記載の化合物。
  11. 【請求項１１】 ５〜１２員複素単環式基もしくは二環
    式基がピラニル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリ
    ル基、ピロリル基、イミダゾリル基、フリル基、チエニ
    ル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサゾリ
    ル基、オキサゾリニル基、ピラゾリル基、フタラジニル
    基、キナゾリニル基、チエノピリミジニル基、ピリジル
    基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、
    トリアジニル基、テトラゾリル基、キノリル基、イソキ
    ノリル基、キノキサリニル基、インドリル基、ベンゾチ
    エニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基
    またはベンズイミダゾリル基である請求項１０記載の化
    合物。
  12. 【請求項１２】 Ｒ2が水素原子；ベンジル基；ニトロ
    ベンジル基；アミノ基部分が、ベンジルオキシカルボニ
    ル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−
    フルオレニルメトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキ
    シカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシ
    カルボニル基もしくは低級アルカノイル基により保護さ
    れていてもよいアミノベンジル基；低級アルコキシベン
    ジル基；低級アルキル基；シクロ低級アルキル基；トリ
    低級アルキルシリル低級アルキル基；シクロ低級アルキ
    ル基置換低級アルキル基；水酸基置換低級アルキル基；
    または低級アルコキシ基置換低級アルキル基である請求
    項１１記載の化合物。
  13. 【請求項１３】 環Ａが式： 【化８】 で示される環であり、Ａ1が（１）ピリジル基、ピラジ
    ニル基、ピリミジニル基、低級アルキル基置換イミダゾ
    リル基、低級アルコキシ基および水酸基から選ばれる基
    で置換されていてもよい低級アルコキシ基、（２）ピリ
    ジル基置換低級アルキル基で置換されたアミノ基、環Ｂ
    がトリ低級アルコキシ基置換フェニル基、Ｒ1が低級ア
    ルキル基置換ピリジル基または低級アルキル基置換Ｎ−
    オキシドピリジル基で置換された低級アルキル基、Ｒ2
    が低級アルキル基である請求項１又は２記載の化合物。
  14. 【請求項１４】 Ａ1が２−ピリジルメトキシ基、２−
    ピラジニルメトキシ基、２−ピリミジニルメトキシ基、
    ２−（２−ピリジル）エトキシ基、（１−メチルイミダ
    ゾール−２−イル）メトキシ基、メトキシ基、２−メト
    キシエトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、３−ヒド
    ロキシプロポキシ基または２−ピリジルメチルアミノ
    基、環Ｂがトリメトキシフェニル基、Ｒ1が（２−メチ
    ルピリジン−４−イル）メチル基または（２−メチル−
    Ｎ−オキシドピリジン−４−イル）メチル基である請求
    項１３記載の化合物。
  15. 【請求項１５】 環Ａが式： 【化９】 で示される環であり、Ａ1がピリジル基置換低級アルコ
    キシ基、ピリミジニル基置換低級アルコキシ基、（１−
    メチルイミダゾール−２−イル）低級アルコキシ基、低
    級アルコキシ基置換低級アルコキシ基、水酸基置換低級
    アルコキシ基、ピリジル基置換低級アルキル基で置換さ
    れたアミノ基、環Ｂがトリ低級アルコキシ基置換フェニ
    ル基、Ｒ1が低級アルキル基置換ピリジル基で置換され
    た低級アルキル基、Ｒ2が低級アルキル基である請求項
    １３記載の化合物。
  16. 【請求項１６】 Ａ1がピリミジニル基置換低級アルコ
    キシ基、環Ｂがトリ低級アルコキシ基置換フェニル基、
    Ｒ1が低級アルキル基置換ピリジル基で置換された低級
    アルキル基である請求項１５記載の化合物。
  17. 【請求項１７】 ７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチ
    ルピリジン−４−イル）メチル〕−８−オキソ−２−
    （２−ピリジルメトキシ）−５−（３，４，５−トリメ
    トキシフェニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボ
    ン酸メチルエステル ７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−
    イル）メチル〕−８−オキソ−２−（２−ピラジニルメ
    トキシ）−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
    −１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステ
    ル ７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−
    イル）メチル〕−８−オキソ−２−（２−ピリミジニル
    メトキシ）−５−（３，４，５−トリメトキシフェニ
    ル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエ
    ステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔（ピリミジン−２−イル）メトキシ〕−３−カルボン
    酸メチルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔２−（ピリジン−２−イル）エトキシ〕−３−カルボ
    ン酸メチルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔（ピリジン−２−イル）メトキシ〕−３−カルボン酸
    メチルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔（ピリジン−２−イル）メチルアミノ〕−３−カルボ
    ン酸メチルエステル ７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチル−Ｎ−オキシド
    ピリジン−４−イル）メチル〕−８−オキソ−２−メト
    キシ−５−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
    １，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチルエステル ７，８−ジヒドロ−７−〔（２−メチルピリジン−４−
    イル）メチル〕−８−オキソ−２−（３−ヒドロキシプ
    ロピルオキシ）−５−（３，４，５−トリメトキシフェ
    ニル）−１，７−ナフチリジン−６−カルボン酸メチル
    エステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔（１−メチルイミダゾール−２−イル）メトキシ〕−
    ３−カルボン酸メチルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    （２−ヒドロキシエチルオキシ）−３−カルボン酸メチ
    ルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    （２−メトキシエチルオキシ）−３−カルボン酸メチル
    エステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    （３−ヒドロキシプロピルオキシ）−３−カルボン酸メ
    チルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    〔（２−オキソピロリジン−５−イル）メトキシ〕−３
    −カルボン酸メチルエステル ２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチル〕−
    １，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−８−
    （２−モルホリノエチルオキシ）−３−カルボン酸メチ
    ルエステル （Ｓ）−２−〔（２−メチルピリジン−４−イル）メチ
    ル〕−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−２，７−ナフチリジン−
    ８−〔（ピロリジン−２−イル）メトキシ〕−３−カル
    ボン酸メチルエステルまたはそれらの薬理的に許容しう
    る塩。
  18. 【請求項１８】 一般式［ＩＩ］ 【化１０】 （式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジン環または置
    換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環Ｂは保護され
    ていてもよい水酸基、置換もしくは非置換低級アルキル
    基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる同一または異なる２〜４個の置換基を
    有するベンゼン環または１〜２個の低級アルキレンジオ
    キシ基を有するベンゼン環、Ｒ2は水素原子またはエス
    テル残基を表わす。）で示される化合物またはその塩
    と、一般式［ＩＩＩ］ 【化１１】 （式中、Ｒ1は水素原子、置換もしくは非置換アリール
    基、置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは
    非置換複素環式基または置換もしくは非置換アミノ基を
    表す。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応
    し、所望により生成物を薬理的に許容しうる塩とするこ
    とを特徴とする、一般式［Ｉ］ 【化１２】 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
    ナフチリジン誘導体またはその薬理的に許容しうる塩の
    製法。
  19. 【請求項１９】 一般式［ＩＩ］ 【化１３】 （式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジン環または置
    換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環Ｂは保護され
    ていてもよい水酸基、置換もしくは非置換低級アルキル
    基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる同一または異なる２〜４個の置換基を
    有するベンゼン環または１〜２個の低級アルキレンジオ
    キシ基を有するベンゼン環、Ｒ2は水素原子またはエス
    テル残基を表わす。）で示される化合物またはその塩を
    加水分解に付し、一般式［ＩＶ］ 【化１４】 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
    化合物とし、次いで、当該生成物［ＩＶ］と一般式［Ｉ
    ＩＩ］ 【化１５】 （式中、Ｒ1は水素原子、置換もしくは非置換アリール
    基、置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは
    非置換複素環式基または置換もしくは非置換アミノ基を
    表す。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応
    し、所望により生成物を薬理的に許容しうる塩とするこ
    とを特徴とする、一般式［Ｉ］ 【化１６】 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
    ナフチリジン誘導体またはその薬理的に許容しうる塩の
    製法。
  20. 【請求項２０】 一般式〔Ｉ−ｅ〕 【化１７】 （式中、環Ａ3は、式： 【化１８】 で示されるオキソ基置換ジヒドロピリジン環であり、環
    Ｂは保護されていてもよい水酸基、置換もしくは非置換
    低級アルキル基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基
    及びハロゲン原子から選ばれる同一または異なる２〜４
    個の置換基を有するベンゼン環または１〜２個の低級ア
    ルキレンジオキシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原
    子、置換もしくは非置換アリール基、置換もしくは非置
    換低級アルキル基、置換もしくは非置換複素環式基また
    は置換もしくは非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子または
    エステル残基を表わす。）で示される化合物またはその
    塩と、一般式［Ｖ］ 【化１９】 （式中、Ａ21は置換または非置換低級アルキル基、Ｘは
    脱離基を表わす。）で示される化合物とを反応し、所望
    により生成物を薬理的に許容しうる塩とすることを特徴
    とする、一般式［Ｉ−ｃ］ 【化２０】 （式中、環Ａ1は、式： 【化２１】 で示されるオキソ基置換ジヒドロピリジン環であり、他
    の記号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフチ
    リジン誘導体またはその薬理的に許容しうる塩の製法。
  21. 【請求項２１】 一般式〔Ｉ−ｅ〕 【化２２】 （式中、環Ａ3は、式： 【化２３】 で示されるオキソ基置換ジヒドロピリジン環であり、環
    Ｂは保護されていてもよい水酸基、置換もしくは非置換
    低級アルキル基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基
    及びハロゲン原子から選ばれる同一または異なる２〜４
    個の置換基を有するベンゼン環または１〜２個の低級ア
    ルキレンジオキシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原
    子、置換もしくは非置換アリール基、置換もしくは非置
    換低級アルキル基、置換もしくは非置換複素環式基また
    は置換もしくは非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子または
    エステル残基を表わす。）で示される化合物またはその
    塩と、一般式［Ｖ］ 【化２４】 （式中、Ａ21は置換または非置換低級アルキル基、Ｘは
    脱離基を表わす。）で示される化合物とを反応し、所望
    により生成物を薬理的に許容しうる塩とすることを特徴
    とする、一般式［Ｉ−ｄ］ 【化２５】 （式中、環Ａ2は、式： 【化２６】 で示されるピリジン環であり、他の記号は前記と同一意
    味を有する。）で示されるナフチリジン誘導体またはそ
    の薬理的に許容しうる塩の製法。
  22. 【請求項２２】 一般式〔Ｉ−ｇ〕 【化２７】 （式中、環Ａ5は、式： 【化２８】 で示されるピリジン環であり、Ａ12はハロゲン原子、環
    Ｂは保護されていてもよい水酸基、置換もしくは非置換
    低級アルキル基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基
    及びハロゲン原子から選ばれる同一または異なる２〜４
    個の置換基を有するベンゼン環または１〜２個の低級ア
    ルキレンジオキシ基を有するベンゼン環、Ｒ1は水素原
    子、置換もしくは非置換アリール基、置換もしくは非置
    換低級アルキル基、置換もしくは非置換複素環式基また
    は置換もしくは非置換アミノ基、Ｒ2は水素原子または
    エステル残基を表わす。）で示される化合物またはその
    塩と、一般式〔ＶＩ〕 【化２９】 （式中、Ａ11は置換もしくは非置換低級アルコキシ基、
    置換もしくは非置換低級アルキルチオ基または置換もし
    くは非置換アミノ基を表す。）で示される化合物を反応
    し、所望により生成物を薬理的に許容しうる塩とするこ
    とを特徴とする、一般式［Ｉ−ｆ］ 【化３０】 （式中、環Ａ4は、式： 【化３１】 で示されるピリジン環を表し、他の記号は前記と同一意
    味を有する。）で示されるナフチリジン誘導体またはそ
    の薬理的に許容しうる塩の製法。
  23. 【請求項２３】 一般式［ｖｉ］ 【化３２】 （式中、環Ａは置換もしくは非置換ピリジン環または置
    換もしくは非置換ジヒドロピリジン環、環Ｂは保護され
    ていてもよい水酸基、置換もしくは非置換低級アルキル
    基、置換もしくは非置換低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる同一または異なる２〜４個の置換基を
    有するベンゼン環または１〜２個の低級アルキレンジオ
    キシ基を有するベンゼン環、Ｚ1はカルボキシル基の保
    護基を表わす。）で示される化合物またはその塩。
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