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JP2001050983A - Probe card - Google Patents

Probe card

Info

Publication number
JP2001050983A
JP2001050983A JP11225154A JP22515499A JP2001050983A JP 2001050983 A JP2001050983 A JP 2001050983A JP 11225154 A JP11225154 A JP 11225154A JP 22515499 A JP22515499 A JP 22515499A JP 2001050983 A JP2001050983 A JP 2001050983A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
anisotropic conductive
probe card
conductive sheet
circuit device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11225154A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoki Ryutsu
直樹 柳通
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP11225154A priority Critical patent/JP2001050983A/en
Publication of JP2001050983A publication Critical patent/JP2001050983A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被検査電極の表面に酸化膜を有する回路装置
に対しても、所要の電気的接続を確実に達成することが
できるプローブカードの提供。回路装置の表面が損傷ま
たは汚染することを防止することができ、長期間にわた
って良好な電気的接続状態を維持することができるプロ
ーブカードの提供。 【解決手段】 検査対象回路装置と電気的検査装置との
間に介在されて当該回路装置の電極の電気的検査を行う
ためのプローブカードであって、弾性高分子物質中に導
電性粒子が充填された厚み方向に伸びる複数の導電部
が、弾性高分子物質よりなる絶縁部によって相互に絶縁
された状態で配置された異方導電性シートと、異方導電
性シートの導電部の各々に電気的に接続された複数の突
起状電極とを具え、異方導電性シートと突起状電極とは
一体化されている。突起状電極の各々は、異方導電性シ
ート上に配置された支持板によって支持されていること
が好ましい。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe card capable of reliably achieving required electrical connection even to a circuit device having an oxide film on the surface of an electrode to be inspected. Provided is a probe card capable of preventing a surface of a circuit device from being damaged or contaminated, and maintaining a good electrical connection state for a long period of time. A probe card interposed between a circuit device to be tested and an electrical testing device for performing electrical testing of electrodes of the circuit device, wherein an elastic polymer material is filled with conductive particles. A plurality of conductive portions extending in the thickness direction are electrically insulated from each other by an anisotropic conductive sheet disposed in a state where the conductive portions are insulated from each other by an insulating portion made of an elastic polymer material. A plurality of protruding electrodes that are electrically connected, and the anisotropic conductive sheet and the protruding electrodes are integrated. Each of the protruding electrodes is preferably supported by a support plate disposed on the anisotropic conductive sheet.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プローブカードに
関し、更に詳しくは半導体チップよりなる回路装置の電
気的特性をウエハの状態で検査するために好適なプロー
ブカードに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a probe card, and more particularly, to a probe card suitable for inspecting electrical characteristics of a circuit device comprising a semiconductor chip in a wafer state.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体集積回路装置は、ウエハ
上に所要の回路パターンが形成された後、このウエハを
切断することによって半導体チップが形成され、この半
導体チップが適宜のパッケージ内に収納されて封止され
ることにより製造される。而して、このような半導体集
積回路装置の品質保証を行うためには、当該半導体集積
回路装置の電気的特性の検査を行うことのみならず、半
導体チップ自体の電気的特性の検査を行うことが極めて
重要である。また、近年、半導体チップ自体を集積回路
装置として用い、当該半導体チップよりなる回路装置を
例えばプリント回路基板上に直接実装する実装法が開発
されており、そのため、半導体チップ自体の品質保証を
行うことが要請されている。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor integrated circuit device, after a required circuit pattern is formed on a wafer, a semiconductor chip is formed by cutting the wafer, and the semiconductor chip is housed in an appropriate package. It is manufactured by sealing. Therefore, in order to assure the quality of such a semiconductor integrated circuit device, it is necessary to not only inspect the electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit device but also inspect the electrical characteristics of the semiconductor chip itself. Is extremely important. In recent years, a mounting method has been developed in which a semiconductor chip itself is used as an integrated circuit device, and a circuit device formed of the semiconductor chip is directly mounted on, for example, a printed circuit board. Has been requested.

【0003】然るに、半導体チップは微細であってその
取扱いが不便なものであるため、半導体チップよりなる
回路装置の検査を行うためには、長い時間を要し、ま
た、検査コストが相当に高くなる。このような理由か
ら、最近において、半導体チップよりなる回路装置の電
気的特性の検査をウエハの状態で行うWLBI(Waf
er Level Burn−in)テストが注目され
ている。
However, since semiconductor chips are fine and inconvenient to handle, it takes a long time to inspect a circuit device composed of semiconductor chips, and the inspection cost is considerably high. Become. For these reasons, WLBI (Waf), which inspects the electrical characteristics of a circuit device composed of a semiconductor chip in a wafer state, recently.
er Level Burn-in) test is receiving attention.

【0004】従来、回路装置の電気的検査においては、
検査対象である回路装置の被検査電極の各々をテスター
に電気的に接続するため、プローブカードが用いられて
いる。このプローブカードは、ピンまたはブレードより
なる検査プローブが、被検査電極の各々に対応して配列
されてなるものであり、当該プローブカードが検査対象
である回路装置とテスターとの間に介在されることによ
り、当該回路装置の被検査電極と、テスターとの電気的
接続が行われ、所要の電気的検査が行われる。そして、
WLBIテストにおいて、ウエハにおける全ての回路装
置の被検査電極に対応する検査プローブを有するプロー
ブを用いることができれば、ウエハにおける全ての回路
装置の電気的検査を1回の検査処理によって行うことが
可能となるため、検査時間の短縮を図ることができる。
Conventionally, in an electrical inspection of a circuit device,
A probe card is used to electrically connect each of the electrodes to be inspected of a circuit device to be inspected to a tester. In this probe card, inspection probes formed of pins or blades are arranged corresponding to each of the electrodes to be inspected, and the probe card is interposed between a circuit device to be inspected and a tester. As a result, the electrode to be inspected of the circuit device is electrically connected to the tester, and the required electrical inspection is performed. And
In the WLBI test, if a probe having an inspection probe corresponding to the electrode to be inspected of all the circuit devices on the wafer can be used, the electrical inspection of all the circuit devices on the wafer can be performed by one inspection process. Therefore, the inspection time can be shortened.

【0005】然るに、このようなプローブカードを作製
するためには、非常に多数(例えば数千個以上)の検査
プローブを配列することが必要となるため、当該プロー
ブカードは極めて高価なものとなり、また、被検査電極
のピッチが小さい場合には、プローブカードを作製する
こと自体が困難となる。また、一般に、ウエハには反り
が生じており、その反りの状態も製品(ウエハ)毎に異
なるため、ウエハにおける全ての回路装置の被検査電極
に対して、プローブカードの検査プローブの各々を同時
にかつ安定に接続させることは実際上困難である。
However, in order to manufacture such a probe card, it is necessary to arrange a very large number (for example, thousands or more) of test probes, so that the probe card becomes extremely expensive. Further, when the pitch of the electrodes to be inspected is small, it is difficult to fabricate the probe card itself. Also, in general, a wafer is warped, and the state of the warp is different for each product (wafer). Therefore, the inspection probes of the probe card are simultaneously applied to the electrodes to be inspected of all the circuit devices on the wafer. It is practically difficult to make a stable connection.

【0006】また、回路装置の電気的検査においては、
ピンまたはブレードよりなる検査プローブを有するプロ
ーブカードの代わりに、異方導電性シートをプローブカ
ードとして用いる方法、具体的には、検査対象である回
路装置と、この回路装置の被検査電極に対応するパター
ンの接続用電極を有する検査用回路基板との間に、異方
導電性シートを介在させて、当該回路装置の電気的検査
を行う方法が知られている。この異方導電性シートは、
厚み方向にのみ導電性を示すもの、あるいは加圧された
ときに厚み方向にのみ導電性を示す多数の加圧導電路形
成部を有するものであり、種々の構造のものが例えば特
公昭56−48951号公報、特開昭51−93393
号公報、特開昭53−147772号公報、特開昭54
−146873号公報などにより、知られている。そし
て、WLBIテストにおいて、このような異方導電性シ
ートをプローブカードとして用いることにより、異方導
電性シートを検査対象であるウエハに接触させたとき
に、ウエハの反りの大きさに応じて当該異方導電性シー
トが厚み方向に変形するため、ウエハにおける全ての回
路装置の被検査電極の各々について所要の電気的接続を
行うことが可能となる。
In the electrical inspection of circuit devices,
A method using an anisotropic conductive sheet as a probe card instead of a probe card having an inspection probe composed of a pin or a blade, specifically, a circuit device to be inspected and an electrode to be inspected of the circuit device 2. Description of the Related Art There is known a method of performing an electrical inspection of a circuit device by interposing an anisotropic conductive sheet between the circuit device and an inspection circuit board having a pattern connection electrode. This anisotropic conductive sheet is
It has conductivity only in the thickness direction, or has a large number of pressurized conductive path forming portions that have conductivity only in the thickness direction when pressed, and various structures are available. No. 48951, JP-A-51-93393
JP, JP-A-53-147772, JP-A-Showa 54
This is known from, for example, Japanese Patent Publication No. 146873. Then, in the WLBI test, by using such an anisotropic conductive sheet as a probe card, when the anisotropic conductive sheet is brought into contact with a wafer to be inspected, the anisotropic conductive sheet is used in accordance with the magnitude of the warpage of the wafer. Since the anisotropic conductive sheet is deformed in the thickness direction, required electrical connection can be performed for each of the electrodes to be inspected of all the circuit devices on the wafer.

【0007】しかしながら、異方導電性シートをプロー
ブカードとして用いる場合には、以下のような問題があ
る。ウエハ上に形成された回路装置の被検査電極は、一
般に、銅、アルミニウム、金などにより構成され、その
表面には、絶縁性の酸化膜が形成されているため、当該
回路装置の電気的検査においては、プローブカードによ
って、被検査電極の表面に形成された酸化膜を突き破る
ことが必要である。然るに、異方導電性シートは柔軟な
ものであるため、回路装置の被検査電極に電気的に接続
する際に、当該被検査電極の表面に形成された酸化膜を
突き破るためには、相当に大きい加圧力が必要であり、
その結果、検査対象である回路装置の表面が、加圧力に
よって損傷したり、あるいは異方導電性シートを構成す
る弾性高分子物質中に含有される低分子量成分によって
汚染したりする。また、回路装置と異方導電性シートと
の電気的接続を繰り返して行うと、当該異方導電性シー
トの導電部が早期に損傷して良好な電気的接続状態を維
持することができない。
However, when the anisotropic conductive sheet is used as a probe card, there are the following problems. An electrode to be inspected of a circuit device formed on a wafer is generally made of copper, aluminum, gold, or the like, and an insulating oxide film is formed on a surface of the electrode. In this method, it is necessary to break through an oxide film formed on the surface of the electrode to be inspected with a probe card. However, since the anisotropic conductive sheet is flexible, when electrically connected to the electrode to be inspected of the circuit device, it is considerably difficult to break through the oxide film formed on the surface of the electrode to be inspected. Large pressure is required,
As a result, the surface of the circuit device to be inspected is damaged by the applied pressure, or is contaminated by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet. In addition, when the electrical connection between the circuit device and the anisotropic conductive sheet is repeatedly performed, the conductive portion of the anisotropic conductive sheet is damaged at an early stage, and a good electrical connection state cannot be maintained.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであり、本発明の第1の
目的は、検査対象である回路装置の被検査電極がその表
面に酸化膜を有するものであっても、所要の電気的接続
を確実に達成することができるプローブカードを提供す
ることにある。本発明の第2の目的は、検査対象である
回路装置の表面が損傷または汚染することを防止するこ
とができ、しかも、長期間にわたって良好な電気的接続
状態を維持することができるプローブカードを提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide a circuit device to be inspected in which an electrode to be inspected is provided on a surface thereof. It is an object of the present invention to provide a probe card which can reliably attain required electrical connection even if it has an oxide film. A second object of the present invention is to provide a probe card capable of preventing a surface of a circuit device to be inspected from being damaged or contaminated, and capable of maintaining a good electrical connection state for a long period of time. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のプローブカード
は、検査対象である回路装置と電気的検査装置との間に
介在されて当該回路装置の電極の電気的検査を行うため
のプローブカードであって、弾性高分子物質中に導電性
粒子が充填された、それぞれ厚み方向に伸びる複数の導
電部が、弾性高分子物質よりなる絶縁部によって相互に
絶縁された状態で配置されてなる異方導電性シートと、
この異方導電性シートの導電部の各々に電気的に接続さ
れた複数の突起状電極とを具えてなり、前記異方導電性
シートと前記突起状電極とが一体化されていることを特
徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A probe card according to the present invention is a probe card interposed between a circuit device to be inspected and an electrical inspection device for electrically inspecting electrodes of the circuit device. A plurality of conductive portions, each of which is filled with conductive particles in an elastic polymer material and extends in the thickness direction, are arranged in a state insulated from each other by an insulating portion made of the elastic polymer material. A conductive sheet;
A plurality of protruding electrodes electrically connected to each of the conductive portions of the anisotropic conductive sheet, wherein the anisotropic conductive sheet and the protruding electrodes are integrated. And

【0010】本発明のプローブカードにおいては、前記
突起状電極の各々は、前記異方導電性シート上に配置さ
れた支持板によって支持されていることが好ましい。ま
た、前記異方導電性シートと前記支持体との間に、当該
異方導電性シートの導電部に、前記突起状電極を電気的
に接続する配線部が設けられていてもよい。また、本発
明のプローブカードは、ウエハ上に形成された回路装置
の電気的検査に好適に用いることができる。
[0010] In the probe card of the present invention, it is preferable that each of the protruding electrodes is supported by a support plate disposed on the anisotropic conductive sheet. Further, between the anisotropic conductive sheet and the support, a wiring portion for electrically connecting the protruding electrodes may be provided on a conductive portion of the anisotropic conductive sheet. Further, the probe card of the present invention can be suitably used for electrical inspection of a circuit device formed on a wafer.

【0011】[0011]

【作用】(1)突起状電極が異方導電性シートに一体的
に設けられているため、被検査電極がその表面に酸化膜
を有するものであっても、当該突起状電極によって当該
酸化膜を小さい押圧力で突き破ることができ、その結
果、所要の電気的接続が確実に達成される。 (2)小さい押圧力で所要の電気的接続が確実に達成さ
れるので、検査対象である回路装置の表面が損傷するこ
とを防止することができ、しかも、長期間にわたって良
好な電気的接続状態を維持することができる。 (3)被検査電極には、異方導電性シートが直接接触す
ることがないため、当該異方導電性シートを構成する弾
性高分子物質中に含有される低分子量成分により、被検
査電極が汚染することを防止することができる。
(1) Since the protruding electrode is provided integrally with the anisotropic conductive sheet, even if the electrode to be inspected has an oxide film on its surface, the protruding electrode forms the oxide film. Can be pierced with a small pressing force, so that the required electrical connection is achieved. (2) Since the required electrical connection is reliably achieved with a small pressing force, it is possible to prevent the surface of the circuit device to be inspected from being damaged, and to maintain a good electrical connection state for a long period of time. Can be maintained. (3) Since the anisotropic conductive sheet does not directly come into contact with the electrode to be inspected, the electrode to be inspected is formed by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet. Contamination can be prevented.

【0012】(4)異方導電性シート上に突起状電極を
支持する支持体を設けることにより、突起状電極が被検
査電極を押圧したときに、当該突起状電極が傾くことが
防止され、その結果、所要の電気的接続を一層確実に達
成することができる。また、支持体によって、異方導電
性シートが回路装置に直接接触することが回避されるた
め、当該異方導電性シートを構成する弾性高分子物質中
に含有される低分子量成分により、回路装置の表面が汚
染することを防止することができる。 (5)異方導電性シートと支持体との間に、異方導電性
シートの導電部に突起状電極を電気的に接続する配線部
を設けることにより、当該異方導電性シートの導電部の
ピッチを検査対象である回路装置の被検査電極のピッチ
に合わせることが不要であり、適宜の大きさとすること
ができる。従って、検査対象である回路装置の被検査電
極のピッチが小さいものであっても、当該被検査電極の
ピッチより大きいピッチの導電部を有する異方導電性シ
ートを利用することにより、被検査電極間における所要
の絶縁性が確保された状態で、当該被検査電極の電気的
検査を実行することができる。
(4) By providing a support for supporting the protruding electrodes on the anisotropic conductive sheet, when the protruding electrodes press the electrode to be inspected, the protruding electrodes are prevented from tilting, As a result, the required electrical connection can be achieved more reliably. In addition, since the support prevents the anisotropic conductive sheet from directly contacting the circuit device, the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet causes the circuit device to have a low molecular weight. Can be prevented from being contaminated. (5) By providing a wiring portion for electrically connecting the protruding electrodes to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet between the anisotropic conductive sheet and the support, the conductive portion of the anisotropic conductive sheet is provided. It is not necessary to match the pitch of the electrodes with the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected, and the size can be appropriately set. Therefore, even if the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected is small, the anisotropic conductive sheet having the conductive portion having a pitch larger than the pitch of the electrodes to be inspected can be used. The electrical inspection of the electrode to be inspected can be performed in a state where required insulation between the electrodes is secured.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 〈第1の実施の形態〉図1は、本発明のプローブカード
に係る第1の実施の形態における要部の構成を示す説明
用断面図である。このプローブカードは、それぞれ厚み
方向に伸びる複数の導電部11と、これらの導電部11
を相互に絶縁する絶縁部12とよりなる異方導電性シー
ト10を有する。この異方導電性シート10における導
電部11の各々は、当該異方導電性シート10の面方向
に沿って、検査対象である回路装置の被検査電極のパタ
ーンに対応するパターンに従って配置されている。そし
て、異方導電性シート10における各々の導電部11上
には、接着層15を介して、金属よりなる突起状電極2
0が一体的に設けられている。この突起状電極20は、
半球状の先端部21と円板状の基端部22とが連結部2
3によって連結されて構成されている。この第1の実施
の形態において、導電部11の各々は、絶縁部12の厚
みと同一の厚みを有し、その上面が絶縁部12の上面と
同一平面上に位置するよう配置されており、これによ
り、接着層15および突起状電極20が、異方導電性シ
ートにおける絶縁部12の表面から突出した状態とされ
ている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. <First Embodiment> FIG. 1 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a first embodiment of a probe card according to the present invention. The probe card includes a plurality of conductive portions 11 each extending in a thickness direction, and a plurality of these conductive portions 11.
Has an anisotropic conductive sheet 10 composed of an insulating portion 12 that insulates each other. Each of the conductive portions 11 in the anisotropic conductive sheet 10 is arranged along a surface direction of the anisotropic conductive sheet 10 according to a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected. . Then, on each conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10, a protruding electrode 2 made of metal is provided via an adhesive layer 15.
0 is provided integrally. This protruding electrode 20
The hemispherical tip portion 21 and the disc-shaped base portion 22 are connected to the connecting portion 2.
3 are connected. In the first embodiment, each of the conductive portions 11 has the same thickness as the thickness of the insulating portion 12 and is arranged such that its upper surface is located on the same plane as the upper surface of the insulating portion 12. Thereby, the adhesive layer 15 and the protruding electrodes 20 are in a state of protruding from the surface of the insulating portion 12 in the anisotropic conductive sheet.

【0014】異方導電性シート10における導電部11
は、絶縁性の弾性高分子物質中に導電性粒子が充填され
て構成され、好ましくは弾性高分子物質中に導電性粒子
が厚み方向に並んだ状態で配向されており、この導電性
粒子により、当該導電部の厚み方向に導電路が形成され
る。この導電部11は、厚み方向に加圧されて圧縮され
たときに抵抗値が減少して導電路が形成される、加圧導
電部とすることもできる。
The conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10
Is formed by filling conductive particles in an insulating elastic polymer material, and preferably, the conductive particles are oriented in the elastic polymer material in a state of being arranged in the thickness direction. A conductive path is formed in the thickness direction of the conductive part. The conductive portion 11 may be a pressurized conductive portion in which a conductive path is formed by reducing the resistance value when compressed and compressed in the thickness direction.

【0015】導電部11に用いられる絶縁性の弾性高分
子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好まし
い。架橋高分子物質を得るために用いることのできる硬
化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用い
ることができ、その具体例としては、ポリブタジエン、
天然ゴム、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重
合体ゴム(SBR)、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体ゴム(NBR)などの共役ジエン系ゴムおよびこ
れらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロ
ック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体
などのブロック共重合体およびこれらの水素添加物、ク
ロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピ
クロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロ
ピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合
体などが挙げられる。以上において、得られる異方導電
性シート10に耐候性が要求される場合には、共役ジエ
ン系ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成
形加工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを
用いることが好ましい。
As the insulating elastic high molecular substance used for the conductive portion 11, a high molecular substance having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance forming material that can be used to obtain the crosslinked polymer substance, and specific examples thereof include polybutadiene,
Conjugated diene rubbers such as natural rubber, polyisoprene, styrene-butadiene copolymer rubber (SBR), acrylonitrile-butadiene copolymer rubber (NBR) and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer, Block copolymers such as styrene-isoprene block copolymers and their hydrogenated products, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer And the like. In the above, when the obtained anisotropic conductive sheet 10 is required to have weather resistance, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber. In particular, from the viewpoint of moldability and electrical characteristics, silicone rubber is used. Preferably, it is used.

【0016】ここで、シリコーンゴムについてさらに詳
細に説明する。シリコーンゴムとしては、液状シリコー
ンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリ
コーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105
ポアズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型の
もの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどの
いずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコー
ン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェ
ニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができ
る。
Here, the silicone rubber will be described in more detail. As the silicone rubber, one obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber is preferable. Liquid silicone rubber has a viscosity of 10 5 at a strain rate of 10 −1 sec.
Poises or less are preferable, and any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group may be used. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.

【0017】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。
Among these, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C.

【0018】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。本発
明においては、上記のビニル基含有ポリジメチルシロキ
サンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサン
のいずれか一方を用いることもでき、両者を併用するこ
ともできる。
On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
Further, cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used as a polymerization terminator, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.

【0019】このような弾性高分子物質は、その分子量
Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。以
下同じ。)が10000〜40000のものであること
が好ましい。また、得られる導電部の耐熱性の観点か
ら、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの
比Mw/Mnの値をいう。以下同じ。)が2.0以下の
ものが好ましい。
Such an elastic polymer substance preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive part, the molecular weight distribution index (the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn; the same applies hereinafter) is 2. Those having 0 or less are preferable.

【0020】導電部11に用いられる導電性粒子として
は、例えば鉄、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、銀、コバ
ルト、アルミニウムなどの公知の単体導電性金属粒子、
およびこれらの金属元素の2種以上からなる合金導電性
金属粒子を挙げることができる。これらの中では、ニッ
ケル、鉄、銅などの単体導電性金属粒子が、経済性と導
電特性の点で好ましい。また、後述する方法により当該
粒子を異方導電性シート10の厚み方向に容易に配向さ
せることができる観点から、磁性を示す導電性粒子を用
いることが好ましく、特に、接触抵抗が極めて小さい点
で、例えば無電解メッキなどによって表面に金よりなる
被覆膜が形成されたニッケル粒子を用いることが好まし
い。この被覆膜の膜厚は、1000Å以上であることが
好ましい。また、被覆量としては導電性粒子全体の1重
量%以上が好ましく、さらに好ましくは2〜10重量
%、特に好ましくは3〜8重量%である。
The conductive particles used in the conductive portion 11 include known simple conductive metal particles such as iron, copper, zinc, chromium, nickel, silver, cobalt, and aluminum.
And alloy conductive metal particles composed of two or more of these metal elements. Among these, simple conductive metal particles such as nickel, iron, and copper are preferable in terms of economy and conductive characteristics. In addition, from the viewpoint that the particles can be easily oriented in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 10 by a method described later, it is preferable to use conductive particles exhibiting magnetism. For example, it is preferable to use nickel particles on the surface of which a coating film made of gold is formed by, for example, electroless plating. The thickness of the coating film is preferably 1000 ° or more. The coating amount is preferably 1% by weight or more of the whole conductive particles, more preferably 2 to 10% by weight, and particularly preferably 3 to 8% by weight.

【0021】また、導電性粒子として、その表面がシラ
ンカップリング剤などのカップリング剤で処理されたも
のを適宜用いることができる。導電性粒子の表面がカッ
プリング剤で処理されることにより、当該導電性粒子と
弾性高分子物質との接着性が高くなり、その結果、得ら
れる導電部11は、繰り返しの使用における耐久性が高
いものとなる。カップリング剤の使用量は、導電性粒子
の導電性に影響を与えない範囲で適宜選択されるが、導
電性粒子表面におけるカップリング剤の被覆率(導電性
芯粒子の表面積に対するカップリング剤の被覆面積の割
合)が5%以上となる量であることが好ましく、より好
ましくは上記被覆率が7〜100%、さらに好ましくは
10〜100%、特に好ましくは20〜100%となる
量である。
As the conductive particles, those whose surfaces have been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be appropriately used. When the surface of the conductive particles is treated with the coupling agent, the adhesiveness between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the obtained conductive portion 11 has durability in repeated use. It will be expensive. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). (The ratio of the coating area) is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, more preferably 10 to 100%, particularly preferably 20 to 100%. .

【0022】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる導電部11は、加圧変形が容易なものとなり、
また、当該導電部11において導電性粒子
The particle size of the conductive particles is 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The resulting conductive portion 11 is easily deformed under pressure,
Further, in the conductive portion 11, conductive particles are used.

【0023】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、特に好ましくは1%以下である。
このような条件を満足する導電性粒子を用いることによ
り、後述する製造方法において、高分子物質用材料層を
硬化処理する際に、当該高分子物質用材料層内に気泡が
生ずることが防止または抑制される。
The water content of the conductive particles is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less.
By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the polymer material layer when the polymer material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.

【0024】このような導電性粒子は、弾性高分子物質
100重量部に対して10〜1000重量部、好ましく
は30〜750重量部の割合で用いることが好ましい。
この割合が10重量部未満である場合には、十分に電気
抵抗値の小さい導電部11が得られないことがある。一
方、この割合が1000重量部を超える場合には、得ら
れる導電部11は脆弱なものとなりやすく、導電部とし
て必要な弾性が得られないことがある。
It is preferable that such conductive particles are used in an amount of 10 to 1000 parts by weight, preferably 30 to 750 parts by weight, based on 100 parts by weight of the elastic polymer material.
If this ratio is less than 10 parts by weight, the conductive portion 11 having a sufficiently small electric resistance may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 1000 parts by weight, the obtained conductive portion 11 tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive portion may not be obtained in some cases.

【0025】異方導電性シート10における絶縁部12
は、絶縁性を有する弾性高分子物質により構成されてい
る。かかる弾性高分子物質を得るために用いることので
きる硬化性の高分子物質形成材料としては、ポリブタジ
エンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−
ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの
水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共
重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体な
どのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、
クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プ
ロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン
共重合体ゴムなどが挙げられ、得られる異方導電性シー
トに耐候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム以
外のものを用いることが好ましい。絶縁部12を構成す
る弾性高分子物質としては、導電部11を構成する弾性
高分子物質と同一の種類のものあるいは異なる種類のも
のを用いることができる。また、絶縁部12は、導電路
形成部11と一体であってもよく、また、別体のもので
あってもよい。
The insulating portion 12 in the anisotropic conductive sheet 10
Is made of an elastic polymer material having an insulating property. Curable polymer material forming materials that can be used to obtain such an elastic polymer material include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene-
Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, and block copolymers such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber and styrene-isoprene block copolymer Rubber and their hydrogenated products,
Chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like.The anisotropic conductive sheet obtained is required to have weather resistance. In this case, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber. As the elastic high molecular substance forming the insulating section 12, the same type or different type of elastic high molecular substance forming the conductive section 11 can be used. Further, the insulating section 12 may be integrated with the conductive path forming section 11 or may be separate.

【0026】異方導電性シート10の厚みは、例えば
0.1〜2mmであり、好ましくは0.2〜1mmであ
る。また、導電部11の径は、例えば0.01〜1mm
であり、好ましくは0.02〜0.5mmである。
The thickness of the anisotropic conductive sheet 10 is, for example, 0.1 to 2 mm, preferably 0.2 to 1 mm. The diameter of the conductive part 11 is, for example, 0.01 to 1 mm.
And preferably 0.02 to 0.5 mm.

【0027】接着層15を構成する材料としては、熱硬
化性樹脂または放射線硬化性樹脂などの硬化性樹脂或い
は弾性高分子物質を用いることができる。硬化性樹脂の
具体例としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェ
ノール樹脂などが挙げられる。また、弾性高分子物質の
具体例としては、前述の異方導電性シート10の導電部
11を構成する弾性高分子物質として例示したものが挙
げられる。導電性接着層15の厚みは、例えば0.05
〜0.5mmであり、好ましくは0.15〜0.25m
mである。
As a material for forming the adhesive layer 15, a curable resin such as a thermosetting resin or a radiation curable resin, or an elastic polymer substance can be used. Specific examples of the curable resin include an epoxy resin, a polyimide resin, and a phenol resin. In addition, specific examples of the elastic polymer substance include those exemplified as the elastic polymer substance constituting the conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10 described above. The thickness of the conductive adhesive layer 15 is, for example, 0.05
0.50.5 mm, preferably 0.15 to 0.25 m
m.

【0028】また、接着層15には、導電性粉末が含有
されていることが好ましく、これにより、十分に高い導
電性を有する接着層15を形成することができる。かか
る導電性粉末としては、種々の金属粉末を用いることが
でき、その具体例としては、銀粉末、パラジウム粉末、
銀−パラジウム合金の粉末、金粉末、銅粉末またはこれ
らの金属粉末の混合物などが挙げられる。また、接着層
15に導電性粉末を含有させる場合には、当該導電性粉
末の含有割合は、体積分率で30〜70%、特に40〜
60%であることが好ましい。この含有割合が過小であ
る場合には、所要の導電性を有する接着層15を得るこ
とが困難となることがある。一方、この含有割合が過大
である場合には、得られる接着層15は、強度の低いも
のとなりやすく、繰り返し使用した場合に、早期に破損
してしまい、長い使用寿命が得られないことがある。
Further, it is preferable that the adhesive layer 15 contains a conductive powder, so that the adhesive layer 15 having sufficiently high conductivity can be formed. As the conductive powder, various metal powders can be used, and specific examples thereof include silver powder, palladium powder,
Examples thereof include silver-palladium alloy powder, gold powder, copper powder, and a mixture of these metal powders. Further, when the conductive powder is contained in the adhesive layer 15, the content ratio of the conductive powder is 30 to 70% by volume, particularly 40 to 70%.
Preferably it is 60%. If this content ratio is too small, it may be difficult to obtain the adhesive layer 15 having the required conductivity. On the other hand, when this content ratio is excessive, the obtained adhesive layer 15 tends to have low strength, and when used repeatedly, may be damaged early, and a long service life may not be obtained. .

【0029】突起状電極20を構成する金属としては、
鉄、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、金、銀、コバルト、
アルミニウムなどの公知の単体導電性金属、およびこれ
らの金属元素の2種以上からなる合金導電性金属を挙げ
ることができる。これらの中では、ニッケル、鉄、銅な
どの単体導電性金属が、経済性および導電特性の点で好
ましく、特に好ましくはニッケルである。また、突起状
電極20の表面は、金、銀、ロジウムもしくはハンダな
どにより被覆されていることが好ましく、特に、接触抵
抗が極めて小さい点で、金により被覆されていることが
好ましい。また、金により被覆する場合には、その膜厚
は500Å以上であることが好ましい。また、突起状電
極20の厚み(高さ)は、1μm以上であることが好ま
しく、さらに好ましくは5〜100μm、より好ましく
は10〜50μm、特に好ましくは15〜35μmであ
る。
The metal constituting the protruding electrode 20 includes
Iron, copper, zinc, chromium, nickel, gold, silver, cobalt,
A known simple conductive metal such as aluminum and an alloy conductive metal composed of two or more of these metal elements can be exemplified. Among these, simple conductive metals such as nickel, iron, and copper are preferable in terms of economy and conductive characteristics, and nickel is particularly preferable. The surface of the protruding electrode 20 is preferably coated with gold, silver, rhodium, solder, or the like, and particularly preferably coated with gold because contact resistance is extremely small. When coating with gold, the film thickness is preferably 500 ° or more. The thickness (height) of the protruding electrode 20 is preferably 1 μm or more, more preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm, and particularly preferably 15 to 35 μm.

【0030】上記のプローブカードは、例えば次のよう
な方法によって製造することができる。この方法におい
ては、先ず、異方導電性シート10を製造する。図2
は、異方導電性シートを製造するために用いられる金型
の一例の構成を示す説明用断面図である。この金型は、
上型50およびこれと対となる下型55により構成され
ている。上型50は、非磁性体よりなる型板51を有
し、この型板50の表面には、製造すべき異方導電性シ
ート10における導電部11の配置パターンと対掌なパ
ターンに従って凹所51Hが形成され、この凹所51H
内には、強磁性体よりなる磁性部材52が配置されてい
る。一方、下型55は、非磁性体よりなる型板56を有
し、この型板56の表面には、製造すべき異方導電性シ
ート10における導電部11の配置パターンと同一なパ
ターンに従って凹所56Hが形成され、この凹所56H
内には、強磁性体よりなる磁性部材57が配置されてい
る。上型50の型板51および下型55の型板を構成す
る非磁性体材料としては、銅などの非磁性金属、ポリイ
ミドなどの耐熱性樹脂などを用いることができる。ま
た、上型50の磁性部材52および下型55の磁性部材
57を構成する強磁性体材料としては、鉄、ニッケル、
コバルトまたはこれらの合金などを用いることができ
る。
The above probe card can be manufactured, for example, by the following method. In this method, first, the anisotropic conductive sheet 10 is manufactured. FIG.
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of a mold used for manufacturing an anisotropic conductive sheet. This mold
It is composed of an upper die 50 and a lower die 55 that is paired with the upper die 50. The upper mold 50 has a template 51 made of a non-magnetic material, and the surface of the template 50 has a recess according to a pattern opposite to the arrangement pattern of the conductive portions 11 in the anisotropic conductive sheet 10 to be manufactured. 51H are formed, and the recess 51H is formed.
Inside, a magnetic member 52 made of a ferromagnetic material is arranged. On the other hand, the lower die 55 has a template 56 made of a non-magnetic material, and the surface of the template 56 is recessed according to the same pattern as the arrangement pattern of the conductive portions 11 in the anisotropic conductive sheet 10 to be manufactured. 56H is formed, and this recess 56H is formed.
Inside, a magnetic member 57 made of a ferromagnetic material is arranged. As the nonmagnetic material constituting the template 51 of the upper mold 50 and the template of the lower mold 55, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or the like can be used. The ferromagnetic materials constituting the magnetic member 52 of the upper mold 50 and the magnetic member 57 of the lower mold 55 include iron, nickel,
Cobalt or an alloy thereof can be used.

【0031】そして、図3に示すように、上型50と下
型55との間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分
子物質用材料中に磁性を示す導電性粒子が分散されてな
るシート成形材料よりなる層(以下、「シート成形材料
層」という。)10Aを形成すると共に、上型50の上
面およひ下型55の下面に一対の電磁石53,58を配
置する。
Then, as shown in FIG. 3, between the upper mold 50 and the lower mold 55, conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a polymer material which is cured to become an elastic polymer material. In addition to forming a layer (hereinafter, referred to as a “sheet forming material layer”) 10A made of a sheet forming material, a pair of electromagnets 53 and 58 are arranged on the upper surface of the upper die 50 and the lower surface of the lower die 55.

【0032】シート成形材料中には、高分子物質用材料
を硬化させるための硬化触媒を含有させることができ
る。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂肪
酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いることが
できる。硬化触媒として用いられる有機過酸化物の具体
例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロベ
ンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブチ
ルなどが挙げられる。硬化触媒として用いられる脂肪酸
アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチロニト
リルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触媒とし
て使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸および
その塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレック
ス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、白金
と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとのコン
プレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホスファ
イトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテート白
金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックスなど
の公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、高分
子物質形成材料の種類、硬化触媒の種類、その他の硬化
処理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分子物
質用材料100重量部に対して3〜15重量部である。
The sheet molding material may contain a curing catalyst for curing the polymer material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of the catalyst which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinylsiloxane and platinum, and platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane. And a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer-forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions. 15 parts by weight.

【0033】また、シート成形材料中には、必要に応じ
て、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシ
リカ、アルミナなどの無機充填材を含有させることがで
きる。このような無機充填材を含有させることにより、
当該シート成形材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、得られる異方導電性シートの強度が高
くなる。このような無機充填材の使用量は、特に限定さ
れるものではないが、多量に使用すると、後述する製造
方法において、磁場による導電性磁性体粒子の配向を十
分に達成することができなくなるため、好ましくない。
また、シート成形材料の粘度は、温度25℃において1
00000〜1000000cpの範囲内であることが
好ましい。
The sheet molding material may contain, if necessary, ordinary inorganic fillers such as silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina. By including such an inorganic filler,
The thixotropy of the sheet molding material is ensured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the strength of the obtained anisotropic conductive sheet is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but if used in a large amount, the orientation of the conductive magnetic particles due to the magnetic field cannot be sufficiently achieved in the manufacturing method described below. Is not preferred.
The viscosity of the sheet molding material is 1 at a temperature of 25 ° C.
It is preferable to be in the range of 0000 to 1,000,000 cp.

【0034】そして、電磁石53,58を作動させるこ
とにより、上型50の磁性部材52からこれに対応する
下型55の磁性部材57に向かう方向に平行磁場が作用
する。その結果、シート成形材料層10Aにおいては、
当該シート成形材料層10A中に分散されていた磁性を
示す導電性粒子が、上型50の磁性部材52とこれに対
応する下型55の磁性部材57との間に位置する部分に
集合し、更に好ましくは当該シート成形材料層10Aの
厚み方向に配向する。そして、この状態において、シー
ト成形材料層10Aを硬化処理することにより、図4に
示すように、上型50の磁性部材52とこれに対応する
下型55の磁性部材57との間に配置された、導電性粒
子が密に充填された導電部11と、導電性粒子が全くあ
るいは殆ど存在しない絶縁部12とよりなる異方導電性
シート10が形成される。
By operating the electromagnets 53 and 58, a parallel magnetic field acts in a direction from the magnetic member 52 of the upper die 50 to the corresponding magnetic member 57 of the lower die 55. As a result, in the sheet molding material layer 10A,
The conductive particles exhibiting magnetism dispersed in the sheet forming material layer 10A gather in a portion located between the magnetic member 52 of the upper mold 50 and the corresponding magnetic member 57 of the lower mold 55, More preferably, it is oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 10A. Then, in this state, the sheet forming material layer 10A is subjected to a hardening treatment, so as to be disposed between the magnetic member 52 of the upper die 50 and the corresponding magnetic member 57 of the lower die 55 as shown in FIG. In addition, an anisotropic conductive sheet 10 is formed which includes a conductive portion 11 densely filled with conductive particles and an insulating portion 12 having no or almost no conductive particles.

【0035】以上において、シート成形材料層10Aの
硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行うこ
ともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行うこ
ともできる。シート成形材料層10Aに作用される平行
磁場の強度は、平均で200〜10000ガウスとなる
大きさが好ましい。シート成形材料層10Aに平行磁場
を作用させる際には、上型50および下型55に超音波
によって振動させることが好ましい。このような方法を
採用することにより、シート成形材料層10A中に分散
されていた導電性粒子を、上型50の磁性部材52とこ
れに対応する下型55の磁性部材57との間に位置する
部分に、高い効率で集合させることができる。また、平
行磁場を作用させる手段としては、電磁石の代わりに永
久磁石を用いることもできる。このような永久磁石とし
ては、上記の範囲の平行磁場の強度が得られる点で、ア
ルニコ(Fe−Al−Ni−Co系合金)、フェライト
などよりなるものが好ましい。このようにして得られる
導電部11は、導電性粒子が異方導電性シート10の厚
み方向に並ぶよう配向しているため、導電性粒子の割合
が小さくても良好な導電性が得られる。
In the above description, the curing treatment of the sheet molding material layer 10A can be performed while the parallel magnetic field is applied, but can also be performed after the operation of the parallel magnetic field is stopped. The strength of the parallel magnetic field applied to the sheet forming material layer 10A is preferably 200 to 10000 gauss on average. When applying a parallel magnetic field to the sheet molding material layer 10A, it is preferable to vibrate the upper mold 50 and the lower mold 55 with ultrasonic waves. By adopting such a method, the conductive particles dispersed in the sheet forming material layer 10A are moved between the magnetic member 52 of the upper mold 50 and the corresponding magnetic member 57 of the lower mold 55. Can be gathered with high efficiency in the part where it is. As a means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. As such a permanent magnet, those made of alnico (Fe-Al-Ni-Co-based alloy), ferrite, or the like are preferable in that a parallel magnetic field strength in the above range can be obtained. In the conductive portion 11 thus obtained, since the conductive particles are oriented so as to be arranged in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 10, good conductivity can be obtained even if the ratio of the conductive particles is small.

【0036】シート成形材料層10Aの硬化処理は、使
用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱処
理によって行われる。加熱によりシート成形材料層10
Aの硬化処理を行う場合には、電磁石53,58にヒー
ターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱時間
は、シート成形材料層10Aを構成する高分子物質用材
料などの種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考
慮して適宜選定される。
The curing treatment of the sheet molding material layer 10A is appropriately selected depending on the material to be used, but is usually performed by a heating treatment. The sheet molding material layer 10 is heated
When the curing treatment of A is performed, a heater may be provided for the electromagnets 53 and 58. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the material for the polymer substance constituting the sheet molding material layer 10A, the time required for the movement of the conductive particles, and the like.

【0037】次いで、異方導電性シート10における各
々の導電部11上に接着層15を介して突起状電極20
を一体的に形成する。具体的に説明すると、図5に示す
ように、例えば銅よりなる金属板60を用意し、この金
属板60の表面上に、フォトリソグラフィーの手法によ
り、形成すべき突起状電極20の配列パターンに対応す
るパターンに従って複数の開口66が形成されたレジス
ト膜65を形成する。次いで、図6に示すように、金属
板60の表面に対して、レジスト膜65の開口66を介
してエッチング処理を施すことにより、当該金属板60
の表面に、複数の半球状の窪所61を形成する。その
後、図7に示すように、金属板60の裏面全面に絶縁膜
62を形成し、この状態で、当該金属板60に対して、
例えば電解ニッケルメッキ処理を施すことにより、ニッ
ケルが、金属板60の窪所61内およびレジスト膜65
の開口66内に堆積され、更には、レジスト膜65の開
口66上において半球状に堆積される結果、図8に示す
ように、レジスト膜65の両面から半球状に突出する電
極用金属体20Aが、当該レジスト膜65の開口66に
保持された状態で形成され、以て、金属板60と、レジ
スト膜65と、複数の電極用金属体20Aとからなる中
間複合体25Aが得られる。
Next, the protruding electrodes 20 are provided on the respective conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10 via the adhesive layer 15.
Are integrally formed. More specifically, as shown in FIG. 5, a metal plate 60 made of, for example, copper is prepared, and an array pattern of the protruding electrodes 20 to be formed is formed on the surface of the metal plate 60 by photolithography. A resist film 65 having a plurality of openings 66 is formed according to the corresponding pattern. Next, as shown in FIG. 6, the surface of the metal plate 60 is subjected to an etching process through the opening 66 of the resist film 65, so that the metal plate 60
A plurality of hemispherical depressions 61 are formed on the surface of the substrate. Thereafter, as shown in FIG. 7, an insulating film 62 is formed on the entire back surface of the metal plate 60, and in this state,
For example, by performing electrolytic nickel plating, nickel is deposited in the recess 61 of the metal plate 60 and the resist film 65.
As a result of being deposited in the opening 66 of the resist film 65 and being hemispherically deposited on the opening 66 of the resist film 65, as shown in FIG. Is formed while being held in the opening 66 of the resist film 65, whereby an intermediate composite 25A including the metal plate 60, the resist film 65, and the plurality of electrode metal bodies 20A is obtained.

【0038】そして、この中間複合体25Aにおける金
属板60の裏面から絶縁膜62を除去した後、当該中間
複合体25Aの金属板60を例えばエッチングによって
除去し、更には、電極用金属体20Aの表面に金メッキ
処理を行うことにより、図9に示すように、レジスト膜
65の開口65の各々に電極用金属体60が保持されて
なる電極用連結体25が得られる。その後、電極用連結
体25における電極用金属体20Aの一端面を研磨する
ことにより、図10に示すように、半球状の先端部21
と円板状の基端部22とが連結部23によって連結され
てなる突起状電極20が形成される。
After the insulating film 62 is removed from the back surface of the metal plate 60 in the intermediate composite 25A, the metal plate 60 of the intermediate composite 25A is removed by, for example, etching, and further, the electrode metal 20A is removed. By performing a gold plating process on the surface, as shown in FIG. 9, an electrode connector 25 in which the electrode metal body 60 is held in each of the openings 65 of the resist film 65 is obtained. Thereafter, the one end surface of the electrode metal body 20A in the electrode connection body 25 is polished, so that the hemispherical tip portion 21 is formed as shown in FIG.
The protruding electrode 20 is formed by connecting the disk-shaped base end portion 22 with the connecting portion 23.

【0039】次いで、電極用連結体25における突起状
電極20の基端部22の端面に、硬化性樹脂材料もしく
は弾性高分子物質用材料よりなる接着層形成材またはこ
れらの材料中に導電性粉末が含有されてなる接着層形成
材を塗布し、この電極用連結体25を、異方導電性シー
ト10上に、当該突起状電極20の基端部22が当該導
電部11上に位置するよう配置し、この状態で、接着層
形成材の硬化処理を行うことにより、図11に示すよう
に、異方導電性シート10の導電部11上に、接着層1
5を介して、電極用連結体25における突起状電極20
が一体的に接着される。その後、電極用連結体25にお
けるレジスト膜65を除去することにより、図1に示す
構成のプローブカードが製造される。
Next, an adhesive layer forming material made of a curable resin material or a material for an elastic polymer material or a conductive powder in these materials is applied to the end face of the base end portion 22 of the protruding electrode 20 in the electrode connecting body 25. Is coated on the anisotropic conductive sheet 10 such that the base end 22 of the protruding electrode 20 is positioned on the conductive portion 11. By arranging and curing the adhesive layer forming material in this state, the adhesive layer 1 is formed on the conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10 as shown in FIG.
5, the protruding electrode 20 in the electrode connecting body 25
Are integrally bonded. Thereafter, by removing the resist film 65 in the electrode connecting body 25, the probe card having the configuration shown in FIG. 1 is manufactured.

【0040】上記のようなプローブカードにおいては、
以下のようにして例えばウエハ上に形成された回路装置
の電気的検査に使用される。回路装置の検査において
は、図12に示すように、ウエハ5上に形成された回路
装置の被検査電極6と対掌なパターンに従って配置され
た接続用電極2を表面に有し、この接続用電極2に電気
的に接続された、例えばピッチが2.54mm、1.8
0mm若しくは1.27mmの格子点位置上に配置され
た端子電極3を裏面に有する検査用回路基板1が用意さ
れ、この検査用回路基板1が、その接続用電極2がプロ
ーブカードにおける異方導電性シート10の導電部11
上位置されるよう配置される。一方、プローブカードの
下方には、検査対掌であるウエハ5が、その被検査電極
6がこれに対応する突起状電極20に対向するよう配置
される。そして、例えば検査用回路基板1をウエハ5に
接近する方向に移動させると、プローブカードにおける
突起状電極20によってウエハ5の被検査電極6が押圧
されてその表面に形成された酸化被膜が突き破られる。
一方、プローブカードは検査用回路基板1とウエハ5と
によって挟圧された状態となり、これにより、異方導電
性シート10が、ウエハ5の反りの状態に応じて厚み方
向に圧縮するよう変形し、導電部11にその厚み方向に
伸びる導電路が形成される。その結果、検査用回路基板
1の接続用電極2とウエハ5の被検査電極6との電気的
接続が達成される。そして、この状態で、検査用回路基
板1、プローブカードおよびウエハ5の三者が固定さ
れ、所要の検査が行われる。
In the probe card as described above,
It is used for electrical inspection of a circuit device formed on a wafer, for example, as described below. In the inspection of the circuit device, as shown in FIG. 12, a connection electrode 2 arranged on the surface according to a pattern opposite to the electrode 6 to be inspected of the circuit device formed on the wafer 5 is provided on the surface. Electrically connected to the electrode 2, for example, with a pitch of 2.54 mm, 1.8
An inspection circuit board 1 having a terminal electrode 3 disposed on a 0 mm or 1.27 mm grid point position on the back surface is prepared, and the inspection circuit board 1 is connected to an anisotropic conductive material in a probe card. Conductive portion 11 of conductive sheet 10
It is arranged so that it is located above. On the other hand, below the probe card, the wafer 5 which is the inspection palm is arranged such that the electrode 6 to be inspected faces the corresponding protruding electrode 20. Then, for example, when the inspection circuit board 1 is moved in a direction approaching the wafer 5, the electrodes 6 to be inspected of the wafer 5 are pressed by the protruding electrodes 20 of the probe card, and the oxide film formed on the surface thereof is pierced. Can be
On the other hand, the probe card is sandwiched between the inspection circuit board 1 and the wafer 5, whereby the anisotropic conductive sheet 10 is deformed so as to be compressed in the thickness direction in accordance with the warp state of the wafer 5. A conductive path extending in the thickness direction of the conductive portion 11 is formed. As a result, electrical connection between the connection electrodes 2 of the inspection circuit board 1 and the electrodes 6 to be inspected of the wafer 5 is achieved. Then, in this state, the inspection circuit board 1, the probe card, and the wafer 5 are fixed, and a required inspection is performed.

【0041】以上のようなプローブカードによれば、異
方導電性シート10の導電部11上には、接着層15を
介して突起状電極20が一体的に設けられているため、
検査対象である回路装置の被検査電極がその表面に酸化
膜を有するものであっても、当該突起状電極20によっ
て当該酸化膜を小さい押圧力で突き破ることができ、そ
の結果、所要の電気的接続を確実に達成することができ
る。また、ウエハ5上に形成された回路装置の被検査電
極6に対して、小さい押圧力で所要の電気的接続が確実
に達成されるので、当該ウエハ5の表面が損傷すること
を防止することができ、しかも、長期間にわたって良好
な電気的接続状態を維持することができる。さらに、ウ
エハ5における回路装置の被検査電極6には、異方導電
性シート10の導電部11が直接接触することがないた
め、当該異方導電性シート10の導電部11を構成する
弾性高分子物質中に含有される低分子量成分により、被
検査電極6が汚染することを防止することができる。
According to the probe card as described above, the protruding electrodes 20 are integrally provided on the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10 with the adhesive layer 15 interposed therebetween.
Even if the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected has an oxide film on its surface, the oxide film can be pierced by the protruding electrode 20 with a small pressing force. Connection can be reliably achieved. Further, since a required electric connection is reliably achieved with a small pressing force to the electrode 6 to be inspected of the circuit device formed on the wafer 5, it is possible to prevent the surface of the wafer 5 from being damaged. And a good electrical connection state can be maintained for a long period of time. Furthermore, since the conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10 does not directly contact the electrode 6 to be inspected of the circuit device on the wafer 5, the elasticity of the conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10 is high. It is possible to prevent the electrode 6 to be inspected from being contaminated by the low molecular weight component contained in the molecular substance.

【0042】〈第2の実施の形態〉図13は、本発明の
プローブカードに係る第2の実施の形態における要部の
構成を示す説明用断面図である。このプローブカードに
おける異方導電性シート10の導電部11の各々は、絶
縁部12の厚みより小さい厚みを有し、その上面が絶縁
部12の上面より下方に位置するよう配置されることに
より、当該導電部11上に凹所が形成されている。そし
て、導電部11上には、突起状電極20が、当該導電部
11上に形成された凹所内に当該突起状電極20の基端
部22が受容された状態で、一体的に設けられている。
その他の具体的構成は、前述の第1の実施の形態に係る
プローブカードと同様である。このようなプローブカー
ドにおいては、突起状電極20における異方導電性シー
ト10の表面からの突出高さ(先端部21と連結部22
との合計の厚み)は、1μm以上であることが好まし
く、より好ましくは5〜200μm、さらに好ましくは
10〜150μm、特に好ましくは30〜80μmであ
る。
<Second Embodiment> FIG. 13 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a probe card according to a second embodiment of the present invention. Each of the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10 in this probe card has a thickness smaller than the thickness of the insulating portion 12, and is arranged such that its upper surface is located below the upper surface of the insulating portion 12, A recess is formed on the conductive portion 11. The protruding electrode 20 is provided integrally on the conductive portion 11 in a state where the base end portion 22 of the protruding electrode 20 is received in a recess formed on the conductive portion 11. I have.
Other specific configurations are the same as those of the probe card according to the above-described first embodiment. In such a probe card, the protruding height of the protruding electrode 20 from the surface of the anisotropic conductive sheet 10 (the tip portion 21 and the connecting portion 22).
Is preferably 1 μm or more, more preferably 5 to 200 μm, further preferably 10 to 150 μm, and particularly preferably 30 to 80 μm.

【0043】上記のプローブカードは、例えば次のよう
な方法によって製造することができる。先ず、前述の第
1の実施の形態と同様にして、レジスト膜65の開口6
6の各々に突起状電極20が保持されてなる電極用連結
体25を作製する(図5〜図10参照)。次いで、図2
に示す金型における下型55を用意し、図14に示すよ
うに、この下型55の表面に、シート成形材料層10A
を形成し、このシート成形材料層10A上に、上記の電
極用連結体25を、その突起状電極20が下型55の磁
性部材57の上方に位置するよう配置する。
The above probe card can be manufactured, for example, by the following method. First, the opening 6 of the resist film 65 is formed in the same manner as in the first embodiment.
An electrode connecting body 25 in which the protruding electrode 20 is held in each of the electrodes 6 is manufactured (see FIGS. 5 to 10). Then, FIG.
14 is prepared, and as shown in FIG. 14, a sheet molding material layer 10A is formed on the surface of the lower mold 55 as shown in FIG.
Is formed, and on the sheet forming material layer 10A, the above-described electrode connecting body 25 is arranged such that the protruding electrode 20 is located above the magnetic member 57 of the lower die 55.

【0044】その後、図15に示すように、電極用連結
体25の上面および下型55の下面に一対の電磁石5
3,58を配置し、この電磁石53,58を作動させる
ことにより、電極用連結体25の突起状電極20が磁極
となって当該突起状電極20から下型55の磁性部材5
7に向かう方向に平行磁場が作用する。その結果、シー
ト成形材料層10Aにおいては、当該シート成形材料層
10A中に分散されていた磁性を示す導電性粒子が、電
極用連結体25の突起状電極20と下型55の磁性部材
57との間に位置する部分に集合し、更に好ましくは当
該シート成形材料層10Aの厚み方向に配向する。そし
て、この状態において、シート成形材料層10Aを硬化
処理することにより、図16に示すように、電極用連結
体25の突起状電極20と下型55の磁性部材57との
間に配置された、導電性粒子が密に充填された導電部1
1と、導電性粒子が全くあるいは殆ど存在しない絶縁部
12とよりなる異方導電性シート10が、電極用連結体
25に一体的に形成される。その後、電極用連結体25
におけるレジスト膜65を除去することにより、図13
に示す構成のプローブカードが製造される。
Thereafter, as shown in FIG. 15, a pair of electromagnets 5 are placed on the upper surface of the electrode connector 25 and the lower surface of the lower mold 55.
By disposing the electromagnets 53 and 58 and operating the electromagnets 53 and 58, the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 25 become magnetic poles, and from the protruding electrodes 20 to the magnetic members 5 of the lower mold 55.
A parallel magnetic field acts in the direction toward. As a result, in the sheet molding material layer 10A, the conductive particles exhibiting magnetism dispersed in the sheet molding material layer 10A become the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 25 and the magnetic members 57 of the lower mold 55. And more preferably oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 10A. Then, in this state, the sheet forming material layer 10A is disposed between the protruding electrode 20 of the electrode connecting body 25 and the magnetic member 57 of the lower mold 55 by hardening the sheet forming material layer 10A, as shown in FIG. Conductive part 1 densely filled with conductive particles
An anisotropic conductive sheet 10 comprising 1 and an insulating portion 12 having no or almost no conductive particles is integrally formed on the electrode connecting body 25. Thereafter, the electrode connecting body 25
13 by removing the resist film 65 in FIG.
Is manufactured.

【0045】以上において、シート成形材料層10Aに
平行磁場を作用させる際には、電極用連結体25および
下型55に超音波によって振動させることが好ましい。
このような方法を採用することにより、シート成形材料
層10A中に分散されていた導電性粒子を、電極用連結
体25の突起状電極20と下型55の磁性部材57との
間に位置する部分に、高い効率で集合させることができ
る。その他の条件は、第1の実施の形態における異方導
電性シート10の製造条件と同様である。
In the above, when applying a parallel magnetic field to the sheet molding material layer 10A, it is preferable to vibrate the electrode connecting body 25 and the lower mold 55 by ultrasonic waves.
By employing such a method, the conductive particles dispersed in the sheet forming material layer 10A are positioned between the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 25 and the magnetic members 57 of the lower mold 55. The parts can be assembled with high efficiency. Other conditions are the same as the manufacturing conditions of the anisotropic conductive sheet 10 in the first embodiment.

【0046】このようなプローブカードによれば、前述
の第1の実施の形態に係るプローブカードと同様の効果
が得られると共に、突起状電極20が異方導電性シート
10の導電部11に直接一体的に設けられているため、
異方導電性シート10の製造と、当該異方導電性シート
10と突起状電極20との接着とを同一の工程で行うこ
とができ、これにより、製造工程の簡略化を図ることが
できる。
According to such a probe card, the same effects as those of the probe card according to the first embodiment can be obtained, and the protruding electrodes 20 are directly connected to the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10. Because it is provided integrally,
The production of the anisotropic conductive sheet 10 and the bonding between the anisotropic conductive sheet 10 and the protruding electrodes 20 can be performed in the same step, thereby simplifying the manufacturing steps.

【0047】〈第3の実施の形態〉図17は、本発明の
プローブカードに係る第3の実施の形態における要部の
構成を示す説明用断面図である。このプローブカードに
おいては、異方導電性シート10上に、検査対象である
回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンに
従って複数の孔31が形成された支持板30が配置さ
れ、この支持板30の孔31内に突起状電極20の連結
部23が固定されることにより、当該突起状電極20が
支持板30に支持されている。異方導電性シート10お
よび突起状電極20の具体的構成は、前述の第1の実施
の形態に係るプローブカードと同様である。
<Third Embodiment> FIG. 17 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a probe card according to a third embodiment of the present invention. In this probe card, a support plate 30 in which a plurality of holes 31 are formed in accordance with a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected is arranged on an anisotropic conductive sheet 10. By fixing the connecting portion 23 of the protruding electrode 20 in the hole 31 of the thirty, the protruding electrode 20 is supported by the support plate 30. The specific configurations of the anisotropic conductive sheet 10 and the protruding electrodes 20 are the same as those of the probe card according to the above-described first embodiment.

【0048】このようなプローブカードにおいては、突
起状電極20における支持体30の表面からの突出高さ
(先端部21の厚み)は、1μm以上であることが好ま
しく、より好ましくは、5〜100μm、さらに好まし
くは10〜50μm、特に好ましくは15〜35μmで
ある。
In such a probe card, the protruding height of the protruding electrode 20 from the surface of the support 30 (the thickness of the tip portion 21) is preferably 1 μm or more, more preferably 5 to 100 μm. And more preferably 10 to 50 μm, particularly preferably 15 to 35 μm.

【0049】支持板30を構成する材料としては、絶縁
性を有するものであれば特に限定されるものではない
が、ポリイミド、アラミド、フッ素系樹脂、ガラス繊
維、ポリエステルなどを用いることができる。これらの
中では、加工性およびウエハなどの回路装置の表面が汚
染されることがない点で、ポリイミドが好ましい。ま
た、支持板30の厚みは、好ましくは1〜100μm、
さらに好ましくは5〜50μm、特に好ましくは10〜
30μmである。また、支持板30の孔31の断面積
は、被検査電極の表面の面積に対して、好ましくは10
〜200%、さらに好ましくは30〜120%、特に好
ましくは50〜100%である。支持板30の孔31の
断面積が過小である場合には、回路装置の被検査電極に
突起状電極20を押圧したときに、異方導電性シート1
0に対して局部的に圧力が集中するため、異方導電性シ
ートの導電部において導通不良が起こることがある。支
持板30の孔31の断面積が過大である場合には、回路
装置の被検査電極に突起状電極20を押圧したときに、
当該突起状電極20が傾斜して、隣接する突起状電極2
0に接触してショートしたり、或いは導通不良が起こる
ことがある。
The material constituting the support plate 30 is not particularly limited as long as it has an insulating property, but polyimide, aramid, fluorine-based resin, glass fiber, polyester and the like can be used. Among them, polyimide is preferable in terms of processability and the surface of a circuit device such as a wafer is not contaminated. The thickness of the support plate 30 is preferably 1 to 100 μm,
More preferably 5 to 50 μm, particularly preferably 10 to
30 μm. The cross-sectional area of the hole 31 of the support plate 30 is preferably 10 to the area of the surface of the electrode to be inspected.
To 200%, more preferably 30 to 120%, particularly preferably 50 to 100%. If the cross-sectional area of the hole 31 of the support plate 30 is too small, when the protruding electrode 20 is pressed against the electrode to be inspected of the circuit device, the anisotropic conductive sheet 1
Since the pressure is locally concentrated on 0, conduction failure may occur in the conductive portion of the anisotropic conductive sheet. When the cross-sectional area of the hole 31 of the support plate 30 is excessive, when the protruding electrode 20 is pressed against the electrode to be inspected of the circuit device,
The projecting electrode 20 is inclined so that the adjacent projecting electrode 2
There is a case where a short circuit occurs due to contact with 0 or a conduction failure occurs.

【0050】上記のプローブカードは、例えば次のよう
な方法によって製造することができる。先ず、図18に
示すように、金属板60を用意し、この金属板60上
に、検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに
対応するパターンに従って複数の孔31が形成された支
持板30を形成する。金属板60上に支持板30を形成
する方法としては、支持板30を構成する材料としてポ
リイミドなどの硬化性樹脂材料を用いる場合には、金属
板60上に硬化前の硬化性樹脂材料を塗布して硬化した
後、レーザー加工またはドライエッチングなどによって
孔31を形成する方法を採用することができる。
The above probe card can be manufactured, for example, by the following method. First, as shown in FIG. 18, a metal plate 60 is prepared, and a support plate having a plurality of holes 31 formed on the metal plate 60 in accordance with a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected. Form 30. As a method for forming the support plate 30 on the metal plate 60, when a curable resin material such as polyimide is used as a material for forming the support plate 30, a curable resin material before curing is applied on the metal plate 60. Then, a method of forming the holes 31 by laser processing or dry etching can be adopted.

【0051】次いで、図19に示すように、金属板60
の表面に対して、支持板30の孔31を介してエッチン
グ処理を施すことにより、当該金属板60の表面に、複
数の半球状の窪所61を形成する。その後、図20に示
すように、金属板60の裏面全面に絶縁膜62を形成
し、この状態で、当該金属板60に電解ニッケルメッキ
処理を施すことにより、ニッケルが、金属板60の窪所
61内および支持板30の孔31内に堆積され、更に
は、支持板30の孔31上において半球状に堆積される
結果、図21に示すように、支持板30の両面から半球
状に突出する電極用金属体20Aが、当該支持板30の
孔31に保持された状態で形成され、以て、金属板60
と、支持体30と、複数の電極用金属体20Aとからな
る中間複合体35Aが得られる。
Next, as shown in FIG.
Is etched through the holes 31 of the support plate 30 to form a plurality of hemispherical depressions 61 on the surface of the metal plate 60. Thereafter, as shown in FIG. 20, an insulating film 62 is formed on the entire back surface of the metal plate 60, and in this state, the metal plate 60 is subjected to electrolytic nickel plating to remove nickel from the recesses of the metal plate 60. As shown in FIG. 21, hemispheres are deposited in the holes 61 of the support plate 30 and the holes 31 of the support plate 30, and are hemispherically deposited on the holes 31 of the support plate 30. The electrode metal body 20A to be formed is formed in a state held in the hole 31 of the support plate 30, so that the metal plate 60
Then, an intermediate composite 35A including the support 30 and the plurality of electrode metal bodies 20A is obtained.

【0052】そして、中間複合体35Aにおける金属板
60の裏面から絶縁膜62を除去した後、当該中間複合
体35Aの金属板60を例えばエッチングによって除去
し、更には、電極用金属体20Aの表面に金メッキ処理
を行うことにより、図22に示すように、支持板30の
孔31に電極用金属体20Aが保持されてなる電極用連
結体35が得られる。その後、電極用連結体35におけ
る電極用金属体20Aの一端面を研磨することにより、
図23に示すように、半球状の先端部21と円板状の基
端部22とが連結部23によって連結されてなり、当該
連結部23が支持板30の孔31内に固定された突起状
電極20が形成される。
After removing the insulating film 62 from the back surface of the metal plate 60 in the intermediate composite 35A, the metal plate 60 of the intermediate composite 35A is removed by, for example, etching, and further, the surface of the electrode metal body 20A is removed. By performing a gold plating process, the electrode connecting body 35 in which the electrode metal body 20A is held in the holes 31 of the support plate 30 is obtained as shown in FIG. Thereafter, by polishing one end surface of the electrode metal body 20A in the electrode connection body 35,
As shown in FIG. 23, the hemispherical tip portion 21 and the disc-shaped base end portion 22 are connected by a connecting portion 23, and the connecting portion 23 is fixed in the hole 31 of the support plate 30. An electrode 20 is formed.

【0053】一方、前述の第1の実施の形態と同様にし
て異方導電性シート10を製造する(図2〜図4参
照)。次いで、電極用連結体35における突起状電極2
0の基端部22の端面に、硬化性樹脂材料もしくは弾性
高分子物質用材料よりなる接着層形成材またはこれらの
材料中に導電性粉末が含有されてなる接着層形成材を塗
布し、この電極用連結体35を、異方導電性シート10
上に、当該突起状電極20の基端部22が当該導電部1
1上に位置するよう配置し、この状態で、接着層形成材
の硬化処理を行うことにより、図17に示す構成のプロ
ーブカードが製造される。
On the other hand, the anisotropic conductive sheet 10 is manufactured in the same manner as in the first embodiment (see FIGS. 2 to 4). Next, the protruding electrode 2 in the electrode connecting body 35
An adhesive layer forming material made of a curable resin material or a material for an elastic polymer substance or an adhesive layer forming material containing a conductive powder in these materials is applied to the end face of the base end portion 22 of the No. 0. The electrode connecting body 35 is connected to the anisotropic conductive sheet 10.
Above, the base end 22 of the protruding electrode 20 is connected to the conductive portion 1.
The probe card having the configuration shown in FIG. 17 is manufactured by arranging it so as to be located on the upper surface 1 and performing a curing treatment of the adhesive layer forming material in this state.

【0054】このようなプローブカードによれば、前述
の第1の実施の形態に係るプローブカードと同様の効果
が得られると共に、以下の効果が得られる。異方導電性
シート10上には、突起状電極20を支持する支持体3
0が設けられているため、突起状電極20が検査対象で
ある回路装置の被検査電極を押圧したときに、当該突起
状電極20が傾くことを防止することができ、その結
果、所要の電気的接続を一層確実に達成することができ
る。また、支持体30によって、異方導電性シート10
が回路装置に直接接触することが回避されるため、当該
異方導電性シート10を構成する弾性高分子物質中に含
有される低分子量成分により、回路装置の表面が汚染す
ることを防止することができる。
According to such a probe card, the same effects as those of the probe card according to the first embodiment can be obtained, and the following effects can be obtained. On the anisotropic conductive sheet 10, a support 3 for supporting the protruding electrodes 20 is provided.
0 is provided, it is possible to prevent the protruding electrode 20 from tilting when the protruding electrode 20 presses the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. A more reliable connection can be achieved. Also, the support 30 allows the anisotropic conductive sheet 10
Is prevented from directly contacting the circuit device, thereby preventing the surface of the circuit device from being contaminated by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet 10. Can be.

【0055】〈第4の実施の形態〉図24は、本発明の
プローブカードに係る第4の実施の形態における要部の
構成を示す説明用断面図である。このプローブカードに
おける異方導電性シート10の導電部11の各々は、絶
縁部12の厚みより小さい厚みを有し、その上面が絶縁
部12の上面より下方に位置するよう配置されることに
より、当該導電部11上に凹所が形成されている。そし
て、導電部11上には、突起状電極20が、当該導電部
11上に形成された凹所内に当該突起状電極20の基端
部22が受容された状態で、一体的に設けられている。
異方導電性シート10および突起状電極20の具体的構
成は、前述の第1の実施の形態に係るプローブカードと
同様である。また、異方導電性シート10上には、検査
対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応する
パターンに従って複数の孔31が形成された支持板30
が一体的に設けられており、この支持板30の孔31内
に突起状電極20の連結部23が固定されることによ
り、当該突起状電極20が支持板30に支持されてい
る。この支持板30の具体的構成は、前述の第3の実施
の形態と同様である。
<Fourth Embodiment> FIG. 24 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a fourth embodiment of the probe card according to the present invention. Each of the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10 in this probe card has a thickness smaller than the thickness of the insulating portion 12, and is arranged such that its upper surface is located below the upper surface of the insulating portion 12, A recess is formed on the conductive portion 11. The protruding electrode 20 is provided integrally on the conductive portion 11 in a state where the base end portion 22 of the protruding electrode 20 is received in a recess formed on the conductive portion 11. I have.
The specific configurations of the anisotropic conductive sheet 10 and the protruding electrodes 20 are the same as those of the probe card according to the above-described first embodiment. A support plate 30 having a plurality of holes 31 formed on the anisotropic conductive sheet 10 according to a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected.
Are integrally provided, and the connecting portions 23 of the protruding electrodes 20 are fixed in the holes 31 of the supporting plate 30 so that the protruding electrodes 20 are supported by the supporting plate 30. The specific configuration of the support plate 30 is the same as that of the third embodiment.

【0056】上記のプローブカードは、例えば次のよう
な方法によって製造することができる。先ず、前述の第
3の実施の形態と同様にして、支持板30の孔31に突
起状電極20が支持されてなる電極用連結体35を作製
する(図18〜図23参照)。次いで、図2に示す金型
における下型55を用意し、図25に示すように、この
下型55の表面に、磁性を示す導電性粒子を分散させた
シート成形材料層10Aを形成し、このシート成形材料
層10A上に、上記の電極用連結体35を、その突起状
電極20が下型55の磁性部材57の上方に位置するよ
う配置する。一方、前述の第1の実施の形態と同様にし
て異方導電性シート10を製造する(図2〜図4参
照)。
The probe card described above can be manufactured, for example, by the following method. First, in the same manner as in the third embodiment, an electrode connector 35 in which the projecting electrodes 20 are supported in the holes 31 of the support plate 30 is manufactured (see FIGS. 18 to 23). Next, a lower mold 55 in the mold shown in FIG. 2 is prepared, and as shown in FIG. 25, a sheet molding material layer 10A in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed is formed on the surface of the lower mold 55, On the sheet forming material layer 10A, the above-described electrode connecting body 35 is arranged such that the protruding electrode 20 is located above the magnetic member 57 of the lower die 55. On the other hand, the anisotropic conductive sheet 10 is manufactured in the same manner as in the first embodiment (see FIGS. 2 to 4).

【0057】その後、図26に示すように、電極用連結
体35の上面および下型55の下面に一対の電磁石5
3,58を配置し、この電磁石53,58を作動させる
ことにより、電極用連結体35の突起状電極20が磁極
となって当該突起状電極20から下型55の磁性部材5
7に向かう方向に平行磁場が作用する。その結果、シー
ト成形材料層10Aにおいては、当該シート成形材料層
10A中に分散されていた磁性を示す導電性粒子が、電
極用連結体35の突起状電極20と下型55の磁性部材
57との間に位置する部分に集合し、更に好ましくは当
該シート成形材料層10Aの厚み方向に配向する。そし
て、この状態において、シート成形材料層10Aを硬化
処理することにより、図27に示すように、電極用連結
体35の突起状電極20と下型55の磁性部材57との
間に配置された、導電性粒子が密に充填された導電部1
1と、導電性粒子が全くあるいは殆ど存在しない絶縁部
12とよりなる異方導電性シート10が、電極用連結体
35に一体的に形成され、以て、図24に示す構成のプ
ローブカードが製造される。
Then, as shown in FIG. 26, a pair of electromagnets 5 are placed on the upper surface of the electrode connector 35 and the lower surface of the lower mold 55.
By disposing the electromagnets 53 and 58 and operating the electromagnets 53 and 58, the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 35 become magnetic poles, and the protruding electrodes 20 and the magnetic members 5
A parallel magnetic field acts in the direction toward. As a result, in the sheet forming material layer 10A, the conductive particles exhibiting magnetism dispersed in the sheet forming material layer 10A are combined with the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 35 and the magnetic members 57 of the lower mold 55. And more preferably oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 10A. Then, in this state, the sheet forming material layer 10A is subjected to a curing treatment, so that the sheet forming material layer 10A is disposed between the protruding electrode 20 of the electrode connecting body 35 and the magnetic member 57 of the lower mold 55 as shown in FIG. Conductive part 1 densely filled with conductive particles
An anisotropic conductive sheet 10 composed of an insulating member 12 having no or almost no conductive particles and an insulating portion 12 is formed integrally with the electrode connecting body 35, so that the probe card having the configuration shown in FIG. Manufactured.

【0058】以上において、シート成形材料層10Aに
平行磁場を作用させる際には、電極用連結体35および
下型55に超音波によって振動させることが好ましい。
このような方法を採用することにより、シート成形材料
層10A中に分散されていた導電性粒子を、電極用連結
体35の突起状電極20と下型55の磁性部材57との
間に位置する部分に、高い効率で集合させることができ
る。その他の条件は、前述の第1の実施の形態における
異方導電性シート10の製造条件と同様である。
In the above description, when applying a parallel magnetic field to the sheet forming material layer 10A, it is preferable to vibrate the electrode connecting body 35 and the lower mold 55 by ultrasonic waves.
By adopting such a method, the conductive particles dispersed in the sheet forming material layer 10A are positioned between the protruding electrodes 20 of the electrode connecting body 35 and the magnetic members 57 of the lower mold 55. The parts can be assembled with high efficiency. Other conditions are the same as the manufacturing conditions of the anisotropic conductive sheet 10 in the first embodiment described above.

【0059】このようなプローブカードによれば、前述
の第3の実施の形態に係るプローブカードと同様の効果
が得られると共に、突起状電極20が異方導電性シート
10の導電部11に直接一体的に設けられており、異方
導電性シート10の製造と、当該異方導電性シート10
と突起状電極20との接着とを同一の工程で行うことが
できるため、製造工程の簡略化を図ることができる。
According to such a probe card, the same effects as those of the probe card according to the third embodiment can be obtained, and the protruding electrodes 20 can be directly connected to the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10. The manufacturing of the anisotropic conductive sheet 10 which is provided integrally and the anisotropic conductive sheet 10
Since the bonding between the electrode and the protruding electrode 20 can be performed in the same step, the manufacturing process can be simplified.

【0060】〈第5の実施の形態〉図28は、本発明の
プローブカードに係る第5の実施の形態における要部の
構成を示す説明用断面図である。このプローブカードに
おいては、異方導電性シート10上には、その導電部1
1に接着層15を介して電気的に接続された配線部16
が形成され、この配線部16上には、突起状電極20が
一体的に設けられており、当該配線部16および接着層
15によって、当該突起状電極20が異方導電性シート
10の導電部11に電気的に接続されている。この突起
状電極20は、半球状の先端部21と半球状の基端部2
2とが連結部23によって連結されて構成されており、
検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応
するパターンに従って配置されている。また、異方導電
性シート10上には、検査対象である回路装置の被検査
電極のパターンに対応するパターンに従って複数の孔3
1が形成された支持板30が、配線部16を介して配置
され、この支持板30の孔31内に突起状電極20の連
結部23が固定されることにより、当該突起状電極20
が支持板30に支持されている。その他の具体的構成
は、前述の第1の実施の形態に係るプローブカードと同
様である。
<Fifth Embodiment> FIG. 28 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a probe card according to a fifth embodiment of the present invention. In this probe card, the conductive portion 1 is placed on the anisotropic conductive sheet 10.
A wiring portion 16 electrically connected to the first through an adhesive layer 15
The protruding electrode 20 is integrally provided on the wiring portion 16. The protruding electrode 20 is formed on the conductive portion of the anisotropic conductive sheet 10 by the wiring portion 16 and the adhesive layer 15. 11 is electrically connected. The protruding electrode 20 has a hemispherical tip 21 and a hemispherical base 2.
2 are connected by a connecting portion 23, and
They are arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. Further, a plurality of holes 3 are formed on the anisotropic conductive sheet 10 in accordance with a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected.
The support plate 30 on which the protruding electrodes 20 are formed is disposed via the wiring portion 16 and the connecting portions 23 of the protruding electrodes 20 are fixed in the holes 31 of the support plate 30.
Are supported by the support plate 30. Other specific configurations are the same as those of the probe card according to the above-described first embodiment.

【0061】上記のプローブカードは、例えば次のよう
な方法によって製造することができる。先ず、前述の第
3の実施の形態と同様にして、金属板60と、支持体3
0と、複数の電極用金属体20Aとからなる中間複合体
35Aを作製する(図18〜図21参照)。次いで、中
間複合体35Aにおける金属板60に対して、フォトリ
ソグラフィーおよびエッチング処理を施してその一部を
除去し、更に、電極用金属体20Aの表面に金メッキ処
理を行うことにより、図29に示すように、金属板60
の残部によって、突起状電極20に接続された所要のパ
ターンの配線部16を形成し、以て、支持板30の孔3
1に突起状電極20が支持されてなり、当該突起状電極
20に接続された配線部16を有する電極用連結体35
が得られる。
The above-described probe card can be manufactured, for example, by the following method. First, as in the third embodiment, the metal plate 60 and the support 3
0 and a plurality of metal bodies 20A for electrodes are produced (see FIGS. 18 to 21). Next, the metal plate 60 in the intermediate composite 35A is subjected to photolithography and etching to remove a part of the metal plate 60, and is further subjected to gold plating on the surface of the electrode metal body 20A, as shown in FIG. As shown, the metal plate 60
The wiring pattern 16 of a required pattern connected to the protruding electrode 20 is formed by the remaining part, so that the holes 3 of the support plate 30 are formed.
1. An electrode connecting body 35 having a protruding electrode 20 supported on the electrode 1 and having a wiring portion 16 connected to the protruding electrode 20
Is obtained.

【0062】一方、前述の第1の実施の形態と同様にし
て異方導電性シート10を製造する(図2〜図4参
照)。そして、電極用連結体35の配線部16の表面に
おける所要の個所に、硬化性樹脂材料または弾性高分子
物質用材料よりなる接着層形成材またはこれらの材料中
に導電性粉末が含有されてなる接着層形成材を塗布し、
この電極用連結体35を、異方導電性シート10上に、
当該配線部16における接着層形成材が塗布された個所
が当該導電部11上に位置するよう配置し、この状態
で、接着層形成材の硬化処理を行うことにより、図28
に示す構成のプローブカードが製造される。
On the other hand, the anisotropic conductive sheet 10 is manufactured in the same manner as in the first embodiment (see FIGS. 2 to 4). A bonding layer forming material made of a curable resin material or a material for an elastic polymer substance or a conductive powder is contained in these materials at required locations on the surface of the wiring portion 16 of the electrode connecting body 35. Apply adhesive layer forming material,
This electrode connecting body 35 is placed on the anisotropic conductive sheet 10,
By arranging the wiring section 16 so that the portion where the adhesive layer forming material is applied is located on the conductive section 11 and performing a curing treatment of the adhesive layer forming material in this state, FIG.
Is manufactured.

【0063】このようなプローブカードによれば、前述
の第3の実施の形態に係るプローブカードと同様の効果
が得られると共に、以下の効果が得られる。異方導電性
シート10と支持体30との間に、異方導電性シート1
0の導電部11に、突起状電極20を電気的に接続する
配線部16が設けられているため、当該異方導電性シー
ト10の導電部11のピッチを検査対象である回路装置
の被検査電極のピッチに合わせることが不要であり、適
宜の大きさとすることができる。従って、検査対象であ
る回路装置の被検査電極のピッチが小さいものであって
も、当該被検査電極のピッチより大きいピッチの導電部
を有する異方導電性シートを利用することにより、被検
査電極間における所要の絶縁性が確保された状態で、当
該被検査電極の電気的検査を実行することができる。
According to such a probe card, the same effects as those of the probe card according to the third embodiment can be obtained, and the following effects can be obtained. An anisotropic conductive sheet 1 is provided between the anisotropic conductive sheet 10 and the support 30.
Since the wiring portions 16 for electrically connecting the protruding electrodes 20 are provided on the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10, the pitch of the conductive portions 11 of the anisotropic conductive sheet 10 is inspected by the circuit device to be tested. It is not necessary to match the pitch of the electrodes, and the size can be set appropriately. Therefore, even if the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected is small, the anisotropic conductive sheet having the conductive portion having a pitch larger than the pitch of the electrodes to be inspected can be used. The electrical inspection of the electrode to be inspected can be performed in a state where required insulation between the electrodes is secured.

【0064】本発明は、上記の実施の形態に限られず、
種々の変更を加えることが可能である。 (1)突起状電極20の先端部21は、半球状のものに
限定されず、種々の形状のもの、例えば凹状、凸状、平
板状、円錐状、円柱状、鋸状などの形状、もしくはこれ
らを複合化した形状のものであってもよい。但し、検査
対象である回路装置の被検査電極に対して安定に電気的
接続を達成することができ、当該被検査該電極の表面お
よび周辺を損傷することがない点で、突起状電極20の
先端部21は、半球状のものが好ましい。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Various changes can be made. (1) The tip portion 21 of the protruding electrode 20 is not limited to a hemispherical shape, and may have various shapes, for example, a concave shape, a convex shape, a flat plate shape, a conical shape, a cylindrical shape, a saw shape, or the like, or These may have a composite shape. However, the electrical connection to the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected can be stably achieved, and the surface and the periphery of the electrode to be inspected are not damaged. The tip portion 21 is preferably a hemispherical one.

【0065】(2)第1の実施の形態乃至第4の実施の
形態において、突起状電極20の基端部22は、円板状
のものに限定されず、種々の形状のもの、例えば円板以
外の平板状、凹状、凸状、円錐状、円柱状、半球状、鋸
状などの形状、もしくはこれらを複合化した形状のもの
であってもよい。但し、異方導電性シート10の導電部
11に対して安定に電気的接続を達成することができ、
当該異方導電性シートを損傷することがない点で、平板
状のものが好ましい。
(2) In the first to fourth embodiments, the base end 22 of the protruding electrode 20 is not limited to a disk-shaped one, but may be of various shapes, for example, a circle. A shape other than a plate, such as a flat plate shape, a concave shape, a convex shape, a conical shape, a cylindrical shape, a hemispherical shape, a saw-like shape, or a composite shape thereof may be used. However, stable electrical connection to the conductive part 11 of the anisotropic conductive sheet 10 can be achieved,
A flat plate is preferable in that the anisotropic conductive sheet is not damaged.

【0066】(3)第1の実施の形態および第2の実施
の形態において、レジスト膜65に複数の突起状電極2
0が保持されてなる電極連結体25は、例えば以下のよ
うにして製造することもできる。図5に示すように、例
えば銅よりなる金属板60の表面上に、フォトリソグラ
フィーの手法により、形成すべき突起状電極20の配列
パターンに対応するパターンに従って複数の開口66が
形成されたレジスト膜65を形成し、次いで、図30に
示すように、金属板60の裏面全面に絶縁膜62を形成
した状態で、当該金属板60に対して、例えば電解ニッ
ケルメッキ処理を施すことにより、レジスト膜65の一
面から突出する電極用金属体20Aが、当該レジスト膜
65の開口66に保持された状態で形成され、以て、金
属板60と、レジスト膜65と、複数の電極用金属体2
0Aとからなる中間複合体25Aが得られる。そして、
この中間複合体25Aにおける金属板60の裏面から絶
縁膜62を除去した後、当該中間複合体25Aの金属板
60に対して、フォトリソグラフィーおよびエッチング
処理を施してその一部を除去し、更に、金メッキ処理を
行うことにより、図31に示すように、ニッケルよりな
る先端部21がニッケルよりなる連結部23によって銅
よりなる基端部22に連結された突起状電極20が、レ
ジスト膜65に保持されてなる電極用連結体25が得ら
れる。
(3) In the first and second embodiments, a plurality of projecting electrodes 2
The electrode connected body 25 holding 0 may be manufactured, for example, as follows. As shown in FIG. 5, a resist film in which a plurality of openings 66 are formed on the surface of a metal plate 60 made of, for example, copper according to a pattern corresponding to an arrangement pattern of the protruding electrodes 20 to be formed by a photolithography technique. Then, as shown in FIG. 30, in a state where the insulating film 62 is formed on the entire back surface of the metal plate 60, the metal plate 60 is subjected to, for example, electrolytic nickel plating to form a resist film. The electrode metal body 20A protruding from one surface of the electrode film 65 is formed in a state held in the opening 66 of the resist film 65. Thus, the metal plate 60, the resist film 65, and the plurality of electrode metal bodies 2 are formed.
Thus, an intermediate composite 25A consisting of 0A is obtained. And
After removing the insulating film 62 from the back surface of the metal plate 60 in the intermediate composite 25A, the metal plate 60 of the intermediate composite 25A is subjected to photolithography and etching to remove a part thereof. By performing the gold plating process, as shown in FIG. 31, the protruding electrode 20 in which the distal end portion 21 made of nickel is connected to the base end portion 22 made of copper by the connecting portion 23 made of nickel is held on the resist film 65. Thus, an electrode connector 25 is obtained.

【0067】(4)第3の実施の形態乃至第5の実施の
形態において、支持体30に複数の突起状電極20が保
持されてなる電極連結体35は、レジスト膜65の代わ
りに支持体30を用いることにより、上記の(3)の方
法と同様にして製造することができる。
(4) In the third to fifth embodiments, the electrode connecting body 35 in which the plurality of protruding electrodes 20 are held on the support 30 is replaced with a support instead of the resist film 65. By using No. 30, it can be manufactured in the same manner as in the above method (3).

【0068】(5)突起状電極20は、異方導電性シー
ト10の一面だけでなく両面に設けられていてもよい。
(5) The protruding electrodes 20 may be provided not only on one surface of the anisotropic conductive sheet 10 but also on both surfaces.

【0069】(6)異方導電性シート10の両面に突起
状電極20が設けられたプローブカードにおいて、第2
の実施の形態と同様の構成のもの(突起状電極20が異
方導電性シート10における導電部11の両端面に形成
された凹所内に基端部22が受容された状態で一体的に
設けられてなるもの)を製造する場合には、以下の方法
を採用することができる。図32に示すように、レジス
ト膜65に突起状電極20が互いに対掌なパターンで保
持されてなる一対の電極用連結体25を用意し、一方の
電極用連結体25(図32において下側の電極用連結体
25)における突起状電極20の基端部側の面に、シー
ト成形材料層10Aを形成し、このシート成形材料層1
0上に、他方の電極用連結体25を、その突起状電極2
0が一方の電極用連結体の突起状電極20の上方に位置
するよう配置する。そして、一方の電極用連結体25の
下面および他方の電極用連結体25の上面に一対の電磁
石53,58を配置し、この電磁石53,58を作動さ
せることにより、電極用連結体25の各々の突起状電極
20が磁極となって他方の電極用連結体25の突起状電
極20から一方の電極用連結体25の突起状電極20に
向かう方向に平行磁場が作用する。その結果、シート成
形材料層10Aにおいては、導電性粒子が、他方の電極
用連結体25の突起状電極20と一方の電極用連結体2
5の突起状電極20との間に位置する部分に集合し、更
に好ましくはシート成形材料層10Aの厚み方向に配向
する。この状態で、シート成形材料層10Aを硬化処理
した後、電極用連結体25の各々におけるレジスト膜6
5を除去することにより、突起状電極20が異方導電性
シート10における導電部11の両端面に形成された凹
所内に基端部22が受容された状態で一体的に設けられ
てなるプローブカードが得られる。このような方法によ
れば、特殊な金型を用いることなしに異方導電性シート
を成形することができので、製造コストの低減化を図る
ことができる。また、上記のような方法により、突起状
電極20が両面に設けられた異方導電性シート10を成
形した後、いずれか一方の面の突起状電極20を除去す
ることによって、異方導電性シートの一面にのみ突起状
電極20が設けられたプローブカードを製造することも
できる。
(6) In the probe card in which the protruding electrodes 20 are provided on both surfaces of the anisotropic conductive sheet 10, the second
(The protruding electrodes 20 are integrally provided in the recesses formed on both end surfaces of the conductive portion 11 in the anisotropic conductive sheet 10 with the base end portions 22 being received. The following method can be adopted in the case of manufacturing the same. As shown in FIG. 32, a pair of electrode connecting bodies 25 in which the protruding electrodes 20 are held on the resist film 65 in a pattern opposite to each other are prepared, and one of the electrode connecting bodies 25 (the lower side in FIG. A sheet forming material layer 10A is formed on the surface on the base end side of the protruding electrode 20 in the electrode connecting body 25).
0, the other electrode connecting body 25 is connected to the protruding electrode 2
0 is located above the protruding electrode 20 of the one electrode connecting body. Then, a pair of electromagnets 53 and 58 are disposed on the lower surface of one electrode connecting body 25 and the upper surface of the other electrode connecting body 25, and by operating these electromagnets 53 and 58, each of the electrode connecting bodies 25 is formed. The projecting electrodes 20 of the other form a magnetic pole, and a parallel magnetic field acts in a direction from the projecting electrodes 20 of the other electrode connecting body 25 to the projecting electrodes 20 of the one electrode connecting body 25. As a result, in the sheet forming material layer 10A, the conductive particles are connected to the protruding electrodes 20 of the other electrode connecting body 25 and the one electrode connecting body 2.
5 and is more preferably oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 10A. In this state, after the sheet forming material layer 10A is cured, the resist film 6 on each of the electrode connecting bodies 25 is formed.
By removing 5, a probe is provided in which protruding electrodes 20 are integrally provided with base ends 22 received in recesses formed on both end surfaces of conductive portion 11 in anisotropic conductive sheet 10. You get a card. According to such a method, since the anisotropic conductive sheet can be formed without using a special mold, the manufacturing cost can be reduced. Further, by forming the anisotropically conductive sheet 10 having the protruding electrodes 20 provided on both surfaces by the method as described above, the protruding electrodes 20 on one of the surfaces are removed, whereby the anisotropic conductive sheet 10 is removed. A probe card in which the protruding electrodes 20 are provided only on one surface of the sheet can be manufactured.

【0070】(7)異方導電性シート10における導電
部11の両端面に形成された凹所内に基端部22が受容
された状態で一体的に設けられてなるプローブカード
を、上記の(6)の方法により製造する場合には、図3
3に示すように、電極用連結体25として、突起状電極
20の基端部22が半球状のものを用いることが好まし
い。このような電極用連結体25を用いる方法によれ
ば、突起状電極20の基端部22が半球状であるため、
シート成形材料層10Aにおける導電部となる部分に、
その面方向にわたって一様な強度の磁場を作用させるこ
とができ、従って、シート成形材料層10A中の導電性
粒子を、当該シート成形材料層10Aの導電部となる部
分に面方向において均一に集合させることができ、その
結果、所期の導電性を有する導電部を確実に形成するこ
とができる。また、上記のような方法により、突起状電
極20が両面に設けられた異方導電性シート10を成形
した後、いずれか一方の面の突起状電極20を除去する
ことによって、異方導電性シートの一面にのみ突起状電
極20が設けられたプローブカードを製造することもで
きる。
(7) The probe card formed integrally with the base end portion 22 received in the recesses formed on both end surfaces of the conductive portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10 as described above ( In the case of manufacturing by the method 6), FIG.
As shown in FIG. 3, it is preferable to use a protruding electrode 20 having a hemispherical base end 22 as the electrode connecting body 25. According to the method using the electrode connecting body 25, since the base end portion 22 of the protruding electrode 20 is hemispherical,
In a portion serving as a conductive portion in the sheet molding material layer 10A,
A magnetic field having a uniform intensity can be applied in the plane direction, so that the conductive particles in the sheet forming material layer 10A are uniformly gathered in the plane direction on a portion to be a conductive portion of the sheet forming material layer 10A. As a result, the conductive portion having the desired conductivity can be reliably formed. Further, by forming the anisotropically conductive sheet 10 having the protruding electrodes 20 provided on both surfaces by the method as described above, the protruding electrodes 20 on one of the surfaces are removed, whereby the anisotropic conductive sheet 10 is removed. A probe card in which the protruding electrodes 20 are provided only on one surface of the sheet can be manufactured.

【0071】(8)異方導電性シート10の両面に設け
られたプローブカードにおいて、第4の実施の形態と同
様の構成のもの(突起状電極20が異方導電性シート1
0における導電部11の両端面に形成された凹所内に基
端部22が受容された状態で一体的に設けられ、突起状
電極20の各々が異方導電性シート10の両面に設けら
れた支持板30に支持されてなるもの)は、レジスト膜
65に突起状電極20が保持されてなる電極用連結体2
5の代わりに、支持板30に突起状電極20が保持され
てなる電極用連結体35を用いることにより、上記
(6)の方法と同様にして製造することができる。ま
た、このような方法においては、電極用連結体35とし
て、突起状電極20の基端部22が半球状のものを用い
ることが好ましく、これにより、所期の導電性を有する
導電部を確実に形成することができる。
(8) A probe card provided on both sides of the anisotropic conductive sheet 10 having the same configuration as that of the fourth embodiment (the protruding electrode 20 is
0, the base portions 22 are integrally provided in recesses formed on both end surfaces of the conductive portion 11, and each of the protruding electrodes 20 is provided on both surfaces of the anisotropic conductive sheet 10. The electrode connector 2 supported by the support plate 30) includes a resist film 65 holding the protruding electrodes 20.
By using the electrode connecting body 35 in which the protruding electrodes 20 are held on the support plate 30 instead of 5, it can be manufactured in the same manner as in the method (6). Further, in such a method, it is preferable that the base portion 22 of the protruding electrode 20 be hemispherical as the electrode connecting body 35, whereby the conductive portion having the desired conductivity can be surely formed. Can be formed.

【0072】[0072]

【実施例】以下、本発明のプローブカードの具体的な実
施例について説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the probe card of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0073】〈実施例1〉厚みが25μmのポリイミド
よりなる支持板(30)と、厚みが18μmの銅よりな
る金属板(60)の積層体を用意し、この積層体におけ
る支持板(30)に、KrFエキシマレーザーにより、
ピッチが0.2mmで、内径が0.03mmの孔(3
1)を形成した(図18参照)。次いで、金属板(6
0)の表面に対して、支持板(30)の孔(31)を介
してエッチング処理を施すことにより、当該金属板(6
0)の表面に、複数の半球状の窪所(61)を形成した
(図19参照)。その後、金属板(60)の裏面全面に
ポリイミドよりなる絶縁膜62を形成し、当該金属板
(60)に電解ニッケルメッキ処理を施すことにより、
支持板(30)の孔(31)に支持された、当該支持板
(30)の両面から半球状に突出する電極用金属体(2
0A)を形成し、以て、中間複合体(35A)を製造し
た(図20および図21参照)。
Example 1 A laminate of a support plate (30) made of polyimide having a thickness of 25 μm and a metal plate (60) made of copper having a thickness of 18 μm was prepared, and the support plate (30) in this laminate was prepared. Then, by KrF excimer laser,
Holes with a pitch of 0.2 mm and an inner diameter of 0.03 mm (3
1) was formed (see FIG. 18). Then, a metal plate (6
0) is etched through the holes (31) of the support plate (30) to thereby form the metal plate (6).
A plurality of hemispherical depressions (61) were formed on the surface of 0) (see FIG. 19). Thereafter, an insulating film 62 made of polyimide is formed on the entire back surface of the metal plate (60), and the metal plate (60) is subjected to electrolytic nickel plating,
A metal body (2) for an electrode supported in a hole (31) of the support plate (30) and projecting hemispherically from both surfaces of the support plate (30).
0A), thereby producing an intermediate composite (35A) (see FIGS. 20 and 21).

【0074】そして、中間複合体(35A)における金
属板(60)から絶縁膜(62)を除去した後、当該中
間複合体(35A)の金属板(60)をエッチングによ
って除去し、更に、電極用金属体(20A)の表面に金
メッキ処理を行うことにより、支持板(30)の孔(3
1)に電極用金属体(20A)が支持されてなる電極用
連結体(35)を製造した。その後、この電極用連結体
(35)における電極用金属体(20A)の一端面を研
磨することにより、半球状の先端部(21)と円板状の
基端部(22)とが連結部(23)によって連結されて
なり、当該連結部(23)が支持板(30)の孔(3
1)内に固定された突起状電極(20)を形成した。こ
の突起状電極(20)は、半球状の先端部(21)と円
板状の基端部(22)とが連結部(23)によって連結
されてなり、全体の厚みが73μmで、支持板(30)
からの突出高さ(先端部(21)の厚み)が30μmで
ある。
Then, after removing the insulating film (62) from the metal plate (60) in the intermediate composite (35A), the metal plate (60) of the intermediate composite (35A) is removed by etching, and the electrode is further removed. By performing gold plating on the surface of the metal body (20A) for use, the holes (3) of the support plate (30) are formed.
A connected body for an electrode (35) in which the metal body for an electrode (20A) was supported in 1) was manufactured. Thereafter, by polishing one end face of the electrode metal body (20A) in the electrode connection body (35), the hemispherical tip end (21) and the disk-shaped base end (22) are connected. (23), and the connecting portion (23) is connected to the hole (3) of the support plate (30).
1) A protruding electrode (20) fixed inside was formed. The protruding electrode (20) has a hemispherical tip (21) and a disc-shaped base (22) connected by a connecting portion (23), and has a total thickness of 73 μm and a support plate. (30)
(The thickness of the tip portion (21)) is 30 μm.

【0075】一方、付加型シリコーンゴム「1206R
TV」(信越化学(株)製)100重量部と、平均粒子
径が28μmのニッケル粒子に金よりなる被覆膜(平均
膜厚0.1μm,被覆量4重量%)が形成されてなる導
電性粒子30重量部とを混合することにより、シート成
形材料を調製した。このシート成形材料を、図2に示す
金型における下型(55)の表面に、スクリーン印刷に
より塗布することにより、厚みが0.5mmのシート成
形材料層(10A)を形成し、このシート成形材料層
(10A)上に、電極用連結体(35)を、その突起状
電極(20)が下型(55)の磁性部材(57)の上方
に位置するよう配置した(図25参照)。
On the other hand, addition type silicone rubber “1206R”
TV "(manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 100 parts by weight, and a nickel film having an average particle diameter of 28 μm formed with a gold coating film (average film thickness: 0.1 μm, coating amount: 4% by weight). A sheet molding material was prepared by mixing 30 parts by weight of the conductive particles. This sheet molding material is applied to the surface of the lower mold (55) in the mold shown in FIG. 2 by screen printing to form a sheet molding material layer (10A) having a thickness of 0.5 mm. On the material layer (10A), the electrode connecting body (35) was arranged such that the protruding electrode (20) was located above the magnetic member (57) of the lower mold (55) (see FIG. 25).

【0076】そして、電極用連結体(35)の上面およ
び下型(55)の下面に一対の電磁石(53,58)を
配置し、この電磁石(53,58)を作動させることに
より、電極用連結体(35)の突起状電極(20)と、
下型(55)の磁性部材(57)との間において、シー
ト成形材料層(10A)の厚み方向に平均で5000ガ
ウスの平行磁場を作用させ、この状態で、当該シート成
形材料層(10A)に対して、100℃、60分間の条
件で硬化処理を行うことにより、異方導電性シート(1
0)を形成し、以て、図24に示す構成のプローブカー
ドを製造した。
Then, a pair of electromagnets (53, 58) are disposed on the upper surface of the electrode connecting body (35) and the lower surface of the lower mold (55), and the electromagnets (53, 58) are actuated. A protruding electrode (20) of the connecting body (35);
Between the magnetic member (57) of the lower mold (55) and the magnetic field (57A) of the sheet forming material layer (10A), a parallel magnetic field of 5000 Gauss on average acts on the sheet forming material layer (10A). Is cured at 100 ° C. for 60 minutes to obtain an anisotropic conductive sheet (1).
0) was formed, and thus, a probe card having a configuration shown in FIG. 24 was manufactured.

【0077】表面に複数の回路装置が形成されたウエハ
(全ての回路装置について良品であることが確認された
もの)を用意し、このウエハ上に、得られたプローブカ
ードを、その突起状電極の各々が当該ウエハにおける回
路装置の各々の被検査電極上に位置するよう配置し、下
記の方法(1)〜方法(3)によって、被検査電極1個
当たりに加わる圧力が5gf、10gf、15gfとな
る条件で加圧し、この状態で、ウエハに形成された回路
装置の被検査電極について電気的検査を行うことによ
り、プローブカードとウエハ上に形成された回路装置と
の電気的接続状態を調べ、全ての被検査電極について電
気的接続状態が良好な場合を〇、電気的接続状態が不良
な個所がある場合を×として評価した。 方法(1):プローブカードを、ウエハ全面にわたって
加圧する。 方法(2):プローブカードを、ウエハ上に形成された
回路装置毎に加圧する。 方法(3):プローブカードを、ウエハ上に形成された
回路装置における被検査電極毎に加圧する。 以上、結果を表1に示す。
A wafer having a plurality of circuit devices formed on the surface thereof (one that has been confirmed to be good for all the circuit devices) is prepared, and the obtained probe card is placed on the wafer with the protruding electrode. Are placed on each of the electrodes to be inspected of the circuit device on the wafer, and the pressure applied to each of the electrodes to be inspected is 5 gf, 10 gf, and 15 gf by the following methods (1) to (3). Pressure is applied under the conditions described below, and in this state, the electrical connection between the probe card and the circuit device formed on the wafer is determined by performing an electrical inspection on the electrode to be inspected of the circuit device formed on the wafer. The case where the electrical connection state was good for all the electrodes to be inspected was evaluated as Δ, and the case where there was a portion where the electrical connection state was defective was evaluated as ×. Method (1): The probe card is pressed over the entire surface of the wafer. Method (2): The probe card is pressurized for each circuit device formed on the wafer. Method (3): A probe card is pressurized for each electrode to be inspected in a circuit device formed on a wafer. The results are shown in Table 1.

【0078】〈比較例1〉実施例1と同様にしてシート
成形材料を調製し、このシート成形材料によって、実施
例1と同様の条件により異方導電性シートを製造した。
表面に複数の回路装置が形成されたウエハ(全ての回路
装置について良品であることが確認されたもの)を用意
し、このウエハ上に、得られた異方導電性シートを、そ
の導電部の各々が当該ウエハにおける回路装置の各々の
被検査電極上に位置するよう配置し、上記方法(1)に
よって、被検査電極1個当たりに加わる圧力が5gf、
10gf、15gfとなる条件で加圧し、この状態で、
ウエハに形成された回路装置の被検査電極について電気
的検査を行うことにより、異方導電性シートとウエハ上
に形成された回路装置との電気的接続状態を調べ、実施
例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A sheet molding material was prepared in the same manner as in Example 1, and an anisotropic conductive sheet was produced from this sheet molding material under the same conditions as in Example 1.
A wafer having a plurality of circuit devices formed on its surface (one that has been confirmed to be good for all circuit devices) is prepared, and the obtained anisotropic conductive sheet is placed on this wafer, Each of them is arranged so as to be positioned on each of the electrodes to be inspected of the circuit device on the wafer. According to the above method (1), the pressure applied to each electrode to be inspected is 5 gf,
Pressurized under conditions of 10 gf and 15 gf, and in this state,
The electrical connection between the anisotropic conductive sheet and the circuit device formed on the wafer is checked by performing an electrical test on the electrode to be tested of the circuit device formed on the wafer. evaluated. Table 1 shows the results.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】表1の結果から明らかなように、実施例1
に係るプローブカードによれば、いずれの方法および加
圧力によっても、ウエハ上に形成された回路装置の被検
査電極に対して、良好な電気的接続状態が達成されるこ
とが確認された。これに対し、突起状電極を有しない異
方導電性シートにおいては、ウエハ上に形成された回路
装置の被検査電極に対して、良好な電気的接続状態を達
成することができなかった。
As is clear from the results in Table 1, Example 1
According to the probe card according to the above, it was confirmed that a good electrical connection state was achieved with respect to the electrodes to be inspected of the circuit device formed on the wafer by any of the methods and the pressure. On the other hand, in the case of an anisotropic conductive sheet having no protruding electrodes, a good electrical connection state could not be achieved with respect to an electrode to be inspected of a circuit device formed on a wafer.

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明のプローブカードによれば、異方
導電性シートの導電部に電気的に接続された突起状電極
が設けられているため、被検査電極がその表面に酸化膜
を有するものであっても、当該突起状電極によって当該
酸化膜を小さい押圧力で突き破ることができ、その結
果、所要の電気的接続を確実に達成することができる。
また、小さい押圧力で所要の電気的接続が確実に達成さ
れるので、検査対象である回路装置の表面が損傷するこ
とを防止することができ、しかも、長期間にわたって良
好な電気的接続状態を維持することができる。また、被
検査電極には、異方導電性シートが直接接触することが
ないため、当該異方導電性シートを構成する弾性高分子
物質中に含有される低分子量成分により、被検査電極が
汚染することを防止することができる。
According to the probe card of the present invention, since the protruding electrode electrically connected to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet is provided, the electrode to be inspected has an oxide film on its surface. Even if it is, the oxide film can be pierced by the projecting electrode with a small pressing force, and as a result, required electrical connection can be reliably achieved.
In addition, since the required electrical connection is reliably achieved with a small pressing force, it is possible to prevent the surface of the circuit device to be inspected from being damaged, and to maintain a good electrical connection state for a long period of time. Can be maintained. Further, since the anisotropic conductive sheet does not directly contact the electrode to be inspected, the electrode to be inspected is contaminated by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet. Can be prevented.

【0082】また、異方導電性シート上に突起状電極を
支持する支持体を設けることにより、突起状電極が被検
査電極を押圧したときに、当該突起状電極が傾くことが
防止され、その結果、所要の電気的接続を一層確実に達
成することができる。また、支持体によって、異方導電
性シートが回路装置に直接接触することが回避されるた
め、当該異方導電性シートを構成する弾性高分子物質中
に含有される低分子量成分により、回路装置の表面が汚
染することを防止することができる。
Further, by providing a support for supporting the protruding electrodes on the anisotropic conductive sheet, when the protruding electrodes press the electrode to be inspected, the protruding electrodes are prevented from tilting. As a result, the required electrical connection can be achieved more reliably. In addition, since the support prevents the anisotropic conductive sheet from directly contacting the circuit device, the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive sheet causes the circuit device to have a low molecular weight. Can be prevented from being contaminated.

【0083】また、異方導電性シートと支持体との間
に、異方導電性シートの導電部に突起状電極を電気的に
接続する配線部を設けることにより、当該異方導電性シ
ートの導電部のピッチを検査対象である回路装置の被検
査電極のピッチに合わせることが不要であり、適宜の大
きさとすることができる。従って、検査対象である回路
装置の被検査電極のピッチが小さいものであっても、当
該被検査電極のピッチより大きいピッチの導電部を有す
る異方導電性シートを利用することにより、被検査電極
間における所要の絶縁性が確保された状態で、当該被検
査電極の電気的検査を実行することができる。
Further, by providing a wiring portion for electrically connecting the protruding electrodes to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet between the anisotropic conductive sheet and the support, the conductive portion of the anisotropic conductive sheet is provided. It is not necessary to match the pitch of the conductive portions with the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected, and the size can be made as appropriate. Therefore, even if the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected is small, the anisotropic conductive sheet having the conductive portion having a pitch larger than the pitch of the electrodes to be inspected can be used. The electrical inspection of the electrode to be inspected can be performed in a state where required insulation between the electrodes is secured.

【0084】このようなプローブカードは、厚み方向に
容易に変形する異方導電性シートを有すると共に、酸化
膜を小さい加圧力で突き破ることができる突起状電極を
有するため、半導体チップよりなる回路装置の電気的特
性をウエハの状態で検査するために好適に利用すること
ができる。
Since such a probe card has an anisotropic conductive sheet which is easily deformed in the thickness direction and has a protruding electrode which can break through an oxide film with a small pressing force, a circuit device comprising a semiconductor chip is provided. Can be suitably used for inspecting the electrical characteristics of the wafer in a state of a wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプローブカードに係る第1の実施の形
態における要部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a probe card according to a first embodiment of the present invention.

【図2】異方導電性シートを製造するための金型の一例
における構成を示す説明用断面図である。
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of a mold for manufacturing an anisotropic conductive sheet.

【図3】図2に示す金型内に形成されたシート成形材料
層に平行磁場を作用させた状態を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory sectional view showing a state in which a parallel magnetic field is applied to a sheet molding material layer formed in a mold shown in FIG. 2;

【図4】シート成形材料層が硬化処理されて異方導電性
シートが製造された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a sheet forming material layer has been cured to produce an anisotropic conductive sheet.

【図5】金属板の一面にレジスト膜が形成された状態を
示す説明用断面図である。
FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a resist film is formed on one surface of a metal plate.

【図6】金属板がエッチングされて窪所が形成された状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a recess is formed by etching a metal plate.

【図7】金属板の他面に絶縁膜が形成された状態を示す
説明用断面図ある。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state where an insulating film is formed on the other surface of the metal plate.

【図8】電極用金属体が形成されて中間複合体が製造さ
れた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a metal body for an electrode is formed to produce an intermediate composite.

【図9】電極用連結体が製造された状態を示す説明用断
面図である。
FIG. 9 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the connection body for an electrode is manufactured.

【図10】電極用連結体の電極金属体が研磨されて突起
状電極が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a protruding electrode is formed by polishing an electrode metal body of an electrode connecting body.

【図11】電極用連結体における突起状電極が、接着層
を介して異方導電性シートの導電部に接着された状態を
示す説明用断面図ある。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a protruding electrode in a connection body for an electrode is bonded to a conductive portion of an anisotropic conductive sheet via an adhesive layer.

【図12】本発明のプローブカードを使用して回路装置
の電気的検査を行った状態を示す説明用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state where an electrical inspection of a circuit device is performed using the probe card of the present invention.

【図13】本発明のプローブカードに係る第2の実施の
形態における要部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a probe card according to a second embodiment of the present invention.

【図14】図2に示す下型上にシート成形材料層を介し
て電極用連結体が配置された状態を示す説明用断面図で
ある。
FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an electrode connector is arranged on a lower mold shown in FIG. 2 via a sheet molding material layer.

【図15】シート成形材料層に平行磁場を作用させた状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied to a sheet forming material layer.

【図16】電極用連結体に異方導電性シートが一体的に
形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an anisotropic conductive sheet is formed integrally with a connection body for electrodes.

【図17】本発明のプローブカードに係る第3の実施の
形態における要部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a probe card according to a third embodiment of the present invention.

【図18】金属板の一面に支持体が積層された状態を示
す説明用断面図である。
FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a support is laminated on one surface of a metal plate.

【図19】金属板がエッチングされて窪所が形成された
状態を示す説明用断面図である。
FIG. 19 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a metal plate is etched to form a recess.

【図20】金属板の他面に絶縁膜が形成された状態を示
す説明用断面図ある。
FIG. 20 is an explanatory cross-sectional view showing a state where an insulating film is formed on the other surface of the metal plate.

【図21】電極用金属体が形成されて中間複合体が製造
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 21 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a metal body for an electrode is formed to produce an intermediate composite.

【図22】電極用連結体が製造された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 22 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the electrode connecting body is manufactured.

【図23】電極用連結体の電極金属体が研磨されて突起
状電極が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 23 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a protruding electrode is formed by polishing an electrode metal body of an electrode connecting body.

【図24】本発明のプローブカードに係る第4の実施の
形態における要部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 24 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a probe card according to a fourth embodiment of the present invention.

【図25】図2に示す下型上にシート成形材料層を介し
て電極用連結体が配置された状態を示す説明用断面図で
ある。
FIG. 25 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the electrode connecting body is arranged on the lower mold shown in FIG. 2 via a sheet molding material layer.

【図26】シート成形材料層に平行磁場を作用させた状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 26 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied to the sheet molding material layer.

【図27】電極用連結体に異方導電性シートが一体的に
形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 27 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an anisotropic conductive sheet is integrally formed on a connection body for electrodes.

【図28】本発明のプローブカードに係る第4の実施の
形態における要部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 28 is an explanatory sectional view showing a configuration of a main part of a probe card according to a fourth embodiment of the present invention.

【図29】電極用連結体が製造された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 29 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the electrode connector is manufactured.

【図30】窪所を有しない金属板とレジスト膜と電極用
金属体とよりなる中間複合体を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 30 is an explanatory sectional view showing an intermediate composite including a metal plate having no recess, a resist film, and a metal body for an electrode.

【図31】電極用連結体が製造された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 31 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the electrode connection body is manufactured.

【図32】一対の電極用連結体の間にシート成形材料層
を形成し、当該シート成形材料層に平行磁場を作用させ
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 32 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a sheet molding material layer is formed between a pair of electrode connecting bodies and a parallel magnetic field is applied to the sheet molding material layer.

【図33】それぞれ半球状の基端部を有する突起状電極
が設けられた一対の電極用連結体の間にシート成形材料
層を形成し、当該シート成形材料層に平行磁場を作用さ
せた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 33 shows a state in which a sheet molding material layer is formed between a pair of electrode connecting bodies provided with projecting electrodes each having a hemispherical base end portion, and a parallel magnetic field is applied to the sheet molding material layer; FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 検査用回路基板 2 接続用電極 3 端子電極 5 ウエハ 6 被検査電極 10 異方導電性シート 10A シート成形材料層 11 導電部 12 絶縁部 15 接着層 16 配線部 20 突起状電極 20A 電極用金属体 21 先端部 22 基端部 23 連結部 25 電極用連結体 25A 中間複合体 30 支持体 31 孔 35 電極用連結体 35A 中間複合体 50 上型 51 型板 51H 凹所 52 磁性部材 53 電磁石 55 下型 56 型板 56H 凹所 57 磁性部材 58 電磁石 60 金属板 61 窪所 絶縁膜 65 レジスト膜 66 開口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection circuit board 2 Connection electrode 3 Terminal electrode 5 Wafer 6 Inspection electrode 10 Anisotropic conductive sheet 10A Sheet molding material layer 11 Conductive part 12 Insulating part 15 Adhesive layer 16 Wiring part 20 Protruding electrode 20A Metal body for electrode DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Top end part 22 Base end part 23 Connecting part 25 Electrode connection body 25A Intermediate composite 30 Support body 31 Hole 35 Electrode connection body 35A Intermediate composite 50 Upper mold 51 Template 51H recess 52 Magnetic member 53 Electromagnet 55 Lower mold 56 type plate 56H recess 57 magnetic member 58 electromagnet 60 metal plate 61 recess insulating film 65 resist film 66 opening

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象である回路装置と電気的検査装
置との間に介在されて当該回路装置の電極の電気的検査
を行うためのプローブカードであって、 弾性高分子物質中に導電性粒子が充填された、それぞれ
厚み方向に伸びる複数の導電部が、弾性高分子物質より
なる絶縁部によって相互に絶縁された状態で配置されて
なる異方導電性シートと、 この異方導電性シートの導電部の各々に電気的に接続さ
れた複数の突起状電極とを具えてなり、 前記異方導電性シートと前記突起状電極とが一体化され
ていることを特徴とするプローブカード。
1. A probe card interposed between a circuit device to be inspected and an electrical inspection device for performing an electrical inspection of electrodes of the circuit device, the probe card comprising: An anisotropic conductive sheet in which a plurality of conductive portions each filled with particles and extending in the thickness direction are arranged in a state in which they are insulated from each other by an insulating portion made of an elastic polymer material; A probe card, comprising: a plurality of protruding electrodes electrically connected to each of the conductive portions, wherein the anisotropic conductive sheet and the protruding electrodes are integrated.
【請求項2】 突起状電極の各々は、異方導電性シート
上に配置された支持板によって支持されていることを特
徴とする請求項1に記載のプローブカード。
2. The probe card according to claim 1, wherein each of the protruding electrodes is supported by a support plate disposed on an anisotropic conductive sheet.
【請求項3】 異方導電性シートと支持体との間に、当
該異方導電性シートの導電部に、突起状電極を電気的に
接続する配線部が設けられていることを特徴とする請求
項2に記載のプローブカード。
3. A wiring portion for electrically connecting a projecting electrode to a conductive portion of the anisotropic conductive sheet between the anisotropic conductive sheet and the support. The probe card according to claim 2.
【請求項4】 検査対象である回路装置が、ウエハ上に
形成された回路装置であることを特徴とする請求項1乃
至請求項3のいずれかに記載のプローブカード。
4. The probe card according to claim 1, wherein the circuit device to be inspected is a circuit device formed on a wafer.
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