JP2000329531A - 三次元形状計測装置および同方法 - Google Patents
三次元形状計測装置および同方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学系の光学収差に影響されずに測定精度の
向上を可能にする。 【解決手段】 照明手段20は、レーザ光源21、レー
ザ光を平行光束22にするコリメータレンズ23、2つ
の平行光束22a,22bに分岐するハーフミラー24
a、平行光束22a,22bを帯状光束25a,25b
に変換するガリレオ光学系26a,26b、帯状光束2
5a,25bをそれぞれ反射して照射方向を変化させる
ガルバノミラー27a,27bとからなる。対物光学系
30は、測定対象6からの測定光を集光する対物レンズ
群31と、対物レンズ群31を通過した光を反射する反
射鏡32とからなる。対物レンズ群31は、その焦点が
移動可能に構成されている。受光手段40は、光電変換
素子が複数個二次元的に並べて配置されて構成されてい
る。この受光手段40は、その光電変換素子の1列が対
物光学系30の焦点と共役な位置に一致するように配置
されている。
向上を可能にする。 【解決手段】 照明手段20は、レーザ光源21、レー
ザ光を平行光束22にするコリメータレンズ23、2つ
の平行光束22a,22bに分岐するハーフミラー24
a、平行光束22a,22bを帯状光束25a,25b
に変換するガリレオ光学系26a,26b、帯状光束2
5a,25bをそれぞれ反射して照射方向を変化させる
ガルバノミラー27a,27bとからなる。対物光学系
30は、測定対象6からの測定光を集光する対物レンズ
群31と、対物レンズ群31を通過した光を反射する反
射鏡32とからなる。対物レンズ群31は、その焦点が
移動可能に構成されている。受光手段40は、光電変換
素子が複数個二次元的に並べて配置されて構成されてい
る。この受光手段40は、その光電変換素子の1列が対
物光学系30の焦点と共役な位置に一致するように配置
されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、機械部品その他の
物体の三次元形状を非接触で計測する三次元形状計測装
置および同方法に関するものである。
物体の三次元形状を非接触で計測する三次元形状計測装
置および同方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、物体の三次元形状を非接触で計測
する方法として、光学的に計測する方法が知られている
が、この光学的な計測方法は、以下のように大きく4つ
に分類される。
する方法として、光学的に計測する方法が知られている
が、この光学的な計測方法は、以下のように大きく4つ
に分類される。
【0003】第1の方法は、三角測量法を基本原理と
し、発光部から測定対象までの方向と距離を検出するこ
とにより、その三次元形状を計測する光切断法と称され
るものである。この方法は、発光部及び受光部からなる
簡素な構成で比較的高精度の計測が可能である反面、測
定対象の形状によっては計測上の死角が発生しやすく、
さらに測定対象の表面状態の影響を受けやすいという欠
点を有している。
し、発光部から測定対象までの方向と距離を検出するこ
とにより、その三次元形状を計測する光切断法と称され
るものである。この方法は、発光部及び受光部からなる
簡素な構成で比較的高精度の計測が可能である反面、測
定対象の形状によっては計測上の死角が発生しやすく、
さらに測定対象の表面状態の影響を受けやすいという欠
点を有している。
【0004】第2の方法は、所定の規則的な光学パター
ンを測定対象に投影し、その光学パターンの変化度合い
を検出することによって、その三次元形状を計測するも
のである。この方法も、比較的簡素な構成で高精度の計
測が可能である反面、やはり計測上の死角が大きいとい
う欠点を有している。
ンを測定対象に投影し、その光学パターンの変化度合い
を検出することによって、その三次元形状を計測するも
のである。この方法も、比較的簡素な構成で高精度の計
測が可能である反面、やはり計測上の死角が大きいとい
う欠点を有している。
【0005】第3の方法は、レーダーのごとく光を測定
対象に投射し、その反射光が受光部に到達するまでの時
間を計測することで距離を計算し、投射位置との関係か
ら三次元形状を計測するものである。この方法は、遠距
離を計測するのに適しているが、一般的な小型の機械部
品の形状を高精度で計測するのには適していない。
対象に投射し、その反射光が受光部に到達するまでの時
間を計測することで距離を計算し、投射位置との関係か
ら三次元形状を計測するものである。この方法は、遠距
離を計測するのに適しているが、一般的な小型の機械部
品の形状を高精度で計測するのには適していない。
【0006】第4の方法は、測定対象に光を投射し、光
学系の焦点における反射光の特異な振る舞いを検出する
ことにより距離を計測し、光の投射位置との関係から三
次元形状を計測するもので、ナイフエッジ法、非点収差
法や、共焦点検出法などがある。
学系の焦点における反射光の特異な振る舞いを検出する
ことにより距離を計測し、光の投射位置との関係から三
次元形状を計測するもので、ナイフエッジ法、非点収差
法や、共焦点検出法などがある。
【0007】ナイフエッジ法は、例えばナイフエッジの
影が検出器において焦点を境に反転することを利用する
もので、非点収差法は、非点収差を持つ光学系を用いて
スポット光の形状が焦点を境に縦長形状から横長形状に
変化することを利用するものである。
影が検出器において焦点を境に反転することを利用する
もので、非点収差法は、非点収差を持つ光学系を用いて
スポット光の形状が焦点を境に縦長形状から横長形状に
変化することを利用するものである。
【0008】また、共焦点検出法は、図15に示すよう
に、測定対象100を共焦点光学系101の焦点を含む
所定範囲を移動させるとともに、この焦点と共役な位置
に第1のピンホール102および第2のピンホール10
3を配置し、第1のピンホール102から出射された光
源104からの照明光を共焦点光学系101により絞り
込んで測定対象100に投射して反射、散乱させ、測定
対象100からの光を再び共焦点光学系101を通過さ
せて第2のピンホール103の直後に設けられた受光部
105で検出するものである。
に、測定対象100を共焦点光学系101の焦点を含む
所定範囲を移動させるとともに、この焦点と共役な位置
に第1のピンホール102および第2のピンホール10
3を配置し、第1のピンホール102から出射された光
源104からの照明光を共焦点光学系101により絞り
込んで測定対象100に投射して反射、散乱させ、測定
対象100からの光を再び共焦点光学系101を通過さ
せて第2のピンホール103の直後に設けられた受光部
105で検出するものである。
【0009】この第4の方法は、焦点位置を境に生じる
変化に基づいているので、第1〜第3の方法に比べて高
分解能で計測が行える。また、共焦点検出法は、測定対
象100の表面が共焦点光学系101の焦点に一致する
ときに受光部105において光が最も強く観測されるの
で、非常に高分解能で計測することができる。
変化に基づいているので、第1〜第3の方法に比べて高
分解能で計測が行える。また、共焦点検出法は、測定対
象100の表面が共焦点光学系101の焦点に一致する
ときに受光部105において光が最も強く観測されるの
で、非常に高分解能で計測することができる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記第1〜第3の方法
では、投射した光の測定対象からの測定光を受光したと
きに形状情報が得られるのに対して、上記第4の方法で
は、測定対象全体にわたって走査し、測定光の強度が最
大になる位置が検出されるまで形状情報が得られないた
め、第1〜第3の方法に比べて計測に時間を要するとい
う欠点がある。さらに、第4の方法は、光学系が複雑な
構成になり、その収差を小さく抑えるには高度な光学設
計が必要になるという欠点がある。
では、投射した光の測定対象からの測定光を受光したと
きに形状情報が得られるのに対して、上記第4の方法で
は、測定対象全体にわたって走査し、測定光の強度が最
大になる位置が検出されるまで形状情報が得られないた
め、第1〜第3の方法に比べて計測に時間を要するとい
う欠点がある。さらに、第4の方法は、光学系が複雑な
構成になり、その収差を小さく抑えるには高度な光学設
計が必要になるという欠点がある。
【0011】また、上記図15に示す従来の共焦点検出
法では、光源104から出た光が共焦点光学系101を
経て測定対象100の表面で反射、散乱し、その光が再
び共焦点光学系101を経て受光部105に取り込まれ
る構成になっているので、光学収差が二重に影響するこ
とになる。
法では、光源104から出た光が共焦点光学系101を
経て測定対象100の表面で反射、散乱し、その光が再
び共焦点光学系101を経て受光部105に取り込まれ
る構成になっているので、光学収差が二重に影響するこ
とになる。
【0012】図16は点光源104からの光がある波面
収差を持つ光学系101を1回通過したときの光強度分
布(点像分布)を示し、図17はその光が測定対象10
0で正反射して再び同一の光学系101を通過、すなわ
ち光学系101を2回通過したときの光強度分布(点像
分布)を示している。図16に比べて図17の点像分布
のピークが大きく低下しており、光が収差を持つ光学系
を2回通過すると像が極端に劣化することが分かる。
収差を持つ光学系101を1回通過したときの光強度分
布(点像分布)を示し、図17はその光が測定対象10
0で正反射して再び同一の光学系101を通過、すなわ
ち光学系101を2回通過したときの光強度分布(点像
分布)を示している。図16に比べて図17の点像分布
のピークが大きく低下しており、光が収差を持つ光学系
を2回通過すると像が極端に劣化することが分かる。
【0013】このように、光学系101を2回通過する
場合には、光源104からの光の領域全体に亘って高い
光学性能を有する光学系を実現することは非常に困難で
あった。例えば特開平5−332733号公報には、共
焦点光学系を備えた共焦点検出法について開示されてい
るが、測定対象からの光が光学系を2回通過しており、
やはり上述の欠点を有している。
場合には、光源104からの光の領域全体に亘って高い
光学性能を有する光学系を実現することは非常に困難で
あった。例えば特開平5−332733号公報には、共
焦点光学系を備えた共焦点検出法について開示されてい
るが、測定対象からの光が光学系を2回通過しており、
やはり上述の欠点を有している。
【0014】さらに、共焦点光学系がズーム機能を有す
る場合においては、その光学収差を全ズーム領域に亘っ
て小さく抑えるためには、非常に高度な光学設計と複雑
で高精度な光学系とが要求される。
る場合においては、その光学収差を全ズーム領域に亘っ
て小さく抑えるためには、非常に高度な光学設計と複雑
で高精度な光学系とが要求される。
【0015】また、上記図15に示す従来の共焦点検出
法に用いられる共焦点光学系101では、測定対象10
0の表面からの正反射光や散乱光などの様々な強度の測
定光が受光部105に入射するように構成されているた
めに、受光部105に入射する光強度のレベルの変化幅
が非常に大きいものとなり、受光部105のダイナミッ
クレンジを超える場合が生じていた。
法に用いられる共焦点光学系101では、測定対象10
0の表面からの正反射光や散乱光などの様々な強度の測
定光が受光部105に入射するように構成されているた
めに、受光部105に入射する光強度のレベルの変化幅
が非常に大きいものとなり、受光部105のダイナミッ
クレンジを超える場合が生じていた。
【0016】本発明は、上記問題を解決するもので、光
学系の光学収差に影響されずに測定精度の向上を可能に
する三次元形状計測装置を提供することを目的とする。
学系の光学収差に影響されずに測定精度の向上を可能に
する三次元形状計測装置を提供することを目的とする。
【0017】また、本発明は、測定精度を低下させずに
計測時間を短縮することを可能にする三次元形状計測装
置および同方法を提供することを目的とする。
計測時間を短縮することを可能にする三次元形状計測装
置および同方法を提供することを目的とする。
【0018】また、本発明は、測定対象の表面性状に起
因する反射特性の相違による受光部への入射光の光強度
の変化幅を狭くすることにより、測定対象の表面性状に
制約されない三次元形状計測装置を提供することを目的
とする。
因する反射特性の相違による受光部への入射光の光強度
の変化幅を狭くすることにより、測定対象の表面性状に
制約されない三次元形状計測装置を提供することを目的
とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、互い
に異なる方向から照射され、所定の位置で交差する2つ
の光束により測定対象を照明する照明手段と、上記照明
手段により照明された上記測定対象からの測定光を取り
込む対物光学系と、複数の光電変換素子が配置されてな
る受光手段と、を備え、上記複数の光電変換素子は、そ
れぞれ、上記対物光学系により取り込まれた上記測定光
を受光して受光強度に応じた電気信号を出力するもので
あることを特徴としている。
に異なる方向から照射され、所定の位置で交差する2つ
の光束により測定対象を照明する照明手段と、上記照明
手段により照明された上記測定対象からの測定光を取り
込む対物光学系と、複数の光電変換素子が配置されてな
る受光手段と、を備え、上記複数の光電変換素子は、そ
れぞれ、上記対物光学系により取り込まれた上記測定光
を受光して受光強度に応じた電気信号を出力するもので
あることを特徴としている。
【0020】この構成によれば、照明手段によって、互
いに異なる方向から照射され、所定の位置で交差する2
つの光束により測定対象が照明され、照明された測定対
象からの測定光が対物光学系によって取り込まれ、取り
込まれた測定光が複数の光電変換素子によって受光され
て、受光強度に応じた電気信号が出力されることによ
り、照明手段と対物光学系とが分離し、2つの光束は対
物光学系を1回だけ通過するので、対物光学系の収差に
よる影響が低減される。
いに異なる方向から照射され、所定の位置で交差する2
つの光束により測定対象が照明され、照明された測定対
象からの測定光が対物光学系によって取り込まれ、取り
込まれた測定光が複数の光電変換素子によって受光され
て、受光強度に応じた電気信号が出力されることによ
り、照明手段と対物光学系とが分離し、2つの光束は対
物光学系を1回だけ通過するので、対物光学系の収差に
よる影響が低減される。
【0021】また、互いに異なる方向から照射される2
つの光束により照明されることにより、測定対象の表面
には、いずれかの光束が到達することとなり、種々の形
状の測定対象に対して計測上の死角になることが低減さ
れる。
つの光束により照明されることにより、測定対象の表面
には、いずれかの光束が到達することとなり、種々の形
状の測定対象に対して計測上の死角になることが低減さ
れる。
【0022】また、請求項2の発明は、請求項1記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、コリメートされた光束であることを特徴としてい
る。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、コリメートされた光束であることを特徴としてい
る。
【0023】この構成によれば、測定対象を照明する2
つの光束は、それぞれ、コリメートされた光束であるこ
とにより、受光手段により受光される測定光の受光強度
が安定したものとなり、計測精度が向上する。
つの光束は、それぞれ、コリメートされた光束であるこ
とにより、受光手段により受光される測定光の受光強度
が安定したものとなり、計測精度が向上する。
【0024】また、請求項3の発明は、請求項1記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、互いに交差する上記所定の位置の近傍で集束する
光束であることを特徴としている。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、互いに交差する上記所定の位置の近傍で集束する
光束であることを特徴としている。
【0025】この構成によれば、測定対象を照明する2
つの光束は、それぞれ、互いに交差する上記所定の位置
の近傍で集束する光束であることにより、所定の位置の
近傍で測定対象を照射すると、受光手段により受光され
る測定光の受光強度が高いものとなり、計測精度が向上
する。
つの光束は、それぞれ、互いに交差する上記所定の位置
の近傍で集束する光束であることにより、所定の位置の
近傍で測定対象を照射すると、受光手段により受光され
る測定光の受光強度が高いものとなり、計測精度が向上
する。
【0026】また、請求項4の発明は、請求項1記載の
三次元形状計測装置において、上記受光手段は、複数の
光電変換素子が二次元的に並んで配置されてなるもので
あることを特徴としている。
三次元形状計測装置において、上記受光手段は、複数の
光電変換素子が二次元的に並んで配置されてなるもので
あることを特徴としている。
【0027】この構成によれば、対物光学系によって取
り込まれた測定光が、二次元的に並んで配置された複数
の光電変換素子によって受光されることにより、測定対
象を照明する2つの光束が広がりを持つ場合には、複数
の光電変換素子が受光することとなり、測定対象の形状
計測に要する時間が短縮される。
り込まれた測定光が、二次元的に並んで配置された複数
の光電変換素子によって受光されることにより、測定対
象を照明する2つの光束が広がりを持つ場合には、複数
の光電変換素子が受光することとなり、測定対象の形状
計測に要する時間が短縮される。
【0028】また、請求項5の発明は、請求項4記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束のうちの
少なくとも一方の光束により上記測定対象を照射したと
きの当該光束の上記対物光学系の光軸に対する照射角度
と、上記受光手段のうちの上記測定光を受光した光電変
換素子の位置とに基づいて、上記光軸方向における上記
測定対象の表面の位置を判定する位置判定手段を備えた
ことを特徴としている。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束のうちの
少なくとも一方の光束により上記測定対象を照射したと
きの当該光束の上記対物光学系の光軸に対する照射角度
と、上記受光手段のうちの上記測定光を受光した光電変
換素子の位置とに基づいて、上記光軸方向における上記
測定対象の表面の位置を判定する位置判定手段を備えた
ことを特徴としている。
【0029】この構成によれば、2つの光束のうちの少
なくとも一方の光束により測定対象を照射したときの当
該光束の対物光学系の光軸に対する照射角度と、受光手
段のうちの測定光を受光した光電変換素子の位置とに基
づいて、対物光学系の光軸方向における測定対象の表面
の位置が判定されることにより、三角測量法にしたがっ
て測定対象の形状が容易に計測されることとなる。
なくとも一方の光束により測定対象を照射したときの当
該光束の対物光学系の光軸に対する照射角度と、受光手
段のうちの測定光を受光した光電変換素子の位置とに基
づいて、対物光学系の光軸方向における測定対象の表面
の位置が判定されることにより、三角測量法にしたがっ
て測定対象の形状が容易に計測されることとなる。
【0030】また、請求項6の発明は、請求項5記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束が交差す
る交差部の位置を所定方向に移動させる交差部移動手段
を備えたことを特徴としている。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束が交差す
る交差部の位置を所定方向に移動させる交差部移動手段
を備えたことを特徴としている。
【0031】この構成によれば、2つの光束が交差する
交差部の位置が所定方向、例えば対物光学系の光軸方向
に移動する。これは、例えば光源から出力される光束を
測定対象に向けて反射する反射鏡を備えている場合に
は、その反射鏡の角度を変更することによって行われ
る。これによって、測定対象の重量が大きいなどによっ
て測定対象の高速移動が困難な場合であっても、2つの
光束による測定対象の表面のカバーが素速く行われるこ
ととなり、測定対象の形状計測が好適に行われる。
交差部の位置が所定方向、例えば対物光学系の光軸方向
に移動する。これは、例えば光源から出力される光束を
測定対象に向けて反射する反射鏡を備えている場合に
は、その反射鏡の角度を変更することによって行われ
る。これによって、測定対象の重量が大きいなどによっ
て測定対象の高速移動が困難な場合であっても、2つの
光束による測定対象の表面のカバーが素速く行われるこ
ととなり、測定対象の形状計測が好適に行われる。
【0032】また、請求項7の発明は、請求項5記載の
三次元形状計測装置において、上記測定対象を所定方向
に移動させる試料移動手段を備えたことを特徴としてい
る。
三次元形状計測装置において、上記測定対象を所定方向
に移動させる試料移動手段を備えたことを特徴としてい
る。
【0033】この構成によれば、測定対象が所定方向、
例えば対物光学系の光軸方向に移動することにより、2
つの光束による測定対象の表面のカバーが容易に行われ
ることとなり、測定対象の形状計測が好適に行われる。
例えば対物光学系の光軸方向に移動することにより、2
つの光束による測定対象の表面のカバーが容易に行われ
ることとなり、測定対象の形状計測が好適に行われる。
【0034】また、請求項8の発明は、請求項1記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、互いに線状に交差する帯状の光束であることを特
徴としている。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束は、それ
ぞれ、互いに線状に交差する帯状の光束であることを特
徴としている。
【0035】この構成によれば、測定対象を照明する2
つの光束は、それぞれ、互いに線状に交差する帯状の光
束であることにより、測定対象からの帯状の測定光が複
数の光電変換素子が配置されてなる受光手段により受光
されることによって、測定対象の形状計測に要する時間
の短縮を図ることが可能になる。特に、受光手段として
複数の光電変換素子が二次元的に並んで配置されてなる
ものを採用すると、測定対象からの帯状の測定光が複数
の光電変換素子により同時に受光されることによって、
測定対象の形状計測に要する時間が短縮される。
つの光束は、それぞれ、互いに線状に交差する帯状の光
束であることにより、測定対象からの帯状の測定光が複
数の光電変換素子が配置されてなる受光手段により受光
されることによって、測定対象の形状計測に要する時間
の短縮を図ることが可能になる。特に、受光手段として
複数の光電変換素子が二次元的に並んで配置されてなる
ものを採用すると、測定対象からの帯状の測定光が複数
の光電変換素子により同時に受光されることによって、
測定対象の形状計測に要する時間が短縮される。
【0036】また、請求項9の発明は、請求項1記載の
三次元形状計測装置において、上記2つの光束の交差部
の位置と上記対物光学系の焦点とが一致するように構成
されていることを特徴としている。
三次元形状計測装置において、上記2つの光束の交差部
の位置と上記対物光学系の焦点とが一致するように構成
されていることを特徴としている。
【0037】この構成によれば、2つの光束の交差部の
位置と対物光学系の焦点とが一致するように構成されて
いることにより、この一致した位置にさらに測定対象の
表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる測定光の
レベルが最大になり、測定対象の表面位置の判別が容易
に行われることとなる。
位置と対物光学系の焦点とが一致するように構成されて
いることにより、この一致した位置にさらに測定対象の
表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる測定光の
レベルが最大になり、測定対象の表面位置の判別が容易
に行われることとなる。
【0038】また、請求項10の発明は、請求項9記載
の三次元形状計測装置において、上記対物光学系の開口
角は、上記対物光学系の光軸に対する上記2つの光束の
照射角度より小さくなるように構成されていることを特
徴としている。
の三次元形状計測装置において、上記対物光学系の開口
角は、上記対物光学系の光軸に対する上記2つの光束の
照射角度より小さくなるように構成されていることを特
徴としている。
【0039】この構成によれば、対物光学系の開口角
は、対物光学系の光軸に対する2つの光束の照射角度よ
り小さくなるように構成されていることにより、対物光
学系には、測定対象からの正反射光が殆ど入射せず、散
乱光のみが入射することとなり、これによって反射特性
が異なる様々な測定対象に対して、対物光学系に取り込
まれる測定光のレベルの変化幅が狭くなり、受光手段か
ら受光強度に応じた電気信号が好適に出力される。
は、対物光学系の光軸に対する2つの光束の照射角度よ
り小さくなるように構成されていることにより、対物光
学系には、測定対象からの正反射光が殆ど入射せず、散
乱光のみが入射することとなり、これによって反射特性
が異なる様々な測定対象に対して、対物光学系に取り込
まれる測定光のレベルの変化幅が狭くなり、受光手段か
ら受光強度に応じた電気信号が好適に出力される。
【0040】また、請求項11の発明は、請求項10記
載の三次元形状計測装置において、上記受光手段は、上
記対物光学系に関して上記対物光学系の焦点と共役な位
置に配置された一列の光電変換素子を含んでいることを
特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記受光手段は、上
記対物光学系に関して上記対物光学系の焦点と共役な位
置に配置された一列の光電変換素子を含んでいることを
特徴としている。
【0041】この構成によれば、受光手段は、上記対物
光学系に関して上記対物光学系の焦点と共役な位置に配
置された一列の光電変換素子を含んでいるので、この共
役な位置に配置された一列の光電変換素子から出力され
る電気信号のレベルを用いると、2つの光束の交差部の
位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さらに測
定対象の表面が一致したときには、光電変換素子から出
力される電気信号のレベルが最大になり、測定対象の表
面位置の判別が高精度で容易に行われることとなる。
光学系に関して上記対物光学系の焦点と共役な位置に配
置された一列の光電変換素子を含んでいるので、この共
役な位置に配置された一列の光電変換素子から出力され
る電気信号のレベルを用いると、2つの光束の交差部の
位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さらに測
定対象の表面が一致したときには、光電変換素子から出
力される電気信号のレベルが最大になり、測定対象の表
面位置の判別が高精度で容易に行われることとなる。
【0042】また、請求項12の発明は、請求項11記
載の三次元形状計測装置において、上記対物光学系の焦
点を上記光軸方向に移動させる焦点移動手段と、上記複
数の光電変換素子から出力される電気信号が最大のとき
の上記焦点の位置を上記測定対象の表面位置と判定する
位置判定手段と、を備えたことを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記対物光学系の焦
点を上記光軸方向に移動させる焦点移動手段と、上記複
数の光電変換素子から出力される電気信号が最大のとき
の上記焦点の位置を上記測定対象の表面位置と判定する
位置判定手段と、を備えたことを特徴としている。
【0043】この構成によれば、焦点移動手段により対
物光学系の焦点が光軸方向に移動するときに、2つの光
束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致するよう
に構成されているので、対物光学系の焦点と測定対象の
表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる測定光の
レベルが最大になる。従って、複数の光電変換素子から
出力される電気信号が最大のときの焦点の位置を測定対
象の表面位置と判定することにより、測定対象の三次元
形状の測定が容易に、かつ高精度で行われる。
物光学系の焦点が光軸方向に移動するときに、2つの光
束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致するよう
に構成されているので、対物光学系の焦点と測定対象の
表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる測定光の
レベルが最大になる。従って、複数の光電変換素子から
出力される電気信号が最大のときの焦点の位置を測定対
象の表面位置と判定することにより、測定対象の三次元
形状の測定が容易に、かつ高精度で行われる。
【0044】また、請求項13の発明は、請求項11記
載の三次元形状計測装置において、上記測定対象を上記
光軸方向に移動させる試料移動手段と、上記複数の光電
変換素子から出力される電気信号が最大のときの上記測
定対象の移動量に基づき上記測定対象の表面位置を判定
する位置判定手段と、を備えたことを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記測定対象を上記
光軸方向に移動させる試料移動手段と、上記複数の光電
変換素子から出力される電気信号が最大のときの上記測
定対象の移動量に基づき上記測定対象の表面位置を判定
する位置判定手段と、を備えたことを特徴としている。
【0045】この構成によれば、試料移動手段により測
定対象が光軸方向に移動するときに、2つの光束の交差
部の位置と対物光学系の焦点とが一致するように構成さ
れているので、対物光学系の焦点と測定対象の表面が一
致すると、対物光学系に取り込まれる測定光のレベルが
最大になる。従って、複数の光電変換素子から出力され
る電気信号が最大のときの測定対象の移動量に基づき測
定対象の表面位置が判定されることにより、測定対象の
三次元形状の測定が容易に、かつ高精度で行われる。
定対象が光軸方向に移動するときに、2つの光束の交差
部の位置と対物光学系の焦点とが一致するように構成さ
れているので、対物光学系の焦点と測定対象の表面が一
致すると、対物光学系に取り込まれる測定光のレベルが
最大になる。従って、複数の光電変換素子から出力され
る電気信号が最大のときの測定対象の移動量に基づき測
定対象の表面位置が判定されることにより、測定対象の
三次元形状の測定が容易に、かつ高精度で行われる。
【0046】また、請求項14の発明は、請求項9記載
の三次元形状計測装置において、上記2つの光束はそれ
ぞれ帯状の光束で、互いに、上記対物光学系の光軸に直
交する方向に線状に交差するものであることを特徴とし
ている。
の三次元形状計測装置において、上記2つの光束はそれ
ぞれ帯状の光束で、互いに、上記対物光学系の光軸に直
交する方向に線状に交差するものであることを特徴とし
ている。
【0047】この構成によれば、共焦点検出法を用いた
場合に、測定対象を照明する2つの光束はそれぞれ帯状
の光束で、互いに、対物光学系の光軸に直交する方向に
線状に交差するものであることにより、2つの光束の交
差部の位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さ
らに測定対象の表面が一致すると、測定対象からの帯状
の測定光が受光手段により線状に受光されることによっ
て、複数点の計測が同時になされるので、測定対象の形
状計測に要する時間が短縮される。
場合に、測定対象を照明する2つの光束はそれぞれ帯状
の光束で、互いに、対物光学系の光軸に直交する方向に
線状に交差するものであることにより、2つの光束の交
差部の位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さ
らに測定対象の表面が一致すると、測定対象からの帯状
の測定光が受光手段により線状に受光されることによっ
て、複数点の計測が同時になされるので、測定対象の形
状計測に要する時間が短縮される。
【0048】また、請求項15の発明は、請求項14記
載の三次元形状計測装置において、上記2つの帯状の光
束の交差部が形成する交差線及び上記対物光学系の光軸
の双方に直交する方向に、上記測定対象を移動させる試
料移動手段を備えたことを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記2つの帯状の光
束の交差部が形成する交差線及び上記対物光学系の光軸
の双方に直交する方向に、上記測定対象を移動させる試
料移動手段を備えたことを特徴としている。
【0049】この構成によれば、2つの帯状の光束の交
差部が形成する交差線及び対物光学系の光軸の双方に直
交する方向に測定対象が移動することにより、測定対象
の広い表面の位置の判別が効率良く行われ、測定対象の
三次元形状が好適に計測されることとなる。
差部が形成する交差線及び対物光学系の光軸の双方に直
交する方向に測定対象が移動することにより、測定対象
の広い表面の位置の判別が効率良く行われ、測定対象の
三次元形状が好適に計測されることとなる。
【0050】また、請求項16の発明は、請求項1記載
の三次元形状計測装置において、上記2つの光束のうち
の少なくとも一方の光束により上記測定対象を照射した
ときの当該光束の上記対物光学系の光軸に対する照射角
度と、上記受光手段のうちの上記測定光を受光した光電
変換素子の位置とに基づいて、上記光軸方向における上
記測定対象の表面の位置を判定する位置判定手段と、上
記対物光学系の焦点を上記測定対象に対して上記対物光
学系の光軸方向に相対的に移動させる相対移動手段と、
上記位置判定手段による判定結果に基づいて上記相対移
動手段による上記対物光学系の焦点の相対移動範囲を設
定する範囲設定手段と、を備え、上記相対移動手段は、
設定された上記相対移動範囲のみ上記対物光学系の焦点
を上記測定対象に対して相対的に移動させるものである
ことを特徴としている。
の三次元形状計測装置において、上記2つの光束のうち
の少なくとも一方の光束により上記測定対象を照射した
ときの当該光束の上記対物光学系の光軸に対する照射角
度と、上記受光手段のうちの上記測定光を受光した光電
変換素子の位置とに基づいて、上記光軸方向における上
記測定対象の表面の位置を判定する位置判定手段と、上
記対物光学系の焦点を上記測定対象に対して上記対物光
学系の光軸方向に相対的に移動させる相対移動手段と、
上記位置判定手段による判定結果に基づいて上記相対移
動手段による上記対物光学系の焦点の相対移動範囲を設
定する範囲設定手段と、を備え、上記相対移動手段は、
設定された上記相対移動範囲のみ上記対物光学系の焦点
を上記測定対象に対して相対的に移動させるものである
ことを特徴としている。
【0051】この構成によれば、2つの光束のうちの少
なくとも一方の光束により測定対象を照射したときの当
該光束の対物光学系の光軸に対する照射角度と、受光手
段のうちの測定光を受光した光電変換素子の位置とに基
づいて、位置判定手段により対物光学系の光軸方向にお
ける測定対象の表面の位置が判定されることにより、三
角測量法にしたがって測定対象の形状が容易に計測され
る。そして、位置判定手段による判定結果に基づいて、
相対移動手段による対物光学系の焦点の測定対象に対す
る相対移動範囲が設定され、この設定された相対移動範
囲のみ上記焦点が測定対象に対して相対的に移動するこ
とにより、相対移動範囲のみ高精度な形状計測が行われ
ることとなり、高精度な形状計測を行いながら、計測に
要する時間が短縮される。
なくとも一方の光束により測定対象を照射したときの当
該光束の対物光学系の光軸に対する照射角度と、受光手
段のうちの測定光を受光した光電変換素子の位置とに基
づいて、位置判定手段により対物光学系の光軸方向にお
ける測定対象の表面の位置が判定されることにより、三
角測量法にしたがって測定対象の形状が容易に計測され
る。そして、位置判定手段による判定結果に基づいて、
相対移動手段による対物光学系の焦点の測定対象に対す
る相対移動範囲が設定され、この設定された相対移動範
囲のみ上記焦点が測定対象に対して相対的に移動するこ
とにより、相対移動範囲のみ高精度な形状計測が行われ
ることとなり、高精度な形状計測を行いながら、計測に
要する時間が短縮される。
【0052】また、請求項17の発明は、測定対象の表
面位置に関する第1位置データを測定する第1測定手段
と、上記測定対象の表面位置に関する第2位置データを
測定する第2測定手段と、上記第1測定手段で得られた
上記第1位置データに基づき測定領域を決定する測定領
域決定手段と、上記第1測定手段を用いて上記第1位置
データを求めた後、上記測定領域決定手段により決定さ
れた測定領域内で上記第2測定手段を用いて上記第2位
置データを求める測定制御手段と、を備えたことを特徴
としている。
面位置に関する第1位置データを測定する第1測定手段
と、上記測定対象の表面位置に関する第2位置データを
測定する第2測定手段と、上記第1測定手段で得られた
上記第1位置データに基づき測定領域を決定する測定領
域決定手段と、上記第1測定手段を用いて上記第1位置
データを求めた後、上記測定領域決定手段により決定さ
れた測定領域内で上記第2測定手段を用いて上記第2位
置データを求める測定制御手段と、を備えたことを特徴
としている。
【0053】この構成によれば、第1測定手段により測
定対象の表面位置に関する第1位置データが求められ、
求められた第1位置データに基づき測定領域決定手段に
より測定領域が決定され、決定された測定領域内で第2
測定手段により第2位置データが求められる。まず、第
1測定手段で求めた位置データに基づき測定領域が粗く
決定され、次に、その測定領域内で第2測定手段で求め
た位置データに基づき正確な測定対象の表面位置が算出
されるので、高精度の測定でありながら測定時間の増大
を抑制し、測定対象の三次元形状が効率良く求められる
こととなる。
定対象の表面位置に関する第1位置データが求められ、
求められた第1位置データに基づき測定領域決定手段に
より測定領域が決定され、決定された測定領域内で第2
測定手段により第2位置データが求められる。まず、第
1測定手段で求めた位置データに基づき測定領域が粗く
決定され、次に、その測定領域内で第2測定手段で求め
た位置データに基づき正確な測定対象の表面位置が算出
されるので、高精度の測定でありながら測定時間の増大
を抑制し、測定対象の三次元形状が効率良く求められる
こととなる。
【0054】また、請求項18の発明は、請求項17記
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段に
より測定される第1位置データの測定精度は、上記第2
測定手段により測定される第2位置データの測定精度よ
り低いことを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段に
より測定される第1位置データの測定精度は、上記第2
測定手段により測定される第2位置データの測定精度よ
り低いことを特徴としている。
【0055】この構成によれば、第1位置データは、測
定領域を粗く決定するためのものであるから、その測定
精度を第2位置データの測定精度より低くすることで、
迅速に測定領域を決定でき、計測時間の増大をより抑制
することができる。
定領域を粗く決定するためのものであるから、その測定
精度を第2位置データの測定精度より低くすることで、
迅速に測定領域を決定でき、計測時間の増大をより抑制
することができる。
【0056】また、請求項19の発明は、請求項17記
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段お
よび第2測定手段は、それぞれ、対物レンズの焦点と測
定対象とを当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動さ
せることにより測定対象の表面位置を測定するもので、
上記対物レンズは、上記第1測定手段と第2測定手段と
で共用されていることを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段お
よび第2測定手段は、それぞれ、対物レンズの焦点と測
定対象とを当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動さ
せることにより測定対象の表面位置を測定するもので、
上記対物レンズは、上記第1測定手段と第2測定手段と
で共用されていることを特徴としている。
【0057】この構成によれば、対物レンズを第1測定
手段と第2測定手段とで共用しているので、部品点数の
削減および装置の小型化が可能になる。
手段と第2測定手段とで共用しているので、部品点数の
削減および装置の小型化が可能になる。
【0058】また、請求項20の発明は、請求項17記
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段
は、三角測量法により測定対象の表面位置を測定するも
ので、上記第2測定手段は、対物レンズの焦点を測定対
象に対して当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動さ
せることにより測定対象の表面位置を測定するものであ
ることを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、上記第1測定手段
は、三角測量法により測定対象の表面位置を測定するも
ので、上記第2測定手段は、対物レンズの焦点を測定対
象に対して当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動さ
せることにより測定対象の表面位置を測定するものであ
ることを特徴としている。
【0059】この構成によれば、第1測定手段を用い
て、三角測量法により測定対象の表面位置が測定される
ことから、第1位置データが粗く求められる。一方、第
2測定手段により、対物レンズの焦点を測定対象に対し
て当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動させて測定
対象の表面位置が測定されることから、第2位置データ
が高精度で求められる。この第2位置データは、第1位
置データに基づき決定された測定領域内で測定される。
すなわち、対物レンズの焦点の測定対象に対する相対移
動は、決定された測定領域内で行われる。従って、第2
位置データの測定時間の増大が抑制される。
て、三角測量法により測定対象の表面位置が測定される
ことから、第1位置データが粗く求められる。一方、第
2測定手段により、対物レンズの焦点を測定対象に対し
て当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動させて測定
対象の表面位置が測定されることから、第2位置データ
が高精度で求められる。この第2位置データは、第1位
置データに基づき決定された測定領域内で測定される。
すなわち、対物レンズの焦点の測定対象に対する相対移
動は、決定された測定領域内で行われる。従って、第2
位置データの測定時間の増大が抑制される。
【0060】また、請求項21の発明は、請求項17記
載の三次元形状計測装置において、座標変換手段をさら
に備え、上記第1測定手段および第2測定手段は、それ
ぞれ互いに異なる座標系に基づいて上記測定対象の表面
位置を測定するもので、上記座標変換手段は、上記第1
測定手段により測定された第1位置データを上記第2測
定手段の座標系に基づくデータに変換するもので、上記
測定領域決定手段は、上記第2測定手段の座標系に基づ
くデータに変換された第1位置データに基づき測定領域
を決定するものであることを特徴としている。
載の三次元形状計測装置において、座標変換手段をさら
に備え、上記第1測定手段および第2測定手段は、それ
ぞれ互いに異なる座標系に基づいて上記測定対象の表面
位置を測定するもので、上記座標変換手段は、上記第1
測定手段により測定された第1位置データを上記第2測
定手段の座標系に基づくデータに変換するもので、上記
測定領域決定手段は、上記第2測定手段の座標系に基づ
くデータに変換された第1位置データに基づき測定領域
を決定するものであることを特徴としている。
【0061】この構成によれば、第1測定手段および第
2測定手段は、例えば測定対象に対して互いに異なる位
置に配置されており、第1、第2測定手段により、それ
ぞれ互いに異なる座標系に基づいて測定対象の表面位置
が測定される。そして、第1測定手段により測定された
第1位置データが、第2測定手段の座標系に基づくデー
タに変換され、この第2測定手段の座標系に基づくデー
タに変換された第1位置データに基づき測定領域が決定
されて、その測定領域内で第2測定手段により第2位置
データが測定される。従って、第1、第2測定手段の測
定対象に対する配置位置の設定が自由になり、計測装置
の設計の自由度が増すこととなる。
2測定手段は、例えば測定対象に対して互いに異なる位
置に配置されており、第1、第2測定手段により、それ
ぞれ互いに異なる座標系に基づいて測定対象の表面位置
が測定される。そして、第1測定手段により測定された
第1位置データが、第2測定手段の座標系に基づくデー
タに変換され、この第2測定手段の座標系に基づくデー
タに変換された第1位置データに基づき測定領域が決定
されて、その測定領域内で第2測定手段により第2位置
データが測定される。従って、第1、第2測定手段の測
定対象に対する配置位置の設定が自由になり、計測装置
の設計の自由度が増すこととなる。
【0062】また、請求項22の発明は、測定対象の表
面位置に関する位置データを第1の精度で測定し、測定
された位置データに基づき測定領域を決定し、この決定
された測定領域内において上記位置データを上記第1の
精度より高い第2の精度で測定し、この第2の精度で測
定された位置データを用いて上記測定対象の三次元形状
を求めることを特徴としている。
面位置に関する位置データを第1の精度で測定し、測定
された位置データに基づき測定領域を決定し、この決定
された測定領域内において上記位置データを上記第1の
精度より高い第2の精度で測定し、この第2の精度で測
定された位置データを用いて上記測定対象の三次元形状
を求めることを特徴としている。
【0063】この方法によれば、測定対象の表面位置に
関する位置データが第1の精度で測定され、この測定さ
れた位置データに基づき測定領域が決定され、この決定
された測定領域内において測定対象の表面位置に関する
位置データが第1の精度より高い第2の精度で測定され
る。すなわち、測定対象の表面位置に関する位置データ
が、まず粗く測定され、この位置データに基づき測定領
域が決定され、この測定領域内において、測定対象の表
面位置に関する位置データが高精度で測定されることと
なる。従って、第1の精度より高い第2の精度での測定
は、測定領域内においてのみ行われることになるので、
高精度の計測を行いながら、計測に要する時間が短縮さ
れる。
関する位置データが第1の精度で測定され、この測定さ
れた位置データに基づき測定領域が決定され、この決定
された測定領域内において測定対象の表面位置に関する
位置データが第1の精度より高い第2の精度で測定され
る。すなわち、測定対象の表面位置に関する位置データ
が、まず粗く測定され、この位置データに基づき測定領
域が決定され、この測定領域内において、測定対象の表
面位置に関する位置データが高精度で測定されることと
なる。従って、第1の精度より高い第2の精度での測定
は、測定領域内においてのみ行われることになるので、
高精度の計測を行いながら、計測に要する時間が短縮さ
れる。
【0064】
【発明の実施の形態】図11は本発明に係る三次元形状
計測装置の一実施形態の外観を示す斜視図である。
計測装置の一実施形態の外観を示す斜視図である。
【0065】この三次元形状計測装置1は、計測開始の
指示や設定データなどを入力するためのキーボード2
と、計測結果などを表示するための表示部3と、装置の
全体制御を行うための制御部4と、計測部5とから構成
されている。制御部4の機能についてはさらに後述す
る。
指示や設定データなどを入力するためのキーボード2
と、計測結果などを表示するための表示部3と、装置の
全体制御を行うための制御部4と、計測部5とから構成
されている。制御部4の機能についてはさらに後述す
る。
【0066】計測部5は、測定対象6を載置するための
試料台11と、カメラ部12をY軸方向に移動可能に支
持するY軸駆動コラム13とが、基台14上に配設され
て構成されている。試料台11は、図中、矢印で示すよ
うに、基台14に対してX軸方向及びZ軸方向に移動可
能に構成されるとともに、中心の回り(θ方向)に回転
可能に構成されている。なお、3次元座標系(X,Y,
Z)は、図11に示すように設定している。
試料台11と、カメラ部12をY軸方向に移動可能に支
持するY軸駆動コラム13とが、基台14上に配設され
て構成されている。試料台11は、図中、矢印で示すよ
うに、基台14に対してX軸方向及びZ軸方向に移動可
能に構成されるとともに、中心の回り(θ方向)に回転
可能に構成されている。なお、3次元座標系(X,Y,
Z)は、図11に示すように設定している。
【0067】図1はカメラ部12の内部構成を示す図、
図2は三次元形状計測装置の電気的構成を示すブロック
図である。
図2は三次元形状計測装置の電気的構成を示すブロック
図である。
【0068】カメラ部12は、図1に示すように、照明
手段20、対物光学系30および受光手段40を備えて
いる。
手段20、対物光学系30および受光手段40を備えて
いる。
【0069】照明手段20は、レーザ光を発光するレー
ザ光源21と、このレーザ光を平行光束22にコリメー
トするコリメータレンズ23と、この平行光束22を2
つの平行光束22a,22bに分岐するハーフミラー2
4aと、この平行光束22aを反射して平行光束22b
に平行にする反射鏡24bと、平行光束22a,22b
をそれぞれ微小な厚さ(本実施形態では、例えば10μ
m)の帯状のコリメートされた光束(以下、単に「帯状
光束」という。)25a,25bに変換するガリレオ光
学系26a,26bと、この帯状光束25a,25bを
それぞれ反射して照射方向を変化させるガルバノミラー
27a,27bとから構成される。
ザ光源21と、このレーザ光を平行光束22にコリメー
トするコリメータレンズ23と、この平行光束22を2
つの平行光束22a,22bに分岐するハーフミラー2
4aと、この平行光束22aを反射して平行光束22b
に平行にする反射鏡24bと、平行光束22a,22b
をそれぞれ微小な厚さ(本実施形態では、例えば10μ
m)の帯状のコリメートされた光束(以下、単に「帯状
光束」という。)25a,25bに変換するガリレオ光
学系26a,26bと、この帯状光束25a,25bを
それぞれ反射して照射方向を変化させるガルバノミラー
27a,27bとから構成される。
【0070】このガルバノミラー27a,27bは、互
いに連動して、または単独で個別に角度がマイクロラデ
ィアンオーダーで高精度に変更可能に構成されており、
連動して角度変更することにより、帯状光束25a,2
5bの交差部28の位置が対物光学系30の光軸L1上
で図1中、左右に移動可能になっている。なお、この実
施形態では、帯状光束25a,25bの交差部28の位
置は、通常、対物レンズ群31の焦点に一致するように
構成されている。
いに連動して、または単独で個別に角度がマイクロラデ
ィアンオーダーで高精度に変更可能に構成されており、
連動して角度変更することにより、帯状光束25a,2
5bの交差部28の位置が対物光学系30の光軸L1上
で図1中、左右に移動可能になっている。なお、この実
施形態では、帯状光束25a,25bの交差部28の位
置は、通常、対物レンズ群31の焦点に一致するように
構成されている。
【0071】対物光学系30は、照明手段20の帯状光
束25a,25bによって照明された測定対象6からの
測定光を集光する対物レンズ群31と、対物レンズ群3
1を通過した光を反射する反射鏡32とからなり、テレ
セントリックな光学系が構成されている。対物レンズ群
31は、ズーム機能を有しており、その焦点が移動可能
に構成されている。
束25a,25bによって照明された測定対象6からの
測定光を集光する対物レンズ群31と、対物レンズ群3
1を通過した光を反射する反射鏡32とからなり、テレ
セントリックな光学系が構成されている。対物レンズ群
31は、ズーム機能を有しており、その焦点が移動可能
に構成されている。
【0072】また、カメラ部12は、図1に示すよう
に、対物光学系30(対物レンズ群31)の開口角を
θ、帯状光束25aの光軸L1に対する照射角度をα、
帯状光束25bの光軸L1に対する照射角度をβとする
と、θ<α,θ<βが成立するように構成されている。
すなわち、対物光学系30の開口角θは、帯状光束25
a,25bの照射角度α,βより、小さくなるように構
成されている。
に、対物光学系30(対物レンズ群31)の開口角を
θ、帯状光束25aの光軸L1に対する照射角度をα、
帯状光束25bの光軸L1に対する照射角度をβとする
と、θ<α,θ<βが成立するように構成されている。
すなわち、対物光学系30の開口角θは、帯状光束25
a,25bの照射角度α,βより、小さくなるように構
成されている。
【0073】受光手段40は、CCD又はフォトダイオ
ードなどの光電変換素子41(図2参照)が複数個二次
元的に並べて配置されて構成されている。光電変換素子
41(図2)の1列は、対物光学系30の焦点と共役な
位置に配置されている。
ードなどの光電変換素子41(図2参照)が複数個二次
元的に並べて配置されて構成されている。光電変換素子
41(図2)の1列は、対物光学系30の焦点と共役な
位置に配置されている。
【0074】図2において、発光回路51はレーザ光源
21を駆動するもので、カメラ本体駆動部52はY軸駆
動コラム13を駆動するもので、試料台駆動部53は試
料台11を駆動するものである。
21を駆動するもので、カメラ本体駆動部52はY軸駆
動コラム13を駆動するもので、試料台駆動部53は試
料台11を駆動するものである。
【0075】ミラー駆動部54はガルバノミラー27
a,27bを互いに連動して、または単独で個別に駆動
してその角度を変更するもので、ズーム駆動部55は対
物レンズ群31を駆動してその焦点をZ軸方向に移動さ
せるものである。
a,27bを互いに連動して、または単独で個別に駆動
してその角度を変更するもので、ズーム駆動部55は対
物レンズ群31を駆動してその焦点をZ軸方向に移動さ
せるものである。
【0076】制御部4は、RAM61と、ROM62
と、CPU63とを備え、RAM61はデータを一時的
に保管するもので、ROM62は予め設定されたデータ
などを含むCPU63の制御プログラムを記憶するもの
である。
と、CPU63とを備え、RAM61はデータを一時的
に保管するもので、ROM62は予め設定されたデータ
などを含むCPU63の制御プログラムを記憶するもの
である。
【0077】CPU63は、この装置全体の制御を行う
もので、後述するように、まず、帯状光束25aまたは
帯状光束25bを用いて三角測量法により測定対象6の
概略形状を計測するプリスキャンを行い、次いで、対物
光学系30の焦点を移動させて測定対象6の形状を精密
に計測する焦点スキャンを行うようにしており、以下の
機能を有する。
もので、後述するように、まず、帯状光束25aまたは
帯状光束25bを用いて三角測量法により測定対象6の
概略形状を計測するプリスキャンを行い、次いで、対物
光学系30の焦点を移動させて測定対象6の形状を精密
に計測する焦点スキャンを行うようにしており、以下の
機能を有する。
【0078】(1) 発光回路51を介してレーザ光源21
の発光を制御する発光制御手段71としての機能。
の発光を制御する発光制御手段71としての機能。
【0079】(2) カメラ本体駆動部52を介してカメラ
部12のY軸方向における位置を制御する光学系位置制
御手段72としての機能。
部12のY軸方向における位置を制御する光学系位置制
御手段72としての機能。
【0080】(3) 試料台駆動部53を介して測定対象6
のX軸方向およびZ軸方向の位置と、回転角度φとを制
御する試料位置制御手段73としての機能。
のX軸方向およびZ軸方向の位置と、回転角度φとを制
御する試料位置制御手段73としての機能。
【0081】(4) ミラー駆動部54を介してガルバノミ
ラー27a,27bの角度を個別に制御するミラー制御
手段74としての機能。
ラー27a,27bの角度を個別に制御するミラー制御
手段74としての機能。
【0082】(5) ズーム駆動部55を介して対物レンズ
群31の焦点をZ軸方向に移動させるズーム制御手段7
5としての機能。
群31の焦点をZ軸方向に移動させるズーム制御手段7
5としての機能。
【0083】(6) ズーム駆動部55に連動してミラー駆
動部54によりガルバノミラー27a,27bの角度を
変更して帯状光束25a,25bの交差部28の位置を
対物レンズ群31の焦点に一致するように制御する交差
位置制御手段76としての機能。
動部54によりガルバノミラー27a,27bの角度を
変更して帯状光束25a,25bの交差部28の位置を
対物レンズ群31の焦点に一致するように制御する交差
位置制御手段76としての機能。
【0084】(7) 帯状光束25a,25bにより測定対
象6を照射したときの測定対象6からの測定光を受光し
た受光手段40の光電変換素子41から出力される電気
信号のレベルを検出する信号レベル検出手段77として
の機能。
象6を照射したときの測定対象6からの測定光を受光し
た受光手段40の光電変換素子41から出力される電気
信号のレベルを検出する信号レベル検出手段77として
の機能。
【0085】(8) 帯状光束25aまたは帯状光束25b
により測定対象6を照射したときの当該光束の対物光学
系30の光軸L1に対する角度と測定対象6からの測定
光を受光した光電変換素子41の位置とに基づいて、光
軸L1方向における測定対象6の表面の位置を三角測量
法により判定する位置判定手段78としての機能。この
機能による動作については後述する。
により測定対象6を照射したときの当該光束の対物光学
系30の光軸L1に対する角度と測定対象6からの測定
光を受光した光電変換素子41の位置とに基づいて、光
軸L1方向における測定対象6の表面の位置を三角測量
法により判定する位置判定手段78としての機能。この
機能による動作については後述する。
【0086】(9) 帯状光束25a,25bの交差部28
の位置および対物レンズ群31の焦点を光軸L1方向に
移動させたときに、測定対象6からの測定光を受光した
受光手段40の光電変換素子41から出力される電気信
号のレベルが最大になるときの交差部28の位置を判定
する焦点判定手段79としての機能。この機能による動
作については後述する。
の位置および対物レンズ群31の焦点を光軸L1方向に
移動させたときに、測定対象6からの測定光を受光した
受光手段40の光電変換素子41から出力される電気信
号のレベルが最大になるときの交差部28の位置を判定
する焦点判定手段79としての機能。この機能による動
作については後述する。
【0087】(10)位置判定手段78による判定結果に基
づいて、焦点判定手段79による判定を行う際の帯状光
束25a,25bの交差部28の位置の光軸L1方向に
おける移動範囲を設定する範囲設定手段80としての機
能。この機能による動作については後述する。
づいて、焦点判定手段79による判定を行う際の帯状光
束25a,25bの交差部28の位置の光軸L1方向に
おける移動範囲を設定する範囲設定手段80としての機
能。この機能による動作については後述する。
【0088】なお、図2に一点鎖線で示すように、ズー
ム駆動部55が駆動されるときのみズーム駆動部55と
ミラー駆動部54とを連結するギア機構56を備え、対
物レンズ群31の焦点が移動するときはミラー駆動部5
4が連動して2つの帯状光束25a,25bの交差部2
8の位置もその焦点に一致して移動するように構成して
もよい。この場合には、CPU63は、交差位置制御手
段76としての機能が不要になる。
ム駆動部55が駆動されるときのみズーム駆動部55と
ミラー駆動部54とを連結するギア機構56を備え、対
物レンズ群31の焦点が移動するときはミラー駆動部5
4が連動して2つの帯状光束25a,25bの交差部2
8の位置もその焦点に一致して移動するように構成して
もよい。この場合には、CPU63は、交差位置制御手
段76としての機能が不要になる。
【0089】以上の構成において、試料台駆動部53お
よび試料台11は、相対移動手段を構成している。ま
た、試料台駆動部53および試料台11は、試料移動手
段を構成している。ミラー駆動部54およびガルバノミ
ラー27a,27bは、相対移動手段を構成している。
また、ミラー駆動部54およびガルバノミラー27a,
27bは、交差位置移動手段を構成している。ズーム駆
動部55は、ズーム手段(焦点移動手段)を構成してい
る。
よび試料台11は、相対移動手段を構成している。ま
た、試料台駆動部53および試料台11は、試料移動手
段を構成している。ミラー駆動部54およびガルバノミ
ラー27a,27bは、相対移動手段を構成している。
また、ミラー駆動部54およびガルバノミラー27a,
27bは、交差位置移動手段を構成している。ズーム駆
動部55は、ズーム手段(焦点移動手段)を構成してい
る。
【0090】なお、焦点スキャンにおいて対物光学系3
0の焦点を移動させるときは、2つの帯状光束25a,
25bの交差部28の位置もその焦点に一致して移動す
るようにしているので、以下において、「対物光学系3
0の焦点の走査」というときは、「2つの帯状光束25
a,25bの交差部28の走査」と同一の作用を意味し
ている。
0の焦点を移動させるときは、2つの帯状光束25a,
25bの交差部28の位置もその焦点に一致して移動す
るようにしているので、以下において、「対物光学系3
0の焦点の走査」というときは、「2つの帯状光束25
a,25bの交差部28の走査」と同一の作用を意味し
ている。
【0091】次に、図1、図2に示す構成の光学系にお
ける作用について説明する。
ける作用について説明する。
【0092】レーザ光源21から出射されたレーザ光は
平行光束22にコリメートされ、ハーフミラー24aに
より2方向に分岐され、それぞれガリレオ光学系26
a,26bにより帯状光束25a,25bに変換され、
ガルバノミラー27a,27bに導かれる。ガルバノミ
ラー27a,27bの角度が個別に変更されると、対物
光学系30の光軸L1に対する帯状光束25a,25b
の各角度が変更され、ガルバノミラー27a,27bの
角度が連動して変更されると、2つの帯状光束25a,
25bの交差部28の位置が光軸L1上で移動される。
そして、帯状光束25a,25bによって照明された測
定対象6からの測定光が対物光学系30を介して受光手
段40に入射する。
平行光束22にコリメートされ、ハーフミラー24aに
より2方向に分岐され、それぞれガリレオ光学系26
a,26bにより帯状光束25a,25bに変換され、
ガルバノミラー27a,27bに導かれる。ガルバノミ
ラー27a,27bの角度が個別に変更されると、対物
光学系30の光軸L1に対する帯状光束25a,25b
の各角度が変更され、ガルバノミラー27a,27bの
角度が連動して変更されると、2つの帯状光束25a,
25bの交差部28の位置が光軸L1上で移動される。
そして、帯状光束25a,25bによって照明された測
定対象6からの測定光が対物光学系30を介して受光手
段40に入射する。
【0093】ここで、対物光学系30の開口角θは、光
軸L1に対する帯状光束25a,25bの照射角度α,
βより小さくなるように構成されているので、対物光学
系30には、測定対象6からの正反射光(0次光)が殆
ど入射せず、散乱光のみが入射する。
軸L1に対する帯状光束25a,25bの照射角度α,
βより小さくなるように構成されているので、対物光学
系30には、測定対象6からの正反射光(0次光)が殆
ど入射せず、散乱光のみが入射する。
【0094】これは、光学的ハイパスフィルタを用いる
のと同一の効果を奏し、測定対象6の表面からの反射光
における低周波成分が遮断され、高周波成分の光強度の
みが受光手段40に取り込まれることとなる。これによ
って、測定対象6の表面性状の反射特性の相違に起因す
る受光手段40への入射光の光強度の変化幅が狭くなる
ので、光電変換素子41のダイナミックレンジを超える
ことがなくなり、種々の表面性状を有する測定対象6の
形状計測を行うことができる。
のと同一の効果を奏し、測定対象6の表面からの反射光
における低周波成分が遮断され、高周波成分の光強度の
みが受光手段40に取り込まれることとなる。これによ
って、測定対象6の表面性状の反射特性の相違に起因す
る受光手段40への入射光の光強度の変化幅が狭くなる
ので、光電変換素子41のダイナミックレンジを超える
ことがなくなり、種々の表面性状を有する測定対象6の
形状計測を行うことができる。
【0095】次に、図3、図4を用いて、プリスキャン
における形状計測動作について説明する。図3はプリス
キャンを説明するための2つの帯状光束25a,25b
および測定対象6を示す斜視図、図4は受光手段40に
おける2次元受光画像を示す図である。
における形状計測動作について説明する。図3はプリス
キャンを説明するための2つの帯状光束25a,25b
および測定対象6を示す斜視図、図4は受光手段40に
おける2次元受光画像を示す図である。
【0096】図3に示すように、2つの帯状光束25
a,25bが、それぞれ光軸面LSに対して角度α,β
を持って2方向から測定対象6に向けて投光され、2つ
の帯状光束25a,25bによって測定対象6が照射さ
れると、図4に示すように、受光手段40によって散乱
光42a,42b,42c,42d,42eが観測され
る。ここで、図4に示すように、2つの帯状光束25
a,25bの交差部28に対応する受光手段40の2次
元受光画像における位置を基準線43とすると、この基
準線43の位置(例えば図4の寸法D)が既知になって
いる。
a,25bが、それぞれ光軸面LSに対して角度α,β
を持って2方向から測定対象6に向けて投光され、2つ
の帯状光束25a,25bによって測定対象6が照射さ
れると、図4に示すように、受光手段40によって散乱
光42a,42b,42c,42d,42eが観測され
る。ここで、図4に示すように、2つの帯状光束25
a,25bの交差部28に対応する受光手段40の2次
元受光画像における位置を基準線43とすると、この基
準線43の位置(例えば図4の寸法D)が既知になって
いる。
【0097】例えば、図3に示す測定対象6上における
帯状光束25bの照射位置Aの座標(x,y,z)は、以
下のように求められる。すなわち、図4に示すように、
受光手段40により観測される2次元受光画像によっ
て、散乱光A’の座標(x1,y 1)を求めるとともに、基
準線43と散乱光A’の距離eを求める。そして、帯状
光束25a,25bの交差部28のz座標をHとし、図
3に示すように帯状光束25bの照射角度をβとする
と、下記式(1)により照射位置Aの座標(x,y,z)が
求められる。
帯状光束25bの照射位置Aの座標(x,y,z)は、以
下のように求められる。すなわち、図4に示すように、
受光手段40により観測される2次元受光画像によっ
て、散乱光A’の座標(x1,y 1)を求めるとともに、基
準線43と散乱光A’の距離eを求める。そして、帯状
光束25a,25bの交差部28のz座標をHとし、図
3に示すように帯状光束25bの照射角度をβとする
と、下記式(1)により照射位置Aの座標(x,y,z)が
求められる。
【0098】 (x,y,z) =(x1,y1,e・cotβ+H) …(1) そして、試料台11を駆動して測定対象6を交差部28
が形成する交差線と直交する方向、すなわちX軸方向に
移動させながら、逐次、観測される散乱光の座標を取り
込むことにより、測定対象6の形状が計測され、この計
測結果から焦点スキャンにおける焦点の走査範囲(本実
施形態では、例えば測定対象6の表面からZ軸方向に±
50μm)が設定される。
が形成する交差線と直交する方向、すなわちX軸方向に
移動させながら、逐次、観測される散乱光の座標を取り
込むことにより、測定対象6の形状が計測され、この計
測結果から焦点スキャンにおける焦点の走査範囲(本実
施形態では、例えば測定対象6の表面からZ軸方向に±
50μm)が設定される。
【0099】このプリスキャンにおいて、2つの帯状光
束25a,25bを測定対象6に同時に照射すると、図
4に示すように、散乱光42a,42b,42c,42
d,42eが同時に観測されるので、測定対象6からの
散乱光がいずれの帯状光束から生じたかを判別する必要
が生じる。このときは、ガルバノミラー27a,27b
の一方を帯状光束が受光手段40の2次元受光画像から
振り切れるまで変化させ、2次元受光画像に他方の帯状
光束による散乱光のみが映るようにすれば、いずれの帯
状光束による散乱光であるかを判別することができる。
束25a,25bを測定対象6に同時に照射すると、図
4に示すように、散乱光42a,42b,42c,42
d,42eが同時に観測されるので、測定対象6からの
散乱光がいずれの帯状光束から生じたかを判別する必要
が生じる。このときは、ガルバノミラー27a,27b
の一方を帯状光束が受光手段40の2次元受光画像から
振り切れるまで変化させ、2次元受光画像に他方の帯状
光束による散乱光のみが映るようにすれば、いずれの帯
状光束による散乱光であるかを判別することができる。
【0100】このプリスキャンにおける計測精度は、2
つの帯状光束25a,25bの照射角度、受光手段40
の倍率、光電変換素子41(図2)の画素の大きさに依
存するが、本実施形態では、例えば数十〜百μmの計測
精度が得られるように構成されている。
つの帯状光束25a,25bの照射角度、受光手段40
の倍率、光電変換素子41(図2)の画素の大きさに依
存するが、本実施形態では、例えば数十〜百μmの計測
精度が得られるように構成されている。
【0101】プリスキャンによる計測精度、すなわち測
定データを得る各測定点の間隔は、焦点スキャンによる
走査距離より粗くならない程度であればよい。これは、
プリスキャンが焦点スキャンによる走査範囲を決めるた
めの測定であり、詳細な形状データを得るための測定で
はないからである。これにより、焦点スキャンによる詳
細測定に比較して、プリスキャンによる粗測定は短時間
で行われる。
定データを得る各測定点の間隔は、焦点スキャンによる
走査距離より粗くならない程度であればよい。これは、
プリスキャンが焦点スキャンによる走査範囲を決めるた
めの測定であり、詳細な形状データを得るための測定で
はないからである。これにより、焦点スキャンによる詳
細測定に比較して、プリスキャンによる粗測定は短時間
で行われる。
【0102】プリスキャンによれば、受光手段40の2
次元受光画像内で測定対象6の走査が可能になるように
ガルバノミラー27a,27bの角度を変化させること
により、測定対象6の表面の位置を求めることができ、
測定対象6の表面を必ず含む焦点の走査範囲を設定する
ことができる。
次元受光画像内で測定対象6の走査が可能になるように
ガルバノミラー27a,27bの角度を変化させること
により、測定対象6の表面の位置を求めることができ、
測定対象6の表面を必ず含む焦点の走査範囲を設定する
ことができる。
【0103】また、測定対象6に向けて2つの帯状光束
25a,25bを2方向から投光しているので、測定対
象6の形状による「けられ」を低減することができる。
すなわち、帯状光束25a,25bの一方に「けられ」
が生じても、他方の帯状光束に「けられ」が生じなけれ
ば測定対象6の形状計測が可能になるので、形状計測の
死角を低減することができる。
25a,25bを2方向から投光しているので、測定対
象6の形状による「けられ」を低減することができる。
すなわち、帯状光束25a,25bの一方に「けられ」
が生じても、他方の帯状光束に「けられ」が生じなけれ
ば測定対象6の形状計測が可能になるので、形状計測の
死角を低減することができる。
【0104】また、一般に、測定対象6は様々な側面形
状を持っているため、一方向からの走査では全体の形状
を計測することは困難であるが、本実施形態では、試料
台11がθ方向に回転可能にしているので、測定対象6
の側面形状を様々な角度から計測することを可能にして
おり、計測の死角を低減している。
状を持っているため、一方向からの走査では全体の形状
を計測することは困難であるが、本実施形態では、試料
台11がθ方向に回転可能にしているので、測定対象6
の側面形状を様々な角度から計測することを可能にして
おり、計測の死角を低減している。
【0105】また、帯状光束25a,25bの照射角度
α,βが大きいほど精度良く計測することができ、受光
手段40の光電変換素子41の画素が小さいほど精度良
く計測することができる。これによって走査範囲を小さ
くすることができるので、焦点スキャンにおける計測の
時間短縮を図ることができる。
α,βが大きいほど精度良く計測することができ、受光
手段40の光電変換素子41の画素が小さいほど精度良
く計測することができる。これによって走査範囲を小さ
くすることができるので、焦点スキャンにおける計測の
時間短縮を図ることができる。
【0106】また、測定対象6がカメラ部12の視野範
囲を超える位置にある場合には、試料台11を順次X軸
方向およびZ軸方向に移動させることによって、測定対
象6の形状を計測することができる。
囲を超える位置にある場合には、試料台11を順次X軸
方向およびZ軸方向に移動させることによって、測定対
象6の形状を計測することができる。
【0107】次に、図1、図5〜図8を用いて、焦点ス
キャンにおける計測動作について説明する。
キャンにおける計測動作について説明する。
【0108】図1において、焦点スキャンでは、プリス
キャンで設定された走査範囲内で2つの帯状光束25
a,25bの交差部28の位置および対物光学系30の
焦点を測定対象6の断面方向、すなわち光軸L1方向
(Z軸方向)に予め設定された微小距離ずつ順次移動さ
せ、各位置における測定対象6の表面からの散乱光を受
光手段40により受光する。
キャンで設定された走査範囲内で2つの帯状光束25
a,25bの交差部28の位置および対物光学系30の
焦点を測定対象6の断面方向、すなわち光軸L1方向
(Z軸方向)に予め設定された微小距離ずつ順次移動さ
せ、各位置における測定対象6の表面からの散乱光を受
光手段40により受光する。
【0109】図5(a)はμmオーダーの厚さにコリメ
ートされた2つの帯状光束25a,25bがガルバノミ
ラー27a,27b(図1)により2方向から投射され
て、交差部28において交差した状態を示している。図
6は交差部28の近傍における光強度分布を示す図で、
2つの帯状光束25a,25bの交差部28において光
強度が最大になっていることが分かる。
ートされた2つの帯状光束25a,25bがガルバノミ
ラー27a,27b(図1)により2方向から投射され
て、交差部28において交差した状態を示している。図
6は交差部28の近傍における光強度分布を示す図で、
2つの帯状光束25a,25bの交差部28において光
強度が最大になっていることが分かる。
【0110】この交差部28の位置は、ガルバノミラー
27a,27bの角度をマイクロラディアンオーダーの
精密さで制御することにより、三次元空間内で任意に移
動させることができる。この場合、交差部28の位置を
変化させても収差に変化がないため、光強度分布が変化
することはない。
27a,27bの角度をマイクロラディアンオーダーの
精密さで制御することにより、三次元空間内で任意に移
動させることができる。この場合、交差部28の位置を
変化させても収差に変化がないため、光強度分布が変化
することはない。
【0111】したがって、図5(b)に示すように結像
により光強度が最大の位置を形成する従来の共焦点光学
系において、ズームレンズを用いる場合には、焦点の位
置が変化すると収差特性が変化し、集光したときの光強
度分布が変化してしまう。
により光強度が最大の位置を形成する従来の共焦点光学
系において、ズームレンズを用いる場合には、焦点の位
置が変化すると収差特性が変化し、集光したときの光強
度分布が変化してしまう。
【0112】これに対して、本実施形態では、常に同一
の光強度分布を持つ2つの帯状光束25a,25bが測
定対象6に照射されるとともに、測定対象6からの測定
光が1回だけ対物光学系30を通過することになるの
で、総合的な収差を従来に比べて低減することができ、
これによって計測精度を向上することができる。
の光強度分布を持つ2つの帯状光束25a,25bが測
定対象6に照射されるとともに、測定対象6からの測定
光が1回だけ対物光学系30を通過することになるの
で、総合的な収差を従来に比べて低減することができ、
これによって計測精度を向上することができる。
【0113】このように、本実施形態では、測定対象6
に光束を照射する照明手段20と、測定対象6からの測
定光を受光する対物光学系30とが分離されているが、
従来の共焦点光学系と同様の機能を果たす疑似共焦点光
学系が構成されている。
に光束を照射する照明手段20と、測定対象6からの測
定光を受光する対物光学系30とが分離されているが、
従来の共焦点光学系と同様の機能を果たす疑似共焦点光
学系が構成されている。
【0114】図1に戻って、焦点スキャンでは、受光手
段40の光電変換素子41(図2)のうちで、2つの帯
状光束25a,25bの交差部28が形成する交差線に
平行で、かつ対物光学系30の焦点と共役な位置に配置
された1列(例えば図4に示す基準線43に一致する
列)の光電変換素子41から出力される電気信号のみが
測定データとして計測に用いられる。これによって、受
光手段の直前にスリットが配置され、焦点と測定対象の
表面とが一致したときに最大強度の散乱光が受光手段に
入射する共焦点効果と同一の効果を得ることができる。
段40の光電変換素子41(図2)のうちで、2つの帯
状光束25a,25bの交差部28が形成する交差線に
平行で、かつ対物光学系30の焦点と共役な位置に配置
された1列(例えば図4に示す基準線43に一致する
列)の光電変換素子41から出力される電気信号のみが
測定データとして計測に用いられる。これによって、受
光手段の直前にスリットが配置され、焦点と測定対象の
表面とが一致したときに最大強度の散乱光が受光手段に
入射する共焦点効果と同一の効果を得ることができる。
【0115】そして、受光手段40から出力される1列
の光電変換素子41の電気信号は順次A/D変換されて
RAM61に格納される。設定された走査範囲の計測が
終了すると、RAM61に格納されたデータから焦点と
光強度の関係を表わす曲線を求め、その最大値の位置か
ら合焦点の位置を知ることができ、その位置が測定対象
6の表面の位置を示すことになる。一断面の計測が終了
すると、測定対象6がX軸方向に予め設定された微小距
離だけ移動され、次の一断面の計測が同様に行われる。
の光電変換素子41の電気信号は順次A/D変換されて
RAM61に格納される。設定された走査範囲の計測が
終了すると、RAM61に格納されたデータから焦点と
光強度の関係を表わす曲線を求め、その最大値の位置か
ら合焦点の位置を知ることができ、その位置が測定対象
6の表面の位置を示すことになる。一断面の計測が終了
すると、測定対象6がX軸方向に予め設定された微小距
離だけ移動され、次の一断面の計測が同様に行われる。
【0116】図7は交差部28の位置を測定対象6の表
面から光軸L1方向(Z軸方向)に−90μmから90μm
に亘って走査させたときに観測される光束の幅方向に対
する光強度分布の変化をシミュレーションした結果を示
す図で、対物光学系30の開口数を0.1とし、帯状光束
25a,25bの厚さを10μmとし、光強度を1に正規
化している。図8は図7と同一条件で、光電変換素子4
1として10μm幅のCCD画素を用いたときに観測され
る測定対象6の表面からのデフォーカス量に対する光強
度信号の変化をシミュレーションした結果を示す図であ
る。
面から光軸L1方向(Z軸方向)に−90μmから90μm
に亘って走査させたときに観測される光束の幅方向に対
する光強度分布の変化をシミュレーションした結果を示
す図で、対物光学系30の開口数を0.1とし、帯状光束
25a,25bの厚さを10μmとし、光強度を1に正規
化している。図8は図7と同一条件で、光電変換素子4
1として10μm幅のCCD画素を用いたときに観測され
る測定対象6の表面からのデフォーカス量に対する光強
度信号の変化をシミュレーションした結果を示す図であ
る。
【0117】図7、図8に示すように、コリメートされ
た帯状光束25a,25bを交差させると、交差部28
が疑似的に焦点として作用し、従来の共焦点光学系と同
様に焦点移動による光強度信号変化を得ることができ、
高精度な形状計測が可能であることが分かる。
た帯状光束25a,25bを交差させると、交差部28
が疑似的に焦点として作用し、従来の共焦点光学系と同
様に焦点移動による光強度信号変化を得ることができ、
高精度な形状計測が可能であることが分かる。
【0118】このように、焦点スキャンでは、プリスキ
ャンによる計測結果に基づいて設定された走査範囲のみ
計測を行うようにしているので、計測時間を短縮するこ
とができるとともに、光電変換素子41からの測定デー
タを格納するのに必要なRAM61の容量を低減するこ
とができる。
ャンによる計測結果に基づいて設定された走査範囲のみ
計測を行うようにしているので、計測時間を短縮するこ
とができるとともに、光電変換素子41からの測定デー
タを格納するのに必要なRAM61の容量を低減するこ
とができる。
【0119】この焦点スキャンにおける測定精度は、本
実施形態では、例えば0.5〜10μm程度の測定精度が得
られるように構成される。
実施形態では、例えば0.5〜10μm程度の測定精度が得
られるように構成される。
【0120】次に、図1を参照しながら、図9、図10
のフローチャートにしたがって、本装置による計測動作
の手順について説明する。
のフローチャートにしたがって、本装置による計測動作
の手順について説明する。
【0121】図9、図10のフローチャートにおいて、
#100〜#210はプリスキャンの手順を表わし、#
220〜#320は焦点スキャンの手順を表わす。
#100〜#210はプリスキャンの手順を表わし、#
220〜#320は焦点スキャンの手順を表わす。
【0122】まず、2つの帯状光束25a,25bが照
射され(#100)、測定対象6からの測定光による光
強度データが受光手段40を介して取り込まれてRAM
61に格納され(#110)、この光強度データから2
次元受光画像における帯状光束25a,25bの当接位
置が抽出され(#120)、この当接位置から三角測量
法の演算により測定対象6の表面位置が特定される(#
130)。
射され(#100)、測定対象6からの測定光による光
強度データが受光手段40を介して取り込まれてRAM
61に格納され(#110)、この光強度データから2
次元受光画像における帯状光束25a,25bの当接位
置が抽出され(#120)、この当接位置から三角測量
法の演算により測定対象6の表面位置が特定される(#
130)。
【0123】次いで、X軸方向の計測が終了したか否か
が判別され(#140)、未だ終了していなければ(#
140でNO)、ガルバノミラー27a,27bの角度
が所定角度だけ変更されて(#150)、#100に戻
る。
が判別され(#140)、未だ終了していなければ(#
140でNO)、ガルバノミラー27a,27bの角度
が所定角度だけ変更されて(#150)、#100に戻
る。
【0124】一方、X軸方向の計測が終了すれば(#1
40でYES)、Y軸方向の計測が終了したか否かが判
別される(#160)。測定対象6が帯状光束25a,
25bの幅寸法よりY軸方向に大きくて、Y軸方向の計
測が未だ終了していなければ(#160でNO)、カメ
ラ部12がY軸方向に未計測領域まで移動されて(#1
70)、#100に戻る。
40でYES)、Y軸方向の計測が終了したか否かが判
別される(#160)。測定対象6が帯状光束25a,
25bの幅寸法よりY軸方向に大きくて、Y軸方向の計
測が未だ終了していなければ(#160でNO)、カメ
ラ部12がY軸方向に未計測領域まで移動されて(#1
70)、#100に戻る。
【0125】一方、Y軸方向の計測が終了すれば(#1
60でYES)、測定対象6の側面の計測が終了したか
否かが判別され(#180)、未だ終了していなければ
(#180でNO)、測定対象6が所定角度だけ回転移
動されて(#190)、#100に戻る。
60でYES)、測定対象6の側面の計測が終了したか
否かが判別され(#180)、未だ終了していなければ
(#180でNO)、測定対象6が所定角度だけ回転移
動されて(#190)、#100に戻る。
【0126】一方、測定対象6の側面の計測が終了して
いれば(#180でYES)、次いで、座標変換などを
行うことによって測定対象6の3次元形状が作成され
て、測定対象6の概略形状が計測されることとなる(#
200)。次いで、この計測結果を用いて焦点スキャン
における焦点の走査範囲が設定される(#210)。
いれば(#180でYES)、次いで、座標変換などを
行うことによって測定対象6の3次元形状が作成され
て、測定対象6の概略形状が計測されることとなる(#
200)。次いで、この計測結果を用いて焦点スキャン
における焦点の走査範囲が設定される(#210)。
【0127】以上のようにプリスキャンの動作において
は、三角測量法により、比較的粗い測定精度で、高速な
測定が行われる。
は、三角測量法により、比較的粗い測定精度で、高速な
測定が行われる。
【0128】以上のプリスキャンに続いて焦点スキャン
が実行される。まず、設定された走査範囲だけ焦点がZ
軸方向に走査されて各位置の光強度データが取り込まれ
てRAM61に格納され(#220)、次いで、光強度
データの最大値が抽出されて測定対象6の表面位置が特
定される(#230)。
が実行される。まず、設定された走査範囲だけ焦点がZ
軸方向に走査されて各位置の光強度データが取り込まれ
てRAM61に格納され(#220)、次いで、光強度
データの最大値が抽出されて測定対象6の表面位置が特
定される(#230)。
【0129】次いで、X軸方向の計測が終了したか否か
が判別され(#240)、未だ終了していなければ(#
240でNO)、測定対象6が所定距離だけX軸方向に
移動され(#250)、このX座標において設定された
走査範囲が、対物レンズ群31の焦点移動範囲内にある
か否かが判別され(#260)、焦点移動範囲内であれ
ば(#260でYES)、#220に戻る。一方、走査
範囲が焦点移動範囲内になければ(#260でNO)、
焦点移動範囲内になるまで測定対象6がZ軸方向に移動
されて(#270)、#220に戻る。
が判別され(#240)、未だ終了していなければ(#
240でNO)、測定対象6が所定距離だけX軸方向に
移動され(#250)、このX座標において設定された
走査範囲が、対物レンズ群31の焦点移動範囲内にある
か否かが判別され(#260)、焦点移動範囲内であれ
ば(#260でYES)、#220に戻る。一方、走査
範囲が焦点移動範囲内になければ(#260でNO)、
焦点移動範囲内になるまで測定対象6がZ軸方向に移動
されて(#270)、#220に戻る。
【0130】一方、X軸方向の計測が終了していれば
(#240でYES)、Y軸方向の計測が終了したか否
かが判別され(#280)、未だ終了していなければ
(#280でNO)、カメラ部12がY軸方向に未計測
領域まで移動されて(#290)、#220に戻る。
(#240でYES)、Y軸方向の計測が終了したか否
かが判別され(#280)、未だ終了していなければ
(#280でNO)、カメラ部12がY軸方向に未計測
領域まで移動されて(#290)、#220に戻る。
【0131】一方、Y軸方向の計測が終了していれば
(#280でYES)、測定対象6の側面の計測が終了
したか否かが判別され(#300)、未だ終了していな
ければ(#300でNO)、測定対象6が所定角度だけ
回転移動されて(#310)、#220に戻る。
(#280でYES)、測定対象6の側面の計測が終了
したか否かが判別され(#300)、未だ終了していな
ければ(#300でNO)、測定対象6が所定角度だけ
回転移動されて(#310)、#220に戻る。
【0132】一方、測定対象6の側面の計測が終了した
か否かが判別され(#300)、座標変換などによって
計測データがつなぎあわされて、3次元形状が作成され
る(#310)。
か否かが判別され(#300)、座標変換などによって
計測データがつなぎあわされて、3次元形状が作成され
る(#310)。
【0133】以上のように焦点スキャンの動作において
は、プリスキャンによって得られた測定範囲を、プリス
キャン時とは異なる焦点スキャンによる測定を行う。従
って、より精密な測定データが得られるとともに、必要
な領域のみを精密測定するため、測定時間が短縮でき
る。
は、プリスキャンによって得られた測定範囲を、プリス
キャン時とは異なる焦点スキャンによる測定を行う。従
って、より精密な測定データが得られるとともに、必要
な領域のみを精密測定するため、測定時間が短縮でき
る。
【0134】なお、本発明は、上記実施形態に限られ
ず、以下の変形形態を採用することができる。
ず、以下の変形形態を採用することができる。
【0135】(1)上記実施形態では、図1に示すよう
に、ハーフミラー24aを用いてレーザ光源21からの
レーザ光を2つに分離しているが、これに限られず、ハ
ーフミラー24aに代えて、2つのレーザ光源を用いる
ようにしてもよい。この場合には、2つのレーザ光源を
交互に点滅させ、その点滅に同期して受光手段40から
の光強度データを取り込むことによって、2次元受光画
像における光強度データが2つの帯状光束25a,25
bのうちのいずれの帯状光束によるものであるかを判別
することができる。
に、ハーフミラー24aを用いてレーザ光源21からの
レーザ光を2つに分離しているが、これに限られず、ハ
ーフミラー24aに代えて、2つのレーザ光源を用いる
ようにしてもよい。この場合には、2つのレーザ光源を
交互に点滅させ、その点滅に同期して受光手段40から
の光強度データを取り込むことによって、2次元受光画
像における光強度データが2つの帯状光束25a,25
bのうちのいずれの帯状光束によるものであるかを判別
することができる。
【0136】(2)上記実施形態では、プリスキャン及
び焦点スキャンのときにガルバノミラー27a,27b
の角度を変化させているが、これに限られず、ガルバノ
ミラー27a,27bを固定し、測定対象6をZ軸方向
に走査するようにしても、同様に計測を行うことができ
る。
び焦点スキャンのときにガルバノミラー27a,27b
の角度を変化させているが、これに限られず、ガルバノ
ミラー27a,27bを固定し、測定対象6をZ軸方向
に走査するようにしても、同様に計測を行うことができ
る。
【0137】(3)図12はカメラ部12の変形形態を
示す図である。図12において、図1と同一物には同一
符号を付している。
示す図である。図12において、図1と同一物には同一
符号を付している。
【0138】上記実施形態では、図1に示すように、プ
リスキャンと焦点スキャンとにおいて同一の受光手段4
0で受光しているが、この変形形態では、それぞれ別の
受光手段で受光するようにしている。
リスキャンと焦点スキャンとにおいて同一の受光手段4
0で受光しているが、この変形形態では、それぞれ別の
受光手段で受光するようにしている。
【0139】すなわち、図12に示すように、受光手段
40と反射鏡32との間に、ハーフミラー33を配設す
るとともに、このハーフミラー33で反射された光を受
光する受光手段42を備えている。そして、プリスキャ
ン時は受光手段40からの受光信号を用いて計測を行
い、焦点スキャン時は受光手段42からの受光信号を用
いて計測を行う。
40と反射鏡32との間に、ハーフミラー33を配設す
るとともに、このハーフミラー33で反射された光を受
光する受光手段42を備えている。そして、プリスキャ
ン時は受光手段40からの受光信号を用いて計測を行
い、焦点スキャン時は受光手段42からの受光信号を用
いて計測を行う。
【0140】受光手段40は、焦点スキャンの測定領域
を決めるためのプリスキャンに用いられるので、受光手
段40として、比較的低解像度のエリアセンサを採用す
ればよい。例えば市販のビデオカメラに採用されている
ものを用いることにより、低コストで受光手段40を構
成することができる。
を決めるためのプリスキャンに用いられるので、受光手
段40として、比較的低解像度のエリアセンサを採用す
ればよい。例えば市販のビデオカメラに採用されている
ものを用いることにより、低コストで受光手段40を構
成することができる。
【0141】一方、受光手段42は、本スキャンである
焦点スキャンに用いられるので、受光手段42として、
高解像度のラインセンサを採用している。そして、この
ラインセンサを対物光学系30の焦点と共役な位置に配
置する。
焦点スキャンに用いられるので、受光手段42として、
高解像度のラインセンサを採用している。そして、この
ラインセンサを対物光学系30の焦点と共役な位置に配
置する。
【0142】上記実施形態では、プリスキャンと焦点ス
キャンとにおいて同一の受光手段40で受光しているの
で、焦点スキャンで高精度のデータを得るためには、高
解像度のエリアセンサを用いる必要があり、装置構成の
ためのコストが増大する虞がある。これに対して、この
変形形態によれば、受光手段40,42として、それぞ
れ測定精度に応じた構成のものを採用することができる
ので、上記実施形態に比べて低コストで装置を構成する
ことができる。
キャンとにおいて同一の受光手段40で受光しているの
で、焦点スキャンで高精度のデータを得るためには、高
解像度のエリアセンサを用いる必要があり、装置構成の
ためのコストが増大する虞がある。これに対して、この
変形形態によれば、受光手段40,42として、それぞ
れ測定精度に応じた構成のものを採用することができる
ので、上記実施形態に比べて低コストで装置を構成する
ことができる。
【0143】(4)図13はカメラ部12の別の変形形
態を示す図である。図13において、図1と同一物には
同一符号を付している。
態を示す図である。図13において、図1と同一物には
同一符号を付している。
【0144】この形態では、図1のガリレオ光学系26
a,26bに代えて、それぞれ非常に小さい開口数を有
する光学系26c,26dを備えている。
a,26bに代えて、それぞれ非常に小さい開口数を有
する光学系26c,26dを備えている。
【0145】光学系26c,26dは、コリメートされ
た光束22a,22bを、それぞれ微小な厚さ(本変形
形態では、例えば十数μm)に集束された帯状光束25
c,25dに変換してガルバノミラー27a,27bに
導くものである。この光学系26c,26dは、帯状光
束25c,25dの最も集束された位置が交差部28の
近傍になるように設定されている。
た光束22a,22bを、それぞれ微小な厚さ(本変形
形態では、例えば十数μm)に集束された帯状光束25
c,25dに変換してガルバノミラー27a,27bに
導くものである。この光学系26c,26dは、帯状光
束25c,25dの最も集束された位置が交差部28の
近傍になるように設定されている。
【0146】この変形形態によれば、コリメートされた
帯状光束を生成するのが困難な場合でも、ガルバノミラ
ー27a,27bから測定対象6までの距離が、交差部
28の走査範囲に比べて十分長くなるように構成するこ
とにより、コリメートされた帯状光束を用いた場合と同
等の精度で計測することができる。
帯状光束を生成するのが困難な場合でも、ガルバノミラ
ー27a,27bから測定対象6までの距離が、交差部
28の走査範囲に比べて十分長くなるように構成するこ
とにより、コリメートされた帯状光束を用いた場合と同
等の精度で計測することができる。
【0147】(5)図14はカメラ部12の別の変形形
態を示す図である。図14において、図13と同一物に
は同一符号を付している。
態を示す図である。図14において、図13と同一物に
は同一符号を付している。
【0148】図1や図13の形態では、プリスキャンを
行う光学系と焦点スキャンを行う光学系とを共通の光学
系で構成しているが、図14の形態では、両者をそれぞ
れ別の光学系で構成している。すなわち、図14に示す
カメラ部12は、対物光学系30の外部に配設された三
角測量測定装置90を備え、この三角測量測定装置90
は、照明手段91および受光手段92を備えている。
行う光学系と焦点スキャンを行う光学系とを共通の光学
系で構成しているが、図14の形態では、両者をそれぞ
れ別の光学系で構成している。すなわち、図14に示す
カメラ部12は、対物光学系30の外部に配設された三
角測量測定装置90を備え、この三角測量測定装置90
は、照明手段91および受光手段92を備えている。
【0149】照明手段91は、帯状のスリット光を出力
するもので、このスリット光により測定対象6を照明す
る。受光手段92は、照明手段91により照明された測
定対象6からの反射光を受光するもので、受光強度に応
じた電気信号を出力する。この受光手段92は、光電変
換素子が2次元的に配置されてなるエリアセンサで構成
されている。
するもので、このスリット光により測定対象6を照明す
る。受光手段92は、照明手段91により照明された測
定対象6からの反射光を受光するもので、受光強度に応
じた電気信号を出力する。この受光手段92は、光電変
換素子が2次元的に配置されてなるエリアセンサで構成
されている。
【0150】また、この形態では、受光手段40に代え
て、受光手段43を備えている。この受光手段43は、
光電変換素子が一列に配置されてなるラインセンサで構
成され、このラインセンサは対物光学系30の焦点と共
役な位置に配置されている。
て、受光手段43を備えている。この受光手段43は、
光電変換素子が一列に配置されてなるラインセンサで構
成され、このラインセンサは対物光学系30の焦点と共
役な位置に配置されている。
【0151】受光手段43のラインセンサの画素密度
は、受光手段92のエリアセンサの画素密度に比べて高
いものが採用されている。これは、受光手段92による
測定が、焦点スキャンによる走査範囲を決めるための粗
い測定であり、受光手段43による測定が、焦点スキャ
ンにより測定対象6の形状を求めるための精密な測定で
あるからである。
は、受光手段92のエリアセンサの画素密度に比べて高
いものが採用されている。これは、受光手段92による
測定が、焦点スキャンによる走査範囲を決めるための粗
い測定であり、受光手段43による測定が、焦点スキャ
ンにより測定対象6の形状を求めるための精密な測定で
あるからである。
【0152】図14の形態でも、測定手順としては、上
記図9、図10の手順と同様に行うことができる。但
し、この形態では、焦点スキャンの測定系と三角測量測
定装置90とは、測定対象6に対して異なる位置に配置
されているので、両者は異なる座標系を基準として測定
を行う。すなわち、図14に示すように、焦点スキャン
の測定系は座標系(X,Y,Z)を基準として測定を行う
のに対して、三角測量測定装置90は座標系(Xp,Y
p,Zp)を基準として測定を行う。従って、図9のス
テップ#210の動作を行う前に、座標変換を行う必要
がある。この座標変換は、CPU63(図2)によって
行われる。
記図9、図10の手順と同様に行うことができる。但
し、この形態では、焦点スキャンの測定系と三角測量測
定装置90とは、測定対象6に対して異なる位置に配置
されているので、両者は異なる座標系を基準として測定
を行う。すなわち、図14に示すように、焦点スキャン
の測定系は座標系(X,Y,Z)を基準として測定を行う
のに対して、三角測量測定装置90は座標系(Xp,Y
p,Zp)を基準として測定を行う。従って、図9のス
テップ#210の動作を行う前に、座標変換を行う必要
がある。この座標変換は、CPU63(図2)によって
行われる。
【0153】座標系(Xp,Yp,Zp)で表わされる点
Vpが座標系(X,Y,Z)で点Vと表わされるとき、点
Vpと点Vとの間には、 V=T・Vp …(A) の座標変換の関係が成立する。
Vpが座標系(X,Y,Z)で点Vと表わされるとき、点
Vpと点Vとの間には、 V=T・Vp …(A) の座標変換の関係が成立する。
【0154】ここで、Vp,Vは、それぞれ、
【0155】
【数1】
【0156】
【数2】
【0157】と、4×1のベクトルで表わされる。
【0158】そして、座標変換行列Tは、各座標系間の
傾斜を表わす回転行列Rと、原点の変位量を表わす並進
行列Hとを用いて、
傾斜を表わす回転行列Rと、原点の変位量を表わす並進
行列Hとを用いて、
【0159】
【数3】
【0160】と表わされる。ここで、Rは3×3行列、
Hは4×1ベクトルであり、Tは4×4行列になる。
Hは4×1ベクトルであり、Tは4×4行列になる。
【0161】なお、上記数1、数2において、点Vp,
Vの実際の座標を表わすのは最初の3要素であり、1は
並進値を加算するために必要な要素である。
Vの実際の座標を表わすのは最初の3要素であり、1は
並進値を加算するために必要な要素である。
【0162】図9のステップ#200までの動作によ
り、三角測量測定装置90により測定が行われた後、測
定された各点の座標は、座標変換行列Tを用いて上記式
(A)に従って焦点スキャンの座標系に変換される。そし
て、図9のステップ#210において、座標変換された
各点のZ座標に対して正負方向に焦点スキャンの走査範
囲が設定される。例えば、走査幅が1mmで座標変換され
たZ座標が100mmのときは、走査範囲は99.5〜100.5mmと
なる。そして、以下は上記実施形態と同様に、図10の
手順に従って測定が行われる。
り、三角測量測定装置90により測定が行われた後、測
定された各点の座標は、座標変換行列Tを用いて上記式
(A)に従って焦点スキャンの座標系に変換される。そし
て、図9のステップ#210において、座標変換された
各点のZ座標に対して正負方向に焦点スキャンの走査範
囲が設定される。例えば、走査幅が1mmで座標変換され
たZ座標が100mmのときは、走査範囲は99.5〜100.5mmと
なる。そして、以下は上記実施形態と同様に、図10の
手順に従って測定が行われる。
【0163】(6)上記実施形態では、2つの帯状光束
25a,25bとしているが、これに限られず、互いに
交差する2本の細い光束を用いて、その交差する点を例
えば図1のY軸方向に振らせるようにしてもよい。ま
た、この場合には、3本以上の細い光束を用いるように
してもよい。
25a,25bとしているが、これに限られず、互いに
交差する2本の細い光束を用いて、その交差する点を例
えば図1のY軸方向に振らせるようにしてもよい。ま
た、この場合には、3本以上の細い光束を用いるように
してもよい。
【0164】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、照明手段によって、互いに異なる方向から照射
され、所定の位置で交差する2つの光束により測定対象
を照明ぢ、照明された測定対象からの測定光を対物光学
系によって取り込み、取り込まれた測定光を、複数の光
電変換素子によって受光して、受光強度に応じた電気信
号を出力するようにしたので、照明手段と対物光学系と
が分離し、2つの光束は対物光学系を1回だけ通過する
ので、対物光学系の収差による影響を低減することがで
きる。
よれば、照明手段によって、互いに異なる方向から照射
され、所定の位置で交差する2つの光束により測定対象
を照明ぢ、照明された測定対象からの測定光を対物光学
系によって取り込み、取り込まれた測定光を、複数の光
電変換素子によって受光して、受光強度に応じた電気信
号を出力するようにしたので、照明手段と対物光学系と
が分離し、2つの光束は対物光学系を1回だけ通過する
ので、対物光学系の収差による影響を低減することがで
きる。
【0165】また、請求項2の発明によれば、測定対象
を照明する2つの光束は、それぞれ、コリメートされた
光束であることにより、受光手段により受光される測定
光の受光強度が安定したものとなり、計測精度を向上す
ることができる。
を照明する2つの光束は、それぞれ、コリメートされた
光束であることにより、受光手段により受光される測定
光の受光強度が安定したものとなり、計測精度を向上す
ることができる。
【0166】また、請求項3の発明によれば、測定対象
を照明する2つの光束は、それぞれ、互いに交差する上
記所定の位置の近傍で集束する光束であることにより、
所定の位置の近傍で測定対象を照射すると、受光手段に
より受光される測定光の受光強度が高いものとなり、計
測精度を向上することができる。
を照明する2つの光束は、それぞれ、互いに交差する上
記所定の位置の近傍で集束する光束であることにより、
所定の位置の近傍で測定対象を照射すると、受光手段に
より受光される測定光の受光強度が高いものとなり、計
測精度を向上することができる。
【0167】また、請求項4の発明によれば、受光手段
は、複数の光電変換素子が二次元的に並んで配置されて
なるものであるので、測定対象を照明する2つの光束が
広がりを持つ場合には、複数の光電変換素子が受光する
こととなり、測定対象の形状計測に要する時間を短縮す
ることができる。
は、複数の光電変換素子が二次元的に並んで配置されて
なるものであるので、測定対象を照明する2つの光束が
広がりを持つ場合には、複数の光電変換素子が受光する
こととなり、測定対象の形状計測に要する時間を短縮す
ることができる。
【0168】また、請求項5の発明によれば、2つの光
束のうちの少なくとも一方の光束により測定対象を照射
したときの当該光束の対物光学系の光軸に対する照射角
度と、受光手段のうちの測定光を受光した光電変換素子
の位置とに基づいて、対物光学系の光軸方向における測
定対象の表面の位置を判定することにより、三角測量法
にしたがって測定対象の形状を容易に計測することがで
きる。
束のうちの少なくとも一方の光束により測定対象を照射
したときの当該光束の対物光学系の光軸に対する照射角
度と、受光手段のうちの測定光を受光した光電変換素子
の位置とに基づいて、対物光学系の光軸方向における測
定対象の表面の位置を判定することにより、三角測量法
にしたがって測定対象の形状を容易に計測することがで
きる。
【0169】また、請求項6の発明によれば、2つの光
束が交差する交差部の位置を所定方向に移動させるよう
にしているので、測定対象の重量が大きいなどによって
測定対象の高速移動が困難な場合であっても、2つの光
束による測定対象の表面のカバーが素速く行われること
となり、測定対象の形状計測を好適に行うことができ
る。
束が交差する交差部の位置を所定方向に移動させるよう
にしているので、測定対象の重量が大きいなどによって
測定対象の高速移動が困難な場合であっても、2つの光
束による測定対象の表面のカバーが素速く行われること
となり、測定対象の形状計測を好適に行うことができ
る。
【0170】また、請求項7の発明によれば、測定対象
を所定方向に移動させるようにしているので、2つの光
束による測定対象の表面のカバーが容易に行われること
となり、測定対象の形状計測を好適に行うことができ
る。
を所定方向に移動させるようにしているので、2つの光
束による測定対象の表面のカバーが容易に行われること
となり、測定対象の形状計測を好適に行うことができ
る。
【0171】また、請求項8の発明によれば、測定対象
を照明する2つの光束は、それぞれ、互いに線状に交差
する帯状の光束であることにより、測定対象からの帯状
の測定光を受光手段により二次元的に受光することによ
って、測定対象の形状計測に要する時間を短縮すること
ができる。
を照明する2つの光束は、それぞれ、互いに線状に交差
する帯状の光束であることにより、測定対象からの帯状
の測定光を受光手段により二次元的に受光することによ
って、測定対象の形状計測に要する時間を短縮すること
ができる。
【0172】また、請求項9の発明によれば、2つの光
束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致するよう
に構成されていることにより、この一致した位置にさら
に測定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込ま
れる測定光のレベルが最大になり、測定対象の表面位置
の判別を容易に行うことができる。
束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致するよう
に構成されていることにより、この一致した位置にさら
に測定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込ま
れる測定光のレベルが最大になり、測定対象の表面位置
の判別を容易に行うことができる。
【0173】また、請求項10の発明によれば、対物光
学系の開口角を、対物光学系の光軸に対する2つの光束
の照射角度より小さくなるように構成することにより、
対物光学系には、測定対象からの正反射光が殆ど入射せ
ず、散乱光のみが入射することとなり、これによって受
光手段への入射光の光強度の変化幅を狭くすることがで
き、受光手段から受光強度に応じた電気信号を好適に出
力することができる。
学系の開口角を、対物光学系の光軸に対する2つの光束
の照射角度より小さくなるように構成することにより、
対物光学系には、測定対象からの正反射光が殆ど入射せ
ず、散乱光のみが入射することとなり、これによって受
光手段への入射光の光強度の変化幅を狭くすることがで
き、受光手段から受光強度に応じた電気信号を好適に出
力することができる。
【0174】また、請求項11の発明によれば、受光手
段は、対物光学系に関して対物光学系の焦点と共役な位
置に配置された一列の光電変換素子を含んでいるので、
この共役な位置に配置された一列の光電変換素子から出
力される電気信号のレベルを用いると、2つの光束の交
差部の位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さ
らに測定対象の表面が一致したときには、光電変換素子
から出力される電気信号のレベルが最大になり、測定対
象の表面位置の判別を高精度で容易に行うことができ
る。
段は、対物光学系に関して対物光学系の焦点と共役な位
置に配置された一列の光電変換素子を含んでいるので、
この共役な位置に配置された一列の光電変換素子から出
力される電気信号のレベルを用いると、2つの光束の交
差部の位置と対物光学系の焦点とが一致した位置に、さ
らに測定対象の表面が一致したときには、光電変換素子
から出力される電気信号のレベルが最大になり、測定対
象の表面位置の判別を高精度で容易に行うことができ
る。
【0175】また、請求項12の発明によれば、対物光
学系の焦点を光軸方向に移動させ、複数の光電変換素子
から出力される電気信号が最大のときの焦点の位置を測
定対象の表面位置と判定するようにしているので、2つ
の光束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致する
ように構成されていることから、対物光学系の焦点と測
定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる
測定光のレベルが最大になり、これによって、測定対象
の三次元形状の測定を容易に、かつ高精度で行うことが
できる。
学系の焦点を光軸方向に移動させ、複数の光電変換素子
から出力される電気信号が最大のときの焦点の位置を測
定対象の表面位置と判定するようにしているので、2つ
の光束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致する
ように構成されていることから、対物光学系の焦点と測
定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込まれる
測定光のレベルが最大になり、これによって、測定対象
の三次元形状の測定を容易に、かつ高精度で行うことが
できる。
【0176】また、請求項13の発明によれば、測定対
象を光軸方向に移動させ、複数の光電変換素子から出力
される電気信号が最大のときの測定対象の移動量に基づ
き測定対象の表面位置を判定するようにしているので、
2つの光束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致
するように構成されていることから、対物光学系の焦点
と測定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込ま
れる測定光のレベルが最大になり、これによって、測定
対象の三次元形状の測定を容易に、かつ高精度で行うこ
とができる。
象を光軸方向に移動させ、複数の光電変換素子から出力
される電気信号が最大のときの測定対象の移動量に基づ
き測定対象の表面位置を判定するようにしているので、
2つの光束の交差部の位置と対物光学系の焦点とが一致
するように構成されていることから、対物光学系の焦点
と測定対象の表面が一致すると、対物光学系に取り込ま
れる測定光のレベルが最大になり、これによって、測定
対象の三次元形状の測定を容易に、かつ高精度で行うこ
とができる。
【0177】また、請求項14の発明によれば、測定対
象を照明する2つの光束はそれぞれ帯状の光束で、互い
に、対物光学系の光軸に直交する方向に線状に交差する
ものであることにより、2つの光束の交差部の位置と対
物光学系の焦点とが一致した位置に、さらに測定対象の
表面が一致すると、測定対象からの帯状の測定光が受光
手段により線状に受光されることによって、複数点の計
測が同時になされるので、測定対象の形状計測に要する
時間を短縮することができる。
象を照明する2つの光束はそれぞれ帯状の光束で、互い
に、対物光学系の光軸に直交する方向に線状に交差する
ものであることにより、2つの光束の交差部の位置と対
物光学系の焦点とが一致した位置に、さらに測定対象の
表面が一致すると、測定対象からの帯状の測定光が受光
手段により線状に受光されることによって、複数点の計
測が同時になされるので、測定対象の形状計測に要する
時間を短縮することができる。
【0178】また、請求項15の発明によれば、2つの
帯状の光束の交差部が形成する交差線及び対物光学系の
光軸の双方に直交する方向に測定対象を移動させること
により、測定対象の広い表面の位置の判別を効率良く行
うことができ、測定対象の三次元形状を好適に計測する
ことができる。
帯状の光束の交差部が形成する交差線及び対物光学系の
光軸の双方に直交する方向に測定対象を移動させること
により、測定対象の広い表面の位置の判別を効率良く行
うことができ、測定対象の三次元形状を好適に計測する
ことができる。
【0179】また、請求項16の発明によれば、2つの
光束のうちの少なくとも一方の光束により測定対象を照
射したときの当該光束の対物光学系の光軸に対する照射
角度と、受光手段のうちの測定光を受光した光電変換素
子の位置とに基づいて、位置判定手段により対物光学系
の光軸方向における測定対象の表面の位置を判定し、そ
の判定結果に基づいて、相対移動手段による対物光学系
の焦点の相対移動範囲を設定し、この設定された相対移
動範囲のみ上記焦点が測定対象に対して相対的に移動す
るようにしたので、相対移動範囲のみ高精度な形状計測
を行うことができ、高精度な形状計測を行いながら、計
測時間を短縮することができる。
光束のうちの少なくとも一方の光束により測定対象を照
射したときの当該光束の対物光学系の光軸に対する照射
角度と、受光手段のうちの測定光を受光した光電変換素
子の位置とに基づいて、位置判定手段により対物光学系
の光軸方向における測定対象の表面の位置を判定し、そ
の判定結果に基づいて、相対移動手段による対物光学系
の焦点の相対移動範囲を設定し、この設定された相対移
動範囲のみ上記焦点が測定対象に対して相対的に移動す
るようにしたので、相対移動範囲のみ高精度な形状計測
を行うことができ、高精度な形状計測を行いながら、計
測時間を短縮することができる。
【0180】また、請求項17の発明によれば、第1測
定手段により測定対象の表面位置に関する第1位置デー
タを求め、求められた第1位置データに基づき測定領域
決定手段により測定領域を決定し、決定された測定領域
内で第2測定手段により第2位置データを求めるように
しているので、測定対象の三次元形状の効率良い測定を
図ることができる。
定手段により測定対象の表面位置に関する第1位置デー
タを求め、求められた第1位置データに基づき測定領域
決定手段により測定領域を決定し、決定された測定領域
内で第2測定手段により第2位置データを求めるように
しているので、測定対象の三次元形状の効率良い測定を
図ることができる。
【0181】また、請求項18の発明によれば、第1測
定手段により測定される第1位置データの測定精度は、
第2測定手段により測定される第2位置データの測定精
度より低いので、第1位置データにより測定領域が粗く
決定され、その測定領域内で第2位置データが精度良く
求められることから、高精度の計測を行いながら、計測
に要する時間を短縮することができる。
定手段により測定される第1位置データの測定精度は、
第2測定手段により測定される第2位置データの測定精
度より低いので、第1位置データにより測定領域が粗く
決定され、その測定領域内で第2位置データが精度良く
求められることから、高精度の計測を行いながら、計測
に要する時間を短縮することができる。
【0182】また、請求項19の発明によれば、第1測
定手段と第2測定手段とで対物レンズを共用しているの
で、部品点数の削減および装置の小型化を図ることがで
きる。
定手段と第2測定手段とで対物レンズを共用しているの
で、部品点数の削減および装置の小型化を図ることがで
きる。
【0183】また、請求項20の発明によれば、第1測
定手段は、三角測量法により測定対象の表面位置を測定
するもので、第2測定手段は、対物レンズの焦点を測定
対象に対して当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動
させることにより測定対象の表面位置を測定するもので
あるので、三角測量法により第1位置データを粗く求
め、第1位置データに基づき決定された測定領域内で対
物レンズの焦点の相対移動を行って第2位置データを高
精度で求めることから、第2位置データの測定時間の増
大を抑制することができる。
定手段は、三角測量法により測定対象の表面位置を測定
するもので、第2測定手段は、対物レンズの焦点を測定
対象に対して当該対物レンズの光軸方向に相対的に移動
させることにより測定対象の表面位置を測定するもので
あるので、三角測量法により第1位置データを粗く求
め、第1位置データに基づき決定された測定領域内で対
物レンズの焦点の相対移動を行って第2位置データを高
精度で求めることから、第2位置データの測定時間の増
大を抑制することができる。
【0184】また、請求項21の発明によれば、第1測
定手段および第2測定手段は、それぞれ互いに異なる座
標系に基づいて測定対象の表面位置を測定するもので、
第1測定手段により測定された第1位置データを上記第
2測定手段の座標系に基づくデータに変換し、第2測定
手段の座標系に基づくデータに変換された第1位置デー
タに基づき測定領域を決定するようにしているので、第
1、第2測定手段の測定対象に対する配置位置の設定が
自由になり、計測装置の設計の自由度を増すことができ
る。
定手段および第2測定手段は、それぞれ互いに異なる座
標系に基づいて測定対象の表面位置を測定するもので、
第1測定手段により測定された第1位置データを上記第
2測定手段の座標系に基づくデータに変換し、第2測定
手段の座標系に基づくデータに変換された第1位置デー
タに基づき測定領域を決定するようにしているので、第
1、第2測定手段の測定対象に対する配置位置の設定が
自由になり、計測装置の設計の自由度を増すことができ
る。
【0185】また、請求項22の発明によれば、測定対
象の表面位置に関する位置データを第1の精度で測定
し、測定された位置データに基づき測定領域を決定し、
この決定された測定領域内において上記位置データを上
記第1の精度より高い第2の精度で測定し、この第2の
精度で測定された位置データを用いて上記測定対象の三
次元形状を求めるようにしているので、第1の精度より
高い第2の精度での測定は、測定領域内においてのみ行
われることになり、高精度の計測を行いながら、計測に
要する時間の短縮を図ることができる。
象の表面位置に関する位置データを第1の精度で測定
し、測定された位置データに基づき測定領域を決定し、
この決定された測定領域内において上記位置データを上
記第1の精度より高い第2の精度で測定し、この第2の
精度で測定された位置データを用いて上記測定対象の三
次元形状を求めるようにしているので、第1の精度より
高い第2の精度での測定は、測定領域内においてのみ行
われることになり、高精度の計測を行いながら、計測に
要する時間の短縮を図ることができる。
【図1】本発明に係る三次元形状計測装置の一実施形態
のカメラ部の内部構成を示す図である。
のカメラ部の内部構成を示す図である。
【図2】三次元形状計測装置の電気的構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図3】プリスキャンを説明するための2つの帯状光束
および測定対象を示す斜視図である。
および測定対象を示す斜視図である。
【図4】受光手段における2次元受光画像を示す図であ
る。
る。
【図5】(a)はμmオーダーの厚さにコリメートされ
た2つの帯状光束がガルバノミラーにより2方向から投
射されて交差部において交差した状態を示し、(b)は
結像により光強度が最大の位置を形成する光束を示す図
である。
た2つの帯状光束がガルバノミラーにより2方向から投
射されて交差部において交差した状態を示し、(b)は
結像により光強度が最大の位置を形成する光束を示す図
である。
【図6】交差部の近傍における光強度分布のシミュレー
ション結果を示す図である。
ション結果を示す図である。
【図7】交差部の位置を測定対象の表面から光軸L1方
向(Z軸方向)に−90μmから90μmに亘って走査させ
たときに観測される光束の幅方向に対する光強度分布の
変化をシミュレーションした結果を示す図である。
向(Z軸方向)に−90μmから90μmに亘って走査させ
たときに観測される光束の幅方向に対する光強度分布の
変化をシミュレーションした結果を示す図である。
【図8】図7と同一条件で、光電変換素子として10μm
幅のCCD画素を用いたときに観測される測定対象の表
面からのデフォーカス量に対する光強度信号の変化をシ
ミュレーションした結果を示す図である。
幅のCCD画素を用いたときに観測される測定対象の表
面からのデフォーカス量に対する光強度信号の変化をシ
ミュレーションした結果を示す図である。
【図9】計測動作の手順を示すフローチャートである。
【図10】計測動作の手順を示すフローチャートであ
る。
る。
【図11】本発明に係る三次元形状計測装置の一実施形
態の外観を示す斜視図である。
態の外観を示す斜視図である。
【図12】カメラ部の変形形態を示す図である。
【図13】カメラ部の別の変形形態を示す図である。
【図14】カメラ部の別の変形形態を示す図である。
【図15】従来の共焦点光学系を示す構成図である。
【図16】点光源からの光がある波面収差を持つ光学系
を通過したときの光強度分布を示す図である。
を通過したときの光強度分布を示す図である。
【図17】点光源からの光がある波面収差を持つ光学系
を通過し、その正反射光が同光学系を再度通過したとき
の光強度分布を示す図である。
を通過し、その正反射光が同光学系を再度通過したとき
の光強度分布を示す図である。
11 試料台 20 照明手段 27a,27b ガルバノミラー 30 対物光学系 31 対物レンズ群 40 受光手段 41 光電変換素子 42 受光手段 43 受光手段(第2測定手段) 53 試料台駆動部 54 ミラー駆動部 55 ズーム駆動部 63 CPU(第1測定制御手段、第2測定制御手段、
座標変換手段) 77 信号レベル検出手段 78 位置判定手段 79 焦点判定手段 80 範囲設定手段(測定領域決定手段) 90 三角測量測定装置(第1測定手段)
座標変換手段) 77 信号レベル検出手段 78 位置判定手段 79 焦点判定手段 80 範囲設定手段(測定領域決定手段) 90 三角測量測定装置(第1測定手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA04 AA53 BB05 DD06 DD11 DD15 EE08 FF41 FF67 GG04 HH05 HH12 HH14 HH18 JJ02 JJ03 JJ05 JJ19 JJ25 JJ26 LL00 LL06 LL13 LL59 LL62 MM16 MM21 NN02 PP12 QQ00 QQ03 QQ29
Claims (22)
- 【請求項1】 互いに異なる方向から照射され、所定の
位置で交差する2つの光束により測定対象を照明する照
明手段と、 上記照明手段により照明された上記測定対象からの測定
光を取り込む対物光学系と、 複数の光電変換素子が配置されてなる受光手段と、を備
え、 上記複数の光電変換素子は、それぞれ、上記対物光学系
により取り込まれた上記測定光を受光して受光強度に応
じた電気信号を出力するものであることを特徴とする三
次元形状計測装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束は、それぞれ、コリメートされた
光束であることを特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項3】 請求項1記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束は、それぞれ、互いに交差する上
記所定の位置の近傍で集束する光束であることを特徴と
する三次元形状計測装置。 - 【請求項4】 請求項1記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記受光手段は、複数の光電変換素子が二次元的
に並んで配置されてなるものであることを特徴とする三
次元形状計測装置。 - 【請求項5】 請求項4記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束のうちの少なくとも一方の光束に
より上記測定対象を照射したときの当該光束の上記対物
光学系の光軸に対する照射角度と、上記受光手段のうち
の上記測定光を受光した光電変換素子の位置とに基づい
て、上記光軸方向における上記測定対象の表面の位置を
判定する位置判定手段を備えたことを特徴とする三次元
形状計測装置。 - 【請求項6】 請求項5記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束が交差する交差部の位置を所定方
向に移動させる交差部移動手段を備えたことを特徴とす
る三次元形状計測装置。 - 【請求項7】 請求項5記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記測定対象を所定方向に移動させる試料移動手
段を備えたことを特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項8】 請求項1記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束は、それぞれ、互いに線状に交差
する帯状の光束であることを特徴とする三次元形状計測
装置。 - 【請求項9】 請求項1記載の三次元形状計測装置にお
いて、上記2つの光束の交差部の位置と上記対物光学系
の焦点とが一致するように構成されていることを特徴と
する三次元形状計測装置。 - 【請求項10】 請求項9記載の三次元形状計測装置に
おいて、上記対物光学系の開口角は、上記対物光学系の
光軸に対する上記2つの光束の照射角度より小さくなる
ように構成されていることを特徴とする三次元形状計測
装置。 - 【請求項11】 請求項10記載の三次元形状計測装置
において、上記受光手段は、上記対物光学系に関して上
記対物光学系の焦点と共役な位置に配置された一列の光
電変換素子を含んでいることを特徴とする三次元形状計
測装置。 - 【請求項12】 請求項11記載の三次元形状計測装置
において、上記対物光学系の焦点を上記光軸方向に移動
させる焦点移動手段と、 上記複数の光電変換素子から出力される電気信号が最大
のときの上記焦点の位置を上記測定対象の表面位置と判
定する位置判定手段と、を備えたことを特徴とする三次
元形状計測装置。 - 【請求項13】 請求項11記載の三次元形状計測装置
において、 上記測定対象を上記光軸方向に移動させる試料移動手段
と、 上記複数の光電変換素子から出力される電気信号が最大
のときの上記測定対象の移動量に基づき上記測定対象の
表面位置を判定する位置判定手段と、を備えたことを特
徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項14】 請求項9記載の三次元形状計測装置に
おいて、上記2つの光束はそれぞれ帯状の光束で、互い
に、上記対物光学系の光軸に直交する方向に線状に交差
するものであることを特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項15】 請求項14記載の三次元形状計測装置
において、上記2つの帯状の光束の交差部が形成する交
差線及び上記対物光学系の光軸の双方に直交する方向
に、上記測定対象を移動させる試料移動手段を備えたこ
とを特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項16】 請求項1記載の三次元形状計測装置に
おいて、 上記2つの光束のうちの少なくとも一方の光束により上
記測定対象を照射したときの当該光束の上記対物光学系
の光軸に対する照射角度と、上記受光手段のうちの上記
測定光を受光した光電変換素子の位置とに基づいて、上
記光軸方向における上記測定対象の表面の位置を判定す
る位置判定手段と、 上記対物光学系の焦点を上記測定対象に対して上記対物
光学系の光軸方向に相対的に移動させる相対移動手段
と、 上記位置判定手段による判定結果に基づいて上記相対移
動手段による上記対物光学系の焦点の相対移動範囲を設
定する範囲設定手段と、を備え、 上記相対移動手段は、設定された上記相対移動範囲のみ
上記対物光学系の焦点を上記測定対象に対して相対的に
移動させるものであることを特徴とする三次元形状計測
装置。 - 【請求項17】 測定対象の表面位置に関する第1位置
データを測定する第1測定手段と、 上記測定対象の表面位置に関する第2位置データを測定
する第2測定手段と、 上記第1測定手段で得られた上記第1位置データに基づ
き測定領域を決定する測定領域決定手段と、 上記第1測定手段を用いて上記第1位置データを求めた
後、上記測定領域決定手段により決定された測定領域内
で上記第2測定手段を用いて上記第2位置データを求め
る測定制御手段と、を備えたことを特徴とする三次元形
状計測装置。 - 【請求項18】 請求項17記載の三次元形状計測装置
において、上記第1測定手段により測定される第1位置
データの測定精度は、上記第2測定手段により測定され
る第2位置データの測定精度より低いことを特徴とする
三次元形状計測装置。 - 【請求項19】 請求項17記載の三次元形状計測装置
において、上記第1測定手段および第2測定手段は、そ
れぞれ、対物レンズの焦点と測定対象とを当該対物レン
ズの光軸方向に相対的に移動させることにより測定対象
の表面位置を測定するもので、上記対物レンズは、上記
第1測定手段と第2測定手段とで共用されていることを
特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項20】 請求項17記載の三次元形状計測装置
において、上記第1測定手段は、三角測量法により測定
対象の表面位置を測定するもので、上記第2測定手段
は、対物レンズの焦点を測定対象に対して当該対物レン
ズの光軸方向に相対的に移動させることにより測定対象
の表面位置を測定するものであることを特徴とする三次
元形状計測装置。 - 【請求項21】 請求項17記載の三次元形状計測装置
において、座標変換手段をさらに備え、 上記第1測定手段および第2測定手段は、それぞれ互い
に異なる座標系に基づいて上記測定対象の表面位置を測
定するもので、 上記座標変換手段は、上記第1測定手段により測定され
た第1位置データを上記第2測定手段の座標系に変換す
るもので、 上記測定領域決定手段は、上記第2測定手段の座標系に
変換された第1位置データに基づき測定領域を決定する
ものであることを特徴とする三次元形状計測装置。 - 【請求項22】 測定対象の表面位置に関する位置デー
タを第1の精度で測定し、測定された位置データに基づ
き測定領域を決定し、この決定された測定領域内におい
て上記位置データを上記第1の精度より高い第2の精度
で測定し、この第2の精度で測定された位置データを用
いて上記測定対象の三次元形状を求めることを特徴とす
る三次元形状計測方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000071505A JP2000329531A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-15 | 三次元形状計測装置および同方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7252299 | 1999-03-17 | ||
| JP11-72522 | 1999-03-17 | ||
| JP2000071505A JP2000329531A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-15 | 三次元形状計測装置および同方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329531A true JP2000329531A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=26413657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000071505A Pending JP2000329531A (ja) | 1999-03-17 | 2000-03-15 | 三次元形状計測装置および同方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000329531A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008524565A (ja) * | 2004-12-16 | 2008-07-10 | ベルス・メステヒニーク・ゲーエムベーハー | 座標測定装置ならびに座標測定装置を用いて測定する方法 |
| JP2010513927A (ja) * | 2006-12-20 | 2010-04-30 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 物体の測定方法及びシステム |
| JP2013134177A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Japan Siper Quarts Corp | シリカガラスルツボの三次元形状測定方法 |
| JP2022031956A (ja) * | 2020-12-24 | 2022-02-22 | 株式会社東京精密 | 走査範囲決定方法 |
-
2000
- 2000-03-15 JP JP2000071505A patent/JP2000329531A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2010513927A (ja) * | 2006-12-20 | 2010-04-30 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 物体の測定方法及びシステム |
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| JP2022031956A (ja) * | 2020-12-24 | 2022-02-22 | 株式会社東京精密 | 走査範囲決定方法 |
| JP7667930B2 (ja) | 2020-12-24 | 2025-04-24 | 株式会社東京精密 | 走査範囲決定方法 |
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