JP2000311384A

JP2000311384A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2000311384A
Application number: JP11118594A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-04-26
Filing date: 1999-04-26
Publication date: 2000-11-07

Abstract

(57)【要約】【課題】２層の光吸収層を有し、高容量の記録が可能
な片側読み取り方式の追記型光情報記録媒体を提供す
る。【解決手段】基板上に、有機色素を含有し、基板側か
らのレーザ光の照射により情報の記録が可能な第１光吸
収層２と第２光吸収層６とをこの順に設け、第１光吸収
層２と第２光吸収層６との間に、第１光吸収層２に隣接
する光透過性の第１バリア層３と、第２光吸収層６に隣
接する光透過性の第２バリア層５とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、詳しくは、高容量の記録が可能な片側読み取り方
式の追記型光情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】デジタル・ビデオ・ディスク（ＤＶＤ）
は、コンパクト・ディスク（ＣＤ）に比べより高容量の
媒体として開発されたものであり、再生専用タイプのＲ
ＯＭ型ＤＶＤでは、それぞれ記録層を有する二枚のディ
スクを貼り合わせ、裏返して使用する貼り合わせ型記録
媒体が一般的であるが、片側から２層の記録層を読み取
ることができる片側読み取り方式の２層型記録媒体も開
発されている。このような片側読み取り方式の２層型記
録媒体は、ディスクを裏返すことなくアクセスできる点
で、ランダム・アクセスが頻繁に要求される分野、特
に、コンピュータの分野で有用である。

【０００３】しかしながら、従来、レーザ光の照射によ
り情報の記録を行う追記型媒体であるＤＶＤ−Ｒ（ＤＶ
Ｄ−Rewritable）を、片側読み取り方式の２層型記録媒
体は存在しなかった。これは、以下の理由によると推測
される。ＤＶＤ−ＲをＲＯＭ型ＤＶＤのように片側読み
取り方式の２層型記録媒体とする場合には２つの記録層
を貼り合わせる必要がある。しかし、シアニン色素等の
追記型記録媒体の記録層用色素は比較的不安定であり、
貼り合わせ型記録媒体で用いられているような紫外線硬
化樹脂等の硬化性接着剤で貼り合わせると、接着剤に記
録層色素が溶け出して劣化し、最終的には記録媒体の記
録再生特性を低下させる虞が大きいためである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みなされたものであり、本発明の目的は、２層の光吸
収層を有し、高容量の記録が可能な片側読み取り方式の
追記型光情報記録媒体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、上記課題が下記手段により解決されることを見
出し本発明を完成するに至った。即ち、本発明の光情報
記録媒体は、基板と、該基板と対向する対向基板との間
に、有機色素を含有しレーザ光の照射により情報の記録
が可能な第１光吸収層と、光透過性の中間層と、該中間
層により第１光吸収層から離間された第２光吸収層と、
がこの順に積層され、該中間層から該第１光吸収層への
物質透過を阻止すると同時に該第１光吸収層を透過した
レーザ光の一部を反射する光透過性の第１バリア層が、
該中間層と該第１光吸収層との間に挿入され、該中間層
から該第２光吸収層への物質透過を阻止すると同時に該
第１光吸収層を透過したレーザ光を反射する光透過性の
第２バリア層が該中間層と該第２光吸収層との間に挿入
され、前記第１光吸収層に近接する基板側からのレーザ
光の照射により情報を記録及び再生することを特徴とす
る。前記第１バリア層は、記録光に対する透過率が３０
〜９５％の範囲にあることが好ましく、前記第２バリア
層は、記録光に対する反射率が１０〜９０％の範囲にあ
ることが好ましい。

【０００６】また、本発明の光情報記録媒体は、基板
と、該基板と対向する対向基板との間に、有機色素を含
有しレーザ光の照射により情報の記録が可能な第１光吸
収層と、光透過性の中間層と、該中間層により第１光吸
収層から離間された第２光吸収層と、がこの順に積層さ
れ、該中間層から該第１光吸収層への物質透過を阻止す
ると同時に該第１光吸収層を透過したレーザ光の一部を
反射する光透過性の第１バリア層が、該中間層と該第１
光吸収層との間に挿入され、該中間層から該第２光吸収
層への物質透過を阻止する光透過性の第２バリア層が該
中間層と該第２光吸収層との間に挿入され、前記第２光
吸収層の基板側とは反対側の面に隣接して反射層が設け
られ、前記第１光吸収層に近接する基板側からのレーザ
光の照射により情報を記録及び再生することを特徴とす
る。前記第２バリア層は、記録光に対する透過率が３０
〜９５％の範囲にあることが好ましい。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
具体的な構成について、図面を参照しつつ、詳細に説明
する。

【０００８】図１は、本発明の第１の実施形態に係る光
情報記録媒体の構成を表す断面図である。図１におい
て、１は基板、２は第１光吸収層、３は第１バリア層、
４は中間層、５は第２バリア層、６は第２光吸収層、７
は対向基板である。

【０００９】本発明の第１の実施形態に係る光情報記録
媒体は、第１光吸収層２と第２光吸収層６という２つの
光吸収層を設けた点と、該光吸収層と中間層４との間に
第１バリア層３と第２バリア層５とを設けた点に特徴が
ある。

【００１０】この光情報記録媒体を用いた情報の記録
は、例えば、以下のようにして行われる。まず、光情報
記録媒体を所定の定線速度または所定の定角速度にて回
転させながら、基板１側から半導体レーザ光などの記録
用のレーザ光を光学系を通して集光し、照射する。基板
１側からの記録光は、その一部が第１光吸収層２で吸収
され、第１光吸収層２の照射部分がその光を吸収して局
所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化が生じ
てその光学特性を変えることにより、第１光吸収層２に
情報が記録される一方、その残りの光が第１光吸収層２
を透過する。次に、第１光吸収層２を透過した光は、そ
の一部が第１バリア層３により反射され、その残りの光
が第１バリア層３を透過する。そして、第１バリア層３
を透過した光は、その一部が第２バリア層５により反射
され、その残りの光が第２バリア層５を透過して、第２
光吸収層６がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的な変化が生じてその光学特性を変え
ることにより、第２光吸収層６に情報が記録される

【００１１】記録光としては、可視域のレーザ光、通常
６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎ
ｍ、更に好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発
振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。ま
た記録光は、ＮＡが０．５５〜０．７の光学系を通して
集光されることが好ましい。

【００１２】上記のように記録された情報の再生は、光
情報記録媒体を所定の定線速度で回転させながら記録時
と同じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射し
て、その反射光を検出することにより行うことができ
る。本発明の光情報記録媒体は、通常のＤＶＤフォーマ
ットの場合の１倍速はもとより、それ以上の高速での記
録再生も可能である。

【００１３】第１の実施形態に係る光情報記録媒体で
は、ディスクの片面側から第１光吸収層２と第２光吸収
層６の両方について、良好な記録または再生を行うため
に、第１バリア層３及び第２バリア層５は以下の役割を
担う。

【００１４】すなわち、第１バリア層３は、以下の３つ
の役割を担う。（１）第１光吸収層２に対する反射膜としての役割（２）第１光吸収層２を通過してきた記録光を、吸収・
散乱することなく、ある程度透過させ、第２光吸収層６
に到達させる光透過膜としての役割（３）第１光吸収層２に含まれる色素の溶出を防止する
不透過膜としての役割

【００１５】従って、第１バリア層３の記録光に対する
反射率は３〜５０％の範囲にあることが好ましく、より
好ましくは７〜４０％、さらに好ましくは１０〜３５％
である。また、第１バリア層３の記録光に対する透過率
は３０〜９５％の範囲にあることが好ましく、より好ま
しくは４０〜９０％、さらに好ましくは５０〜８５％で
ある。さらに、第１バリア層３の記録光に対する吸収率
は１〜３０％の範囲にあることが好ましく、より好まし
くは２〜２０％、さらに好ましくは３〜１０％である。
これらの光学特性の調整は、後述するように、第１バリ
ア層を形成する材料種と層厚を変えることにより行う。
また、第１バリア層３を設けずに第１光吸収層２上に保
護層や中間層を形成すると、第１光吸収層２から保護層
や中間層に色素が溶出して第１光吸収層２に固有の着色
が消失してしまい透明になってしまう。従って、第１バ
リア層３には、第１バリア層３を設けることで第１光吸
収層２の着色が保持できる程度の光吸収層成分溶出阻止
能が必要である。目安としては、光吸収層上に設けたバ
リア層の上に、紫外線硬化樹脂のように塗布時には液状
であり塗布後は固体化する樹脂を塗布し、塗布から固体
化するまでの間（通常は約１分）に、光吸収層の着色が
消失しない場合には、バリア層の光吸収層成分溶出阻止
能が良好であるということができる。

【００１６】また、第２バリア層５は、以下の３つの役
割を担う。（１）第２光吸収層６に対する反射膜としての役割（２）第１バリア層３を通過してきた記録光を透過さ
せ、少なくとも、第２光吸収層６が到達した記録光によ
り高温になり、ピットを形成し、変形、変質が起こる程
度に、第２光吸収層６に到達させる光透過膜としての役
割（３）第２光吸収層６に含まれる色素の溶出を防止する
不透過膜としての役割

【００１７】従って、第２バリア層の記録光に対する反
射率は１０〜９０％の範囲にあることが好ましく、より
好ましくは２０〜８０％、さらに好ましくは３０〜７０
％である。また、第１バリア層の記録光に対する透過率
は５〜８０％の範囲にあることが好ましく、より好まし
くは１０〜７０％、さらに好ましくは３０〜７０％であ
る。さらに、第１バリア層の記録光に対する吸収率は１
〜３０％の範囲にあることが好ましく、より好ましくは
２〜２０％、さらに好ましくは３〜３０％である。これ
らの光学特性の調整は、後述するように、バリア層を形
成する材料種と層厚により行う。また、第２バリア層５
についても、第１バリア層３と同様に、第２光吸収層６
の着色が保持できる程度の光吸収層成分溶出阻止能が必
要である。

【００１８】以下、製造工程に従って、各層の構成を説
明する。基板１は、従来の光情報記録媒体の基板として
用いられている各種の材料から任意に選択することがで
きる。基板材料としては、例えば、ガラス；ポリカーボ
ネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよ
びポリエステル等を挙げることができ、所望によりそれ
らを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状
としてまたは剛性のある基板として使うことができる。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格など
の点からポリカーボネートが好ましい。基板は、その直
径が１２０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍｍ、ある
いはその直径が８０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍ
ｍのものが一般に用いられる。

【００１９】基板（または下塗層）上には、トラッキン
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレ
グルーブ）が形成されていることが好ましい。このプレ
グルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成
形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されるこ
とが好ましい。

【００２０】図２はプレグルーブの形状を表す概略断面
図である。Ｄは溝深さであり、溝形成前の基板表面から
溝の最も深い箇所までの距離である。Ｗは溝幅であり、
Ｄ／２の深さでの溝の幅である。溝傾斜部幅は、溝形成
前の基板表面からＤ／１０の深さでの溝幅Ｗ１と溝の最
も深い箇所からＤ／１０の高さでの溝幅Ｗ２との差であ
る。

【００２１】プレグルーブの溝幅は４５０ｎｍ以下であ
り、４００ｎｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以下がより
好ましい。溝幅が４５０ｎｍを超えると、ピットの不均
一な広がりを防止することができない。また、溝幅の下
限は５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好
ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましい。溝傾斜部幅
は１８０ｎｍ以下であり、１６０ｎｍ以下が好ましく、
１５０ｎｍ以下がより好ましい。溝傾斜部幅が１８０ｎ
ｍを超えると、溝の傾斜がなだらかになりピットの不均
一な広がりを防止することができない。また、溝傾斜部
幅の下限は２０ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がよ
り好ましく、５０ｎｍ以上がさらに好ましい。

【００２２】溝深さは３００ｎｍ以下であることが好ま
しく、２５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下
がさらに好ましい。溝深さが３００ｎｍより深いと反射
率が低下する。また、溝深さの下限は５０ｎｍ以上が好
ましく、７０ｎｍ以上がより好ましく、８０ｎｍ以上が
さらに好ましい。溝深さが５０ｎｍより浅いと、ピット
の不均一な広がりを防止することができない。トラック
ピッチは１２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０
００ｎｍ以下がより好ましく、９００ｎｍ以下がさらに
好ましい。また、トラックピッチの下限は１００ｎｍ以
上が好ましく、２００ｎｍ以上がより好ましく、３００
ｎｍ以上がさらに好ましい。

【００２３】また、プレグルーブの形成を、プレグルー
ブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層
の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステ
ル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なく
とも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始
剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の
形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパ）
上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からな
る混合液を塗布し、更にこの塗布液層上に基板を載せた
のち、基板または母型を介して紫外線を照射するにより
塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次い
で、基板を母型から剥離することにより得ることができ
る。プレグルーブ層の層厚は一般に、０．０５〜１００
μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲
である。

【００２４】第１光吸収層２が設けられる側の基板１の
表面には、平面性の改善および接着力の向上および光吸
収層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよ
い。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリ
レート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン
・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ
−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；お
よびシランカップリング剤などの表面改質剤をあげるこ
とができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピ
ンコート、ディップコート、エクストルージョンコート
などの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより
形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００
５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０
μｍの範囲である。

【００２５】基板１上（又は下塗層）のプレグルーブが
形成されているその表面上には、有機色素を含有する第
１光吸収層２が設けられる。有機色素としては、シアニ
ン系色素、アゾ系色素、フタロシアニン系色素、オキソ
ノール系色素、ピロメテン系色素が挙げられ、シアニン
系色素、アゾ系色素、オキソノール系色素が好ましく、
シアニン系色素、オキソノール系色素が特に好ましい。

【００２６】第１光吸収層２の形成は、例えば、有機色
素の他、所望により退色防止剤及び結合剤などを溶剤に
溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板のプ
レグルーブが形成されているその表面に塗布して塗膜を
形成したのち乾燥することにより行うことができる。

【００２７】第１光吸収層２は、第２光吸収層６への記
録光または再生光の到達を可能とするために、その吸収
率が２〜３０％であることが好ましく、５〜２０％がよ
り好ましく、７〜１５％が特に好ましい。

【００２８】光吸収層形成用の塗布液の溶剤としては、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメ
チルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの
炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサンなどのエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンア
ルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフ
ロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができ
る。この中でも、色素に対する溶解性、塗布液の乾燥性
の面から、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、シ
クロヘキサン、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール、２，２，３，３−テトラ
フロロプロパノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルが好ましく、２，
２，３，３−テトラフロロプロパノールが特に好まし
い。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独ま
たは二種以上を適宜併用することができる。

【００２９】上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮
して単独または二種以上を組み合わせて用いることがで
きる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑
剤、及び潤滑剤などの各種の添加剤を目的に応じて添加
してもよい。

【００３０】退色防止剤の代表的な例としては、テトラ
シアノキノジメタン誘導体（ＴＣＮＱ誘導体）、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、及びアミニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの例は、例え
ば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３
号、あるいは同４−１４６１８９号等の各公報に記載さ
れている。退色防止剤を使用する場合には、その使用量
は、色素の量に対して、通常０．１〜５０重量％の範囲
であり、好ましくは、０．５〜４５重量％の範囲、更に
好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に５〜２５重量
％の範囲である。

【００３１】結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン
等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸
メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素
化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム
誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化
性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げること
ができる。中でも特に好ましいのはポリウレタンであ
る。結合剤を使用することにより、記録層の経時安定性
を向上させることも可能である。また、記録層の保存安
定性を向上させることもできる。光吸収層の材料として
結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、色素１０
０重量部に対して０．２〜２０重量部、好ましくは、
０．５〜１０重量部、更に好ましくは１〜７重量部であ
る。

【００３２】塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１
〜１０重量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５重量
％の範囲にある。

【００３３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。光吸収層は単層でも重層でもよい。第１
光吸収層２のその溝部での層厚は、厚過ぎるとピットが
広がり易くなるため、４０〜２３０ｎｍの範囲にあるこ
とが好ましく、６０〜２００ｎｍの範囲がより好まし
く、７０〜１８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。

【００３４】第１光吸収層２の上には、第１バリア層３
が形成され、積層体（１）が作製される。第１バリア層
３の材料としては、透明でかつ熱的に安定な物質がよ
く、例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇ
ｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属や半金
属、あるいは、ＳｉＯ₂，ＳｉＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，ＧｅＯ₂，
Ｉｎ₂Ｏ₃，Ｔａ₂Ｏ₅，ＴｅＯ₂，ＭｏＯ₃，ＷＯ₃，Ｚｒ
Ｏ₂，Ｓｉ₃Ｎ₄，ＡｌＮ，ＢＮ，ＴｉＮ，ＺｎＳ，Ｃｄ
Ｓ，ＣｄＳｅ，ＺｎＳｅ，ＺｎＴｅ，ＡｇＦ，Ｐｂ
Ｆ₂，ＭｎＦ₂，ＮｉＦ₂，ＳｉＣ等の金属や半金属の酸
化物、窒化物、カルコゲン化物、フッ化物、炭化物等の
単体あるいはこれらの混合物を挙げることができる。こ
の中でも、光学定数が下記関係式（１）を満たす材料が
好ましく、下記関係式（２）を満たす材料がより好まし
い。ここで、ｋは消衰係数、ｎは屈折率を表す。ｋ＜−４ｎ＋１０関係式（１）ｋ＜−４ｎ＋７関係式（２）さらには、ｋは、０．０００１以上が好ましく、０．１
以上がより好ましい。ｎは、０．００１以上が好まし
く、０．０１以上がより好ましい。具体的な材料でいえ
ば、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの単体金属もしくはそ
れらを主体とする合金が特に好ましい。

【００３５】第１バリア層３の層厚は、材料に応じ、第
１バリア層３の透過率、反射率、吸収率等の光学特性が
前記範囲となるように調整する。たとえは、６５０ｎｍ
の波長では、Ｃｕは３０ｎｍ以下の層厚にするのが好ま
しく、Ａｇは３０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましく、
Ａｕは４０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましく、Ａｌは
２０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましい。なお、第１バ
リア層３の層厚の下限は、バリア性能の点でほぼ６ｎｍ
である。

【００３６】一方、対向基板７は、前記基板１と同様の
材料を用いて作製することができ、その直径は基板と同
径とされ、厚みが０．１〜２．０ｍｍ、好ましくは０．
２〜１．３ｍｍ、さらに好ましくは０．３〜０．７ｍｍ
の範囲にあることが好ましい。対向基板７と基板１の材
質や厚さが同じであると熱による経年変形が小さくて好
ましい。また、対向基板７上には、基板１と同様に、ト
ラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹
凸（プレグルーブ）が形成されていることが好ましい。

【００３７】媒体の内側に相当する対向基板７の基板側
の表面上には、有機色素を含有する第２光吸収層６が設
けられる。第２光吸収層６は、吸収率が４〜３５％が好
ましく、７〜２５％がより好ましく、９〜２０％が特に
好ましい。一般に、第２光吸収層６の方が入射する記録
光の量が少なくなるため、第２光吸収層６の吸収率を、
前記範囲において、第１光吸収層２の吸収率より高く設
定することが好ましい。

【００３８】第２光吸収層６は、第１光吸収層２と同様
の材料を用いて、第１光吸収層と同様の方法で形成され
る。

【００３９】第２光吸収層６の上には、第２バリア層５
が形成され、積層体（２）が作製される。第２バリア層
５の材料は、透明でかつ熱的に安定な物質がよいという
点で、第１バリア層３と共通し、第１バリア層３の材料
として用いられる、金属や半金属金属、あるいは、これ
ら金属や半金属の酸化物、窒化物、カルコゲン化物、フ
ッ化物、炭化物等の単体あるいはこれらの混合物が使用
される。第２バリア層５の材料としては、光学定数が下
記関係式（３）を満たす材料が好ましく、下記関係式
（４）を満たす材料がより好ましい。ｋ＜−５ｎ＋１５関係式（３）ｋ＜−５ｎ＋１０関係式（４）さらには、ｋは、０．０００１以上が好ましく、０．１
以上がより好ましい。ｎは、０．００１以上が好まし
く、０．０１以上がより好ましい。

【００４０】第２バリア層５の層厚は、材料に応じ、第
２バリア層５の透過率、反射率、吸収率等の光学特性が
前記範囲となるように調整する。たとえは、６５０ｎｍ
の波長では、Ｃｕは４０ｎｍ以下の層厚にするのが好ま
しく、Ａｇは３０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましく、
Ａｕは４０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましい。なお、
第２バリア層５の層厚の下限は、バリア性能の点でほぼ
６ｎｍである。

【００４１】以上の工程により、基板１上に第１光吸収
層２及び第１バリア層３を設けた前記積層体（１）と、
対向基板７上に第２光吸収層６及び第２バリア層５を設
けた前記積層体（２）とを作製することができる。そし
て得られた二枚の積層体を各々のバリア層が内側となる
ように中間層４を介して貼り合わせることにより、二つ
の光吸収層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造
することができる。

【００４２】中間層４の材料としては、紫外線硬化性樹
脂や合成接着剤が用いられる。合成接着剤としては、カ
チオン硬化型エポキシ樹脂のような遅効型接着剤や紫外
線硬化型アクリレート樹脂のようなスピン硬化型接着剤
を挙げることができ、スピン硬化型接着剤がより好まし
い。この中間層４に保護層の機能を兼用させることもで
きる。上記紫外線硬化性樹脂や合成接着剤は、塗布時に
は液状であり、塗布後に固体化して中間層４を形成す
る。第１光吸収層と第２光吸収層の２つの光吸収層に独
立して情報を記録再生するためには、第１光吸収層と第
２光吸収層とを一定間隔離間する必要があり、中間層４
の厚さは、１０μｍ以上とすることが好ましく、より好
ましくは２０μｍ以上、さらに好ましくは３０μｍ以上
である。一方、反りを防止し光学収差の補正を可能とす
るため、中間層４の厚さは、２００μｍ以下とすること
が好ましく、より好ましくは１００μｍ以下、さらに好
ましくは６０μｍ以下である。また、二枚の積層体の貼
り合わせは、その他に両面テープなどを用いて行っても
よい。いずれの方法で二枚の積層体の貼り合わせる場合
も、バリア層と中間層４との界面に気泡等の空隙ができ
ないようにすることが好ましい。

【００４３】上記第１バリア層３と中間層４との間、ま
たは、第２バリア層５と中間層４との間には、光吸収層
などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設
けることが好ましい。保護層に用いられる材料の例とし
ては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄
等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化
性樹脂等の有機物質を挙げることができる。

【００４４】保護層は、例えば、プラスチックの押出加
工で得られたフィルムを接着剤を介してバリア層上にラ
ミネートすることにより形成することができる。あるい
は真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設け
られてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場
合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
たのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても
形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、溶
剤を使用することなくそのままもしくは適当な溶剤に溶
解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ
光を照射して硬化させることによっても形成することが
できる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化
防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加
してもよい。保護層の硬度は、ピットの保護層方向への
不均一な広がりを防止するため、鉛筆の引掻き硬度でＦ
以上であることが好ましく、Ｈ以上がより好ましい。保
護層の層厚は２．５〜２３μｍの範囲にあることが好ま
しく、より好ましくは３．５〜２０μｍ、さらに好まし
くは４．０〜１５μｍである。

【００４５】前記保護層と中間層４との間には、保存性
や接着性を向上させるために、さらにバッファー層を設
けてもよい。バッファー層に用いられる材料としては、
例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ
₄などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ
硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。このバ
ッファー層は、真空成膜やスピンコート等を利用して形
成することができる。

【００４６】本発明の第１の実施形態に係る光情報記録
媒体は、以上のような構成とすることにより、光吸収層
に含まれる色素の中間層への溶出を防止して、光吸収層
の劣化を防止することができ、ディスクの片面側から異
なる光吸収層について良好な記録または再生を行うこと
ができる。すなわち、基板１を通して第１光吸収層及び
第２光吸収層の各々に対して、それぞれ独立して読み書
きをすることができる。

【００４７】図３は、本発明の第２の実施形態に係る光
情報記録媒体の構成を表す断面図である。図３におい
て、１は基板、２は第１光吸収層、３は第１バリア層、
４は中間層、５は第２バリア層、６は第２光吸収層、８
は反射層、７は対向基板である。

【００４８】本発明の第２の実施形態に係る光情報記録
媒体は、第１光吸収層２と第２光吸収層６という２つの
光吸収層を設けた点、該光吸収層と中間層４との間に第
１バリア層３と第２バリア層５とを設けた点に加え、第
２光吸収層６と対向基板７との間に反射層８を設けた点
に特徴がある。

【００４９】この光情報記録媒体では、基板１側からの
記録光は、その一部が第１光吸収層２で吸収され、第１
光吸収層２の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇し、物理的あるいは化学的な変化が生じてその光学
特性を変えることにより、第１光吸収層２に情報が記録
される一方、その残りの光が第１光吸収層２を透過す
る。次に、第１光吸収層２を透過した光は、その一部が
第１バリア層３により反射され、その残りの光が第１バ
リア層３を透過する。そして、第１バリア層３を透過し
た光は、その殆どが第２バリア層５を透過して、その一
部を第２光吸収層６が吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的な変化が生じてその光学特性を変え
ることにより、第２光吸収層６に情報が記録される。

【００５０】第２の実施形態に係る光情報記録媒体で
は、ディスクの片面側から第１光吸収層２と第２光吸収
層６の両方について記録または再生を行うために、第１
バリア層３が担う役割は、第１の実施形態と同様であ
り、第１バリア層３は第１の実施形態と同様に形成する
ことができる。しかし、別途、反射層８を設けたことか
ら、第２の実施形態に係る光情報記録媒体では、第２バ
リア層５が担う役割は以下の２つに変更される。（１）第１バリア層３を通過してきた記録光を透過さ
せ、第２光吸収層６に到達させる光透過膜としての役割（２）第２光吸収層６に含まれる色素の溶出を防止する
不透過膜としての役割

【００５１】従って、その上に反射層８を設ける場合、
第２バリア層５の記録光に対する透過率は高いことが好
ましく、具体的には、３０〜９５％の範囲にあることが
好ましく、より好ましくは４０〜９０％、さらに好まし
くは５０〜８５％である。また、記録光に対する反射率
は３〜７０％の範囲にあることが好ましく、より好まし
くは７〜６０％、さらに好ましくは１０〜５０％であ
る。さらに、第２バリア層５の記録光に対する吸収率は
１〜３０％の範囲にあることが好ましく、より好ましく
は２〜２０％、さらに好ましくは３〜１０％である。

【００５２】第２光吸収層６の上に反射層８を設ける場
合、第２バリア層５の材料としては、透明でかつ熱的に
安定な物質がよく、例えば金属や半金属の酸化物、窒化
物、カルコゲン化物、フッ化物、炭化物等およびこれら
の混合物であり、具体的にはＳｉＯ₂，ＳｉＯ，Ａｌ₂Ｏ
₃，ＧｅＯ₂，Ｉｎ₂Ｏ₃，Ｔａ₂Ｏ₅，ＴｅＯ₂，ＭｏＯ₃，
ＷＯ₃，ＺｒＯ₂，Ｓｉ₃Ｎ₄，ＡｌＮ，ＢＮ，ＴｉＮ，Ｚ
ｎＳ，ＣｄＳ，ＣｄＳｅ，ＺｎＳｅ，ＺｎＴｅ，Ａｇ
Ｆ，ＰｂＦ₂，ＭｎＦ₂，ＮｉＦ₂，ＳｉＣ等の単体ある
いはこれらの混合物等である。また、光学定数が下記関
係式（５）を満たす材料が好ましく、下記関係式（６）
を満たす材料がより好ましい。ｋ＜−５ｎ＋１５関係式（５）ｋ＜−５ｎ＋６関係式（６）さらには、ｋは、０．０００１以上が好ましく、０．１
以上がより好ましい。ｎは、０．００１以上が好まし
く、０．０１以上がより好ましい。

【００５３】第２バリア層５の層厚は、材料に応じ、第
２バリア層５の透過率、反射率、吸収率等の光学特性
が、反射層８を設ける場合に好適とされる上記の範囲と
なるように調整する。たとえは、６５０ｎｍの波長で
は、Ｃｕは４０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましく、Ａ
ｇは３０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましく、Ａｕは４
０ｎｍ以下の層厚にするのが好ましい。なお、第２バリ
ア層５の層厚の下限は、バリア性能の点でほぼ６ｎｍで
ある。

【００５４】第２光吸収層６の上に反射層８を設ける場
合、第２光吸収層６の記録光に対する吸収率は、５〜６
０％が好ましく、１０〜５０％がより好ましく、１５〜
４０％が特に好ましい。第２光吸収層６は、記録光に対
する吸収率を上記の範囲とする以外は、第１光吸収層２
と同様の材料を用いて、第１光吸収層２と同様の方法で
形成することができる。

【００５５】反射層８は、反射率が５０％以上あること
が好ましく、より好ましくは６０％以上、さらに好まし
くは７０％以上である。反射層８の材料は、光反射性物
質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例
としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうち
で好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。これらの物質は単
独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、ま
たは合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａ
ｇあるいはこれらと、Ｐｔ、Ｃｕ、及びＡｌから選ばれ
る少なくとも一種の金属を含む合金である。

【００５６】反射層８は、例えば、上記光反射性物質を
真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティング
することにより対向基板７上に形成することができる。
反射層８の層厚は、一般的には１０〜３５０ｎｍの範囲
にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲、更に好ま
しくは４０〜２５０ｎｍの範囲である。本発明において
は、保存性を向上させる目的、あるいは、外観を変える
目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよく、２
種以上材料を多層に積層してもよい。

【００５７】反射層８と対向基板７との間には、反射率
の向上等、光学特性を調整するために調整層を設けても
よい。調整層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄などの無機
物質を挙げることができる。また、この調整層は、蒸
着、スパッタリング等の真空成膜により形成することが
できる。

【００５８】本発明の第２の実施形態に係る光情報記録
媒体は、以上のような構成とすることにより、光吸収層
に含まれる色素の中間層への溶出を防止して、光吸収層
の劣化を防止することができ、ディスクの片面側から異
なる光吸収層について良好な記録または再生を行うこと
ができる。すなわち、基板１を通して第１光吸収層及び
第２光吸収層の各々に対して、それぞれ独立して読み書
きをすることができる。また、反射層を設けたことによ
り、第２光吸収層からの反射率が高まり、第２光吸収層
からの再生信号品位が向上する。また、水や酸素が透過
しにくくなって、保存性が向上するとともに、対向基板
側からの光の透過を防止し耐候性も向上する。

【００５９】いずれの態様のＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録
媒体においても、その全体の厚みは、１．２±０．２ｍ
ｍとなるように調製することが好ましい。

【００６０】また、いずれの態様のＤＶＤ−Ｒ型の光情
報記録媒体においても、記録再生のための光が入射する
側とは反対側の記録媒体の表面に、印刷可能な層を設け
ることができる。即ち、媒体に記録されている内容を表
示するためにインクジェットプリンターなどで印刷する
のに適した層を保護層などの上に形成する。インクジェ
ット方式の印刷ではインクは通常親水性であるので、上
記印刷可能層はその表面が親水性であることが望まし
い。例えば、紫外線硬化樹脂中にタンパク質粒子などの
ような親水性粒子を均一に分散した層が印刷可能層とし
て形成される。印刷可能層上に印刷された背景が金属反
射層や色素記録層からの透過光の影響で着色されてしま
う場合がある。そのような着色を防止するために印刷可
能層中に背景色を決めるための顔料を含有させたり、さ
らに、印刷可能層の下にさらに着色遮蔽層を形成して印
刷画像の審美性を高めることもできる。また、印刷可能
層中には、帯電防止剤、防黴剤、着色剤などの各種の添
加剤をその目的に応じて含有させることもできる。

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。

【００６１】［実施例１］射出成形により表面にスパイ
ラルプレグルーブを形成したポリカーボネート基板（厚
さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、
帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を
作製した。プレグルーブの溝深さ、溝幅、溝ピッチ、溝
傾斜部の幅は、以下の通りである。溝深さ、溝幅、溝ピ
ッチ、溝傾斜部の幅の測定は原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
で行った。溝深さ：１５０ｎｍ溝幅：３３０ｎｍ溝ピッチ：８００ｎｍ溝傾斜部の幅：１２０ｎｍ（片側６０ｎｍ）

【００６２】下記シアニン色素１ｇを、２，２，３，３
−テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに溶解
し、この光吸収層形成用塗布液を、得られた基板のプレ
グルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変
化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して第
１光吸収層を形成した。第１光吸収層の厚さは、光吸収
層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して
計測したところプレグルーブ内では８０ｎｍ、ランド部
では５０ｎｍであった。第１光吸収層の透過率は７５
％、吸収率は１２％であった。

【００６３】

【化１】

【００６４】次いで、ＤＣスパッタリングにより、第１
光吸収層上に厚さ約１５ｎｍのＡｕからなる第１バリア
層を形成した。このとき、チャンバー内の圧力は０．５
Ｐａであった。第１バリア層の透過率は５７％、吸収率
は８％、反射率は３５％であった。なお、バリア層の光
学特性は、別途基板上に光吸収層を介さずに、バリア層
を同一条件下で直接形成し、基板側から光を入射させて
測定したものである。

【００６５】更に、第１バリア層上に、ＵＶ硬化性樹脂
（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業
（株）製）を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍま
で変化させながらスピンコートにより塗布した。塗布
後、その上から高圧水銀灯により紫外線を照射して、硬
化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。表面硬度は鉛
筆の引っかき硬度で２Ｈであった。

【００６６】このようにして基板上に、光吸収層、バリ
ア層、及び保護層が順に設けられた積層体（１）を得
た。

【００６７】一方、ポリカーボネート製の対向基板（厚
さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、
帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）上
に、前記シアニン色素１ｇを、２，２，３，３−テトラ
フルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに溶解し、この
光吸収層形成用塗布液を、得られた基板のプレグルーブ
面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変化させな
がらスピンコート法により塗布し、乾燥して第２光吸収
層を形成した。第２光吸収層の厚さは、光吸収層の断面
をＳＥＭにより観察して計測したところプレグルーブ内
では９０ｎｍ、ランド部では６０ｎｍであった。第２光
吸収層の透過率は７８％、吸収率は１３％であった。

【００６８】次いで、ＤＣスパッタリングにより、第２
光吸収層上に厚さ約２０ｎｍのＡｕからなる第２バリア
層を形成した。このとき、チャンバー内の圧力は０．５
Ｐａであった。第２バリア層の透過率は４１％、吸収率
は９％、反射率は５０％であった。

【００６９】更に、第２バリア層上に、ＵＶ硬化性樹脂
（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業
（株）製）を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍま
で変化させながらスピンコートにより塗布した。塗布
後、その上から高圧水銀灯により紫外線を照射して、硬
化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。表面硬度は鉛
筆の引っかき硬度で２Ｈであった。

【００７０】このようにして基板上に、光吸収層、バリ
ア層、及び保護層が順に設けられた積層体（２−１）を
得た。

【００７１】上記で得た積層体（１）と積層体（２−
１）とを、保護層側が内側となるように重ね合わせ、中
間層の厚さが４０μｍとなるように、チバ・ガイギー社
製の紫外線硬化型アクリレート接着剤「ＸＮＲ５５２
２」を用いて貼り合わせ、本発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の
光ディスクを製造した。

【００７２】［実施例２］積層体（２−１）に代えて、
下記の条件で、基板上に、反射層、第２光吸収層、第２
バリア層、及び保護層が順に設けられた積層体（２−
２）を作製した。

【００７３】ポリカーボネート製の対向基板（厚さ：
０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、帝人
（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）上に、
ＤＣスパッタリングにより、厚さ約１００ｎｍのＡｕか
らなる反射層を形成した。このとき、チャンバー内の圧
力は０．５Ｐａであった。

【００７４】次に、前記シアニン色素１ｇを、２，２，
３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌ
に溶解し、この光吸収層形成用塗布液を、得られた基板
のプレグルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍ
まで変化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥
して第２光吸収層を形成した。第２光吸収層の厚さは、
光吸収層の断面をＳＥＭにより観察して計測したところ
プレグルーブ内では９０ｎｍ、ランド部では６０ｎｍで
あった。第２光吸収層の透過率は７８％、吸収率は１３
％であった。

【００７５】次いで、ＤＣスパッタリングにより、反射
層上に厚さ約２５ｎｍのＡｕからなる第２バリア層を形
成した。このとき、チャンバー内の圧力は０．５Ｐａで
あった。第２バリア層の透過率は３２％、吸収率は１０
％、反射率は５８％であった。

【００７６】更に、第２バリア層上に、ＵＶ硬化性樹脂
（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業
（株）製）を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍま
で変化させながらスピンコートにより塗布した。塗布
後、その上から高圧水銀灯により紫外線を照射して、硬
化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。表面硬度は鉛
筆の引っかき硬度で２Ｈであった。

【００７７】実施例１で作製した積層体（１）と上記積
層体（２−２）とを、保護層側が内側となるように重ね
合わせ、中間層の厚さが４０μｍとなるように、チバ・
ガイギー社製の紫外線硬化型アクリレート接着剤「ＸＮ
Ｒ５５２２」を用いて貼り合わせ、本発明に従うＤＶＤ
−Ｒ型の光ディスクを製造した。

【００７８】［光ディスクとしての評価］波長６３５ｎ
ｍ、ＮＡ０．６のピックアップが搭載された光記録再生
評価機（ＤＤＵ１０００、パルステック（株）社製）に
て、記録再生特性を評価した。結果を表１に示す。３．
９ｍ／ｓｅｃの定線速度でそれぞれの層にフォーカスを
合わせ、レーザーパワーを４〜１０ｍＷおきに０．５ｍ
Ｗ刻みで変化させて記録を行った。記録信号は１ＭＨｚ
の矩形波を入力した。記録済みの媒体から記録信号を再
生したその振幅から変調度を計算した。変調度は再生信
号の振幅をハイレベル（未記録部分の反射率）で除した
値である。

【００７９】表１第１吸収層変調度第２吸収層変調度実施例１４５３５実施例２４５４０

【００８０】［比較例］実施例１において、バリア層を
形成しないで第１の光吸収層の上に中間層を形成しよう
としたが、塗布した時点で接着剤塗布層中に色素が溶出
してしまい光吸収層が透明になってしまった。

【００８１】

【発明の効果】本発明によれば、２層の光吸収層を有
し、高容量の記録が可能な片側読み取り方式の追記型光
情報記録媒体が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体の層構成を示す概略
断面図である。

【図２】プレグルーブの形状を表す概略断面図であ
る。

【図３】本発明の光情報記録媒体の他の層構成を示す
概略断面図である。

【符号の説明】

Ｄ溝深さＷ溝幅１基板２第１光吸収層３第１バリア層４中間層５第２バリア層６第２光吸収層７対向基板８反射層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、該基板と対向する対向基板との
間に、有機色素を含有しレーザ光の照射により情報の記録が可
能な第１光吸収層と、光透過性の中間層と、該中間層に
より第１光吸収層から離間された第２光吸収層と、がこ
の順に積層され、該中間層から該第１光吸収層への物質透過を阻止すると
同時に該第１光吸収層を透過したレーザ光の一部を反射
する光透過性の第１バリア層が、該中間層と該第１光吸
収層との間に挿入され、該中間層から該第２光吸収層への物質透過を阻止すると
同時に該第１光吸収層を透過したレーザ光を反射する光
透過性の第２バリア層が該中間層と該第２光吸収層との
間に挿入され、前記第１光吸収層に近接する基板側からのレーザ光の照
射により情報を記録及び再生する光情報記録媒体。
【請求項２】前記第１バリア層は、記録光に対する透
過率が３０〜９５％の範囲にあることを特徴とする請求
項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】前記第２バリア層は、記録光に対する反
射率が１０〜９０％の範囲にあることを特徴とする請求
項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】基板と、該基板と対向する対向基板との
間に、有機色素を含有しレーザ光の照射により情報の記録が可
能な第１光吸収層と、光透過性の中間層と、該中間層に
より第１光吸収層から離間された第２光吸収層と、がこ
の順に積層され、該中間層から該第１光吸収層への物質透過を阻止すると
同時に該第１光吸収層を透過したレーザ光の一部を反射
する光透過性の第１バリア層が、該中間層と該第１光吸
収層との間に挿入され、該中間層から該第２光吸収層への物質透過を阻止する光
透過性の第２バリア層が該中間層と該第２光吸収層との
間に挿入され、前記第２光吸収層の基板側とは反対側の面に隣接して反
射層が設けられ、前記第１光吸収層に近接する基板側からのレーザ光の照
射により情報を記録及び再生する光情報記録媒体。
【請求項５】前記第２バリア層は、記録光に対する透
過率が３０〜９５％の範囲にあることを特徴とする請求
項４に記載の光情報記録媒体。