JP2001092151A - Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium - Google Patents
Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording mediumInfo
- Publication number
- JP2001092151A JP2001092151A JP26518199A JP26518199A JP2001092151A JP 2001092151 A JP2001092151 A JP 2001092151A JP 26518199 A JP26518199 A JP 26518199A JP 26518199 A JP26518199 A JP 26518199A JP 2001092151 A JP2001092151 A JP 2001092151A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- heating
- propen
- acid
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 195
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 2
- -1 1.34) Chemical class 0.000 description 78
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 55
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 50
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 28
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 23
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 21
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 17
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 17
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 16
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 15
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 15
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 14
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 14
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 229920000591 gum Polymers 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 7
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 7
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamyl alcohol Chemical compound OC\C=C\C1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229960004793 sucrose Drugs 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOYHYERPVOPITN-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(O)C=CC1=CC=CC=C1 NOYHYERPVOPITN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1O WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=CC=C1O AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDFFZNIQPLKQSG-UHFFFAOYSA-N 2-bromoprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(Br)=C MDFFZNIQPLKQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSCXYTRISGREIM-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(Cl)=C OSCXYTRISGREIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPHOPMSGKZNELG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=C(O)C=CC2=C1 UPHOPMSGKZNELG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-2-naphthoate Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 3-Phenyl-1-propanol Chemical compound OCCCC1=CC=CC=C1 VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTSABYAWKQAHBT-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohexanol Chemical compound CC1CCCC(O)C1 HTSABYAWKQAHBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCC(O)CC1 MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDWRKZLROIFUML-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutan-2-ol Chemical compound CC(O)CCC1=CC=CC=C1 GDWRKZLROIFUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 5-aminopentanoic acid Chemical compound [NH3+]CCCCC([O-])=O JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical compound O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical compound O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NYHBQMYGNKIUIF-UUOKFMHZSA-N Guanosine Chemical compound C1=NC=2C(=O)NC(N)=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O NYHBQMYGNKIUIF-UUOKFMHZSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DRTQHJPVMGBUCF-XVFCMESISA-N Uridine Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C(=O)NC(=O)C=C1 DRTQHJPVMGBUCF-XVFCMESISA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N adenosine Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N allylic benzylic alcohol Natural products OCC=CC1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N arabinose Natural products OCC(O)C(O)C(O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N beta-D-Pyranose-Lyxose Natural products OC1COC(O)C(O)C1O SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N cytosine Chemical compound NC=1C=CNC(=O)N=1 OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 235000013681 dietary sucrose Nutrition 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N guanine Chemical compound O=C1NC(N)=NC2=C1N=CN2 UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 2
- FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N hypoxanthine Chemical compound O=C1NC=NC2=C1NC=N2 FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- DOKHEARVIDLSFF-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-1-ol Chemical compound CC=CO DOKHEARVIDLSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- PMZDQRJGMBOQBF-UHFFFAOYSA-N quinolin-4-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=NC2=C1 PMZDQRJGMBOQBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 2
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- WYLYBQSHRJMURN-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)methanol Chemical compound COC1=CC=CC=C1CO WYLYBQSHRJMURN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRYALKFFQXWPIH-PBXRRBTRSA-N (3r,4s,5r)-3,4,5,6-tetrahydroxyhexanal Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CC=O VRYALKFFQXWPIH-PBXRRBTRSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N (Z)-but-2-enedioic acid 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCCOCCOCCO FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- QMCPCLHQCXJHSB-CAPFRKAQSA-N (e)-1,2,3-triphenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)\C(C=1C=CC=CC=1)=C\C1=CC=CC=C1 QMCPCLHQCXJHSB-CAPFRKAQSA-N 0.000 description 1
- LLNAMUJRIZIXHF-VQHVLOKHSA-N (e)-2-methyl-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(/C)=C/C1=CC=CC=C1 LLNAMUJRIZIXHF-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- JQDUHQARXQIRHF-HWKANZROSA-N (e)-3-(2-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OC\C=C\C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O JQDUHQARXQIRHF-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- HFMHVOCTLZMPRY-OWOJBTEDSA-N (e)-3-(4-chlorophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OC\C=C\C1=CC=C(Cl)C=C1 HFMHVOCTLZMPRY-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- DRXICXADZKJOTI-NSCUHMNNSA-N (e)-3-(4-methylphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC=C(\C=C\CO)C=C1 DRXICXADZKJOTI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- JVADCGLQZLOZJL-OWOJBTEDSA-N (e)-3-bromoprop-2-en-1-ol Chemical compound OC\C=C\Br JVADCGLQZLOZJL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N (ne)-n-(1-phenylethylidene)hydroxylamine Chemical compound O\N=C(/C)C1=CC=CC=C1 JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- WMKYSVJWQJOFAN-IWQZZHSRSA-N (z)-2,3-dibromoprop-2-en-1-ol Chemical compound OC\C(Br)=C\Br WMKYSVJWQJOFAN-IWQZZHSRSA-N 0.000 description 1
- DWYWKQKDWNNSDO-TWGQIWQCSA-N (z)-2-fluoro-3-(4-methoxyphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound COC1=CC=C(\C=C(/F)CO)C=C1 DWYWKQKDWNNSDO-TWGQIWQCSA-N 0.000 description 1
- SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N (z)-4-[2-[(z)-3-carboxyprop-2-enoyl]oxyethoxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C(O)=O SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- PXOZUSYYHXTUGQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis[4-(dimethylamino)phenyl]-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(O)(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C=CC1=CC=CC=C1 PXOZUSYYHXTUGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQBHVEFIKNQCPU-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=C)C1=CC=CC=C1 KQBHVEFIKNQCPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSXPUMXBTAQNFQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=C([N+]([O-])=O)C=1C(O)C=CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O DSXPUMXBTAQNFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTGLZXOXSJDDU-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-chlorophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=C(Cl)C=CC=1C(O)C=CC1=CC=C(Cl)C=C1 CCTGLZXOXSJDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005207 1,3-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PICVYUWHHIUEBJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-bromophenyl)-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=C(Br)C=CC=1C(O)C=CC1=CC=CC=C1 PICVYUWHHIUEBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSTZHLLETNRQPQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound C=CC(O)C1=CC=C(Cl)C=C1 QSTZHLLETNRQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOVMCUYLTRFDIV-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methoxyphenyl)-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C=CC1=CC=CC=C1 GOVMCUYLTRFDIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMIRTRGJNXANJU-UHFFFAOYSA-N 1-(furan-3-yl)prop-2-en-1-ol Chemical compound C=CC(O)C=1C=COC=1 JMIRTRGJNXANJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXWFQSYMVKOCJ-UHFFFAOYSA-N 1-N',2-N'-dihydroxyethanediimidamide Chemical compound ON=C(N)C(N)=NO BFXWFQSYMVKOCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKSQNRGNGXZZAL-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(O)C=CC1=CC=CC=C1 WKSQNRGNGXZZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRZYZVXYQQVYNT-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=CC(O)C1CCCCC1 BRZYZVXYQQVYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCSOWYGHTLNPIG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylsulfonyl-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(=O)(=O)C(O)C=CC1=CC=CC=C1 SCSOWYGHTLNPIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(C(=O)O)=CC=C21 SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDQGNEYQTVTZMB-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyprop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound C=CC(O)S(O)(=O)=O UDQGNEYQTVTZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAOEFACSIEADI-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxyprop-2-en-1-ol Chemical compound C=CC(O)OC1=CC=CC=C1 JAAOEFACSIEADI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RECMXJOGNNTEBG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylmethoxyethanol Chemical compound CC(O)OCC1=CC=CC=C1 RECMXJOGNNTEBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHHJQVRGRPHIMR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=CC(O)C1=CC=CC=C1 MHHJQVRGRPHIMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 1h-quinoline-2-thione Chemical compound C1=CC=CC2=NC(S)=CC=C21 KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPWDGTGXUYRARH-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanol Chemical compound OCC(Cl)(Cl)Cl KPWDGTGXUYRARH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COPGINBBZFHBRB-UHFFFAOYSA-N 2,3,3-triphenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CO)=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 COPGINBBZFHBRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBGFYAIYFIJNL-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromo-4-hydroxybut-2-enoic acid Chemical compound OCC(Br)=C(Br)C(O)=O OVBGFYAIYFIJNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940082044 2,3-dihydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- OGDCGPJYEBFECC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CO)=CC1=CC=CC=C1 OGDCGPJYEBFECC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURINPJWTLEELW-UHFFFAOYSA-N 2-(3-cyclohexyl-3-hydroxyprop-1-enyl)cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1C(O)C=CC1CCCCC1O TURINPJWTLEELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKURIJCKIRTAB-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyprop-1-enyl)-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C=CCO)C(O)=C1 PRKURIJCKIRTAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDIWLEOZUNUOCT-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyprop-1-enyl)phenol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC=C1O FDIWLEOZUNUOCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OCC(=C)C(O)=O AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 2-Buten-1-ol Chemical compound C\C=C\CO WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWQKZCYUNQKJRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminoprop-2-en-1-ol Chemical compound NC(=C)CO BWQKZCYUNQKJRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCDISCXJYNYGZ-UHFFFAOYSA-N 2-benzylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(=C)CC1=CC=CC=C1 AFCDISCXJYNYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKKEMJPUUVWBM-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-(4-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(Br)=CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ULKKEMJPUUVWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCOYMHGVQKSELR-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(Br)=CC1=CC=CC=C1 NCOYMHGVQKSELR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYZMKBLTDMKRHK-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-4-hydroxybut-2-enoic acid Chemical compound OCC=C(Br)C(O)=O OYZMKBLTDMKRHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQICOKCBYTXHGX-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 YQICOKCBYTXHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGWIETAKNLNHNW-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobut-2-en-1-ol Chemical compound CC=C(Cl)CO PGWIETAKNLNHNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASJSAQIRZKANQN-CRCLSJGQSA-N 2-deoxy-D-ribose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)CC=O ASJSAQIRZKANQN-CRCLSJGQSA-N 0.000 description 1
- PSJUNRMNBMGMGA-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound CCOC(CO)=CC1=CC=CC=C1 PSJUNRMNBMGMGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCARUVPOFGHMHS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyprop-2-en-1-ol Chemical compound CCOC(=C)CO WCARUVPOFGHMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFLAMGBPLJTYNC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(F)=CC1=CC=CC=C1 QFLAMGBPLJTYNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDSSGBPEUDDEE-UHFFFAOYSA-N 2-formylpyridine Chemical compound O=CC1=CC=CC=N1 CSDSSGBPEUDDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKFMHXZXCCJSJK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybut-3-enenitrile Chemical compound C=CC(O)C#N WKFMHXZXCCJSJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBWPSWWDYVWZKA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybut-3-enoic acid Chemical compound C=CC(O)C(O)=O VBWPSWWDYVWZKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKXFVHOXDAJSMM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypent-3-enenitrile Chemical compound CC=CC(O)C#N AKXFVHOXDAJSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISWUHBXRKFIDA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypent-3-enoic acid Chemical compound CC=CC(O)C(O)=O CISWUHBXRKFIDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGYBYYJGIKPBFD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound CC(=C)C(O)C1=CC=CC=C1 ZGYBYYJGIKPBFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRRNDVJTGEYOG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-(4-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(C)=CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 WMRRNDVJTGEYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCCCC1O NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound CC(=C)CO BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMBICUOTOWQGIN-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC([N+]([O-])=O)=CC1=CC=CC=C1 KMBICUOTOWQGIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQRGPUCFCCYRCH-UHFFFAOYSA-N 2-nitroprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(=C)[N+]([O-])=O VQRGPUCFCCYRCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWBZGUVBRHFUCN-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=C(CO)OC1=CC=CC=C1 GWBZGUVBRHFUCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNHNBMQCHKKDNI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutan-1-ol Chemical compound CCC(CO)C1=CC=CC=C1 DNHNBMQCHKKDNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROPQINLWRARCTM-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonopropan-2-ylphosphonic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(C)(C)P(O)(O)=O ROPQINLWRARCTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDZJHCQPPWSRFX-UHFFFAOYSA-N 3,3-diphenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=CCO)C1=CC=CC=C1 VDZJHCQPPWSRFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDPMVWJTVXNMOD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4-dichlorophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=C(Cl)C=C1Cl UDPMVWJTVXNMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJCHNTCMJBJULO-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4-dimethylphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC=C(C=CCO)C(C)=C1 FJCHNTCMJBJULO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZGNPOOSJRVAAL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-bromophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC=C1Br GZGNPOOSJRVAAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSDGYZONTQWZIN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-chlorophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC=C1Cl VSDGYZONTQWZIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUTPOMPODAJKBF-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=CCO KUTPOMPODAJKBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFTULPAVNUDILJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=CCO LFTULPAVNUDILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQDUHQARXQIRHF-UHFFFAOYSA-N 3-(2-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O JQDUHQARXQIRHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZDDMDAKGIRCPP-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4,5-trimethoxyphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound COC1=CC(C=CCO)=CC(OC)=C1OC HZDDMDAKGIRCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXPYEBXQALOKTO-UHFFFAOYSA-N 3-(3-amino-4-methoxyphenyl)sulfonylprop-2-en-1-ol Chemical compound COC1=CC=C(S(=O)(=O)C=CCO)C=C1N GXPYEBXQALOKTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEYDLXAGRURAKA-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxy-4-propoxyphenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound CCCOC1=CC=C(C=CCO)C=C1OC KEYDLXAGRURAKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYXRXMTMCVACB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 DOYXRXMTMCVACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYICIIFSBJOBKE-NSCUHMNNSA-N 3-(4-Methoxyphenyl)-2-propen-1-ol Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\CO)C=C1 NYICIIFSBJOBKE-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- YFDCPYIRORRRBR-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)-2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(C)=CC1=CC=C(N)C=C1 YFDCPYIRORRRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGRIOFUMFJJBRY-UHFFFAOYSA-N 3-(4-chlorophenyl)-2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(C)=CC1=CC=C(Cl)C=C1 MGRIOFUMFJJBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLHFQGXGDCYRMY-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methoxyphenyl)-1-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC(O)C1=CC=CC=C1 CLHFQGXGDCYRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYXORSQDCSEJGP-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methoxyphenyl)-2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound COC1=CC=C(C=C(C)CO)C=C1 KYXORSQDCSEJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRBIHJBBARCHGG-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methylphenyl)-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=CCO)C1=CC=CC=C1 YRBIHJBBARCHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYZRKHJQRPFEKB-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methylphenyl)sulfonylprop-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)C=CCO)C=C1 AYZRKHJQRPFEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGXXEDSIJZHDBN-UHFFFAOYSA-N 3-(4-nitrophenyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 LGXXEDSIJZHDBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKXRXAPGRWZOLD-UHFFFAOYSA-N 3-(benzenesulfonyl)prop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SKXRXAPGRWZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIGNZLVHOZEOPV-UHFFFAOYSA-N 3-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=CC(CO)=C1 IIGNZLVHOZEOPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTEGROOMJASZAW-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(dimethylamino)phenyl]-1-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC(O)C1=CC=CC=C1 UTEGROOMJASZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGIYZRUCYJXMSA-UHFFFAOYSA-N 3-benzylsulfonylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=CS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 MGIYZRUCYJXMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZCSFMDONRPQB-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(C)=CBr VFZCSFMDONRPQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEXVGSBBXZZOAJ-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=C(Br)C1=CC=CC=C1 WEXVGSBBXZZOAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKLFTEJMOWRVAG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxyprop-2-en-1-ol Chemical compound CCCCOC=CCO GKLFTEJMOWRVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJSJSUCUHRELHM-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-fluoroprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(F)=CCl IJSJSUCUHRELHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIAHUGCGQSZTQU-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC(C)=CCl HIAHUGCGQSZTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNAYSCGBBLBAGN-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-nitro-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC([N+]([O-])=O)=C(Cl)C1=CC=CC=C1 GNAYSCGBBLBAGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYSCSJNOTUZRNR-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=C(Cl)C1=CC=CC=C1 MYSCSJNOTUZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- QQVKIDMTTXJFSE-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-n-(4-methoxyphenyl)prop-1-ene-1-sulfonamide Chemical compound COC1=CC=C(NS(=O)(=O)C=CCO)C=C1 QQVKIDMTTXJFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGBORHXVMIGIY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-n-phenylprop-1-ene-1-sulfonamide Chemical compound OCC=CS(=O)(=O)NC1=CC=CC=C1 MPGBORHXVMIGIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMLUSBSEZKNHEG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyprop-1-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OCC=CS(O)(=O)=O SMLUSBSEZKNHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 3-methylphenylacetic acid Chemical compound CC1=CC=CC(CC(O)=O)=C1 GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZIIJPYYFBYING-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxy-3-phenylprop-2-en-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=CCO)OC1=CC=CC=C1 MZIIJPYYFBYING-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKXIDQVDUOXVQT-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxyprop-2-en-1-ol Chemical compound OCC=COC1=CC=CC=C1 VKXIDQVDUOXVQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical class CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1 MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKYKTTJZSMGJRK-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-hydroxypent-3-enoic acid Chemical compound CC(Cl)=CC(O)C(O)=O LKYKTTJZSMGJRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBXRVJGNADQUPU-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,3-diiodobut-2-enoic acid Chemical compound OCC(I)=C(I)C(O)=O OBXRVJGNADQUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- RMQJECWPWQIIPW-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxycrotonic acid Chemical compound OCC=CC(O)=O RMQJECWPWQIIPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YANJKPZKTWMMOF-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxypent-2-enoic acid Chemical compound CC(O)C=CC(O)=O YANJKPZKTWMMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCNTZFIIOFTKIY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxypyridine Chemical compound OC1=CC=NC=C1 GCNTZFIIOFTKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LDZLXQFDGRCELX-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutan-1-ol Chemical compound OCCCCC1=CC=CC=C1 LDZLXQFDGRCELX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPNAJGCZQBQWQZ-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxyconiferyl alcohol Chemical compound COC1=CC(C=CCO)=CC(O)=C1O NPNAJGCZQBQWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000002126 C01EB10 - Adenosine Substances 0.000 description 1
- JPKDPDAWIQQYIX-UHFFFAOYSA-N CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C.C=CC(=O)OC1CCC(CC1)OC(=O)C=C Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C.C=CC(=O)OC1CCC(CC1)OC(=O)C=C JPKDPDAWIQQYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C Chemical compound C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033040 Carbonic anhydrase 12 Human genes 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIKUYHXYGGJMLM-GIMIYPNGSA-N Crotonoside Natural products C1=NC2=C(N)NC(=O)N=C2N1[C@H]1O[C@@H](CO)[C@H](O)[C@@H]1O MIKUYHXYGGJMLM-GIMIYPNGSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1CCCCC1N(CC(O)=O)CC(O)=O FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYHBQMYGNKIUIF-UHFFFAOYSA-N D-guanosine Natural products C1=2NC(N)=NC(=O)C=2N=CN1C1OC(CO)C(O)C1O NYHBQMYGNKIUIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N D-mannopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N D-ribofuranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H]1O HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- GHASVSINZRGABV-UHFFFAOYSA-N Fluorouracil Chemical compound FC1=CNC(=O)NC1=O GHASVSINZRGABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930091371 Fructose Natural products 0.000 description 1
- 239000005715 Fructose Substances 0.000 description 1
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 101000867855 Homo sapiens Carbonic anhydrase 12 Proteins 0.000 description 1
- UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N Hypoxanthine nucleoside Natural products OC1C(O)C(CO)OC1N1C(NC=NC2=O)=C2N=C1 UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930010555 Inosine Natural products 0.000 description 1
- UGQMRVRMYYASKQ-KQYNXXCUSA-N Inosine Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C2=NC=NC(O)=C2N=C1 UGQMRVRMYYASKQ-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 1
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJIRXNPXTVQOEU-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyiminocycloheptylidene)hydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCC1=NO LJIRXNPXTVQOEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical group C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N Ribose Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIOZLISABUUKJY-UHFFFAOYSA-N Thiobenzamide Chemical compound NC(=S)C1=CC=CC=C1 QIOZLISABUUKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- RFUZHZOLHOAGIX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-chloroacetic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCl RFUZHZOLHOAGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229960005305 adenosine Drugs 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical class 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N alpha-D-Furanose-Ribose Natural products OCC1OC(O)C(O)C1O HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMMURAAUARKVCB-UHFFFAOYSA-N alpha-D-ara-dHexp Natural products OCC1OC(O)CC(O)C1O PMMURAAUARKVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N arabinose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DRTQHJPVMGBUCF-PSQAKQOGSA-N beta-L-uridine Natural products O[C@H]1[C@@H](O)[C@H](CO)O[C@@H]1N1C(=O)NC(=O)C=C1 DRTQHJPVMGBUCF-PSQAKQOGSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound CC(O)CCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCKDCRKBURQZPT-UHFFFAOYSA-N caffeyl alcohol Chemical compound OCC=CC1=CC=C(O)C(O)=C1 ZCKDCRKBURQZPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- ILGSNOOABSFVDL-UHFFFAOYSA-N cerium;n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound [Ce].O=NN(O)C1=CC=CC=C1 ILGSNOOABSFVDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- CISNNLXXANUBPI-UHFFFAOYSA-N cyano(nitro)azanide Chemical compound [O-][N+](=O)[N-]C#N CISNNLXXANUBPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940104302 cytosine Drugs 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 229940061607 dibasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOLRDOPZWRKPSO-UHFFFAOYSA-N diethylaminomethylphosphonic acid Chemical compound CCN(CC)CP(O)(O)=O NOLRDOPZWRKPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N dihydroxidosulfur Chemical group OSO HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical compound O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L dipotassium;oxalate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C([O-])=O IRXRGVFLQOSHOH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N ethionamide Chemical compound CCC1=CC(C(N)=S)=CC=N1 AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWOUCAHXTXVZFQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethyl-3-hydroxypent-4-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(CC)C(O)C=C DWOUCAHXTXVZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMGQRDAVBRVWBQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-hydroxyhexa-2,4-dienoate Chemical compound CCOC(=O)C=C(O)C=CC HMGQRDAVBRVWBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXGLFRKSZBCOML-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-2-hydroxypent-3-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(O)C=C(C)Cl JXGLFRKSZBCOML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229960002949 fluorouracil Drugs 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930182830 galactose Natural products 0.000 description 1
- WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N gamma-methylallyl alcohol Natural products CC=CCO WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940029575 guanosine Drugs 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000006278 hypochromic anemia Diseases 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003786 inosine Drugs 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-SNAWJCMRSA-N methylethyl ketone oxime Chemical compound CC\C(C)=N\O WHIVNJATOVLWBW-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYICIIFSBJOBKE-UHFFFAOYSA-N p-methoxycinnamyl alcohol Natural products COC1=CC=C(C=CCO)C=C1 NYICIIFSBJOBKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920005593 poly(benzyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I potassium;titanium(4+);pentafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[Ti+4] SQTLECAKIMBJGK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGUWFUQJCDRPTL-UHFFFAOYSA-N pyridine-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=NC=C1 BGUWFUQJCDRPTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N quinolin-2-ol Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C=CC2=C1 LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical group O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L rose bengal Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N salicylaldoxime Chemical compound O\N=C/C1=CC=CC=C1O ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LZFOPEXOUVTGJS-UHFFFAOYSA-N sinapyl alcohol Chemical compound COC1=CC(C=CCO)=CC(OC)=C1O LZFOPEXOUVTGJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M sodium;2-[methyl-[(z)-octadec-9-enyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN(C)CCS([O-])(=O)=O AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M 0.000 description 1
- 229960002920 sorbitol Drugs 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HJGHXDNIPAWLLE-OWOJBTEDSA-N trans-3-chloroprop-2-en-1-ol Chemical compound OC\C=C\Cl HJGHXDNIPAWLLE-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229940117957 triethanolamine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- DRTQHJPVMGBUCF-UHFFFAOYSA-N uracil arabinoside Natural products OC1C(O)C(CO)OC1N1C(=O)NC(=O)C=C1 DRTQHJPVMGBUCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229940045145 uridine Drugs 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229940075420 xanthine Drugs 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法、自動現像機、及び記録媒体に関する。The present invention relates to a method for making a lithographic printing plate, an automatic processor, and a recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、感光性平版印刷版(以下「PS
版」という)は、感光性平版印刷版処理装置(以下「P
S版プロセッサー」という)によって現像処理される。
このPS版プロセッサーにおいて現像処理は、画像が記
録されたPS版を現像槽内に搬送しながら現像槽に貯留
された現像液に浸漬し、現像液中に設けた回転ブラシロ
ーラ等の擦り手段によってPS版の非画像部分の感光層
を除去することによりなされる。このPS版プロセッサ
ーでは、現像液による処理が終了したPS版は、水洗部
で洗浄水によって水洗いされた後(水洗処理)、不感脂
化処理部でガム液が塗布されることにより不感脂化処理
が施された後、版面保護等の処理が連続して行われる。2. Description of the Related Art In general, a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS
Plate) is a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as “P”).
S "processor").
In this PS plate processor, the developing process is carried out by immersing the PS plate on which the image is recorded in the developing solution stored in the developing solution while transporting the PS plate into the developing solution, and rubbing with a rubbing means such as a rotary brush roller provided in the developing solution. This is performed by removing the photosensitive layer in the non-image portion of the PS plate. In this PS plate processor, the PS plate that has been processed with the developer is washed with washing water in a washing section (washing treatment), and then subjected to a desensitizing process by applying a gum solution in a desensitizing section. Is performed, processing such as plate surface protection is continuously performed.
【0003】一般に、PS版の感光層としては、ジアゾ
樹脂や、光架橋型や、光重合型が使用されている。光重
合性感光層は、ラジカル重合であるため、露光終了後も
感光層内に存在するラジカルにより反応が進んでしまう
傾向にある。そのため、露光後の雰囲気や時間差で反応
にムラが生じ、感光層の刷耐力及びPS版に形成した画
像を形成する網点の大きさが変わってしまい、得られた
画質が悪くなってしまうことが従来より問題となってい
る。Generally, a diazo resin, a photocrosslinking type, or a photopolymerization type is used as a photosensitive layer of a PS plate. Since the photopolymerizable photosensitive layer is radical polymerization, the reaction tends to proceed due to radicals present in the photosensitive layer even after the exposure is completed. As a result, the reaction may be uneven due to the atmosphere and time difference after the exposure, and the printing durability of the photosensitive layer and the size of a halftone dot for forming an image formed on the PS plate may be changed, resulting in deterioration of the obtained image quality. Has been a problem.
【0004】そのため、PS版の現像前に加熱装置によ
りPS版を加熱して(プレ加熱)、PS版の表面温度を均
一化することにより、反応にムラが生じるのを防いで、
画像品質を一定にすることが提案されている。[0004] Therefore, before the development of the PS plate, the PS plate is heated by a heating device (preheating) to make the surface temperature of the PS plate uniform, thereby preventing the reaction from becoming uneven.
It has been proposed to make the image quality constant.
【0005】また、PS版の厚みや版サイズ、PS版の
種類(以下、版種と称す。)によって加熱条件が異なる
が、1台のPS版プロセッサーによって複数種類のPS
版の現像処理を行うため、PS版を現像する前に現像対
象となるPS版の厚みや、版サイズ、版種等の条件を手
動でPS版プロセッサーに入力して、適した加熱条件と
なるまで待ってから加熱、現像を開始するように制御し
ている。The heating conditions vary depending on the thickness and size of the PS plate and the type of PS plate (hereinafter referred to as the plate type).
Before developing the PS plate, the conditions such as the thickness of the PS plate to be developed, the size of the plate, the type of the plate, and the like are manually input to the PS plate processor before developing the PS plate, so that suitable heating conditions are obtained. It is controlled so that heating and development are started after waiting till.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、設定し
た温度条件が不適切であったり、操作ミス等により設定
した温度条件が異なると、所望の画質の版が得られない
ため、新たに露光処理からしなおさねばならず、多大な
損失が出てしまうという問題がある。また、一般に加熱
条件等はユーザが手動でPS版プロセッサーに入力する
ため、適切な加熱条件を露光領域に対して与えることは
難しく、また、変更のし忘れや入力ミスなどの操作ミス
が生じることは避けられない。However, if the set temperature conditions are inappropriate or the set temperature conditions are different due to an operation error or the like, a plate having a desired image quality cannot be obtained. There is a problem that a large loss must be re-started. In addition, since the heating conditions are generally manually input by the user into the PS plate processor, it is difficult to provide appropriate heating conditions to the exposure area, and operation errors such as forgetting to change or inputting errors may occur. Is inevitable.
【0007】さらに、近年では、省エネ化の要求が高ま
ってきており、装置のランニングコストを下げることが
重要な課題となっている。Further, in recent years, there has been an increasing demand for energy saving, and reducing the running cost of the apparatus has become an important issue.
【0008】以上のことから本発明では、設定した温度
条件が不適切であったり、操作ミス等により設定した温
度条件が異なることによる損失を生じる恐れがなく、処
理効率も向上できる平版印刷版の製版方法、自動現像
機、及び記録媒体を得ることを目的とする。また、画像
品質を下げることなく消費電力が抑えられる平版印刷版
の製版方法、自動現像機、及び記録媒体を得ることも目
的とする。As described above, according to the present invention, a lithographic printing plate capable of improving the processing efficiency can be provided without the risk that the set temperature condition is inappropriate or that the set temperature condition is different due to an operation error or the like, thereby causing no loss. An object is to obtain a plate making method, an automatic developing machine, and a recording medium. It is another object of the present invention to provide a method for making a lithographic printing plate, an automatic developing machine, and a recording medium that can suppress power consumption without lowering image quality.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明の平版印刷版の製版方法は、光重合性
感光層を有する平版印刷版を画像データに基いて露光す
る露光工程と、該露光工程の前又は後に、前段の工程で
使用した版情報に基づき、前記露光工程で露光された平
版印刷版を加熱する際の加熱条件を決定する加熱条件決
定工程と、該加熱条件決定工程で決定された加熱条件と
なるように、前記露光画像が形成された平版印刷版を加
熱する加熱工程と、前記加熱工程で加熱された平版印刷
版を現像槽内に導いて現像する現像工程と、を含んでい
る。In order to achieve the above object, a method of making a lithographic printing plate according to the invention of claim 1 is an exposure step of exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer based on image data. Before or after the exposure step, based on the plate information used in the previous step, a heating condition determining step of determining a heating condition when heating the lithographic printing plate exposed in the exposure step, the heating condition A heating step of heating the lithographic printing plate on which the exposure image is formed so that the heating conditions determined in the determining step are satisfied; and a developing step of guiding the lithographic printing plate heated in the heating step into a developing tank to develop the lithographic printing plate. And a step.
【0010】すなわち、請求項1の発明の平版印刷版の
製版方法では、露光工程で露光された光重合性感光層を
有する露光処理済みの平版印刷版の現像を行う前に、露
光工程の前又は後に前段に設けられた装置に入力した版
情報に基づいて加熱条件を決定(加熱条件決定工程)
し、該決定した加熱条件により前記平版印刷版を加熱
(加熱工程)する。その後、現像する(現像工程)こと
により製版を得る。That is, in the method of making a lithographic printing plate according to the first aspect of the present invention, the lithographic printing plate having an exposed photopolymerizable photosensitive layer exposed in the exposure step is developed before the exposure step. Alternatively, a heating condition is determined based on plate information input to a device provided in a preceding stage later (heating condition determining step).
Then, the lithographic printing plate is heated (heating step) under the determined heating conditions. Thereafter, the plate is obtained by developing (developing step).
【0011】版情報は、版の厚みや、版サイズ、及び版
種の少なくとも1つを含んでおり、請求項1の発明で
は、このような版情報をユーザが手動で入力するのでは
なく、前段の装置において前記平板印刷版に処理を施す
ために必要な情報としてインプットされた版情報に基づ
いて加熱条件を決定しているので、変更のし忘れや入力
ミスなどの操作ミスが生じることなく、加熱対象となる
平版印刷版に対して常に最適な加熱条件で確実に加熱で
きる。The plate information includes at least one of a plate thickness, a plate size, and a plate type. According to the first aspect of the present invention, the user does not manually input such plate information. Since the heating conditions are determined based on the plate information input as information necessary for performing the processing on the lithographic printing plate in the preceding apparatus, operation errors such as forgetting to change or input errors do not occur. In addition, the lithographic printing plate to be heated can always be reliably heated under optimal heating conditions.
【0012】版種としては、例えば、新聞用PS版、高
耐刷用PS版及び高画質用PS版等があり、版厚として
は、例えば、0.12mm、0.15mm、0.2m
m、0.24mm、0.3mm、0.4mm等の種類が
あり、版サイズとしては、小版が、例えば、254mm
×391mm、中版が、例えば、縦×横が650mm×
550mm、大版が、例えば、縦×横が1030mm×
800mmや1130mm×930mm等がある。The plate type includes, for example, a PS plate for newspapers, a PS plate for high printing durability, a PS plate for high image quality, and the like. The plate thickness is, for example, 0.12 mm, 0.15 mm, 0.2 m
m, 0.24 mm, 0.3 mm, 0.4 mm, etc., and the plate size is, for example, 254 mm
× 391 mm, the medium version is, for example, 650 mm × height × width
550mm, large version, for example, length × width 1030mm ×
There are 800 mm, 1130 mm × 930 mm, and the like.
【0013】また、版サイズと厚さとの代表的なものと
しては、版サイズが254mm×391mmで厚さ0.
12mmの平板印刷板や、版サイズが650mm×55
0mmで厚さ0.24mmの平板印刷板や、版サイズが
1030mm×800mm又は1130mm×930m
mで厚さ0.3mmの平板印刷板等である。勿論これら
の版サイズ、厚さに限るものではない。A typical example of the plate size and thickness is a plate size of 254 mm × 391 mm and a thickness of 0.1 mm.
12mm lithographic printing plate or plate size 650mm x 55
A flat printing plate with a thickness of 0 mm and a thickness of 0.24 mm, or a plate size of 1030 mm x 800 mm or 1130 mm x 930 m
and a flat printed board having a thickness of 0.3 mm. Of course, it is not limited to these plate sizes and thicknesses.
【0014】版情報として平版印刷版の厚さが入力され
ている場合、平版印刷版の厚さが厚いと支持体であるア
ルミ板の厚さも厚くなるので加熱手段から平版印刷版に
付与される加熱容量が大きくなるように制御する。ま
た、平版印刷版の厚さが薄いと支持体であるアルミ板の
厚さも薄くなるので、アルミ板の厚さが厚い場合と比較
して熱容量が小さくなるため、加熱手段から平版印刷版
に付与される加熱容量が平版印刷版の厚さが厚い場合よ
りも小さくなるように制御する。これにより、平版印刷
版の表面温度が厚さに関わりなく均一化できる。なお、
加熱容量は、加熱温度と加熱時間との積により決定され
る値である。When the thickness of the lithographic printing plate is inputted as the plate information, if the thickness of the lithographic printing plate is large, the thickness of the aluminum plate as the support is also large. The heating capacity is controlled to be large. Also, when the thickness of the lithographic printing plate is thin, the thickness of the aluminum plate as the support is also thin, so that the heat capacity is smaller than when the thickness of the aluminum plate is thick. The heating capacity to be controlled is controlled to be smaller than when the thickness of the lithographic printing plate is large. Thereby, the surface temperature of the lithographic printing plate can be made uniform regardless of the thickness. In addition,
The heating capacity is a value determined by the product of the heating temperature and the heating time.
【0015】また、版情報として版サイズが入力されて
いる場合、幅が大きく、かつ、長さが長いサイズ(以
下、Lサイズと称す。)の平版印刷版であれば、アルミ
板の面積が大きくなるので熱容量が大きく、加熱手段か
ら平版印刷版に付与される加熱容量が大きくなるように
制御し、幅が小さく、かつ、長さが短いサイズ(以下、
Sサイズと称す。)の平版印刷版であれば、熱容量は小
さいので、Lサイズの平版印刷版と比較して平版印刷版
に付与される加熱容量が小さくなるように制御する。When a plate size is input as plate information, if the planographic printing plate has a large width and a long length (hereinafter, referred to as an L size), the area of the aluminum plate is small. As the heat capacity increases, the heat capacity is large, and the heating capacity applied to the lithographic printing plate from the heating means is controlled to be large.
It is called S size. In the case of the planographic printing plate of (1), since the heat capacity is small, the heating capacity applied to the planographic printing plate is controlled to be smaller than that of the L-sized planographic printing plate.
【0016】さらに、版情報として版種が入力されてい
る場合、例えば、版種が新聞用PS版である場合は、加
熱温度を高くして加熱時間を短くなるように加熱条件を
決定して、耐刷性を向上させるために充分に大きな加熱
容量が与えられるように制御する。また、版種が高耐刷
用PS版である場合、耐刷性を向上させるために充分な
加熱が必要であるが、加熱温度を高くすると、保護層の
溶解性が低下したり、感光層の熱重合が生じて現像不良
となる恐れがあるため、加熱温度をそれほど高くせずに
加熱時間を長くして必要な加熱容量を確保するように加
熱条件を決定して、耐刷性を向上させるために充分に大
きな加熱容量が与えられるように制御する。Further, when a plate type is input as plate information, for example, when the plate type is a newspaper PS plate, the heating conditions are determined so that the heating temperature is increased and the heating time is shortened. The heating capacity is controlled so as to provide a sufficiently large heating capacity to improve the printing durability. When the plate type is a PS plate for high printing durability, sufficient heating is required to improve the printing durability. However, when the heating temperature is increased, the solubility of the protective layer is reduced, Because of the possibility of thermal polymerization of the product and development failure, the heating conditions are determined so as to secure the required heating capacity by increasing the heating time without increasing the heating temperature so as to improve the printing durability. The heating is controlled so that a sufficiently large heating capacity is provided.
【0017】例えば、版種Aでは、必要な加熱容量が8
0℃以上130℃以下で10秒間とすると、実際に必要
な最低熱量は80℃で10秒又は100℃で5秒とな
る。上述したように、加熱温度を高くすると、保護層の
溶解性が低下したり、感光層の熱重合が生じて現像不良
となる恐れがあるため、加熱温度をそれほど高くしない
ように調整する必要がある場合は80℃で10秒とし、
加熱温度を高くしてもよい場合は、100℃で5秒とす
る。For example, for plate type A, the required heating capacity is 8
Assuming that the temperature is 0 ° C. or more and 130 ° C. or less for 10 seconds, the minimum heat amount actually required is 80 ° C. for 10 seconds or 100 ° C. for 5 seconds. As described above, if the heating temperature is increased, the solubility of the protective layer may be reduced, or thermal polymerization of the photosensitive layer may occur, resulting in poor development. Therefore, it is necessary to adjust the heating temperature not to be so high. In some cases, 10 seconds at 80 ° C,
When the heating temperature may be increased, the temperature is set to 100 ° C. for 5 seconds.
【0018】なお、保護層の溶解性が低下したり、感光
層の熱重合が生じて現像不良となる恐れがある上限の温
度は、版種によりばらつきがあるが、一般には130℃
以上145℃以下程度である。そのため、70℃以上1
40℃以下の加熱温度で、3秒以上60秒以下の加熱時
間が、適正範囲であり、より好ましくは80℃以上13
0℃以下程度で、5秒以上30秒以下となる。勿論、版
種の種類によってそれぞれ適正な温度範囲があるので上
記値に限定するものではない。The upper limit temperature at which the solubility of the protective layer is reduced or the thermal polymerization of the photosensitive layer occurs to cause defective development varies depending on the type of plate, but is generally 130 ° C.
It is about 145 ° C. or less. Therefore, 70 ° C or more
At a heating temperature of 40 ° C. or less, a heating time of 3 seconds or more and 60 seconds or less is within an appropriate range, and more preferably 80 ° C. or more and 13 seconds or less.
At about 0 ° C. or less, the time is 5 seconds or more and 30 seconds or less. Of course, the temperature is not limited to the above value since there is an appropriate temperature range depending on the type of plate type.
【0019】さらに、版種が高画質用PS版である場
合、中程度の加熱容量となるように加熱温度及び加熱時
間を決定して、全面に均一に加熱されるようにすること
で網点品質を揃えるように制御する。なお、版種として
は、上記で述べた新聞用PS版、高耐刷用PS版及び高
画質用PS版等の他に種々のものがあるが、それぞれに
最適な加熱条件となるように制御される。Further, when the plate type is a PS plate for high image quality, the heating temperature and the heating time are determined so as to have a medium heating capacity, and the entire surface is uniformly heated so that the halftone dot is obtained. Control to make the quality uniform. There are various plate types other than the above-described PS plate for newspapers, PS plate for high printing durability, PS plate for high image quality, and the like, and control is performed so that optimal heating conditions are obtained for each. Is done.
【0020】更に、平板印刷板の厚さと版サイズ、版種
の全ての情報が版情報として入力されている場合には、
それぞれの厚さと版サイズ、版種の組合せに応じて最適
となるように決定される加熱条件とする。例えば、版情
報として、平板印刷板の厚さ、版サイズ及び版種が入力
されている場合の代表的な例について簡単に説明する。Further, when all the information of the thickness, plate size, and plate type of the lithographic printing plate has been input as plate information,
The heating conditions are determined so as to be optimal according to the combination of each thickness, plate size and plate type. For example, a typical example in which the thickness, plate size, and plate type of a lithographic printing plate are input as plate information will be briefly described.
【0021】例えば、版厚が0.4mmで、版サイズが
1130mm×930mmの大判高耐刷用PS版の場
合、重合度(硬化率)を高めるため、加熱容量が最大と
なるように加熱条件を決定する。また、例えば、版厚が
0.24mmで、版サイズが650mm×550mmの
中判高耐刷用PS版の場合、画質重視のため均一に加熱
し、網点品質をそろえるため、加熱容量が中程度となる
ように加熱条件を決定する。さらに、例えば、線画のも
のであまり耐刷を必要としないPS版(高耐刷用又は高
画質用の版種でユーザが高耐刷不要と判断したPS版)
や、版厚が0.12mmで、版サイズが254mm×3
91mmの小判高耐刷用PS版の場合、加熱容量が最小
(加熱しない場合も含む)となるように加熱条件を決定
する。For example, in the case of a large-format high-durability PS plate having a plate thickness of 0.4 mm and a plate size of 1130 mm × 930 mm, the heating conditions are set so that the heating capacity is maximized in order to increase the degree of polymerization (curing rate). To determine. Further, for example, in the case of a PS plate for medium format and high printing durability having a plate thickness of 0.24 mm and a plate size of 650 mm × 550 mm, heating is performed uniformly for emphasizing image quality and halftone dot quality is uniform. The heating conditions are determined so as to be about the same. Further, for example, a PS plate which is a line drawing and does not require much printing durability (a PS plate which the user has determined to be unnecessary for high printing durability for a high printing durability or high image quality plate type)
Also, the plate thickness is 0.12mm and the plate size is 254mm x 3
In the case of a 91 mm oval PS plate for high printing durability, the heating conditions are determined so that the heating capacity is minimized (including the case where heating is not performed).
【0022】また、請求項2に記載した発明は、上記請
求項1に記載の光重合性感光層を有する露光処理済みの
平版印刷版の現像前処理方法を実現する自動現像機であ
り、光重合性感光層を有する露光処理済みの平版印刷版
の現像を行う前に、前記平版印刷版を加熱する加熱手段
と、前記加熱手段により前記光重合性感光層を有する露
光処理済みの平版印刷版を加熱するときに、前段に設け
られた装置から入力された版情報に基づいて加熱条件を
決定し、該決定した加熱条件となるように前記加熱手段
を制御する加熱制御手段と、を備えている。According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic developing machine for realizing a pre-development method of an exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer according to the first aspect of the invention. Before developing the exposed lithographic printing plate having a polymerizable photosensitive layer, heating means for heating the lithographic printing plate, and the exposed lithographic printing plate having the photopolymerizable photosensitive layer by the heating means When heating, heating control means to determine the heating conditions based on the plate information input from the device provided in the previous stage, and to control the heating means so as to meet the determined heating conditions, I have.
【0023】すなわち、請求項2の発明では、自動現像
機の加熱制御手段が前段に設けられた装置から入力され
た版情報に基づいて前記平版印刷版に与える加熱条件を
決定し、該決定された加熱条件で加熱手段が前記平版印
刷版を加熱するため、実際に加熱対象となる平板印刷板
の版の厚み、版サイズ、及び版種に合わせて適切な加熱
条件にすることができ、また、変更のし忘れや入力ミス
などの操作ミスが生じることなく加熱処理を施すことが
できる。That is, in the invention of claim 2, the heating control means of the automatic developing machine determines the heating condition to be given to the lithographic printing plate based on the plate information inputted from the apparatus provided at the preceding stage, and the heating condition is determined. Since the heating means heats the lithographic printing plate under the heating conditions, the thickness of the plate of the lithographic printing plate to be actually heated, the plate size, and appropriate heating conditions can be set according to the plate type, The heating process can be performed without an operation error such as forgetting to change or an input error.
【0024】また、前段の装置に版情報が入力され前段
の装置が処理を開始する前の時点で加熱制御手段が前記
版情報を取得し、前記平版印刷版に最適な加熱条件を決
定するように構成することもでき、このような構成とす
ることで、現在加熱している版の加熱処理が終了後、直
ちに次に処理する版に適した加熱条件となるように自動
現像機の加熱条件を変更できるので、次の加熱条件とな
るまでの時間を短縮でき、処理効率を向上できる。これ
は、特に、異なる種類の版が次にセットされ加熱条件が
大幅に変更される場合に有利である。Further, at a point before plate information is inputted to the preceding apparatus and before the preceding apparatus starts processing, the heating control means acquires the plate information and determines an optimal heating condition for the planographic printing plate. With such a configuration, the heating conditions of the automatic developing machine are set so that the heating conditions suitable for the next plate to be processed immediately after the heating process of the currently heated plate is completed. Can be changed, so that the time until the next heating condition is achieved can be shortened, and the processing efficiency can be improved. This is particularly advantageous when different types of plates are subsequently set and the heating conditions are significantly changed.
【0025】このような加熱分布の制御は、請求項3に
記載したように、光重合性感光層を有する露光処理済み
の平版印刷版の現像を行う前に、前段に設けられた装置
から入力された版情報に基づいて加熱条件を決定し、該
決定した加熱条件で前記平版印刷版が加熱されるように
前記平版印刷版を加熱するプログラムにより行う。この
プログラムは、予め自動現像機の記録媒体に記録させて
いても良いし、自動現像機とは別体の記録媒体に記憶さ
せ、該記録媒体からインストールしてもよい。As described in claim 3, the heating distribution is controlled by an input device provided before the development of an exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer. Heating conditions are determined based on the obtained plate information, and the program is performed by heating the lithographic printing plate so that the lithographic printing plate is heated under the determined heating conditions. This program may be recorded in advance on a recording medium of the automatic developing machine, or may be stored on a recording medium separate from the automatic developing machine and installed from the recording medium.
【0026】また、加熱条件を決定する為の版情報は、
前記平版印刷版を加熱する加熱手段の前段に設けられた
装置からオンライン又はオフラインで取得または入力し
たものを用いることができる。The plate information for determining the heating conditions is as follows:
What has been obtained or input online or offline from a device provided before the heating means for heating the lithographic printing plate can be used.
【0027】さらに、本発明で用いる光重合性感光層を
有する平版印刷版は、支持体上に、光重合性感光層と、
該感光層を保護するための保護層とが順に積層された感
光性平板印刷版が好適である。Further, the lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention comprises, on a support, a photopolymerizable photosensitive layer,
A photosensitive lithographic printing plate in which a protective layer for protecting the photosensitive layer is sequentially laminated is preferable.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図1に示す様に、パソコン10、ワークステーション1
2、プレートセッター(露光装置)14、及びPS版プ
ロセッサー(自動現像装置)16から構成された製版シ
ステムに本発明を適用した場合について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment,
As shown in FIG. 1, a personal computer 10, a workstation 1
2. A case where the present invention is applied to a plate making system including a plate setter (exposure device) 14 and a PS plate processor (automatic developing device) 16 will be described.
【0029】また、本実施の形態で用いる感光性平版印
刷板(以下、PS版と称す。)としては、裏面にバック
コート層が設けられたアルミニウム支持体の表面に有機
下塗層、光重合性感光層、オーバーコート層が順に設け
られた構成のものとすることができる。なお、PS版の
詳細については後述する。The photosensitive lithographic printing plate (hereinafter, referred to as PS plate) used in the present embodiment includes an organic undercoat layer on the surface of an aluminum support provided with a back coat layer on the back surface, and a photopolymerization. And a layer in which a photosensitive layer and an overcoat layer are sequentially provided. The details of the PS plate will be described later.
【0030】本実施の形態の製版システムは、パソコン
10、ワークステーション12、プレートセッター1
4、及びPS版プロセッサー16が全てオンライン接続
されており、パソコン10に入力された画像データ、版
厚、版サイズ及びPS版の種類(版種)などの各種設定
情報がオンラインでPS版プロセッサー16にまで出力
可能である。The plate making system according to the present embodiment comprises a personal computer 10, a work station 12, a plate setter 1
4 and the PS plate processor 16 are all connected online, and various setting information such as image data, plate thickness, plate size and PS plate type (plate type) input to the personal computer 10 are online. Can be output up to
【0031】パソコン10には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。The personal computer 10 includes, for example, an application that edits an image read from image reading means such as a scanner while displaying the image on a display, creates a new character or image on the display, and creates an image to be printed. Is installed.
【0032】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション12に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるPS版の版種、版厚、及び版サイズ
等の各種設定情報を、前記ベクトル形式の画像データと
共にテキストデータとしてワークステーション12に出
力する。This application outputs the image created by the user to the workstation 12 as vector-format image data such as an outline, a drawing command for designating the area ratio of the filled area, the transmittance of the filled area, and the like. I do. Further, various setting information such as the type, thickness and size of the PS plate to be exposed, which is input by the user from the keyboard at the same time as the creation of the image, is converted into text data together with the vector format image data. Output to the workstation 12.
【0033】ワークステーション12には、ラスタイメ
ージプロセッサ(以下、RIPと称す。)、プレートセ
ッター14のドライバーソフトがインストールされてい
る。The workstation 12 has a raster image processor (hereinafter referred to as RIP) and driver software for the platesetter 14 installed therein.
【0034】RIPは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開した、TI
FF形式のファイル(以下、TIFFファイルと称す。)
やGIFファイル等のラスタ形式の画像データに変換す
るアプリケーションであり、本実施の形態では、ベクト
ル形式の画像データをタグ形式のヘッダ部とイメージデ
ータ部とから構成されたTIFFファイルに変換する。The RIP interprets vector-format image data and develops it as an array of dots having gradations.
FF format file (hereinafter referred to as TIFF file)
In this embodiment, the image data is converted from a vector format image data into a TIFF file including a tag format header portion and an image data portion.
【0035】プレートセッター14のドライバーソフト
はTIFFファイル及びテキスト形式のPS版の版種、
版厚、及び版サイズ等の各種設定情報を、プレートセッ
ター14で解析できるイメージフォーマットに変換して
プレートセッター14に出力するソフトウエアである。The driver software of the plate setter 14 is a TIFF file and a PS version in a text format.
This is software that converts various setting information such as plate thickness and plate size into an image format that can be analyzed by the platesetter 14, and outputs the image format to the platesetter 14.
【0036】したがって、ワークステーション12で
は、パソコン10から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをTIFFファイルに変換した
後、このTIFFファイル及びPS版の版種、版厚、及
び版サイズなどの各種設定情報を、プレートセッター1
4のドライバーソフトが、プレートセッター14で解析
できるイメージフォーマットに変換した後、プレートセ
ッター14に出力する。Therefore, the workstation 12 converts the vector-format image data such as the drawing command input from the personal computer 10 into a TIFF file, and then converts the TIFF file and the PS plate into a plate type, a plate thickness, a plate size, and the like. Various setting information of the plate setter 1
4 is converted into an image format that can be analyzed by the platesetter 14, and then output to the platesetter 14.
【0037】プレートセッター14は、ROM、RAM
及びCPUからなるセッター制御部18を含んでいる。
ROMにはプレートセッター14を制御するための各種
プログラムが記憶され、RAMには、プレートセッター
14で解析できるイメージフォーマット形式のTIFF
ファイル及び各種設定情報が一旦記憶される。The plate setter 14 includes a ROM and a RAM.
And a setter control section 18 composed of a CPU.
Various programs for controlling the plate setter 14 are stored in the ROM, and a TIFF in an image format that can be analyzed by the plate setter 14 is stored in the RAM.
The file and various setting information are temporarily stored.
【0038】CPUは、ROMから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてRAMから読み込んだT
IFFファイル及び前述した各種設定情報に基いて、例
えば、プレートセッター14の搬送手段(図示せず)の
搬送速度を制御するための制御信号やレーザ光源(図示
せず)のオンオフ駆動信号、及び光量の調整を行うため
のレーザ駆動信号などの各種制御信号を生成し、該各種
制御信号によるプレートセッター14の駆動制御を行
う。これにより、プレートセッター14は、パソコン1
0上で選択された画像に応じて最適な条件でPS版11
0の露光処理を行うこととなる。なお、プレートセッタ
ー14の露光処理については公知のため、ここでは詳細
な説明は省略する。The CPU calls various programs from the ROM, and reads T from the RAM based on the programs.
Based on the IFF file and the various kinds of setting information described above, for example, a control signal for controlling a transport speed of a transport unit (not shown) of the plate setter 14, an on / off drive signal of a laser light source (not shown), and a light amount A variety of control signals such as a laser drive signal for performing the adjustment are generated, and the driving of the platesetter 14 is controlled by the various control signals. As a result, the plate setter 14 can use the personal computer 1
PS version 11 under optimal conditions according to the image selected on
0 exposure processing is performed. In addition, since the exposure processing of the plate setter 14 is publicly known, detailed description is omitted here.
【0039】さらに、セッター制御部18のROMに
は、PS版プロセッサー16のドライバーソフトがイン
ストールされており、版種、版厚、及び版サイズなどの
各種設定情報を、PS版プロセッサー16のドライバー
ソフトが、PS版プロセッサー16で解析できるフォー
マットに変換した後、PS版プロセッサー16に出力す
る。Further, the driver software of the PS plate processor 16 is installed in the ROM of the setter control unit 18, and various setting information such as plate type, plate thickness, and plate size are stored in the driver software of the PS plate processor 16. Is converted to a format that can be analyzed by the PS version processor 16 and then output to the PS version processor 16.
【0040】PS版プロセッサー16は、図2に示すよ
うに、大別して、加熱部20、第1水洗部22、現像部
24、第2水洗部26、フィニッシャー部28、乾燥部
29及びプロセッサー制御部30から構成され、複数対
の搬送ローラから構成された搬送機構により、PS版が
加熱部20から第1水洗部22、現像部24、第2水洗
部26、フィニッシャー部28及び乾燥部29の順に搬
送される構成である。As shown in FIG. 2, the PS plate processor 16 is roughly divided into a heating section 20, a first washing section 22, a developing section 24, a second washing section 26, a finisher section 28, a drying section 29, and a processor control section. The PS plate is heated from the heating unit 20 to the first rinsing unit 22, the developing unit 24, the second rinsing unit 26, the finisher unit 28, and the drying unit 29 in this order by a transport mechanism composed of a plurality of pairs of transport rollers. It is a configuration to be transported.
【0041】加熱部20は、一対のローラでPS版を挟
持した状態で回転することによって露光済みのPS版1
10をPS版プロセッサー16の内部に引き込む引き込
みローラ対31と、加熱装置32とから構成され、現像
処理前にPS版110を加熱することによって、PS版
110の光重合性感光層における画像形成領域(すなわ
ち、露光領域)の硬化を促進させる。The heating unit 20 rotates the PS plate with the pair of rollers sandwiching the PS plate, thereby rotating the exposed PS plate 1.
An image forming area in the photopolymerizable photosensitive layer of the PS plate 110 is constituted by a pair of draw-in rollers 31 for pulling the PS plate 10 into the interior of the PS plate processor 16 and a heating device 32. (I.e., accelerate the curing of the exposed areas).
【0042】加熱装置32は、図2に示すように加熱手
段34、PS版110の下面側でPS版110を搬送す
る複数の搬送ローラ36、加熱制御部38、及び、温度
検出センサ40(図1参照)を含んで構成されている。As shown in FIG. 2, the heating device 32 includes a heating means 34, a plurality of transport rollers 36 for transporting the PS plate 110 on the lower surface side of the PS plate 110, a heating control unit 38, and a temperature detection sensor 40 (see FIG. 2). 1).
【0043】温度検出センサ40は、PS版プロセッサ
ー16の前段に設けられたプレートセッター14の露光
部内の温度又は加熱処理する前のPS版110の温度を
検出するものであり、温度変化を電気的なレベル変化に
変換し、温度信号Vtとして出力する温感素子等を用い
ることができる。The temperature detecting sensor 40 detects the temperature in the exposure section of the plate setter 14 provided in the preceding stage of the PS plate processor 16 or the temperature of the PS plate 110 before the heat treatment. It is possible to use a warming element or the like that converts the temperature into a level change and outputs it as a temperature signal Vt.
【0044】加熱制御部38は、RAM、ROM及びC
PUから構成され、温度検出センサ40からの検出結果
が出力されると共に、プレートセッター14に前述した
各種設定情報が入力されると加熱制御を開始する前に前
記各種設定情報をオンラインで取得する。The heating control unit 38 includes a RAM, a ROM, and a C
When a detection result is output from the temperature detection sensor 40 and the above-described various setting information is input to the plate setter 14, the various setting information is acquired online before starting the heating control.
【0045】RAMにはプレートセッター14から取得
した各種設定情報が記憶される。ROMには、PS版の
版種、版厚、及び版サイズの組合せに応じてPS版に与
える標準の加熱容量(ヒータの出力と加熱時間との積)
のテーブルが記憶されている。標準の加熱容量のテーブ
ルとしては、例えば、表1及び表2に示すように、ショ
ートランの場合(表1)とロングランの場合(表2)と
で分け、厚みとサイズとの組合せに応じて標準の加熱容
量を定めている。Various setting information acquired from the plate setter 14 is stored in the RAM. The ROM has a standard heating capacity (product of heater output and heating time) given to the PS plate according to the combination of the plate type, plate thickness, and plate size of the PS plate.
Is stored. As a table of the standard heating capacity, for example, as shown in Tables 1 and 2, the table is divided into a short run (Table 1) and a long run (Table 2) according to the combination of thickness and size. Standard heating capacity is defined.
【0046】[0046]
【表1】 [Table 1]
【0047】[0047]
【表2】 [Table 2]
【0048】なお、表1及び表2において各加熱容量の
関係は、以下のようになっている。すなわち、表1にお
いて、サイズが大きくなればなるほど熱容量が大きく大
きな加熱が必要なことから、Q1<Q2<Q3、Q4<
Q5<Q6、Q7<Q8<Q9であり、また、厚みが厚
くなるほど熱容量が大きいことから、Q1<Q4<Q
7、Q2<Q5<Q8、Q3<Q6<Q9である。表2
も同様の理由からに、Q11<Q12<Q13、Q14
<Q15<Q16、Q17<Q18<Q19であり、ま
た、Q11<Q14<Q17、Q12<Q15<Q1
8、Q13<Q16<Q19である。In Tables 1 and 2, the relationship between the heating capacities is as follows. That is, in Table 1, since the larger the size, the larger the heat capacity and the larger the heating, the larger the size, the larger the Q1 <Q2 <Q3, Q4 <
Q5 <Q6, Q7 <Q8 <Q9, and since the heat capacity increases as the thickness increases, Q1 <Q4 <Q
7, Q2 <Q5 <Q8, Q3 <Q6 <Q9. Table 2
For the same reason, Q11 <Q12 <Q13, Q14
<Q15 <Q16, Q17 <Q18 <Q19, and Q11 <Q14 <Q17, Q12 <Q15 <Q1
8, Q13 <Q16 <Q19.
【0049】さらに、ショートランよりもロングランの
方が大きな熱量を与える必要があることから表1におい
て最も大きな熱量であるQ9よりも表2において最も小
さな熱量であるQ11の方が大きいという関係となって
いる。Further, since it is necessary to apply a larger amount of heat to the long run than to the short run, there is a relationship that Q11 which is the smallest amount of heat in Table 2 is larger than Q9 which is the largest amount of heat in Table 1. ing.
【0050】また、ROMには、RAMに記憶された前
記各種設定情報に基いて、例えば、上述したような標準
の加熱容量のテーブルから、読み込んだ設定情報に最適
な標準の加熱容量を選択し、更に、温度検出センサ40
からの温度信号Vtが大きい、すなわち、検出された温
度が高い場合はPS版自体の温度も高くなっているた
め、前記標準の加熱容量よりも少ない加熱容量をPS版
に与えるように前記標準の加熱容量を補正し、温度検出
センサ40からの温度信号Vtが小さい、すなわち、検
出された温度が低い場合はPS版自体の温度も低くなっ
ているため、前記標準の加熱容量よりも多く加熱容量を
PS版に与えるように前記標準の加熱容量を補正し、補
正した加熱容量に基いてヒータの駆動電圧を制御する制
御信号Vcを生成する図3に示す加熱容量決定プログラ
ムが記憶されている。In the ROM, based on the various setting information stored in the RAM, for example, a standard heating capacity optimum for the read setting information is selected from the standard heating capacity table as described above. , And a temperature detection sensor 40
When the temperature signal Vt is large, that is, when the detected temperature is high, the temperature of the PS plate itself is also high, so that the standard heating capacity is given to the PS plate less than the standard heating capacity. When the heating capacity is corrected and the temperature signal Vt from the temperature detection sensor 40 is small, that is, when the detected temperature is low, the temperature of the PS plate itself is also low, so that the heating capacity is larger than the standard heating capacity. The heating capacity determination program shown in FIG. 3 for correcting the standard heating capacity so as to give the PS plate with the correction value and generating a control signal Vc for controlling the heater driving voltage based on the corrected heating capacity is stored.
【0051】ここで、加熱制御部38のCPUにより実
行される駆動電圧の制御について図3のフローチャート
を参照しながら説明する。ステップ200では、まず、
RAMに記憶された各種設定情報を読み込む。Here, the control of the drive voltage executed by the CPU of the heating control unit 38 will be described with reference to the flowchart of FIG. In step 200, first,
The various setting information stored in the RAM is read.
【0052】次のステップ202では、RAMから読み
込んだ各種設定情報に基づき標準の加熱容量のテーブル
から標準の加熱容量を選択する。例えば、上述した標準
の加熱容量のテーブルを用いる場合、版種がショートラ
ンで、版サイズがMサイズ、厚みがd2であれば、表1
からQ5を選択する。In the next step 202, a standard heating capacity is selected from a standard heating capacity table based on various setting information read from the RAM. For example, when the standard heating capacity table described above is used, if the plate type is short run, the plate size is M size, and the thickness is d2, Table 1 is used.
From Q5.
【0053】次のステップ204では、温度検出センサ
40から入力された温度信号Vtに応じて、前記標準の
加熱容量に対して多め、少なめ、又は標準の何れかの加
熱容量となるように前記標準の加熱容量を補正する。In the next step 204, in accordance with the temperature signal Vt input from the temperature detection sensor 40, the standard heating capacity is set to be larger, smaller, or one of the standard heating capacities. Correct heating capacity of.
【0054】次のステップ206では、調整された加熱
条件となるようにヒータ駆動回路(図示せず)に与える
制御信号Vc及び搬送機構によるPS版110の搬送速
度を制御する搬送制御信号を生成し、本ルーチンを終了
する。この制御信号Vcにより加熱装置32のヒータ出
力及び搬送速度が調整された加熱条件となるように制御
されることとなる。In the next step 206, a control signal Vc to be supplied to a heater drive circuit (not shown) and a transport control signal for controlling the transport speed of the PS plate 110 by the transport mechanism are generated so that the adjusted heating conditions are obtained. Then, this routine ends. The control signal Vc controls the heater output and the transport speed of the heating device 32 so that the heating conditions are adjusted.
【0055】例えば、ブラックコーティングした500
Wの2本のハロゲンランプヒーターを、PS版から50
mmの距離に設けた加熱装置を使用し、PS版として
0.3mmの厚さのアルミニウム基板を備えたMサイズ
の高画質用PS版を使用し、PS版の搬送速度を19m
m/secとした場合について説明する。For example, black-coated 500
The two halogen lamp heaters of W
mm high-quality PS plate having an aluminum substrate of 0.3 mm thickness was used as the PS plate, and the transport speed of the PS plate was 19 m.
The case of m / sec will be described.
【0056】上記条件において、標準となる温度条件
は、温度検出センサ40により検出された温度が25℃
の時(すなわち室温)、加熱装置32の出力は470W
に調整する条件であり、25℃よりも低ければ加熱装置
32の出力を25℃の時よりも大きくしてPS版110
に与える熱量を多くし、25℃よりも高ければ加熱装置
32の出力を25℃の時よりも小さくしてPS版110
に与える熱量を少なくする。In the above conditions, the standard temperature condition is that the temperature detected by the temperature detection sensor 40 is 25 ° C.
(Ie, room temperature), the output of the heating device 32 is 470 W
If the temperature is lower than 25 ° C., the output of the heating device 32 is set to be larger than that at 25 ° C., and the PS plate 110
The heat output to the PS plate 110 is increased by increasing the amount of heat applied to the PS plate 110 when the temperature is higher than 25 ° C.
Reduce the amount of heat given to
【0057】具体的には、温度検出センサ40により検
出された温度が10℃の時は加熱装置32の出力を56
0W、前記温度が15℃の時は加熱装置32の出力を5
30W、前記温度が20℃の時は加熱装置32の出力を
500W、前記温度が30℃の時は加熱装置32の出力
を440Wとする。Specifically, when the temperature detected by the temperature detection sensor 40 is 10 ° C., the output of the heating device 32 is
0 W, when the temperature is 15 ° C., the output of the heating device 32 is set to 5
When the temperature is 30 W, the output of the heating device 32 is 500 W when the temperature is 20 ° C., and when the temperature is 30 ° C., the output of the heating device 32 is 440 W.
【0058】なお、標準の加熱容量のテーブルを記憶す
る代わりに各種設定情報に応じて個別に決定される加熱
容量の変換特性のグラフのテーブルを記憶し、読み込ん
だ各種設定情報に対応する加熱容量の変換特性のグラフ
を読出し、該グラフにより温度検出センサ40によって
検出された温度に対応する加熱容量を算出するように構
成することもできる。Instead of storing the standard heating capacity table, a heating capacity conversion characteristic graph table individually determined according to various setting information is stored, and the heating capacity corresponding to the read various setting information is stored. It is also possible to read the conversion characteristic graph and calculate the heating capacity corresponding to the temperature detected by the temperature detection sensor 40 from the graph.
【0059】このように本実施の形態の加熱手段は、プ
レートセッター14からオンライン入力された各種設定
情報に基いて加熱条件を決定することにより、PS版の
表面温度を、PS版110の版種、版厚、版サイズの組
合せに最適な加熱条件で、かつ、プレートセッター14
の露光部内の温度又は加熱処理する前のPS版110の
温度に関わらず均一にすることができ、熱処理不足や熱
処理オーバー等の不都合を解消でき、良好な加熱処理を
行うことができる。As described above, the heating means of the present embodiment determines the heating condition based on various setting information inputted online from the plate setter 14, thereby reducing the surface temperature of the PS plate and the type of the PS plate 110. Heating conditions that are optimal for the combination of plate thickness, plate size, and plate setter 14
Irrespective of the temperature in the exposed portion or the temperature of the PS plate 110 before the heat treatment, it is possible to eliminate inconveniences such as insufficient heat treatment and over heat treatment, and to perform favorable heat treatment.
【0060】また、ユーザが各種設定情報を入力する必
要がないため、操作ミス等による損失などの発生を回避
でき、また、つぎの加熱条件への切り換えが効率よく行
えるので、露光処理から及び現像処理にわたっての処理
効率も向上できる。Further, since there is no need for the user to input various setting information, it is possible to avoid the occurrence of loss due to operation mistakes and the like, and it is possible to efficiently switch to the next heating condition. The processing efficiency over the processing can also be improved.
【0061】このように加熱部20において、加熱処理
されたPS版110は、後段に設けられた第1水洗部2
2に搬送される。In the heating section 20, the PS plate 110 that has been subjected to the heat treatment is supplied to the first washing section 2 provided in the subsequent stage.
2 is transferred.
【0062】第1水洗部22は、図2に示すように、第
1水洗槽60内に、PS版110の搬送方向に沿って上
流側から順に、引き込みローラ対62、第1洗浄水供給
ノズル64a、第1回転ブラシローラ66及びバックア
ップローラ67、第2洗浄水供給ノズル64b、送り出
しローラ対68を備え、現像前に水洗することによって
PS版110最表面に形成されているオーバーコート層
を除去する。As shown in FIG. 2, the first washing section 22 includes, in the first washing tank 60, a drawing roller pair 62 and a first washing water supply nozzle in order from the upstream side along the transport direction of the PS plate 110. 64b, a first rotating brush roller 66 and a backup roller 67, a second cleaning water supply nozzle 64b, and a pair of delivery rollers 68. The overcoat layer formed on the outermost surface of the PS plate 110 is removed by washing with water before development. I do.
【0063】また、第1水洗槽60内には第1オーバー
フロー管61が設けられ、第1水洗槽60内に溜まった
洗浄水の液面レベルが所定レベルを超えたときに洗浄水
が第1オーバーフロー管61内に流れ込み、洗浄水タン
ク63へ案内され、第1水洗槽60内に常に一定量の洗
浄水が保持されるように調整している。Further, a first overflow pipe 61 is provided in the first washing tank 60, and when the liquid level of the washing water accumulated in the first washing tank 60 exceeds a predetermined level, the first washing pipe is used. It is adjusted so that it flows into the overflow pipe 61 and is guided to the washing water tank 63 so that a constant amount of washing water is always held in the first washing tank 60.
【0064】洗浄水タンク63には、ポンプPが設けら
れており、ポンプPにより内部の洗浄水を汲み上げて第
1洗浄水供給ノズル64a及び第2洗浄水供給ノズル6
4bに供給している。The cleaning water tank 63 is provided with a pump P. The cleaning water is pumped up by the pump P, and the first cleaning water supply nozzle 64a and the second cleaning water supply nozzle 6 are pumped.
4b.
【0065】引き込みローラ対62により第1水洗部2
2に引き込まれた加熱済みのPS版110は、第1洗浄
水供給ノズル64aにより表面に洗浄水が供給された状
態で、第1第1回転ブラシローラ66及びバックアップ
ローラ67の間に挟持されて搬送されるときに、第1回
転ブラシローラ66によって表面が研磨されて、PS版
110の最上層のオーバーコート層が取り除かれる。The first washing section 2 is driven by the pull-in roller pair 62.
The heated PS plate 110 drawn into 2 is sandwiched between the first first rotating brush roller 66 and the backup roller 67 with the cleaning water supplied to the surface by the first cleaning water supply nozzle 64a. When transported, the surface is polished by the first rotating brush roller 66, and the uppermost overcoat layer of the PS plate 110 is removed.
【0066】第1回転ブラシローラ66の後段には第2
洗浄水供給ノズル64bが設けられており、第2洗浄水
供給ノズル64bからPS版110の表面に供給された
洗浄水によって、PS版110の表面に付着した第1回
転ブラシローラ66により取り除かれたオーバーコート
層のカスが除去される。これにより、PS版110の表
面からオーバーコート層が除去され、PS版110は、
送り出しローラ対68により第1水洗部22の後段に設
けられた現像部24に送り出される。A second stage is provided after the first rotating brush roller 66.
A cleaning water supply nozzle 64b is provided, and the cleaning water supplied from the second cleaning water supply nozzle 64b to the surface of the PS plate 110 is removed by the first rotating brush roller 66 attached to the surface of the PS plate 110. The residue of the overcoat layer is removed. Thereby, the overcoat layer is removed from the surface of the PS plate 110, and the PS plate 110
The toner is sent out to the developing unit 24 provided at the subsequent stage of the first washing unit 22 by the sending roller pair 68.
【0067】現像部24は、図2に示すように、現像槽
70内に、PS版110の搬送方向に沿って上流側から
順に、引き込みローラ対72、現像液噴射ノズル74、
希釈水噴射ノズル76、第1スプレーパイプ78、第1
回転ブラシローラ71a、第2回転ブラシローラ71b
及び送り出しローラ対75を備え、PS版110を現像
液に浸漬することによって現像処理を行う。As shown in FIG. 2, the developing section 24 includes, in the developing tank 70, a drawing roller pair 72, a developer injection nozzle 74,
Dilution water injection nozzle 76, first spray pipe 78, first
Rotating brush roller 71a, second rotating brush roller 71b
And a delivery roller pair 75, and performs development processing by immersing the PS plate 110 in a developer.
【0068】引き込みローラ対72は、第1水洗部22
により送り出されたPS版110を水平方向に対して約
15°から31°の範囲の角度で現像部24に引き込
む。現像液噴射ノズル74は、ポンプPによって現像液
貯留槽82から汲み上げられた現像液を現像槽70内に
噴射する。なお、このポンプPは、プロセッサー制御部
30により駆動が制御されている。同様に、希釈水噴射
ノズル76は、ポンプPによって水貯留槽84から汲み
上げられた希釈水を現像槽70内に噴射する。なお、こ
のポンプPも、プロセッサー制御部30により駆動が制
御されている。The pull-in roller pair 72 is connected to the first washing section 22.
Is drawn into the developing unit 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction. The developer injection nozzle 74 injects the developer pumped up from the developer storage tank 82 by the pump P into the developer tank 70. The drive of the pump P is controlled by the processor control unit 30. Similarly, the dilution water injection nozzle 76 injects the dilution water pumped up from the water storage tank 84 by the pump P into the development tank 70. The drive of the pump P is also controlled by the processor control unit 30.
【0069】プロセッサー制御部30は、画像形成領域
の面積率に応じて供給する現像液の量及び希釈水の量を
制御する。すなわち、現像領域が大きければ、その分現
像液の劣化は速まるため、希釈水を少なくして現像液を
多くなる様に供給し、現像領域が小さければ、その分現
像液の劣化は遅くなるため、希釈水を少なくして現像液
を多くなる様に供給するなどの現像液の濃度調整を行っ
ている。The processor control unit 30 controls the amount of the developing solution and the amount of the dilution water to be supplied according to the area ratio of the image forming area. In other words, the larger the developing area, the faster the deterioration of the developing solution. Therefore, the dilution water is reduced and the developing solution is supplied so as to increase, and the smaller the developing area, the slower the deterioration of the developing solution. The concentration of the developing solution is adjusted by reducing the dilution water and supplying the developing solution so as to increase.
【0070】また、現像槽70内には、現像槽70から
オーバーフローした現像液を回収する第2オーバーフロ
ー管79が設けられており、現像槽70内に溜まった現
像液の液面レベルが所定レベルを超えたときに現像液が
第2オーバーフロー管79内に流れ込み、廃液タンク8
0へ案内され、現像槽70内に常に一定量の現像液が保
持されるように調整している。A second overflow pipe 79 for collecting the developing solution overflowing from the developing tank 70 is provided in the developing tank 70 so that the liquid level of the developing solution accumulated in the developing tank 70 is maintained at a predetermined level. Is exceeded, the developer flows into the second overflow pipe 79 and the waste liquid tank 8
The developing tank 70 is adjusted so that a constant amount of the developing solution is always held in the developing tank 70.
【0071】なお、本発明において使用される現像液は
以下の成分を含んでいる。The developer used in the present invention contains the following components.
【0072】(アルカリ剤)本発明の現像方法に用いら
れる現像液及び現像補充液は、pH9.0〜13.5、
より好ましくは10.0〜13.3のアルカリ水溶液であ
る。(Alkali agent) The developing solution and the developing replenisher used in the developing method of the present invention have a pH of 9.0 to 13.5.
More preferably, it is an alkaline aqueous solution of 10.0 to 13.3.
【0073】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。As such a developing solution and a developing replenishing solution, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, potassium Inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.
【0074】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Si
O2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に[SiO
2]/[M2O]のモル比で表す)と濃度によってpHや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Si
O2/ Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち[Si
O2]/[Na2O]が1.0〜1.5)であって、Si
O2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶
液からなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用い
られる。Preferred among these alkaline agents are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that silicon oxide Si
The ratio of O 2 to alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2
2 ] / [M 2 O] molar ratio) and the concentration allow adjustment of pH and developability. For example, Si
When the molar ratio of O 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [Si
O 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and Si
An alkali metal silicate composed of an aqueous solution of sodium silicate having an O 2 content of 1 to 4% by weight is suitably used in the present invention.
【0075】更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸
と強塩基からなる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液と
して用いられる弱酸としては、酸解離定数(pKa)1
0.0〜13.3を有するものが好ましく、特にpKaが
11.0〜13.1のものが好ましい。また、例えばスル
ホサリチル酸の場合、第3解離定数は11.7であり、
本発明に好適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少
なくとも1つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明
に使用できる。Still another preferred alkaline agent is a buffer comprising a weak acid and a strong base. Weak acids used as such buffers include an acid dissociation constant (pKa) of 1
Those having a pKa of from 10.0 to 13.3 are preferred, and those having a pKa of from 11.0 to 13.1 are particularly preferred. For example, in the case of sulfosalicylic acid, the third dissociation constant is 11.7,
It can be suitably used in the present invention. That is, in the case of a polybasic acid, it can be used in the present invention if at least one acid dissociation constant is within the above range.
【0076】このような弱酸としては、Pergamo
n Press社発行のIONISATION CON
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
NAQUEOUS SOLUTIONなどに記載されて
いるものから選ばれ、例えば2,2,3,3,−テトラ
フルオロプロパノール−1(pKa 12.74)、トリ
フルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタ
ノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジン
−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−ア
ルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、ソルビ
トール(同13.0)、サッカロース(同12.7)、2
−デオキシリボース(同12.61)、2−デオキシグ
ルコース(同12.51)、グルコース(同12.4
6)、ガラクトース(同12.35)、アラビノース
(同12.34)、キシロース(同12.29)、フラク
トース(同12.27)、リボース(同12.22)、マ
ンノース(同12.08)、L−アスコルビン酸(同1
1.34)などの糖類、サリチル酸(同13.0)、3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコ
ール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサ
リチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン
酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同
11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン
(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピ
ロガロール(同11.34)およびレゾルシノール(同
11.27)などのフェノール性水酸基を有する化合
物、2−ブタノンオキシム(同12.45)、アセトキ
シム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジオン
ヂオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアル
デヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシ
ム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.
37)、アセトフェノンオキシム(同11.35)など
のオキシム類、2−キノロン(同11.76)、2−ピ
リドン(同11.65)、4−キノロン(同11.2
8)、4−ピリドン(同11.12)、5−アミノ吉草
酸(同10.77)、2−メルカプトキノリン(同10.
25)、3−アミノプロピオン酸(同10.24)など
のアミノ酸類、フルオロウラシル(同13.0)、グア
ノシン(同12.6)、ウリジン(同12.6)、アデノ
シン(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニ
ン(同12.3)、シティジン(同12.2)、シトシン
(同12.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサン
チン(同11.9)などの核酸関連物質、他に、ジエチ
ルアミノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミ
ノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.2
9)、イソプロピリデンジホスホン酸(同12.1
0)、1,1,−エチリデンジホスホン酸(同11.5
4)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ
(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.8
6)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチオ
アミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.5)な
どの弱酸が挙げられる。[0076] Such weak acids include Pergamo.
IONISATION CON issued by nPress
STANTS OF ORGANIC ACIDS I
Selected from those described in NAQUEOUS SOLUTION, etc., for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa 12.74), trifluoroethanol (12.37), and trichloroethanol (12 .24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05), sorbitol (13.0), and saccharose (12.7). ), 2
-Deoxyribose (12.61), 2-deoxyglucose (12.51), glucose (12.4)
6), galactose (12.35), arabinose (12.34), xylose (12.29), fructose (12.27), ribose (12.22), mannose (12.08) , L-ascorbic acid (1)
Saccharides such as 1.34), salicylic acid (13.0), 3-
Hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.84) 2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34) and resorcinol Compounds having a phenolic hydroxyl group such as (11.27), 2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanediondioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.1)
37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), 2-quinolone (11.76), 2-pyridone (11.65) and 4-quinolone (11.2)
8), 4-pyridone (11.12), 5-aminovaleric acid (10.77), 2-mercaptoquinoline (10.77)
25), amino acids such as 3-aminopropionic acid (10.24), fluorouracil (13.0), guanosine (12.6), uridine (12.6), adenosine (12.56) , Inosine (12.5), guanine (12.3), citidine (12.2), cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), etc. In addition, diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.2)
9), isopropylidene diphosphonic acid (12.1)
0), 1,1, -ethylidene diphosphonic acid (11.5)
4), 1-hydroxy 1,1-ethylidene diphosphonic acid (11.52) and benzimidazole (12.8).
6), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12.55), barbituric acid (12.5) and the like.
【0077】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。As the strong base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium and lithium are used.
【0078】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。These alkaline agents are used alone or in combination of two or more.
【0079】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。Preferred among these alkaline buffers are those obtained by combining sulfosalicylic acid, salicylic acid, saccharose and sorbitol with sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among them, a preferred combination is sorbitol and potassium hydroxide or sodium hydroxide.
【0080】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用され
る。The above-mentioned various alkaline agents are used by adjusting the pH within a preferred range depending on the concentration and combination.
【0081】(界面活性剤)本発明に用いられる現像液お
よび補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および
印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて
種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面
活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系
および両性界面活性剤が挙げられる。(Surfactant) The developer and replenisher used in the present invention may contain various surfactants as necessary for the purpose of accelerating developability, dispersing developed scum, and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Agents and organic solvents can be added. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
【0082】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxy Ethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfate salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, Oxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymers, Partially saponified olefin / maleic anhydride copolymers, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, quaternary ammonium salts such as alkylamine salts, tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine Salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. . Among the surfactants listed above, those with polyoxyethylene,
It can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, and their surfactants are also included.
【0083】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。Further preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anionic type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine,
Cationic and perfluoroalkylamine oxides such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, oligomers containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups,
Non-ionic forms such as oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups, and urethanes containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups.
【0084】上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.
001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量
%の範囲で添加される。The above-mentioned surfactants can be used alone or in combination of two or more.
001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight.
【0085】(現像安定化剤)本発明に用いられる現像
液および補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。
それらの好ましい例として、特開平6−282079号
公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加
物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテト
ラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウム
ブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨー
ドニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例
として挙げられる。(Development Stabilizer) Various development stabilizers are used in the developer and replenisher used in the present invention.
Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. Salts are mentioned as preferred examples.
【0086】更には、特開昭50−51324号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。Further, anionic or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are disclosed. There is a water-soluble amphoteric polyelectrolyte described in the gazette.
【0087】更に、特開昭59−84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol has been added described in JP-A-59-84241, and a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant described in JP-A-60-111246. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-129750, polyoxyethylene / polyoxypropylene-substituted alkylenediamine compounds, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-215554, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more, and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63-175858. JP-A-2-39157 discloses a fluorine-containing surfactant having a cationic group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol, and a water-soluble polyalkylene compound. No.
【0088】(有機溶剤)現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フ
ェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノー
ル、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンお
よびN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。(Organic Solvent) An organic solvent is further added to the developing solution and the developing replenisher, if necessary. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2-phenoxyethanol, Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and as the amount of organic solvent increases,
Preferably, the amount of surfactant is increased. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.
【0089】(還元剤)本発明に用いられる現像液およ
び補充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の
汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩
化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有
効である。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル
酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾ
ルシン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合
物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのア
ミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤と
しては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水
素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸
などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち
汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。こ
れらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、
0.05〜5重量%の範囲で含有される。(Reducing Agent) A reducing agent is further added to the developer and replenisher used in the present invention. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include phenolic compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin; and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. Further preferred inorganic reducing agents include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, bisulfite, diphosphite, thiosulfate and dithionite. Salts and the like can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably used in the developer during use,
It is contained in the range of 0.05 to 5% by weight.
【0090】(有機カルボン酸)本発明に用いられる現
像液および補充液には更に有機カルボン酸を加えること
もできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜2
0の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。
脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、
エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に
好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また
炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分か
れした炭素鎖のものでもよい。(Organic carboxylic acid) The developing solution and replenisher used in the present invention may further contain an organic carboxylic acid. Preferred organic carboxylic acids are those having 6 to 2 carbon atoms.
0 aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids.
Specific examples of aliphatic carboxylic acids include caproic acid,
Examples include enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used.
【0091】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、
p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒ
ドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ
−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring or the like, and specifically, o-chlorobenzoic acid,
p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6- Dihydroxybenzoic acid,
2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid And 2-naphthoic acid, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective.
【0092】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、よりこのましくは0.5〜
4重量%である。The above aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if the content is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient.
If it is 0% by weight or more, not only the effect cannot be further improved but also dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferred amount of addition is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the developer used.
4% by weight.
【0093】(その他)本発明で用いられる現像液およ
び補充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟
化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウ
ム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミ
ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシク
ロヘキサンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およ
びそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジ
アミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリ
アミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテ
トラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)およ
び1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を
挙げることができる。(Others) The developer and replenisher used in the present invention may further contain an antifoaming agent and a water softener, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium, and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid. Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.
【0094】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。The optimum value of such a water softener varies depending on the chelating power thereof, the hardness of the hard water used and the amount of the hard water. 01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight
It is in the range of 0.5% by weight. If the added amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the added amount is larger than this range, an adverse effect on an image portion such as color omission appears.
【0095】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。The remaining component of the developer and replenisher is water, but may further contain various additives known in the art, if necessary.
【0096】本発明に用いられる現像液および補充液は
使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としてお
き、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上
有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を
起こさない程度が適当である。It is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution and the replenishing solution used in the present invention are concentrated solutions having a smaller water content than at the time of use, and are diluted with water at the time of use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation.
【0097】現像液温度は15〜40℃が好ましく、更
に好ましくは20〜35℃である。現像時間は5〜60
秒が好ましく、更に好ましくは7〜40秒である。The temperature of the developer is preferably from 15 to 40 ° C., more preferably from 20 to 35 ° C. Development time is 5-60
Seconds are preferred, and more preferably 7 to 40 seconds.
【0098】また、現像部24の現像液液面には、液面
蓋73が配置されている。この液面蓋73は、下面が現
像槽70に貯留される現像液の液面より下方となるよう
に配置されている。この液面蓋73により、現像槽70
内の現像液の液面が空気と接触する面積を狭め、空気中
の炭酸ガスによる現像液の劣化と現像液中の水分の蒸発
を抑えている。A liquid surface cover 73 is disposed on the developer liquid surface of the developing section 24. The liquid surface cover 73 is arranged so that the lower surface is lower than the liquid surface of the developer stored in the developing tank 70. The liquid level cover 73 allows the developing tank 70
The area where the liquid level of the developing solution in the inside comes into contact with air is narrowed, thereby suppressing the deterioration of the developing solution and the evaporation of moisture in the developing solution due to carbon dioxide in the air.
【0099】また、現像槽70の内部の現像液中には、
底部中央部が下方に向けて突出する内面が略逆山形状の
ガイド板77がされている。このガイド板77は、複数
の自由回転するコロ(小型のローラ;図示せず)が回転
軸をPS版110の搬送方向と直交する方向に並列して
配置された構成であり、現像部24へ送り込まれたPS
版110をコロによって案内しながら搬送する。このと
き、コロが回転するため、PS版110に摺動による傷
付きが発生しない。In the developing solution inside the developing tank 70,
A guide plate 77 having a substantially inverted mountain shape is formed on the inner surface of which the bottom center portion projects downward. The guide plate 77 has a configuration in which a plurality of freely rotating rollers (small rollers; not shown) are arranged with their rotating shafts arranged in parallel in a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110. PS sent
The plate 110 is transported while being guided by rollers. At this time, since the rollers rotate, the PS plate 110 is not damaged by sliding.
【0100】また、ガイド板77の最低位置に向かう途
中の現像液中に、第1スプレーパイプ78が設けられて
いる。第1スプレーパイプ78は、PS版110の搬送
方向と直交する方向に沿って配置された複数のスプレー
パイプにより構成され、各スプレーパイプから現像液を
PS版110の表面へ噴射することにより、PS版11
0の現像処理を促進すると同時に、現像槽70内の現像
液を循環させる役割を果たす。A first spray pipe 78 is provided in the developing solution on the way to the lowest position of the guide plate 77. The first spray pipe 78 is composed of a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110, and sprays a developer from each spray pipe onto the surface of the PS plate 110, thereby forming a PS. Edition 11
In addition to promoting the development process of No. 0, it plays a role of circulating the developer in the developing tank 70.
【0101】また、ガイド板77の最低位置から下流側
に沿って、PS版110の上面に対応する位置には、第
1回転ブラシローラ71a、第2回転ブラシローラ71
bが設けられており、第1回転ブラシローラ71a及び
第2回転ブラシローラ71bは、それぞれ図示しない駆
動手段により駆動されて、PS版110の搬送方向に回
転する。Along the downstream side from the lowest position of the guide plate 77, the first rotary brush roller 71a and the second rotary brush roller 71 are located at positions corresponding to the upper surface of the PS plate 110.
The first rotating brush roller 71a and the second rotating brush roller 71b are driven by driving means (not shown) to rotate in the transport direction of the PS plate 110.
【0102】現像部24の最終段位置には、現像液の液
面よりも上方の位置に挟持部が配置された送り出しロー
ラ対75が設けられており、この送り出しローラ対75
は、現像液中に設けられたガイド板77に沿って搬送さ
れたPS版110を挟持して現像部24から送り出す。
このとき、PS版110の表面に付着した現像液が絞り
落とされる。At the final stage position of the developing section 24, there is provided a delivery roller pair 75 in which a holding section is disposed at a position above the liquid level of the developing solution.
, Sandwiches the PS plate 110 conveyed along the guide plate 77 provided in the developing solution and sends it out from the developing unit 24.
At this time, the developer adhering to the surface of the PS plate 110 is squeezed.
【0103】すなわち、第1水洗部22から送り出され
たPS版110は、現像部24の引き込みローラ対72
により水平方向に対して約15°から31°の範囲の角
度で現像部24に引き込まれ、現像液中に設けられたガ
イド板77の表面に沿って搬送される。このとき、PS
版110は現像液に浸漬されて、続いてガイド板77の
最低位置に向かう途中に設けられた第1スプレーパイプ
78によって噴射された現像液により光重合性感光層の
未現像部分が確実に膨潤(すなわち現像)される。That is, the PS plate 110 sent out from the first rinsing section 22 is supplied to the draw roller pair 72 of the developing section 24.
Is drawn into the developing unit 24 at an angle in the range of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction, and is conveyed along the surface of the guide plate 77 provided in the developing solution. At this time, PS
The plate 110 is immersed in the developing solution, and then the undeveloped portion of the photopolymerizable photosensitive layer is reliably swollen by the developing solution sprayed by the first spray pipe 78 provided on the way to the lowest position of the guide plate 77. (Ie, developed).
【0104】PS版110はガイド板77の最低位置か
ら下流側に向かう際に、第1回転ブラシローラ71a、
第2回転ブラシローラ71bの順に表面が擦られて、膨
潤した光重合性感光層の未現像部分が擦り落される。さ
らに、PS版110はガイド板77の最終端位置から送
り出しローラ対75に保持されることにより現像液中か
ら引出され、送り出しローラ対75に送り出される際に
表裏面に付着した現像液が絞り落とされて、現像部24
の後段に設けられた第2水洗部26に送り出される。When the PS plate 110 moves downstream from the lowest position of the guide plate 77, the first rotating brush roller 71a,
The surface is rubbed in the order of the second rotating brush roller 71b, and the undeveloped portion of the swollen photopolymerizable photosensitive layer is rubbed off. Further, the PS plate 110 is pulled out from the developing solution by being held by the feed roller pair 75 from the final end position of the guide plate 77, and the developing solution attached to the front and back surfaces when being sent to the feed roller pair 75 is squeezed. And the developing unit 24
To the second washing section 26 provided at the subsequent stage.
【0105】第2水洗部26は、図2に示すように、第
2水洗槽90、二対の搬送ローラ対92、94、第2ス
プレーパイプ96、及び第3スプレーパイプ98を備
え、現像処理されたPS版110を洗浄水により洗浄し
てPS版110に付着した現像液を完全に除去する。As shown in FIG. 2, the second washing section 26 includes a second washing tank 90, two pairs of conveying rollers 92 and 94, a second spray pipe 96, and a third spray pipe 98. The PS plate 110 thus washed is washed with washing water to completely remove the developer adhering to the PS plate 110.
【0106】二対の搬送ローラ対92、94は、第2水
洗槽90の上方で、かつ、第2水洗部26のPS版11
0引き込み位置と送り出し位置とに設けられている。こ
れらの搬送ローラ対92、94は、PS版110の搬送
路を形成しており、図示しない駆動手段の駆動力を受け
て回転し、現像部24から送り込まれたPS版110を
挟持搬送する。The two transport roller pairs 92 and 94 are located above the second washing tank 90 and in the PS plate 11 of the second washing section 26.
It is provided at the zero retract position and the feed position. The transport roller pairs 92 and 94 form a transport path for the PS plate 110, rotate by receiving a driving force of a driving unit (not shown), and pinch and transport the PS plate 110 sent from the developing unit 24.
【0107】二対の搬送ローラ対92、94の間には、
PS版110の搬送路を挟んで上方と下方とのそれぞれ
に、第2スプレーパイプ96、第3スプレーパイプ98
が配設されている。Between the two pairs of conveying rollers 92 and 94,
A second spray pipe 96 and a third spray pipe 98 are provided above and below the PS plate 110 conveyance path, respectively.
Are arranged.
【0108】第2スプレーパイプ96は、前述した水貯
留槽84からポンプPによって水を汲み上げ、第2水洗
槽90内に水を補給する。第3スプレーパイプ98は、
PS版110の搬送方向と直交する方向に沿って配置さ
れた複数のスプレーパイプにより構成され、それぞれP
S版110の搬送に同期して洗浄水をPS版110の表
面へ噴射することにより、PS版110の幅方向にわた
って洗浄水を噴射する。[0108] The second spray pipe 96 pumps up water from the water storage tank 84 by the pump P, and replenishes the water in the second washing tank 90. The third spray pipe 98
It is constituted by a plurality of spray pipes arranged along a direction orthogonal to the transport direction of the PS plate 110,
By injecting the cleaning water onto the surface of the PS plate 110 in synchronization with the transport of the S plate 110, the cleaning water is jetted across the width of the PS plate 110.
【0109】この第3スプレーパイプ98は、後述する
貯留タンク93からポンプPによって汲み上げられた洗
浄水をPS版110の表面側に向かって噴射する。これ
によってPS版110が水洗され、現像液が完全に除去
される。The third spray pipe 98 injects washing water pumped up by a pump P from a storage tank 93 described later toward the surface of the PS plate 110. As a result, the PS plate 110 is washed with water, and the developer is completely removed.
【0110】なお、第3スプレーパイプ98から噴射さ
れた洗浄水は、PS版110の表面を速やかに広がっ
て、PS版110を水洗すると、PS版110が搬送ロ
ーラ94によって後段のフィニッシャー部に送り出され
る際に、PS版110から絞り落とされる。The washing water sprayed from the third spray pipe 98 spreads quickly on the surface of the PS plate 110, and when the PS plate 110 is washed with water, the PS plate 110 is sent out to the finisher section at the subsequent stage by the conveying roller 94. At the same time, it is squeezed from the PS plate 110.
【0111】また、第2水洗槽90には、第3オーバー
フロー管91が設けられている。この第3オーバーフロ
ー管91は、第2水洗槽90内の水位が上がって管内に
流れ込んだ洗浄水を貯留タンク93に導くことにより、
第2水洗槽90内の水位を常に一定に保つ。貯留タンク
93には、ポンプPが設けられており、このポンプPに
より貯留した洗浄水を汲み上げて、第3スプレーパイプ
98に供給する。The second washing tank 90 is provided with a third overflow pipe 91. The third overflow pipe 91 guides the washing water flowing into the pipe by raising the water level in the second washing tank 90 to the storage tank 93,
The water level in the second washing tank 90 is always kept constant. The storage tank 93 is provided with a pump P, and the stored cleaning water is pumped up by the pump P and supplied to the third spray pipe 98.
【0112】すなわち、現像部24から送り出されたP
S版110は、第2水洗部26の引き込み位置に設けら
れた搬送ローラ対92により第2水洗部26に引き込ま
れ、第2水洗漕の上層に形成された搬送路を通過する際
に、第2スプレーパイプ96及び第3スプレーパイプ9
8から噴射された洗浄水により両面が洗浄され、第2水
洗部26の送り出し位置に設けられた搬送ローラ対94
により付着する洗浄水が絞り落されて、第2水洗部26
から送り出される。That is, the P sent from the developing unit 24
The S plate 110 is drawn into the second washing unit 26 by the pair of conveying rollers 92 provided at the position where the second washing unit 26 is drawn in, and passes through the conveying path formed in the upper layer of the second washing tank. 2 spray pipe 96 and third spray pipe 9
8 is washed on both sides by the washing water sprayed from the second washing unit 26, and a pair of transport rollers 94 provided at the delivery position of the second washing unit 26.
The washing water that adheres to the second washing section 26
Sent out from.
【0113】第2水洗部26の後段には、フィニッシャ
ー部28が設けられている。このフィニッシャー部28
は、ガム液槽100とガム液をPS版110の表面に噴
射するガム液噴射ノズル102及び、搬送ローラ対10
4とを備え、水洗後のPS版110にガム液を塗布して
不感脂化処理する。ガム液槽100も他の槽と同様にオ
ーバーフロー管が設けられており、槽内の水位が常に一
定に保たれるように調整されている。A finisher section 28 is provided at a stage subsequent to the second washing section 26. This finisher section 28
Are a gum solution tank 100 and a gum solution spray nozzle 102 for spraying the gum solution onto the surface of the PS plate 110;
The gum solution is applied to the PS plate 110 after washing with water to desensitize it. The gum solution tank 100 is provided with an overflow pipe similarly to the other tanks, and is adjusted so that the water level in the tank is always kept constant.
【0114】第2水洗部26から送り出されたPS版1
10は、フィニッシャー部28を通過する際に、ガム液
噴射ノズル102から表面の画像形成側にガム液が噴射
された後、フィニッシャー部28の送り出し位置に設け
られた搬送ローラ対104により付着するガム液が絞り
落されて、フィニッシャー部28から送り出される。The PS plate 1 sent from the second washing section 26
Reference numeral 10 denotes a gum that is ejected from the gum solution ejecting nozzle 102 to the image forming side of the surface when passing through the finisher unit 28, and then adheres to the conveying roller pair 104 provided at the delivery position of the finisher unit 28. The liquid is squeezed and sent out from the finisher unit 28.
【0115】フィニッシャー部28の後段には、乾燥部
29が設けられており、PS版110が乾燥部29を通
過する際に、乾燥処理されて外部に排出される。なお、
乾燥部29としては公知の構成を適用できるためここで
は説明は省略する。A drying section 29 is provided downstream of the finisher section 28. When the PS plate 110 passes through the drying section 29, the PS plate 110 is dried and discharged to the outside. In addition,
Since a known configuration can be applied to the drying unit 29, the description is omitted here.
【0116】なお、本実施の形態の製版システムに使用
するPS版は、光重合性の感光層と該感光層を保護する
オーバーコート層(保護層)を含むものであればよいが、
好ましくは、アルミニウム板に親水化処理を施した支持
体上に、付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化
合物と波長450nm以上の光で活性化する光重合開始
系と架橋性基を側鎖に有する重合体とを含有する光重合
性感光層を有するものを使用すると良い。The PS plate used in the plate making system of the present embodiment may be any as long as it includes a photopolymerizable photosensitive layer and an overcoat layer (protective layer) for protecting the photosensitive layer.
Preferably, a compound having an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiation system activated by light having a wavelength of 450 nm or more, and a crosslinkable group are provided on a support obtained by subjecting an aluminum plate to a hydrophilic treatment. It is preferable to use a material having a photopolymerizable photosensitive layer containing the polymer having the above.
【0117】以下、好適なPS版について詳細に説明す
る。 〔アルミニウム支持体〕まず、PS版のアルミニウム支
持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金
属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合
金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭48−18
327号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシー卜が結合された複
合体シートでもかまわない。Hereinafter, a preferred PS plate will be described in detail. [Aluminum Support] First, the aluminum support of the PS plate is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, it is selected from an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or evaporated. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 48-18
No. 327, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film may be used.
【0118】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は10重量%以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばJIS A 1050、JISA 110
0、JIS A 3103、JIS A 3005など
を適宜利用することができる。In the following description, the above-mentioned substrates made of aluminum or aluminum alloy are collectively used as aluminum substrates. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and any of conventionally known and used materials such as JIS A 1050 and JISA 110 can be used.
0, JIS A 3103, JIS A 3005, and the like can be used as appropriate.
【0119】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度であ
る。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユ
ーザーの希望により適宜変更することができる。 〔親水化処理〕上述したアルミニウム基板には、後述す
る砂目立て等の処理が適宜施された後、基板表面にシリ
ケート、またはポリビエルホスホン酸等による親水化処
理が施される。皮膜はSi、またはP元素量として2〜
40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2形成
される。なお、塗布量は蛍光X線分析法により測定でき
る。The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request. [Hydrophilic treatment] The above-mentioned aluminum substrate is appropriately subjected to a treatment such as graining described later, and then the surface of the substrate is subjected to a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid or the like. The film has a Si or P element content of 2 to
40 mg / m 2, more preferably from 4 to 30 mg / m 2 formed. In addition, the coating amount can be measured by a fluorescent X-ray analysis method.
【0120】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が1〜30重量%、好
ましくは2〜15重量%であり、25℃のpHが10〜
13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば15〜80℃で0.5〜120秒
浸漬する。In the above-mentioned hydrophilization treatment, the alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 10% by weight.
The aluminum substrate on which the anodized film is formed is immersed in the aqueous solution of No. 13 at, for example, 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.
【0121】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like can be used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide.
【0122】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。Incidentally, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned treatment liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strolentium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and aqueous solutions such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Salts.
【0123】第IVB族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。As the Group IVB metal salt, titanium tetrachloride,
Examples thereof include titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, and zirconium tetrachloride.
【0124】アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族
金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10
重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0重
量%である。The alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10
% By weight, and a more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.
【0125】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭46−27481号、特開昭52−5
8602号、特開昭52−30503号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。 〔親水性下塗り層〕このようにしてシリケート処理され
たアルミニウム基板上には必要に応じて下記親水性下塗
り層を設けることができる。Electrodeposition of silicate as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Further, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5
No. 8602 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503 are also useful in combination with a support provided with electrolytic grains and a surface treatment combining the above-described anodic oxidation treatment and hydrophilic treatment. [Hydrophilic undercoat layer] The following hydrophilic undercoat layer can be provided on the silicate-treated aluminum substrate as needed.
【0126】水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン
酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合
体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)
もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好
適である。Water-soluble resins, for example, polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate)
Alternatively, a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable.
【0127】この有機(樹脂)下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン殿、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのとドロキンル基を有するア
ミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。Examples of the organic compound used in the organic (resin) undercoat layer include carboxymethyl cellulose and
Dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid,
Organic phosphonic acids such as alkyl phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, Organic phosphines such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroquinol such as triethanolamine hydrochloride It is selected from hydrochlorides of amines having a group, but may be used as a mixture of two or more kinds.
【0128】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水また
はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物
を溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記
有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗
浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方
法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の
濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布な
どいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸債時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum substrate and dried to form a solution, and water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. An aluminum substrate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and then washed with water and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
【0129】これに用いる溶液はアンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、
リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜1
2の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版
印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加する
こともできる。The solution used here may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, hydrochloric acid,
The pH is adjusted with an acidic substance such as phosphoric acid,
2 can be used. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.
【0130】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜20
0mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、200mg/m2よ
り大きくても同様である。The coating amount of the organic undercoat layer after drying is from 2 to 20.
0 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg.
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .
【0131】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。 〔光重合性感光層〕本発明で用いられる光重合性感光層
の主な成分は、付加重合可能なエチレン性二重結合を含
む化合物、光重合開始剤、有機高分子結合剤等であり、
必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の
化合物が添加される。The aluminum support may be further subjected to a surface treatment such as immersion in an aqueous solution of potassium fluorozirconate, phosphate or the like. (Photopolymerizable photosensitive layer) The main components of the photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention is a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, an organic polymer binder and the like,
If necessary, various compounds such as a coloring agent, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor are added.
【0132】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。The compound containing a double bond capable of addition polymerization is
It can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
【0133】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。For example, those having a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
【0134】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds. And amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.
【0135】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol Triacry Over DOO, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.
【0136】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペシタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレー
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールナ
トラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキ
シ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメ
タン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipesitaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol natramethacrylate , There is bis [p- (3--methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
【0137】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
【0138】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。The crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.
【0139】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
【0140】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
【0141】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.
【0142】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.
【0143】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビエルウレタン化合物等が挙げられ
る。Another example is described in JP-B-48-417.
08 polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in
A bierurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added is exemplified.
【0144】 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH……(A) (ただし、R5およびR6はHまたはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌vol.20、No.7、300〜308ペー
ジ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して5〜70重量%
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50%であ
る。CH 2 CC (R 5 ) COO 2 CH (R 6 ) OH (A) (where R 5 and R 6 represent H or CH 3 ). Urethane acrylates described in JP-A-48-64183.
No., JP-B-49-43191, JP-B-52-3049
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A Nos. 0-104, and 2005-112, respectively. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In addition, the amount of these used is 5-70 weight% with respect to all components.
(Hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 50%.
【0145】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。Examples of the photopolymerization initiator include various photoinitiators known in patents and literatures, depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used.
【0146】450nm以上の可視光線、Arレーザ
ー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば米国特許第2,850,445号に記載
のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオ
シン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との
組み合わせによる系、例えば染料とアミンの複合開始系
(特公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭4
5−37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
p−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭
47−2528号、特開昭54−155292号)、環
状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭4
8−84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色
素の系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマ
リンと活性剤の系(時開昭52−112681号、特開
昭58−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘
導体、チオールの系(特開昭59−140203号)、Various light-initiating systems have been proposed when using visible light of 450 nm or more, an Ar laser, the second harmonic of a semiconductor laser, or an SHG-YAG laser as a light source. For example, US Pat. No. 2,850. Certain photoreducing dyes, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, and the like, or a system using a combination of a dye and an initiator, for example, a complex starting system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189). ), A combination of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. Sho 4)
5-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye ( Kaisho 4
8-84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Tokikai Sho 52-112681, JP-A 58-15503), A system of imidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203);
【0147】有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1
504号、特開昭59−140203号、特開昭59−
189340号、特開昭62−174203号、特公昭
62−1641号、米国特許第4766055号)、染
料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−17181
05号、特開昭63−258903号、特願平2−63
054号など)、染料とボレート化合物の系(特開昭6
2−143044号、特開昭62−150242号、特
開昭64−13140号、特開昭64−13141号、
特開昭64−13142号、特開昭64−13143
号、特開昭64−13144号、特開昭64−1704
8号、特開平1−229003号、特開平1−2983
48号、特開平1−138204号など)、ローダニン
環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−17
9643号、特開平2−244050号)、チタノセン
と3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−22111
0号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あ
るいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958
号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定の
メロシアニン色素の系(特開平6−295061号)、
チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特願平
7−164583)等を挙げることができる。A system of an organic peroxide and a dye (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 504, JP-A-59-140203, JP-A-59-140203
No. 189340, JP-A-62-174203, JP-B-62-1641, U.S. Pat. No. 4,766,055), a system of a dye and an active halogen compound (JP-A-63-17181).
No. 05, JP-A-63-258903, Japanese Patent Application No. 2-63
No. 054), a system of a dye and a borate compound (JP-A-6
2-143044, JP-A-62-150242, JP-A-64-13140, JP-A-64-13141,
JP-A-64-13142, JP-A-64-13143
JP-A-64-13144, JP-A-64-1704
8, JP-A-1-229003, JP-A-1-2983
No. 48, JP-A-1-138204, etc., and a system of a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A No. 2-17)
No. 9643, JP-A-2-244050), a system of titanocene and 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-22111).
No. 0), a system in which a titanocene is combined with a xanthene dye and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group (JP-A-4-221958)
JP-A-4-219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061),
A dye system having a titanocene and a benzopyran ring (Japanese Patent Application No. Hei 7-164585) can be exemplified.
【0148】本発明において光重合性開始系として用い
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。The titanocene compound used as a photopolymerizable initiation system in the present invention may be any titanocene compound capable of generating an active radical when irradiated with light in the presence of the above-mentioned sensitizing dye. For example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197
A known compound described in JP-A No. 5-211 can be appropriately selected and used.
【0149】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「A−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジフェニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−
イル(以下「A−2」ともいう。)、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−
イル、ビス(シクロペンタジエエル)−ビス(2,6−
ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニ
ウム(以下「A−3」ともいう。)等を挙げることがで
きる。More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,3 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl (hereinafter also referred to as “A-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadiphenyl-Ti-bis-
2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-
Yl (hereinafter also referred to as “A-2”), di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti -Bis-2,4-difluorophenyl-1-
Il, bis (cyclopentadieel) -bis (2,6-
And difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “A-3”).
【0150】光重合性組成物に用いられるチタノセン化
合物は単独でまたは2種以上併用して用いることができ
る。The titanocene compounds used in the photopolymerizable composition can be used alone or in combination of two or more.
【0151】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜10
0重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好まし
くは0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。The amount of the photopolymerization initiator used is 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, and more preferably 0.2 to 50 parts by weight.
【0152】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、本発明では架橋性基
を側鎖に有する重合体を用いる。このような有機高分子
重合体(以下、単にポリマーともいう)としては、それ
自身が架橋性基(不飽和基ともいう)およびカルボキシ
ル基を側鎖に有し、且つ架橋性基が下記一般式〔I〕The photopolymerizable composition usually contains an organic polymer as a binder. In the present invention, a polymer having a crosslinkable group in a side chain is used. Such an organic high molecular polymer (hereinafter also simply referred to as a polymer) itself has a crosslinkable group (also referred to as an unsaturated group) and a carboxyl group in a side chain, and the crosslinkable group has the following general formula: [I]
【0153】[0153]
【化1】 Embedded image
【0154】〔式中R1〜R5は水素、ハロゲノ、カルボ
キシル、スルホ、ニトロ、シアノ、アミド、アミノやそ
れぞれ置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
アルコキン、アリーロキン、アルキルアミノ、アリール
アミノ、環状アルキル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニルから選ばれた基であり、Zは酸素、硫黄、N
HまたはNR(Rはアルキル基)から選ばれる〕で表わ
されるところに特徴がある。[Wherein R 1 to R 5 are hydrogen, halogeno, carboxyl, sulfo, nitro, cyano, amide, amino, alkyl, aryl, each of which may have a substituent,
Alcoquin, aryloquin, alkylamino, arylamino, cyclic alkyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, wherein Z is oxygen, sulfur, N
H or NR (R is an alkyl group)].
【0155】更に、光重合性感光層のバインダーとして
用いられる、架橋性基を側鎖に有するポリマーは、米国
特許第3,376,138号、第3,556,792
号、第3,556,793号各明細書により公知である
が、開示されているポリマーは、ポリマーそのものが、
光架橋性レジストとして使われており、本実施の形態で
述べる光重合性組成物のバインターとしての使用方法と
は明白な相異がある。Further, polymers having a crosslinkable group in a side chain used as a binder for the photopolymerizable photosensitive layer are described in US Pat. Nos. 3,376,138 and 3,556,792.
No. 3,556,793, the disclosed polymer is a polymer itself,
It is used as a photocrosslinkable resist, and has a clear difference from the method of using the photopolymerizable composition described in this embodiment as a binder.
【0156】上記ポリマーの合成方法には、大別して次
の2つの方法がある。The methods for synthesizing the above polymers are roughly classified into the following two methods.
【0157】(A法):カルボン酸、カルボン酸ハライ
ド、カルボン酸無水物基を側鎖として有する幹ポリマー
に対して、後記一般式〔I−a〕で示される化合物を高
分子反応させて、(Method A): A compound represented by the following general formula [Ia] is subjected to a polymer reaction with a backbone polymer having a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, and a carboxylic anhydride group as a side chain,
【0158】[0158]
【化2】 Embedded image
【0159】(式中、R1〜R5は一般式〔I〕:の場合
と同義)で示される架橋性基を−COO−、−COS
−、−CONH−または−CONR−の各連結基を介し
て導入する方法。(Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in the case of the general formula [I]): -COO-, -COS
-, -CONH- or -CONR- a method of introducing via each connecting group.
【0160】(B法):前記一般式〔I〕で示される架
橋性基とさらに該架橋性基よりも付加重合反応性に富ん
だエチレン性不飽和基とを有するモノマーを不飽和カル
ボン酸と共重合させて、ポリマーを得る方法。(Method B): A monomer having a crosslinkable group represented by the above general formula [I] and an ethylenically unsaturated group having a higher addition polymerization reactivity than the crosslinkable group is converted into an unsaturated carboxylic acid. A method of obtaining a polymer by copolymerization.
【0161】[0161]
【化3】 Embedded image
【0162】〔式中、R1〜R5は一般式〔I〕の場合と
同義であり、YはOH、−SH、−NH2、−NHR
(Rはアルキル基)またはハロゲン原子を示す。〕 上記一般式〔I−a〕におけR1〜R5のアルキル基は、
直鎖、分枝、または環状であってもよく、炭素数1〜7
のものが好ましく、これらのアルキル基には更に炭素数
1〜2のアルコキシ基、炭素数1〜3のアルコキシカル
ボニル基、フェニル基、ヒドロキシ基などの置換基を有
していてもよく、R1〜R5のアリール基としてはフェニ
ル基、フリル基が好ましく、これにはハロゲノ基(例え
ばクロロ、ブロモなど)、ヒドロキシ基、炭素数1〜7
のアルキル基、アリール基(例えばフェニル、メトキン
フェニルなど)、炭素数1〜7個のアルコキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基などの置
換基を有していてもよい。R1〜R5のアルコキシ基とし
ては炭素数1〜7のものが好ましく、アリールオキシ基
としてはフェニルオキン基が好ましく、これには炭素数
1〜7のアルキルもしくはアルコキシ基などの置換基を
有していてもよい。R1〜R5のアルキルアミノ基として
は、炭素故1〜15のものが好ましく、アリールアミノ
基としてはフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基が好ま
しい。R1〜R5のアルキルスルホニル基としては炭素数
1〜15のものが好ましく、アリールスルホニル基とし
てはフェニルスルホニル基などが好ましく、これには炭
素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。[Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as in the case of the general formula [I], and Y represents OH, —SH, —NH 2 , —NHR
(R is an alkyl group) or a halogen atom. The alkyl group of R 1 to R 5 in the general formula [Ia] is
It may be linear, branched, or cyclic, and has 1 to 7 carbon atoms.
Preferably has, even in these alkyl group, an alkoxy group having from 1 to 2 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group may have a substituent such as hydroxy group, R 1 As the aryl group represented by R 5 to R 5, a phenyl group and a furyl group are preferable, including a halogeno group (eg, chloro, bromo, etc.), a hydroxy group,
May have a substituent such as an alkyl group, an aryl group (e.g., phenyl and methkinphenyl), an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms, a nitro group, an amino group, and an N, N-dialkylamino group. . The alkoxy group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 7 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably a phenyl okine group, which has a substituent such as an alkyl or alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. May be. The alkylamino group of R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylamino group is preferably a phenylamino group or a naphthylamino group. The alkylsulfonyl group represented by R 1 to R 5 is preferably a group having 1 to 15 carbon atoms, and the arylsulfonyl group is preferably a phenylsulfonyl group. May have a substituent such as an alkoxy group and an amino group.
【0163】上記A法をさらに詳しく示すと、幹ポリマ
ーとしてはアクリル酸又はメタアクリル酸の共重合体お
よび当該共重合体を高分子反応により酸ハロゲン化物と
した共重合体があげられる。又、マレイン酸無水物、イ
タコン酸無水物等の共重合体があげられる。共重合する
コモノマーとしては、スチレンまたはそのアルキル置換
誘導体、アクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリ
ールエステル、メタクリル酸アルキルエステル、メタク
リル酸アリールエステル、または脂肪族ビニルエステル
があげられる。好ましくはアクリル酸またはメタアクリ
ル酸とアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ベンジルとの共重合体があげられる。これらの共重合
体に架橋性基を導入するには一般式〔I−a〕で示され
る架橋性アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化物
を所定反応条件下、反応溶媒中に前述の共重合体と混合
溶解し、反応触媒および重合禁止剤とを加え加熱するこ
とによって得られる。具体的にはメタクリル酸とメタク
リル酸ベンジルの共重合体を例にとって以下に示す。When the method A is described in more detail, examples of the backbone polymer include a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid and a copolymer in which the copolymer is an acid halide obtained by a polymer reaction. Further, copolymers such as maleic anhydride and itaconic anhydride can be used. Examples of the comonomer to be copolymerized include styrene or an alkyl-substituted derivative thereof, an alkyl acrylate, an aryl acrylate, an alkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or an aliphatic vinyl ester. Preferably acrylic acid or methacrylic acid and methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate,
Copolymers with ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and benzyl methacrylate are exemplified. In order to introduce a crosslinkable group into these copolymers, a crosslinkable alcohol, an amine, a thiol, or a halide represented by the general formula [Ia] is reacted with the above copolymer in a reaction solvent under predetermined reaction conditions. It is obtained by mixing and dissolving, adding a reaction catalyst and a polymerization inhibitor, and heating. Specifically, a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is shown below as an example.
【0164】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器および
温度計を備えつけた300mlの三つ口フラスコ中にポ
リ(メタクリル酸/メタクリル酸ベンジル=27/73
モル比)19.8g、反応溶媒として酢酸エチレングリ
コールモノメチルエーテルを40.2g、架橋性基を含
有する試薬としてアリル臭素化物6.0g、触媒として
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド10.4
gおよび重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.
01gを加え混合溶解し、窒素雰囲気下70℃にて13
時間加熱攪拌を行った。冷却後メチルエチルケトンを加
え遊離する四級塩を除去する。さらにメタノールを加え
て希釈し希塩酸中に注いで沈殿させる。水洗し後吸引濾
過をし、真空乾燥させると得られるポリマーの収量は1
3.6gであった。アリル基は幹ポリマーのカルボン酸
に対して35%導入された。Poly (methacrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73) was placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a stirring rod and stirring blades, a reflux condenser and a thermometer.
19.8 g), 40.2 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, 6.0 g of allyl bromide as a reagent containing a crosslinkable group, and 10.4 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst.
g of paramethoxyphenol and 0.1 g of paramethoxyphenol as a polymerization inhibitor.
And mixed and dissolved at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere.
Heating and stirring were performed for hours. After cooling, methyl ethyl ketone is added to remove free quaternary salts. Further, the mixture is diluted with methanol and poured into dilute hydrochloric acid to precipitate. After washing with water, suction filtration and vacuum drying, the yield of polymer obtained is 1
It was 3.6 g. Allyl groups were introduced at 35% relative to the carboxylic acid of the backbone polymer.
【0165】[0165]
【化4】 Embedded image
【0166】無水マレイン酸の共重合体に該架橋性基を
導入する合成例は米国特許第2,047,398号明細
書に記載された方法で行なうことができ、これにより無
水マレイン酸部が開環した不飽和エステル、アミド、チ
オエステル等が導入される。なお、無水マレイン酸共重
体への架橋性基の導入方法としては、特開昭48−82
902号公報に記載の類似例があげられるが、この方法
による架橋性基はマレイン酸イミドの窒素原子に結合し
ており、明白に前述のポリマーとは異なった化合物であ
り、本発明に使用される架橋性基を側鎖に有するポリマ
ーとは区別される。A synthesis example in which the crosslinkable group is introduced into a copolymer of maleic anhydride can be carried out by the method described in US Pat. No. 2,047,398, whereby the maleic anhydride moiety is formed. A ring-opened unsaturated ester, amide, thioester or the like is introduced. As a method for introducing a crosslinkable group into a maleic anhydride copolymer, JP-A-48-82
A similar example described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 902/1990 is mentioned, but the crosslinkable group by this method is bonded to the nitrogen atom of maleic imide, and is clearly a compound different from the above-mentioned polymer, and is used in the present invention. Polymer having a crosslinkable group in the side chain.
【0167】一方、B法をさらに詳しく示すと、該架橋
性基を有する少なくとも2つ以上の炭素−炭素二重結合
を含むモノマーは、既知合成法により該架橋性基を有す
るアルコール、アミン、チオールと不飽和カルボン酸、
好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸との縮合反応
により合成される。この少なくとも2つ以上の不飽和基
を含むモノマーを不飽和カルボン酸、好ましくはアクリ
ル酸またはメタクリル酸と共重合させることにより該架
橋性基を有する共重合体を得る。共重合するモノマー
は、不飽和カルボン酸に付け加えてさらに他のモノマー
が共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メ
タクリル酸アルキル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキンエチル、アクリロニトリル等が挙
げられる。On the other hand, when the method B is described in more detail, the monomer containing at least two or more carbon-carbon double bonds having a crosslinkable group can be prepared by a known synthesis method using an alcohol, an amine or a thiol having the crosslinkable group. And unsaturated carboxylic acids,
Preferably, it is synthesized by a condensation reaction with acrylic acid or methacrylic acid. By copolymerizing the monomer containing at least two or more unsaturated groups with an unsaturated carboxylic acid, preferably acrylic acid or methacrylic acid, a copolymer having the crosslinkable group is obtained. The monomer to be copolymerized may further be copolymerized with another monomer in addition to the unsaturated carboxylic acid, for example, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroquinethyl methacrylate, acrylonitrile, and the like. No.
【0168】以下、メタクリル酸アリルとメタクリル酸
との共重合例を示す。類似の合成法として、米国特許第
2,047,398号明細書に記載の方法があげられ
る。The following is an example of copolymerization of allyl methacrylate and methacrylic acid. As a similar synthesis method, a method described in US Pat. No. 2,047,398 can be mentioned.
【0169】攪拌棒および攪拌羽根、還流冷却器、滴下
漏斗および温度計を設置した3リットルの4口フラスコ
に反応溶媒として1,2−ジクロルエタン1.68リッ
トルを入れ窒素置換しながら70℃に加熱した。滴下漏
斗にメタクリル酸アリル100.8g、メタクリル酸
7.6gおよび重合開始剤として2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.68gを0.
44リットルの1,2−ジクロルエタンに溶解して入れ
ておき、2時間かけてこの混合溶液をフラスコ中に撹拌
しながら滴下した。1.68 liters of 1,2-dichloroethane as a reaction solvent was placed in a 3 liter four-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 70 ° C. while purging with nitrogen. did. 100.8 g of allyl methacrylate, 7.6 g of methacrylic acid, and 1.68 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator were added to a dropping funnel in an amount of 0.1 g.
The mixture was dissolved in 44 liters of 1,2-dichloroethane, and the mixed solution was dropped into the flask over 2 hours with stirring.
【0170】滴下終了後さらに反応温度70℃で5時間
攪拌し反応を完結した。加熱終了後重合禁止剤としてパ
ラメトキンフェノール0.04gを加え反応溶液を50
0mlまで濃縮し、この濃縮液を4リットルのヘキサン
に加えて沈殿させ、真空乾燥後61g(収率56%)の
共重合ポリマーを得た。このとき粘度は80℃のメチル
エチルケトンで〔η〕=0.068であった。After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at a reaction temperature of 70 ° C. for 5 hours to complete the reaction. After the completion of heating, 0.04 g of paramethokine phenol was added as a polymerization inhibitor, and the reaction solution was added to 50 parts.
The solution was concentrated to 0 ml, and the concentrated solution was added to 4 liters of hexane to precipitate. After vacuum drying, 61 g (yield 56%) of a copolymer was obtained. At this time, the viscosity was [η] = 0.068 for methyl ethyl ketone at 80 ° C.
【0171】前記一般式〔I−a〕で示される代表的な
化合物は、アリルアルコール、2−メチルアリルアルコ
ール、クロチルアルコール、3−クロル−2−プロペン
−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、3−(ヒドロキンフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(2−ヒドロキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・4−ジヒドロキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(2・4−ジヒ
ドロキシフェニル−2−プロペン−1−オール、3−
(3・4・5−トリヒドロキンフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキン
フェニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4
−ジヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3・5−ジメトキシ−4−ヒド
ロキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(4―エトキンフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−(2−メトキシフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3−(3・4−ジ
メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、3−
(3−メトキシ−4−プロポキシフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、Representative compounds represented by the above formula [Ia] include allyl alcohol, 2-methylallyl alcohol, crotyl alcohol, 3-chloro-2-propen-1-ol, and 3-phenyl-2. -Propen-1-ol, 3- (hydroquinphenyl) -2-propen-1-
All, 3- (2-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4-dihydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (2.4-dihydroxyphenyl-2-ol Propen-1-ol, 3-
(3,4-5-trihydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-hydroquinphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.4
-Dihydroxy-5-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3.5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(2-hydroxy-4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (4-ethoxyquinphenyl)
-2-propen-1-ol, 3- (2-methoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-4-dimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-
(3-methoxy-4-propoxyphenyl) -2-propen-1-ol,
【0172】3−(2・4・6−トリメトキシフェニ
ル)−2−プロペン−1−オール、3−(3−メトキシ
−4−ベンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−1−(3’−メトキンフェニル)−4−ベ
ンジルオキシフェニル)−2−プロペン−1−オール、
3−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(3・4・5−トリメトキシフェニル)−2
−プロペン−1−オール、3−(4−メチルフェニル)
−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−3−(2
・4・6−トリメチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3・3−{ジ−(2・4・6−トリメチルフェ
ニル)}−2−プロペン−1−オール、3−フェニル−
3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3・3−ジフェニル−2−プロペン−1−オール、
3−(2−クロルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−クロルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、3−(4−クロルフェニル)−2−プロペン−
1−オール、3−(2・4−ジクロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、3−(2−ブロムフェニル)−
2−プロペン−1−オール、3−ブロム−3−フェニル
−2−プロペン−1−オール、3−クロル−3−フェニ
ル−2−プロペン−1−オール、3−(4−ニトロフェ
ニル)−2−プロペン−1−オール、3- (2-4,6-trimethoxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methoxy-4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-
All, 3-1- (3′-methokinphenyl) -4-benzyloxyphenyl) -2-propen-1-ol,
3-phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (3.4.5-trimethoxyphenyl) -2
-Propen-1-ol, 3- (4-methylphenyl)
-2-propen-1-ol, 3-phenyl-3- (2
* 4,6-trimethylphenyl) -2-propene-1-
All, 3,3- {di- (2,4,6-trimethylphenyl)}-2-propen-1-ol, 3-phenyl-
3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3,3-diphenyl-2-propen-1-ol,
3- (2-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-chlorophenyl) -2-propen-1-
All, 3- (4-chlorophenyl) -2-propene-
1-ol, 3- (2.4-dichlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 3- (2-bromophenyl)-
2-propen-1-ol, 3-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (4-nitrophenyl) -2 -Propen-1-ol,
【0173】3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペ
ン−1−オール、3−(3−ニトロフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3−フェニル−2−
プロペン−1−オール、2−メチル−3−(4−クロル
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−メチル−
3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−アミノフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、2−メチル−3・3−ジフェニル
−2−プロペン−1−オール、2−エチル−1・3−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、2−エトキシメ
チレン−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、2
−フェノキシ−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジフェニル−2−プロ
ペン−1−オール、1・2・3−トリフェニル−2−プ
ロペン−1−オール、2・3・3−トリフェニル−2−
プロペン−1−オール、2−エトキシ−3−フェニル−
2−プロペン−1−オール、1.3−ジフェニル−2−
プロペン−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−メチルフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1−フェニル−3−(4−メトキシフェニル)
−2−プロペン−1−オール、1−(4−メトキシフェ
ニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、3- (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-phenyl-2-
Propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-chlorophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-
3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-aminophenyl) -2-propen-1-ol, 2-methyl-3-3.3-diphenyl-2- Propen-1-ol, 2-ethyl-1 / 3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-ethoxymethylene-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2
-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-methyl-3- (4-methoxyphenyl) -2-
Propen-1-ol, 2,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 2,3,3-triphenyl-2-
Propen-1-ol, 2-ethoxy-3-phenyl-
2-propen-1-ol, 1.3-diphenyl-2-
Propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-methylphenyl) -2-propen-1-
All, 1-phenyl-3- (4-methoxyphenyl)
-2-propen-1-ol, 1- (4-methoxyphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol,
【0174】1・3−ジ(4−クロルフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1−(4−ブロムフェニル)−
3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニ
ル−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン−1−
オール、1・3−ジ(2−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オール、1−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、1−
フェニル−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−
プロペン−1−オール、1・1−ジ(4−ジメチルアミ
ノフェニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、1・1・3−トリフェニル−2−プロペン−1−オ
ール、1・1・3・3−テトラフェニル−2−プロペン
−1−オール、1−(4−メチルフェニル)−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール、1−(ドデシルスル
ホニル)−3−フェニル−2−プロペン−1−オール、
1−フェニル−2−プロペン−1−オール、1・2−ジ
フェニル−2−プロペン−1−オール、1−フェニル−
2−メチル−2−プロペン−1−オール、1−シクロヘ
キシル−2−プロペン−1−オール、1−フェノキシ−
2−プロペン−1−オール、2−ベンジル−2−プロペ
ン−1−オール、1・1−ジ(4−クロルフェニル)−
2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ−2−プロ
ペン−1−オール、1,3-di (4-chlorophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1- (4-bromophenyl)-
3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-3- (4-nitrophenyl) -2-propen-1-
All, 1,3-di (2-nitrophenyl) -2-propen-1-ol, 1- (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-
Phenyl-3- (4-dimethylaminophenyl) -2-
Propen-1-ol, 1,1-di (4-dimethylaminophenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1.1,3-triphenyl-2-propen-1-ol, 1. 1,3,3-tetraphenyl-2-propen-1-ol, 1- (4-methylphenyl) -3-phenyl-2-propen-1-ol, 1- (dodecylsulfonyl) -3-phenyl-2 -Propen-1-ol,
1-phenyl-2-propen-1-ol, 1,2-diphenyl-2-propen-1-ol, 1-phenyl-
2-methyl-2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-2-propen-1-ol, 1-phenoxy-
2-propen-1-ol, 2-benzyl-2-propen-1-ol, 1.1-di (4-chlorophenyl)-
2-propen-1-ol, 1-carboxy-2-propen-1-ol,
【0175】1−カルボキシアミド−2−プロペン−1
−オール、1−シアノ−2−プロペン−1−オール、1
−スルホ−2−プロペン−1−オール、2−エトキシ−
2−プロペン−1−オール、2−アミノ−2−プロペン
−1−オール、3−(3−アミノ−4−メトキシフェニ
ルスルホニル)−2−プロペン−1−オール、3−(4
−メチルフェニルスルホニル)−2−プロペン−1−オ
ール、3−フェニルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−ベンジルスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−アニリノスルホニル−2−プロペン−1−オ
ール、3−(4−メトキシアニリノスルホニル)−2−
プロペン−1−オール、8−アニリノ−2−プロペン−
1−オール、3−ナフチルアミノ−2−プロペン−1−
オール、3−フェノキシ−2−プロペン−1−オール、
3−(2−メチルフェニル)−2−プロペン−1−オー
ル、3−(3−メチルフェノキン)−2−プロペン−1
−オール、3−(2・4−ジメチルフェニル)−2−プ
ロペン−1−オール、1−メチル−3−カルボキシ−2
−プロペン−1−オール、3−カルボキシ−2−プロペ
ン−1−オール、3−ブロム−3−カルボキシ−2−プ
ロペン−1−オール、1−カルボキシ−3−クロル−3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルボキシ
−3−メチル−2−プロペン−1−オール、1-carboxamido-2-propene-1
-Ol, 1-cyano-2-propen-1-ol, 1
-Sulfo-2-propen-1-ol, 2-ethoxy-
2-propen-1-ol, 2-amino-2-propen-1-ol, 3- (3-amino-4-methoxyphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3- (4
-Methylphenylsulfonyl) -2-propen-1-ol, 3-phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-benzylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-anilinosulfonyl-2-propene- 1-ol, 3- (4-methoxyanilinosulfonyl) -2-
Propen-1-ol, 8-anilino-2-propene-
1-ol, 3-naphthylamino-2-propene-1-
All, 3-phenoxy-2-propen-1-ol,
3- (2-methylphenyl) -2-propen-1-ol, 3- (3-methylphenokine) -2-propen-1
-Ol, 3- (2,4-dimethylphenyl) -2-propen-1-ol, 1-methyl-3-carboxy-2
-Propen-1-ol, 3-carboxy-2-propen-1-ol, 3-bromo-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carboxy-3-methyl-2-propen-1-ol,
【0176】1−(2−カルベトキシイソプロピル)−
3−メチル−2−プロペン−1−オール、1−(1−カ
ルベトキシプロピル)−2−プロペン−1−オール、1
−(1−カルベトキシエチル)−3−メチル−2−プロ
ペン−1−オール、1−カルベトキシ−3−クロルー3
−メチル−2−プロペン−1−オール、1−カルベトキ
シメチレン−3−メチル−2−プロペン−1−オール、
1−アミド−2・3−ジメチル−2−プロペン−1−オ
ール、1−シアノ−3−メチル−2−プロペン−1−オ
ール、3−スルホ−2−プロペン−1−オール、3−ブ
トキシ−2−プロペン−1−オール、1−シクロへキン
ル−3−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−2−プロ
ペン−1−オール、3−シクロベンジル−2−プロペン
−1−オール、3−フリル−2−プロペン−1−オー
ル、3−クロム−2−プロペン−1−オール、3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2−メチル−3−ブロ
ム−2−プロペン−1−オール、1−カルボイソブトキ
シ−3−クロル−3−メチル−2−プロペン−1−オー
ル、2−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−クロルシンナミルアルコール)、2−ブロム
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−ブロ
ムシンナミルアルコール)、1- (2-carbethoxyisopropyl)-
3-methyl-2-propen-1-ol, 1- (1-carbethoxypropyl) -2-propen-1-ol,
-(1-carbethoxyethyl) -3-methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxy-3-chloro-3
-Methyl-2-propen-1-ol, 1-carbethoxymethylene-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-amido-2 / 3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-cyano-3-methyl-2-propen-1-ol, 3-sulfo-2-propen-1-ol, 3-butoxy- 2-propen-1-ol, 1-cyclohexyl-3- (2-hydroxycyclohexyl) -2-propen-1-ol, 3-cyclobenzyl-2-propen-1-ol, 3-furyl-2- Propen-1-ol, 3-chrom-2-propen-1-ol, 3-bromo-2-propen-1-ol, 2-methyl-3-chloro-2-propen-1-ol, 2-methyl- 3-bromo-2-propen-1-ol, 1-carboisobutoxy-3-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol ( 2-chlorosi Cinnamyl alcohol), 2-bromo-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-bromo cinnamyl alcohol),
【0177】2−ブロム−3−(4−ニトロフェニル)
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−フェ
ニル−2−プロペン−1−オール(2−フルオロシンナ
ミルアルコール)、2−フルオロ−3−(4−メトキシ
フェニル)−2−プロペン−1−オール、2−ニトロ−
3−クロル−3−フェニル−2−プロペン−1−オー
ル、2−ニトロ−3−フェニル−2−プロペン−1−オ
ール(2−ニトロシンナミルアルコール)、2−シアノ
−3−フェニル−2−プロペン−1−オール(2−シア
ノシンナミルアルコール)、2−クロル−2−プロペン
−1−オール(2−クロルアリルアルコール)、2−ブ
ロム−2−プロペン−1−オール(2−ブロムアリルア
ルコール)、2−カルボキシ−2−プロペン−1−オー
ル(2−カルボキシアリルアルコール)、2−カルベト
キシ−2−プロペン−1−オール(2−カルベトキシア
リルアルコール)、2−スルホン酸−2−プロペン−1
−オール(2−スルホン酸アリルアルコール)、2−ニ
トロ−2−プロペン−1−オール(2−ニトロアリルア
ルコール)、2−ブロム−3・3−ジフルオロ−2−プ
ロペン−1−オール、2−クロル−3・3−ジフルオロ
−2−プロペン−1−オール、2−フルオロ−3−クロ
ル−2−プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−3
−カルボキシ−2−プロペン−1−オール、2-bromo-3- (4-nitrophenyl)
-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-fluorocinnamyl alcohol), 2-fluoro-3- (4-methoxyphenyl) -2-propene- 1-ol, 2-nitro-
3-chloro-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-nitro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-nitrocinnamyl alcohol), 2-cyano-3-phenyl-2-ol Propen-1-ol (2-cyanocinnamyl alcohol), 2-chloro-2-propen-1-ol (2-chloroallyl alcohol), 2-bromo-2-propen-1-ol (2-bromoallyl alcohol) ), 2-carboxy-2-propen-1-ol (2-carboxyallyl alcohol), 2-carbethoxy-2-propen-1-ol (2-carbethoxyallyl alcohol), 2-sulfonic acid-2-propene- 1
-Ol (2-allyl alcohol sulfonate), 2-nitro-2-propen-1-ol (2-nitroallyl alcohol), 2-bromo-3 / 3-difluoro-2-propen-1-ol, 2- Chlor-3-3-difluoro-2-propen-1-ol, 2-fluoro-3-chloro-2-propen-1-ol, 2,3-dibromo-3
-Carboxy-2-propen-1-ol,
【0178】2・3−ジヨード−3−カルボキシ−2−
プロペン−1−オール、2・3−ジブロム−2−プロペ
ン−1−オール、2−クロル−3−メチル−2−プロペ
ン−1ーオールが挙げられる。また上記具体例におい
て、1位のアルコールをチオアルコールやアミン、ハロ
ゲンで置き換えた化合物も勿論使用できる。2,3-diiodo-3-carboxy-2-
Propen-1-ol, 2,3-dibromo-2-propen-1-ol, 2-chloro-3-methyl-2-propen-1-ol. In the above specific examples, a compound in which the alcohol at the 1-position is replaced with a thioalcohol, an amine or a halogen can of course be used.
【0179】ポリマー中の架橋性基含有量の好ましい範
囲はそれぞれ共重合モル比で、10〜90モル%、5〜
60モル%、より好ましい範囲は20〜70モル%、1
0〜40モル%である。The preferable range of the crosslinkable group content in the polymer is 10 to 90 mol%,
60 mol%, a more preferable range is 20 to 70 mol%,
0 to 40 mol%.
【0180】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー)共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビエルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
2,2−ビス−(4−ヒドロキンフェニル)−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし90重量%を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは10〜90%、より好ましくは30〜8
0%である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で1/9〜9/1の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は2/8〜8/
2であり、更に好ましくは3/7〜7/3である。Similarly, there are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / optionally Other addition-polymerizable vinyl monomers) copolymers are preferred. In addition, as the water-soluble organic polymer, polybierpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamides and polyethers of 2,2-bis- (4-hydroquinphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 10 to 90%, more preferably 30 to 8
0%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic high molecular weight polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8 /
2, more preferably 3/7 to 7/3.
【0181】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキンフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためたべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約1
0%が好ましい。In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of thermal polymerization is inhibited to prevent unnecessary thermal polymerization of a polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add an agent. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methkinphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine, aluminum aluminum N-nitrosophenylhydroxylamine and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.5% to about 1% of the total composition.
0% is preferred.
【0182】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料(C.I.Pigment Blue15:
3,15:4,15:6など)、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノ
ン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約0.5%〜約20%が好ましい。Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. As the colorant, for example, a phthalocyanine-based pigment (CI Pigment Blue 15:
3, 15: 4, 15: 6), azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is preferably about 0.5% to about 20% of the total composition.
【0183】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。In addition, additives such as inorganic fillers and plasticizers such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added in order to improve the physical properties of the cured film.
【0184】これらの添加量は全組成物の10%以下が
好ましい。The amount of these additives is preferably 10% or less of the total composition.
【0185】光重合性組成物を支持体上に塗布する際に
は種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使
用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、
テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、3−メトキンプロピルアセテ
ート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル
などがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使
用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃
度は、1〜50重量%が適当である。When the photopolymerizable composition is coated on a support, it is used after being dissolved in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone,
Cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride,
Tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, Ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-meth Kin-propyl acetate, N, N- dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, .gamma.-butyrolactone, methyl lactate and ethyl lactate. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 1 to 50% by weight.
【0186】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。A surfactant can be added to the photopolymerizable composition of the present invention in order to improve the coated surface quality.
【0187】その被覆量は乾燥後の重量で約0.lg/
m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましく
は0.3〜5g/m2である。更に好ましくは0.5〜
3g/m2である。 〔オーバーコート層〕本発明(C)のオーバーコート層
は酸素遮断性のオーバーコート層であり、このオーバー
コート層は水溶性ビニル重合体を含有する。オーバーコ
ート層に含まれる水溶性ビニル重合体としては,ポリビ
ニルアルコール、およびその部分エステル、エーテルお
よびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を有せし
めるような実質的量の末置換ビニルアルコール単位を含
有するその共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコー
ルとしては、71〜100%加水分解され、重合度が3
00〜2400の範囲のものが挙げられる。具体的には
株式会社クラレ製PVA−105、PvA−110、P
VA−117、PVA−117H、PVA−120、P
VA−124、PVA−124H、PVA−CS、PV
A−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−
204、PVA−205、PVA−210、PVA−2
17、PVA−220、PVA−224、PVA−21
7EE、PVA−220、PVA−224、PVA−2
17EE、PVA−217E、PVA−220E、PV
A−224、PVA−405、PVA−420、PVA
−613、L−8等が挙げられる。上記の共重合体とし
ては、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテ
ートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビエ
ルホルマールおよびポリビエルアセタールおよびそれら
の共重合体が挙げられる。その他有用な重合体としては
ポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴムが
挙げられ、これらは単独または、併用して用いても良
い。The coating amount is about 0. lg /
range of m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.3 to 5 g / m 2 . More preferably 0.5 to
3 g / m 2 . [Overcoat layer] The overcoat layer of the present invention (C) is an oxygen-blocking overcoat layer, and this overcoat layer contains a water-soluble vinyl polymer. The water-soluble vinyl polymer contained in the overcoat layer contains polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers and acetal, or a substantial amount of terminally substituted vinyl alcohol units that have the necessary water solubility. The copolymer is mentioned. Polyvinyl alcohol is hydrolyzed by 71 to 100% and has a degree of polymerization of 3
Those having a range of from 00 to 2400 are exemplified. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PvA-110, P
VA-117, PVA-117H, PVA-120, P
VA-124, PVA-124H, PVA-CS, PV
A-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-
204, PVA-205, PVA-210, PVA-2
17, PVA-220, PVA-224, PVA-21
7EE, PVA-220, PVA-224, PVA-2
17EE, PVA-217E, PVA-220E, PV
A-224, PVA-405, PVA-420, PVA
-613, L-8 and the like. The above-mentioned copolymers include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polybierformal and polybieracetal hydrolyzed 88 to 100%, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, which may be used alone or in combination.
【0188】オーバーコート層を塗布する際用いる溶媒
としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンな
どのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液
中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当である。The solvent used for applying the overcoat layer is preferably pure water, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with the pure water. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.
【0189】また、オーバーコート層にはさらに塗布性
を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良する
ための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマ
ーなどを添加しても良い。Further, known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film may be added to the overcoat layer. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.
【0190】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1/m
2〜約15/m2の範囲が適当である。より好ましくは
1.0/m2〜約5.0/m2である。The amount of the coating is about 0.1 / m 2 after drying.
A range from 2 to about 15 / m 2 is suitable. More preferably, it is 1.0 / m 2 to about 5.0 / m 2 .
【0191】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション12に1つのパソコンをオンライン接続
した構成としているが、もちろん1つに限らず、複数の
パソコンをオンライン接続することができる。同様に、
本実施の形態では説明のため、プレートセッター14に
1つのPS版プロセッサー16をオンライン接続した構
成としているが、もちろん1つに限らず、プレートセッ
ター14に複数のパソコンをオンライン接続することが
できる。In this embodiment, one personal computer is connected online to the workstation 12 for the sake of explanation. However, the number of personal computers is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online. Similarly,
In the present embodiment, for the sake of explanation, one PS plate processor 16 is connected online to the plate setter 14, but the present invention is not limited to one, and a plurality of personal computers can be connected online to the plate setter 14.
【0192】プレートセッター14に複数のパソコンを
オンライン接続した場合は、加熱条件を変える場合など
の条件設定をより効率的に行えるので、ロス時間を少な
くすることができ、効率的である。When a plurality of personal computers are connected online to the plate setter 14, conditions such as changing heating conditions can be set more efficiently, so that the loss time can be reduced and the efficiency is improved.
【0193】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをTIFFファイルとした
が、もちろん、本発明はTIFFファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるPPFファイルや、GIFファイ
ル等のようにイメージデータを含む標準的なフォーマッ
ト形式の画像データを使用することができる。In this embodiment, the image data output from the workstation is a TIFF file. Of course, the present invention is not limited to a TIFF file. A standard PPF file containing image data such as a PPF file composed of transfer characteristic curves, types of registration marks, color density information for quality control of position data, and information of trimming marks and cutting. Formatted image data can be used.
【0194】また、本実施の形態では、プレートセッタ
ー14とPS版プロセッサー16とをオンラインで接続
した構成としたが、本発明ではオンラインに限らず、通
信回線を介して接続する構成としたり、記憶媒体にプレ
ートセッター14の情報をセッター情報として記憶さ
せ、この記憶媒体をPS版プロセッサー16が読込むこ
とによりセッター情報の受け渡しを行う様に構成するこ
ともできる。In the present embodiment, the plate setter 14 and the PS plate processor 16 are connected online. However, the present invention is not limited to the online connection, and the plate setter 14 and the PS plate processor 16 may be connected via a communication line. The information of the plate setter 14 may be stored on the medium as setter information, and the storage medium may be read by the PS version processor 16 to transfer the setter information.
【0195】なお、本実施の形態では、ROMに、版
種、版厚、及び版サイズの組合せに応じた標準の加熱容
量のテーブルが記憶された場合について述べたが、版種
に応じた標準の加熱容量のテーブル、版厚に応じた標準
の加熱容量のテーブル、及び版サイズに応じた標準の加
熱容量のテーブルの少なくとも1つを記憶させ、記憶さ
れたテーブルに基いて標準の加熱容量を決定するように
してても良い。In this embodiment, the case where the ROM stores the standard heating capacity table corresponding to the combination of the plate type, plate thickness, and plate size has been described. At least one of a heating capacity table, a standard heating capacity table according to the plate thickness, and a standard heating capacity table according to the plate size is stored, and the standard heating capacity is stored based on the stored table. It may be determined.
【0196】例えば、加熱装置32としてブラックコー
ティングした直径2.50mmのハロゲンランプヒータ
ーを使用し、PS版110を19mm/secで搬送さ
せる場合、版厚に応じた標準の加熱容量のテーブルとし
て、版厚が0.15mmの場合は98V、0.24mm
の場合は137V、0.3mmの場合は165V、0.
4mmの場合は200V等のように版厚に応じて厚くな
るアルミニウム基板の厚みが厚くなるに従って駆動電圧
を大きくしたテーブルとする。For example, when using a halogen lamp heater having a diameter of 2.50 mm coated with black as the heating device 32 and transporting the PS plate 110 at 19 mm / sec, a table having a standard heating capacity according to the plate thickness is used. 98V, 0.24mm when thickness is 0.15mm
Is 137 V, 0.3 mm is 165 V, 0.
In the case of 4 mm, a table is used in which the drive voltage is increased as the thickness of the aluminum substrate increases, such as 200 V, according to the plate thickness.
【0197】また、本実施の形態では、加熱容量決定プ
ログラムをセッター制御部18のROMに記憶している
が、本発明はこれに限定されず、該加熱容量決定プログ
ラムをフロッピィディスクに記憶すると共に、コンピュ
ータ本体にハードディスクを備え、フロッピィディスク
から該プログラムを読み取り、ハードディスクにインス
トールしても良い。また、前記加熱容量決定プログラム
を有線または無線のネットワークに電話回線などの伝送
手段により伝送してインストールしても良い。In the present embodiment, the heating capacity determination program is stored in the ROM of the setter control unit 18. However, the present invention is not limited to this, and the heating capacity determination program may be stored on a floppy disk. Alternatively, the computer may be provided with a hard disk, and the program may be read from a floppy disk and installed on the hard disk. Further, the heating capacity determination program may be transmitted to a wired or wireless network by a transmission means such as a telephone line and installed.
【0198】なお、前記加熱容量決定プログラムはフロ
ッピィディスクに記憶することに限定されず、CD−R
OM、磁気テープに該プログラムを格納し、該CD−R
OM、磁気テープからパソコンのハードディスクにイン
ストールしても良い。また、前記加熱容量決定プログラ
ムを格納したハードディスクを備えるようにしてもよ
い。さらにパソコンのハードディスクやRAMに直接加
熱容量決定プログラムを書き込むようにしてもよい。こ
のように上記加熱容量決定プログラムは、有形の記録媒
体及び伝送手段の少なくとも一方により流通することが
できる。The heating capacity determination program is not limited to being stored on a floppy disk, but may be a CD-R.
OM, the program is stored on a magnetic tape, and the CD-R
It may be installed on the hard disk of the personal computer from OM or magnetic tape. Further, a hard disk storing the heating capacity determination program may be provided. Further, the heating capacity determination program may be directly written in the hard disk or RAM of the personal computer. As described above, the heating capacity determination program can be distributed by at least one of a tangible recording medium and a transmission unit.
【0199】なお、上記では、ヒータの駆動電圧を制御
することによって、加熱条件を制御する例について説明
したが、ヒータの駆動電圧を一定とし、PS版の搬送速
度を制御することによって加熱条件を制御してもよく、
断熱版を設けてヒータからの熱を遮断するシャッター機
構により加熱条件を制御するようにしてもよい。In the above description, an example in which the heating condition is controlled by controlling the driving voltage of the heater has been described. However, the heating condition is controlled by controlling the transport speed of the PS plate while keeping the driving voltage of the heater constant. May be controlled,
The heating condition may be controlled by a shutter mechanism that provides a heat insulating plate and shuts off heat from the heater.
【0200】[0200]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、設
定した温度条件が不適切であったり、操作ミス等により
設定した温度条件が異なることによる損失を生じる恐れ
がなく、処理効率も向上できる、という効果がある。As described above, according to the present invention, there is no danger that a set temperature condition is inappropriate or a loss due to a difference in the set temperature condition due to an operation error or the like does not occur, and the processing efficiency is improved. There is an effect that it can be done.
【0201】また、加熱装置内の温度が適切な温度とす
るまでの時間を効率的に切り替えることができるので、
ロス時間を短縮して処理効率を上げることができ、これ
により、省エネ化することができる、という効果があ
る。Further, the time until the temperature in the heating device reaches an appropriate temperature can be switched efficiently, so that
There is an effect that the processing efficiency can be increased by shortening the loss time, and thereby energy saving can be achieved.
【図1】 本実施の形態の製版システムの概略の流れを
示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic flow of a plate making system according to an embodiment.
【図2】 図1に示した自動現像機の概略構成を示す説
明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the automatic developing machine shown in FIG.
【図3】 図2に示した加熱制御部のCPUの作用を示
すフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating an operation of a CPU of a heating control unit illustrated in FIG. 2;
10 パソコン 12 ワークステーション 14 プレートセッター 16 PS版プロセッサー 18 セッター制御部 20 加熱部 22 水洗部 24 現像部 26 水洗部 28 フィニッシャー部 29 乾燥部 30 プロセッサー制御部 31、62、68、72、75、92、94、104
ローラ対 32 加熱装置 34 加熱手段 36 搬送ローラ 38 加熱制御部 60 水洗槽 61、79、91 オーバーフロー管 63 洗浄水タンク 64a、64b 洗浄水供給ノズル 66、71a、71b 回転ブラシローラ 67 バックアップローラ 70 現像槽 73 液面蓋 74 現像液噴射ノズル 76 希釈水噴射ノズル 77 ガイド板 78、96、98 スプレーパイプ 80 廃液タンク 82 現像液貯留槽 84 水貯留槽 90 水洗槽 93 貯留タンク 100 ガム液槽 102 ガム液噴射ノズル 110 PS版DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Personal computer 12 Workstation 14 Plate setter 16 PS plate processor 18 Setter control part 20 Heating part 22 Washing part 24 Developing part 26 Washing part 28 Finisher part 29 Drying part 30 Processor control part 31, 62, 68, 72, 75, 92, 94, 104
Roller pair 32 Heating device 34 Heating means 36 Conveying roller 38 Heating control unit 60 Washing tank 61, 79, 91 Overflow pipe 63 Washing water tank 64a, 64b Washing water supply nozzle 66, 71a, 71b Rotary brush roller 67 Backup roller 70 Developing tank 73 Liquid surface cover 74 Developer injection nozzle 76 Dilution water injection nozzle 77 Guide plate 78, 96, 98 Spray pipe 80 Waste liquid tank 82 Developer storage tank 84 Water storage tank 90 Rinse tank 93 Storage tank 100 Gum liquid tank 102 Gum liquid injection Nozzle 110 PS version
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H096 AA07 BA05 CA03 CA12 CA20 EA04 FA01 FA05 GA08 GA26 GA27 GB02 HA02 2H097 AB05 CA17 DB07 DB13 FA02 HA05 HB03 HB05 JA03 LA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H096 AA07 BA05 CA03 CA12 CA20 EA04 FA01 FA05 GA08 GA26 GA27 GB02 HA02 2H097 AB05 CA17 DB07 DB13 FA02 HA05 HB03 HB05 JA03 LA03
Claims (3)
像データに基いて露光する露光工程と、 該露光工程の前又は後に、前段の工程で使用した版情報
に基づき、前記露光工程で露光された平版印刷版を加熱
する際の加熱条件を決定する加熱条件決定工程と、 該加熱条件決定工程で決定された加熱条件となるよう
に、前記露光画像が形成された平版印刷版を加熱する工
程と、 前記加熱工程で加熱された平版印刷版を現像槽内に導い
て現像する現像工程と、 を含む平版印刷版の製版方法。An exposure step of exposing a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer based on image data; and before or after the exposure step, based on the plate information used in the preceding step, the exposure step. A heating condition determining step of determining a heating condition for heating the exposed lithographic printing plate; and heating the lithographic printing plate on which the exposed image is formed so as to satisfy the heating condition determined in the heating condition determining step. And a developing step of introducing the lithographic printing plate heated in the heating step into a developing tank to develop the lithographic printing plate.
平版印刷版の現像を行う前に、前記平版印刷版を加熱す
る加熱手段と、 前記加熱手段により前記光重合性感光層を有する露光処
理済みの平版印刷版を加熱するときに、前段に設けられ
た装置から入力された版情報に基づいて加熱条件を決定
し、該決定した加熱条件となるように前記加熱手段を制
御する加熱制御手段と、 を備えた自動現像機。2. A heating means for heating the lithographic printing plate before development of an exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, and an exposure comprising the photopolymerizable photosensitive layer by the heating means. When heating the processed lithographic printing plate, heating control is performed based on plate information input from a device provided in the preceding stage, and heating control is performed so as to satisfy the determined heating condition. And an automatic developing machine comprising:
平版印刷版の現像を行う前に、前段に設けられた装置か
ら入力された版情報に基づいて加熱条件を決定し、該決
定した加熱条件で前記平版印刷版が加熱されるように前
記平版印刷版を加熱するプログラムを記録したコンピュ
ータ読取可能な記録媒体。3. Prior to development of an exposed lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, heating conditions are determined based on plate information input from an apparatus provided at a preceding stage, and the determined heating conditions are determined. A computer-readable recording medium recording a program for heating the lithographic printing plate so that the lithographic printing plate is heated under heating conditions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26518199A JP2001092151A (en) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26518199A JP2001092151A (en) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001092151A true JP2001092151A (en) | 2001-04-06 |
Family
ID=17413706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26518199A Pending JP2001092151A (en) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001092151A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1341047A3 (en) * | 2002-03-01 | 2005-04-06 | Creo Inc. | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| JP2007079540A (en) * | 2005-08-18 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate manufacturing method and manufacturing apparatus |
| JP2009163130A (en) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Fujifilm Corp | Development processing method for lithographic printing plate |
| JP2013098300A (en) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Tokyo Electron Ltd | Thermal treatment apparatus and thermal treatment method |
-
1999
- 1999-09-20 JP JP26518199A patent/JP2001092151A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1341047A3 (en) * | 2002-03-01 | 2005-04-06 | Creo Inc. | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| US7300728B2 (en) | 2002-03-01 | 2007-11-27 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Processor unit with provision for automated control of processing parameters |
| JP2007079540A (en) * | 2005-08-18 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate manufacturing method and manufacturing apparatus |
| JP2009163130A (en) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Fujifilm Corp | Development processing method for lithographic printing plate |
| JP2013098300A (en) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Tokyo Electron Ltd | Thermal treatment apparatus and thermal treatment method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001100398A (en) | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium | |
| US20070231745A1 (en) | Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor | |
| EP2555054B1 (en) | Method for manufacturing a lithographic printing plate and printing method | |
| WO2013129126A1 (en) | Lithographic printing plate precursor, and production method for lithographic printing plate | |
| JP2004258617A (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material | |
| JP2004361911A (en) | Photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and image forming method therefor | |
| US7186497B2 (en) | Developer composition for lithographic printing plate | |
| JP2001092151A (en) | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium | |
| JP5715975B2 (en) | Planographic printing plate precursor and method for producing lithographic printing plate | |
| JP2001109166A (en) | Plate making method for planographic printing plate, automatic developing machine and recording medium | |
| JP2001022079A (en) | Photopolymerization type planographic printing plate | |
| JP2004191472A (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate | |
| JP2001075269A (en) | Method for plate-making of planographic plate, and automatic devdeloping machine | |
| US20080113295A1 (en) | Light sensitive printing plate material, printing plate and process of preparing the same | |
| JP2001166488A (en) | Plate making method for planographic printing plate and automatic developing machine | |
| JP2001159811A (en) | Plate making method for planographic printing plate and post exposure device | |
| JP2010102330A (en) | Method of preparing lithographic printing plate | |
| JP5422134B2 (en) | Automatic development method for immersion lithographic printing plates | |
| JP2000267292A (en) | Photosensitive planographic printing plate | |
| JP2001175006A (en) | Image forming method | |
| JP2000081711A (en) | Manufacture of planographic printing plate | |
| JP4448707B2 (en) | Photosensitive planographic printing plate | |
| JP2009175339A (en) | Processing method for lithographic printing plate precursor and automatic developing machine for lithographic printing plate precursor | |
| JP2003098673A (en) | Photosensitive planographic printing plate and method for making planographic printing plate | |
| JP2003043703A (en) | Method for processing planographic printing plate |