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JP2001023109A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

Info

Publication number
JP2001023109A
JP2001023109A JP11192247A JP19224799A JP2001023109A JP 2001023109 A JP2001023109 A JP 2001023109A JP 11192247 A JP11192247 A JP 11192247A JP 19224799 A JP19224799 A JP 19224799A JP 2001023109 A JP2001023109 A JP 2001023109A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
substrate
thin film
magnetic head
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP11192247A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukari Nihei
ゆかり 二瓶
Takashi Tamura
孝 田村
Seiichi Ogata
誠一 小形
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP11192247A priority Critical patent/JP2001023109A/en
Publication of JP2001023109A publication Critical patent/JP2001023109A/en
Abandoned legal-status Critical Current

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  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気コアのガード材としての非磁性基板の加
工性を向上させる。 【解決手段】 磁気コア8を構成する金属磁性薄膜5の
ガード材としての非磁性基板4を、TiO2及びCaO
を主成分とし、TiO2の含有量が55mol%以上、
且つ74mol%以下である非磁性材料によって形成す
る。
(57) [Problem] To improve the workability of a non-magnetic substrate as a guard material of a magnetic core. SOLUTION: A non-magnetic substrate 4 as a guard material of a metal magnetic thin film 5 constituting a magnetic core 8 is made of TiO 2 and CaO.
As a main component, the content of TiO 2 is 55 mol% or more,
And made of a non-magnetic material having a content of 74 mol% or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属磁性薄膜によ
って磁気コアが形成されてなる磁気ヘッドに関する。
The present invention relates to a magnetic head having a magnetic core formed of a metal magnetic thin film.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ヘッドは、磁気記録再生装置に搭載
されて、磁気記録媒体に対して情報信号の記録及び/又
は再生(以下、記録再生という。)を行うものである。
このような磁気記録再生装置としては、例えばビデオテ
ープレコーダ(VTR:VideoTape Recorder)やDAT
(Digital Audio Tape)レコーダ等のように、高速で回
転するドラムに磁気ヘッドを備え、このドラムに対して
テープ状の磁気記録媒体を摺動させて、いわゆるヘリカ
ルスキャン方式によって記録再生を行うものがある。ま
た、例えば磁気ディスクや光磁気ディスク等のようなデ
ィスク状の磁気記録媒体に対して磁気ヘッドによって記
録再生を行う、ハードディスク装置(HDD:Hard Dis
k Drive)やフロッピーディスク装置(FDD:Floppy
Disk Drive)がある。
2. Description of the Related Art A magnetic head is mounted on a magnetic recording / reproducing apparatus and records and / or reproduces information signals on a magnetic recording medium (hereinafter referred to as recording / reproducing).
As such a magnetic recording / reproducing device, for example, a video tape recorder (VTR: VideoTape Recorder) or a DAT
(Digital Audio Tape) Like a recorder, a high-speed rotating drum is equipped with a magnetic head, and a tape-shaped magnetic recording medium is slid on this drum to perform recording and reproduction by the so-called helical scan method. is there. Also, a hard disk drive (HDD: Hard Disk Drive) that performs recording / reproduction with a magnetic head on a disk-shaped magnetic recording medium such as a magnetic disk or a magneto-optical disk.
k Drive) and floppy disk drive (FDD: Floppy)
Disk Drive).

【0003】磁気ヘッドは、一般に、高透磁率である磁
性材料によって形成された磁気コアに対して、コイルが
巻回されることによって構成されている。このような磁
気ヘッドは、磁気コアとコイルとの電磁誘導を利用して
磁気記録媒体に対する記録再生を行うことから、電磁誘
導型(インダクティブ型)の磁気ヘッドと称されてい
る。
[0003] The magnetic head is generally constructed by winding a coil around a magnetic core formed of a magnetic material having high magnetic permeability. Such a magnetic head is called an electromagnetic induction type (inductive type) magnetic head because it performs recording and reproduction on a magnetic recording medium using electromagnetic induction between a magnetic core and a coil.

【0004】磁気ヘッドにおいて、磁気コアは、記録時
にはコイルから磁気記録媒体へ、再生時には磁気記録媒
体からコイルへといった具合に、磁束を伝達するための
通路としての働きをする。また、磁気コアには、磁気記
録媒体と対向する部位に、微小な間隙、すなわち磁気ギ
ャップが形成されている。磁気ヘッドは、磁気ギャップ
に生じる漏れ磁界を磁気記録媒体に印加することによっ
て、この磁気記録媒体に対して磁気信号の記録を行う。
また、磁気ヘッドは、再生時に、磁気記録媒体に記録さ
れた磁気信号の磁界を、磁気ギャップを介して磁気コア
に取り込み、コイルによって検出する。
In a magnetic head, a magnetic core functions as a path for transmitting magnetic flux, such as from a coil to a magnetic recording medium during recording and from a magnetic recording medium to a coil during reproduction. In the magnetic core, a minute gap, that is, a magnetic gap is formed in a portion facing the magnetic recording medium. The magnetic head records a magnetic signal on the magnetic recording medium by applying a leakage magnetic field generated in the magnetic gap to the magnetic recording medium.
Further, at the time of reproduction, the magnetic head takes in the magnetic field of the magnetic signal recorded on the magnetic recording medium into the magnetic core through the magnetic gap, and detects the magnetic field with the coil.

【0005】ところで、近年、磁気記録の分野において
は、磁気記録媒体の小型化及び大容量化、記録する例え
ば映像信号等の高画質化などを目的として、磁気信号の
高記録密度化がより一層進められており、微細な磁気信
号を正確に記録再生することが要求されている。そのた
め、例えば、磁気信号を記録する磁性層に用いる磁性粉
としての強磁性金属粉末を塗料化してベースフィルム上
に塗布したメタルテープや、強磁性金属材料をベースフ
ィルム上に直接蒸着させた蒸着テープなどのような高抗
磁力を示す磁気記録媒体が広く利用されるようになって
きている。
In recent years, in the field of magnetic recording, the recording density of magnetic signals has been further increased in order to reduce the size and capacity of magnetic recording media and to improve the quality of recorded video signals, for example. There is a demand for accurate recording and reproduction of minute magnetic signals. Therefore, for example, a metal tape in which a ferromagnetic metal powder as a magnetic powder used for a magnetic layer for recording a magnetic signal is made into a paint and applied on a base film, or a vapor deposition tape in which a ferromagnetic metal material is directly vapor-deposited on the base film Magnetic recording media exhibiting high coercive force, such as, for example, have been widely used.

【0006】そして、これらの高抗磁力を示す磁気記録
媒体に記録再生することを可能とするために、例えば、
Fe系合金、Fe−Ni系合金、Fe−Co系合金等の
ような高透磁率を示すとともに、高い飽和磁束密度を示
す金属磁性材料によって形成された磁性層を備えるMI
G型磁気ヘッド、或いは積層型磁気ヘッドなどが提案さ
れている。
In order to enable recording and reproduction on a magnetic recording medium exhibiting a high coercive force, for example,
A MI having a magnetic layer formed of a metal magnetic material having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density, such as an Fe-based alloy, an Fe-Ni-based alloy, and an Fe-Co-based alloy.
A G-type magnetic head or a laminated magnetic head has been proposed.

【0007】MIG型磁気ヘッドは、Mn−Znフェラ
イト単結晶材料からなる磁気ギャップ形成面に金属磁性
薄膜を形成して構成された磁気コア半体を、互いに突き
合わせてガラス溶着等によって接合一体化してなる磁気
ヘッドである。
In the MIG type magnetic head, magnetic core halves formed by forming a metal magnetic thin film on a magnetic gap forming surface made of a Mn-Zn ferrite single crystal material are joined to each other and joined together by glass welding or the like. Magnetic head.

【0008】また、積層型磁気ヘッドは、一対の非磁性
基板により磁性層を挟み込んでなる磁気コア半体同士
が、磁性層の端面同士を対向して突き合わされ、これら
磁性層が突き合わされた界面に磁気ギャップが形成され
てなる磁気ヘッドである。
In the laminated magnetic head, the magnetic core halves sandwiching the magnetic layer between a pair of non-magnetic substrates are abutted against each other with the end faces of the magnetic layer facing each other. Is a magnetic head in which a magnetic gap is formed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ヘッド
は、今後のさらなる高記録密度化及び高転送レート化な
どに対応するために、高周波帯域で良好な電磁変換特性
を示すとともに、例えば、小さなドラムに複数個備えら
れて、いわゆるヘリカルスキャン方式などの記録再生方
法に対応することが要求されている。
By the way, in order to cope with a higher recording density and a higher transfer rate in the future, the magnetic head exhibits good electromagnetic conversion characteristics in a high frequency band and, for example, a small drum. Are required to be compatible with a recording and reproducing method such as a so-called helical scan method.

【0010】しかしながら、上述したMIG型磁気ヘッ
ドは、インピーダンスが大きく、高周波帯域での使用に
は不適である。また、積層型磁気ヘッドは、高周波帯域
での記録再生特性は優れているものの、線材を磁気コア
に巻回することによってコイルを作製する必要があるた
めに、上述したように小さなドラムに複数個備えるため
に十分な小型化を図ることが困難である。
However, the above-mentioned MIG type magnetic head has a large impedance and is not suitable for use in a high frequency band. In addition, although the laminated magnetic head has excellent recording / reproducing characteristics in a high frequency band, it is necessary to manufacture a coil by winding a wire around a magnetic core. It is difficult to achieve a sufficient miniaturization to provide.

【0011】そこで、このような従来の磁気ヘッドの問
題を解決するために、磁気コアを金属磁性膜で形成する
ことによって磁路を小さくし、磁気ギャップ形成面に薄
膜形成工程によって薄膜状のコイルを形成した磁気ヘッ
ド(以下、バルク薄膜型磁気ヘッドと称する。)が、特
開昭63−231713号公報において提案されてい
る。
In order to solve the problem of the conventional magnetic head, the magnetic path is reduced by forming the magnetic core with a metal magnetic film, and a thin film coil is formed on the magnetic gap forming surface by a thin film forming step. (Hereinafter referred to as a bulk thin film magnetic head) is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-231713.

【0012】このバルク薄膜ヘッドにおいては、一般
に、磁気ヘッドとしての寿命が、磁気コアを保持するガ
ード材としての非磁性基板の摩耗特性によって決定され
る。そのため、従来のバルク薄膜型磁気ヘッドは、摩耗
特性が良好なCaO−TiO2−NiO系材料によって
非磁性基板を形成されていた。
In this bulk thin-film head, the life as a magnetic head is generally determined by the wear characteristics of a non-magnetic substrate as a guard material holding a magnetic core. Therefore, conventional bulk thin film type magnetic head, wear characteristics was formed a non-magnetic substrate by good CaO-TiO 2 -NiO-based material.

【0013】しかしながら、このようにCaO−TiO
2−NiO系材料によって形成された非磁性基板は、例
えばMIG型磁気ヘッドで用いられているようなMn−
Znフェライト単結晶材料と比較して、砥石による研削
加工時の加工抵抗が高いといった問題があった。その結
果、従来のバルク薄膜型磁気ヘッドは、歩留まりよく製
造するためには研削速度を遅く設定する必要があり、生
産性を向上させることに限界があった。
However, as described above, CaO-TiO
The non-magnetic substrate formed of a 2- NiO-based material is, for example, a Mn-type magnetic head used in a MIG type magnetic head.
There was a problem that the processing resistance at the time of grinding with a grindstone was higher than that of a Zn ferrite single crystal material. As a result, in the conventional bulk thin film magnetic head, it is necessary to set a low grinding speed in order to manufacture with good yield, and there is a limit in improving the productivity.

【0014】そこで、本発明は、ガード材としての非磁
性基板が良好な加工性を示すとともに、この非磁性基板
と磁気コアを構成する磁性層との摩耗量のバランスに優
れる磁気ヘッドを提供することを目的とする。
Therefore, the present invention provides a magnetic head in which a non-magnetic substrate as a guard material exhibits good workability and has a good balance of abrasion between the non-magnetic substrate and a magnetic layer constituting a magnetic core. The purpose is to:

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、非磁性基板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜されると
ともに、薄膜コイルが形成された凹部を有し、非磁性材
料により突合せ面が平坦化されてなる一対の磁気コア半
体を備え、これら磁気コア半体を上記金属磁性薄膜の端
面同士で非磁性材料を介して対向するように突き合わせ
ることにより磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッド
である。上記非磁性基板は、TiO2及びCaOを主成
分し、TiO2の含有量が55mol%以上、且つ74
mol%以下である非磁性材料によって形成されてな
る。
According to the present invention, there is provided a magnetic head having a metal magnetic thin film formed obliquely on a non-magnetic substrate, a concave portion having a thin-film coil formed therein, and a butt made of a non-magnetic material. A magnetic gap is formed by butting a pair of magnetic core halves having flat surfaces and abutting these magnetic core halves on opposite end surfaces of the metal magnetic thin film via a non-magnetic material. Magnetic head. The non-magnetic substrate contains TiO 2 and CaO as main components and has a TiO 2 content of 55 mol% or more, and
It is formed of a non-magnetic material of less than mol%.

【0016】以上のように構成された本発明に係る磁気
ヘッドは、非磁性基板に対して砥石による研削加工を施
す際の加工抵抗が小さい。したがって、良好な加工性を
確保することができる。また、磁気コアを構成する金属
磁性薄膜と、この金属磁性薄膜を保持するガード材とし
ての非磁性基板との摩耗量のバランスに優れる。
The magnetic head according to the present invention configured as described above has a small processing resistance when a non-magnetic substrate is subjected to grinding with a grindstone. Therefore, good workability can be ensured. Further, the wear amount of the metal magnetic thin film constituting the magnetic core and the non-magnetic substrate as the guard material for holding the metal magnetic thin film is well balanced.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、本
発明に係る磁気ヘッドの一構成例として、図1及び図2
に示すような磁気ヘッド1について説明する。なお、磁
気ヘッド1は、磁路を小さくするために金属磁性薄膜に
よって磁気コアが形成され、磁気ギャップ形成面に薄膜
形成工程によって形成された薄膜状のコイルが形成され
た、いわゆるバルク薄膜型磁気ヘッドである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIGS. 1 and 2 show a configuration example of a magnetic head according to the present invention.
The magnetic head 1 shown in FIG. The magnetic head 1 has a magnetic core formed of a metal magnetic thin film in order to reduce a magnetic path, and a thin-film coil formed by a thin-film forming process on a magnetic gap forming surface. Head.

【0018】磁気ヘッド1は、図1及び図2に示すよう
に、金属拡散接合等により接合された一対の磁気コア半
体2,3から構成されている。一対の磁気コア半体2,
3は、非磁性材料からなる非磁性基板4と、この非磁性
基板4の傾斜面4a上に形成された金属磁性薄膜5と、
この非磁性基板4上に金属磁性薄膜5を覆うように形成
された低融点ガラス6とからそれぞれ形成されている。
また、一対の磁気コア半体2,3は、少なくとも一方
に、励磁用及び/又は誘導起電圧検出用の薄膜コイル7
が形成されてなる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the magnetic head 1 comprises a pair of magnetic core halves 2, 3 joined by metal diffusion bonding or the like. A pair of magnetic core halves 2,
3 is a non-magnetic substrate 4 made of a non-magnetic material, a metal magnetic thin film 5 formed on an inclined surface 4a of the non-magnetic substrate 4,
The low-melting glass 6 is formed on the non-magnetic substrate 4 so as to cover the metal magnetic thin film 5.
At least one of the pair of magnetic core halves 2 and 3 has a thin-film coil 7 for excitation and / or detection of induced electromotive force.
Is formed.

【0019】磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア
半体2,3がギャップ材Gを介して接合された状態で、
金属磁性薄膜5が、図2に示すように、磁気コア8を形
成する。ただし、図2においては、薄膜コイル7を図示
していない。磁気ヘッド1は、磁気記録媒体に対して記
録再生を行う際に、この磁気記録媒体を、媒体摺動面9
上で、図2中矢印Aで示す方向に摺動される。そして、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際には、
この磁気記録媒体に記録された磁気信号を磁気コア8を
介して薄膜コイル7によって検出し、電気信号に変換す
る。また、磁気記録媒体に対して磁気信号を記録する際
には、記録する磁気信号に応じた電流が供給されること
によって薄膜コイル7に生じた磁界の変化を、磁気コア
8を介して磁気記録媒体に記録する。
In the magnetic head 1, in a state where the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined via the gap material G,
The metal magnetic thin film 5 forms a magnetic core 8 as shown in FIG. However, the thin film coil 7 is not shown in FIG. When performing recording and reproduction on the magnetic recording medium, the magnetic head 1 applies the magnetic recording medium to the medium sliding surface 9.
Above, it is slid in the direction shown by arrow A in FIG. And
When reproducing a magnetic signal recorded on a magnetic recording medium,
The magnetic signal recorded on the magnetic recording medium is detected by the thin-film coil 7 via the magnetic core 8 and converted into an electric signal. When a magnetic signal is recorded on a magnetic recording medium, a change in a magnetic field generated in the thin-film coil 7 due to the supply of a current corresponding to the magnetic signal to be recorded is recorded via the magnetic core 8. Record on the medium.

【0020】この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体との当
接状態を規制するために、媒体摺動面9が、磁気記録媒
体の摺動方向に対して円弧状に形成されている。また、
この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体との当接面積を規制
するために、当たり幅規制溝10が形成されている。こ
の当たり幅規制溝10は、図2中矢印Aで示した磁気記
録媒体の摺動方向と平行に、磁気ヘッド1の両側面に形
成されている。
In the magnetic head 1, the medium sliding surface 9 is formed in an arc shape with respect to the sliding direction of the magnetic recording medium in order to regulate the contact state with the magnetic recording medium. Also,
In the magnetic head 1, a contact width regulating groove 10 is formed in order to regulate the contact area with the magnetic recording medium. The contact width regulating grooves 10 are formed on both side surfaces of the magnetic head 1 in parallel with the sliding direction of the magnetic recording medium indicated by the arrow A in FIG.

【0021】この磁気ヘッド1において、金属磁性薄膜
5は、例えばセンダスト(Fe−Al−Si合金)等の
ような良好な軟磁性を示す材料によって形成される。ま
た、金属磁性薄膜5は、非磁性基板4上に所定の角度を
以て斜めに形成された傾斜面4a上に形成されている。
このため、磁気コア8は、金属磁性薄膜5が形成された
一対の磁気コア半体2,3がギャップ材Gを介して接合
されると、図2に示すように、磁気記録媒体の摺動方向
Aに対して斜めに配されることとなる。
In the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 5 is formed of a material exhibiting good soft magnetism such as Sendust (Fe-Al-Si alloy). Further, the metal magnetic thin film 5 is formed on an inclined surface 4 a formed obliquely at a predetermined angle on the non-magnetic substrate 4.
Therefore, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 on which the metal magnetic thin film 5 is formed are joined via the gap material G, the magnetic core 8 slides on the magnetic recording medium as shown in FIG. It is arranged obliquely to the direction A.

【0022】また、この金属磁性薄膜5は、その断面形
状が略コ字状を呈するように構成されている。すなわ
ち、金属磁性薄膜5は、磁気コア半体2,3が接合され
る面側の端面の略中心部が凹部5aとされてなる。
The metal magnetic thin film 5 has a substantially U-shaped cross section. That is, the metal magnetic thin film 5 has a concave portion 5a at a substantially central portion of the end surface on the side where the magnetic core halves 2 and 3 are joined.

【0023】このため、金属磁性薄膜5は、磁気コア半
体2,3の接合面2a,3aに前後方向に分断されて低
融点ガラス6から露出する、前部突合せ面11と後部突
合せ面12とを有することとなる。そして、一方の磁気
コア半体2の前部突合せ面11と、他方の磁気コア半体
3の前部突合せ面11とがギャップ材Gを介して突き合
わされてフロントギャップ13を構成する。また、一方
の磁気コア半体2の後部突合せ面12と、他方の磁気コ
ア半体3の後部突合せ面12とが突き合わされてバック
ギャップ14を構成する。
For this reason, the metal magnetic thin film 5 is divided by the joining surfaces 2 a and 3 a of the magnetic core halves 2 and 3 in the front-rear direction and is exposed from the low melting point glass 6. And has the following. Then, the front butting surface 11 of the one magnetic core half 2 and the front butting surface 11 of the other magnetic core half 3 are butted via the gap material G to form the front gap 13. The rear butting surface 12 of one magnetic core half 2 and the rear butting surface 12 of the other magnetic core half 3 abut against each other to form a back gap 14.

【0024】フロントギャップ13においては、媒体摺
動面9からバックギャップ14側のフロントギャップ終
端13aまでの深さをデプスと称する。
In the front gap 13, the depth from the medium sliding surface 9 to the front gap end 13a on the side of the back gap 14 is referred to as depth.

【0025】また、金属磁性薄膜5には、接合面2a,
3aに、後部突合せ面12を略中心とした薄膜コイル7
が内部に形成されたコイル形成用凹部15を有する。こ
のコイル形成用凹部15には、後部突合せ面12の近傍
にコイル接続用端子16が形成されている。薄膜コイル
7は、このコイル形成用凹部15内に形成されて、中心
側の端部がコイル接続用端子16に接続されている。
The metal magnetic thin film 5 has a bonding surface 2a,
3a, the thin film coil 7 having the rear abutting surface 12 substantially at the center.
Has a coil forming recess 15 formed therein. A coil connection terminal 16 is formed in the coil forming recess 15 near the rear butting surface 12. The thin-film coil 7 is formed in the coil-forming recess 15, and the end on the center side is connected to the coil connection terminal 16.

【0026】コイル接続用端子16は、一対の磁気コア
半体2,3の接合面2a,3aと同一面を構成するよう
にそれぞれ高さ調節されて形成されている。そして、磁
気ヘッド1においては、一対の磁気コア半体2,3が接
合されると、一対のコイル接続用端子16も接合される
こととなる。これにより、この磁気ヘッド1において
は、一対の磁気コア半体2,3が接合されると、一対の
薄膜コイル7が電気的に接続されることとなる。
The heights of the coil connection terminals 16 are adjusted so as to form the same surfaces as the joint surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, respectively. In the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined, the pair of coil connection terminals 16 are also joined. Thus, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined, the pair of thin-film coils 7 are electrically connected.

【0027】また、薄膜コイル7の外周側の端部は、磁
気記録媒体の摺動面とは反対側へ導出されている。一対
の磁気コア半体2,3には、媒体摺動面9とは反対側
に、外部接続用端子17がそれぞれ形成されている。そ
して、薄膜コイル7の外周側の端部は、この外部接続用
端子17と接続されている。
The outer peripheral end of the thin film coil 7 is led out to the side opposite to the sliding surface of the magnetic recording medium. External connection terminals 17 are respectively formed on the pair of magnetic core halves 2 and 3 on the opposite side to the medium sliding surface 9. The outer peripheral end of the thin-film coil 7 is connected to the external connection terminal 17.

【0028】これら外部接続用端子17は、磁気ヘッド
1の側面に露出することによって、外部と薄膜コイル7
とを電気的に接続することができる。これら一対の外部
接続用端子17は、一対の磁気コア半体2,3を接合し
た際に短絡を発生させないように、一対の磁気コア半体
の2,3における高さが異なる位置にそれぞれ形成され
ている。
These external connection terminals 17 are exposed to the side surface of the magnetic head 1 so that they can be connected to the outside by the thin film coil 7.
And can be electrically connected. The pair of external connection terminals 17 are formed at positions where the heights of the pair of magnetic core halves 2 and 3 are different from each other so that a short circuit does not occur when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined. Have been.

【0029】ところで、磁気ヘッド1において、非磁性
基板4は、磁気コア8を構成する金属磁性薄膜5を磁気
記録媒体に対して保持する、いわばガード材としての機
能を有している。そのため、磁気ヘッド1では、媒体摺
動面9を磁気記録媒体が摺動することによる、この非磁
性基板4と金属磁性薄膜5との摩耗量が異なると、媒体
摺動面に段差が生じてしまう。従来の磁気ヘッドでは、
金属磁性薄膜5の摩耗量が非磁性基板4の摩耗量よりも
大きかったために、金属磁性薄膜5が媒体摺動面9から
凹んでしまい、いわゆる偏摩耗が生じてしまうといった
問題があった。この場合に、従来の磁気ヘッドは、磁気
コア8に構成される磁気ギャップと磁気記録媒体との間
に空隙が生じ、スペーシングロスの原因となる。これに
より、特に高周波帯域での電磁変換特性が劣化してしま
うといった問題があった。
Incidentally, in the magnetic head 1, the nonmagnetic substrate 4 has a function as a so-called guard material for holding the metal magnetic thin film 5 constituting the magnetic core 8 with respect to the magnetic recording medium. Therefore, in the magnetic head 1, if the wear amount of the non-magnetic substrate 4 and the metal magnetic thin film 5 due to the sliding of the magnetic recording medium on the medium sliding surface 9 is different, a step occurs on the medium sliding surface. I will. In a conventional magnetic head,
Since the wear amount of the metal magnetic thin film 5 was larger than the wear amount of the non-magnetic substrate 4, the metal magnetic thin film 5 was recessed from the medium sliding surface 9, and there was a problem that so-called uneven wear occurred. In this case, in the conventional magnetic head, a gap is generated between the magnetic gap formed in the magnetic core 8 and the magnetic recording medium, which causes a spacing loss. As a result, there is a problem that the electromagnetic conversion characteristics particularly in a high frequency band are deteriorated.

【0030】しかしながら、磁気ヘッド1において、非
磁性基板4は、TiO2及びCaOを主成分とし、Ti
2の含有量が55mol%以上、且つ74mol%以
下である非磁性材料によって形成されている。これによ
り、磁気ヘッド1では、非磁性基板4と金属磁性薄膜5
との磁気記録媒体に対する摩耗量を同程度とすることが
でき、偏摩耗の発生を抑制することができる。これによ
り、磁気ヘッド1は、長期間使用した場合であっても、
高周波帯域での電磁変換特性を良好に保つことができ
る。したがって、磁気ヘッド1は、高記録密度化に対応
して、微細な磁気信号を安定して記録再生することがで
きるとともに、長寿命な磁気ヘッドとして用いることが
できる。
However, in the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 contains TiO 2 and CaO as main components,
It is formed of a nonmagnetic material having an O 2 content of 55 mol% or more and 74 mol% or less. Thus, in the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 and the metal magnetic thin film 5
And the amount of wear on the magnetic recording medium can be made approximately the same, and the occurrence of uneven wear can be suppressed. Thereby, even if the magnetic head 1 is used for a long time,
It is possible to maintain good electromagnetic conversion characteristics in a high frequency band. Therefore, the magnetic head 1 can stably record and reproduce fine magnetic signals in response to the increase in recording density, and can be used as a long-life magnetic head.

【0031】また、非磁性基板4は、上述したような材
料によって形成されていることにより、例えば、従来か
らいわゆるMIG型磁気ヘッド等で用いられているよう
な、Mn−Znフェライト単結晶材料によって形成され
たガード材と比較して、砥石による研削加工時の加工抵
抗を同程度とすることができる。このため、磁気ヘッド
1では、非磁性基板4に対して研削加工を施す際に、M
n−Znフェライト単結晶材料の場合と同程度まで研削
速度を速く設定することができ、生産性の向上に寄与す
ることができる。具体的には、例えば、非磁性基板4に
対して研削加工を施して当たり幅規制溝10を形成する
工程に要する時間を短縮することができる。
The non-magnetic substrate 4 is formed of the above-mentioned material, and thus is made of, for example, a Mn-Zn ferrite single crystal material conventionally used in a so-called MIG type magnetic head or the like. Compared with the formed guard material, the processing resistance at the time of grinding with a grindstone can be made substantially the same. Therefore, in the magnetic head 1, when the non-magnetic substrate 4 is subjected to grinding,
The grinding speed can be set as high as the same as the case of the n-Zn ferrite single crystal material, which can contribute to improvement in productivity. Specifically, for example, it is possible to reduce the time required for the step of forming the contact width regulating groove 10 by performing the grinding process on the non-magnetic substrate 4.

【0032】なお、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板4には、傾斜面4aが所定の角度を以て斜めに形成
されるとしたが、45゜程度の角度を以て傾斜面4aが
形成されていることが望ましい。これにより、磁気ヘッ
ド1は、トラック幅精度が向上する。
In the magnetic head 1, the inclined surface 4a is formed at a predetermined angle on the non-magnetic substrate 4, but the inclined surface 4a is formed at an angle of about 45 °. Is desirable. Thereby, the track width accuracy of the magnetic head 1 is improved.

【0033】また、上述の説明においては、金属磁性薄
膜5を形成する材料として、センダスト(Fe−Al−
Si合金)を例示したが、係る材料に限定されるもので
はない。金属磁性薄膜5は、例えば、Fe−Ta−N合
金、Fe−Al合金、Fe−Si−Co合金、Fe−G
a−Si合金、Fe−Ga−Si−Ru合金、Fe−A
l−Ge合金、Fe−Ga−Ge合金、Fe−Si−G
e合金、Fe−Co−Si−Al合金、Fe−Ni合金
等の結晶質合金からなるもので形成されていてもよい。
また、金属磁性薄膜5は、Fe,Co,Niのうちの1
以上の元素とP,C,B,Siのうちの1以上の元素と
からなる合金、又はこれを主成分としAl,Ge,B
e,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,
Hf,Nb等を含んだ合金等に代表されるメタル−メタ
ロイド系アモルファス合金や、Co,Hf,Zr等の遷
移金属と希土類元素を主成分とするメタル−メタル系ア
モルファス合金等の非晶質合金によって形成されていて
もよい。さらに、金属磁性薄膜5は、窒化系軟磁性合金
又は炭化系軟磁性合金等によって形成されていてもよ
い。
In the above description, the material for forming the metal magnetic thin film 5 is Sendust (Fe-Al-
(Si alloy), but the material is not limited to this. The metal magnetic thin film 5 is made of, for example, an Fe-Ta-N alloy, an Fe-Al alloy, an Fe-Si-Co alloy, an Fe-G
a-Si alloy, Fe-Ga-Si-Ru alloy, Fe-A
l-Ge alloy, Fe-Ga-Ge alloy, Fe-Si-G
It may be formed of a crystalline alloy such as an e-alloy, an Fe-Co-Si-Al alloy, or an Fe-Ni alloy.
The metal magnetic thin film 5 is made of one of Fe, Co, and Ni.
An alloy composed of the above elements and one or more elements of P, C, B, and Si, or an alloy containing Al, Ge, B
e, Sn, In, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr,
Amorphous alloys such as metal-metalloid amorphous alloys typified by alloys containing Hf, Nb and the like, and metal-metal amorphous alloys mainly containing transition metals such as Co, Hf, Zr and rare earth elements May be formed. Further, the metal magnetic thin film 5 may be formed of a nitride-based soft magnetic alloy or a carbide-based soft magnetic alloy.

【0034】また、金属磁性薄膜5は、単一層からなる
金属磁性薄膜により構成されてもよいが、非磁性薄膜層
と磁性薄膜層とを交互に積層した構成にすることが望ま
しい。これにより、磁気ヘッド1は、渦電流損失が低減
されて、より高周波帯域において、感度が高い磁気ヘッ
ドとすることができる。
The metal magnetic thin film 5 may be formed of a single-layer metal magnetic thin film, but it is preferable that the nonmagnetic thin film layer and the magnetic thin film layer are alternately laminated. Thereby, the magnetic head 1 can reduce the eddy current loss, and can be a magnetic head having high sensitivity in a higher frequency band.

【0035】以上のように構成された磁気ヘッド1は、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際に、こ
の磁気記録媒体からの信号磁界がフロントギャップ13
のの周辺に印加される。そして、印加される信号磁界の
方向が変化することによって、磁気コア8に流れる磁束
の方向が変化する。その結果、磁気ヘッド1では、電磁
誘導が生じ、磁気記録媒体に記録された磁気信号に応じ
た電流が薄膜コイル7に流れる。そして、磁気ヘッド1
は、薄膜コイル7に流れる電流を検出することにより、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する。
The magnetic head 1 configured as described above
When reproducing a magnetic signal recorded on the magnetic recording medium, a signal magnetic field from the magnetic recording medium is applied to the front gap 13.
Is applied around. When the direction of the applied signal magnetic field changes, the direction of the magnetic flux flowing through the magnetic core 8 changes. As a result, in the magnetic head 1, electromagnetic induction occurs, and a current corresponding to the magnetic signal recorded on the magnetic recording medium flows through the thin-film coil 7. And the magnetic head 1
By detecting the current flowing through the thin film coil 7,
A magnetic signal recorded on a magnetic recording medium is reproduced.

【0036】また、この磁気ヘッド1を用いて磁気記録
媒体に磁気信号を記録する際には、薄膜コイル7に対し
て記録信号に応じた電流が供給される。すると、薄膜コ
イル7から発生する磁界により、磁気コア8に磁束が生
じる。そして、磁気ヘッド1は、磁気コア8に生じた磁
束がフロントギャップ13で漏れる漏れ磁界を、磁気記
録媒体に印加することによって、磁気記録媒体に対して
磁気信号を記録する。
When recording a magnetic signal on a magnetic recording medium using the magnetic head 1, a current corresponding to the recording signal is supplied to the thin-film coil 7. Then, a magnetic flux is generated in the magnetic core 8 by the magnetic field generated from the thin film coil 7. Then, the magnetic head 1 records a magnetic signal on the magnetic recording medium by applying a leakage magnetic field in which the magnetic flux generated in the magnetic core 8 leaks at the front gap 13 to the magnetic recording medium.

【0037】つぎに、上述した磁気ヘッド1の製造方法
を図面を参照しながら詳細に説明する。磁気ヘッド1を
製造する際には、先ず複数個の磁気コア半体2,3を同
一基板上に形成する。そして、この基板を一対貼り合わ
せ、個々の磁気ヘッド1に切り離すことにより、磁気ヘ
ッド1が完成する。
Next, a method for manufacturing the above-described magnetic head 1 will be described in detail with reference to the drawings. When manufacturing the magnetic head 1, first, a plurality of magnetic core halves 2 and 3 are formed on the same substrate. Then, the magnetic head 1 is completed by bonding a pair of the substrates and separating the substrates into individual magnetic heads 1.

【0038】先ず、磁気ヘッド1を製造するには、図3
に示すように、略平板状の基板21を用意する。この基
板21は、磁気ヘッド1の非磁性基板4となるものであ
り、上述したように、TiO2及びCaOを主成分と
し、TiO2の含有量が55mol%以上、且つ74m
ol%以下である非磁性材料によって形成されたもので
ある。この基板21は、例えば、厚さが2mm程度とさ
れ、長さ及び幅が30mm程度とされる。
First, in order to manufacture the magnetic head 1, FIG.
As shown in (1), a substantially flat substrate 21 is prepared. The substrate 21 is to be the non-magnetic substrate 4 of the magnetic head 1 and, as described above, contains TiO 2 and CaO as main components, the TiO 2 content is 55 mol% or more, and 74 m
ol% or less of a non-magnetic material. The substrate 21 has, for example, a thickness of about 2 mm and a length and a width of about 30 mm.

【0039】基板21は、図3に示すように、その両側
面21aに位置して、位置決め用切欠部21bが形成さ
れている。位置決め用切欠部21bは、後の工程におい
て、後述する巻線溝29、媒体摺動面9及び当たり幅規
制溝10を形成する際の基準位置とするためのものであ
る。したがって、位置決め用切欠部21bは、形成され
る磁気コア半体2,3の列の数だけ設ける必要がある。
As shown in FIG. 3, the substrate 21 has positioning notches 21b formed on both side surfaces 21a. The positioning notch 21b is used as a reference position for forming a winding groove 29, a medium sliding surface 9, and a contact width regulating groove 10 described later in a later step. Therefore, the positioning notches 21b need to be provided by the number of rows of the magnetic core halves 2 and 3 to be formed.

【0040】次に、図4に示すように、上述した基板2
1の一主面21cに対して第1の溝加工を施す。この第
1の溝加工では、基板21の一主面21cに対して、砥
石等により、例えば25゜程度の角度を有するように、
複数本の磁気コア形成溝24を平行に形成する。そし
て、基板21には、この第1の溝加工で形成された磁気
コア形成溝24によって、複数の傾斜面21dが形成さ
れることとなる。
Next, as shown in FIG.
The first groove processing is performed on one main surface 21c. In the first groove processing, an angle of, for example, about 25 ° is formed with respect to one main surface 21c of the substrate 21 with a grindstone or the like.
A plurality of magnetic core forming grooves 24 are formed in parallel. Then, a plurality of inclined surfaces 21d are formed on the substrate 21 by the magnetic core forming grooves 24 formed by the first groove processing.

【0041】ここで形成される傾斜面21dは、基板平
面に対して25゜〜60゜程度の傾斜角が好ましいが、
疑似ギャップ防止やトラック幅精度を考慮すると、35
゜〜50゜程度の傾斜角がより好ましい。また、この第
1の溝加工により形成する磁気コア形成溝24は、その
深さを130μmとし、幅を150μmとして形成し
た。
The inclined surface 21d formed here preferably has an inclination angle of about 25 ° to 60 ° with respect to the substrate plane.
Considering pseudo gap prevention and track width accuracy, 35
A tilt angle of about ゜ to 50 ° is more preferable. The magnetic core forming groove 24 formed by the first groove processing had a depth of 130 μm and a width of 150 μm.

【0042】次に、図5に示すように、基板21の傾斜
面21dが形成された全面に対して金属磁性薄膜27を
成膜する。この成膜工程においては、金属磁性薄膜27
を、非磁性層を介して3層の金属磁性材料が積層されて
なるように成膜する。また、この成膜工程では、例え
ば、スパッタリング法、蒸着法、MBE(Molecular Be
am Epitaxy)法等の各種PVD(Physical Vapor Depos
ition)法又はCVD(Chemical Vapor Deposition)法
によって金属磁性薄膜27を成膜することができる。
Next, as shown in FIG. 5, a metal magnetic thin film 27 is formed on the entire surface of the substrate 21 on which the inclined surface 21d is formed. In this film forming step, the metal magnetic thin film 27
Is formed so that three metallic magnetic materials are laminated via a nonmagnetic layer. In this film forming step, for example, a sputtering method, a vapor deposition method, an MBE (Molecular Be
am Epitaxy) PVD (Physical Vapor Depos)
)) or the CVD (Chemical Vapor Deposition) method.

【0043】本実施の形態においては、スパッタリング
法によって金属磁性薄膜27を成膜した。このとき、良
好な軟磁気特性を得るために、基板21を傾斜してスパ
ッタを行うことにより、成膜面に対して略垂直な方向で
スパッタ粒子を照射した。なお、所望とする軟磁気特性
が得られる範囲であれば、基板21の傾斜角は、任意で
ある。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 27 is formed by a sputtering method. At this time, in order to obtain good soft magnetic characteristics, the substrate 21 was inclined and sputtered, so that the sputtered particles were irradiated in a direction substantially perpendicular to the film formation surface. The tilt angle of the substrate 21 is arbitrary as long as desired soft magnetic characteristics can be obtained.

【0044】本実施の形態では、金属磁性薄膜27を、
上述したように、非磁性薄膜層と磁性薄膜層とを交互に
積層することにより形成した。具体的には、磁性薄膜層
として、飽和磁束が1.5TであるFe系微結晶薄膜を
膜厚4μmによって形成し、非磁性薄膜層として、アル
ミナを膜厚0.15μmで形成した。そして、これら磁
性薄膜層を非磁性薄膜層を介して3層積層することによ
り、金属磁性薄膜27を形成した。このように、金属磁
性薄膜27を複数積層して成膜する場合、非磁性薄膜層
としては、アルミナ、SiO2及びSiO等の材料を単
独又は混合して用いることができる。この非磁性薄膜層
の膜厚は、隣接して配される金属磁性層間の絶縁を取れ
る程度とされる。また、非磁性薄膜層の膜厚が厚すぎる
と、疑似ギャップとして作用してしまう。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 27 is
As described above, a non-magnetic thin film layer and a magnetic thin film layer were alternately laminated. Specifically, an Fe-based microcrystalline thin film having a saturation magnetic flux of 1.5 T was formed with a thickness of 4 μm as the magnetic thin film layer, and alumina was formed with a thickness of 0.15 μm as the nonmagnetic thin film layer. Then, the magnetic metal thin film 27 was formed by laminating these three magnetic thin film layers via a non-magnetic thin film layer. As described above, when a plurality of metal magnetic thin films 27 are stacked and formed, a material such as alumina, SiO 2 and SiO can be used alone or in combination as the non-magnetic thin film layer. The thickness of the non-magnetic thin film layer is set to such an extent that insulation between adjacent metal magnetic layers can be obtained. If the thickness of the nonmagnetic thin film layer is too large, it acts as a pseudo gap.

【0045】次に、図6に示すように、金属磁性薄膜2
7が形成された面に対して磁気コア形成溝24と略直交
する方向に第2の溝加工を施す。この第2の溝加工で
は、所定の大きさの磁気コア8に分離するために形成さ
れる分離溝28と、この分離溝28により分離された各
磁気コア8に磁気ギャップを形成するための巻線溝29
とを形成する。
Next, as shown in FIG.
A second groove is formed on the surface on which the groove 7 is formed in a direction substantially orthogonal to the magnetic core forming groove 24. In the second groove processing, a separation groove 28 formed to separate the magnetic core 8 into a predetermined size, and a winding for forming a magnetic gap in each magnetic core 8 separated by the separation groove 28. Wire groove 29
And are formed.

【0046】このとき、巻線溝29は、基板21の位置
決め用切欠部21bを基準として位置決めされて形成す
る。これにより、後の工程において、後述するように、
磁気ヘッド1におけるフロントギャップ13のデプスを
高精度に加工することが容易となる。
At this time, the winding groove 29 is formed by being positioned with reference to the positioning notch 21b of the substrate 21. Thereby, in a later step, as described later,
It becomes easy to process the depth of the front gap 13 in the magnetic head 1 with high accuracy.

【0047】また、このとき、傾斜面21d上に形成さ
れた金属磁性薄膜27以外の部分、すなわち、磁気コア
形成溝24の底部に形成された金属磁性薄膜27を研削
加工により除去する。
At this time, portions other than the metal magnetic thin film 27 formed on the inclined surface 21d, that is, the metal magnetic thin film 27 formed at the bottom of the magnetic core forming groove 24 are removed by grinding.

【0048】ここで、分離溝28は、磁気コア8を基板
21上で前後方向に磁気的に分離して各磁気コア8を形
成し、各磁気コア8に閉磁路を構成するための溝であ
る。また、この分離溝28は、図6の例示では2本形成
されているが、形成される磁気コア半体2,3の列の数
だけ設ける必要がある。また、この分離溝28は、前後
方向に並んで配される各磁気コア8を磁気的に分離する
ため、金属磁性薄膜27を完全に切断する程度の深さを
有するように形成される必要がある。具体的には、分離
溝28は、磁気コア形成溝24の底辺から150μmの
深さ、すなわち、基板21の主面21cから280μm
の深さとした。
Here, the separation groove 28 is a groove for forming each magnetic core 8 by magnetically separating the magnetic core 8 in the front-back direction on the substrate 21 and forming a closed magnetic path in each magnetic core 8. is there. Although two separation grooves 28 are formed in the example of FIG. 6, it is necessary to provide as many as the number of rows of the magnetic core halves 2 and 3 to be formed. In addition, the separation groove 28 must be formed so as to have a depth enough to completely cut the metal magnetic thin film 27 in order to magnetically separate the magnetic cores 8 arranged in the front-rear direction. is there. Specifically, the separation groove 28 has a depth of 150 μm from the bottom of the magnetic core forming groove 24, that is, 280 μm from the main surface 21 c of the substrate 21.
And the depth.

【0049】一方、巻線溝29は、上述した磁気ヘッド
1において、金属磁性薄膜27に形成された凹部5aを
形成するものである。したがって、巻線溝29は、前部
突合せ面11と後部突合せ面12とを有する磁気コア8
を形成し、コイル形成用凹部15を形成するために、金
属磁性薄膜27を切断しない程度の深さで形成する必要
がある。このため、巻線溝29の表面には、金属磁性薄
膜27の断面が露出する。
On the other hand, the winding groove 29 forms the concave portion 5a formed in the metal magnetic thin film 27 in the magnetic head 1 described above. Therefore, the winding groove 29 is formed by the magnetic core 8 having the front butting surface 11 and the rear butting surface 12.
In order to form the concave portion 15 for coil formation, it is necessary to form the metal magnetic thin film 27 at a depth that does not cut it. Therefore, the cross section of the metal magnetic thin film 27 is exposed on the surface of the winding groove 29.

【0050】また、この巻線溝29は、その形状が前部
突合せ面11及び後部突合せ面12の長さに応じて決定
されるが、ここでは、幅を約140μmとし、前部突合
せ面11の長さが30μmとなり、後部突合せ面12の
長さが85μmとなるように形成した。なお、この巻線
溝29は、金属磁性薄膜27を切断することのない程度
の深さでよいが、深すぎると磁路長が長くなって磁束伝
達の効率が低下する虞れがある。また、巻線溝29は、
その深さが後述する工程で形成される薄膜コイル7の厚
みに依存するが、ここでは、20μmとした。
The shape of the winding groove 29 is determined according to the lengths of the front butting surface 11 and the rear butting surface 12. Here, the width is set to about 140 μm, and And the length of the rear butting surface 12 was 85 μm. The winding groove 29 may have such a depth that the metal magnetic thin film 27 is not cut. However, if the winding groove 29 is too deep, there is a possibility that the magnetic path length becomes longer and the efficiency of magnetic flux transmission is reduced. The winding groove 29 is
Although the depth depends on the thickness of the thin film coil 7 formed in a step described later, it is set to 20 μm here.

【0051】さらに、この巻線溝29は、その形状が限
定されるものではないが、ここでは、磁気ヘッド1にお
いてフロントギャップ頂部13aとなる前部突合せ面1
1側の側面を約45゜の傾斜面29aとした。これによ
り、磁気コア8は、媒体摺動面9側に磁束が集中する構
造となることによって、感度が向上したものとなる。な
お、この傾斜面29aを形成するに際しては、例えば円
形や多角形状に形成してもよい。
Further, the shape of the winding groove 29 is not limited, but here, the front butting surface 1 serving as the front gap top 13 a in the magnetic head 1.
The side surface on one side is an inclined surface 29a of about 45 °. Thereby, the magnetic core 8 has a structure in which the magnetic flux is concentrated on the medium sliding surface 9 side, thereby improving the sensitivity. When the inclined surface 29a is formed, it may be formed, for example, in a circular or polygonal shape.

【0052】次に、図7に示すように、上述したように
磁気コア形成溝24、分離溝28及び巻線溝29が形成
された基板21の一主面21cに対して溶融した低融点
ガラス30を充填させる。このとき、低融点ガラス30
の充填は、金属磁性薄膜27が良好な軟磁気特性を得る
ために十分な熱処理温度で行うことが望ましい。これに
より、金属磁性薄膜27の熱処理と低融点ガラス30の
充填とを同一工程で行うことができる。また、この低融
点ガラス30の充填工程においては、基板21に形成さ
れた溝を完全に充填する必要がある。したがって、この
低融点ガラス30は、上述した熱処理温度における粘性
が、102Pa・s〜106Pa・s、より好ましくは1
3Pa・s〜105Pa・s程度であることが望まし
い。
Next, as shown in FIG. 7, a low-melting glass melted on one main surface 21c of the substrate 21 on which the magnetic core forming groove 24, the separation groove 28 and the winding groove 29 are formed as described above. 30 is filled. At this time, the low melting glass 30
Is desirably performed at a heat treatment temperature sufficient for the metal magnetic thin film 27 to obtain good soft magnetic characteristics. Thereby, the heat treatment of the metal magnetic thin film 27 and the filling of the low-melting glass 30 can be performed in the same step. In the step of filling the low melting point glass 30, it is necessary to completely fill the groove formed in the substrate 21. Therefore, the low-melting glass 30 has a viscosity at the above-mentioned heat treatment temperature of 10 2 Pa · s to 10 6 Pa · s, more preferably 1 Pa · s to 10 6 Pa · s.
Desirably, the pressure is about 0 3 Pa · s to 10 5 Pa · s.

【0053】本実施の形態においては、金属磁性薄膜2
7が、520℃の熱処理で30A/m以下の保磁力を示
し、良好な軟磁気特性を得られることから、低融点ガラ
ス30には、SiO2,PbO,B23,Bi23を主
成分とし、520℃での粘性が104.5Pa・s程度で
あるガラスを用いた。
In the present embodiment, the metal magnetic thin film 2
7 shows a coercive force of 30 A / m or less by heat treatment at 520 ° C., and good soft magnetic properties can be obtained. Therefore, SiO 2 , PbO, B 2 O 3 , and Bi 2 O 3 are used for the low melting point glass 30. Glass having a viscosity at 520 ° C. of about 10 4.5 Pa · s as a main component was used.

【0054】その後、低融点ガラス30を冷却固化さ
せ、固化した低融点ガラス30の表面に対して平坦化処
理を施す。
After that, the low-melting glass 30 is cooled and solidified, and the surface of the solidified low-melting glass 30 is flattened.

【0055】この平坦化処理においては、基板21の一
部が僅かに露出する程度まで研磨して平坦化することが
望ましい。このように基板21の一部を露出させない場
合は、磁気ヘッド1における一対の磁気コア半体2,3
を接合した際に、トラックエッジの開口角が小さくな
り、フリンジングが大きくなってしまう虞がある。ただ
し、露出幅が大きすぎると、低融点ガラス30と基板2
1とのエッチングレートが異なることにより、後述する
薄膜コイル7を形成する工程で、段差が生じてしまう。
したがって、このときの露出幅は、薄膜コイル7の最内
周での幅よりも狭い程度とすることが望ましい。
In this flattening process, it is desirable that the substrate 21 is polished and flattened to such an extent that a part of the substrate 21 is slightly exposed. When a part of the substrate 21 is not exposed as described above, the pair of magnetic core halves 2 and 3 in the magnetic head 1 are used.
When these are joined, there is a possibility that the opening angle of the track edge becomes small and fringing becomes large. However, if the exposure width is too large, the low melting point glass 30 and the substrate 2
When the etching rate is different from 1, a step occurs in a step of forming the thin-film coil 7 described later.
Therefore, it is desirable that the exposed width at this time is smaller than the width at the innermost periphery of the thin film coil 7.

【0056】次に、図8に示すように、固化した低融点
ガラス30に対して砥石等を用いて研削加工を施すこと
により端子溝31を形成する。この端子溝31は、上述
した分離溝28の直上に位置するように形成し、その幅
及び深さを100μmとしてなる。そして、この端子溝
31内にCu等の良導体をメッキ法等により充填する。
その後、平坦化処理を行う。この端子溝31に充填され
たCu等の良導体は、上述した磁気ヘッド1における外
部接続用端子17となるものである。
Next, as shown in FIG. 8, a terminal groove 31 is formed by subjecting the solidified low-melting glass 30 to grinding using a grindstone or the like. The terminal groove 31 is formed so as to be located immediately above the above-described separation groove 28, and has a width and a depth of 100 μm. Then, a good conductor such as Cu is filled in the terminal groove 31 by a plating method or the like.
After that, a flattening process is performed. The good conductor such as Cu filled in the terminal groove 31 becomes the external connection terminal 17 in the magnetic head 1 described above.

【0057】次に、図9に示すように、低融点ガラス3
0に対してエッチング加工を施すことによりコイル形成
用凹部15を形成するとともに、このコイル形成用凹部
15内に薄膜コイル7を薄膜形成する。
Next, as shown in FIG.
The coil forming recesses 15 are formed by performing an etching process on 0, and a thin film coil 7 is formed in the coil forming recesses 15 in a thin film.

【0058】このコイル形成用凹部15は、後部突合せ
面12を略中心とする略矩形状として、後部突合せ面1
2及びコイル接続用端子16を除く部分に対してエッチ
ング加工を施すことにより形成する。また、このコイル
形成用凹部15は、その一端から端子溝31に達する溝
15aを有している。
The concave portion 15 for forming a coil is formed in a substantially rectangular shape having the rear abutting surface 12 substantially at the center thereof.
It is formed by performing an etching process on portions other than the terminal 2 and the coil connection terminal 16. The coil forming recess 15 has a groove 15a reaching the terminal groove 31 from one end thereof.

【0059】その後、コイル形成用凹部15内に薄膜コ
イル7を薄膜形成する。この薄膜コイル7は、一方端部
7aをコイル接続用端子16上に配し、後部突合せ面1
2を中心とした円を描くように、多数回巻回された形状
を有する。また、この薄膜コイル7は、コイル形成用凹
部15の一端に形成された溝15a内に引き出され、他
方端部7bを端子溝31に充填された良導体からなる外
部接続用端子17と電気的に接続する。
Thereafter, a thin film coil 7 is formed in the coil forming recess 15. The thin-film coil 7 has one end 7a disposed on the coil connection terminal 16 and the rear abutting surface 1.
It has a shape wound many times so as to draw a circle centered at 2. The thin-film coil 7 is drawn out into a groove 15 a formed at one end of the coil forming recess 15, and the other end 7 b is electrically connected to an external connection terminal 17 made of a good conductor filled in a terminal groove 31. Connecting.

【0060】この薄膜コイル7を形成する際には、先
ず、フォトレジストにより上述したようなコイル形状を
パターニングする。次に、コイル形成用凹部15にCu
等の良導体をメッキ等の手法によって、約3μm程度の
厚みとなるように薄膜形成する。そして、フォトレジス
トを除去することによって、パターニングされたコイル
形状とされる薄膜コイル7を形成することができる。な
お、この薄膜コイル7を形成するに際して、上述したメ
ッキ法だけでなく、スパッタリング法や蒸着法等を用い
ることができる。
When the thin film coil 7 is formed, first, the above-described coil shape is patterned with a photoresist. Next, Cu is formed in the coil forming recess 15.
And the like are formed into a thin film by a technique such as plating so as to have a thickness of about 3 μm. Then, by removing the photoresist, the thin film coil 7 having a patterned coil shape can be formed. In forming the thin-film coil 7, not only the plating method described above but also a sputtering method or a vapor deposition method can be used.

【0061】なお、本実施の形態では、磁気ヘッド1に
おける一対の磁気コア半体2,3のそれぞれに薄膜コイ
ル7を形成しているが、片側だけに薄膜コイル7を形成
するとしてもよい。
In this embodiment, the thin film coil 7 is formed on each of the pair of magnetic core halves 2 and 3 in the magnetic head 1. However, the thin film coil 7 may be formed only on one side.

【0062】次に、薄膜コイル7を外気との接触から保
護するための保護層(図示せず。)を形成する。この保
護層は、上述した薄膜コイル7を形成したコイル形成用
凹部15を埋め込むように形成される。なお、この保護
層は、酸素アッシング処理により除去されないような非
磁性絶縁材料から形成されることが好ましい。
Next, a protective layer (not shown) for protecting the thin-film coil 7 from contact with the outside air is formed. This protective layer is formed so as to fill the coil forming recess 15 in which the above-mentioned thin film coil 7 is formed. The protective layer is preferably formed of a non-magnetic insulating material that is not removed by the oxygen ashing.

【0063】具体的には、非磁性絶縁材料として、Al
23,Ta25,SiO2,ZrO2,TiO2等の酸化
物又はガラス等の無機物が挙げられる。ここでは、保護
膜としては、Al23をスパッタリングにより0.4μ
mの厚さで基板21全面に形成した。このとき、保護膜
は、基板21の一主面に露出した前部突合せ面11や後
部突合せ面12等も覆ってしまうが、後述する工程でこ
れらを覆う部分は除去される。なお、この保護膜は、い
わゆる、マスクスパッタ法やリフトオフ法を用いること
によって、所定の領域のみに形成することも可能であ
る。また、保護膜の形成法としては、スパッタリング法
の他に蒸着法や塗布型SiO2のスピンコーティング等
を挙げることができる。
Specifically, as a non-magnetic insulating material, Al
Examples include oxides such as 2 O 3 , Ta 2 O 5 , SiO 2 , ZrO 2 , and TiO 2 , and inorganic substances such as glass. Here, as the protective film, Al 2 O 3 was sputtered to a thickness of 0.4 μm.
m was formed over the entire surface of the substrate 21. At this time, the protective film also covers the front butting surface 11 and the rear butting surface 12 which are exposed on one main surface of the substrate 21, but the portions covering these are removed in a step described later. Note that this protective film can be formed only in a predetermined region by using a so-called mask sputtering method or a lift-off method. Examples of the method for forming the protective film include, besides the sputtering method, an evaporation method and spin coating of coating type SiO 2 .

【0064】次に、図10に示すように、磁気コア半体
2,3が平行に複数列形成された基板21を一方の磁気
コア半体2と他方の磁気コア半体3とがそれぞれ一列毎
となるように切断して磁気コア半体ブロック33を形成
する。
Next, as shown in FIG. 10, the substrate 21 in which the magnetic core halves 2 and 3 are formed in a plurality of rows in parallel is formed of one magnetic core half 2 and the other magnetic core half 3 in one row. Then, the magnetic core half block 33 is formed.

【0065】そして、磁気コア半体ブロック33は、そ
の一主面33aに対して研磨加工を施すことにより、こ
の一主面を鏡面化する。このとき、保護膜により覆われ
た前部突合せ面11や後部突合せ面12を外方へと露出
させる。
The magnetic core half block 33 is mirror-finished by polishing one main surface 33a. At this time, the front butting surface 11 and the rear butting surface 12 covered with the protective film are exposed to the outside.

【0066】次に、図11に示すように、一対の磁気コ
ア半体ブロック33を正確に位置決めして金属拡散接合
を行う。このとき、一対の磁気コア半体ブロック33
は、接合部にAuのパターニングを施し、位置決め用切
欠部21bの端面を合わせて前部突合せ面11の上端部
同士を対向させることによって、正確に位置決めする。
そして、突き合わされた一対の磁気コア半体ブロック3
3に対して所定の温度及び圧力を印加することにより、
金属拡散接合を行い磁気ヘッドブロック38を作製す
る。
Next, as shown in FIG. 11, the pair of magnetic core half blocks 33 is accurately positioned to perform metal diffusion bonding. At this time, the pair of magnetic core half blocks 33
The patterning of Au is performed on the bonding portion, and the upper ends of the front butting surfaces 11 are opposed to each other by aligning the end surfaces of the notches 21b for positioning, thereby accurately positioning.
Then, a pair of butted magnetic core half blocks 3
By applying a predetermined temperature and pressure to 3,
The magnetic head block 38 is manufactured by performing metal diffusion bonding.

【0067】このように、位置決め用切欠部21bの端
面を合わせて前部突合せ面10の上端部を正確に対向さ
せることにより、一対の磁気コア半体ブロック33にお
ける前部突合せ面11同士後部突合せ面12同士及びコ
イル接続用端子15同士等を正確に対向させることがで
きる。
As described above, the front butting surfaces 11 of the pair of magnetic core half-blocks 33 are rear butted by accurately aligning the end surfaces of the positioning notches 21b so that the upper ends of the front butting surfaces 10 face each other. The surfaces 12 and the coil connection terminals 15 can be accurately opposed to each other.

【0068】なお、本実施の形態においては、Auのパ
ターニングを施して金属拡散接合を行ったが、例えば、
接着剤や、水ガラス等を用いて一対の磁気コア半体ブロ
ック33を接合してもよい。
In this embodiment, the metal diffusion bonding is performed by patterning Au.
The pair of magnetic core half blocks 33 may be joined using an adhesive, water glass, or the like.

【0069】次に、図12に示すように、磁気ヘッドブ
ロック38を個々の磁気ヘッド1に分離する。このと
き、磁気ヘッドブロック38は、例えば、図12中B−
B線で示す部分で切断する。このとき、基板21上に形
成した傾斜面21dの角度と、磁気ヘッドブロック38
を切断する角度とがなす角度に応じて、磁気ヘッド1に
おける磁気記録媒体と磁気ギャップとのなす角、すなわ
ちアジマス角が決定される。
Next, as shown in FIG. 12, the magnetic head block 38 is separated into the individual magnetic heads 1. At this time, the magnetic head block 38 is, for example, B- in FIG.
Cut at the portion indicated by line B. At this time, the angle of the inclined surface 21d formed on the substrate 21 and the magnetic head block 38
The angle between the magnetic recording medium and the magnetic gap in the magnetic head 1, that is, the azimuth angle is determined according to the angle formed by the angle at which the laser beam is cut.

【0070】なお、本実施の形態では、金属磁性膜27
が磁気記録媒体の摺動方向と略平行となるように磁気ヘ
ッドブロック38を切断し、磁気ヘッド1におけるアジ
マス角が、基板21の傾斜面21dの角度と略同一とな
るようにした。
In the present embodiment, the metal magnetic film 27
The magnetic head block 38 is cut so that is substantially parallel to the sliding direction of the magnetic recording medium, so that the azimuth angle of the magnetic head 1 is substantially the same as the angle of the inclined surface 21 d of the substrate 21.

【0071】このとき、先ず、磁気ヘッドブロック38
は、位置決め用切欠部21bを基準として、媒体摺動面
9となる表面を露出するために、長手方向に切断加工す
る。そして、磁気ヘッドブロック38には、この露出し
た表面に対して、円筒形を呈するように円筒切削加工を
施すことで、この表面が媒体摺動面9となる。その後、
磁気ヘッドブロック38には、位置決め用切欠部21b
を基準として、当たり幅規制溝10を研削加工する。当
たり幅規制溝10は、磁気ヘッドブロック38から分離
される個々の磁気ヘッド1の媒体摺動面9の両側面に相
当する部位に形成される。
At this time, first, the magnetic head block 38
Is cut in the longitudinal direction in order to expose the surface serving as the medium sliding surface 9 with reference to the positioning notch 21b. Then, the magnetic head block 38 is subjected to cylindrical cutting on the exposed surface so as to have a cylindrical shape, and this surface becomes the medium sliding surface 9. afterwards,
The magnetic head block 38 has a positioning notch 21b.
The contact width regulating groove 10 is ground with reference to. The contact width regulating grooves 10 are formed at portions corresponding to both side surfaces of the medium sliding surface 9 of each magnetic head 1 separated from the magnetic head block 38.

【0072】磁気ヘッドブロック38において、媒体摺
動面9は、上述したように、位置決め用切欠部21bを
基準として加工されるために、所定の位置まで高精度に
切削加工される。このため、磁気ヘッド1におけるこの
対向面9からフロントギャップ頂部13aまでの深さで
あるデプスを小さく形成することができる。したがっ
て、磁気ヘッド1は、フロントギャップ13に生じる磁
束の密度が大きくなり、コア効率が向上したものとな
る。
In the magnetic head block 38, since the medium sliding surface 9 is processed with the positioning notch 21b as a reference as described above, it is cut to a predetermined position with high precision. For this reason, the depth which is the depth from the facing surface 9 to the front gap top 13a in the magnetic head 1 can be reduced. Therefore, in the magnetic head 1, the density of the magnetic flux generated in the front gap 13 is increased, and the core efficiency is improved.

【0073】また、磁気ヘッドブロック38において、
当たり幅規制溝10は、位置決め用切欠部21bを基準
として加工されるために、所定の深さまで高精度に研削
加工される。このため、磁気ヘッド1においては、当た
り幅規制溝10によって切り欠かれる磁気コア8の形状
を高精度に決定することができ、この磁気コア8のコア
効率を低下させることがない。
In the magnetic head block 38,
Since the contact width regulating groove 10 is processed based on the positioning notch 21b, it is ground with high precision to a predetermined depth. For this reason, in the magnetic head 1, the shape of the magnetic core 8 cut out by the contact width regulating groove 10 can be determined with high accuracy, and the core efficiency of the magnetic core 8 does not decrease.

【0074】以上のようにして、磁気ヘッド1が完成す
る。
As described above, the magnetic head 1 is completed.

【0075】つぎに、以下では、上述した磁気ヘッド1
に基づいて、非磁性基板4に相当するサンプル基板を実
際に作製し、摩耗特性及び加工性の評価試験を行った場
合について説明する。まず、以下のようにして、TiO
2の含有量が異なる複数のサンプル基板を作製した。
Next, the magnetic head 1 described above will be described.
The case where a sample substrate corresponding to the non-magnetic substrate 4 is actually manufactured based on the above and an evaluation test of wear characteristics and workability is performed will be described. First, as shown below,
A plurality of sample substrates having different contents of 2 were produced.

【0076】すなわち、最終的にTiO2及びCaOが
所定の組成割合となるように、市販のTiO2粉末及び
CaCo3粉末を秤量し、純水を加えてボールミル中で
湿式混合を24時間行った。次に、この混合物を100
℃にて20時間以上乾燥し、石川式ライカイ機で粉砕し
た後、1100℃で5時間仮焼した。次に、この仮焼焼
結体を、再び石川式ライカイ機で粉砕した。
That is, commercially available TiO 2 powder and CaCo 3 powder were weighed so that the final composition ratio of TiO 2 and CaO was determined, and pure water was added thereto and wet-mixed in a ball mill for 24 hours. . Next, the mixture was added to 100
After drying at 20 ° C. for 20 hours or more, pulverizing with an Ishikawa-type raikai machine, and calcining at 1100 ° C. for 5 hours. Next, the calcined sintered body was pulverized again by the Ishikawa-type raikai machine.

【0077】次に、粉砕した粉末に再び純水を加え、ボ
ールミル中で湿式混合を24時間行った。次に、この混
合物を100℃にて20時間以上乾燥し、石川式ライカ
イ機で粉砕した後、ポリビニルアルコール(PVA)の
10重量%水溶液を全粉末重量の10重量%加えて造粒
した。
Next, pure water was again added to the pulverized powder, and wet mixing was performed in a ball mill for 24 hours. Next, this mixture was dried at 100 ° C. for 20 hours or more, pulverized with an Ishikawa-type raikai machine, and then granulated by adding a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA) to 10% by weight of the total powder weight.

【0078】次に、80MPaの圧力を加えて平板状に
プレス成形し、酸素中で1250℃から1400℃の温
度範囲で焼成した。次に、Arガスによって100MP
aで加圧しながら、1150℃から1350℃の温度範
囲でHIP(Hot IsotropicPress)処理を施し、TiO
2及びCaOを主成分とし、TiO2の含有量が異なる複
数のサンプル基板を作製した。各サンプル基板の組成割
合を、以下の表1に示す。
Next, a pressure of 80 MPa was applied to press-mold into a flat plate, and calcined in oxygen at a temperature of 1250 ° C. to 1400 ° C. Next, 100MPa by Ar gas
a) is subjected to HIP (Hot Isotropic Press) treatment in a temperature range of 1150 ° C. to 1350 ° C.
A plurality of sample substrates containing 2 and CaO as main components and different TiO 2 contents were produced. Table 1 below shows the composition ratio of each sample substrate.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】なお、表1には、従来の磁気ヘッドにおい
て非磁性基板として用いられている比較用基板をあわせ
て示している。すなわち、第1の比較用基板は、MnO
−NiO系材料によって形成し、第2の比較用基板は、
CaO−TiO2−NiO系材料によって形成し、第3
の比較用基板は、Mn−Znフェライト単結晶材料によ
って形成した。
Table 1 also shows a comparison substrate used as a non-magnetic substrate in a conventional magnetic head. That is, the first comparative substrate is MnO
-Made of NiO-based material, the second comparative substrate is
CaO-TiO 2 was formed by -NiO material, third
The comparative substrate was made of a Mn-Zn ferrite single crystal material.

【0081】摩耗特性の評価試験 この評価試験では、上述したように作製した複数のサン
プル基板と、第1乃至第3の比較用基板とを、非磁性基
板4として用いて、それぞれ上述した磁気ヘッド1と同
様な磁気ヘッドを作製した。各磁気ヘッドの形状は、幅
が1.5mm、高さが2mm、厚さが0.2mmとし、
磁気記録媒体が摺動する媒体摺動面9での当たり幅が8
0μmとなる形状とした。また、トラック幅は、12.
3μmとした。
Evaluation Test of Wear Characteristics In this evaluation test, a plurality of sample substrates manufactured as described above and first to third comparative substrates were used as the non-magnetic substrate 4 and the above-described magnetic heads were used. A magnetic head similar to No. 1 was produced. The shape of each magnetic head is 1.5 mm in width, 2 mm in height, 0.2 mm in thickness,
The contact width on the medium sliding surface 9 on which the magnetic recording medium slides is 8
The shape was set to be 0 μm. The track width is 12.
It was 3 μm.

【0082】これら各磁気ヘッドを、ソニー株式会社製
のデジタルビデオレコーダ(DCR−PC7)に搭載
し、ソニー株式会社製のデジタルビデオテープ(DVM
60N2)を、25℃、50%RHの環境下で500時
間摺動させた。このとき、デジタルビデオテープは、2
4時間毎に交換した。そして、ドラムからの磁気ヘッド
の突き出し量の変化を測定して摩耗量とした。なお、摩
耗量が少ないほど、耐摩耗性が良好である。なお、ドラ
ムからの磁気ヘッドの突き出し量の初期設定値は、30
μmとした。
Each of these magnetic heads is mounted on a digital video recorder (DCR-PC7) manufactured by Sony Corporation, and a digital video tape (DVM-DVM) manufactured by Sony Corporation is used.
60N2) was slid for 500 hours in an environment of 25 ° C. and 50% RH. At this time, the digital video tape is 2
Replaced every 4 hours. Then, the change in the amount of protrusion of the magnetic head from the drum was measured to determine the amount of wear. The smaller the amount of wear, the better the wear resistance. The initial setting of the amount of protrusion of the magnetic head from the drum is 30
μm.

【0083】加工性の評価試験 この評価試験では、上述したように作製した複数のサン
プル基板と、第1乃至第3の比較用基板とに対して、通
常用いられているスライシングマシンを使用して、回転
砥石を5パス入れた。そして、このときの各サンプル基
板及び比較用基板に対して厚さ方向に加わる加工抵抗を
測定し、5パスについて平均化した。また、被加工材と
なる各サンプル基板及び比較用基板の寸法は、それぞ
れ、縦横30mm、厚さ1mmとした。
Evaluation Test for Workability In this evaluation test, a plurality of sample substrates manufactured as described above and the first to third comparative substrates were tested using a slicing machine which is generally used. And 5 passes of the rotating whetstone. Then, the processing resistance applied to each sample substrate and the comparative substrate in the thickness direction at this time was measured and averaged for five passes. The dimensions of each sample substrate and the comparison substrate to be processed were 30 mm in length and width and 1 mm in thickness, respectively.

【0084】また、このときの加工条件としては、使用
した回転砥石がSD3/8(R200)、この回転砥石
の回転数を5000rpm、回転砥石の送り速度を30
mm/min、切り込み深さを0.1mmとした。
The processing conditions at this time were as follows: the rotating grindstone used was SD3 / 8 (R200), the rotational speed of the rotating grindstone was 5000 rpm, and the feed speed of the rotating grindstone was 30.
mm / min, and the cut depth was 0.1 mm.

【0085】以上のようにして、各サンプル基板及び比
較用基板に対して評価試験を行った結果をまとめて、以
下の表2に示す。
The results of evaluation tests performed on each sample substrate and comparative substrate as described above are summarized in Table 2 below.

【0086】[0086]

【表2】 [Table 2]

【0087】なお、表2における「ポアの状態」として
は、各サンプル基板の気孔率が0.1%以下である場合
に○印で示し、0.1%を超える場合に×印で示した。
このことは、表2において「ポアの状態」が×印で示さ
れたサンプル基板が、HIP処理を施した後も、緻密化
されない気孔が多いことを示し、磁気ヘッド1の非磁性
基板4として用いるには不適当であることを示してい
る。すなわち、TiO2の含有量が50mol%未満で
ある第1及び第2のサンプル基板、及びTiO2の含有
量が74mol%を超える第11乃至第13のサンプル
基板は、HIP処理を施しても緻密化されない気孔が多
く、記録再生時に磁気記録媒体を傷つけてしまうため、
磁気ヘッドのガード材として用いるには不適当である。
The “state of pores” in Table 2 is indicated by a circle when the porosity of each sample substrate is 0.1% or less, and is indicated by a cross when the porosity exceeds 0.1%. .
This indicates that the sample substrate indicated by “x” in “pore state” in Table 2 has many pores that are not densified even after the HIP treatment, and the non-magnetic substrate 4 of the magnetic head 1 This indicates that it is not suitable for use. That is, the first and second sample substrates having a TiO 2 content of less than 50 mol%, and the eleventh to thirteenth sample substrates having a TiO 2 content of more than 74 mol% have a high density even after the HIP treatment. There are many pores that are not converted, which damages the magnetic recording medium during recording and reproduction.
It is not suitable for use as a guard material for a magnetic head.

【0088】また、表2において摩耗量をみると明らか
であるように、TiO2の含有量が55mol%未満で
ある第3乃至第5のサンプル基板は、CaO−TiO2
−NiO系材料によって形成された第2の比較用基板と
比較して3倍以上摩耗してしまう。したがって、これら
のサンプル基板をガード材として用いて作製された磁気
ヘッドは、寿命が極端に短くなってしまう。したがっ
て、第3乃至第5のサンプル基板は、磁気ヘッドのガー
ド材として用いるには不適当である。
As is clear from the wear amount in Table 2, the third to fifth sample substrates having a TiO 2 content of less than 55 mol% were CaO-TiO 2
-Wear is three times or more as compared with the second comparative substrate formed of the NiO-based material. Therefore, the life of the magnetic head manufactured using these sample substrates as a guard material is extremely short. Therefore, the third to fifth sample substrates are not suitable for use as a guard material for a magnetic head.

【0089】また、表2において加工抵抗をみると明ら
かであるように、TiO2の含有量が55mol%以
上、且つ74mol%以下である第6乃至第10のサン
プル基板は、第2の比較用基板と比較して1/2程度で
あり、加工性に優れるMn−Znフェライト系単結晶材
料によって形成された第3の比較用基板と比較して、ほ
ぼ同程度の加工抵抗を示している。
As is clear from the working resistance in Table 2, the sixth to tenth sample substrates having a TiO 2 content of 55 mol% or more and 74 mol% or less were the second comparative samples. It is about 1/2 as compared with the substrate, and shows almost the same processing resistance as the third comparative substrate formed of a Mn-Zn ferrite single crystal material having excellent workability.

【0090】以上の結果から、磁気コアを構成する磁性
層のガード材としての非磁性基板を、TiO2及びCa
Oを主成分とし、TiO2の含有量が55mol%以
上、且つ74mol%以下である非磁性材料によって形
成することにより、金属磁性薄膜と非磁性基板との摩耗
量のバランスに優れ、偏摩耗が低減されるとともに、長
寿命で加工性に優れた磁気ヘッドを実現できることがわ
かる。
From the above results, the non-magnetic substrate as a guard material of the magnetic layer constituting the magnetic core was made of TiO 2 and Ca
By using a non-magnetic material containing O as a main component and having a TiO 2 content of 55 mol% or more and 74 mol% or less, the balance between the wear amount of the metal magnetic thin film and the non-magnetic substrate is excellent, and uneven wear is reduced. It can be seen that a magnetic head which is reduced and has a long life and excellent workability can be realized.

【0091】また、表2において摩耗量をみると明らか
であるように、TiO2の含有量が60mol%以上、
且つ74mol%以下である第7乃至第10のサンプル
基板によって作製した磁気ヘッドは、CaO−TiO2
−NiO系材料によって形成された第2の比較用基板と
比較して、摩耗量が低減されている。したがって、この
ような組成の非磁性基板をガード材として用いることに
より、従来の磁気ヘッドよりも一層長寿命である磁気ヘ
ッドを実現することができる。
Further, as is clear from the wear amount in Table 2, the content of TiO 2 is 60 mol% or more,
The magnetic head manufactured using the seventh to tenth sample substrates having a content of 74 mol% or less is CaO-TiO 2.
-The wear amount is reduced as compared with the second comparative substrate formed of the NiO-based material. Therefore, by using a nonmagnetic substrate having such a composition as a guard material, it is possible to realize a magnetic head having a longer life than a conventional magnetic head.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ヘッドは、非磁性基板に対して砥石による研削加工を施
す際の加工抵抗が小さい。このため、良好な加工性を確
保することができる。また、本発明に係る磁気ヘッド
は、磁気コアを構成する金属磁性薄膜と、ガード材とし
ての非磁性基板との摩耗量のバランスに優れる。このた
め、金属磁性薄膜の偏摩耗を抑制することができ、長寿
命であるとともに、記録再生動作を高周波帯域でも安定
して行うことができる。したがって、本発明によれば、
高記録密度化に対応して微細な磁気信号を正確に、且つ
安定して記録再生することができるとともに、長寿命
で、生産性の高い磁気ヘッドを実現することができる。
As described above, the magnetic head according to the present invention has a low processing resistance when a non-magnetic substrate is subjected to grinding with a grindstone. Therefore, good workability can be ensured. Further, the magnetic head according to the present invention is excellent in the balance of the wear amount between the metal magnetic thin film forming the magnetic core and the non-magnetic substrate as the guard material. For this reason, uneven wear of the metal magnetic thin film can be suppressed, the life is long, and the recording / reproducing operation can be stably performed even in a high frequency band. Thus, according to the present invention,
It is possible to accurately and stably record and reproduce fine magnetic signals corresponding to the increase in recording density, and to realize a magnetic head having a long life and high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気ヘッドの一構成例として示す
磁気ヘッドの分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a magnetic head shown as one configuration example of a magnetic head according to the present invention.

【図2】同磁気ヘッドの媒体摺動面を拡大して示す要部
斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part showing a medium sliding surface of the magnetic head.

【図3】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、基板を示す斜視図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a substrate.

【図4】同方法を説明するための図であり、第1の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 4 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which first groove processing has been performed.

【図5】同方法を説明するための図であり、第1の金属
磁性薄膜を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 5 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a first metal magnetic thin film is formed.

【図6】同方法を説明するための図であり、第2の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 6 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a second groove processing has been performed.

【図7】同方法を説明するための図であり、各溝に低融
点ガラスを充填した状態の基板を示す斜視図である。
FIG. 7 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing the substrate in a state where each groove is filled with low-melting glass.

【図8】同方法を説明するための図であり、低融点ガラ
スに端子溝を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 8 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate in which terminal grooves are formed in low-melting glass.

【図9】同方法を説明するための図であり、コイル形成
用凹部を形成した基板を示す要部斜視図である。
FIG. 9 is a view for explaining the same method, and is a perspective view of an essential part showing a substrate on which a concave portion for forming a coil is formed.

【図10】同方法を説明するための図であり、磁気コア
半体ブロックを示す斜視図である。
FIG. 10 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic core half block.

【図11】同方法を説明するための図であり、一対の磁
気コア半体ブロックが突き合わされる状態を示す斜視図
である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a state where a pair of magnetic core half blocks are butted.

【図12】同方法を説明するための図であり、磁気ヘッ
ドブロックを示す斜視図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic head block.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド、4 非磁性基板、4a 傾斜面、5
金属磁性薄膜、5a凹部、6 低融点ガラス、8 磁気
コア、10 当たり幅規制溝、11 前部突合せ面、1
3 フロントギャップ、13a フロントギャップ頂
部、14 バックギャップ、G ギャップ材
1 magnetic head, 4 non-magnetic substrate, 4a inclined surface, 5
Metal magnetic thin film, 5a concave portion, 6 low melting point glass, 8 magnetic core, 10 width control groove, 11 front butting surface, 1
3 Front gap, 13a Front gap top, 14 Back gap, G gap material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小形 誠一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D033 AA02 BA07 BA22 BA35 BA61 BB01 DA31 5D093 AA01 AA03 AA04 AA05 AC01 AC04 AD05 EA02 FA27 HA01 JB03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Seiichi Ogata 6-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F-term (reference) 5D033 AA02 BA07 BA22 BA35 BA61 BB01 DA31 5D093 AA01 AA03 AA04 AA05 AC01 AC04 AD05 EA02 FA27 HA01 JB03

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板上に金属磁性薄膜が斜めに成
膜されるとともに、薄膜コイルが形成された凹部を有
し、非磁性材料により突合せ面が平坦化されてなる一対
の磁気コア半体を備え、これら磁気コア半体を上記金属
磁性薄膜の端面同士が非磁性材料を介して対向するよう
に突き合わせることにより磁気ギャップが形成されてな
る磁気ヘッドにおいて、 上記非磁性基板は、TiO2及びCaOを主成分とし、
TiO2の含有量が55mol%以上、且つ74mol
%以下である非磁性材料によって形成されていることを
特徴とする磁気ヘッド。
1. A pair of magnetic core halves having a metal magnetic thin film formed obliquely on a non-magnetic substrate, having a concave portion in which a thin-film coil is formed, and having a flat butted surface made of a non-magnetic material. A magnetic gap formed by abutting the magnetic core halves such that the end faces of the metal magnetic thin film face each other via a nonmagnetic material, wherein the nonmagnetic substrate is made of TiO. 2 and CaO as main components,
The content of TiO 2 is 55 mol% or more, and 74 mol
% Of a non-magnetic material.
【請求項2】 上記非磁性基板は、上記TiO2の含有
量が60mol%以上、且つ74mol%以下とされて
いることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the nonmagnetic substrate has a TiO 2 content of 60 mol% or more and 74 mol% or less.
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