JP2000303094A - 飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物 - Google Patents
飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、精密機械部品や電子部品等
の洗浄剤等として有用である飽和炭化水素と酢酸アルコ
キシアルキルエステルとを含有してなる組成物を提供す
ることにある。 【解決手段】 本発明は、炭素数７〜１１の飽和炭化水
素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる
組成物および該組成物を含有してなる洗浄剤を提供す
る。
の洗浄剤等として有用である飽和炭化水素と酢酸アルコ
キシアルキルエステルとを含有してなる組成物を提供す
ることにある。 【解決手段】 本発明は、炭素数７〜１１の飽和炭化水
素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる
組成物および該組成物を含有してなる洗浄剤を提供す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、精密機械部品や
電子部品等の洗浄剤等として有用である飽和炭化水素と
酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成
物に関する。
電子部品等の洗浄剤等として有用である飽和炭化水素と
酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密機械部品や電子部品等の洗浄
には１,１,２−トリクロロ−１,２,２−トリフルオロエ
タン、１,１,１−トリクロロエタン等のクロロフルオロ
エタン系化合物が洗浄剤として用いられてきた。前記の
洗浄剤は、不燃性で低毒性、プラスチック等の高分子化
合物に対して影響が少なく、油脂類との相溶性が高い等
の長所を有している。
には１,１,２−トリクロロ−１,２,２−トリフルオロエ
タン、１,１,１−トリクロロエタン等のクロロフルオロ
エタン系化合物が洗浄剤として用いられてきた。前記の
洗浄剤は、不燃性で低毒性、プラスチック等の高分子化
合物に対して影響が少なく、油脂類との相溶性が高い等
の長所を有している。
【０００３】しかしながら、近年、クロロフルオロエタ
ン系化合物は、成層圏内でオゾン層の分解を引き起こす
ことがわかり、これらの化合物の使用、生産は全面的に
禁止された。そこで、クロロフルオロエタン系化合物の
代替洗浄剤となる溶剤が求められている。
ン系化合物は、成層圏内でオゾン層の分解を引き起こす
ことがわかり、これらの化合物の使用、生産は全面的に
禁止された。そこで、クロロフルオロエタン系化合物の
代替洗浄剤となる溶剤が求められている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、精密
機械部品や電子部品等の洗浄剤等として有用である飽和
炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有し
てなる組成物および該組成物を含有してなる洗浄剤を提
供することにある。
機械部品や電子部品等の洗浄剤等として有用である飽和
炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有し
てなる組成物および該組成物を含有してなる洗浄剤を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、炭素数７〜１
１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルと
を含有してなる組成物を提供する。また、本発明は、前
記の組成物を含有してなる洗浄剤を提供する。
１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルと
を含有してなる組成物を提供する。また、本発明は、前
記の組成物を含有してなる洗浄剤を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の組成物の構成成分の炭素
数７〜１１の飽和炭化水素としては、例えば、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカンがあげられ
るが、炭素数９の飽和炭化水素、ノナンが好ましく、さ
らには、炭素数９の分岐状飽和炭化水素、例えば、２，
２，３−トリメチルヘキサン、２，２，４−トリメチル
ヘキサン、２，２，５−トリメチルヘキサン、２，３，
５−トリメチルヘキサン、２，２−ジメチルヘプタン、
２，３−ジメチルヘプタン、２，４−ジメチルヘプタ
ン、２，５−ジメチルヘプタン、２，６−ジメチルヘプ
タン、３，４−ジメチルヘプタン、３，５−ジメチルヘ
プタン、２−メチル−３−エチルヘキサン、２−メチル
オクタン、３−メチルオクタン、４−メチルオクタン等
がより好ましく使用される。
数７〜１１の飽和炭化水素としては、例えば、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカンがあげられ
るが、炭素数９の飽和炭化水素、ノナンが好ましく、さ
らには、炭素数９の分岐状飽和炭化水素、例えば、２，
２，３−トリメチルヘキサン、２，２，４−トリメチル
ヘキサン、２，２，５−トリメチルヘキサン、２，３，
５−トリメチルヘキサン、２，２−ジメチルヘプタン、
２，３−ジメチルヘプタン、２，４−ジメチルヘプタ
ン、２，５−ジメチルヘプタン、２，６−ジメチルヘプ
タン、３，４−ジメチルヘプタン、３，５−ジメチルヘ
プタン、２−メチル−３−エチルヘキサン、２−メチル
オクタン、３−メチルオクタン、４−メチルオクタン等
がより好ましく使用される。
【０００７】これらは、単独でまたは２種類以上を混合
して用いてもよい。また、これらは種々の異性体をもつ
場合があるが、本発明における炭素数７〜１１の飽和炭
化水素は、それら全て及びそれらの混合物をも包含す
る。前記の飽和炭化水素は、市販品として購入すること
が可能である。
して用いてもよい。また、これらは種々の異性体をもつ
場合があるが、本発明における炭素数７〜１１の飽和炭
化水素は、それら全て及びそれらの混合物をも包含す
る。前記の飽和炭化水素は、市販品として購入すること
が可能である。
【０００８】また、本発明の組成物の構成成分の酢酸ア
ルコキシアルキルエステルにおいて、アルコキシのアル
キル部分は、直鎖または分岐状の炭素数１〜６のアルキ
ルを表し、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等があげられる。また、酢酸ア
ルコキシアルキルエステルにおけるアルキルは、直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜６のアルキレンを表し、例え
ば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペン
チレン、ヘキシレン等があげられる。該酢酸アルコキシ
アルキルエステルとしては、２−メトキシプロピルアセ
テートが好ましく使用される。該酢酸アルコキシアルキ
ルエステルは、単独でまたは２種類以上を混合して用い
てもよい。
ルコキシアルキルエステルにおいて、アルコキシのアル
キル部分は、直鎖または分岐状の炭素数１〜６のアルキ
ルを表し、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等があげられる。また、酢酸ア
ルコキシアルキルエステルにおけるアルキルは、直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜６のアルキレンを表し、例え
ば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペン
チレン、ヘキシレン等があげられる。該酢酸アルコキシ
アルキルエステルとしては、２−メトキシプロピルアセ
テートが好ましく使用される。該酢酸アルコキシアルキ
ルエステルは、単独でまたは２種類以上を混合して用い
てもよい。
【０００９】前記の酢酸アルコキシアルキルエステル
は、市販品として購入することが可能である。本発明に
おいて、炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキ
シアルキルエステルの組成比は、特に限定されないが、
炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキ
ルエステルの重量比が、５〜９５：９５〜５であるのが
好ましく、さらには５０〜７０：５０〜３０であるのが
好ましく、さらには５５〜７０：４５〜３０であるのが
より好ましい。
は、市販品として購入することが可能である。本発明に
おいて、炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキ
シアルキルエステルの組成比は、特に限定されないが、
炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキ
ルエステルの重量比が、５〜９５：９５〜５であるのが
好ましく、さらには５０〜７０：５０〜３０であるのが
好ましく、さらには５５〜７０：４５〜３０であるのが
より好ましい。
【００１０】本発明において、最も好ましい形態は、炭
素数９の分岐状飽和炭化水素と２−メトキシプロピルア
セテートとを含有してなる組成物であり、この組成物
は、疑似共沸（共沸様）組成を形成する。本発明の組成
物は、炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシ
アルキルエステルを攪拌等により混合することにより得
ることができるが、その混合方法については、特に限定
されない。
素数９の分岐状飽和炭化水素と２−メトキシプロピルア
セテートとを含有してなる組成物であり、この組成物
は、疑似共沸（共沸様）組成を形成する。本発明の組成
物は、炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸アルコキシ
アルキルエステルを攪拌等により混合することにより得
ることができるが、その混合方法については、特に限定
されない。
【００１１】本発明の組成物は、フラックス、グリー
ス、油、ワックスインキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出
剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属
製精密機械部品、電子部品、光学レンズ等の洗浄剤や水
切り剤等として使用することができる。
ス、油、ワックスインキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出
剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属
製精密機械部品、電子部品、光学レンズ等の洗浄剤や水
切り剤等として使用することができる。
【００１２】本発明の組成物を上記のような用途で使用
する場合には、該組成物をそのまま使用してもよいが、
目的や必要に応じて、他の溶剤を添加して使用してもよ
い。他の溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン等
の飽和炭化水素類、１，２−プロピレンオキシド、１，
２−ブチレンオキシド、エピクロロヒドリン等のエポキ
シド類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン
等のニトロアルカン類、ジメチルアミン、トリエチルア
ミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチ
ルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の
アルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン等のエーテル類、メトキシプロパノール、エトキシプ
ロパノール、メチルセロソルブ等のグリコールエーテル
類、アセトン、エチルメチルケトン、ブチルメチルケト
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル等の脂肪酸エステル類、ジクロロメタン、ジクロロエ
チレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等があ
げられ、これらは、１種または２種以上の混合物として
使用される。他の溶剤は、本発明の組成物の全量に対し
て、好ましくは０．１〜２０重量％、より好ましくは
１．０〜１０重量％となるように使用される。
する場合には、該組成物をそのまま使用してもよいが、
目的や必要に応じて、他の溶剤を添加して使用してもよ
い。他の溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン等
の飽和炭化水素類、１，２−プロピレンオキシド、１，
２−ブチレンオキシド、エピクロロヒドリン等のエポキ
シド類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン
等のニトロアルカン類、ジメチルアミン、トリエチルア
ミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチ
ルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の
アルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン等のエーテル類、メトキシプロパノール、エトキシプ
ロパノール、メチルセロソルブ等のグリコールエーテル
類、アセトン、エチルメチルケトン、ブチルメチルケト
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル等の脂肪酸エステル類、ジクロロメタン、ジクロロエ
チレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等があ
げられ、これらは、１種または２種以上の混合物として
使用される。他の溶剤は、本発明の組成物の全量に対し
て、好ましくは０．１〜２０重量％、より好ましくは
１．０〜１０重量％となるように使用される。
【００１３】本発明の組成物は、洗浄剤として使用した
場合、クロロフルオロエタン系化合物と同等の洗浄能力
を有する。本発明の組成物を洗浄剤として使用した場合
の洗浄方法としては、手拭き、浸漬、揺動、超音波洗
浄、蒸気洗浄等及びこれらを組み合せた方法があげられ
る。
場合、クロロフルオロエタン系化合物と同等の洗浄能力
を有する。本発明の組成物を洗浄剤として使用した場合
の洗浄方法としては、手拭き、浸漬、揺動、超音波洗
浄、蒸気洗浄等及びこれらを組み合せた方法があげられ
る。
【００１４】本発明の組成物の一部は、疑似共沸（沸点
の異なる２成分以上の混合液において、平衡な蒸気の組
成が必ずしも液の組成に一致しないが、一定の範囲内で
液と蒸気の組成が近似している状態）組成を有してお
り、洗浄剤等として使用後、簡易な蒸留操作を行うこと
により、容易に回収、分離、精製することが可能であ
る。
の異なる２成分以上の混合液において、平衡な蒸気の組
成が必ずしも液の組成に一致しないが、一定の範囲内で
液と蒸気の組成が近似している状態）組成を有してお
り、洗浄剤等として使用後、簡易な蒸留操作を行うこと
により、容易に回収、分離、精製することが可能であ
る。
【００１５】
【実施例】実施例１ 協和醗酵工業株式会社製キョウワゾールＣ９００ ２２
５．４ｇ及び２―メトキシプロピルアセテート ２４
０．１ｇを蒸留フラスコに仕込み、理論段数２０段の蒸
留塔を用い、大気圧下で蒸留を行った。全還流操作を1
時間行った後、還流比２５で留出させた。キョウワゾー
ルＣ９００の組成は、以下の通りである。 キョウワゾールＣ９００の組成（重量％） ２，２，３−トリメチルヘキサン １３．４ ２，２，４−トリメチルヘキサン ０．２ ２，２，５−トリメチルヘキサン ０．９ ２，３，５−トリメチルヘキサン １．９ ２−メチル−３−エチルヘキサン ４．９ ２，２−ジメチルヘプタン ２．９ ２，３−ジメチルヘプタン １６．０ ２，４−ジメチルヘプタン ０．７ ２，５−ジメチルヘプタン １７．３ ２，６−ジメチルヘプタン ３．７ ３，４−ジメチルヘプタン １８．１ ３，５−ジメチルヘプタン ９．３ ２−メチルオクタン １．３ ３−メチルオクタン １．６ ４−メチルオクタン １．７ その他 ６．１ キョウワゾールＣ９００の沸点の範囲と２−メトキシプ
ロピルアセテートの沸点を表１に示した。また、各温度
におけるフラクションの量及び組成比を表２に示した。
表２の組成比は、ガスクロマトグラフィーで分析して算
出した。
５．４ｇ及び２―メトキシプロピルアセテート ２４
０．１ｇを蒸留フラスコに仕込み、理論段数２０段の蒸
留塔を用い、大気圧下で蒸留を行った。全還流操作を1
時間行った後、還流比２５で留出させた。キョウワゾー
ルＣ９００の組成は、以下の通りである。 キョウワゾールＣ９００の組成（重量％） ２，２，３−トリメチルヘキサン １３．４ ２，２，４−トリメチルヘキサン ０．２ ２，２，５−トリメチルヘキサン ０．９ ２，３，５−トリメチルヘキサン １．９ ２−メチル−３−エチルヘキサン ４．９ ２，２−ジメチルヘプタン ２．９ ２，３−ジメチルヘプタン １６．０ ２，４−ジメチルヘプタン ０．７ ２，５−ジメチルヘプタン １７．３ ２，６−ジメチルヘプタン ３．７ ３，４−ジメチルヘプタン １８．１ ３，５−ジメチルヘプタン ９．３ ２−メチルオクタン １．３ ３−メチルオクタン １．６ ４−メチルオクタン １．７ その他 ６．１ キョウワゾールＣ９００の沸点の範囲と２−メトキシプ
ロピルアセテートの沸点を表１に示した。また、各温度
におけるフラクションの量及び組成比を表２に示した。
表２の組成比は、ガスクロマトグラフィーで分析して算
出した。
【００１６】ガスクロマトグラフィー分析条件 カラム：ＤＢ−５（ジェイアンドダブル・サイエンティ
フィック社製） カラム温度：５０℃で１５分保持後、１５℃／分で２３
０℃まで昇温
フィック社製） カラム温度：５０℃で１５分保持後、１５℃／分で２３
０℃まで昇温
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】上記の結果から、キョウワゾールＣ９００
と２−メトキシプロピルアセテートは、疑似共沸組成を
形成することがわかる。 実施例２ 黄銅製金網１００メッシュ（テストピース）にダフニー
カット油（ＤＨ２５：出光興産株式会社製）を浸漬塗布
し、２０時間放置後、表３の組成の洗浄液を用いて、超
音波洗浄（周波数２６ＫＨｚ）を３０秒行い、洗浄後、
テストピースを常温にて乾燥し、洗浄前後のテストピー
ス重量変化から洗浄率を測定した。その結果を表３に示
す。
と２−メトキシプロピルアセテートは、疑似共沸組成を
形成することがわかる。 実施例２ 黄銅製金網１００メッシュ（テストピース）にダフニー
カット油（ＤＨ２５：出光興産株式会社製）を浸漬塗布
し、２０時間放置後、表３の組成の洗浄液を用いて、超
音波洗浄（周波数２６ＫＨｚ）を３０秒行い、洗浄後、
テストピースを常温にて乾燥し、洗浄前後のテストピー
ス重量変化から洗浄率を測定した。その結果を表３に示
す。
【００２０】
【表３】
【００２１】洗浄率は、以下の式で算出した。
【００２２】
【数１】
【００２３】表３より、本発明の組成物が洗浄剤として
有用であることがわかる。
有用であることがわかる。
【００２４】
【発明の効果】本発明の組成物は、クロロフルオロエタ
ン系化合物の代替洗浄剤として有用であり、さらに、そ
の一部の組成物は疑似共沸組成を有することから、洗浄
剤等の用途として使用した後、回収、再利用がきわめて
容易である。
ン系化合物の代替洗浄剤として有用であり、さらに、そ
の一部の組成物は疑似共沸組成を有することから、洗浄
剤等の用途として使用した後、回収、再利用がきわめて
容易である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H003 DA05 DA12 DA14 DA15 DA16 DB03 EB09 ED03 ED32 FA46 FA48
Claims (7)
- 【請求項１】 炭素数７〜１１の飽和炭化水素と酢酸ア
ルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物。 - 【請求項２】 飽和炭化水素の炭素数が９である請求項
１記載の組成物。 - 【請求項３】 炭素数９の飽和炭化水素が分岐状の飽和
炭化水素である請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 酢酸アルコキシアルキルエステルが、２
−メトキシプロピルアセテートである請求項１〜３のい
ずれかに記載の組成物。 - 【請求項５】 飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキル
エステルの重量比が、５〜９５：９５〜５である請求項
１〜４のいずれかに記載の組成物。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の組成物
を含有してなる洗浄剤。 - 【請求項７】 請求項１〜５のいずれかに記載の組成物
を含有してなるガラス、セラミックス、プラスチック、
ゴム、金属製精密機械部品、電子部品または光学レンズ
の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11115959A JP2000303094A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11115959A JP2000303094A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000303094A true JP2000303094A (ja) | 2000-10-31 |
Family
ID=14675383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11115959A Withdrawn JP2000303094A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 飽和炭化水素と酢酸アルコキシアルキルエステルとを含有してなる組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000303094A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006249114A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Japan Energy Corp | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
-
1999
- 1999-04-23 JP JP11115959A patent/JP2000303094A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006249114A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Japan Energy Corp | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060704 |