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JP2001091974A - 液晶表示装置、その駆動方法、及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置、その駆動方法、及びその製造方法

Info

Publication number
JP2001091974A
JP2001091974A JP2000216801A JP2000216801A JP2001091974A JP 2001091974 A JP2001091974 A JP 2001091974A JP 2000216801 A JP2000216801 A JP 2000216801A JP 2000216801 A JP2000216801 A JP 2000216801A JP 2001091974 A JP2001091974 A JP 2001091974A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
electrode
electric field
crystal display
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000216801A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Kimura
雅典 木村
Katsuhiko Kumakawa
克彦 熊川
Tetsuo Fukami
徹夫 深海
Hirofumi Yamakita
裕文 山北
Kazuo Inoue
一生 井上
Akinori Shioda
昭教 塩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000216801A priority Critical patent/JP2001091974A/ja
Publication of JP2001091974A publication Critical patent/JP2001091974A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 横電界モードの液晶パネルでは、ソース配線
と隣接の共通電極または画素電極との間隙部の光モレに
よりコントラストが低下したり、これを防ぐブラックマ
トリクスのため開口率が低下していた。 【解決手段】 対向基板上にソース配線のエッジを覆う
ような電界制御電極を設け、間隙部に垂直電界を発生さ
せる。これにより液晶分子が立ち上がり、間隙部が黒状
態となって光モレがなくなり、コントラストが向上す
る。電界を用いているため、位置ずれに対する許容マー
ジンが広く画素部分にまで遮光領域を広げる必要がない
ので、開口率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
し、特に広視野角特性を持つ横電界型の液晶表示装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】(第1の従来の技術)液晶表示装置は、
薄型軽量の省エネルギーディスプレイとして、各種電子
機器の表示装置に広く用いられている。なかでもイン・
プレイン・スイッチング・モード(IPSモード)は、
基板に平行な電界により表示を行なうもので、視野角の
広い表示特性により液晶モニターなどへの応用をねらい
とした開発がさかんに行なわれている。
【0003】このIPSモードの液晶表示装置は次に示
すようなものである。図26は特開平7−36058公
報に示す液晶表示装置の画素部分の構成を示す平面図、
図27はその断面を模式的に示したものである。
【0004】図26及び図27において、111はアレ
イ基板、112は対向基板である。101は画素電極、
102は共通電極であり、画素電極101と共通電極1
02間に発生する電界によって液晶117が動作する。
共通電極102には外部端子より共通電位が与えられて
いる。
【0005】103はアモルファスシリコン膜、104
はゲート配線、105はソース配線であり、アモルファ
スシリコン103とその近傍の電極によりスイッチング
素子としての薄膜トランジスタが形成される。走査線1
04に選択信号が加えられると、アモルファスシリコン
膜103が導通状態になり、ソース配線105の分枝部
分から画素電極101への充電が生じて画素電圧が供給
される。
【0006】118は各電極を分離するためにの層間に
形成される絶縁膜、119は薄膜トランジスタや電極を
保護するための絶縁膜である。115と116は配向膜
であり、基板界面の液晶117を配向させる。113と
114は偏光表示を行うための偏光板である。
【0007】このような構成によれば、基板に平行な電
界を印加して液晶を駆動することができるので、表示に
際して液晶分子が基板面から立ち上がることがなく、視
野角の広い表示を行なうことができる。
【0008】特開平9−269504号公報には、IP
Sモードにおいて対向基板のブラックマトリクスを導電
性物質で形成し、これを共通電極と短絡する構成が開示
されている。図28はこの構成を示すものであり、カラ
ーフィルター152の周囲に形成したブラックマトリク
ス151を導電性材料とし、導電ペーストなどの導電材
料153により、反対側の基板にある共通電極154と
短絡するとしている。これにより、縦電界の利用による
輝度向上効果が得られるものとしている。また、残像防
止効果や、外部電界を遮蔽して表示品位の低下を抑制す
る効果もあると述べられている。
【0009】しかしながら、上記のような液晶表示装置
の場合、以下のような課題が残されていた。
【0010】(1)ソース配線の電位が他の部分の表示
データに応じて変わっていくため、ソース配線と画素の
最も外側にある画素電極(または共通電極)の間に不要
な電界がかかってしまい、この間隙部からの光モレのた
めにコントラストが低下したり、表示が乱れたりする。
【0011】(2)液晶を配向させるためにラビング処
理を行なった場合、ソース配線と画素の最も外側にある
画素電極(または共通電極)の間は画素部分に比べて間
隙が狭いので液晶の配向が不十分となり、コントラスト
の低下が生じる。
【0012】(3)上記の(1)と(2)で問題となる
間隙部を隠すために対向基板に遮光層(ブラックマトリ
クス)を設けた場合には、アレイ基板と対向基板とを貼
り合わせる際、この遮光層とソース配線や画素電極(あ
るいは共通電極)との位置ずれが生じることを考慮する
必要があるので、このマージンの分だけ遮光部分を拡大
しなければならず、開口率が低下してしまう。
【0013】(第2の従来の技術)薄膜トランジスタ
(TFT:Thin-Film-Transister)を用いたアクティブ
マトリクス型液晶ディスプレイは薄型化、軽量化、低電
圧駆動可能などの長所によりTVや、カムコーダ用のデ
ィスプレイ、パ−ソナルコンピュ−タ−、パ−ソナルワ
−ドプロセッサ−のディスプレイなど種々の分野へ利用
されており、大きな市場を形成している。
【0014】特に近年、コンピュ−タ−あるいはTV用
途では大画面化への対応から、より広視野角を有する液
晶表示パネルへの要求が高まっており、これに対応し、
液晶表示パネルの視野角を広げる方式として、同一基板
上に画素電極及び対向電極を形成し、横方向の電界を印
加することにより液晶分子を動作させる横電界方式が特
開平6−160878等で提案されている。この方式は
IPS(In-Plane-Switching)モードあるいは櫛形電極
方式とも呼ばれており、この表示方式では、液晶分子の
長軸は基板と常にほぼ平行であるため立ち上がることが
なく、従って視角方向を変えた時の明るさの変化が小さ
く広い視野角が得られる。
【0015】しかしながら、このように構成された液晶
表示パネルでは、ソース配線から発生する不要な電界
が、液晶を制御して表示を行う電界領域まで影響を及ぼ
し、電界を変動させて輝度傾斜やクロストークといった
表示不良を引き起こすという課題があった。
【0016】この課題に対し、ソース配線の対向面に導
電性遮光膜を形成することによって、ソース配線から発
生する電界の表示への影響を抑え、液晶表示パネルの左
右の輝度差やクロストークを解消した液晶表示装置が特
開平11−52420で提案されている。
【0017】以下、従来の液晶表示装置について図面を
用いて説明する。
【0018】図29は従来の液晶表示装置における1画
素の構成を表す図、図30は図29におけるA−A'断
面図であり、ソース配線とその近傍の表示部における電
界の様子を模式的に表す図である。図29及び図30に
おいて51はゲート駆動回路からの走査信号を供給する
ゲート配線、52a、52bはソース駆動回路からの映
像信号を供給するソース配線である。なお、説明の便宜
上、図29の右側に位置するソース配線を参照符号52
aで示し、図29の左側に位置するソース配線を参照符
号52bで示し、また、ソース配線を総称するときは参
照符号52で示すことにする。前記ゲート配線51と前
記ソース配線52の交差部付近には、スイッチング素子
として半導体層から構成される薄膜トランジスタ(TF
T:ThinFilm Transistor)55が形成されている。前
記ゲート配線51から供給される走査信号により、前記
TFT55が選択的にスイッチングされると、TFT5
5のオン期間に前記ソース配線52aから供給される映
像信号がTFT55を介して、画素電極53へと供給さ
れる。この画素電極53へ供給された電位と、基準電位
となる共通電極54の電位との間で電界P2を発生さ
せ、電極53,54間の液晶57の動きを制御すること
によって階調表示を行う。
【0019】このとき図30に示すように、ソース配線
52bから発生する電界が、表示部Mの電界を変動させ
るのを防ぐため、対向基板61上のソース配線と重なる
位置に導電性の遮光膜(BM:ブラックマトリクス)5
8が形成されている。
【0020】上記構成によれば、導電性遮光膜58によ
ってソース配線52との間で垂直方向の電界P1が発生
し、水平方向の不要な電界の発生を抑え、表示へ影響を
及ぼすのを抑制することができるとしている。またソー
ス配線52aの電位の変動により、その上方にある導電
性遮光膜58の電位が変動するため、隣接するソース配
線52bには逆極性の信号を与え、導電性遮光膜58の
電位変動をキャンセルさせ、導電性遮光膜58の電位を
安定させることにより前記効果が得られるとしている。
【0021】しかしながら上記従来の液晶表示装置で
は、導電性遮光膜の電位を安定させるために、隣接する
ソース配線に逆極性の信号を印加するとしているが、ソ
ース配線に印加される信号電圧は表示される映像によっ
て常に変動しており、極性を交互に変えたとしても、信
号電圧値は各ソース配線によって異なるため、導電性遮
光膜の電位変動を十分キャンセルできるケースは限定さ
れる。例えば、ソース配線方向に1ライン毎の縦縞模様
を表示させた場合などは、各ソース配線毎に信号電圧の
極性を反転させても、正表示と負表示の場合でソース配
線に印加される信号電圧値が大きく異なるため、それに
伴って導電性遮光膜が一方向に電位変動の影響を受け、
電位変動をキャンセルできない。そのためソース配線か
らの電界を、導電性遮光膜により終端させることができ
なくなる。
【0022】また、本発明者等によるシミュレーション
及び実験によると、単にカラーフィルタ基板のBMとし
て導電性遮光膜が形成され、各ソース配線毎に同じ振幅
で極性が反転した信号電圧を印加した場合でも、十分に
クロストークを抑制できない場合が多々発見された。す
なわち、液晶素子の構成要素のパラメータである電極
幅、電極間隔、基板間厚み、ソース信号の振幅値を変え
ることにより、ソース配線からの不要な電界漏れを抑え
ることができず、クロストークが発生した。この結果の
一例を図31に示す。図31において、共通電極54、
画素電極53、ソース配線52bの各幅を6μm、導電
性BM58の幅を16μm、共通電極54と画素電極5
3との電極間隔を12μm、基板間距離を3.9μmと
なるよう構成し、ソース信号の最大振幅値は14vとし
た。また図31は、図30とほぼ同様な箇所を示してお
り、画素の断面における電界分布を等電位線で、この電
界による液晶の動作を透過率分布により表している。図
31において、ソース配線52bから発生した電界が表
示部の電界を変動させ、液晶の動作を乱し、表示部のソ
ース配線側の透過率分布aを、ソース配線による電界の
影響のない本来の透過率分布bより大きくさせている。
この透過率分布の変化が液晶表示装置におけるクロスト
ークの原因となる。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の課題を
要約すれば、以下のとおりである。
【0024】(第1の従来技術の課題) (1)ソース配線の電位が他の部分の表示データに応じ
て変わっていくため、ソース配線と画素の最も外側にあ
る画素電極(または共通電極)の間に不要な電界がかか
ってしまい、この間隙部からの光モレのためにコントラ
ストが低下したり、表示が乱れたりする。
【0025】(2)液晶を配向させるためにラビング処
理を行なった場合、ソース配線と画素の最も外側にある
画素電極(または共通電極)の間は画素部分に比べて間
隙が狭いので液晶の配向が不十分となり、コントラスト
の低下が生じる。
【0026】(3)上記の(1)と(2)で問題となる
間隙部を隠すために対向基板に遮光層(ブラックマトリ
クス)を設けた場合には、アレイ基板と対向基板とを貼
り合わせる際、この遮光層とソース配線や画素電極(あ
るいは共通電極)との位置ずれが生じることを考慮する
必要があるので、このマージンの分だけ遮光部分を拡大
しなければならず、開口率が低下してしまう。
【0027】(第2の従来技術の課題)ソース配線に印
加される信号電圧は表示される映像によって常に変動し
ており、極性を交互に変えたとしても、信号電圧値は各
ソース配線によって異なるため、導電性遮光膜の電位変
動を十分キャンセルできるケースは限定される。従っ
て、ソース配線から発生する不要な電界を十分に遮蔽で
きず、クロストーク等に起因した表示不良が発生してい
た。
【0028】本発明の目的は、ブラックマトリクスを設
けることなく、ソース配線あるいはゲート配線近傍から
の光モレを防止し、コントラストの向上した液晶表示装
置、その駆動方法及びその液晶表示装置の製造方法を提
供することである。
【0029】また、本発明の目的は、ソース配線幅、共
通電極幅、基板間距離、共通電極と画素電極との間隔、
信号電圧振幅等(液晶表示素子の構成要素のパラメー
タ)がいかなる値に設定されていても、ソース配線から
の不要な電界を抑制し、クロストークの発生のない表示
品質の高い液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第1の発明群と第2の発明群を完成した。
【0031】先ず、第1の発明群の構成について説明す
る。第1の発明群のうち請求項1記載の発明は、液晶層
を挟持して対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対
向面側には、マトリックス状に配置されたソース配線及
びゲート配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点
に対応して設けらたスイッチング素子、前記スイッチン
グ素子に接続された画素電極、及び前記画素電極と対向
し前記ソース配線に沿って形成された共通電極が形成さ
れた構造の液晶表示装置において、前記一対の基板のう
ち他方の基板上には電界制御電極が設けられており、前
記電界制御電極は前記ソース配線のエッジ部を覆うよう
に配置されていることを特徴とする。
【0032】上記構成により、ソース配線近傍の電界を
縦方向にして液晶分子を基板面から立ち上がった状態に
することができるので、ソース配線周辺の空隙部を黒状
態となり、コントラストの高い表示を行なうことができ
る。
【0033】請求項2記載の発明は、請求項1記載の液
晶表示装置において、電界制御電極が透明物質よりなる
ことを特徴とする。
【0034】上記構成により、実質的な開口率を向上で
きる。
【0035】請求項3記載の発明は、請求項2記載の液
晶表示装置において、電界制御電極の幅Wが、対応する
ソース配線の両側に隣接する画素電極または共通電極の
遠い方のエッジ間隔をL1、近い方のエッジ間隔をL2、
前記画素電極または共通電極の幅をWcomとした場合、 L2−Wcom≦ W ≦L1 の範囲にあることを特徴とする。
【0036】上記の如く、電界制御電極の幅Wを規制す
るのは、以下の理由による。即ち、電界制御電極の幅W
が広すぎると、画素領域に垂直電界が発生して液晶に十
分な水平電界が作用しないからである。電界制御電極の
幅Wが狭すぎると、垂直電界が得られる領域が小さくな
って、電界制御効果が不十分となるからである。
【0037】請求項4記載の発明は、請求項1記載の液
晶表示装置において、電界制御電極が不透明物質よりな
ることを特徴とする。
【0038】上記構成により、電界制御電極がブラック
マトリクスを兼ねることになり、遮光効果を高めること
ができる。
【0039】請求項5記載の発明は、請求項4記載の液
晶表示装置において、電界制御電極の幅Wが、対応する
ソース配線の両側に隣接する画素電極または共通電極の
遠い方のエッジ間隔をL1、近い方のエッジ間隔をL2、
前記画素電極または共通電極の幅をWcomとした場合、 L2−Wcom≦ W ≦L2+Wcom の範囲にあることを特徴とする。
【0040】電界制御電極を不透明物質、例えばクロム
等の金属層で形成する場合、電界制御電極が透明電極の
場合と比べて、電界制御電極幅Wを狭くするのが望まし
い。なぜなら、一対の基板の貼合せ時の位置ずれによ
り、電界制御電極が表示領域にはみ出すと、その分開口
率が低下するからである。
【0041】請求項6記載の発明は、液晶層を挟持して
対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、 前記一対の基板のうち他方
の基板上には電界制御電極が設けられており、前記電界
制御電極は前記ゲート配線のエッジ部を覆うように配置
されていることを特徴とする。
【0042】上記の如く、電界制御電極をゲート配線の
エッジ部を覆うように配置する構成により、ゲート配線
近傍の電界を縦方向にして液晶分子を基板面から立ち上
がった状態にすることができるので、ゲート配線周辺の
空隙部を黒状態となり、コントラストの高い表示を行な
うことができる。
【0043】請求項7記載の発明は、請求項6記載の液
晶表示装置において、前記電界制御電極が前記ソース配
線の近傍をも覆っていることを特徴とする。
【0044】このような構成により、ゲート配線及びソ
ース配線周辺の空隙部を黒状態となり、コントラストの
高い表示を行なうことができる。
【0045】請求項8記載の発明は、請求項1乃至7の
何れかに記載の液晶表示装置において、前記液晶層の誘
電異方性が正であることを特徴とする。
【0046】請求項9記載の発明は、液晶層を挟持して
対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成され、前記
一対の基板のうち他方の基板上にはソース配線とほぼ重
なり合うような電界制御電極が設けられた構造の液晶表
示装置の駆動方法であって、前記ソース配線に印加され
る電圧と逆極性の電圧を、前記電界制御電極に印加する
ことを特徴とする。
【0047】上記構成により、ソース配線近傍の縦電界
を強めて、液晶分子を基板面からさらに立ち上がった状
態にすることができるので、ソース配線周辺の空隙部を
黒表示とすることができ、コントラストの高い表示を行
なうことができる。
【0048】請求項10記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、前記液晶層は、前記ソース配
線とその両側に隣接する画素電極または共通電極との間
隔部、あるいは前記ゲート配線とその両側に隣接する画
素電極または共通電極との間隔部の少なくとも一方で予
め液晶が垂直配向している垂直配向領域が形成されてい
ることを特徴とする。
【0049】上記の如く、ソース配線(またはゲート配
線)とその両側に隣接する画素電極(または共通電極)
との間隔部の少なくとも一方で予め液晶が垂直配向して
いる垂直配向領域を形成しているため、電界制御電極を
設けた場合と同様な作用が生じ、ゲート配線周辺の空隙
部を黒表示とすることができ、コントラストの高い表示
を行なうことができる。
【0050】請求項11記載の発明は、請求項10記載
の液晶表示装置において、前記ソース配線あるいは前記
ゲート配線の少なくとも一方のエッジ部を覆うように配
置された電界制御電極をもつことを特徴とする。
【0051】上記構成により、請求項10の効果に加え
て、電界制御電極の効果も加わるため、更にコントラス
トの高い表示を行なうことができる。
【0052】請求項12記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成され、前記
液晶層は少なくとも前記ソース配線とその両側に隣接す
る画素電極または共通電極との間隔部で垂直配向され、
前記ソース配線あるいは前記ゲート配線の少なくとも一
方のエッジ部を覆うように前記他方の基板上に形成され
た電界制御電極を備えた液晶表示装置の製造方法におい
て、高分子を含む液晶を電界制御電極に電圧を印加しな
がらUV硬化する工程を含むことを特徴とする。
【0053】上記構成により、ソース配線(またはゲー
ト配線)とその両側に隣接する画素電極(または共通電
極)との間隔部の少なくとも一方に、液晶が垂直配向し
ている垂直配向領域を形成することが可能となる。
【0054】次いで、第2の発明群について説明する。
【0055】第2の発明群に関しては、本発明者は鋭意
検討を重ねた結果、上記ソース配線からの電界が表示部
の電界に及ぼす影響と、液晶素子の構成要素のパラメー
タである電極幅、電極間隔、基板間距離、ソース信号の
振幅値との間に相関関係があることを見い出した。
【0056】具体的に説明すると、以下の〜の相関
関係を見い出した。
【0057】ソース配線から発生する不要な電界の強
度は、ソース信号振幅に比例して強くなるため、この電
界を遮蔽する共通電極はソース信号振幅強度に比例して
電極幅を広げる必要がある。一般的にソース配線から発
生する電界の強度は、このソース信号振幅値に比例する
ものであるが、この電界を遮蔽する共通電極との間には
ln(自然対数を常数とするLogを意味する)に比例す
ることを見い出した。
【0058】また、電界強度は距離に反比例すること
から、液晶を駆動する画素電極と共通電極の電極間隔が
広がると、ソース配線からの電界の影響を受けにくくな
るので、共通電極幅を狭くできる。
【0059】基板間距離についても基板間距離が小さ
くなると、ソース配線からの電界の影響を受けにくくな
るので、共通電極幅を狭くすることができる。
【0060】ソース配線上に配置される電界遮蔽電極
については、ソース配線幅よりも狭いと、ソース配線か
らの電界を遮蔽するのに十分な効果が得られないため、
ソース配線以上の電極幅が必要となる。
【0061】このような、上記〜の相関関係に基づ
いて、本発明者は、以下の発明を完成するに至った。具
体的構成は以下の通りである。
【0062】請求項13記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けられたスイッチング素子、前記スイッチング素子
に接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記
ソース配線に沿って形成された共通電極が形成された構
造の液晶表示装置において、前記他方の基板上にソース
配線と重なる位置に電界遮蔽電極が設けられ、前記ソー
ス配線幅をWs、前記電界遮蔽電極幅をWbm、前記共通
電極幅をWcom、前記2枚の基板間距離をd、前記ソー
ス配線に供給される信号電圧振幅の最大値をVmax、前
記画素電極と共通電極の間隔をsとすると、Wbm≧Ws
且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15を満た
すことを特徴とする。
【0063】上記構成により、液晶素子の構成要素のパ
ラメータである電極間隔、基板間距離、ソース信号の振
幅の各値が、液晶表示装置の設計によって、実効的に有
効ないかなる値になったとしても、ソース配線から発生
する不要な電界を共通電極、及び電界遮蔽電極によって
十分遮蔽することができるので、クロストークのない液
晶表示装置を得ることができる。
【0064】請求項14記載の発明は、請求項13に記
載の液晶表示装置において、電界遮蔽電極が、共通電極
と画素電極とによって形成される表示領域に、はみ出さ
ないことを特徴とする。
【0065】上記構成によ、電界遮蔽電極の幅が大きく
なりすぎて、表示部へ影響を及ぼすのを抑制できる。
【0066】請求項15記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、前記ソース配線に印加される
映像信号の極性が1フレーム内で少なくとも複数回反転
し、前記他方の基板上にソース配線と重なる位置に電界
遮蔽電極が設けられ、前記ソース配線幅をWs前記電界
遮蔽電極幅をWbm、前記共通電極幅をWcom、前記2枚
の基板間距離をd、前記ソース配線に供給される信号電
圧振幅の最大値をVmax、前記画素電極と共通電極の間
隔をsとすると、Wbm≧Ws 且つ Wcom ≧ 5ln(Vm
ax)+5d−s−17を満たすことを特徴とする。
【0067】上記の如く、ソース配線に印加される映像
信号の極性が1フレーム内で少なくとも複数回反転する
ため、ソース配線から発生する電界強度が請求項13の
発明に比べて、実効的に小さくなる。従って、共通電極
幅Wcomを請求項13の発明く比べて、小さくでき、そ
の分開口率を向上できる。
【0068】請求項16記載の発明は、請求項13乃至
15の何れかに記載の液晶表示装置において、電界遮蔽
電極が導電性材料で形成されたブラックマトリクスであ
ることを特徴とする。
【0069】請求項17記載の発明は、請求項13乃至
15の何れかに記載の液晶表示装置において、電界遮蔽
電極がブラックマトリクス上に設けられ、電界遮蔽電極
の幅がブラックマトリクスの幅よりも幅狭く形成されて
いることを特徴とする。
【0070】上記構成により、ブラックマトリクスを樹
脂材料で形成でき、ブラックマトリクスの形成が容易と
なる。
【0071】請求項18記載の発明は、請求項13記載
の液晶表示装置において、電界遮蔽電極が共通電極と電
気的に接続されていることを特徴とする。
【0072】上記構成により、電界遮蔽電極の電位が安
定し、より電界遮蔽効果が得られる。
【0073】請求項19記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、前記他方の基板上で、前記ソ
ース配線及び前記共通電極の少なくとも一部と重なる位
置に電界遮蔽電極が設けられ、前記電界遮蔽電極と前記
共通電通電極が、導電性スペーサにより電気的に接続さ
れていることを特徴とする。
【0074】上記構成により、電界遮蔽電極と共通電通
電極を導通させるための特別な部材を別途設ける必要が
ない。
【0075】請求項20記載の発明は、請求項19記載
の液晶表示装置において、導電性スペーサが少なくとも
いずれかの基板上に形成された導電性を有する突起であ
ることを特徴とする。
【0076】上記構成により、スペーサを散布する工程
が省略できるとともに、電界遮蔽電極の電位が安定し、
より電界遮蔽効果が得られる。
【0077】請求項21記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し、前記
ソース配線に沿って形成された共通電極が形成された構
造の液晶表示装置において、前記他方の基板上には前記
共通電極に接する位置に突起が、前記ソース配線に重な
る位置に電界遮蔽電極が形成されており、前記電界遮蔽
電極の一部が前記と突起上に形成され、前記電界遮蔽電
極と前記共通電極とが電気的に接続されていることを特
徴とする。
【0078】請求項22記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、前記共通電極幅をWcom、前
記2枚の基板間距離をd、前記ソース配線に供給される
信号電圧振幅の最大値をVmax、前記画素電極と共通電
極の間隔をsとすると、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−12 を満たすことを特徴とする上記の如く、共通電極幅Wco
mを大きくすれば、電界遮蔽電極を設けなくとも、ソー
ス配線から発生する不要な電界を共通電極によって十分
遮蔽することができるので、クロストークのない液晶表
示装置を得ることができる。
【0079】請求項23記載の発明は、液晶層を挟持し
て対向する2枚の基板のうち、一方の基板の対向面側に
は、マトリックス状に配置されたソース配線及びゲート
配線、前記ソース配線とゲート配線の各交差点に対応し
て設けらたスイッチング素子、前記スイッチング素子に
接続された画素電極、及び前記画素電極と対向し前記ソ
ース配線に沿って形成された共通電極が形成された構造
の液晶表示装置において、前記ソース配線に印加される
映像信号の極性が1フレーム内で少なくとも複数回反転
し、前記共通電極幅をWcom、前記2枚の基板間距離を
d、前記ソース配線に供給される信号電圧振幅の最大値
をVmax、前記画素電極と共通電極の間隔をsとする
と、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15 を満たすことを特徴とする。
【0080】上記構成により、ソース配線から発生する
電界強度が請求項22の発明に比べて、実効的に小さく
なる。従って、共通電極幅Wcomを請求項22の発明く
比べて、小さくでき、その分開口率を向上できる。
【0081】
【発明の実施の形態】[第1の発明群]第1の発明群
は、ソース配線あるいはゲート配線近傍に位置する液晶
分子を基板に垂直方向に配向させることを特徴とするも
のである。そして、このような構成により、ソース配線
(またはゲート配線)と画素電極(または共通電極)の
間からの光モレを防止することができ、高コントラスト
で、且つ、高品質の表示特性を有する液晶表示装置が実
現される。
【0082】以下に、第1の発明群の具体的な構成及び
駆動方法として実施の形態1−1〜実施の形態1−8を
例示する。
【0083】(実施の形態1−1)図1は本発明の実施
の形態1−1における液晶表示装置の構成を示す平面
図、図2は図1のA−A'における断面図である。
【0084】図1及び図2において、1はアレイ基板で
あり、2は対向基板である。アレイ基板1及び対向基板
2は、例えば透明なガラス基板である。3は共通電極で
あり、共通配線13によって束ねられて同電位とされて
いる。5は画素電極であり、この画素電極5と共通電極
3との間に発生する横電界により液晶層9内の液晶分子
を基板1,2に平行な面内において回転動作させる。画
素電極5と共通電極3の幅は3〜10μm程度、その間
隙部(両者のエッジ間のスペース部)の幅は5〜20μ
m程度、液晶層の厚みは2〜10μm程度に設定されて
いる。
【0085】4はソース配線であり、映像信号が供給さ
れる。ソース配線4とこれに隣接する共通電極3の間は
2〜5μm程度に設定される。12は薄膜トランジスタ
(TFT)14をスイッチングさせるためのゲート配線
であり、このゲート配線12には走査信号が供給され
る。ソース配線4とゲート配線12は分枝部を有してお
り、半導体層15および画素電極5の先端部とともに薄
膜トランジスタ14を構成している。但し、薄膜トラン
ジスタは従来例(図14)と同様にゲート線上に形成す
ることもできる。
【0086】6は絶縁膜であり、薄膜トランジスタ14
におけるゲート絶縁膜として機能するとともに、ソース
配線4・画素電極5と、ゲート配線12・共通配線13
を分離している。7は電界制御電極であり、ソース配線
4とは逆側の対向基板2に形成されている。本実施形態
においては、電界制御電極7はITOなどの透明電極に
より形成されている。このように本実施の形態では、対
向基板2の内側面に、ソース配線4に対向して電界制御
電極7を設けるよにしたので、ソース配線4と電界制御
電極7間に生じる電界により、ソース配線4近傍の液晶
分子を垂直配向させることが可能となり、ソース配線4
と共通電極3間からの光モレを防止し、コントラスト向
上することが可能となる。なお、かかる電界制御電極7
の原理・作用・効果等については、後に詳細に説明する
ことにする。
【0087】8はカラー表示を行なうためのカラーフィ
ルターである。図示していないが、各基板1,2の最内
側表面には配向膜が形成され、液晶層9との界面におけ
る液晶分子の配向方向を規定している。液晶の配向方向
は画素電極の延びる方向と平行あるいはそこから数度傾
いた方向である。10と11は偏光板であり、両者の偏
光軸は互いにほぼ直交し、かつ、いずれか一方が液晶の
配向方向とほぼ平行になるように配置されている。
【0088】次いで、上記構成の液晶表示装置の動作を
説明する。ゲート配線12に選択電圧(15〜20ボル
ト程度)を印加すると薄膜トランジスタ14がオン状態
となる。このときソース配線4には表示に応じた正の信
号電圧(0〜7ボルト)が供給されており、この信号電
圧によって画素電極5が充電される。共通電極3の電位
は共通配線13を通じてゼロボルトとされている。この
結果、液晶層9には正の信号電圧が印加される。画素充
電の後、ゲート配線に非選択電圧(−10ボルト程度)
を印加すると薄膜トランジスタ14はオフ状態となり、
画素電位は保持される。
【0089】次のフレームでは、ソース配線4への信号
電圧を負の電圧(−7〜0ボルト)で供給し、上記と同
様にして液晶層9に負の信号電圧を充電する。この結
果、液晶が交流駆動される。
【0090】本実施形態の液晶表示装置のコントラスト
向上効果について以下説明する。
【0091】電界制御電極7に共通電極3と等しい電位
(ゼロボルト電位)を与えておくと、液晶表示装置の断
面における電界分布は図2に示すものになる。即ち、表
示に関わる画素中央部では水平方向の電界E1が支配的
であるのに対し、表示とは直接の関係がないソース配線
の周辺部ではほぼ垂直方向の電界E2が支配的になり、
従来構成で発生していた不要な水平電界成分E3が大幅
に減少する。この結果、ソース配線と共通配線の間隙部
16における液晶分子が基板面から立ち上がる。偏光板
10・11の偏光軸が直交しているので、この部分の表
示は黒状態となり、ソース配線4の電界による光モレが
なくなり、コントラストの高い表示を行なうことができ
る。
【0092】また従来の液晶表示装置では、上記間隙部
16は表示部分における共通電極3と画素電極5の間隙
部より狭いため液晶が十分に配向せず、これによる光モ
レが生じる場合があった。本実施形態の液晶表示装置で
は間隙部16に垂直電界を印加しているので、配向の良
否に関わらず間隙部16を黒状態にできる。この結果、
光モレがなくなりコントラストの高い表示を行なうこと
ができる。なお上記の説明では、画素電極3とソース配
線のいずれもが正電位である場合を示している。
【0093】本実施形態の液晶表示装置のもう一つの利
点は、開口率の低下をほとんど伴うことなく上記のコン
トラスト向上効果が得られることにある。以下これにつ
いて説明する。
【0094】まず、従来の液晶表示装置について説明す
ると、コントラストを高める技術としてはブラックマト
リクス(BM)で間隙部を遮光する構成が用いられてい
る。図3は従来例におけるブラックマトリクスの影響を
説明するための断面図である。図において、201と2
02は基板、203は共通電極、204はソース配線、
205は画素電極、206は絶縁層、209は液晶層、
210と211は偏光板である。基板202上には、カ
ラーフィルター208とBM217が形成されている。
BMはソース配線204と隣接する共通電極203の間
にある間隙部からの光モレを隠すためのものであるが、
その幅(WBM)は上下基板を貼合せる際の位置ずれマー
ジンなどを考慮して、ソース配線に隣接する共通電極の
表示領域側エッジ間の距離(L1)より両側にD1だけ広
く設定されている。従来の液晶表示装置ではこの部分
(D1)の光が利用できないため、開口率が低下して表
示が暗くなってしまう。
【0095】本実施形態における液晶表示装置ではブラ
ックマトリクスの代わりに透明電極よりなる電界制御電
極を用いて、ソース配線と隣接する共通電極の間の間隙
部を遮光している。この構成によれば以下の2つの理由
により開口率が向上する。
【0096】まず第1に、電界制御電極は垂直電界を得
るためのものであり、この間隙部の幅(L2)のすべて
を覆う必要はない。従って電界制御電極の幅(W)を図
3のBM幅(WBM)より狭くできる。
【0097】第2に、電界制御電極が位置ずれ等により
図の(L1)部分の外に出た場合でも、透明電極である
ため光が完全に遮光されず、明るさの低下はわずかであ
る。
【0098】電界制御電極の幅(W)は、広すぎると画
素領域に垂直電界が発生して液晶に十分な水平電界がか
からなくなり、また、狭すぎると垂直電界が得られる領
域が小さくなって電界制御効果が不十分となる。
【0099】本発明者等の実験結果によれば、 L2−Wcom ≦ W ≦L1 (1) さらに望ましくは、 L2 ≦ W ≦L1 (2) の範囲が望ましい結果を与えた。
【0100】なお、電界制御電極とブラックマトリクス
を併用すれば遮光効果を高めて、さらにコントラストの
高い表示を行なうことができる。この場合、従来例のよ
うにBMの幅(WBM)をL1より大きくする必要はない。
【0101】本実施形態における液晶表示装置は、例え
ば以下のようにして作製することができる。
【0102】まず、第1の基板1上にAl合金等からな
る第1の導電膜層をスパッタ法等で形成しパターニング
して、ゲート配線3、共通電極3、共通配線13を得
る。次いで絶縁膜6を形成した後、a−Si等からなる
半導体層15をCVD法などで形成する。さらに、Al
合金等からなる第2の導電膜層をスパッタ法等で形成し
パターニングして、ソース配線4、画素電極5を得る。
この後、スイッチング素子や電極を保護するために第2
の絶縁膜を形成してもよい。
【0103】一方、第2の基板2上には、RGBの3色
がドット状に配置されたカラーフィルター層8を形成
し、例えばITOなどの透明電極材料を用いて電界制御
電極7を形成する。
【0104】このように作製された2つの基板1・2に
配向膜を塗布し、所定の方向にラビングを行い、周辺部
をシール剤で接着した後、液晶9を注入し封止して液晶
パネルを得る。この後、液晶パネルの周辺に駆動回路を
接続して液晶表示装置を得る。
【0105】本実施形態の液晶表示装置によれば電界制
御電極の効果により、ソース配線と共通配線の間隙部の
液晶分子を基板面から立ち上らせて、この部分を黒状態
とすることができる。このため、ソース配線の電界によ
る光モレや、この間隙部分の配向が不十分であることに
よる光モレがなくなり、コントラストの高い表示を行な
うことができる。また、光モレを防ぐために表示エリア
の中までブラックマトリクスで遮光する必要がなくなる
ので開口率が向上し、明るい表示を行なうことができ
る。
【0106】本実施形態では、ソース配線に共通配線が
隣接するものとして説明を行なったが、ソース配線に画
素電極が隣接する場合にも電界制御電極をソース配線の
エッジ部に形成すれば、同様の原理でコントラストが高
く、高開口率で明るい表示を行なうことができる。
【0107】また、上記の説明では電界制御電極7はカ
ラーフィルター8の液晶層側に形成するものとしたが、
この順序は逆でも構わない。即ち、対向基板2の内側面
に電界制御電極7を形成し、この電界制御電極7を覆う
ようにカラーフィルター8を形成するようにしてもよ
く、このような構成の場合、カラーフィルターによる若
干の電圧ロスは発生するが、カラーフィルター上に電極
を形成しなくてすむため製造が容易になるという利点が
ある。
【0108】(実施の形態1−2)本実施形態は、上記
の実施の形態1−1で説明した液晶表示装置において、
電界制御電極を遮光性の金属で形成したものである。
【0109】図1と図2における電界制御電極7を透明
電極の代わりにクロム等の金属膜で形成すれば、電極の
遮光効果によりさらにコントラストが向上する。本実施
形態の場合、上下基板の貼合せ時の位置ずれにより電界
制御電極7が表示領域にはみ出した場合には、その分開
口率が低下するので、電界制御電極の幅Wは第1の実施
形態より狭く設定するのが望ましい。
【0110】本発明者等の実験結果によれば、 L2−Wcom≦ W ≦L1−Wcom (3) さらに望ましくは、 L2≦ W ≦L1−Wcom (4) の範囲が良好な結果を与えた。
【0111】なお、L1とL2の間には、 L1 = L2 + 2×Wcom (5) の関係があるので、上記の条件は、式(3)は L2−Wcom≦ W ≦L2+Wcom (6) 式(4)は L2 ≦ W ≦L2+Wcom (7) と書き改められる。
【0112】従って、本実施の形態1−2に係る液晶表
示装置においては、式(3)及び式(4)に代えて、式
(6)を満たすか、望ましくは式(7)を満たす場合で
あってもよい。
【0113】(実施の形態1−3)本実施形態は、上記
実施の形態1−1あるいは実施の形態1−2で説明した
液晶表示装置のコントラストや開口率向上をさらに高め
るための駆動方法に関するものである。
【0114】図4は、図2における各電極の駆動波形を
示したものである。図において、Vsは各画素に映像信
号を供給するソース配線の電位であり、画像情報により
種々の波高値をとっている。波高値の最大値は7ボルト
である。映像信号の極性は1H期間ごとに反転され、こ
の結果、画素電位の符号は図5に示すように1ライン毎
に反転されたもの(いわゆるライン反転駆動)となる。
【0115】Vgは走査信号を与えるゲート配線の電位
であり、当該ラインの選択期間には15ボルト、非選択
期間には−10ボルトとされている。Vcomは共通電極
の電位でありゼロボルトとされている。
【0116】Vfは電界制御電極の電位である。本実施
形態の駆動方法では、VfをVsとは逆の符号の電圧とし
ている。以下、その効果について説明する。
【0117】図2に示すように、ほぼ垂直方向の電界E
2は主としてソース配線4と電界制御電極7の間の電圧
(VsとVfの差)によって生じている。本実施形態の駆
動方法によれば、Vsが正の場合にはVfは負であり、V
sが負の場合にはVfは正である。従って、Vfをゼロボ
ルトとした場合に比べて、いずれの場合もVsとVfの電
位差が拡大されて、E2の電界強度が強くなる。この結
果、表示のコントラストが向上する。また、電界制御電
極の幅WがL2より狭い場合にも良好な特性を得ること
ができる。
【0118】さらに、図2に示すようにソース配線4に
隣接する電極が共通電極3である場合には、共通電極3
と電界制御電極7の間にもほぼ基板に垂直な電界が発生
するので、本実施形態の駆動方法はさらに高い効果を示
す。
【0119】なお、上記の説明では1Hごとに信号電圧
の極性を反転するライン反転駆動(図5)を行なうもの
としたが、全画面を同一極性で書込んで1フィールドご
とに極性を反転するフィールド反転駆動(図6)や、1
列ごとに逆極性の信号を供給するカラム反転駆動(図
7)、あるいは、1列ごと1Hごとに極性反転を行なう
ドット反転駆動にも本実施形態の駆動方法は適用され
る。いずれの場合にも、電界制御電極に供給する電圧を
それに対向するソース電極電圧と逆の極性にしておけば
よい。
【0120】(実施の形態1−4)図9は本発明の第4
の実施形態における液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。A−A'における断面は実施形態1−1と同じく
図2に示すものである。また、図1と同じ記号をつけた
部分は実施形態1−1と同様の動作を行なうものである
ので説明を省略する。
【0121】本実施形態の液晶表示装置は、電界制御電
極7がソース配線4のエッジ部と、ゲート配線12のエ
ッジ部の双方を覆うようにしたものである。実施形態1
−1で説明した主に垂直成分からなる電界がゲート配線
周辺にも発生するため、ゲート配線周辺部分からの光モ
レが抑えられてコントラストが向上する。
【0122】電界制御電極は、透明電極と金属のいずれ
で形成しても構わない。ゲート側にある電界制御電極の
線幅は、ゲート線を挟む画素電極あるいは共通電極のエ
ッジ間の間隔をL2として、 L2−Wcom ≦ W (8) さらに望ましくは、 L2 ≦ W (9) に設定すれば良好な表示特性を得ることができる。
【0123】電界制御電極に与える電位は、実施形態1
−1のように共通電極と同電位にしても構わないし、実
施形態1−3に示すようにソース配線と逆極性の電位に
してもよい。ゲート配線の電位は図4に示すように、ほ
とんどの期間が−10ボルトとなっているので、いずれ
の場合も正の側に1ボルト程度バイアス電圧を加える
と、ゲート配線と電界制御電極の間の電界が強くなっ
て、ゲート側の遮光効果が向上する。
【0124】なお、図7のカラム反転駆動や図8のドッ
ト反転駆動では、ソース配線の電位は列ごとに逆極性と
なっている。この場合、電界制御電極の電位をソース配
線と逆極性にするには列ごとに電界制御電極が分離され
ている必要がある。本実施形態の液晶表示装置を用いて
このような駆動を行なうためには、図10に示すように
ゲート配線を各列の間で分離しておけばよい。
【0125】(実施の形態1−5)図11は本発明の実
施の形態1−5における液晶表示装置の構成を示す平面
図である。図1と同じ記号をつけた部分は実施の形態1
−1と同様の動作を行なうものであるので説明を省略す
る。
【0126】実施の形態1−1(図1)との違いは、本
実施形態1−5の液晶表示装置は電界制御電極7をゲー
ト配線12のエッジ部分にのみ形成している点と、ソー
ス配線4の両側の共通電極3が結合されて一体化されて
いることにある。このような構成は、ソース配線側の光
モレがない場合に有効である。なぜなら、本実施形態1
−5の液晶表示装置では、ソース配線4とそれに隣接す
る共通電極3の間に間隙部がない。このためソース配線
側からの光モレがなく、ゲート配線側のみに電界制御電
極7を形成すればよいからである。
【0127】先にも説明したように、ゲート配線にはほ
とんどの時間−10ボルト程度の非選択電圧が印加され
ている。したがって、本実施形態1−5の電界制御電極
には、ゼロボルトあるいは若干の正の電圧を印加してお
くのが好ましい。
【0128】なお、図11では共通電極3がソース配線
4より下層にあるものとしているが、例えば第3の電極
層を形成して共通電極3をソース配線4より上層に形成
する構成にすれば、ソース配線からの電界が遮蔽される
ためソース側からの光モレをさらに低減することができ
る。
【0129】また、電界制御電極7をゲート配線12の
エッジ部分にのみ形成する構成は、ソース配線4とその
両側の共通電極3が重っている場合に限らず、例えばソ
ース配線4とその両側の共通電極3の間隙部に遮光層が
形成されている場合など、ソース配線側の光モレがない
場合に有効であることは言うまでもない。
【0130】(実施の形態1−6)図12は本発明の実
施の形態1−6における液晶表示装置の構成を示す平面
図である。図1と同じ記号をつけた部分は実施の形態1
−と同様の動作を行なうものであるので説明を省略す
る。
【0131】実施の形態1−1(図1)との違いは、本
実施形態1−6の液晶表示装置には電界制御電極7の代
わりに、ソース配線4とゲート配線12の周辺に液晶の
垂直配向領域21を設けている点にある。
【0132】このようにしておけば、ソース配線と共通
配線の間隙部、あるいはゲート配線周辺部における液晶
分子は基板面から立ち上がった状態にある。偏光板10
・11の偏光軸は直交配置されているので、この部分の
表示は黒状態となり、ソース配線4やゲート配線12の
電界による光モレがなくなり、コントラストの高い表示
を行なうことができる。
【0133】本実施形態1−6における液晶表示装置
は、例えば以下のようにして作製することができる。
【0134】まず、実施形態1−1と同様の手順により
薄膜トランジスタがマトリクス状に形成された第1の基
板を形成する。一方、第2の基板2上には、RGBの3
色がドット状に配置されたカラーフィルター層8を形成
しておく。
【0135】このように作製された2つの基板に第1の
配向膜を塗布し、所定の方向にラビングを行う。次い
で、垂直配向領域にのみ第2の配向膜(垂直配向膜)を
形成する。この工程は、例えば垂直配向膜を全面に塗布
した後フォトリソグラフィー技術によってパターニング
すればよい。この後、周辺部をシール剤で接着し、液晶
を注入・封止して液晶パネルを得る。液晶パネルの周辺
に駆動回路を接続して液晶表示装置を得る。
【0136】(実施の形態1−7)なお、本実施形態は
上記実施の形態1−6で説明した垂直配向領域を電界制
御電極と併用したものである。こうすれば両者の効果が
相乗し、コントラストが大幅に向上した液晶表示装置を
得ることができる。
【0137】以下、本実施形態の液晶表示装置の製造方
法を説明する。
【0138】まず、実施形態1−1と同様の手順により
薄膜トランジスタがマトリクス状に形成された第1の基
板を形成する。一方、第2の基板2上には、RGBの3
色がドット状に配置されたカラーフィルター層8を形成
しておく。
【0139】このように作製された2つの基板に配向膜
を塗布し、所定の方向にラビングを行う。この後、周辺
部をシール剤で接着して液晶の注入されていないパネル
(空パネル)を得る。空パネルは電界制御電極が形成さ
れたもので、例えば図9に平面図を示すものとなる。
【0140】この空パネルに、重量比0.01%から1
%のUV硬化性のポリマーを含んだ液晶を注入・封止す
る。この後、ゲート配線12・ソース配線4・共通配線
13のすべてを接地状態にして、電界制御電極7に10
ボルトから数十ボルトのAC電圧を印加しながらパネル
にUV光を照射してポリマーを硬化する。AC電圧によ
り電界制御電極7の下にある液晶分子は立ちあがった状
態にあり、これがUV硬化したポリマーによって固定さ
れ、電界制御電極7の下のみに垂直配向領域を形成する
ことができる。電界制御電極7が透明である場合には電
界制御電極7側から、そうでない場合には薄膜トランジ
スタ基板の側からUV照射するのが望ましい。このよう
にして得られた液晶パネルの周辺に駆動回路を接続して
液晶表示装置が作製される。
【0141】本実施形態1−7の製造方法によれば、配
向膜が1種類のみですみ、また微細な配向膜のパターニ
ングが不用になるという利点がある。また、垂直配向膜
を形成する際のアラインメントずれにより、垂直配向領
域が表示領域に入り込み開口率が低下することもない。
【0142】なお、UV光の照射時に各画素の表示領域
を覆うマスクを利用すれば、表示部分でポリマーが硬化
しないので、さらに良好な表示特性を得ることができ
る。
【0143】(実施の形態1−8)図13に本実施形態
の液晶表示装置の平面図を示す。各部の動作は実施形態
1−1と同様であるので図1と同じ記号をつて説明を省
略する。本実施形態1−8は、図1の構成において共通
電極の端部をつないで、櫛型を閉じた電極構造としたも
のである。このような構成においても実施の形態1−1
と同様に、高コントラストで開口率の高い液晶表示装置
を得ることができる。
【0144】なお、上記する実施の形態1−2〜実施の
形態1−6で開示したいずれの実施形態も、本実施形態
に示す閉じた櫛型電極と組み合わせることができる。
【0145】上記7つの実施形態で、電界制御電極はソ
ース配線やゲート配線を完全に覆うものとしたが、少な
くともエッジ部分を覆っていれば本発明の効果は十分に
得ることができる。例えば、ソース配線またはゲート配
線の中央部の電界制御電極をくりぬいた構成にすれば、
これらの配線の負荷容量を減少させて信号波形の歪みを
低減し、大画面表示における表示むらの発生を防止する
ことができる。
【0146】[第2の発明群]第2の発明群は、ソース
配線から発生する電界が表示領域内における表示特性に
影響を与えない程度まで十分に当該電界の遮蔽を行うよ
うに構成したことを特徴とするものである。そして、こ
のような構成により、クロストークの発生を防止するこ
とができ、高品質の表示特性を有する液晶表示装置が実
現される。
【0147】以下に、第2の発明群の具体的な構成とし
て実施の形態2−1〜実施の形態2−4を例示する。
【0148】(実施の形態2−1)図14は本発明の実
施の形態2−1における液晶表示装置の1画素の構成を
表す図、図15は図14におけるB−B'断面図、図1
6は図14におけるA−A'断面図であり、ソース配線
とその近傍の表示部における電界の様子を模式的に表す
である。なお、図29及び図30に示す従来例と同一の
部分には同一の参照符号を付して詳細な説明は省略す
る。
【0149】図14において51はゲート駆動回路から
の走査信号を供給するゲート配線、52a,52bはソ
ース駆動回路からの映像信号を供給するソース配線であ
る。なお、説明の便宜上、図14の右側に位置するソー
ス配線を参照符号52aで示し、図14の左側に位置す
るソース配線を参照符号52bで示し、また、ソース配
線を総称するときは参照符号52で示すことにする。こ
のソース配線52とゲート配線51との交差部付近に
は、半導体層で構成されるスイッチング素子としてのT
FT55が形成されている。53はTFT55を介して
ソース配線52と接続された画素電極、54は基準電位
となる共通電極である。この共通電極54は、各画素毎
に、共通配線54cによって電気的に接続されている。
そして、これらゲート配線51、ソース配線52、TF
T55、画素電極53及び共通電極54等は、アレイ基
板60上に形成されている。
【0150】また、80は対向基板61に形成された電
界遮蔽電極であり、ソース配線52から発生する電界が
表示部に影響を及ぼさないように当該電界を遮蔽する働
きをなす。本実施の形態では、電界遮蔽電極80は不透
明電極であり、ブラックマトリクス(BM)を兼用して
いる。従って、本実施の形態における電界遮蔽電極80
は、図29及び図30に示す従来例の導電性遮光膜58
に相当するものである。この電界遮蔽電極80は、前記
ゲート配線51(あるいはソース配線52)と画素電極
53(あるいは共通電極54)との間隙部を少なくとも
覆うように配置されている。
【0151】また、59はカラーフィルタで、前記電界
遮蔽電極80間の開口部に形成され、各画素毎に赤色、
緑色、青色のいずれかの色層を有しており、液晶表示装
置全体ではこの3色を繰り返す配置となっている。上記
のように構成されたアレイ基板60と対向基板61が、
基板上に散布されたビーズ(図示せず)によって一定の
ギャップを保ちながら液晶57を介して対向し、周囲を
シール剤等によって封止され液晶パネルを構成してい
る。
【0152】上述のように構成された液晶パネルのソー
ス配線端にソース信号駆動回路が接続され、ゲート配線
端にはゲート駆動回路が接続され、各々の駆動回路上に
あるICなどの駆動回路素子にはコントローラからコン
トロール信号や電源がフラットケーブルなどを介して給
電されている。なお、ソース信号駆動回路からのソース
信号は1フレーム毎に極性が反転する信号であり、これ
により、カラム反転駆動が行われる。
【0153】ここで、注目すべきは、共通電極54の幅
Wcom及び電界遮蔽電極80の幅Wbmが以下の式を満た
すように構成されていることである。
【0154】 Wbm ≧ Ws … (10) 且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15 … (11) 上式において、Wsはソース配線幅、Wbmは電界遮蔽電
極幅、Wcomは共通電極の幅、dは2枚の基板60,6
1間の距離、Vmaxはソース配線に供給される信号電圧
振幅の最大値、sは画素電極53と共通電極54の間隔
を示す。
【0155】このように共通電極54の幅Wcom及び電
界遮蔽電極80を上記の式(10),(11)を満たす
ように構成することにより、ソース配線52から発生す
る電界を十分遮蔽することができ、クロストークのない
高品質の表示特性を有する液晶表示装置が実現される。
【0156】なお、共通電極54の幅Wcom及び電界遮
蔽電極80を上記の式(10),(11)を満たすよう
に構成した場合に、上記のクロストークのない高品質の
表示特性が得られる理由については、後に詳細に説明す
ることにする。
【0157】本実施形態における液晶表示装置は、例え
ば以下のようにして作製することができる。
【0158】まず、アレイ基板となるガラス上に、アル
ミニウム(Al)を主成分とする第1の導電層をスパッ
タ法等で成膜した後、フォトリソグラフ法で同一平面状
にパターン形成して、ゲート配線51、共通電極54、
共通配線54cを得る。次いでCVD法等により窒化珪
素(SiNx)等の絶縁層56を堆積させた後、a−S
i等からなる半導体層をCVD法などで形成する。さら
に、第1の導電層と同様な工程にて第2の導電膜層を形
成、パターニングして、ソース配線52、画素電極5
3、及びTFT55を得る。この後、TFTや電極を保
護するために第2の絶縁膜を形成してもよい。また、導
電層として使用する材料は配線抵抗の低い金属が望まし
いが、とくにアルミニウム系金属に限定するものではな
く、また、単層膜でも多層膜であってもよい。
【0159】一方、対向基板61となるガラス基板上に
は、金属Crをスパッタ等により成膜後、フォトリソグ
ラフ法で同一平面状にパターン形成して導電性のブラッ
クマトリクス(電界遮蔽電極80に相当)を得る。次
に、RGBの3色を各々の色素を有する樹脂を順にパタ
ーン形成し、ドット状に配置されたカラーフィルター層
59を得る。この後、Cr等による液晶層への汚染を防
ぐためアクリル等の樹脂により対向基板61全体にオー
バーコート層の形成を行っても良い。
【0160】このように作製された2つの基板60,6
1に配向膜を塗布し、所定の方向にラビングを行い、基
板60,61間に樹脂スペーサを挟んだ状態で周辺部を
シール剤で接着した後、液晶57を注入し封止して液晶
パネルを得る。この後、液晶パネルの周辺に駆動回路を
接続して液晶表示装置を得る。
【0161】この液晶表示装置の動作は以下のようなも
のである。
【0162】まず、コントローラからの信号により、ゲ
ート駆動回路からは順次、走査信号が各ゲート配線51
へ供給され、ソース駆動回路からは映像信号が各ソース
配線52へ供給される。次に、ゲート配線51を介して
供給された走査信号によって、ゲート配線に接続された
TFT55が選択的にスイッチングされ、TFT55の
オン期間にソース配線52を通して供給される映像信号
がTFTを介して、画素電極53へと供給される。この
画素電極53へ供給された電位と、基準電位となる共通
電極54の電位との間で電界を発生させ、電極間に配向
させた液晶57の動きを制御している。液晶パネルのア
レイ基板側には冷陰極管からなるバックライトが配置さ
れており、このバックライトからの光を前述のように液
晶を制御することによって階調表示を行う。
【0163】次に、本発明の主たる特徴である電界遮蔽
の原理について説明する。本実施の形態では、上記した
ように、ソース配線幅をWs、電界遮蔽電極幅をWbm、
共通電極の幅をWcom、前記2枚の基板間距離をd、前
記ソース配線に供給される信号電圧振幅の最大値をVma
x、前記画素電極と共通電極の間隔をsとすると、 Wbm ≧ Ws … (10) 且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15 … (11) を満たすように構成されている。
【0164】このように構成すると、ソース配線52か
らの電界を十分に遮蔽できる理由を以下に詳述する。
【0165】本発明者は鋭意検討を重ねた結果、上記ソ
ース配線からの電界が表示部の電界に及ぼす影響と、液
晶素子の構成要素のパラメータである電極幅、電極間
隔、基板間距離、ソース信号の振幅値との間に相関関係
があることを見い出した。
【0166】具体的に説明すると、以下のとおりであ
る。
【0167】ソース配線からの電界に関する共通電極
幅Wcomとソース信号の振幅値との関係 ソース配線から発生する不要な電界の強度は、ソース信
号振幅に比例して強くなるため、この電界を遮蔽する共
通電極はソース信号振幅強度に比例して電極幅を広げる
必要がある。一般的にソース配線から発生する電界の強
度は、このソース信号振幅値に比例するものであるが、
この電界を遮蔽する共通電極との間にはln(自然対数
を常数とするLogを意味する)に比例することを見い出
した。
【0168】よって、ソース配線から発生する電界を遮
蔽するためには、ソース信号振幅の最大値Vmaxを考慮
して、共通電極幅Wcomが少なくとも、k1・ln(Vma
x)より大きくすることが必要であると考えられる(但
し、k1は定数)。
【0169】ソース配線からの電界に関する共通電極
幅Wcomと電極間隔sとの関係 電界強度は距離に反比例することから、液晶を駆動する
画素電極と共通電極の電極間隔sが広がると、ソース配
線からの電界の影響を受けにくくなるので、共通電極幅
Wcomを狭くできる。従って、共通電極幅Wcomを決定す
る際、k2・sをパラメータとして考慮する必要がある
(但し、k2は定数)。
【0170】ソース配線からの電界に関する共通電極
幅Wcomと基板間距離dとの関係 基板間距離dについても基板間距離dが小さくなると、
ソース配線からの電界の影響を受けにくくなるので、共
通電極幅を狭くすることができる。従って、共通電極幅
Wcomを決定する際、k3・dをパラメータとして考慮
する必要がある(但し、k3は定数)。
【0171】ソース配線からの電界に関する電界遮蔽
電極幅Wbmとソース配線幅 Wsとの関係 ソース配線上に配置される電界遮蔽電極については、ソ
ース配線幅よりも狭いと、ソース配線からの電界を遮蔽
するのに十分な効果が得られないため、ソース配線以上
の電極幅が必要となる。
【0172】上記〜の相関関係より、ソース配線か
らの不要な電界を有効に遮蔽するための液晶表示装置の
構成としては、上記〜の相関関係から導かれるWco
m ≧k1・ln(Vmax)+k2・d−k3・s−k4の条
件式(但し、k3は定数)と、上記の相関関係から導
かれるWbm ≧ Wsの条件式の2つの条件式を満たすこ
とが必要であることが推論される。
【0173】そして、上記推論に基づき本発明者等の実
験等により、上記の定数k1,k2,k3,k4の最適
値を求め、Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15の条
件式を見出したのである。
【0174】なお、本発明者等の実験結果によれば、望
ましくは、Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−12の条
件式を満たした方がよく、このような条件式であれば、
更に電界遮蔽の効果が向上し、クロストークが殆ど認識
できないレベルの表示が可能となる。
【0175】本実施の形態に係る液晶表示装置において
は、ソース配線幅を6μm、電界遮蔽電極幅を16μ
m、基板間距離が4μm、ソース配線52に供給される
信号電圧振幅の最大値が14v、画素電極53と共通電
極54の間隔が10μmであり、前述の条件式を満たす
ように共通電極54の幅を9μmとされている。尚、こ
のときの共通電極54の電位はソース信号の中間値であ
る7V、画素電極53にはグレイ色表示のための10
V、及び4Vが交互に印加されている。この構成によ
り、図16に示すとおり、共通電極54が十分に幅広く
形成されているため、ソース配線52から発生する電界
を十分遮蔽することができ、クロストークの発生を抑え
た良好な透過率分布が得られた。
【0176】上記の例では電界遮蔽電極がブラックマト
リクスを兼用していたが、図17に示すようにブラック
マトリクス58上に別途電界遮蔽電極80aを形成する
構成としてもよい。この場合ブラックマトリクス58の
形成材料として、導電性を必要としないため、樹脂材料
を用いることができるようになり、例えばスピンコート
等の塗布法にて簡易にブラックマトリクス58を形成で
きるようになる。また、電界遮蔽電極80aにより、表
示部Mに対する電界の影響を抑制し、ブラックマトリク
ス58により斜め視野方向に対する遮光を充分に行うこ
とができるようになる。
【0177】また、更に他の変形例としては、電界遮蔽
電極80(80a)と共通配線54cとを電気的に接続
するようにしてもよく、このようにすれば、電界遮蔽電
極80(80a)の電位が安定し、より電界遮蔽効果が
得られるようになる。
【0178】また、ソース配線52bと共通電極54と
の間隔をLとすると、上記条件式(10),(11)に
加えて、条件式Wbm ≦ Ws+2L+2Wcomも同時に満
たすことにより、電界遮蔽電極が必要以上に拡大せず、
開口率の低下を抑制できる。
【0179】次いで、本発明者等は、ソース配線からの
電界に関し、電極幅、電極間隔、基板間距離、ソース信
号の振幅値との間に上記した相関関係があること、及び
その相関関係から導かれるWcom ≧ 5ln(Vmax)+5d
−s−15の有効性について、以下の実験を行った。
【0180】(実験例1)共通電極幅を7μmとした以
外は上記の実施の形態2−1と同様な構成の液晶表示装
置を作製し、ソース配線2に供給するソース信号振幅の
最大値Vmaxが14v、8v、5vで印加した。このと
きの電界と透過率分布の様子をそれぞれ図18(a)〜
(c)に示す。
【0181】ソース信号振幅の最大値Vmaxが8v、5
vの場合はWcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15を満
足し、ソース配線からの電界の影響を受けていない場合
の表示部の透過率分布に対し、プラス10%以内に抑え
られた。
【0182】これに対し、14vの場合は上式を満たさ
ないため、30%以上透過率分布が高くなり、クロスト
ークが確認された。
【0183】よって、ソース信号振幅の最大値Vmaxが
ソース配線からの電界に影響を与えることが認められ、
Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15を充足すればク
ロストークを防止できることが立証できた。
【0184】尚、5vの場合は、Wcom ≧ 5ln(Vmax)
+5d−s−12を満たしており、透過率分布の上昇は
5%以内に抑えられ、クロストークはほとんど認識でき
ないレベルであった。よって、好ましくは、Wcom ≧
5ln(Vmax)+5d−s−12を満たすことが必要であ
ることが立証された。
【0185】(実験例2)共通電極と画素電極との電極
間隔sを15μm、共通電極幅Wcomを7μmとした以
外は上記実施の形態2−1と同様な構成の液晶表示装置
を作製し、ソース配線2に供給するソース信号振幅の最
大値Vmaxが15vで印加した。このときの電界と透過
率分布の様子を図19に示す。
【0186】この場合は電極間隔sが拡がっているた
め、実施の形態2−1で用いたWcom≧ 5ln(Vmax)+
5d−s−15から共通電極幅を4μm以上とすればよ
く、共通電極幅を7μmにしているので、透過率分布の
上昇を抑え、クロストークの発生を抑制できた。
【0187】よって、ソース配線からの電界を有効に遮
蔽するには、電極間隔sを小さくすれば、共通電極幅W
comを狭くすることが認められ、Wcom ≧ 5ln(Vmax)
+5d−s−15を充足すればクロストークを防止でき
ることが立証できた。
【0188】(実験例3)アレイ基板と対向基板との基
板間隔dを3.5μm、あるいは3μm、共通電極幅W
comを7μmとした以外は実施の形態2−1と同様な構
成の液晶表示装置を作製し、ソース配線2に供給するソ
ース信号振幅の最大値Vmaxを1.5vで印加した。こ
のときの電界と透過率分布の様子を図20(a),
(b)に示す。図20(a)は基板間隔dを3.5μm
とした場合を示し、図20(b)は基板間隔dを3μm
とした場合を示している。この実験例3では基板間隔d
が狭くなっているため、実施の形態2−1で用いたWco
m ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15から共通電極幅を6
μm以上とすればよく、共通電極幅を7μmにしている
ので、透過率分布の上昇を抑え、クロストークの発生を
抑制できた。
【0189】よって、ソース配線からの電界を有効に遮
蔽するには、基板間隔dを狭くすれば、共通電極幅Wco
mを狭くすることが認められ、Wcom ≧ 5ln(Vmax)+
5d−s−15を充足すればクロストークを防止できる
ことが立証できた。
【0190】(実施の形態2−2)実施の形態2−1に
おける液晶表示装置を用い、ソース駆動回路から供給さ
れる映像信号をゲート駆動回路から供給される走査信号
の1走査期間毎に極性を反転させたドット反転駆動を行
い、しかも、 Wbm ≧ Ws …(10) 且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−17(12) を満たすように共通電極4の幅を7μmとし、実施の形
態2−1と同様に動作させた。なお、ソース駆動回路か
ら供給される映像信号は、図4(a)に示すような最大
振幅が−7Vから+7Vの信号波形を有する信号であ
る。
【0191】上記構成によれば、1走査期間毎にソース
配線の極性が反転するため、ソース配線から発生する電
界強度が、実施の形態2−1と比較して実効的に小さく
なるため、上記条件式(11)よりも共通電極幅を小さ
くでき(条件式(12)を満足することになる)、その
分開口率を向上し、明るい液晶表示装置を実現できる。
【0192】(実施の形態2−3)図21は本発明の実
施の形態2−3における液晶表示装置を構成する一画素
の断面を表す図であり、実施の形態2−1における図1
5に示す断面とほぼ同じ付近を示している。
【0193】本実施の形態が実施の形態2−1と異なっ
ているのは、アレイ基板60と対向基板61の基板間距
離dを形成するためのスペーサ62aが導電性を有して
おり、更にこの導電性スペーサ62aがブラックマトリ
クスを兼用する電界遮蔽電極80と共通電極54の双方
に接触し、この導電性スペーサ62aにより電界遮蔽電
極80と共通電極54が電気的に導通している点であ
る。
【0194】上記構成により、電界遮蔽電極80と共通
電極54を電気的に接続する配線や工程が省略でき、ま
た通常はスペーサは1画素に1個以上の割合で散布され
るので、電界遮蔽電極80と共通電極54の電位が液晶
パネル全面で均一となり、より安定した電界遮蔽効果が
得られる。
【0195】(実施の形態2−4)図22は本発明の実
施の形態2−4における液晶表示装置を構成する一画素
の断面を表す図であり、実施の形態2−3の図21に示
す断面とほぼ同じ付近を示している。
【0196】本実施の形態が実施の形態2−3と異なっ
ているのは、アレイ基板60と対向基板61の基板間距
離dを形成するためのスペーサ62bが対向基板61の
電界遮蔽電極80上に突起として一体的に形成され、且
つこの突起が導電性を有しており、この導電性スペーサ
62bが共通電極54に接触し、この導電性スペーサ6
2bにより電界遮蔽電極80と共通電極54が電気的に
導通している点である。
【0197】上記構成により、スペーサを散布する工程
が省略でき、更にスペーサの位置が固定できるので、共
通電極54と確実に接触させることができ、電界遮蔽電
極80と共通電極54の電位が液晶パネル全面で更に均
一となり、より安定した電界遮蔽効果が得られる。
【0198】尚、図23に示すように、電界遮蔽電極8
1aをブラックマトリクス58とは別の構成とし、且つ
この電界遮蔽電極81aを突起スペーサ62b及びブラ
ックマトリクス58を覆うように形成してもよい。
【0199】(実施の形態2−5)図24は本発明の実
施の形態2−5における液晶表示装置を構成する一画素
の断面を表す図であり、実施の形態2−1における図1
5の断面とほぼ同じ付近を示している。
【0200】本実施の形態が実施の形態2−1と異なっ
ているのは、対向基板61上に電界遮蔽電極を設けてい
ない点と、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−12 …(13) を満たすように共通電極54の幅が10μmとなってい
る点である。
【0201】上記構成によれば、ブラックマトリクス5
8の形成材料として、導電性を必要としないため、樹脂
材料を用いることができるようになり、例えばスピンコ
ート等の塗布法にて簡易にブラックマトリクスを形成で
きるようになる。また別途電界遮蔽電極を形成しなくて
もよいため、工程を簡略化できる。
【0202】またこの構成により、図25に示すとお
り、対向基板61上に電界遮蔽電極が形成されていない
場合でも、共通電極54が十分に幅広く形成されている
ため、ソース配線52から発生する電界を十分遮蔽する
ことができ、クロストークの発生を抑えた良好な透過率
分布が得られる。
【0203】(実施の形態2−6)実施の形態2−5に
おける液晶表示装置を用い、ソース駆動回路から供給さ
れる映像信号をゲート駆動回路から供給される走査信号
の1走査期間毎に極性を反転させ、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15…(14) を満たすように共通電極54の幅を7μmとし、実施の
形態2−5と同様に動作させた。
【0204】上記構成によれば、1走査期間毎にソース
配線の極性が反転するため、ソース配線から発生する電
界強度が、実施の形態2−1と比較して実効的に小さく
なるため、上記条件式(13)よりも共通電極幅を小さ
くでき(条件式(14)を満足することになる)、その
分、開口率を向上し明るい液晶表示装置を実現できる。
【0205】
【発明の効果】以上のように本発明の構成によれば、以
下の効果を奏する。
【0206】(1)ソース配線あるいはゲート配線付近
の液晶に基板に垂直な電界が印加され液晶分子が基板垂
直方向に向くため、光モレが防止されてコントラストが
向上する。
【0207】(2)ソース配線あるいはゲート配線付近
の液晶を垂直配向処理しているので、光モレが防止され
てコントラストが向上する。
【0208】(3)ソース配線あるいはゲート配線付近
の光モレを防止するためのブラックマトリクスが不要に
なる、あるいはその幅を狭くできるため、開口率が上昇
して明るい表示を行なうことができる。
【0209】(4)電界制御電極を用いて垂直配向領域
を設けているので、簡単なプロセスで高い位置精度の垂
直配向領域を形成できる。
【0210】(5)上記(1)〜(4)より、広視野
角、高コントラスト、高輝度の液晶表示装置を、低コス
トプロセスで作製することができるので産業上の価値は
極めて大である。
【0211】(6)液晶表示素子の構成要素のパラメー
タがいかなる場合でも、ソース配線からの不要な電界を
抑制し、クロストークの発生のない表示品質の高い液晶
表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1−1に係る液晶表示装置
の構成を示す平面図である。
【図2】本発明の実施の形態1−1に係る液晶表示装置
の構成を示す断面図である。
【図3】本発明の実施の形態1−2に係る液晶表示装置
の構成を示す断面図である。
【図4】本発明の実施の形態1−3に係る液晶表示装置
の駆動波形を示す電圧波形図である。
【図5】本発明の実施の形態1−3に係る液晶表示装置
の画素電圧極性を示す平面図である。
【図6】本発明の実施の形態1−3に係る液晶表示装置
の画素電圧極性を示す平面図である。
【図7】本発明の実施の形態1−3に係る液晶表示装置
の画素電圧極性を示す平面図である。
【図8】本発明の実施の形態1−3に係る液晶表示装置
の画素電圧極性を示す平面図である。
【図9】本発明の実施の形態1−4に係る液晶表示装置
の構成を示す平面図である。
【図10】本発明の実施の形態1−4に係る液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
【図11】本発明の実施の形態1−5に係る液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
【図12】本発明の実施の形態1−6に係る液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
【図13】本発明の実施の形態1−7に係る液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
【図14】実施の形態2−1における液晶表示装置の1
画素の構成を表す図である。
【図15】実施の形態2−1の液晶表示装置の図14に
おけるA−A'断面図である。
【図16】実施の形態2−1の液晶表示装置のソース配
線とその近傍の表示部における電界の様子を模式的に表
す図である。
【図17】実施の形態2−1の液晶表示装置における変
形例の構成する1画素の断面図である。
【図18】実験例1におけるソース配線とその近傍の表
示部における電界の様子を模式的に表す図である。
【図19】実験例2におけるソース配線とその近傍の表
示部における電界の様子を模式的に表す図である。
【図20】実験例3におけるソース配線とその近傍の表
示部における電界の様子を模式的に表す図である。
【図21】実施の形態2−3の液晶表示装置を構成する
1画素の断面図である。
【図22】実施の形態2−4の液晶表示装置を構成する
1画素の断面図である。
【図23】実施の形態2−4の液晶表示装置における変
形例の構成する1画素の断面図である。
【図24】実施の形態2−5の液晶表示装置を構成する
1画素の断面図である。
【図25】実施の形態2−5の液晶表示装置のソース配
線とその近傍の表示部における電界の様子を模式的に表
す図である。
【図26】従来の液晶表示装置の構成を示す平面図であ
る。
【図27】従来の液晶表示装置の構成を示す断面図であ
る。
【図28】従来の液晶表示装置の構成を示すもので、そ
のうち図28(A)は断面図、図28(B)は図28
(A)に示すブラックマトリクスの平面図、図28
(C)は要部の断面図である。
【図29】従来の液晶表示装置を構成する1画素を表す
平面図である。
【図30】従来の液晶表示装置を構成する図29におけ
るA−A'断面図である。
【図31】従来の液晶表示装置のソース配線とその近傍
の表示部における電界の様子を模式的に表す図である。
【符号の説明】
1,2,60,61 :基板 3,54 :共通電極 4,52 :ソース配線 5,53 :画素電極 6,56 :絶縁膜 7 :電界制御電極 8,59 :カラーフィルター 9 :液晶層 10,11 :偏光板 12, :ゲート配線 13 :共通配線 14 :薄膜トランジスタ 15 :半導体層 16 :間隙部 21 :垂直配向領域 58 :ブラックマトリクス 62a,62b :スペーサ 80,80a :電界遮蔽電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深海 徹夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山北 裕文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 一生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 塩田 昭教 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板の
    うち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に配
    置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線と
    ゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチング
    素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、及
    び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成さ
    れた共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記一対の基板のうち他方の基板上には電界制御電極が
    設けられており、前記電界制御電極は前記ソース配線の
    エッジ部を覆うように配置されていることを特徴とする
    液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記電界制御電極が透明物質よりなる請
    求項1記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記電界制御電極の幅Wが、対応するソ
    ース配線の両側に隣接する画素電極または共通電極の遠
    い方のエッジ間隔をL1、近い方のエッジ間隔をL2、前
    記画素電極または共通電極の幅をWcomとした場合、 L2−Wcom≦ W ≦L1 の範囲にある請求項2記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 前記電界制御電極が不透明物質よりなる
    請求項1記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記電界制御電極の幅Wが、対応するソ
    ース配線の両側に隣接する画素電極または共通電極の遠
    い方のエッジ間隔をL1、近い方のエッジ間隔をL2、前
    記画素電極または共通電極の幅をWcomとした場合、 L2−Wcom≦ W ≦L2+Wcom の範囲にある請求項4記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板の
    うち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に配
    置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線と
    ゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチング
    素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、及
    び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成さ
    れた共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記一対の基板のうち他方の基板上には電界制御電極が
    設けられており、前記電界制御電極は前記ゲート配線の
    エッジ部を覆うように配置されていることを特徴とする
    液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 前記電界制御電極が前記ソース配線の近
    傍をも覆っていることを特徴とする請求項6記載の液晶
    表示装置。
  8. 【請求項8】 前記液晶層の誘電異方性が正である請求
    項1乃至7の何れかに記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項9】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板の
    うち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に配
    置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線と
    ゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチング
    素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、及
    び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成さ
    れた共通電極が形成され、前記一対の基板のうち他方の
    基板上にはソース配線とほぼ重なり合うような電界制御
    電極が設けられた構造の液晶表示装置の駆動方法であっ
    て、 前記ソース配線に印加される電圧と逆極性の電圧を、前
    記電界制御電極に印加することを特徴とする液晶表示装
    置の駆動方法。
  10. 【請求項10】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶層は、前記ソース配線とその両側に隣接する画
    素電極または共通電極との間隔部、あるいは前記ゲート
    配線とその両側に隣接する画素電極または共通電極との
    間隔部の少なくとも一方で予め液晶が垂直配向している
    垂直配向領域が形成されていることを特徴とする液晶表
    示装置。
  11. 【請求項11】 前記ソース配線あるいは前記ゲート配
    線の少なくとも一方のエッジ部を覆うように配置された
    電界制御電極をもつことを特徴とする請求項10記載の
    液晶表示装置。
  12. 【請求項12】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成され、前記液晶層は少なくとも前
    記ソース配線とその両側に隣接する画素電極または共通
    電極との間隔部で垂直配向され、前記ソース配線あるい
    は前記ゲート配線の少なくとも一方のエッジ部を覆うよ
    うに前記他方の基板上に形成された電界制御電極を備え
    た液晶表示装置の製造方法において、 高分子を含む液晶を電界制御電極に電圧を印加しながら
    UV硬化する工程を含む液晶表示装置の製造方法。
  13. 【請求項13】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けられたスイッチ
    ング素子、前記スイッチング素子に接続された画素電
    極、及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って
    形成された共通電極が形成された構造の液晶表示装置に
    おいて、 前記他方の基板上にソース配線と重なる位置に電界遮蔽
    電極が設けられ、前記ソース配線幅をWs、前記電界遮
    蔽電極幅をWbm、前記共通電極幅をWcom、前記2枚の
    基板間距離をd、前記ソース配線に供給される信号電圧
    振幅の最大値をVmax、前記画素電極と共通電極の間隔
    をsとすると、 Wbm≧Ws 且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−
    15 を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
  14. 【請求項14】 電界遮蔽電極が、共通電極と画素電極
    とによって形成される表示領域に、はみ出さないことを
    特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
  15. 【請求項15】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記ソース配線に印加される映像信号の極性が1フレー
    ム内で少なくとも複数回反転し、前記他方の基板上にソ
    ース配線と重なる位置に電界遮蔽電極が設けられ、前記
    ソース配線幅をWs前記電界遮蔽電極幅をWbm、前記共
    通電極幅をWcom、前記2枚の基板間距離をd、前記ソ
    ース配線に供給される信号電圧振幅の最大値をVmax、
    前記画素電極と共通電極の間隔をsとすると、 Wbm≧Ws 且つ Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−
    17 を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
  16. 【請求項16】 電界遮蔽電極が導電性材料で形成され
    たブラックマトリクスであることを特徴とする請求項1
    3乃至15の何れかに記載の液晶表示装置。
  17. 【請求項17】 電界遮蔽電極がブラックマトリクス上
    に設けられ、電界遮蔽電極の幅がブラックマトリクスの
    幅よりも幅狭く形成されていることを特徴とする請求項
    13乃至15の何れかに記載の液晶表示装置。
  18. 【請求項18】 電界遮蔽電極が共通電極と電気的に接
    続されていることを特徴とする請求項13乃至17の何
    れかに記載の液晶表示装置。
  19. 【請求項19】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記他方の基板上で、前記ソース配線及び前記共通電極
    の少なくとも一部と重なる位置に電界遮蔽電極が設けら
    れ、前記電界遮蔽電極と前記共通電通電極が、導電性ス
    ペーサにより電気的に接続されていることを特徴とする
    液晶表示装置。
  20. 【請求項20】 導電性スペーサが少なくともいずれか
    の基板上に形成された導電性を有する突起であることを
    特徴とする請求項19記載の液晶表示装置。
  21. 【請求項21】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し、前記ソース配線に沿って形
    成された共通電極が形成された構造の液晶表示装置にお
    いて、 前記他方の基板上には前記共通電極に接する位置に突起
    が、前記ソース配線に重なる位置に電界遮蔽電極が形成
    されており、前記電界遮蔽電極の一部が前記と突起上に
    形成され、前記電界遮蔽電極と前記共通電極とが電気的
    に接続されていることを特徴とする液晶表示装置。
  22. 【請求項22】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記共通電極幅をWcom、前記2枚の基板間距離をd、
    前記ソース配線に供給される信号電圧振幅の最大値をV
    max、前記画素電極と共通電極の間隔をsとすると、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−12 を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
  23. 【請求項23】 液晶層を挟持して対向する2枚の基板
    のうち、一方の基板の対向面側には、マトリックス状に
    配置されたソース配線及びゲート配線、前記ソース配線
    とゲート配線の各交差点に対応して設けらたスイッチン
    グ素子、前記スイッチング素子に接続された画素電極、
    及び前記画素電極と対向し前記ソース配線に沿って形成
    された共通電極が形成された構造の液晶表示装置におい
    て、 前記ソース配線に印加される映像信号の極性が1フレー
    ム内で少なくとも複数回反転し、前記共通電極幅をWco
    m、前記2枚の基板間距離をd、前記ソース配線に供給
    される信号電圧振幅の最大値をVmax、前記画素電極と
    共通電極の間隔をsとすると、 Wcom ≧ 5ln(Vmax)+5d−s−15 を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
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