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JP2001092544A - 定電圧回路 - Google Patents

定電圧回路

Info

Publication number
JP2001092544A
JP2001092544A JP26520999A JP26520999A JP2001092544A JP 2001092544 A JP2001092544 A JP 2001092544A JP 26520999 A JP26520999 A JP 26520999A JP 26520999 A JP26520999 A JP 26520999A JP 2001092544 A JP2001092544 A JP 2001092544A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
transistor
terminal
circuit
current path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26520999A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Suwabe
裕之 諏訪部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP26520999A priority Critical patent/JP2001092544A/ja
Publication of JP2001092544A publication Critical patent/JP2001092544A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】基準電圧を発生する基準電圧発生回路と、電圧
降下用のトランジスタを制御するためのコンパレータに
対し電源電圧として外部電源電圧に依存しない一定の電
圧を供給することを最も主要な特徴とする。 【解決手段】端子11、12と、ソース、ドレイン間の
電流通路の一端が端子11に接続され、ゲートが端子1
2に接続され、制限された電圧VLIMを発生するデプ
レッション型のトランジスタ13と、電圧VLIMによ
って動作し、基準電圧VREFを発生する基準電圧発生
回路14と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が端
子11に接続されたトランジスタ17と、トランジスタ
17の電流通路の他端と端子11との間に生じる電圧を
分割して分割電圧を発生する電圧分割回路20と、電圧
VLIMによって動作し、基準電圧VREFと分割電圧
VKENとを比較するコンパレータ21とを具備したこ
とを特徴とする

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体集積回路に
内蔵される定電圧回路に係り、特に外部より供給される
電源電圧よりも低い一定電圧を発生する定電圧回路に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、電池電源など、電圧が変動する電
源を使用する大規模半導体集積回路(以下、LSIと称
する)には、(1)LSIに供給される電源電圧が定格
で規定された動作電源電圧範囲を超えないようにする、
(2)LSI内部の電源電圧の値を低く押さえて消費電
流を低減させる、(3)LSI外部回路とのインターフ
ェースを取るために電源電圧を合わせ込む、などの目的
から、外部より供給される電源電圧を、LSIに内蔵さ
れた定電圧回路で一定電圧に降圧して、LSI内部回路
の電源として供給するシステムがある。このようなシス
テムでは、定電圧化に際して厳しい精度が要求されるこ
とが多い。
【0003】ここで、従来の定電圧回路の一例を図8に
示す。この定電圧回路には端子11、12が設けられて
いる。一方の端子11には電池の高電位側電圧VBAT
が供給され、他方の端子12には基準電位側の接地電圧
GNDが供給される。基準電圧発生回路14は、上記電
圧VBATで動作し、この電圧VBATからそれよりも
値が低い基準電圧VREFを発生する。
【0004】また、上記端子11とLSI内部回路15
の電源ノード16との間には、端子11の電圧を降圧し
てLSI内部回路15に供給する電圧降圧用のPチャネ
ルMOSトランジスタ17のソース、ドレイン間が挿入
されている。上記電源ノード16に得られる電圧VDD
は、一対の抵抗18、19からなる電圧分割回路20に
よって所定の比率で分割される。
【0005】コンパレータ21は、上記電圧VBATで
動作し、基準電圧発生回路14で発生された基準電圧V
REFと、電圧分割回路20で発生された分割電圧VK
ENとを比較する。そして、このコンパレータ21から
の出力は上記トランジスタ17のゲートに供給される。
【0006】ここで、図8の定電圧回路の動作を簡単に
説明する。端子11に電池の電圧VBATが供給される
と、基準電圧発生回路14は、上記電圧VBATの値に
依存しない一定の基準電圧VREFを発生する。なお、
電圧分割回路20における一対の抵抗18、19は、L
SI内部回路15の電源ノード16における電圧VDD
が所望の値になったときに、分割電圧VKENと基準電
圧VREFとが実質的に等しくなるように抵抗比が設定
されている。従って、VDDが所望の値よりも低い時は
VKEN<VREFとなり、このときのコンパレータ2
1の出力によってトランジスタ17がオンするように制
御される。すると、電源ノード16の電圧VDDはVB
ATに近付くように上昇を始める。逆に、VDDが所望
の値よりも高い時はVKEN>VREFとなり、このと
きのコンパレータ21の出力によってトランジスタ17
はオフするように制御される。このとき、電源ノード1
6の電圧VDDは、LSI内部回路15の消費電流によ
って順次低下していく。ここで、電圧VBATの値が変
動しても基準電圧VREFの値は変動しないので、電源
ノード16における電圧VDDは予め設定された所望の
値と一致するように制御される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図8に示し
た従来の定電圧回路では、電圧VBATの値がLSIの
定格値を超える仕様の場合、トランジスタ17や基準電
圧発生回路14及びコンパレータ21を構成するトラン
ジスタは、十分な耐圧を持たせるために、高耐圧プロセ
スなどの特殊なプロセスを用いて形成する必要がある。
この場合、次のような種々の問題が生じる。
【0008】(1)設計ルールが標準耐圧のトランジス
タと異なるために、標準耐圧の設計ルールで設計された
実績のある既存回路ブロックが使用できず、専用に再設
計が必要となる。
【0009】(2)高耐圧プロセスは耐圧を保持するた
めに、標準耐圧の設計ルールよりもトランジスタサイズ
が大きくなり、パターン面積が増大し、LSIの製造コ
ストが高くなる。
【0010】(3)高耐圧プロセスは耐圧を高めるため
に、トランジスタのドレイン領域を通常の拡散領域の他
にそれよりも不純物濃度が薄い拡散領域を持つLDD
(Lightly Doped Drain)構造にする必要がある。従っ
て、一般的な標準耐圧プロセスよりもチャネル長変調効
果やしきい値のばらつきなどのプロセスばらつきが大き
く、基準電圧発生回路14の電源電圧依存性や絶対精度
が悪くなり、LSI内部回路16に供給される降圧され
た電圧VDDの精度も悪くなる。
【0011】一方、高耐圧プロセスなどの追加プロセス
を用いない場合には、定電圧回路をLSI内部回路15
と一体的に集積化せずに、外付け回路としてLSIの外
部に設けるなど、LSI外部で電源電圧を押さえるシス
テム対策が不可欠となり、コストの高騰やセット上の基
板スペース確保が難しいなどの不具合が生じる。
【0012】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、上記したような種々の
問題点を解消して、高精度、低コストの定電圧回路を提
供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明の定電圧回路
は、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の
端子に接続され、ゲートが上記第2の端子に接続された
デプレッション型の第1のトランジスタと、上記第1の
トランジスタの電流通路の他端と上記第2の端子との間
に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発生する基準
電圧発生回路と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端
が上記第1の端子に接続された第2のトランジスタと、
上記第2のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
電圧分割回路と、上記第1のトランジスタの電流通路の
他端と上記第2の端子との間に生じる電圧によって動作
し、上記基準電圧発生回路で発生される基準電圧と上記
電圧分割回路で発生される分割電圧とを比較し、その出
力で上記第2のトランジスタのゲートを制御するコンパ
レータとを具備したことを特徴とする。
【0014】この発明の定電圧回路は、第1及び第2の
端子と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第
1の端子に接続されたデプレッション型の第1のトラン
ジスタと、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記
第1の端子に接続され、電流通路の他端が上記第1のト
ランジスタのゲートに接続され、ゲートが上記第2の端
子に接続されたデプレッション型の第2のトランジスタ
と、上記第1のトランジスタのゲートと上記第2のトラ
ンジスタの電流通路の他端との接続ノードと上記第2の
端子との間に接続された定電流素子と、上記第1のトラ
ンジスタの電流通路の他端と上記第2の端子との間に生
じる電圧によって動作し、基準電圧を発生する基準電圧
発生回路と、ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上
記第1の端子に接続された第3のトランジスタと、上記
第3のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の端子
との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する電圧
分割回路と、上記第1のトランジスタの電流通路の他端
と上記第2の端子との間に生じる電圧によって動作し、
上記基準電圧発生回路で発生される基準電圧と上記電圧
分割回路で発生される分割電圧とを比較し、その出力で
上記第3のトランジスタのゲートを制御するコンパレー
タとを具備したことを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】以下図面を参照してこの発明を実
施の形態により説明する。
【0016】図1はこの発明に係る定電圧回路の第1の
実施の形態による回路図である。この定電圧回路には端
子11、12が設けられている。一方の端子11には電
池の高電位側電圧VBATが供給され、他方の端子12
には基準電位側の接地電圧GNDが供給される。上記端
子11にはNチャネルでデプレッション型のMOSトラ
ンジスタ13のソース、ドレイン間の電流通路の一端が
接続されている。このトランジスタ13のゲートは上記
端子12に接続されている。
【0017】基準電圧発生回路14は、上記トランジス
タ13のソース、ドレイン間の電流通路の他端に得られ
る電圧VLIMで動作し、この電圧VLIMからそれよ
りも値が低い一定の基準電圧VREFを発生する。
【0018】また、上記端子11とLSI内部回路15
の電源ノード16との間には、端子11の電圧を降圧し
てLSI内部回路15に供給する電圧降圧用のPチャネ
ルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ17のソ
ース、ドレイン間の電流通路が挿入されている。上記電
源ノード16に得られる電圧VDDは、電源ノード16
と端子12との間に直列に接続された一対の抵抗18、
19からなる電圧分割回路20によって、抵抗18、1
9の抵抗比に応じた所定の比率で分割される。
【0019】コンパレータ21は、上記電圧VLIMで
動作し、基準電圧発生回路14で発生された基準電圧V
REFと電圧分割回路20で発生された分割電圧VKE
Nとを比較する。そして、このコンパレータ21からの
出力は上記トランジスタ17のゲートに供給される。
【0020】次に、上記のように構成された回路の動作
を説明する。なお、上記デプレッション型のMOSトラ
ンジスタ13は、しきい値Vthが例えば−2V程度と
なるように、予めチャネル領域に対して所定の不純物イ
オンが所定のドーズ量で注入されているとする。
【0021】外部から端子11に電池の電圧VBATが
供給されると、デプレッション型のMOSトランジスタ
13がオンし、端子11に接続されている側とは反対側
のソース、ドレイン間の電流通路の他端における電圧V
LIMが電圧VBATに近付くように上昇を始める。こ
こで、上記トランジスタ13のゲートは接地電圧GND
(0V)の端子12に接続されているので、電圧VLI
Mがゲートの電圧(GND)に対し、しきい値の絶対値
分だけ高くなると、このトランジスタ13がオフする。
すなわち、電圧VLIMが2V程度を超えるとトランジ
スタ13がオフし、電圧VLIMの上昇が停止するの
で、電圧VBATが2V以上に上昇しても電圧VLIM
は2V程度に制限される。この電圧VLIMは基準電圧
発生回路14及びコンパレータ21に対して電源電圧と
して供給されており、電圧VBATが2V以上に上昇し
てもこれら基準電圧発生回路14及びコンパレータ21
には2V程度の電源電圧(VLIM)しか加わらない。
ここで、上記電圧VBATとVLIMとの関係を図2の
特性図に示す。
【0022】基準電圧発生回路14は、電圧VBATや
VLIMに依存せず、それらよりも低い値の基準電圧V
REFを上記電圧VLIMから発生する。また、電圧分
割回路20における一対の抵抗18、19は、LSI内
部回路15の電源ノード16における電圧VDDが所望
の値になったときに、分割電圧VKENと基準電圧VR
EFとが実質的に等しくなるように抵抗比が設定されて
いるとする。よって、VDDが所望の値よりも低い時は
VKEN<VREFとなり、このとき、コンパレータ2
1の出力によって、トランジスタ17はオンするように
制御される。すると、電源ノード16の電圧VDDはV
BATに近付くように上昇を始める。逆に、VDDが所
望の値よりも高い時はVKEN>VREFとなり、この
とき、コンパレータ21の出力によって、トランジスタ
17はオフするように制御される。このとき、電源ノー
ド16の電圧VDDは、LSI内部回路15の消費電流
によって順次低下していく。ここで、電圧VBATの値
が変動しても基準電圧VREFの値は変動しないので、
電源ノード16の電圧VDDは予め設定された所望の値
と一致するように制御される。
【0023】図1に示した定電圧回路では、端子11に
電圧VBATとしてLSIの標準耐圧プロセスの定格を
超える高電圧が供給される場合であっても、トランジス
タ13と17のみに高電圧が印加されるだけであり、基
準電圧発生回路14及びコンパレータ21には標準耐圧
以下の電圧(2V程度)しか印加されないようにでき
る。また、基準電圧発生回路14及びコンパレータ21
に供給される電圧VLIMは、電池電圧VBATが2V
以上であっても一定値となるので、基準電圧発生回路1
4及びコンパレータ21の電源依存性が小さくなり、よ
り高精度に電圧VDDの出力制御を行うことができる。
【0024】このように第1の実施の形態による定電圧
回路によれば、以下のような効果を得ることかできる。
【0025】(1)電池電圧VBATがLSIの定格を
超える仕様の場合であっても、基準電圧発生回路14及
びコンパレータ21の各回路ブロックに高耐圧トランジ
スタを用いる必要がない。従って、基準電圧発生回路1
4及びコンパレータ21では標準設計ルールで設計され
た実績のある既存回路ブロックが使用でき、設計期間の
短縮や確度の向上が期待できる。
【0026】(2)上記(1)で説明したように、基準
電圧発生回路14及びコンパレータ21は標準設計ルー
ルで設計され、高耐圧プロセスの設計ルールを使用しな
いので、パターン面積が増大せず、製造コストが安くな
る。
【0027】(3)上記(1)で説明したように、基準
電圧発生回路14及びコンパレータ21は標準設計ルー
ルで設計できるので、トランジスタのしきい値ばらつき
などのプロセスばらつきが高耐圧プロセスに比較して小
さくなる。また、基準電圧発生回路14に供給される電
源電圧が制限されるので、電圧依存性が小さく、LSI
内部回路15に供給される電源電圧VDDの精度が非常
に良くなる。このとき、消費電流など他の特性への影響
もほとんどない。
【0028】(4)LSI内部回路15と一体的に集積
化することができ、外付け回路としてLSIの外部に設
ける必要がないので、低コスト化やセット上の基板スペ
ースの縮小化が可能になる。
【0029】なお、上記第1の実施の形態において、ト
ランジスタ13のしきい値を2V程度に設定する場合に
ついて説明したが、これは必要に応じて任意の値に設定
することができる。
【0030】次に、この発明の第2の実施の形態につい
て、図3を参照して説明する。
【0031】図1に示した第1の実施の形態によるもの
では、Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ13のゲートを接地電圧GNDが供給される端子1
2に接続していたが、この第2の実施の形態による定電
圧回路では、トランジスタ13のゲートを、定電流素子
である抵抗22を介して端子12に接続するようにして
いる。さらにこの第2の実施の形態による定電圧回路で
は、Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジス
タ23が追加されている。この新たに追加されたトラン
ジスタ23のソース、ドレイン間の電流通路は、端子1
1と前記トランジスタ13のゲートとの間に挿入されて
おり、このトランジスタ23のゲートは端子12に接続
されている。なお、それ以外の構成は図1と同じなので
説明は省略する。
【0032】ここで、新たに追加された抵抗22の抵抗
値は新たに追加されたトランジスタ23のオン抵抗の値
よりも十分に大きくなるように設定されていると共に、
追加されたトランジスタ23は、前記トランジスタ13
と同様に、しきい値Vthが例えば−2V程度となるよ
うに予めチャネル領域に対して所定の不純物イオンが所
定のドーズ量で注入されているとする。
【0033】このような構成において、端子11に電池
の電圧VBATが供給されると、ゲートが接地電圧GN
Dの端子12に接続されているトランジスタ23がオン
し、トランジスタ13のゲートにおける電圧がVBAT
に近付くように上昇を始める。ここで、トランジスタ2
3のゲートは接地電圧GND(0V)の端子12に接続
されているので、トランジスタ13のゲート電圧が接地
電圧GNDに対してトランジスタ23のしきい値の絶対
値分だけ高くなると、このトランジスタ23がオフす
る。すなわち、トランジスタ13のゲート電圧が2V程
度を超えるとトランジスタ23がオフしてトランジスタ
13のゲート電圧の上昇が停止し、このゲート電圧は2
V程度に制限される。
【0034】一方、端子11に電池の電圧VBATが供
給された後は、トランジスタ13もオンし、電圧VLI
Mが電圧VBATに近付くように上昇を始める。そし
て、電圧VLIMの値がトランジスタ13のゲート電圧
に対してそのしきい値の絶対値分だけ高くなると、この
トランジスタ13がオフする。従って、電池の電圧VB
ATが4V以上に上昇しても、電圧VLIMの値はトラ
ンジスタ23、13の両しきい値の絶対値の和である4
V程度に制限される。この電圧VLIMは基準電圧発生
回路14及びコンパレータ21に対して電源電圧として
供給されており、電圧VBATが4V以上に上昇しても
これら基準電圧発生回路14及びコンパレータ21には
4V程度の電源電圧(VLIM)しか加わらない。ここ
で、上記電圧VBATとVLIMとの関係を図4の特性
図に示す。
【0035】この図3の実施の形態の回路では、トラン
ジスタ23がオンする際に抵抗22を介して電流が流れ
る。しかし、トランジスタ23のオン抵抗に対して抵抗
22の抵抗値が十分に高く設定されており、この抵抗2
2で消費される電流はLSI内部回路15における消費
電流に対して非常に小さく、LSI内部回路15の消費
電流特性に対してほとんど影響を及ぼさない。
【0036】この実施の形態の場合にも、上記第1の実
施の形態と同様の効果が得られる上に、電圧VDDが2
個のトランジスタ13、23のしきい値の絶対値の和の
電圧に制限されるので、基準電圧発生回路14及びコン
パレータ21に供給される電源電圧としての電圧VLI
Mの値をより自由に設定することができるという効果も
得られる。
【0037】なお、上記第2の実施の形態において、抵
抗22とトランジスタ23とからなる回路を1段の回路
とし、この回路をn段接続する構成とすることによっ
て、電圧VLIMをトランジスタ13、23のしきい値
Vthの(n+1)倍の値に制限することもできる。ま
た、各トランジスタのしきい値を異ならせることによ
り、電圧VLIMの値を種々に設定することもできる。
【0038】次に、この発明の第3の実施の形態につい
て、図5を参照して説明する。
【0039】図3に示した第2の実施の形態では、トラ
ンジスタ13のゲートと端子12との間に定電流素子と
して抵抗22を接続する場合を説明したが、この第3の
実施の形態では定電流素子として抵抗22の代りに定電
流源24を接続するようにしたものである。この定電流
源24は、同じLSI内の他の回路、例えば基準電圧発
生回路14などにおいて、ゲートに所定のバイアス電圧
が供給されていてソース、ドレイン間に所定の電流が流
れるようにされた定電流源用のトランジスタに対して、
ゲートが共通に接続された単一のトランジスタによって
構成されている。
【0040】この実施の形態よれば、図3の実施の形態
と同様の効果が得られる上に、集積回路上で大きなパタ
ーン面積を占める前記抵抗22に代えて単一のトランジ
スタによって構成されている定電流源24を用いるよう
にしているので、より小さなパターン面積が実現できる
効果が得られる。
【0041】すなわち、集積回路上の抵抗としては、半
導体基板に含まれる不純物とは反対導電型の不純物を基
板に拡散して形成される拡散抵抗が一般に使用される。
また、拡散抵抗に流れる電流を少くするためには、拡散
抵抗のパターン形状の長さ/幅で決定される抵抗値を大
きくする必要がある。しかし、拡散抵抗の幅は設計ルー
ルによって最小寸法が決められているために、大きな抵
抗値を実現するためにはパターン的に長い形状の抵抗素
子が必要になり、これによってパターン面積が増大す
る。ところが、第3の実施の形態によれば、LSI上で
大きなパターン面積を占める抵抗の代わりに、パターン
面積の小さいトランジスタを用いるようにしてるので、
図3に示した実施の形態のものに比べて、より小さなパ
ターン面積が実現できる。
【0042】図6は、上記第1ないし第3の各実施の形
態で使用される基準電圧発生回路14の詳細な回路の一
例を示している。この回路は、前記電圧VLIMが供給
されるノードにそれぞれのソースが接続されたPチャネ
ルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ31〜3
3と、接地電圧GNDが供給されるノードにそれぞれの
ソースが接続されたNチャネルでエンハンスメント型の
MOSトランジスタ34、35と、上記トランジスタ3
1及び34の両ドレイン相互間に接続された抵抗36
と、上記トランジスタ33のドレインと接地電圧GND
が供給されるノードとの間に接続された抵抗37とから
構成されている。
【0043】そして、上記トランジスタ32のゲートと
ドレインとの間が短絡され、かつ上記トランジスタ31
〜33のゲートが共通に接続されており、これら3個の
トランジスタ31〜33はカレントミラー回路を構成
し、かつトランジスタ31〜33はそれぞれ定電流源と
して作用する。
【0044】また、上記トランジスタ34のゲートはト
ランジスタ31のドレインに接続され、トランジスタ3
5のゲートはトランジスタ34のドレインに接続されて
いる。そして、前記基準電圧VREFは、トランジスタ
33のドレインと抵抗37との接続ノードに得られる。
【0045】この基準電圧発生回路では、トランジスタ
34、35を弱反転領域で動作させている。そして、両
トランジスタ34、35のゲート相互間であってトラン
ジスタ31に流れる定電流の経路に抵抗36を挿入する
ことにより、トランジスタ34、35のゲートバイアス
電圧を異ならせて、トランジスタ33に一定電流を流
し、これによって抵抗37に一定の電圧降下を生じさせ
て一定の基準電圧VREFを得るようにしている。
【0046】図7は、上記第1ないし第3の各実施の形
態で使用されるコンパレータ21の詳細な回路の一例を
示している。この回路は、前記電圧VLIMが供給され
るノードにそれぞれの一端が接続された定電流源41、
42と、上記定電流源41の他端にそれぞれのソースが
接続され、それぞれのゲートに前記電圧VKEN、VR
EFがそれぞれ供給される差動対を構成する2個のPチ
ャネルでエンハンスメント型のMOSトランジスタ4
3、44と、上記トランジスタ43のドレインと接地電
圧GNDの供給ノードとの間にドレイン、ソース間が接
続されたNチャネルでエンハンスメント型のMOSトラ
ンジスタ45と、上記トランジスタ44のドレインと接
地電圧GNDの供給ノードにとの間にドレイン、ソース
間が接続されたNチャネルでエンハンスメント型のMO
Sトランジスタ46と、上記定電流源42の他端と接地
電圧GNDの供給ノードにとの間にドレイン、ソース間
が接続されたNチャネルでエンハンスメント型のMOS
トランジスタ47とから構成されている。
【0047】そして、上記トランジスタ46のゲートと
ドレインとの間が短絡され、トランジスタ45、46の
ゲートが共通接続されて、この両トランジスタ45、4
6はカレントミラー回路を構成し、かつトランジスタ4
5、46はそれぞれ能動負荷として作用する。また、ト
ランジスタ43のドレインとトランジスタ45のドレイ
ンとの接続ノードにトランジスタ47のゲートが接続さ
れる。そして、上記定電流源42とトランジスタ47と
の接続ノードから前記トランジスタ17のゲートに供給
するための信号電圧が得られる。
【0048】このような構成のコンパレータにおいて、
差動対を構成する2個のPチャネルでエンハンスメント
型のMOSトランジスタ43、44のゲートに供給され
る電圧VKEN、VREFの大小関係に応じてトランジ
スタ47のゲート電圧が変化し、このトランジスタ47
の導通状態に応じて定電流源42との接続ノードに発生
する電圧が変化する。
【0049】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
従来の種々の問題点を解消して、高精度、低コストの定
電圧回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る定電圧回路の第1の実施の形態
の回路図。
【図2】図1の実施の形態回路の特性図。
【図3】この発明に係る定電圧回路の第2の実施の形態
の回路図。
【図4】図3の実施の形態回路の特性図。
【図5】この発明に係る定電圧回路の第3の実施の形態
の回路図。
【図6】第1ないし第3の各実施の形態の回路で使用さ
れる基準電圧発生回路の詳細な回路図。
【図7】第1ないし第3の各実施の形態の回路で使用さ
れるコンパレータの詳細な回路図。
【図8】従来の定電圧回路の回路図。
【符号の説明】
11、12…端子、 13…Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ、 14…基準電圧発生回路、 15…LSI内部回路、 16…LSI内部回路の電源ノード、 17…電圧降圧用のPチャネルでエンハンスメント型の
MOSトランジスタ、 18、19…抵抗、 20…電圧分割回路、 21…コンパレータ、 22…抵抗、 23…Nチャネルでデプレッション型のMOSトランジ
スタ、 24…定電流源。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2の端子と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
    に接続され、ゲートが上記第2の端子に接続されたデプ
    レッション型の第1のトランジスタと、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発
    生する基準電圧発生回路と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
    に接続された第2のトランジスタと、 上記第2のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
    電圧分割回路と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧によって動作し、上記基準電圧
    発生回路で発生される基準電圧と上記電圧分割回路で発
    生される分割電圧とを比較し、その出力で上記第2のト
    ランジスタのゲートを制御するコンパレータとを具備し
    たことを特徴とする定電圧回路。
  2. 【請求項2】 第1及び第2の端子と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
    に接続されたデプレッション型の第1のトランジスタ
    と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
    に接続され、電流通路の他端が上記第1のトランジスタ
    のゲートに接続され、ゲートが上記第2の端子に接続さ
    れたデプレッション型の第2のトランジスタと、 上記第1のトランジスタのゲート及び上記第2のトラン
    ジスタの電流通路の他端の接続ノードと上記第2の端子
    との間に接続された定電流素子と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧によって動作し、基準電圧を発
    生する基準電圧発生回路と、 ソース、ドレイン間の電流通路の一端が上記第1の端子
    に接続された第3のトランジスタと、 上記第3のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧を分割して分割電圧を発生する
    電圧分割回路と、 上記第1のトランジスタの電流通路の他端と上記第2の
    端子との間に生じる電圧によって動作し、上記基準電圧
    発生回路で発生される基準電圧と上記電圧分割回路で発
    生される分割電圧とを比較し、その出力で上記第3のト
    ランジスタのゲートを制御するコンパレータとを具備し
    たことを特徴とする定電圧回路。
  3. 【請求項3】 前記定電流素子が抵抗である請求項2に
    記載の定電圧回路。
  4. 【請求項4】 前記定電流素子が定電流源である請求項
    2に記載の定電圧回路。
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