JP2001002464A - 高耐電圧性アルミナ基焼結体及びその製造方法 - Google Patents
高耐電圧性アルミナ基焼結体及びその製造方法Info
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Abstract
を要求されるセラミック製品の材料として好適な、アル
ミナ基焼結体及びその製造方法を提供する。 【構成】アルミナに希土類元素RE(ランタン、プラセ
オジム、ネオジム等)を添加し、焼結体中にRE−β−
アルミナ(REAl11O18)の結晶相を生成させ、該焼
結体の相対密度を95%以上と緻密にすることにより高
耐電圧なアルミナ基焼結体を得る。該焼結体内に存在す
るNa含有量を酸化物換算で0.05重量部以下に調整
することで耐電圧性をより良好にできる。該焼結体の耐
電圧値は60kV/mm以上の高い値を示し、スパーク
プラグ等に用いる絶縁碍子に好適である。
Description
として好適な、高い絶縁性、耐電圧性を有するアルミナ
基焼結体およびその製造方法に関するものである。特に
は、スパークプラグ等に用いる絶縁碍子のように、室温
から700℃付近の高温下での耐電圧性を要求されるア
ルミナ基焼結体として好適なものである。
熱性及び機械的特性等に優れ、安価であるため、スパー
クプラグ用の絶縁碍子やICパッケージの多層配線基板
などのセラミック製品の材料として用いられている。特
に、スパークプラグの絶縁碍子に於いては室温から70
0℃付近の高温まで高い絶縁性が要求される。
料として、SiO2−CaO−MgOからなる三成分系
を焼結助剤として用いたアルミナ基焼結体が用いられて
きた。しかし、この三成分系焼結助剤が焼結後にアルミ
ナの粒界に低融点ガラスとして存在するため、高電圧印
加時に粒界相を通じて絶縁破壊を起こしやすくなる。粒
界の低融点ガラス相を減らす目的で三成分系焼結助剤の
添加量を低減すると、アルミナ粒界に多数の気孔が発生
し、耐電圧特性を低下させてしまう。したがって、アル
ミナ基焼結体の耐電圧性を向上させるには、焼結体組織
をより緻密にして、粒界ガラス相の耐熱性を向上させる
ことが必要である。
種々の方法が検討されている。例えば、特公昭63−1
262号公報においては、高耐電圧性を向上させる目的
で、従来から用いられているSiO2−CaO−MgO
三成分系焼結助剤の配合比を限定する方法が開示されて
いる。特開昭62−100474号公報では造粒子の粒
径を制御することにより、また、特開昭62−1438
66号公報では、粒径の異なる2種類のアルミナ原料を
使用することにより、焼結体中の残留気孔を減少させ耐
電圧性を向上させる術が開示されている。
耐熱性向上を目的として、種々の方法が検討されてい
る。例えば、特公平7−17436号公報では、Y
2O3、La 2O3及びZrO2といった焼結助剤を用
いることにより、粒界ガラスの融点を向上させている。
特許第2564842号公報では、有機金属化合物を原
料として用いて焼結助剤を均一に分散し、粒界にY4A
l2O9結晶相を生成させることにより粒界の耐熱性を
向上させて、材料の高耐電圧化を達成している。特許第
2035965号公報では、Y2O3、La2O3といっ
た希土類やZrO2等を含む焼結助剤を用い、また、焼
結体の空孔率を6%以下にして高耐電圧化を達成してい
る。
バルブの大型化に伴い、スパークプラグは小径化され、
それに伴い絶縁碍子の肉厚を薄くする必要がでできた。
この為、上記のような従来技術を用いたアルミナ絶縁材
料では、700℃付近の高温下で使用した場合に十分な
耐電圧性は得られなかった。
アルミナ基焼結体では、アルミナ絶縁層の肉厚を薄く
し、更に700℃付近の高温下で使用した場合に従来と
同等の耐電圧性を得難いという問題がある。本発明は、
アルミナ絶縁層の肉厚を薄くしても700℃付近の高温
下で十分な耐電圧性が得られる高耐電圧性アルミナ基焼
結体を提供することを目的とする。
E.成分を少なくとも含むアルミナ基焼結体中の理論密
度比を95%以上にすることを要旨とする。
第3a族のSc、Y及びLaからLu(ルテチウム)ま
でのランタノイド元素であれば、いずれも同様な効果が
得られる。特には、La、Pr、Nd、Dy、Er、S
c等のRE.成分が特性上及び工業上好ましい。RE.
成分として更に好ましくは、La、Pr、Nd、Dyで
ある。RE.成分として更に特に好ましくは、Nd、P
r、Dyである。高温下における耐電圧性を飛躍的に向
上できるからである。
上とした理由は、これより理論密度比が低いと高温下で
の耐電圧性が低下するからである。ここにいう「理論密
度」とは、焼結体に含まれる各元素の含有量を酸化物に
換算し、各酸化物の含有量から混合則によって計算され
る密度である。ここにいう「理論密度比」とは、アルキ
メデス法によって測定された焼結体密度の上記理論密度
に対する割合を示すものである。理論密度比の数値が大
きい程、焼結体がより緻密となり耐電圧性が高くなる。
体を用いれば、700℃付近の高温下でも十分な耐電圧
性を発揮することが可能となる。
とを少なくとも含むアルミナ基焼結体中に含まれるNa
成分量を所定の範囲に制御し、且つ、アルミナ基焼結体
の理論密度比を95%以上にすることを要旨とする。
第3a族のSc、Y及びLaからLu(ルテチウム)ま
でのランタノイド元素であれば、いずれも同様な効果が
得られる。特には、La、Pr、Nd、Dy、Er、S
c等のRE.成分が特性上或いは工業上好ましい。R
E.成分として更に好ましくは、La、Pr、Nd、D
yである。RE.成分として更に特に好ましくは、N
d、Pr、Dyである。高温下での耐電圧性を飛躍的に
向上できるからである。
重量部以下に規定した理由は、Na成分がこれ以上増え
るとNaイオンによるイオン伝導性が発生し、その結
果、耐電圧性が低下するからである。Na成分の含有量
のより好ましい範囲としては0.02重量部以下が好ま
しい。Na成分の含有量を適切に調整することにより、
イオン伝導性の発生を抑えるとともに、耐電圧性と耐熱
性を両立したアルミナ基焼結体が得られる。
もよいが、製造プロセスの便宜上、あらかじめアルミナ
原料粉末に含有させておくことが望ましい。アルミナ素
地中におけるNa成分の分散状態によって、得られる焼
結体の耐電圧性にばらつきが発生しやすいからである。
例えば、アルミナ中にナノオーダーのNa成分が分散し
ているのが好ましい。また、工業的に得られるアルミナ
原料には、Na成分を不可避不純物として含むものが多
いので、所定のNa含有量のアルミナ原料粉末を選択す
るのが工業上好ましい。
上とした理由は、これより理論密度比が低いと高温下で
の耐電圧性が低下するからである。ここにいう「理論密
度」とは、焼結体に含まれる各元素の含有量を酸化物に
換算し、各酸化物の含有量から混合則によって計算され
る密度である。ここにいう「理論密度比」とは、アルキ
メデス法によって測定された焼結体密度の上記理論密度
に対する割合を示すものである。理論密度比の数値が大
きい程、焼結体がより緻密となり耐電圧性が高くなる。
体を用いれば、700℃付近の高温下でも十分な耐電圧
性を発揮することが可能となる。
2に記載されたアルミナ基焼結体に含まれるRE.成分
の含有量の好ましい範囲を規定したものである。RE.
成分の含有量を0.01〜18重量部の範囲に規定した
理由は以下のようである。すなわち、RE.成分の含有
量が0.01重量部未満では高温下(例えば、700
℃)での耐電圧性の向上の効果が十分に得らず、RE.
成分の含有量が18重量部を越えても同じく耐電圧性の
向上の効果が十分に得られないからである。また、R
E.成分を多く用いることによる製造コストの増加も問
題となる。
のいずれかに記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体の好ま
しい構成を例示したものである。具体的には、アルミナ
基焼結体に含まれるSi成分(S:単位は重量部)、C
a成分(C:単位は重量部)、Mg成分(M:単位は重
量部)の総計に対するSi成分の割合を重量基準で所定
の範囲に規定したものである。Si成分の割合を本発明
に規定する範囲に調整しておけば、RE.成分の添加等
と相俟ってアルミナ基焼結体の高温下(例えば、700
℃)における耐電圧性を効果的に向上できる。
+M)≧0.7)の範囲を外れる場合においては、前記
三成分はアルミナ基焼結体の緻密化を促進する通常の焼
結助剤としての機能しか発揮しないため、アルミナ基焼
結体の高温下(例えば、700℃)における耐電圧性を
向上させる効果を奏することができない。
のいずれかに記載されたアルミナ基焼結体に含まれるR
E.成分及び結晶相の好ましい種類を規定したものであ
る。高温下での耐電圧性を得るには、アルミナ基焼結体
中にRE.−β−アルミナ構造の結晶相を析出させるの
が効果的である。
うである。すなわち、これ以外のRE.元素では3価の
イオンのイオン半径が小さくなり、RE.−β−アルミ
ナ構造の結晶相が析出しないからである。RE.−β−
アルミナ結晶相が析出することで高温下(例えば、70
0℃)での耐電圧性が効果的に向上できる。RE.−β
−アルミナ結晶相の存在箇所は特には限定されるもので
はないが、700℃の高温下における耐電圧性をより効
果的に向上させるためには、アルミナの二粒子粒界及び
/又は三重点に存在するのが好ましい。また、特に耐電
圧性が要求される箇所にのみ選択的にRE.−β−アル
ミナ結晶相を析出させてもよい。
−アルミナのJCPDSカードが存在しないため、X線
回折による同定は直接的には不可能である。しかし、P
r3+及びNd3+のイオン半径がLa3+とほぼ同等である
ため、La−β−アルミナのJCPDSカード(No.
33−699)と類似したX線回折スペクトルを示す。
尚、RE.−β−アルミナ結晶相は、RE.−β−アル
ミナを原料粉末として予め添加することもできるが、焼
成時にRE.−β−アルミナ粒成長の異方成長が著しい
ため、アルミナ基焼結体の緻密化が阻害されるおそれが
ある。したがって、RE.−β−アルミナ結晶相は焼成
過程において析出生成させることが好ましい。
のいずれかに記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体の好ま
しい構成を例示したものである。具体的には、アルミナ
基焼結体に含まれるSi成分(S:単位は重量部)、C
a成分(C:単位は重量部)、Mg成分(M:単位は重
量部)の総計に対するSi成分の割合を重量基準で所定
の範囲に規定するとともに、アルミナ基焼結体に含まれ
る結晶相の好ましい種類を規定したものである。Si成
分の割合を本発明に規定する範囲に調整するとともに、
結晶相としてムライト(Al6Si2O13)結晶相を少な
くとも有することことで、RE.成分の添加等と相俟っ
てアルミナ基焼結体の高温下(例えば、700℃)にお
ける耐電圧性を効果的に向上できる。
0℃)での耐電圧性を向上するには、本発明のようにム
ライト結晶相を析出させることも効果的である。ムライ
ト結晶相の析出により、より一層耐電圧性を高めること
ができる。ムライト結晶相の存在箇所は特には限定され
るものではないが、700℃の高温下における耐電圧性
をより効果的に向上させるためには、アルミナの二粒子
粒界及び/又は三重点に存在するのが好ましい。また、
特に耐電圧性が要求される箇所にのみ選択的にムライト
結晶相を析出させてもよい。
/(S+C+M)≧0.75)の範囲にあれば、ムライ
ト結晶相を効率良く生成できるため、アルミナ基焼結体
の高温下(例えば、700℃)における耐電圧性を効果
的に向上できる。特には、0.78以上0.92以下の
範囲にすれば、アルミナ基焼結体の高温下(例えば、7
00℃)における耐電圧性をより効果的に向上できる。
一方、前記三成分の割合が関係式の範囲を外れる場合に
おいては、ムライト結晶相の生成がほとんどない。
6に記載のアルミナ基焼結体の製造に少なくとも必要な
要件を規定したものである。第1の要件は、用いるアル
ミナ原料粉末の規定であり、具体的には、平均粒径とN
a成分の含有量を所定の範囲にすることである。第2の
要件は、焼成工程の条件を、1450〜1650℃で1
〜8時間保持することである。第3の要件は、焼成工程
において、RE.−β−アルミナまたはムライトから選
ばれる少なくとも1種の結晶相を析出させることであ
る。
にした理由は、これより粗い粉末を使用すると焼結体の
緻密化が図れず、耐電圧性を低下させるからである。ま
た、Na成分の含有量を酸化物換算で0.07重量部以
下にした理由は、これより多い粉末を用いると焼成後の
アルミナ基焼結体に含まれるNa成分含有量が酸化物換
算で0.05%を越える可能性があり耐電圧性を低下さ
せる恐れがあるからである。
した理由は以下のようである。すなわち、焼成温度につ
いては1450℃よりも低い温度では上記結晶相が得ら
れず、一方、1650℃よりも高い温度ではアルミナ粒
子が異常粒成長して機械的強度が低下するとともに、緻
密化を阻害し耐電圧性を低下させる恐れがあるからであ
る。また、保持時間についても、1時間よりも短いと十
分な緻密化が得られないと同時に上記結晶相が得られ
ず、一方、8時間よりも長いと焼成温度が1650℃よ
りも高い温度である場合と同様に、機械的強度と耐電圧
性を低下させるからである。尚、焼成条件のより好まし
い範囲としては、1500〜1600℃の温度範囲で2
〜6時間保持するのが望ましい。安定した耐電圧性を有
するアルミナ基焼結体を再現性良く量産できる条件だか
らである。
相を析出・生成させた理由は以下のようである。RE.
−β−アルミナを原料粉末として添加すると、粒成長の
異方性が大きいためアルミナ基焼結体の緻密化を阻害
し、耐電圧性を低下させるからである。また、ムライト
を原料粉末として添加すると、アルミナ基焼結体中のム
ライト粒子の周囲に気孔が生成し、耐電圧性が低下する
からである。尚、RE.成分の供給源としては、酸化物
に限定されるものではなく、RE.成分を含む化合物で
も可能である。上記焼成工程において、RE.−β−ア
ルミナ結晶相を析出・生成するものであればよい。
うちの〜(平均粒径0.1〜2.2μm)、焼結助
剤として平均粒径0.6μmのSiO2粉末、平均粒径
0.8μmのCaCO3粉末、平均粒径0.3μmのM
gO粉末及び表2に示す平均粒径1.0〜19.0μm
の各種RE.酸化物を、表3に示す量比となるように秤
量し配合した粉末を製造した。ここで、各種RE.酸化
物は、アルミナ、SiO2、MgO及びCaCO3のC
aO換算の合計添加量に対して外配合で添加した。
て、20mmφのアルミナボールを使用しエタノール中
16時間混合した後、湯煎にて乾燥し混合粉末を得た。
これらの混合粉末をそれぞれ150MPaの静水圧プレ
スで50×50×20mmの成形体に成形し、次に大気
雰囲気下において表3に示す焼成温度(1450℃から
1600℃)で2時間保持して焼成した。
C+M)比の値、焼結体中のRE.の酸化物換算値、焼
結体中のNa含有量の酸化物換算値、RE.−β−アル
ミナ結晶相の有無、ムライト結晶相の有無及び700℃
における耐電圧値を測定した。各結果を表4に併記し
た。
ミナ基焼結体を蛍光X線にて分析し、検出されたRE.
の量を酸化物換算値で示した。ここで、La、Nd、D
y、Er及びScに関しては、それぞれLa2O3、Nd
2O3、Dy2O3、Er2O3及びSc2O3として換算し、
Prに関しては、Pr6O11として換算した。
ルミナ基焼結体を化学分析して得られた値を酸化物(N
a2O)換算して示した。また、S/(S+C+M)比
の値も同様に、アルミナ基焼結体を化学分析して得られ
た焼結体中のSi成分、Ca成分及びMg成分の酸化物
換算値から求めた。
結晶相の有無は、アルミナ基焼結体のX線回折を行い、
JCPDSカードNo.33−699、No.15−7
76に相当するスペクトルが存在するか否かにより判断
した。図1には、Nd−β−アルミナ結晶相(Al11N
dO18)を有する実施例である試料番号10のX線回折
チャートを示した。図2には、ムライト結晶相(Si2
Al6O13)を有する実施例である試料番号8のX線回
折チャートを示した。
焼結体を16mm×16mm×0.65mmに加工した
試験片1を用いて、図3に示す構成の装置により測定し
た。具体的な方法は以下のようである。まず、試験片1
をアルミナ製碍筒2aとアルミナ製碍筒2bとではさん
だ状態で、SiO2系の封着ガラス3を用いて1400
℃に加熱溶融し、ガラス接合体7を作製した。加熱用ヒ
ータ5を有する加熱用ボックス8中にガラス接合体7を
セットした後、高電圧発生装置6に接続された電極4a
と接地された電極4bとで試験片1をはさんだ。その
後、加熱用ヒータ5で700℃まで加熱した状態で高電
圧を印加し、絶縁破壊が発生したときの値を「耐電圧
値」として計測した。
化物換算での含有量(Na2O含有量)が0.05重量
%以下で、S/(S+C+M)の関係式が0.7以上を
満たし、RE.成分が含有され、さらに理論密度比が9
5%以上である試料番号4〜17のものにおいて、70
0℃の耐電圧値がいずれも60kV/mm以上と良好な
値を示すことがわかる。また、S/(S+C+M)の関
係式の値が0であるが、絶縁体中のNa成分の酸化物換
算での含有量が0.05重量%以下で、RE.成分が含
有され、さらに理論密度比が95%以上である試料番号
1〜3のものについても、700℃の耐電圧値がいずれ
も60kV/mm以上と良好な値を示すことがわかる。
7を越えて、かつ、絶縁体中のNa成分の酸化物換算で
の含有量が0.02重量%以下で、RE.成分の酸化物
換算での含有量が1.95〜15.24重量%で、理論
密度比が95.4%以上にある試料番号9、10、1
2、13、14、15及び16の耐電圧値は、それぞれ
75kV/mm、78kV/mm、75kV/mm、8
0kV/mm、82kV/mm、80kV/mm及び7
8kV/mmと非常に良好な耐電圧値を示した。
比較例である試料番号18のものでは、700℃の耐電
圧値が47kV/mmと劣る結果であった。また、絶縁
体中のNa成分の酸化物換算での含有量が0.25重量
%以上と多い比較例である試料番号19及び20は、7
00℃の耐電圧値がそれぞれ36kV/mm及び41k
V/mmと劣る結果であった。
が所定の範囲内で、かつ、Na成分の含有量が所定量以
下に設定し、理論密度比を93.0%として比較例であ
る試料番号21では、700℃の耐電圧値が32kV/
mmと本実施例中で最も劣る結果となった。これによ
り、理論密度比が95.0%より低い場合では耐電圧値
の向上の効果が得られないことがわかる。
のうち、平均粒径0.6〜8.0μmであるアルミナ原
料粉末番号、、及びの中からそれぞれ1種類を
選択し、焼結助剤として平均粒径0.6μmのSiO2
粉末を4.0重量部、平均粒径0.8μmのCaCO3
粉末をCaO換算で0.5重量部、平均粒径0.3μm
のMgO粉末を0.5重量部、及び表2に示す平均粒径
1.0μmのLa2O3、Pr6O11及びNd2O3酸化物
を、表5に示す量比となるように秤量し配合した粉末を
製造した。ここで、各種RE.酸化物は、アルミナ、S
iO2、MgO及びCaCO 3のCaO換算の合計添加
量に対して外配合で添加した。
て、20mmφのアルミナボールを使用しエタノール中
16時間混合した後、湯煎にて乾燥し混合粉末を得た。
これらの混合粉末をそれぞれ150MPaの静水圧プレ
スで50×50×20mmの成形体に成形し、次に大気
雰囲気下において表5に示す焼成温度(1425℃から
1675℃)及び時間(0.5時間から8時間)で保持
して焼成した。
C+M)比の値、焼結体中のRE.の酸化物換算値、焼
結体中のNa含有量の酸化物換算値、RE.−β−アル
ミナ結晶相の有無、ムライト結晶相の有無及び700℃
における耐電圧値を測定した。各結果を表6に併記し
た。
ミナ基焼結体を蛍光X線にて分析し、検出されたRE.
の量を酸化物換算値で示した。ここで、La、Ndに関
しては、それぞれLa2O3、Nd2O3として換算し、P
rに関しては、Pr6O11として換算した。
ルミナ基焼結体を化学分析して得られた値を酸化物換算
して示した。また、S/(S+C+M)比の値も同様
に、アルミナ基焼結体を化学分析して得られた焼結体中
のSi成分、Ca成分及びMg成分の酸化物換算値から
求めた。
結晶相の有無は、アルミナ基焼結体のX線回折を行い、
JCPDSカードNo.33−699、No.15−7
76に相当するスペクトルが存在するか否かにより判断
した。
焼結体を16mm×16mm×0.65mmに加工した
試験片1を用いて、図3に示す構成の装置により測定し
た。具体的な方法は以下のようである。まず、試験片1
をアルミナ製碍筒2aとアルミナ製碍筒2bとではさん
だ状態で、SiO2系の封着ガラス3を用いて1400
℃に加熱溶融し、ガラス接合体7を作製した。加熱用ヒ
ータ5を有する加熱用ボックス8中にガラス接合体7を
セットした後、高電圧発生装置6に接続された電極4a
と接地された電極4bとで試験片1をはさんだ。その
後、加熱用ヒータ5で700℃まで加熱した状態で高電
圧を印加し、絶縁破壊が発生したときの値を「耐電圧
値」として計測した。
まれるNa成分の酸化物換算での含有量が0.05重量
部以下で、S/(S+C+M)が0.7以上で、RE.
の酸化物換算での含有量が0.01〜20重量部の範囲
であり、該アルミナ基焼結体の理論密度比が95%以上
である試料番号22乃至試料番号26の耐電圧値は67
kV/mm以上と良好な結果を示すことがわかる。
が0.01〜0.05重量部で、RE.の酸化物換算で
の含有量が0.99〜7.01重量部で、理論密度比が
96.1〜96.3%で、且つ、RE.−β−アルミナ
結晶相を含む実施例である試料番号23及び試料番号2
6の耐電圧値は73〜76kV/mmと最も良好な結果
を示した。
結晶相を含まない実施例である試料番号22、試料番号
24及び試料番号25の耐電圧値はそれぞれ67kV/
mm、69kV/mm及び73kV/mmと良好であっ
た。
の含有量が0.05%以上(0.27%)の比較例であ
る試料番号27では、焼結体中にNa成分が多量に残留
しており、また、RE.−β−アルミナ相も生成してい
ないため、耐電圧値が36kV/mmと大幅に低下して
いる。
m以上(8.0μm)の比較例である試料番号28で
は、焼結体の理論密度比が93.8%と低いため、耐電
圧値が41kV/mmと大幅に低下している。
時間)の比較例である試料番号29と、焼成温度が14
50℃以下(1425℃)の比較例であるでは試料番号
30では、焼結体の理論密度比は96.0%以上になっ
ているものの、耐電圧値がそれぞれ55kV/mm、5
2kV/mmと低下している。
を有するアルミナ基焼結体およびその製造方法を提供す
ることができる。特には、スパークプラグ等のように高
温下で使用される絶縁碍子に用いるアルミナ基焼結体と
して好適である。
を有する実施例である試料番号10のX線回折チャート
である。
施例である試料番号8のX線回折チャートである。
Claims (7)
- 【請求項1】 希土類元素(以下、RE.と表す)成分
を少なくとも含むアルミナ基焼結体であって、 該アルミナ基焼結体の理論密度比が95%以上であるこ
とを特徴とする高耐電圧性アルミナ基焼結体。 - 【請求項2】 希土類元素(以下、RE.と表す)成分
と、Na(ナトリウム)成分とを少なくとも含むアルミ
ナ基焼結体であって、 該アルミナ基焼結体100重量部に含まれるNa成分の
含有量が酸化物換算で0.05重量部以下で、且つ、該
アルミナ基焼結体の理論密度比が95%以上であること
を特徴とする高耐電圧性アルミナ基焼結体。 - 【請求項3】 前記アルミナ基焼結体100重量部に含
まれる上記RE.成分の含有量が酸化物換算で0.01
〜18重量部の範囲であることを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体。 - 【請求項4】 Si(ケイ素)成分と、Ca(カルシウ
ム)成分若しくはMg(マグネシウム)成分のうち少な
くとも1種とを含むアルミナ基焼結体であって、 該アルミナ基焼結体100重量部に含まれるSi成分、
Ca成分及びMg成分の各含有量を酸化物換算でそれぞ
れ、S(単位:重量部)、C(単位:重量部)及びM
(単位:重量部)とした場合において、 上記三成分の各含有量が以下の関係式を満たすことを特
徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の高耐
電圧性アルミナ基焼結体。 S/(S+C+M)≧0.7 - 【請求項5】 前記RE.成分は、La(ランタン)、
Pr(プラセオジム)、Nd(ネオジム)から選ばれる
1種または2種以上からなり、 結晶相として、RE.−β−アルミナ(組成式:RE.
Al11O18)構造の結晶相を少なくとも含むことを特徴
とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の高耐電
圧性アルミナ基焼結体。 - 【請求項6】 Si(ケイ素)成分と、Ca(カルシウ
ム)成分若しくはMg(マグネシウム)成分のうち少な
くとも1種とを含むアルミナ基焼結体であって、 該アルミナ基焼結体100重量部に含まれるSi成分、
Ca成分及びMg成分の各含有量を酸化物換算でそれぞ
れ、S(単位:重量部)、C(単位:重量部)及びM
(単位:重量部)とした場合において、 上記三成分の各含有量が以下の関係式を満たすととも
に、 結晶相としてムライト(Al6Si2O13)結晶相を少な
くとも有することを特徴とする請求項1乃至請求項4の
いずれかに記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体。 0.95≧S/(S+C+M)≧0.75 - 【請求項7】 請求項4または請求項6に記載のアルミ
ナ基焼結体の製造方法であって、 平均粒径が2μm以下で、且つ、Na成分の含有量が酸
化物換算で0.07重量部以下のアルミナ原料粉末を含
むアルミナ質成形体を形成する工程と、 該アルミナ質成形体の焼成工程において1450〜16
50℃の範囲の温度で1〜8時間保持する工程と、 該アルミナ質成形体の焼成工程においてRE.−β−ア
ルミナまたはムライトから選ばれる少なくとも1種の結
晶相を析出させる工程とを含むことを特徴とする高耐電
圧性アルミナ基焼結体の製造方法。
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