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JP2001063235A - Radiant ray sensitive lithographic printing original sheet - Google Patents

Radiant ray sensitive lithographic printing original sheet

Info

Publication number
JP2001063235A
JP2001063235A JP23726399A JP23726399A JP2001063235A JP 2001063235 A JP2001063235 A JP 2001063235A JP 23726399 A JP23726399 A JP 23726399A JP 23726399 A JP23726399 A JP 23726399A JP 2001063235 A JP2001063235 A JP 2001063235A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
acid
lithographic printing
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23726399A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Kawamura
浩一 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP23726399A priority Critical patent/JP2001063235A/en
Priority to EP00116270A priority patent/EP1075941B1/en
Priority to AT00116270T priority patent/ATE260764T1/en
Priority to US09/635,207 priority patent/US6465146B1/en
Priority to DE60008651T priority patent/DE60008651T2/en
Publication of JP2001063235A publication Critical patent/JP2001063235A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiant ray sensitive lithographic printing original sheet which is sufficient in sensitivity (sensitivity of polar conversion) and free from generating a print stain while the radiant ray sensitive lithographic printing original sheet capable of enabling direct plate from a digital data of a computer or the like by an infrared laser is provided. SOLUTION: In a radiant ray sensitive lithographic printing original sheet having sensitive layer comprising a polymer compound and a photo-thermal convertion agent, the polymer compound is a crosslinked polymer compound having a functional group which is converted from a hydrophobic nature to a hydrophillic nature by acid radiant ray or heat, and the photo-thermal convertion agent is a metal oxide particle containing an organic photo-thermal conversion compound. It is especially the radiant ray sensitive lithographic printing original sheet containing the polymer compound wherein the functional group converts a porality by acid, radiation ray or heat being a sulfonate group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、輻射線感応性平版
印刷用原板、さらに詳しくはポジ型の極性変換型無処理
刷版用の印刷原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive lithographic printing plate, and more particularly to a printing plate for a positive polarity conversion type unprocessed printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷用原板は、印刷過程で
インキを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親
水性の非画像部とからなる。このような平版印刷版を作
製する原板としては、従来から、親水性支持体上に親油
性の感光性樹脂層を設けたPS板が広く用いられてい
る。PS板の製版方法は、通常は画像が記録されたリス
フイルムなどを通して露光を行った後、非画像部を現像
液によって溶解除去する方法であり、この方法により所
望の印刷版を得ている。
2. Description of the Related Art Generally, a lithographic printing original plate comprises an oleophilic image area for receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area for receiving fountain solution. As an original plate for producing such a lithographic printing plate, a PS plate provided with a lipophilic photosensitive resin layer on a hydrophilic support has been widely used. The plate making method of the PS plate is a method of exposing through a lith film or the like on which an image is recorded, and then dissolving and removing a non-image portion with a developing solution, and a desired printing plate is obtained by this method.

【0003】従来のPS板の製版工程の弱点は、非画像
部を溶解除去するために現像処理が必要なことであっ
て、この付加的な湿式の処理を不要化又は簡易化するこ
とが一つの課題である。特に近年は、地球環境への配慮
から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全
体の大きな関心事となっているので、この面での改善の
要請は一層強くなっている。
A disadvantage of the conventional plate making process of a PS plate is that a developing process is required to dissolve and remove a non-image portion. One of the disadvantages is that this additional wet process is not required or is simplified. There are two issues. In particular, in recent years, the disposal of waste liquid discharged from wet processing has become a major concern of the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for improvement in this aspect has been further increased.

【0004】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、光熱変換による熱エネルギーを利用して現像処理
することなく原板上に画像形成を行う製版方法が提案さ
れている。とくに、半導体レーザ、YAGレーザ等の固
体レーザで高出力のものが安価に入手できるようになっ
てきたことから、最近はこれらのレーザを画像記録手段
として用いる光熱変換型の製版方法が有望視されるよう
になっている。この方式の製版方法では、高出力レーザ
を用いた高パワー密度の露光によって、露光領域に瞬間
的な露光時間の間に大量の光エネルギーを集中照射し
て、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換し、そ
の熱により化学変化、相変化、形態や構造の変化などの
熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。つ
まり、画像情報は光エネルギーによって入力されるが、
画像記録は熱エネルギーによる反応によって記録され
る。通常、このような高パワー密度露光による発熱を利
用した記録方式はヒートモード記録と呼び、光エネルギ
ーを熱エネルギーに変えることを光熱変換と呼んでい
る。
[0004] As one of the simple plate making methods responding to this demand, there has been proposed a plate making method in which an image is formed on an original plate without performing development processing using heat energy by photothermal conversion. In particular, since high-power solid-state lasers such as semiconductor lasers and YAG lasers have become available at low cost, photothermal conversion type plate-making methods using these lasers as image recording means have recently been promising. It has become so. In this type of plate making method, high-power laser exposure using a high-power laser is used to irradiate a large amount of light energy onto the exposed area during an instantaneous exposure time, thereby efficiently converting the light energy to heat energy. After conversion, the heat causes a thermal change such as a chemical change, a phase change, a change in form or structure, and the change is used for image recording. In other words, image information is input by light energy,
Image recording is recorded by reaction with thermal energy. Usually, a recording method utilizing heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and converting light energy into heat energy is called photothermal conversion.

【0005】赤外線吸収剤を含有する赤外線レーザー感
応性ポジ型平版印刷原板に用いた例としては、特開平7
−186562号公報に開示されている酸分解性カルボ
ン酸エステルと赤外線吸収色素とを組み合わせて用いた
例、US5605780号に開示されているアブレーシ
ョン型ポリマーと赤外線吸収色素とを組み合わせて用い
た例が知られている。また赤外線レーザー感応性ネガ型
平版印刷原板として用いた例は、特開昭56−6919
3号、特開平7−20629号、特開平7−27102
9号に熱架橋性樹脂であるレゾール樹脂、酸発生剤、お
よび赤外線吸収剤とを組み合わせて用いた例が知られて
いる。しかしながら、これらの平版印刷原板は実用的な
観点から十分な感度ではなく、さらなる高感度化が望ま
れていた。また、これらの平版印刷原板に用いられる赤
外線吸収剤の多くは、光熱変換の後、自身が分解して疎
水性となる場合が多く、露光部において残膜として残っ
たり、印刷時の湿し水中でカス状の固相となったりし
て、汚れの原因となる場合があった。
[0005] An example of an infrared laser-sensitive positive planographic printing plate containing an infrared absorber is disclosed in
An example in which an acid-decomposable carboxylic acid ester disclosed in Japanese Patent No. 186562 and an infrared absorbing dye are used in combination, and an example in which an ablation-type polymer disclosed in US Pat. No. 5,605,780 and an infrared absorbing dye are used in combination are known. Have been. An example in which a negative type lithographic printing plate sensitive to infrared laser is used is disclosed in JP-A-56-6919.
No. 3, JP-A-7-20629, JP-A-7-27102
No. 9 discloses an example in which a resole resin, which is a thermally crosslinkable resin, an acid generator, and an infrared absorber are used in combination. However, these planographic printing original plates are not sufficiently sensitive from a practical point of view, and further higher sensitivity has been desired. In addition, many of the infrared absorbers used in these lithographic printing original plates often decompose themselves after photothermal conversion to become hydrophobic, and remain as a residual film in an exposed portion, or become fountain solution during printing. In some cases, a solid phase may be formed in the form of a residue, thereby causing contamination.

【0006】その欠陥の解決に向けて技術開発が進めら
れた従来のポジ型の極性変換型無処理刷版の代表例とし
て下記の2つを挙げることができる。一つは、EP65
2483に開示されたアルコキシアルキルエステル基な
どの熱により疎水性から親水性に変化する基を有するポ
リマーを用いたポジ型無処理刷版である。他の一つは、
シリカゲル含有ゾルゲル架橋スルホネート化合物を含有
するポジ型無処理刷版である。いずれも上記の欠陥の改
善がなされてはいるが、非画像部の汚れは印刷品質の重
要特性であるだけに一層の改善も求められている。
The following two typical examples of conventional positive polarity conversion type unprocessed printing plates whose technology has been developed to solve the defect can be given. One is EP65
No. 2483, a positive type non-process printing plate using a polymer having a group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat, such as an alkoxyalkyl ester group. The other one is
It is a positive type unprocessed printing plate containing a silica gel-containing sol-gel cross-linked sulfonate compound. In each case, the above-mentioned defects have been improved. However, since the contamination of the non-image area is an important characteristic of print quality, further improvement is required.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な
処理を必要としない輻射線感応性平版印刷版を提供する
ことである。特に、赤外線を放射する固体レーザまたは
半導体レーザ等を用いて記録することにより、ディジタ
ルデータから直接製版可能である輻射線感応性平版印刷
版を提供することである。詳しくは、本発明の目的は、
耐刷性が高く、画像部の汚れのない印刷物を得ることが
できるポジ型の輻射線感応性平版印刷版を提供すること
である。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a radiation-sensitive lithographic printing plate which does not require any special processing such as wet development or rubbing after image writing. In particular, it is an object of the present invention to provide a radiation-sensitive lithographic printing plate that can be directly made from digital data by recording using a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared light. Specifically, the object of the present invention is to
An object of the present invention is to provide a positive-working radiation-sensitive lithographic printing plate capable of obtaining a printed matter having high printing durability and having no stain on an image portion.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、印刷汚れの
原因として赤外線吸収剤などの光熱変換化合物の熱分解
の影響が大きいことを突き止めて、極性変換層の中に光
熱変換化合物を直接添加する代わりに、例えばシリカゲ
ル粒子のような保護材料の構造の中に光熱変換化合物を
内包して光熱変換化合物内包金属酸化物粒子の形にして
添加すると印刷汚れが防止できることを発見した。すな
わち、内包することにより、光熱変換化合物がレーザー
光の照射の際に分解して疎水化する作用が低減され、光
照射領域の親水性が高くなり、非画像部の汚れ性が改善
されることが判った。この発見を具体化できる印刷用原
板についてさらに検討を重ねた結果、上記の光熱変換化
合物内包金属酸化物粒子を特定の高分子化合物と組み合
わせると、発明の目的とする効耐刷性や印刷汚れ抑止の
効果が一層高められることを見いだした。
Means for Solving the Problems The present inventor has found that the thermal decomposition of a photothermal conversion compound such as an infrared absorbing agent is a major cause of printing stains, and directly put the photothermal conversion compound into the polarity conversion layer. Instead of adding, for example, it has been found that when a photothermal conversion compound is encapsulated in the structure of a protective material such as silica gel particles and added in the form of metal oxide particles encapsulating the photothermal conversion compound, printing stains can be prevented. That is, the inclusion of the compound reduces the action of the photothermal conversion compound being decomposed and rendered hydrophobic upon irradiation with laser light, increases the hydrophilicity of the light irradiation area, and improves the stainability of the non-image area. I understood. As a result of further studies on a printing plate capable of embodying this finding, the combination of the above-mentioned metal oxide particles encapsulating light-to-heat conversion compound with a specific polymer compound shows the effect of printing durability and printing stain suppression as the object of the invention. Was found to be even more effective.

【0009】すなわち、第1の本発明は、「支持体上に
少なくとも結着剤と光熱変換剤とからなる感応層を形成
した輻射線感応性平版印刷用原板であって、該結着剤
が、酸、輻射線もしくは熱により疎水性から親水性に変
化する官能基を有し、かつ架橋された高分子化合物であ
り、該光熱変換剤が有機光熱変換化合物を内包する金属
酸化物粒子であることを特徴とする輻射線感応性平版印
刷用原板」である。
That is, a first aspect of the present invention is a radiation-sensitive lithographic printing original plate comprising a support and a sensitive layer comprising at least a binder and a light-to-heat conversion agent, wherein the binder is Having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat, and a crosslinked polymer compound, wherein the photothermal conversion agent is a metal oxide particle containing an organic photothermal conversion compound. A radiation-sensitive lithographic printing plate precursor characterized in that:

【0010】本発明の上記の輻射線感応性平版印刷用原
板の感応層に含まれる光熱変換剤は、有機光熱変換化合
物を内包していることが特徴であるが、本発明の目的に
とくに適う有機光熱変換化合物は、赤外線吸収色素(以
下、単に「赤外線吸収剤」、「本発明における赤外線吸
収剤」あるいは「IR色素」とも言う場合がある)であ
る。有機光熱変換化合物は、内包されて保護されるの
で、レーザー光により分解して疎水化することがないの
で露光領域の親水化が強化され、同時に分解物による非
画像部の印刷汚れも防止できるに至った。また、この光
熱変換剤と組み合わせられてこの感応層を構成する結着
剤は、酸、輻射線もしくは熱により疎水性から親水性に
変化する官能基を有し、かつ架橋された高分子化合物で
あり、そのような高分子化合物としては光架橋、光重合
及び光分解重合によって架橋された高分子化合物を含ん
でいるが、その中でも、2級スルホン酸エステル基ある
いはアルコキシカルボン酸エステル基を官能基として有
する高分子化合物がとくに本発明の上記の効果が顕著に
高める。
The photothermal conversion agent contained in the sensitive layer of the radiation-sensitive lithographic printing plate of the present invention is characterized by containing an organic light-to-heat conversion compound, and is particularly suitable for the purpose of the present invention. The organic light-to-heat conversion compound is an infrared absorbing dye (hereinafter, sometimes simply referred to as “infrared absorbing agent”, “infrared absorbing agent in the present invention” or “IR dye”). Since the organic light-to-heat conversion compound is encapsulated and protected, it is not decomposed by a laser beam and does not become hydrophobic, so that the hydrophilicity of the exposed area is enhanced, and at the same time, the printing stain of the non-image area due to the decomposition product can be prevented. Reached. The binder constituting the sensitive layer in combination with the photothermal conversion agent has a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat, and is a cross-linked polymer compound. Such polymer compounds include polymer compounds cross-linked by photocrosslinking, photopolymerization, and photodecomposition polymerization. Among them, secondary sulfonic acid ester groups or alkoxycarboxylic acid ester groups are functional groups. In particular, the above-mentioned effects of the present invention are significantly enhanced.

【0011】本発明に結着剤として用いる、酸、輻射線
もしくは熱により疎水性から親水性に変化する官能基を
有し、かつ架橋された高分子化合物の架橋方式は、光架
橋、光重合及び光又は熱加水分解重合方式のものが用い
られる。そのなかでも、酸、輻射線もしくは熱により疎
水性から親水性に変化する官能基、および、下記一般式
(1)で表される加水分解重合性化合物と反応する官能
基、を同一分子内に有する化合物と、下記一般式(1)
で表される加水分解重合性化合物と、を反応させて得ら
れる化合物は好ましい結着剤である。
The crosslinking method of the polymer compound having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat and which is used as a binder in the present invention is photocrosslinking, photopolymerization. And a light or thermal hydrolysis polymerization type is used. Among them, a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat, and a functional group that reacts with a hydrolyzable polymerizable compound represented by the following general formula (1) are included in the same molecule. Having the following general formula (1)
A compound obtained by reacting the compound with a hydrolysis-polymerizable compound represented by the formula (1) is a preferred binder.

【0012】・一般式(1) (R1 n −X−(OR2 4-n 式中、R1 およびR2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、XはSi、
Al、TiまたはZrを表し、nは0〜2の整数を表
す。
Formula (1) (R 1 ) n -X- (OR 2 ) 4-n In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different, and represent an alkyl group or an aryl group. X is Si,
Represents Al, Ti or Zr, and n represents an integer of 0 to 2.

【0013】この結着剤を用いた輻射線感応性平版印刷
版は、加水分解重合性化合物が加水分解重合して無機酸
化物のマトリックス(加水分解重合反応物)が塗布膜中
に形成され、全体として感応層の膜強度が向上する。そ
のため、かかる輻射線感応性平版印刷版は極めて耐刷性
の高いものとなる。
In a radiation-sensitive lithographic printing plate using the binder, a hydrolysis-polymerizable compound is hydrolyzed and polymerized to form an inorganic oxide matrix (hydrolysis-polymerized product) in a coating film, As a whole, the film strength of the sensitive layer is improved. Therefore, such a radiation-sensitive lithographic printing plate has extremely high printing durability.

【0014】上記の加水分解重合性結着剤のなかでも、
スルホン酸エステル基および/またはアルコキシアル
キルエステル基と、−OH、−NH2 、−COOH、−
NH−CO−R3 、−Si(OR4 3 [式中R3 およ
びR4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官
能基を有する化合物中にR3 およびR4 の双方が存在す
る場合には、これらは同じであっても異なっていてもよ
い]から選ばれる少なくとも1つの官能基と、を同一分
子内に有する化合物と、下記一般式(1)で表される
加水分解重合性化合物と、を反応させて得られる化合物
は、とくに本発明の目的に適う輻射線感応性平版印刷版
を提供する。
Among the above-mentioned hydrolysis-polymerizable binders,
A sulfonic acid ester group and / or an alkoxyalkyl ester group and —OH, —NH 2 , —COOH,
NH—CO—R 3 , —Si (OR 4 ) 3 [wherein R 3 and R 4 represent an alkyl group or an aryl group, and when both R 3 and R 4 are present in a compound having these functional groups] May be the same or different], and a compound having, in the same molecule, at least one functional group selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (1): The compound obtained by reacting with the above provides a radiation-sensitive lithographic printing plate particularly suitable for the purpose of the present invention.

【0015】・一般式(1) (R1 n −X−(OR2 4-n 式中、R1 およびR2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、XはSi、
Al、TiまたはZrを表し、nは0〜2の整数を表
す。
Formula (1) (R 1 ) n -X- (OR 2 ) 4-n In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different, and represent an alkyl group or an aryl group. X is Si,
Represents Al, Ti or Zr, and n represents an integer of 0 to 2.

【0016】この結着剤は、「スルホン酸エステルおよ
び/またはアルコキシアルキルエステル基」(以下、
「官能基X」という場合がある。)とともに、「−O
H、−NH2 、−COOH、−NH−CO−R3 、−S
i(OR4 3 [式中R3 およびR4 はアルキル基また
はアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中に
3 およびR4 の双方が存在する場合には、これらは同
じであっても異なっていてもよい。]から選ばれる少な
くとも1つの官能基」(以下、「官能基Y」という場合
がある。)、を同一分子内に有する化合物(以下、「化
合物A」という場合がある。)と、「上記一般式(1)
で表される加水分解重合性化合物」と、の反応生成物と
なっている。例えば、結着剤を適当な支持体上に塗布す
る際には、加水分解重合性化合物が加水分解重合して無
機酸化物のマトリックスが塗布膜中に形成されると共
に、化合物Aの官能基Yと反応し、有機無機複合体(反
応生成物)を形成し、架橋構造が密となり、感応層全体
として膜強度が向上する。そのため、かかる輻射線感応
性平版印刷版は極めて耐刷性の高いものとなる。
[0016] The binder includes "sulfonic acid ester and
And / or alkoxyalkyl ester group ”(hereinafter, referred to as“
It may be referred to as “functional group X”. ) And "-O
H, -NHTwo, -COOH, -NH-CO-RThree, -S
i (ORFour)Three[Where RThreeAnd RFourIs an alkyl group or
Represents an aryl group, and among compounds having these functional groups,
R ThreeAnd RFourIf both exist, they are the same.
It may be the same or different. ]
At least one functional group "(hereinafter referred to as" functional group Y ")
There is. ) In the same molecule (hereinafter referred to as “
Compound A ". ) And "the above general formula (1)
A hydrolysis-polymerizable compound represented by the formula:
Has become. For example, a binder is applied on a suitable support.
The hydrolysis-polymerizable compound is hydrolyzed and polymerized
When the oxide matrix is formed in the coating film,
Then, it reacts with the functional group Y of the compound A to form an organic-inorganic composite (anti-
Reaction product), the cross-linking structure becomes dense, and the entire sensitive layer
As a result, the film strength is improved. Therefore, such radiation sensitivity
The lithographic printing plate has extremely high printing durability.

【0017】そのほか、本発明の感応層には、必要に応
じて、同様の酸、輻射線もしくは熱による極性変換作用
をもつ低分子化合物を含有してもよく、また酸発生剤な
どを含有させることも好ましい。酸発生剤に関しては、
熱によって親水性に変化する疎水性官能基を有する赤外
線吸収剤自身が、酸発生剤の効果も示すため、酸発生剤
は必ずしも必要ではないが、感度の更なる向上ために
は、酸発生剤の添加が有効なこともある。以下、これら
の構成成分について説明する。
In addition, the sensitive layer of the present invention may contain, if necessary, a low-molecular compound having the same polarity conversion action by an acid, radiation or heat, and may contain an acid generator and the like. It is also preferred. Regarding the acid generator,
The infrared absorber itself having a hydrophobic functional group that changes to hydrophilic by heat itself also exhibits the effect of the acid generator, so the acid generator is not necessarily required, but in order to further improve the sensitivity, the acid generator is used. May be effective. Hereinafter, these components will be described.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】〔輻射線感応層の構成〕本発明
は、ネガ、ポジいずれの感熱性平版印刷原板にも適用す
ることができるが、特に有用な適用形態はレーザー露光
により疎水性から親水性に極性が変化するポジ型印刷原
板である。本発明における輻射線感応層は、(1)前記
の光熱変換化合物を内包した金属酸化物粒子という形態
をとる光熱変換剤と、(2)結着剤として、酸、輻射線
もしくは熱により疎水性から親水性に変化する官能基を
有し、かつ架橋された高分子化合物とを組み合わせて構
成されている。組み合わされる高分子化合物の中でも、
WO92/9934(3M) 記載のポジ型感光材料に用いられている
疎水性から親水性へ変化するアルコキシアルキルエステ
ル基を官能基として含む高分子化合物や特開平10-28267
2 記載のポジ型感光材料に用いられている同じく疎水性
から親水性への変化するスルホン酸エステル基を官能基
として含む高分子化合物をとくに好ましく使用すること
が出来る。以下、本発明の平版印刷版の輻射線感応層を
構成する各成分について述べる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Structure of Radiation-Sensitive Layer] The present invention can be applied to both negative and positive heat-sensitive lithographic printing original plates. This is a positive printing original plate whose polarity changes to hydrophilic. The radiation-sensitive layer in the present invention comprises (1) a light-to-heat conversion agent in the form of metal oxide particles containing the above-mentioned light-to-heat conversion compound, and (2) a binder which is hydrophobic by acid, radiation or heat. It has a functional group which changes to hydrophilic and is combined with a crosslinked polymer compound. Among the polymer compounds to be combined,
WO92 / 9934 (3M) Polymer compounds containing, as a functional group, an alkoxyalkyl ester group which changes from hydrophobic to hydrophilic, which is used in a positive photosensitive material described in JP-A-10-28267
The polymer compound containing a sulfonic acid ester group, which similarly changes from hydrophobic to hydrophilic, which is used in the positive photosensitive material described in 2, can be particularly preferably used. Hereinafter, each component constituting the radiation-sensitive layer of the lithographic printing plate of the invention will be described.

【0019】1.光熱変換剤 本発明の光熱変換剤は、前記したように有機光熱変換化
合物を内包する金属酸化物粒子である。はじめに、有機
光熱変換化合物を金属酸化物粒子内に閉じ込める内包方
法について説明する。
1. Light-to-heat conversion agent The light-to-heat conversion agent of the present invention is metal oxide particles containing an organic light-to-heat conversion compound as described above. First, a method for encapsulating an organic light-to-heat conversion compound in metal oxide particles will be described.

【0020】〔有機光熱変換化合物の内包方法〕有機光
熱変換化合物が赤外線吸収色素(IR色素)の場合に発
明の効果が顕著となるので、以下の記述はIR色素の内
包について述べるが、他の有機光熱変換化合物の内包も
以下に準じて行うことができる。IR色素含有金属酸化
物粒子は既存の方法を用いて作製することができる。金
属酸化物粒子は、合成的な観点から加水分解性アルコキ
シ金属化合物から金属酸化物粒子を作る方法が好まし
い。すなわちIR色素含有金属酸化物粒子の原料として
はIR色素と加水分解重合性アルコキシ金属化合物を使
用し、両者を水を含んだ溶液に溶解もしくは混合する。
次にその水溶液もしくは水分散液に酸もしくはアルカリ
触媒を添加し、加水分解重合性アルコキシ金属化合物の
加水分解と重合(縮合)反応を起こさせる。この重合反
応の過程で生成する金属酸化物のゲル構造の中にIR色
素が取り込まれ、目的とする光熱変換化合物が埋め込ま
れた金属酸化物粒子を得ることが出来る。光熱変換化合
物が埋め込まれた金属酸化物粒子を生成させる具体的な
方式としては、C.J.Serna, Journal of Non-Cryst. Sol
ids, vol 147 & 148, page 621 (1992) 記載のスプレー
方式、柴田修一著、工業材料、vol 46, no 8, page 37
(1988)、およびS.Shibata, Journal of Sol-GelScience
and Technology, vol 2, page 755 (1994) 記載の溶液
重合方式を有用に使用することが出来る。またD.Avnir,
Journal of Physical Chemistry, vol 88, page 5956
(1984)、及び S.K.Lam, Chemical Physics Letters vol
281, page35 (1997)に記載されているように、一旦有
機光熱変換化合物が埋め込まれた金属酸化物粒子を作成
した後、機械的な粉砕により微細な粒子を作成する方法
を採用することができる。
[Encapsulation Method of Organic Light-to-Heat Conversion Compound] The effect of the present invention is remarkable when the organic light-to-heat conversion compound is an infrared absorbing dye (IR dye). The encapsulation of the organic photothermal conversion compound can also be performed according to the following. The IR dye-containing metal oxide particles can be produced by using an existing method. As the metal oxide particles, a method for producing metal oxide particles from a hydrolyzable alkoxy metal compound is preferable from a synthetic viewpoint. That is, an IR dye and a hydrolyzable polymerizable alkoxy metal compound are used as raw materials for the IR dye-containing metal oxide particles, and both are dissolved or mixed in a solution containing water.
Next, an acid or alkali catalyst is added to the aqueous solution or aqueous dispersion to cause hydrolysis and polymerization (condensation) of the hydrolyzable polymerizable alkoxymetal compound. The IR dye is incorporated into the gel structure of the metal oxide generated in the course of this polymerization reaction, and metal oxide particles having the desired photothermal conversion compound embedded therein can be obtained. As a specific method for producing metal oxide particles in which a light-to-heat conversion compound is embedded, CJ Serna, Journal of Non-Cryst. Sol
ids, vol 147 & 148, page 621 (1992) Spray method, written by Shuichi Shibata, industrial materials, vol 46, no 8, page 37
(1988), and S. Shibata, Journal of Sol-GelScience
and Technology, vol 2, page 755 (1994). D.Avnir,
Journal of Physical Chemistry, vol 88, page 5956
(1984), and SKLam, Chemical Physics Letters vol
As described in 281, page 35 (1997), it is possible to adopt a method in which once metal oxide particles with an organic light-to-heat conversion compound are embedded, fine particles are created by mechanical pulverization. .

【0021】〔有機光熱変換化合物の内包用の金属酸化
物〕本発明に使用される光熱変換化合物内包用金属酸化
物について述べる。金属酸化物の金属としては、アルカ
リ土類金属、遷移金属、希土類金属、周期律表の3〜5
族の金属を挙げることが出来る。本発明の金属酸化物は
これらの金属の加水分解重合性有機金属化合物の重合反
応により得ることが好ましい。
[Metal oxide for inclusion of organic light-to-heat conversion compound] The metal oxide for inclusion of a light-to-heat conversion compound used in the present invention will be described. Examples of the metal of the metal oxide include alkaline earth metals, transition metals, rare earth metals, and 3 to 5 of the periodic table.
Group metals. The metal oxide of the present invention is preferably obtained by a polymerization reaction of a hydrolysis-polymerizable organometallic compound of these metals.

【0022】加水分解重合性有機金属化合物中の金属元
素としては、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類金
属、周期律表の3〜5族の金属元素を挙げることができ
る。これらの内好ましい金属は、周期律表の3b族、4
a 族および4b 族の金属元素、例えばアルミニウム、チ
タン、ジルコン、シリカなどである。特に好ましくはア
ルミニウム、シリカであり、さらに好ましくはシリカで
ある。これらの金属元素は、金属酸化物中に単独で含ま
れていても2種以上が併存してもよい。加水分解重合性
有機金属化合物中の加水分解重合性基としては、例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペンチルオキ
シ基、ヘキシルオキシ基など、炭素数1から10のアル
コキシ基を挙げることができる。これらの中でも、炭素
数1から4のアルコキシ基が好ましく、特にメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基が好ましい。該有機金属
化合物は、これら加水分解重合性基の1種のみを含んで
いても2種以上を含んでいてもよいが、有機金属化合物
中に少なくとも2つ以上含む必要がある。
Examples of the metal element in the hydrolysis-polymerizable organometallic compound include alkaline earth metals, transition metals, rare earth metals, and metal elements belonging to Groups 3 to 5 of the periodic table. Of these, preferred metals are group 3b of the periodic table,
Group A and Group 4b metal elements such as aluminum, titanium, zircon, silica and the like. Particularly preferred are aluminum and silica, and more preferred is silica. These metal elements may be contained alone or in combination of two or more in the metal oxide. Examples of the hydrolyzable polymerizable group in the hydrolyzable organic metal compound include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. To 10 alkoxy groups. Among these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group are particularly preferable. The organometallic compound may contain only one kind or two or more kinds of these hydrolyzable polymerizable groups, but it is necessary to contain at least two or more kinds in the organometallic compound.

【0023】上記の加水分解重合性有機金属化合物中、
アルミニウムを含むものとしては、例えば、トリメトキ
シアルミネート、トリエトキシアルミネート、トリプロ
ポキシアルミネートなどを挙げることができる。チタン
を含む化合物としては、例えば、トリメトキシチタネー
ト、テトラメトキシチタネート、トリエトキシチタネー
ト、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタ
ネート、クロロトリメトキシチタネート、クロロトリエ
トキシチタネート、エチルトリメトキシチタネート、メ
チルトリエトキシチタネート、エチルトリエトキシチタ
ネート、ジエチルジエトキシチタネート、フェニルトリ
メトキシチタネート、フェニルトリエトキシチタネート
などを挙げることができる。ジルコンを含む化合物とし
ては、例えば、前記チタンを含む化合物に対応するジル
コネートを挙げることができる。
In the above-mentioned hydrolysis-polymerizable organometallic compound,
Examples of those containing aluminum include trimethoxyaluminate, triethoxyaluminate, and tripropoxyaluminate. Examples of the compound containing titanium include, for example, trimethoxytitanate, tetramethoxytitanate, triethoxytitanate, tetraethoxytitanate, tetrapropoxytitanate, chlorotrimethoxytitanate, chlorotriethoxytitanate, ethyltrimethoxytitanate, methyltriethoxytitanate, ethyl Examples thereof include triethoxy titanate, diethyl diethoxy titanate, phenyl trimethoxy titanate, and phenyl triethoxy titanate. As the compound containing zircon, for example, zirconate corresponding to the compound containing titanium can be mentioned.

【0024】上記の加水分解重合性有機金属化合物中、
ケイ素を含むものとしては、下式で表される化合物を挙
げることができる。 (R1 n Si(OR2 4-n 式中、R1 は、置換基を有してもよい炭素数1〜4のア
ルキル基またはアリール基、R1 は、炭素数1〜4のア
ルキル基を表し、R1 およびR2 は同一でも異なってい
てもよい。nは、0〜2の整数を表す。上記のケイ素を
含む有機金属化合物の具体例としては、トリメトキシシ
ラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプ
ロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルト
リメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プ
ロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプ
ロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジエトキシシラン、などを挙げることができる。こ
れらの内好ましいものとしては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシランなどを挙げることができる。
In the above-mentioned hydrolysis-polymerizable organometallic compound,
Examples of the compound containing silicon include a compound represented by the following formula. In (R 1) n Si (OR 2) 4-n Formula, R 1 represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent, R 1 is 1 to 4 carbon atoms Represents an alkyl group, and R 1 and R 2 may be the same or different. n represents the integer of 0-2. Specific examples of the organometallic compound containing silicon include trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane. Methoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane , Γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxy Orchid, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like. Of these, preferred are tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane , Diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and the like.

【0025】上記の加水分解重合性有機金属化合物は、
1種のみを使用しても2種以上を併用してもよい。また
部分的に加水分解後、脱水縮合していてもよい。
The above-mentioned hydrolysis-polymerizable organometallic compound is
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination. After partial hydrolysis, dehydration condensation may be performed.

【0026】〔金属酸化物に内包される有機光熱変換化
合物〕次に、金属酸化物に内包されて光熱変換剤を構成
する光熱変換物質について説明する。本発明において使
用される光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤
外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質な
らば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、黒鉛粉
末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、
硫化クロム、金属粉体等が挙げられる。特に好ましいの
は、有機光熱変換化合物であり、その中でも波長760
nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料及
び顔料、すなわちIR色素である。
[Organic Light-to-Heat Conversion Compound Included in Metal Oxide] Next, the light-to-heat conversion substance included in the metal oxide and constituting the light-to-heat conversion agent will be described. As the photothermal conversion material used in the present invention, any substance that can convert light into heat by absorbing light such as ultraviolet light, visible light, infrared light, and white light can be used.For example, carbon black, graphite powder, iron oxide Powder, lead oxide, silver oxide, chromium oxide, iron sulfide,
Chromium sulfide, metal powder, and the like. Particularly preferred are organic light-to-heat conversion compounds, among which wavelength 760.
Dyes and pigments that effectively absorb infrared rays from nm to 1200 nm, that is, IR dyes.

【0027】本発明に使用される染料としては、市販の
染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会
編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利
用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、
ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシア
ニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチ
ン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体などの染料
が挙げられる。好ましい染料としては例えば特開昭58
−125246号、特開昭59−84356号、特開昭
59−202829号、特開昭60−78787号等に
記載されているシアニン染料、特開昭58−17369
6号、特開昭58−181690号、特開昭58−19
4595号等に記載されているメチン染料、特開昭58
−112793号、特開昭58−224793号、特開
昭59−48187号、特開昭59−73996号、特
開昭60−52940号、特開昭60−63744号等
に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−11
2792号等に記載されているスクワリリウム色素、英
国特許第434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
As the dye used in the present invention, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes,
Dyes such as a pyrazolone azo dye, an anthraquinone dye, a phthalocyanine dye, a carbonium dye, a quinone imine dye, a methine dye, a cyanine dye, and a metal thiolate complex are exemplified. Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829 and JP-A-60-78787.
6, JP-A-58-181690, JP-A-58-19
Methine dyes described in JP-A No.
Naphthoquinone described in JP-A-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like. Dye, JP-A-58-11
For example, squarylium dyes described in No. 2792 and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875 can be exemplified.

【0028】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第4,756,993
号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used. Another preferred example of the dye is U.S. Pat. No. 4,756,993.
Near-infrared absorbing dyes described in the specification as formulas (I) and (II) can be mentioned. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0029】本発明に使用される顔料としては、市販の
顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最
新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、
「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載
されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒
色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔
料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉
顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的
には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔
料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アント
ラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオ
インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系
顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、
染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ
顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラッ
ク等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものは
カーボンブラックである。
Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977),
"Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986),
Pigments described in "Printing Ink Technology" published by CMC, 1984) can be used. Examples of the type of the pigment include a black pigment, a yellow pigment, an orange pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments , Quinophthalone pigments,
Dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Preferred among these pigments is carbon black.

【0030】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0031】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感応性組成物の塗布液中での安
定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると塗
布後の感応層の均一性の点で好ましくない。顔料を分散
する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いら
れる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超
音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、
スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザ
ー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロー
ルミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新
顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載が
ある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, it is not preferable in terms of stability of the dispersion in the coating solution of the sensitive composition, and if it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the sensitive layer after coating. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills,
Examples include a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0032】これらの染料及び顔料は、光熱変換化合物
内包金属酸化物の組成物全固形分に対し0.01〜50
重量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特
に好ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ま
しくは1.0〜10重量%の割合で添加することができ
る。顔料又は染料の添加量が0.01重量%未満である
と光熱変換効果が乏しくなり、また50重量%を越える
と金属酸化物に内包されなくなる。
These dyes and pigments are used in an amount of 0.01 to 50% based on the total solid content of the metal oxide composition containing the photothermal conversion compound.
%, Preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight for dyes, and particularly preferably 1.0 to 10% by weight for pigments. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the light-to-heat conversion effect will be poor, and if it exceeds 50% by weight, it will not be included in the metal oxide.

【0033】金属酸化物に内包される有機光熱変換化合
物の中でも、とくに好ましい染料は、水に溶ける染料も
しくはアセトン、THF、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、メチルエチルケトン、アセトニトリル
などの水に対する溶解性が高い溶媒に溶ける染料であ
る。具体例としては、以下に示す染料を挙げることがで
きるが、本発明に用いられる染料は、これらに限定され
ない。
Among the organic light-to-heat conversion compounds included in the metal oxide, particularly preferred dyes are water-soluble dyes or solvents having high solubility in water such as acetone, THF, methanol, ethanol, isopropanol, methyl ethyl ketone and acetonitrile. It is a soluble dye. Specific examples include the following dyes, but the dye used in the present invention is not limited to these.

【0034】[0034]

【化1】 Embedded image

【0035】[0035]

【化2】 Embedded image

【0036】[0036]

【化3】 Embedded image

【0037】[0037]

【化4】 Embedded image

【0038】[0038]

【化5】 Embedded image

【0039】[0039]

【化6】 Embedded image

【0040】本発明に用いられる光熱変換物質内包金属
化合物粒子のサイズは、0.001〜20μmであり、
好ましくは0.01〜5μm、より好ましくは0.05
〜2μmの範囲である。粒径が小さすぎると効果が発現
せず、また、大きすぎると解像度が悪くなる。
The size of the metal compound particles enclosing the photothermal conversion material used in the present invention is 0.001 to 20 μm,
Preferably 0.01-5 μm, more preferably 0.05
22 μm. If the particle size is too small, no effect will be exhibited, and if it is too large, the resolution will be poor.

【0041】〔金属酸化物粒子に添加できるその他の成
分〕色素と金属酸化物との相溶性を高めるために両者の
相溶性を高めることのできる公知の相溶化剤ポリマーを
使用することが出来る。公知の相溶化剤ポリマーとして
は中條善樹著 化学と工業 46、p1567 、1993記載のご
とくポリオキサゾリン重合体、ポリビニルピロリドン、
ポリアクリルアミド誘導体ポリマーを挙げることができ
る。また特開平8-262700記載の極性基含有有機ポリマー
を使用することができる。添加できる相溶化剤ポリマー
の量は金属酸化物に対して0.5〜70wt%、好ましく
は1〜50wt%の範囲、さらに好ましくは5〜30wt%
の範囲、0.5wt%以下では効果が発現しない。また7
0wt%以上では金属酸化物を形成しない。
[Other components that can be added to the metal oxide particles] In order to increase the compatibility between the dye and the metal oxide, a known compatibilizer polymer which can increase the compatibility between the dye and the metal oxide can be used. Known compatibilizer polymers include: Yoshiki Nakajo Chemical and Industry 46, p1567, polyoxazoline polymer, polyvinylpyrrolidone, as described in 1993,
Polyacrylamide derivative polymers can be mentioned. Further, a polar group-containing organic polymer described in JP-A-8-262700 can be used. The amount of the compatibilizer polymer that can be added is in the range of 0.5 to 70% by weight, preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, based on the metal oxide.
In the range of 0.5 wt% or less, no effect is exhibited. 7
Above 0 wt%, no metal oxide is formed.

【0042】2.結着剤 本発明において、結着剤は酸、輻射線もしくは熱により
疎水性から親水性に変化する官能基を有し、かつ架橋さ
れた化合物である。ここで親水性から疎水性へ変化する
とは、平版印刷版の印刷面としての機能を発揮し得る程
度のある程度明確な親水性の変化を言い、化合物の空中
水滴接触角を15°以上低下させるものであることが好
ましい。即ち、この化合物としては、空中における水滴
の接触角が、酸、輻射線もしくは熱の作用により15°
以上低下して、当初は疎水性であったものが親水性にな
るようなものであることが好ましい。さらに、この化合
物としては、空中水滴接触角が、40°以上低下するも
のであることがより好ましい。また、この化合物として
は、具体的には空中水滴接触角が、当初60°以上であ
ったものが、酸、輻射線もしくは熱の作用により20°
以下まで低下するものであることが好ましい。
2. Binder In the present invention, the binder is a crosslinked compound having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat. Here, the change from hydrophilic to hydrophobic refers to a change in hydrophilicity to a certain degree that is capable of exhibiting a function as a printing surface of a lithographic printing plate, and reduces the air contact angle of a compound by 15 ° or more. It is preferred that That is, as this compound, the contact angle of a water drop in the air is 15 ° by the action of an acid, radiation or heat.
It is preferable that the above decrease is such that what was initially hydrophobic becomes hydrophilic. Further, as this compound, it is more preferable that the compound has a contact angle of a water drop in the air of 40 ° or more. In addition, as the compound, specifically, the compound having a contact angle of water droplets in the air of 60 ° or more at the beginning is changed to 20 ° by the action of acid, radiation or heat.
It is preferable that the temperature be reduced to the following.

【0043】本発明において、上記性質を有する化合物
であれば、いずれも結着剤として好ましく使用すること
ができるが、かかる化合物は、架橋方式としては光架
橋、光重合及び光分解重合(縮合)のいずれによって架
橋された化合物も好ましく用いられる。光架橋反応によ
って架橋された化合物は、光二量化又は光ラジカル重合
によって架橋されている。すなわち、高分子化合物に架
橋反応性基を組み込み、それ自身、もしくはモノマーと
の反応によって架橋させる。光二量化反応はそれ自身の
官能基の光吸収、もしくは光増感剤を使用して光照射す
ることにより架橋反応を起こさせることが出来る。また
光ラジカル重合架橋はよく知られた光重合開始剤を使用
して光照射することにより架橋反応を起こさせることが
出来る。
In the present invention, any compound having the above properties can be preferably used as a binder. Such a compound can be used as a crosslinking system by photocrosslinking, photopolymerization and photodecomposition polymerization (condensation). Compounds crosslinked by any of the above are preferably used. The compound crosslinked by the photocrosslinking reaction is crosslinked by photodimerization or photoradical polymerization. That is, a crosslinking reactive group is incorporated into the polymer compound, and the polymer compound is crosslinked by itself or by reaction with a monomer. In the photodimerization reaction, a crosslinking reaction can be caused by light absorption of its own functional group or irradiation with light using a photosensitizer. In addition, photoradical polymerization crosslinking can cause a crosslinking reaction by light irradiation using a well-known photopolymerization initiator.

【0044】光架橋反応により架橋されるポリマーは光
架橋性官能基、別名、光硬化性官能基を有するモノマー
と熱により親水性が変化する基を有するモノマーとを共
重合することで得ることが出来る。「光硬化性官能基」
とは、光により樹脂の硬化反応を行なう官能基をいう。
光硬化性官能基として具体的には,乾英夫、永松元太
郎、「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、
G.E.Green and B.P.Strak, J. Macro. Sci. Reas. Macr
o. Chem., C21(2)、187〜273(1981〜82)、C.G.Rattey
「Photopolymerization of Surface Coatings」(A.Wile
y Inter Science Pub. 1982年刊)等の総説に引例され
た光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用いら
れる官能基が用いられる。
The polymer crosslinked by the photocrosslinking reaction can be obtained by copolymerizing a monomer having a photocrosslinkable functional group, also called a photocurable functional group, and a monomer having a group whose hydrophilicity changes by heat. I can do it. "Photocurable functional group"
The term “functional group” refers to a functional group that causes a curing reaction of a resin by light.
Specific examples of photocurable functional groups include Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, "Photosensitive Polymers" (Kodansha, 1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resins" (Printing Society Press, 1981),
GEGreen and BPStrak, J. Macro. Sci. Reas. Macr
o. Chem., C21 (2), 187-273 (1981-82), CGRattey
`` Photopolymerization of Surface Coatings '' (A.Wile
y Inter Science Pub. 1982) and the like, as the photocurable resin, functional groups used in conventionally known photosensitive resins and the like are used.

【0045】例えば、重合性二重結合基、光架橋性二重
結合基等を挙げることができる。重合性二重結合基とし
て、具体的にはCH2=CH−、CH2=CHCH2−、
CH2=CHCOO−、CH2=C(CH3)COO−、C
(CH3)H=CHCOO−、CH2=CHCONH−、
CH2=C(CH3)CONH−、C(CH3)H=CHC
ONH−、CH2=CHOCO−、CH2=C(CH3)O
CO−、CH2=CHCH2OCO−、CH2=CHNH
CO−、CH2=CHCH2NHCO−、CH 2=CHS
2−、CH2=CHCO−、CH2=CHO−、CH2
CHS−、で示される基等、を挙げることができる。光
架橋性二重結合基として、具体的には−CH=CH−、
−C(CH3)=C(CH3)−を挙げることができる。と
くに1,2−ジメチル−マレイミド基、ビニルフェニル
基が好ましい官能基の例である。
For example, polymerizable double bond group, photocrosslinkable double bond
Examples include a bonding group. As a polymerizable double bond group
And specifically CHTwo= CH-, CHTwo= CHCHTwo−,
CHTwo= CHCOO-, CHTwo= C (CHThree) COO-, C
(CHThree) H = CHCOO-, CHTwo= CHCONH-,
CHTwo= C (CHThree) CONH-, C (CHThree) H = CHC
ONH-, CHTwo= CHOCO-, CHTwo= C (CHThree) O
CO-, CHTwo= CHCHTwoOCO-, CHTwo= CHNH
CO-, CHTwo= CHCHTwoNHCO-, CH Two= CHS
OTwo-, CHTwo= CHCO-, CHTwo= CHO-, CHTwo=
CHS-, and the like. light
As the crosslinkable double bond group, specifically, -CH = CH-,
-C (CHThree) = C (CHThree)-. When
1,2-dimethyl-maleimide group, vinylphenyl
Groups are examples of preferred functional groups.

【0046】光重合反応によって架橋された化合物は、
具体的には特開平10−282672号公報の4〜19
ページに記載された、酸、輻射線もしくは熱により疎水
性から親水性に変化するを官能基として有するモノマー
を光ラジカル重合によって重合して得た高分子化合物で
ある。
The compound crosslinked by the photopolymerization reaction is
Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-282672 discloses 4-19.
It is a polymer compound obtained by polymerizing a monomer having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by an acid, radiation or heat as described on the page by photoradical polymerization.

【0047】光重合によって重合し、かつ架橋された高
分子化合物の具体例として、好ましくは、「スルホン酸
エステル基および/またはアルコキシアルキルエステル
基」、即ち官能基Xを有する化合物が挙げられる。
As a specific example of the polymer compound polymerized and crosslinked by photopolymerization, preferably, a “sulfonic acid ester group and / or an alkoxyalkyl ester group”, that is, a compound having a functional group X is used.

【0048】まず、官能基Xの具体例について詳細に説
明する。スルホン酸エステル基は下記一般式(2)で表
すことができる。
First, specific examples of the functional group X will be described in detail. The sulfonic acid ester group can be represented by the following general formula (2).

【0049】[0049]

【化7】 Embedded image

【0050】式中、L2 は一般式(2)で示される官能
基をポリマー骨格に連結するのに必要な多価の非金属原
子から成る有機基を表し、R11は置換若しくは無置換の
アリール基、置換若しくは無置換アルキル基又は環状イ
ミド基を示す。
In the formula, L 2 represents an organic group comprising a polyvalent nonmetallic atom necessary for connecting the functional group represented by the general formula (2) to the polymer skeleton, and R 11 represents a substituted or unsubstituted group. It represents an aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group or a cyclic imide group.

【0051】R11がアリール基若しくは置換アリール基
を表すとき、アリール基には炭素環式アリール基と複素
環式(ヘテロ)アリール基が含まれる。炭素環式アリー
ル基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニ
ル基、ピレニル基等の炭素数6から19のものが用いら
れる。また、複素環式アリール基としては、ピリジル
基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリル
基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾール
基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数1〜5を含むもの
が用いられる。R11がアルキル基若しくは置換アルキル
基を表すとき、当該アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル
基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数1から25
までのものが用いられる。
When R 11 represents an aryl group or a substituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic (hetero) aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl groups in which a benzene ring is fused, a benzofuryl group, a thioxanthone group, and a carbazole group. Things are used. When R 11 represents an alkyl group or a substituted alkyl group, a methyl group as the alkyl group, an ethyl group, an isopropyl group, t- butyl group, and cyclohexyl group linear, from 1 carbon atoms branched or cyclic 25
Are used.

【0052】R11が置換アリール基、置換ヘテロアリー
ル基、置換アルキル基であるとき、置換基としてはメト
キシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10までのアルコキ
シ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基のよう
なハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニ
ル基、p−クロロフェニルオキシカルボニル基等の炭素
数2から15までのアルコキシカルボニル基若しくはア
リールオキシカルボニル基;水酸基;アセチルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基、p−ジフェニルアミノベンゾ
イルオキシ基等のアシルオキシ基;t−ブチルオキシカ
ルボニルオキシ基等のカルボネート基;t−ブチルオキ
シカルボニルメチルオキシ基、2−ピラニルオキシ基等
のエーテル基;アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニ
ルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等の置
換、非置換のアミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ基
等のチオエーテル基;ビニル基、スチリル基等のアルケ
ニル基;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基等のアシル基;フェニル基、ナフチル
基のようなアリール基;ピリジル基のようなヘテロアリ
ール基等を挙げることができる。またR11が置換アリー
ル基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換基として
前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル基を用い
ることができる。
When R 11 is a substituted aryl group, a substituted heteroaryl group or a substituted alkyl group, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine. A carbon atom 2 such as a halogen atom such as an atom, a halogen-substituted alkyl group such as a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butyloxycarbonyl group, a p-chlorophenyloxycarbonyl group; A hydroxyl group; an acyloxy group such as an acetyloxy group, a benzoyloxy group, a p-diphenylaminobenzoyloxy group; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; t-butyl Oxycarbonylmethyl Ether groups such as xy group and 2-pyranyloxy group; substituted and unsubstituted amino groups such as amino group, dimethylamino group, diphenylamino group, morpholino group and acetylamino group; thioether groups such as methylthio group and phenylthio group; vinyl An alkenyl group such as a group or styryl group; a nitro group; a cyano group; an acyl group such as a formyl group, an acetyl group or a benzoyl group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; and a heteroaryl group such as a pyridyl group. be able to. When R 11 is a substituted aryl group or a substituted heteroaryl group, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group can be used as the substituent other than the above.

【0053】R11が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子4〜20までのものを用いることが
できる。
When R 11 represents a cyclic imide group, those having 4 to 20 carbon atoms such as succinimide, phthalic imide, cyclohexanedicarboxylic imide and norbornenedicarboxylic imide can be used as the cyclic imide. .

【0054】上記のうちR11として特に好ましいもの
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、2級若しくは3級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドで
ある。
Of the above, R 11 is particularly preferably an aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro, an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano or nitro. They are a secondary or tertiary branched alkyl group, a cyclic alkyl group and a cyclic imide.

【0055】L2 で表される非金属原子からなる多価の
連結基とは、1から60個までの炭素原子、0個から1
0個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、
1個から100個までの水素原子、及び0個から20個
までの硫黄原子から成り立つものである。より具体的な
連結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成さ
れるものを挙げることができる。
The polyvalent linking group consisting of a nonmetallic atom represented by L 2 is a group consisting of 1 to 60 carbon atoms, 0 to 1
0 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms,
It is composed of 1 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific linking groups include those constituted by combining the following structural units.

【0056】[0056]

【化8】 Embedded image

【0057】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1から20ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6
から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数2から7までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon atom having 6 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
To 16 aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups,
C1-C6 acyloxy groups such as sulfonamide groups, N-sulfonylamido groups, and acetoxy groups; C1-C6 alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; halogens such as chlorine and bromine. An atom, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, a carbonate group such as t-butyl carbonate, or the like can be used.

【0058】アルコキシアルキルエステル基は、下記一
般式(3)で表すことができる。
The alkoxyalkyl ester group can be represented by the following general formula (3).

【0059】[0059]

【化9】 Embedded image

【0060】式中R21は水素原子を表し、R22は水素原
子または炭素数18個以下のアルキル基を表し、R23
炭素数18個以下のアルキル基を表す。また、R21、R
22およびR23の内の2つが結合して間を形成してもよ
い。特に、R22およびR23が結合して5または6員環を
形成することが好ましい。
In the formula, R 21 represents a hydrogen atom, R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 18 or less carbon atoms, and R 23 represents an alkyl group having 18 or less carbon atoms. Also, R 21 , R
It may be formed between two members to out of 22 and R 23. In particular, it is preferred that R 22 and R 23 combine to form a 5- or 6-membered ring.

【0061】本発明においては、官能基Xとして以上の
一般式(2)または(3)で表されるものが挙げられる
が、特に好ましくは一般式(2)で表されるスルホン酸
エステル基である。
In the present invention, as the functional group X, those represented by the above general formula (2) or (3) can be mentioned. Particularly preferred is a sulfonic acid ester group represented by the general formula (2). is there.

【0062】本発明における結着剤の合成に好適に使用
される、一般式(2)または(3)で表される官能基を
有するモノマーの具体例を以下に示す。
Specific examples of the monomer having a functional group represented by the general formula (2) or (3), which is preferably used for the synthesis of the binder in the present invention, are shown below.

【0063】[0063]

【化10】 Embedded image

【0064】[0064]

【化11】 Embedded image

【0065】結着剤としては、好ましくは、前記一般式
(2)または(3)で表される官能基を有するモノマー
の内、少なくともいずれか一つをラジカル重合すること
により得られる高分子化合物を使用する。かかる高分子
化合物として、一般式(2)または(3)で表される官
能基を有するモノマーの内一種のみを用いた単独重合体
を使用してもよいが、2種以上を用いた共重合体やこれ
らのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用しても
よい。
As the binder, a polymer compound obtained by subjecting at least one of the monomers having a functional group represented by the above general formula (2) or (3) to radical polymerization is preferable. Use As such a polymer compound, a homopolymer using only one kind of a monomer having a functional group represented by the general formula (2) or (3) may be used, but a copolymer using two or more kinds may be used. Copolymers of these monomers and other monomers may be used.

【0066】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、N−メチロールメタクリルアミド、2−イソ
シアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有する
モノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる他の
モノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マ
レイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。
As the other monomer, a monomer having a crosslinking reactivity such as glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, 2-isocyanate ethyl acrylate and the like is preferable. Further, as other monomers used in the copolymer, for example, acrylates, methacrylates, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid,
Known monomers such as methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, and maleic imide are also included.

【0067】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples thereof include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate.

【0068】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate,
Methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl Carbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0069】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0070】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0071】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

【0072】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0073】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アク
リル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。
Of these other monomers, particularly preferred are those having 20 or less carbon atoms, such as acrylates, methacrylates, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, and acrylic acid. , Methacrylic acid, and acrylonitrile.

【0074】共重合体の合成に使用される一般式(2)
または(3)で表される官能基を有するモノマーの割合
は、モノマー全体に対して5〜99重量%であることが
好ましく、さらに好ましくは10〜95重量%である。
The general formula (2) used for the synthesis of the copolymer
Alternatively, the proportion of the monomer having a functional group represented by (3) is preferably from 5 to 99% by weight, more preferably from 10 to 95% by weight, based on the entire monomer.

【0075】次に、本発明に用いる光分解重合によって
架橋された結着剤について述べる。この結着剤の特に好
ましい例は、前記化合物Aである。化合物Aとは、既述
の官能基Xとともに、「−OH、−NH2 、−COO
H、−NH−CO−R3 、−Si(OR4 3 [式中R
3 およびR4 はアルキル基またはアリール基を表し、こ
れら官能基を有する化合物中にR3 およびR4 の双方が
存在する場合には、これらは同じであっても異なってい
てもよい。]から選ばれる少なくとも1つの官能基」、
即ち官能基Yをも、同一分子内に有する化合物である。
Next, the binder crosslinked by photolytic polymerization used in the present invention will be described. A particularly preferred example of the binder is the compound A. Compound A refers to “—OH, —NH 2 , —COO” together with the aforementioned functional group X.
H, -NH-CO-R 3 , -Si (OR 4) 3 [ wherein R
3 and R 4 represent an alkyl group or an aryl group. When both R 3 and R 4 are present in the compound having these functional groups, they may be the same or different. At least one functional group selected from the group consisting of
That is, the compound has the functional group Y in the same molecule.

【0076】次に、官能基Yの具体例について詳細に説
明する。官能基Yが−NH−CO−R3 および/または
−Si(OR4 3 であるとき、R3 およびR4 として
は、好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基または炭
素数6〜20のアリール基であり、これらはクロル等の
ハロゲン、メトキシ基等のアルコキシ基、メトキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基等により置換され
ていてもよい。−NH−CO−R3 の具体例としては、
−NH−CO−CH3 、−NH−CO−C2 5 等を挙
げることができる。また、−Si(OR43 の具体例
としては、−Si(OCH3 3 、−Si(OC
2 5 3 等を挙げることができる。
Next, specific examples of the functional group Y will be described in detail. When the functional group Y is —NH—CO—R 3 and / or —Si (OR 4 ) 3 , R 3 and R 4 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or 6 to 20 carbon atoms. Which may be substituted with a halogen such as chloro, an alkoxy group such as a methoxy group, or an alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group. Specific examples of -NH-CO-R 3,
-NH-CO-CH 3, can be mentioned -NH-CO-C 2 H 5 and the like. Further, -Si Examples of (OR 4) 3 is, -Si (OCH 3) 3, -Si (OC
2 H 5 ) 3 and the like.

【0077】本発明に用いられる化合物Aとしては、官
能基X、好ましくは一般式(2)または(3)で表され
る官能基を有するモノマーの内、少なくともいずれか一
つと、官能基Yを有するモノマーとをラジカル重合する
ことにより得られる高分子化合物を使用する。このよう
な化合物Aとして、一般式(2)または(3)で表され
る官能基を有するモノマーの内一種のみと、前述の官能
基Yを有するモノマーの内一種のみと、を用いた共重合
体を使用してもよいが、両モノマーとも、あるいはどち
らか一方のモノマーについて、2種以上を用いた共重合
体やこれらのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使
用してもよい。他のモノマーとしては、前記官能基Xを
有するモノマーと共重合し得るモノマーとして説明した
ものと同様である。
The compound A used in the present invention comprises a functional group X, preferably a monomer having a functional group represented by formula (2) or (3), and a functional group Y. A polymer compound obtained by radical polymerization of a monomer having the polymer is used. As such a compound A, a copolymer using only one of the monomers having the functional group represented by the general formula (2) or (3) and only one of the monomers having the functional group Y described above. A combination may be used, but a copolymer using two or more of both monomers, or one of the monomers, or a copolymer of these monomers and another monomer may be used. Other monomers are the same as those described as monomers copolymerizable with the monomer having the functional group X.

【0078】共重合体の合成に使用される官能基Xを有
するモノマーと、官能基Yを有するモノマーと、の混合
割合としては、重量比で10:90〜99:1とするこ
とが好ましく、30:70〜97:3とすることがより
好ましい。また、他のモノマーとの共重合体とする場合
には、共重合体の合成に使用される官能基Xを有するモ
ノマーおよび官能基Yを有するモノマーの合計に対する
他のモノマーの割合は、5〜99重量%であることが好
ましく、さらに好ましくは10〜95重量%である。
The mixing ratio of the monomer having the functional group X and the monomer having the functional group Y used in the synthesis of the copolymer is preferably from 10:90 to 99: 1 by weight, The ratio is more preferably 30:70 to 97: 3. When a copolymer with another monomer is used, the ratio of the other monomer to the total of the monomer having the functional group X and the monomer having the functional group Y used in the synthesis of the copolymer is 5 to 5. It is preferably 99% by weight, more preferably 10 to 95% by weight.

【0079】以下に、化合物Aを含めて本発明に結着剤
として用いられる高分子化合物の具体例を示す。なお、
化学式中カッコの右下の数値は共重合割合を示す。
Hereinafter, specific examples of the polymer compound used as a binder in the present invention including the compound A will be shown. In addition,
The numerical value at the lower right of the parenthesis in the chemical formula indicates the copolymerization ratio.

【0080】[0080]

【化12】 Embedded image

【0081】[0081]

【化13】 Embedded image

【0082】[0082]

【化14】 Embedded image

【0083】[0083]

【化15】 Embedded image

【0084】[0084]

【化16】 Embedded image

【0085】[0085]

【化17】 Embedded image

【0086】[0086]

【化18】 Embedded image

【0087】[加水分解重合性化合物]次に、本発明に
使用される加水分解重合性化合物について説明する。本
発明において用いられる加水分解重合性化合物は、下記
一般式(1)で表される化合物である。
[Hydrolytic Polymerizable Compound] Next, the hydrolytic polymerizable compound used in the present invention will be described. The hydrolyzable polymerizable compound used in the present invention is a compound represented by the following general formula (1).

【0088】・一般式(1) (R1 n −X−(OR2 4-n 式中、R1 およびR2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、XはSi、
Al、TiまたはZrを表し、nは0〜2の整数を表
す。R1 またはR2 がアルキル基を表す場合に、炭素数
としては好ましくは1〜4である。また、アルキル基ま
たはアリール基は置換基を有していてもよい。なお、こ
の化合物は低分子化合物であり分子量1000以下であ
ることが好ましい。
Formula (1) (R 1 ) n -X- (OR 2 ) 4-n In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different, and represent an alkyl group or an aryl group. X is Si,
Represents Al, Ti or Zr, and n represents an integer of 0 to 2. When R 1 or R 2 represents an alkyl group, it preferably has 1 to 4 carbon atoms. Further, the alkyl group or the aryl group may have a substituent. This compound is a low molecular compound and preferably has a molecular weight of 1,000 or less.

【0089】加水分解重合性化合物中にアルミニウムを
含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネー
ト、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミ
ネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることが
できる。チタンを含むものとしては、例えば、トリメト
キシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエト
キシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、
クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチ
タネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリ
エトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、
フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキ
シチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを
含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対
応するジルコネートを挙げることができる。
Examples of the compound containing aluminum in the hydrolyzable polymerizable compound include trimethoxyaluminate, triethoxyaluminate, tripropoxyaluminate and tetraethoxyaluminate. Examples of those containing titanium include, for example, trimethoxy titanate, tetramethoxy titanate, triethoxy titanate, tetraethoxy titanate, tetrapropoxy titanate, chlorotrimethoxy titanate,
Chlorotriethoxytitanate, ethyltrimethoxytitanate, methyltriethoxytitanate, ethyltriethoxytitanate, diethyldiethoxytitanate,
Examples include phenyltrimethoxytitanate and phenyltriethoxytitanate. As a material containing zirconium, for example, a zirconate corresponding to the material containing titanium can be given.

【0090】加水分解重合性化合物中にケイ素を含むも
のとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン等を挙げることができる。これらの内
特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン等を挙げることができる。
Examples of compounds containing silicon in the hydrolyzable polymerizable compound include trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and the like.
Methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-mercapto Propyltrimethoxysilane, γ-
Mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like can be given. Of these, particularly preferred are tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane,
Examples thereof include phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like.

【0091】加水分解重合性化合物は、1種のみを使用
しても、2種以上を併用してもよい。また部分的に加水
分解後、脱水縮合していてもよい。なお、生成物の物性
を調整するために、必要に応じてトリアルキルモノアル
コキシシランを添加することができる。加水分解重合性
化合物は、本発明の画像形成材料中で無機相を構成する
化合物であるが、平版印刷用原版の基板に塗布する前の
画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高める
ために、該加水分解重合性化合物が部分加水分解重合し
た無機重合体の活性金属水酸基、例えば、シラノール基
(Si−OH)を保護することが有効である。シラノー
ル基の保護は、t−ブタノール、i−プロピルアルコー
ル等の高級アルコールでシラノール基をエステル化(S
i−OR)することにより達成することができる。具体
的には無機相に前記高級アルコールを添加することによ
り実施することができる。このとき無機相の性質によ
り、例えば、無機相を加熱して脱離した水を留去する等
の手段により無機相を脱水することにより保存安定性を
さらに向上させることができる。該加水分解重合の触媒
となり得る酸または塩基、例えば塩酸、アンモニア等が
無機相中に存在する場合には、これらの濃度を下げると
も一般的に有効である。これらは無機相を酸または塩基
により中和することにより容易に実施することができ
る。
The hydrolyzable polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more. After partial hydrolysis, dehydration condensation may be performed. In order to adjust the physical properties of the product, a trialkylmonoalkoxysilane can be added as needed. The hydrolyzable polymerizable compound is a compound constituting an inorganic phase in the image forming material of the present invention, but in order to enhance the storage stability in a solution state of the image forming material before being applied to a lithographic printing plate precursor. Further, it is effective to protect the active metal hydroxyl group, for example, a silanol group (Si-OH) of the inorganic polymer obtained by partially hydrolyzing and polymerizing the hydrolyzable polymerizable compound. The silanol group is protected by esterifying the silanol group with a higher alcohol such as t-butanol or i-propyl alcohol (S
i-OR). Specifically, it can be carried out by adding the higher alcohol to the inorganic phase. At this time, depending on the properties of the inorganic phase, the storage stability can be further improved by dehydrating the inorganic phase by, for example, heating the inorganic phase and distilling off the water desorbed. When acids or bases that can serve as a catalyst for the hydrolysis polymerization, such as hydrochloric acid and ammonia, are present in the inorganic phase, it is generally effective to lower their concentration. These can be easily carried out by neutralizing the inorganic phase with an acid or a base.

【0092】上記加水分解重合性化合物は感応層の全固
形分に対し、3〜95重量%の範囲で使用することが好
ましく、より好ましくは10〜80重量%の範囲であ
る。
The hydrolyzable polymerizable compound is preferably used in an amount of 3 to 95% by weight, more preferably 10 to 80% by weight, based on the total solid content of the sensitive layer.

【0093】3.その他の輻射線感応層の構成成分 (1)水不溶性固体粒子 次に本発明の輻射線感応性印刷原板の構成層の必要成分
ではないが、感応層の物理的強度、親水性の程度の調節
その他の目的で含有して使用してもよい水不溶性固体粒
子について説明する。水不溶性固体粒子は、無機粒子、
有機粒子および金属粒子からなる群より選択される少な
くとも1種の固体粒子である。
3. Other Components of Radiation-Sensitive Layer (1) Water-Insoluble Solid Particles Next, although not a necessary component of the components of the radiation-sensitive printing original plate of the present invention, adjustment of the physical strength and hydrophilicity of the sensitive layer. The water-insoluble solid particles that may be used for other purposes will be described. Water-insoluble solid particles include inorganic particles,
It is at least one kind of solid particles selected from the group consisting of organic particles and metal particles.

【0094】水不溶性固体粒子としては、前記結着剤へ
の親和性、および付着性が良く、その保水性を向上させ
る粒状物が好ましい。分散性を改良するために表面処理
された粒子でもよい。これら無機粒子、有機粒子および
金属粒子は、適宜組み合わせて用いてもよい。
As the water-insoluble solid particles, granules having good affinity and adhesion to the binder and improving the water retention are preferable. Particles surface-treated to improve dispersibility may be used. These inorganic particles, organic particles and metal particles may be used in an appropriate combination.

【0095】前記無機粒子としては、例えば酸化鉄、酸
化亜鉛、二酸化チタン、ジルコニアなどの金属酸化物;
無水ケイ酸、含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アル
ミニウムなどそれ自体は可視域に吸収を持たないホワイ
トカーボンとも呼ばれている珪素含有酸化物;クレー、
タルク、カオリン、ふっ石などの粘土鉱物粒子等が使用
できる。また、前記金属粒子としては、例えば鉄、アル
ミニウム、銅、ニッケル、銀等が使用できる。
Examples of the inorganic particles include metal oxides such as iron oxide, zinc oxide, titanium dioxide and zirconia;
Silicon-containing oxides, such as anhydrous silicic acid, hydrous calcium silicate, and hydrous aluminum silicate, which are themselves also called white carbons having no absorption in the visible region; clays,
Clay mineral particles such as talc, kaolin, and fluorite can be used. Further, as the metal particles, for example, iron, aluminum, copper, nickel, silver and the like can be used.

【0096】前記無機粒子又は金属粒子の平均粒径は、
10μm以下程度、0.01〜10μmが好ましく、
0.1〜5μmがさらに好ましい。無機粒子又は金属粒
子の平均粒径が、0.01μmを下回るとレーザー照射
部分の保水性が不十分となり、地汚れが生じ易くなる。
10μmを上回ると印刷物の解像度が悪くなったり、支
持体との接着性が悪くなったり、表面付近の粒子が取れ
易くなったりする。
The average particle diameter of the inorganic particles or metal particles is as follows:
About 10 μm or less, preferably 0.01 to 10 μm,
0.1-5 μm is more preferable. When the average particle diameter of the inorganic particles or the metal particles is less than 0.01 μm, the water-retention of the laser-irradiated portion becomes insufficient, and the soil becomes liable to occur.
If it exceeds 10 μm, the resolution of the printed matter will be poor, the adhesion to the support will be poor, and particles near the surface will be easily removed.

【0097】前記無機粒子又は金属粒子を感応層に添加
する場合は、その含有量は感応層の全固形分に対し、2
〜90体積%程度であり、5〜80体積%が好ましく、
10〜50体積%がさらに好ましい。含有量が2体積%
を下回ると輻射線感応性平版印刷版表面のレーザー照射
部分において保水性が不十分となり、地汚れが生じ易く
なる。90体積%を上回ると塗膜の強度が低下して耐刷
性が低下し、また、塗膜層と、支持体との接着性が低下
する。
When the inorganic particles or metal particles are added to the sensitive layer, the content thereof is 2 parts based on the total solid content of the sensitive layer.
About 90% by volume, preferably 5 to 80% by volume,
10 to 50% by volume is more preferred. Content is 2% by volume
If it is less than, the water-retained portion of the radiation-sensitive lithographic printing plate surface at the laser-irradiated portion becomes insufficient, and soiling is likely to occur. If the content exceeds 90% by volume, the strength of the coating film is reduced and the printing durability is reduced, and the adhesion between the coating film layer and the support is reduced.

【0098】前記有機粒子としては、保水性を高めるも
のであれば特に限定されないが、粒状物の有機粒子とし
て樹脂粒子が使用できる。使用の際に次の注意を払うこ
とが必要である。樹脂粒子を分散させる際に溶剤を用い
るときは、その溶剤に溶解しない樹脂粒子を選択する
か、逆に樹脂粒子を溶解しない溶剤を選択する必要があ
る。また、樹脂粒子を熱可塑性ポリマーを用いて塗膜の
塗布液中に分散させる場合には、樹脂粒子が、分散させ
るときの熱により溶融したり、変形したり、分解しない
ような物を選択する必要がある。これらの注意点を軽減
する物としては、架橋された樹脂粒子が好ましく使用す
ることができる。
The organic particles are not particularly limited as long as they enhance water retention, but resin particles can be used as the organic particles. The following precautions need to be taken during use: When a solvent is used for dispersing the resin particles, it is necessary to select resin particles that do not dissolve in the solvent or conversely, select solvents that do not dissolve the resin particles. Further, when the resin particles are dispersed in the coating solution of the coating film using a thermoplastic polymer, the resin particles are melted by heat at the time of dispersing, or deformed, or a material that does not decompose is selected. There is a need. Crosslinked resin particles can be preferably used to reduce these cautions.

【0099】前記有機粒子の平均粒径は、0.01〜1
0μm程度であり、0.05〜10μmが好ましく、
0.1〜5μmがさらに好ましい。有機粒子の平均粒径
が0.01μmを下回るとレーザー照射部分の保水性が
不十分となり、地汚れが生じ易くなる。一方、10μm
を上回ると印刷物の解像度がわるくなったり、感応層と
支持体との接着性が低下し易くなり、また表面付近の粒
子が取れ易くなったりする。
The average particle size of the organic particles is 0.01 to 1
About 0 μm, preferably 0.05 to 10 μm,
0.1-5 μm is more preferable. When the average particle size of the organic particles is less than 0.01 μm, the water retention of the laser-irradiated portion becomes insufficient, and the background fouling easily occurs. On the other hand, 10 μm
When the ratio exceeds the above range, the resolution of the printed matter becomes poor, the adhesiveness between the sensitive layer and the support is easily reduced, and particles near the surface are easily removed.

【0100】前記有機粒子を感応層に添加する場合は、
その含有量は、感応層の全固形分に対し、3〜70体積
%程度であり、5〜60体積%が好ましく、10〜50
体積%がさらに好ましい。粒子の含有量が3体積%を下
回ると保水性が十分に得られなくなり、地汚れが生じ易
くなる。70体積%を上回ると感応層の強度が低下して
耐刷性が低下し、また、感応層と支持体との接着性が低
下し易くなる。
When the organic particles are added to the sensitive layer,
The content thereof is about 3 to 70% by volume, preferably 5 to 60% by volume, and more preferably 10 to 50% by volume based on the total solid content of the sensitive layer.
% By volume is more preferred. If the content of the particles is less than 3% by volume, sufficient water retention cannot be obtained, and background fouling is likely to occur. If it exceeds 70% by volume, the strength of the sensitive layer is reduced and the printing durability is reduced, and the adhesiveness between the sensitive layer and the support is apt to be reduced.

【0101】前記有機粒子としては、ポリスチレン粒子
(粒径4〜10μm)、シリコーン樹脂粒子(粒径2〜
4μm)等が挙げられる。架橋された樹脂粒子として
は、例えば、2種以上のエチレン性不飽和モノマーから
なるマイクロゲル(粒径0.01〜1μm)、スチレン
とジビニルベンゼンとからなる架橋樹脂粒子(粒径4〜
10μm)、メチルメタクリレートとジエチレングリコ
ールジメタクリレートからなる架橋樹脂粒子(粒径4〜
10μm)等、つまり、アクリル樹脂のマイクロゲル、
架橋ポリスチレン及び架橋メチルメタクリレート等が挙
げられる。これら有機粒子は、乳化重合法、ソープフリ
ー乳化重合法、シード乳化重合法、分散重合法、懸濁重
合法などの一般的な方法で調製される。
As the organic particles, polystyrene particles (particle diameter 4 to 10 μm), silicone resin particles (particle diameter 2 to 2)
4 μm). Examples of the crosslinked resin particles include a microgel (particle diameter: 0.01 to 1 μm) composed of two or more ethylenically unsaturated monomers and a crosslinked resin particle composed of styrene and divinylbenzene (particle diameter: 4 to 4 μm).
10 μm), crosslinked resin particles composed of methyl methacrylate and diethylene glycol dimethacrylate (particle size: 4 to
10 μm) etc., that is, microgel of acrylic resin,
Crosslinked polystyrene and crosslinked methyl methacrylate are exemplified. These organic particles are prepared by a general method such as an emulsion polymerization method, a soap-free emulsion polymerization method, a seed emulsion polymerization method, a dispersion polymerization method, and a suspension polymerization method.

【0102】また、溶液から無機粒子を調製することも
可能である。例えば、エタノールなどの溶剤中に金属低
級アルコキシドを加え、水および酸もしくはアルカリの
存在下により、該金属を含む無機粒子が得られる。得ら
れた無機粒子溶液を溶剤可溶の熱可塑性ポリマー溶液に
加えて無機粒子分散溶液を調製することができる。ある
いは金属低級アルコキシドを先に熱可塑性ポリマー溶液
に加えてから、水および酸もしくはアルカリを添加し、
該金属を含む無機粒子を得ることも可能である。熱可塑
性ポリマー前駆体溶液に金属低級アルコキシドを添加し
て無機粒子を作製する場合は、熱可塑性ポリマー前駆体
を熱により熱可塑性ポリマー前駆体にするときにポリマ
ーと無機の複合体のものが得られる。金属低級アルコキ
シドとしてはテトラエトキシシラン、テトラエトキシチ
タンなどが使用できる。
It is also possible to prepare inorganic particles from a solution. For example, a metal lower alkoxide is added to a solvent such as ethanol, and inorganic particles containing the metal are obtained in the presence of water and an acid or alkali. The resulting inorganic particle solution can be added to a solvent-soluble thermoplastic polymer solution to prepare an inorganic particle dispersion. Alternatively, the metal lower alkoxide is first added to the thermoplastic polymer solution, and then water and an acid or alkali are added,
It is also possible to obtain inorganic particles containing the metal. When inorganic particles are produced by adding a metal lower alkoxide to a thermoplastic polymer precursor solution, a polymer-inorganic composite is obtained when the thermoplastic polymer precursor is converted into a thermoplastic polymer precursor by heat. . As the metal lower alkoxide, tetraethoxysilane, tetraethoxytitanium and the like can be used.

【0103】(2)酸発生剤 本発明において、酸発生剤は特に用いる必要はないが、
感度つまり極性変換の敏感性をさらに上げたい場合に用
いることが好ましい。酸発生剤とは、熱若しくは光によ
り酸を発生する化合物であり、一般的には、光カチオン
重合の光重合開始剤、光ラジカル重合の光重合開始剤、
色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロレジスト等に使
用されている公知の光により酸を発生する化合物及びそ
れらの混合物等を挙げることができ、これらを適宜選択
して使用することができる。
(2) Acid Generator In the present invention, it is not necessary to use an acid generator in particular.
It is preferable to use it when it is desired to further increase the sensitivity, that is, the sensitivity of the polarity conversion. An acid generator is a compound that generates an acid by heat or light, and is generally a photopolymerization initiator for photocationic polymerization, a photopolymerization initiator for photoradical polymerization,
Photo-decoloring agents for dyes, photo-discoloring agents, known light-generating compounds used in micro resists and the like, and compounds and mixtures thereof can be used, and these can be appropriately selected and used. it can.

【0104】例えば、S.I.Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18,387(1974) 、T.S.Bal etal., Polymer, 21,4
23(1980) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,06
9,055 号、同4,069,056 号、特開平3-140,140 号等に記
載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al., Macromolecu
les, 17,2468(1984)、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(1988) 、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号等に記載のホスホ
ニウム塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10
(6),1307(1977) 、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1
988) 、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150,848 号、特開平2-29
6,514 号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et
al., PolymerJ. 17, 73(1985)、J.V.Crivello et al.,
J.Org. Chem., 43,3055(1978)、W.R.Watt et al., J.Po
lymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789(1984)、J.
V.Crivello et al., Polymer Bull., 14,279(1985)、J.
V.Crivello et al., Macromolecules, 14(5), 1141(198
1)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 17,2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、米
国特許第3,902,114 号、欧州特許第233,567 号、同297,
443 号、同297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同41
0,201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,44
4 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,
604,580 号、同3,604,581 号等に記載のスルホニウム
塩、J.V.Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 13
07(1977)、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Pol
ymer Chem. Ed., 17,1047(1979) 等に記載のセレノニウ
ム塩、C.S.Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA,p478, Tokyo, Oct(1988) 等に記載のアルソニウ
ム塩等のオニウム塩、
For example, see SISchlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18,387 (1974), TSBal et al., Polymer, 21,4.
Diazonium salts described in U.S. Pat.
Ammonium salts described in 9,055, 4,069,056 and JP-A-3-140,140, DCNecker et al., Macromolecu
les, 17,2468 (1984), CSWen et al., Teh, Proc.Con
f. Rad.Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055, 4,069,056, etc., and phosphonium salts described in JVCrivello et al., Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1
988), EP 104,143, U.S. Patent 339,049
No. 410,201, JP-A-2-150,848, JP-A-2-29
No. 6,514, etc., iodonium salts, JVCrivello et
al., Polymer J. 17, 73 (1985), JVCrivello et al.,
J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), WRWatt et al., J. Po.
lymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), J.
V. Crivello et al., Polymer Bull., 14,279 (1985), J.
V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (198
1), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 17,2877 (1979), European Patent No. 370,693, U.S. Patent No. 3,902,114, European Patent Nos. 233,567, 297,
443, 297,442; U.S. Patents 4,933,377, 41
0,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,44
No. 4, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,
Sulfonium salts described in Nos. 604,580 and 3,604,581, JVCrivello et al., Macromolecules, 10 (6), 13
07 (1977), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Pol
selenonium salts described in Ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), etc., CSWen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
Onium salts such as arsonium salts described in ASIA, p478, Tokyo, Oct (1988), etc.

【0105】米国特許第3,905,815 号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736 号、特開昭61-169835 号、特開昭61-169837 号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401 号、特開昭63-702
43号、特開昭63-298339 号等に記載の有機ハロゲン化合
物、K.Meier et al., J.Rad. Curing, 13(4),26(198
6)、T.P.Gill et al., Inorg. Chem., 19,3007(1980)、
D.Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377(1896)、特開
平2-161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、
S.Hayase et al., J.Polymer Sci., 25,753(1987) 、E.
Reichman et al., J.Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23,1(1985) 、Q.Q.Zhu et al., J.Photochem., 36,
85, 39, 317(1987) 、B.Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24)2205(1973)、D.H.R.Barton et al., J.Chem.
Soc., 3571(1965) 、P.M.Collins et al., J.Chem. So
c., Perkin I,1695(1975) 、M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett.,(17), 1445(1975)、J.W.Walker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.Busman
et al., J. Imaging Technol., 11(4), (1985) 、H.M.H
oulihan et al., Macromolecules, 21,2001(1988)、P.
M.Collins et al., J.Chem.Soc., Chem. Commun., 532
(1972)、S.Hayase et al., Macromolecules, 18,1799(1
985), E.Reichmanis et al., J.Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130(6) 、F.M.Houlihan et
al., Macromolecules, 21,2001(1988)、欧州特許第029
0,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,851
号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同4,18
1,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022 号等
に記載の0-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生
剤、TUNOOKA etal., Polymer Preprints Japan, 35
(8)、G.Berner et al., J.Rad. Curing, 13(4) 、W.J.M
ijs et al., Coating Technol., 55(697), 45(1983), A
kzo、H.Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3)、欧州特許第0199,672号、同84515 号、同199,672
号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,618,55
4 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64-181
43号、特開平2-245756号、特開平3-140109号等に記載の
イミノスルホネート等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
US Pat. No. 3,905,815, JP-B-46-4605
No., JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-2
39736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837,
JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-702
No. 43, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, etc., K. Meier et al., J. Rad.Curing, 13 (4), 26 (198
6), TPGill et al., Inorg. Chem., 19,3007 (1980),
D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (1896), organometallics / organic halides described in JP-A-2-14145 and the like,
S. Hayase et al., J. Polymer Sci., 25, 753 (1987), E.
Reichman et al., J. Polymer Sci., Poliymer Chem. E
d., 23, 1 (1985), QQZhu et al., J. Photochem., 36,
85, 39, 317 (1987), B. Amit et al., Tetrahedron Le
tt., (24) 2205 (1973), DHR Barton et al., J. Chem.
Soc., 3571 (1965), PMCollins et al., J. Chem. So
c., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein et al., Te
trahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalker et a
l., J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCBusman
et al., J. Imaging Technol., 11 (4), (1985), HMH
oulihan et al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), P.
M. Collins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972), S. Hayase et al., Macromolecules, 18,1799 (1
985), E. Reichmanis et al., J. Electrochem. Soc., So
lid State Sci. Technol., 130 (6), FMHoulihan et
al., Macromolecules, 21, 2001 (1988), EP 029.
0,750, 046,083, 156,535, 271,851
No. 0,388,343, U.S. Pat.Nos. 3,901,710, 4,18
No. 1,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022, etc., a photoacid generator having a 0-nitrobenzyl-type protecting group, TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8), G. Berner et al., J. Rad. Curing, 13 (4), WJM
ijs et al., Coating Technol., 55 (697), 45 (1983), A
kzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3), European Patent Nos. 0199,672, 84515, and 199,672
No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.No. 4,618,55
No. 4, No. 4,371,605, No. 4,431,774, JP-A-64-181
No. 43, compounds disclosed in JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc., which generate sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonates, and disulfones described in JP-A-61-166544. Compounds can be mentioned.

【0106】また、酸発生剤をポリマーの主鎖又は側鎖
に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al., J.
Am. Chem. Soc., 104, 5586(1982)、S.P.Pappas et a
l., J.Imaging Sci., 30(5), 218(1986) 、S. Kondo et
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625(1988) 、
Y.Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153,163(197
2) 、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845(1979) 、米国特許第3,849,137
号、独国特許第3914407 、特開昭63-26653号、特開昭55
-164824 号、特開昭62-69263号、特開昭63-14603号、特
開昭63-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146
029 号等に記載の化合物を用いることができる。さら
に、V.N.R.Pillai, Synthesis, (1),1(1980)、A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47)4555(1971) 、D.H.R.
Barton et al., J.Chem. Soc., (C), 329(1970) 、米国
特許第3,779,778 号、欧州特許第126,712 号等に記載の
光により酸を発生する化合物も使用することができる。
Compounds in which an acid generator is introduced into the main chain or side chain of a polymer, for example, MEWoodhouse et al., J. Am.
Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982), SPPappas et a
l., J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (1986), S. Kondo et.
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625 (1988),
Y. Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153, 163 (197
2), JVCrivello et al., J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845 (1979), U.S. Pat.
No., German Patent No. 3914407, JP-A-63-26653, JP-A-55
-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-14603, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, JP-A-63-146
Compounds described in No. 029 and the like can be used. Furthermore, VNRPillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad
et al., Tetrahedron Lett., (47) 4555 (1971), DHR
Compounds that generate an acid by light described in Barton et al., J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, and EP 126,712 can also be used.

【0107】本発明において、これらの酸発生剤を用い
る場合の含有量は、感応層の全固形分中、通常40重量
%以下程度であり、好ましくは20重量%以下、さらに
好ましくは5重量%以下の範囲で用いられる。酸発生剤
の含有量が40重量%を越えると、印刷汚れを生じ易く
なり、好ましくない。
In the present invention, when these acid generators are used, the content thereof is usually about 40% by weight or less, preferably 20% by weight or less, more preferably 5% by weight, based on the total solid content of the sensitive layer. It is used in the following range. If the content of the acid generator exceeds 40% by weight, printing stains are likely to occur, which is not preferable.

【0108】(3)染料、増感色素など 本発明の感光性平版印刷版の感応層には、種々の平版印
刷版の特性を得るため、必要に応じて上記以外に種々の
化合物を添加してもよい。例えば、酸発生剤が可視域に
まで感度を持たない場合、可視光域の光に対して酸発生
剤を活性にするために種々の酸発生剤の増感色素が用い
られる。このような増感色素の例としてはUS5238
782記載のピラン系色素、US4997745号記載
のシアニン色素、およびスクアリュウム系色素、US5
262276記載のメロシアニン系色素、特公平8−2
0732号記載のピリリュウム色素、その他、ミヒラー
ズケトン、チオキサントン、ケトクマリン色素、9−フ
ェニルアクリジンなどを有効なものとして用いることが
できる。またそのほかにもUS4987230記載のビ
スベンジリデンケトン色素、9,10−ジフェニルアン
トラセンのような多環芳香族化合物などを用いることが
できる。そのほかの成分としては例えば、可視光域に大
きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用すること
ができる。
(3) Dyes, sensitizing dyes, etc. In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, various compounds other than those described above may be added as necessary in order to obtain various lithographic printing plate characteristics. You may. For example, when the acid generator does not have sensitivity up to the visible range, various sensitizing dyes of the acid generator are used to activate the acid generator with respect to light in the visible light range. Examples of such sensitizing dyes include US5238
No. 782, a cyanine dye described in US Pat. No. 4,997,745, and a squarium dye, US Pat.
262276, the merocyanine dye, JP-B-8-2
No. 0732, pyrylium dye, Michler's ketone, thioxanthone, ketocoumarin dye, 9-phenylacridine and the like can be used as effective ones. In addition, bis-benzylidene ketone dyes described in US Pat. No. 4,987,230, polycyclic aromatic compounds such as 9,10-diphenylanthracene, and the like can be used. As the other component, for example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image.

【0109】具体的にはオイルイエロー#101、オイ
ルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグ
リーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#60
3、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイル
ブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI1
45170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)、メチレンブルー(CI52015)など、あるい
は特開昭62−293247号公報に記載されている染
料を挙げることができる。これらの染料は、画像形成
後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加す
る方が好ましい。尚、添加量は、感応層の全固形分に対
し、0.01〜10重量%の割合である。
Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 60
3. Oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (orient Chemical Industry Co., Ltd.)
Manufactured), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42
535), ethyl violet, rhodamine B (CI1
45170B), malachite green (CI4200
0), methylene blue (CI52015), and the dyes described in JP-A-62-293247. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the sensitive layer.

【0110】(4)その他の添加成分 また、本発明の感光性平版印刷版の感応層には、現像条
件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−2
51740号公報や特開平3−208514号公報に記
載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−
121044号公報、特開平4−13149号公報に記
載されているような両性界面活性剤を添加することがで
きる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタ
ントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソ
ルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げら
れる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上
記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の輻射線感
応性平版用印刷原板の感応層に占める割合は、0.05
〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重
量%である。
(4) Other Additives Further, the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is prepared in Japanese Patent Application Laid-Open No.
Nonionic surfactants described in JP-A-51740 and JP-A-3-208514;
An amphoteric surfactant as described in JP-A No. 121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride,
And polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo KK) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the radiation-sensitive lithographic printing plate precursor in the sensitive layer is 0.05%.
-15% by weight, more preferably 0.1-5% by weight.

【0111】更に本発明の輻射線感応性平版印刷用原板
の感応層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するた
めに可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポ
リエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸
ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジへキシル、フ
タル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブ
チル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフ
ルフリル、アクリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマ
ーおよびポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the sensitive layer of the radiation-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butyl phthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or Oligomers and polymers of methacrylic acid are used.

【0112】これら以外にも、前述のオニウム塩やハロ
アルキル置換されたs−トリアジン、及びエポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらにはヒドロキシメチル基を
持つフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフ
ェノール化合物、フェノールノボラック樹脂、クレゾー
ルノボラック樹脂等を添加してもよい。
Other than these, the above-mentioned onium salts and haloalkyl-substituted s-triazines, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group, phenol novolak resins, A cresol novolak resin or the like may be added.

【0113】本発明の輻射線感応性平版印刷用原板は、
通常上記各成分を溶媒に溶かして、感応層として適当な
支持体上に塗布することにより製造することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピ
ルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エ
チル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチ
ルラクトン、トルエン、水等をあげることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独ある
いは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を
含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%で
ある。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷用版に
ついていえば一般的に0.5〜5.0g/m2 が好まし
い。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
The radiation-sensitive lithographic printing plate of the present invention comprises:
Usually, it can be produced by dissolving each of the above components in a solvent and applying it as a sensitive layer on a suitable support.
As the solvent used here, ethylene dichloride,
Cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol,
Ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-
Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, Examples include, but are not limited to, γ-butyl lactone, toluene, water, and the like. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally, 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferable for a lithographic printing plate. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0114】本発明における感光性平版印刷用原板の感
応層には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62−170950号公報に記載されているよう
なフッ素系界面活性剤を添加することができる。好まし
い添加量は、感応層の全固形分中、0.01〜1重量%
さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 is used. Agents can be added. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight based on the total solid content of the sensitive layer.
More preferably, it is 0.05 to 0.5% by weight.

【0115】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィル
ム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のご
とき金属がラミネートもしくは蒸着された、紙もしくは
プラスチックフィルム等が含まれる。
[Support] The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper or plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper. , Metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, Polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited, and the like.

【0116】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.8mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.8 mm.

【0117】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid,
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0118】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第3,276,868号、同第4,158,461
号、同第4,689,272号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,158,461.
And the method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A No. 4,689,272.

【0119】本発明の輻射線感応性平版印刷用原板は、
必要に応じて支持体上に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸および
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から
選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。有機下塗
層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
The radiation-sensitive lithographic printing plate of the present invention comprises:
If necessary, an undercoat layer can be provided on the support.
As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphinic acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Hydroxy such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines having a group may be used in combination of two or more. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 .

【0120】以上のようにして、本発明の平版印刷用原
板を作製することができる。この平版印刷用原板は、例
えば波長760nmから1200nmの赤外線を放射す
る固体レーザ及び半導体レーザなどの光源を用いて画像
露光される。本発明の平版印刷用原板においては、レー
ザ照射後すぐにオフセット印刷機等に原板を装着し、多
数枚の印刷を行うことができる。
As described above, the lithographic printing original plate of the present invention can be manufactured. The lithographic printing original plate is image-exposed using a light source such as a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. In the lithographic printing plate of the present invention, a large number of sheets can be printed by mounting the plate on an offset printing machine or the like immediately after laser irradiation.

【0121】[製版方法]次に、この平版印刷版用原板
の製版方法について説明する。この平版印刷版用原板へ
の像様露光は、活性光を放射する光源であれば使用でき
る。好ましい光源は、赤光領域から赤外領域の光を発す
るものであり、とくにこの領域の光を発する半導体レー
ザー及びYAGレーザーが好ましい。また、エキシマレ
ーザー(XeF),He−Cdレーザー,N2 レーザ
ー、LD励起Nd;YAGレーザー内部共振器型SHG
によって得られた第2高調波をBBO結晶を用いた外部
共振器型 Fourth-HG、Qスィッチ動作LD励起固体レ
ーザー、またレーザー光以外の活性光の光源としては、
キセノン放電灯、水銀灯、タングステンランプ、タング
ステン・ハロゲンランプ、キセノンアーク灯、蛍光灯、
その他の紫外線光源などを用いることができる。
[Plate making method] Next, a plate making method of the lithographic printing plate precursor will be described. The imagewise exposure of the lithographic printing plate precursor can be used as long as the light source emits active light. A preferred light source emits light in a red light region to an infrared region, and a semiconductor laser and a YAG laser that emit light in this region are particularly preferable. Excimer laser (XeF), He-Cd laser, N 2 laser, LD pumped Nd; YAG laser internal cavity type SHG
The second harmonic obtained by using a BBO crystal as an external resonator type Fourth-HG, a Q-switched LD-pumped solid-state laser, and a light source for active light other than laser light include:
Xenon discharge lamp, mercury lamp, tungsten lamp, tungsten halogen lamp, xenon arc lamp, fluorescent lamp,
Other ultraviolet light sources can be used.

【0122】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。面露光光源を使用する場合には、そ
の照度によっても好ましい露光量は変化するが、通常
は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が0.1〜1
0J/cm2 の範囲であることが好ましく、0.1〜1J/cm
2 の範囲であることがより好ましい。支持体が透明であ
る場合は、支持体の裏側から支持体を通して露光するこ
ともできる。その露光時間は、必要な露光量が与えられ
るかぎり広い範囲で選択ができる。通常0.01mse
c〜10分、好ましくは0.01msec〜1分の照射
で上記の露光強度が得られるように露光照度を選択する
のが好ましい。
The writing of an image may be performed by either a surface exposure method or a scanning method. When a surface exposure light source is used, the preferable exposure amount changes depending on the illuminance, but usually, the surface exposure intensity before modulation with a print image is 0.1 to 1.
0 J / cm 2 , preferably 0.1 to 1 J / cm 2
More preferably, it is in the range of 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. The exposure time can be selected in a wide range as long as a necessary exposure amount is provided. Usually 0.01mse
It is preferable to select the exposure illuminance so that the above-mentioned exposure intensity can be obtained by irradiation for c to 10 minutes, preferably 0.01 msec to 1 minute.

【0123】平版印刷版を製版する際、必要であれば非
画像部を保護するために版面保護剤(いわゆる、ガム
液)を含んだ整面液を塗布する「ガム引き」といわれる
工程が行なわれる。ガム引きは、平版印刷版の親水性表
面が空気中の微量混入成分の影響を受けて親水性が低下
するのを防ぐため、非画像部の親水性を高めるため、製
版後印刷するまでの期間又は印刷を中断してから再び開
始するまでの間に平版印刷版が劣化するのを防止するた
め、印刷機に取りつける場合などのように平版印刷版を
取り扱う時に指の油、インキなどが付着して非画像がイ
ンキ受容性となって、汚れるのを防止するため、更に、
平版印刷版を取り扱う時に非画像部及び画像部に傷が発
生することを防止するため、などの種々の目的をもって
行われる。
When making a lithographic printing plate, if necessary, a step called "gum-pulling" of applying a surface-regulating solution containing a plate surface protective agent (so-called gum solution) to protect non-image areas is performed. It is. Gum-pulling is a period until printing after plate making to prevent the hydrophilic surface of the lithographic printing plate from being reduced in hydrophilicity by the influence of trace components in the air, and to increase the hydrophilicity of the non-image area. In order to prevent the lithographic printing plate from deteriorating between the time when printing is interrupted and the time when printing is restarted, oil or ink on the fingers may adhere when handling the lithographic printing plate, such as when attaching it to a printing press. In order to prevent non-images from becoming ink-receptive and becoming dirty,
It is performed for various purposes such as to prevent scratches from occurring in the non-image area and the image area when handling a lithographic printing plate.

【0124】この目的に使用される皮膜形成性を有する
水溶性樹脂の好ましい具体例としては、例えばアラビア
ガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロ
ーズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等)及びその変性体、ポリビニルアルコール及びその誘
導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及び
その共重合体、アクリル酸共重合体、ビニルメチルエー
テル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレ
イン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、
焙焼デキストリン、酸素分解デキストリン、酵素分解エ
ーテル化デキストリン等が挙げられる。
Preferred examples of the water-soluble resin having a film-forming property used for this purpose include, for example, gum arabic, cellulose derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof. , Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and its copolymer, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride Copolymer,
Roasted dextrin, oxygen-decomposed dextrin, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like can be mentioned.

【0125】整面液中の保護剤中の上記水溶性樹脂の含
有量は、3〜25重量%が適当であり、好ましい範囲は
10〜25重量%である。なお、本発明においては上記
水溶性樹脂を2種以上混合使用しても良い。
The content of the water-soluble resin in the protective agent in the surface conditioning solution is suitably from 3 to 25% by weight, and the preferable range is from 10 to 25% by weight. In the present invention, two or more of the above water-soluble resins may be used in combination.

【0126】平版印刷版用版面保護剤には、そのほかに
種々の界面活性剤を添加してもよい。使用できる界面活
性剤としてはアニオン界面活性剤又はノニオン界面活性
剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては脂肪族ア
ルコール硫酸エステル塩類、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、
レプリン酸、有機スルホン酸などがあり、鉱酸としては
硝酸、硫酸、燐酸等が有用である。鉱酸、有機酸又は無
機塩等の少なくとも1種もしくは2種以上併用してもよ
い。
Various surface active agents may be added to the surface protective agent for lithographic printing plates. Surfactants that can be used include anionic or nonionic surfactants. As anionic surfactants, aliphatic alcohol sulfates, tartaric acid, malic acid, lactic acid,
Lepulinic acid, organic sulfonic acid and the like are available, and nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and the like are useful as mineral acids. At least one kind of a mineral acid, an organic acid or an inorganic salt may be used in combination.

【0127】上記成分のほかに、必要により湿潤剤とし
てグリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリ
コール等の低級多価アルコールも使用することができ
る。これら湿潤剤の使用量は保護剤中に0.1〜5.0
重量%が適当であり、好ましい範囲は0.5〜3.0重
量%である。以上の他に本発明の平版印刷版用版面保護
剤には、防腐剤などを添加することができる。例えば安
息香酸及びその誘導体、フェノール、ホルマリン、デヒ
ドロ酢酸ナトリウム等を0.005〜2.0重量%の範
囲で添加できる。
In addition to the above components, if necessary, lower polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol can be used as wetting agents. The amount of these wetting agents used is 0.1 to 5.0 in the protective agent.
% Is suitable, and a preferred range is 0.5 to 3.0% by weight. In addition to the above, a preservative or the like can be added to the plate surface protective agent for a lithographic printing plate of the present invention. For example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin, sodium dehydroacetate and the like can be added in the range of 0.005 to 2.0% by weight.

【0128】版面保護剤には消泡剤を添加することもで
きる。好ましい消泡剤には有機シリコーン化合物が含ま
れ、その添加量は0.0001〜0.1重量%の範囲が
好ましい。
An antifoaming agent may be added to the plate surface protective agent. Preferred antifoaming agents include an organic silicone compound, and the amount added is preferably in the range of 0.0001 to 0.1% by weight.

【0129】版面保護剤には画像部の感脂性低下を防ぐ
ため有機溶剤を含有させることができる。好ましい有機
溶剤には水難溶性のものであり、沸点が約120℃〜約
250℃の石油留分、例えばジブチルフタレート、ジオ
クチルアジペートなどの凝固点が15℃以下で沸点が3
00℃以上の可塑剤が挙げられる。このような有機溶剤
は0.05〜5重量%の範囲で添加される。
The plate surface protective agent may contain an organic solvent in order to prevent a decrease in the oil sensitivity of the image area. Preferred organic solvents are hardly water-soluble and have a boiling point of about 120 ° C. to about 250 ° C., such as dibutyl phthalate and dioctyl adipate.
A plasticizer at a temperature of 00 ° C. or higher is used. Such an organic solvent is added in the range of 0.05 to 5% by weight.

【0130】版面保護剤は均一溶液型、サスペンジョン
型、エマルジョン型のいずれの形態をも採ることができ
るが、特に上記のような有機溶剤を含むエマルジョン型
がすぐれた性能を発揮する。この場合、特開昭55−1
05581号公報に記載されているように界面活性剤を
組合せて含有させることが好ましい。
The plate surface protective agent can be in any of a uniform solution type, a suspension type and an emulsion type. In particular, the emulsion type containing an organic solvent as described above exhibits excellent performance. In this case, JP-A-55-1
It is preferable to incorporate a surfactant in combination as described in JP-A-05581.

【0131】画像露光され、必要であればガム引きを行
った印刷原板は、印刷機に版を装着し印刷を行うことも
できる。また、露光後ただちに(現像工程を経ずに)印
刷機に版を装着し印刷を行うこともできる。あるいは、
印刷機に印刷原板を装着しておいて、レーザーによる画
像状の走査露光を行って機上で平版印刷版を形成させる
こともできる。即ち、本発明の平版印刷用原板を使用す
る製版方法では、特に現像処理を経ることなく平版印刷
版を製版し得る。
The printing plate which has been image-exposed and, if necessary, subjected to gumming can be mounted on a printing machine for printing. Immediately after exposure (without passing through the developing step), printing can be performed by mounting the plate on a printing press. Or,
It is also possible to form a lithographic printing plate on a printing press by mounting an original printing plate on a printing press and performing image-wise scanning exposure with a laser. That is, in the plate making method using the lithographic printing plate of the present invention, a lithographic printing plate can be made without any particular development processing.

【0132】[0132]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0133】[実施例1〜4] (光熱変換剤粒子の作製)下記組成の混合物を500m
lのビーカーで調製して室温にて6 時間撹拌して有機光
熱変換化合物と金属化合物を含む反応液を作製した。 <光熱変換剤粒子1用の反応液処方> ・IR色素〔例示化合物(1)〕 0.5g ・5wt%アンモニア水 50g ・エタノール 50g ・テトラエトキシシラン 5.4g 次にこの反応液を40度に加温し、10時間撹拌した。
反応液を500mlのセロハンの袋に封入し、一晩水道
水にて透析を行った。生じたゲル構造粒子の分散液をエ
バポレーターを用いて室温にて乾燥し、5.0gの色素
が封入されたシリカゲル粒子(光熱変換剤粒子1)を得
た。粒径測定装置(堀場製作所(株)製、レーザー回折
・散乱式粒子径分布測定装置LA−920)を用いて粒
径を測定したところ、平均粒径は0.4μmであった。
[Examples 1 to 4] (Preparation of photothermal conversion agent particles)
The mixture was stirred in a beaker of 1 l for 6 hours at room temperature to prepare a reaction solution containing the organic light-to-heat conversion compound and the metal compound. <Reaction liquid formulation for light-to-heat conversion agent particles 1> IR dye [Exemplified compound (1)] 0.5 g 5 wt% ammonia water 50 g Ethanol 50 g Tetraethoxysilane 5.4 g Next, the reaction liquid was cooled to 40 degrees. Warmed and stirred for 10 hours.
The reaction solution was sealed in a 500 ml cellophane bag and dialyzed against tap water overnight. The resulting dispersion of the gel-structured particles was dried at room temperature using an evaporator to obtain 5.0 g of silica gel particles (light-to-heat conversion agent particles 1) in which a dye was encapsulated. When the particle size was measured using a particle size measuring device (manufactured by Horiba, Ltd., laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device LA-920), the average particle size was 0.4 μm.

【0134】上記処方のIR色素を下記のように変更
し、そのほかは上記と同じ方法で下記構成の光熱変換剤
粒子2〜4を作成した。 光熱変換剤粒子 光熱変換色素 平均粒径μm 粒子1 例示化合物(1) 0.4 粒子2 例示化合物(2) 1.0 粒子3 例示化合物(3) 2.2 粒子4 例示化合物(4) 0.8 次に各光熱変換剤粒子を10wt%のメチルエチルケト
ン分散液としてガラスビーズを添加し、ペイントシェイ
カ−を用いて20分間振り混ぜて分散させた。
The IR dye of the above formulation was changed as described below, and the other methods were the same as above to prepare light-to-heat converter particles 2 to 4 having the following structures. Light-to-heat conversion agent particles Light-to-heat conversion dye Average particle size μm Particle 1 Exemplary compound (1) 0.4 Particle 2 Exemplary compound (2) 1.0 Particle 3 Exemplary compound (3) 2.2 Particle 4 Exemplary compound (4) 8 Next, glass beads were added to each of the photothermal conversion agent particles as a 10% by weight dispersion of methyl ethyl ketone, and dispersed by shaking for 20 minutes using a paint shaker.

【0135】(無処理型感光性平版印刷版の作成) <感応層の塗設>結着剤として、前記化合物Aの例示化
合物1−11:0.4g、また、加水分解重合性化合物
にテトラエトキシシラン:0.4gを用い、さらに、上
記表1に示す各光熱変換剤粒子の分散液0.6g、及び
メチルエチルケトン:1.1gからなる液に、50%り
ん酸水溶液40mgを加えて10分間攪拌した。なお、
光熱変換剤粒子の分散液は、ガラスビーズを用いてペイ
ントシェーカーで光熱変換剤粒子をメチルエチルケトン
(以後MEKと略す)に分散した10%MEK分散液で
ある。このようにして調製した各塗布液をロッドバー#
20を用いて表面をコロナ帯電処理したPET基板に塗
布した。得られた印刷原板A〜Dの感応層の組成を表1
に示す。
(Preparation of Unprocessed Photosensitive Lithographic Printing Plate) <Coating of Sensitive Layer> As a binder, 0.4 g of the exemplified compound 1-11 of the compound A, and Using ethoxysilane: 0.4 g, 40 mg of a 50% phosphoric acid aqueous solution was added to a liquid consisting of 0.6 g of a dispersion of each photothermal conversion agent particle shown in Table 1 above and 1.1 g of methyl ethyl ketone, and added for 10 minutes. Stirred. In addition,
The dispersion of light-to-heat conversion agent particles is a 10% MEK dispersion in which the light-to-heat conversion agent particles are dispersed in methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as MEK) with a glass shaker using a paint shaker. Each coating solution prepared in this manner is applied to a rod bar #
20 was applied to a PET substrate whose surface had been corona-charged. Table 1 shows the composition of the sensitive layers of the obtained printing original plates A to D.
Shown in

【0136】 <感応層組成> (表1) 印刷原版 光熱変換粒子 粒子添加量 乾燥後の塗布量 (10%メチルエチル分散液) A 粒子1 4g 3.5g/m2 B 粒子2 4g 3.4g/m2 C 粒子3 4g 3.0g/m2 D 粒子4 4g 2.8g/m2 <Sensitive layer composition> (Table 1) Printing original plate Light-to-heat conversion particles Particle addition amount Coating amount after drying (10% methyl ethyl dispersion) A particle 14 g 3.5 g / m 2 B particle 24 4 g 3.4 g / M 2 C particles 34 g 3.0 g / m 2 D particles 44 g 2.8 g / m 2

【0137】(製版及び印刷)得られた印刷原板A〜D
を波長838nmの赤外光を発するIRレーザー(ビー
ム径30μm)にて露光した。露光後、何ら処理するこ
となくリスロン印刷機にて通常通り印刷した。この際、
印刷物の画像部が良好に形成されているかどうか、およ
び非画像部に汚れが生じていないかを観察した。結果を
表2に示す。この時良好な印刷物は1万枚得られた。ま
た得られた印刷版のレーザー走査部を顕微鏡で観察し、
得られた線幅を測定することにより感度を見積もった。
結果も表2に示す。線幅が照射したビーム径30μmに
近いほど感度(極性変換の敏感性)が高いことを意味す
るが、本発明の実施例のいずれの線幅も照射したビーム
径に近く、十分に感度が高いことを示している。
(Plate making and printing) Obtained printing original plates A to D
Was exposed to an IR laser (beam diameter 30 μm) that emits infrared light having a wavelength of 838 nm. After the exposure, printing was performed as usual on a Lithrone printer without any processing. On this occasion,
It was observed whether or not the image portion of the printed matter was well formed and whether or not the non-image portion was not stained. Table 2 shows the results. At this time, 10,000 good prints were obtained. Also, observe the laser scanning part of the obtained printing plate with a microscope,
The sensitivity was estimated by measuring the obtained line width.
The results are also shown in Table 2. The closer the line width is to the irradiated beam diameter of 30 μm, the higher the sensitivity (sensitivity of polarity conversion) is. However, any line width in the embodiment of the present invention is close to the irradiated beam diameter and is sufficiently high in sensitivity. It is shown that.

【0138】 (表2) 実施例 印刷原板 画像部かすれ 非画像部汚れ 感度(μm) (1万枚印刷後)(1万枚印刷後) 1 A 無し 無し 28 2 B 無し 無し 29 3 C 無し 無し 25 4 D 無し 無し 28(Table 2) Example Printing base plate Image area blurring Non-image area contamination Sensitivity (μm) (after printing 10,000 sheets) (after printing 10,000 sheets) 1 A None None 28 2 B None None 293 C None None 254 D None None 28

【0139】〔実施例5〜9〕 (架橋されたポリマーの合成) <ポリマーKP−3の合成>スチレンスルホン酸−1−
メチル−2−メトキシエチルエステル(0.4モル)、
N−[(3−メタクロイルオキシ)プロピル]ー2,3
ージメチルマレイミド(0.1モル)およびメチルエチ
ルケトン203gを三口フラスコに入れ、65℃窒素気
流下アゾビスジメチルバレロニトリルを2.44g添加
した。同温度で5時間攪拌した後、メチルエチルケトン
を減圧で留去し、固体を得た。GPC(ポリスチレン標
準)により平均分子量25,000のポリマーであるこ
とが判った。
[Examples 5 to 9] (Synthesis of crosslinked polymer) <Synthesis of polymer KP-3> Styrenesulfonic acid-1-
Methyl-2-methoxyethyl ester (0.4 mol),
N-[(3-methacryloyloxy) propyl] -2,3
-Dimethylmaleimide (0.1 mol) and 203 g of methyl ethyl ketone were placed in a three-necked flask, and 2.44 g of azobisdimethylvaleronitrile was added under a nitrogen stream at 65 ° C. After stirring at the same temperature for 5 hours, methyl ethyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. The polymer was found to have an average molecular weight of 25,000 by GPC (polystyrene standard).

【0140】<ポリマーKP−4、5の合成>N−
[(3−メタクロイルオキシ)プロピル]ー2,3ージ
メチルマレイミドに代えてN−[(6−メタクロイルオ
キシ)ヘキシル]ー2,3ージメチルマレイミドあるい
はアリルメタクリル酸を使用した以外は、前記ポリマー
KP−3の合成と同様に合成した。なお、ポリマーKP
−4においては、スチレンスルホン酸エステルとして、
スチレンスルホン酸シクロヘキシルを使用した。ポリマ
ーKP−4の平均分子量は56,000、ポリマーKP
−5の平均分子量は19,000であった。
<Synthesis of Polymers KP-4 and 5>
Except that N-[(6-methacryloyloxy) hexyl] -2,3-dimethylmaleimide or allyl methacrylic acid was used instead of [(3-methacryloyloxy) propyl] -2,3-dimethylmaleimide It was synthesized in the same manner as in the synthesis of polymer KP-3. In addition, polymer KP
-4, as styrene sulfonic acid ester,
Cyclohexyl styrenesulfonate was used. Polymer KP-4 has an average molecular weight of 56,000 and polymer KP
The average molecular weight of -5 was 19,000.

【0141】<ポリマーKP−1の合成>N−[(3−
メタクロイルオキシ)プロピル]ー2,3ージメチルマ
レイミドに代えて2ーメタクリローオキシエチルイソシ
アネートを使用した以外は、前記ポリマーKP−3の合
成と同様に重合を行った。次に反応液にアクリル酸
(0.1モル)を加え、さらに8時間加熱攪拌した。反
応後、メチルエチルケトンを減圧で留去し、固体を得
た。GPC(ポリスチレン標準)により平均分子量2
3,000のポリマーであることが判った。
<Synthesis of Polymer KP-1> N-[(3-
Polymerization was carried out in the same manner as in the synthesis of polymer KP-3, except that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was used instead of [methacryloyloxy) propyl] -2,3-dimethylmaleimide. Next, acrylic acid (0.1 mol) was added to the reaction solution, and the mixture was further heated and stirred for 8 hours. After the reaction, methyl ethyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. Average molecular weight 2 by GPC (polystyrene standard)
It turned out to be 3,000 polymers.

【0142】(支持体の作製)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更
に2%HNO3に20秒間浸漬して水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であった。
次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密度1
5A/dm2 で2. 4g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。
(Preparation of Support) An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichloroethylene and degreased, and then its surface was grained with a nylon brush and a 400 mesh pumicestone-water suspension. Washed well with water. After washing with water The plate was etched by dipping for 9 seconds in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide 45 ° C., washed with water and further immersed in a 2% HNO 3 20 seconds. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
Next, this plate was subjected to current density of 1 using 7% H 2 SO 4 as an electrolyte.
After 2 to provide a DC anodic oxide film of 4g / m 2 at 5A / dm 2, washed with water and dried.

【0143】(印刷原板の作製)画像形成層の塗布液と
して、下記表3に示す成分の溶液を調製した。この溶液
を、上記の通り作製した支持体上に塗布して、80℃、
1分で乾燥した。次に、この塗布物にUV露光(メタハ
ライド使用、1000カウント)により光架橋された画
像形成層を有する平版印刷用原版を得た。
(Preparation of Printing Base Plate) Solutions of the components shown in Table 3 below were prepared as coating solutions for the image forming layer. This solution was coated on the support prepared as described above,
Dried for 1 minute. Next, a lithographic printing original plate having an image-forming layer photocrosslinked by UV exposure (using a metahalide, 1000 counts) was obtained on the coated product.

【0144】 (表3) 〔印刷原板〕 使用 添加 増感剤 光熱変換粒子 塗布溶媒 ポリマー モノマー (重合開始剤) (10%MEK液) E KP-3 0.4g なし 下記式(I)0.04g 粒子1 0.04g MEK 1.6g F KP-5 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g 粒子1 0.04g MEK 1.6g G KP-1 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g 粒子1 0.04g MEK 1.6g H KP-4 0.4g なし 下記式(I)0.04g 粒子1 0.04g MEK 1.6g I KP-3 0.4g なし 下記式(I)0.04g 粒子2 0.04g MEK 1.6g (註)MEK :メチルエチルケトン ATMMT:ペンタエリスリトールテトラアクリレート DMAB :4,4'ジメチルアミノベンゾフェノン(Table 3) [Printing master plate] Used Addition Sensitizer Photothermal conversion particles Coating solvent Polymer Monomer (polymerization initiator) (10% MEK solution) E KP-3 0.4 g None 0.04 g of the following formula (I) Particle 1 0.04g MEK 1.6g F KP-5 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g Particle 1 0.04g MEK 1.6g G KP-1 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g Particle 1 0.04g MEK 1.6g H KP-4 0.4g None The following formula (I) 0.04 g Particle 1 0.04 g MEK 1.6 g I KP-3 0.4 g None The following formula (I) 0.04 g Particle 2 0.04 g MEK 1.6 g , 4'dimethylaminobenzophenone

【0145】[0145]

【化19】 Embedded image

【0146】(製版及び印刷)得られた平版印刷用原版
E〜Iを、実施例1と同様に波長1064nmの赤外線
を発するYAGレーザーで像様露光し、露光後の平版印
刷用原版をそのままリスロン印刷機で2万枚の印刷試験
を行った。この際、印刷物の画像部が良好に形成されて
いるかどうか、および非画像部に汚れが生じていないか
を観察した。結果は表4に示すように2万枚の印刷物は
いずれも印刷面に汚れがなく、画像のかすれもなく良好
な印刷品質が保たれた。
(Plate making and printing) The lithographic printing original plates E to I thus obtained were imagewise exposed to a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm in the same manner as in Example 1. A printing test of 20,000 sheets was performed with a printing machine. At this time, it was observed whether the image portion of the printed matter was well formed and whether the non-image portion was not stained. As shown in Table 4, all of the 20,000 sheets of printed matter had no stain on the printed surface, the image was not blurred, and good print quality was maintained.

【0147】 (表4) 実施例 印刷原板 画像部かすれ 非画像部汚れ (2万枚印刷後)(2万枚印刷後) 5 E 無し 無し 6 F 無し 無し 7 G 無し 無し 8 H 無し 無し 9 I 無し 無し(Table 4) Example Printed base plate Image part faint Non-image part stain (after printing 20,000 sheets) (after printing 20,000 sheets) 5 E None None 6 F None None 7 G None None 8 H None None 9 I None None

【0148】[0148]

【発明の効果】本発明の輻射線感応性平版印刷用原板
は、感応層中の有機光熱変換化合物が金属酸化物に内包
されて保護されることと架橋された高分子化合物の結着
剤が組み合わされたこととにより、光熱変換化合物が分
解することなく光熱変換が効果的に行われ、極性変換の
敏感性が向上し、印刷汚れがなく、優れた印刷品質の印
刷を行うことができる。この平版印刷用原板を使用する
ことにより、赤外線レーザーを用いて、コンピューター
等のデジタルデータから直接製版することも可能であ
り、高い実用性を有するものである。
The radiation-sensitive lithographic printing plate of the present invention is characterized in that the organic light-to-heat conversion compound in the sensitive layer is encapsulated in the metal oxide and protected, and the binder of the crosslinked polymer compound is used. Due to the combination, the light-to-heat conversion compound is effectively decomposed without decomposing the light-to-heat conversion compound, the sensitivity of the polarity conversion is improved, and printing with no print smear and excellent print quality can be performed. By using this lithographic printing original plate, it is also possible to make a plate directly from digital data of a computer or the like using an infrared laser, which is highly practical.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも結着剤と光熱変換
剤とからなる感応層を形成した輻射線感応性平版印刷用
原板であって、該結着剤が、酸、輻射線もしくは熱によ
り疎水性から親水性に変化する官能基を有し、かつ架橋
された高分子化合物であり、該光熱変換剤が有機光熱変
換化合物を内包する金属酸化物粒子であることを特徴と
する輻射線感応性平版印刷用原板。
1. A radiation-sensitive lithographic printing plate comprising a support having thereon a sensitive layer comprising at least a binder and a light-to-heat conversion agent, wherein the binder is exposed to acid, radiation or heat. Radiation-sensitive, comprising a crosslinked polymer compound having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic, and wherein the photothermal conversion agent is metal oxide particles containing an organic photothermal conversion compound. Original plate for lithographic printing.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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