JP2001064644A - Production of photostimulable phosphor - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体の製
造方法に関し、詳しくは発光特性及び消去特性の良好な
輝尽性蛍光体の製造方法に関する。The present invention relates to a method for producing a stimulable phosphor, and more particularly, to a method for producing a stimulable phosphor having good emission characteristics and erasing characteristics.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、X線、γ線、電子線等の放射
線や紫外線等により励起すると、近紫外領域から青色領
域に発光(瞬時発光)を示す二価ユーロピウム賦活フッ
化ハロゲン化バリウム輝尽性蛍光体(BaFX:E
u2+,但し、Xはフッ素以外のハロゲン原子を表す。)
が知られており、X線撮影等に利用される放射線増感ス
クリーン用の輝尽性蛍光体として使用されている。更に
近年では、前記輝尽性蛍光体にX線、γ線、電子線等の
放射線や紫外線等を照射した後、可視光線から赤外線に
及ぶ波長領域の電磁波(励起光)で励起すると、近紫外
領域から青色領域に及ぶ波長領域の発光(輝尽発光)を
示すことが見出され、このような輝尽性蛍光体は、放射
線撮影において、従来の放射線写真法に代替する放射線
像変換技術に有用な輝尽性蛍光体として、非常に注目さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, a divalent europium-activated barium fluorinated luminescent material which emits light (instantaneous light emission) from the near ultraviolet region to the blue region when excited by radiation such as X-rays, γ-rays, electron beams or ultraviolet rays. Stimulable phosphor (BaFX: E
u 2+ , wherein X represents a halogen atom other than fluorine. )
Are known and used as a stimulable phosphor for a radiographic intensifying screen used for X-ray photography or the like. In recent years, when the stimulable phosphor is irradiated with radiation such as X-rays, γ-rays, and electron beams, or ultraviolet rays, and then excited with electromagnetic waves (excitation light) in a wavelength range from visible light to infrared light, a near-ultraviolet light is emitted. It has been found that the phosphor emits light in a wavelength region ranging from a blue region to a blue region (stimulated luminescence), and such a stimulable phosphor is used as a radiation image conversion technology in radiography to replace conventional radiography. It has attracted much attention as a useful stimulable phosphor.
【0003】この放射線像変換技術は、支持体上に輝尽
性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層が設けられた放射線
像変換パネル(蓄積性蛍光シート)を利用するものであ
り、被写体を透過した放射線又は被写体から発せられた
放射線をパネル上の輝尽性蛍光体に吸収させた後、輝尽
性蛍光体を可視光線から赤外線に及ぶ波長領域より選ば
れる電磁波(励起光)を用いて時系列的に励起すること
によって、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネ
ルギーを蛍光(輝尽発光)として放出させ、光電的に読
み取ることにより電気信号を得、得られた電気信号を画
像化するものである。[0003] This radiation image conversion technique uses a radiation image conversion panel (storage phosphor sheet) in which a stimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor is provided on a support. After the radiation transmitted through or emitted from the subject is absorbed by the stimulable phosphor on the panel, the stimulable phosphor is irradiated with an electromagnetic wave (excitation light) selected from a wavelength range from visible light to infrared light. The radiant energy accumulated in the stimulable phosphor is emitted as fluorescence (stimulated luminescence) by exciting the phosphor in a time series, and an electric signal is obtained by photoelectrically reading the obtained electric signal. Is to be imaged.
【0004】この放射線像変換パネルを用いることによ
り、従来の放射線写真法に比べ、少ない被爆量で画像形
成することが可能となり、また、得られた画像をコンピ
ュータにより画像処理することができるため、更に情報
量の豊富な放射線画像を得ることができるとともに、撮
影不良画像の救済も可能となる。By using this radiation image conversion panel, it is possible to form an image with a smaller amount of radiation than in the conventional radiographic method, and the obtained image can be processed by a computer. Furthermore, a radiographic image with a large amount of information can be obtained, and a defective image can be relieved.
【0005】前記二価ユーロピウム賦活フッ化ハロゲン
化バリウム輝尽性蛍光体(BaFX:Eu2+)では、特
にハロゲン原子Xの一部としてヨウ素を含有する輝尽性
蛍光体は、輝尽発光輝度が高く、ヨウ素含有量が増すに
つれて、その輝尽励起スペクトルのピークが長波長側に
移動するため、ヨウ素含有量に応じ、He−Neレーザ
等の赤色領域に発光波長を有するレーザ又は赤色領域若
しくは赤外領域に発光波長を有する半導体レーザと組合
わせて使用することが提案されている。Among the divalent europium-activated barium fluorohalide stimulable phosphors (BaFX: Eu 2+ ), the stimulable phosphor containing iodine as a part of the halogen atom X has a stimulable emission luminance. Is high, as the iodine content increases, the peak of the photostimulated excitation spectrum moves to the longer wavelength side, and depending on the iodine content, a laser having an emission wavelength in a red region such as a He-Ne laser or a red region or It has been proposed to use in combination with a semiconductor laser having an emission wavelength in the infrared region.
【0006】前記放射線像変換パネル自体は、放射線及
び電磁波を照射してもほとんど変質することがないた
め、長期間繰り返し使用することができる。通常、放射
線像変換パネルに蓄積された放射線エネルギーの読み取
り操作は、レーザ光を用いて放射線像変換パネルを走査
することにより行われる。しかし、実際には、レーザ光
を走査するだけでは、蓄積された全放射線エネルギーを
放出することはできないため、残存する放射線エネルギ
ーを強制的に放出させるために、例えば、特開昭56−
11392号公報の記載のように、読み取り後に、輝尽
発光の励起波長領域の光を放射線像変換パネル全体に照
射することにより、残存する放射線エネルギーを消去す
る方法が提案されている。The radiation image conversion panel itself hardly deteriorates even when irradiated with radiation and electromagnetic waves, and can be used repeatedly for a long period of time. Usually, the reading operation of the radiation energy stored in the radiation image conversion panel is performed by scanning the radiation image conversion panel using laser light. However, in practice, it is not possible to release all the accumulated radiation energy only by scanning with a laser beam.
As described in Japanese Patent No. 11392, there has been proposed a method of erasing remaining radiation energy by irradiating the entire radiation image conversion panel with light in an excitation wavelength region of stimulated emission after reading.
【0007】しかし、ヨウ素を含有する輝尽性蛍光体を
用いた放射線像変換パネルは、通常、輝尽性蛍光体に蓄
積された放射線エネルギーを消去する場合と同様に、例
えば、白色蛍光灯を用いて数秒から数分間の短い時間光
照射して消去を行っただけでは、残存する放射線エネル
ギーを十分に除去することができないこと、更に消去
後、経時で残存する放射線エネルギーの一部が回復する
現象(残像の浮き上がり)が認められること、が問題と
なっていた。[0007] However, a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor containing iodine usually uses, for example, a white fluorescent lamp as in the case of erasing radiation energy stored in the stimulable phosphor. It is not possible to sufficiently remove the remaining radiation energy by simply irradiating with light for a short period of time from several seconds to several minutes using the method. Further, after the erasure, a part of the remaining radiation energy is recovered with time. The phenomenon (lift of an afterimage) is recognized, which has been a problem.
【0008】放射線像変換パネルを繰り返し使用する場
合、このような消去特性や残像特性は、形成した画像の
画質に悪影響を及ぼす要因となる。一方、完全に消去す
る目的で、消去時間を長くすると、読取装置において読
み取りから消去までに要する時間が長くなり、装置自体
の処理能力の低下を招くだけでなく、機内の消去器が過
剰に発熱することになり、装置の耐久性や省電力化の面
で好ましくない。[0008] When the radiation image conversion panel is used repeatedly, such erasing characteristics and afterimage characteristics are factors that adversely affect the image quality of the formed image. On the other hand, if the erasing time is lengthened for the purpose of complete erasure, the time required from reading to erasing in the reading device becomes longer, which not only reduces the processing performance of the device itself, but also causes the erasing device in the machine to generate excessive heat. This is not preferable in terms of durability and power saving of the device.
【0009】一方、前記二価ユーロピウム賦活フッ化ハ
ロゲン化バリウム輝尽性蛍光体は、一般に、以下の方法
により製造される。まず、輝尽性蛍光体原料を乾燥状態
で均一に混合することにより(乾式法)又は輝尽性蛍光
体原料を均一に混合したスラリー状態とした後、乾燥す
ることにより(湿式法)、輝尽性蛍光体原料混合物の調
製を行う。次いで、通常、得られた輝尽性蛍光体原料混
合物を母体結晶(BaFX等)の融点に近い温度で、ほ
ぼ大気圧下にある中性雰囲気又は弱還元性雰囲気中で数
時間かけて焼成する(焼成工程)。所望により、一旦得
られた焼成物を再焼成してもよい。焼成工程により、輝
尽性蛍光体の母体結晶が成長すると同時に、母体結晶中
に賦活剤元素(Eu等)が拡散し、更に輝尽中心の源と
なるF+中心も生成される。従って、焼成工程は、輝尽
性蛍光体の発光特性に影響を及ぼす重要な工程である。
また、焼成後、冷却工程を経て得られた輝尽性蛍光体
は、必要に応じて洗浄、分級等の処理が施される。On the other hand, the bivalent europium-activated barium fluorohalide stimulable phosphor is generally produced by the following method. First, the stimulable phosphor raw material is uniformly mixed in a dry state (dry method), or the stimulable phosphor material is uniformly mixed in a slurry state, and then dried (wet method). A mixture of depleted phosphor raw materials is prepared. Next, the obtained stimulable phosphor raw material mixture is usually fired at a temperature close to the melting point of the host crystal (BaFX or the like) for several hours in a neutral atmosphere or a weakly reducing atmosphere at substantially atmospheric pressure. (Firing step). If desired, the fired product once obtained may be refired. In the firing step, at the same time as the host crystal of the stimulable phosphor grows, the activator element (Eu or the like) diffuses into the host crystal, and further, an F + center serving as a source of the stimulating center is generated. Therefore, the firing step is an important step that affects the emission characteristics of the stimulable phosphor.
After the firing, the stimulable phosphor obtained through the cooling step is subjected to washing, classification, and the like, as necessary.
【0010】更に、特開平7−233369号公報及び
特開平10−195431号公報では、粒子形状と粒子
アスペクト比を制御した14面体型の希土類賦活アルカ
リ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体(以下、
単に「14面体型蛍光体」という場合がある。)の製造
方法が開示されている。前記14面体型蛍光体を含有す
る輝尽性蛍光体層が設けられた放射線像変換パネルで
は、前記輝尽性蛍光体層中で、14面体型蛍光体自体が
等方性がなく、方向性の少ない配列を示すため、励起光
や輝尽発光の層内横方向への拡がりが低減され、放射線
像変換パネルに形成された画像の鮮鋭度を向上させるこ
とができる。前記公報に記載の製造方法により得られる
14面体型蛍光体は、その発光特性や鮮鋭度が比較的高
いものの、放射線変換方法に用いる輝尽性蛍光体として
は、未だ十分な輝尽発光量が得られておらず、更に容易
に消去しうる優れた消去特性も有していないため、より
一層の性能向上が望まれていた。Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-233369 and 10-195431 disclose a tetrahedral rare earth activated alkaline earth metal fluorohalide-based stimulable fluorescent material in which the particle shape and the particle aspect ratio are controlled. Body (hereinafter,
It may be simply referred to as “tetrahedral phosphor”. ) Is disclosed. In the radiation image conversion panel provided with the stimulable phosphor layer containing the tetradecahedral phosphor, in the stimulable phosphor layer, the tetradecahedral phosphor itself is not isotropic and has no directivity. Since the arrangement of the light-emitting elements is small, the spread of the excitation light and the stimulated emission in the lateral direction in the layer is reduced, and the sharpness of the image formed on the radiation image conversion panel can be improved. The tetradecahedral phosphor obtained by the production method described in the above publication has relatively high luminescence properties and sharpness, but still has a sufficient stimulable luminescence amount as a stimulable phosphor used in a radiation conversion method. Since it has not been obtained and does not have excellent erasing characteristics that can be erased more easily, further improvement in performance has been desired.
【0011】一方、輝尽性蛍光体原料混合物を焼成し、
焼成物を冷却するには、焼成空間や冷却空間を大気圧か
ら真空に排気した後に、所定のガスをパージして、焼成
や冷却が行われるが、本発明者等の検討によれば、この
とき、焼成空間や冷却空間を大気圧から低圧に排気する
速度がゆっくりであると、得られる輝尽性蛍光体の特性
に悪影響を与え、より一層の性能向上を図るには、急速
に排気することが必要であることがわかった。今日、十
分な輝尽発光量を有するとともに、消去特性をも十分に
向上しうる輝尽性蛍光体の製造方法が望まれているのが
現状である。On the other hand, the stimulable phosphor raw material mixture is fired,
In order to cool the fired product, after evacuation of the firing space or the cooling space from atmospheric pressure to a vacuum, a predetermined gas is purged, firing and cooling are performed. When the rate of evacuation of the firing space or the cooling space from the atmospheric pressure to a low pressure is slow, the characteristics of the obtained stimulable phosphor are adversely affected, and in order to further improve the performance, the air is rapidly exhausted. It turned out to be necessary. At present, there is currently a demand for a method for producing a stimulable phosphor which has a sufficient stimulable light emission amount and can sufficiently improve erasing characteristics.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、十分な輝尽発光量を有すると
ともに、容易に消去しうる優れた消去特性を有する輝尽
性蛍光体の製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing a stimulable phosphor having a sufficient amount of stimulable light emission and excellent erasing characteristics that can be easily erased.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、輝尽性蛍
光体の製造方法に関し鋭意検討を重ねた結果、焼成工程
及び冷却工程の少なくとも一方において、特定の真空ポ
ンプを用いて焼成空間及び/又は冷却空間を大気圧から
所定の圧力まで排気することにより、輝尽性蛍光体の輝
尽発光量、及び消去特性を向上させることができること
を見出し、本発明を完成するに至った。前記課題を解決
するための手段は、以下の通りである。即ち、 <1> 輝尽性蛍光体原料を混合して輝尽性蛍光体原料
混合物を調製する混合工程と、該輝尽性蛍光体原料混合
物を焼成して焼成物を得る焼成工程と、該焼成物を冷却
する冷却工程とを有する輝尽性蛍光体の製造方法であっ
て、前記焼成工程において、焼成空間の容積Va(リッ
トル)に対して設計排気速度が1.0×Va(リットル
/分)以上の真空ポンプにより、前記焼成空間を大気圧
から少なくとも100torrまで排気する、及び/又
は、前記冷却工程において、冷却空間の容積Vb(リッ
トル)に対して設計排気速度が1.0×Vb(リットル
/分)以上の真空ポンプにより、前記冷却空間を大気圧
から少なくとも100torrまで排気することを特徴
とする輝尽性蛍光体の製造方法である。 <2> 前記焼成工程における焼成空間及び前記冷却工
程における冷却空間の少なくとも一方を10torr以
下まで排気した後に、該空間に、酸素を1ppm以上含
むガスを少なくとも0.1torr導入し、更に該空間
を不活性ガスにより略1気圧までパージする前記<1>
に記載の輝尽性蛍光体の製造方法である。 <3> 前記焼成工程における焼成空間及び前記冷却工
程における冷却空間の少なくとも一方を10torr以
下まで排気した後に、該空間に、酸素を1ppm以上含
むガスを1〜10000cc/minの流量で1〜30
0秒間導入し、更に該空間を不活性ガスにより略1気圧
までパージする前記<1>に記載の輝尽性蛍光体の製造
方法である。 <4> 前記輝尽性蛍光体が、下記基本組成式(I)で
表される14面体型粒子である前記<1>から<3>の
いずれかに記載の輝尽性蛍光体の製造方法である。 (Ba1-a,MII a)FX・bMI・cMIII・dA:xLn・・・(I) [式中、MIIは、Sr,Ca及びMgからなる群より選
択される少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、M
Iは、Li,Na,K,Rb及びCsからなる群より選
択される少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表
し、MIIIは、Al,Ga,In,Tl,Sc,Y,C
d及びLuからなる群より選択される少なくとも一種の
三価金属の化合物(但し、Al2O3を除く)を表す。X
は、Cl,Br及びIからなる群より選択される少なく
とも一種のハロゲンを表す。Lnは、Ce,Pr,S
m,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Nd,Er,Tm
及びYbからなる群より選択される少なくとも一種の希
土類元素を表す。Aは、Al2O3,SiO2及びZrO2
からなる群より選択される少なくとも一種の金属酸化物
を表す。a、b、c、d及びxは、それぞれ、0≦a≦
0.3、0≦b≦2、0≦c≦2、0≦d≦0.5、0
<x≦0.2を表す。]Means for Solving the Problems As a result of intensive studies on a method for producing a stimulable phosphor, the present inventors have found that in at least one of the firing step and the cooling step, a specific vacuum pump is used for the firing space. The inventors have found that, by evacuating the cooling space from atmospheric pressure to a predetermined pressure, it is possible to improve the stimulating light emission amount and erasing characteristics of the stimulable phosphor, and have completed the present invention. The means for solving the above problems are as follows. That is, <1> a mixing step of mixing a stimulable phosphor raw material to prepare a stimulable phosphor raw material mixture, a firing step of firing the stimulable phosphor raw material mixture to obtain a fired product, A cooling step of cooling the fired material, wherein the designed exhaust speed is 1.0 × Va (liter / liter) with respect to the volume Va (liter) of the firing space in the firing step. Minute) or more, the baking space is evacuated from the atmospheric pressure to at least 100 torr by a vacuum pump, and / or in the cooling step, the designed pumping speed is 1.0 × Vb with respect to the volume Vb (liter) of the cooling space. A method for producing a stimulable phosphor, wherein the cooling space is evacuated from atmospheric pressure to at least 100 torr by a vacuum pump (liter / min) or more. <2> After at least one of the baking space in the baking step and the cooling space in the cooling step is evacuated to 10 torr or less, at least 0.1 torr of a gas containing 1 ppm or more of oxygen is introduced into the space, and the space is further impaired. <1> purging with active gas to approximately 1 atm
3. The method for producing a stimulable phosphor described in 1. above. <3> After at least one of the baking space in the baking step and the cooling space in the cooling step is evacuated to 10 torr or less, a gas containing 1 ppm or more of oxygen is supplied to the space at a flow rate of 1 to 10000 cc / min.
The method for producing a stimulable phosphor according to <1>, wherein the stimulable phosphor is introduced for 0 second, and the space is further purged to about 1 atm with an inert gas. <4> The method for producing a stimulable phosphor according to any one of <1> to <3>, wherein the stimulable phosphor is a tetradecahedral particle represented by the following basic composition formula (I). It is. (Ba 1-a, M II a) FX · bM I · cM III · dA: xLn ··· (I) [ wherein, M II is, Sr, at least one selected from the group consisting of Ca and Mg Alkaline earth metal, M
I represents a compound of at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M III represents Al, Ga, In, Tl, Sc, Y, C
It represents at least one compound of a trivalent metal selected from the group consisting of d and Lu (excluding Al 2 O 3 ). X
Represents at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I. Ln is Ce, Pr, S
m, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Nd, Er, Tm
And at least one rare earth element selected from the group consisting of Yb and Yb. A is Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2
Represents at least one metal oxide selected from the group consisting of a, b, c, d and x are respectively 0 ≦ a ≦
0.3, 0 ≦ b ≦ 2, 0 ≦ c ≦ 2, 0 ≦ d ≦ 0.5, 0
<X ≦ 0.2. ]
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 −輝尽性蛍光体の製造方法− 本発明の輝尽性蛍光体の製造方法は、少なくとも、混合
工程、焼成工程、及び冷却工程を含み、更に必要に応じ
て、その他の工程を含んでなる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. -Method for producing stimulable phosphor-The method for producing a stimulable phosphor of the present invention includes at least a mixing step, a baking step, and a cooling step, and further includes other steps as necessary. .
【0015】[混合工程]前記混合工程は、輝尽性蛍光
体原料を混合して輝尽性蛍光体原料混合物を調製する工
程である。前記輝尽性蛍光体原料としては、下記原料
(1)〜(5)が挙げられる。 (1)BaF2、BaCl2、BaBr2、BaI2、Ba
FBr、BaFI及びBaFClからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲン化バリウム。 (2)CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、Sr
F2、SrCl2、SrBr2、SrI2、MgF2、Mg
Cl2、MgBr2及びMgI2からなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属ハロゲン化物。 (3)CsCl、CsBr、CsI、NaCl、NaB
r、NaI、KCl、KBr、KI、RbCl、RbB
r、RbI、RbF、CsF、NaF、KF、LiF、
LiCl、LiBr及びLiIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属のハロゲン化物。 (4)Al2O3、SiO2及びZrO2からなる群より選
ばれる少なくとも一種の金属酸化物。 (5)ハロゲン化物、酸化物、硝酸塩、硫酸塩等の希土
類元素化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の
化合物。 所望により、更にハロゲン化アンモニウム(NH
4X’,但し、X’はF、Cl、Br又はIを表す。)
等をフラックスとして使用してもよい。[Mixing Step] The mixing step is a step of preparing a stimulable phosphor raw material mixture by mixing the stimulable phosphor raw materials. Examples of the stimulable phosphor materials include the following materials (1) to (5). (1) BaF 2 , BaCl 2 , BaBr 2 , BaI 2 , Ba
At least one barium halide selected from the group consisting of FBr, BaFI and BaFCl. (2) CaF 2 , CaCl 2 , CaBr 2 , CaI 2 , Sr
F 2 , SrCl 2 , SrBr 2 , SrI 2 , MgF 2 , Mg
At least one alkaline earth metal halide selected from the group consisting of Cl 2 , MgBr 2 and MgI 2 . (3) CsCl, CsBr, CsI, NaCl, NaB
r, NaI, KCl, KBr, KI, RbCl, RbB
r, RbI, RbF, CsF, NaF, KF, LiF,
At least one alkali metal halide selected from the group consisting of LiCl, LiBr and LiI. (4) At least one metal oxide selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2 . (5) At least one compound selected from the group consisting of rare earth element compounds such as halides, oxides, nitrates and sulfates. If desired, further ammonium halide (NH
4 X ', wherein X' represents F, Cl, Br or I. )
Etc. may be used as the flux.
【0016】前記輝尽性蛍光体原料混合物の調製は、前
記原料(1)〜(5)のそれぞれの中から所望の原料を
任意に選択し、前記基本組成式(I)に相当する相対比
となるように化学量論的に秤量、混合して、輝尽性蛍光
体原料混合物を調製する。The stimulable phosphor raw material mixture is prepared by arbitrarily selecting a desired raw material from each of the raw materials (1) to (5) and preparing a relative ratio corresponding to the basic composition formula (I). The stimulable phosphor raw material mixture is prepared by stoichiometrically weighing and mixing such that
【0017】前記輝尽性蛍光体原料混合物の調製方法と
しては、公知の混合方法の中から適宜選択して行うこと
ができる。例えば、特開平7−233369号公報及び
特開平10−195431号公報に記載の、粒子形状と
粒子アスペクト比を制御した14面体型の希土類賦活ア
ルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体の製
造における調製方法が挙げられ、更に、輝尽性蛍光体原
料の混合に際して、剪断力を付与しうる手段を利用した
調製方法(i)、各輝尽性蛍光体原料の添加、混合のタ
イミング等の種々条件を制御しうる手段を利用した調製
方法(ii)により調製することもできる。The method for preparing the stimulable phosphor raw material mixture can be appropriately selected from known mixing methods. For example, a tetrahedral rare earth activated alkaline earth metal fluorohalide-based stimulable phosphor having a controlled particle shape and particle aspect ratio described in JP-A-7-233369 and JP-A-10-195431. Preparation method (i) using means capable of imparting a shear force when mixing the stimulable phosphor materials, addition of each stimulable phosphor material, and timing of mixing Can be prepared by a preparation method (ii) using a means capable of controlling various conditions such as
【0018】前記調製方法(i)及び(ii)での混合
に用いる混合装置としては、公知の混合装置の中から適
宜選択して行うことができ、例えば、各種ミキサー、V
型ブレンダー、ボールミル、ロッドミル等を挙げること
ができる。The mixing apparatus used for the mixing in the preparation methods (i) and (ii) can be appropriately selected from known mixing apparatuses.
Mold blenders, ball mills, rod mills and the like can be mentioned.
【0019】[焼成工程]前記焼成工程は、前記混合工
程で得られた輝尽性蛍光体原料混合物を焼成して焼成物
を得る工程である。本発明の輝尽性蛍光体の製造方法
は、前記焼成工程及び冷却工程の少なくとも一方におい
て、以下に規定する特定の真空ポンプを用いて、焼成空
間及び冷却空間の少なくとも一方を、大気圧から少なく
とも100torrまで排気することを特徴とする。本
発明においては、前記焼成工程及び冷却工程の両工程に
おいて、特定の真空ポンプを用いて、大気圧から排気す
ることが好ましい。[Firing Step] The firing step is a step of firing the stimulable phosphor raw material mixture obtained in the mixing step to obtain a fired product. In the method for producing a stimulable phosphor of the present invention, in at least one of the baking step and the cooling step, at least one of a baking space and a cooling space is formed at least from atmospheric pressure using a specific vacuum pump defined below. It is characterized by exhausting up to 100 torr. In the present invention, it is preferable to exhaust from atmospheric pressure using a specific vacuum pump in both the baking step and the cooling step.
【0020】前記特定の真空ポンプとは、焼成工程にお
いて大気圧から作動させる真空ポンプ(以下、「焼成用
真空ポンプ」と呼ぶ。)と冷却工程において大気圧から
作動させる真空ポンプ(以下、「冷却用真空ポンプ」と
呼ぶ。)とがある。これらは、同一のものでもよく、異
なる種類のものでもよい。焼成用真空ポンプとは、焼成
空間の容積Va(リットル)に対して設計排気速度が
1.0×Va(リットル/分)以上のものである。一
方、冷却用真空ポンプとは、冷却空間の容積Vb(リッ
トル)に対して設計排気速度が1.0×Vb(リットル
/分)以上のものである。ここでは、焼成用真空ポンプ
について説明し、冷却用真空ポンプについては後述す
る。The above-mentioned specific vacuum pump includes a vacuum pump operated from atmospheric pressure in a firing step (hereinafter, referred to as a "sintering vacuum pump") and a vacuum pump operated from atmospheric pressure in a cooling step (hereinafter, "cooling"). Vacuum pump "). These may be the same or different types. The firing vacuum pump has a designed pumping speed of 1.0 × Va (liter / minute) or more with respect to the volume Va (liter) of the firing space. On the other hand, the cooling vacuum pump has a designed pumping speed of 1.0 × Vb (liter / minute) or more with respect to the volume Vb (liter) of the cooling space. Here, the vacuum pump for firing will be described, and the vacuum pump for cooling will be described later.
【0021】前記焼成用真空ポンプは、焼成空間の容積
Va(リットル)に対して設計排気速度が1.0×Va
(リットル/分)以上のものであるが、設計排気速度が
×Va(リットル/分)以上のものがより好ましい。前
記設計排気速度が1.0×Va(リットル/分)未満で
あると、目的とする圧力に排気される前に蛍光体原料の
酸化が進み、PSL発光量が低下してしまう。ここで、
設計排気速度とは、ポンプ固有の排気速度であり、被排
気空間のコンダクタンスを考慮した観測排気速度とは異
なる。また、焼成空間の容積とは、具体的には、輝尽性
蛍光体原料混合物を焼成する炉の容積をいい、通常、焼
成空間の容積Vaは、0.1〜10000(リットル)
である。前記焼成用真空ポンプとしては、設計排気速度
が上記の要件を満たすものであれば、特に制限はなく、
いずれをも用いることができる。具体的には、例えば、
上記の設計排気速度を有する、ドライポンプ、回転油ポ
ンプ、フック・クロー型ポンプ等が挙げられる。メカニ
カルブースターポンプを100torr以上から動作さ
せても、ロータリーポンプやドライポンプを併用して数
torr以下まで排気する場合も含める。The vacuum pump for firing has a designed pumping speed of 1.0 × Va with respect to the volume Va (liter) of the firing space.
(L / min) or more, but more preferably a design pumping speed of x Va (l / min) or more. If the designed pumping speed is less than 1.0 × Va (liter / minute), the phosphor raw material is oxidized before being pumped to a target pressure, and the PSL emission amount is reduced. here,
The designed pumping speed is a pumping speed peculiar to the pump, and is different from the observed pumping speed in consideration of the conductance of the space to be pumped. Further, the volume of the firing space specifically refers to the volume of a furnace for firing the stimulable phosphor raw material mixture, and usually, the volume Va of the firing space is 0.1 to 10000 (liter).
It is. The baking vacuum pump is not particularly limited as long as the designed pumping speed satisfies the above requirements,
Either can be used. Specifically, for example,
Dry pumps, rotary oil pumps, hook / claw type pumps, and the like having the above designed pumping speed are exemplified. Even if the mechanical booster pump is operated from 100 torr or more, a case where the pump is evacuated to several torr or less using a rotary pump or a dry pump is also included.
【0022】前記焼成用真空ポンプを用いて、焼成空間
を大気圧から少なくとも100torrまで排気する
が、10torrまで排気することがより好ましい。前
記焼成用真空ポンプを用いて、大気圧から少なくとも1
00torrまで排気しないと、更に低い圧力まで排気
するのに必要なポンプを安定して作動することが困難と
なる。また、前記焼成用真空ポンプを用いて、焼成空間
を大気圧から真空まで排気することもできるが、通常
は、前記焼成用真空ポンプを用いて、焼成空間を大気圧
から前記所定の低圧まで排気した後、前記焼成用真空ポ
ンプより設計排気速度の大きい真空ポンプを用いて、該
低圧から真空まで排気する。該低圧から真空まで排気す
るのに用いる真空ポンプとしては、例えば、メカニカル
ブースターポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ
等が挙げられる。The baking space is evacuated from atmospheric pressure to at least 100 torr using the vacuum pump for baking, more preferably to 10 torr. Using the vacuum pump for firing, at least 1
If the pressure is not exhausted to 00 torr, it becomes difficult to operate a pump necessary for exhausting to a lower pressure stably. Further, the firing space can be evacuated from atmospheric pressure to vacuum using the firing vacuum pump, but usually the firing space is exhausted from atmospheric pressure to the predetermined low pressure using the firing vacuum pump. After that, the gas is evacuated from the low pressure to a vacuum using a vacuum pump having a design pumping speed larger than that of the firing vacuum pump. Examples of the vacuum pump used for evacuation from the low pressure to a vacuum include a mechanical booster pump, a turbo-molecular pump, a cryopump, and the like.
【0023】このようにして、焼成空間を大気圧から真
空に排気した後は、目的に応じたガスをパージして、炉
内の雰囲気を、中性雰囲気、弱還元性雰囲気及び酸化性
雰囲気のいずれかに設定し、焼成を行う。焼成をある程
度の時間行った後、上記の真空ポンプを用いて、再び真
空まで排気し、目的に応じたガスをパージして、炉内の
雰囲気を、最初と異なる雰囲気に変えて、更に焼成する
こともできる。After the firing space is evacuated from the atmospheric pressure to a vacuum as described above, a gas according to the purpose is purged, and the atmosphere in the furnace is changed to a neutral atmosphere, a weak reducing atmosphere, or an oxidizing atmosphere. Set to any one and bake. After performing the firing for a certain period of time, using the above-described vacuum pump, exhaust the gas again to vacuum, purge the gas according to the purpose, change the atmosphere in the furnace to an atmosphere different from the first, and further fire. You can also.
【0024】前記中性雰囲気としては、窒素ガス雰囲
気、アルゴンガス雰囲気等が挙げられ、弱還元性雰囲気
としては、少量の水素ガスを含有する窒素ガス雰囲気、
一酸化炭素を含有する二酸化炭素雰囲気等が挙げられ
る。輝尽性蛍光体原料の希土類元素として、三価のユー
ロピウム化合物が含まれる場合には、焼成段階で三価の
ユーロピウムは、二価のユーロピウムに還元される。Examples of the neutral atmosphere include a nitrogen gas atmosphere and an argon gas atmosphere. Examples of the weakly reducing atmosphere include a nitrogen gas atmosphere containing a small amount of hydrogen gas,
For example, a carbon dioxide atmosphere containing carbon monoxide may be used. When a trivalent europium compound is contained as a rare earth element of the stimulable phosphor raw material, trivalent europium is reduced to divalent europium in the firing step.
【0025】前記酸化性雰囲気としては、僅かに酸化性
の雰囲気ガスを用いることが好ましい。僅かに酸化性の
雰囲気ガスとしては、単位体積当りの不活性ガス(中性
ガス)中に100〜100000ppm、好ましくは、
150〜50000ppmの酸素を含有する弱酸化性の
雰囲気ガス等が挙げられ、例えば、He、Ne、Ar、
N2等の不活性ガスに前記濃度の酸素を含有する弱酸化
性の雰囲気ガス等が挙げられる。As the oxidizing atmosphere, it is preferable to use a slightly oxidizing atmosphere gas. As the slightly oxidizing atmosphere gas, 100 to 100000 ppm, preferably, in an inert gas (neutral gas) per unit volume,
Examples of the atmosphere gas include a weakly oxidizing atmosphere gas containing 150 to 50,000 ppm of oxygen, such as He, Ne, Ar, and the like.
A weakly oxidizing atmosphere gas containing the above concentration of oxygen in an inert gas such as N 2 may be used.
【0026】前記酸素の導入量としては、炉の焼成部分
容積1リットルに対し、室温下で0.1〜200mlが
好ましく、0.2〜100mlがより好ましい。前記酸
素導入量が、0.1ml未満であると、輝尽性蛍光体の
消去特性及び残存特性に対する改良効果を十分に得るこ
とができないことがあり、200mlを超えると、輝尽
発光量が著しく低下することがある。The amount of oxygen introduced is preferably 0.1 to 200 ml, more preferably 0.2 to 100 ml, at room temperature, per 1 liter of the firing partial volume of the furnace. When the oxygen introduction amount is less than 0.1 ml, the effect of improving the erasing characteristics and the residual characteristics of the stimulable phosphor may not be sufficiently obtained. May drop.
【0027】本発明においては、前記焼成空間を大気圧
から10torr以下まで排気した後に、該焼成空間
に、酸素を1ppm以上含むガスを少なくとも0.1t
orrまで導入し、更に該焼成空間を不活性ガスにより
略1気圧までパージすることが好ましい。酸素を1pp
m以上含むガスが少なくとも0.1torr導入される
と、消去特性を向上させる点で好ましい。好ましくは、
前記焼成空間に、酸素を1ppm以上含むガスを1.0
torr導入する。ここで、前記略1気圧とは、1気圧
に対して±10%の範囲内の気圧を言う。In the present invention, after the baking space is evacuated from atmospheric pressure to 10 torr or less, the baking space contains at least 0.1 t of a gas containing 1 ppm or more of oxygen.
orr, and it is preferable to further purge the firing space to about 1 atm with an inert gas. 1pp of oxygen
It is preferable to introduce at least 0.1 torr of gas containing m or more from the viewpoint of improving erasing characteristics. Preferably,
In the firing space, a gas containing 1 ppm or more of oxygen
Introduce torr. Here, the above-mentioned substantially 1 atm means a pressure within a range of ± 10% with respect to 1 atm.
【0028】また、本発明においては、前記焼成空間を
大気圧から10torr以下まで排気した後に、該焼成
空間に、酸素を1ppm以上含むガスを1〜10000
cc/minの流量で1〜300秒間導入し、更に該焼
成空間を不活性ガスにより略1気圧までパージすること
が好ましい。より好ましくは、流量が100〜1000
0cc/minであり、ガス導入時間が1〜60秒間で
ある。前記流量が1cc/minより少ないと、排気系
のリークによる導入量の誤差が大きくなることがあり、
10000cc/minより多いと、炉内の流速が大き
く、粉体が飛散することがある。また、導入時間が1秒
より短いと、バルブの制御が難しくなることがあり、3
00秒より長いと、得られる蛍光体の酸化が不均一とな
ることがある。Further, in the present invention, after the baking space is evacuated from atmospheric pressure to 10 torr or less, a gas containing 1 ppm or more of oxygen is contained in the baking space in a range of 1 to 10000.
It is preferable that the pressure is introduced at a flow rate of cc / min for 1 to 300 seconds, and that the firing space is further purged with an inert gas to approximately 1 atm. More preferably, the flow rate is 100 to 1000
0 cc / min, and the gas introduction time is 1 to 60 seconds. If the flow rate is less than 1 cc / min, an error in the introduced amount due to a leak in the exhaust system may increase,
If it is higher than 10,000 cc / min, the flow velocity in the furnace is large, and powder may be scattered. If the introduction time is shorter than 1 second, it may be difficult to control the valve, and 3
If the time is longer than 00 seconds, the resulting phosphor may not be uniformly oxidized.
【0029】前記輝尽性蛍光体原料混合物を焼成するに
は、輝尽性蛍光体原料混合物を焼成容器に充填した後、
炉の炉芯に入れて焼成する。前記焼成容器の材質及び形
状は、特に制限されないが、材質は石英ガラスが好まし
く、形状はボート型が好ましい。ここでいうボート型と
は、上面が開口している形状であり、底面の形状は、円
形、楕円形、長方形等、いずれであってもよい。In order to fire the stimulable phosphor raw material mixture, the stimulable phosphor raw material mixture is charged into a firing vessel,
Bake in the furnace core. The material and shape of the firing container are not particularly limited, but the material is preferably quartz glass, and the shape is preferably a boat shape. The boat type here is a shape having an open upper surface, and the shape of the bottom surface may be any of a circle, an ellipse, a rectangle, and the like.
【0030】焼成に用いる炉としては、輝尽性蛍光体原
料混合物1kgに対し、2〜500リットルの焼成部分
容積を有する炉が必要であり、中でも、5〜50リット
ルの焼成部分容積を有する炉が好ましい。前記焼成部分
容積が、輝尽性蛍光体原料混合物1kgに対し、2リッ
トル未満であると、狭い空間に密に輝尽性蛍光体を詰め
込むことになり、全体的に均一な焼成を行うことが困難
となることがあり、500リットルを超えると、揮発す
るハロゲン雰囲気が低すぎて、得られる輝尽性蛍光体の
輝尽発光量や消去特性等が劣化することがある。As the furnace used for firing, a furnace having a firing partial volume of 2 to 500 liters per 1 kg of the stimulable phosphor raw material mixture is required, and especially a furnace having a firing partial volume of 5 to 50 liters. Is preferred. If the calcined partial volume is less than 2 liters per 1 kg of the stimulable phosphor raw material mixture, the stimulable phosphor is densely packed in a narrow space, so that uniform calcination can be performed as a whole. When the amount exceeds 500 liters, the halogen atmosphere to be volatilized is too low, and the stimulable light emission amount and erasing characteristics of the obtained stimulable phosphor may be deteriorated.
【0031】前記焼成は、一定温度の下で行うが、この
時の焼成温度としては、400〜1000℃が好まし
く、600〜900℃がより好ましい。前記焼成温度
が、400℃未満では、母体結晶中での賦活剤元素の拡
散や輝尽中心の源となるF+の生成が不十分となること
があり、1000℃を超えると、母体結晶が溶融してし
まうことがある。The calcination is performed at a constant temperature, and the calcination temperature at this time is preferably 400 to 1000 ° C., more preferably 600 to 900 ° C. When the calcination temperature is lower than 400 ° C., diffusion of the activator element in the host crystal and generation of F + serving as a source of stimulating center may be insufficient. May melt.
【0032】前記焼成時間としては、輝尽性蛍光体原料
混合物の充填量、焼成温度、炉からの取出温度等によっ
ても異なるが、一般に、0.5〜10時間が好ましく、
1〜4時間がより好ましい。前記焼成時間が、0.5時
間未満では、母体結晶中での賦活剤元素の拡散や輝尽中
心の源となるF+の生成が不十分となることがあり、1
0時間を超えて焼成を行っても、輝尽性蛍光体のそれ以
上の特性上の変化は少なく、生産性を低下させることが
ある。The firing time varies depending on the filling amount of the stimulable phosphor raw material mixture, the firing temperature, the temperature of taking out from the furnace, and the like, but is generally preferably 0.5 to 10 hours.
1-4 hours are more preferred. If the calcination time is less than 0.5 hour, the diffusion of the activator element in the host crystal and the generation of F + serving as a source of the photostimulated center may be insufficient.
Even if the sintering is performed for more than 0 hours, the stimulable phosphor will not change much further in properties, and may lower the productivity.
【0033】[冷却工程]前記冷却工程は、焼成工程で
得られた焼成物を冷却する工程である。前記冷却工程と
しては、特に限定されるものではなく、公知の冷却方法
より適宜選択することができ、例えば、放冷、急冷等し
て冷却することができる。[Cooling Step] The cooling step is a step of cooling the fired product obtained in the firing step. The cooling step is not particularly limited, and can be appropriately selected from known cooling methods. For example, the cooling step can be performed by letting cool, quenching, or the like.
【0034】前記冷却工程は、焼成後の焼成物を外気か
ら遮断した状態で、焼成工程における雰囲気を除去し、
真空状態若しくは焼成工程における雰囲気と異なる雰囲
気に置換して冷却を行う、或いは、焼成工程における雰
囲気を除去し、前記焼成工程における雰囲気と異なる第
一の雰囲気に置換して第一の冷却を行い、更に前記第一
の雰囲気を除去し、第二の雰囲気に置換して第二の冷却
を行う等の冷却方法を行うことが好ましい。また、本発
明においては、焼成空間と冷却空間とが別々に設けられ
ている製造装置を用い、冷却空間を目的とする雰囲気に
して、焼成物を焼成空間から冷却空間に移動させて、冷
却を行うことが好ましい。In the cooling step, the atmosphere in the firing step is removed while the fired product after firing is shielded from the outside air.
Performing cooling by substituting an atmosphere different from the atmosphere in the vacuum state or the firing step, or removing the atmosphere in the firing step, performing first cooling by substituting a first atmosphere different from the atmosphere in the firing step, Further, it is preferable to perform a cooling method such as removing the first atmosphere, replacing the first atmosphere with the second atmosphere, and performing the second cooling. Further, in the present invention, using a manufacturing apparatus in which a firing space and a cooling space are separately provided, the cooling space is set to an intended atmosphere, and the fired material is moved from the firing space to the cooling space to perform cooling. It is preferred to do so.
【0035】前述の通り、本発明の輝尽性蛍光体の製造
方法は、前記焼成工程及び冷却工程の少なくとも一方に
おいて、焼成工程においては焼成用真空ポンプを、冷却
工程においては冷却用真空ポンプを用いて、焼成空間及
び冷却空間の少なくとも一方を、大気圧から少なくとも
100torrまで排気することを特徴とする。As described above, in the method for producing a stimulable phosphor of the present invention, in at least one of the baking step and the cooling step, a baking vacuum pump is used in the baking step, and a cooling vacuum pump is used in the cooling step. Preferably, at least one of the firing space and the cooling space is evacuated from atmospheric pressure to at least 100 torr.
【0036】前記冷却用真空ポンプは、冷却空間の容積
Vb(リットル)に対して設計排気速度が1.0×Vb
(リットル/分)以上のものであるが、設計排気速度が
×Vb(リットル/分)以上のものがより好ましい。前
記設計排気速度が1.0×Vb(リットル/分)未満で
あると、冷却時の雰囲気の変更に時間がかかり、PSL
発光が低下してしまう。前記冷却空間の容積とは、具体
的には、焼成後の焼成物を冷却する冷却室の容積をい
い、通常、冷却空間の容積Vbは、0.1〜10000
(リットル)である。前記冷却用真空ポンプとしては、
設計排気速度が上記の要件を満たすものであれば、特に
制限はなく、いずれをも用いることができる。具体的に
は、例えば、上記の設計排気速度を有する、ドライポン
プ、回転油ポンプ、フック・クロー型ポンプ等が挙げら
れる。メカニカルブースターポンプを100torr以
上から動作させても、ロータリーポンプやドライポンプ
を併用して数torr以下まで排気する場合も含める。The cooling vacuum pump has a design pumping speed of 1.0 × Vb with respect to the cooling space volume Vb (liter).
(L / min) or more, but more preferably a design pumping speed of × Vb (l / min) or more. If the design pumping speed is less than 1.0 × Vb (liter / minute), it takes time to change the atmosphere during cooling, and PSL
Light emission is reduced. Specifically, the volume of the cooling space refers to the volume of a cooling chamber that cools a fired product after firing, and usually, the volume Vb of the cooling space is 0.1 to 10,000.
(Liter). As the cooling vacuum pump,
There is no particular limitation as long as the designed pumping speed satisfies the above requirements, and any of them can be used. Specifically, for example, a dry pump, a rotary oil pump, a hook / claw pump, or the like having the above-described designed pumping speed can be used. Even if the mechanical booster pump is operated from 100 torr or more, a case where the pump is evacuated to several torr or less using a rotary pump or a dry pump is also included.
【0037】前記冷却用真空ポンプを用いて、冷却空間
を大気圧から少なくとも100torrまで排気する
が、10torrまで排気することがより好ましい。前
記冷却用真空ポンプを用いて、大気圧から少なくとも1
00torrまで排気しないと、更に低い圧力まで排気
するのに必要なポンプを安定して作動することが困難と
なる。また、前記冷却用真空ポンプを用いて、冷却空間
を大気圧から真空まで排気することもできるが、通常
は、前記冷却用真空ポンプを用いて、冷却空間を大気圧
から前記所定の低圧まで排気した後、前記冷却用真空ポ
ンプより設計排気速度の大きい真空ポンプを用いて、該
低圧から真空まで排気する。該低圧から真空まで排気す
るのに用いる真空ポンプとしては、例えば、メカニカル
ブースターポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ
等が挙げられる。The cooling vacuum pump is used to evacuate the cooling space from atmospheric pressure to at least 100 torr, more preferably to 10 torr. Using the cooling vacuum pump, at least one
If the pressure is not exhausted to 00 torr, it becomes difficult to operate a pump necessary for exhausting to a lower pressure stably. Although the cooling space can be evacuated from atmospheric pressure to vacuum using the cooling vacuum pump, the cooling space is usually evacuated from atmospheric pressure to the predetermined low pressure using the cooling vacuum pump. After that, the gas is evacuated from the low pressure to a vacuum using a vacuum pump having a design pumping speed higher than that of the cooling vacuum pump. Examples of the vacuum pump used for evacuation from the low pressure to a vacuum include a mechanical booster pump, a turbo-molecular pump, a cryopump, and the like.
【0038】このようにして、冷却空間を大気圧から真
空に排気した後は、真空状態で冷却を行ってもよく、目
的に応じたガスをパージして、冷却室内の雰囲気を、中
性雰囲気、弱還元性雰囲気及び酸化性雰囲気のいずれか
に設定し、冷却を行ってもよい。冷却を所定時間行った
後、上記の真空ポンプを用いて、再び真空まで排気し、
目的に応じたガスをパージして、冷却室内の雰囲気を、
最初と異なる雰囲気に変えて、更に冷却することもでき
る。After the cooling space is evacuated from the atmospheric pressure to a vacuum in this manner, the cooling may be performed in a vacuum state. Alternatively, the cooling may be performed by setting the atmosphere to a weak reducing atmosphere or an oxidizing atmosphere. After performing the cooling for a predetermined time, using the above vacuum pump, evacuate again to vacuum,
Purging the gas according to the purpose, the atmosphere in the cooling room,
The atmosphere can be changed to a different one from the first, and further cooled.
【0039】本発明においては、前記焼成工程の場合と
同様に、前記冷却空間を大気圧から10torr以下ま
で排気した後に、該冷却空間に、酸素を1ppm以上含
むガスを少なくとも0.1torr導入し、更に該冷却
空間を不活性ガスにより略1気圧までパージすることが
好ましい。In the present invention, as in the case of the baking step, after the cooling space is evacuated from the atmospheric pressure to 10 torr or less, at least 0.1 torr of a gas containing 1 ppm or more of oxygen is introduced into the cooling space. Further, it is preferable that the cooling space is purged with an inert gas to approximately 1 atm.
【0040】また、本発明においては、前記焼成工程の
場合と同様に、前記焼成空間を大気圧から10torr
以下まで排気した後に、該冷却空間に、酸素を1ppm
以上含むガスを1〜10000cc/minの流量で1
〜300秒間導入し、更に該冷却空間を不活性ガスによ
り略1気圧までパージすることが好ましい。より好まし
くは、流量が10〜10000cc/minであり、ガ
ス導入時間が1〜60秒間である。Further, in the present invention, similarly to the case of the firing step, the firing space is set to 10 torr from atmospheric pressure.
After evacuation to below, 1 ppm of oxygen was added to the cooling space.
A gas containing the above gas at a flow rate of 1 to 10000 cc / min.
It is preferable that the cooling space is purged with an inert gas to about 1 atm. More preferably, the flow rate is 10 to 10000 cc / min, and the gas introduction time is 1 to 60 seconds.
【0041】前記冷却は、前記焼成工程を終了した後、
直ちに行ってもよいが、十分な輝尽発光量、消去特性を
有する輝尽性蛍光体を製造する観点から、前記焼成工程
を完了し、所望の一定温度を第一冷却開始点として、該
第一冷却開始点に達した時点から前記冷却工程に移行す
ることも好ましい。前記第一冷却開始点は、炉内温度又
は焼成物表面温度を指す。The cooling is performed after the firing step is completed.
Although it may be performed immediately, from the viewpoint of producing a stimulable phosphor having a sufficient stimulating light emission amount and erasing characteristics, the firing step is completed, and a desired constant temperature is set as a first cooling start point, and the second cooling step is performed. It is also preferable to shift to the cooling step from the point of time when one cooling start point is reached. The first cooling start point indicates a furnace temperature or a fired material surface temperature.
【0042】[その他の工程]前記その他の工程とし
て、前記冷却工程の後に、洗浄工程、乾燥工程、篩分工
程等の一般的な各種工程を行うことができる。[Other Steps] As the other steps, various general steps such as a washing step, a drying step, and a sieving step can be performed after the cooling step.
【0043】また、前記焼成工程と冷却工程との間に、
一定温度に維持しながら前記焼成工程における雰囲気を
除去し、前記雰囲気と異なる雰囲気に置換して、徐冷を
行うこともできる。前記除冷は、一定温度での焼成を終
了する直前に行ってもよいが、更に一定温度に維持しつ
つ、雰囲気の除去、置換を行いながら所定時間経過した
後に行うことが好ましい。前記所定時間としては、0〜
240分が好ましく、30〜180分がより好ましい。
前記所定時間が、180分を超えると、得られた輝尽性
蛍光体の発光特性が劣化することがある。Further, between the firing step and the cooling step,
While maintaining the temperature at a constant temperature, the atmosphere in the firing step may be removed and replaced with an atmosphere different from the atmosphere to perform slow cooling. The cooling may be performed immediately before the completion of firing at a constant temperature, but is preferably performed after a predetermined time has passed while removing and replacing the atmosphere while maintaining the temperature at a constant temperature. As the predetermined time, 0 to
240 minutes is preferable, and 30 to 180 minutes is more preferable.
If the predetermined time exceeds 180 minutes, the emission characteristics of the obtained stimulable phosphor may be deteriorated.
【0044】前記徐冷では、徐冷開始温度から所定の温
度まで緩やかな温度勾配に制御して温度を下げる。この
場合の降温速度としては、0.2〜5℃/分が好まし
く、0.5〜3℃/分がより好ましい。前記降温速度
が、0.2℃/分未満であると、発光特性が劣化するこ
とがあり、5℃/分を超えると、十分に消去特性を改良
し得ないことがある。In the above-mentioned slow cooling, the temperature is lowered by controlling a gentle temperature gradient from the slow cooling start temperature to a predetermined temperature. In this case, the temperature decreasing rate is preferably 0.2 to 5 ° C./min, more preferably 0.5 to 3 ° C./min. If the rate of temperature decrease is less than 0.2 ° C./min, the light emission characteristics may be degraded, and if it exceeds 5 ° C./min, the erasing characteristics may not be sufficiently improved.
【0045】また、徐冷は、徐冷開始温度より50〜3
00℃低い温度となるまで行うことが好ましく、100
〜250℃低い温度となるまで行うことがより好まし
い。前記徐冷開始時と終了時の温度差が、50℃未満で
あると、十分に消去特性を改良し得ないことがあり、3
00℃を超えると、発光特性が劣化することがある。The gradual cooling is performed 50 to 3 times below the gradual cooling start temperature.
It is preferably performed until the temperature becomes lower by 00 ° C.
It is more preferable to perform the process until the temperature becomes lower by 250 ° C. If the temperature difference between the start and end of the slow cooling is less than 50 ° C., the erasing characteristics may not be sufficiently improved.
If the temperature exceeds 00 ° C., the light emission characteristics may be deteriorated.
【0046】更に、雰囲気置換後、徐冷開始温度から所
定の温度まで下げる徐冷時間としては、30〜180分
が好ましく、60〜150分がより好ましい。前記徐冷
時間が、30分未満であると、十分に消去特性を改良し
得ないことがあり、180分を超えると、発光特性が劣
化することがある。Further, as the slow cooling time for lowering the temperature from the slow cooling start temperature to the predetermined temperature after the atmosphere replacement, it is preferably 30 to 180 minutes, more preferably 60 to 150 minutes. If the slow cooling time is less than 30 minutes, the erasing characteristics may not be sufficiently improved, and if it exceeds 180 minutes, the light emitting characteristics may deteriorate.
【0047】−輝尽性蛍光体− 前記本発明の製造方法により、十分な輝尽発光量を有す
るとともに、優れた消去特性を有する輝尽性蛍光体を、
安定して製造することができる。特に、本発明の製造方
法は、下記基本組成式(I)で表される輝尽性蛍光体の
製造方法として好適に用いられる。 (Ba1-a,MII a)FX・bMI・cMIII・dA:xLn・・・(I) 式中、MIIは、Sr,Ca及びMgからなる群より選択
される少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、MI
は、Li,Na,K,Rb及びCsからなる群より選択
される少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表し、
MIIIは、Al,Ga,In,Tl,Sc,Y,Cd及
びLuからなる群より選択される少なくとも一種の三価
金属の化合物(但し、Al2O3を除く)を表す。Xは、
Cl,Br及びIからなる群より選択される少なくとも
一種のハロゲンを表す。Lnは、Ce,Pr,Sm,E
u,Gd,Tb,Dy,Ho,Nd,Er,Tm及びY
bからなる群より選択される少なくとも一種の希土類元
素を表す。Aは、Al2O3,SiO2及びZrO2からな
る群より選択される少なくとも一種の金属酸化物を表
す。a、b、c、d及びxは、それぞれ、0≦a≦0.
3、0≦b≦2、0≦c≦2、0≦d≦0.5、0<x
≦0.2を表す。-Stimulable phosphor- According to the production method of the present invention, a stimulable phosphor having a sufficient amount of stimulable light emission and excellent erasing characteristics is
It can be manufactured stably. In particular, the production method of the present invention is suitably used as a method for producing a stimulable phosphor represented by the following basic composition formula (I). (Ba 1-a, M II a) FX · bM I · cM III · dA: in xLn ··· (I) formula, M II is at least one alkali Sr, selected from the group consisting of Ca and Mg Represents earth metal, M I
Represents a compound of at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs;
M III represents a compound of at least one trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga, In, Tl, Sc, Y, Cd and Lu (excluding Al 2 O 3 ). X is
Represents at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I. Ln is Ce, Pr, Sm, E
u, Gd, Tb, Dy, Ho, Nd, Er, Tm and Y
represents at least one rare earth element selected from the group consisting of b. A represents at least one metal oxide selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2 . a, b, c, d and x are respectively 0 ≦ a ≦ 0.
3, 0 ≦ b ≦ 2, 0 ≦ c ≦ 2, 0 ≦ d ≦ 0.5, 0 <x
≤ 0.2.
【0048】前記基本組成式(I)で表される輝尽性蛍
光体の製造の際、輝尽発光量、消去特性及び残存特性等
を更に改良する目的で、下記のような種々添加成分を添
加することもできる。例えば、特開昭57−23673
号公報に記載のB、特開昭57−23675号公報に記
載のAs、特開昭59−27980号公報に記載のテト
ラフルオロホウ酸化合物、特開昭59−47289号公
報に記載のヘキサフルオロ化合物、特開昭59−564
80号公報に記載のV,Cr,Mn,Fe,Co,Ni
等の遷移金属、又は特開昭59−75200号公報に記
載のBeX”2(但し、X”は、F、Cl、Br及びI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン原子
を表す)が挙げられる。前記添加成分を添加する場合、
該添加成分は輝尽性蛍光体原料を秤量、混合する際又は
焼成前に添加し、混合される。In the production of the stimulable phosphor represented by the basic composition formula (I), the following various additives are added for the purpose of further improving the stimulable luminescence amount, the erasing property, the remaining property and the like. It can also be added. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
B described in JP-A-57-23675, As described in JP-A-57-23675, a tetrafluoroboric acid compound described in JP-A-59-27980, hexafluoro described in JP-A-59-47289 Compound, JP-A-59-564
No. 80, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni
Or a transition metal such as BeX " 2 described in JP-A-59-75200 (where X" is F, Cl, Br and I
And represents at least one halogen atom selected from the group consisting of When adding the additive component,
The additive component is added and mixed when the stimulable phosphor raw material is weighed and mixed or before firing.
【0049】−製造装置− 本発明の輝尽性蛍光体の製造方法に用いられる製造装置
について説明する。前記製造装置は、具体的には輝尽性
蛍光体原料混合物を焼成するための焼成炉を有する装置
であって、前記焼成炉内部に、炉心管、及び該炉心管外
部に熱源が配され、更に、輝尽性蛍光体原料混合物を収
容し得る焼成容器が前記炉心管内部に出し入れ可能に備
えられて構成される。-Production Apparatus- A production apparatus used in the method for producing a stimulable phosphor of the present invention will be described. The manufacturing apparatus is specifically an apparatus having a firing furnace for firing the stimulable phosphor raw material mixture, inside the firing furnace, a furnace tube, and a heat source is arranged outside the furnace tube, Further, a firing vessel capable of containing the stimulable phosphor raw material mixture is provided so as to be able to be taken in and out of the furnace tube.
【0050】図1は、製造装置の一例を示す模式断面図
である。図1に示す輝尽性蛍光体の製造装置は、大きく
分けて、焼成部分A(即ち、焼成空間)と冷却部分B
(即ち、冷却空間)とから構成される。図1において、
10は焼成炉であって、内部に炉心管12が、図面上左
右方向に貫通する状態で配されている。焼成炉10内部
であって、炉心管12の外部には熱源14が配され、該
熱源14によって焼成炉10内部が加熱され、炉心管1
2内に投入される焼成容器16に収容された輝尽性蛍光
体原料混合物18が焼成できるように構成されている。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the manufacturing apparatus. The stimulable phosphor manufacturing apparatus shown in FIG. 1 is roughly divided into a sintering portion A (that is, a sintering space) and a cooling portion B.
(That is, a cooling space). In FIG.
Reference numeral 10 denotes a firing furnace, in which a furnace tube 12 is disposed so as to penetrate in the left-right direction in the drawing. A heat source 14 is arranged inside the furnace 10 and outside the furnace tube 12, and the inside of the furnace 10 is heated by the heat source 14, and the furnace tube 1 is heated.
The stimulable phosphor raw material mixture 18 contained in the firing container 16 put into the furnace 2 can be fired.
【0051】炉心管12には、内部にガスを導入及び排
気し得るように、ガス導入排気管20が弁22を介して
連通し、不図示の焼成用真空ポンプやガスボンベによ
り、炉心管12内部雰囲気を適宜調整できるようになっ
ている。炉心管12の図面上左端の開口部は、焼成時の
炉心管12内部密閉性を確保しつつ、焼成容器16を投
入可能なようにサンプル投入口蓋24により閉止されて
いる。更にサンプル投入口蓋24には、サンプル投入口
蓋24を開放することなく、投入した焼成容器16を図
面上右方向へスライドさせ得るサンプル押出し棒26が
挿通されている。A gas introduction / exhaust pipe 20 communicates with the furnace tube 12 via a valve 22 so that gas can be introduced and exhausted into the inside of the furnace tube 12. The inside of the furnace tube 12 is opened by a firing vacuum pump or a gas cylinder (not shown). The atmosphere can be adjusted appropriately. The opening at the left end in the drawing of the furnace tube 12 is closed by a sample inlet cover 24 so that the firing container 16 can be charged while ensuring the inside tightness of the furnace tube 12 during firing. Further, a sample pushing rod 26 is inserted through the sample charging port 24 so that the fired container 16 can be slid rightward in the drawing without opening the sample charging port 24.
【0052】尚、焼成容器16は、石英ボート、アルミ
ナルツボ、石英ルツボ、炭化ケイ素容器等の耐熱性容器
で構成されている。また、熱源14としては、従来公知
のあらゆる熱源を使用することができ、例えば公知の電
気ヒーターを採用することができる。The firing vessel 16 is composed of a heat-resistant vessel such as a quartz boat, an alumina crucible, a quartz crucible, and a silicon carbide vessel. Further, as the heat source 14, any conventionally known heat source can be used, and for example, a known electric heater can be adopted.
【0053】炉心管12の図面上右端の開口部は、焼成
部分Aと冷却部分Bとを遮蔽して、焼成時の炉心管12
及び冷却時の冷却室28の内部密閉性を確保しつつ、焼
成後に焼成容器16を冷却部分Bヘ排出可能なように仕
切り扉30により閉止されている。仕切り扉30は、矢
印yの方向にスライドして、焼成部分Aと冷却部分Bと
の間の遮蔽及び開放が可能となっている。The opening at the right end in the drawing of the furnace tube 12 shields the sintering portion A and the cooling portion B so that the furnace tube 12 at the time of sintering is opened.
In addition, the partitioning door 30 closes the firing chamber 16 so that the firing chamber 16 can be discharged to the cooling portion B after firing while ensuring the internal sealing of the cooling chamber 28 during cooling. The partition door 30 is slid in the direction of the arrow y to enable shielding and opening between the firing part A and the cooling part B.
【0054】輝尽性蛍光体原料混合物18を焼成するに
際しては、まず輝尽性蛍光体原料混合物18を焼成容器
16に収容し、サンプル投入口蓋24を開放状態にして
炉心管12内部に投入する。サンプル投入口蓋24を密
閉状態にして(勿論、仕切り扉30も密閉状態となって
いる)、サンプル押出し棒26を矢印x方向に押し出す
ことにより輝尽性蛍光体原料混合物18が収容された焼
成容器16をスライドさせ、これを所定の位置に置く。
そして、ガス導入排気管20によりガスを適宜排気及び
/又は導入し、炉心管12内部の雰囲気を所定の状態に
しつつ、熱源14から熱を与え、焼成を行う。このとき
の焼成条件(雰囲気、温度、時間、焼成温度・雰囲気の
段数等)は、目的に応じて適宜設定すればよい。In firing the stimulable phosphor raw material mixture 18, the stimulable phosphor raw material mixture 18 is first placed in a firing vessel 16, and is charged into the furnace core tube 12 with the sample charging port 24 opened. . The sample charging port 24 is closed (of course, the partition door 30 is also closed), and the sample extruding rod 26 is pushed out in the direction of the arrow x so that the stimulable phosphor raw material mixture 18 is stored in the firing vessel. Slide 16 and place it in place.
Then, gas is appropriately exhausted and / or introduced through the gas introduction / exhaust pipe 20, and heat is applied from the heat source 14 while the atmosphere inside the furnace core tube 12 is kept in a predetermined state, and firing is performed. The firing conditions (atmosphere, temperature, time, firing temperature, number of atmosphere steps, and the like) at this time may be appropriately set depending on the purpose.
【0055】焼成後、仕切り扉30を開放状態とし、サ
ンプル押出し棒26により焼成された輝尽性蛍光体原料
混合物18が収容された焼成容器16を矢印z方向へス
ライドさせ、冷却部分Bにこれを移動させる。After firing, the partitioning door 30 is opened, and the firing container 16 containing the stimulable phosphor raw material mixture 18 fired by the sample push rod 26 is slid in the direction of the arrow z, and is moved to the cooling portion B. To move.
【0056】冷却部分Bは、冷却室28内に冷却台32
が配置されて構成され、冷却室28には、内部にガスを
導入及び排気し得るように、冷却室用ガス導入排気管3
4が弁36を介して連通し、不図示の冷却用真空ポンプ
やガスボンベにより、冷却室28内部雰囲気を適宜調整
できるようになっている。冷却室28の図面上右端に
は、開口部が設けられ、冷却時の冷却室28内部密閉性
を確保しつつ、焼成容器16を排出可能なようにサンプ
ル排出口蓋38により閉止されている。The cooling part B includes a cooling table 32 in the cooling chamber 28.
Is arranged in the cooling chamber 28 so that gas can be introduced and exhausted into the cooling chamber 28.
4 is communicated via a valve 36, and the atmosphere inside the cooling chamber 28 can be appropriately adjusted by a cooling vacuum pump or a gas cylinder (not shown). An opening is provided at the right end in the drawing of the cooling chamber 28, and is closed by a sample discharge port lid 38 so that the firing chamber 16 can be discharged while ensuring the airtightness of the cooling chamber 28 during cooling.
【0057】既述の如く、焼成部分Aにおいて焼成され
た輝尽性蛍光体(輝尽性蛍光体原料混合物18の焼成
物)が収容された焼成容器16は、矢印z方向へスライ
ドされ、不図示のガイドに支持されて、冷却部分B中の
冷却台32上に載置される。その後、開放状態となって
いた仕切り扉30は、再び密閉状態にされる(勿論、サ
ンプル排出口蓋38も密閉状態となっている)。そし
て、冷却室用ガス導入排気管34によりガスを適宜排気
及び/又は導入し、冷却室28内部の雰囲気を所定の状
態にしつつ、不図示の水冷手段等の冷却手段により冷却
台32が冷却され、焼成容器16に収容された輝尽性蛍
光体原料混合物18も冷却される。このときの冷却条件
(雰囲気、温度、時間、冷却温度・雰囲気の段数等)
は、目的に応じて適宜設定すればよい。また、特に水冷
手段等の冷却手段を設けることなく、放置することによ
り自然に冷却してもよい。As described above, the firing container 16 containing the stimulable phosphor fired in the firing portion A (the fired material of the stimulable phosphor raw material mixture 18) is slid in the direction of the arrow z, and It is mounted on a cooling table 32 in the cooling part B, supported by the illustrated guide. Thereafter, the partition door 30 that has been in the open state is closed again (of course, the sample outlet cover 38 is also closed). Then, the cooling table 32 is cooled by a cooling means such as a water cooling means (not shown) while appropriately exhausting and / or introducing gas through the cooling chamber gas introduction / exhaust pipe 34 and keeping the atmosphere inside the cooling chamber 28 in a predetermined state. The stimulable phosphor raw material mixture 18 contained in the firing container 16 is also cooled. Cooling conditions at this time (atmosphere, temperature, time, cooling temperature, number of atmosphere stages, etc.)
May be appropriately set according to the purpose. In addition, cooling may be naturally performed by leaving the apparatus without a cooling means such as a water cooling means.
【0058】所定の冷却を終えた輝尽性蛍光体(輝尽性
蛍光体原料混合物18の焼成物)が収容された焼成容器
16は、サンプル排出口蓋38を開放状態として、取り
出される。以上、図1に示す形態の装置を用いて、本発
明の輝尽性蛍光体の製造方法に用いられる製造装置を説
明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例
えば焼成部分が冷却部分をも兼ねている構成であっても
よい。この場合には、前記焼成空間の容積Va(リット
ル)と前記冷却空間の容積Vb(リットル)は同じであ
る。The sintering vessel 16 containing the stimulable phosphor (sintered stimulable phosphor raw material mixture 18) which has been cooled down is taken out with the sample outlet cover 38 opened. As described above, the manufacturing apparatus used in the method for manufacturing the stimulable phosphor of the present invention has been described using the apparatus in the form shown in FIG. 1; however, the present invention is not limited to this. The structure which also serves as a cooling part may be sufficient. In this case, the volume Va (liter) of the baking space is the same as the volume Vb (liter) of the cooling space.
【0059】[0059]
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、本発
明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 (実施例1) [混合工程] a)BaBr2水溶液(2.5モル/リットル)120
0mlを4000mlの容積の反応器に入れ、これにE
uBr3水溶液(0.2モル/リットル)37.5m
l、KBr30.9g、CaBr2・2H2O3.54
g、及び水1762.5mlを添加した。この反応器中
の反応母液(BaBr2濃度:1.00モル/リット
ル)を60℃に保温し、直径60mmのスクリュー型撹
拌羽根を500rpmで回転させて、反応母液を撹拌し
た。NH4F水溶液(5モル/リットル)300mlを
撹拌下に保温している上記の反応母液中にローラーポン
プを用いて5.0ml/分の送液速度で注入し、沈殿物
を生成させた。注入の完了後も保温と撹拌を2時間続け
て沈殿物の熟成を行った。次に沈殿物を濾別し、メタノ
ール2リットルで洗浄した。次いで、洗浄した沈殿物を
取り出し、120℃で4時間真空乾燥して、ユーロピウ
ム賦活弗化臭化バリウム系輝尽性蛍光体前駆体結晶(B
aFBr結晶)を約350g得た。この操作を40回繰
り返して、BaFBr結晶を合計約14000g得た。
得られた結晶を走査型電子顕微鏡で観察したところ、そ
の大部分が14面体型の結晶であった。次に、この結晶
を光回折型粒子サイズ分布測定器(堀場製作所株式会社
製:LA−500)で測定したところ、平均結晶サイズ
は5.0μmであることが確認された。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. (Example 1) [Mixing step] a) BaBr 2 aqueous solution (2.5 mol / L) 120
0 ml is placed in a 4000 ml reactor, into which E
uBr 3 aqueous solution (0.2 mol / L) 37.5 m
1, KBr 30.9 g, CaBr 2 .2H 2 O 3.54
g and 1762.5 ml of water were added. The reaction mother liquor (BaBr 2 concentration: 1.00 mol / l) in this reactor was kept at 60 ° C., and the screw-type stirring blade having a diameter of 60 mm was rotated at 500 rpm to stir the reaction mother liquor. 300 ml of an NH 4 F aqueous solution (5 mol / l) was injected into the above reaction mother liquor kept under stirring at a rate of 5.0 ml / min using a roller pump to produce a precipitate. After completion of the injection, the precipitate was ripened by continuing the warming and stirring for 2 hours. Next, the precipitate was separated by filtration and washed with 2 liters of methanol. Next, the washed precipitate is taken out and vacuum-dried at 120 ° C. for 4 hours to prepare a europium-activated barium fluorobromide-based stimulable phosphor precursor crystal (B).
aFBr crystal) was obtained in an amount of about 350 g. This operation was repeated 40 times to obtain a total of about 14000 g of BaFBr crystals.
Observation of the obtained crystal with a scanning electron microscope revealed that most of the crystal was a tetrahedral crystal. Next, when this crystal was measured with a light diffraction type particle size distribution measuring device (LA-500, manufactured by Horiba, Ltd.), it was confirmed that the average crystal size was 5.0 μm.
【0060】b)BaI2水溶液(4.0モル/リット
ル)2850mlを4000mlの容積の反応器に入
れ、これにEuI3水溶液(0.2モル/リットル)9
0ml及び水60mlを添加した。この反応器中の反応
母液(BaI2濃度:3.80モル/リットル)を60
℃に保温し、直径60mmのスクリュー型撹拌羽根を5
00rpmで回転させて、反応母液を撹拌した。HF水
溶液(5モル/リットル)720mlを、撹拌下に保温
している上記の反応母液中にローラーポンプを用いて1
2ml/分の送液速度で注入し、沈殿物を生成させた。
注入の完了後も保温と撹拌とを2時間続けて沈殿物の熟
成を行った。次に沈殿物を濾別し、イソプロパノール2
リットルで洗浄した。次いで、洗浄した沈殿物を取り出
し、120℃で4時間真空乾燥して、ユーロピウム賦活
弗化沃化バリウム輝尽性蛍光体前駆体結晶(BaFI結
晶)を約1000g得た。この操作を3回繰り返して、
BaFI結晶を合計約3000g得た。次に、この結晶
を光回折型粒子サイズ分布測定器で測定したところ、平
均結晶サイズは6.5μmであることが確認された。B) 2850 ml of a BaI 2 aqueous solution (4.0 mol / l) were placed in a 4000 ml reactor, and a EuI 3 aqueous solution (0.2 mol / l) 9
0 ml and 60 ml of water were added. The reaction mother liquor (BaI 2 concentration: 3.80 mol / l) in this reactor was
C., and a screw-type stirring blade having a diameter of 60 mm
Spin at 00 rpm and stir the reaction mother liquor. Using a roller pump, 720 ml of an aqueous HF solution (5 mol / l) was poured into the above-mentioned reaction mother liquor kept warm under stirring.
Injection was performed at a flow rate of 2 ml / min to produce a precipitate.
After completion of the injection, the keeping and stirring were continued for 2 hours to ripen the precipitate. The precipitate is then filtered off and isopropanol 2
Washed with liter. Next, the washed precipitate was taken out and vacuum dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain about 1000 g of a europium-activated barium fluoroiodide stimulable phosphor precursor crystal (BaFI crystal). Repeat this operation three times,
A total of about 3000 g of BaFI crystals were obtained. Next, when the crystals were measured by a light diffraction type particle size distribution analyzer, it was confirmed that the average crystal size was 6.5 μm.
【0061】c)上記のBaFBr結晶を12480g
及びBaFI結晶を2640g取り、これにBaF22
48g、そして焼成時の焼結を防止するためにアルミナ
(Al2O3)の超微粒子粉体76g(0.5重量%)を
添加し、合計15444gの輝尽性蛍光体原料混合物を
ダブルコーンミキサーで充分に撹拌混合して、結晶表面
にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。C) 12480 g of the above BaFBr crystal
And 2640g up the BaFI crystal, this BaF 2 2
48 g, and 76 g (0.5% by weight) of ultra-fine alumina (Al 2 O 3 ) powder to prevent sintering during firing were added, and a total of 15444 g of the stimulable phosphor raw material mixture was added to a double cone. The mixture was sufficiently stirred and mixed by a mixer to uniformly adhere ultrafine alumina powder to the crystal surface.
【0062】[焼成工程]上記の輝尽性蛍光体原料混合
物15444gを焼成容器である石英ボート(収容容積
=6300ccの石英ガラス製ボート)3個に充填し
た。電気炉(焼成空間:Va=120リットルの管状
炉)を用い、850℃に設定された焼成空間に前記石英
ボートを入れ、前記焼成用真空ポンプとして、ドライポ
ンプ(V090S、ANELVA製、設計排気速度=1
500リットル/分)を用い、大気圧から作動させ30
秒かけて100torrまで排気した。続いて、低圧か
ら作動させる真空ポンプとして、メカニカルブースター
ポンプ(B601P、ANELVA製、設計排気速度=
8300リットル/分)を作動させ、10分かけて焼成
空間を1torr以下まで排気した。その後、焼成空間
を窒素ガスで1気圧までパージし、2時間の加熱を行っ
た。[Firing Step] 15444 g of the stimulable phosphor raw material mixture was filled in three quartz boats (quartz glass boats having a capacity of 6300 cc), which were firing vessels. Using an electric furnace (firing space: Va = 120 liter tubular furnace), put the quartz boat into a firing space set at 850 ° C., and use a dry pump (V090S, manufactured by ANELVA, designed pumping speed) as the vacuum pump for firing. = 1
500 liters / min) and operated from atmospheric pressure
It exhausted to 100 torr over seconds. Subsequently, as a vacuum pump operated from a low pressure, a mechanical booster pump (B601P, manufactured by ANELVA, designed pumping speed =
8300 l / min) and the firing space was evacuated to 1 torr or less over 10 minutes. Thereafter, the firing space was purged to 1 atm with nitrogen gas and heated for 2 hours.
【0063】次に、前記ドライポンプ(V090S、A
NELVA製、設計排気速度=1500リットル/分)
を作動させ、90秒かけて焼成空間を100torrま
で排気した。続いて、前記メカニカルブースターポンプ
(B601P、ANELVA製、設計排気速度=830
0リットル/分)を作動させ、10分かけて焼成空間を
1torr以下まで排気した。その後、酸素ガスを焼成
空間に10torr導入し、更に窒素ガスで1気圧まで
パージして、1時間の加熱を行った。次に、前記ドライ
ポンプ(V090S、ANELVA製、設計排気速度=
1500リットル/分)を作動させ、30秒かけて焼成
空間を100torrまで排気した。続いて、前記メカ
ニカルブースターポンプ(B601P、ANELVA
製、設計排気速度=8300リットル/分)を作動さ
せ、10分かけて焼成空間を1torr以下まで排気し
た。その後、焼成空間を窒素ガスで1気圧までパージし
た。Next, the dry pump (V090S, A
(Nelva, design pumping speed = 1500 l / min)
Was operated, and the firing space was evacuated to 100 torr over 90 seconds. Subsequently, the mechanical booster pump (B601P, manufactured by ANELVA, designed pumping speed = 830)
(0 liter / min) and the firing space was evacuated to 1 torr or less over 10 minutes. Thereafter, oxygen gas was introduced into the firing space at 10 torr, and further purged with nitrogen gas to 1 atm, followed by heating for 1 hour. Next, the dry pump (V090S, manufactured by ANELVA, designed pumping speed =
(1500 liter / min) and the firing space was evacuated to 100 torr over 30 seconds. Subsequently, the mechanical booster pump (B601P, ANELVA)
The pumping space was evacuated to 1 torr or less over 10 minutes. Thereafter, the firing space was purged with nitrogen gas to 1 atm.
【0064】[冷却工程]冷却空間は、得られた焼成物
を移動させる前に、以下のような雰囲気にした。即ち、
冷却空間は、Vb=1000リットルの冷却室であり、
該冷却空間は、前記冷却用真空ポンプとして、ドライポ
ンプ(V090S、ANELVA製、設計排気速度=1
500リットル/分)を用い、大気圧から作動させ90
秒かけて100torrまで排気した。続いて、低圧か
ら作動させる真空ポンプとして、メカニカルブースター
ポンプ(B601P、ANELVA製、設計排気速度=
8300リットル/分)を作動させ、10分かけて冷却
空間を1torr以下まで排気した。その後、酸素ガス
を冷却空間に1torr導入し、更に窒素ガスで1気圧
までパージした。そして、得られた焼成物を焼成空間か
ら冷却空間に移動させた。冷却空間に5分放置した後
に、前記ドライポンプ(V090S、ANELVA製、
設計排気速度=1500リットル/分)を作動させ、1
0分間排気した。続いて、冷却空間に窒素ガスを100
0cc/minの流量で30分間フローさせた。その
後、焼成物を大気中に取り出した。[Cooling Step] The cooling space was set to the following atmosphere before moving the obtained fired product. That is,
The cooling space is a cooling chamber of Vb = 1000 liters,
The cooling space is a dry pump (V090S, manufactured by Anelva, designed pumping speed = 1) as the cooling vacuum pump.
500 liters / min) and operated from atmospheric pressure
It exhausted to 100 torr over seconds. Subsequently, as a vacuum pump operated from a low pressure, a mechanical booster pump (B601P, manufactured by ANELVA, designed pumping speed =
8300 liters / minute) and the cooling space was evacuated to 1 torr or less over 10 minutes. Thereafter, oxygen gas was introduced into the cooling space at 1 torr, and further purged with nitrogen gas to 1 atm. Then, the obtained fired product was moved from the firing space to the cooling space. After being left in the cooling space for 5 minutes, the dry pump (V090S, manufactured by ANELVA,
(Design pumping speed = 1500 l / min)
Evacuated for 0 minutes. Subsequently, 100 nitrogen gas was introduced into the cooling space.
The flow was performed at a flow rate of 0 cc / min for 30 minutes. Thereafter, the fired product was taken out to the atmosphere.
【0065】上記の焼成物1000gをメタノール1.
5リットル中に分散させた後、ロールミル(回転速度:
50rpm)を用いて15時間ほぐし処理を行った。次
に、この焼成物のスラリーを振動篩(ナイロンメッシ
ュ;#508)にかけて湿式分級を行った。次いで、こ
のスラリーを10時間静置した後、上澄み液を取り除い
て、過剰なアルミナが除去されたスラリーを得た。The above calcined product (1000 g) was treated with methanol (1.
After dispersing in 5 liters, roll mill (rotation speed:
(50 rpm) for 15 hours. Next, the slurry of the fired product was passed through a vibration sieve (nylon mesh; # 508) to perform wet classification. Next, the slurry was allowed to stand for 10 hours, and then the supernatant was removed to obtain a slurry from which excess alumina was removed.
【0066】上記の焼成物スラリーを減圧濾過して固液
分離を行った後、メタノールで洗浄し、150℃で10
時間真空乾燥した。次に、この焼成物を再度振動篩(ナ
イロンメッシュ;#460)にかけて乾式分級を行っ
た。このようにして、ユーロピウム賦活弗化臭化バリウ
ム系輝尽性蛍光体粒子を得た。得られた輝尽性蛍光体粒
子を走査型電子顕微鏡で観察したところ、その大部分が
原料結晶と同じく14面体の形状にあった。また、この
結晶を光回折型粒子サイズ分布測定器で測定したとこ
ろ、平均結晶サイズは7.0μmであった。The fired product slurry is filtered under reduced pressure to perform solid-liquid separation, washed with methanol, and heated at 150 ° C. for 10 minutes.
Vacuum dried for hours. Next, the fired product was again passed through a vibration sieve (nylon mesh; # 460) to perform dry classification. Thus, europium-activated barium fluorobromide-based stimulable phosphor particles were obtained. Observation of the resulting stimulable phosphor particles with a scanning electron microscope revealed that most of the particles had a tetrahedral shape as in the case of the raw material crystals. The average crystal size of the crystals measured by an optical diffraction type particle size distribution analyzer was 7.0 μm.
【0067】(実施例2)実施例1において、焼成工程
で用いた焼成用真空ポンプ、及び冷却工程で用いた冷却
用真空ポンプとして、ドライポンプ(V090S、AN
ELVA製、設計排気速度=1500リットル/分)の
代わりに、ドライポンプ(V040S、ANELVA
製、設計排気速度=700リットル/分)を用いた以外
は、実施例1と同様にして、輝尽性蛍光体を製造した。Example 2 In Example 1, a dry pump (V090S, AN) was used as the firing vacuum pump used in the firing step and the cooling vacuum pump used in the cooling step.
Instead of ELVA, designed pumping speed = 1500 liter / min, dry pump (V040S, ANELVA)
The stimulable phosphor was produced in the same manner as in Example 1 except that the pump speed was 700 l / min.
【0068】(実施例3)実施例1の焼成工程におい
て、酸素ガスを焼成空間に10torr導入する代わり
に、酸素ガスを焼成空間に2000cc/minの流量
で40秒間導入し、かつ、実施例1の冷却工程におい
て、酸素ガスを冷却空間に1torr導入する代わり
に、酸素ガスを冷却空間に2000cc/minの流量
で35秒間導入した以外は、実施例1と同様にして、輝
尽性蛍光体を製造した。(Example 3) In the firing step of Example 1, instead of introducing oxygen gas into the firing space at 10 torr, oxygen gas was introduced into the firing space at a flow rate of 2000 cc / min for 40 seconds. In the cooling step, a stimulable phosphor was prepared in the same manner as in Example 1 except that oxygen gas was introduced into the cooling space at a flow rate of 2000 cc / min for 35 seconds instead of introducing oxygen gas into the cooling space at 1 torr. Manufactured.
【0069】(比較例1)実施例1において、焼成工程
で用いた焼成用真空ポンプ、及び冷却工程で用いた冷却
用真空ポンプとして、ドライポンプ(V090S、AN
ELVA製、設計排気速度=1500リットル/分)の
代わりに、油回転ポンプ(RPG−100、ANELV
A製、設計排気速度=100リットル/分)を用い、焼
成工程で用いた低圧から作動させる真空ポンプ、及び冷
却工程で用いた低圧から作動させる真空ポンプとして、
メカニカルブースターポンプ(B601P、ANELV
A製、設計排気速度=8300リットル/分)の代わり
に、メカニカルブースターポンプ(B101P、ANE
LVA製、設計排気速度=1500リットル/分)を用
いた以外は、実施例1と同様にして、輝尽性蛍光体を製
造した。(Comparative Example 1) In Example 1, a dry pump (V090S, AN) was used as the firing vacuum pump used in the firing step and the cooling vacuum pump used in the cooling step.
Instead of ELVA, design pumping speed = 1500 liter / min), an oil rotary pump (RPG-100, ANELV)
A, designed pumping speed = 100 liter / min), using a vacuum pump operated from the low pressure used in the firing step and a vacuum pump operated from the low pressure used in the cooling step,
Mechanical booster pump (B601P, ANELV)
A, instead of the design pumping speed = 8300 l / min), a mechanical booster pump (B101P, ANE)
A stimulable phosphor was produced in the same manner as in Example 1 except that LVA (design pumping speed = 1500 liter / min) was used.
【0070】実施例1〜3、及び比較例1で得られた輝
尽性蛍光体について、以下の評価を行った。 <輝尽発光量の測定>得られた所定量の輝尽性蛍光体に
管電圧80kVpのX線を200mR照射して10秒後
に、半導体レーザ光(波長660nm)を4.6J/m
2照射して輝尽性蛍光体を励起し、その輝尽性蛍光体か
ら放射された輝尽発光光を光学フィルタ(B−410)
を通して光電子増倍管で受光することにより輝尽発光量
を測定した。実施例1で得られた輝尽性蛍光体の輝尽発
光量を100とした場合の相対値を下記表1に示す。こ
の値は、大きいほど輝尽発光量が多いことを示す。The stimulable phosphors obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were evaluated as follows. <Measurement of Stimulated Luminescence Amount> Ten seconds after irradiating 200 mR of X-ray with a tube voltage of 80 kVp to the obtained predetermined amount of stimulable phosphor, 4.6 J / m2 of semiconductor laser light (wavelength 660 nm) was applied.
2. Irradiation excites the stimulable phosphor, and stimulates the stimulable light emitted from the stimulable phosphor to an optical filter (B-410).
And the amount of stimulated emission was measured by receiving light through a photomultiplier tube. Table 1 below shows relative values when the stimulable luminescence amount of the stimulable phosphor obtained in Example 1 was set to 100. This value indicates that the larger the value, the larger the amount of stimulated emission.
【0071】<消去特性の評価>上記で測定した輝尽発
光量を初期輝尽発光量とし、その測定対象とした輝尽性
蛍光体に対し、白色蛍光灯の光をシャープカット光学フ
ィルタ(SC−46)を通して50万Lux・秒照射し
て消去操作を行った。この消去操作を施した輝尽性蛍光
体について、X線照射を行わない以外は上記と同じ方法
で再度、輝尽発光量を測定して、それを消去後の輝尽発
光量とした。消去特性は、下記より算出される消去値に
より表し、この値は小さい程、消去特性に優れる。算出
結果を下記表1に示す。 消去値=(消去後の輝尽発光量/初期輝尽発光量)<Evaluation of Erasing Characteristics> The stimulating luminescence amount measured above was defined as the initial stimulating luminescence amount, and the light of a white fluorescent lamp was applied to a stimulable phosphor to be measured by a sharp cut optical filter (SC). -46) to perform an erasing operation by irradiating 500,000 Lux · sec. With respect to the stimulable phosphor subjected to the erasing operation, the amount of stimulable luminescence was measured again in the same manner as described above except that X-ray irradiation was not performed, and the measured amount was used as the stimulable luminescence after erasure. The erasing characteristic is represented by an erasing value calculated from the following, and the smaller the value, the better the erasing characteristic. The calculation results are shown in Table 1 below. Erasure value = (stimulated luminescence after erasure / initial stimulus luminescence)
【0072】[0072]
【表1】 [Table 1]
【0073】表1の結果から、焼成工程及び冷却工程の
いずれにおいても、本発明で規定する特定の真空ポンプ
を用いた実施例1及び実施例3では、十分な輝尽発光量
を有し、消去特性も優れた輝尽性蛍光体を製造できるこ
とがわかる。また、焼成工程においてのみ、本発明で規
定する特定の真空ポンプを用いた実施例2では、実施例
1及び実施例3と比べると、若干、輝尽発光量及び消去
特性に劣るが、焼成工程及び冷却工程のいずれにおいて
も、本発明で規定する特定の真空ポンプを用いていない
比較例1と比べると、輝尽発光量及び消去特性が優れて
いることがわかる。From the results shown in Table 1, in both the firing step and the cooling step, in Examples 1 and 3 using the specific vacuum pump specified in the present invention, a sufficient photostimulated luminescence amount was obtained. It can be seen that a stimulable phosphor having excellent erasing characteristics can be manufactured. Also, in Example 2 using the specific vacuum pump specified by the present invention only in the firing step, the amount of stimulated emission and the erasing characteristics are slightly inferior to those in Examples 1 and 3, but the firing step In both the cooling step and the cooling step, it is found that the stimulated emission amount and the erasing characteristics are superior to Comparative Example 1 in which the specific vacuum pump specified in the present invention is not used.
【0074】[0074]
【発明の効果】本発明によれば、十分な輝尽発光量を有
するとともに、容易に消去しうる優れた消去特性を有す
る輝尽性蛍光体の製造方法を提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a stimulable phosphor having a sufficient amount of stimulable light emission and excellent erasing characteristics which can be easily erased.
【図1】 本発明の輝尽性蛍光体の製造方法に用いられ
る製造装置の一例を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one example of a production apparatus used in a method for producing a stimulable phosphor of the present invention.
10 焼成炉 12 炉心管 14 熱源 16 焼成容器 18 輝尽性蛍光体原料混合物 20 ガス導入排気管 22 弁 24 サンプル投入口蓋 26 棒 28 冷却室 30 扉 32 冷却台 34 冷却室用ガス導入排気管 36 弁 38 サンプル排出口蓋 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Firing furnace 12 Furnace tube 14 Heat source 16 Firing container 18 Stimulable phosphor raw material mixture 20 Gas introduction / exhaust tube 22 Valve 24 Sample introduction lid 26 Bar 28 Cooling room 30 Door 32 Cooling stand 34 Cooling room gas introduction / exhaust tube 36 Valve 38 Sample outlet lid
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H001 CA04 XA03 XA08 XA09 XA11 XA12 XA13 XA14 XA17 XA19 XA20 XA21 XA31 XA35 XA37 XA38 XA39 XA40 XA48 XA49 XA53 XA55 XA56 XA71 XA81 YA58 YA59 YA60 YA62 YA63 YA64 YA65 YA66 YA67 YA68 YA69 YA70 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4H001 CA04 XA03 XA08 XA09 XA11 XA12 XA13 XA14 XA17 XA19 XA20 XA21 XA31 XA35 XA37 XA38 XA39 XA40 XA48 XA49 XA53 XA55 XA56 XA71 XA81 YA58 YA66 YA66 YA66
Claims (4)
体原料混合物を調製する混合工程と、該輝尽性蛍光体原
料混合物を焼成して焼成物を得る焼成工程と、該焼成物
を冷却する冷却工程とを有する輝尽性蛍光体の製造方法
であって、 前記焼成工程において、焼成空間の容積Va(リット
ル)に対して設計排気速度が1.0×Va(リットル/
分)以上の真空ポンプにより、前記焼成空間を大気圧か
ら少なくとも100torrまで排気する、及び/又
は、前記冷却工程において、冷却空間の容積Vb(リッ
トル)に対して設計排気速度が1.0×Vb(リットル
/分)以上の真空ポンプにより、前記冷却空間を大気圧
から少なくとも100torrまで排気することを特徴
とする輝尽性蛍光体の製造方法。A mixing step of mixing a stimulable phosphor raw material to prepare a stimulable phosphor raw material mixture; a firing step of firing the stimulable phosphor raw material mixture to obtain a fired product; And a cooling step of cooling the fired material, wherein in the firing step, the designed pumping speed is 1.0 × Va (liter / liter) with respect to the volume Va (liter) of the firing space.
Minute) or more, the baking space is evacuated from the atmospheric pressure to at least 100 torr by a vacuum pump, and / or in the cooling step, the designed pumping speed is 1.0 × Vb with respect to the volume Vb (liter) of the cooling space. A method for producing a stimulable phosphor, wherein the cooling space is evacuated from atmospheric pressure to at least 100 torr by a vacuum pump (liter / minute) or more.
冷却工程における冷却空間の少なくとも一方を10to
rr以下まで排気した後に、該空間に、酸素を1ppm
以上含むガスを少なくとも0.1torr導入し、更に
該空間を不活性ガスにより略1気圧までパージする請求
項1に記載の輝尽性蛍光体の製造方法。2. A method according to claim 1, wherein at least one of the firing space in the firing step and the cooling space in the cooling step is 10 ton.
After exhausting to rr or less, oxygen was added to the space at 1 ppm.
2. The method for producing a stimulable phosphor according to claim 1, wherein at least 0.1 torr of the above-mentioned gas is introduced, and the space is further purged to about 1 atm with an inert gas.
冷却工程における冷却空間の少なくとも一方を10to
rr以下まで排気した後に、該空間に、酸素を1ppm
以上含むガスを1〜10000cc/minの流量で1
〜300秒間導入し、更に該空間を不活性ガスにより略
1気圧までパージする請求項1に記載の輝尽性蛍光体の
製造方法。3. At least one of the firing space in the firing step and the cooling space in the cooling step is 10 ton.
After exhausting to rr or less, oxygen was added to the space at 1 ppm.
A gas containing the above gas at a flow rate of 1 to 10000 cc / min.
2. The method for producing a stimulable phosphor according to claim 1, wherein the space is introduced for about 300 seconds, and the space is further purged to about 1 atm with an inert gas.
(I)で表される14面体型粒子である請求項1から3
のいずれかに記載の輝尽性蛍光体の製造方法。 (Ba1-a,MII a)FX・bMI・cMIII・dA:xLn・・・(I) [式中、MIIは、Sr,Ca及びMgからなる群より選
択される少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、M
Iは、Li,Na,K,Rb及びCsからなる群より選
択される少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表
し、MIIIは、Al,Ga,In,Tl,Sc,Y,C
d及びLuからなる群より選択される少なくとも一種の
三価金属の化合物(但し、Al2O3を除く)を表す。X
は、Cl,Br及びIからなる群より選択される少なく
とも一種のハロゲンを表す。Lnは、Ce,Pr,S
m,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Nd,Er,Tm
及びYbからなる群より選択される少なくとも一種の希
土類元素を表す。Aは、Al2O3,SiO2及びZrO2
からなる群より選択される少なくとも一種の金属酸化物
を表す。a、b、c、d及びxは、それぞれ、0≦a≦
0.3、0≦b≦2、0≦c≦2、0≦d≦0.5、0
<x≦0.2を表す。]4. The stimulable phosphor is a tetrahedral particle represented by the following basic composition formula (I).
The method for producing a stimulable phosphor according to any one of the above. (Ba 1-a, M II a) FX · bM I · cM III · dA: xLn ··· (I) [ wherein, M II is, Sr, at least one selected from the group consisting of Ca and Mg Alkaline earth metal, M
I represents a compound of at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M III represents Al, Ga, In, Tl, Sc, Y, C
It represents at least one compound of a trivalent metal selected from the group consisting of d and Lu (excluding Al 2 O 3 ). X
Represents at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I. Ln is Ce, Pr, S
m, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Nd, Er, Tm
And at least one rare earth element selected from the group consisting of Yb and Yb. A is Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2
Represents at least one metal oxide selected from the group consisting of a, b, c, d and x are respectively 0 ≦ a ≦
0.3, 0 ≦ b ≦ 2, 0 ≦ c ≦ 2, 0 ≦ d ≦ 0.5, 0
<X ≦ 0.2. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23813799A JP2001064644A (en) | 1999-08-25 | 1999-08-25 | Production of photostimulable phosphor |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2001064644A (en) |
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1999
- 1999-08-25 JP JP23813799A patent/JP2001064644A/en active Pending
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