JP2001031662A - プロピレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
プロピレンオキサイドの製造方法Info
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
- C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 イソプロピルベンゼンのハイドロパーオキサ
イドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンをプロピ
レンオキサイドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼン
を繰り返し使用することができるという特徴を有するプ
ロピレンオキサイドの製造方法を提供する。 【解決手段】 下記の工程を含むプロピレンオキサイド
の製造方法。 酸化工程：イソプロピルベンゼンを酸化することにより
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工
程 エポキシ化工程：酸化工程で得たイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを
得る工程 水素化分解工程：エポキシ化工程で得たクミルアルコー
ルを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを
得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸
化工程へリサイクルする工程 有機酸除去工程：上記の各工程内又は各工程を結ぶ少な
くとも一ケ所において有機酸を系外へ除去する工程
イドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンをプロピ
レンオキサイドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼン
を繰り返し使用することができるという特徴を有するプ
ロピレンオキサイドの製造方法を提供する。 【解決手段】 下記の工程を含むプロピレンオキサイド
の製造方法。 酸化工程：イソプロピルベンゼンを酸化することにより
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工
程 エポキシ化工程：酸化工程で得たイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを
得る工程 水素化分解工程：エポキシ化工程で得たクミルアルコー
ルを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを
得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸
化工程へリサイクルする工程 有機酸除去工程：上記の各工程内又は各工程を結ぶ少な
くとも一ケ所において有機酸を系外へ除去する工程
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレンオキサ
イドの製造方法に関するものである。更に詳しくは、本
発明は、イソプロピルベンゼンのハイドロパーオキサイ
ドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンをプロピレ
ンオキサイドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼンを
繰り返し使用することができるという特徴を有するプロ
ピレンオキサイドの製造方法に関するものである。
イドの製造方法に関するものである。更に詳しくは、本
発明は、イソプロピルベンゼンのハイドロパーオキサイ
ドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンをプロピレ
ンオキサイドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼンを
繰り返し使用することができるという特徴を有するプロ
ピレンオキサイドの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エチルベンゼンのハイドロパーオキサイ
ドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンを酸化し、
プロピレンオキサイド及びスチレンを得るプロセスはハ
ルコン法として知られている。この方法によると、プロ
ピレンオキサイドと共にスチレンが必然的に副生される
ため、プロピレンオキサイドのみを選択的に得るという
観点からは不満足である。
ドを酸素キャリヤーとして用いてプロピレンを酸化し、
プロピレンオキサイド及びスチレンを得るプロセスはハ
ルコン法として知られている。この方法によると、プロ
ピレンオキサイドと共にスチレンが必然的に副生される
ため、プロピレンオキサイドのみを選択的に得るという
観点からは不満足である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状において、
本発明が解決しようとする課題は、イソプロピルベンゼ
ンのハイドロパーオキサイドを酸素キャリヤーとして用
いてプロピレンをプロピレンオキサイドに変換し、かつ
該イソプロピルベンゼンを繰り返し使用することができ
るという特徴を有するプロピレンオキサイドの製造方法
に関するものである。
本発明が解決しようとする課題は、イソプロピルベンゼ
ンのハイドロパーオキサイドを酸素キャリヤーとして用
いてプロピレンをプロピレンオキサイドに変換し、かつ
該イソプロピルベンゼンを繰り返し使用することができ
るという特徴を有するプロピレンオキサイドの製造方法
に関するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記の工程を含むプロピレンオキサイドの製造方法に係る
ものである。 酸化工程：イソプロピルベンゼンを酸化することにより
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工
程 エポキシ化工程：酸化工程で得たイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを
得る工程 水素化分解工程：エポキシ化工程で得たクミルアルコー
ルを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを
得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸
化工程へリサイクルする工程 有機酸除去工程：上記の各工程内又は各工程を結ぶ少な
くとも一ケ所において有機酸を系外へ除去する工程
記の工程を含むプロピレンオキサイドの製造方法に係る
ものである。 酸化工程：イソプロピルベンゼンを酸化することにより
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工
程 エポキシ化工程：酸化工程で得たイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを
得る工程 水素化分解工程：エポキシ化工程で得たクミルアルコー
ルを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを
得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸
化工程へリサイクルする工程 有機酸除去工程：上記の各工程内又は各工程を結ぶ少な
くとも一ケ所において有機酸を系外へ除去する工程
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の酸化工程は、イソプロピ
ルベンゼンを酸化することによりイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを得る工程である。イソプロピ
ルベンゼンの酸化は、通常、空気や酸素濃縮空気などの
含酸素ガスによる自動酸化で行われる。特に、水／アル
カリ性エマルジョン中での乳化酸化法が、イソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイドの収率を向上させる観
点から好ましい。通常の反応温度は５０〜２００℃であ
り、反応圧力は大気圧から５ＭＰａの間である。乳化酸
化法の場合、アルカリ性試薬としては、ＮａＯＨ、ＫＯ
Ｈのようなアルカリ金属化合物や、アルカリ土類金属化
合物又はＮａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3のようなアルカリ金
属炭酸塩又はアンモニア及びＮＨ4ＣＯ3、アルカリ金属
炭酸アンモニウム塩等が用いられる。
ルベンゼンを酸化することによりイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを得る工程である。イソプロピ
ルベンゼンの酸化は、通常、空気や酸素濃縮空気などの
含酸素ガスによる自動酸化で行われる。特に、水／アル
カリ性エマルジョン中での乳化酸化法が、イソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイドの収率を向上させる観
点から好ましい。通常の反応温度は５０〜２００℃であ
り、反応圧力は大気圧から５ＭＰａの間である。乳化酸
化法の場合、アルカリ性試薬としては、ＮａＯＨ、ＫＯ
Ｈのようなアルカリ金属化合物や、アルカリ土類金属化
合物又はＮａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3のようなアルカリ金
属炭酸塩又はアンモニア及びＮＨ4ＣＯ3、アルカリ金属
炭酸アンモニウム塩等が用いられる。
【０００６】本発明のエポキシ化工程は、酸化工程で得
た有機ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応さ
せることによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコ
ールを得る工程である。エポキシ化工程は、目的物を高
収率及び高選択率下に得る観点から、チタン含有珪素酸
化物からなる触媒の存在下に実施することが好ましい。
これらの触媒は、珪素酸化物と化学的に結合したＴｉを
含有する、いわゆるＴｉ−シリカ触媒が好ましい。たと
えば、Ｔｉ化合物をシリカ担体に担持したもの、共沈法
やゾルゲル法で珪素酸化物と複合したもの、あるいはＴ
ｉを含むゼオライト化合物などを挙げることができる。
この様なチタン含有珪素酸化物は、下記（１）〜（４）
の全ての条件を充足することが特に好ましい。条件の
（１）は平均細孔径が１０Å以上であることである。条
件の（２）は、全細孔容量の９０％以上が５〜２００Å
の細孔径を有することである。条件の（３）は、比細孔
容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上であることである。ここ
で、上記の比細孔容量とは触媒１ｇ当りの細孔容量を意
味している。上記の条件（１）〜（３）についての測定
は、窒素、アルゴン等の気体の物理吸着法を用い、通常
の方法により測定することができる。条件の（４）は、
下記の一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニウムイオ
ンを型剤として用い、その後該型剤を除去して得られる
ものであることである。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。）
た有機ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応さ
せることによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコ
ールを得る工程である。エポキシ化工程は、目的物を高
収率及び高選択率下に得る観点から、チタン含有珪素酸
化物からなる触媒の存在下に実施することが好ましい。
これらの触媒は、珪素酸化物と化学的に結合したＴｉを
含有する、いわゆるＴｉ−シリカ触媒が好ましい。たと
えば、Ｔｉ化合物をシリカ担体に担持したもの、共沈法
やゾルゲル法で珪素酸化物と複合したもの、あるいはＴ
ｉを含むゼオライト化合物などを挙げることができる。
この様なチタン含有珪素酸化物は、下記（１）〜（４）
の全ての条件を充足することが特に好ましい。条件の
（１）は平均細孔径が１０Å以上であることである。条
件の（２）は、全細孔容量の９０％以上が５〜２００Å
の細孔径を有することである。条件の（３）は、比細孔
容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上であることである。ここ
で、上記の比細孔容量とは触媒１ｇ当りの細孔容量を意
味している。上記の条件（１）〜（３）についての測定
は、窒素、アルゴン等の気体の物理吸着法を用い、通常
の方法により測定することができる。条件の（４）は、
下記の一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニウムイオ
ンを型剤として用い、その後該型剤を除去して得られる
ものであることである。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。）
【０００７】型剤の除去方法としては焼成操作による除
去や抽出操作による除去等があげられるが、触媒の活性
・選択性を高く維持するために抽出操作が好ましい。触
媒は、赤外線吸収スペクトルにおいて９６０±５ｃｍ-1
の領域に吸収ピークを有するものであることが好まし
い。このピークはシリカ骨格内に導入されたチタンに対
応するものであると考えられる。触媒は、たとえば粉
末、フレーク、球状粒子、ペレットのごとき任意の物理
的形態で使用できる。触媒を得る具体的で好ましい方法
としては、次の方法をあげることができる。
去や抽出操作による除去等があげられるが、触媒の活性
・選択性を高く維持するために抽出操作が好ましい。触
媒は、赤外線吸収スペクトルにおいて９６０±５ｃｍ-1
の領域に吸収ピークを有するものであることが好まし
い。このピークはシリカ骨格内に導入されたチタンに対
応するものであると考えられる。触媒は、たとえば粉
末、フレーク、球状粒子、ペレットのごとき任意の物理
的形態で使用できる。触媒を得る具体的で好ましい方法
としては、次の方法をあげることができる。
【０００８】まず、シリカ源、チタン源及び型剤として
の第４級アンモニウムイオンを液状で混合・攪拌するこ
とにより触媒成分及び型剤を含有する固体を得る。用い
る試薬は固体状の場合は溶媒に溶解又は分散した溶液と
して用いるとよい。
の第４級アンモニウムイオンを液状で混合・攪拌するこ
とにより触媒成分及び型剤を含有する固体を得る。用い
る試薬は固体状の場合は溶媒に溶解又は分散した溶液と
して用いるとよい。
【０００９】シリカ源としてはアモルファスシリカやア
ルコキシシラン、たとえばテトラメチルオルトシリケー
ト、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオ
ルトシリケート等があげられる。
ルコキシシラン、たとえばテトラメチルオルトシリケー
ト、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオ
ルトシリケート等があげられる。
【００１０】チタン源としては、チタンアルコキサイ
ド、たとえばチタン酸テトラメチル、チタン酸テトラエ
チル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テトライソプ
ロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトライソブ
チル、チタン酸テトラ−２−エチルヘキシル、チタン酸
テトラオクタデシルやチタニウム（IV）オキシアセチル
アセトナート、チタニウム（IV）ジイシプロポキシビス
アセチルアセトナート等が、又はハロゲン化チタン、た
とえば四塩化チタン、四臭化チタン、四沃化チタン等が
あげられる。
ド、たとえばチタン酸テトラメチル、チタン酸テトラエ
チル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テトライソプ
ロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトライソブ
チル、チタン酸テトラ−２−エチルヘキシル、チタン酸
テトラオクタデシルやチタニウム（IV）オキシアセチル
アセトナート、チタニウム（IV）ジイシプロポキシビス
アセチルアセトナート等が、又はハロゲン化チタン、た
とえば四塩化チタン、四臭化チタン、四沃化チタン等が
あげられる。
【００１１】型剤としては下記の一般式（Ｉ）で表され
る第４級アンモニウムイオンが用いられる。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。）
る第４級アンモニウムイオンが用いられる。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。）
【００１２】Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状
の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１０〜１８のも
のである。Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基であ
り、Ｒ 2〜Ｒ4の全てがメチル基であることが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニウムイオンの具
体例としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、
ドデシルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチル
アンモニウム、ジメチルジドデシルアンモニウム、ヘキ
サデシルピリジニウム等のカチオンをあげることができ
る。
の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１０〜１８のも
のである。Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基であ
り、Ｒ 2〜Ｒ4の全てがメチル基であることが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニウムイオンの具
体例としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、
ドデシルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチル
アンモニウム、ジメチルジドデシルアンモニウム、ヘキ
サデシルピリジニウム等のカチオンをあげることができ
る。
【００１３】溶媒の例としては、水やアルコール、たと
えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ビニルアルコール、アリルアルコー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等やジオ
ール、またそれらの混合物などをあげることができる。
ただし、過剰のアルコールによって希釈した場合、得ら
れた触媒がＸＲＤにおいて、１８Åよりも大きい面間隔
ｄを示すピークを有しにくくなることがある。シリカ源
に対するチタン源の使用量はモル比で１０-5〜１であ
り、好ましくは０．００００８〜０．４である。また、
これらのシリカ源及びチタン源の合計量に対する第４級
アンモニウムイオンの使用量はモル比で１０-2〜２とす
ることが好ましい。
えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ビニルアルコール、アリルアルコー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等やジオ
ール、またそれらの混合物などをあげることができる。
ただし、過剰のアルコールによって希釈した場合、得ら
れた触媒がＸＲＤにおいて、１８Åよりも大きい面間隔
ｄを示すピークを有しにくくなることがある。シリカ源
に対するチタン源の使用量はモル比で１０-5〜１であ
り、好ましくは０．００００８〜０．４である。また、
これらのシリカ源及びチタン源の合計量に対する第４級
アンモニウムイオンの使用量はモル比で１０-2〜２とす
ることが好ましい。
【００１４】また、シリカ源とチタン源の反応を促進す
るために、混合溶液にアルカリ性又は酸性を付与させる
ことが好ましい。アルカリ源としては第４級アンモニウ
ムヒドロキシドが好ましく、例としてはテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド
等があげられる。また酸の例としては塩酸、硫酸、硝酸
等の無機酸及び蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が
あげられる。
るために、混合溶液にアルカリ性又は酸性を付与させる
ことが好ましい。アルカリ源としては第４級アンモニウ
ムヒドロキシドが好ましく、例としてはテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド
等があげられる。また酸の例としては塩酸、硫酸、硝酸
等の無機酸及び蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が
あげられる。
【００１５】混合・攪拌の温度は通常−３０〜１００℃
である。混合・攪拌により固体が生成するが、更に固体
を成長させるためにこれを熟成してもよい。熟成時間は
通常１８０時間以下であり、熟成温度は通常０〜２００
℃である。熟成時に加熱を要する場合は、溶媒の気化を
避けるために耐圧容器に移して密閉して行うのが好まし
い。
である。混合・攪拌により固体が生成するが、更に固体
を成長させるためにこれを熟成してもよい。熟成時間は
通常１８０時間以下であり、熟成温度は通常０〜２００
℃である。熟成時に加熱を要する場合は、溶媒の気化を
避けるために耐圧容器に移して密閉して行うのが好まし
い。
【００１６】次に、上記の工程で得た固体を溶媒による
溶媒抽出操作に付し、型剤を除去することにより目的の
触媒を得る。溶媒による型剤を抽出する技術は、たとえ
ばＷｈｉｔｅｈｕｒｓｔらによって報告されている（米
国特許５１４３８７９号公報参照。）。
溶媒抽出操作に付し、型剤を除去することにより目的の
触媒を得る。溶媒による型剤を抽出する技術は、たとえ
ばＷｈｉｔｅｈｕｒｓｔらによって報告されている（米
国特許５１４３８７９号公報参照。）。
【００１７】抽出に用いる溶媒は、型剤に用いた化合物
を溶解し得るものであればよく、一般に炭素数１から約
１２の常温で液状のオキサ及び／又はオキソ置換炭化水
素を用いることができる。この種類の好適な溶媒として
は、アルコール類、ケトン類、エーテル類（非環式及び
環式のもの）及びエステル類を用いることができ、たと
えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、
プロピレングリコール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール及びオクタノールのようなヒドロキシ置換炭化水
素；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン及
びメチルイソブチルケトンのようなオキソ置換炭化水
素；ジイソブチルエーテルやテトラヒドロフランのよう
な炭化水素エーテル；及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル及びプロピオン酸ブチルのような炭化水素エス
テル等があげられる。これらの溶媒の触媒に対する重量
比は、通常１〜１０００であり、好ましくは１０〜３０
０である。また、抽出効果を向上させるために、これら
の溶媒に酸又はそれらの塩を添加してもよい。用いる酸
の例としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭酸等の無機酸や有
機酸であるぎ酸、酢酸、プロピオン酸などがあげられ
る。また、それらの塩の例としては、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等があげられる。
添加する酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度は１０ｍｏｌ
／ｌ以下が好ましく、１ｍｏｌ／ｌ以下が更に好まし
い。添加する酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度が過大で
あると触媒中に存在するチタンが溶出し、触媒活性が低
下する場合がある。また、溶媒中に多量の水を混合する
と、抽出操作中に触媒の構造が壊れてしまい、Ｘ線回折
において規則的な構造が観測されなくなる。溶媒と触媒
を十分に混合した後、液相部をろ過あるいはデカンテー
ションなどの方法により分離する。この操作を必要回数
繰り返す。また触媒層に洗浄溶媒を流通させる方法によ
り抽出することも可能である。洗浄の終了はたとえば液
相部の分析により知ることができる。抽出温度は０〜２
００℃が好ましく２０〜１００℃が更に好ましい。上記
の有機抽出溶媒を用いる代わりに、超臨界流体を用いて
抽出を行うことも可能である。超臨界流体としては二酸
化炭素が好ましい。二酸化炭素の臨界温度はおよそ３１
℃以上であり、抽出温度は３１〜１００℃が好ましく、
３５〜６０℃が更に好ましい。臨界圧力はおよそ７．４
ＭＰａであり、１０〜３０ＭＰａが好ましい。触媒１リ
ットルに対して１分間当り５０〜５００ｇの超臨界二酸
化炭素を抽出に使用し、抽出時間は４〜２０時間行うの
が好ましい。
を溶解し得るものであればよく、一般に炭素数１から約
１２の常温で液状のオキサ及び／又はオキソ置換炭化水
素を用いることができる。この種類の好適な溶媒として
は、アルコール類、ケトン類、エーテル類（非環式及び
環式のもの）及びエステル類を用いることができ、たと
えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、
プロピレングリコール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール及びオクタノールのようなヒドロキシ置換炭化水
素；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン及
びメチルイソブチルケトンのようなオキソ置換炭化水
素；ジイソブチルエーテルやテトラヒドロフランのよう
な炭化水素エーテル；及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル及びプロピオン酸ブチルのような炭化水素エス
テル等があげられる。これらの溶媒の触媒に対する重量
比は、通常１〜１０００であり、好ましくは１０〜３０
０である。また、抽出効果を向上させるために、これら
の溶媒に酸又はそれらの塩を添加してもよい。用いる酸
の例としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭酸等の無機酸や有
機酸であるぎ酸、酢酸、プロピオン酸などがあげられ
る。また、それらの塩の例としては、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等があげられる。
添加する酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度は１０ｍｏｌ
／ｌ以下が好ましく、１ｍｏｌ／ｌ以下が更に好まし
い。添加する酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度が過大で
あると触媒中に存在するチタンが溶出し、触媒活性が低
下する場合がある。また、溶媒中に多量の水を混合する
と、抽出操作中に触媒の構造が壊れてしまい、Ｘ線回折
において規則的な構造が観測されなくなる。溶媒と触媒
を十分に混合した後、液相部をろ過あるいはデカンテー
ションなどの方法により分離する。この操作を必要回数
繰り返す。また触媒層に洗浄溶媒を流通させる方法によ
り抽出することも可能である。洗浄の終了はたとえば液
相部の分析により知ることができる。抽出温度は０〜２
００℃が好ましく２０〜１００℃が更に好ましい。上記
の有機抽出溶媒を用いる代わりに、超臨界流体を用いて
抽出を行うことも可能である。超臨界流体としては二酸
化炭素が好ましい。二酸化炭素の臨界温度はおよそ３１
℃以上であり、抽出温度は３１〜１００℃が好ましく、
３５〜６０℃が更に好ましい。臨界圧力はおよそ７．４
ＭＰａであり、１０〜３０ＭＰａが好ましい。触媒１リ
ットルに対して１分間当り５０〜５００ｇの超臨界二酸
化炭素を抽出に使用し、抽出時間は４〜２０時間行うの
が好ましい。
【００１８】抽出処理後に得られた固体には乾燥処理を
施してもよい。すなわち、非還元性気体、たとえば窒
素、アルゴン又は二酸化炭素もしくは酸素含有気体、た
とえば空気の雰囲気下で、１０〜８００℃で加熱される
のが好ましい。５０〜３００℃が更に好ましい。
施してもよい。すなわち、非還元性気体、たとえば窒
素、アルゴン又は二酸化炭素もしくは酸素含有気体、た
とえば空気の雰囲気下で、１０〜８００℃で加熱される
のが好ましい。５０〜３００℃が更に好ましい。
【００１９】このようにして得られた触媒にはシリル化
処理を施すことが好ましい。シリル化処理は、得られた
触媒をシリル化剤と接触させ、触媒の表面に存在する水
酸基をシリル基に変換することにより行われる。シリル
化剤の例には、有機シラン、有機シリルアミン、有機シ
リルアミドとその誘導体、及び有機シラザン及びその他
のシリル化剤があげられる。
処理を施すことが好ましい。シリル化処理は、得られた
触媒をシリル化剤と接触させ、触媒の表面に存在する水
酸基をシリル基に変換することにより行われる。シリル
化剤の例には、有機シラン、有機シリルアミン、有機シ
リルアミドとその誘導体、及び有機シラザン及びその他
のシリル化剤があげられる。
【００２０】有機シランの例としては、クロロトリメチ
ルシラン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメ
チルシラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチ
ルシラン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチ
ルフェニルシラン、ジクロロジメチルシラン、ジメチル
n-プロピルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロ
シラン、t-ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピル
クロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブ
チルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチ
ルエチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシ
ラン、n-ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジ
メチルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラ
ン、３-クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメト
キシメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラ
ン、トリエトキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロ
ロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジ
ルジメチルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、
ジフェニルメチルクロロシラン、ジフェニルビニルクロ
ロシラン、トリベンジルクロロシラン、３-シアノプロ
ピルジメチルクロロシランがあげられる。
ルシラン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメ
チルシラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチ
ルシラン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチ
ルフェニルシラン、ジクロロジメチルシラン、ジメチル
n-プロピルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロ
シラン、t-ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピル
クロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブ
チルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチ
ルエチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシ
ラン、n-ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジ
メチルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラ
ン、３-クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメト
キシメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラ
ン、トリエトキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロ
ロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジ
ルジメチルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、
ジフェニルメチルクロロシラン、ジフェニルビニルクロ
ロシラン、トリベンジルクロロシラン、３-シアノプロ
ピルジメチルクロロシランがあげられる。
【００２１】有機シリルアミンの例としては、N−トリ
メチルシリルイミダゾール、N−t−ブチルジメチルシリ
ルイミダゾール、N-ジメチルエチルシリルイミダゾー
ル、N−ジメチルn−プロピルシリルイミダゾール、N−
ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、N−トリメ
チルシリルジメチルアミン、N−トリメチルシリルジエ
チルアミン,N−トリメチルシリルピロール、N−トリメ
チルシリルピロリジン、N−トリメチルシリルピペリジ
ン、１−シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミンがあ
げられる。
メチルシリルイミダゾール、N−t−ブチルジメチルシリ
ルイミダゾール、N-ジメチルエチルシリルイミダゾー
ル、N−ジメチルn−プロピルシリルイミダゾール、N−
ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、N−トリメ
チルシリルジメチルアミン、N−トリメチルシリルジエ
チルアミン,N−トリメチルシリルピロール、N−トリメ
チルシリルピロリジン、N−トリメチルシリルピペリジ
ン、１−シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミンがあ
げられる。
【００２２】有機シリルアミド及び誘導体の例として
は、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O−ビ
ストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N−ト
リメチルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリ
ルトリフルオロアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルヘプタフルオロブチルアミド、N-(t-ブチルジ
メチルシリル)−N−トリフルオロアセトアミド,N,O−ビ
ス（ジエチルハイドロシリル）トリフルオロアセトアミ
ドがあげられる。
は、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O−ビ
ストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N−ト
リメチルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリ
ルトリフルオロアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルヘプタフルオロブチルアミド、N-(t-ブチルジ
メチルシリル)−N−トリフルオロアセトアミド,N,O−ビ
ス（ジエチルハイドロシリル）トリフルオロアセトアミ
ドがあげられる。
【００２３】有機シラザンの例としては、ヘキサメチル
ジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１,１,３,３−
テトラメチルジシラザン,１,３−ビス（クロロメチル）
テトラメチルジシラザン、１,３-ジビニル-１,１,３,３
−テトラメチルジシラザン、１,３−ジフェニルテトラ
メチルジシラザンがあげられる。
ジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１,１,３,３−
テトラメチルジシラザン,１,３−ビス（クロロメチル）
テトラメチルジシラザン、１,３-ジビニル-１,１,３,３
−テトラメチルジシラザン、１,３−ジフェニルテトラ
メチルジシラザンがあげられる。
【００２４】その他のシリル化剤としては、N−メトキ
シ−N,O−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトア
ミド、N−メトキシ−N,O−ビストリメチルシリルカーバ
メート、N,O−ビストリメチルシリルスルファメート、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート、N,
N'−ビストリメチルシリル尿素があげられる。好ましい
シリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
シ−N,O−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトア
ミド、N−メトキシ−N,O−ビストリメチルシリルカーバ
メート、N,O−ビストリメチルシリルスルファメート、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート、N,
N'−ビストリメチルシリル尿素があげられる。好ましい
シリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
【００２５】このように調製された触媒は、高い表面積
と高度に分散したチタン活性点を有し、オレフィンのエ
ポキシ化反応に好適に用いることが可能である。
と高度に分散したチタン活性点を有し、オレフィンのエ
ポキシ化反応に好適に用いることが可能である。
【００２６】本発明において、エポキシ化工程の原料物
質として使用されるイソプロピルベンゼンハイドロパー
オキサイドは、希薄又は濃厚な精製物又は非精製物であ
ってよい。
質として使用されるイソプロピルベンゼンハイドロパー
オキサイドは、希薄又は濃厚な精製物又は非精製物であ
ってよい。
【００２７】エポキシ化反応は、プロピレンとイソプロ
ピルベンゼンハイドロパーオキサイドを触媒に接触させ
ることで行われる。反応は、溶媒を用いて液相中で実施
できる。溶媒は、反応時の温度及び圧力のもとで液体で
あり、かつ反応体及び生成物に対して実質的に不活性な
ものでなければならない。溶媒は使用されるハイドロパ
ーオキサイド溶液中に存在する物質からなるものであっ
てよい。たとえばイソプロピルベンゼンハイドロパーオ
キサイドがその原料であるイソプロピルベンゼンとから
なる混合物である場合には、特に溶媒を添加することな
く、これを溶媒の代用とすることも可能である。その
他、有用な溶媒としては、芳香族の単環式化合物（たと
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、オルトジク
ロロベンゼン）、及びアルカン（たとえばオクタン、デ
カン、ドデカン）などがあげられる。
ピルベンゼンハイドロパーオキサイドを触媒に接触させ
ることで行われる。反応は、溶媒を用いて液相中で実施
できる。溶媒は、反応時の温度及び圧力のもとで液体で
あり、かつ反応体及び生成物に対して実質的に不活性な
ものでなければならない。溶媒は使用されるハイドロパ
ーオキサイド溶液中に存在する物質からなるものであっ
てよい。たとえばイソプロピルベンゼンハイドロパーオ
キサイドがその原料であるイソプロピルベンゼンとから
なる混合物である場合には、特に溶媒を添加することな
く、これを溶媒の代用とすることも可能である。その
他、有用な溶媒としては、芳香族の単環式化合物（たと
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、オルトジク
ロロベンゼン）、及びアルカン（たとえばオクタン、デ
カン、ドデカン）などがあげられる。
【００２８】エポキシ化反応温度は一般に０〜２００℃
であるが、２５〜２００℃の温度が好ましい。圧力は、
反応混合物を液体の状態に保つのに充分な圧力でよい。
一般に圧力は１００〜１００００ｋＰａであることが有
利である。
であるが、２５〜２００℃の温度が好ましい。圧力は、
反応混合物を液体の状態に保つのに充分な圧力でよい。
一般に圧力は１００〜１００００ｋＰａであることが有
利である。
【００２９】エポキシ化反応は、スラリー又は固定床の
形の触媒を使用して有利に実施できる。大規模な工業的
操作の場合には、固定床を用いるのが好ましい。また、
回分法、半連続法、連続法等によって実施できる。反応
原料を含有する液を固定床に通した場合には、反応帯域
から出た液状混合物には、触媒が全く含まれていないか
又は実質的に含まれていない。
形の触媒を使用して有利に実施できる。大規模な工業的
操作の場合には、固定床を用いるのが好ましい。また、
回分法、半連続法、連続法等によって実施できる。反応
原料を含有する液を固定床に通した場合には、反応帯域
から出た液状混合物には、触媒が全く含まれていないか
又は実質的に含まれていない。
【００３０】本発明においては、エポキシ化工程へ供給
される酸化液中の有機酸の濃度が０．５重量％以下であ
ることが好ましく、更に好ましくは０．１重量％以下で
ある。有機酸の濃度が高すぎると、触媒活性が低下し、
さらに触媒寿命が短くなる場合がある。エポキシ化工程
へ供給される酸化液とは、当該酸化工程で生成する反応
液又は、蒸留等により濃縮された液も含む。有機酸とし
ては、カルボキシル基をもつもので、ぎ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、安息香酸等のカルボン酸やシュウ酸、マロン
酸等のジカルボン酸、乳酸等のヒドロキシ酸等を例示す
ることができる。
される酸化液中の有機酸の濃度が０．５重量％以下であ
ることが好ましく、更に好ましくは０．１重量％以下で
ある。有機酸の濃度が高すぎると、触媒活性が低下し、
さらに触媒寿命が短くなる場合がある。エポキシ化工程
へ供給される酸化液とは、当該酸化工程で生成する反応
液又は、蒸留等により濃縮された液も含む。有機酸とし
ては、カルボキシル基をもつもので、ぎ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、安息香酸等のカルボン酸やシュウ酸、マロン
酸等のジカルボン酸、乳酸等のヒドロキシ酸等を例示す
ることができる。
【００３１】本発明の水素化分解工程は、エポキシ化工
程で得たクミルアルコールを水素化分解することにより
イソプロピルベンゼンを得、イソプロピルベンゼンを酸
化工程の原料として酸化工程へリサイクルする工程であ
る。すなわち、水素化分解により、酸化工程で用いたイ
ソプロピルベンゼンと同一のものが再生される。水素化
分解反応は、通常、クミルアルコールと水素とを触媒に
接触させることで行われる。反応は、溶媒を用いて液相
又は気相中で実施できる。溶媒は、反応体及び生成物に
対して実質的に不活性なものでなければならない。溶媒
は使用されるクミルアルコール溶液中に存在する物質か
らなるものであってよい。たとえばクミルアルコール
が、生成物であるイソプロピルベンゼンとからなる混合
物である場合には、特に溶媒を添加することなく、これ
を溶媒の代用とすることも可能である。その他、有用な
溶媒は、アルカン（たとえばオクタン、デカン、ドデカ
ン）や、芳香族の単環式化合物（たとえばべンゼン、エ
チルベンゼン、トルエン）などがあげられる。水素化分
解反応温度は一般に０〜５００℃であるが、３０〜４０
０℃の温度が好ましい。一般に圧力は１００〜１０００
０ｋＰａであることが有利である。水素化分解反応は、
スラリー又は固定床の形の触媒を使用して有利に実施で
きる。本発明の方法は、回分法、半連続法又は連続法に
よって実施できる。反応原料を含有する液又はガスを固
定床に通した場合には、反応帯域から出た液状混合物に
は、触媒が全く含まれていないか又は実質的に含まれて
いない。
程で得たクミルアルコールを水素化分解することにより
イソプロピルベンゼンを得、イソプロピルベンゼンを酸
化工程の原料として酸化工程へリサイクルする工程であ
る。すなわち、水素化分解により、酸化工程で用いたイ
ソプロピルベンゼンと同一のものが再生される。水素化
分解反応は、通常、クミルアルコールと水素とを触媒に
接触させることで行われる。反応は、溶媒を用いて液相
又は気相中で実施できる。溶媒は、反応体及び生成物に
対して実質的に不活性なものでなければならない。溶媒
は使用されるクミルアルコール溶液中に存在する物質か
らなるものであってよい。たとえばクミルアルコール
が、生成物であるイソプロピルベンゼンとからなる混合
物である場合には、特に溶媒を添加することなく、これ
を溶媒の代用とすることも可能である。その他、有用な
溶媒は、アルカン（たとえばオクタン、デカン、ドデカ
ン）や、芳香族の単環式化合物（たとえばべンゼン、エ
チルベンゼン、トルエン）などがあげられる。水素化分
解反応温度は一般に０〜５００℃であるが、３０〜４０
０℃の温度が好ましい。一般に圧力は１００〜１０００
０ｋＰａであることが有利である。水素化分解反応は、
スラリー又は固定床の形の触媒を使用して有利に実施で
きる。本発明の方法は、回分法、半連続法又は連続法に
よって実施できる。反応原料を含有する液又はガスを固
定床に通した場合には、反応帯域から出た液状混合物に
は、触媒が全く含まれていないか又は実質的に含まれて
いない。
【００３２】本発明の有機酸除去工程は、酸化工程、エ
ポキシ化工程及び水素化分解工程の少なくとも各工程内
又は各工程を結ぶ少なくとも一ケ所において有機酸を系
外へ除去する工程である。有機酸除去工程は、通常、蒸
留、抽出等により実施できる。有機酸については、エポ
キシ化工程の個所で説明をしたとおりである。また、有
機酸除去工程により、エポキシ化工程へ供給される酸化
液中の有機酸の濃度を前記の範囲に制御することが好ま
しい。
ポキシ化工程及び水素化分解工程の少なくとも各工程内
又は各工程を結ぶ少なくとも一ケ所において有機酸を系
外へ除去する工程である。有機酸除去工程は、通常、蒸
留、抽出等により実施できる。有機酸については、エポ
キシ化工程の個所で説明をしたとおりである。また、有
機酸除去工程により、エポキシ化工程へ供給される酸化
液中の有機酸の濃度を前記の範囲に制御することが好ま
しい。
【００３３】
【実施例】実施例１酸化工程 水素化分解工程よりリサイクルされるイソプロピルベン
ゼンを、空気と混合し圧力３００ｋＰａ、温度１５０℃
の条件下５時間反応させる。生成する酸化液は、以下の
組成である。 酸化液組成 クメンハイドロパーオキサイド ３５重量％ クミルアルコール ２重量％ イソプロピルベンゼン ６０重量％ 有機酸 １．０重量％有機酸除去工程 酸化工程で得る酸化液を、酸化液５に対して１の割合で
水酸化ナトリウム水溶液と１５分間混合し、１５分静置
し、得られる油層を、油層５に対して１の割合で水と１
５分間混合し、１５分静置する。得られる油層の組成は
以下のようになる。 クメンハイドロパーオキサイド ３５重量％ クミルアルコール ２重量％ イソプロピルベンゼン ６０重量％ 有機酸 ０．００６重量％ 本工程により、得られる洗浄酸化液中の、トータル有機
酸濃度は、０．１重量％以下にまで減少する。エポキシ化工程 有機酸除去工程で得られる洗浄酸化液を、Ｔｉ含有珪素
酸化物触媒存在下、固定床流通反応器に、洗浄酸化液中
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド１モル当
たりに対して、１０倍モルのプロピレンと共に連続的に
反応器内に通過させる。入り口温度を調節することによ
り、クメンハイドロパーオキサイト変換率を９９％に保
ち、定常安定化させる。このときの反応温度は６０℃
で、選択率は９５％である。
ゼンを、空気と混合し圧力３００ｋＰａ、温度１５０℃
の条件下５時間反応させる。生成する酸化液は、以下の
組成である。 酸化液組成 クメンハイドロパーオキサイド ３５重量％ クミルアルコール ２重量％ イソプロピルベンゼン ６０重量％ 有機酸 １．０重量％有機酸除去工程 酸化工程で得る酸化液を、酸化液５に対して１の割合で
水酸化ナトリウム水溶液と１５分間混合し、１５分静置
し、得られる油層を、油層５に対して１の割合で水と１
５分間混合し、１５分静置する。得られる油層の組成は
以下のようになる。 クメンハイドロパーオキサイド ３５重量％ クミルアルコール ２重量％ イソプロピルベンゼン ６０重量％ 有機酸 ０．００６重量％ 本工程により、得られる洗浄酸化液中の、トータル有機
酸濃度は、０．１重量％以下にまで減少する。エポキシ化工程 有機酸除去工程で得られる洗浄酸化液を、Ｔｉ含有珪素
酸化物触媒存在下、固定床流通反応器に、洗浄酸化液中
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド１モル当
たりに対して、１０倍モルのプロピレンと共に連続的に
反応器内に通過させる。入り口温度を調節することによ
り、クメンハイドロパーオキサイト変換率を９９％に保
ち、定常安定化させる。このときの反応温度は６０℃
で、選択率は９５％である。
【００３４】比較例１ 有機酸除去を行わない以外は実施例１と同様の条件でエ
ポキシ化反応を行うと、反応操作温度は９０℃まで上げ
なければならず、そのときのプロピレンオキサイド選択
率は９０％となり、実施例１に比較して、触媒活性は低
下し、プロピレンオキサイド収率は悪化する。
ポキシ化反応を行うと、反応操作温度は９０℃まで上げ
なければならず、そのときのプロピレンオキサイド選択
率は９０％となり、実施例１に比較して、触媒活性は低
下し、プロピレンオキサイド収率は悪化する。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、イ
ソプロピルベンゼンのハイドロパーオキサイドを酸素キ
ャリヤーとして用いてプロピレンをプロピレンオキサイ
ドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼンを繰り返し使
用することができるという特徴を有するプロピレンオキ
サイドの製造方法を提供することができた。
ソプロピルベンゼンのハイドロパーオキサイドを酸素キ
ャリヤーとして用いてプロピレンをプロピレンオキサイ
ドに変換し、かつ該イソプロピルベンゼンを繰り返し使
用することができるという特徴を有するプロピレンオキ
サイドの製造方法を提供することができた。
Claims (7)
- 【請求項１】 下記の工程を含むプロピレンオキサイド
の製造方法。 酸化工程：イソプロピルベンゼンを酸化することにより
イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工
程 エポキシ化工程：酸化工程で得たイソプロピルベンゼン
ハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを
得る工程 水素化分解工程：エポキシ化工程で得たクミルアルコー
ルを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを
得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸
化工程へリサイクルする工程 有機酸除去工程：上記の各工程内又は各工程を結ぶ少な
くとも一ケ所において有機酸を系外へ除去する工程 - 【請求項２】 エポキシ化工程において使用される触媒
がチタン含有珪素酸化物触媒である請求項１記載の製造
方法。 - 【請求項３】 チタン含有珪素酸化物触媒が下記（１）
〜（３）の全ての条件を充足する請求項２記載の製造方
法。 （１）：平均細孔径が１０Å以上であること （２）：全細孔容量の９０％以上が５〜２００Åの細孔
径を有すること （３）：比細孔容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上であること - 【請求項４】 チタン含有珪素酸化物触媒が下記の一般
式（Ｉ）で表される第４級アンモニウムイオンを型剤
（テンプレート）として用い、その後該型剤を除去して
得られるものである請求項２記載の製造方法。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ 4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。） - 【請求項５】 型剤が抽出操作によって除去される請求
項４記載の製造方法。 - 【請求項６】 触媒が赤外線吸収スペクトルにおいて９
６０±５ｃｍ-1の領域に吸収ピークを有する請求項４記
載の製造方法。 - 【請求項７】エポキシ化工程へ供給される酸化液中の有
機酸の濃度が０．５重量％以下である請求項１記載の製
造方法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11200187A JP2001031662A (ja) | 1999-07-14 | 1999-07-14 | プロピレンオキサイドの製造方法 |
| DE60016033T DE60016033D1 (de) | 1999-07-14 | 2000-07-10 | Verfahren zur herstellung von propylenoxid |
| KR1020027000405A KR100714666B1 (ko) | 1999-07-14 | 2000-07-10 | 프로필렌 옥사이드의 제조방법 |
| AT00944385T ATE282601T1 (de) | 1999-07-14 | 2000-07-10 | Verfahren zur herstellung von propylenoxid |
| AU58522/00A AU5852200A (en) | 1999-07-14 | 2000-07-10 | Process for producing propylene oxide |
| PCT/JP2000/004611 WO2001005778A1 (en) | 1999-07-14 | 2000-07-10 | Process for producing propylene oxide |
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