JP2000323841A - Multilayer circuit board and manufacture thereof - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 64
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 134
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は多層回路基板とそれ
をビルドアップ工法で製造する方法に関し、更に詳しく
は、回路パターンのファイン化を確保しつつ、層間接続
の自由度を広めることができ、内層バイアホールの導通
構造の信頼性が高く、また、内層バイアホールの頭部表
面をパッドとしても使用することができる多層回路基板
とその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer circuit board and a method of manufacturing the same by a build-up method, and more particularly, to increase the degree of freedom of interlayer connection while ensuring fine circuit patterns. The present invention relates to a multilayer circuit board having a high reliability of a conductive structure of an inner via hole and capable of using a head surface of the inner via hole as a pad, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子・電気機器の小型化や軽量化
の進展に伴い、これら機器に組み込まれる回路基板とし
ては多層回路基板が広く採用されている。この多層回路
基板は、表面に所定の回路パターンが形成されている回
路基板が複数枚積層された構造のものであって、各層の
間は貫通スルーホールや内層バイアホールで導通がとら
れている。2. Description of the Related Art In recent years, as electronic and electric equipment has been reduced in size and weight, multilayer circuit boards have been widely adopted as circuit boards incorporated in these equipment. This multilayer circuit board has a structure in which a plurality of circuit boards each having a predetermined circuit pattern formed on the surface are stacked, and conduction is provided between the respective layers by through through holes and inner layer via holes. .
【0003】そして、この多層回路基板に対しては、回
路パターンの細線化やその高密度化、また薄型化の要望
が強まっており、それに応えるために、最近ではビルド
アップ工法を適用して製造することが行われている。こ
のビルドアップ工法は、概ね、次のようにして進められ
る。その1例を、片面にビルドアップしていく場合につ
いて説明する。The demand for thinner circuit patterns, higher densities, and thinner circuit patterns has been increasing for this multilayer circuit board. That is being done. This build-up method generally proceeds as follows. One example will be described in the case of building up on one side.
【0004】まず、図9で示したように、絶縁基板1A
の表面に所定の回路パターン1Bが形成されている回路
基板1をコア基板として用意する。ついで、このコア基
板1の表面に絶縁樹脂を積層して前記回路パターン1B
を埋設する所望厚みの絶縁層2Aを形成する(図1
0)。そして、この絶縁層2Aの表面のうち、目的とす
る内層バイアホールを形成すべき箇所に前記回路パター
ン1Bの表面に至るまでの凹孔1Cを形成する(図1
1)。[0004] First, as shown in FIG.
A circuit board 1 having a predetermined circuit pattern 1B formed on the surface thereof is prepared as a core board. Then, an insulating resin is laminated on the surface of the core substrate 1 to form the circuit pattern 1B.
Is formed to have an insulating layer 2A having a desired thickness (FIG. 1).
0). Then, in the surface of the insulating layer 2A, a concave hole 1C is formed at a position where a target inner layer via hole is to be formed up to the surface of the circuit pattern 1B (FIG. 1).
1).
【0005】このような凹孔は、従来からホトリソグラ
フィーを用いて形成されていたが、最近では、より小径
の凹孔を形成することができるということからレーザを
用いることが行われている。ついで、例えば薬液処理に
より、絶縁層2Aの表面と凹孔1Cの側壁面に粗面化処
理を施したのち全面に無電解めっきと電気めっきを順次
行い、図12で示したように、回路パターン1Bの表面
と凹孔1Cの側壁面と絶縁層2Bの表面とを被覆する所
望厚みのめっき層2Bを形成する。[0005] Such a hole has conventionally been formed using photolithography, but recently, a laser has been used because a hole having a smaller diameter can be formed. Then, the surface of the insulating layer 2A and the side wall surface of the concave hole 1C are subjected to a surface roughening treatment by, for example, a chemical solution treatment, and then electroless plating and electroplating are sequentially performed on the entire surface. As shown in FIG. A plating layer 2B having a desired thickness is formed to cover the surface of the insulating layer 2B and the surface of the insulating layer 2B.
【0006】そして、このめっき層2Bに対して常法の
パターニング処理を行って一部を除去し、絶縁層2Aの
表面にランド部1C1を有する凹孔1Cのパターンと所
定の導体回路パターンを形成する。その結果、図13で
示したように、コア基板1の上には、絶縁層2Aとその
表面に形成されている所定の回路パターン2Bおよびコ
ア基板1の回路パターン1Bと接続する凹孔1C、すな
わち内層バイアホールを有する第2の回路基板2が積層
された2層構造の回路基板が得られる。[0006] Then, removing a portion by patterning process conventional method with respect to the plating layer 2B, a pattern and a predetermined conductor circuit pattern of concavities 1C having a land portion 1C 1 on the surface of the insulating layer 2A Form. As a result, as shown in FIG. 13, on the core substrate 1, the insulating layer 2A, the predetermined circuit pattern 2B formed on the surface thereof, and the concave hole 1C connected to the circuit pattern 1B of the core substrate 1, That is, a circuit board having a two-layer structure in which the second circuit board 2 having the inner via hole is laminated is obtained.
【0007】そして、この第2の回路基板2の上に、更
に別の回路基板を積層する場合には、図14で示したよ
うに、回路基板2の表面に絶縁樹脂を積層して前記回路
パターン2Bと凹孔1Cのパターンを埋設する絶縁層3
Aを形成したのち、この絶縁層3Aに対し、ランド部1
C1に対応する箇所に図11〜図13で示したと同様の
処理を行えばよい。When another circuit board is laminated on the second circuit board 2, an insulating resin is laminated on the surface of the circuit board 2 as shown in FIG. Insulating layer 3 burying pattern 2B and pattern of concave hole 1C
After the formation of the insulating layer 3A, the land 1
May be performed the same processing as shown in FIGS. 11 to 13 at positions corresponding to C 1.
【0008】その結果、図15で示したように、第2の
回路基板2の上には、絶縁層3Aと、その表面に形成さ
れている所定の回路パターン3Bおよび第2の回路基板
2のランド部1C1と接続している凹孔2C、すなわち
内層バイアホールとを有する第3の回路基板3が積層さ
れている3層構造の回路基板が得られる。この第3の回
路基板の上に、前記した操作を反復していくことによ
り、所望する層数を有し、各層は凹孔1C,2C,…が
内層バイアホールとして機能する多層回路基板を製造す
ることができる。As a result, as shown in FIG. 15, on the second circuit board 2, the insulating layer 3A, the predetermined circuit pattern 3B formed on the surface thereof and the second circuit board 2 recessed hole 2C that is connected to the land portion 1C 1, i.e. the circuit board having a three-layer structure in which the third circuit board 3 is laminated with an inner layer via holes can be obtained. By repeating the above operation on the third circuit board, a multilayer circuit board having a desired number of layers and each layer having concave holes 1C, 2C,... Functioning as inner via holes is manufactured. can do.
【0009】このようなビルドアップ工法は、従来から
の多層回路基板の製造方法、すなわち、それぞれに所定
の回路パターンと内層バイアホールが形成されている回
路基板を別々に製造しておき、それらの所定枚数を一括
して積層した積層体にし、ついでその積層体の所定位置
に貫通スルーホールを形成したのちめっき処理を行って
各層の導通をとるという方法に比べると、絶縁層2A,
3A,…を薄くすることにより全体の薄型化を実現で
き、また、各層の表面に形成されている回路パターンが
ファインであっても内層バイアホールの形成が可能であ
るため高密度化を実現できるという利点を備えている。Such a build-up method is a conventional method of manufacturing a multilayer circuit board, that is, a circuit board in which a predetermined circuit pattern and an inner via hole are formed separately, and the circuit boards are separately manufactured. Compared to a method in which a predetermined number of sheets are collectively laminated, a through-hole is formed in a predetermined position of the laminate, and then plating is performed to establish conduction between the layers, the insulation layers 2A,
By reducing the thickness of 3A,..., The overall thickness can be reduced, and even if the circuit pattern formed on the surface of each layer is fine, the formation of inner via holes is possible, so that high density can be realized. It has the advantage that.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところで、図9〜図1
5で示したビルドアップ工法には次のような問題があ
る。第1の問題は、図15で例示したように、ある回路
基板の層2における凹孔(内層バイアホール)1Cのラ
ンド部1C1の上にその上層に位置する回路基板3の凹
孔(内層バイアホール)2Cが形成されていることであ
る。FIGS. 9 to 1 show an embodiment of the present invention.
The build-up method shown in 5 has the following problems. The first problem, as illustrated in FIG. 15, recessed holes (inner layer of the circuit board 3 positioned thereon on a certain concavity in the layer 2 of the circuit board (inner via hole) 1C of the land portion 1C 1 (Via holes) 2C are formed.
【0011】すなわち、下層に形成されている内層バイ
アホールは、上層に形成される内層バイアホールと接続
する所定広さのランド部を有していなければならないこ
とである。したがって、この2つの内層バイアホール
は、平面的に所定の距離だけ離隔して形成されることに
なるため、下層の回路パターンのパターン態様に応じ
て、内層バイアホールの形成は規定されることになり、
パターン設計の自由度を狭めることになる。That is, the inner via hole formed in the lower layer must have a land portion of a predetermined width connected to the inner via hole formed in the upper layer. Therefore, since the two inner via holes are formed to be separated from each other by a predetermined distance in a plane, the formation of the inner via holes is defined according to the pattern form of the lower circuit pattern. Become
This reduces the degree of freedom in pattern design.
【0012】本発明は、従来のビルドアップ工法で多層
回路基板を製造する際の上記した問題を解決し、回路パ
ターンのファイン化を確保しつつ、設計の自由度が大き
く、しかも内層バイアホールの導通構造の信頼性が高い
多層回路基板とその製造方法の提供を目的とする。The present invention solves the above-mentioned problem when a multilayer circuit board is manufactured by a conventional build-up method, and has a large degree of freedom in design while ensuring fine circuit patterns, and furthermore, has a large number of internal via holes. It is an object of the present invention to provide a multilayer circuit board having a highly reliable conductive structure and a method for manufacturing the same.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明においては、下層の回路基板と上層の回
路基板が内層バイアホールを介して順次積層されている
構造の多層回路基板において、前記内層バイアホール
は、凹孔と、前記凹孔の壁面を被覆する導体めっき層
と、前記凹孔の中空部に充填された導電ペーストと、少
なくとも前記導電ペーストの上面を被覆して形成された
表面めっき層の頭部表面部とから成る中実の導通構造を
有し、かつ、下層の回路基板に位置する内層バイアホー
ルの表面めっき層の直上に上層の回路基板に位置する内
層バイアホールが配置されていることを特徴とする多層
回路基板が提供され、また、表面に回路パターンと内層
バイアホールが形成されている下層の回路基板の上に上
層の回路基板を順次積層していく多層回路基板の製造方
法において、前記下層の回路基板の表面を被覆して絶縁
層を形成し、前記絶縁層にレーザ光を照射して、前記絶
縁層に前記内層バイアホールの頭部表面部に至るまでの
凹孔を形成し、前記絶縁層の表面にめっき処理を行っ
て、前記絶縁層の全面、前記凹孔の側壁面および前記内
層バイアホールの頭部表面を被覆する導体めっき層を形
成し、前記導体めっき層の全面に導電ペーストを塗布し
たのち研磨して、前記凹孔の中空部に前記導電ペースト
を充填して中実構造とし、更に全面にめっき処理を行っ
て表面めっき層を形成したのち前記表面めっき層をパタ
ーニングして、回路パターンと少なくとも前記導電ペー
ストの上面を被覆する内層バイアホールの頭部表面部を
形成する、作業を反復することを特徴とする多層回路基
板の製造方法が提供される。According to the present invention, there is provided a multi-layer circuit board having a structure in which a lower circuit board and an upper circuit board are sequentially stacked via an inner via hole. The inner via hole is formed by covering the concave hole, a conductive plating layer covering a wall surface of the concave hole, a conductive paste filled in a hollow portion of the concave hole, and at least an upper surface of the conductive paste. An inner via hole located on the upper circuit board immediately above the inner via hole located on the lower circuit board and having a solid conductive structure consisting of Are provided, and an upper circuit board is sequentially stacked on a lower circuit board having a circuit pattern and an inner via hole formed on a surface thereof. In the method of manufacturing a multilayer circuit board, the insulating layer is formed by covering the surface of the lower circuit board, and the insulating layer is irradiated with laser light, and the insulating layer is exposed to the head of the inner layer via hole. Conductive plating for forming a concave hole up to a surface portion, plating the surface of the insulating layer, and covering the entire surface of the insulating layer, the side wall surface of the concave hole, and the head surface of the inner via hole. After forming a layer, a conductive paste is applied to the entire surface of the conductive plating layer and then polished, and the hollow portion of the concave hole is filled with the conductive paste to form a solid structure. After forming a plating layer, patterning the surface plating layer to form a circuit pattern and a top surface portion of an inner via hole covering at least an upper surface of the conductive paste, and repeating the operation. Method for manufacturing a multilayer circuit board is provided.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】本発明の多層回路基板の各層にお
ける内層バイアホールの配置状態の1例を図1に示す。
図1は、絶縁基材1Aの表面に回路パターン1Bが形成
されている回路基板(コア基板)1の片面に、3層の回
路基板を後述する本発明のビルドアップ工法で積層した
多層回路基板の断面構造を例示している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an example of the arrangement of inner via holes in each layer of a multilayer circuit board according to the present invention.
FIG. 1 shows a multilayer circuit board in which a three-layer circuit board is laminated on one surface of a circuit board (core board) 1 having a circuit pattern 1B formed on the surface of an insulating base material 1A by a build-up method of the present invention described later. Is illustrated by way of example.
【0015】図1において、コア基板1の回路パターン
1Bの上には、絶縁層2Aとその表面に形成された回路
パターン2Bから成る第2の回路基板2が積層され、か
つ、この第2の回路基板2には後述する内層バイアホー
ル5が形成されている。そして、この第2の回路基板2
の上には、絶縁層3Aとその表面に形成された回路パタ
ーン3Bから成る第3の回路基板(上層の回路基板)3
が積層され、かつ、第2の回路基板(下層の回路基板)
2に位置している内層バイアホール5の直上には、それ
と同一構造の内層バイアホール6が形成されている。In FIG. 1, a second circuit board 2 comprising an insulating layer 2A and a circuit pattern 2B formed on the surface thereof is laminated on the circuit pattern 1B of the core board 1, and the second circuit board 2 The circuit board 2 has an inner via hole 5 described later. Then, the second circuit board 2
A third circuit board (upper circuit board) 3 composed of an insulating layer 3A and a circuit pattern 3B formed on the surface thereof
And a second circuit board (lower layer circuit board)
Immediately above the inner via hole 5 located at 2, the inner via hole 6 having the same structure as the inner via hole 5 is formed.
【0016】更に、この第3の回路基板3の上には、絶
縁層4Aとその表面に形成された回路パターン4Bから
成る第4の回路基板(上層の回路基板)が積層され、か
つ第3の回路基板(下層の回路基板)3に位置している
内層バイアホール6の直上にはそれと同一構造の内層バ
イアホール7が形成されている。なお、図1において、
この内層バイアホール7は第4の回路基板4の表面にそ
の頭部表面部が表出しているが、ここには更に第5の回
路基板を積層することもできる。その場合には、この内
層バイアホール7の頭部表面部は当該第5の回路基板の
中に埋設されることになる。Further, on the third circuit board 3, a fourth circuit board (upper circuit board) including an insulating layer 4A and a circuit pattern 4B formed on the surface thereof is laminated. An inner via hole 7 having the same structure as that of the inner via hole 6 located on the circuit board (lower layer circuit board) 3 is formed immediately above the inner via hole 6. In FIG. 1,
The inner layer via hole 7 has a top surface exposed on the surface of the fourth circuit board 4, but a fifth circuit board can be further laminated here. In this case, the head surface of the inner via hole 7 is buried in the fifth circuit board.
【0017】このように、本発明の多層回路基板は、各
層の間を接続する内層バイアホールが、図15で示した
従来の場合のように平面的に互いに離隔しているのでは
なく、互いの直上に配置されるという直列構造をなして
形成されている。ここで、本発明の内層バイアホール
5,6,7の構造につき、内層バイアホール5を例にし
て説明する。As described above, according to the multilayer circuit board of the present invention, the inner via holes connecting the respective layers are not separated from each other in a plane as in the conventional case shown in FIG. Is formed in a series structure that is arranged directly above the. Here, the structure of the inner via holes 5, 6, and 7 of the present invention will be described by taking the inner via hole 5 as an example.
【0018】この内層バイアホール5は、絶縁層2Aに
レーザ照射で形成された凹孔5Aと、この凹孔の側壁面
とコア基板1の回路パターン1Bの表面と絶縁層2Aに
おける凹孔5Aの周縁表面とを被覆する薄い導体めっき
層5Bと、中空部に充填されている導電ペースト5C
と、この導電ペースト5Cの上面を被覆するめっき層で
ある頭部表面部5Dとから成り、全体として、導電材料
から成る中実構造になっている。The inner via hole 5 is formed with a concave hole 5A formed by irradiating the insulating layer 2A with a laser, a side wall surface of the concave hole, a surface of the circuit pattern 1B of the core substrate 1, and a concave hole 5A in the insulating layer 2A. A thin conductive plating layer 5B covering the peripheral surface, and a conductive paste 5C filled in the hollow portion
And a head surface portion 5D, which is a plating layer covering the upper surface of the conductive paste 5C, and has a solid structure made of a conductive material as a whole.
【0019】このように、この内層バイアホール5の場
合には、全体が導電材料から成る柱状形状になっている
ので、本発明の多層回路基板は、単に薄い導体めっき層
で下層との導通をとっていた従来の内層バイアホールの
場合に比べて導通構造の信頼性は高くなる。また、内層
バイアホールは互いに直列構造をなして各層間に配置さ
れているので、小面積にも多数の内層バイアホールを形
成することが可能となり、設計の自由度を高めることが
できると同時に回路パターンの高密度化も実現できる。As described above, in the case of the inner-layer via hole 5, the whole is formed in a columnar shape made of a conductive material. Therefore, the multilayer circuit board of the present invention simply conducts conduction with the lower layer by a thin conductive plating layer. The reliability of the conductive structure is higher than that of the conventional inner via hole. In addition, since the inner via holes are arranged in series with each other and arranged between the layers, it is possible to form a large number of inner via holes even in a small area. Higher pattern density can also be realized.
【0020】更に、最上層に表出している内層バイアホ
ール7の場合、その頭部表面部7Dを他の部品搭載用の
パッドとして使用することもできる。上記した本発明の
多層回路基板は次のようにして製造される。最初に、絶
縁基材1Aとその表面に形成された回路パターン1Bと
から成るコア基板1の上に、第2の回路基板2が後述す
るようにしてビルドアップされる。Further, in the case of the inner via hole 7 exposed on the uppermost layer, the head surface portion 7D can be used as a pad for mounting another component. The above-described multilayer circuit board of the present invention is manufactured as follows. First, a second circuit board 2 is built up on a core substrate 1 including an insulating base material 1A and a circuit pattern 1B formed on the surface thereof as described later.
【0021】まず、図2で示したように、コア基板1の
表面に絶縁樹脂を塗布したのち硬化して所望厚みの絶縁
層2Aを形成する。ついで、内層バイアホールを形成す
べき絶縁層2Aの箇所に例えばCO2レーザ光を照射し
て、下層の回路パターン1Bの表面1bにまで至る所定
孔径の凹孔5Aを形成する(図3)。First, as shown in FIG. 2, an insulating resin is applied to the surface of the core substrate 1 and then cured to form an insulating layer 2A having a desired thickness. Next, a portion of the insulating layer 2A where an inner via hole is to be formed is irradiated with, for example, a CO 2 laser beam to form a concave hole 5A having a predetermined hole diameter reaching the surface 1b of the lower circuit pattern 1B (FIG. 3).
【0022】次に、凹孔5Aの内壁面を含む絶縁層2A
の全面に例えば銅めっき処理を行う。めっき処理として
は、無電解めっきを行って凹孔5Aの側壁面5aと絶縁
層2Aの表面2aに導電性を付与したのち電気めっきを
行えばよい。その結果、図4で示したように、絶縁層2
Aの表面2aと凹孔5Aの側壁面5aと回路パターン1
Bの表面1bを被覆して薄い導体めっき層5Bが形成さ
れる。Next, the insulating layer 2A including the inner wall surface of the recess 5A is formed.
Is subjected to, for example, a copper plating process. As the plating treatment, electroplating may be performed after electroconductivity plating is performed to impart conductivity to the side wall surface 5a of the concave hole 5A and the surface 2a of the insulating layer 2A. As a result, as shown in FIG.
A surface 2a, side wall surface 5a of concave hole 5A and circuit pattern 1
A thin conductor plating layer 5B is formed covering the surface 1b of B.
【0023】なお、このときの導体めっき層5Bの厚み
は、ビルドアップされる第2の回路基板2の表面に形成
されるべき回路パターン2Bの厚みの略1/2の厚みに
設定される。ついで、この導体めっき層5Bの全面に、
例えばエポキシ樹脂に銅粉が分散して成る導電ペースト
を塗布して当該導電ペーストを硬化したのち、その表面
を研磨して導体めっき層5Bの表面を表出させる。At this time, the thickness of the conductor plating layer 5B is set to be approximately half the thickness of the circuit pattern 2B to be formed on the surface of the second circuit board 2 to be built up. Next, on the entire surface of the conductor plating layer 5B,
For example, after a conductive paste formed by dispersing copper powder in an epoxy resin is applied and the conductive paste is hardened, the surface is polished to expose the surface of the conductive plating layer 5B.
【0024】その結果、図5で示したように、凹孔の中
には導電ペースト5Cが充填された中実構造が形成さ
れ、その上面5cは導体めっき層5Bの表面5bと面一
状態になる。ついで、導体めっき層5Bと導電ペースト
の上面5cに例えば銅めっき処理を行い、表面めっき層
5Dを形成する(図6)。なお、このときの表面めっき
層5Dの厚みは、ビルドアップされる第2の回路基板2
に形成されるべき回路パターン2Bの厚みの略1/2の
厚みに設定される。したがって、絶縁層2Aの表面に
は、第2の回路基板2に形成されるべき回路パターン2
Bの厚みと略等しい厚みのめっき層が形成されているこ
とになる。As a result, as shown in FIG. 5, a solid structure filled with conductive paste 5C is formed in the recess, and its upper surface 5c is flush with surface 5b of conductive plating layer 5B. Become. Next, for example, copper plating is performed on the conductive plating layer 5B and the upper surface 5c of the conductive paste to form a surface plating layer 5D (FIG. 6). The thickness of the surface plating layer 5D at this time is the same as that of the second circuit board 2 to be built up.
The thickness is set to approximately half the thickness of the circuit pattern 2B to be formed. Therefore, the circuit pattern 2 to be formed on the second circuit board 2 is provided on the surface of the insulating layer 2A.
This means that a plating layer having a thickness substantially equal to the thickness of B is formed.
【0025】ついで、表面めっき層5Dに常法のホトリ
ソグラフィーを行い、更に必要箇所を絶縁層2Aの表面
2aまでエッチング除去する。その結果、図7で示した
ように、導体めっき層5Bと表面めっき層5Dから成る
回路パターン2が絶縁層2の表面2aに形成され、また
その絶縁層2には、表面めっき層5Dから成る頭部表面
部が表出し、下層の回路パターン1Bと接続している内
層バイアホール5が配置された第2の回路基板2が形成
される。Next, photolithography is performed on the surface plating layer 5D by a conventional method, and furthermore, necessary portions are removed by etching to the surface 2a of the insulating layer 2A. As a result, as shown in FIG. 7, a circuit pattern 2 including the conductor plating layer 5B and the surface plating layer 5D is formed on the surface 2a of the insulating layer 2, and the insulating layer 2 includes the surface plating layer 5D. The second circuit board 2 is formed in which the head surface is exposed and the inner via hole 5 connected to the lower circuit pattern 1B is arranged.
【0026】この第2の回路基板2の上に、図1で示し
た第3の回路基板3をビルドアップで形成する場合に
は、図8で示したように、上記した第2の回路基板2の
全面を被覆して絶縁層3Aを形成し、更に下層の内層バ
イアホール5の頭部表面部5Dにまで至る凹孔6Aを形
成したのち、図4〜図7で説明した作業を行えばよい。
そして、形成された第3の回路基板3の上に、上記した
作業を反復することにより、所望する層数の回路基板が
ビルドアップされて本発明の多層回路基板が製造され
る。When the third circuit board 3 shown in FIG. 1 is formed on the second circuit board 2 by build-up, as shown in FIG. After forming the insulating layer 3A by covering the entire surface of the substrate 2 and further forming the concave hole 6A reaching the head surface portion 5D of the lower inner layer via hole 5, the operation described with reference to FIGS. Good.
Then, by repeating the above operation on the third circuit board 3 thus formed, a circuit board of a desired number of layers is built up, and the multilayer circuit board of the present invention is manufactured.
【0027】[0027]
【実施例】最初に、図9で示したコア基板1を次のよう
にして製造した。絶縁層1Aがエポキシ樹脂からなる両
面銅張積層板(銅箔の厚み:12μm)の両面にソフト
エッチングを行って表面銅箔1B1の厚みを約5μmに
した。ついで、その両面銅張積層板に孔径0.3mmの貫
通孔を形成したのち、この貫通孔の内壁面も含む全面に
化学銅めっきを行い、更にその上に電気銅めっきを行っ
て厚みが約20μmの銅めっき層1B2を形成した。EXAMPLE First, the core substrate 1 shown in FIG. 9 was manufactured as follows. Insulating layer 1A is double-sided copper clad laminate made of epoxy resin (copper foil thickness: 12 [mu] m) was the thickness of the surface copper foil 1B 1 performing soft etching on both sides of the approximately 5 [mu] m. Then, after forming a through-hole having a hole diameter of 0.3 mm in the double-sided copper-clad laminate, chemical copper plating was performed on the entire surface including the inner wall surface of the through-hole, and then electrolytic copper plating was further performed thereon to reduce the thickness to about to form a copper plating layer 1B 2 of 20 [mu] m.
【0028】そして、銅粉入りエポキシ樹脂系の非導電
ペースト8を印刷法で貫通孔に充填し、更に当該非導電
ペースト8を熱硬化させたのち、両面をベルトサンダと
バフで平滑に研磨した。ついで、研磨面を過マンガン酸
系溶液で粗面化したのち、全面に化学銅めっきと電気銅
めっきを順次行って厚みが約15μmの銅めっき層1B
3を形成した。The epoxy resin-based non-conductive paste 8 containing copper powder was filled in the through-holes by a printing method, and the non-conductive paste 8 was thermally cured, and both surfaces were polished smoothly with a belt sander and a buff. . Then, after the polished surface is roughened with a permanganate solution, chemical copper plating and electrolytic copper plating are sequentially performed on the entire surface to form a copper plating layer 1B having a thickness of about 15 μm.
Formed three .
【0029】そして、上記銅めっき層1B3に対してテ
ンティング法でエッチング処理を行い、直径500μm
の回路1B,1Bを有するコア基板1にした。ついで、
このコア基板1の両面に、インク状のエポキシ樹脂をカ
ーテンコータで塗布し、更に熱硬化したのち両面をバフ
研磨して、回路1B,1Bを埋設する厚み約50μmの
絶縁層2A,2Aを形成した(図10)。そしてCO2
レーザで絶縁層2A,2Aに、回路1B,1Bの表面に
至るまでの凹孔5A,5Aを形成した(図11)。[0029] Then, etching treatment with tenting with respect to the copper plating layer 1B 3, diameter 500μm
The core substrate 1 has the circuits 1B and 1B. Then
An ink-like epoxy resin is applied to both surfaces of the core substrate 1 with a curtain coater, and after thermosetting, both surfaces are buff-polished to form insulating layers 2A, 2A having a thickness of about 50 μm for embedding the circuits 1B, 1B. (FIG. 10). And CO 2
Concave holes 5A, 5A were formed in the insulating layers 2A, 2A by laser to reach the surfaces of the circuits 1B, 1B (FIG. 11).
【0030】ついで、絶縁層2A,2Aの表面と凹孔5
A,5Aの側壁面5a,5aを過マンガン酸系溶液で粗
面化すると同時に凹孔底部の残膜除去を行ったのち、化
学銅めっきと電気銅めっきを順次行い、厚み約7μmの
銅めっき層5B1,5B1を形成した(図12)。そし
て、この凹孔に銅粉入りエポキシ樹脂系の導電ペースト
5Cを印刷法で充填し、更に熱硬化したのち表面をベル
トサンダとバフで研磨した(図13)。Next, the surfaces of the insulating layers 2A, 2A and the recesses 5 are formed.
After roughening the side walls 5a, 5a of A, 5A with a permanganic acid-based solution and removing the residual film at the bottom of the recess, chemical copper plating and electrolytic copper plating are sequentially performed, and a copper plating of about 7 μm in thickness is performed. The layers 5B 1 and 5B 1 were formed (FIG. 12). The recess was filled with a copper powder-containing epoxy resin-based conductive paste 5C by a printing method, and after thermosetting, the surface was polished with a belt sander and a buff (FIG. 13).
【0031】ついで、導電ペースト5Cの表面を過マン
ガン酸系溶液で粗面化したのち、化学銅めっきと電気銅
めっきを順次行い、厚みが約15μmの銅めっき層5B
2を形成した(図14)。そして、銅めっき層5Bに対
してテンティング法でエッチング処理を行い、直径30
0μmの回路2B,2Bを形成した(図15)。Then, after the surface of the conductive paste 5C is roughened with a permanganic acid-based solution, chemical copper plating and electrolytic copper plating are sequentially performed to obtain a copper plating layer 5B having a thickness of about 15 μm.
2 was formed (FIG. 14). Then, an etching process is performed on the copper plating layer 5B by a tenting method, and the diameter 30
Circuits 2B and 2B of 0 μm were formed (FIG. 15).
【0032】このようにして、各回路間は直列構造で接
続されている4層の多層回路基板が得られた。なお、図
15で示した多層回路基板をコア基板として、上記した
作業を更に行えば、図16で示したような6層の多層回
路基板が得られる。In this way, a four-layer multilayer circuit board in which each circuit is connected in a series structure was obtained. If the above operation is further performed using the multilayer circuit board shown in FIG. 15 as a core substrate, a six-layer multilayer circuit board as shown in FIG. 16 is obtained.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明は
次のような効果を奏する。 (1)本発明の多層回路基板において各層間を接続する
内層バイアホールは、下層のものの直上に上層のものが
配置されるという直列構造をなして形成されているの
で、各内層バイアホールの平面的な分散の広がりは小さ
くなり、回路パターンの高密度化に対応可能である。こ
れは、多層回路基板の設計における自由度を高めること
になり、多大の工業的価値を有する。また同時に、配線
長が最短となるので、電気特性は優れたものになる。As apparent from the above description, the present invention has the following effects. (1) In the multilayer circuit board of the present invention, the inner via holes connecting the respective layers are formed in a series structure in which the upper via holes are arranged immediately above the lower via holes, so that the plane of each inner via hole is formed. The spread of the global dispersion is reduced, and it is possible to cope with an increase in the density of circuit patterns. This increases the degree of freedom in designing the multilayer circuit board, and has great industrial value. At the same time, since the wiring length is the shortest, the electrical characteristics are excellent.
【0034】(2)内層バイアホールは全体として導電
材料から成る中実構造になっているので、本発明の多層
回路基板における下層と上層との導通状態は、めっき導
通および導電材料による導通が得られるため、高い信頼
性を備えている。 (3)また、本発明の多層回路基板における最上層に配
置された内層バイアホールの頭部表面部は平滑であるた
め、従来の凹孔を有する構造のものに比べ、パッドとし
ての機能をさせる場合、実装時の信頼性に優れる。(2) Since the inner via hole has a solid structure made of a conductive material as a whole, the conduction between the lower layer and the upper layer in the multilayer circuit board of the present invention can be achieved by plating and conduction by the conductive material. Therefore, it has high reliability. (3) Since the top surface of the inner-layer via hole disposed on the uppermost layer in the multilayer circuit board of the present invention is smooth, it functions as a pad as compared with a conventional structure having a concave hole. In this case, the reliability at the time of mounting is excellent.
【図1】本発明の多層回路基板の要部を示す部分断面図
である。FIG. 1 is a partial sectional view showing a main part of a multilayer circuit board according to the present invention.
【図2】本発明の製造方法において、コア基板の上に絶
縁層を形成した状態を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a state in which an insulating layer is formed on a core substrate in the manufacturing method of the present invention.
【図3】図2の絶縁層に凹孔を形成した状態を示す部分
断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a state where a concave hole is formed in the insulating layer of FIG. 2;
【図4】図3の絶縁層と凹孔の表面に導体めっき層を形
成した状態を示す部分断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a state in which a conductor plating layer is formed on the surfaces of the insulating layer and the concave hole in FIG. 3;
【図5】図4の凹孔に導電ペーストを充填した状態を示
す部分断面図である。FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a state in which a conductive paste is filled in the concave hole of FIG. 4;
【図6】図5の導体めっき層と導電ペーストの上面に表
面めっき層を形成した状態を示す部分断面図である。FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a state in which a surface plating layer is formed on the upper surfaces of the conductive plating layer and the conductive paste of FIG.
【図7】図5の表面めっき層をパターニングしてコア基
板の上に第2の回路基板を形成した状態を示す部分断面
図である。FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing a state where a second circuit board is formed on a core substrate by patterning the surface plating layer of FIG. 5;
【図8】図7の第2の回路基板の表面に絶縁層を形成し
た状態を示す部分断面図である。8 is a partial cross-sectional view showing a state where an insulating layer is formed on the surface of the second circuit board in FIG. 7;
【図9】コア基板の1例を示す部分断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing one example of a core substrate.
【図10】図9のコア基板の両面に絶縁層を形成した状
態を示す部分断面図である。FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing a state where insulating layers are formed on both surfaces of the core substrate of FIG. 9;
【図11】図10の絶縁層に凹孔を形成した状態を示す
部分断面図である。11 is a partial cross-sectional view showing a state in which a concave hole is formed in the insulating layer of FIG.
【図12】図11の絶縁層と凹孔の表面に銅めっき層を
形成した状態を示す部分断面図である。FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a state where a copper plating layer is formed on the surfaces of the insulating layer and the concave hole of FIG. 11;
【図13】図12の凹孔に導電ペーストを充填した状態
を示す部分断面図である。FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing a state in which a conductive paste is filled into the concave holes of FIG.
【図14】図13の導電ペーストと絶縁層の表面に銅め
っき層を形成した状態を示す部分断面図である。14 is a partial cross-sectional view showing a state where a copper plating layer is formed on the surfaces of the conductive paste and the insulating layer of FIG.
【図15】本発明のビルドアップ工法で製造された4層
構造の多層回路基板を示す部分断面図である。FIG. 15 is a partial cross-sectional view showing a multilayer circuit board having a four-layer structure manufactured by the build-up method of the present invention.
【図16】本発明のビルドアップ工法で製造された6層
構造の多層回路基板を示す部分断面図である。FIG. 16 is a partial cross-sectional view showing a multilayer circuit board having a six-layer structure manufactured by the build-up method of the present invention.
【図17】従来のビルドアップ工法で用いるコア基板を
示す部分断面図である。FIG. 17 is a partial cross-sectional view showing a core substrate used in a conventional build-up method.
【図18】図17のコア基板の表面に絶縁層を形成した
状態を示す部分断面図である。18 is a partial cross-sectional view showing a state where an insulating layer is formed on the surface of the core substrate of FIG.
【図19】図18の絶縁層に凹孔を形成した状態を示す
部分断面図である。FIG. 19 is a partial cross-sectional view showing a state where a concave hole is formed in the insulating layer of FIG. 18;
【図20】図19の絶縁層と凹孔の表面に導体めっき層
を形成した状態を示す部分断面図である。20 is a partial cross-sectional view showing a state where a conductor plating layer is formed on the surface of the insulating layer and the concave hole of FIG. 19;
【図21】図20の導体めっき層をパターニングして第
2の回路基板を形成した状態を示す部分断面図である。FIG. 21 is a partial cross-sectional view showing a state where a second circuit board is formed by patterning the conductor plating layer of FIG. 20;
【図22】図21の第2の回路基板の表面に絶縁層を形
成した状態を示す部分断面図である。FIG. 22 is a partial cross-sectional view showing a state where an insulating layer is formed on the surface of the second circuit board in FIG. 21;
【図23】従来のビルドアップ工法で製造された3層構
造の多層回路基板を示す部分断面図である。FIG. 23 is a partial cross-sectional view showing a multilayer circuit board having a three-layer structure manufactured by a conventional build-up method.
1 コア基板 2 第2の回路基板 3 第3の回路基板 4 第4の回路基板 5,6,7 内層バイアホール 1A,2A,3A,4A 絶縁層 1B,2B,3B,4B 回路パターン 1b 回路パターン1Bの表面 2a 絶縁層2Aの表面 5A,6A 凹孔 5a 凹孔5Aの側壁面 5B 導体めっき層 5b 導体めっき層5Bの表面 5C 導電ペースト 5c 導電ペースト5Cの上面 5D 表面めっき層 Reference Signs List 1 core board 2 second circuit board 3 third circuit board 4 fourth circuit board 5, 6, 7 inner via hole 1A, 2A, 3A, 4A insulating layer 1B, 2B, 3B, 4B circuit pattern 1b circuit pattern 1B Surface 2a Surface of insulating layer 2A 5A, 6A Recessed hole 5a Side wall surface of concave hole 5A 5B Conductive plating layer 5b Surface of conductive plating layer 5B 5C Conductive paste 5c Top surface of conductive paste 5C 5D Surface plating layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E346 AA06 AA12 AA15 AA43 BB01 BB16 CC31 DD01 DD22 DD32 EE33 FF04 FF15 FF18 GG01 GG15 GG17 GG27 HH07 HH25 HH31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E346 AA06 AA12 AA15 AA43 BB01 BB16 CC31 DD01 DD22 DD32 EE33 FF04 FF15 FF18 GG01 GG15 GG17 GG27 HH07 HH25 HH31
Claims (2)
バイアホールを介して順次積層されている構造の多層回
路基板において、 前記内層バイアホールは、凹孔と、前記凹孔の壁面を被
覆する導体めっき層と、前記凹孔の中空部に充填された
導電ペーストと、少なくとも前記導電ペーストの上面を
被覆して形成された表面めっき層の頭部表面部とから成
る中実の導通構造を有し、かつ、下層の回路基板に位置
する内層バイアホールの表面めっき層の直上に上層の回
路基板に位置する内層バイアホールが配置されているこ
とを特徴とする多層回路基板。1. A multilayer circuit board having a structure in which a lower circuit board and an upper circuit board are sequentially laminated via an inner via hole, wherein the inner via hole covers a concave hole and a wall surface of the concave hole. A conductive plating layer, a conductive paste filled in the hollow portion of the recess, and a solid conductive structure comprising a top surface portion of a surface plating layer formed by covering at least an upper surface of the conductive paste. A multilayer circuit board, comprising: an inner via hole located on an upper circuit board immediately above a surface plating layer of an inner via hole located on a lower circuit board.
が形成されている下層の回路基板の上に上層の回路基板
を順次積層していく多層回路基板の製造方法において、 前記下層の回路基板の表面を被覆して絶縁層を形成し、 前記絶縁層にレーザ光を照射して、前記絶縁層に前記内
層バイアホールの頭部表面部に至るまでの凹孔を形成
し、 前記絶縁層の表面にめっき処理を行って、前記絶縁層の
全面、前記凹孔の側壁面および前記内層バイアホールの
頭部表面を被覆する導体めっき層を形成し、 前記導体めっき層の全面に導電ペーストを塗布したのち
研磨して、前記凹孔の中空部に前記導電ペーストを充填
して中実構造とし、 更に全面にめっき処理を行って表面めっき層を形成した
のち前記表面めっき層をパターニングして、回路パター
ンと少なくとも前記導電ペーストの上面を被覆する内層
バイアホールの頭部表面部を形成する、作業を反復する
ことを特徴とする多層回路基板の製造方法。2. A method for manufacturing a multilayer circuit board, comprising sequentially laminating an upper circuit board on a lower circuit board having a circuit pattern and an inner via hole formed on a surface thereof. Forming an insulating layer by irradiating a laser beam to the insulating layer to form a concave hole in the insulating layer up to the top surface of the inner via hole; and forming a concave hole on the surface of the insulating layer. A plating process is performed to form a conductive plating layer covering the entire surface of the insulating layer, the side wall surface of the concave hole and the top surface of the inner via hole, and then applying a conductive paste to the entire surface of the conductive plating layer. Polishing, filling the hollow portion of the recess with the conductive paste to form a solid structure, further performing a plating process on the entire surface to form a surface plating layer, and then patterning the surface plating layer to form a circuit pattern and Method of manufacturing a multilayer circuit board and forming the head surface portion of the inner via holes that covers the upper surface of the conductive paste, repeating the work even without.
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