JP2001064322A - プロピレン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の製造方法 - Google Patents
プロピレン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の製造方法Info
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Abstract
耐スクラッチ性等に優れ、包装用フィルム分野に好適に
用いられるプロピレン系重合体を提供する。 【解決手段】 (1)示差走査型熱量計により測定した
融点Tmが110℃≦Tm≦140℃、(2)示差走査
型熱量計により定した融解熱ΔH(J/g)とTmがΔ
H≧0.45×Tm+22の関係を満たし、(3)昇温
分別法により測定した溶出曲線のピークトップの半値幅
Th(℃)がTh≦5の関係を満たし、かつ(4)13
5℃、デカリン溶媒中で測定した極限粘度[η](dl
/g)が0.5〜5で示される性状を有するプロピレン
系重合体。
Description
体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の製造方法
に関し、詳しくは融解温度と弾性率のバランスに優れ、
低温での成形性や加工性が良好でありかつ機械的強度の
バランスにも優れるプロピレン系重合体及び該重合体を
成形して得られる成形体並びに該プロピレン系重合体の
製造方法に関する。本発明のプロピレン系重合体は、低
温ヒートシール性に優れかつ透明性及び耐スクラッチ性
並びに機械的強度にも優れる包装用フィルムに好適に用
いられる。
は安価で優れた物理的性質を有しており、包装用フィル
ム等広範な用途に用いられている。包装用フィルムの用
途においては、ポリプロピレンは融点が比較的高いの
で、低温度におけるヒートシール性を向上させるため、
従来は、いわゆるチタン化合物或いはマグネシウム化合
物にチタン化合物を担持したものと有機アルミニウム化
合物からなるチーグラー・ナッタ触媒の存在下、プロピ
レンにエチレン或いは炭素数4〜20のα−オレフィン
を共重合させることが一般的に行われている。
ロピレン−α−オレフィン共重合体からなる包装用フィ
ルムは、低密度ポリエチレンからなるフィルムと比較し
て透明性、耐スクラッチ性には優れているものの、低温
ヒートシール性が充分ではないことが知られている(特
許第268562号公報、特開平9−241439号公
報、特開平2−255812号公報)。低温ヒートシー
ル性をさらに改善するため、共重合体におけるα−オレ
フィン含量を増加しようとすると、組成分布が広がり、
また、分子量が低くなるので溶媒可溶部量が増加し、耐
ブロッキング性が悪くなるという欠点がある。さらに、
ヘイズが大きくなり、透明性も低下するという問題もあ
る。
布の狭いポリオレフィンが得られることが報告されてい
る(J.Polym.Sci.,Polym.Che
m.Ed.23,2117(1985))。しかしなが
ら、メタロセン触媒では、低温ヒートシール性と機械的
強度のバランスに優れるプロピレン系重合体は得られて
いないのが現状である。
弾性率のバランスに優れ、低温での成形性や加工性が良
好でありかつ機械的強度のバランスにも優れるプロピレ
ン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の
製造方法を提供することを目的とするものである。
的を達成するため鋭意検討した結果、融点と融解エンタ
ルピーが特定の関係を満たし、また、さらに昇温分別法
により測定した溶出曲線のピークトップの半値幅が特定
の範囲にあるプロピレン系重合体が本目的を達成できる
ことを見い出し、この知見に基づき、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、以下のプロピレン系重
合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の製造方
法を提供する。
解熱ΔH(J/g)と融点Tm(℃)が ΔH≧0.45×Tm+22 の関係を満たすプロピレン系重合体。
される性状を有する上記1に記載のプロピレン系重合
体。 (1)示差走査型熱量計により測定した融点Tm(℃)
が110≦Tm≦140であり、(2)昇温分別法によ
り測定した溶出曲線のピークトップの半値幅Th(℃)
がTh≦5の関係を満たし、(3)135℃、テトラリ
ン溶媒中で測定した極限粘度[η](dl/g)が0.
5〜5である。
点Tm(℃)が120≦Tm≦140である上記2に記
載のプロピレン系重合体。 4. 示差走査型熱量計により測定した融点Tm(℃)
が120≦Tm≦135である上記2に記載のプロピレ
ン系重合体。
独重合体であって、アイソタクチックペンタッド分率
[mmmm]が65〜85モル%である上記1〜4のい
ずれかに記載のプロピレン系重合体。
独重合体であって、アイソタクチックペンタッド分率
[mmmm]が70〜80モル%である上記1〜4のい
ずれかに記載のプロピレン系重合体。
ピレン系重合体を成形してなる成形体。 8. 上記1〜6のいずれかにプロピレン系重合体を製
造する方法であって、(A)下記一般式(1)で表され
る周期律表第4族の遷移金属化合物、(B)(B−1)
アルミニウムオキシ化合物及び(B−2)上記遷移金属
化合物と反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物
の中から選ばれた少なくとも一種とを含有してなるオレ
フィン重合触媒の存在下、プロピレン又はプロピレンと
エチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィンを
重合させるプロピレン系重合体の製造方法。
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、珪素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有
基又はリン含有基を示し、R3とR4 及びR8 とR9 は
たがいに結合して環を形成してもよい。Y1 は二つの配
位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−
O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−NR12−、−
PR12−、−P(O)R12−、−BR12−又は−AlR
12−を示し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基を示す。M1 はチタン,ジルコニウム又はハフ
ニウムを示す。〕 9. 上記1〜6のいずれかに記載のプロピレン系重合
体を製造する方法であって、(A)下記一般式(2)で
表される周期律表第4族の遷移金属化合物、(B)(B
−1)アルミニウムオキシ化合物及び(B−2)上記遷
移金属化合物と反応してカチオンに変換しうるイオン性
化合物の中から選ばれた少なくとも一種とを含有してな
るオレフィン重合触媒の存在下、プロピレン又はプロピ
レンとエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフ
ィンを重合させるプロピレン系重合体の製造方法。
ハフニウムを示し、E1 及びE2 はそれぞれシクロペン
タジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニ
ル基,置換インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニル
基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基,ホ
スフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれ
た配位子であって、A1 及びA2 を介して架橋構造を形
成しており、またそれらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、X3 はσ結合性の配位子を示し、X3が複数
ある場合、複数のX3 は同じでも異なっていてもよく、
他のX3 ,E1 ,E2 又はY2 と架橋していてもよい。
Y2 はルイス塩基を示し、Y2 が複数ある場合、複数の
Y2 は同じでも異なっていてもよく、他のY2 ,E1 ,
E2 又はX 3 と架橋していてもよく、A1 及びA2 は二
つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有
基、−O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−NR12
−、−PR12−、−P(O)R12−、−BR12−又は−
AlR12−を示し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン
含有炭化水素基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよい。qは1〜5の整数で〔(M1 の原子
価)−2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。} 10.上記8または9に記載のプロピレン系重合体の製
造方法であって、プロピレン又はプロピレンとエチレン
及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィンを気相重合
させるプロピレン系重合体の製造方法。
系重合体の製造方法であって、プロピレン又はプロピレ
ンとエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィ
ンを液体プロピレンの存在下で重合させるプロピレン系
重合体の製造方法。
ン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の
製造方法である。さらに詳しくは、本発明は、立体規則
性が中程度(例えば、アイソタクチックペンタッド分率
で表される立体規則性が85モル%以下、好ましくは8
0モル%以下)であって、べたつきが少なく、融解温度
が低く、なおかつ柔軟性(引張弾性率が、600〜1,
600MPa,好ましくは700〜1,200MPa、
特に好ましくは800〜1,100MPa)に優れるプ
ロピレン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重
合体の製造方法に関する。
り測定した融解熱ΔH(J/g)と融点Tm(℃)が ΔH≧0.45×Tm+22 の関係を満たすプロピレン系重合体である。
率のバランスがくずれ、低温での成形性や加工性と機械
的強度のバランスがくずれる。すなわち、本重合体をフ
ィルム用に用いる際の低温ヒートシール性と得られるフ
ィルムの機械的強度のバランスが低下し好ましくない。
H(J/g)と融点Tm(℃)が ΔH≧0.45×Tm+25 の関係を満たすことが好ましい。
は、下記(1)、(2)及び(3)で示される性状を有
するプロピレン系重合体がさらに好ましい。 (1)示差走査型熱量計により測定した融点Tm(℃)
が110≦Tm≦140であり、(2)昇温分別法によ
り測定した溶出曲線のピークトップの半値幅Th(℃)
がTh≦5の関係を満たし、(3)135℃、テトラリ
ン溶媒中で測定した極限粘度[η](dl/g)が0.
5〜5である。
を達成することは困難なことがある。例えば、(1)の
Tmが110℃未満であると本重合体を医療分野や食品
分野の用途に用いた場合、煮沸消毒時に製品が融着する
などの不都合が生じることがある。また、融点が140
℃を超えると軟質材料として十分でないことがある。ま
た、(2)の要件を満たさないと、例えば、べたつき成
分が増える傾向となり得られるフィルムにとっては好ま
しくないことがある。(3)における[η]が、0.5
dl/g未満では機械的強度が低く好ましくないことが
ある。また、5.0dl/gを超えると成形性が低下し
好ましくないことがある。
記(1)、(2)、(3)及び(4)で示される性状を
有するものが特に好ましい。 (1)示差走査型熱量計により測定した融解熱ΔH(J
/g)と融点Tm(℃)が ΔH≧0.45×Tm+22 の関係を満たし、(2)示差走査型熱量計により測定し
た融点Tm(℃)が120≦Tm≦135であり、
(3)昇温分別法により測定した溶出曲線のピークトッ
プの半値幅Th(℃)がTh≦5の関係を満たし、
(4)135℃、テトラリン溶媒中で測定した極限粘度
[η](dl/g)が0.5〜5である。
140が好ましく、120≦Tm≦135がさらに好ま
しい。また、[η]としては、0.5〜4dl/gが好
ましく、1.0〜3dl/gがさらに好ましい。
については実施例において詳しく述べる。さらに、本発
明のプロピレン系重合体としては、上記で述べた要件の
他に、ゲルパーミエーション(GPC)法により測定し
た分子量分布(Mw/Mn)が4以下が好ましく、3.
5以下がさらに好ましく、3以下が特に好ましい。分子
量分布(Mw/Mn)が4を超えると、べたつきが発生
することがある。また、沸騰ジエチルエーテル抽出量が
5質量%以下であることが好ましい。5質量%を超える
と、フィルムにべたつきが発生することがある。なお、
沸騰ジエチルエーテル抽出量の測定方法については、実
施例において詳しく述べる。また、昇温分別法により測
定した溶出曲線のピーク位置の温度Tpが、60〜95
℃であることが好ましい。また、Tp±5℃の温度範囲
にて溶出する成分量が70質量%以上が好ましい。
ロピレンの単独重合体であってもよく、またはプロピレ
ンとエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィ
ンとの共重合体(以下、プロピレン系共重合体ともい
う)であってもよい。炭素数4〜20のα−オレフィン
としては、1−ブテン,1−ペンテン,4−メチル−1
−ペンテン,1−ヘキセン,1−オクテン,1−デセ
ン,1−ドデセン,1−テトラデセン,1−ヘキサデセ
ン,1−オクタデセン,1−エイコセンなどが挙げら
れ、本発明においては、これらのうち一種又は二種以上
を用いることができる。
タクチックペンダッド分率[mmmm]が65〜85モ
ル%であることが好ましく、70〜80モル%がさらに
好ましい。本発明で用いられるアイソタクチックペンダ
ッド分率とは、エイ・ザンベリ(A.Zambell
i)等により「Macromolecules,6,9
25(1973)」で提案された、13C核磁気共鳴スペ
クトルのメチル基のシグナルにより測定されるポリプロ
ピレン分子鎖中のペンタッド単位でのアイソタクチック
分率を意味する。13C核磁気共鳴スペクトルの測定は、
エイ・ザンベリ(A.Zambelli)等により「M
acromolecules,8,687(197
5)」で提案されたピークの帰属に従い、下記の装置及
び条件にて行った。
0型13C−NMR装置 方法:プロトン完全デカップリング法 濃度:220mg/ミリリットル 溶媒:1,2,4−トリクロロベンゼンと重ベンゼンの
90:10(容量比)混合溶媒 温度:130℃ パルス幅:45° パルス繰り返し時間:4秒 積算:10,000回 一方、プロピレン系共重合体である場合は、前記の要件
のほかにプロピレン以外のコモノマー含有量が1.0モ
ル%以下であることが好ましい。また、プロピレン部の
アイソタクチックトライアッド分率[mm]で表される
立体規則性指標が80〜92モル%であることが好まし
い。この値が大きいほど、立体規則性が高いことを意味
し、80モル%未満では、弾性率が低下しすぎるため成
形性が不良となることがある。また92モル%を超える
と硬質となり軟質ではなくなることがある。なお、[m
m]は、13C−NMRスペクトルにより前記の[mmm
m]と同様に測定して求められる。詳しくは、実施例に
て述べる。また、プロピレン系共重合体としては、ラン
ダム構造であることが好ましい。
ては、プロピレンモノマーのメチレン側の炭素原子が触
媒の活性点と結合し、順次同じようにプロピレンモノマ
−が配位して重合してゆくいわゆる1,2挿入の重合が
通常行われるが、まれに2,1挿入又は1,3挿入する
こと(異常挿入とも言う)がある。本発明のプロピレン
系重合体は、この2,1挿入又は1,3挿入が少ないと
好ましい。また、これらの挿入の割合が、下記の関係式
(1) 〔(m−2,1)+(r−2,1)+(1,3)〕≦5.0(%)…(1) [式中、(m−2,1)は13C−NMRで測定したメソ
−2,1挿入含有率(%)、(r−2,1)は13C−N
MRで測定したラセミ−2,1挿入含有率(%)、
(1,3)は13C−NMRで測定した1,3挿入含有率
(%)を示す。〕を満足するするものが好ましく、さら
に関係式(2) 〔(m−2,1)+(r−2,1)+(1,3)〕≦1.0(%)…(2) を満足するするものがより好ましい。特に関係式(3) 〔(m−2,1)+(r−2,1)+(1,3)〕≦0.1(%)…(3) を満足するするものが最も好ましい。この関係式(1)
を満足しないと、予想以上に結晶性が低下し、べたつき
の原因となる場合がある。
び(1,3)はGrassiらの報告(Macromolucule
s,21,p .617 (1988))及びBusicoらの報告
(Macromolucules,27,p .7538(1994))に基づいて
13C−NMRスペクトルのピークの帰属を決定し、各ピ
ークの積分強度から求めた各挿入含有率である。すなわ
ち、(m−2,1)は、全メチル炭素領域における積分
強度に対する17.2ppm付近に現れるPα,γthre
o に帰属するピークの積分強度の比から算出されるメソ
−2,1挿入含有率(%)である。(r−2,1)は、
全メチル炭素領域における積分強度に対する15.0p
pm付近に現れるPα,γthreo に帰属するピークの積
分強度の比から算出されるラセミ−2,1挿入含有率
(%)である。(1,3)は、全メチン炭素領域におけ
る積分強度に対する31.0ppm付近に現れるTβ,
γ十に帰属するピークの積分強度の比から算出される
1,3挿入含有率(%)である。
体は13C−NMRスペクトルの測定において、2,1挿
入に由来する分子鎖未端(n−ブチル基)に帰属される
ピークが実質的に観測されないものがより好ましい。こ
の2,1挿入に由来する分子鎖末端に関しては、Jun
glingらの報告(J .Polym .Sci .:Part A:Po
1ym .Chem. ,33,p1305 (1995))に基づいて13C−
NMRスペクトルのピークの帰属を決定し、各ピークの
積分強度から各挿入含有率を算出する。なお、アイソタ
クチックポリプロピレンでは、18.9ppm付近に現
れるピークがn−ブチル基の未端メチル基炭素に帰属さ
れる。また、異常挿入又は分子鎖末端測定に関する13C
−NMRの測定は、前記の装置及び条件で行えばよい。 2.プロピレン系重合体の製造方法 本発明のプロピレン系重合体の製造方法は、(A)周期
律表第4族の遷移金属化合物、(B)(B−1)アルミ
ニウムオキシ化合物及び(B−2)上記遷移金属化合物
と反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物の中か
ら選ばれた少なくとも一種とを含有してなるオレフィン
重合触媒の存在下、プロピレン又はプロピレンとエチレ
ン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィンを重合さ
せる製造方法である。
媒の各成分、調製法について説明する。本発明における
(A)成分は、下記A群から選ばれる周期律表第4族の
遷移金属化合物である。A群とは下記(A−1)又は
(A−2)である。 (A−1)下記一般式(1)で表される周期律表第4族
の遷移金属化合物。
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、珪素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有
基又はリン含有基を示し、R3とR4 及びR8 とR9 は
たがいに結合して環を形成してもよい。Y1 は二つの配
位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−
O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−NR12−、−
PR12−、−P(O)R12−、−BR12−又は−AlR
12−を示し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基を示す。M1 はチタン,ジルコニウム又はハフ
ニウムを示す。〕この遷移金属化合物は、単架橋型錯体
である。
X1 及びX2 のうちのハロゲン原子としては、塩素,臭
素,フッ素,ヨウ素原子が挙げられる。炭素数1〜20
の炭化水素基としては、例えばメチル基,エチル基,n
−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブ
チル基,tert−ブチル基,n−ヘキシル基,n−デ
シル基などのアルキル基、フェニル基,1−ナフチル
基,2−ナフチル基などのアリール基、ベンジル基など
のアラルキル基などが挙げられ、また炭素数1〜20の
ハロゲン含有炭化水素基としては、トリフルオロメチル
などの上記炭化水素基の水素原子の1個以上が適当なハ
ロゲン原子で置換された基が挙げられる。珪素含有基と
しては、トリメチルシリル基,ジメチル(t−ブチル)
シリル基などが挙げられ、酸素含有基としては、メトキ
シ基,エトキシ基などが挙げられ、イオウ含有基として
は、チオール基,スルホン酸基などが挙げられ、窒素含
有基としては、ジメチルアミノ基などが挙げられ、リン
含有基としては、フェニルホスフィン基などが挙げられ
る。また、R3 とR4 及びR8 とR9 はたがいに結合し
てフルオレンなどの環を形成してもよい。R3 とR4 及
びR8 とR9 の具体例としては、上記R1 〜R11等にお
いて挙げたものから水素原子を除く基が挙げられる。R
3 ,R9 としては、水素原子及び炭素数6以下のアルキ
ル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、イソ
プロピル基、シクロヘキシル基がより好ましく、水素原
子がさらに好ましい。また、R3 ,R4 ,R8 及びR
9 としては、炭素数6以下のアルキル基が好ましく、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基
がより好ましく、イソプロピル基がさらに好ましい。R
4,R5 ,R7 ,R9 及びR10としては水素原子が好ま
しい。特に好ましい組合せとしては、R1 が水素以外の
アルキル基であり、R7 が水素原子の場合である。
X1 ,X2 としては、ハロゲン原子,メチル基,エチル
基,プロピル基が好ましい。Y1 の具体例としては、メ
チレン、エチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロヘキシリデン、1,2−シクロヘキシレン、ジメチ
ルシリレン、テトラメチルジシリレン、ジメチルゲルミ
レン、メチルボリリデン(CH3 −B=)、メチルアル
ミリデン(CH3 −Al=)、フェニルホスフィリデン
(Ph−P=)、フェニルホスホリデン(PhPO
=)、1,2−フェニレン、ビニレン(−CH=CH
−)、ビニリデン(CH2 =C=)、メチルイミド、酸
素(−O−)、硫黄(−S−)などがあり、これらの中
でも、メチレン、エチレン、エチリデン、イソプロピリ
デンが、本発明の目的達成の点で好ましい。
ムを示すが、特にハフニウムが好適である。前記一般式
(1)で表される遷移金属化合物の具体例としては、
1,2−エタンジイル(1−(2−イソブチルインデニ
ル))(2−インデニル)ハフニウムジクロリド、1,
2−エタンジイル(1−(2−ブチルインデニル))
(2−インデニル)ハフニウムジクロリド、1,2−エ
タンジイル(1−(2−ブチルインデニル))(2−
(4,7−ジメチルインデニル))ハフニウムジクロリ
ド、1,2−エタンジイル(1−(2−イソプロピルイ
ンデニル))(2−(4,7−ジメチルインデニル))
ハフニウムジクロリド、1,2−エタンジイル(1−
(2−イソプロピルインデニル))(2−(4,7−ジ
イソプロピルインデニル))ハフニウムジクロリド等、
ジメチルシリレン(1−(2−イソブチルインデニ
ル))(2−インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(1−(2−ブチルインデニル))(2−
インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレン
(1−(2−ブチルインデニル))(2−(4,7−ジ
メチルインデニル))ハフニウムジクロリド、メチルシ
リレン(1−(2−イソプロピルインデニル))(2−
(4,7−ジメチルインデニル))ハフニウムジクロリ
ド、メチルシリレン(1−(2−イソプロピルインデニ
ル))(2−(4,7−ジイソプロピルインデニル))
ハフニウムジクロリド等、1,3−プロパンジイル(1
−(2−イソプロピルインデニル))(2−インデニ
ル)ハフニウムジクロリド、1,3−プロパンジイル
(1−(2−イソブチルインデニル))(2−インデニ
ル)ハフニウムジクロリド、1,3−プロパンジイル
(1−(2−ブチルインデニル))(2−インデニル)
ハフニウムジクロリド、1,3−プロパンジイル(1−
(2−ブチルインデニル))(2−(4,7−ジメチル
インデニル))ハフニウムジクロリド、1,3−プロパ
ンジイル(1−(2−イソプロピルインデニル))(2
−(4,7−ジメチルインデニル))ハフニウムジクロ
リド、1,3−プロパンジイル(1−(2−イソプロピ
ルインデニル))(2−(4,7−ジイソプロピルイン
デニル))ハフニウムジクロリド等、1,2−エタンジ
イル(1−(4,7−ジイソプロピルインデニル))
(2−(4,7−ジイソプロピルインデニル)ハフニウ
ムジクロリド、1,2−エタンジイル(9−フルオレニ
ル)(2−(4,7−ジイソプロピルインデニル)ハフ
ニウムジクロリド、イソプロピリデン(1−(4,7−
ジイソプロピルインデニル))(2−(4,7−ジイソ
プロピルインデニル)ハフニウムジクロリド、1,2−
エタンジイル(1−(4,7−ジメチルインデニル))
(2−(4,7−ジイソプロピルインデニル)ハフニウ
ムジクロリド、1,2−エタンジイル(9−フルオレニ
ル)(2−(4,7−ジメチルインデニル))ハフニウ
ムジクロリド、イソプロピリデン(1−(4,7−ジメ
チルインデニル))(2−(4,7−ジイソプロピルイ
ンデニル)ハフニウムジクロリド、1,2−エタンジイ
ル(2−インデニル)(1−(2−イソプロピルインデ
ニル))ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレン−
(2−インデニル)(1−(2−イソプロピルインデニ
ル))ハフニウムジクロリドなど、及びこれらの化合物
におけるハフニウムをジルコニウム又はチタンに置換し
たものを挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
属化合物は、例えば本出願人が先に出願した特開平11
−130807号に記載された方法により製造すること
ができる。(A−1)成分としては、これらの遷移金属
化合物の中から2種類以上を組み合わせて用いてもよ
い。 (A−2)下記一般式(2)で表される周期律表第4族
の遷移金属化合物。
ハフニウムを示し、E1 及びE2 はそれぞれシクロペン
タジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニ
ル基,置換インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニル
基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基,ホ
スフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれ
た配位子であって、A1 及びA2 を介して架橋構造を形
成しており、またそれらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、X3 はσ結合性の配位子を示し、X3が複数
ある場合、複数のX3 は同じでも異なっていてもよく、
他のX3 ,E1 ,E2 又はY2 と架橋していてもよい。
Y2 はルイス塩基を示し、Y2 が複数ある場合、複数の
Y2 は同じでも異なっていてもよく、他のY2 ,E1 ,
E2 又はX 3 と架橋していてもよく、A1 及びA2 は二
つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有
基、−O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−NR12
−、−PR12−、−P(O)R12−、−BR12−又は−
AlR12−を示し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン
含有炭化水素基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよい。qは1〜5の整数で〔(M1 の原子
価)−2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。} 前記一般式(2) で表される遷移金属化合物(以下、二
重架橋型錯体と称することがある。)において、M1 は
チタン,ジルコニウム又はハフニウムを示すが、ジルコ
ニウム及びハフニウムが好適である。E1 及びE2 は上
述のようにそれぞれ、シクロペンタジエニル基,置換シ
クロペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル
基,ヘテロシクロペンタジエニル基,置換ヘテロシクロ
ペンタジエニル基,アミド基(−N<),ホスフィド基
(−P<),炭化水素基〔>CR−,>C<〕及び珪素
含有基〔>SiR−,>Si<〕(但し、Rは水素また
は炭素数1〜20の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有
基である)の中から選ばれた配位子を示し、A1 及びA
2 を介して架橋構造を形成している。また、E1 及びE
2 はたがいに同一でも異なっていてもよい。このE1 及
びE2 としては、シクロペンタジエニル基,置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基及び置換インデニル基
が好ましい。
体例としては、ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水
素基,炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20
のアリールオキシ基,炭素数1〜20のアミド基,炭素
数1〜20の珪素含有基,炭素数1〜20のホスフィド
基,炭素数1〜20のスルフィド基,炭素数1〜20の
アシル基などが挙げられる。このX3 が複数ある場合、
複数のX3 は同じでも異なっていてもよく、他のX3 ,
E1 ,E2 又はY2 と架橋していてもよい。
としては、アミン類,エーテル類,ホスフィン類,チオ
エーテル類などを挙げることができる。このY2 が複数
ある場合、複数のY2 は同じでも異なっていてもよく、
他のY2 やE1 ,E2 又はX 3 と架橋していてもよい。
ち少なくとも一つは、炭素数1以上の炭化水素基からな
る架橋基であることが好ましい。これらの架橋基として
は、例えば一般式
素数1〜20の炭化水素基で、それらはたがいに同一で
も異なっていてもよく、またたがいに結合して環構造を
形成していてもよい。eは1〜4の整数を示す。)で表
されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン
基,エチレン基,エチリデン基,プロピリデン基,イソ
プロピリデン基,シクロヘキシリデン基,1,2−シク
ロヘキシレン基,ビニリデン基(CH2 =C=)などを
挙げることができる。これらの中で、メチレン基,エチ
レン基及びイソプロピリデン基が好適である。このA1
及びA2 は、たがいに同一でも異なっていてもよい。
物において、E1 及びE2 がシクロペンタジエニル基,
置換シクロペンタジエニル基,インデニル基又は置換イ
ンデニル基である場合、A1 及びA2 の架橋基の結合
は、(1,1’)(2,2’)二重架橋型であってもよ
く、(1,2’)(2,1’)二重架橋型であってもよ
い。このような一般式(2) で表される遷移金属化合物
の中では、一般式(2−a)
エニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物が好まし
い。上記一般式(2−a)において、M1 ,A1 ,
A2 ,q及びrは上記と同じである。X3 はσ結合性の
配位子を示し、X3 が複数ある場合、複数のX3 は同じ
でも異なっていてもよく、他のX3 又はY2 と架橋して
いてもよい。このX3 の具体例としては、一般式(2)
のX3 の説明で例示したものと同じものを挙げることが
できる。Y2 はルイス塩基を示し、Y2 が複数ある場
合、複数のY2 は同じでも異なっていてもよく、他のY
2 又はX3 と架橋していてもよい。このY2の具体例と
しては、一般式(2)のY2 の説明で例示したものと同
じものを挙げることができる。R15〜R20はそれぞれ水
素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基,
炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基,珪素含有基
又はヘテロ原子含有基を示すが、その少なくとも一つは
水素原子でないことが必要である。また、R15〜R20は
たがいに同一でも異なっていてもよく、隣接する基同士
がたがいに結合して環を形成していてもよい。好ましく
は、インデニル環を形成し、インデニル環上に置換基と
して芳香環が結合している場合である。
誘導体を配位子とする遷移金属化合物は、配位子が
(1,1’)(2,2’)二重架橋型及び(1,2’)
(2,1’)二重架橋型のいずれであってもよい。
物の具体例としては、(1,1’−エチレン)(2,
2’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレ
ン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−メチレン)(2,2’−メチレン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−
メチレン)(2,1’−メチレン)−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピ
リデン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソプ
ロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−メチル
インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エ
チレン)(2,1’−エチレン)−ビス(3−メチルイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチ
レン)(2,2’−エチレン)−ビス(4,5−ベンゾ
インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エ
チレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4,5−ベン
ゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(4−イソプ
ロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4−
イソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス
(5,6−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−
ビス(5,6−ジメチルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレ
ン)−ビス(4,7−ジイソプロピルインデニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,
1’−エチレン)−ビス(4,7−ジイソプロピルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレ
ン)(2,2’−エチレン)−ビス(4−フェニルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレ
ン)(2,1’−エチレン)−ビス(4−フェニルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレ
ン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−メチル−4−
イソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス
(3−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−
エチレン)−ビス(5,6−ベンゾインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’
−エチレン)−ビス(5,6−ベンゾインデニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,
2’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’
−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,
2’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−エチレ
ン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−メチレン)(2,2’−エチレン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
エチレン)(2,2’−メチレン)−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチレン)
(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)
(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピリデ
ン)(2,2’−メチレン)−ビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,
2’−メチレン)(3−メチルシクロペンタジエニル)
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−イソプロ
ピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−プロピリデン)(2,2’−プロピリデン)(3
−メチルシクロペンタジエニル)(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−メチレン)−ビス(3−メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メ
チレン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−イソプロピリデン)(2,2’−エチレン)−ビ
ス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−イソプ
ロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチレン)
(2,2’−メチレン)−ビス(3−メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メ
チレン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−イソ
プロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−メチレン)−ビス(3,4−ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’−
メチレン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチレ
ン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−イソ
プロピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチ
レン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレ
ン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’
−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソ
プロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス
(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−メチレ
ン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)
(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレン)−ビス
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イ
ソプロピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イ
ソプロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(1,2’−エチレン)(2,1’−
エチレン)ビス(5,5−フェニルインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’
−エチレン)ビス(5,6−フェニルインデニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,
1’−エチレン)ビス(6,6−フェニルインデニル)
ジルコニウムジクロリドなど及びこれらの化合物におけ
るジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したもの
や、ジメチルシリレン(1−(2−メチル−4,5−ベ
ンゾインデニル))(2−インデニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレン(1−(2−エチル−4,
5−ベンゾインデニル))(2−インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレン(1−(2−ブチル
−4,5−ベンゾインデニル))(2−インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(1−(2−
メチル−4,5−ベンゾインデニル))(2−4,7−
ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレン(1−(2−エチル−4,5−ベンゾインデ
ニル))(2−4,7−ジメチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジフェニルシリレン(1−(2−メチ
ル−4,5−ベンゾインデニル))(2−インデニル)
ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン(1−
(2−エチル−4,5−ベンゾインデニル))(2−イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレ
ンシリレン(1−(2−ブチル−4,5−ベンゾインデ
ニル))(2−インデニル)ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルシリレン(1−(2−メチル−4,5−ベン
ゾインデニル))(2−4,7−ジメチルインデニル)
ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン(1−
(2−エチル−4,5−ベンゾインデニル))(2−
4,7−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジルコニウムをハフニウムに変えたものを挙げるこ
とができる。もちろんこれらに限定されるものではな
い。また、(A−2)成分としては、これらの遷移金属
化合物の中から2種類以上を組み合わせて用いてもよ
い。
ては、(A)成分としては、前記(A−1)成分が好適
である。次に(B)成分について説明する。
アルミニウムオキシ化合物及び(B−2)前記遷移金属
化合物と反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物
の中から選ばれた少なくとも一種が用いられる。
化合物としては、一般式(3)
は1〜12のアルキル基,アルケニル基,アリール基,
アリールアルキル基などの炭化水素基あるいはハロゲン
原子を示し、wは平均重合度を示し、通常2〜50、好
ましくは2〜40の整数である。なお、各R21は同じで
も異なっていてもよい。)で示される鎖状アルミノキサ
ン、及び一般式(4)
おけるものと同じである。)で示される環状アルミノキ
サンを挙げることができる。具体的には、メチルアルミ
ノキサン、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノ
キサン等が挙げられる。前記アルミノキサンの製造法と
しては、アルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接
触させる方法が挙げられるが、その手段については特に
限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよい。例
えば、有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解して
おき、これを水と接触させる方法、重合時に当初有機
アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方
法、金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有
機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる
方法、テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキ
ルアルミニウムを反応させ、さらに水を反応させる方法
などがある。
溶媒に不溶性のものであってもよいし、炭化水素溶媒に
可溶であってもよい。好ましくは、炭化水素溶媒に可溶
であって、かつ 1H−NMRより測定した残留有機アル
ミニウム化合物が10質量%以下の場合である。さらに
好ましくは、残留有機アルミニウム化合物が3〜5質量
%以下、特に好ましくは、2〜4質量%以下である。こ
のようなアルミノキサンを用いると、アルミノキサンが
担体に担持される割合(担持率とも言う)が増加し好ま
しい。炭化水素溶媒に可溶であるので、担持されなかっ
たアルミノキサンをリサイクルして再使用することがで
きるという利点もある。さらに、アルミノキサンの性状
が安定しているので、使用に際して特に処理を必要とし
ないという長所もある。また、重合により得られるポリ
オレフィンの平均粒径や粒径分布(総称してモルフォロ
ジーとも言われる)が向上し、好ましい。残留有機アル
ミニウム化合物が10質量%を超えると担持率が低下
し、重合活性が低下することがある。
ては、例えば、アルミノキサンの溶液を加温減圧により
溶媒を留去し乾固させる方法(ドライアップ法とも言
う)が挙げられる。ドライアップ法では、加温減圧によ
る溶媒の留去は80℃以下が好ましく、さらに好ましく
は、60℃以下である。
不溶な成分を除去する方法としては、例えば、炭化水素
溶媒に不溶な成分を自然沈降させ、その後デカンテーシ
ョンにより分離する方法が挙げられる。或いは、遠心分
離等の操作により分離する方法でもよい。その後、さら
に回収した可溶解成分をG5ガラス製フィルター等を用
い、窒素気流下にてろ過した方が不溶な成分が充分除去
されるので好ましい。このようにして得られるアルミノ
キサンは時間の経過とともにゲル成分が増加することが
あるが、調製後48時間以内に使用することが好まし
く、調製後直ちに使用することが特に好ましい。アルミ
ノキサンと炭化水素溶媒の割合は、特に制限はないが、
炭化水素溶媒1リットルに対しアルミノキサン中のアル
ミニウム原子が0.5〜10モルとなるような濃度で用
いることが好ましい。
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメン等芳香
族炭化水素やペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカン等
脂肪族炭化水素やシクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロオクタン、メチルシクロペンタン等脂環式炭化水素
やナフサ、ケロシン、ライトガスオイル等石油留分等が
挙げられる。
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。一方、(B
−2)成分としては、前記遷移金属化合物と反応してカ
チオンに変換しうるイオン性化合物であれば、いずれの
ものでも使用できるが、特に効率的に重合活性点を形成
できるなどの点から、次の一般式(5)、(6) (〔L1 −R22〕h+)a (〔Z〕- )b ・・・(5) (〔L2 〕h+)a (〔Z〕- )b ・・・(6) (ただし、L2 はM2 ,R23R24M3,R25 3 C又はR26
M3 である。) 〔(5)、(6)式中、L1 はルイス塩基、〔Z〕
- は、非配位性アニオン〔Z 1 〕- 又は〔Z2 〕- 、こ
こで〔Z1 〕- は複数の基が元素に結合したアニオン、
すなわち〔M4 G1 G2 ・・・Gf 〕(ここで、M4 は
周期律表第5〜15族元素、好ましくは周期律表第13
〜15族元素を示す。G1 〜Gf はそれぞれ水素原子,
ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数2
〜40のジアルキルアミノ基,炭素数1〜20のアルコ
キシ基,炭素数6〜20のアリール基,炭素数6〜20
のアリールオキシ基,炭素数7〜40のアルキルアリー
ル基,炭素数7〜40のアリールアルキル基,炭素数1
〜20のハロゲン置換炭化水素基,炭素数1〜20のア
シルオキシ基,有機メタロイド基、又は炭素数2〜20
のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。G1 〜Gf のうち
2つ以上が環を形成していてもよい。fは〔( 中心金属
M4 の原子価) +1〕の整数を示す。) 、〔Z2 〕
- は、酸解離定数の逆数の対数(pKa ) が−10以下
のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイ
ス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と
定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位し
ていてもよい。また、R22は水素原子,炭素数1〜20
のアルキル基,炭素数6〜20のアリール基,炭素数7
〜40のアルキルアリール基又は炭素数7〜40のアリ
ールアルキル基を示し、R23及びR24はそれぞれシクロ
ペンタジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,イン
デニル基又はフルオレニル基、R25は炭素数1〜20の
アルキル基,炭素数6〜20のアリール基,炭素数7〜
40のアルキルアリール基又は炭素数7〜40のアリー
ルアルキル基を示す。R26はテトラフェニルポルフィリ
ン,フタロシアニンなどの大環状配位子を示す。hは
〔L1 −R22〕,〔L2〕のイオン価数で1〜3の整
数、aは1以上の整数、b=(h×a)である。M
2 は、周期律表第1〜3、11〜13、17族元素を含
むものであり、M3 は、周期律表第7〜12族元素を示
す。〕で表されるものを好適に使用することができる。
ア,メチルアミン,アニリン,ジメチルアミン,ジエチ
ルアミン,N−メチルアニリン,ジフェニルアミン,
N,N−ジメチルアニリン,トリメチルアミン,トリエ
チルアミン,トリ−n−ブチルアミン,メチルジフェニ
ルアミン,ピリジン,p−ブロモ−N,N−ジメチルア
ニリン,p−ニトロ−N,N−ジメチルアニリンなどの
アミン類、トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフ
ィン,ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テト
ラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エ
チルなどのエステル類、アセトニトリル,ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などを挙げることができる。
チル基,ベンジル基,トリチル基などを挙げることがで
き、R23,R24の具体例としては、シクロペンタジエニ
ル基,メチルシクロペンタジエニル基,エチルシクロペ
ンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル基
などを挙げることができる。R25の具体例としては、フ
ェニル基,p−トリル基,p−メトキシフェニル基など
を挙げることができ、R26の具体例としてはテトラフェ
ニルポルフィリン,フタロシアニン,アリル,メタリル
などを挙げることができる。また、M2 の具体例として
は、Li,Na,K,Ag,Cu,Br,I,I3 など
を挙げることができ、M3 の具体例としては、Mn,F
e,Co,Ni,Znなどを挙げることができる。
2 ・・・Gf 〕において、M5 の具体例としてはB,A
l,Si ,P,As,Sbなど、好ましくはB及びAl
が挙げられる。また、G1 ,G2 〜Gf の具体例として
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基,ジエ
チルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキ
シ基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブトキシ基,
フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基,エチル
基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,
イソブチル基,n−オクチル基,n−エイコシル基,フ
ェニル基,p−トリル基,ベンジル基,4−t−ブチル
フェニル基,3,5−ジメチルフェニル基など、ハロゲ
ン原子としてフッ素,塩素,臭素,ヨウ素,ヘテロ原子
含有炭化水素基としてp−フルオロフェニル基,3,5
−ジフルオロフェニル基,ペンタクロロフェニル基,
3,4,5−トリフルオロフェニル基,ペンタフルオロ
フェニル基,3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル基,ビス(トリメチルシリル)メチル基など、有機
メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基、トリメ
チルシリル基,トリメチルゲルミル基,ジフェニルアル
シン基,ジシクロヘキシルアンチモン基,ジフェニル硼
素などが挙げられる。
が−10以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Z2 〕- の具
体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン
(CF3 SO3 )- ,ビス(トリフルオロメタンスルホ
ニル)メチルアニオン,ビス(トリフルオロメタンスル
ホニル)ベンジルアニオン,ビス(トリフルオロメタン
スルホニル)アミド,過塩素酸アニオン(Cl
O4 )- ,トリフルオロ酢酸アニオン( CF3 CO2)-
ヘキサフルオロアンチモンアニオン( SbF6)- ,フル
オロスルホン酸アニオ(FSO3 )- ,クロロスルホン
酸アニオン(ClSO3 )- ,フルオロスルホン酸アニ
オン/5−フッ化アンチモン(FSO3 /Sb
F5 )- ,フルオロスルホン酸アニオン/5−フッ化砒
素(FSO3 /AsF5 )- ,トリフルオロメタンスル
ホン酸/5−フッ化アンチモン(CF3SO3 /Sb
F5)- などを挙げことができる。
としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウ
ム,テトラフェニル硼酸トリ−n−ブチルアンモニウ
ム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,テト
ラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラフェ
ニル硼酸メチル(トリ−n−ブチル)アンモニウム,テ
トラフェニル硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリフェニル(メチル)ア
ンモニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウ
ム,テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフ
ェニル硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸
メチル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸トリエチルアンモニウム,テ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリ−n−ブ
チルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリフェニルアンモニウム,テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸テトラ−n−ブチルアンモニ
ウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸テト
ラエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチル
ジフェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸トリフェニル(メチル)アンモニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニ
リニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸
ジメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸トリメチルアニリニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸メチルピリジニウム,テト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルピリジ
ニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メ
チル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸ベンジル(2−シアノピリジニ
ウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル) 硼酸メ
チル(4−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸トリフェニルホスホニウム,テト
ラキス〔ビス(3,5−ジトリフルオロメチル)フェニ
ル〕硼酸ジメチルアニリニウム,テトラフェニル硼酸フ
ェロセニウム,テトラフェニル硼酸銀,テトラフェニル
硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸テトラフェニルポル
フィリンマンガン,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸フェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸(1,1’−ジメチルフェロセニウム)
,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸デカメ
チルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸銀、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
硼酸トリチル,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
硼酸リチウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
硼酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン,テトラ
フルオロ硼酸銀,ヘキサフルオロ燐酸銀,ヘキサフルオ
ロ砒素酸銀,過塩素酸銀,トリフルオロ酢酸銀,トリフ
ルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができる。
(B−2)成分としては、上記一般式(5)式で表され
るイオン性化合物が好ましい。
の遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しうるイオ
ン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
ては、(B)成分として、(B−1)成分のみを用いて
もよいし、(B−2)成分のみを用いてもよく、また、
(B−1)成分と(B−2)成分とを組み合わせて用い
てもよい。
を主成分として含有するものであってもよいし、また、
(A) 成分、(B)成分及び(C)有機アルミニウム化
合物を主成分として含有するものであってもよい。
合物としては、一般式(7) R27 v AlQ3-v ・・・(7) (式中、R27は炭素数1〜10のアルキル基、Qは水素
原子、炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20
のアリール基又はハロゲン原子を示し、vは1〜3の整
数である)で示される化合物が用いられる。
例としては、トリメチルアルミニウム,トリエチルアル
ミニウム,トリイソプロピルアルミニウム,トリイソブ
チルアルミニウム,ジメチルアルミニウムクロリド,ジ
エチルアルミニウムクロリド,メチルアルミニウムジク
ロリド,エチルアルミニウムジクロリド,ジメチルアル
ミニウムフルオリド,ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド,ジエチルアルミニウムヒドリド,エチルアルミニウ
ムセスキクロリド等が挙げられる。
いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。この重
合触媒における(A)触媒成分と(B)触媒成分との使
用割合は、(B)触媒成分として(B−1)化合物を用
いた場合には、モル比で好ましくは1:1〜1:1
06 、より好ましくは1:10〜1:104 の範囲が望
ましく、上記範囲を逸脱する場合は、単位質量ポリマー
あたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。また
(B−2)化合物を用いた場合には、モル比で好ましく
は10:1〜1:100、より好ましくは2:1〜1:
10の範囲が望ましい。この範囲を逸脱する場合は単位
質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的で
ない。
れる(C)触媒成分との使用割合は、モル比で好ましく
は1:1〜1:20,000、より好ましくは1:5〜
1:2,000、さらに好ましくは1:10〜1:1,
000の範囲が望ましい。該(C)触媒成分を用いるこ
とにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させること
ができるが、あまり多い場合、特に上記範囲を逸脱する
場合は有機アルミニウム化合物が無駄になるとともに、
重合体中に多量に残存し、また少ない場合は充分な触媒
活性が得られず、好ましくない場合がある。
少なくとも一種を適当な担体に担持して用いることがで
きる。該担体の種類については特に制限はなく、無機酸
化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも
用いることができるが、特にモルホロジ−制御の点から
無機酸化物担体あるいはそれ以外の無機担体が好まし
い。無機酸化物担体としては、具体的には、SiO2 ,
Al2 O3 ,MgO,ZrO2 ,TiO2 ,Fe
2 O3 ,B2 O3 ,CaO,ZnO,BaO,ThO2
やこれらの混合物、例えばシリカアルミナ,ゼオライ
ト,フェライト,グラスファイバーなどが挙げられる。
これらの中では、特にSiO2 またはAl2 O3 が好ま
しい。なお、上記無機酸化物担体は、少量の炭酸塩,硝
酸塩,硫酸塩などを含有してもよい。一方、上記以外の
担体として、MgCl2 ,Mg(OC2 H5) 2 などのマ
グシウム化合物などで代表される一般式MgR28 X X4
y で表されるマグネシウム化合物やその錯塩などを挙げ
ることができる。ここで、R28は炭素数1〜20のアル
キル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は炭素数6〜
20のアリール基、X4 はハロゲン原子又は炭素数1〜
20のアルキル基を示し、xは0〜2、yは0〜2であ
り、かつx+y=2である。各R28及び各X4 はそれぞ
れ同一でもよく、また異なってもいてもよい。また、有
機担体としては、ポリスチレン,スチレン−ジビニルベ
ンゼン共重合体,ポリエチレン,ポリプロピレン,置換
ポリスチレン,ポリアリレートなどの重合体やスター
チ,カーボンなどを挙げることができる。本発明におい
て用いられる担体としては、MgCl2 ,MgCl(O
C2 H5 ),Mg(OC2 H5)2 ,SiO2 ,Al2 O
3 などが好ましい。また担体の性状は、その種類及び製
法により異なるが、平均粒径は通常1〜300μm、好
ましくは10〜200μm、より好ましくは20〜10
0μmである。粒径が小さいと重合体中の微粉が増大
し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒子が増大し嵩密度
の低下やホッパーの詰まりの原因になる。また、担体の
比表面積は、通常1〜1,000m2 /g、好ましくは
50〜500m2 /g、細孔容積は通常0.1〜5cm3
/g、好ましくは0.3〜3cm3 /gである。比表面積
又は細孔容積のいずれかが上記範囲を逸脱すると、触媒
活性が低下することがある。なお、比表面積及び細孔容
積は、例えばBET法に従って吸着された窒素ガスの体
積から求めることができる(J.Am.Chem.So
c,第60巻,第309ページ(1983年)参照)。
さらに、上記担体は、通常150〜1,000℃、好ま
しくは200〜800℃で焼成して用いることが望まし
い。
持させる場合、(A)触媒成分及び(B)触媒成分の少
なくとも一方を、好ましくは(A)触媒成分及び(B)
触媒成分の両方を担持させるのが、モルホロジー制御、
気相重合などプロセスへの適用性などの点から望まし
い。
なくとも一方を担持させる方法については、特に制限さ
れないが、例えば(A)成分及び(B)成分の少なく
とも一方と担体とを混合する方法、担体を有機アルミ
ニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物(四塩化ケ
イ素、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシラン等)で処理したのち、不活
性溶媒中で(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方
と混合する方法、担体と(A)成分又は(B)成分あ
るいはその両方と有機アルミニウム化合物又はハロゲン
含有ケイ素化合物(四塩化ケイ素、メチルトリクロロシ
ラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラ
ン等)反応させる方法、(A)成分又は(B)成分を
担体に担持させたのち、(B)成分又は(A)成分と混
合する方法、(A)成分と(B)成分との接触反応物
を担体と混合する方法、(A)成分と(B)成分との
接触反応に際して、担体を共存させる方法などを用いる
ことができる。又、上記、及びの反応において、
有機アルミニウム化合物を添加することもできる。ここ
で、有機アルミニウム化合物としては、前記の(C)成
分の有機アルミニウム化合物から適宜選択すればよい。
(C)成分の有機アルミニウム化合物を添加することも
できる。本発明においては、前記化合物(B−1)成分
と担体との使用割合は、質量比で好ましくは1:0.5
〜1:1,000、より好ましくは1:1〜1:50と
するのが望ましく、(B−2)成分と担体との使用割合
は、質量比で好ましくは1:5〜1:10,000、よ
り好ましくは1:10〜1:500とするのが望まし
い。触媒成分(B)として二種以上を混合して用いる場
合は、各(B)成分と担体との使用割合が質量比で上記
範囲内にあることが望ましい。また、(A)成分と担体
との使用割合は、質量比で、好ましくは1:5〜1:1
0,000、より好ましくは1:10〜1:500とす
るのが望ましい。
2)成分〕と担体との使用割合、又は(A)成分と担体
との使用割合が上記範囲を逸脱すると、活性が低下する
ことがある。このようにして調製された本発明で用いる
重合触媒の平均粒径は、通常2〜200μm、好ましく
は10〜150μm、特に好ましくは20〜100μm
であり、比表面積は、通常20〜1,000m2 /g、
好ましくは50〜500m2 /gである。平均粒径が2
μm未満であると重合体中の微粉が増大することがあ
り、200μmを超えると重合体中の粗大粒子が増大す
ることがある。比表面積が20m2 /g未満であると活
性が低下することがあり、1,000m2 /gを超える
と重合体の嵩密度が低下することがある。また、この重
合触媒において、担体100g中の遷移金属量は、通常
0.001〜1g、特に0.001〜0.1gであるこ
とが好ましい。遷移金属量が上記範囲外であると、活性
が低くなることがある。このように担体に担持すること
によって工業的に有利な高い嵩密度と優れた粒径分布を
有するオレフィン重合体を得ることができる。
じて(C)成分及び/又は担体の接触は、窒素等の不活
性気体中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、
シクロヘキサン等の炭化水素溶媒中で行えばよい。接触
温度は−30℃から溶媒の沸点までの温度範囲、好まし
くは−10℃〜100℃の温度範囲、接触時間は、通常
30秒から10時間行えばよい。接触後、固体触媒成分
は洗浄してもしなくてもよい。なお、接触においては、
(A)成分における二種の互いに異なる遷移金属化合物
は、いずれを先に用いてもよく、前もって混合して用い
てもよい。
溶媒留去を行って固体として取り出してから重合に用い
てもよく、そのまま重合に用いてもよい。また、本発明
においては、(A)成分及び(B)成分の少なくとも一
方の担体への担持操作を重合系内で行うことにより触媒
を生成させることができる。例えば(A)成分及び
(B)成分の少なくとも一方と担体とさらに必要により
前記(C)成分の有機アルミニウム化合物を加え、オレ
フィンを予備重合させて得られた触媒であってもよい。
予備重合の際に用いられるオイフィンとしては、エチレ
ンおよび炭素数3〜20のα−オレフィン、例えばプロ
ピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−
ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、
1−ドデセン、1―テトラデセンなどを例示できる。こ
れらの中では、エチレン、プロピレンあるいはエチレン
−プロピレン重合の際に用いられるα−オレフィンとの
組み合わせが特に好ましい。不活性炭化水素溶媒として
具体的には、上述の固体触媒成分の調製の際に使用した
不活性炭化水素溶媒と同様のものが使用できる。予備重
合の際には、遷移金属に換算して通常10-6〜2×10
-2モル/リットル(溶媒)、好ましくは5×10-5〜1
0-2モル/リットル(溶媒)の量で用いられ、担体1g
当たり、遷移金属としてメチルアルミノキサン(MAO
ともいう)のような有機アルミニウム化合物中のアルミ
ニウムと遷移金属との原子比(Al/遷移金属)は、通
常10〜5,000好ましくは20〜1,000であ
る。必要に応じて用いられる有機アルミニウム化合物の
アルミニウム原子とMAO中のアルミニウム原子比は、
通常0.02〜3、好ましくは0.05〜1.5の範囲
である。予備重合温度は−20〜60℃、好ましくは0
〜50℃であり、また予備重合時間は0.5〜100時
間、好ましくは1〜50時間程度である。本発明におい
ては、オレフィンを予備重合させて得られた触媒である
ことが好ましくい。
ピレンを単独重合、またはプロピレン並びにプロピレン
とエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィン
とを共重合させる方法について述べる。
ラリー重合法,気相重合法,塊状重合法,溶液重合法,
懸濁重合法などのいずれの方法を用いてもよいが、スラ
リー重合法,気相重合法が好ましい。なかでも、気相重
合法が特に好ましい。
00〜250℃、好ましくは−50〜200℃、より好
ましくは0〜130℃である。また、反応原料に対する
触媒の使用割合は、原料モノマー/上記(a)成分(モ
ル比)が好ましくは1〜10 8 、特に100〜105 と
なることが好ましい。さらに、重合時間は通常5分〜1
0時間、反応圧力は好ましくは常圧〜20MPa・
G、特に好ましくは常圧〜10MPa・ Gである。
媒成分の種類,使用量,重合温度の選択、さらには水素
存在下での重合などがある。重合溶媒を用いる場合、例
えば、ベンゼン,トルエン,キシレン,エチルベンゼン
などの芳香族炭化水素、シクロペンタン,シクロヘキサ
ン,メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ペン
タン,ヘキサン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化
水素、クロロホルム,ジクロロメタンなどのハロゲン化
炭化水素などを用いることができる。これらの溶媒は一
種を単独で用いてもよく、二種以上のものを組み合わせ
てもよい。また、α−オレフィンなどのモノマーを溶媒
として用いてもよい。なお、重合方法によっては無溶媒
で行うことができる。
予備重合を行うことができる。予備重合は、固体触媒成
分に、例えば、少量のオレフィンを接触させることによ
り行うことができるが、その方法に特に制限はなく、公
知の方法を用いることができる。予備重合に用いるオレ
フィンについては特に制限はなく、前記に例示したもの
と同様のもの、例えばエチレン、炭素数3〜20のα−
オレフィン、あるいはこれらの混合物などを挙げること
ができるが、該重合において用いるオレフィンと同じオ
レフィンを用いることが有利である。
0℃、好ましくは−10〜130℃、より好ましくは0
〜80℃である。予備重合においては、溶媒として、不
活性炭化水素,脂肪族炭化水素,芳香族炭化水素,モノ
マーなどを用いることができる。これらの中で特に好ま
しいのは脂肪族炭化水素である。また、予備重合は無溶
媒で行ってもよい。
限粘度〔η〕(135℃テトラリン中で測定)が0.2
デシリットル/g以上、特に0.5デシリットル/g以
上、触媒中の遷移金属成分1ミリモル当たりに対する予
備重合生成物の量が1〜10,000g、特に10〜
1,000gとなるように条件を調整することが望まし
い。
問わないが、α−オレフィンをプロピレンより先に仕込
んでおくことが好ましい。エチレンを用いる場合は、プ
ロピレンとエチレンの混合気体を仕込むことが好まし
い。コモノマーの仕込み比は、α−オレフィンの場合に
は触媒1molに対して1〜10,000,000mo
l、好ましくは1〜1,000,000mol、さらに
好ましくは1〜100,000molである。エチレン
の場合は、(エチレン/プロピレン)mol比が(0.
01/100)〜(99/100)、好ましくは(0.
01/100)〜(55/100)、さらに好ましくは
(0.01/100)〜(10/100)である。 3.成形体 本発明の成形体は、前記のピロピレン系重合体を成形し
て得られるものである。本発明の成形体は、柔軟性の割
に低温加工特性(特に低温ヒートシール性、エンボス加
工性)に優れているという特徴がある。さらに、透明性
にも優れている。本発明の成形体としては、フィルム、
シート、繊維、容器、自動車内装材、家電製品のハウジ
ング材等が挙げられる。なかでも、フィルム、シートが
好適である。フィルムとしては、低温ヒートシール性に
優れるために、食品包装用フィルムや農業用フィルム
(ビニールハウスの例)等が挙げられる。容器として
は、透明性に優れているので、透明ケース、透明ボック
ス、化粧箱等が挙げられる。
圧縮成形法、射出圧縮成形法、ガスアシスト射出成形
法、押し出し成形法、ブロー成形法、カレンダー成形法
等が挙げられる。フィルム、シートの成形方法として
は、圧縮成形法、押し出し成形法、ブロー成形法、キャ
スト成形法等が挙げられる。
明するが、本発明は以下の実施例により何ら制限される
ものではない。
の評価方法について説明する。 (1)[η] の測定 (株) 離合社のVMR−053型自動粘度計を用い、テ
トラリン溶媒中135℃において測定した。 (2)ペンタッド分率および異常挿入分率の測定 詳細な説明において記載した方法に従って測定した。 (3)共重合体中のコモノマーの含有量及び立体規則性
指標[mm] 日本電子社製のJNM−EX400型NMR装置を用
い、以下の条件で13C−NMRスペクトルを測定し、以
下の方法により算出した。
ン-d6 (90/10 vol%) 測定温度 :130℃ パルス幅 :45° パルス繰り返し時間:4秒 積算回数 :10,000回 (a)1−ブテン含有量 プロピレンと1−ブテンのランダム共重合体について13
C−NMRにより測定したスペクトルの各シグナルの化
学シフトと帰属を表1に示す。
(モル%) は、主鎖メチレン炭素に注目し、下記(1)
式より求めた。 α={〔(2)/2+(4)〕/〔(1)+(2)+(3)+(4)+2×(9 )〕}×100・・・(1) 但し、例えば上式中の(1)、(2)・・・等は表1中
の番号、・・・等のシグナル強度で代用した。
(モル%) は、表1中の丸付きの数字番号12〜14の
シグナル強度から頭−尾結合部のPPP連鎖のアイソタ
クチックトライアッド分率を下記(2)式により求め
た。 P={(12)/〔(12)+(13)+(14)〕}×100・・・(2) なお、PPP連鎖Sαβ炭素のシグナルはPPP連鎖連
鎖Sαβ炭素のシグナル強度で代用した。 (4)分子量分布(Mw/Mn)の測定 Mw/Mnは、GPC法により、下記の装置及び条件で
測定したポリエチレン換算の質量平均分子量Mw及び数
平均分子量Mnより算出した値である。 GPC測定装置 カラム :TOSO GMHHR−H(S)HT 検出器 :液体クロマトグラム用RI検出器 WATERS 150C 測定条件 溶媒 :1,2,4−トリクロロベンゼン 測定温度 :145℃ 流速 :1.0ミリリットル/分 試料濃度 :2.2mg/ミリリットル 注入量 :160マイクロリットル 検量線 :Universal Calibration 解析プログラム:HT−GPC(Ver.1.0) (5)DSC測定 示差走査型熱量計(パーキン・エルマー社製, DSC−
7)を用い、試料10mgを窒素雰囲気下230℃で3
分間溶融した後、10℃/分で0℃まで降温後、さら
に、0℃で3分間保持した後、10℃/分で昇温させる
ことにより得られる融解吸熱量をΔHとした。また、こ
のときに得られる融解吸熱カーブの最大ピークのピーク
トップを融点:Tm(℃)とした。 (6)昇温分別クロマトグラフ 以下のようにして、溶出曲線におけるTREFのカラム
温度25℃において充填剤に吸着されないで溶出する成
分の量(質量%)を求めた。 (a)操作法 試料溶液を温度135℃に調節したTREFカラムに導
入し、次いで降温速度5℃/時間にて徐々に0℃まで降
温し、30分間ホールドし、試料を充填剤に吸着させ
る。その後、昇温速度40℃/時間にてカラムを135
℃まで昇温し、溶出曲線を得た。溶出曲線のピーク位置
の温度をTpとし、これよりTp±5℃の温度範囲にて
溶出する成分量を求めた。また、溶出曲線のピーク位置
の半値幅をTh(℃)として求めた。 (b)装置構成 TREFカラム :GLサイエンス社製 シリカゲルカラム (4.6φ×150mm) フローセル :GLサイエンス社製 光路長1mm KBrセル 送液ポンプ :センシュウ科学社製 SSC−3100ポンプ バルブオーブン :GLサイエンス社製 MODEL554オーブン (高温型) TREFオーブン:GLサイエンス社製 二系列温調器 :理学工業社製 REX−C100温調器 検出器 :液体クロマトグラフィー用赤外検出器 FOXBORO社製 MIRAN 1A CVF 10方バルブ :バルコ社製 電動バルブ ループ :バルコ社製 500マイクロリットルループ (c)測定条件 溶媒 :o−ジクロロベンゼン 試料濃度 :7.5g/リットル 注入量 :500マイクロリットル ポンプ流量 :2.0ミリリットル/分 検出波数 :3.41μm カラム充填剤 :クロモソルブP(30〜60メッシュ) カラム温度分布 :±0.2℃以内 (7)引張弾性率 プロピレン系重合体をプレス成形して試験片を作成し、
JIS K 7113に準拠した引張試験により測定し
た。
JIS K 7105に準拠した試験により測定した。
(試験片厚み=1mm) (9)沸騰ジエチルエーテル抽出量の測定 ソックスレー抽出器を用い、以下の条件で測定する。
パウダー化して用いる) 抽出溶媒:ジエチルエーテル 抽出時間:10時間 抽出回数:180回以上 抽出量の算出方法:以下の式により算出する。 〔ジエチルエーテルへの抽出量(g)/仕込みパウダー
質量(g)〕×100 〔製造例1〕 (1)(1、2’−エチレン)(2,1’−エチレン)
ビス(5−フェニル−インデニル)ハフニウムジクロリ
ドの合成 3,4−ジメチルビフェニルの合成 3,4−ジメチルアニリン(50g,0.41mol)
およびベンゼン(1000ml)をマグネチックスター
ラーおよびジムロート管、滴下ロート付き2リットル丸
底フラスコ中で混合し、窒素雰囲気下、80℃に昇温し
た。その後、加熱還流させながら、亜硝酸イソアミル
(84ml,0.63mol)を徐々に窒素ガスが発生
するようにゆっくり滴下した。そのまま、48時間加熱
還流した後ベンゼンを留去し残留物をカラム精製する
(ヘキサン溶媒で目的物が先に流出してくる)ことによ
り目的物を54%の収率で得た(40.3g,0.22
mol)。
の合成 3,4−ジメチルビフェニル(44.7g,0.245
mol) 及びN−ブロモスクシンイミド(98.1g,
0.539mol)四塩化炭素(560ml)、アゾビ
スイソブチロニトリル(0.15g)をマグネチックス
ターラーおよびジムロート管付き1リットル丸底フラス
コ中で混合し、窒素雰囲気下、80℃、1時間加熱攪拌
した。反応終了後、懸濁液をろ過し溶媒を留去すること
により収率99%で目的物を得た(83g,0.024
4mol)。
の合成 マグネチックスターラーおよびジムロート管付き500
ml丸底フラスコ中でメタノール(240ml)、水
(80ml)、4−フェニル−o−キシリレンジブロミ
ド(83g,0.0244mol) およびシアン化カリ
ウム(41g,0.625mol)を混合し、70℃で
1時間加熱攪拌した。反応終了後、水(350ml)を
投入し、反応生成物をジエチルエーテル(100ml)
で3回抽出した。粗生成物をカラム精製(展開溶媒:塩
化メチレン)を行い目的化合物を41%の収率で得た
(23g,0.099mol)。
合成 ジムロート管およびマグネチックスターラー付き2リッ
トルのナスフラスコに4−フェニル−o−キシリレンジ
ニトリル(33g,0.142mol)および、酢酸
(130ml)濃硫酸(130ml)、水(130m
l)を投入し、45分間加熱還流した。反応終了後、水
(800ml)を加え沈殿物をグラスフィルターでろ過
し、それを60℃で減圧乾燥することにより目的化合物
を70%の収率で得た(27g,0.100mol)。
ル)ベンゼンの合成 ジムロート管およびマグネチックスターラー付き1リッ
トルのナスフラスコに4−フェニル−1、2−二酢酸ベ
ンゼン(27g,0.100mol)および、脱水エタ
ノール(400ml)、濃硫酸(16g)を投入し、8
時間加熱還流した。反応終了後、水(500ml)を加
えジエチルエーテル(400ml)で抽出することに粗
生成物を得た。租生成物よりトルエン(300ml)で
抽出操作することにより目的化合物を86%の収率で得
た(28g,0.086mol)。
2−インダノンの合成 メカニカルスターラーおよびジムロート管、滴下ロート
付き1リットルのセパラブルフラスコにナトリウム
(1.95g,0.085mol)およびトルエン(4
00ml)を投入し、攪拌しながら110℃に加熱し
た。その中に、4−フェニル−1、2−ビス(酢酸エチ
ル)(28g,0.086mol)のトルエン溶液(4
00ml)を2時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了
後さらに3時間加熱還流した。反応終了後、放冷しエタ
ノール(50ml)を加え、続いて氷冷した10%酢酸
水溶液(500ml)を加えた。有機相を分離、硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を留去し目的化合物を7
1%の収率で得た(20g、0.071mol)。
に6−フェニル−1−エトキシカルボニル−2−インダ
ノン(20g,0.071mol) およびジメチルスル
ホキシド(200ml)水(5g)、塩化ナトリウム
(5g)を投入し、120℃で25分間加熱した。反応
終了後、放冷し水(500ml)加えジエチルエーテル
(500ml)で抽出した。有機相を分離、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を留去し目的化合物を94%
の収率で得た(14g、0.067mol)。
酸エチルの合成 2つの滴下ロートが付いた300ml三つ口フラスコに
水素化ナトリウム(1.7g,0.071mol)およ
びTHF(テトラヒドロフラン:100ml)を窒素気
流下で投入した。ジエチルホスホノ酢酸エチル(15.
0g,0.067mol)およびTHF(50ml)を
一方の滴下ロートに投入し、もう一方の滴下ロートに5
−フェニル−2−インダノン(14g,0.067mo
l)およびTHF(50ml)を投入した。氷冷下でジ
エチルホスホノ酢酸エチルのTHF溶液を滴下し、30
分間室温で攪拌した。次に、氷冷下で5−フェニル−2
−インダノンのTHF溶液を滴下し、1時間室温で攪拌
した。反応終了後、水(100ml)を加え、生成物を
ジエチルエーテル(500ml)で抽出することにより、
目的化合物を91%の収率で得た(17g,0.061
mol)。
インデンの合成 滴下ロート付き300mlナスフラスコに窒素雰囲気下
でLiAlH4 (2.0g,0.053mol)および
THF50mlを投入した。その後、1−(5−フェニ
ル−2−インデニル)酢酸エチル(17g,0.061
mol)のTHF溶液(50ml)をゆっくり自然還流
する程度に滴下した。室温で30分間攪拌した後、希塩
酸100mlを加えジエチルエーテル(300ml)で
抽出することにより、粗2−(1−ヒドロキシエチル)
−5−フェニルインデンを69%の収率で得た(10
g,0.042mol)。得られた粗2−(1−ヒドロ
キシエチル)−5−フェニルインデンおよびトリフェニ
ルフォスフィン(11.1g,0.042mol)、脱
水塩化メチレン(200ml)を300mlナスフラス
コに投入し。攪拌しながら、N−ブロモスクシンイミド
(7.5g,0.042mol)をゆっくり加えた。そ
の後、室温で1時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去し
残留物をカラム精製(ヘキサン/塩化メチレン=5/
1)することにより、目的化合物を64%の収率で得た
(8.1g,0.027mol)。
ニルインデン)の合成 滴下ロート付き500mlナスフラスコに窒素雰囲気下
で2−(1−ブロモエチル)−フェニルインデン(8.
1g,0.027mol)およびTHF( 200ml)
を投入した。−78℃でビス(トリメチルシリル)リチ
ウムアミドのTHF溶液(1.0M,27.0ml,
0.027mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後、
室温で1時間攪拌した。その後、減圧下で溶媒を留去し
残留物をカラム精製(ヘキサン/塩化メチレン=8/
1)することにより目的物を17%の収率で得た(1.
0g,0.002mol) (1、2’−エチレン)(1’、2−エチレン)ビス
(5−フェニルインデニル)ハフニウムジクロリドの合
成 (1、2’−エチレン)(1’、2−エチレン)ビス
(5−フェニルインデン)(1.0g,0.002mo
l)及びTHF(20ml)を200mlのシュレンク
中で混合し、その中に窒素気流下でn-ブチルリチウムの
ヘキサン溶液(1.66M,2.8ml,0.004m
ol)をゆっくり滴下した。室温で1晩攪拌した後、溶
媒を減圧留去し残留物を乾燥ヘキサン(100ml)で
2回洗浄した。得られたLi塩の中にトルエン(30m
l)を投入し、さらにその中に四塩化ハフニウム(0.
73g,0.002mol)のトルエン溶液(30ml)
を−78℃でゆっくり投入した。室温で1晩攪拌した
後、溶媒をろ別した。このろ液を20mlに濃縮しヘキ
サン(20ml)を加えた。生成した沈殿物をろ過乾燥
することにより(1、2’−エチレン)(1’、2−エ
チレン)ビス(5−フェニルインデニル)ハフニウムジ
クロリド(1)を4.3%の収率で得た(68.4m
g,100mmol)。 1H−NMRで測定した結果
は、以下のとおりである。1 H−NMR(δppm):7.60−7.15(m,
16H),6.41(s,2H),3.68(bs,8
H) 〔実施例1〕プロピレンの気相重合 (1)MAO/SiO2 担体の調製 十分に窒素置換された滴下ロート付き500mlガラス
製容器にトルエン(500ml)を仕込み、200℃、
3時間、窒素気流下で焼成した富士シリシア製シリカ
(4.04g)を加え、攪拌(400r.p.m)し
た。そして、0℃でアルベマール社製MAO(メチルア
ルミノキサン)/トルエン溶液(29.8ml)を45
分間かけてゆっくり加えた。さらに0℃で1時間、室温
で1時間、80℃で4時間攪拌した。反応終了後放冷
し、60℃まで冷却した時点で上澄み液をトルエン(2
00ml)で3回、ヘプタン(200ml)で3回デカ
ンテーションにより洗浄し目的物を得た。最後にヘプタ
ンスラリーとして、シュレンクに保存した。Al担持量
はUV定量法により定量した。(Al担持量:12.0
6%) 十分に窒素置換された50mlシュレンクに窒素気流下
でヘプタン(5ml)およびトリイソブチルアルミニウ
ム(2M,0.25ml,0.5mmol)を仕込み、
その後、実施例1で得られたMAO/SiO2 担体のヘ
プタンスラリー(Al換算:0.37mol/l, 6.
8ml,2.5mmol)および製造例1で得た(1、
2’−エチレン)(1’、2−エチレン)ビス(5−フ
ェニルインデニル)ハフニウムジクロリドのヘプタンス
ラリー(10μmol/ml,0.5ml,5μmo
l)を加え室温30分間攪拌し触媒を得た。 (2)プロピレンの気相重合 5リットルのオートクレーブに触媒分散剤としてポリプ
レピレンパウダー(ホモPP 720μm 以上、100
g)を仕込み、70℃で20分間、真空乾燥を行った。
窒素で復圧した後、窒素気流下で攪拌(200r.p.
m)しながら、トリイソブチルアルミニウム(2M,
1.25ml,2.5mmol)を加えた。15分間攪
拌した後、さらに先に調製したMAO/SiO2 担持触
媒を加え5分間攪拌した。この時点(50℃、常圧、2
00r.p.m)から、反応器温度70℃、プロピレン
圧2.8MPa・ G 、回転数350r.p.mま
で、30分間かけて昇温、昇圧し、引き続き60分間気
相重合を行った。その結果、壁に付着のないパウダー状
のポリマーが得られた。得られたポリマーについて、前
記の「樹脂特性」の評価を行った。また、得られたポリ
マーに以下の添加剤を処方し、短軸押出機(塚田樹機製
作所製:TLC35−20型)にて押出し造粒し、ペレ
ットを得た。ペレットを用いて前記「物性の評価方法」
に従い測定した。得られた結果を表2に示した。 <酸化防止剤>チバスペシャルティケミカルズ社製のイ
ルガノックス1010:1,000ppm及びチバスペ
シャルティケミカルズ社製のイルガフォス168:1,
000ppm 〔製造例2〕 1,2−エタンジイル(2−インデニル)(1−(2−
イソプロピルインデニル))ハフニウムジクロリドの製
造 100ml三つ口フラスコに窒素気流下で、THF(2
0ml)および2−イソプロピルインデニルリチウム
(1.69g,9.9mmol)を投入し、−78℃に
冷却した。そして、ヘキサメチルホスホラスアミド
(1.74ml,10mmol)を投入した。その後、
滴下ロートより、THF(20ml)および1−ブロモ
−2−(2−インデニル)エタン(2g,8.96mm
ol)の混合溶液を滴下した。そして、室温下8時間攪
拌した後、水(5ml)を投入した。エーテル(100
ml)を投入し分液ロートを用いて、有機相を硫酸銅水
溶液(50ml)で3回洗浄した。有機相を分離後、溶
媒を留去し残留物をヘキサンを溶媒としたカラム精製す
ることにより、1−(2−インデニル)−2−(1−
(2−イソプロピルインデニル))エタン(2g)を得
た。
で、ジエチルエーテル(20ml)および1−(2−イ
ンデニル)−2−(1−(2−イソプロピルインデニ
ル))エタン(2g)を投入し−78℃に冷却した。そ
して、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.61
M,10ml,16.1mmol)を投入し、室温下、
8時間攪拌した。その後、溶媒を留去し残留物をヘキサ
ンで洗浄することにより、1−(2−インデニル)−2
−(1−(2−イソプロピルインデニル))エタンのリ
チウム塩を得た(2.14g)。
8mmol)にトルエン(10ml)を投入し、−78
℃に冷却した。そして、あらかじめ、−78℃に冷却し
ておいた四塩化ハフニウム(1.02g,3.18mm
ol)およびトルエン(10ml)のスラリーをカヌラ
ーを用いて先の1−(2−インデニル)−2−(1−
(2−イソプロピルインデニル))エタンのリチウム塩
に投入した。そして、室温で8時間攪拌し、上澄みをろ
別した。ろ液を濃縮した後、塩化メチレン/ヘキサン混
合溶媒より再結晶することにより、1,2−エタンジイ
ル(2−インデニル)(1−(2−イソプロピルインデ
ニル))ハフニウムジクロリドを得た(0.45g,
0.83mmol)。 1H−NMRで測定した結果は、
以下のとおりである。
0(m,8H),6.50(s,1H),6.11
(d、1H),5.92(d,1H),3.65(m,
4H),3.30(m,1H),1.50(d,3
H),1.25(d,3H) 〔実施例2〕プロピレンのスラリー重合 攪拌装置付き1リットルステレンレス製耐圧オートクレ
ーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した後、乾燥窒素
で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒素気流下、乾
燥脱酸素ヘプタン400ml、トリイソブチルアルミニ
ウムのヘプタン溶液(2.0M)を0.5ml(1.0
mmol)投入し、350r.p.mでしばらく攪拌し
た。一方、十分に窒素置換された50mlシュレンクに
窒素気流下でトルエン(10ml)およびトリイソブチ
ルアルミニウムヘプタン溶液(2M,0.5ml,1.
0mmol)を投入し、MAOのトルエン溶液(2.0
M,1.0ml,2.0mmol)および製造例2で得
た1,2−エタンジイル(2−インデニル)(1−(2
−イソプロピルインデニル))ハフニウムジクロリドの
ヘプタンスラリー(10μmol/l,0.2ml,
2.0μmol)を加え、室温で3分間攪拌した。そし
て、触媒スラリーをオートクレーブに素早く投入した。
その後、1,200r.p.mで攪拌を開始した。次
に、プロピレンを全圧0.8MPa・ Gにゆっくりと
昇圧し、同時にゆっくりと温度を50℃まで昇温した。
60分間重合を実施した。反応終了後、未反応のプロピ
レンを脱圧により除去した。そして、反応混合物を2リ
ットルのメタノールに投入してポリプロピレンを沈殿さ
せ、ろ過乾燥することによりポリプロピレンを得た。実
施例1と同様に行い、得られた結果を表2に示した。 〔比較例1〕 (1)マグネシウム化合物の調製 内容積約6リットルの攪拌装置付きガラス反応器を窒素
ガスで十分に置換したのち、これにエタノール約243
0g、ヨウ素16g及び金属マグネシウム160gを仕
込み、かきまぜながら加熱して、還流条件下で系内から
の水素ガスの発生がなくなるまで反応させ、固体状反応
生成物を得た。この固体状生成物を含む反応液を減圧下
で乾燥させることにより、マグネシウム化合物を得た。 (2)団体触媒成分(A)の調製 窒素ガスで十分置換した内容積5リットルのガラス製反
応器に、上記(1)で得られたマグネシウム化合物(粉
砕していないもの)160g、精製ヘプタン800m
1、四塩化ケイ素24ml及びフタル酸ジエテル23m
1を仕込み、系内を80℃に保ち、かきまぜながら四塩
化チタン770mlを加えて110℃で2時間反応させ
たのち、固体成分を分離して90℃の精製ヘプタンを洗
浄した。さらに、四塩化チタン1220mlを加え、1
10℃で2時間反応させたのち、精製ヘプタンで十分に
洗浄して固体触媒成分(A)を得た。 (3)気相重合 内容積200リットルの重合槽に、上記(2)で得られ
た固体触媒成分6.0g/時間、トリイソブチルアルミ
ニウム(TIBA)0.2モル/時間、1−アリル−
3,4−ジメトキシベンゼン(ADMB)0.012モ
ル/時間、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン(C
HMDMS)0.010モル/時間、プロピレン37k
g/時間で供給し、70℃、20.8MPa・Gで重合
を行った。得られたポリプロピレンパウダーについて、
前記実施例1と同様に「樹脂特性の評価」を行った。ま
た、得られたポリプロピレンパウダーに、2,5−ジメ
チル−2、5−ジ−(t−ブチルパーオキシ)−ヘキサ
ンを混合し、さらに酸化防止剤、安定剤、塩素補足剤を
添加して混合した後、40mmφ押出機で押し出して、
ペレットを得た。ペレットを用いて前記実施例1と同様
に「物性の評価方法」を行った。得られた結果を表2に
示した。プレス成形した試験片は、べたついた。 〔比較例2〕比較例1において、シクロヘキシルメチル
ジメトキシシラン(CHMDMS)0.010モル/時
間に変えてシクロヘキシルメチルジメトキシシラン(C
HMDMS)0.025モルモル/時間に変えて行った
こと以外は比較例1と同様に行った。得られた結果を表
2に示した。プレス成形した試験片は、べたついた。 〔比較例3〕特許第2685262号公報の実施例1に
従い製造したエチレンビス(インデニル)ハフニウムジ
クロリドを用いてプロピレンのスラリー重合を以下のよ
うに行った。
圧オートクレーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した
後、乾燥窒素で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒
素気流下、乾燥脱酸素トルエン400ml、トリイソブ
チルアルミニウムのヘプタン溶液(2.0M)を0.5
ml(1.0mmol)投入し、350r.p.mでし
ばらく攪拌した。その後、MAOのトルエン溶液(2.
03M,0.13ml,0.26mmol)およびエチ
レンビス(インデニル)ハフニウムジクロリドのヘプタ
ンスラリー(5μmol/l、0.38ml,1.9μ
mol)をオートクレーブに素早く投入した。その後、
1,200r,p,mで攪拌を開始した。次に、プロピ
レンを全圧0.7MPa・ Gに3分間かけて昇圧し、
同時に温度を50℃まで昇温した。60分間重合を実施
した。反応終了後、メタノール20mlをオートクレー
ブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除去し
た。そして、反応混合物を4リットルのメタノールに投
入してポリプロピレンを沈殿させ、ろ過乾燥することに
よりポリプロピレンを得た。実施例1と同様に評価し、
得られた結果を表2に示した。プレス成形した試験片
は、透明性が劣っていた。 〔比較例4〕プロピレンと1−ブテンのスラリー重合 攪拌装置付き1リットルステレンレス製耐圧オートクレ
ーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した後、乾燥窒素
で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒素気流下、乾
燥脱酸素トルエン400ml、1 −ブテン(30m
l)、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液
(2.0M)を0.5ml(1.0mmol)投入し、
350r.p.mでしばらく攪拌した。その後、MAO
のトルエン溶液(2.03M,0.13ml,0.26
mmol)およびエチレンビス(インデニル)ハフニウ
ムジクロリドのヘプタンスラリー(5μmol/l、
0.57ml,2.9μmol)をオートクレーブに素
早く投入した。その後、1,200r.p.mで攪拌を
開始した。次に、0.7MPa・ Gに3分間かけて昇
圧し、同時に温度を50℃まで昇温した。60分間重合
を実施した。反応終了後、メタノール20mlをオート
クレーブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除
去した。そして、反応混合物を4リットルのメタノール
に投入してポリマ−を沈殿させ、ろ過乾燥することによ
りポリプロピレン/1−ブテン共重合体を得た。実施例
1と同様に評価し、得られた結果を表2に示した。プレ
ス成形した試験片は、べたついた。 〔比較例5〕攪拌装置付き1リットルステレンレス製耐
圧オートクレーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した
後、乾燥窒素で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒
素気流下、乾燥脱酸素トルエン400ml、トリイソブ
チルアルミニウムのヘプタン溶液(2.0M)を0.5
ml(1.0mmol)投入し、350r.p.mでし
ばらく攪拌した。一方、十分に窒素置換された50ml
シュレンクに窒素気流下でトルエン(10ml)および
トリイソブチルアルミニウムヘプタン溶液(2M,0.
5ml,1.0mmol)を投入し、MAOのトルエン
溶液(2.0M,1.0ml,2.0mmol)および
エチレンビスインデニルジルコニウムジクロリドのヘプ
タンスラリー(10μmol/l,0.2ml,2.0
μmol)を加え、室温で3分間攪拌した。そして、触
媒スラリーをオートクレーブに素早く投入した。その
後、1,200r.p.mで攪拌を開始した。次に、
0.7MPa・ Gにゆっくりと昇圧し、同時に温度を
80℃まで昇温した。60分間重合を実施した。反応終
了後、未反応のプロピレンを脱圧により除去した。そし
て、反応混合物を2リットルのメタノールに投入してポ
リプロピレンマ−を沈殿させ、ろ過乾燥することにより
ポリプロピレンを得た。実施例1と同様に評価し、得ら
れた結果を表2に示した。プレス成形した試験片は、機
械的強度が劣っていた。 〔実施例3〕 [ジメチルシリレン(2−インデニル)(1−(2−メ
チル−4,5−ベンゾインデニル))ハフニウムジクロ
リドの合成] 2−メチル−4,5−ベンゾ−1−インダノンの合成 窒素導入管付き300ml三つ口フラスコに塩化メチレ
ン(100ml)およびナフタレン(5g,0.039
mol)、2−ブロモイソブチリルブロミド(9g,
0.039mol)を投入した。窒素気流下で、塩化ア
ルミニウム(6g,0.047mol)をゆっくりと投
入した。1時間後、反応溶液を冷水(200ml)に投
入し、分液ロートを用いて、有機相を分離した。その有
機相を硫酸マグネシウムで乾燥しろ過、溶媒を留去する
ことにより目的化合物(6.4g)を得た(収率84
%)。
成 2−メチル−4,5−ベンゾ−1−インダノン(6.4
g)をメタノール(100ml)に溶解した。その溶液
中にナトリウムホウ素ヒドリド(1g,0.026mo
l)をゆっくりと投入した。30分後、水(100m
l)およびエーテル(100ml)を投入し、抽出を行
った。分液ロートを用いて有機相を分離した。その有機
相を硫酸マグネシウムで乾燥しろ過、溶媒を留去するこ
とにより2−メチル−4,5−ベンゾインダノール
(5.7g)を得た。得られた2−メチル−4,5−ベ
ンゾインダノール(5.7g)をトルエン(100m
l)に溶解し、ピリジニウムp−トルエンスルホン酸
(0.5g)を加え、ディーンシュターク装置を用い
て、30分還流し脱水反応を行った。反応終了後、溶媒
を減圧留去し、残留物をカラム精製(溶媒:ヘキサン)
することにより目的化合物(3g)を得た(収率48
%)。
合成 マグネシウム粉(1.3g)およびよう素(0.01
g)、脱水THF(20ml)をジムロート管および滴
下ロート付き200ml三つ口フラスコに投入した。2
−ブロモインデン(ref:J.Org.Chem.4
7,(4),705(1982)に従い合成)(5.4
g,27.2mmol)および脱水THF(40ml)
を滴下ロートに投入し、窒素雰囲気下で軽く還流する程
度にゆっくりと滴下した。滴下終了後、30分間室温で
攪拌した。その後、ジクロロジメチルシラン(3.1
g,28.5mmol)および脱水THF(20ml)
を滴下ロートに投入し、−78℃でその溶液を滴下し
た。滴下終了後、8時間室温で攪拌した。溶媒を減圧下
で留去し、脱水ヘキサン(100ml)で抽出した。溶
媒を減圧留去することにより目的化合物を5.3g得た
(収率91%)。 (2−インデニル)(1−(2−メチル−4,5−ベン
ゾインデニル))ジメチルシランの合成 窒素置換した200mlシュレンクに2−メチル−4,
5−ベンゾインデン(1.26g, 7mmol)およ
び脱水ヘキサン(50ml)を投入した。その溶液にn
−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.50M,4.7
ml,7mmol)を−78℃でで滴下した。滴下終了
後、室温で8時間攪拌したところ、2−メチル−4,5
−ベンゾインデニルリチウムが析出した。その懸濁液を
静置してから上澄みをデカンテーションにより除去し
た。そこへ脱水THF(25ml)を加え、−78℃に
冷却し、先に合成した2−インデニル−ジメチルクロロ
シラン(1.46g,7mmol)の脱水THF溶液
(25ml)を滴下した。滴下終了後、室温で4時間攪
拌した。反応終了後、水(50ml)を加え、エーテル
(200ml)で抽出した。抽出溶液を分液ロートで分
取し、得られた有機相を硫酸マグネシウムで乾燥しろ
過、溶媒を留去することにより目的化合物(2.2g)
を得た(収率89%)。
−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル))ハフニ
ウムジクロリドの合成 窒素置換した200mlシュレンクに、先に合成した
(2−インデニル)(1−(2−メチル−4,5−ベン
ゾインデニル))ジメチルシラン(1.0g,2.8m
mol)および脱水ヘキサン(40ml)を投入した。
その溶液にn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.5
0M,3.7ml,5.6mmol)を−78℃で滴下
した。滴下終了後、室温で8時間攪拌したところ、(2
−インデニル)(1−(2−メチル−4,5−ベンゾイ
ンデニル))ジメチルシランジリチウムが析出した。そ
の懸濁液を静置してから上澄みをデカンテーションによ
り除去した。そこへ脱水トルエン(25ml)を加え、
−78℃に冷却し、四塩化ハフニウム(0.9g,2.
8mmol)の脱水トルエン(25ml)懸濁液を滴下
した。滴下終了後、室温で6時間攪拌した。反応終了
後、カヌラーでろ過し、ろ液を濃縮し脱水ヘキサンを加
えた。生じた沈殿物をろ別、乾燥することにより、目的
化合物を0.2g得た(収率12%)1 HNMR(δppm/CDCl3):8.0−7.0
(m,8H),6.50(s,1H),6.08(d,
1H),5.93(d,1H),2.45(s,3
H),1.12(s,3H),0.99(s,3H) [プロピレンのスラリー重合]攪拌装置付き1リットルス
テレンレス製耐圧オートクレーブを80℃に加熱し、充
分減圧乾燥した後、乾燥窒素で大気圧に戻し室温まで冷
却した。乾燥窒素気流下、乾燥脱酸素ヘプタン400m
l、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液(2.
0M)を0.5ml(1.0mmol)投入し、350
r.p.mでしばらく攪拌した。その後、MAOのトル
エン溶液(2.03M,0.13ml、0.26mmo
l)および前記で得たジメチルシリレン(2−インデニ
ル)(1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル))ハフニウムジクロリドのヘプタンスラリー(10
μmol/リットル、0.1ml、1.0μmol)を
オートクレーブに素早く投入した。
始した。次に、水素を0.01Mpa張り込んだ後、プ
ロピレンを全圧0.7MPaに3分間かけて昇圧し、同
時に温度を40℃まで昇温した。60分間重合を実施し
た。反応終了後、メタノール20mlをオートクレーブ
に投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除去した。
そして、反応混合物を2リットルのメタノールに投入し
てポリプロピレンを沈殿させ、ろ過乾燥することにより
ポリプロピレンを得た。実施例1と樹脂特性及び物性の
評価同様に行ない、得られた結果を表3に示す。 〔実施例4〕 [プロピレンのバルク重合]攪拌装置付き1リットルステ
レンレス製耐圧オートクレーブを80℃に加熱し、充分
減圧乾燥した後、プロピレン500mlを張り込み、触
媒導入管を用いてトリイソブチルアルミニウムのヘプタ
ン溶液(2.0M)を0.5ml(1.0mmol)投
入し、200r.p.mでしばらく攪拌した。その後、
ヘプタン(5ml)およびMAOのトルエン溶液(2.
03M,0.13ml、0.26mmol)の混合物引
き続き前記で得たジメチルシリレン(2−インデニル)
(1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル))ハ
フニウムジクロリドのヘプタンスラリー(10μmol
/リットル、0.1ml、1.0μmol)およびヘプ
タン(5ml)の混合物をオートクレーブに素早く投入
した。その後、400r.p.mで攪拌を開始した。そ
して、温度を40℃まで昇温した。30分間重合を実施
した。反応終了後、メタノール20mlをオートクレー
ブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除去し
た。そして、残留物を乾燥することによりポリプロピレ
ンを得た。実施例1と同様に樹脂特性及び物性の評価を
行ない、得られた結果を表3に示す。 〔実施例5〕 [ジメチルシリレン(2−インデニル)(1−(2−メ
チル−4,5−ベンゾインデニル))ジルコニウムジク
ロリドの合成]窒素置換した200mリットルシュレン
クに、先に合成した(2−インデニル)(1−(2−メ
チル−4,5−ベンゾインデニル))ジメチルシラン
(1.0g,2.8mmol)および脱水ヘキサン(4
0ml)を投入した。その溶液にn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液(1.50M,3.7ml,5.6mmo
l)を−78℃で滴下した。滴下終了後、室温で8時間
攪拌したところ、(2−インデニル)(1−(2−メチ
ル−4,5−ベンゾインデニル))ジメチルシランジリ
チウムが析出した。その懸濁液を静置してから上澄みを
デカンテーションにより除去した。そこへ脱水トルエン
(25ml)を加え、−78℃に冷却し、四塩化ジルコ
ニウム(0.9g,2.8mmol)の脱水トルエン
(25ml)懸濁液を滴下した。滴下終了後、室温で6
時間攪拌した。反応終了後、カヌラーでろ過し、ろ液を
濃縮し脱水ヘキサンを加えた。生じた沈殿物をろ別、乾
燥することにより、目的化合物を0.2g得た(収率1
2%)1 HNMR(δppm/CDCl3):8.0−7.0
(m,8H),6.50(s,1H),6.12(d,
1H),6.02(d,1H),2.32(s,3
H),1.10(s,3H),0.95(s,3H) [プロピレンのスラリー重合]攪拌装置付き1リットル
ステレンレス製耐圧オートクレーブを80℃に加熱し、
充分減圧乾燥した後、乾燥窒素で大気圧に戻し室温まで
冷却した。乾燥窒素気流下、乾燥脱酸素ヘプタン400
ml、トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液
(2.0M)を0.5ml(1.0mmol)投入し、
350r.p.mでしばらく攪拌した。その後、メチル
アルミノキサン(MAO)のトルエン溶液(2.03
M,0.13ml、0.26mmol)および前記で合
成したジメチルシリレン(2−インデニル)(1−(2
−メチル−4,5−ベンゾインデニル))ジルコニウム
ジクロリドのヘプタンスラリー(10μmol/リット
ル、0.1ml、1.0μmol)をオートクレーブに
素早く投入した。
始した。次に、プロピレンを全圧0.7MPaに3分間
かけて昇圧し、同時に温度を50℃まで昇温した。60
分間重合を実施した。反応終了後、メタノール20ml
をオートクレーブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧
により除去した。そして、反応混合物を2リットルのメ
タノールに投入してポリプロピレンを沈殿させ、ろ過乾
燥することによりポリプロピレンを得た。実施例1と同
様に樹脂特性及び物性の評価を行ない、得られた結果を
表3に示す。
ず、透明性、軟質性(弾性率が低い)に優れている。ま
た、融解温度と弾性率のバランスに優れていることか
ら、低温でも成形性や加工性がよく(例えば、低温ヒー
トシール特性)、エンボスやヒートシール、延伸フィル
ム、ブロー成形などの二次加工性にも優れる成形体を得
ることができ、積層フィルム、ヒートシール剤、延伸フ
ィルム、軟質用樹脂改質剤、ブロー成形体に好適であ
る。
Claims (11)
- 【請求項1】 示差走査型熱量計により測定した融解熱
ΔH(J/g)と融点Tm(℃)が ΔH≧0.45×Tm+22 の関係を満たすプロピレン系重合体。 - 【請求項2】 下記(1)、(2)及び(3)で示され
る性状を有する請求項1記載のプロピレン系重合体。 (1)示差走査型熱量計により測定した融点Tm(℃)
が110≦Tm≦140であり、(2)昇温分別法によ
り測定した溶出曲線のピークトップの半値幅Th(℃)
がTh≦5の関係を満たし、(3)135℃、テトラリ
ン溶媒中で測定した極限粘度[η](dl/g)が0.
5〜5である。 - 【請求項3】 示差走査型熱量計により測定した融点T
m(℃)が120≦Tm≦140である請求項2に記載
のプロピレン系重合体。 - 【請求項4】 示差走査型熱量計により測定した融点T
m(℃)が120≦Tm≦135である請求項2に記載
のプロピレン系重合体。 - 【請求項5】 プロピレン系重合体がプロピレン単独重
合体であって、アイソタクチックペンタッド分率[mm
mm]が65〜85モル%である請求項1〜4のいずれ
かに記載のプロピレン系重合体。 - 【請求項6】 プロピレン系重合体がプロピレン単独重
合体であって、アイソタクチックペンタッド分率[mm
mm]が70〜80モル%である請求項1〜4のいずれ
かに記載のプロピレン系重合体。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載のプロピ
レン系重合体を成形してなる成形体。 - 【請求項8】 請求項1〜6のいずれかにプロピレン系
重合体を製造する方法であって、(A)下記一般式
(1)で表される周期律表第4族の遷移金属化合物、
(B)(B−1)アルミニウムオキシ化合物及び(B−
2)上記遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しう
るイオン性化合物の中から選ばれた少なくとも一種とを
含有してなるオレフィン重合触媒の存在下、プロピレン
又はプロピレンとエチレン及び/又は炭素数4〜20の
α−オレフィンを重合させるプロピレン系重合体の製造
方法。 【化1】 〔式中、R1 〜R11,X1 及びX2 は、それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含
有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基又はリン
含有基を示し、R3とR4 及びR8 とR9 はたがいに結
合して環を形成してもよい。Y1 は二つの配位子を結合
する二価の架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含
有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−O−、−C
O−、−S−、−SO2 −、−NR12−、−PR12−、
−P(O)R12−、−BR12−又は−AlR12−を示
し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の
炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基
を示す。M1 はチタン,ジルコニウム又はハフニウムを
示す。〕 - 【請求項9】 請求項1〜6のいずれかに記載のプロピ
レン系重合体を製造する方法であって、(A)下記一般
式(2)で表される周期律表第4族の遷移金属化合物、
(B)(B−1)アルミニウムオキシ化合物及び(B−
2)上記遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しう
るイオン性化合物の中から選ばれた少なくとも一種とを
含有してなるオレフィン重合触媒の存在下、プロピレン
又はプロピレンとエチレン及び/又は炭素数4〜20の
α−オレフィンを重合させるプロピレン系重合体の製造
方法。 【化2】 {式中、M1 はチタン、ジルコニウム又はハフニウムを
示し、E1 及びE2 はそれぞれシクロペンタジエニル
基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニル基,置換ヘ
テロシクロペンタジエニル基,アミド基,ホスフィド
基,炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれた配位子
であって、A1 及びA2 を介して架橋構造を形成してお
り、またそれらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、X3 はσ結合性の配位子を示し、X3が複数ある場
合、複数のX3 は同じでも異なっていてもよく、他のX
3 ,E1 ,E2 又はY2 と架橋していてもよい。Y2 は
ルイス塩基を示し、Y2 が複数ある場合、複数のY2 は
同じでも異なっていてもよく、他のY2 ,E1 ,E2 又
はX 3 と架橋していてもよく、A1 及びA2 は二つの配
位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20
の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−
O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−NR12−、−
PR12−、−P(O)R12−、−BR12−又は−AlR
12−を示し、R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよい。qは1〜5の整数で〔(M1 の原子価)−
2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。} - 【請求項10】 請求項8または9に記載のプロピレン
系重合体の製造方法であって、プロピレン又はプロピレ
ンとエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィ
ンを気相重合させるプロピレン系重合体の製造方法。 - 【請求項11】 請求項8または9に記載のプロピレン
系重合体の製造方法であって、プロピレン又はプロピレ
ンとエチレン及び/又は炭素数4〜20のα−オレフィ
ンを液体プロピレンの存在下で重合させるプロピレン系
重合体の製造方法。
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