JP2001081459A - Oxide phosphor - Google Patents
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 108
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910000873 Beta-alumina solid electrolyte Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 16
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract description 12
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000011029 spinel Substances 0.000 abstract description 9
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 53
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 35
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 25
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 13
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 10
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 8
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 5
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 4
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 4
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N gallium(III) oxide Inorganic materials O=[Ga]O[Ga]=O QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003991 Rietveld refinement Methods 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150080168 XA21 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEIMSPAXMNYFJ-UHFFFAOYSA-N europium(III) oxide Inorganic materials O=[Eu]O[Eu]=O RSEIMSPAXMNYFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- -1 organic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Luminescent Compositions (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、希土類元素を有す
る酸化物を母体とする蛍光体に関し、詳しくは、蛍光表
示管等の表示装置における蛍光素子に好適に用い得る蛍
光体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phosphor mainly composed of an oxide containing a rare earth element, and more particularly to a phosphor which can be suitably used for a fluorescent element in a display device such as a fluorescent display tube.
【0002】[0002]
【従来の技術】光、放射線等のエネルギー吸収に基づい
て発光する蛍光体は、陽極の駆動電圧が1kV以下の蛍
光表示装置(以下「VFD」という。)や電界放出形陰
極を電子源に用いた表示装置(以下「FED」とい
う。)等の表示装置に蛍光素子(発光源)として利用さ
れている。従来、かかる表示装置には、青色発光のZn
S:Zn(即ち付活剤がZnであり、母体物質がZnS
である。以下同様。)、ZnS:Ag,Cl、緑色発光
のZnS:Cu,Al、(Zn,Cd)S:Ag、赤色
発光の(Zn,Cd)S:Ag,Cl、Y2O2S:E
u等の硫化物蛍光体が多用されてきた。2. Description of the Related Art Phosphors that emit light based on energy absorption of light, radiation, etc., use a fluorescent display device (hereinafter referred to as "VFD") having an anode drive voltage of 1 kV or less or a field emission cathode as an electron source. It is used as a fluorescent element (light source) in a display device such as a display device (hereinafter referred to as “FED”). Conventionally, such a display device includes a blue light emitting Zn.
S: Zn (that is, the activator is Zn and the host substance is ZnS
It is. The same applies hereinafter. ), ZnS: Ag, Cl, green-emitting ZnS: Cu, Al, (Zn, Cd) S: Ag, red-emitting (Zn, Cd) S: Ag, Cl, Y 2 O 2 S: E
Sulfide phosphors such as u have been frequently used.
【0003】しかしながら、硫化物蛍光体は、例えばV
FD用途に利用された場合、電子線の衝突等によって母
体物質から分解・分離した硫黄成分が陰極(カソード)
の表面に付着して電子放出特性を劣化させ、結果、当該
蛍光体の輝度が低下する場合があった。また、環境問題
の高まりによって、Cdのような環境上好ましくない元
素を含む蛍光体の使用が控えられるようになってきてい
る。かかる状況下、硫化物蛍光体に代えて、緑色発光の
ZnGa2O4:Mn、ZnO:Znや赤色発光のY2
O3:Eu、SnO2:Eu等、上記硫化物蛍光体にお
けるような欠点を有さない酸化物蛍光体の利用拡大が図
られている。However, sulfide phosphors are, for example, V
When used for FD applications, the sulfur component decomposed and separated from the base material by electron beam collision etc. is a cathode (cathode)
And deteriorated the electron emission characteristics, and as a result, the luminance of the phosphor was sometimes reduced. In addition, the use of phosphors containing environmentally unfavorable elements such as Cd has been curtailed due to the increase in environmental problems. Under such circumstances, instead of the sulfide phosphor, green light-emitting ZnGa 2 O 4 : Mn, ZnO: Zn or red light-emitting Y 2
Oxide phosphors, such as O 3 : Eu and SnO 2 : Eu, which do not have the drawbacks of the above-mentioned sulfide phosphors, are being used more widely.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで上記表示装置
等に用いられる蛍光体には、一般的に高輝度であること
及び導電性を有することが要求される。輝度が低いと満
足な映像表示能が発揮されず、また、導電性が低いと蛍
光体表面に負電荷が蓄積されがちであり、結果、照射し
た電子線を反発して満足な発光が得られなくなるからで
ある。By the way, the phosphor used for the above-mentioned display device or the like is generally required to have high luminance and to have conductivity. If the brightness is low, satisfactory image display performance is not exhibited, and if the conductivity is low, negative charges tend to be accumulated on the phosphor surface, and as a result, satisfactory light emission is obtained by repelling the irradiated electron beam. Because it is gone.
【0005】しかしながら、上記従来の酸化物蛍光体
は、かかる性能上の要件を必ずしも充分に満たすもので
はなかった。すなわち、上記のY2O3:Eu、SnO
2:Eu等は、同様の発光色を示す硫化物蛍光体に比べ
て低輝度である。このため、これら酸化物蛍光体は、特
に加速電圧が数十ボルト以下である比較的低速の電子線
による発光装置であるVFD等において、硫化物蛍光体
の代替品とはなり得ない。また、Y2O3:Eu等はそ
れ自体の導電性が低い(絶縁性が高い)という問題があ
る。すなわち、導電性が低いと蛍光体表面に負電荷が蓄
積されてしまい、結果、電子線を反発するようになって
発光が阻害されるからである(所謂チャージアップ現
象)。このため、かかるチャージアップ現象を回避すべ
く所望する導電性を獲得するためにはどうしてもIn2
O3やSnO2等の導電性物質を比較的多量に混合して
使用せざるを得なかった。ところがこのような導電性物
質が発光に寄与することはなく、むしろ当該導電性物質
の添加量に応じて蛍光体の発光レベルが低下してしまう
という弊害があった。また、上記性能上の要件を一応の
レベルにおいて具備しているZnGa2O4:MnやZ
nO:Znでは、赤色系の発光が実現できなかった。[0005] However, the above-mentioned conventional oxide phosphors do not always sufficiently satisfy such performance requirements. That is, the above Y 2 O 3 : Eu, SnO
2 : Eu and the like have lower luminance than sulfide phosphors that emit the same color. For this reason, these oxide phosphors cannot be used as substitutes for sulfide phosphors, particularly in VFDs and the like, which are light-emitting devices using a relatively low-speed electron beam having an acceleration voltage of several tens of volts or less. In addition, Y 2 O 3 : Eu and the like have a problem of low conductivity (high insulation). That is, if the conductivity is low, negative charges are accumulated on the phosphor surface, and as a result, electron beams are repelled and light emission is inhibited (a so-called charge-up phenomenon). Therefore, in order to obtain the desired conductivity in order to avoid such a charge-up phenomenon, In 2 must be used.
A relatively large amount of conductive substances such as O 3 and SnO 2 must be mixed and used. However, such a conductive substance does not contribute to light emission, but rather has a disadvantage that the light emission level of the phosphor is reduced according to the amount of the conductive substance added. In addition, ZnGa 2 O 4 : Mn or Z, which has the above-mentioned performance requirements at a tentative level.
With nO: Zn, red light emission could not be realized.
【0006】本発明は、従来使用されている酸化物蛍光
体の上記問題点を解決するべく創出されたものであり、
その目的とするところは、上記性能上の要件を具備しつ
つVFD、FED等に広く適用し得る新たな酸化物蛍光
体を提供することである。The present invention has been made to solve the above problems of the conventionally used oxide phosphors.
It is an object of the present invention to provide a new oxide phosphor which has the above performance requirements and can be widely applied to VFD, FED, and the like.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記従来の問題点を解決
するために提供される本発明の酸化物蛍光体は、導電性
を有する部分と外部から受けたエネルギーによって発光
する部分とを有する酸化物蛍光体である。そして、当該
導電性部分と発光部分とが相互に積層して成る結晶構造
を有する酸化物蛍光体である。The oxide phosphor of the present invention provided to solve the above-mentioned conventional problems has an oxide phosphor having a portion having conductivity and a portion emitting light by energy received from the outside. Object phosphor. Further, the oxide phosphor has a crystal structure in which the conductive portion and the light emitting portion are stacked on each other.
【0008】かかる構成の本発明の酸化物蛍光体では、
電子線の照射によって、上記発光部分において蛍光を発
する一方で、当該電子線照射によって生じる発光部分の
電荷は上記導電性部分を介して外部(例えば基板)に逃
がすことができる。従って、本発明の酸化物蛍光体によ
れば、In2O3やSnO2等の導電性物質を多量に混
合することなくチャージアップ現象を回避することがで
きる。In the oxide phosphor of the present invention having such a structure,
The emission of the electron beam causes the light emitting portion to emit fluorescence, while the charge of the light emitting portion caused by the electron beam irradiation can escape to the outside (for example, a substrate) via the conductive portion. Therefore, according to the oxide phosphor of the present invention, the charge-up phenomenon can be avoided without mixing a large amount of a conductive substance such as In 2 O 3 or SnO 2 .
【0009】また、本発明の酸化物蛍光体として好まし
いものは、上記発光部分に希土類元素を含有する。かか
る希土類元素(典型的にはイオン)が含有されると当該
元素に応じた発光色を安定して得ることができる。[0009] Further, a preferable phosphor as the oxide phosphor of the present invention contains a rare earth element in the light emitting portion. When such a rare earth element (typically an ion) is contained, a luminescent color corresponding to the element can be stably obtained.
【0010】好ましい本発明の酸化物蛍光体は、一般
式:A1−XLnXB1+XGa10 −XO17で示さ
れる酸化物蛍光体である。ここで式中のAはBa、S
r、Pb、CaおよびLaから成る群から選択され、L
nは希土類元素に属する元素のうちから選択され、Bは
ZnまたはMgである。また、式中のXは0.01〜
0.15の範囲内にある。また、好ましい他の態様の本
発明の酸化物蛍光体は、一般式:A1−XLnXBGa
11O19で示される酸化物蛍光体である。ここで式中
のAはBa、Sr、Pb、CaおよびLaから成る群か
ら選択され、Lnは希土類元素に属する元素のうちから
選択され、BはZnまたはMgである。また、式中のX
は0.01〜0.15の範囲内にある。The preferred oxide phosphor of the present invention have the general formula: an oxide phosphor represented by A 1-X Ln X B 1 + X Ga 10 -X O 17. Here, A in the formula is Ba, S
selected from the group consisting of r, Pb, Ca and La;
n is selected from elements belonging to rare earth elements, and B is Zn or Mg. X in the formula is 0.01 to
It is in the range of 0.15. In another preferred embodiment, the oxide phosphor of the present invention has a general formula: A 1-X Ln X BGa
An oxide phosphor represented by 11 O 19 . Here, A in the formula is selected from the group consisting of Ba, Sr, Pb, Ca and La, Ln is selected from elements belonging to rare earth elements, and B is Zn or Mg. Also, X in the formula
Is in the range of 0.01 to 0.15.
【0011】かかる一般式で特定され得る酸化物蛍光体
は、高い導電性を有すると共に蛍光体の表面層にある発
光部分で所望する発光色により発光させることができ
る。このため、本態様の酸化物発光体は、VFD等の表
示装置に好適に用いることができる。The oxide phosphor specified by the general formula has high conductivity and can emit light of a desired emission color at a light emitting portion on a surface layer of the phosphor. Therefore, the oxide light-emitting body of this embodiment can be suitably used for a display device such as a VFD.
【0012】従って、本発明の他の側面は、本発明によ
って提供された酸化物蛍光体のいずれかを蛍光発生源と
して備えることを特徴とする表示器を提供することであ
る。かかる本発明の表示器としては、具体的にはVF
D、FED、種々の陰極線管(CRT)、エレクトロル
ミネッセンス(EL)素子、等が挙げられる。[0012] Therefore, another aspect of the present invention is to provide a display device comprising any one of the oxide phosphors provided by the present invention as a fluorescent light source. Specifically, such a display according to the present invention includes VF
D, FED, various kinds of cathode ray tubes (CRT), electroluminescent (EL) elements, and the like.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明は、典型的には以下のよう
に実施され得る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention can be typically implemented as follows.
【0014】本発明の酸化物蛍光体は、外部からの励起
エネルギー(典型的には電子線、紫外線、X線)によっ
て発光する発光部分と当該発光部分よりも高い導電性を
有する導電性部分とが相互に積層して成る結晶構造を有
するものであればよく、特定のいくつかの化合物に限定
されるものではない。かかる結晶構造として好ましい形
態には、上記発光部分からなる結晶格子と上記導電性を
有する部分(即ち電子が通りやすい部分)からなる結晶
格子とが相互に積み重なった積層構造がある。特に好ま
しくは、一般にスピネル型構造(スピネルブロック)と
して分類される結晶構造を有するものであり、具体的に
は、マグネトプランバイト型またはβ−アルミナ型とい
われる結晶構造を有するものである。参考として図1に
マグネトプランバイト型およびβ−アルミナ型の結晶構
造の模式図を示す。(a)がβ−アルミナ型結晶構造を
示し、(b)がマグネトプランバイト型結晶構造を示し
ている。本図において、β−アルミナ型結晶構造はBa
2+(大きい黒丸)、Ga3+およびZn2+(小さい
黒丸)ならびにO 2−(白丸)で構成されている。一
方、マグネトプランバイト型結晶構造はLa 3+(大き
い黒丸)、Ga3+およびZn2+(小さい黒丸)なら
びにO2−(白丸)で構成されている。[0014] The oxide phosphor of the present invention can be excited from outside.
Energy (typically electron beams, ultraviolet rays, X-rays)
A light emitting portion that emits light through
Has a crystal structure in which conductive parts
And limited to some specific compounds
It is not something to be done. Preferred form for such a crystal structure
In the state, the crystal lattice consisting of the light emitting portion and the conductivity
A crystal consisting of a portion that has (ie, a portion through which electrons can easily pass)
There is a laminated structure in which lattices are stacked on each other. Especially preferred
In general, a spinel type structure (spinel block)
It has a crystal structure classified as
Is called magnetoplumbite type or β-alumina type.
It has a crystal structure of Figure 1 for reference
Crystal structure of magnetoplumbite type and β-alumina type
FIG. (A) shows a β-alumina type crystal structure
(B) shows a magnetoplumbite type crystal structure
ing. In this figure, the β-alumina type crystal structure is Ba
2+(Large black circle), Ga3+And Zn2+(small
Black circle) and O 2-(Open circles). one
On the other hand, the magnetoplumbite crystal structure is La 3+(big
Black circle), Ga3+And Zn2+(Small black circle)
O2-(Open circles).
【0015】本図に示すように、β−アルミナ型結晶構
造およびマグネトプランバイト型結晶構造のいずれもス
ピネルブロック(spinel block)といわれる層とミラープ
レーン(mirror plane)といわれる層とが積層する構造で
ある。このうち、スピネルブロック層は導電率の高い部
分であり上記導電性部分に相当する。他方、ミラープレ
ーン層は大きなカチオン(図中のBa2+、La3+)
を有しており、かかるカチオンを発光中心となり得る元
素(具体例は後述)に固溶置換することによって、所望
する色の発光を実現し得る蛍光体を作製することができ
る。また、このようなスピネルブロック層とミラープレ
ーン層とからなる密な積層構造によれば、発光部分にお
いて蓄積された負電荷を当該部分に隣接するいずれかの
導電性部分から逃がすことができる。従って、本結晶構
造の蛍光体では、上記発光部分における発光能と上記導
電性部分における導電特性とを高いレベルに兼備させる
ことができる。As shown in FIG. 1, in both the β-alumina type crystal structure and the magnetoplumbite type crystal structure, a structure in which a layer called a spinel block and a layer called a mirror plane are laminated. It is. Among them, the spinel block layer is a portion having high conductivity and corresponds to the above-mentioned conductive portion. On the other hand, the mirror plane layer has a large cation (Ba 2+ , La 3+ in the figure)
By replacing such a cation with an element capable of serving as a luminescence center (specific examples will be described later), a phosphor capable of realizing emission of a desired color can be produced. Further, according to such a dense laminated structure including the spinel block layer and the mirror plane layer, the negative charges accumulated in the light emitting portion can be released from any of the conductive portions adjacent to the light emitting portion. Therefore, in the phosphor having the present crystal structure, the light emitting ability in the light emitting portion and the conductive property in the conductive portion can be combined at a high level.
【0016】このような結晶構造を有する母体物質とし
ては、特に限定するものではないが、亜鉛(Zn)若し
くはマグネシウム(Mg)と、ガリウム(Ga)と、酸
素(O)とを基本主要構成元素とする酸化物が好まし
く、さらにミラープレーン層に配置されるカチオンとし
てバリウム(Ba)、ストロンチウム(Sr)、鉛(P
b)、カルシウム(Ca)およびランタン(La)のう
ちのいずれかのイオンを含むものが好適である。The host substance having such a crystal structure is not particularly limited, but includes zinc (Zn) or magnesium (Mg), gallium (Ga), and oxygen (O) as basic main constituent elements. Is preferable, and barium (Ba), strontium (Sr), and lead (P) are used as cations arranged in the mirror plane layer.
Those containing any ion of b), calcium (Ca) and lanthanum (La) are preferred.
【0017】他方、上記結晶構造を有する母体物質に含
まれるカチオンと固溶置換させる元素(イオン)として
は、従来の蛍光体における付活剤として利用し得るマン
ガン(Mn)、銅(Cu)等の元素(即ち発光中心とな
り得る元素)が挙げられるが、本発明の実施にあたって
好ましいものは希土類元素(イオン)である。すなわ
ち、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ラン
タン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(P
r)、ネオジム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマ
リウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム
(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(D
y)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリ
ウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)およびルテチウ
ム(Lu)である。特に、Eu、Ce、Tb、Tm、P
rおよびDyのいずれかが上記カチオンと固溶置換させ
る元素(イオン)として好適である。これら希土類元素
を固溶置換の対象とすることによって、高輝度と高導電
性を兼備した蛍光体を得ることができる。On the other hand, the elements (ions) to be solid-solution-substituted with the cations contained in the base material having the above crystal structure include manganese (Mn), copper (Cu) and the like which can be used as an activator in a conventional phosphor. (I.e., an element that can be a luminescence center), but a rare earth element (ion) is preferable in the practice of the present invention. That is, scandium (Sc), yttrium (Y), lanthanum (La), cerium (Ce), praseodymium (P
r), neodymium (Nd), promethium (Pm), samarium (Sm), europium (Eu), gadolinium (Gd), terbium (Tb), dysprosium (D
y), holmium (Ho), erbium (Er), thulium (Tm), ytterbium (Yb) and lutetium (Lu). In particular, Eu, Ce, Tb, Tm, P
Either r or Dy is suitable as an element (ion) for solid solution substitution with the cation. By subjecting these rare earth elements to solid solution substitution, a phosphor having both high luminance and high conductivity can be obtained.
【0018】本発明の蛍光体としては、一般式:A
1−XLnXB1+XGa10−XO1 7(以下「式
1」という)で示される酸化物蛍光体が特に好適であ
る。ここで式1中のAはBa、Sr、Pb、Caおよび
Laから成る群から選択され得る。特にBaが上記β−
アルミナ型構造を形成する上で好ましい。また、式1に
おいて、Lnは希土類元素に属する元素のうちから選択
され得るがEuまたはTbが好ましい。特にEuである
と、従来の酸化物蛍光体では成し得なかった高輝度の赤
色系発光を実現することができる。BはZnまたはMg
のいずれでもよい結果が得られる。また、式中のXは
0.01〜0.15の範囲内にあるのが上記結晶構造の
良好な形成と適切な発光強度を両立させる上で望まし
い。上記LnがEuの場合、より好ましくは上記Xが
0.05〜0.1の範囲内である。一方、上記LnがT
bの場合、より好ましくは上記Xが0.1〜0.15の
範囲内である。The phosphor of the present invention has a general formula: A
1-X Ln X B 1 + X Ga 10-X O 1 7 ( hereinafter "Formula 1" hereinafter) oxide phosphor represented by is particularly preferred. Here, A in Formula 1 can be selected from the group consisting of Ba, Sr, Pb, Ca and La. In particular, when Ba is the above β-
It is preferable for forming an alumina type structure. In the formula 1, Ln can be selected from elements belonging to rare earth elements, but Eu or Tb is preferable. In particular, when Eu is used, red light emission with high luminance, which cannot be achieved by the conventional oxide phosphor, can be realized. B is Zn or Mg
Either of the above gives good results. Further, X in the formula is preferably in the range of 0.01 to 0.15 in order to achieve both good formation of the crystal structure and appropriate emission intensity. When Ln is Eu, X is more preferably in the range of 0.05 to 0.1. On the other hand, when Ln is T
In the case of b, X is more preferably in the range of 0.1 to 0.15.
【0019】あるいは本発明の蛍光体としては、一般
式:A1−XLnXBGa11O19(以下「式2」と
いう)で示される酸化物蛍光体が特に好適である。ここ
で式2中のAはBa、Sr、Pb、CaおよびLaから
成る群から選択され得る。特にLaが上記マグネトプラ
ンバイト型構造を形成する上で好ましい。また、式2に
おいて、Lnは希土類元素に属する元素のうちから選択
され得るがEuまたはTbが好ましい。特にEuである
と、従来の酸化物蛍光体では成し得なかった高輝度の赤
色系発光を実現することができる。BはZnまたはMg
のいずれでもよい結果が得られる。また、式中のXは
0.01〜0.15の範囲内にあるのが上記結晶構造の
良好な形成と適切な発光強度を両立させる上で望まし
い。上記LnがEuの場合、より好ましくは上記Xが
0.05〜0.1の範囲内である。一方、上記LnがT
bの場合、より好ましくは上記Xが0.1〜0.15の
範囲内である。Alternatively, as the phosphor of the present invention, an oxide phosphor represented by the general formula: A 1-X Ln X BGa 11 O 19 (hereinafter referred to as “formula 2”) is particularly preferable. Here, A in Formula 2 can be selected from the group consisting of Ba, Sr, Pb, Ca and La. Particularly, La is preferable in forming the magnetoplumbite type structure. Further, in the formula 2, Ln can be selected from elements belonging to rare earth elements, but Eu or Tb is preferable. In particular, when Eu is used, red light emission with high luminance, which cannot be achieved by the conventional oxide phosphor, can be realized. B is Zn or Mg
Either of the above gives good results. Further, X in the formula is preferably in the range of 0.01 to 0.15 in order to achieve both good formation of the crystal structure and appropriate emission intensity. When Ln is Eu, X is more preferably in the range of 0.05 to 0.1. On the other hand, when Ln is T
In the case of b, X is more preferably in the range of 0.1 to 0.15.
【0020】次に、本発明の蛍光体の製造方法について
説明する。本発明の蛍光体は、通常のセラミックス製造
と同様、種々の化合物(出発原料)を高温条件下で混合
・焼成することによって得られる。かかる出発原料は、
焼成中に分解して酸化物になるものであればよく、必ず
しも原料段階で酸化物である必要はない。従って、出発
原料としては、本来の酸化物の他、種々の水酸化物、炭
酸塩、硝酸塩、有機酸塩類等が利用され得る。而して、
これらを所定の比率になるように混合し、大気中、不活
性雰囲気中若しくは還元雰囲気中において所定の温度域
で焼成することによって本発明の蛍光体が得られる。図
2に、式1に包含される化合物:Ba0.92Ln
0.08B1.08Ga 9.92O17を具体例とした
本発明の蛍光体製造の典型的な一方法を示す。図示され
るように、先ず本発明の母体物質を構成するための出発
原料(本図ではGa2O3、ZnOおよびBaCO3)
を所定比率で混合する。さらに、所望する付活濃度(こ
こでは8%)となるように、固溶置換させたい元素を含
む化合物(ここではEu2O3)を加えて混合する。特
に限定しないが、湿式混合(例えばメノウ乳鉢中でのア
セトン添加による混合)を適当時間(例えば20〜30
分)行うことが好ましい。而して、アルミナ坩堝等の適
当な焼成用耐熱容器中に混合試料を入れ、1000℃〜
1500℃程度の高温で焼成を行う。図2に示す酸化物
蛍光体を製造する場合、昇温速度を毎時200℃に設定
し、1100℃またはその前後の温度域(例えば105
0〜1150℃)で、10時間〜24時間程度の焼成を
行うことが好ましい。焼成終了後、炉冷して典型的には
粉末状の製造物を得ることができる。なお、最終的に得
ようとする無機酸化物(すなわち本発明の蛍光体)の組
成比に応じて、後述する実施例のように出発原料の組成
比を適宜変更することは当業者の設計事項である。Next, the method for producing the phosphor of the present invention will be described.
explain. The phosphor of the present invention can be used for ordinary ceramic production.
Mixes various compounds (starting materials) under high temperature conditions
-Obtained by firing. Such starting materials are
Any material that decomposes during firing into an oxide may be used.
It need not be an oxide at the raw material stage. Therefore, departure
As raw materials, in addition to the original oxides, various hydroxides and charcoal
Acid salts, nitrates, organic acid salts and the like may be utilized. Thus,
These are mixed so as to have a predetermined ratio, and are inert in the air.
Predetermined temperature range in neutral atmosphere or reducing atmosphere
Then, the phosphor of the present invention is obtained. Figure
2, a compound included in the formula 1: Ba0.92Ln
0.08B1.08Ga 9.92O17Was a specific example
1 shows a typical method for producing the phosphor of the present invention. Illustrated
First, the starting material for constructing the parent substance of the present invention
Raw material (Ga2O3, ZnO and BaCO3)
Are mixed at a predetermined ratio. In addition, the desired activation concentration (this
In this case, the content of the element to be solid-solution-substituted is 8%).
Compound (here, Eu2O3) And mix. Special
Although not limited to, wet mixing (eg, in an agate mortar)
Mixing by addition of seton) for an appropriate time (for example, 20-30)
Minutes). Therefore, it is not suitable for an alumina crucible or the like.
Put the mixed sample in the heat-resistant container for baking,
The firing is performed at a high temperature of about 1500 ° C. The oxide shown in FIG.
When manufacturing phosphors, set the heating rate to 200 ° C per hour
And a temperature range of 1100 ° C. or around (eg, 105
(0 to 1150 ° C) for about 10 to 24 hours
It is preferred to do so. After the firing, the furnace is cooled, typically
A powdery product can be obtained. Note that finally
Set of inorganic oxides (ie, phosphor of the present invention) to be used
Depending on the composition ratio, the composition of the starting material as in the examples described later
Changing the ratio as appropriate is a matter of design for a person skilled in the art.
【0021】上述した焼成手順等で得られる粉末状の本
発明の蛍光体は、従来のセラミックスと同様、その利用
形態に応じて種々の二次加工を施すことができる。例え
ば、本発明の蛍光体を後述する実施例6に示すような蛍
光表示管(図10参照)の蛍光素子として使用する場合
には、その装着形状に適合する薄膜状若しくはプレート
状に粉末状蛍光体を加工する。例えば、本発明の蛍光体
を有機バインダーを含むビークルを用いてペースト状に
加工した後、アノード電極が形成されたガラス基板にス
クリーン印刷で塗布し、さらに焼成によって有機バイン
ダーを除去することによって、本発明の蛍光体が塗布さ
れたアノード基板を作成することができる。本発明の蛍
光体は、かかる二次加工を施すことによって種々の形態
に加工することができ、結果、従来の蛍光体が利用され
ているようなVFD、FED、CRT等における蛍光素
子として利用することができる。The powdery phosphor of the present invention obtained by the above-described firing procedure or the like can be subjected to various secondary processings in accordance with the use form, similarly to conventional ceramics. For example, when the phosphor of the present invention is used as a fluorescent element of a fluorescent display tube (see FIG. 10) as described in Example 6 described later, a powdery fluorescent material in the form of a thin film or a plate suitable for the mounting shape. Work your body. For example, by processing the phosphor of the present invention into a paste using a vehicle containing an organic binder, applying the phosphor on a glass substrate on which an anode electrode is formed by screen printing, and further removing the organic binder by firing, the present invention is applied. An anode substrate coated with the phosphor of the present invention can be prepared. The phosphor of the present invention can be processed into various forms by performing such secondary processing. As a result, the phosphor is used as a fluorescent element in a VFD, FED, CRT or the like in which a conventional phosphor is used. be able to.
【0022】[0022]
【実施例】以下に説明するいくつかの実施例によって本
発明をさらに詳細に説明するが本発明をかかる実施例に
示すものに限定することを意図したものではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but it is not intended to limit the present invention to those shown in the examples.
【0023】<製造例>先ず、本発明の蛍光体の母体物
質の一製造例を説明する。BaCO3、Ga2O3およ
びZnOを所定比に秤量、混合した後、これをアルミナ
坩堝の中に入れ、空気中、1300〜1500℃で10
〜24時間の焼成を行った。その結果、BaZnGa
10O17に相当する原料組成比の粉末状無機化合物が
得られた。また、粉末X線回折の結果により、当該得ら
れた無機化合物は、ほぼ単一相の純粋物であることが明
らかとなった。図3の上段に、空気中1500℃、10
時間の焼成により得られた上記無機化合物の粉末X線回
折図形(XRDパターン)を示す。図中の横軸の数値は
2θ/deg.であり、縦軸は回折強度を示す。図中に不純
物としてBaGa2O4を示唆するピークが認められる
が、かかる不純物ピークは焼成時間をさらに延長するこ
とにより消滅した。図中の白丸印で示すピーク(KGa
11O17と同じピークと表記)は、結晶構造のシミュ
レーション結果(リートフェルト法による)との比較か
ら上記β−アルミナ型構造に帰属することが同定され
た。上記図1に示すように、マグネトプランバイト型構
造(図1の(b))と類似するβ−アルミナ型構造(図
1の(a))は、スピネル層とミラープレーン層が積層
した骨格からなるが、ミラープレーン層での原子の数と
配置が、マグネトプランバイト型構造と大きく異なり、
その結果がC軸方向の格子定数の大きさに反映される
(図1参照)。Stevels and Schrama-de Pauw(Journal
of Electrochemistry Society,123巻,691頁(1976年))に
よると、格子定数の(c/a)軸比が3.98以上であれば、β
−アルミナ型と判定されるのが一般的と報告している
が、本実施例ではリートベト法によるシミュレーション
によりこれを判定し、β−アルミナ型構造と決定した。<Production Example> First, one production example of the base material of the phosphor of the present invention will be described. After weighing and mixing BaCO 3 , Ga 2 O 3 and ZnO at a predetermined ratio, the mixture is placed in an alumina crucible and placed in air at 1300 to 1500 ° C. for 10 minutes.
The firing was performed for 2424 hours. As a result, BaZnGa
A powdered inorganic compound having a raw material composition ratio corresponding to 10 17 was obtained. In addition, the result of the powder X-ray diffraction revealed that the obtained inorganic compound was substantially a single-phase pure substance. In the upper part of FIG.
3 shows a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of the inorganic compound obtained by firing for a long time. The numerical value on the horizontal axis in the figure is 2θ / deg., And the vertical axis shows the diffraction intensity. A peak suggesting BaGa 2 O 4 as an impurity is observed in the figure, but such an impurity peak disappeared by further extending the firing time. The peak (KGa
The same peak as 11 O 17 ) was identified as belonging to the β-alumina type structure by comparison with the crystal structure simulation result (by the Rietveld method). As shown in FIG. 1 above, the β-alumina type structure (FIG. 1A) similar to the magnetoplumbite type structure (FIG. 1B) has a structure in which a spinel layer and a mirror plane layer are stacked. However, the number and arrangement of atoms in the mirror plane layer differ greatly from the magnetoplumbite structure.
The result is reflected in the magnitude of the lattice constant in the C-axis direction (see FIG. 1). Stevels and Schrama-de Pauw (Journal
According to the Electrochemistry Society, Vol. 123, p. 691 (1976)), if the (c / a) axis ratio of the lattice constant is 3.98 or more, β
-It is reported that it is generally determined to be an alumina type, but in the present example, this was determined by simulation using the Rietbet method, and a β-alumina type structure was determined.
【0024】同様に、BaCO3、Ga2O3およびM
gOをBaMgGa10O17に相当する組成比に秤
量、混合した後、これをアルミナ坩堝の中に入れ、空気
中、1300〜1500℃で10〜24時間の焼成を行
った。その結果、BaMgGa 10O17に相当する原
料組成比の粉末状無機化合物が得られた。また、粉末X
線回折の結果により、当該得られた無機化合物は、ほぼ
単一相の純粋物であることが明らかとなった。図3の下
段に、空気中1500℃、10時間の焼成により得られ
た上記無機化合物の粉末X線回折図形(XRDパター
ン)を示す。図3に示す粉末X線回折図形から明らかな
ように、ここで得られた無機化合物もまた、β−アルミ
ナ型構造の単一相からなる純粋物であった。また、本製
造例で得られた各粉末状化合物を1000MPaの荷重
で円板状に金型成型して得た試料体の導電性を調べたと
ころ、いずれも20Ω〜500Ωcmの比抵抗を示し
た。Similarly, BaCO3, Ga2O3And M
gO to BaMgGa10O17Weigh the composition ratio corresponding to
After mixing, put this in an alumina crucible and air
Medium firing at 1300-1500 ° C for 10-24 hours
Was. As a result, BaMgGa 10O17The equivalent of
A powdered inorganic compound having a composition ratio of the powder was obtained. Also, powder X
According to the result of the line diffraction, the obtained inorganic compound was almost
It was found to be a single phase pure. Below Figure 3
Obtained by firing at 1500 ° C for 10 hours in air
Powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern
). The powder X-ray diffraction pattern shown in FIG.
As described above, the inorganic compound obtained here is also β-aluminum
It was a pure substance consisting of a single phase with a na-type structure. In addition, this product
Each of the powdered compounds obtained in the fabrication examples was subjected to a load of 1000 MPa.
When the conductivity of the sample obtained by molding the disk into a disk was examined
At this time, each shows a specific resistance of 20Ω to 500Ωcm.
Was.
【0025】<比較例>SrCO3とGa2O3とを
1:6のモル比となるように秤量・混合した後、これを
アルミナ坩堝の中に入れ、空気中、1300℃で10〜
24時間焼成した。得られた試料(SrGa
12O19)の粉末X線回折図形を図14に示す。Vers
tegenがJournal of Solid State Chemistry,7巻468頁
(1973年)で報告した結果に基づいて、この試料は、マグ
ネトプランバイト型構造からなる単一相として同定し得
る。また、BaCO3とGa2O3とを混合したものに
関しても、1300℃〜1500℃における同様の焼成
条件において、マグネトプランバイト型構造からなる単
一相を得ることができた。図1に示すように、β−アル
ミナ型構造との比較においてマグネトプランバイト型の
結晶構造は、スピネル層とミラープレーンと呼ばれる岩
塩型層とが積み重なった様式の結晶相であり、得られた
結晶相の化学組成については、いずれもSrGa12O
19とBaGa12O19として表わすことができた。<Comparative Example> SrCO 3 and Ga 2 O 3 were weighed and mixed at a molar ratio of 1: 6, and then placed in an alumina crucible and placed in air at 1300 ° C. for 10 to 10 minutes.
It was baked for 24 hours. The obtained sample (SrGa
The powder X-ray diffraction pattern of 12 O 19 ) is shown in FIG. Vers
tegen, Journal of Solid State Chemistry, Vol. 7, p. 468
(1973), this sample can be identified as a single phase consisting of a magnetoplumbite-type structure. Also, for a mixture of BaCO 3 and Ga 2 O 3 , a single phase having a magnetoplumbite structure could be obtained under similar firing conditions at 1300 ° C. to 1500 ° C. As shown in FIG. 1, the magnetoplumbite-type crystal structure is a crystalline phase in which a spinel layer and a rock salt-type layer called a mirror plane are stacked in comparison with the β-alumina type structure. Regarding the chemical composition of the phases, SrGa 12 O
19 and BaGa 12 O 19 .
【0026】<実施例1>次に、上記製造例で得られた
無機化合物を母体物質とする本発明の蛍光体の一例を説
明する。上記製造例と同様に、BaCO3、Ga2O3
およびZnOを所定比に秤量して混合した後、さらにE
u3+の付活濃度が5%若しくは30%となるようにE
uO3を秤量して混合した。これらを十分に攪拌した混
合粉末について、空気中、1100〜1500℃、24
時間の条件で焼成を行った(図2参照)。<Example 1> Next, an example of the phosphor of the present invention using the inorganic compound obtained in the above production example as a base substance will be described. As in the above production example, BaCO 3 , Ga 2 O 3
After weighing and mixing ZnO and ZnO in a predetermined ratio,
E so that the activation concentration of u 3+ is 5% or 30%.
uO 3 was weighed and mixed. These mixed powders were sufficiently stirred, and in air, at 1100 to 1500 ° C., 24
The firing was performed under the condition of time (see FIG. 2).
【0027】得られた粉末状無機化合物の粉末X線回折
の結果(XRDパターン)を図4に示す。図中の下段の
パターンはEu3+の付活を行わない場合(即ち母体物
質のみ)のものであり、図中の中段のパターンはEu
3+の付活濃度5%の場合のものであり、図中の上段の
パターンはEu3+の付活濃度30%の場合のものであ
る。図示されるように、Eu3+付活濃度5%の試料
(Ba0.95Eu0.05Zn1.05Ga9.95
O17)については、上記製造例の化合物BaZnGa
10O17と同じ回折図形を示すことから、Eu3+が
適切に固溶置換していることが明らかとなった。一方、
Eu3+付活濃度30%の試料(Ba0.7Eu0.3
Zn1.3Ga 9.7O17)については、単一層のも
のは得られず、不純物相としてEu3Ga5O12が混
在することが明らかとなった(図4の上段の白丸ピーク
参照)。Powder X-ray diffraction of the obtained powdered inorganic compound
4 (XRD pattern) are shown in FIG. The lower part of the figure
The pattern is Eu3+Is not activated (that is, the parent
Quality only), and the middle pattern in the figure is Eu.
3+In the case of an activation concentration of 5%.
The pattern is Eu3+With an activation concentration of 30%
You. As shown, Eu3+Sample with activation concentration of 5%
(Ba0.95Eu0.05Zn1.05Ga9.95
O17)), The compound BaZnGa of the above production example
10O17Since it shows the same diffraction pattern as Eu,3+But
It was clarified that the solid solution substitution was properly performed. on the other hand,
Eu3+A sample having an activation concentration of 30% (Ba0.7Eu0.3
Zn1.3Ga 9.7O17) For single layer
Cannot be obtained, and the impurity phase is Eu.3Ga5O12Mixed
(The white circle peak in the upper part of FIG. 4)
reference).
【0028】図5に、Eu3+付活濃度5%の試料(B
a0.95Eu0.05Zn1.0 5Ga9.95O
17)の励起・発光スペクトル(励起波長:278n
m)を示す。本図に示すように、かかる試料では、Eu
3+の付活に伴う5D0〜7Fj(j=1,2)に帰属
される赤色発光(約615nmにピーク)が実現される
ことが明らかとなった。FIG. 5 shows a sample (B) having a Eu 3+ activation concentration of 5%.
a 0.95 Eu 0.05 Zn 1.0 5 Ga 9.95 O
17 ) excitation / emission spectrum (excitation wavelength: 278 n)
m). As shown in this figure, in such a sample, Eu
It became clear that red light emission (peak at about 615 nm) attributed to 5 D 0 to 7 F j (j = 1, 2) associated with activation of 3+ was realized.
【0029】<実施例2>La:Zn:Gaが1:1:
11および1:2:9の組成比となるように、出発原料
としてLa2O3およびGa2O3を秤量、混合した
後、空気中、1300〜1500℃で24時間の焼成を
行った。他方、上記と同じ組成比の出発原料に加え、E
u3+の付活濃度が5%、30%となるように、さらに
Eu2O3を秤量および混合した粉末に関しても同一の
条件で焼成を行った。而して、上記La:Zn:Gaが
1:1:11の組成比の場合の焼成で得られた各試料の
粉末X線回折図形(XRDパターン)を図6に示す。図
中の下段のパターンはEu3+の付活を行わない場合
(即ち母体物質のみ)のものであり、図中の中段のパタ
ーンはEu3+の付活濃度5%の場合のものであり、図
中の上段のパターンはEu3+の付活濃度30%の場合
のものである。Example 2 La: Zn: Ga is 1: 1:
After weighing and mixing La 2 O 3 and Ga 2 O 3 as starting materials so as to have a composition ratio of 11 and 1: 2: 9, firing was performed at 1300 to 1500 ° C. in air for 24 hours. On the other hand, in addition to the starting materials having the same composition ratio as above,
Sintering was also performed under the same conditions with respect to the powder obtained by weighing and mixing Eu 2 O 3 so that the activation concentration of u 3+ was 5% and 30%. FIG. 6 shows a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of each sample obtained by sintering when the composition ratio of La: Zn: Ga is 1: 1: 11. The lower pattern in the figure is a case where Eu 3+ is not activated (that is, only the base substance), and the middle pattern in the figure is a case where the Eu 3+ activation concentration is 5%. The upper pattern in the middle shows the case where the activation concentration of Eu 3+ is 30%.
【0030】図示されるように、La:Zn:Gaが
1:1:11の組成比によって合成された試料(即ちE
u3+付活なし)は、LaZnGa11O19の単一相
として得られた。また、上記比較例の回折図形との比較
により、この回折図形はマグネトプランバイト型構造で
あった。また、Eu3+付活濃度5%の試料(La0.
95Eu0.05ZnGa11O19)については、上
記LaZnGa11O1 9と同じ回折図形を示しており
(図6中段と下段参照)、Eu3+が適切に付活されて
いることが確認できる。しかしながら、Eu3+付活濃
度30%の試料(La0.7Eu0.3ZnGa11O
19)については、単一層のものは得られず、不純物相
としてEu3Ga5O12が混在することが明らかとな
った(図6の上段の白丸ピーク参照)。また、上記L
a:Zn:Gaが1:2:9の組成比で合成した場合の
ものは、いずれも不純物相であるZnGa2O4が混在
することが認められた(図示せず)。As shown, a sample in which La: Zn: Ga was synthesized at a composition ratio of 1: 1: 11 (ie, E:
u 3+ without activation) was obtained as a single phase of LaZnGa 11 O 19 . Further, as compared with the diffraction pattern of the comparative example, this diffraction pattern had a magnetoplumbite structure. In addition, a sample having 5% activation concentration of Eu 3+ (La 0.
95 For Eu 0.05 ZnGa 11 O 19), reference is (6 middle and lower shows the same diffraction pattern as the LaZnGa 11 O 1 9), it can be confirmed that the Eu 3+ is properly activated . However, a sample (La 0.7 Eu 0.3 ZnGa 11 O) having a Eu 3+ activation concentration of 30% was used.
19 ), a single layer was not obtained, and it was clarified that Eu 3 Ga 5 O 12 was mixed as an impurity phase (see the white circle peak in the upper part of FIG. 6). In addition, the above L
In the case of a: Zn: Ga synthesized at a composition ratio of 1: 2: 9, it was confirmed that ZnGa 2 O 4 as an impurity phase was mixed (not shown).
【0031】図7に、Eu3+付活濃度5%の試料(L
a0.95Eu0.05ZnGa1 1O19)の励起・
発光スペクトル(励起波長は291nm)を示す。本図
に示すように、かかる試料では、上記図5に示すものと
同様、赤色発光(約611nmにピーク)が実現される
ことが明らかとなった。また、本製造例で得られた各粉
末状化合物を1000MPaの荷重で円板状に金型成型
して得た試料体の導電性を調べたところ、いずれも10
Ω〜200Ωcmの比抵抗を示した。FIG. 7 shows a sample (L) having a Eu 3+ activation concentration of 5%.
excitation of a 0.95 Eu 0.05 ZnGa 1 1 O 19) ·
The emission spectrum (the excitation wavelength is 291 nm) is shown. As shown in this figure, it became clear that red light emission (peak at about 611 nm) was realized in such a sample as in the case shown in FIG. The conductivity of each sample obtained by molding each powdery compound obtained in the present production example into a disk shape under a load of 1000 MPa was 10%.
It showed a specific resistance of Ω to 200 Ωcm.
【0032】<実施例3>BaCO3、La2O3、Z
nOおよびGa2O3、さらにはEu3+の付活濃度が
5%となるようにEu2O3を所定比に秤量、混合した
後、これをアルミナ坩堝の中に入れ、空気中、1100
℃、1200℃、1300℃、1400℃および150
0℃の各温度条件で24時間の焼成を行った。図8に、
本実施例によって得られたBa0.95Eu0.05Z
n1.06Ga9.95O17試料(図中黒丸)および
La0.95Eu0.05ZnGa1 1O19試料(図
中白丸)の焼成温度と赤色発光強度との関係を示す。な
お、Ba0.95Eu0.05Zn1.06Ga
9.95O17試料についての励起波長は279nmで
あり、La0.95Eu0.05ZnGa11O19試
料についての励起波長は289nmである。図示される
ように、Ba0.95Eu0.05Zn1.06Ga
9.95O1 7試料については、1100℃〜1500
℃の各焼成温度でいずれも単一相が得られるが、110
0℃で焼成したときに最も大きな発光強度を示した。Example 3 BaCO 3 , La 2 O 3 , Z
After weighing and mixing Eu 2 O 3 at a predetermined ratio so that the activation concentration of nO, Ga 2 O 3 , and Eu 3+ becomes 5%, the mixture is put into an alumina crucible and placed in air in an air crucible.
C, 1200 C, 1300 C, 1400 C and 150
The firing was performed for 24 hours at each temperature condition of 0 ° C. In FIG.
Ba 0.95 Eu 0.05 Z obtained by this example
n 1.06 Ga 9.95 O 17 shows the relationship between the firing temperature and the red light-emitting intensity of the sample (drawing black circles) and La 0.95 Eu 0.05 ZnGa 1 1 O 19 samples (open circles in the figure). Note that Ba 0.95 Eu 0.05 Zn 1.06 Ga
The excitation wavelength for the 9.95 O 17 sample is 279 nm, and the excitation wavelength for the La 0.95 Eu 0.05 ZnGa 11 O 19 sample is 289 nm. As shown, Ba 0.95 Eu 0.05 Zn 1.06 Ga
9.95 The O 1 7 sample, 1100 ° C. to 1500
Although a single phase can be obtained at each firing temperature of
When baked at 0 ° C., the emission intensity was highest.
【0033】他方、La0.95Eu0.05ZnGa
11O19試料については、1100℃では出発原料が
一部残存してしまう(図示せず)一方で、1500℃で
は融解することが明らかとなった。また、単一相の得ら
れる1200℃〜1400℃の焼成温度条件において
は、発光強度の差は極めて少なかった(図8参照)。On the other hand, La 0.95 Eu 0.05 ZnGa
With respect to the 11 O 19 sample, it was found that a part of the starting material remained at 1100 ° C. (not shown), while it melted at 1500 ° C. Further, under the firing temperature conditions of 1200 ° C. to 1400 ° C. at which a single phase was obtained, the difference in emission intensity was extremely small (see FIG. 8).
【0034】<実施例4>上記製造例に示したBaZn
Ga10O17および実施例2に示したLaZnGa
11O19の合成手段により、これを母体物質として、
Eu3+の付活濃度を変化させた試料の合成を行った。
図9に、Eu3+の付活濃度に対する赤色発光強度の変
化の程度を示す。なお、ここではBa1−XEuXZn
1+XGa10−XO17(図中(a)における白丸)
は1100℃の温度条件で焼成し、La1−XZnXG
a11O19は1300℃の温度条件で焼成した(実施
例3参照)。また、Ba1−XEuXZn1+XGa
10−XO17については励起波長279nm、モニタ
ー波長616nmで行った。La1−XZnXGa11
O19については励起波長289nm、モニター波長6
11nmで行った。その結果、図示されるように、Ba
1−XEuXZn1+XGa10−XO1 7については
付活濃度が5%〜10%(X=0.05〜0.10)が
特に好ましく、8%前後が最適であった。一方、La
1−XZnXGa11O19については付活濃度が5%
〜10%(X=0.05〜0.10)が特に好ましく、
6%前後が最適であった。また、Ba1−XEuXZn
1+XGa10−XO17を使用した場合には、その付
活濃度Xが0.15以上でEu3Ga5O12が不純物
相として現れた(図示せず)。また、La1−XZnX
Ga11O19を使用した場合には、その付活濃度Xが
0.1以上でEu3Ga5O12が不純物相として現れ
た(図示せず)。以上の結果より、Ba1−XEuXZ
n1+XGa10−XO17およびLa 1−XZnXG
a11O19のいずれについても、好適な発光強度を得
るには、その付活濃度は1〜15%(X=0.01〜
0.15)がよい。<Embodiment 4> BaZn shown in the above production example
Ga10O17And LaZnGa shown in Example 2.
11O19By using this as a parent substance,
Eu3+A sample in which the activation concentration was changed was synthesized.
FIG.3+Of red emission intensity with activation concentration
Indicates the degree of conversion. Note that here, Ba1-XEuXZn
1 + XGa10-XO17(White circle in (a) in the figure)
Is fired at a temperature of 1100 ° C.1-XZnXG
a11O19Was fired at a temperature of 1300 ° C.
See Example 3). Also, Ba1-XEuXZn1 + XGa
10-XO17About 279nm excitation wavelength, monitor
-Performed at a wavelength of 616 nm. La1-XZnXGa11
O19About excitation wavelength 289 nm, monitor wavelength 6
The measurement was performed at 11 nm. As a result, as shown in FIG.
1-XEuXZn1 + XGa10-XO1 7about
When the activation concentration is 5% to 10% (X = 0.05 to 0.10)
Particularly preferred, around 8% was optimal. On the other hand, La
1-XZnXGa11O19About 5% activation concentration
-10% (X = 0.05-0.10) is particularly preferable,
About 6% was optimal. Also, Ba1-XEuXZn
1 + XGa10-XO17If you use
When the active concentration X is 0.15 or more, Eu3Ga5O12Is an impurity
Appeared as a phase (not shown). Also, La1-XZnX
Ga11O19Is used, the activation concentration X becomes
Eu over 0.13Ga5O12Appears as an impurity phase
(Not shown). From the above results, Ba1-XEuXZ
n1 + XGa10-XO17And La 1-XZnXG
a11O19In each case, a suitable emission intensity was obtained.
To achieve this, the activation concentration is 1 to 15% (X = 0.01 to
0.15) is preferable.
【0035】<実施例5>Eu3+に代えてTb3+を
付活剤とする本発明の蛍光体を作製した。すなわち、B
aCO3、Ga2O3およびZnOを所定比に秤量し、
さらにTb3+を付活剤とするためにTb4O7を所定
比に秤量し、これらを混合した粉末をアルミナ坩堝に入
れ、空気中、1100℃〜1500℃、24時間の条件
で焼成を行った。得られた試料(Ba1−XEuXZn
1+XGa10−XO17)は粉末X線回折の結果よ
り、β−アルミナ型構造の単一相として同定された。ま
た、BaCO3、La2O3、Ga2O3およびZnO
を所定比に秤量し、さらにTb3+を付活剤とするため
にTb4O7を所定比に秤量し、これらを混合した粉末
をアルミナ坩堝に入れ、空気中、1100℃〜1500
℃、24時間の条件で焼成を行った。得られた試料(L
a1−XTbXZnGa11O19)は粉末X線回折の
結果より、マグネトプランバイト型構造の単一相として
同定された。Example 5 A phosphor of the present invention using Tb 3+ as an activator instead of Eu 3+ was produced. That is, B
aCO 3 , Ga 2 O 3 and ZnO are weighed to a predetermined ratio,
Further, in order to use Tb 3+ as an activator, Tb 4 O 7 is weighed at a predetermined ratio, the powder obtained by mixing them is placed in an alumina crucible, and calcined in air at 1100 ° C. to 1500 ° C. for 24 hours. Was. The obtained sample (Ba 1-X Eu X Zn
1 + X Ga 10-X O 17 ) was identified as a single phase having a β-alumina type structure from the result of powder X-ray diffraction. BaCO 3 , La 2 O 3 , Ga 2 O 3 and ZnO
Is weighed at a predetermined ratio, and further, Tb 4 O 7 is weighed at a predetermined ratio in order to use Tb 3+ as an activator, and a powder obtained by mixing them is placed in an alumina crucible, and placed in air at 1100 ° C. to 1500 ° C.
The firing was performed at 24 ° C. for 24 hours. The obtained sample (L
a 1-X Tb X ZnGa 11 O 19 ) was identified as a single phase having a magnetoplumbite structure from the result of powder X-ray diffraction.
【0036】次に、上記得られた各試料を、実施例4と
同様にして、Tb3+の付活濃度に対する緑色発光強度
の変化を調べた。その結果、緑色発光に最適なTb3+
の付活濃度はいずれの試料についても10〜15%(X
=0.10〜0.15)であることが確認された(図示
せず)。Next, in the same manner as in Example 4, the change in green light emission intensity with respect to the activation concentration of Tb 3+ was examined for each of the obtained samples. As a result, Tb 3+ optimal for green light emission
The activation concentration of each sample was 10 to 15% (X
= 0.10 to 0.15) (not shown).
【0037】<実施例6>次に、上記実施例で得られた
本発明の蛍光体をVFDに適用した一例について説明す
る。なお、図10は本発明の蛍光体が適用された本実施
例に係る蛍光表示管10の一部を切り欠いて示す斜視図
である。本蛍光表示管10は、所定の発光パターンに形
成された蛍光体層20S,20D,20Nを複数箇所に
備えたガラス、セラミックス、琺瑯などの絶緑性材料製
の基板12と、枠状に形成されたガラス製のスペーサ1
4と、透明なカバー・ガラス板16と、複数本の陽極端
子18P、複数本のグリッド端子18G、カソード18
K、および補助グリッド端子18SGとを備えている。
而して、それら基板12、スペーサ14、およびカバー
・ガラス板16が相互にガラス封着されることにより気
密容器が構成され、その内部にそれらの部材により囲ま
れた真空空間が形成されている。Embodiment 6 Next, an example in which the phosphor of the present invention obtained in the above embodiment is applied to a VFD will be described. FIG. 10 is a perspective view of the fluorescent display tube 10 according to the present embodiment to which the phosphor of the present invention is applied, with a part thereof being cut away. The present fluorescent display tube 10 is formed in a frame shape with a substrate 12 made of a green material such as glass, ceramics, or enamel having a plurality of phosphor layers 20S, 20D, and 20N formed in a predetermined light emitting pattern. Glass spacer 1
4, a transparent cover glass plate 16, a plurality of anode terminals 18P, a plurality of grid terminals 18G, a cathode 18
K and an auxiliary grid terminal 18SG.
Thus, the substrate 12, the spacer 14, and the cover glass plate 16 are sealed with glass to form an airtight container, and a vacuum space surrounded by these members is formed therein. .
【0038】一方、上記基板12の真空空間により覆わ
れた蛍光表示管10の表示面19には、セグメントで
「8」文字形状を表す複数個の蛍光体層20S、ドット
形状を表す1個の蛍光体層20D、「1」文字形状を菱
す1個の蛍光体層20N等が配置されている。それら各
蛍光体層20S,20D,20Nは、グリッド電極22
および補助グリッド電極24によりそれぞれ囲まれてい
る。そして、上記各蛍光体層20S,20D,20Nの
うちの各表示桁毎にあらかじめ定められた位置のもの
は、後述する陽極用プリント配線34を介して各陽極端
子18Pにそれぞれ接続されている。また、上記各グリ
ッド電極22はグリッド配線26を介して各グリッド端
子18Gにそれぞれ接続され、各補助グリッド電極24
は補助グリッド配線28を介して各補助グリッド端子1
8SGに接続されている。On the other hand, on the display surface 19 of the fluorescent display tube 10 covered by the vacuum space of the substrate 12, a plurality of phosphor layers 20S representing a character shape of "8" in a segment and one phosphor layer representing a dot shape are provided. A phosphor layer 20D, one phosphor layer 20N forming a “1” character shape, and the like are arranged. Each of the phosphor layers 20S, 20D, 20N is connected to a grid electrode 22.
And the auxiliary grid electrode 24 respectively. The ones of the phosphor layers 20S, 20D, and 20N that are determined in advance for each display digit are connected to the anode terminals 18P via anode printed wirings 34 described later. Each grid electrode 22 is connected to each grid terminal 18G via a grid wiring 26, and each auxiliary grid electrode 24
Indicates each auxiliary grid terminal 1 via the auxiliary grid wiring 28.
8SG.
【0039】また、上記基板12の両端部には、上記カ
ソード端子18Kを備えた一対のフィラメント支持フレ
ーム30(図10では右側に位置する一方だけを示す。)
がそれぞれ固設されており、それらフィラメント支持フ
レーム30の間には、直熱型カソード(陰極)として機能
する細線状の複数本のフィラメント(フィラメント・カ
ソード)32が基板12の長手方向に平行であって基板
12の表示面19から離隔した所定の高さ位置となるよ
うに張設されている。このフィラメント32は、例え
ば、表面に電子放出層として(Ba、Sr、Ca)O等
のような比較的仕事関数の低いアルカリ土類金属の酸化
物固溶体がコーティングされたタングステン・ワイヤ等
からなるものである。At both ends of the substrate 12, a pair of filament supporting frames 30 provided with the cathode terminals 18K (only one located on the right side is shown in FIG. 10).
A plurality of thin filaments (filament / cathode) 32 functioning as a directly heated cathode (cathode) are arranged between the filament supporting frames 30 in parallel with the longitudinal direction of the substrate 12. It is stretched so as to be at a predetermined height away from the display surface 19 of the substrate 12. The filament 32 is made of, for example, a tungsten wire or the like whose surface is coated with an oxide solid solution of an alkaline earth metal having a relatively low work function such as (Ba, Sr, Ca) O as an electron emitting layer. It is.
【0040】図11およびそのXII−XII線断面図
である図12は、上記表示面19に備えられた表示パタ
ーンの1つである「8」文字形状の蛍光体層20S近傍
の構成およびその断面構造を示す図である。これら図面
に示すように、基板12の表示面19には、陽極端子1
8Pに接続される陽極用プリント配線34が厚膜スクリ
ーン印刷法や蒸着法等によって形成されている。その上
には、所定の厚みに形成され且つ厚み方向に貫通するス
ルーホール36を適宜備えた絶縁体層38が固着されて
いる。この絶縁体層38は、厚膜スクリーン印刷法等に
よって形成されたものであり、低融点ガラスおよび着色
顔料で構成されている。FIG. 11 and FIG. 12, which is a cross-sectional view taken along the line XII-XII, show the structure near the "8" character-shaped phosphor layer 20S, which is one of the display patterns provided on the display surface 19, and its cross section. It is a figure showing a structure. As shown in these drawings, the display surface 19 of the substrate 12 has an anode terminal 1
An anode printed wiring 34 connected to 8P is formed by a thick film screen printing method, a vapor deposition method, or the like. An insulator layer 38 formed at a predetermined thickness and appropriately provided with a through hole 36 penetrating in the thickness direction is fixed thereon. The insulator layer 38 is formed by a thick film screen printing method or the like, and is made of a low-melting glass and a coloring pigment.
【0041】また、上記絶縁体層38の上には、蛍光体
層20Sと同様であるが若干大きいパターン形状のグラ
ファイト層40が上記スルーホール36を介して陽極用
印刷配線34と導通する位置に形成されている。このグ
ラファイト層40は表示管10の陽極として機能するも
のである。本実施例においてかかる蛍光体層20S,2
0D,20Nは、このグラファイト層40の上に厚膜蛍
光体ぺ一ストを印刷して形成されたものであり、当該グ
ラファイト層40を介して加速電圧が印加されるように
構成されている。なお、かかる蛍光体層20S,20
D,20Nには、R(赤)、G(緑)、B(青)等の発光色を
有する本発明の蛍光体が適宜選択されて用いられる。す
なわち、上記蛍光体層20S,20D,20Nは、グラ
ファイト層40の上に本発明の蛍光体からなるペースト
が厚膜状に印刷されることによって形成され得る。On the insulator layer 38, a graphite layer 40 similar to the phosphor layer 20S but having a slightly larger pattern is formed at a position where the graphite layer 40 is electrically connected to the anode printed wiring 34 via the through hole 36. Is formed. This graphite layer 40 functions as an anode of the display tube 10. In this embodiment, the phosphor layers 20S, 2
0D and 20N are formed by printing a thick film phosphor paste on the graphite layer 40, and are configured so that an acceleration voltage is applied through the graphite layer 40. The phosphor layers 20S, 20S
As the D and 20N, the phosphor of the present invention having an emission color such as R (red), G (green), or B (blue) is appropriately selected and used. That is, the phosphor layers 20S, 20D, and 20N can be formed by printing the paste made of the phosphor of the present invention on the graphite layer 40 in a thick film shape.
【0042】一方、蛍光体層20Sの周囲には、その外
周縁に接触し旦つ取り囲んだ状態のリブ状壁44がグラ
ファイト層40の上からフィラメント32に向かう方向
へ立設されている。さらにリブ状壁44は、絶緑体層3
8上に立設された補助リブ状壁46によって取り囲まれ
ている。これらリブ状壁44および補助リブ状壁46
は、低融点ガラスおよびアルミナ等の無機フィラー等か
らなるものであり、互いに同様な高さ寸法を有して何れ
もその上端が蛍光体層20Sよりも上側に位置する。On the other hand, on the periphery of the phosphor layer 20S, a rib-like wall 44 which is in contact with and surrounds the outer peripheral edge of the phosphor layer 20S is erected from the graphite layer 40 toward the filament 32. Further, the rib-like wall 44 is provided with the green body layer 3.
8 is surrounded by an auxiliary rib-like wall 46 standing upright. These rib-like walls 44 and auxiliary rib-like walls 46
Are made of low-melting-point glass and an inorganic filler such as alumina, etc., have the same height dimensions, and have their upper ends located above the phosphor layer 20S.
【0043】上記グリッド電極22および補助グリッド
電極24は、粒子状のグラファイト、銀、パラジウム、
銅、アルミニウム、ニッケル等の粒子状導電性物質を主
成分とする厚膜導体であって、厚膜スクリーン印刷法に
よってこれらリブ状壁44および補助リブ状壁46の頂
部に所定の厚さで設けられている。また、グリッド電極
22および補助グリッド電極24は、絶縁体層38の上
に形成されたグリッド配線26、補助グリッド配線2
8、およびそれらに連続して形成されたグリッド・パッ
ド48、補助グリッド・パッド50を介して上記グリッ
ド端子18G、補助グリッド端子18SGにそれぞれ接
続されている。The grid electrode 22 and the auxiliary grid electrode 24 are made of particulate graphite, silver, palladium,
A thick-film conductor mainly composed of a particulate conductive material such as copper, aluminum, and nickel, which is provided with a predetermined thickness on top of the rib-shaped wall 44 and the auxiliary rib-shaped wall 46 by a thick-film screen printing method. Have been. The grid electrode 22 and the auxiliary grid electrode 24 are formed by the grid wiring 26 and the auxiliary grid wiring 2 formed on the insulator layer 38.
8 and the grid terminal 18G and the auxiliary grid terminal 18SG are connected to the grid terminal 18G and the auxiliary grid terminal 18SG, respectively, via a grid pad 48 and an auxiliary grid pad 50 formed continuously therefrom.
【0044】図10に示すように、蛍光表示管10の左
端部すなわち長手方向における一方の端部には、円筒状
のガラスからなる排気管52が備えられている。この排
気管52は、蛍光表示管10の製造工程において、上述
の基板12、スペーサ14、およびカバー・ガラス板1
6をガラス封着して気密容器が構成された後に、その内
部から排気して真空にする目的で設けられたものであ
り、その先端部は排気終了後にガス・バーナー等によっ
て溶断されている。As shown in FIG. 10, at the left end of the fluorescent display tube 10, that is, at one end in the longitudinal direction, an exhaust pipe 52 made of cylindrical glass is provided. In the manufacturing process of the fluorescent display tube 10, the exhaust pipe 52 serves as the substrate 12, the spacer 14, and the cover glass plate 1 described above.
This is provided for the purpose of evacuating the inside of the hermetic container from the inside after forming an airtight container by sealing the glass 6 with glass, and the distal end thereof is blown off by a gas burner or the like after the end of the evacuation.
【0045】以上のように構成された蛍光表示管10を
駆動するに際しては、フィラメント32に所定のヒート
電流を定常的に流した状態で各グリッド電極22に順次
加速電圧を印加し、それに同期して複数の蛍光体層20
S,20D,20Nのうち発光させるべき何れかのもの
に加速電圧をグラファイト層40を介して印加する。こ
のことによって、フィラメント32から放出された熱電
子は加速電圧を印加されたグリッド電極22によって加
速される。而して、それに囲まれた蛍光体層20S,2
0D,20Nにも加速電圧力が印加されると、その熱電
子が衝突して蛍光体層20S,20D,20Nが発光す
る。ここで、グリッド電極22は熱電子の蛍光体層20
S,20D,20Nへの到達を制御する制御電極であ
り、補助グリッド電極24は周囲のグリッド電極22に
よって形成される負電界の影響を排除して、その蛍光体
層20S,20D,20Nへ一様に熱電子を向かわせる
ためのものである。なお、かかる駆動方法の詳細は、本
発明の蛍光体を理解するうえで特に必要がなく、当業者
における周知・常識事項であるので省略する。When driving the fluorescent display tube 10 configured as described above, an acceleration voltage is sequentially applied to each grid electrode 22 while a predetermined heat current is constantly flowing through the filament 32, and the filament 32 is synchronized with the acceleration voltage. A plurality of phosphor layers 20
An acceleration voltage is applied to any one of S, 20D, and 20N to emit light via the graphite layer 40. Thereby, the thermoelectrons emitted from the filament 32 are accelerated by the grid electrode 22 to which the acceleration voltage is applied. Thus, the phosphor layers 20S, 2 surrounded by the phosphor layers 20S, 2
When an accelerating voltage force is also applied to 0D and 20N, the thermoelectrons collide and the phosphor layers 20S, 20D and 20N emit light. Here, the grid electrode 22 is used as the thermoelectron phosphor layer 20.
S, 20D, and 20N are control electrodes that control arrival to the phosphor layers 20S, 20D, and 20N by eliminating the influence of the negative electric field formed by the surrounding grid electrodes 22. In order to direct thermoelectrons in the same way. The details of such a driving method are not particularly necessary for understanding the phosphor of the present invention, and are well-known and common knowledge of those skilled in the art, and will not be described.
【0046】そして,本実施例においては、上記蛍光体
層20S,20D,20Nに上述の各実施例において製
造されるような本発明の蛍光体をいくつか適用した。す
なわち、本実施例においては、上記グラファイト層40
上に、以下に示す本発明の蛍光体からなるペーストを厚
膜状に印刷することによって上記蛍光体層20S,20
D,20Nを形成した。In this embodiment, some of the phosphors of the present invention as manufactured in each of the above embodiments are applied to the phosphor layers 20S, 20D and 20N. That is, in the present embodiment, the graphite layer 40
The above-mentioned phosphor layers 20S, 20 are printed on a thick film of a paste made of the phosphor of the present invention described below.
D, 20N were formed.
【0047】本実施例においては、Ba0.92Eu
0.08Zn1.08Ga9.92O 17、Ba
0.92Tb0.08Zn1.08Ga
9.92O17、La0.9 4Eu0.06ZnGa
11O19、BaZn0.95Mn0.04Ga10O
17の計4種類の蛍光体を、上記蛍光体層20S,20
D,20Nに採用した。その結果、照射された電子線に
よって、Ba0.92Eu0.08Zn1.0 8Ga
9.92O17およびLa0.94Eu0.06ZnG
a11O19の2種類では高輝度の赤色発光が実現でき
た。一方、Ba0.92Tb0.08Zn 1.08Ga
9.92O17およびBaZn0.95Mn0.04G
a10O1 7の2種類では高輝度の緑色発光が実現でき
た。また、目立ったチャージアップ現象も認められなか
った。特にBa0.92Eu0.08Zn1.08Ga
9.92O17について図13に示す電子線発光スペク
トルから明らかなように、かかる本発明の蛍光体を用い
た蛍光表示管10では、概ね615nmに特徴的なピー
クを示す高輝度の鮮やかな赤色光を得ることができた。In this embodiment, Ba0.92Eu
0.08Zn1.08Ga9.92O 17, Ba
0.92Tb0.08Zn1.08Ga
9.92O17, La0.9 4Eu0.06ZnGa
11O19, BaZn0.95Mn0.04Ga10O
17Of the phosphor layers 20S, 20
D, 20N. As a result, the irradiated electron beam
Therefore, Ba0.92Eu0.08Zn1.0 8Ga
9.92O17And La0.94Eu0.06ZnG
a11O19Can emit red light with high brightness.
Was. On the other hand, Ba0.92Tb0.08Zn 1.08Ga
9.92O17And BaZn0.95Mn0.04G
a10O1 7Can emit high-luminance green light with the two types
Was. Also noticeable charge-up phenomenon is not recognized
Was. Especially Ba0.92Eu0.08Zn1.08Ga
9.92O17The electron beam emission spectrum shown in FIG.
As is clear from the drawings, the phosphor of the present invention is used
The fluorescent display tube 10 has a characteristic peak at about 615 nm.
And high-intensity bright red light indicating a dark spot was obtained.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明によれば、高輝度且つ高導電性を
兼備する酸化物蛍光体及び本発明の蛍光体を素子として
使用する種々の蛍光表示装置が提供される。すなわち、
本発明の蛍光体によれば、In2O3やSnO2等の導
電性物質を多量に混合することなくチャージアップ現象
を回避することができる。このため、励起のための供給
するエネルギーに対する発光効率がよく、高輝度の発光
を実現することができる。また、加速電圧が数十V以下
の低速電子線による蛍光表示装置(VFD等)における
酸化物由来の蛍光素子として好適に利用することができ
る。また、本発明の蛍光体では、発光中心とする元素の
選択により、高輝度の赤色発光を実現することができ
る。According to the present invention, there are provided an oxide phosphor having both high luminance and high conductivity and various fluorescent display devices using the phosphor of the present invention as an element. That is,
According to the phosphor of the present invention, the charge-up phenomenon can be avoided without mixing a large amount of a conductive substance such as In 2 O 3 or SnO 2 . Therefore, light emission efficiency with respect to energy supplied for excitation is high, and light emission with high luminance can be realized. Further, it can be suitably used as a fluorescent element derived from an oxide in a fluorescent display device (such as a VFD) using a low-speed electron beam having an acceleration voltage of several tens of volts or less. Further, in the phosphor of the present invention, high-luminance red light emission can be realized by selecting an element serving as a light emission center.
【図1】本発明の蛍光体が有するマグネトプランバイト
型およびβ−アルミナ型の結晶構造を示す模式図であ
る。FIG. 1 is a schematic diagram showing magnetoplumbite-type and β-alumina-type crystal structures of the phosphor of the present invention.
【図2】本発明の蛍光体の製造手順を示すフロー図であ
る。FIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing procedure of the phosphor of the present invention.
【図3】一実施例に係る本発明の蛍光体の粉末X線回折
図形(XRDパターン)を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of the phosphor of the present invention according to an example.
【図4】一実施例に係る本発明の蛍光体の粉末X線回折
図形(XRDパターン)を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of the phosphor of the present invention according to an example.
【図5】一実施例に係る本発明の蛍光体における励起・
発光スペクトルを示すグラフである。FIG. 5 shows the excitation and emission of the phosphor of the present invention according to one embodiment.
It is a graph which shows an emission spectrum.
【図6】一実施例に係る本発明の蛍光体の粉末X線回折
図形(XRDパターン)を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of the phosphor of the present invention according to one example.
【図7】一実施例に係る本発明の蛍光体における励起・
発光スペクトルを示すグラフである。FIG. 7 shows the excitation and emission of the phosphor of the present invention according to one embodiment.
It is a graph which shows an emission spectrum.
【図8】一実施例に係る本発明の蛍光体における焼成温
度と発光強度との関係を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing the relationship between the firing temperature and the luminous intensity in the phosphor of the present invention according to one example.
【図9】一実施例に係る本発明の蛍光体におけるEu
3+付活濃度と赤色発光強度との関係を示すグラフであ
る。FIG. 9 shows Eu in the phosphor of the present invention according to one embodiment.
It is a graph which shows the relationship between 3+ activation density and red light emission intensity.
【図10】一実施例における蛍光表示管の一部破断の斜
視図である。FIG. 10 is a partially cutaway perspective view of a fluorescent display tube in one embodiment.
【図11】図10における蛍光体層近傍を示す部分平面
図である。FIG. 11 is a partial plan view showing the vicinity of a phosphor layer in FIG.
【図12】図11におけるXII−XII線断面図であ
る。12 is a sectional view taken along line XII-XII in FIG.
【図13】一実施例に係る本発明の蛍光体における電子
線発光スペクトルを示すグラフである。FIG. 13 is a graph showing an electron beam emission spectrum of the phosphor of the present invention according to one example.
【図14】一比較例である無機化合物の粉末X線回折図
形(XRDパターン)を示すグラフである。FIG. 14 is a graph showing a powder X-ray diffraction pattern (XRD pattern) of an inorganic compound as one comparative example.
10 蛍光表示管 20S,20D,20N 蛍光体層 10 fluorescent display tube 20S, 20D, 20N phosphor layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 左合 澄人 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 (72)発明者 遠藤 忠 宮城県岩沼市相の原三丁目2−23 (72)発明者 上田 恭太 宮城県仙台市太白区向山一丁目14−7 穂 山アパートA−101 (72)発明者 清水 孝之 宮城県仙台市太白区青山二丁目8−20 第 2あざみ荘6号室 Fターム(参考) 4H001 XA08 XA12 XA20 XA21 XA30 XA31 XA38 XA39 XA56 XA57 XA58 XA59 XA60 XA61 XA62 XA63 XA64 XA65 XA66 XA67 XA68 XA69 XA70 XA71 XA82 YA21 YA39 YA57 YA58 YA59 YA60 YA61 YA62 YA63 YA64 YA65 YA66 YA67 YA68 YA69 YA70 YA71 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Sumito Left Ago No. 3-36, Noritake Shinmachi, Nishi-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Noritake Co., Ltd. Inside (72) Inventor Tadashi Endo 3-2 Ainohara, Iwanuma City, Miyagi Prefecture −23 (72) Inventor Kyota Ueda 1-14-7 Mukaiyama, Tashiro-ku, Sendai City, Miyagi Prefecture Hoyama Apartment A-101 (72) Inventor Takayuki Shimizu 2-20 Aoyama 2-8 Aoyama, Taishiro-ku, Sendai City, Miyagi Prefecture Room 6 F-term (reference) 4H001 XA08 XA12 XA20 XA21 XA30 XA31 XA38 XA39 XA56 XA57 XA58 XA59 XA60 XA61 XA62 XA63 XA64 XA65 XA66 XA67 XA68 XA69 XA70 XA71 XA82 YA61 YA63 YA63 YA66
Claims (5)
ネルギーによって発光する部分とを有し、該導電性部分
と発光部分とが相互に積層して成る結晶構造を有する酸
化物蛍光体。1. An oxide phosphor having a crystal structure having a portion having conductivity and a portion emitting light by energy received from the outside, wherein the conductive portion and the light emitting portion are stacked on each other.
晶構造が、マグネトプランバイト型構造またはβ−アル
ミナ型構造を構成する、請求項1に記載の酸化物蛍光
体。2. The oxide phosphor according to claim 1, wherein the crystal structure comprising the conductive portion and the light-emitting portion forms a magnetoplumbite type structure or a β-alumina type structure.
2に記載の酸化物蛍光体。3. The oxide phosphor according to claim 1, which contains a rare earth element.
10−XO17 で示される、請求項3に記載の酸化物蛍光体。ここで式
中のAはBa、Sr、Pb、CaおよびLaから成る群
から選択され、Lnは希土類元素に属する元素のうちか
ら選択され、BはZnまたはMgであり、式中のXは
0.01〜0.15の範囲内にある。4. General formula: A1-XLnXB1 + XGa
10-XO17 The oxide phosphor according to claim 3, which is represented by: Where the expression
A is a group consisting of Ba, Sr, Pb, Ca and La
Ln is selected from the elements belonging to the rare earth elements.
Wherein B is Zn or Mg, wherein X is
It is in the range of 0.01 to 0.15.
19 で示される、請求項3に記載の酸化物蛍光体。ここで式
中のAはBa、Sr、Pb、CaおよびLaから成る群
から選択され、Lnは希土類元素に属する元素のうちか
ら選択され、BはZnまたはMgであり、式中のXは
0.01〜0.15の範囲内にある。5. General formula: A1-XLnXBGa11O
19 The oxide phosphor according to claim 3, which is represented by: Where the expression
A is a group consisting of Ba, Sr, Pb, Ca and La
Ln is selected from the elements belonging to the rare earth elements.
Wherein B is Zn or Mg, wherein X is
It is in the range of 0.01 to 0.15.
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|---|---|---|---|
| JP26172499A JP2001081459A (en) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | Oxide phosphor |
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|---|---|
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| JP (1) | JP2001081459A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005061658A1 (en) * | 2003-12-23 | 2005-07-07 | Lg Chem, Ltd. | A new blue phosphor and a method of preparing the same |
| KR100758101B1 (en) | 2005-03-30 | 2007-09-11 | 주식회사 엘지화학 | Lamp having good maintenance behavior of brightness and color coordinations |
| JP2015171984A (en) * | 2013-08-27 | 2015-10-01 | 国立大学法人東京工業大学 | Crystalline inorganic compound |
| CN110003909A (en) * | 2019-05-23 | 2019-07-12 | 陕西师范大学 | Cr3+ activated broadband emission near-infrared phosphor and preparation method |
-
1999
- 1999-09-16 JP JP26172499A patent/JP2001081459A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050707 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050714 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050823 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050830 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061205 |