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JP2001066595A - Display element and display device - Google Patents

Display element and display device

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Publication number
JP2001066595A
JP2001066595A JP2000206445A JP2000206445A JP2001066595A JP 2001066595 A JP2001066595 A JP 2001066595A JP 2000206445 A JP2000206445 A JP 2000206445A JP 2000206445 A JP2000206445 A JP 2000206445A JP 2001066595 A JP2001066595 A JP 2001066595A
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JP
Japan
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display element
liquid crystal
light
diffraction grating
display
Prior art date
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JP2000206445A
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Japanese (ja)
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Kazuo Yoshinaga
和夫 吉永
Gakuo Eguchi
岳夫 江口
Retsu Shibata
烈 柴田
Toshiichi Onishi
敏一 大西
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏光板を用いなくても、光利用率の高い、高
コントラストな表示を行なうことが可能な表示素子及び
表示装置を提供する。 【解決手段】 少なくとも一方の基板に透明な電極を有
する基板間に液晶を狭持してなる表示素子において、少
なくとも一方の基板に回折格子よりなるマイクロレンズ
アレイが形成されている表示素子及びそれを用いた表示
装置。
(57) [Problem] To provide a display element and a display device capable of performing high-contrast display with high light utilization rate without using a polarizing plate. SOLUTION: In a display element in which liquid crystal is held between substrates having transparent electrodes on at least one substrate, a display element in which a microlens array composed of a diffraction grating is formed on at least one substrate, and Display device used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回折格子を用いて
液晶の応答による回折の有無を制御する表示素子および
表示装置に関し、特に回折格子がレンズを形成している
表示素子および表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display element and a display device which use a diffraction grating to control the presence or absence of diffraction due to the response of liquid crystal, and more particularly to a display element and a display device in which the diffraction grating forms a lens.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶素子は、過去に種々の熱光学および
電気光学ディスプレイ等の用途に用いられてきた。これ
らのディスプレイは、駆動電圧が低く、消費エネルギー
も少ないために現在もなお活発に研究が進められてい
る。
2. Description of the Related Art Liquid crystal elements have been used in various applications such as thermo-optic and electro-optic displays in the past. These displays are still being actively studied because of their low driving voltage and low energy consumption.

【0003】従来の液晶素子としては、例えばエム・シ
ャット(M.Schadt)とダブリュー・ヘルフリッ
ヒ(W.Helfrich)著“アプライド・フィジッ
クス・レターズ”(“Applied Physics
Letters”)第18巻、第4号(1971年2
月15日発行)第127頁〜128頁の“ボルテージ・
ディペンダント・オプティカル・アクティビィティー・
オブ・ア・ツイステッド・ネマチック・リキッド・クリ
スタル”(“Voltage Dependent O
ptical Activity of a Twis
ted Nematic liquid Crysta
l”)に示されたツイステッド・ネマチック(twis
ted nematic)液晶を用いたものが知られて
いる。このTN液晶は画素密度を高くしたマトリクス電
極構造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生す
る問題点があるため、画素数が制限されていた。
As a conventional liquid crystal element, for example, "Applied Physics Letters" (M. Schadt) and W. Helfrich ("Applied Physics Letters") are known.
Letters ") Vol. 18, No. 4 (1971 Feb. 2)
(Published March 15) Pages 127-128
Dependent optical activity
"A Twisted Nematic Liquid Crystal" (“Voltage Dependent O
optical Activity of a Twis
ted Nematic liquid Crysta
l "), the twisted nematic (twis
A liquid crystal using a ted nematic liquid crystal is known. This TN liquid crystal has a problem that crosstalk occurs in time-division driving using a matrix electrode structure with a high pixel density, so that the number of pixels is limited.

【0004】このような問題点に対して、各画素毎に能
動素子を設けることも検討されており、薄膜トランジス
タや薄膜ダイオード、非線形素子を用いることにより高
画質な表示が可能となっている。
In order to solve such a problem, it has been studied to provide an active element for each pixel, and a high-quality display is possible by using a thin film transistor, a thin film diode, and a non-linear element.

【0005】このような方式は、電界駆動であるために
低電力で使用できる利点を有するが、偏光板が必要であ
り、光利用率が低い問題点があった。また、基板表面の
界面規制力と液晶の物性から電圧off時の応答時間が
決まっており、液晶セル厚を薄くしないと応答時間を向
上できない問題点があった。このとき液晶セル厚を薄く
するとショート等の問題が発生し、分どまりが低下する
好ましくない問題があった。
[0005] Such a method has an advantage that it can be used with low power because of electric field driving, but it has a problem that a polarizing plate is required and light utilization is low. Further, the response time at the time of voltage off is determined from the interface regulation force on the substrate surface and the physical properties of the liquid crystal, and there is a problem that the response time cannot be improved unless the thickness of the liquid crystal cell is reduced. At this time, if the thickness of the liquid crystal cell is reduced, a problem such as a short circuit occurs, and there is an undesired problem that the stop is reduced.

【0006】前記問題に対して、偏光板を用いない方式
として、米国特許第4251137号に示されるような
回折格子を用いる方法が提案されている。これは回折格
子へ充填された液晶と該回折格子を形成する化合物の屈
折率が一致しているときには回折効果が表われず、両者
の屈折率の差があるときにのみ回折が発生することを利
用するもので、低電圧で駆動可能であり応答時間も短い
特徴を有している。
To solve the above problem, a method using a diffraction grating as shown in US Pat. No. 4,251,137 has been proposed as a method not using a polarizing plate. This means that when the refractive index of the liquid crystal filled in the diffraction grating and the compound forming the diffraction grating match, the diffraction effect does not appear, and diffraction occurs only when there is a difference between the two refractive indices. It can be driven at low voltage and has a short response time.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、互いに直交する2つの回折格子が必要であ
り、製造コストが増加する問題点があった。また、液晶
層を共通化して上下に直交する回折格子を設けた場合に
は、充填された液晶の配向が乱れ、十分な屈折率の制御
が行なえない問題点があった。
However, in the above conventional example, two diffraction gratings which are orthogonal to each other are required, and there is a problem that the manufacturing cost is increased. Further, in the case where the liquid crystal layer is provided in common and a vertically orthogonal diffraction grating is provided, the orientation of the filled liquid crystal is disturbed, and there is a problem that the refractive index cannot be sufficiently controlled.

【0008】本発明は、この様な従来技術の問題点を解
決するためになされたものであり、偏光板を用いなくて
も、光利用率の高い、高コントラストな表示を行なうこ
とが可能な表示素子および表示装置を提供することを目
的とするものである。
The present invention has been made in order to solve such problems of the prior art, and a display with high light utilization and high contrast can be performed without using a polarizing plate. It is an object to provide a display element and a display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、少なく
とも一方の基板に透明な電極を有する基板間に液晶を狭
持してなる表示素子において、少なくとも一方の基板に
回折格子よりなるマイクロレンズアレイが形成されてい
ることを特徴とする表示素子である。
That is, the present invention relates to a display element having a liquid crystal sandwiched between substrates having transparent electrodes on at least one substrate, and a microlens comprising a diffraction grating on at least one substrate. A display element in which an array is formed.

【0010】また、本発明は、光源からの光を3原色に
分離し、該3原色を電極を有する基板間に回折格子より
なるマイクロレンズアレイが形成され、液晶を狭持して
なる表示素子へ投射する手段、該表示素子に電圧を印加
し駆動する手段、該表示素子のマイクロレンズにより集
光された光を分離する手段、該3原色の透過光を同一ス
クリーンへ投射する手段を有することを特徴とする表示
装置である。
Further, according to the present invention, there is provided a display element which separates light from a light source into three primary colors, forms a microlens array composed of a diffraction grating between substrates having electrodes for the three primary colors, and holds a liquid crystal. Means for applying a voltage to the display element to drive the display element, means for separating the light condensed by the microlenses of the display element, and means for projecting the transmitted light of the three primary colors onto the same screen. It is a display device characterized by the above.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の表示素子は、少なくとも一方の基板に透明な電
極を有する基板間に液晶を狭持してなる表示素子におい
て、少なくとも一方の基板に回折格子よりなるマイクロ
レンズアレイが形成されていることにより、偏光板を用
いなくても、高コントラストな表示を行なうことを可能
としたものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The display element of the present invention is a display element in which liquid crystal is sandwiched between substrates having transparent electrodes on at least one substrate, and a microlens array including a diffraction grating is formed on at least one substrate. Thus, high-contrast display can be performed without using a polarizing plate.

【0012】以下、図面を用いて本発明について更に詳
しく説明する。図1は本発明で用いる表示素子の一例を
示す断面図である。同図において、基板201,20
1′はガラス,プラスチック等を用いることができる。
基板として用いることができるポリマーフィルムには、
下記に示すようなものが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of a display element used in the present invention. In FIG.
1 'can be made of glass, plastic or the like.
Polymer films that can be used as substrates include
Examples include the following, but are not limited thereto.

【0013】すなわち、低密度ポリエチレンフィルム、
高密度ポリエチレンフィルム(三井東圧化学 ハイブロ
ン等)、ポリプロピレンフィルム(東レ トレファン
等)、ポリエステルフィルム(デュポン マイラー
等)、ポリビニルアルコールフィルム(日本合成化学工
業 ハイセロン等)、ポリアミドフィルム(東洋合成フ
ィルム レイファン等)、ポリカーボネートフィルム
(帝人 テイジンパンライト等)、ポリイミドフィルム
(デュポン KAPTON等)、ポリ塩化ビニルフィル
ム(三菱樹脂 ヒシレックス等)、ポリ四ふっ化エチレ
ンフィルム(三井フロロケミカル テフロン等)、ポリ
アクリルフィルム(住友ベークライト スミライト)、
ポリスチレンフィルム(旭ダウ スタイロシート)、ポ
リ塩化ビニリデンフィルム(旭ダウ サランフィル
ム)、セルロースフィルム、ポリフッ化ビニルフィルム
(デュポン テドラー)等が挙げられる。
That is, a low-density polyethylene film,
High-density polyethylene film (Mitsui Toatsu Kagaku Hiblon etc.), polypropylene film (Toray Trefane etc.), polyester film (DuPont Mylar etc.), polyvinyl alcohol film (Nippon Synthetic Chemical Industry Hi-Selon etc.), polyamide film (Toyo Gosei Film Leifan) Etc.), polycarbonate film (Teijin Teijin Panlite etc.), polyimide film (Dupont KAPTON etc.), polyvinyl chloride film (Mitsubishi Hishilex etc.), polytetrafluoroethylene film (Mitsui Fluorochemical Teflon etc.), polyacryl film (Sumitomo Bakelite Sumilite),
Examples include a polystyrene film (Asahi Dow Stylo sheet), a polyvinylidene chloride film (Asahi Dow Saran film), a cellulose film, a polyvinyl fluoride film (Dupont Tedlar) and the like.

【0014】基板上には、電極202,202′を形成
するが、該電極には、ITO,SnO2 等の透明電極
やAl,Au,Ag,Cu,Cr等の金属膜が用いられ
る。なお、反射型表示素子としては、電極と反射層を兼
ねていてもよい。
[0014] On the substrate is formed an electrode 202, 202 ', to the electrode, ITO, transparent electrodes and Al of SnO 2 or the like, Au, Ag, Cu, a metal film such as Cr is used. Note that the reflective display element may serve as both an electrode and a reflective layer.

【0015】この様な透明電極202,202′を設け
た基板201,201′には、例えば、一酸化珪素,二
酸化珪素,酸化アルミニウム,ジルコニア,フッ化マグ
ネシウム,酸化セリウム,フッ化セリウム,シリコン窒
化物,シリコン炭化物,ホウ素窒化物などの無機絶縁物
質やポリビニルアルコール,ポリイミド,ポリアミドイ
ミド,ポリエステルイミド,ポリパラキシレリン,ポリ
エステル,ポリカーボネート,ポリビニルアセタール,
ポリ塩化ビニル,ポリアミド,ポリスチレン,セルロー
ス樹脂,メラミン樹脂,ユリア樹脂やアクリル樹脂など
の有機絶縁物質を用いて被膜形成した配向制御膜を設け
ることができる。
On the substrates 201, 201 'provided with such transparent electrodes 202, 202', for example, silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconia, magnesium fluoride, cerium oxide, cerium fluoride, silicon nitride Substances, silicon carbide, inorganic insulating substances such as boron nitride, polyvinyl alcohol, polyimide, polyamide imide, polyester imide, polyparaxylerin, polyester, polycarbonate, polyvinyl acetal,
An orientation control film formed by using an organic insulating material such as polyvinyl chloride, polyamide, polystyrene, cellulose resin, melamine resin, urea resin, and acrylic resin can be provided.

【0016】この配向制御膜は、前述の如き無機絶縁物
質又は有機絶縁物質を被膜形成した後に、その表面をビ
ロード、布や紙で一方向に摺擦(ラビング)することに
よって得られる。本発明の別の好ましい具体例では、S
iOやSiO2 などの無機絶縁物質を基板201,2
01′の上に斜め蒸着法によって被膜形成することによ
って配向制御膜を得ることができる。
The orientation control film is obtained by forming a film of the above-mentioned inorganic insulating material or organic insulating material and then rubbing (rubbing) the surface in one direction with velvet, cloth or paper. In another preferred embodiment of the present invention, S
An inorganic insulating material such as iO or SiO 2 is
An orientation control film can be obtained by forming a film on 01 ′ by oblique evaporation.

【0017】また、別の具体例ではガラス又はプラスチ
ックからなる基板201,201′の表面あるいは基板
201,201′の上に前述した無機絶縁物質や有機絶
縁物質を被膜形成した後に、該被膜の表面を斜方エッチ
ング法によりエッチングすることにより、その表面に配
向制御効果を付与することができる。
In another embodiment, the above-mentioned inorganic insulating material or organic insulating material is formed on the surfaces of the substrates 201, 201 'made of glass or plastic or on the substrates 201, 201'. Is etched by an oblique etching method, whereby an orientation control effect can be imparted to the surface.

【0018】前述の配向制御膜は、同時に絶縁膜として
も機能させることが好ましく、このためにこの配向制御
膜の膜厚は一般に100Å〜1μm、好ましくは500
Å〜5000Åの範囲に設定することができる。この絶
縁層は表示層210に微量に含有される不純物等のため
に生ずる電流の発生を防止できる利点をも有しており、
従って動作を繰り返し行っても液晶化合物を劣化させる
ことがない。また、本発明の表示素子では、基板201
もしくは基板201′の表示層210に接する面の両側
に配向制御膜を設けてもよい。
It is preferable that the above-mentioned orientation control film also functions as an insulating film at the same time. For this reason, the thickness of the orientation control film is generally 100 ° to 1 μm, preferably 500 μm.
It can be set in the range of {5000}. This insulating layer also has the advantage of preventing generation of current caused by impurities or the like contained in the display layer 210 in a small amount,
Therefore, even if the operation is repeated, the liquid crystal compound is not deteriorated. In the display element of the present invention, the substrate 201
Alternatively, an alignment control film may be provided on both sides of the surface of the substrate 201 'in contact with the display layer 210.

【0019】該電極102もしくは102′上に回折格
子よりなるマイクロレンズ103を形成する。本発明で
用いられる回折格子の断面図を図5(a)〜(c)に示
す。図5(a)〜(c)は位相変調型であって、光の吸
収はないため、吸収を用いた振幅変調型の回折格子よ
り、回折効率を高くすることが可能であるために望まし
い。
A micro lens 103 made of a diffraction grating is formed on the electrode 102 or 102 '. FIGS. 5A to 5C are cross-sectional views of the diffraction grating used in the present invention. FIGS. 5A to 5C show a phase modulation type, which does not absorb light, and is therefore preferable because the diffraction efficiency can be made higher than that of an amplitude modulation type diffraction grating using absorption.

【0020】回折効率は、充填した液晶と、回折格子の
屈折率差と、回折格子の厚みを選択することにより制御
され、0次光を減少するように設定される。望ましい屈
折率差は0.01以上であり、0.01未満では、回折
格子の厚みが大きくなり過ぎるため好ましくない。また
回折格子の厚みは0.1〜20μmで用いられる。0.
1μm未満では充分な回折効率を得ることが不可能で、
20μmを越えると素子の加工が困難である。
The diffraction efficiency is controlled by selecting the filled liquid crystal, the refractive index difference of the diffraction grating, and the thickness of the diffraction grating, and is set so as to reduce the zero-order light. Desirable refractive index difference is 0.01 or more, and less than 0.01 is not preferable because the thickness of the diffraction grating becomes too large. The diffraction grating has a thickness of 0.1 to 20 μm. 0.
If it is less than 1 μm, it is impossible to obtain sufficient diffraction efficiency,
If it exceeds 20 μm, it is difficult to process the element.

【0021】該回折格子の凸部の屈折率は、用いられる
液晶の常光線屈折率よりも大きいものが用いられ、更に
異常光線屈折率よりも小さいものであることが望まし
い。
The refractive index of the convex portion of the diffraction grating is higher than the ordinary ray refractive index of the liquid crystal used, and is desirably smaller than the extraordinary ray refractive index.

【0022】前記回折格子からなるマイクロレンズ20
3と、該マイクロレンズに注入された低分子液晶205
からなる表示層210は、電極202,202′に電界
を印加することにより、該低分子液晶205が配列し、
その常光線屈折率と回折格子の屈折率の差が発生し、フ
レネルレンズとして機能することで、入射光は集光され
る。
Microlens 20 comprising the diffraction grating
3 and the low-molecular liquid crystal 205 injected into the microlens
Is formed by applying an electric field to the electrodes 202 and 202 ′, whereby the low-molecular liquid crystal 205 is arranged,
The difference between the ordinary ray refractive index and the refractive index of the diffraction grating occurs, and the incident light is collected by functioning as a Fresnel lens.

【0023】この集光された光は遮光層204に設けら
れた開口部211を通過して表示される。無電界時は、
配向が乱れるために液晶の屈折率の平均値として回折格
子の凸部の屈折率と差がないか、もしくは前記電圧印加
時とは逆の屈折率差が生じることで入射光は集光され
ず、遮光層204で阻止される。
The collected light passes through an opening 211 provided in the light shielding layer 204 and is displayed. When there is no electric field,
The incident light is not condensed because there is no difference between the refractive index of the liquid crystal and the refractive index of the convex part of the diffraction grating as the average value of the refractive index of the liquid crystal because the orientation is disturbed, or a refractive index difference opposite to that when the voltage is applied occurs. Are blocked by the light shielding layer 204.

【0024】該遮光層204は、前記マイクロレンズの
焦点位置に設けることが望ましい。能動素子208を用
いるときは、遮光層と能動素子を兼用することにより、
光利用効率が向上し望ましい。
It is desirable that the light shielding layer 204 is provided at the focal position of the micro lens. When the active element 208 is used, by using the light-shielding layer and the active element together,
It is desirable because the light use efficiency is improved.

【0025】遮光層204には、入射光を集光したとき
に通過する開孔部211が設けられている。開孔部が小
さいほど表示素子のコントラストは向上するが、入射光
に対する出射光の割合いが低下して光利用率は低下す
る。
The light shielding layer 204 is provided with an opening 211 through which incident light passes when condensed. The smaller the aperture, the higher the contrast of the display element, but the ratio of outgoing light to incident light is reduced and the light utilization is reduced.

【0026】開孔部211の大きさは、画素面積に対し
て0.1〜20%で用いられる。0.1%未満では光利
用率が低すぎて暗くなり、20%を越えるとコントラス
トが不十分となる。より望ましくは、0.5〜10%で
用いられる。
The size of the aperture 211 is 0.1 to 20% of the pixel area. If it is less than 0.1%, the light utilization is too low to make it dark, and if it exceeds 20%, the contrast becomes insufficient. More preferably, it is used at 0.5 to 10%.

【0027】前記回折格子よりなるマイクロレンズ20
3は、図2に示すように同心円状に形成され、そのレン
ズの開口数に応じて回折格子の周期が設定され、同心円
の外周ほどその周期は短くなる。
Microlens 20 comprising the diffraction grating
2 is formed concentrically as shown in FIG. 2, the period of the diffraction grating is set according to the numerical aperture of the lens, and the period becomes shorter as the outer periphery of the concentric circle.

【0028】前記回折格子の周期は、0.5〜50μm
で用いられる。0.5μm未満では回折自体が生じない
ため効果がなく、50μmを越えるとマイクロレンズの
焦点距離が長くなりすぎるために十分なコントラストを
得ることが困難となる。より望ましくは1〜30μmで
用いられる。
The period of the diffraction grating is 0.5 to 50 μm
Used in If it is less than 0.5 μm, there is no effect because diffraction itself does not occur, and if it exceeds 50 μm, it becomes difficult to obtain sufficient contrast because the focal length of the microlens becomes too long. More preferably, it is used at 1 to 30 μm.

【0029】このような回折格子からなるマイクロレン
ズの作成法については、ジェイ エイ ヨルダン(J.
A.Jordan Jr.)ら(「アプライド オプテ
ィクス(Appl.Opt.)」,,1833(19
70))によって報告されており、フォトリソグラフィ
ーによる作成が提案されている。
A method of forming a microlens comprising such a diffraction grating is described in J. Jordan (J.
A. Jordan Jr. ) Et al. (“Applied Optics (Appl. Opt.)”, 9 , 1833 (19)
70)), and creation by photolithography is proposed.

【0030】また一方、電子ビーム描画装置を用いて作
成することも、ティー フジタ(T.Fujita)ら
(「オプティクス レター(Opt.Lett.)」,
,613(1981))によって報告されている。本
発明で用いられる回折格子は前記の方法に従って作成し
てもよいし、また、型を用いて2P法や射出成型法によ
って作成することも可能である。
On the other hand, it is also possible to use an electron beam lithography system to produce the optics by using T. Fujita et al. (“Optics Letter (Opt. Lett.)”,
6 , 613 (1981)). The diffraction grating used in the present invention may be formed according to the above-described method, or may be formed by a 2P method or an injection molding method using a mold.

【0031】回折格子よりなるマイクロレンズ203を
形成するものとしては、フォトレジスト、熱可塑性樹
脂、熱重合性樹脂等の有機物やSiO2 、ガラス、M
gF2等の無機物が用いられる。具体的なフォトレジス
トとしては、ノボラック系,アクリレート系,塩素化ポ
リスチレン系,ポリシロキサン系,ポリイミド系,ホリ
ビニルアルコール系等があり、ネガ型,ポジ型のものが
用いられる。より具体的なものとしては、東京応化工業
(株)製、ODURシリーズやOEBRシリーズ等があ
る。
The microlenses 203 formed of a diffraction grating are formed by using an organic substance such as a photoresist, a thermoplastic resin, a thermopolymerizable resin, SiO 2 , glass, M
An inorganic substance such as gF 2 is used. Specific photoresists include novolak, acrylate, chlorinated polystyrene, polysiloxane, polyimide, and polyvinyl alcohol, and negative and positive photoresists are used. More specific examples include ODUR series and OEBR series manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

【0032】表示素子の製造プロセスから、回折格子は
SiO2 等の無機物であることも可能である。このと
きは、厚さ0.1μm〜5μmに均一に形成した膜にフ
ォトレジスト等で所定のパターンを形成し、エッチング
により回折格子を形成することが可能である。
From the manufacturing process of the display element, the diffraction grating can be an inorganic substance such as SiO 2 . At this time, it is possible to form a predetermined pattern with a photoresist or the like on a film uniformly formed to a thickness of 0.1 μm to 5 μm and form a diffraction grating by etching.

【0033】用いられる表示層の厚みは、通常0.5〜
100μmであり、0.5μm未満ではコントラストが
十分でなく、100μmを越えると駆動電圧が大きいた
めに高速駆動が困難となる。より好ましくは、1〜50
μmの厚さが用いられる。また、図3は、本発明の表示
素子の他の例を示す断面図である。
The thickness of the display layer used is usually from 0.5 to
When the thickness is less than 0.5 μm, the contrast is not sufficient. When the thickness exceeds 100 μm, high-speed driving becomes difficult due to a large driving voltage. More preferably, 1 to 50
A thickness of μm is used. FIG. 3 is a sectional view showing another example of the display element of the present invention.

【0034】次に、具体的に用いられる低分子液晶の構
造および低分子液晶組成物の名称を以下に示すが、これ
に限定されるものではない。
Next, the structure of the low-molecular liquid crystal and the name of the low-molecular liquid crystal composition to be used are shown below, but are not limited thereto.

【0035】[0035]

【化1】 Embedded image

【0036】[0036]

【化2】 Embedded image

【0037】[0037]

【化3】 Embedded image

【0038】[0038]

【化4】 Embedded image

【0039】[0039]

【化5】 Embedded image

【0040】[0040]

【化6】 Embedded image

【0041】[0041]

【化7】 Embedded image

【0042】[0042]

【化8】 Embedded image

【0043】[0043]

【化9】 Embedded image

【0044】[0044]

【化10】 Embedded image

【0045】[0045]

【化11】 Embedded image

【0046】[0046]

【化12】 Embedded image

【0047】前記低分子液晶およびその組成物は種々に
組み合わせて用いることが可能である。好ましくは、ネ
マチック相を示す組成物として用いられる。
The low-molecular liquid crystal and its composition can be used in various combinations. Preferably, it is used as a composition exhibiting a nematic phase.

【0048】本発明における表示素子において、加熱に
よる効果を用いて表示を行なう場合は、サーマルヘッド
やレーザー光を用いることが出来る。レーザー光として
は、He−Neガスレーザー,Ar2+ガスレーザー,N
2 ガスレーザー等のガスレーザーや、ルビーレーザー,
ガラスレーザー,YAGレーザー等の固体レーザーや、
半導体レーザー等を用いることが望ましい。また、60
0nm〜1600nmの波長範囲の半導体レーザーが好
ましく用いられる。特に好ましくは600〜900nm
の波長範囲の半導体レーザーが用いられる。また、これ
らのレーザー光の第2高調波、第3高調波を用いれば短
波長化が可能となる。
In the display element of the present invention, when performing display using the effect of heating, a thermal head or a laser beam can be used. As the laser light, He-Ne gas laser, Ar 2+ gas laser, N
Gas lasers such as 2 gas lasers, ruby lasers,
Solid-state lasers such as glass lasers and YAG lasers,
It is desirable to use a semiconductor laser or the like. Also, 60
Semiconductor lasers having a wavelength range of 0 nm to 1600 nm are preferably used. Particularly preferably 600 to 900 nm
Is used. The use of the second and third harmonics of these laser beams makes it possible to shorten the wavelength.

【0049】レーザー光を用いる場合は、光吸収層を別
途設けるか、もしくは表示層中にレーザー光吸収化合物
を分散・溶解して用いられる。表示面に光吸収層もしく
は光吸収化合物の影響が出る場合は、可視光域に吸収の
ないものが望ましい。
When laser light is used, a light absorbing layer is separately provided, or a laser light absorbing compound is dispersed and dissolved in a display layer. When the display surface is affected by the light absorbing layer or the light absorbing compound, it is preferable that the light absorbing layer or the light absorbing compound does not absorb light in the visible light region.

【0050】表示層へ添加するレーザー光吸収化合物の
例としては、アゾ系化合物、ビスアゾ系化合物、トリス
アゾ系化合物、アンスラキノン系化合物、ナフトキノン
系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン
系化合物、テトラベンゾポルフィリン系化合物、アミニ
ウム塩系化合物、ジイモニウム塩系化合物、金属キレー
ト系化合物等がある。
Examples of the laser light absorbing compound to be added to the display layer include azo compounds, bisazo compounds, trisazo compounds, anthraquinone compounds, naphthoquinone compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, and tetrabenzoporphyrin. Compounds, aminium salt compounds, diimonium salt compounds, metal chelate compounds and the like.

【0051】前記のレーザー光吸収化合物のうち半導体
レーザー用化合物は近赤外域に吸収をもち、安定な光吸
収色素として有用であり、かつ低分子液晶に対して相溶
性もしくは分散性がよい。また、中には二色性を有する
ものもあり、これら二色性を有する化合物を低分子液晶
中に混合すれば、熱的に安定なホスト−ゲスト型のメモ
リー及び表示媒体を得ることもできる。また、低分子液
晶中には上記の化合物が二種類以上含有されていてもよ
い。
Of the above-mentioned laser light absorbing compounds, compounds for semiconductor lasers have absorption in the near infrared region, are useful as stable light absorbing dyes, and have good compatibility or dispersibility with low molecular liquid crystals. In addition, some have dichroism, and if these dichroic compounds are mixed in a low-molecular liquid crystal, a thermally stable host-guest type memory and display medium can be obtained. . Further, two or more of the above compounds may be contained in the low-molecular liquid crystal.

【0052】また、上記化合物と他の近赤外吸収色素や
2色性色素を組み合せてもよい。好適に組み合せられる
近赤外吸収色素の代表的な例としては、シアニン、メロ
シアニン、フタロシアニン、テトラヒドロコリン、ジオ
キサジン、アントラキノン、トリフェノジチアジン、キ
サンテン、トリフェニルメタン、ピリリウム、クロコニ
ウム、アズレンおよびトリフェニルアミン等の色素が挙
げられる。
Further, the above compound may be combined with other near infrared absorbing dyes or dichroic dyes. Representative examples of near infrared absorbing dyes that are suitably combined include cyanine, merocyanine, phthalocyanine, tetrahydrocholine, dioxazine, anthraquinone, triphenodithiazine, xanthene, triphenylmethane, pyrylium, croconium, azulene and triphenylamine. And the like.

【0053】なお、低分子液晶に対する上記化合物の添
加量は重量%で、0.1〜20%程度、好ましくは、
0.5〜10%がよい。
The amount of the compound added to the low-molecular liquid crystal is about 0.1 to 20% by weight, preferably about 0.1 to 20%.
0.5 to 10% is good.

【0054】次に、図4は本発明の表示素子を用いた表
示装置の一例を示す説明図である。同図はシュリーレン
光学系を用いたフルカラー投射型表示装置を示す。
Next, FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a display device using the display element of the present invention. FIG. 1 shows a full-color projection display device using a schlieren optical system.

【0055】同図において、光源ユニット301からの
白色光は、ダイクロイックミラー302,302′,3
02″によりR,G,Bの3原色に分類される。分離さ
れた光は、シュリーレン光学系304,304′,30
4″によって表示素子303,303′,303″へ投
写される。このとき表示素子は表示素子駆動装置307
により電圧が印加され駆動される。この表示素子は単純
マトリックスや非線形素子を用いたものも用いられる
が、より好ましくは各画素毎にスイッチを有するTFT
タイプのものが表示コントラスト,応答速度,階調表示
の点で優れている。
In the figure, white light from a light source unit 301 is applied to dichroic mirrors 302, 302 ', 3
02 "is classified into three primary colors of R, G, and B. The separated lights are schlieren optical systems 304, 304 ', and 30.
4 "to the display elements 303, 303 ', 303". At this time, the display element is a display element driving device 307.
Is applied and driven. As the display element, a display element using a simple matrix or a non-linear element is used. More preferably, a TFT having a switch for each pixel is used.
The type is superior in terms of display contrast, response speed, and gradation display.

【0056】ここで、非選択画素は開口部へ非を集光出
来ない状態となり、入射光を遮光し、選択点は入射光を
透過する。この透過光をダイクロイックプリズム305
によって合成し、投写レンズ306によってスクリーン
へ投写したところ良好なフルカラー画像が得られた。
Here, the non-selected pixels are in a state where non-light can not be condensed on the opening, and shield the incident light, and the selected point transmits the incident light. The transmitted light is converted to a dichroic prism 305
And projected on a screen by the projection lens 306, a good full-color image was obtained.

【0057】[0057]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0058】実施例1 1.1mm厚のガラス基板へITOを500Åの厚さに
蒸着し、更に絶縁層(SiO2 )を1000Åの厚さに
蒸着した基板へ、ポジ型フォトレジスト(TSMR−8
900、東京応化社製、屈折率=1.64)をスピナー
法にて塗布し、90℃でプリベークしたところ5μmの
膜厚の被膜を得た。この基板へ外径500μm、焦点距
離1.1mmのマイクロレンズのフォトマスクを用い
て、ニコンNSR−1505Gで露光し、現像液(東京
応化社製、NMD−3)にて現像したのち純水でリンス
して回折格子からなるマイクロレンズを得た。
Example 1 A positive photoresist (TSMR-8) was deposited on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm by depositing ITO to a thickness of 500 ° and further depositing an insulating layer (SiO 2 ) to a thickness of 1000 °.
900, manufactured by Tokyo Ohkasha Co., Ltd., refractive index = 1.64) was applied by a spinner method and prebaked at 90 ° C. to obtain a film having a thickness of 5 μm. The substrate was exposed to Nikon NSR-1505G using a microlens photomask having an outer diameter of 500 μm and a focal length of 1.1 mm, developed with a developing solution (NMD-3, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), and then purified with pure water. After rinsing, a microlens comprising a diffraction grating was obtained.

【0059】120℃で20分間のポストベークをした
基板を、1.1mm厚のガラス基板へ厚さ500ÅのI
TOと厚さ1000ÅのSiO2 を蒸着した基板と、5
μmφのガラスファイバースペーサ入のエポキシ系接着
剤を用いてはり合わせた。このセルを真空脱気したの
ち、低分子ネマチック液晶BL006(メルク社製、n
0 =1.530、ne =1.816)を毛管法により注
入した。
Post-baked at 120 ° C. for 20 minutes
The substrate was transferred to a 1.1 mm thick glass
TO and 1000mm thick SiOTwo A substrate on which
Epoxy adhesive with glass fiber spacer of μmφ
They were stuck together using an agent. This cell was degassed in vacuum
Low molecular nematic liquid crystal BL006 (manufactured by Merck, n
0 = 1.530, ne = 1.816) by capillary method
Entered.

【0060】このセルのマイクロレンズ側基板に、穴径
50μmのピンホール板を、穴の位置とマイクロレンズ
の中心を合わせてはり合わせた。この表示素子のマイク
ロレンズへ50μWの白色光を入射したところ、ピンホ
ールを通過してくる光量は、0.3μWであった。次
に、上下基板の電極に60Hz、30Vの電圧を印加し
たところ、通過する光量は23μWに増加した。これ
は、コントラスト77、光利用率46%と良好であっ
た。
A pinhole plate having a hole diameter of 50 μm was attached to the microlens-side substrate of this cell with the position of the hole and the center of the microlens aligned. When 50 μW white light was incident on the microlens of this display element, the amount of light passing through the pinhole was 0.3 μW. Next, when a voltage of 60 Hz and 30 V was applied to the electrodes on the upper and lower substrates, the amount of light passing therethrough increased to 23 μW. This was favorable with a contrast of 77 and a light utilization of 46%.

【0061】比較例1 偏光板(日東電工(株)製:NPF−1100)を直交
にTN型液晶素子(ECH社製10μmセルへメルク社
製液晶ZLI2008を注入したもの)にはり合わせ、
実施例5と同時に50μWの白色光を入射したところ、
電圧0Vで通過してくる光量は14μWであった。
Comparative Example 1 A polarizing plate (Nitto Denko Corporation: NPF-1100) was orthogonally bonded to a TN type liquid crystal element (a liquid crystal ZLI2008 manufactured by Merck was injected into a 10 μm cell manufactured by ECH).
When white light of 50 μW was incident simultaneously with Example 5,
The amount of light passing at a voltage of 0 V was 14 μW.

【0062】次に、この液晶素子へ60Hz、20Vの
電圧を印加したところ、通過する光量は0.6μWとな
った。これはコントラスト23と低く、光利用率も28
%と不十分であった。
Next, when a voltage of 60 Hz and 20 V was applied to the liquid crystal element, the amount of light passing therethrough was 0.6 μW. This is a low contrast of 23 and a light utilization of 28.
% Was insufficient.

【0063】比較例2 1.1mm厚のガラス基板へITO500Å、SiO2
1000Åを各厚さに蒸着した基板へネガ型電子ビーム
レジスト(OEBR−100、東京応化社製、屈折率=
1.49)をスピナー法により塗布し、80℃で10分
間プリベークしたところ1μmの膜厚のものを得た。こ
の基板へ電子線描画装置((株)エリオニクス社製、E
LS−3300)を用いて、実施例1で用いたフォトマ
スクと同様のパターンを描画した。次に、OEBR用現
像液で現像し、リンス液でリンスして、130℃でポス
トベークして回折格子からなるマイクロレンズを作成し
た。
Comparative Example 2 ITO 5002, SiO 2 on a 1.1 mm thick glass substrate
Negative electron beam resist (OEBR-100, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., refractive index =
1.49) was applied by a spinner method and prebaked at 80 ° C. for 10 minutes to obtain a film having a thickness of 1 μm. An electron beam lithography system (manufactured by Elionix Inc., E
Using LS-3300), a pattern similar to the photomask used in Example 1 was drawn. Next, it was developed with an OEBR developer, rinsed with a rinse solution, and post-baked at 130 ° C. to form a microlens comprising a diffraction grating.

【0064】この基板を、1.1mm厚のガラス基板へ
厚さ500ÅのITOと厚さ1000ÅのSiO2 を蒸
着した基板と、5μmφのガラスファイバースペーサ入
のエポキシ樹脂を用いてはり合わせた。このセルを真空
脱気したのち、低分子ネマチック液晶BL006(メル
ク社製、n0 =1.530、ne =1.816)を毛管
法により注入した。
This substrate was bonded to a 1.1 mm-thick glass substrate on which 500-mm-thick ITO and 1000-thick SiO 2 were deposited by using a 5 μmφ glass fiber spacer-containing epoxy resin. After the cell was vacuum degassed, low molecular nematic liquid crystal BL006 (manufactured by Merck & Co., n 0 = 1.530, n e = 1.816) and the injected by capillary method.

【0065】このセルのマイクロレンズ側基板に、穴径
50μmのピンホール板を、穴の位置とマイクロレンズ
の中心を合わせてはり合わせた。この表示素子のマイク
ロレンズへ50μWの白色光を入射したところ、ピンホ
ールを通過してくる光量は1.4μWであった。次に、
上下基板へ60Hz、30Vの電圧を印加したところ、
通過する光量は2.5μWであった。これはコントラス
ト2、光利用率5%で不十分であった。
A pinhole plate having a hole diameter of 50 μm was attached to the microlens side substrate of this cell with the position of the hole and the center of the microlens aligned. When 50 μW white light was incident on the microlens of this display element, the amount of light passing through the pinhole was 1.4 μW. next,
When a voltage of 60 Hz and 30 V was applied to the upper and lower substrates,
The passing light amount was 2.5 μW. This was insufficient with a contrast of 2 and a light utilization of 5%.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
回折格子よりなるマイクロレンズアレイに液晶を注入し
た表示素子を用いることにより、偏光板の不要な光利用
率の高い、高コントラストな表示を行なうことが可能と
なった。
As described above, according to the present invention,
By using a display element in which liquid crystal is injected into a microlens array composed of a diffraction grating, a high-contrast display in which a polarizing plate is unnecessary and light utilization is high can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の表示素子の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a display element of the present invention.

【図2】本発明の表示素子の一例を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an example of the display element of the present invention.

【図3】本発明の表示素子の他の例を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view showing another example of the display element of the present invention.

【図4】本発明の表示素子を用いた表示装置の一例を示
す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an example of a display device using the display element of the present invention.

【図5】本発明で用いることが可能な回折格子を示す断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a diffraction grating that can be used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

201,201′ 基板 202,202′ 電極 203 回折格子よりなるマイクロレンズ 204 遮光層 205 低分子液晶 206 信号線 207 絶縁膜 208 能動素子 209 走査線 210 表示層 211 開孔部 301 光源ユニット 302,302′,302″ ダイクロイックミラー 303,303′,303″ 表示素子 304,304′,304″ シュリーレン光学系 305 ダイクロイックプリズム 306 投写レンズ 307 表示素子駆動装置 309 光路長補正レンズ 201, 201 'Substrate 202, 202' Electrode 203 Microlens composed of diffraction grating 204 Light shielding layer 205 Low molecular liquid crystal 206 Signal line 207 Insulating film 208 Active element 209 Scanning line 210 Display layer 211 Opening 301 Light source unit 302, 302 ' , 302 "dichroic mirror 303, 303 ', 303" display element 304, 304', 304 "Schlieren optical system 305 dichroic prism 306 projection lens 307 display element driving device 309 optical path length correction lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03B 21/00 G03B 21/00 E (72)発明者 柴田 烈 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 大西 敏一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03B 21/00 G03B 21/00 E (72) Inventor Retsu Shibata 3- 30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Within Canon Inc. (72) Inventor Shunichi Onishi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方の基板に透明な電極を有
する基板間に液晶を狭持してなる表示素子において、少
なくとも一方の基板に回折格子よりなるマイクロレンズ
アレイが形成されていることを特徴とする表示素子。
1. A display element comprising a liquid crystal interposed between substrates having transparent electrodes on at least one substrate, wherein a microlens array comprising a diffraction grating is formed on at least one substrate. Display element.
【請求項2】 前記回折格子を形成する物質の屈折率が
液晶の異常光線屈折率と常光線屈折率の間にある請求項
5記載の表示素子。
2. The display device according to claim 5, wherein the refractive index of the substance forming the diffraction grating is between the extraordinary ray refractive index and the ordinary ray refractive index of the liquid crystal.
【請求項3】 前記マイクロレンズにより集光された光
を分離する遮光部を有する請求項5記載の表示素子。
3. The display device according to claim 5, further comprising a light-shielding portion for separating light condensed by the microlens.
【請求項4】 光源からの光を3原色に分離し、該3原
色を電極を有する基板間に回折格子よりなるマイクロレ
ンズアレイが形成され、液晶を狭持してなる表示素子へ
投射する手段、該表示素子に電圧を印加し駆動する手
段、該表示素子のマイクロレンズにより集光された光を
分離する手段、該3原色の透過光を同一スクリーンへ投
射する手段を有することを特徴とする表示装置。
4. A means for separating light from a light source into three primary colors, and projecting the three primary colors to a display element having a liquid crystal sandwiched by a microlens array formed of a diffraction grating between substrates having electrodes. Means for applying and driving a voltage to the display element, means for separating light condensed by the microlenses of the display element, and means for projecting the transmitted light of the three primary colors onto the same screen. Display device.
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