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JP2001063211A - ビスピリジニウム化合物を含有する光情報記録媒体 - Google Patents

ビスピリジニウム化合物を含有する光情報記録媒体

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Publication number
JP2001063211A
JP2001063211A JP23882599A JP23882599A JP2001063211A JP 2001063211 A JP2001063211 A JP 2001063211A JP 23882599 A JP23882599 A JP 23882599A JP 23882599 A JP23882599 A JP 23882599A JP 2001063211 A JP2001063211 A JP 2001063211A
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JP
Japan
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group
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information recording
ring
recording layer
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Application number
JP23882599A
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Inventor
Shinichi Morishima
慎一 森嶌
Yoshihisa Usami
由久 宇佐美
Noboru Komori
昇 小森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP23882599A priority Critical patent/JP4242976B2/ja
Publication of JP2001063211A publication Critical patent/JP2001063211A/ja
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高反射率、高感度、高変調度を有する光情報
記録媒体を提供する。 【解決手段】 基体上に、波長550nm以下のレーザ
ー光を照射することにより情報の記録が可能な記録層が
設けられてなる情報記録媒体において、該記録層が、下
記一般式(I−1)で表されるビスピリジニウム化合物
を含む情報記録媒体。 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は各々独立に置換基をを表し、R
3 及びR4 は各々アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アラルキル基、アリ−ル基または複素環基を表
し、R1 とR2 、R1 とR3 、R2 とR4 またはR3
4 は各々互いに連結して環を形成してもよく、rおよ
びsは各々0〜4の整数を表し、そしてrとsが2以上
の場合には、複数のR1 及びR2 は各々互いに同じであ
っても異なっていてもよい。Xp-は陰イオンを表し、p
は1以上の整数を表し、qは電荷を均衡させるために必
要な数を表す。〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高エネルギー密度
のレーザ光を用いて情報の書き込みが可能な情報記録媒
体特に情報記録媒体の製造に有利に用いることが出来る
化合物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な情報記録媒体(光ディスク)が知られ
ている。該情報記録媒体は、追記型CD(所謂CD−
R)とも称され、従来のCDの作製に比べて少量のCD
を手頃な価格でしかも迅速に提供できる利点を有してお
り、最近のパーソナルコンピュータの普及に伴ってその
需要も増大している。CD−R型の情報記録媒体の代表
的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記
録層、金などの金属からなる反射層、更に樹脂製の保護
層をこの順に積層したものである。そして光ディスクへ
の情報の記録は、近赤外域のレーザ光(通常780nm
付近の波長のレーザ光)を照射して記録層を局所的に発
熱変形させることにより行われる。一方情報の読み取り
(再生)は通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ
光を照射して、記録層が発熱変形された部位(記録部
分)と変形されない部位(未記録部分)との反射率の違
いを検出することにより行われている。
【0003】近年、記録密度のより高い情報記録媒体が
求められている。記録密度を高めるには、照射されるレ
ーザの光径を小さく絞ることが有効であり、また波長が
短いレーザ光ほど小さく絞ることができるため、高密度
化に有利であることが理論的に知られている。そのた
め、従来から用いられている780nmより短波長のレ
ーザ光を用いて記録再生を行うための光ディスクの開発
が進めらいる。
【0004】一方、特開昭63−209995号公報に
は、オキソノール色素からなる記録層が基板上に設けら
れたCD−R型の情報記録媒体が開示されている。この
色素化合物を用いることにより、長期間にわたり安定し
た記録再生特性を維持し得るとされている。そしてここ
には、分子内に塩の形でアンモニウムが導入されたオキ
ソノール色素化合物が記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、種々検
討を重ねた結果、記録層用化合物としてビスピリジニウ
ム化合物を使用すれば、CD−Rに使用されている78
0nmより遙かに短波長のレ−ザ−光(例えば、波長5
50nm以下のレ−ザ−光)によっても問題なく記録ピ
ットが形成され、実用的に充分な反射率を得ることが出
来ることを見出した。従って、本発明の主な目的は、波
長550nm以下のレ−ザ−光を照射することにより情
報の記録および再生を好適に行なうことが出来る情報記
録媒体および該情報記録媒体を用いる情報の記録方法を
提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者により、記録層
に一般式(I−1)で表されるビスピリジニウム化合物
を用いることにより、波長550nm以下のレーザー光
に対して優れた記録再生特性を有する情報記録媒体が見
出された。前記の課題は下記の(1)〜(3)により解
決された。 (1) 基体上に、波長550nm以下のレーザー光を
照射することにより情報の記録が可能な記録層が設けら
れてなる情報記録媒体において、該記録層が、下記一般
式(I−1)で表されるビスピリジニウム化合物を含む
ことを特徴とする情報記録媒体。
【0007】
【化2】
【0008】〔式中、R1 及びR2 は各々独立に置換基
をを表し、R3 及びR4 は各々独立にアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリ−ル基ま
たは複素環基を表し、R1 とR2 、R1 とR3 、R2
4 またはR3 とR4 は各々互いに連結して環を形成し
てもよく、rおよびsは各々独立に0〜4の整数を表
し、そしてrとsが2以上の場合には、複数のR1 及び
2 は各々互いに同じであっても異なっていてもよい。
p-は陰イオンを表し、pは1以上の整数を表し、qは
電荷を均衡させるために必要な数を表す。〕 (2) 記録層上に反射層が設けられていることを特徴
とする(1)に記載の情報記録媒体。 (3) レーザー光の波長が390〜450nmである
ことを特徴とする(1)または(2)に記載の情報記録
媒体。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体は、記録層
が下記一般式(I−1)で表されるビスピリジニウム化
合物を含むことを特徴とする。
【0010】
【化3】
【0011】本発明に係るビスピリジニウム化合物は、
ビスピリジニウム成分であるカチオン性を示す成分(以
下単に、カチオン部と称す)とアニオン性を示す成分
(以下単に、アニオン部と称す)からなる。まず、カチ
オン部について詳述する。
【0012】式中、R1 及びR2 は、各々独立に置換基
を表し、R3 及びR4 は、各々独立にアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基ま
たは複素環基を表し、R1 とR2 、R1 とR3 、R2
4 又はR3 とR4 は各々互いに連結して環を形成して
もよく、r及びsは、各々独立に0〜4の整数を表し、
そしてrとsが2以上の場合には、複数のR1 及びR2
は各々互いに同じであっても異なっていてもよい。
【0013】上記R3 およびR4 で表されるアルキル基
は、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基
が好ましく、より好ましくは炭素数1〜8の置換もしく
は無置換のアルキル基である。これらは、直鎖状、分岐
鎖状、あるいは環状であってもよい。これらの例として
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ヘキシル、ネ
オペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル及びシクロ
プロピル等が挙げられる。
【0014】アルキル基の置換基の例としては、以下の
ものを挙げることができる。炭素数2〜18(好ましく
は炭素数2〜8)の置換もしくは無置換のアルケニル基
(例、ビニル);炭素数2〜18(好ましくは炭素数2
〜8)の置換もしくは無置換のアルキニル基(例、エチ
ニル);炭素数6〜10の置換もしくは無置換のアリー
ル基(例、フェニル、ナフチル);ハロゲン原子(例、
F、Cl、Br等);炭素数1〜18(好ましくは炭素
数1〜8)の置換もしくは無置換のアルコキシ基(例、
メトキシ、エトキシ);炭素数6〜10の置換もしくは
無置換のアリールオキシ基(例、フェノキシ、p−メト
キシフェノキシ);炭素数1〜18(好ましくは炭素数
1〜8)の置換もしくは無置換のアルキルチオ基(例、
メチルチオ、エチルチオ);炭素数6〜10の置換もし
くは無置換のアリールチオ基(例、フェニルチオ);
炭素数2〜18(好ましくは炭素数2〜8)の置換もし
くは無置換のアシル基(例、アセチル、プロピオニ
ル);
【0015】炭素数1〜18(好ましくは炭素数1〜
8)の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基また
はアリールスルホニル基(例、メタンスルホニル、p−
トルエンスルホニル);炭素数2〜18(好ましくは炭
素数2〜8)の置換もしくは無置換のアシルオキシ基
(例、アセトキシ、プロピオニルオキシ);炭素数2〜
18(好ましくは炭素数2〜8)の置換もしくは無置換
のアルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル);炭素数7〜11の置換もしくは
無置換のアリールオキシカルボニル基(例、ナフトキシ
カルボニル);無置換のアミノ基、もしくは炭素数1〜
18(好ましくは炭素数1〜8)の置換アミノ基(例、
メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニ
リノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミ
ノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、n−
ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミ
ノ、メチルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイ
ルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミ
ノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルバモイル
アミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイル
アミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミ
ノ);
【0016】炭素数1〜18(好ましくは炭素数1〜
8)の置換もしくは無置換のカルバモイル基(例、無置
換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、n−ブチルカルバモイル、t−ブチルカルバモ
イル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイ
ル、ピロリジノカルバモイル);無置換のスルファモイ
ル基、もしくは炭素数1〜18(好ましくは炭素数1〜
8)の置換スルファモイル基(例、メチルスルファモイ
ル、フェニルスルファモイル);シアノ基;ニトロ基;
カルボキシ基;水酸基;ヘテロ環基(例、オキサゾール
環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、イ
ンドレニン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピペリジン
環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラ
ン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロ
マン環、クマリン環)。
【0017】上記R3 およびR4 で表されるアルケニル
基は、炭素数2〜18の置換もしくは無置換のアルケニ
ル基が好ましく、より好ましくは炭素数2〜8の置換も
しくは無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル、
アリル、1−プロペニル、1,3−ブタジエニル等が挙
げられる。アルケニル基の置換基としては、前記アルキ
ル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【0018】上記R3 およびR4 で表されるアルキニル
基は、炭素数2〜18の置換もしくは無置換のアルキニ
ル基が好ましく、より好ましくは炭素数2〜8の置換も
しくは無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニ
ル、2−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置
換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好
ましい。
【0019】上記R3 及びR4 で表されるアラルキル基
は、炭素数7〜18の置換もしくは無置換のアラルキル
基が好ましく、例えば、ベンジル、メチルベンジル等が
好ましい。アラルキル基の置換基は前記アルキル基の置
換基として挙げたものが挙げられる。
【0020】上記R3 及びR4 で表されるアリール基
は、炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基
が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられ
る。アリール基の置換基は前記アルキル基の置換基とし
て挙げたものが好ましい。またこれらの他に、アルキル
基(例えば、メチル、エチル等)も好ましい。
【0021】上記R3 及びR4 で表される複素環基は、
炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から
構成される5〜6員環の飽和又は不飽和の複素環であ
り、これらの例としては、オキサゾール環、ベンゾオキ
サゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミ
ダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、
ピリジン環、ピリミジン環、ピペリジン環、ピロリジン
環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェ
ン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、及びク
マリン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよ
く、その場合の置換基としては、前記アルキル基の置換
基として挙げたものが好ましい。
【0022】R1 及びR2 で表される置換基は、前記ア
ルキル基の置換基として挙げたものと同義である。また
これらの他に、アルキル基(例えばメチル、エチル等)
も挙げることができる。本発明においては、R1 及びR
2 で表される置換基は、水素原子またはアルキル基であ
ることが好ましい。特に好ましくは、水素原子である。
【0023】一般式(I−1)において、そのカチオン
部は、下記一般式(I−2)又は(I−3)で表される
ことが特に好ましい。
【0024】
【化4】
【0025】式中、R5 及びR6 は、それぞれ前述した
1 及びR2 で表される置換基と同義であり、またそれ
ぞれについて、その好ましい範囲も同一である。R7
びR 8 は、それぞれ前述したR3 及びR4 で表される置
換基と同義であり、またそれぞれについて、その好まし
い範囲も同一である。r及びsは、各々独立に0〜4の
整数を表し、そしてrとsが2以上の場合には、複数の
5 及びR6 は各々互いに同じであっても異なっていて
もよい。
【0026】
【化5】
【0027】式中、R9 及びR10は、それぞれ前述した
1 及びR2 で表される置換基と同義であり、またそれ
ぞれについて、その好ましい範囲も同一である。R9
10は、それぞれ互いに連結して炭素環または複素環を
形成している場合も好ましく、特に好ましくは、R9
10がそれぞれ結合しているピリジン環との縮合芳香環
である。r及びsは、各々独立に0〜4の整数を表し、
そしてrとsが2以上の場合には、複数のR9 及びR10
は各々互いに同じであっても異なっていてもよい。
【0028】次に、アニオン部について詳述する。Xp-
で表されるアニオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオ
ンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン
(例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素、沃素イオ
ンなど)、スルホネ−トイオン(例えば、メタンスルホ
ン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メ
チル硫酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、p−
クロロベンゼンスルホン酸イオン、1、3−ベンゼンジ
スルホン酸イオン、1、5−ナフタレンジスルホン酸イ
オン、2、6−ナフタレンジスルホン酸イオンなど)、
硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テ
トラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イ
オン、リン酸イオン(例えば、ヘキサフルオロリン酸イ
オンなど)、またはオキソノ−ル色素などを挙げること
が出来る。
【0029】pは1以上の整数(好ましくは1〜4)を
表し、qは電荷を均衡するために必要な数(0以上、好
ましくは0〜4)を表し、分子内で塩を形成する場合は
0である。一般式(I−1)で表されるビスピリジニウ
ム化合物は、任意の炭素原子上で2種が連結して、ビス
型構造を形成していてもよい。
【0030】本発明に係る一般式(I−1)で表される
ビスピリジニウム化合物は、2、2’−ビピリジルある
いは4、4' −ビピリジルを目的の置換基をもつハロゲ
ン化合物とのメンシュトキン反応(例えば、特開昭61
−148162号公報参照)あるいは、特開昭51−1
6675号公報、および特開平1−96171号公報に
記載の方法に準ずるアリ−ル化反応により容易に得るこ
とが出来る。
【0031】本発明に係る前記一般式(I−1)で表さ
れるビスピリジニウム化合物は単独で用いても良いし、
または二種以上を併用しても良い。或いはまた本発明に
係るビスピリジニウム化合物とこれら以外の従来から情
報記録媒体用の色素化合物として知られている色素化合
物と併用しても良い。これらの例としては、オキソノ−
ル系色素、シアニン系色素、アゾ金属錯体、フタロシア
ニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、ナフ
トキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、及びトリ
アリルメタン系色素等を挙げることが出来る。
【0032】本発明で用いられる一般式(I−1)で表
されるビスピリジニウム化合物の具体的化合物例を以下
に記載する。
【0033】
【化6】
【0034】
【化7】
【0035】
【化8】
【0036】
【化9】
【0037】
【化10】
【0038】
【化11】
【0039】
【化12】
【0040】
【化13】
【0041】
【化14】
【0042】
【化15】
【0043】
【化16】
【0044】
【化17】
【0045】記録層は、記録層の耐光性を向上させるた
めに、種々の褪色防止剤を含有することが好ましい。褪
色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが
用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公
知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用すること
ができる。その具体例としては、特開昭58−1756
93号、同59−81194号、同60−18387
号、同60−19586号、同60−19587号、同
60−35054号、同60−36190号、同60−
36191号、同60−44554号、同60−445
55号、同60−44389号、同60−44390
号、同60−54892号、同60−47069号、同
63−209995号、特開平4−25492号、特公
平1−38680号、及び同6−26028号等の各公
報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学
学会誌1992年10月号第1141頁などに記載のも
のを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチ
ャーの例としては、下記の一般式(II)で表される化合
物を挙げることができる。 一般式(II)
【0046】
【化18】
【0047】(但し、R21は置換基を有していてもよい
アルキル基を表わし、そしてQ- はアニオンを表わ
す。)
【0048】一般式(II)において、R21は置換されてい
てもよい炭素数1〜8のアルキル基が一般的であり、無
置換の炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。アルキル
基の置換基としては、ハロゲン原子(例、F,Cl)、
アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、アルキルチ
オ基(例、メチルチオ、エチルチオ)、アシル基(例、
アセチル、プロピオニル)、アシルオキシ基(例、アセ
トキシ、プロピオニルオキシ)、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル)、アルケニル基(例、ビニル)、アリール
基(例、フェニル、ナフチル)を挙げることができる。
これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Q- のア
ニオンの例としては、ClO4-、AsF6-、BF4-、及
びSbF6-が好ましい。一般式(II)で表される化合物の
例を表1に記載する。
【0049】
【表1】
【0050】本発明の光情報記録媒体は、一定のトラッ
クピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板上に記
録層、光反射層および保護層をこの順に有する構成、あ
るいは該基板上に光反射層、記録層および保護層をこの
順に有する構成であることが好ましい。また、一定のト
ラックピッチのプレグルーブが形成された透明な円盤状
基板上に記録層及び光反射層が設けられてなる二枚の積
層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合され
た構成も好ましい。
【0051】本発明の光情報記録媒体は、より高い記録
密度を達成するためにCD−RやDVD−Rに比べて、
より狭いトラックピッチのプレグループが形成された基
板を用いることが可能である。本発明の光情報記録媒体
の場合、該トラックピッチは0.3〜0.8μmが好ま
しく、更に0.4〜0.6μmが好ましい。
【0052】本発明の光情報記録媒体は、例えば、以下
に述べるような方法により製造することができる。光情
報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板とし
て用いられている各種の材料から任意に選択することが
できる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよ
びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそ
れらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からポリカーボネートが好ましい。
【0053】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善、接着力の向上および記録層の防止の目的
で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては
例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合
体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルア
ミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスル
ホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質;およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層
は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液
を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップ
コート、エクストルージョンコートなどの塗布法により
基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は一般に0.005〜20μmの範囲にあ
り、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
【0054】記録層の形成は、前記ビスピリジニウム化
合物さらに所望により色素、クエンチャー、結合剤など
を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を
基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することに
より行うことができる。ビスピリジニウム化合物含有層
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテ
ートなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロ
ルメタン、1、2−ジクロルエタン、クロロホルムなど
の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミ
ド;シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブ
タノールジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系
溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類など
を挙げることができる。上記溶剤は使用するビスピリジ
ニウム化合物等の溶解性を考慮して単独または二種以上
併用して適宜用いることができる。塗布液中にはさらに
酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添
加剤を目的に応じて添加してもよい。
【0055】結合剤を使用する場合に結合剤の例として
は、たとえばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラ
ン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;およびポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソ
ブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合
体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタ
クリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコー
ル、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹
脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等
の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙
げることができる。記録層の材料として結合剤を併用す
る場合に、結合剤の使用量は、一般にビスピリジニウム
化合物に対して0.01倍量〜50倍量(重量比)の範
囲にあり、好ましくは0.1倍量〜5倍量(重量比)の
範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度
は、一般に0.01〜10重量%の範囲にあり、好まし
くは0.1〜5重量%の範囲にある。
【0056】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層
の層厚は一般に20〜500nmの範囲にあり、好まし
くは50〜300nmの範囲にある。
【0057】記録層の上には、情報の再生時における反
射率の向上の目的で光反射層を設けることが好ましい。
光反射層の材料である光反射性物質はレーザーに対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、S
e、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステ
ンレス鋼であり、更に好ましくはAg、Auであり、特
にAgが好ましい。これらの物質は単独で用いてもよい
し、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用
いてもよい。光反射層は、たとえば上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより記録層の上に形成することができる。光反射
層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲にあ
り、50〜200nmの範囲が好ましい。
【0058】光反射層の上には、記録層などを物理的お
よび化学的に保護する目的で保護層を設けるのが好まし
い。なお、DVD−R型の光情報記録媒体の製造の場合
と同様の形態、すなわち2枚の基板を記録層を内側にし
て張り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付
設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例として
は、SiO、SiO2 、MgF2 、SnO2 、Si3
4 等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬
化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層
は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルム
を接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することができる。
UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、UV光を照射して硬化させることによっても形成す
ることができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止
剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には0.1〜
100μmの範囲にある。以上の工程により、基板上
に、記録層、光反射層そして保護層が設けられた積層体
を製造することができる。
【0059】本発明の光情報記録方法は、上記光情報記
録媒体を用いて、例えば、次のように行れる。まず光情
報記録媒体を定線速度(CDフォーマットの場合は1.
2〜14m/秒)または定角速度にて回転させながら、
基板側あるいは保護層側から半導体レーザーなどの記録
用の光を照射する。この光の照射により、記録層と反射
層との界面に空洞を形成(空洞の形成は、記録層または
反射層の変形、あるいは両層の変形を伴って形成され
る)するか、基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に
変色、会合状態の変化等により屈折率が変化することに
より情報が記録されると考えられる。本発明において
は、記録光として390〜550nmの範囲の発振波長
を有する半導体レーザーが用いられる。好ましい光源と
しては390〜415nmの範囲の発振波長を有する青
紫色半導体レーザー、中心発信波長515nmの青緑色
半導体レーザー、中心発信波長850nmの赤外半導体
レーザーを光導波路素子を使って半分の波長にした中心
発信発振波長425nmの青紫色SHGレーザーをであ
り、中でも記録密度の点で青紫色半導体またはSHGレ
ーザーが特に好ましい。上記のように記録された情報の
再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転
させながら半導体レーザーを基板側あるいは保護層側か
ら照射して、その反射光を検出することにより行うこと
ができる。
【0060】
【実施例】次に、本発明を実施例により、更に詳細に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
【0061】[実施例1]本発明の化合物を2,2,
3,3−テトラフルオロプロパノールに溶解し、記録層
形成用塗布液(濃度:1重量%)を得た。この塗布液を
表面にスパイラルプレグルーブ(トラックピッチ:0.
6μm、グルーブ幅:0.3μm、グルーブの深さ:
0.15μm)が射出成形により形成されたポリカーボ
ネート基板(直径:120mm、厚さ:0.6mm)の
そのプレグルーブ側の表面にスピンコートし、記録層
(厚さ(プレグルーブ内):約120nm)を形成し
た。次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約100n
mの光反射層を形成した。更に、光反射層上にUV硬化
性樹脂(SD318、大日本インキ化学工業社製)を塗
布し、紫外線を照射して層厚7μmの保護層を形成し
た。以上の工程により本発明に従う光情報記録媒体1〜
10を得た。また、本発明の化合物の代わりに比較のた
めの化合物A、B、CおよびD(化合物重量は本発明試
料の場合と同等)を用いた他は上記と全く同様にして比
較用の光情報記録媒体C−1〜4を得た。
【0062】[光情報記録媒体の評価]作製した光情報
記録媒体に線速度3.5m/sで14T−EFM信号を
波長408nmの青紫色半導体レーザーで記録した後、
記録特性を測定した。記録および記録特性評価はパルス
テック社製DDU1000を用いた。各試料の記録層に
用いた化合物および得られた評価結果を表2に示す。
【0063】
【表2】
【0064】比較例に用いた化合物A〜Dの構造式を次
に示す。
【0065】
【化19】
【0066】上記表2の結果から、本発明の化合物を含
有する記録層からなる記録媒体1〜10は、比較例C−
1〜4に比べて高い感度、高い反射率および高い変調度
を示しており、従って大きな信号強度を高感度で得るこ
とができることがわかる。
【0067】
【発明の効果】本発明のビスピリジニウム化合物を用い
ることにより、高反射率、高感度、高変調度を有する光
情報記録媒体を得ることができる。特にCD−RやDV
D−Rの場合よりも短波長のレーザーを用いて上記効果
が得られることから、より高密度の情報記録媒体および
記録再生法を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小森 昇 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 FA01 FA12 FB42 5D029 JA04 JB28 JC02 JC20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体上に、波長550nm以下のレーザ
    ー光を照射することにより情報の記録が可能な記録層が
    設けられてなる情報記録媒体において、該記録層が、下
    記一般式(I−1)で表されるビスピリジニウム化合物
    を含むことを特徴とする情報記録媒体。 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は各々独立に置換基をを表し、R
    3 及びR4 は各々独立にアルキル基、アルケニル基、ア
    ルキニル基、アラルキル基、アリ−ル基または複素環基
    を表し、R1 とR2 、R1 とR3 、R2 とR4 またはR
    3 とR4 は各々互いに連結して環を形成してもよく、r
    およびsは各々独立に0〜4の整数を表し、そしてrと
    sが2以上の場合には、複数のR1 及びR2 は各々互い
    に同じであっても異なっていてもよい。Xp-は陰イオン
    を表し、pは1以上の整数を表し、qは電荷を均衡させ
    るために必要な数を表す。〕
  2. 【請求項2】 記録層上に反射層が設けられていること
    を特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
  3. 【請求項3】 レーザー光の波長が390〜450nm
    であることを特徴とする請求項1または2に記載の情報
    記録媒体。
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