JP2001089743A - シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法 - Google Patents
シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法Info
- Publication number
- JP2001089743A JP2001089743A JP27017799A JP27017799A JP2001089743A JP 2001089743 A JP2001089743 A JP 2001089743A JP 27017799 A JP27017799 A JP 27017799A JP 27017799 A JP27017799 A JP 27017799A JP 2001089743 A JP2001089743 A JP 2001089743A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin composition
- ethyl
- compound
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 13
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 9
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 6
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 34
- -1 methoxybenzyl group Chemical group 0.000 description 29
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical group C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 5
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWOGBOARESKNBA-UHFFFAOYSA-N 1-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]propan-2-ol Chemical compound CC(O)COCC1(CC)COC1 AWOGBOARESKNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJNGDTGKCWWIOP-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC1(CC)COC1 MJNGDTGKCWWIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAGVRNJNARVRV-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxolane Chemical compound C1CCOC1COCC1(CC)COC1 SNAGVRNJNARVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDVRWZKEDRBAG-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCCCC)OCC1CO1 HSDVRWZKEDRBAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC(CC)OCC1(CC)COC1 DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCCOCC1CO1 VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006022 2-methyl-2-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCHXPWVBFSUDT-UHFFFAOYSA-N 3-(2-butoxyethoxymethyl)-3-ethyloxetane Chemical compound CCCCOCCOCC1(CC)COC1 HGCHXPWVBFSUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propan-1-ol Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(CO)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 3-[1-[2-(oxetan-3-yl)butoxy]butan-2-yl]oxetane Chemical compound C1OCC1C(CC)COCC(CC)C1COC1 MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(1-phenoxyethoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(C)OCC1(CC)COC1 FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGAXPBJOGFFMY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-methylpropoxymethoxymethyl)oxetane Chemical compound CC(C)COCOCC1(CC)COC1 PWGAXPBJOGFFMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILMQZOSIJKYHA-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2,3,4,5,6-pentabromophenoxy)methyl]oxetane Chemical compound BrC=1C(Br)=C(Br)C(Br)=C(Br)C=1OCC1(CC)COC1 DILMQZOSIJKYHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUZJULGTSCUDF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2,3,4,5,6-pentachlorophenoxy)methyl]oxetane Chemical compound ClC=1C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C=1OCC1(CC)COC1 FQUZJULGTSCUDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBXYBVUSKINNJL-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2,3,4-tribromophenoxy)methyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(Br)C(Br)=C(Br)C=1OCC1(CC)COC1 PBXYBVUSKINNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2-methylphenoxy)methyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(C)C=1OCC1(CC)COC1 LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCBNYALMACLNBI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-fluorophenyl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound FC1=CC(=CC=C1)COCC1(COC1)CC JCBNYALMACLNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(OC)C=CC=1COCC1(CC)COC1 PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCC1(CC)COC1 SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARTCZOWQELAGLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCCOCCOCC1(CC)COC1 ARTCZOWQELAGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[2-[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCCOCCOCCOCC1(CC)COC1 WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCOCC1(CC)COC1 UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[6-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]hexoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCCOCC1(CC)COC1 GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZLWQJKQWIJXJN-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[8-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]octoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCCCCOCC1(CC)COC1 TZLWQJKQWIJXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propoxy]methyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(COCC1(CC)COC1)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEYYOAXFKMGKCW-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2-methylbutoxy]methyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(C)CCOCC1(CC)COC1 BEYYOAXFKMGKCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYVJWKYXZXXFRF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane oxetane Chemical compound O1CCC1.C(C)C1(COC1)COCC1=CC=C(C=C1)COCC1(COC1)CC JYVJWKYXZXXFRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710112287 DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 101710183183 Probable DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 1
- 102100034616 Protein POLR1D, isoform 2 Human genes 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-diphenylsulfoniophenyl)sulfanylphenyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC(C=C1)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJWFRIPVKWSATF-UHFFFAOYSA-N [4-[4-bis[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]sulfoniophenyl]sulfanylphenyl]-bis[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]sulfanium Chemical compound C1=CC(CCO)=CC=C1[S+](C=1C=CC(SC=2C=CC(=CC=2)[S+](C=2C=CC(CCO)=CC=2)C=2C=CC(CCO)=CC=2)=CC=1)C1=CC=C(CCO)C=C1 SJWFRIPVKWSATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005157 alkyl carboxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AENNXXRRACDJAY-UHFFFAOYSA-N bis(2-dodecylphenyl)iodanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1CCCCCCCCCCCC AENNXXRRACDJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKWWDSQUZURFQR-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 HKWWDSQUZURFQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical class C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000005569 butenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006251 butylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000004294 cyclic thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000004672 ethylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000004175 fluorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- OGCYGKRWXWQOAK-UHFFFAOYSA-N oxobismuthanyl nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Bi]=O OGCYGKRWXWQOAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004673 propylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002306 tributylsilyl group Chemical group C(CCC)[Si](CCCC)(CCCC)* 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決の手段】(A)オキセタン環を有する化合物、
(B)光カチオン開始剤、(C)シランカップリング剤
(D)無機イオン交換体を含有し、25℃の粘度が0.
01ないし300Pa・sの範囲とするシール材用光硬
化型樹脂組成物。 【効果】感光性、速硬化性に優れ、接着性、耐透湿性、
耐水性、耐熱性が良好である。
(B)光カチオン開始剤、(C)シランカップリング剤
(D)無機イオン交換体を含有し、25℃の粘度が0.
01ないし300Pa・sの範囲とするシール材用光硬
化型樹脂組成物。 【効果】感光性、速硬化性に優れ、接着性、耐透湿性、
耐水性、耐熱性が良好である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オキセタン環を有
する化合物からなるシール材用光硬化型樹脂組成物、シ
ール方法及び得られた液晶又はエレクトロルミネッセン
スディスプレイに関する。
する化合物からなるシール材用光硬化型樹脂組成物、シ
ール方法及び得られた液晶又はエレクトロルミネッセン
スディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子、電気業界において種々の表
示素子を利用したフラットパネルディスプレイの開発、
製造が行われている。これらのディスプレイの多くはガ
ラスやプラスチックなどのセルに表示素子を封止したも
のである。その代表として、液晶(LC)ディスプレ
イ、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイが
挙げられる。液晶ディスプレイは、通常、ガラス2枚を
シール材により張り合わせ、その中に液晶を封入する。
従来、シール材には、熱硬化型エポキシ樹脂が使用され
てきた。しかし、150℃〜180℃という高温で2時
間程度加熱硬化させる必要があり、生産性が上がらない
という問題があった。一方、ELディスプレイは、高輝
度、高効率、高速応答性などの点で優れ、次世代のフラ
ットパネルディスプレイとして注目を集めている。素子
には、無機EL素子、有機EL素子があり、無機EL素
子は時計のバックライト等で実用化されている。有機E
L素子は、高輝度、高効率、高速応答性、多色化の点で
無機EL素子より優れているが、耐熱性が低く、耐熱温
度は60〜80℃程度である。このため、有機ELディ
スプレイのシールにおいて、熱硬化型エポキシ樹脂では
十分に加熱硬化できない問題があった。これらの問題を
解決するため、低温速硬化が可能な光硬化型シール材の
検討が行われている。光硬化型シール材は、大きく分
け、光ラジカル硬化型シール材と光カチオン硬化型シー
ル材がある。光ラジカル硬化型シール材は、多様なアク
リレートモノマー、オリゴマーを使用できるという利点
をもっているが、体積収縮率が大きく、接着力が低いと
いう問題があった。一方、光カチオン硬化型シール材
は、接着性が良好であるが、感光性、速硬化性、耐透湿
性が、十分ではなかった。これは、今まで使用されてき
たエポキシ樹脂及びビニルエーテルが、硬化速度が遅
く、分子量が上がらないという短所を有していたためで
ある。また近年、前述のようなディスプレーの用途は大
きく広がり車載用ディスプレー等にも用いられるように
なってきており、高温高湿下等の条件においても長期間
安定して使用可能であることも望まれるようになってき
ている。そのような条件下においては、開始剤に、カチ
オン開始剤を使用するため、系内にイオン性不純物が残
存し、ITO電極膜を腐食したり、液晶ミクスチュアに
溶出し配向を乱すなどの悪影響を与えることがあった。
示素子を利用したフラットパネルディスプレイの開発、
製造が行われている。これらのディスプレイの多くはガ
ラスやプラスチックなどのセルに表示素子を封止したも
のである。その代表として、液晶(LC)ディスプレ
イ、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイが
挙げられる。液晶ディスプレイは、通常、ガラス2枚を
シール材により張り合わせ、その中に液晶を封入する。
従来、シール材には、熱硬化型エポキシ樹脂が使用され
てきた。しかし、150℃〜180℃という高温で2時
間程度加熱硬化させる必要があり、生産性が上がらない
という問題があった。一方、ELディスプレイは、高輝
度、高効率、高速応答性などの点で優れ、次世代のフラ
ットパネルディスプレイとして注目を集めている。素子
には、無機EL素子、有機EL素子があり、無機EL素
子は時計のバックライト等で実用化されている。有機E
L素子は、高輝度、高効率、高速応答性、多色化の点で
無機EL素子より優れているが、耐熱性が低く、耐熱温
度は60〜80℃程度である。このため、有機ELディ
スプレイのシールにおいて、熱硬化型エポキシ樹脂では
十分に加熱硬化できない問題があった。これらの問題を
解決するため、低温速硬化が可能な光硬化型シール材の
検討が行われている。光硬化型シール材は、大きく分
け、光ラジカル硬化型シール材と光カチオン硬化型シー
ル材がある。光ラジカル硬化型シール材は、多様なアク
リレートモノマー、オリゴマーを使用できるという利点
をもっているが、体積収縮率が大きく、接着力が低いと
いう問題があった。一方、光カチオン硬化型シール材
は、接着性が良好であるが、感光性、速硬化性、耐透湿
性が、十分ではなかった。これは、今まで使用されてき
たエポキシ樹脂及びビニルエーテルが、硬化速度が遅
く、分子量が上がらないという短所を有していたためで
ある。また近年、前述のようなディスプレーの用途は大
きく広がり車載用ディスプレー等にも用いられるように
なってきており、高温高湿下等の条件においても長期間
安定して使用可能であることも望まれるようになってき
ている。そのような条件下においては、開始剤に、カチ
オン開始剤を使用するため、系内にイオン性不純物が残
存し、ITO電極膜を腐食したり、液晶ミクスチュアに
溶出し配向を乱すなどの悪影響を与えることがあった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】接着性、感光性、速硬
化性、耐透湿性のいずれにも優れ、生産性も良好であ
り、イオン性不純物の溶出が少ない、液晶、エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイのいずれにも好適なシール
剤、シール方法を提供することにある。
化性、耐透湿性のいずれにも優れ、生産性も良好であ
り、イオン性不純物の溶出が少ない、液晶、エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイのいずれにも好適なシール
剤、シール方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、従来のシール材用光硬化型樹脂組成物が有し
ていた問題点を、(A)オキセタン環を有する化合物、
(B)光カチオン開始剤、(C)シランカップリング
剤、(D)無機イオン交換体からなり、必要に応じて
(E)微粒子シリカ、(F)エポキシ基を有する化合
物、その他添加剤からなり、特定の粘度範囲であるシー
ル材光硬化型樹脂組成物を用いることにより、感光性、
速硬化性、接着性、耐透湿性、耐水性、耐熱性が良好
で、イオン性不純物の溶出が少ないシール材用光硬化型
樹脂組成物を実現できることを見出しこの発明を完成さ
せるに至った。即ち下記(1)〜(5)を提供するもの
である。 (1) (A)オキセタン環を有する化合物、(B)
光カチオン開始剤、(C)シランカップリング剤、
(D)無機イオン交換体、を含有し、25℃の粘度が
0.01ないし300Pa・sの範囲であることを特徴
とするシール材用光硬化型樹脂組成物。 (2) 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(E)微粒子シリカを含有することを特徴とする(1)記
載のシール材用光硬化型樹脂組成物。 (3) 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(F)エポキシ基を有する化合物を含有することを特徴
とする(1)又は(2)記載のシール材用光硬化型樹脂
組成物。 (4) (1)ないし(3)のうちいずれかに記載の
シール材用光硬化型樹脂組成物を用いることを特徴とす
る液晶又はエレクトロルミネッセンスディスプレイ用シ
ール剤。 (5) (4)に記載のシール材用光硬化型樹脂組成
物を用いて液晶又はエレクトロルミネッセンスディスプ
レイのシールをすることを特徴とするシール方法。
した結果、従来のシール材用光硬化型樹脂組成物が有し
ていた問題点を、(A)オキセタン環を有する化合物、
(B)光カチオン開始剤、(C)シランカップリング
剤、(D)無機イオン交換体からなり、必要に応じて
(E)微粒子シリカ、(F)エポキシ基を有する化合
物、その他添加剤からなり、特定の粘度範囲であるシー
ル材光硬化型樹脂組成物を用いることにより、感光性、
速硬化性、接着性、耐透湿性、耐水性、耐熱性が良好
で、イオン性不純物の溶出が少ないシール材用光硬化型
樹脂組成物を実現できることを見出しこの発明を完成さ
せるに至った。即ち下記(1)〜(5)を提供するもの
である。 (1) (A)オキセタン環を有する化合物、(B)
光カチオン開始剤、(C)シランカップリング剤、
(D)無機イオン交換体、を含有し、25℃の粘度が
0.01ないし300Pa・sの範囲であることを特徴
とするシール材用光硬化型樹脂組成物。 (2) 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(E)微粒子シリカを含有することを特徴とする(1)記
載のシール材用光硬化型樹脂組成物。 (3) 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(F)エポキシ基を有する化合物を含有することを特徴
とする(1)又は(2)記載のシール材用光硬化型樹脂
組成物。 (4) (1)ないし(3)のうちいずれかに記載の
シール材用光硬化型樹脂組成物を用いることを特徴とす
る液晶又はエレクトロルミネッセンスディスプレイ用シ
ール剤。 (5) (4)に記載のシール材用光硬化型樹脂組成
物を用いて液晶又はエレクトロルミネッセンスディスプ
レイのシールをすることを特徴とするシール方法。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0006】[(A)オキセタン環を有する化合物]本発
明におけるオキセタン環を有する化合物(A)は、一般
式(1)[化1]で
明におけるオキセタン環を有する化合物(A)は、一般
式(1)[化1]で
【化1】 表されるオキセタン環を少なくとも1つ有する化合物で
あればいずれでも使用することができる。例えばオキセ
タン環を1ないし15含有する化合物が挙げられ好まし
くは1ないし10含有する化合物、特に好ましくは1な
いし4含有する化合物である。
あればいずれでも使用することができる。例えばオキセ
タン環を1ないし15含有する化合物が挙げられ好まし
くは1ないし10含有する化合物、特に好ましくは1な
いし4含有する化合物である。
【0007】<オキセタン環を1個有する化合物>オキ
セタン環を1個有する化合物としてはオキセタン環を1
個有する化合物であればいずれでも用いることができる
が、下記の化合物が好適に用いることができる。例え
ば、下記一般式(2)[化2]
セタン環を1個有する化合物としてはオキセタン環を1
個有する化合物であればいずれでも用いることができる
が、下記の化合物が好適に用いることができる。例え
ば、下記一般式(2)[化2]
【化2】 で示される化合物等が挙げられる。一般式(2)におい
て、Z、R1、R2は下記の原子又は置換基を意味する。
Zは酸素原子または硫黄原子を示す。R1は水素原子、
フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、トリフルオロ
メチル基、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル
基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数1〜6個の
フルオロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素
数6〜18のアリール基、フリル基またはチエニル基で
ある。R2は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、
1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−
ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素
原子数2〜6個のアルケニル基;ベンジル基、フルオロ
ベンジル基、メトシキベンジル基、フェネチル基、スチ
リル基、シンナミル基、エトキシベンジル基等の置換ま
たは非置換の炭素原子数7〜18のアラルキル基;フェ
ノキシメチル基、フェノキシエチル基等のアリーロキシ
アルキル基等のその他の芳香環を有する基;エチルカル
ボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基
等の炭素原子数2〜6個のアルキルカルボニル基;エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基等の炭素原子数2〜6個のアルコキシカル
ボニル基;エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
ル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基
等の炭素原子数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基
が挙げられる。又本願発明の効果を阻害しない範囲で上
記以外の置換基を用いてもよい。
て、Z、R1、R2は下記の原子又は置換基を意味する。
Zは酸素原子または硫黄原子を示す。R1は水素原子、
フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、トリフルオロ
メチル基、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル
基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数1〜6個の
フルオロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素
数6〜18のアリール基、フリル基またはチエニル基で
ある。R2は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、
1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−
ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素
原子数2〜6個のアルケニル基;ベンジル基、フルオロ
ベンジル基、メトシキベンジル基、フェネチル基、スチ
リル基、シンナミル基、エトキシベンジル基等の置換ま
たは非置換の炭素原子数7〜18のアラルキル基;フェ
ノキシメチル基、フェノキシエチル基等のアリーロキシ
アルキル基等のその他の芳香環を有する基;エチルカル
ボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基
等の炭素原子数2〜6個のアルキルカルボニル基;エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基等の炭素原子数2〜6個のアルコキシカル
ボニル基;エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
ル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基
等の炭素原子数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基
が挙げられる。又本願発明の効果を阻害しない範囲で上
記以外の置換基を用いてもよい。
【0008】オキセタン環を1個有する化合物のより具
体的な例としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチル
オキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エ
チルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメト
キシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−〔1−(3−エ
チル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、
4−メトキシ−〔1−(3−エチル−3−オキセタニル
メトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1−(3−エチル−3
−オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニルエーテル、
イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペン
タジエン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニ
ルエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テ
トラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブ
ロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシ
プロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフ
ェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル等が挙げられる。
体的な例としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチル
オキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エ
チルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメト
キシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−〔1−(3−エ
チル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、
4−メトキシ−〔1−(3−エチル−3−オキセタニル
メトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1−(3−エチル−3
−オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニルエーテル、
イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペン
タジエン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニ
ルエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テ
トラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブ
ロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシ
プロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフ
ェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル等が挙げられる。
【0009】<オキセタン環を2個有する化合物>2個
のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式
(3)[化3]、一般式(8)[化8]で示される化合物等
が挙げられる。
のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式
(3)[化3]、一般式(8)[化8]で示される化合物等
が挙げられる。
【0010】(一般式(3)で表される化合物)一般式
(3)[化3]で表される化合物とは以下の通りである。
(3)[化3]で表される化合物とは以下の通りである。
【化3】 R1は一般式(2)と同様に水素原子、フッ素原子、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(3)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよい。
R3は、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線
状あるいは分岐状の炭素原子数1〜20のアルキレン
基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキ
シ)基等の線状あるいは分枝状の炭素原子数1〜120
のポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチ
ルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状あるいは分枝
状の不飽和炭素水素基、カルボニル基、カルボニル基を
含むアルキレン基、分子鎖の途中にカルバモイル基を含
むアルキレン基である。また、R3は、下記一般式
(4)[化4]、(5)[化5]、および(6)[化6]で示
される基から選択される多価の基でもよい。
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(3)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよい。
R3は、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線
状あるいは分岐状の炭素原子数1〜20のアルキレン
基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキ
シ)基等の線状あるいは分枝状の炭素原子数1〜120
のポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチ
ルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状あるいは分枝
状の不飽和炭素水素基、カルボニル基、カルボニル基を
含むアルキレン基、分子鎖の途中にカルバモイル基を含
むアルキレン基である。また、R3は、下記一般式
(4)[化4]、(5)[化5]、および(6)[化6]で示
される基から選択される多価の基でもよい。
【0011】一般式(4)[化4]は以下の置換基であ
る。
る。
【化4】 一般式(4)において、R4は、水素原子、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等の炭素原子数1〜4個のアルコキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル
基、カルボキシル基、または、カルバモイル基であり、
Xは1〜4の整数である。
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等の炭素原子数1〜4個のアルコキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル
基、カルボキシル基、または、カルバモイル基であり、
Xは1〜4の整数である。
【0012】一般式(5)[化5]は以下の置換基であ
る。
る。
【化5】 一般式(5)において、R5は、酸素原子、硫黄原子、
メチレン基、−NH−、−SO−、−SO2−、−C
(CF3)2−または−C(CH3)2−である。
メチレン基、−NH−、−SO−、−SO2−、−C
(CF3)2−または−C(CH3)2−である。
【0013】一般式(6)[化6]は以下の置換基であ
る。
る。
【化6】 一般式(6)において、R6は、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のアリー
ル基であり、yは、0〜200の整数である。R7はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基である。又R7は、下記一般式
(7)で示される基でもよい。
プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のアリー
ル基であり、yは、0〜200の整数である。R7はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基である。又R7は、下記一般式
(7)で示される基でもよい。
【化7】 一般式(7)において、R8は、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のアリー
ル基である。Zは、0〜100の整数である。
プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のアリー
ル基である。Zは、0〜100の整数である。
【0014】(一般式(8)で表される化合物)一般式
(8)[化8]で表される化合物とは以下の通りである。
(8)[化8]で表される化合物とは以下の通りである。
【化8】 式(8)において、 R1は一般式(2)と同様に水素
原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、トリフ
ルオロメチル基、パーフルオロメチル基、パーフルオロ
エチル基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数1〜
6個のフルオロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等
の炭素数6〜18のアリール基、フリル基またはチエニ
ル基である。一般式(2)中のR1は互いに同じでも異
なっていてもよい。
原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基、トリフ
ルオロメチル基、パーフルオロメチル基、パーフルオロ
エチル基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数1〜
6個のフルオロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等
の炭素数6〜18のアリール基、フリル基またはチエニ
ル基である。一般式(2)中のR1は互いに同じでも異
なっていてもよい。
【0015】より具体的なオキセタン環を2個有する化
合物としては下記式(9)[化9]、
合物としては下記式(9)[化9]、
【化9】 (10)[化10]が挙げられる。
【化10】 さらに、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキ
サ−ノナン、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセ
タニルメトシキ)メチル〕ベンゼン、1,2−ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
エタン、1,2−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)メチル〕プロパン、エチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレ
ンビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメ
トキシ)メチル〕ブタン、1,6−ビス〔(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ヘキサン、ポリ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、P
O変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノール
Aビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェ
ノールFビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル等が挙げられる。
サ−ノナン、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセ
タニルメトシキ)メチル〕ベンゼン、1,2−ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
エタン、1,2−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)メチル〕プロパン、エチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレ
ンビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメ
トキシ)メチル〕ブタン、1,6−ビス〔(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ヘキサン、ポリ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、P
O変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノール
Aビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェ
ノールFビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル等が挙げられる。
【0016】<オキセタン環を3個以上有する化合物>
3個以上のオキセタン環を有する化合物としては、下記
一般式(11)、(18)、(19)で示される化合物
等が挙げられる。
3個以上のオキセタン環を有する化合物としては、下記
一般式(11)、(18)、(19)で示される化合物
等が挙げられる。
【0017】(一般式(11)で表される化合物)一般
式(11)[化11]で表される化合物とは以下の通りで
ある。
式(11)[化11]で表される化合物とは以下の通りで
ある。
【化11】 R1は一般式(2)と同様に水素原子、フッ素原子、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(11)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよ
い。R9は、3〜10価の有機基を示し、例えば、下記
式(12)〜(14)で示される基等の炭素原子数1〜
30の分枝状または線状のアルキレン基、下記式(1
5)で示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)
基または下記式(16)または式(17)で示される線
状または分枝状ポリシロキサン含有基等が挙げられる。
jは、R9の価数に等しい3〜10の整数を示す。
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(11)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよ
い。R9は、3〜10価の有機基を示し、例えば、下記
式(12)〜(14)で示される基等の炭素原子数1〜
30の分枝状または線状のアルキレン基、下記式(1
5)で示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)
基または下記式(16)または式(17)で示される線
状または分枝状ポリシロキサン含有基等が挙げられる。
jは、R9の価数に等しい3〜10の整数を示す。
【化12】 式(12)において、R10はメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基である。
ピル基等の炭素原子数1〜6個のアルキル基である。
【0018】
【化13】
【0019】
【化14】
【0020】
【化15】 式(15)においてLは1〜10の整数であり、互いに
同一でも異なっていてもよい。
同一でも異なっていてもよい。
【0021】
【化16】
【0022】
【化17】
【0023】<オキセタン環を3個以上有する化合物>
3個以上のオキセタン環を有する化合物の具体例として
は、下記式(18)や一般式(19)で示される化合物
等が挙げられる。
3個以上のオキセタン環を有する化合物の具体例として
は、下記式(18)や一般式(19)で示される化合物
等が挙げられる。
【0024】
【化18】
【0025】(一般式(19)で表される化合物)一般
式(19)[化19]で表される化合物とは1〜10個の
オキセタン環を有し以下の通りである。
式(19)[化19]で表される化合物とは1〜10個の
オキセタン環を有し以下の通りである。
【0026】
【化19】 R1は一般式(2)と同様に水素原子、フッ素原子、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(19)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよ
い。R8は式(7)と同様にR8は、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のア
リール基である。Zは、0〜100の整数である。この
ときR8は互いに同じでも異なっていてもよい。R11は
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原
子数1〜4のアルキル基または炭素原子数3〜12のト
リアルキルシリル基(トリアルキルシリル基中の、アル
キル基は互いに同一でも異なっていてもよい。例えばト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピル
シリル基、トリブチルシリル基等である)である。rは
1〜10の整数を示す。より具体的には、トリメチロー
ルプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、ペンタエリスリトールトリス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリス
リトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
ペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトール
テトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘ
キサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられ
る。
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子
数1〜6個のアルキル基、トリフルオロメチル基、パー
フルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオ
ロプロピル基等の炭素原子数1〜6個のフルオロアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のア
リール基、フリル基またはチエニル基である。一般式
(19)中のR1は互いに同じでも異なっていてもよ
い。R8は式(7)と同様にR8は、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数6〜18のア
リール基である。Zは、0〜100の整数である。この
ときR8は互いに同じでも異なっていてもよい。R11は
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原
子数1〜4のアルキル基または炭素原子数3〜12のト
リアルキルシリル基(トリアルキルシリル基中の、アル
キル基は互いに同一でも異なっていてもよい。例えばト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピル
シリル基、トリブチルシリル基等である)である。rは
1〜10の整数を示す。より具体的には、トリメチロー
ルプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、ペンタエリスリトールトリス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリス
リトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
ペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトール
テトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘ
キサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられ
る。
【0027】(高分子量化合物)さらに、オキセタン環
を有する化合物(A)としては、上述の例以外にも、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリ
スチレン換算の数平均分子量1000〜5000程度の
高分子量を有する化合物も挙げられる。このような例と
して、以下の一般式(20)[化20]、(21)[化2
1]、(22)[化22]で表される化合物が挙げられ
る。
を有する化合物(A)としては、上述の例以外にも、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリ
スチレン換算の数平均分子量1000〜5000程度の
高分子量を有する化合物も挙げられる。このような例と
して、以下の一般式(20)[化20]、(21)[化2
1]、(22)[化22]で表される化合物が挙げられ
る。
【0028】
【化20】 (ここで、pは20〜200の整数である。)
【0029】
【化21】 (ここで、qは15〜200の整数である。)
【0030】
【化22】 (ここで、sは20〜200の整数である。)
【0031】これらのオキセタン環を有する化合物は、
1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。本発明の樹脂組成物における(A)成分の
含有割合は、通常30〜100重量部であり、好ましく
は50〜90重量部である。(A)成分が30重量部以
上であると、感光性、速硬化性等に優れ好ましい。
1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。本発明の樹脂組成物における(A)成分の
含有割合は、通常30〜100重量部であり、好ましく
は50〜90重量部である。(A)成分が30重量部以
上であると、感光性、速硬化性等に優れ好ましい。
【0032】[(B)光カチオン開始剤]本発明の光カチ
オン開始剤(B)は、光により、(A)成分の樹脂のカ
チオン重合を開始する化合物であれば特に限定はなく、
いずれでも使用することができる。光カチオン開始剤の
好ましい例として下記一般式(23)[化23]で表され
る構造を有するオニウム塩を挙げることができる。この
オニウム塩は、光反応し、ルイス酸を放出する化合物で
ある。
オン開始剤(B)は、光により、(A)成分の樹脂のカ
チオン重合を開始する化合物であれば特に限定はなく、
いずれでも使用することができる。光カチオン開始剤の
好ましい例として下記一般式(23)[化23]で表され
る構造を有するオニウム塩を挙げることができる。この
オニウム塩は、光反応し、ルイス酸を放出する化合物で
ある。
【0033】
【化23】 (式中、カチオンはオニウムイオンであり、Wは、S、
Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、C
l、またはN≡Nであり、R12、R13、R14、およびR
15は同一または異なる有機基であり、a、b、cおよび
dはそれぞれ0〜3の整数であって、(a+b+c+
d)はWの価数に等しい。Mは、ハロゲン化錯体[MX
n+m]の中心原子を構成する金属またはメタロイドであ
り、例えば、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、
Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、M
n、Co等である。Xは例えば、F、Cl、Br等のハ
ロゲン原子であり、mはハロゲン化物錯体イオンの正味
の電荷であり、nはMの原子価である。) 一般式(23)においてオニウムイオンの具体例として
は、ジフェニルヨードニウム、4−メトキシジフェニル
ヨードニウム、ビス(4−メチルフェニル)ヨードニウ
ム、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム、トリルク
ミルヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリフ
ェニルスルホニウム、ジフェニル−4−チオフェノキシ
フェニルスルホニウム、ビス〔4−(ジフェニルスルフ
ォニオ)−フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(ジ(4
−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルホニオ)−
フェニル〕スルフィド、η5−2,4−(シクロペンタ
ジェニル)〔1,2,3,4,5,6−η−(メチルエ
チル)ベンゼン〕−鉄(1+)等が挙げられる。一般式
(23)において陰イオンの具体例としては、テトラフ
ルオロボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネート、
ヘキサクロロアンチモネート等が挙げられる。これらの
光カチオン開始剤は、1種単独であるいは2種以上を組
み合わせて使用することができる。本発明の樹脂組成物
における(B)成分の含有割合は、通常0.1〜10重
量部であり、好ましくは、0.3〜3重量部である。
(B)成分の含有割合0.1重量部以上であるとより樹
脂組成物の硬化状況が良好となり好ましく、又硬化後に
光カチオン開始剤が溶出の予防の観点から10重量部以
下が好ましい。
Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、C
l、またはN≡Nであり、R12、R13、R14、およびR
15は同一または異なる有機基であり、a、b、cおよび
dはそれぞれ0〜3の整数であって、(a+b+c+
d)はWの価数に等しい。Mは、ハロゲン化錯体[MX
n+m]の中心原子を構成する金属またはメタロイドであ
り、例えば、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、
Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、M
n、Co等である。Xは例えば、F、Cl、Br等のハ
ロゲン原子であり、mはハロゲン化物錯体イオンの正味
の電荷であり、nはMの原子価である。) 一般式(23)においてオニウムイオンの具体例として
は、ジフェニルヨードニウム、4−メトキシジフェニル
ヨードニウム、ビス(4−メチルフェニル)ヨードニウ
ム、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム、トリルク
ミルヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリフ
ェニルスルホニウム、ジフェニル−4−チオフェノキシ
フェニルスルホニウム、ビス〔4−(ジフェニルスルフ
ォニオ)−フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(ジ(4
−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルホニオ)−
フェニル〕スルフィド、η5−2,4−(シクロペンタ
ジェニル)〔1,2,3,4,5,6−η−(メチルエ
チル)ベンゼン〕−鉄(1+)等が挙げられる。一般式
(23)において陰イオンの具体例としては、テトラフ
ルオロボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネート、
ヘキサクロロアンチモネート等が挙げられる。これらの
光カチオン開始剤は、1種単独であるいは2種以上を組
み合わせて使用することができる。本発明の樹脂組成物
における(B)成分の含有割合は、通常0.1〜10重
量部であり、好ましくは、0.3〜3重量部である。
(B)成分の含有割合0.1重量部以上であるとより樹
脂組成物の硬化状況が良好となり好ましく、又硬化後に
光カチオン開始剤が溶出の予防の観点から10重量部以
下が好ましい。
【0034】[(C)シランカップリング剤]シランカッ
プリング剤とは、エポキシ基、カルボキシル基、メタク
リロイル基、イソシアネート基等の反応性基を有するシ
ラン化合物が挙げられる。具体的には、トリメトキシシ
リル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトシキシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトシキシラン等が挙げられる。これらの(C)成分
は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用す
ることができる。本発明の樹脂組成物における(C)成
分の含有割合は、通常0.1〜30重量部であり、好ま
しくは、0.3〜20重量部である。(C)成分を0.
1以上乃至30重量部とすると接着力が向上し好まし
い。
プリング剤とは、エポキシ基、カルボキシル基、メタク
リロイル基、イソシアネート基等の反応性基を有するシ
ラン化合物が挙げられる。具体的には、トリメトキシシ
リル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトシキシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトシキシラン等が挙げられる。これらの(C)成分
は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用す
ることができる。本発明の樹脂組成物における(C)成
分の含有割合は、通常0.1〜30重量部であり、好ま
しくは、0.3〜20重量部である。(C)成分を0.
1以上乃至30重量部とすると接着力が向上し好まし
い。
【0035】[(D)無機イオン交換体]本発明の無機イ
オン交換体(D)は、陰イオンを補足できるものであれ
ば特に限定はなく、いずれも使用することができる。例
えば、ビスマス系、ビスマスとアンチモン混合系、アル
ミニウム系、アルミニウムとマグネシウム系、ジルコニ
ウム系、鉛系、及びカルシウム系等の無機イオン交換体
が挙げられ、より具体的には、含水酸化硝酸ビスマス、
結晶性アンチモン酸、鉛ヒドロキシアパタイト、ゼオラ
イト、珪酸塩化合物等があげられる。これらの(D)成
分は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用
することができる。本発明の樹脂組成物における(D)
成分の含有割合は、通常1〜20重量部であり、好まし
くは、1〜10重量部である。1重量部以上にすること
により、光開始剤由来のアニオン性不純物の捕捉が良好
となり好ましく、又重合速度の観点から20重量部以下
が好ましい。
オン交換体(D)は、陰イオンを補足できるものであれ
ば特に限定はなく、いずれも使用することができる。例
えば、ビスマス系、ビスマスとアンチモン混合系、アル
ミニウム系、アルミニウムとマグネシウム系、ジルコニ
ウム系、鉛系、及びカルシウム系等の無機イオン交換体
が挙げられ、より具体的には、含水酸化硝酸ビスマス、
結晶性アンチモン酸、鉛ヒドロキシアパタイト、ゼオラ
イト、珪酸塩化合物等があげられる。これらの(D)成
分は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて使用
することができる。本発明の樹脂組成物における(D)
成分の含有割合は、通常1〜20重量部であり、好まし
くは、1〜10重量部である。1重量部以上にすること
により、光開始剤由来のアニオン性不純物の捕捉が良好
となり好ましく、又重合速度の観点から20重量部以下
が好ましい。
【0036】[(E)微粒子シリカ]本願発明の樹脂組成
物は微粒子シリカ(E)を含有することが好ましい。微
粒子シリカとは、一次粒子の平均径が5〜100nmの
シリカである。微粒子シリカは、表面未処理のもの、表
面処理したものともに使用できる。表面処理した微粒子
シリカとして、例えば、メトキシ基化、トリメチルシリ
ル基化、オクチルシリル基化、又はシリコーンオイルで
表面処理した微粒子シリカ等が挙げられる。これらの
(E)成分は、1種単独であるいは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。本発明の樹脂組成物におけ
る(E)成分の含有割合は、通常1〜70重量部であ
り、好ましくは、1〜30重量部である。微粒子シリカ
を併用することにより、耐透湿性、接着力、揺変性付与
等を更に向上される効果が得られ好ましい。
物は微粒子シリカ(E)を含有することが好ましい。微
粒子シリカとは、一次粒子の平均径が5〜100nmの
シリカである。微粒子シリカは、表面未処理のもの、表
面処理したものともに使用できる。表面処理した微粒子
シリカとして、例えば、メトキシ基化、トリメチルシリ
ル基化、オクチルシリル基化、又はシリコーンオイルで
表面処理した微粒子シリカ等が挙げられる。これらの
(E)成分は、1種単独であるいは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。本発明の樹脂組成物におけ
る(E)成分の含有割合は、通常1〜70重量部であ
り、好ましくは、1〜30重量部である。微粒子シリカ
を併用することにより、耐透湿性、接着力、揺変性付与
等を更に向上される効果が得られ好ましい。
【0037】[(F)エポキシ基を有する化合物]本願発
明の樹脂組成物はエポキシ基を有する化合物(F)を含
有することが好ましい。エポキシ基を有する化合物
(F)としては以下のものが例示できる。例えば、エポ
キシ基を1個有する化合物としては、フェニルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等があり、エポ
キシ基を2個以上有する化合物としては、ヘキサンジオ
ールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグ
リシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、ノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。ま
た、脂環式エポキシ基を有する化合物として、例えば、
下記式(24)(25)で表される化合物等も挙げられ
る。
明の樹脂組成物はエポキシ基を有する化合物(F)を含
有することが好ましい。エポキシ基を有する化合物
(F)としては以下のものが例示できる。例えば、エポ
キシ基を1個有する化合物としては、フェニルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等があり、エポ
キシ基を2個以上有する化合物としては、ヘキサンジオ
ールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグ
リシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、ノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。ま
た、脂環式エポキシ基を有する化合物として、例えば、
下記式(24)(25)で表される化合物等も挙げられ
る。
【0038】
【化24】
【0039】
【化25】 これらの(F)成分は、1種単独であるいは2種以上を
組み合わせて使用することができる。本発明の樹脂組成
物における(F)成分の含有割合は、通常1〜70重量
部であり、好ましくは、1〜50重量部である。(F)
成分の添加は、シール材の接着性、耐熱性を改良させる
のに有効である。
組み合わせて使用することができる。本発明の樹脂組成
物における(F)成分の含有割合は、通常1〜70重量
部であり、好ましくは、1〜50重量部である。(F)
成分の添加は、シール材の接着性、耐熱性を改良させる
のに有効である。
【0040】[その他の成分]本発明の樹脂組成物には、
本発明の効果を損なわない範囲においてその他カチオン
重合性化合物、その他樹脂成分、充填剤、改質剤、安定
剤等その他成分を含有させることができる。
本発明の効果を損なわない範囲においてその他カチオン
重合性化合物、その他樹脂成分、充填剤、改質剤、安定
剤等その他成分を含有させることができる。
【0041】<他のカチオン重合性化合物>他のカチオ
ン重合性化合物としては、例えば、オキソラン化合物、
環状アセタール化合物、環状ラクトン化合物、チイラン
化合物、チエタン化合物、スピロオルソエステル化合
物、ビニルエーテル化合物、エチレン性不飽和化合物、
環状エーテル化合物、環状チオエーテル化合物、ビニル
化合物等が挙げられる。これらは、1種単独でも複数種
を組み合わせて使用してもよい。
ン重合性化合物としては、例えば、オキソラン化合物、
環状アセタール化合物、環状ラクトン化合物、チイラン
化合物、チエタン化合物、スピロオルソエステル化合
物、ビニルエーテル化合物、エチレン性不飽和化合物、
環状エーテル化合物、環状チオエーテル化合物、ビニル
化合物等が挙げられる。これらは、1種単独でも複数種
を組み合わせて使用してもよい。
【0042】<他の樹脂成分>他の樹脂成分としては、
例えば、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタ
ン、ポリブタジェン、ポリクロロプレン、ポリエーテ
ル、ポリエステル、スチレン−ブタジェン−スチレンブ
ロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹
脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコン系
オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等が挙げられ
る。これらは、1種単独でも複数種を組み合わせて使用
してもよい。
例えば、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタ
ン、ポリブタジェン、ポリクロロプレン、ポリエーテ
ル、ポリエステル、スチレン−ブタジェン−スチレンブ
ロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹
脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコン系
オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等が挙げられ
る。これらは、1種単独でも複数種を組み合わせて使用
してもよい。
【0043】<充填剤>充填剤としては、例えば、ガラ
スビーズ、タルク、スチレン系ポリマー粒子、メタクリ
レート系ポリマー粒子、エチレン系ポリマー粒子、プロ
ピレン系ポリマー粒子等が挙げられる。これらは、1種
単独でも複数種を組み合わせて使用してもよい。
スビーズ、タルク、スチレン系ポリマー粒子、メタクリ
レート系ポリマー粒子、エチレン系ポリマー粒子、プロ
ピレン系ポリマー粒子等が挙げられる。これらは、1種
単独でも複数種を組み合わせて使用してもよい。
【0044】<改質剤>改質剤としては、例えば、重合
開始助剤、老化防止剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、
界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。こ
れらは、1種単独でも複数種を組み合わせて使用しても
よい。
開始助剤、老化防止剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、
界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。こ
れらは、1種単独でも複数種を組み合わせて使用しても
よい。
【0045】[樹脂組成物の調整]本発明のシール材用光
硬化型樹脂組成物は、各組成物を均一に混合し、粘度が
25℃において0.01〜300Pa・sになるように
調製する。0.01〜300Pa・sの粘度範囲は塗布
作業性がより効率的に実施できる。粘度範囲は、0.1
〜100Pa・sであることがより好ましい。粘度は、
樹脂の配合比やその他の成分を添加することにより調整
すれば良い。また、粘度が高い場合は、3本ロール等の
常法により混練すれば良い。各成分の配合比はその必要
とする物性に従って適宜決定することができるが、通常
(A)/(B)/(C)/(D)=30〜100重量部
/0.1〜10重量部/0.1〜30重量部/1〜20
重量部であり、更に(E)、(F)のいずれか又は双方
を含有することが好ましく、前記(A)、(B)、
(C)、(D)の組成に対して、それぞれ(E)1〜7
0重量部、(F)1〜70重量部である。好ましくは、
通常(A)/(B)/(C)/(D)=50〜90重量
部/0.3〜3重量部/0.3〜20重量部/1〜10
重量部であり、更に(E)、(F)のいずれか又は双方
を含有することが好ましく、前記(A)、(B)、
(C)、(D)の組成に対して、それぞれ(E)1〜3
0重量部、(F)1〜50重量部である。
硬化型樹脂組成物は、各組成物を均一に混合し、粘度が
25℃において0.01〜300Pa・sになるように
調製する。0.01〜300Pa・sの粘度範囲は塗布
作業性がより効率的に実施できる。粘度範囲は、0.1
〜100Pa・sであることがより好ましい。粘度は、
樹脂の配合比やその他の成分を添加することにより調整
すれば良い。また、粘度が高い場合は、3本ロール等の
常法により混練すれば良い。各成分の配合比はその必要
とする物性に従って適宜決定することができるが、通常
(A)/(B)/(C)/(D)=30〜100重量部
/0.1〜10重量部/0.1〜30重量部/1〜20
重量部であり、更に(E)、(F)のいずれか又は双方
を含有することが好ましく、前記(A)、(B)、
(C)、(D)の組成に対して、それぞれ(E)1〜7
0重量部、(F)1〜70重量部である。好ましくは、
通常(A)/(B)/(C)/(D)=50〜90重量
部/0.3〜3重量部/0.3〜20重量部/1〜10
重量部であり、更に(E)、(F)のいずれか又は双方
を含有することが好ましく、前記(A)、(B)、
(C)、(D)の組成に対して、それぞれ(E)1〜3
0重量部、(F)1〜50重量部である。
【0046】[シール方法]シール材のディスプレイ基材
への塗布方法は、均一にシール材が塗布できれば塗布方
法に制限はない。例えばスクリーン印刷やディスペンサ
ーを用いて塗布する方法等公知の方法により実施すれば
よい。シール材を塗布後、ディスプレイ基材を貼り合わ
せ、光を照射し、シール材を硬化させる。ここで使用で
きる光源としては、所定の作業時間内で硬化させること
ができるものであればいずれでも良い。通常、紫外線
光、可視光の範囲の光が照射できる光源を用いる。より
具体的には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンラン
プ、メタルハライド灯等が挙げられる。また、通常、照
射光量は、照射光量が過少である場合には、樹脂組成物
の未硬化部が残存しない範囲又は、接着不良が発生しな
い範囲で適宜選定できるが、通常500〜3000mJ
/cm2である。照射量の上限は特にはないが過多であ
る場合には不要なエネルギーを浪費し生産性が低下する
ので好ましくない。
への塗布方法は、均一にシール材が塗布できれば塗布方
法に制限はない。例えばスクリーン印刷やディスペンサ
ーを用いて塗布する方法等公知の方法により実施すれば
よい。シール材を塗布後、ディスプレイ基材を貼り合わ
せ、光を照射し、シール材を硬化させる。ここで使用で
きる光源としては、所定の作業時間内で硬化させること
ができるものであればいずれでも良い。通常、紫外線
光、可視光の範囲の光が照射できる光源を用いる。より
具体的には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンラン
プ、メタルハライド灯等が挙げられる。また、通常、照
射光量は、照射光量が過少である場合には、樹脂組成物
の未硬化部が残存しない範囲又は、接着不良が発生しな
い範囲で適宜選定できるが、通常500〜3000mJ
/cm2である。照射量の上限は特にはないが過多であ
る場合には不要なエネルギーを浪費し生産性が低下する
ので好ましくない。
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。
はこれら実施例に限定されるものではない。
【0047】<測定法>得られた樹脂組成物及び硬化物
について以下の評価を行った。 (粘度)粘度樹脂組成物の粘度を25℃で回転円錐−円
盤粘度計によって測定した。 (接着強度)接着強度は、2枚のガラス板を樹脂組成物
(厚み100μm)ではさみ、光照射し、接着させた。
これら2枚のガラス板を引き剥がすときの接着強度を引
っ張り速度は2mm/minで測定した。 (透湿性)透湿性はJIS Z0208に準じて光硬化
させた樹脂組成物フィルム(厚み100μm)の透湿性
を測定した。 (腐食試験)ITO配線ガラス基板とガラス板で樹脂組
成物(厚み100μm)をはさみ、光照射し、接着させ
た(図1)。次いでITO電極に直流10Vを印可し、
60℃、90%RHで50日間放置し、その後、ITO
電極の状態を顕微鏡で観察した。 ○:腐食無し、△:一部腐食が見られる ×:腐食有り
について以下の評価を行った。 (粘度)粘度樹脂組成物の粘度を25℃で回転円錐−円
盤粘度計によって測定した。 (接着強度)接着強度は、2枚のガラス板を樹脂組成物
(厚み100μm)ではさみ、光照射し、接着させた。
これら2枚のガラス板を引き剥がすときの接着強度を引
っ張り速度は2mm/minで測定した。 (透湿性)透湿性はJIS Z0208に準じて光硬化
させた樹脂組成物フィルム(厚み100μm)の透湿性
を測定した。 (腐食試験)ITO配線ガラス基板とガラス板で樹脂組
成物(厚み100μm)をはさみ、光照射し、接着させ
た(図1)。次いでITO電極に直流10Vを印可し、
60℃、90%RHで50日間放置し、その後、ITO
電極の状態を顕微鏡で観察した。 ○:腐食無し、△:一部腐食が見られる ×:腐食有り
【0048】<原材料> (オキセタン環を有する化合物(A)) オキセタンa−1: 1,4−ビス[(3−エチル−3−
オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン オキセタンa−2: 3−エチル−3−ヒドロキシメチ
ルオキセタン(光カチオン開始剤(B)) 光開始剤b−1:式(26)[化26]で表される化合
物。
オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン オキセタンa−2: 3−エチル−3−ヒドロキシメチ
ルオキセタン(光カチオン開始剤(B)) 光開始剤b−1:式(26)[化26]で表される化合
物。
【0049】
【化26】
【0050】(シランカップリング剤(C)) シランカップリング剤c−1:γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトシキシラン(無機イオン交換体(D)) 無機イオン交換体d−1:IXE500(東亞合成
(株)社製ビスマス系無機イオン交換体) 無機イオン交換体d−2:IXE550(東亞合成
(株)社製ビスマス系無機イオン交換体) (微粒子シリカ(E)) 微粒子シリカe−1:1次粒子の平均径が12nmの表
面未処理、微粒子シリカ。 (エポキシ化合物(F)) エポキシ化合物f−1:式(27)[化27]で表される
化合物。
ルトリメトシキシラン(無機イオン交換体(D)) 無機イオン交換体d−1:IXE500(東亞合成
(株)社製ビスマス系無機イオン交換体) 無機イオン交換体d−2:IXE550(東亞合成
(株)社製ビスマス系無機イオン交換体) (微粒子シリカ(E)) 微粒子シリカe−1:1次粒子の平均径が12nmの表
面未処理、微粒子シリカ。 (エポキシ化合物(F)) エポキシ化合物f−1:式(27)[化27]で表される
化合物。
【0051】
【化27】
【0052】<実施例1> 樹脂組成物の調製 表1に示す配合処方により、オキセタン環を有する化合
物(A)成分としてオキセタンa−1(1,4−ビス
[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]
ベンゼン)を70重量部、光カチオン開始剤(B)成分
として光開始剤b−1(式(26))を3重量部、シラ
ンカップリング剤(C)成分としてシランカップリング
剤c−1(γ−グリシドキシプロピルトリメトシキシラ
ン)を3重量部、無機イオン交換体(D)成分として無
機イオン交換体d−1(IXE500(東亞合成(株)
社製))を5重量部配合し、1時間攪拌することによ
り、褐色の液状組成物を得た。 光硬化 メタルハライドランプで3000mJ/cm2の光照射
を行い硬化させた。その結果を表2に示す。
物(A)成分としてオキセタンa−1(1,4−ビス
[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]
ベンゼン)を70重量部、光カチオン開始剤(B)成分
として光開始剤b−1(式(26))を3重量部、シラ
ンカップリング剤(C)成分としてシランカップリング
剤c−1(γ−グリシドキシプロピルトリメトシキシラ
ン)を3重量部、無機イオン交換体(D)成分として無
機イオン交換体d−1(IXE500(東亞合成(株)
社製))を5重量部配合し、1時間攪拌することによ
り、褐色の液状組成物を得た。 光硬化 メタルハライドランプで3000mJ/cm2の光照射
を行い硬化させた。その結果を表2に示す。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】<実施例2、3>表1に示す組成の成分を
使用した以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物を
調製し、評価を行った。結果を表2に示す。
使用した以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物を
調製し、評価を行った。結果を表2に示す。
【0056】<比較例1〜3>表1に示す組成の成分を
使用した以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物を
調製し、評価を行った。結果を表2に示す。
使用した以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物を
調製し、評価を行った。結果を表2に示す。
【0057】
【発明の効果】本発明のシール材用光硬化型樹脂組成物
は、感光性、速硬化性に優れ、接着性、耐透湿性、耐水
性、耐熱性が良好で、イオン性不純物の溶出が少なく、
液晶、エレクトロルミネッセンスディスプレイに好適に
使用できる。特に高温高湿下においても接着性、耐透湿
性、耐水性、耐熱性を長期間安定に保持することができ
る。
は、感光性、速硬化性に優れ、接着性、耐透湿性、耐水
性、耐熱性が良好で、イオン性不純物の溶出が少なく、
液晶、エレクトロルミネッセンスディスプレイに好適に
使用できる。特に高温高湿下においても接着性、耐透湿
性、耐水性、耐熱性を長期間安定に保持することができ
る。
【図1】 腐食試験装置。
1 光硬化型樹脂組成物 2 ガラス基板 3 ITO電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水田 康司 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 菊田 佳男 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Fターム(参考) 2H089 MA04Y MA05Y NA39 NA41 NA42 PA19 QA06 QA07 4H017 AA04 AA22 AA27 AA39 AB08 AB15 AB17 AC08 AC19 AD06 AE05
Claims (5)
- 【請求項1】 (A)オキセタン環を有する化合物、
(B)光カチオン開始剤、(C)シランカップリング
剤、(D)無機イオン交換体、を含有し、25℃の粘度
が0.01ないし300Pa・sの範囲であることを特
徴とするシール材用光硬化型樹脂組成物。 - 【請求項2】 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(E)微粒子シリカを含有することを特徴とする請求項
1記載のシール材用光硬化型樹脂組成物。 - 【請求項3】 前記シール材用光硬化型樹脂組成物が、
(F)エポキシ基を有する化合物を含有することを特徴
とする請求項1又は2記載のシール材用光硬化型樹脂組
成物。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のうちいずれか一項記
載のシール材用光硬化型樹脂組成物を用いることを特徴
とする液晶又はエレクトロルミネッセンスディスプレイ
用シール剤。 - 【請求項5】 請求項4に記載のシール材用光硬化型樹
脂組成物を用いて液晶又はエレクトロルミネッセンスデ
ィスプレイのシールをすることを特徴とするシール方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017799A JP2001089743A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017799A JP2001089743A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089743A true JP2001089743A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17482607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27017799A Pending JP2001089743A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001089743A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002322464A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Ask Technica Corp | シール剤組成物 |
| JP2003327951A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsui Chemicals Inc | シール材用光硬化型樹脂組成物 |
| JP2003327785A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-19 | Henkel Loctite Corp | 光カチオン硬化型エポキシ樹脂組成物 |
| WO2005014686A1 (ja) * | 2003-08-12 | 2005-02-17 | Mitsui Chemicals, Inc. | 光硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフラットパネルディスプレイ用シール剤 |
| JP2006053425A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶パネルシール用光硬化性組成物及び液晶パネル |
| CN100404578C (zh) * | 2003-08-12 | 2008-07-23 | 三井化学株式会社 | 光固化型树脂组合物和用其的平板显示器用密封剂 |
| CN100410782C (zh) * | 2004-09-06 | 2008-08-13 | 日本化药株式会社 | 液晶密封材料和液晶显示单元及制造液晶显示单元的方法 |
| KR101348443B1 (ko) * | 2006-07-26 | 2014-01-06 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Led용 형광 물질 함유 경화성 실리콘 조성물 및 그조성물을 사용하는 led 발광 장치 |
| KR20160018362A (ko) | 2014-08-08 | 2016-02-17 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | 액정 시일제 및 그것을 이용한 액정 표시 셀, 그리고 액정 표시 셀의 제조 방법 |
| WO2019021934A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 株式会社ダイセル | モノマー混合物、及びそれを含む硬化性組成物 |
| JP2019026820A (ja) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | 株式会社ダイセル | モノマー混合物、及びそれを含む硬化性組成物 |
-
1999
- 1999-09-24 JP JP27017799A patent/JP2001089743A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002322464A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Ask Technica Corp | シール剤組成物 |
| JP2003327785A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-19 | Henkel Loctite Corp | 光カチオン硬化型エポキシ樹脂組成物 |
| US7456230B2 (en) | 2002-05-08 | 2008-11-25 | Henkel Corporation | Cationically photocurable epoxy resin compositions |
| JP2003327951A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsui Chemicals Inc | シール材用光硬化型樹脂組成物 |
| JP4804922B2 (ja) * | 2003-08-12 | 2011-11-02 | 三井化学株式会社 | 光硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフラットパネルディスプレイ用シール剤 |
| WO2005014686A1 (ja) * | 2003-08-12 | 2005-02-17 | Mitsui Chemicals, Inc. | 光硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフラットパネルディスプレイ用シール剤 |
| JPWO2005014686A1 (ja) * | 2003-08-12 | 2007-10-04 | 三井化学株式会社 | 光硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフラットパネルディスプレイ用シール剤 |
| CN100404578C (zh) * | 2003-08-12 | 2008-07-23 | 三井化学株式会社 | 光固化型树脂组合物和用其的平板显示器用密封剂 |
| KR101121671B1 (ko) * | 2003-08-12 | 2012-03-14 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광경화형 수지 조성물 및 그것을 이용한 플랫 패널디스플레이용 실링제 |
| US7495035B2 (en) | 2003-08-12 | 2009-02-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | Photo-curable resin composition and sealing agent for flat panel display using the same |
| JP2006053425A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶パネルシール用光硬化性組成物及び液晶パネル |
| US7521099B2 (en) | 2004-09-06 | 2009-04-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Liquid crystal sealing material and liquid crystal display cell using same |
| CN100410782C (zh) * | 2004-09-06 | 2008-08-13 | 日本化药株式会社 | 液晶密封材料和液晶显示单元及制造液晶显示单元的方法 |
| KR101348443B1 (ko) * | 2006-07-26 | 2014-01-06 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Led용 형광 물질 함유 경화성 실리콘 조성물 및 그조성물을 사용하는 led 발광 장치 |
| KR20160018362A (ko) | 2014-08-08 | 2016-02-17 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | 액정 시일제 및 그것을 이용한 액정 표시 셀, 그리고 액정 표시 셀의 제조 방법 |
| WO2019021934A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 株式会社ダイセル | モノマー混合物、及びそれを含む硬化性組成物 |
| JP2019026820A (ja) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | 株式会社ダイセル | モノマー混合物、及びそれを含む硬化性組成物 |
| KR20190130660A (ko) * | 2017-07-28 | 2019-11-22 | 주식회사 다이셀 | 모노머 혼합물 및 그것을 포함하는 경화성 조성물 |
| KR102252659B1 (ko) | 2017-07-28 | 2021-05-20 | 주식회사 다이셀 | 모노머 혼합물 및 그것을 포함하는 경화성 조성물 |
| US11339245B2 (en) | 2017-07-28 | 2022-05-24 | Daicel Corporation | Monomer mixture and curable composition containing same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4193343B2 (ja) | シール剤用光硬化型樹脂組成物およびシール方法 | |
| US6586496B1 (en) | Photocurable resin composition for sealing material and method of sealing | |
| US20030062125A1 (en) | Photocationic-curable resin composition and uses thereof | |
| JP2003327951A (ja) | シール材用光硬化型樹脂組成物 | |
| JP2010018797A (ja) | 光学部品用硬化性組成物、光学部品用接着剤及び有機エレクトロルミネッセンス素子用封止剤 | |
| WO2001044344A1 (en) | Curable resin composition, process for producing the same, and coated object made with the same | |
| WO2013172145A1 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| US7495035B2 (en) | Photo-curable resin composition and sealing agent for flat panel display using the same | |
| JPH07179511A (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
| CN114761460B (zh) | 阳离子固化性组合物、固化物及接合体 | |
| JP2001089743A (ja) | シール材用光硬化型樹脂組成物、シール方法 | |
| JP2003096184A (ja) | 光硬化型樹脂組成物 | |
| JP2019183048A (ja) | 光熱併用硬化型樹脂組成物、接着剤及びその硬化物 | |
| JP4753601B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JP5168860B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH11343396A (ja) | エポキシ基含有コロイド粒子有機溶剤液、エポキシ基含有コロイド粒子、このコロイド粒子を含む活性エネルギー線硬化型組成物及びそれを使用した被膜形成方法 | |
| JP2003096185A (ja) | 光硬化型樹脂組成物 | |
| JP4050573B2 (ja) | 光硬化型樹脂組成物 | |
| JP4805216B2 (ja) | 光硬化型樹脂組成物 | |
| JP2011225886A (ja) | 光硬化型樹脂組成物 | |
| JP4725706B2 (ja) | 光硬化性組成物 | |
| JP4119145B2 (ja) | 光記録媒体接着用樹脂組成物 | |
| CN100404578C (zh) | 光固化型树脂组合物和用其的平板显示器用密封剂 | |
| JP2009298888A (ja) | 光後硬化性組成物 | |
| JP2005187636A (ja) | 光硬化性樹脂組成物、表示素子用接着剤、接着方法および表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040528 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060920 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060926 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070206 |