JP2000305279A

JP2000305279A - リソグラフィ装置および電子機器

Info

Publication number: JP2000305279A
Application number: JP11110348A
Authority: JP
Inventors: Shingen Kinoshita; 真言木下
Original assignee: Ricoh Microelectronics Co Ltd
Current assignee: Ricoh Microelectronics Co Ltd
Priority date: 1999-04-19
Filing date: 1999-04-19
Publication date: 2000-11-02

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度実装及び電子機器の小型化に対応し
て、ワークとして例えば筺体の底面などの水平面に回路
パターンを形成することに加えて、水平面以外の面、た
とえば側面などの鉛直面や曲率部を有する曲面等に、回
路パターンを形成することが可能なリソグラフィ装置を
提供する。また、筺体の壁面に直接回路パターンを形成
して、この回路パターンにチップコンデンサなどのチッ
プ部品等を実装することによって、プリント基板をなく
し、さらに、高密度実装化、放熱性の向上、組立のコス
トダウンが可能な電子機器を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置１は、投影装置１０に
よって作成した回路パターン像を被写体たる筺体２の内
壁面に照射結像させるものである。筺体２の側面等への
照射を可能とするために、投影装置１０自体を揺動させ
ることができるように、３軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ軸）の投影揺
動装置２０を備えている。また、筺体２を揺動させるた
めに、２軸（Ｘ、Ｙ軸）のワーク揺動装置３０を備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィ装置
及び電子機器に関し、詳しくは、レジスト層に光像を照
射して回路パターンを形成するリソグラフィ装置及び筺
体壁面に回路パターンを形成した電子機器に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に、リソグラフィ装置としては、Ｌ
ＳＩの高集積化、高機能化の進行に伴って、ウエハ表面
の水平面上にミクロン単位で微細な集積回路パターンを
描画するものや、プリント基板上に回路パターンを描画
するものが知られている。また、電子機器としては、筺
体内部にプリント基板を有し、該プリント基板に各種の
電子部品を実装させたものが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
リソグラフィ装置は、レジスト層が形成された、基板表
面あるいはウエハ上の平面に回路パターンを描画するこ
とのみを目的として構成されているので、平面以外の
面、たとえば曲率部を有する曲面等に回路パターンを描
画することは不可能であった。また、電子機器において
は、例えば携帯電話の普及などに伴って電子機器を小型
化する要請が強いが、部品自体の小型化や高密度実装化
による手法では、電子機器の小型化には限界があった。

【０００４】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その第１の目的とするところは、高密度実装及
び電子機器の小型化に対応して、ワークとして例えば筺
体の底面などの水平面に回路パターンを形成することに
加えて、水平面以外の面、たとえば側面などの鉛直面や
曲率部を有する曲面等に、回路パターンを形成すること
が可能なリソグラフィ装置を提供することである。ま
た、第２の目的とするところは、筺体の壁面に直接回路
パターンを形成して、この回路パターンにチップコンデ
ンサなどのチップ部品等を実装することによって、プリ
ント基板をなくし、さらに、高密度実装化、放熱性の向
上、および、組立のコストダウンが可能な電子機器を提
供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために請求項１の発明は、レジスト層に光像を照射し
て回路パターンを形成するリソグラフィ装置であって、
ワークの平面、または、曲率部を有する曲面に形成され
たレジスト層に光像を照射して、回路パターンを形成す
ることが可能な投影手段を有することを特徴とするもの
である。

【０００６】請求項２の発明は、請求項１のリソグラフ
ィ装置において、上記投影手段は、複数のマイクロミラ
ーを備えたデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）
によって、上記光像を照射することを特徴とするもので
ある。

【０００７】請求項３の発明は、請求項１のリソグラフ
ィ装置において、上記投影手段は、液晶によって、上記
光像を照射することを特徴とするものである。

【０００８】請求項４の発明は、請求項１のリソグラフ
ィ装置において、上記投影手段は、上記レジスト層に対
して上記光像を斜めに照射して回路パターンを形成する
煽り投影手段を備えていることを特徴とするものであ
る。

【０００９】請求項５の発明は、請求項１のリソグラフ
ィ装置において、上記投影手段は、レーザ光をガルバノ
ミラーによって走査させることによって、上記光像を照
射することを特徴とするものである。

【００１０】請求項６の発明は、請求項５のリソグラフ
ィ装置において、上記投影手段は、オーバーハングした
筺体内壁面にパターンを形成するためのオーバーハング
照射手段を有することを特徴とするものである。

【００１１】請求項７の発明は、請求項１、２、３、
４、５、または、６のリソグラフィ装置において、上記
投影手段を揺動、または、回動させるための駆動手段を
有することを特徴とするものである。

【００１２】請求項８の発明は、請求項７のリソグラフ
ィ装置において、上記駆動手段は、Ｘ軸、Ｙ軸、また
は、Ｚ軸のすくなくとも３軸を備え、該Ｘ軸、Ｙ軸、ま
たは、Ｚ軸の少なくとも一以上の軸を中心として、上記
投影手段を揺動、または、回動させることを特徴とする
ものである。

【００１３】請求項９の発明は、請求項１、２、３、
４、５、６、７、または、８のリソグラフィ装置におい
て、上記ワークを上記投影手段に対して移動させるため
のワーク移動手段を有することを特徴とするものであ
る。

【００１４】請求項１０の発明は、請求項９のリソグラ
フィ装置において、上記ワーク移動手段は、Ｘ軸、Ｙ
軸、または、Ｚ軸の少なくとも３軸を備え、該Ｘ軸、Ｙ
軸、または、Ｚ軸の少なくとも一以上の軸を中心として
上記ワークを揺動、または、回動させることを特徴とす
るものである。

【００１５】請求項１１の発明は、請求項９のリソグラ
フィ装置において、上記ワーク移動手段は、上記ワーク
をＸ軸方向、Ｙ軸方向への直線運動、または、Ｚ軸を中
心とする揺動運動の少なくとも一以上の運動をさせるこ
とを特徴とするものである。

【００１６】上記第２の目的を達成するために請求項１
２の発明は、筺体を有する電子機器であって、上記筺体
の壁面に電子部品を実装するための回路パターンを形成
したことを特徴とするものである。

【００１７】請求項１３の発明は、請求項１２の電子機
器において、上記筺体が外装として用いられることを特
徴とするものである。

【００１８】

【発明の実施の形態】〔実施形態１〕以下、本発明に係
るリソグラフィ装置の一例について説明する。図１は本
実施形態に係るリソグラフィ装置１の概略構成を示した
斜視図である。また、図２は投影装置１０によって、ワ
ークとして例えば筺体２に回路パターン像を照射すると
きの概略構成説明図である。本発明に係るリソグラフィ
装置１は、投影装置１０によって作成した回路パターン
像を被写体たる筺体２の内壁面に照射結像させるもので
ある。筺体２の側面等への照射を可能とするために、投
影装置１０自体を揺動させることができるように、３軸
（Ｘ、Ｙ、Ｚ軸）の投影揺動装置２０を備えている。ま
た、筺体２を揺動させるために、２軸（Ｘ、Ｙ軸）のワ
ーク揺動装置３０を備えている。

【００１９】投影装置１０について図２により説明す
る。投影装置１０は、たとえばデジタルマイクロミラー
デバイス（以下単に、「ＤＭＤ」という。）１１を用い
ることができる。ＤＭＤ１１とは、空間光変調器の一種
であり、固定軸回りに回転するマイクロミラーと呼ばれ
る多数の小型ミラーが、Ｓｉ等の半導体基板上に形成さ
れたデバイスである。光源１２としては、通常のランプ
のほか発光ダイオードやレーザなども用いることができ
る。そして光源１２からの光をコリメータレンズ１３で
ほぼ平行ビームにした後、ＤＭＤ１１のミラー面に照射
する。

【００２０】光源１２からの光は、ＤＭＤ１１によっ
て、入射光と９０度ずれて反射し、マイクロレンズ１５
を通して、筺体２の内壁面に光像を形成する。ＤＭＤ１
１のミラー面に照射された光は、制御装置１４により静
電界作用などによって回転制御された各マイクロミラー
によって偏向されるため、各マイクロミラーを選択的に
回転させて反射面の傾きを変化させることにより、各マ
イクロミラーからの反射光で筺体２が選択的に照射さ
れ、筺体２の内壁面に光像を形成することができる。

【００２１】投影揺動装置２０について図１により説明
する。投影揺動装置２０は、Ｘ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸
の少なくとも一以上の軸を中心として投影装置１０を揺
動させる装置である。投影装置１０は、Ｘ軸サーボモー
タ用ブラケット２１によって支持され、Ｘ軸サーボモー
タ２２によってＸ軸回りに所定の範囲内で揺動制御され
る。また、Ｘ軸サーボモータ用ブラケット２１はＹ軸サ
ーボモータ用ブラケット２３によって支持され、Ｙ軸サ
ーボモータ２４によってＹ軸回りに所定の範囲内で揺動
制御される。さらに、投影装置１０をＺ軸回りに揺動さ
せるために、Ｙ軸サーボモータ用ブラケット２３がＺ軸
サーボモータ２５によって、支持アーム２６に揺動可能
に支持されている。ここで、支持アーム２６はリソグラ
フィ装置１全体を支持するものであり、図示しない架台
に固定されている。なお、投影揺動装置としては、揺動
運動のみではなく、各軸を中心として回動させてもよ
い。さらに、投影揺動装置は上記３軸のものに限らず、
例えば１６軸の多軸多関節ロボットや、蛇腹状に構成さ
れた自由多関節型ロボットなどを用いることもできる。

【００２２】ワーク揺動装置３０は、Ｘ軸、または、Ｙ
軸の少なくとも一以上の軸を中心として筺体２を揺動さ
せるための装置である。筺体２を保持すべく、ワークホ
ルダ３１がＸ軸サーボモータブラケット３２によって所
定の範囲内で揺動可能に保持されている。このワークホ
ルダ３１をＸ軸回りに揺動させるためにＸ軸サーボモー
タ３３が配設されている。また、筺体２をＹ軸回りに所
定の範囲内で揺動させるためにＹ軸サーボモータ用ブラ
ケット３４とＹ軸サーボモータ３５とが配設されてい
る。そして、ワーク揺動装置３０は、図示しない架台に
固定されている。なお、ワーク揺動装置としては、上記
２軸に限らず、Ｚ軸を加えて３軸としてもよく、揺動運
動のみではなく各軸を中心として回動させてもよい。ま
たさらに、例えば１６軸の多軸多関節ロボットや、蛇腹
状に構成された自由多関節型ロボットなどを用いること
もできる。

【００２３】ここで、筺体２について説明する。筺体２
は、例えば携帯電話機に用いられる筺体であって、内壁
面にレジスト層２ｓ（図２参照）が形成され、筺体外装
がそのまま携帯電話器の外装を構成することができるも
のである。筺体外装をそのまま携帯電話機の外装とする
ことで、筺体の小型化、高密度実装化、放熱性の向上に
寄与することができる。なお、筺体２としては、筺体外
装がそのまま電子機器の外装を構成することができるも
のに限られず、筺体２の外側にさらに別個の外装カバー
等を設ける構成としてもよい。

【００２４】筺体２は、例えば射出成型機によってＡＢ
Ｓ樹脂等の樹脂材料を金型に射出することによって形成
する。その後、バリ等を除去して電子部品実装面にレジ
スト層２ｓを形成する。しかし、樹脂材料によって形成
した場合には表面が平滑なため、そのままではレジスト
層２ｓを形成することが困難である。そこで、電子部品
実装面を、サンドブラスト、あるいは、高周波プラズマ
などの表面処理を行うことによって、筺体２とレジスト
層２ｓとの密着性を向上させる。

【００２５】また、筺体２の材質としては、上記樹脂材
料に限らず、鉄やアルミニウムなどの金属材料を用いる
こともできる。金属材料を用いることによって、樹脂材
料の場合に比べて、放熱性と筺体強度とを大幅に向上さ
せることができる。さらに、筺体自体をアースとして使
用したり、アンテナとして使用したり、あるいは、シー
ルドとして使用したりすることもできる。そして、電子
部品実装面をサンドブラスト、あるいは、バレル研磨な
どの表面処理を行って密着性を向上させた後に、レジス
ト層２ｓを形成する。なお、これらの表面処理は、外装
面に塗装する場合の塗膜密着性向上に利用することもで
きる。

【００２６】次に、本発明に係るリソグラフィ装置１に
よって、筺体２の内壁面に回路パターンを形成する動作
について、図１と図２とにより説明する。内壁面にレジ
スト層２ｓを形成した筺体２を、ワークホルダ３１に固
定する。そして、投影揺動装置２０のＸ軸サーボモータ
２２及びＹ軸サーボモータ２４を投影装置１０の回路パ
ターン像と同期させて図示しないメインコントローラで
制御する。また、必要に応じてＺ軸サーボモータ２５を
作動させて投影装置１０をＺ軸廻りに揺動させることも
できる。

【００２７】回路パターンの形成方法は、回路パターン
像をスクロールさせて筺体２の内壁面全体を照射するス
キャンニング方式と、所定の単位面積ごとに回路パター
ンを照射して順次一部分重ね合わせて次のパターンを照
射するステップアンドリピート方式とがある。本発明に
係る投影装置１０は、これらの回路パターン形成方式か
ら、被写体たる筺体２の形状や大きさ、あるいは、回路
パターンの種類等によって適宜選択して実行することが
できるようになっている。

【００２８】光を照射する場合において、筺体２のセン
ター以外の部分に回路パターンを形成するときに、筺体
２を固定したままで動かさないと、回路パターン形成面
に対して光が斜めに照射される。この場合には、事前に
データ処理しておくことによって処理速度を落とすこと
なく露光することもできるが、できるだけ回路パターン
形成面に対して光を垂直に照射させて、補正を行わない
ことが望ましい。

【００２９】そこで、本発明に係るリソグラフィ装置１
においては、ワーク揺動装置３０を駆動制御することに
よって、筺体２の底面２ｔに照射される光を垂直に照射
させることができるようになっている。また、Ｘ軸方向
に対して左側の側面２ａ等に照射するときも、垂直に近
い角度で照射することができるので、最小限の補正によ
って光を照射することができる。

【００３０】図３（ａ）に、筺体２の底面２ｔに回路パ
ターンを形成する場合の説明図を示す。筺体２の底面２
ｔに回路パターンを形成する場合には、ワーク揺動装置
３０を制御して、光を底面２ｔに対して垂直に照射でき
るように制御して、補正を行わずに、正確な回路パター
ンを形成することが可能となっている。

【００３１】また、図３（ｂ）に、筺体２の底面２ｔと
Ｘ軸方向に対して左側の側面２ａとの間の曲率部を有す
る曲面２ｒに回路パターンを形成する場合の説明図を示
す。筺体２の曲面２ｒに光を照射する場合には、この曲
面２ｒに対して、光を垂直に投影できるように、投影揺
動装置２０とワーク揺動装置３０とを正確に同期させな
がら投影装置１０によって回路パターンを形成する。

【００３２】以上に説明したリソグラフィ装置１の構成
及び動作によって、筺体２の底面２ｔのみならず、曲面
２ｒ、Ｘ軸方向に対して左側の側面２ａ、右側の側面２
ｂ、Ｙ軸方向に対して手前側の側面２ｃ、または、奥側
の側面２ｄに回路パターンを形成することが可能となっ
た。

【００３３】上記投影揺動装置２０、及びワーク揺動装
置３０においては駆動源としてサーボモータを用いた構
成について説明したが、ステッピングモータとロータリ
ーエンコーダを組み合わせた構成とすることもできる。

【００３４】また、上記ワーク揺動装置３０は、Ｘ軸回
りとＹ軸回りとの揺動を行える構成となっているが、こ
れに加えてＺ軸回りに揺動する機構を備えた揺動装置と
することもできる。Ｚ軸回りの揺動を行うことによっ
て、さらに迅速な回路パターンの形成が可能となる。さ
らに、筺体２をＸ軸、及び、Ｙ軸方向に直線移動させ、
かつ、Ｚ軸回りに回転移動させ、回路パターンを形成す
ることも可能である。たとえばＸ−Ｙ−θテーブルを用
いることによって、Ｘ軸とＹ軸方向との直線移動によっ
て筺体２を水平方向に移動させ、筺体２の底面２ｔに対
しては常に光を垂直に照射することができる。筺体２の
側面２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、または、曲面２ｒに対し
て光を照射するときには、照射する光を補正することに
よって、回路パターンを形成することが可能である。

【００３５】〔変形例１〕上記実施形態１の投影装置１
０においては、ＤＭＤ１１を用いて筺体２に回路パター
ン像を形成したが、液晶を用いた構成とすることもでき
る。図４は、本変形例に係る投影装置４０の概略構成説
明図である。光源４２から発せられた光は、コリメータ
レンズ４３によって、ほぼ平行ビームとなった後、液晶
４１に照射される。そして、液晶４１においては、回路
パターンに応じて光を通過させるべく、図示しない制御
装置で液晶４１の各画素を制御する。液晶４１を通過し
た光は、マイクロレンズ４４を通して、筺体２に回路パ
ターンを形成する。このようにして、液晶４１を用いた
投影装置４０によって、回路パターンを筺体２の内壁面
へ投影することができる。

【００３６】〔変形例２〕上記実施形態１や変形例１に
おいては、筺体の回路パターン形成面に対して、できる
だけ光を垂直に照射させて、投影光の補正を最小限に抑
えて回路パターンを形成する構成について説明したが、
投影光の補正を行うことなく斜めに投影光を照射するこ
ともできる。図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は本変形例に
係る煽り投影装置５０の概略構成図である。また、図６
は煽り投影装置５０によって筺体側面にパターン像を投
影するときの図である。

【００３７】煽り投影装置５０は、図１に示すリソグラ
フィ装置１の投影装置１０にかえて配設することが可能
で、照明装置５１と、集光レンズ５２と、マスク５３
と、対物レンズ５４と、図示しない機枠とから主に構成
されている。対物レンズ５４は光軸５４ａが垂直になる
ように図示しない機枠に保持されており、前後に動いて
焦点を合わせるためのフォーカス機構を有している。ま
た、図示しない機枠内には、照明装置５１と、集光レン
ズ５２と、マスク５３とを揺動させるための図示しない
揺動装置が備えられている。この揺動装置によって、照
明装置５１と集光レンズ５２とは対物レンズ５４を中心
として左右に約４５度揺動し、マスク５３は照明装置５
１と集光レンズ５２との揺動運動に同期して、左右に平
行に移動するようになっている。このように煽り投影装
置５０は、投影面に対して投影装置を後ろへ傾ける状態
（光学分野においていわゆる煽る状態）が可能なように
構成されている。なお、対物レンズ５４は筺体２の回路
パターン形成面と平行になるように上記リソグラフィ装
置１で位置決めする。

【００３８】煽り投影装置５０は、照明装置５１から発
せられた平行光束を集光レンズ５２に入射させ、集光レ
ンズ５２において集光された照射光をマスク５３上のパ
ターン面に入射させて得られるパターン像を、対物レン
ズ５４を介して筺体２上のレジスト層に結像させて、線
幅描画を行うものである。そして、対物レンズ５４に対
して右側にパターン像を投影するときには、図５（ａ）
に示すように、照明装置５１と集光レンズ５２とマスク
５３とを左側に揺動させて筺体２の回路パターン形成面
に対して左側から斜めに投影する。逆に対物レンズ５４
に対して左側にパターン像を投影するときには、図５
（ｃ）に示すように、照明装置５１と集光レンズ５２と
マスク５３とを右側に揺動させて筺体２の回路パターン
形成面に対して右側から斜めに投影する。

【００３９】なお、筺体２の側面にパターン像を投影す
るときには、図６に示すように、筺体２を固定した状態
で、例えば図５（ａ）の状態にある煽り投影装置５０
を、上記リソグラフィ装置１のＸ軸を中心として９０度
揺動させて対物レンズ５４を筺体２の側面２ｃに対して
平行に位置決めする。この状態でパターン像を投影する
ことによって、投影光を補正することなく、回路パター
ンを筺体２の側面２ｃに対して上方から斜めに投影する
ことができる。

【００４０】〔実施形態２〕上記実施形態１において
は、ＤＭＤ１１を用いて回路パターンを形成する構成に
ついて説明し、上記変形例１においては、液晶４１を用
いて回路パターンを形成する構成について説明したが、
光源としてレーザ光を用い、このレーザ光をガルバノミ
ラーで制御して回路パターンを形成することもできる。

【００４１】図７は、本実施形態に係るリソグラフィ装
置１００の概略構成図である。本リソグラフィ装置１０
０は、レーザ光学系１１０とワーク移動装置１２０とか
ら構成されている。

【００４２】レーザ光学系１１０は、レーザ発振器１１
１から発せられたレーザ光ＬＢを、Ｚ軸回りに揺動する
Ｚ軸ガルバノミラー１１２と、Ｙ軸回りに揺動するＹ軸
ガルバノミラー１１３とによって走査し、筺体２の内壁
面に照射して、回路パターンを形成するものである。Ｚ
軸ガルバノミラー１１２とＹ軸ガルバノミラー１１３と
は、それぞれ図示しないモータとコントローラ１１４と
によって制御され、筺体２の内壁面に回路パターンを形
成するようになっている。

【００４３】ここで、レーザ光ＬＢをピンポイントで照
射して回路パターンを形成する方法としては、筺体１１
０の内壁面全体を平行にスキャンニングしながらオンと
オフとを繰り返してパターン形成する方法と、描画パタ
ーン通りにスキャンニングしてパターン形成する方法と
がある。なお、いずれのパターン形成方法によっても焦
点合わせをする必要がないという利点を有している。

【００４４】ワーク移動装置１２０は、ワークとして例
えば筺体２を、Ｘ軸方向に直線移動させ、かつ、Ｚ軸回
りに回転移動させる装置である。ベース１２１にＬＭガ
イド（ＴＨＫ株式会社登録商標）のガイドレール１２２
が配設され、ガイドレール１２２にＬＭブロック１２３
が直動運動可能に配設されている。このＬＭブロック１
２３には直動プレート１２４がネジ止めされている。ま
た直動プレート１２４は、ボールネジナット１２５が取
付けられており、ボールネジ１２６をステッピングモー
タ１２７で回動制御することによって、直動プレート１
２４を直線運動させることが可能となっている。そし
て、直動プレート１２４の移動量を測定すべく、レーザ
変位形１２８が配設されており、測定値を図示しないメ
インコントローラに送信するようになっている。

【００４５】直動プレート１２４には、ターンテーブル
１２９を回動させるための回動駆動機構１３０が配設さ
れている。この回動駆動機構１３０としては、たとえば
９０度の往復運動が可能なエアーシリンダやモータなど
を用いることができる。そして、ターンテーブル１２９
を正確に位置決めするために、ターンテーブル位置決め
機構１３１として、たとえばソレノイドが配設されてい
る。また、ターンテーブル１２９を水平に保持するため
にカムフォロア１３２が配設されている。ターンテーブ
ル１２９には、ワークホルダ１３３が配設されており、
ワークたる筺体２を、たとえばバキュームによって保持
する。

【００４６】次に、本発明に係るリソグラフィ装置１０
０によって、筺体２の内壁面に回路パターンを形成する
動作について説明する。内壁面にレジスト層を形成した
筺体２をワークホルダ１３３にセットする。そして、レ
ーザ発振器１１１を作動させ、Ｚ軸ガルバノミラー１１
２とＹ軸ガルバノミラー１１３とを制御して、筺体２の
内壁面に回路パターンを形成する。回路パターン形成面
に対して、レーザ光ＬＢが斜めに照射される場合には、
コントローラ１１４等によって照射される光の補正を行
う。そして、Ｙ軸方向に対して手前側の図示しない側
面、及び、奥側の側面２ｄにレーザ光ＬＢを照射する場
合には、ターンテーブル１２９を９０度回転して、レー
ザ光ＬＢを照射する。なお、筺体２が大きい場合には、
直動プレート１２４を直線移動させて、筺体２の回路パ
ターン形成部をレーザ光ＬＢの照射可能な位置まで移動
させることによって、回路パターンを形成することがで
きる。

【００４７】以上のようなリソグラフィ装置１００の構
成および動作によって、筺体２の内壁面にレーザ光ＬＢ
を照射して、回路パターンを形成することが可能となっ
た。

【００４８】本実施形態に係るレーザ光学系１１０は、
図示しない架台に固定されて動かない構成となっている
が、レーザ光学系１１０に上記実施形態１で説明した投
影揺動装置を配設し、３軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ軸）を中心とし
て揺動させる構成とすることによって、回路パターンを
形成することもできる。

【００４９】また、ワーク移動装置１２０は、ワークを
Ｘ軸方向に直線移動させ、かつ、Ｚ軸回りに回転移動さ
せる構成となっているが、これに加えて、Ｙ軸方向に直
線移動させることもできる。たとえば、Ｘ−Ｙ−θテー
ブルを用いて、ワークをＸ軸及びＹ軸方向に直線移動さ
せ、かつ、Ｚ軸回りに回転移動させることができる。こ
のＸ−Ｙ−θテーブルを用いることによって、大きさや
形状等が異なる種々のワークに対して、回路パターンを
形成することが可能となる。さらに、３軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ
軸）を中心として揺動させるワーク揺動装置を用いて、
回路パターンを形成することも可能である。

【００５０】〔変形例３〕上記実施形態２におけるレー
ザ光学系１１０を用いてオーバーハングした筺体の内壁
面にもパターンを形成することができる。図８は本変形
例に係るオーバーハング照射手段の説明図である。この
オーバーハング照射手段は、オーバーハング部２０１を
有する筺体２００のオーバーハング面２０１ｕ、また
は、オーバーハング部２０１によって照射することがで
きない面にレーザ光ＬＢを照射するためのものである。
オーバーハング照射手段は、３６０度回動可能なアーム
１５０の先端部にミラー１５１が揺動可能に配設された
構成となっている。そして、ミラー１５１を筺体２００
の内部に挿入し、レーザ光ＬＢと同期させてアーム１５
０とミラー１５１とを図示しないモータによって動かす
ことにより、オーバーハング面２０１ｕに所定の回路パ
ターンを形成することが可能になっている。

【００５１】〔実施形態３〕上記実施形態２および変形
例３においては、レジスト層が形成された筺体２の内壁
面にレーザ光ＬＢを照射して回路パターンを形成する構
成について説明したが、テフロンの層が形成された筺体
にパターンを形成することも可能である。テフロンは誘
電率が低いために、特に高周波回路を形成するのに適し
ている。

【００５２】テフロンの表面はそのままの状態ではメッ
キが付きにくいため、回路パターンを形成することは困
難である。そこで、通常はテフロンの表面を薬品で処理
したり、プラズマ処理あるいはグロー放電処理を施すこ
とによって、表面を活性化させてメッキを付きやすくし
ている。しかしこれらの表面処理を行うには設備が必要
であり、しかも工程が複雑でコストアップになる虞があ
った。

【００５３】そこで本発明によれば、上述したようなテ
フロン表面の表面処理を必要とせず、簡単な方法でテフ
ロンの表面にメッキをして回路パターンを形成すること
ができる。具体的には、テフロン層が形成された筺体
に、たとえばＹＡＧレーザやエキシマレーザを照射する
ことによりレーザ照射された部分が活性化する。そし
て、この筺体を無電界メッキ液につけてメッキする。す
るとレーザ照射された部分にのみメッキが付いて回路パ
ターンを形成することができる。この理由としては、レ
ーザ照射された部分のテフロン表面のフッ素がなくなっ
て官能基が表面に現れるためであると考えられる。

【００５４】

【発明の効果】請求項１乃至１１の発明によれば、上記
リソグラフィ装置は、上記ワークの平面、または、曲率
部を有する曲面に形成されたレジスト層に光像を照射す
るための投影手段を有しているので、該ワークの平面、
または、曲面にも回路パターンを形成することが可能に
なるという優れた効果がある。

【００５５】特に、請求項２の発明においては、上記デ
ジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）によって、上
記ワークの平面、または、曲率部を有する曲面に形成さ
れたレジスト層に上記光像を照射するので、正確かつ迅
速に回路パターンを形成することができるという優れた
効果がある。

【００５６】特に、請求項３の発明によれば、上記液晶
によって、上記ワークの平面、または、曲率部を有する
曲面に形成されたレジスト層に上記光像を照射するの
で、正確かつ迅速に回路パターンを形成することができ
るという優れた効果がある。

【００５７】特に、請求項４の発明によれば、上記煽り
投影手段によって、上記パターン形成面に対して上記光
像の補正を行うことなく斜めに照射することができるの
で、上記筺体の側面に正確かつ迅速に回路パターンを形
成することができるという優れた効果がある。

【００５８】特に、請求項５の発明によれば、上記レー
ザ光をガルバノミラーにより走査させることによって、
上記ワークの平面、または、曲率部を有する曲面に形成
されたレジスト層に上記光像を照射するので、焦点合わ
せが不要で、しかも、正確かつ迅速に回路パターンを形
成することができるという優れた効果がある。

【００５９】特に、請求項６の発明によれば、上記投影
手段は、上記オーバーハング照射手段を有しているの
で、オーバーハングした筺体内壁面に容易に回路パター
ンを形成することができるという優れた効果がある。

【００６０】特に、請求項７の発明によれば、上記投影
手段を揺動または回動させるための駆動手段によって、
該投影手段を揺動または回転させるので、上記光像の照
射範囲を大幅に拡大することが可能になるという優れた
効果がある。

【００６１】特に、請求項８の発明によれば、Ｘ軸、Ｙ
軸、または、Ｚ軸の少なくとも一以上の軸を中心として
上記投影手段を揺動または回動させて、上記光像の照射
範囲を拡大することによって、大きさや形状が異なる様
々なワークに対応して、正確かつ迅速に回路パターンを
形成することができるという優れた効果がある。

【００６２】特に、請求項９の発明によれば、上記ワー
ク移動手段によって、上記投影手段に対して上記ワーク
を移動させることによって、該ワークの平面、または、
曲率部を有する曲面に形成されたレジスト層に、正確か
つ迅速に回路パターンを形成することが可能になるとい
う優れた効果がある。

【００６３】特に、請求項１０の発明によれば、上記ワ
ークをＸ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸の少なくとも一以上の
軸を中心として揺動または回動させることによって、上
記投影手段からの光像を、該ワークのレジスト層に対し
て垂直もしくは垂直に近い角度で結像させることができ
る。このことによって、該光像の補正をせず、または、
最小限の補正によって該光像を照射することができると
いう優れた効果がある。

【００６４】特に、請求項１１の発明によれば、上記ワ
ークをＸ軸方向、Ｙ軸方向に直線移動、または、Ｚ軸を
中心として揺動運動の少なくとも一以上の運動をさせる
ことによって、該ワークの平面、または、曲率部を有す
る曲面に形成されたレジスト層に、正確かつ迅速に回路
パターンを形成することができるという優れた効果があ
る。

【００６５】また、請求項１２、および、１３の発明に
よれば、筺体の内壁面に回路パターンを形成して、この
回路パターンに直接電子部品を実装できるので、通常電
子部品を実装する際に使用するプリント基板が必要なく
なり、該電子機器の小型化、高密度実装化が可能になる
という優れた効果がある。

【００６６】特に、請求項１３の発明によれば、上記筺
体の外装をそのまま電子機器の外装とすることができる
ので、放熱性の向上、および、組立のコストダウンが可
能になるという優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態に係るリソグラフィ装置の概略構成を
示す斜視図。

【図２】投影装置によって筺体内壁面を照射するときの
説明図。

【図３】（ａ）は、投影装置と筺体とを揺動させて、筺
体の底面を照射する場合の説明図。（ｂ）は、投影装置
と筺体とを揺動させて、筺体の曲面を照射する場合の説
明図。

【図４】変形例に係る投影装置の説明図。

【図５】（ａ）〜（ｃ）は、他の変形例に係る煽り投影
装置で回路パターンを投影するときの説明図。

【図６】煽り投影装置で筺体側面に回路パターンを投影
するときの説明図。

【図７】他の実施形態に係るリソグラフィ装置の概略構
成を示す説明図。

【図８】さらに他の変形例に係るオーバーハング照射手
段の概略構成図。

【符号の説明】

１リソグラフィ装置２筺体２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ筺体側面２ｒ曲率部を有する曲面２ｓレジスト層１０投影装置１１ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）２０投影揺動装置３０ワーク揺動装置４０投影装置４１液晶５０煽り投影装置１００リソグラフィ装置１１０レーザ光学系１１２Ｚ軸ガルバノミラー１１３Ｙ軸ガルバノミラー１２０ワーク移動装置１５１オーバーハング照射手段のミラーＬＢレーザ光

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レジスト層に光像を照射して回路パターン
を形成するリソグラフィ装置であって、ワークの平面、
または、曲率部を有する曲面に形成されたレジスト層に
光像を照射して、回路パターンを形成することが可能な
投影手段を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】請求項１のリソグラフィ装置において、上
記投影手段は、複数のマイクロミラーを備えたデジタル
マイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）によって、上記光像
を照射することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項３】請求項１のリソグラフィ装置において、上
記投影手段は、液晶によって、上記光像を照射すること
を特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項４】請求項１のリソグラフィ装置において、上
記投影手段は、上記レジスト層に対して上記光像を斜め
に照射して回路パターンを形成する煽り投影手段を備え
ていることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項５】請求項１のリソグラフィ装置において、上
記投影手段は、レーザ光をガルバノミラーによって走査
させることによって、上記光像を照射することを特徴と
するリソグラフィ装置。
【請求項６】請求項５のリソグラフィ装置において、上
記投影手段は、オーバーハングした筺体内壁面にパター
ンを形成するためのオーバーハング照射手段を有するこ
とを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項７】請求項１、２、３、４、５、または、６の
リソグラフィ装置において、上記投影手段を揺動、また
は、回動させるための駆動手段を有することを特徴とす
るリソグラフィ装置。
【請求項８】請求項７のリソグラフィ装置において、上
記駆動手段は、Ｘ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸のすくなくと
も３軸を備え、該Ｘ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸の少なくと
も一以上の軸を中心として、上記投影手段を揺動、また
は、回動させることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項９】請求項１、２、３、４、５、６、７、また
は、８のリソグラフィ装置において、上記ワークを上記
投影手段に対して移動させるためのワーク移動手段を有
することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１０】請求項９のリソグラフィ装置において、
上記ワーク移動手段は、Ｘ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸の少
なくとも３軸を備え、該Ｘ軸、Ｙ軸、または、Ｚ軸の少
なくとも一以上の軸を中心として上記ワークを揺動、ま
たは、回動させることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】請求項９のリソグラフィ装置において、
上記ワーク移動手段は、上記ワークをＸ軸方向、Ｙ軸方
向への直線運動、または、Ｚ軸を中心とする揺動運動の
少なくとも一以上の運動をさせることを特徴とするリソ
グラフィ装置。
【請求項１２】筺体を有する電子機器であって、上記筺
体の壁面に電子部品を実装するための回路パターンを形
成したことを特徴とする電子機器。
【請求項１３】請求項１２の電子機器において、上記筺
体が外装として用いられることを特徴とする電子機器。