JP2001023190A - 露光装置、露光方法、光ディスク装置、及び記録及び／又は再生方法 - Google Patents
露光装置、露光方法、光ディスク装置、及び記録及び／又は再生方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ニアフィールド領域において高精度でギャッ
プ長の制御をする。 【解決手段】 露光装置は、露光用レーザ光を出射する
露光用光源１１と、露光用レーザ光と異なる波長とされ
たギャップ長制御用レーザ光を出射するギャップ長制御
用光源１６と、ギャップ長制御用レーザ光を、集光レン
ズ１４及びＳＩＬ１５に入射させるための集光レンズ１
７、コリメータレンズ１８及びダイクロイックミラー１
２と、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射されたギ
ャップ長制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出する受
光素子２２とを備える。そして、露光装置は、受光素子
２２の検出結果に基づいて、ＳＩＬ１５と被照射体１０
０との間の間隔を制御する。
プ長の制御をする。 【解決手段】 露光装置は、露光用レーザ光を出射する
露光用光源１１と、露光用レーザ光と異なる波長とされ
たギャップ長制御用レーザ光を出射するギャップ長制御
用光源１６と、ギャップ長制御用レーザ光を、集光レン
ズ１４及びＳＩＬ１５に入射させるための集光レンズ１
７、コリメータレンズ１８及びダイクロイックミラー１
２と、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射されたギ
ャップ長制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出する受
光素子２２とを備える。そして、露光装置は、受光素子
２２の検出結果に基づいて、ＳＩＬ１５と被照射体１０
０との間の間隔を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被露光体を露光す
る露光装置及び露光方法、並びに信号記録媒体に対する
情報信号の記録及び／又は再生を行う光ディスク装置及
び記録及び／又は再生方法に関する。
る露光装置及び露光方法、並びに信号記録媒体に対する
情報信号の記録及び／又は再生を行う光ディスク装置及
び記録及び／又は再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクに対する情報信号の記録や再
生は、レーザ光を所定のスポット径にしぼり込んで被照
射体とされる光学記録媒体の信号記録面に照射すること
により行っている。
生は、レーザ光を所定のスポット径にしぼり込んで被照
射体とされる光学記録媒体の信号記録面に照射すること
により行っている。
【０００３】信号記録面に一定のスポット径のレーザ光
を照射するためには、対物レンズの焦点深度の範囲内に
光ディスクの信号記録面が位置されるように、対物レン
ズと光ディスクとの間の距離を調整する必要がある。
を照射するためには、対物レンズの焦点深度の範囲内に
光ディスクの信号記録面が位置されるように、対物レン
ズと光ディスクとの間の距離を調整する必要がある。
【０００４】また、光ディスク製造のためのスタンパー
の作成に使用される光ディスクの原盤の露光において
も、同様である。すなわち、レーザ光を所定のスポット
径にしぼり込み、被照射体とされる光ディスクの原盤の
フォトレジストを露光する必要がある。光ディスクの原
盤のフォトレジストの露光は、具体的には、図５に示す
ような工程によりなされる。
の作成に使用される光ディスクの原盤の露光において
も、同様である。すなわち、レーザ光を所定のスポット
径にしぼり込み、被照射体とされる光ディスクの原盤の
フォトレジストを露光する必要がある。光ディスクの原
盤のフォトレジストの露光は、具体的には、図５に示す
ような工程によりなされる。
【０００５】先ず、図５中（Ａ）に示すように、表面が
平滑鏡面に仕上げられた光ディスクの原盤の基板とされ
る円盤状の基板１０１が用意される。基板１０１は例え
ばガラス基板からなる。
平滑鏡面に仕上げられた光ディスクの原盤の基板とされ
る円盤状の基板１０１が用意される。基板１０１は例え
ばガラス基板からなる。
【０００６】そして、図５中（Ｂ）に示すように、基板
１０１の平滑鏡面上にフォトレジスト層１０２が所定の
厚さになるように塗布される。
１０１の平滑鏡面上にフォトレジスト層１０２が所定の
厚さになるように塗布される。
【０００７】このように基板１０１上に形成されたフォ
トレジスト層１０２に対して、図５中（Ｃ）に示すよう
に、基板１０１を回転させながらレーザ光を対物レンズ
１１２によってフォトレジスト層１０２上に照射する。
このとき、フォトレジスト層１０２に所定のスポット径
とされた光スポットが形成されるように、対物レンズ１
１２が光軸方向に駆動されて、フォーカシングが行われ
る。
トレジスト層１０２に対して、図５中（Ｃ）に示すよう
に、基板１０１を回転させながらレーザ光を対物レンズ
１１２によってフォトレジスト層１０２上に照射する。
このとき、フォトレジスト層１０２に所定のスポット径
とされた光スポットが形成されるように、対物レンズ１
１２が光軸方向に駆動されて、フォーカシングが行われ
る。
【０００８】このレーザ光の照射により、スパイラル線
に沿って微細の潜像、すなわちグルーブ又はピットの潜
像１０２ａが形成される。
に沿って微細の潜像、すなわちグルーブ又はピットの潜
像１０２ａが形成される。
【０００９】このようにパターン露光されたフォトレジ
スト層１０２を現像することにより、図６に示すよう
に、基板１０１上にフォトレジスト層１０２の一部が露
光パターンに応じて除去され、微細凹凸が形成された光
ディスクの原盤が得られる。図６中（Ａ）に示す微細凹
凸１０２ｂは、ランド及びグルーブを構成し、図６中
（Ｂ）に示す微細凹凸１０２ｃは、ピットを構成してい
る。
スト層１０２を現像することにより、図６に示すよう
に、基板１０１上にフォトレジスト層１０２の一部が露
光パターンに応じて除去され、微細凹凸が形成された光
ディスクの原盤が得られる。図６中（Ａ）に示す微細凹
凸１０２ｂは、ランド及びグルーブを構成し、図６中
（Ｂ）に示す微細凹凸１０２ｃは、ピットを構成してい
る。
【００１０】このように、露光装置により、露光されて
形成された光ディスクの原盤により、光ディスクを製造
するためのスタンパーが作成される。
形成された光ディスクの原盤により、光ディスクを製造
するためのスタンパーが作成される。
【００１１】以上のように、光ディスクの原盤の露光装
置や光ディスクに対して情報信号の記録や再生を行う光
ディスク装置において、光ディスクの原盤や光ディスク
等の被照射体に一定のスポット径の光スポットを照射す
るための技術が必要とされ、従来より、例えば、非点収
差法、離軸法、ナイフエッジ法等が採用されて、対物レ
ンズと被照射体との間の距離（ギャップ長）が制御され
ていた。しかし、これらの方法は、いずれも光ディスク
の信号記録面からの反射光を利用したものである。
置や光ディスクに対して情報信号の記録や再生を行う光
ディスク装置において、光ディスクの原盤や光ディスク
等の被照射体に一定のスポット径の光スポットを照射す
るための技術が必要とされ、従来より、例えば、非点収
差法、離軸法、ナイフエッジ法等が採用されて、対物レ
ンズと被照射体との間の距離（ギャップ長）が制御され
ていた。しかし、これらの方法は、いずれも光ディスク
の信号記録面からの反射光を利用したものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、光デ
ィスクの高密度化のニーズに対応してスポット径をより
微細化させるために、集光レンズと光ディスクとの間
に、球形レンズの一部を切り取った形状をした高屈折率
のレンズであるソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ，
Solid Immersion Lens）を配置させる技術がある。ここ
で、集光レンズとＳＩＬとは、いわゆる２群対物レンズ
を構成している。このＳＩＬの配置により、集光レンズ
自体の開口数よりも大きな開口数（例えば１よりも大き
な開口数）を得ることが実現されている。例えば、ＳＩ
Ｌは、光ディスクに対向される主面（対向面）と光ディ
スクとの間の距離が１００ｎｍ程度のいわゆるニアフィ
ールド領域（近接場領域）とされるように光ディスク上
に配置されている。
ィスクの高密度化のニーズに対応してスポット径をより
微細化させるために、集光レンズと光ディスクとの間
に、球形レンズの一部を切り取った形状をした高屈折率
のレンズであるソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ，
Solid Immersion Lens）を配置させる技術がある。ここ
で、集光レンズとＳＩＬとは、いわゆる２群対物レンズ
を構成している。このＳＩＬの配置により、集光レンズ
自体の開口数よりも大きな開口数（例えば１よりも大き
な開口数）を得ることが実現されている。例えば、ＳＩ
Ｌは、光ディスクに対向される主面（対向面）と光ディ
スクとの間の距離が１００ｎｍ程度のいわゆるニアフィ
ールド領域（近接場領域）とされるように光ディスク上
に配置されている。
【００１３】開口数が１よりも大きくなる場合におい
て、ＳＩＬと被照射体との間の距離がニアフィールド領
域外とされると、光ディスクに出射されるレーザ光の強
度のうち、開口数を１より大きくする成分が著しく低く
なることから、この距離がニアフィールド領域の範囲内
において一定になされるようにギャップ長制御を行うこ
とが必要とされる。
て、ＳＩＬと被照射体との間の距離がニアフィールド領
域外とされると、光ディスクに出射されるレーザ光の強
度のうち、開口数を１より大きくする成分が著しく低く
なることから、この距離がニアフィールド領域の範囲内
において一定になされるようにギャップ長制御を行うこ
とが必要とされる。
【００１４】ニアフィールドのような非常に狭い範囲で
は、ＳＩＬと被照射体との間の距離が変化しても、光デ
ィスクからの反射光の変化は極めて僅かなので、光ディ
スクからの反射光の変化に基づいてＳＩＬと被照射体と
の間の距離を精度よく検知することは困難である。その
ため、光ディスクの反射光に基づいて行うような従来の
ギャップ長制御では、ＳＩＬと被照射体との間の距離を
高精度で制御することは困難である。
は、ＳＩＬと被照射体との間の距離が変化しても、光デ
ィスクからの反射光の変化は極めて僅かなので、光ディ
スクからの反射光の変化に基づいてＳＩＬと被照射体と
の間の距離を精度よく検知することは困難である。その
ため、光ディスクの反射光に基づいて行うような従来の
ギャップ長制御では、ＳＩＬと被照射体との間の距離を
高精度で制御することは困難である。
【００１５】そこで、本発明は、上述した実情に鑑みて
なされたものであり、ニアフィールド領域において高精
度でギャップ長の制御をすることができる露光装置、露
光方法、記録及び／又は再生装置、及び記録及び／又は
再生方法に関する。
なされたものであり、ニアフィールド領域において高精
度でギャップ長の制御をすることができる露光装置、露
光方法、記録及び／又は再生装置、及び記録及び／又は
再生方法に関する。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置
は、上述の課題を解決するために、露光用レーザ光と異
なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射する間隔制
御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レンズに入射
させる入射手段と、収束レンズの被露光体に対向される
対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光
の光強度を検出する光強度検出手段と、光強度検出手段
の検出結果に基づいて、収束レンズと上記被露光体との
間の間隔を制御する間隔制御手段とを備える。
は、上述の課題を解決するために、露光用レーザ光と異
なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射する間隔制
御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レンズに入射
させる入射手段と、収束レンズの被露光体に対向される
対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光
の光強度を検出する光強度検出手段と、光強度検出手段
の検出結果に基づいて、収束レンズと上記被露光体との
間の間隔を制御する間隔制御手段とを備える。
【００１７】このような構成を有する露光装置は、入射
手段により、露光用レーザ光と異なる波長とされた間隔
制御用レーザ光を、収束レンズに入射させ、光強度検出
手段により、収束レンズの被露光体に対向される対向面
において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強
度を検出する。そして、露光装置は、間隔制御手段によ
り、光強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズ
と被露光体との間の間隔を制御する。
手段により、露光用レーザ光と異なる波長とされた間隔
制御用レーザ光を、収束レンズに入射させ、光強度検出
手段により、収束レンズの被露光体に対向される対向面
において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強
度を検出する。そして、露光装置は、間隔制御手段によ
り、光強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズ
と被露光体との間の間隔を制御する。
【００１８】これにより、露光装置は、収束レンズの対
向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度に基づいて、当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御する。
向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度に基づいて、当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御する。
【００１９】また、本発明に係る露光方法は、上述の課
題を解決するために、露光用レーザ光と異なる波長とさ
れた間隔制御用レーザ光を、露光用レーザ光が入射され
ている収束レンズに入射させ、収束レンズの被露光体に
対向される対向面において反射された上記間隔制御用レ
ーザ光の戻り光の光強度を検出し、戻り光の光強度の検
出結果に基づいて、収束レンズと被露光体との間の間隔
を制御する。
題を解決するために、露光用レーザ光と異なる波長とさ
れた間隔制御用レーザ光を、露光用レーザ光が入射され
ている収束レンズに入射させ、収束レンズの被露光体に
対向される対向面において反射された上記間隔制御用レ
ーザ光の戻り光の光強度を検出し、戻り光の光強度の検
出結果に基づいて、収束レンズと被露光体との間の間隔
を制御する。
【００２０】このような露光方法により、収束レンズの
対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光
の光強度に基づいて当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御する。
対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光
の光強度に基づいて当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御する。
【００２１】また、本発明に係る光ディスク装置は、上
述の課題を解決するために、記録及び／又は再生用レー
ザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射す
る間隔制御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レン
ズに入射させる入射手段と、収束レンズの信号記録媒体
に対向される対向面において反射された間隔制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を検出する光強度検出手段と、光
強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズと信号
記録媒体との間の間隔を制御する間隔制御手段とを備え
る。
述の課題を解決するために、記録及び／又は再生用レー
ザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射す
る間隔制御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レン
ズに入射させる入射手段と、収束レンズの信号記録媒体
に対向される対向面において反射された間隔制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を検出する光強度検出手段と、光
強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズと信号
記録媒体との間の間隔を制御する間隔制御手段とを備え
る。
【００２２】このような構成を有する光ディスク装置
は、入射手段により、記録及び／又は再生用レーザ光と
異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を、収束レンズ
に入射させ、光強度検出手段により、収束レンズの信号
記録媒体に対向される対向面において反射された間隔制
御用レーザ光の戻り光の光強度を検出する。そして、光
ディスク装置は、間隔制御手段により、光強度検出手段
の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記録媒体との
間の間隔を制御する。
は、入射手段により、記録及び／又は再生用レーザ光と
異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を、収束レンズ
に入射させ、光強度検出手段により、収束レンズの信号
記録媒体に対向される対向面において反射された間隔制
御用レーザ光の戻り光の光強度を検出する。そして、光
ディスク装置は、間隔制御手段により、光強度検出手段
の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記録媒体との
間の間隔を制御する。
【００２３】これにより、光ディスク装置は、収束レン
ズの対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻
り光の光強度に基づいて、当該信号記録媒体に対して露
光用レーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号
記録媒体との間の間隔を制御する。
ズの対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻
り光の光強度に基づいて、当該信号記録媒体に対して露
光用レーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号
記録媒体との間の間隔を制御する。
【００２４】また、本発明に係る記録及び／又は再生方
法は、上述の課題を解決するために、記録及び／又は再
生用レーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光
を、記録及び／又は再生用レーザ光が入射されている収
束レンズに入射させ、収束レンズの信号記録媒体に対向
される対向面において反射された間隔制御用レーザ光の
戻り光の光強度を検出し、戻り光の光強度の検出結果に
基づいて、収束レンズと信号記録媒体との間の間隔を制
御する。
法は、上述の課題を解決するために、記録及び／又は再
生用レーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光
を、記録及び／又は再生用レーザ光が入射されている収
束レンズに入射させ、収束レンズの信号記録媒体に対向
される対向面において反射された間隔制御用レーザ光の
戻り光の光強度を検出し、戻り光の光強度の検出結果に
基づいて、収束レンズと信号記録媒体との間の間隔を制
御する。
【００２５】このような記録及び／又は再生方法によ
り、収束レンズの対向面において反射された間隔制御用
レーザ光の戻り光の光強度に基づいて当該信号記録媒体
に対して露光用レーザ光を集光している当該収束レンズ
と当該信号記録媒体との間の間隔を制御する。
り、収束レンズの対向面において反射された間隔制御用
レーザ光の戻り光の光強度に基づいて当該信号記録媒体
に対して露光用レーザ光を集光している当該収束レンズ
と当該信号記録媒体との間の間隔を制御する。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。この実施の形態は、図
１に示すように、露光用光源１１、ダイクロイックミラ
ー１２、変位手段１３、集光レンズ１４、ＳＩＬ（ソリ
ッドイマージョンレンズ、Solid Immersion Lens）１
５、ギャップ長制御用光源１６、ビームエキスパンダ１
７、偏向ビームスプリッタ１９、１／４波長板２０、集
光レンズ２１、及び受光素子２２を備える光学ヘッド装
置１０を備える露光装置である。
て図面を用いて詳しく説明する。この実施の形態は、図
１に示すように、露光用光源１１、ダイクロイックミラ
ー１２、変位手段１３、集光レンズ１４、ＳＩＬ（ソリ
ッドイマージョンレンズ、Solid Immersion Lens）１
５、ギャップ長制御用光源１６、ビームエキスパンダ１
７、偏向ビームスプリッタ１９、１／４波長板２０、集
光レンズ２１、及び受光素子２２を備える光学ヘッド装
置１０を備える露光装置である。
【００２７】この露光装置において、集光レンズ１４と
ＳＩＬ１５とはいわゆる２群対物レンズを構成してい
る。また、この露光装置において、露光用光源１１は、
露光用レーザ光を出射する光源であり、ギャップ長制御
用光源１６は、露光用レーザ光と異なる波長とされた間
隔制御用レーザ光であるギャップ長制御用レーザ光を出
射する間隔制御用光源であり、集光レンズ１７、コリメ
ータレンズ１８及びダイクロイックミラー１２は、ギャ
ップ長制御用レーザ光を、収束レンズである集光レンズ
１４及びＳＩＬ１５に入射させる入射手段であり、受光
素子２２は、収束レンズを構成する集光レンズ１４及び
ＳＩＬ１５のうちのＳＩＬ１５の被照射体１００に対向
される対向面において反射されたギャップ長制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を検出する光強度検出手段であ
る。露光装置は、受光素子２２の検出結果に基づいて、
ＳＩＬ１５と被照射体１００との間の間隔を制御する間
隔制御機能を有する図示しない制御手段を備えている。
ＳＩＬ１５とはいわゆる２群対物レンズを構成してい
る。また、この露光装置において、露光用光源１１は、
露光用レーザ光を出射する光源であり、ギャップ長制御
用光源１６は、露光用レーザ光と異なる波長とされた間
隔制御用レーザ光であるギャップ長制御用レーザ光を出
射する間隔制御用光源であり、集光レンズ１７、コリメ
ータレンズ１８及びダイクロイックミラー１２は、ギャ
ップ長制御用レーザ光を、収束レンズである集光レンズ
１４及びＳＩＬ１５に入射させる入射手段であり、受光
素子２２は、収束レンズを構成する集光レンズ１４及び
ＳＩＬ１５のうちのＳＩＬ１５の被照射体１００に対向
される対向面において反射されたギャップ長制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を検出する光強度検出手段であ
る。露光装置は、受光素子２２の検出結果に基づいて、
ＳＩＬ１５と被照射体１００との間の間隔を制御する間
隔制御機能を有する図示しない制御手段を備えている。
【００２８】この露光装置は、被照射体１００である光
ディスクの原盤に対向されるレンズとしてＳＩＬ１５を
備えることにより、いわゆるニアフィールド領域（近接
場領域）における光スポットの照射が可能とされてい
る。
ディスクの原盤に対向されるレンズとしてＳＩＬ１５を
備えることにより、いわゆるニアフィールド領域（近接
場領域）における光スポットの照射が可能とされてい
る。
【００２９】被照射体１００である光ディスクの原盤
は、基板１０１上に、フォトレジスト層１０２が塗布さ
れて構成されている。基板１０１は、例えば、ガラス材
からなる。
は、基板１０１上に、フォトレジスト層１０２が塗布さ
れて構成されている。基板１０１は、例えば、ガラス材
からなる。
【００３０】露光用光源１１は、フォトレジスト層１０
２を露光するための露光用レーザ光を出射する。露光用
レーザ光は、具体的には、４１３ｎｍの波長とされ、後
述するギャップ長制御用レーザ光の波長よりも短波長と
されている。
２を露光するための露光用レーザ光を出射する。露光用
レーザ光は、具体的には、４１３ｎｍの波長とされ、後
述するギャップ長制御用レーザ光の波長よりも短波長と
されている。
【００３１】露光用光源１１から出射された露光用レー
ザ光は、ダイクロイックミラー１２を透過して、集光レ
ンズ１４に入射される。ダイクロイックミラー１２は後
述するように、ギャップ長制御用レーザ光を反射するも
のとして配設されている。集光レンズ１４に入射された
露光用レーザ光は、収束されて、ＳＩＬ１５に入射され
る。
ザ光は、ダイクロイックミラー１２を透過して、集光レ
ンズ１４に入射される。ダイクロイックミラー１２は後
述するように、ギャップ長制御用レーザ光を反射するも
のとして配設されている。集光レンズ１４に入射された
露光用レーザ光は、収束されて、ＳＩＬ１５に入射され
る。
【００３２】ＳＩＬ１５は、集光レンズ１４とから、被
照射体１００に対して露光用レーザ光を集光させる収束
レンズを構成している。なお、集光レンズ１４は、この
ようなソリッドイマージョンレンズが使用されて光ディ
スクの高密度化を可能にする技術において、一般的に
は、「対物レンズ」と称されている。
照射体１００に対して露光用レーザ光を集光させる収束
レンズを構成している。なお、集光レンズ１４は、この
ようなソリッドイマージョンレンズが使用されて光ディ
スクの高密度化を可能にする技術において、一般的に
は、「対物レンズ」と称されている。
【００３３】ＳＩＬ１５は、略半球面形状とされ、集光
レンズ１４を透過されたレーザ光が入射される入射面１
５ａと、略平面形状とされ、被照射体１００に対向され
る対向面（以下、出射面という。）１５ｂとから構成さ
れている。
レンズ１４を透過されたレーザ光が入射される入射面１
５ａと、略平面形状とされ、被照射体１００に対向され
る対向面（以下、出射面という。）１５ｂとから構成さ
れている。
【００３４】このような形状をなすＳＩＬ１５により、
集光レンズ１４を透過されたレーザ光は、入射面１５ａ
において屈折され、さらに、出射面１５ｂにおいて屈折
される。これにより、被照射体１００上には、光スポッ
トが形成される。
集光レンズ１４を透過されたレーザ光は、入射面１５ａ
において屈折され、さらに、出射面１５ｂにおいて屈折
される。これにより、被照射体１００上には、光スポッ
トが形成される。
【００３５】なお、集光レンズ１４及びＳＩＬ１５によ
り実現される開口数と、ＳＩＬ１５の屈折率ｎとの関係
は、次式のように表される。
り実現される開口数と、ＳＩＬ１５の屈折率ｎとの関係
は、次式のように表される。
【００３６】ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθmax ここで、最大入射角θmaxよりも小さい一定の入射角θ0
と屈折率ｎとの積（ｎ×ｓｉｎθ0）が１とされ、屈折
率ｎ及び最大入射角θmaxが設定されている。
と屈折率ｎとの積（ｎ×ｓｉｎθ0）が１とされ、屈折
率ｎ及び最大入射角θmaxが設定されている。
【００３７】ＳＩＬ１５と集光レンズ１４とは、支持体
２３により一体とされて支持されている。支持体２３に
は、その端部に変位手段１３が取り付けられている。
２３により一体とされて支持されている。支持体２３に
は、その端部に変位手段１３が取り付けられている。
【００３８】変位手段１３は、当該支持体２３を変位さ
せることにより、支持体２３に取り付けられて、２群レ
ンズを構成する集光レンズ１４及びＳＩＬ１５を、被照
射体１００に対して接離方向に移動させる。例えば、変
位手段１３は、電圧供給されて伸縮駆動されるピエゾス
タックである。光学ヘッド装置１０は、この変位手段１
３の駆動を制御することにより、ＳＩＬ１５の出射面１
５ｂと被照射体１００との間（ギャップ）の距離が所定
の距離となるように、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照
射体１００との間の距離の制御、すなわちギャップ長制
御を行っている。そして、変位手段１３の駆動が制御さ
れて、ギャップ長が最適距離とされることにより、ＳＩ
Ｌ１５から出射された露光用レーザ光により、所望の光
スポットが被照射体１００上に形成される。
せることにより、支持体２３に取り付けられて、２群レ
ンズを構成する集光レンズ１４及びＳＩＬ１５を、被照
射体１００に対して接離方向に移動させる。例えば、変
位手段１３は、電圧供給されて伸縮駆動されるピエゾス
タックである。光学ヘッド装置１０は、この変位手段１
３の駆動を制御することにより、ＳＩＬ１５の出射面１
５ｂと被照射体１００との間（ギャップ）の距離が所定
の距離となるように、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照
射体１００との間の距離の制御、すなわちギャップ長制
御を行っている。そして、変位手段１３の駆動が制御さ
れて、ギャップ長が最適距離とされることにより、ＳＩ
Ｌ１５から出射された露光用レーザ光により、所望の光
スポットが被照射体１００上に形成される。
【００３９】このギャップ長制御については、ギャップ
長制御用光源１６から出射されるギャップ長制御用レー
ザ光に基づいて行われる。
長制御用光源１６から出射されるギャップ長制御用レー
ザ光に基づいて行われる。
【００４０】ギャップ長制御用光源１６は、露光用光源
１１とは異なる波長のレーザ光を出射する。ここで、ギ
ャップ長制御用レーザ光の波長は、露光用レーザ光に比
べ長波長とされ、かつ被照射体１００の感光帯域以外の
波長とされている。具体的には、ギャップ長制御用光源
１６は、ヘリウム（Ｈｅ）−ネオン（Ｎｅ）ガスレーザ
光源であって、 出射されるギャップ長制御用レーザ光
の波長は、６３３ｎｍとされている。このギャップ長制
御用光源１６から出射されるギャップ長制御用レーザ光
は、ビームエキスパンダ１７により、ギャップ長制御用
光源１６からの出射時よりもレーザ光径が大径と変化さ
れる。このように大径とされたギャップ長制御用レーザ
光は、偏光ビームスプリッタ１９及び１／４波長板２０
を透過して、ダイクロイックミラー１２に入射される。
１１とは異なる波長のレーザ光を出射する。ここで、ギ
ャップ長制御用レーザ光の波長は、露光用レーザ光に比
べ長波長とされ、かつ被照射体１００の感光帯域以外の
波長とされている。具体的には、ギャップ長制御用光源
１６は、ヘリウム（Ｈｅ）−ネオン（Ｎｅ）ガスレーザ
光源であって、 出射されるギャップ長制御用レーザ光
の波長は、６３３ｎｍとされている。このギャップ長制
御用光源１６から出射されるギャップ長制御用レーザ光
は、ビームエキスパンダ１７により、ギャップ長制御用
光源１６からの出射時よりもレーザ光径が大径と変化さ
れる。このように大径とされたギャップ長制御用レーザ
光は、偏光ビームスプリッタ１９及び１／４波長板２０
を透過して、ダイクロイックミラー１２に入射される。
【００４１】ここで、偏光ビームスプリッタ１９及び１
／４波長板２０は、後述するように、ギャップ長制御用
レーザ光の戻り光を受光素子２２において受光するため
に配設されたものである。
／４波長板２０は、後述するように、ギャップ長制御用
レーザ光の戻り光を受光素子２２において受光するため
に配設されたものである。
【００４２】ダイクロイックミラー１２は、特定の波長
の光を反射するものであって、ここでは、ギャップ長制
御用光源１６が出射するギャップ長制御用レーザ光の波
長を反射するように設定されている。また、ダイクロイ
ックミラー１２は、露光用光源１１から出射される露光
用レーザ光の光路上に配置されており、上述したよう
に、露光用レーザ光は、このダイクロイックミラー１２
を透過されて、集光レンズ１４に入射されている。ギャ
ップ長制御用レーザ光については、このダイクロイック
ミラー１２により集光レンズ１４に向けて反射される。
の光を反射するものであって、ここでは、ギャップ長制
御用光源１６が出射するギャップ長制御用レーザ光の波
長を反射するように設定されている。また、ダイクロイ
ックミラー１２は、露光用光源１１から出射される露光
用レーザ光の光路上に配置されており、上述したよう
に、露光用レーザ光は、このダイクロイックミラー１２
を透過されて、集光レンズ１４に入射されている。ギャ
ップ長制御用レーザ光については、このダイクロイック
ミラー１２により集光レンズ１４に向けて反射される。
【００４３】そして、集光レンズ１４に入射されたギャ
ップ長制御用レーザ光は、集光レンズ１４及びＳＩＬ１
５を透過されて被照射体１００に照射されるというよう
に、上述した露光用レーザ光と同様な光路を得て被照射
体１００に照射される。すなわち、ダイクロイックミラ
ー１２において反射されたギャップ長制御用レーザ光と
上述した露光用レーザ光とは、同一光路上に合成され、
集光レンズ１４及びＳＩＬ１５に入射されることにな
る。
ップ長制御用レーザ光は、集光レンズ１４及びＳＩＬ１
５を透過されて被照射体１００に照射されるというよう
に、上述した露光用レーザ光と同様な光路を得て被照射
体１００に照射される。すなわち、ダイクロイックミラ
ー１２において反射されたギャップ長制御用レーザ光と
上述した露光用レーザ光とは、同一光路上に合成され、
集光レンズ１４及びＳＩＬ１５に入射されることにな
る。
【００４４】ギャップ長制御用レーザ光については、Ｓ
ＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射された場合、戻り
光（以下、ギャップ長制御用戻り光という。）とされ
て、ＳＩＬ１５及び集光レンズ１４を介して、ダイクロ
イックミラー１２に入射される。ギャップ長制御用戻り
光は、ダイクロイックミラー１２において透過されない
波長とされているので、ダイクロイックミラー１２によ
り、１／４波長板２０に向けて反射される。１／４波長
板２０では、円偏光が直接偏光に変換される。
ＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射された場合、戻り
光（以下、ギャップ長制御用戻り光という。）とされ
て、ＳＩＬ１５及び集光レンズ１４を介して、ダイクロ
イックミラー１２に入射される。ギャップ長制御用戻り
光は、ダイクロイックミラー１２において透過されない
波長とされているので、ダイクロイックミラー１２によ
り、１／４波長板２０に向けて反射される。１／４波長
板２０では、円偏光が直接偏光に変換される。
【００４５】なお、露光用レーザ光についても、ＳＩＬ
１５の出射面１５ｂにおいて反射されて戻り光（以下、
露光用戻り光という。）として、ＳＩＬ１５及び集光レ
ンズ１４を介してダイクロイックミラー１２に入射され
る。しかし、ダイクロイックミラー１２は、透過される
光の波長帯が露光用レーザ光の波長に合わせて設定され
ているので、露光用戻り光は、このダイクロイックミラ
ー１２において反射されることなく、露光用光源１１側
に透過される。
１５の出射面１５ｂにおいて反射されて戻り光（以下、
露光用戻り光という。）として、ＳＩＬ１５及び集光レ
ンズ１４を介してダイクロイックミラー１２に入射され
る。しかし、ダイクロイックミラー１２は、透過される
光の波長帯が露光用レーザ光の波長に合わせて設定され
ているので、露光用戻り光は、このダイクロイックミラ
ー１２において反射されることなく、露光用光源１１側
に透過される。
【００４６】１／４波長板２０により直接偏光とされた
ギャップ長制御用戻り光は、偏向ビームスプリッタ１９
の反射面１９ａにおいて受光素子２２側に向けて反射さ
れる。
ギャップ長制御用戻り光は、偏向ビームスプリッタ１９
の反射面１９ａにおいて受光素子２２側に向けて反射さ
れる。
【００４７】受光素子２２側に向けて反射されたギャッ
プ長制御用戻り光は、集光レンズ２１により収束され
て、当該受光素子２２において受光される。受光素子２
２は、受光強度に応じた電気信号を出力する。露光装置
は、この受光素子２２から出力される受光量を監視し
て、ギャップ長のサーボ制御を行っている。
プ長制御用戻り光は、集光レンズ２１により収束され
て、当該受光素子２２において受光される。受光素子２
２は、受光強度に応じた電気信号を出力する。露光装置
は、この受光素子２２から出力される受光量を監視し
て、ギャップ長のサーボ制御を行っている。
【００４８】以上のような構成からなる光学ヘッド装置
１０は、次のように各部を動作させ、ギャップ長のサー
ボ制御を行う。
１０は、次のように各部を動作させ、ギャップ長のサー
ボ制御を行う。
【００４９】変位手段１３である例えばピエゾスタック
に電圧を印加し、ＳＩＬ１５をフォトレジスト層１０２
が塗布された被照射体１００の上方近傍に移動させてい
き、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂとフォトレジスト１０２
の表面の距離をニアフィールド領域まで近づける。
に電圧を印加し、ＳＩＬ１５をフォトレジスト層１０２
が塗布された被照射体１００の上方近傍に移動させてい
き、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂとフォトレジスト１０２
の表面の距離をニアフィールド領域まで近づける。
【００５０】ところで、集光レンズ１４とＳＩＬ１５と
で、１よりも大きい開口数が実現されるのは、ＳＩＬ１
５がニアフィールド領域まで移動され、ＳＩＬ１５と被
照射体１００とが光学的接触がなされている場合に限ら
れ、この場合にのみ入射角θ0よりも大きな入射角で集
光レンズ１４からＳＩＬ１５に入射されたレーザ光（高
周波成分のレーザ光）が、出射面１５ｂから出射され
て、被照射体１００に照射される。
で、１よりも大きい開口数が実現されるのは、ＳＩＬ１
５がニアフィールド領域まで移動され、ＳＩＬ１５と被
照射体１００とが光学的接触がなされている場合に限ら
れ、この場合にのみ入射角θ0よりも大きな入射角で集
光レンズ１４からＳＩＬ１５に入射されたレーザ光（高
周波成分のレーザ光）が、出射面１５ｂから出射され
て、被照射体１００に照射される。
【００５１】例えば、ニアフィールド領域において、Ｓ
ＩＬ１５が、被照射体１００から離れていくと、出射面
１５ｂから出射されずに当該出射面１５ｂにおいて反射
される高周波成分のレーザ光の割合が急激に増加する。
そして、ＳＩＬ１５がニアフィールド領域を超えて離れ
ると、高周波数成分からなるレーザ光は出射面１５ｂで
ほぼ１００％反射（全反射）される。
ＩＬ１５が、被照射体１００から離れていくと、出射面
１５ｂから出射されずに当該出射面１５ｂにおいて反射
される高周波成分のレーザ光の割合が急激に増加する。
そして、ＳＩＬ１５がニアフィールド領域を超えて離れ
ると、高周波数成分からなるレーザ光は出射面１５ｂで
ほぼ１００％反射（全反射）される。
【００５２】このようなことから、ＳＩＬ１５をニアフ
ィールド領域に近づけていくと、出射面１５ｂを透過す
る高周波成分のレーザ光が増加するため、レーザ光の戻
り光が減少することになる。例えば、図２に示すよう
に、ＳＩＬ１５と被照射体１００との間の距離が短い場
合には、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおける反射率が低
くなる。よって、ニアフィールド領域に達していること
は、受光素子２２における受光量の低下として検出する
ことができる。
ィールド領域に近づけていくと、出射面１５ｂを透過す
る高周波成分のレーザ光が増加するため、レーザ光の戻
り光が減少することになる。例えば、図２に示すよう
に、ＳＩＬ１５と被照射体１００との間の距離が短い場
合には、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおける反射率が低
くなる。よって、ニアフィールド領域に達していること
は、受光素子２２における受光量の低下として検出する
ことができる。
【００５３】露光装置におけるギャップ長制御はこのよ
うな現象を利用したものであり、ギャップ長制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を受光素子２２により検出し、そ
の検出結果に基づいて実行されている。
うな現象を利用したものであり、ギャップ長制御用レー
ザ光の戻り光の光強度を受光素子２２により検出し、そ
の検出結果に基づいて実行されている。
【００５４】よって、露光装置は、ＳＩＬ１５をニアフ
ィールド領域に近づけていき、このとき低下したギャッ
プ長制御用戻り光の光強度が一定とされて受光素子２２
において検出されるように、変位手段１３を駆動させ、
ギャップ長制御することにより、所望の光スポットによ
り露光を行うことができる。例えば、露光装置は、受光
素子２２における光強度が、全反射におけるギャップ長
制御用戻り光の光強度に対して６０％になるようにギャ
ップ長制御を行う。
ィールド領域に近づけていき、このとき低下したギャッ
プ長制御用戻り光の光強度が一定とされて受光素子２２
において検出されるように、変位手段１３を駆動させ、
ギャップ長制御することにより、所望の光スポットによ
り露光を行うことができる。例えば、露光装置は、受光
素子２２における光強度が、全反射におけるギャップ長
制御用戻り光の光強度に対して６０％になるようにギャ
ップ長制御を行う。
【００５５】ここで、ギャップ長制御に露光用ビームを
用いた場合を考えてみると、線速度に依存した露光パワ
ーの変化や変調による露光用ビームの出力の変化、例え
ば、出力のオン及びオフの繰り返しにより、ギャップ長
制御のための信号と変調のための信号とが重畳してしま
うことになり、不安定なサーボ系が構成されてしまう。
用いた場合を考えてみると、線速度に依存した露光パワ
ーの変化や変調による露光用ビームの出力の変化、例え
ば、出力のオン及びオフの繰り返しにより、ギャップ長
制御のための信号と変調のための信号とが重畳してしま
うことになり、不安定なサーボ系が構成されてしまう。
【００５６】なお、サーボループにローパスフィルタを
入れることで、変調の影響を低減できるが、反面、サー
ボの帯域を低下させてしまうことになり、現実的ではな
い。
入れることで、変調の影響を低減できるが、反面、サー
ボの帯域を低下させてしまうことになり、現実的ではな
い。
【００５７】しかし、実施の形態の露光装置のように、
露光用光源とは別にギャップ長制御用光源１６を備え、
ギャップ長制御用光源１６から出射されるギャップ長制
御用レーザ光に基づくギャップ長制御用戻り光に基づい
てギャップ長制御を行うことにより、線速度変化による
露光パワーの変動や変調によるレーザ出力の変動に影響
されることなくギャップ長制御を行うことができる。よ
って、露光のためのレーザ光の出力などによらず、出力
が一定に保持されたギャップ長制御用レーザに基づいて
ギャップ長制御を行うことができるので、安定させてサ
ーボをかけることができる。
露光用光源とは別にギャップ長制御用光源１６を備え、
ギャップ長制御用光源１６から出射されるギャップ長制
御用レーザ光に基づくギャップ長制御用戻り光に基づい
てギャップ長制御を行うことにより、線速度変化による
露光パワーの変動や変調によるレーザ出力の変動に影響
されることなくギャップ長制御を行うことができる。よ
って、露光のためのレーザ光の出力などによらず、出力
が一定に保持されたギャップ長制御用レーザに基づいて
ギャップ長制御を行うことができるので、安定させてサ
ーボをかけることができる。
【００５８】また、ギャップ長制御用レーザ光の波長と
して感光帯域以外の波長を選択することにより、ギャッ
プ長制御のためのレーザ光照射によりフォトレジスト層
１０２が露光されることもない。
して感光帯域以外の波長を選択することにより、ギャッ
プ長制御のためのレーザ光照射によりフォトレジスト層
１０２が露光されることもない。
【００５９】さらに、ギャップ長制御用レーザ光の波長
をフォトレジスト層１０２が感光されない波長とされる
限り、ギャップ長制御用レーザ光の出力の自由度が増す
ことになり、このことにより、例えば、ギャップ長制御
用レーザ光の出力を上げ、戻り光検出のＳ／Ｎ比を大き
くとることが可能になる。これにより、より安定させ
て、サーボをかけることができる。
をフォトレジスト層１０２が感光されない波長とされる
限り、ギャップ長制御用レーザ光の出力の自由度が増す
ことになり、このことにより、例えば、ギャップ長制御
用レーザ光の出力を上げ、戻り光検出のＳ／Ｎ比を大き
くとることが可能になる。これにより、より安定させ
て、サーボをかけることができる。
【００６０】以上の実施の形態は、露光装置についての
ものであるが、本発明は情報信号の記録及び／又は再生
を行う光ディスク装置に適用することもできる。
ものであるが、本発明は情報信号の記録及び／又は再生
を行う光ディスク装置に適用することもできる。
【００６１】図３には、光ディスク装置の構成例を示し
ている。この図３に示すように、光ディスク装置は、光
学ヘッド部１０を備え、この光学ヘッド部１０が上述し
た露光装置と略同様に構成されている。なお、以下で
は、光学ヘッド部１０において、上述した露光装置と同
一の構成部分については、同一の番号を付し、同一の構
成部分についての説明を省略する。
ている。この図３に示すように、光ディスク装置は、光
学ヘッド部１０を備え、この光学ヘッド部１０が上述し
た露光装置と略同様に構成されている。なお、以下で
は、光学ヘッド部１０において、上述した露光装置と同
一の構成部分については、同一の番号を付し、同一の構
成部分についての説明を省略する。
【００６２】光学ヘッド部１０は、被照射体である光デ
ィスク１５０の情報信号により変調された戻り光（以
下、情報変調戻り光という。）の再生系の構成部分とし
て、偏光ビームスプリッタ３１、集光レンズ３２、及び
受光素子３３を備えている。また、光学ヘッド部１０に
おいて、光源３４は、記録及び再生用レーザ光を出射す
る記録及び再生用光源である。
ィスク１５０の情報信号により変調された戻り光（以
下、情報変調戻り光という。）の再生系の構成部分とし
て、偏光ビームスプリッタ３１、集光レンズ３２、及び
受光素子３３を備えている。また、光学ヘッド部１０に
おいて、光源３４は、記録及び再生用レーザ光を出射す
る記録及び再生用光源である。
【００６３】さらに、光ディスク装置は、光学ヘッド部
１０において得られた信号に基づいて各種処理を行う構
成部分として、ＲＦアンプ４１、デジタル信号処理部４
２、レーザドライバ部４３、ギャップ長制御部４４、回
転サーボ部４５、スピンドルモータ４６、及びシステム
コントローラ４７を備えている。
１０において得られた信号に基づいて各種処理を行う構
成部分として、ＲＦアンプ４１、デジタル信号処理部４
２、レーザドライバ部４３、ギャップ長制御部４４、回
転サーボ部４５、スピンドルモータ４６、及びシステム
コントローラ４７を備えている。
【００６４】記録及び再生用光源３４は、レーザドライ
バ部４３により記録や再生に応じて出力が制御される。
この記録及び再生用光源３４から出力されたレーザ光
は、偏光ビームスプリッタ３１を透過されて、上述した
露光用レーザ光と同様にダイクロイックミラー１２、集
光レンズ１４、及びＳＩＬ１５を介して、光ディスク１
５０の信号記録面上に集光される。
バ部４３により記録や再生に応じて出力が制御される。
この記録及び再生用光源３４から出力されたレーザ光
は、偏光ビームスプリッタ３１を透過されて、上述した
露光用レーザ光と同様にダイクロイックミラー１２、集
光レンズ１４、及びＳＩＬ１５を介して、光ディスク１
５０の信号記録面上に集光される。
【００６５】信号記録面において反射された情報変調戻
り光は、ＳＩＬ１５、集光レンズ１４、及びダイクロイ
ックミラー１２を介して、偏光ビームスプリッタ３１に
入射される。そして、情報変調戻り光は、偏光ビームス
プリッタ３１の反射面３１ａにより、受光素子３３側に
向けて反射される。
り光は、ＳＩＬ１５、集光レンズ１４、及びダイクロイ
ックミラー１２を介して、偏光ビームスプリッタ３１に
入射される。そして、情報変調戻り光は、偏光ビームス
プリッタ３１の反射面３１ａにより、受光素子３３側に
向けて反射される。
【００６６】偏光ビームスプリッタ３１と受光素子３３
との間には、集光レンズ３２が配置されており、情報変
調戻り光は、集光レンズ３２により受光素子３３上に集
光される。
との間には、集光レンズ３２が配置されており、情報変
調戻り光は、集光レンズ３２により受光素子３３上に集
光される。
【００６７】受光素子３３は、戻り光の光強度に応じた
電気信号を出力する。この受光素子３３から出力された
電気信号は、ＲＦアンプ４１に入力され、ここで、増幅
される。ＲＦアンプ４１で増幅された再生信号は、デジ
タル信号処理部４２に入力される。
電気信号を出力する。この受光素子３３から出力された
電気信号は、ＲＦアンプ４１に入力され、ここで、増幅
される。ＲＦアンプ４１で増幅された再生信号は、デジ
タル信号処理部４２に入力される。
【００６８】デジタル信号処理部４２は、入力された再
生信号をデジタル変換等の信号処理を施す。
生信号をデジタル変換等の信号処理を施す。
【００６９】システムコントローラ４７は、光ディスク
装置を構成する各部を制御する。このシステムコントロ
ーラ４７は、一制御機能として、デジタル信号処理部４
２において得た信号に基づいて、光ディスクの回転サー
ボや記録及び再生用光源３４の出力の制御を行う。
装置を構成する各部を制御する。このシステムコントロ
ーラ４７は、一制御機能として、デジタル信号処理部４
２において得た信号に基づいて、光ディスクの回転サー
ボや記録及び再生用光源３４の出力の制御を行う。
【００７０】レーザドライバ部４３は、システムコント
ローラ４７から出力される制御信号により、記録及び再
生用光源３４の出力を制御する。具体的には、レーザド
ライバ部４３は、システムコントローラ４７からの制御
信号に応じて、記録及び再生用光源３４のレーザ光の出
力が再生用又は記録用の所定の出力になるように制御す
る。
ローラ４７から出力される制御信号により、記録及び再
生用光源３４の出力を制御する。具体的には、レーザド
ライバ部４３は、システムコントローラ４７からの制御
信号に応じて、記録及び再生用光源３４のレーザ光の出
力が再生用又は記録用の所定の出力になるように制御す
る。
【００７１】回転サーボ部４５は、光ディスク１５０を
回転操作するスピンドルモータ４６の駆動を制御する。
回転サーボ４５は、システムコントローラ４７からの制
御信号により、スピンドルモータ４６の駆動を制御し
て、光ディスク１５０が所定の回転数により回転される
ように制御する。
回転操作するスピンドルモータ４６の駆動を制御する。
回転サーボ４５は、システムコントローラ４７からの制
御信号により、スピンドルモータ４６の駆動を制御し
て、光ディスク１５０が所定の回転数により回転される
ように制御する。
【００７２】ギャップ長制御部４４は、ギャップ長制御
用戻り光の光強度に応じて受光素子２２から出力される
出力信号に基づいて、ギャップ長制御を行う。光ディス
ク装置におけるギャップ長制御は、露光装置においてな
されたと同様に、ギャップ長制御用戻り光の光強度が一
定とされて受光素子２２において検出されるように、変
位手段１３を駆動する。
用戻り光の光強度に応じて受光素子２２から出力される
出力信号に基づいて、ギャップ長制御を行う。光ディス
ク装置におけるギャップ長制御は、露光装置においてな
されたと同様に、ギャップ長制御用戻り光の光強度が一
定とされて受光素子２２において検出されるように、変
位手段１３を駆動する。
【００７３】以上のように構成することにより、光ディ
スク装置は、記録及び再生用光源３４から最適パワーと
してレーザ光を出力して、光ディスク１５０に対する情
報信号の記録及び再生をすると同時に、ギャップ長制御
用光源１６からギャップ長制御用レーザ光を出射して、
そのギャップ長制御用レーザ光に基づくギャップ長制御
用戻り光を受光素子２２において検出し、ギャップ長制
御を行うことができる。
スク装置は、記録及び再生用光源３４から最適パワーと
してレーザ光を出力して、光ディスク１５０に対する情
報信号の記録及び再生をすると同時に、ギャップ長制御
用光源１６からギャップ長制御用レーザ光を出射して、
そのギャップ長制御用レーザ光に基づくギャップ長制御
用戻り光を受光素子２２において検出し、ギャップ長制
御を行うことができる。
【００７４】このように、光ディスク装置は、記録又は
再生用の光源とは別にギャップ長制御用光源１６を備
え、ギャップ長制御用光源１６から出射されるギャップ
長制御用レーザ光に基づくギャップ長制御用戻り光に基
づいてギャップ長制御することにより、線速度変化によ
る露光パワーの変動や情報信号の変調によるレーザ出力
の変動に影響されることのないギャップ長制御を行うこ
とができる。よって、情報信号の記録や再生のためのレ
ーザ光の出力などによらず、出力が一定に保持されたギ
ャップ長制御用レーザに基づいてギャップ長制御を行う
ことができるので、サーボを安定させてかけることがで
きる。
再生用の光源とは別にギャップ長制御用光源１６を備
え、ギャップ長制御用光源１６から出射されるギャップ
長制御用レーザ光に基づくギャップ長制御用戻り光に基
づいてギャップ長制御することにより、線速度変化によ
る露光パワーの変動や情報信号の変調によるレーザ出力
の変動に影響されることのないギャップ長制御を行うこ
とができる。よって、情報信号の記録や再生のためのレ
ーザ光の出力などによらず、出力が一定に保持されたギ
ャップ長制御用レーザに基づいてギャップ長制御を行う
ことができるので、サーボを安定させてかけることがで
きる。
【００７５】また、ギャップ長制御用レーザ光の波長と
して光ディスクの信号記録面の感光帯以外の波長を選択
することにより、光ディスク１５０の信号記録面に記録
される情報信号に影響を与えることもない。
して光ディスクの信号記録面の感光帯以外の波長を選択
することにより、光ディスク１５０の信号記録面に記録
される情報信号に影響を与えることもない。
【００７６】さらに、露光装置と同様に、ギャップ長制
御用レーザ光の波長を光ディスクの信号記録面の感光帯
以外とされる限り、ギャップ長制御用レーザ光の出力の
自由度が増すことになり、このことにより、例えば、ギ
ャップ長制御用レーザ光の出力を上げ、戻り光検出のＳ
／Ｎ比を大きくとることが可能になる。これにより、よ
り安定させてサーボをかけることができる。
御用レーザ光の波長を光ディスクの信号記録面の感光帯
以外とされる限り、ギャップ長制御用レーザ光の出力の
自由度が増すことになり、このことにより、例えば、ギ
ャップ長制御用レーザ光の出力を上げ、戻り光検出のＳ
／Ｎ比を大きくとることが可能になる。これにより、よ
り安定させてサーボをかけることができる。
【００７７】なお、ギャップ長制御用レーザ光のうち、
ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射されずに、出射
面１５ｂから出射された成分が、光ディスク１５０の信
号記録面において反射されて戻り光として受光素子２２
において受光されることも考えられる。この場合、その
ような戻り光は、光ディスク１５０に記録されている情
報信号の影響を受けてしまい、例えば、戻り光には、光
ディスク１５０に記録されている情報信号による変調成
分が含まれてしまう。
ＳＩＬ１５の出射面１５ｂにおいて反射されずに、出射
面１５ｂから出射された成分が、光ディスク１５０の信
号記録面において反射されて戻り光として受光素子２２
において受光されることも考えられる。この場合、その
ような戻り光は、光ディスク１５０に記録されている情
報信号の影響を受けてしまい、例えば、戻り光には、光
ディスク１５０に記録されている情報信号による変調成
分が含まれてしまう。
【００７８】しかし、光ディスク１５０における情報信
号として検出される周波数はフォーカスサーボの周波数
と比較して十分大きく、光ディスク１５０に記録されて
いる情報信号の影響を無視できることから、そのように
戻り光に情報信号の変調成分が含まれたような場合であ
っても、ギャップ長制御は何ら影響も受けない。
号として検出される周波数はフォーカスサーボの周波数
と比較して十分大きく、光ディスク１５０に記録されて
いる情報信号の影響を無視できることから、そのように
戻り光に情報信号の変調成分が含まれたような場合であ
っても、ギャップ長制御は何ら影響も受けない。
【００７９】さらに、例えば、磁気的に情報信号が記録
される光磁気ディスクを使用する場合には、前述したギ
ャップ長制御用レーザ光の戻り光にいわゆるカー効果に
よる情報信号が変調されてしまうと考えられるが、フィ
ルタリングにより取り除くことができる。
される光磁気ディスクを使用する場合には、前述したギ
ャップ長制御用レーザ光の戻り光にいわゆるカー効果に
よる情報信号が変調されてしまうと考えられるが、フィ
ルタリングにより取り除くことができる。
【００８０】なお、露光装置又は光ディスク装置は、図
４に示すように、集光レンズ１４及びＳＩＬ１５を被照
射体１００又は光ディスク１５０に対して接離する方向
に移動させることができる第２の変位手段を備えること
もできる。
４に示すように、集光レンズ１４及びＳＩＬ１５を被照
射体１００又は光ディスク１５０に対して接離する方向
に移動させることができる第２の変位手段を備えること
もできる。
【００８１】第２の変位手段５０は、被照射体１００に
対して空気層の介在させて集光レンズ１４及びＳＩＬ１
５が取り付けられている支持体２３を浮上させるように
構成されている。
対して空気層の介在させて集光レンズ１４及びＳＩＬ１
５が取り付けられている支持体２３を浮上させるように
構成されている。
【００８２】第２の変位手段５０は、エアースライダー
５１、弾性体５２、空気供給用ノズル５３、第２の支持
体５４、及び空気供給源５５を備えている。
５１、弾性体５２、空気供給用ノズル５３、第２の支持
体５４、及び空気供給源５５を備えている。
【００８３】第２の支持体５４は、集光レンズ１４及び
ＳＩＬ１５が取り付けられている支持体２３を被照射体
１００に対向させて支持するものである。例えば、第２
の支持体５４は、略円筒形状に形成されており、内側に
支持体２３を収容するとともに、一端側に、当該支持体
２３に取り付けられている第１の変位手段１３が取り付
けられている。そして、第２の支持体５４の他端側にエ
アースライダー５１が取り付けられている。
ＳＩＬ１５が取り付けられている支持体２３を被照射体
１００に対向させて支持するものである。例えば、第２
の支持体５４は、略円筒形状に形成されており、内側に
支持体２３を収容するとともに、一端側に、当該支持体
２３に取り付けられている第１の変位手段１３が取り付
けられている。そして、第２の支持体５４の他端側にエ
アースライダー５１が取り付けられている。
【００８４】エアースライダー５１は平板形状とされ、
主面５１ａが被照射体１００に対向されるように第２の
支持体５４に取り付けられている。そして、エアースラ
イダー５１には、空気を噴出させるための空気供給用ノ
ズル５３の端部が背面５１ｂから主面５１ａに貫通され
て取り付けられている。
主面５１ａが被照射体１００に対向されるように第２の
支持体５４に取り付けられている。そして、エアースラ
イダー５１には、空気を噴出させるための空気供給用ノ
ズル５３の端部が背面５１ｂから主面５１ａに貫通され
て取り付けられている。
【００８５】また、第２の変位手段５０は、アーム６２
に支持されているが、具体的には、アーム６２に一端が
取り付けられた板バネ等の弾性体５２の他端がこのエア
ースライダー５１の背面５１ｂに取り付けられ、アーム
６２に支持されている。これにより、第２の変位手段５
０は、アーム６２に対して弾性を有して支持されること
になる。
に支持されているが、具体的には、アーム６２に一端が
取り付けられた板バネ等の弾性体５２の他端がこのエア
ースライダー５１の背面５１ｂに取り付けられ、アーム
６２に支持されている。これにより、第２の変位手段５
０は、アーム６２に対して弾性を有して支持されること
になる。
【００８６】空気供給用ノズル５３は、他端から空気供
給源５５よりの空気が供給される。また、空気供給用ノ
ズル５３は、アーム６２を貫通されて一端がエアースラ
イダー５１に取り付けられているが、アーム６２には、
空気供給用ノズル５３を挿通するための挿通孔６２ａが
設けられている。挿通孔６２ａは、空気供給用ノズル５
３の外径よりも大きな径とされている。これにより、空
気供給用ノズル５３は、アーム６２の挿通孔６２ａに対
し、移動自在とされて保持されている。
給源５５よりの空気が供給される。また、空気供給用ノ
ズル５３は、アーム６２を貫通されて一端がエアースラ
イダー５１に取り付けられているが、アーム６２には、
空気供給用ノズル５３を挿通するための挿通孔６２ａが
設けられている。挿通孔６２ａは、空気供給用ノズル５
３の外径よりも大きな径とされている。これにより、空
気供給用ノズル５３は、アーム６２の挿通孔６２ａに対
し、移動自在とされて保持されている。
【００８７】なお、アーム６２には レーザ光がレンズ
系に入射させるための開口部６２ｂが設けられている。
系に入射させるための開口部６２ｂが設けられている。
【００８８】空気供給用ノズル５３に空気を供給するた
めの空気供給源５５は、制御手段６１により供給圧力等
が制御されている。
めの空気供給源５５は、制御手段６１により供給圧力等
が制御されている。
【００８９】以上のような構成からなる第２の変位手段
５０は、制御手段６１により供給圧力等が制御された空
気供給源５５から空気を空気供給用ノズル５３に供給
し、エアースライダー５１に取り付けられている空気供
給用ノズル５３の端部から空気を噴出させることによ
り、被照射体１００に対してエアースライダー５１を浮
上させることができる。このエアースライダー５１の浮
上により、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照射体１００
とを接離する方向に移動することが可能になり、例え
ば、制御手段６１により空気供給源５５における供給圧
力を制御することにより、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと
被照射体１００との間の距離の制御が可能になる。
５０は、制御手段６１により供給圧力等が制御された空
気供給源５５から空気を空気供給用ノズル５３に供給
し、エアースライダー５１に取り付けられている空気供
給用ノズル５３の端部から空気を噴出させることによ
り、被照射体１００に対してエアースライダー５１を浮
上させることができる。このエアースライダー５１の浮
上により、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照射体１００
とを接離する方向に移動することが可能になり、例え
ば、制御手段６１により空気供給源５５における供給圧
力を制御することにより、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと
被照射体１００との間の距離の制御が可能になる。
【００９０】露光装置は、このような第２の変位手段５
０を備えることにより、例えば、この第２の変位手段５
０によりＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照射体１００と
の間の距離を粗調整し、その後第１の変位手段１３によ
り、微調整によるギャップ長制御を行うことができるよ
うになる。すなわち、露光装置は、第２の変位手段５０
により低周波数帯域における制御を行い、第１の変位手
段１３により高周波数帯域における制御を行う。具体的
には、露光装置は、以下のように第１及び第２の変位手
段１３，５０を動作させる。
０を備えることにより、例えば、この第２の変位手段５
０によりＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照射体１００と
の間の距離を粗調整し、その後第１の変位手段１３によ
り、微調整によるギャップ長制御を行うことができるよ
うになる。すなわち、露光装置は、第２の変位手段５０
により低周波数帯域における制御を行い、第１の変位手
段１３により高周波数帯域における制御を行う。具体的
には、露光装置は、以下のように第１及び第２の変位手
段１３，５０を動作させる。
【００９１】例えば、ＳＩＬ１５の出射面１５ｂと被照
射体１００との間に十分な距離がとられている状態か
ら、空気供給源５５における供給圧力等により、空気供
給用ノズル５３から噴出される空気の供給を制御して、
アーム６０を降下させる。
射体１００との間に十分な距離がとられている状態か
ら、空気供給源５５における供給圧力等により、空気供
給用ノズル５３から噴出される空気の供給を制御して、
アーム６０を降下させる。
【００９２】このアーム６０の降下により、エアースラ
イダー５１の主面５１が被照射体１００に近づくので、
エアースライダー５１の主面５１ａと被照射体１００と
の間における空気圧力が上昇する。このようなエアース
ライダー５１の主面５１と被照射体１００との間におけ
る空気圧力の上昇により安定した空気層、いわゆるエア
ーベアリングが形成される。このエアーベアリングの効
果により、ＳＩＬ１５と被照射体１００の衝突を防止す
ることができる。
イダー５１の主面５１が被照射体１００に近づくので、
エアースライダー５１の主面５１ａと被照射体１００と
の間における空気圧力が上昇する。このようなエアース
ライダー５１の主面５１と被照射体１００との間におけ
る空気圧力の上昇により安定した空気層、いわゆるエア
ーベアリングが形成される。このエアーベアリングの効
果により、ＳＩＬ１５と被照射体１００の衝突を防止す
ることができる。
【００９３】そして、露光装置は、このようにされた状
態において、第１の変位手段１３によるギャップ長制
御、すなわち、高周波数帯域におけるギャップ長制御を
行う。さらに、第２の変位手段５０において供給する空
気を制御することにより、低周波数帯域におけるギャッ
プ長制御を行うことができる。
態において、第１の変位手段１３によるギャップ長制
御、すなわち、高周波数帯域におけるギャップ長制御を
行う。さらに、第２の変位手段５０において供給する空
気を制御することにより、低周波数帯域におけるギャッ
プ長制御を行うことができる。
【００９４】なお、本実施の形態の説明では、レーザ光
を被照射体に照射する収束レンズとして集光レンズ１４
及びＳＩＬ１５のいわゆる２群レンズにより構成されて
いる例について示している。しかし、これに限定される
ことなく、例えば、ＳＩＭ（Solid Immersion Mirror）
を含むレンズや、３群レンズ以上からそのようなレンズ
系を構成することもできる。
を被照射体に照射する収束レンズとして集光レンズ１４
及びＳＩＬ１５のいわゆる２群レンズにより構成されて
いる例について示している。しかし、これに限定される
ことなく、例えば、ＳＩＭ（Solid Immersion Mirror）
を含むレンズや、３群レンズ以上からそのようなレンズ
系を構成することもできる。
【００９５】
【発明の効果】本発明に係る露光装置は、露光用レーザ
光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射する
間隔制御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レンズ
に入射させる入射手段と、収束レンズの被露光体に対向
される対向面において反射された間隔制御用レーザ光の
戻り光の光強度を検出する光強度検出手段と、光強度検
出手段の検出結果に基づいて、収束レンズと上記被露光
体との間の間隔を制御する間隔制御手段とを備えること
により、入射手段により、露光用レーザ光と異なる波長
とされた間隔制御用レーザ光を、収束レンズに入射さ
せ、光強度検出手段により、収束レンズの被露光体に対
向される対向面において反射された間隔制御用レーザ光
の戻り光の光強度を検出し、そして、間隔制御手段によ
り、光強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズ
と被露光体との間の間隔を制御することができる。
光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を出射する
間隔制御用光源と、間隔制御用レーザ光を、収束レンズ
に入射させる入射手段と、収束レンズの被露光体に対向
される対向面において反射された間隔制御用レーザ光の
戻り光の光強度を検出する光強度検出手段と、光強度検
出手段の検出結果に基づいて、収束レンズと上記被露光
体との間の間隔を制御する間隔制御手段とを備えること
により、入射手段により、露光用レーザ光と異なる波長
とされた間隔制御用レーザ光を、収束レンズに入射さ
せ、光強度検出手段により、収束レンズの被露光体に対
向される対向面において反射された間隔制御用レーザ光
の戻り光の光強度を検出し、そして、間隔制御手段によ
り、光強度検出手段の検出結果に基づいて、収束レンズ
と被露光体との間の間隔を制御することができる。
【００９６】これにより、露光装置は、収束レンズの対
向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度に基づいて、当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御することができる。
向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度に基づいて、当該被露光体に対して露光用レーザ
光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との間
の間隔を制御することができる。
【００９７】また、本発明に係る露光方法は、露光用レ
ーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を、露
光用レーザ光が入射されている収束レンズに入射させ、
収束レンズの被露光体に対向される対向面において反射
された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出し、
戻り光の光強度の検出結果に基づいて、収束レンズと被
露光体との間の間隔を制御することにより、収束レンズ
の対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度に基づいて当該被露光体に対して露光用レー
ザ光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との
間の間隔を制御することができる。
ーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レーザ光を、露
光用レーザ光が入射されている収束レンズに入射させ、
収束レンズの被露光体に対向される対向面において反射
された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出し、
戻り光の光強度の検出結果に基づいて、収束レンズと被
露光体との間の間隔を制御することにより、収束レンズ
の対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度に基づいて当該被露光体に対して露光用レー
ザ光を集光している当該収束レンズと当該被露光体との
間の間隔を制御することができる。
【００９８】また、本発明に係る光ディスク装置は、記
録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされた間隔
制御用レーザ光を出射する間隔制御用光源と、間隔制御
用レーザ光を、収束レンズに入射させる入射手段と、収
束レンズの信号記録媒体に対向される対向面において反
射された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出す
る光強度検出手段と、光強度検出手段の検出結果に基づ
いて、収束レンズと信号記録媒体との間の間隔を制御す
る間隔制御手段とを備えることにより、入射手段によ
り、記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされ
た間隔制御用レーザ光を収束レンズに入射させ、光強度
検出手段により、収束レンズの信号記録媒体に対向され
る対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度を検出し、間隔制御手段により、光強度検出
手段の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記録媒体
との間の間隔を制御することができる。
録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされた間隔
制御用レーザ光を出射する間隔制御用光源と、間隔制御
用レーザ光を、収束レンズに入射させる入射手段と、収
束レンズの信号記録媒体に対向される対向面において反
射された間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出す
る光強度検出手段と、光強度検出手段の検出結果に基づ
いて、収束レンズと信号記録媒体との間の間隔を制御す
る間隔制御手段とを備えることにより、入射手段によ
り、記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされ
た間隔制御用レーザ光を収束レンズに入射させ、光強度
検出手段により、収束レンズの信号記録媒体に対向され
る対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度を検出し、間隔制御手段により、光強度検出
手段の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記録媒体
との間の間隔を制御することができる。
【００９９】これにより、光ディスク装置は、収束レン
ズの対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻
り光の光強度に基づいて、当該信号記録媒体に対して露
光用レーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号
記録媒体との間の間隔を制御することができる。
ズの対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻
り光の光強度に基づいて、当該信号記録媒体に対して露
光用レーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号
記録媒体との間の間隔を制御することができる。
【０１００】また、本発明に係る記録及び／又は再生方
法は、記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とさ
れた間隔制御用レーザ光を、記録及び／又は再生用レー
ザ光が入射されている収束レンズに入射させ、収束レン
ズの信号記録媒体に対向される対向面において反射され
た間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出し、戻り
光の光強度の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記
録媒体との間の間隔を制御することにより、収束レンズ
の対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度に基づい当該信号記録媒体に対して露光用レ
ーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号記録媒
体との間の間隔を制御することができる。
法は、記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とさ
れた間隔制御用レーザ光を、記録及び／又は再生用レー
ザ光が入射されている収束レンズに入射させ、収束レン
ズの信号記録媒体に対向される対向面において反射され
た間隔制御用レーザ光の戻り光の光強度を検出し、戻り
光の光強度の検出結果に基づいて、収束レンズと信号記
録媒体との間の間隔を制御することにより、収束レンズ
の対向面において反射された間隔制御用レーザ光の戻り
光の光強度に基づい当該信号記録媒体に対して露光用レ
ーザ光を集光している当該収束レンズと当該信号記録媒
体との間の間隔を制御することができる。
【図１】本発明の実施の形態である露光装置の構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図２】ニアフィールド領域近傍におけるＳＩＬの出射
面における反射率を示す特性図である。
面における反射率を示す特性図である。
【図３】本発明の実施の形態である光ディスク装置の構
成を示すブロック図である。
成を示すブロック図である。
【図４】第２の変位手段の構成を示す正面図である。
【図５】露光装置による光ディスクの原盤を製造する工
程を示す斜視図である。
程を示す斜視図である。
【図６】露光装置により露光されて微細凹凸が形成され
た光ディスクの原盤の一部を示す斜視図である。
た光ディスクの原盤の一部を示す斜視図である。
１１ 露光用光源、１２ ダイクロイックミラー、１３
変位手段、１４ 集光レンズ、１５ ＳＩＬ、１６
ギャップ長制御用光源、２２ 受光素子
変位手段、１４ 集光レンズ、１５ ＳＩＬ、１６
ギャップ長制御用光源、２２ 受光素子
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Claims (12)
- 【請求項１】 被露光体に対向され、当該被露光体の近
接場領域に配置される収束レンズを備え、上記収束レン
ズにより、上記被露光体に露光用レーザ光を集光して上
記被露光体を露光する露光装置において、 上記露光用レーザ光を出射する露光用光源と、 上記露光用レーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レ
ーザ光を出射する間隔制御用光源と、 上記間隔制御用レーザ光を、上記収束レンズに入射させ
る入射手段と、 上記収束レンズの上記被露光体に対向される対向面にお
いて反射された上記間隔制御用レーザ光の戻り光の光強
度を検出する光強度検出手段と、 上記光強度検出手段の検出結果に基づいて、上記収束レ
ンズと上記被露光体との間の間隔を制御する間隔制御手
段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 上記間隔制御用レーザ光の波長は、上記
露光用レーザ光の波長よりも長波長とされていることを
特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 上記間隔制御用レーザ光の波長は、上記
被露光体の感光帯域以外の波長であることを特徴とする
請求項１記載の露光装置。 - 【請求項４】 被露光体に対向され、当該被露光体の近
接場領域に配置される収束レンズにより、上記被露光体
に露光用レーザ光を集光して上記被露光体を露光する露
光方法において、 上記露光用レーザ光と異なる波長とされた間隔制御用レ
ーザ光を、上記露光用レーザ光が入射されている上記収
束レンズに入射させ、 上記収束レンズの上記被露光体に対向される対向面にお
いて反射された上記間隔制御用レーザ光の戻り光の光強
度を検出し、 上記戻り光の光強度の検出結果に基づいて、上記収束レ
ンズと上記被露光体との間の間隔を制御することを特徴
とする露光方法。 - 【請求項５】 上記露光用レーザ光の波長よりも長波長
とされた上記間隔制御用レーザ光を入射させることを特
徴とする請求項４記載の露光方法。 - 【請求項６】 上記被露光体の感光帯域以外の波長とさ
れた上記間隔制御用レーザ光を入射させることを特徴と
する請求項４記載の露光方法。 - 【請求項７】 信号記録媒体に対向され、当該信号記録
媒体の近接場領域に配置される収束レンズを備え、上記
収束レンズにより、上記信号記録媒体に記録及び／又は
再生用レーザ光を集光して上記信号記録媒体に対する情
報信号の記録及び／又は再生を行う光ディスク装置にお
いて、 上記記録及び／又は再生用レーザ光を出射する記録及び
／又は再生用光源と、 上記記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされ
た間隔制御用レーザ光を出射する間隔制御用光源と、 上記間隔制御用レーザ光を、上記収束レンズに入射させ
る入射手段と、 上記収束レンズの上記信号記録媒体に対向される対向面
において反射された上記間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度を検出する光強度検出手段と、 上記光強度検出手段の検出結果に基づいて、上記収束レ
ンズと上記信号記録媒体との間の間隔を制御する間隔制
御手段とを備えることを特徴とする光ディスク装置。 - 【請求項８】 上記間隔制御用レーザ光の波長は、上記
記録及び／又は再生用レーザ光の波長よりも長波長とさ
れていることを特徴とする請求項７記載の光ディスク装
置。 - 【請求項９】 上記間隔制御用レーザ光の波長は、上記
信号記録媒体の信号記録面の感光帯域以外の波長である
ことを特徴とする請求項７記載の光ディスク装置。 - 【請求項１０】 信号記録媒体に対向され、当該信号記
録媒体の近接場領域に配置される収束レンズにより、上
記信号記録媒体に記録及び／又は再生用レーザ光を集光
して上記信号記録媒体に対する情報信号の記録及び／又
は再生を行う記録及び／又は再生方法において、 上記記録及び／又は再生用レーザ光と異なる波長とされ
た間隔制御用レーザ光を、上記記録及び／又は再生用レ
ーザ光が入射されている収束レンズに入射させ、 上記収束レンズの上記信号記録媒体に対向される対向面
において反射された上記間隔制御用レーザ光の戻り光の
光強度を検出し、 上記戻り光の光強度の検出結果に基づいて、上記収束レ
ンズと上記信号記録媒体との間の間隔を制御することを
特徴とする記録及び／又は再生方法。 - 【請求項１１】 上記記録及び／又は再生用レーザ光の
波長よりも長波長とされた上記間隔制御用レーザ光を入
射させることを特徴とする請求項１０記載の記録及び／
又は再生方法。 - 【請求項１２】 上記信号記録媒体の信号記録面の感光
帯域以外の波長とされた上記間隔制御用レーザ光を入射
させることを特徴とする請求項１０記載の記録及び／又
は再生方法。
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