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JP2001021931A - Laser device for processing using nonlinear crystal of type 1 - Google Patents

Laser device for processing using nonlinear crystal of type 1

Info

Publication number
JP2001021931A
JP2001021931A JP11195531A JP19553199A JP2001021931A JP 2001021931 A JP2001021931 A JP 2001021931A JP 11195531 A JP11195531 A JP 11195531A JP 19553199 A JP19553199 A JP 19553199A JP 2001021931 A JP2001021931 A JP 2001021931A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
nonlinear optical
wave
optical crystal
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11195531A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kyoichi Deki
恭一 出来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho KK
Original Assignee
Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho KK filed Critical Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho KK
Priority to JP11195531A priority Critical patent/JP2001021931A/en
Publication of JP2001021931A publication Critical patent/JP2001021931A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To diminish fluctuations of the output power of a laser beam with a laser device for processing which emits laser beam subjected to wavelength conversion by using nonlinear optical crystals. SOLUTION: Fundamental waves emitted from a basic wave laser beam source 11 is made incident on the first nonlinear optical crystal 13 for double wave generation. The nonlinear optical crystal 13 generates the double wave and the basic wave. The basic wave and double wave emitted from the nonlinear optical crystal 13 are made incident on a wavelength plate 20. The wavelength plate 20 rotates the polarization directions of the basic wave in the direction parallel with the polarization direction of the basic wave and double wave. The double wave and basic wave of the parallel polarization directions emitted from the wavelength plate 20 are made incident on the second nonlinear optical crystal 13' of TYPE1, where the double wave and the basic wave are subjected to wavelength conversion and a triple wave and the fundamental wave are emitted. Since the crystal of the TYPE1 is larger in temperature permissible range width than that of a crystal of TYPE 2, the fluctuations in the output powder of the laser beam can be diminished even if a minor temperature change occurs in the crystals by using only the crystal of TYPE1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、波長変換素子を用
いて波長変換を行い、波長変換光を多層プリント板等の
被加工物に照射して加工を行う加工用レーザ装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing laser device for performing wavelength conversion using a wavelength conversion element, and irradiating a workpiece such as a multilayer printed board with wavelength converted light for processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板のビアホールの孔あけ、フ
ィルム・金属の切断等の加工にレーザが使用される。近
年、微細加工の要求により、加工に用いられるレーザが
短波長化している。短波長のレーザの発生には、非線形
光学結晶を用いた波長変換方式を用いることが有効であ
る。図8に、非線形光学結晶を用いた波長変換により基
本波(1ω)の3倍波(3ω)を発生させる加工用レー
ザ装置10の概略構成を示す。同図において、11は基
本波(1ω) を発生する基本波レーザ光源11であり、
基本波レーザ光源11としては、波長1064nmのレ
ーザ光を発振するNd:YAGレーザ装置や、波長10
53nmまたは1047nmのレーザ光を発振するN
d:YLFレーザ装置等を用いることができる。
2. Description of the Related Art Lasers are used for forming via holes in printed circuit boards, cutting films and metals, and the like. In recent years, a laser used for processing has been shortened in wavelength due to a demand for fine processing. For generation of a short-wavelength laser, it is effective to use a wavelength conversion method using a nonlinear optical crystal. FIG. 8 shows a schematic configuration of a processing laser device 10 that generates a third harmonic (3ω) of a fundamental wave (1ω) by wavelength conversion using a nonlinear optical crystal. In the figure, reference numeral 11 denotes a fundamental laser light source 11 for generating a fundamental wave (1ω).
As the fundamental wave laser light source 11, a Nd: YAG laser device that oscillates a laser beam having a wavelength of 1064 nm, a wavelength 10
N that oscillates laser light of 53 nm or 1047 nm
d: A YLF laser device or the like can be used.

【0003】基本波レーザ光源11から出射される基本
波レーザ光は、集光レンズ12によって集光され、第1
の非線形光学結晶13に入射する。第1の非線形光学結
晶13に入射された基本波レーザ光の一部はその2倍波
(2ω)に波長変換されて、非線形光学結晶13から出
射する。第1の非線形光学結晶13から出射する基本波
レーザ光とその2倍波は、さらに、第2の非線形光学結
晶13’に入射し、それが3倍波(3ω)に波長変換さ
れる。第2の非線形光学結晶13’からの出射光は集光
レンズ14によって集光され被加工物15に照射され
る。上記した第1、第2の非線形光学結晶13,13’
は温度と位相整合角(レーザ光が結晶に入射する角度)
が変化すると、出力するレーザパワーが変化することが
知られている。したがって、非線形光学結晶13,1
3’はその温度一定になるように制御されている。
The fundamental laser light emitted from the fundamental laser light source 11 is condensed by the condenser lens 12 and
Incident on the nonlinear optical crystal 13. A part of the fundamental laser light that has entered the first nonlinear optical crystal 13 is wavelength-converted to a second harmonic (2ω) of the fundamental laser light and exits from the nonlinear optical crystal 13. The fundamental laser light emitted from the first nonlinear optical crystal 13 and its second harmonic are further incident on the second nonlinear optical crystal 13 ′, which is wavelength-converted into the third harmonic (3ω). The light emitted from the second nonlinear optical crystal 13 ′ is condensed by the condensing lens 14 and is irradiated on the workpiece 15. The first and second nonlinear optical crystals 13 and 13 'described above.
Is the temperature and phase matching angle (the angle at which the laser beam enters the crystal)
It is known that when the power changes, the output laser power changes. Therefore, the nonlinear optical crystal 13, 1
3 'is controlled so that its temperature becomes constant.

【0004】非線形光学結晶13,13’の温度制御
は、非線形光学結晶13,13’の表面に熱電対16の
ような温度測定素子を接触させ、非線形光学結晶全体を
ヒータ18等の加熱手段、もしくはペルチェ素子等の冷
却手段で覆う。そして、熱電対16の出力を温度調節器
17(以下温調器17という)に入力する。温調器17
は、あらかじめ設定された温度になるように、測定され
た非線形光学結晶の温度をフィードバックし、加熱手段
もしくは冷却手段の入力を制御し、非線形光学結晶1
3,13’の温度を調節する。図8ではヒータ18を用
いて非線形光学結晶13を加熱する場合が図示されてい
る。なお、以下では非線形光学結晶を加熱する場合を例
にして説明する。
The temperature of the nonlinear optical crystals 13 and 13 ′ is controlled by bringing a temperature measuring element such as a thermocouple 16 into contact with the surfaces of the nonlinear optical crystals 13 and 13 ′ and heating the entire nonlinear optical crystal by a heating means such as a heater 18. Alternatively, it is covered with a cooling means such as a Peltier element. Then, the output of the thermocouple 16 is input to a temperature controller 17 (hereinafter, referred to as a temperature controller 17). Temperature controller 17
Feeds back the measured temperature of the nonlinear optical crystal so as to reach a preset temperature, controls the input of the heating means or the cooling means, and
Adjust the temperature of 3,13 '. FIG. 8 illustrates a case where the nonlinear optical crystal 13 is heated using the heater 18. Hereinafter, a case where the nonlinear optical crystal is heated will be described as an example.

【0005】図8に示した加工用レーザ装置10からの
出力は、次のようにして調整する。 非線形光学結晶13,13’を設定された所定の温
度に加熱し、一定温度になるように制御する。その状態
で、基本波レーザ光源11からのレーザ光を、非線形光
学結晶13に入射し、波長変換されて出力されるレーザ
光を図示しないパワーモニタによって受光する。 パワーモニタの表示を見ながら、その値が最大にな
るように、非線形光学結晶13,13’の位相整合角を
調整し、非線形光学結晶13,13’を配置する角度を
決定する。
The output from the processing laser device 10 shown in FIG. 8 is adjusted as follows. The nonlinear optical crystals 13 and 13 'are heated to a set predetermined temperature and controlled so as to be constant. In this state, the laser light from the fundamental laser light source 11 is incident on the nonlinear optical crystal 13, and the wavelength-converted and output laser light is received by a power monitor (not shown). While watching the display on the power monitor, the phase matching angles of the nonlinear optical crystals 13 and 13 'are adjusted so that the value becomes maximum, and the angle at which the nonlinear optical crystals 13 and 13' are arranged is determined.

【0006】図9は図8に示した加工用レーザ装置に使
用される非線形光学結晶の位相整合のタイプと、偏光方
向を示す図である。同図において、基本波レーザ発振器
11から発振された1ωの基本波は、2倍波発生用非線
形光学結晶13(SHG)に入射して、波長変換され2
倍波(2ω) と基本波( 1ω) とが出射する。ここで、
同図中の矢印、丸印(黒丸付き)はそれぞれ偏光方向を
示しており、矢印と丸印は偏光方向が互いに直交してい
ることを示している。2倍波発生用の非線形光学結晶1
3に入射する1ωの偏光方向は互いに平行であるので、
2倍波発生用の非線形光学結晶13としては、偏光方向
が互いに平行な光を入射して波長変換を行なうTYPE
1の結晶が用いられる。使用できる非線形光学結晶とし
ては、LBO,CLBO,BBO等がある。
FIG. 9 is a view showing the type of phase matching of a nonlinear optical crystal used in the processing laser device shown in FIG. 8 and the polarization direction. In the figure, a fundamental wave of 1ω oscillated from a fundamental wave laser oscillator 11 enters a nonlinear optical crystal 13 (SHG) for generating a second harmonic, and is wavelength-converted.
A harmonic (2ω) and a fundamental wave (1ω) are emitted. here,
Arrows and circles (with black circles) in the figure indicate the polarization directions, respectively, and the arrows and the circles indicate that the polarization directions are orthogonal to each other. Nonlinear optical crystal for generating second harmonic 1
Since the polarization directions of 1ω incident on 3 are parallel to each other,
As the non-linear optical crystal 13 for generating the second harmonic, a TYPE for performing wavelength conversion by inputting lights whose polarization directions are parallel to each other is used.
One crystal is used. Non-linear optical crystals that can be used include LBO, CLBO, BBO, and the like.

【0007】2倍波発生用の非線形光学結晶13から出
射された2倍波(2ω) と基本波(1ω) とが、3倍波
発生用の非線形光学結晶13’(THG)に入射して、
波長変換され、3倍波(3ω)、2倍波(2ω)、基本
波(1ω) とが出射する。2倍波発生用の非線形光学結
晶13は上記のようにTYPE1であり、TYPE1の
結晶から出射される波長変換された2倍波(2ω) の偏
光方向は、基本波(1ω) の偏光方向に対し直角にな
る。したがって、3倍波発生用の非線形光学結晶13’
には偏光方向が互いに直角な光を入射して波長変換を行
なうTYPE2の結晶が用いられる。使用される非線形
光学結晶の種類としては、LBO,CLBO等がある。
The second harmonic (2ω) and the fundamental wave (1ω) emitted from the second harmonic generation nonlinear optical crystal 13 enter the third harmonic generation nonlinear optical crystal 13 ′ (THG). ,
The wavelength is converted, and a third harmonic (3ω), a second harmonic (2ω), and a fundamental wave (1ω) are emitted. The nonlinear optical crystal 13 for generating the second harmonic is TYPE 1 as described above, and the polarization direction of the wavelength-converted second harmonic (2ω) emitted from the TYPE 1 crystal is the same as the polarization direction of the fundamental wave (1ω). At right angles to it. Therefore, the nonlinear optical crystal 13 ′ for generating the third harmonic wave
Is a TYPE2 crystal that converts wavelengths by entering light whose polarization directions are perpendicular to each other. Types of nonlinear optical crystals used include LBO and CLBO.

【0008】上記した加工用レーザ装置により、多層プ
リント板のビアホール加工等を行う場合には、レーザ光
をシャッタあるいはQ−SWによりオン/オフして、パ
ルス状のレーザ光を間欠的に被加工物に照射する。図1
0にレーザ光によるビアホール加工の様子を示す。同図
(a)に示すように、通常、一枚の基板上には、複数の
照射領域A1,A2,…が形成されており、各照射領域
A1,A2,…には複数の孔あけ箇所が設けられてい
る。そして、加工用レーザ装置から放出されるレーザ光
を、ガルバノメータ等の制御手段により走査して、多層
プリント板の各孔あけ位置に位置決めし、各孔あけ位置
にパルス状のレーザ光を複数回照射してビアホール加工
を行う。
When a via hole is formed in a multilayer printed board by the above-described processing laser device, the laser light is turned on / off by a shutter or a Q-SW, and the pulsed laser light is intermittently processed. Irradiate the object. FIG.
0 shows the state of via hole processing by laser light. As shown in FIG. 1A, usually, a plurality of irradiation areas A1, A2,... Are formed on a single substrate, and each irradiation area A1, A2,. Is provided. Then, the laser beam emitted from the processing laser device is scanned by a control means such as a galvanometer and positioned at each hole-forming position of the multilayer printed board, and each hole-forming position is irradiated with pulsed laser light a plurality of times. To perform via hole processing.

【0009】すなわち、同図(d)に示すように半値全
幅(ピーク値の1/2のときのパルス幅)が数10ns
〜数100nsで、繰り返し周波数が数kHz〜数10
kHzのレーザパルスを、領域A1の各孔あけ箇所で同
図(c)に示すように複数回照射して孔あけ加工を行
い、一つの孔あけが終わると同じ領域の次の孔あけ位置
にレーザ光を移動させ、同様にして孔あけを行う操作を
繰り返す。そして、領域A1の全ての孔あけが終了する
と、同図(b)示すように、レーザ光をオフにして、レ
ーザ光を次の領域A2に移動させ、同様な孔あけ加工を
行う。以下同様にして多層プリント板の各領域A1,A
2,…の孔あけ加工を順次行い、一枚の多層プリント基
板の孔あけが終わると、多層プリント板を交換して、次
のプリント板の加工を行う。ここで、レーザのショット
回数は、一つの孔を加工するのに1〜30ショットとな
る。なお、図10(c)ではレーザ光の出射開始直後、
レーザ光の大きさが次第に大きくなっているが、これは
後述するように非線形光学結晶の内部温度の上昇による
出力変動である。
That is, as shown in FIG. 1D, the full width at half maximum (pulse width at half the peak value) is several tens ns.
To several hundred ns, and the repetition frequency is several kHz to several tens.
A laser pulse of kHz is applied a plurality of times to each of the drilled locations in the area A1 as shown in FIG. 3 (c) to perform drilling processing. The laser light is moved, and the operation of making a hole is repeated in the same manner. Then, when all the holes in the area A1 are completed, the laser light is turned off, the laser light is moved to the next area A2, and similar drilling is performed, as shown in FIG. Hereinafter, similarly, each area A1, A of the multilayer printed board
The drilling process of 2,... Is sequentially performed, and when the drilling of one multilayer printed board is completed, the multilayer printed board is replaced and the next printed board is processed. Here, the number of laser shots is 1 to 30 shots for processing one hole. In FIG. 10C, immediately after the start of laser beam emission,
The size of the laser light gradually increases, but this is output fluctuation due to an increase in the internal temperature of the nonlinear optical crystal, as described later.

【0010】上記したように、加工用レーザ装置を多層
プリント板のビアホール等の加工に用いる場合、加工処
理済のワーク(多層プリント板)を未処理のワークに取
り換えたり、1つの多層プリント板内で、レーザ光を照
射する領域を移動させるなどの操作が必要である(この
操作を「段取り換え」という)。この段取り換えの時間
は、通常、数秒から数十秒(場合によっては数分間) か
かる。段取り換えを行なっている時は、図10で説明し
たようにレーザ光源からのレーザ光の出射を行なわず、
加工用レーザ装置はレーザを出力しない。そして、段取
り換え終了後、レーザ光源からレーザ光を出射し、ワー
クに波長変換されたレーザ光を照射する。
As described above, when a processing laser device is used for processing a via hole or the like of a multilayer printed board, a processed work (multilayer printed board) is replaced with an unprocessed work, or a single multilayer printed board is processed. Therefore, an operation such as moving an area to be irradiated with a laser beam is required (this operation is called “setup change”). The setup change time usually takes several seconds to several tens of seconds (sometimes several minutes). When the setup change is performed, the laser light is not emitted from the laser light source as described with reference to FIG.
The processing laser device does not output a laser. After the completion of the setup change, the laser light is emitted from the laser light source, and the work is irradiated with the wavelength-converted laser light.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】波長変換により基本波
の3倍波を発生させ加工を行う加工用レーザ装置におい
ては、前記したように3倍波発生用の非線形光学結晶1
3’として、TYPE2のLBO結晶やCLBO結晶が
使用されていた。非線形光学結晶は、前記図8で説明し
たように温調器により一定温度になるように制御されて
いるが、レーザ光の出力パワーの変動を10%以下にす
るためには、結晶の温度をおよそ土0.5°Cに制御す
る必要があり、前記したような温度調節では、なかなか
難かしいのが現状である。
In a processing laser apparatus for generating a third harmonic of a fundamental wave by wavelength conversion and performing processing, as described above, a nonlinear optical crystal 1 for generating a third harmonic is used.
As 3 ′, an LBO crystal or a CLBO crystal of TYPE 2 was used. The nonlinear optical crystal is controlled by the temperature controller to have a constant temperature as described with reference to FIG. 8. However, in order to make the fluctuation of the output power of the laser beam 10% or less, the temperature of the crystal must be controlled. At present, it is necessary to control the temperature to about 0.5 ° C., and it is currently difficult to control the temperature as described above.

【0012】特に、図9に示したTYPE2の非線形光
学結晶を用いたレーザ装置を、レーザ光を間欠的に照射
して多層プリント板等の加工を行う加工用レーザ装置に
適用した場合、温調器により非線形光学結晶の表面温度
が一定になるように制御しても、レーザ光の出力パワー
の変動を小さくするのは難しい。すなわち、レーザ光出
射開始直後、非線形光学結晶は波長変換された光を吸収
し、レーザが通過する結晶内部の温度が上昇していく。
また、レーザ光の出射が停止し所定時間経過すると結晶
内部の温度は低下する。このような結晶内部の温度変化
が、レーザ光がオン/オフする毎に繰り返され、それに
応じて、結晶の波長変換効率が変動し、レーザの出力パ
ワーが変動する。
In particular, when the laser apparatus using the TYPE 2 nonlinear optical crystal shown in FIG. 9 is applied to a processing laser apparatus for processing a multilayer printed board or the like by intermittently irradiating a laser beam, the temperature control is performed. It is difficult to reduce the fluctuation of the output power of the laser light even if the surface temperature of the non-linear optical crystal is controlled to be constant by the device. That is, immediately after the start of laser light emission, the nonlinear optical crystal absorbs the wavelength-converted light, and the temperature inside the crystal through which the laser passes increases.
Further, when the emission of the laser beam stops and a predetermined time elapses, the temperature inside the crystal decreases. Such a temperature change inside the crystal is repeated every time the laser light is turned on / off, and accordingly, the wavelength conversion efficiency of the crystal fluctuates, and the output power of the laser fluctuates.

【0013】特に、前記図10で説明したような多層プ
リント板の加工においては、段取り換えの間に非線形光
学結晶の内部温度が低下するため、段取り換え後レーザ
光を出射したとき非線形光学結晶の内部温度が上昇し、
図10(c)に示したように出力パワーが大きく変動す
る。ビアホールの加工等においては、レーザ光の出力パ
ワーが変動すると、孔の深さや加工形状に不具合が発生
し、実用上問題が生ずる。
In particular, in the processing of a multilayer printed board as described with reference to FIG. 10, since the internal temperature of the nonlinear optical crystal decreases during the setup change, when the laser light is emitted after the setup change, the nonlinear optical crystal is cut. The internal temperature rises,
The output power fluctuates greatly as shown in FIG. In the processing of a via hole or the like, if the output power of the laser beam fluctuates, a problem occurs in the depth of the hole or the processing shape, which causes a practical problem.

【0014】図11、図12は、TYPE2のLBO結
晶について、レーザ光出射開始直後のレーザパワーの変
化を示したものであり、レーザの出力パワーが3Wの場
合を示しており、横軸は時間(sec)、縦軸は出力パワー
(W)である。ここで、図11は結晶の表面温度を例え
ば55.1°Cに制御した場合の変化であり、図12は
結晶の表面温度を例えば55.4°Cに制御した場合の
変化を示す。図11、図12から明らかなように、いず
れの場合にもレーザ光出射開始直後、レーザパワーが変
化している。すなわち、図11ではレーザ光出射開始直
後から出力パワーが上昇し続けており、また、図12で
は、レーザ光出射開始直後、一旦出力パワーが上昇し、
その後出力パワーが低下している。以上のように従来の
TYPE2の非線形光学結晶を用いた加工用レーザ装置
においては、レーザ光の出力パワーが変動し、加工に不
具合を生じるといった問題が生じた。
FIG. 11 and FIG. 12 show changes in laser power of the LBO crystal of TYPE 2 immediately after the start of laser beam emission, where the output power of the laser is 3 W, and the horizontal axis represents time. (Sec), the vertical axis is the output power (W). Here, FIG. 11 shows a change when the surface temperature of the crystal is controlled to, for example, 55.1 ° C., and FIG. 12 shows a change when the surface temperature of the crystal is controlled to, for example, 55.4 ° C. As is clear from FIGS. 11 and 12, the laser power changes immediately after the start of laser beam emission in each case. That is, in FIG. 11, the output power continues to increase immediately after the start of laser light emission, and in FIG. 12, the output power temporarily increases immediately after the start of laser light emission,
Thereafter, the output power has decreased. As described above, in the conventional processing laser device using the TYPE 2 nonlinear optical crystal, the output power of the laser light fluctuates, causing a problem in processing.

【0015】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であって、本発明の目的は、非線形光学結晶を用いて波
長変換したレーザ光を出射する加工用レーザ装置におい
て、非線形光学結晶に多少の温度変化が生じても、レー
ザ光の出力パワーの変動を小さくすることができる加工
用レーザ装置を提供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a processing laser device that emits laser light whose wavelength has been converted using a nonlinear optical crystal. An object of the present invention is to provide a processing laser device capable of reducing fluctuations in output power of laser light even when a temperature change occurs.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、非線形光学結晶により波長変換
を行ない紫外線レーザ光を発生するレーザ装置におい
て、波長変換用の非線形光学結晶にTYPE1の結晶の
みを用いる。TYPE1の結晶はTYPE2の結晶に比
べて温度許容幅が大きく、温度変化に対する出力パワー
の変動が少ないことを見いだした。したがって、TYP
E1の結晶のみを用いることにより、結晶の温度が多少
変動してもレーザ光の出力パワーの変動を抑えることが
できる。ここで、TYPE1の結晶を用いて波長変換を
行なうためには、波長変換される光の偏光方向が、互い
に平行でなければならない。そこで、波長板を用いて、
TYPE1の結晶に入射する基本波、2倍波もしくは3
倍波かのいずれか一方のレーザ光を、90°回転させ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a laser device that performs wavelength conversion by using a nonlinear optical crystal and generates an ultraviolet laser beam. Use only It has been found that the TYPE 1 crystal has a larger allowable temperature range than the TYPE 2 crystal, and that the output power does not fluctuate much with a change in temperature. Therefore, TYP
By using only the crystal of E1, fluctuation of the output power of the laser beam can be suppressed even if the temperature of the crystal fluctuates somewhat. Here, in order to perform wavelength conversion using a TYPE 1 crystal, the polarization directions of the wavelength-converted lights must be parallel to each other. Therefore, using a wave plate,
Fundamental wave, second harmonic wave or 3 incident on TYPE 1 crystal
One of the harmonics is rotated by 90 °.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】まず、結晶温度と波長変換効率と
の関係について説明する。一般に、非線形結晶の波長変
換効率η(イータ) は、次のような(1) 式で表すことが
できる。 η∝{sin2( ΔkL/2)}/(ΔkL/2)2 …(1) ここで、Lは非線形結晶の光学的距離、Δkは非線形結
晶に入射するレーザと出射するレーザとの波数の差であ
り、次のような(2) 式で表される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, the relationship between the crystal temperature and the wavelength conversion efficiency will be described. In general, the wavelength conversion efficiency η (eta) of a nonlinear crystal can be expressed by the following equation (1). η∝ {sin 2 (ΔkL / 2)} / (ΔkL / 2) 2 (1) where L is the optical distance of the nonlinear crystal, and Δk is the wave number of the laser beam incident on the nonlinear crystal and the laser beam emitted therefrom. The difference is expressed by the following equation (2).

【0018】また、λ1,λ2は非線形結晶に入射する
レーザの波長、λ3は非線形結晶から出射する波長変換
されたレーザの波長、ni は波長λiに対する屈折率
で、非線形結晶の物理光学座標に対する入射光の入射角
(θ)とその偏光方位(φ) 、及び非線形結晶の温度
(T) によって決まる。即ち、屈折率nは次の(3) 式に
示すようにθ,φ,Tの関数として表すことができる。 n=f(θ,φ,T)…(3)
[Lambda] 1 and [lambda] 2 are the wavelengths of the laser beam incident on the nonlinear crystal, [lambda] 3 is the wavelength of the wavelength-converted laser beam emitted from the nonlinear crystal, and ni is the refractive index with respect to the wavelength [lambda] i. It is determined by the incident angle (θ) of light, its polarization direction (φ), and the temperature (T) of the nonlinear crystal. That is, the refractive index n can be expressed as a function of θ, φ, and T as shown in the following equation (3). n = f (θ, φ, T) (3)

【0019】したがって、(1)(2)(3) 式より、波長変換
効率ηは、非線形結晶の温度Tの関数として表すことが
できる。そこで、波長変換効率ηを結晶温度に対して表
すと図3のようになる。ここで、波長変換効率が半減す
る(0.5になる) までに許される温度幅のことを、温
度許容幅と言い、通常全幅で定義される。図3から明ら
かなように、結晶の変換効率ηが最大となる結晶温度T
o が存在し、非線形光学結晶の内部温度(レーザ光が通
過する部分の温度)をこの温度に保持すれば、波長変換
効率を最大とすることができる。しかし、前記したよう
に加工用レーザ装置においては、非線形光学結晶の内部
温度を一定に保つのは難しい。このため、使用する非線
形光学結晶としては、結晶の温度変化に対して変換効率
の変化が小さいものを選択するのが望ましい。
Therefore, from the equations (1), (2) and (3), the wavelength conversion efficiency η can be expressed as a function of the temperature T of the nonlinear crystal. Therefore, when the wavelength conversion efficiency η is expressed with respect to the crystal temperature, it becomes as shown in FIG. Here, the temperature range allowed until the wavelength conversion efficiency is reduced by half (to 0.5) is referred to as a temperature range, and is usually defined by the entire range. As is apparent from FIG. 3, the crystal temperature T at which the conversion efficiency η of the crystal is maximized.
If o is present and the internal temperature of the nonlinear optical crystal (the temperature of the portion through which the laser beam passes) is maintained at this temperature, the wavelength conversion efficiency can be maximized. However, as described above, in the processing laser device, it is difficult to keep the internal temperature of the nonlinear optical crystal constant. For this reason, it is desirable to select a nonlinear optical crystal that has a small change in the conversion efficiency with respect to a change in the temperature of the crystal.

【0020】そこで、TYPE1,TYPE2のLBO
結晶について温度許容幅を調べた。図4〜図6は、TY
PE1,TYPE2のLBO結晶の温度許容幅を示す図
である。図4は、Nd:YLFレーザが出射する104
7nmのレーザ光と、その2倍波である523.5nm
の光をLBO結晶に入射して349nmの3倍波を発生
させる場合、図5はNd:YAGレーザが出射する10
64nmのレーザ光と、その2倍波である532nmの
光をLBO結晶に入射して354.7nmの3倍波を発
生させる場合、図6はNd:YLFレーザが出射する1
053nmのレーザ光と、その2倍波である526.5
nmの光をLBO結晶に入射して351nmの3倍波を
発生させる場合おけるTYPE1とTYPE2の結晶の
温度許容幅を示したものであり、丸印がTYPE1、四
角印がTYPE2の結晶を示している。
Therefore, the LBO of TYPE1 and TYPE2
The allowable temperature range of the crystal was examined. FIG. 4 to FIG.
It is a figure which shows the allowable temperature range of the LBO crystal of PE1 and TYPE2. FIG. 4 shows 104 emitted from the Nd: YLF laser.
7 nm laser light and its second harmonic, 523.5 nm
5 is incident on the LBO crystal to generate a third harmonic of 349 nm, FIG.
When a 64 nm laser beam and its second harmonic, 532 nm, are incident on the LBO crystal to generate a 354.7 nm third harmonic, FIG.
053 nm laser light and its second harmonic, 526.5
When the light of nm is incident on the LBO crystal to generate a third harmonic of 351 nm, the allowable temperature range of the TYPE1 and TYPE2 crystals is shown. I have.

【0021】図4〜図6から明らかなように、TYPE
1のLBO結晶の温度許容幅は、TYPE2の結晶に比
べて10倍以上大きい。温度許容幅が大きいことは、温
度変化に対する出力パワーの変動が小さいことを意味し
ており、TYPE1の結晶を用いることにより、TYP
E2の結晶を用いる場合に比べ温度変化に対する出力パ
ワーの変動を小さくすることができる。
As is clear from FIGS. 4 to 6, TYPE
The allowable temperature range of the 1 LBO crystal is at least 10 times larger than that of the TYPE 2 crystal. A large allowable temperature range means that the fluctuation of the output power with respect to a temperature change is small.
The variation of the output power with respect to the temperature change can be reduced as compared with the case where the crystal of E2 is used.

【0022】図1は第1、第2の非線形光学結晶とし
て、TYPE1の結晶を使用した本発明の実施例のレー
ザ装置の構成を示す図である。なお、同図では、非線形
光学結晶の位相整合のタイプと、偏光方向を示している
が、前記図8に示した加工用レーザ装置に適用すること
ができる。同図において、前記図8、図9に示したもの
と同一のものには同一の符号が付されており、11は基
本波(1ω) を発生する基本波レーザ光源であり、基本
波レーザ光源11としては、前記したように波長106
4nmのレーザ光を発振するNd:YAGレーザ装置
や、波長1053nmまたは1047nmのレーザ光を
発振するNd:YLFレーザ装置等を用いることができ
る。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a laser device according to an embodiment of the present invention using a TYPE 1 crystal as the first and second nonlinear optical crystals. Although FIG. 8 shows the type of phase matching of the nonlinear optical crystal and the polarization direction, the present invention can be applied to the processing laser device shown in FIG. 8, the same components as those shown in FIGS. 8 and 9 are denoted by the same reference numerals, and 11 is a fundamental laser light source for generating a fundamental wave (1ω). 11 is the wavelength 106 as described above.
An Nd: YAG laser device which oscillates 4 nm laser light, an Nd: YLF laser device which oscillates laser light having a wavelength of 1053 nm or 1047 nm, or the like can be used.

【0023】13は第1の非線形光学結晶(SHG)、
13’は第2の非線形光学結晶(THG)であり、第1
の非線形光学結晶13,第2の非線形光学結晶13’と
しては、偏光方向が互いに平行な光を入射して波長変換
を行なうTYPE1の結晶が用いられる。第1の非線形
光学結晶13として使用できる結晶の種類としては、L
BO,CLBO,BBO等がある。また、第2の非線形
光学結晶として使用できる結晶の種類としては、LBO
がある。20は第1の非線形光学結晶13から出射され
る基本波(1ω)を、90°回転させる波長板であり、
本実施例においては、上記のように第2の非線形光学結
晶13’にTYPE1の結晶を用いているので、第1の
非線形光学結晶13と第2の非線形光学結晶13’の間
に、上記波長板20が設けられている。
13 is a first nonlinear optical crystal (SHG),
13 ′ is a second nonlinear optical crystal (THG),
As the non-linear optical crystal 13 and the second non-linear optical crystal 13 ′, a TYPE 1 crystal that performs wavelength conversion by incident light having parallel polarization directions is used. The types of crystals that can be used as the first nonlinear optical crystal 13 include L
BO, CLBO, BBO and the like. The type of crystal that can be used as the second nonlinear optical crystal is LBO
There is. Reference numeral 20 denotes a wave plate that rotates the fundamental wave (1ω) emitted from the first nonlinear optical crystal 13 by 90 °.
In the present embodiment, since the TYPE 1 crystal is used for the second nonlinear optical crystal 13 ′ as described above, the wavelength between the first nonlinear optical crystal 13 and the second nonlinear optical crystal 13 ′ is set. A plate 20 is provided.

【0024】同図において、基本波レーザ光源11から
出射される基本波(1ω)は、2倍波発生用の第1の非
線形光学結晶13に入射する。第1の非線形光学結晶1
3は、非線形光学結晶13は、上記基本波(1ω) を波
長変換し、その2倍波(2ω) と基本波(1ω) とを発
生する。2倍波発生用の非線形光学結晶13は上記のよ
うにTYPE1であり、TYPE1の結晶から出射され
る波長変換された2倍波(2ω) の偏光方向は、同図に
示すように基本波(1ω) の偏光方向に対し直角にな
る。非線形光学結晶13から出射する基本波(1ω)と
2倍波(2ω)は波長板20に入射し、波長板20は基
本波(1ω)の偏光方向を90°回転させる。その結
果、波長板20から出射する基本波(1ω)と2倍波
(2ω)は同図に示すように平行となる。
In FIG. 1, a fundamental wave (1ω) emitted from a fundamental laser light source 11 enters a first nonlinear optical crystal 13 for generating a second harmonic. First nonlinear optical crystal 1
In 3, the nonlinear optical crystal 13 converts the wavelength of the fundamental wave (1ω) to generate a second harmonic (2ω) and a fundamental wave (1ω). The nonlinear optical crystal 13 for generating the second harmonic is TYPE 1 as described above, and the polarization direction of the wavelength-converted second harmonic (2ω) emitted from the crystal of TYPE 1 is the fundamental wave (2ω) as shown in FIG. 1ω) is perpendicular to the polarization direction. The fundamental wave (1ω) and the second harmonic (2ω) emitted from the nonlinear optical crystal 13 enter the wave plate 20, and the wave plate 20 rotates the polarization direction of the fundamental wave (1ω) by 90 °. As a result, the fundamental wave (1ω) and the second harmonic (2ω) emitted from the wave plate 20 become parallel as shown in FIG.

【0025】波長板20から出射する偏光方向が平行な
2倍波(2ω) と基本波(1ω) は、TYPE1の第2
の非線形光学結晶13’に入射して波長変換され、第2
の非線形光学結晶13’からは3倍波(3ω)と基本波
(1ω) とが出射する。以上のように、本実施例におい
ては、第1の非線形光学結晶13と第2の非線形光学結
晶13’の間に波長板20を設けているので、第2の非
線形光学結晶としてTYPE1の非線形光学結晶を用い
ることができ、温度変化に対する波長変換効率の変化を
小さくすることができる。
The second harmonic wave (2ω) and the fundamental wave (1ω) whose polarization directions emitted from the wave plate 20 are parallel to each other are
Incident on the non-linear optical crystal 13 ′ and wavelength-converted,
A third harmonic (3ω) and a fundamental wave (1ω) are emitted from the nonlinear optical crystal 13 ′. As described above, in the present embodiment, since the wave plate 20 is provided between the first nonlinear optical crystal 13 and the second nonlinear optical crystal 13 ′, the nonlinear optical crystal of TYPE 1 is used as the second nonlinear optical crystal. A crystal can be used, and a change in wavelength conversion efficiency with a change in temperature can be reduced.

【0026】図2は上記実施例の変形例を示す図であ
り、図2においては、波長板20’として、第1の非線
形光学結晶13から出射する基本波(1ω)と2倍波
(2ω)の内、2倍波の偏光方向を90°回転させる波
長板を用いたものである。図2においても、波長板2
0’により第2の非線形光学結晶13’に入射する光の
偏光方向を平行にしているので、第2の非線形光学結晶
としてTYPE1の結晶を使用することができ、図1と
同様に、温度変化に対する波長変換効率の変化を小さく
することができる。図7は、本実施例のレーザ装置にお
けるレーザ光出射開始直後のレーザパワーの変化を示す
図である。同図は第2の非線形光学結晶として温度を5
0〜51°Cに保ったTYPE1のLBO結晶を用いた
場合を示しており、出力パワーは前記図11、図12と
同様、3Wである。同図から明らかなように、TYPE
1の結晶を使用した本実施例のレーザ装置においては、
レーザ光出射開始直後のレーザパワーに殆ど変動がな
い。このため、前記したように多層プリント板の加工に
適用した場合でも、加工に不具合が生ずることがない。
FIG. 2 is a view showing a modification of the above embodiment. In FIG. 2, a fundamental wave (1ω) and a second harmonic (2ω) emitted from the first nonlinear optical crystal 13 are used as a wave plate 20 ′. ) Uses a wave plate that rotates the polarization direction of the second harmonic wave by 90 °. Also in FIG.
Since the polarization direction of the light incident on the second nonlinear optical crystal 13 'is made parallel by 0', a TYPE 1 crystal can be used as the second nonlinear optical crystal. , The change in the wavelength conversion efficiency can be reduced. FIG. 7 is a diagram showing a change in laser power immediately after the start of laser beam emission in the laser device of the present embodiment. The figure shows that the temperature is 5 as the second nonlinear optical crystal.
This shows a case where an LBO crystal of TYPE 1 maintained at 0 to 51 ° C. is used, and the output power is 3 W as in FIGS. 11 and 12. As is clear from FIG.
In the laser apparatus of this embodiment using the crystal of No. 1,
There is almost no change in the laser power immediately after the start of laser light emission. For this reason, even when it is applied to the processing of a multilayer printed board as described above, no problem occurs in the processing.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように本発明においては以
下の効果を得ることができる。 (1) 波長変換用の非線形結晶に、温度許容幅の広いT
YPE1のみを用いたので、結晶に多少の温度変化が生
じても、波長変換されたレーザ光の出力パワーの変動を
抑えることができる。 (2)特に、レーザ光出射開始直後において結晶の内部
温度が多少変化しても、出力パワーの変動がほとんど生
じないので、パルス状のレーザ光を間欠的に照射する加
工用レーザ装置にして使用した場合に、孔の深さや加工
形状に不具合が発生することを防止することができる。
As described above, the following effects can be obtained in the present invention. (1) A non-linear crystal for wavelength conversion has a wide temperature tolerance T
Since only YPE1 is used, even if a slight temperature change occurs in the crystal, it is possible to suppress the fluctuation of the output power of the wavelength-converted laser light. (2) Particularly, even if the internal temperature of the crystal slightly changes immediately after the start of laser light emission, the output power hardly fluctuates, so that it is used as a processing laser device for intermittently applying pulsed laser light. In this case, it is possible to prevent the occurrence of defects in the depth of the hole and the processed shape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例のレーザ装置の構成を示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a laser device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の実施例の変形例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a modification of the embodiment of FIG. 1;

【図3】結晶温度に対する波長変換効率ηを示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing wavelength conversion efficiency η with respect to crystal temperature.

【図4】TYPE1,TYPE2のLBO結晶の温度許
容幅を示す図(1)である。
FIG. 4 is a diagram (1) showing an allowable temperature range of LBO crystals of TYPE1 and TYPE2.

【図5】TYPE1,TYPE2のLBO結晶の温度許
容幅を示す図(2)である。
FIG. 5 is a diagram (2) illustrating an allowable temperature range of LBO crystals of TYPE1 and TYPE2.

【図6】TYPE1,TYPE2のLBO結晶の温度許
容幅を示す図(3)である。
FIG. 6 is a diagram (3) showing an allowable temperature range of LBO crystals of TYPE1 and TYPE2.

【図7】本発明の実施例のレーザ装置におけるレーザ光
出射開始直後のレーザパワーの変化を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a change in laser power immediately after the start of laser beam emission in the laser device according to the embodiment of the present invention.

【図8】非線形光学結晶を用いた波長変換により3倍波
を発生させる加工用レーザ装置の概略構成を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a processing laser device that generates a third harmonic by wavelength conversion using a nonlinear optical crystal.

【図9】図8に示した加工用レーザ装置に使用される非
線形光学結晶の位相整合のタイプと偏光方向を示す図で
ある。
9 is a diagram showing a type of phase matching and a polarization direction of a nonlinear optical crystal used in the processing laser device shown in FIG.

【図10】レーザ光によるビアホール加工の様子を示す
図である。
FIG. 10 is a diagram showing a state of via hole processing by laser light.

【図11】TYPE2のLBO結晶から出射されるレー
ザパワーの変化を示す図(1)である。
FIG. 11 is a diagram (1) illustrating a change in laser power emitted from the LBO crystal of TYPE2.

【図12】TYPE2のLBO結晶から出射されるレー
ザパワーの変化を示す図(2)である。
FIG. 12 is a diagram (2) illustrating a change in laser power emitted from the LBO crystal of TYPE2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 基本波レーザ光源 13 第1の非線形光学結晶 13’ 第2の非線形光学結晶 20 波長板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Fundamental-wave laser light source 13 1st nonlinear optical crystal 13 '2nd nonlinear optical crystal 20 Wave plate

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非線形光学結晶により波長変換を行な
い、紫外線レーザ光を発生するレーザ装置であって、 基本波レーザ光を発振するレーザ発振器と、 上記レーザ発振器からの基本波レーザ光を入射して、そ
の2倍波を出射する第1のTYPE1の非線形光学結晶
と、 上記基本波レーザ光と上記2倍波の偏光方向を互いに平
行とする波長板と、 上記波長板を通過した、上記基本波レーザ光と上記2倍
波とを入射して、基本波レーザ光の3倍波を出射する第
2のTYPE1のLBO結晶とを備えたことを特徴とす
る加工用レーザ装置。
1. A laser device that performs wavelength conversion by a nonlinear optical crystal and generates an ultraviolet laser beam, comprising: a laser oscillator that oscillates a fundamental laser beam; A nonlinear optical crystal of the first type 1 that emits a second harmonic thereof, a wave plate that makes the polarization directions of the fundamental wave laser light and the second harmonic wave parallel to each other, and the fundamental wave that passes through the wave plate. A laser device for processing, comprising: a second type 1 LBO crystal that receives a laser beam and the second harmonic and emits a third harmonic of a fundamental laser beam.
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