JP2000351649A - 基板用ガラスおよびガラス基板 - Google Patents
基板用ガラスおよびガラス基板Info
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- JP2000351649A JP2000351649A JP11161639A JP16163999A JP2000351649A JP 2000351649 A JP2000351649 A JP 2000351649A JP 11161639 A JP11161639 A JP 11161639A JP 16163999 A JP16163999 A JP 16163999A JP 2000351649 A JP2000351649 A JP 2000351649A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候
性に優れる基板用ガラスおよびガラス基板の提供。 【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ2：４５〜５９、Ａ
ｌ2Ｏ3：２〜２０、Ｂ2Ｏ 3：０〜１未満、ＭｇＯ：０〜
１０、ＣａＯ：３〜１２、ＳｒＯ：１〜１２未満、Ｂａ
Ｏ：０〜２、Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１２、Ｔ
ｉＯ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜５、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ＜１５である基板用ガラス。
性に優れる基板用ガラスおよびガラス基板の提供。 【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ2：４５〜５９、Ａ
ｌ2Ｏ3：２〜２０、Ｂ2Ｏ 3：０〜１未満、ＭｇＯ：０〜
１０、ＣａＯ：３〜１２、ＳｒＯ：１〜１２未満、Ｂａ
Ｏ：０〜２、Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１２、Ｔ
ｉＯ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜５、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ＜１５である基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ（プラズマデ
ィスプレイパネル）、ＦＥＤ（フィールドエミッション
ディスプレイ）等のフラットディスプレイの基板、等に
用いられる基板用ガラスおよびガラス基板に関する。
ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ（プラズマデ
ィスプレイパネル）、ＦＥＤ（フィールドエミッション
ディスプレイ）等のフラットディスプレイの基板、等に
用いられる基板用ガラスおよびガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体基板、フラットディスプレ
イパネル基板、等に用いられる基板用ガラスとして、ソ
ーダライムシリカガラスが広く用いられている。
イパネル基板、等に用いられる基板用ガラスとして、ソ
ーダライムシリカガラスが広く用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ソーダライム
シリカガラスからなる基板は、いわゆる白ヤケ現象によ
りその在庫中に表面性状が著しく変化するおそれがあっ
た。特に磁気ディスク基板の場合には、前記基板上に形
成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすく
なる。
シリカガラスからなる基板は、いわゆる白ヤケ現象によ
りその在庫中に表面性状が著しく変化するおそれがあっ
た。特に磁気ディスク基板の場合には、前記基板上に形
成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすく
なる。
【０００４】ソーダライムシリカガラスは化学強化処理
によって白ヤケ現象が起りにくくなる。しかし化学強化
処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板表面
によごれが付着しやすい、等の問題がある。本発明は、
化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優
れ、白ヤケ現象が起りにくい基板用ガラスの提供を目的
とする。
によって白ヤケ現象が起りにくくなる。しかし化学強化
処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板表面
によごれが付着しやすい、等の問題がある。本発明は、
化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優
れ、白ヤケ現象が起りにくい基板用ガラスの提供を目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、重量％表示で
実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜５９、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２０、 Ｂ2Ｏ3 ０〜１未満、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ３〜１２、 ＳｒＯ １〜１２未満、 ＢａＯ ０〜２、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１２、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜５、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＜１
５である基板用ガラスを提供する。
実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜５９、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２０、 Ｂ2Ｏ3 ０〜１未満、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ３〜１２、 ＳｒＯ １〜１２未満、 ＢａＯ ０〜２、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１２、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜５、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＜１
５である基板用ガラスを提供する。
【０００６】また、前記基板用ガラスからなるガラス基
板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時
間保持した該ガラス基板表面に存在する大きさが１０μ
ｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大きさ
が１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／ｃ
ｍ2以下であるガラス基板を提供する。
板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時
間保持した該ガラス基板表面に存在する大きさが１０μ
ｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大きさ
が１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／ｃ
ｍ2以下であるガラス基板を提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の基板用ガラスの５０〜３
５０℃における平均線膨張係数は、ソーダライムシリカ
ガラスと同程度またはそれ以上、すなわち７０×１０-7
／℃以上であることが好ましい。より好ましくは７５×
１０-7／℃以上である。以下、５０〜３５０℃における
平均線膨張係数を熱膨張係数という。
５０℃における平均線膨張係数は、ソーダライムシリカ
ガラスと同程度またはそれ以上、すなわち７０×１０-7
／℃以上であることが好ましい。より好ましくは７５×
１０-7／℃以上である。以下、５０〜３５０℃における
平均線膨張係数を熱膨張係数という。
【０００８】上記の熱膨張係数が好ましい理由は、情報
記録媒体基板に対しては、基板を取り付けるハブの金属
の熱膨張係数（典型的には１００×１０-7／℃以上）に
より近い熱膨張係数、少なくとも従来使用されているソ
ーダライムシリカガラスの熱膨張係数以上、が求められ
ているからである。フラットディスプレイパネル基板に
対しては、シール等に従来使用されているガラスフリッ
ト等の従来の無機材料粉末の熱膨張係数がソーダライム
シリカガラス基板の熱膨張係数に整合しており、前記従
来の無機材料粉末の熱膨張係数と整合させやすくするた
めである。本発明の基板用ガラスはフロート成形できる
ことが好ましい。
記録媒体基板に対しては、基板を取り付けるハブの金属
の熱膨張係数（典型的には１００×１０-7／℃以上）に
より近い熱膨張係数、少なくとも従来使用されているソ
ーダライムシリカガラスの熱膨張係数以上、が求められ
ているからである。フラットディスプレイパネル基板に
対しては、シール等に従来使用されているガラスフリッ
ト等の従来の無機材料粉末の熱膨張係数がソーダライム
シリカガラス基板の熱膨張係数に整合しており、前記従
来の無機材料粉末の熱膨張係数と整合させやすくするた
めである。本発明の基板用ガラスはフロート成形できる
ことが好ましい。
【０００９】次に、本発明の基板用ガラスの組成につい
て、重量％を単に％と表示して以下で説明する。ＳｉＯ
2はガラスの骨格を形成する必須成分である。４５％未
満では、ガラスが不安定になる。好ましくは４６％以上
である。５９％超では、熱膨張係数が小さくなりすぎ
る。好ましくは５８．５％以下である。
て、重量％を単に％と表示して以下で説明する。ＳｉＯ
2はガラスの骨格を形成する必須成分である。４５％未
満では、ガラスが不安定になる。好ましくは４６％以上
である。５９％超では、熱膨張係数が小さくなりすぎ
る。好ましくは５８．５％以下である。
【００１０】Ａｌ2Ｏ3はガラスの耐候性を高くする必須
成分である。２％未満では前記効果が小さい。好ましく
は３％以上である。２０％超では溶融ガラスの粘度が高
くなりすぎ成形、特にフロート成形が困難になる。好ま
しくは１９％以下である。
成分である。２％未満では前記効果が小さい。好ましく
は３％以上である。２０％超では溶融ガラスの粘度が高
くなりすぎ成形、特にフロート成形が困難になる。好ま
しくは１９％以下である。
【００１１】Ｂ2Ｏ3は必須成分ではないが、ガラスの耐
候性を高くする効果を有し、１％未満の範囲で含有して
もよい。１％以上では溶融時の揮散が多くなりすぎ均質
なガラスが得にくくなるおそれがある。好ましくは０．
８％以下である。
候性を高くする効果を有し、１％未満の範囲で含有して
もよい。１％以上では溶融時の揮散が多くなりすぎ均質
なガラスが得にくくなるおそれがある。好ましくは０．
８％以下である。
【００１２】ＭｇＯは、必須成分ではないが、溶融ガラ
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＭｇＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＭｇＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。
【００１３】ＣａＯは、熱膨張係数を大きくし、また溶
融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする必
須成分である。３％未満では前記効果が小さい。好まし
くは４％以上である。１２％超ではガラスが不安定にな
るおそれがある。好ましくは１１％以下である。
融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする必
須成分である。３％未満では前記効果が小さい。好まし
くは４％以上である。１２％超ではガラスが不安定にな
るおそれがある。好ましくは１１％以下である。
【００１４】ＳｒＯは熱膨張係数を大きくし、また溶融
ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする成分
であり、必須である。１％未満では前記効果が小さい。
好ましくは２％以上である。１２％以上ではガラスが不
安定になる。好ましくは１１％以下である。
ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする成分
であり、必須である。１％未満では前記効果が小さい。
好ましくは２％以上である。１２％以上ではガラスが不
安定になる。好ましくは１１％以下である。
【００１５】ＢａＯは必須成分ではないが、熱膨張係数
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、２％まで含有してもよ
い。２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれがあ
る。好ましくは１．８％以下である。ＢａＯを含有する
場合、０．２％以上含有することが好ましい。
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、２％まで含有してもよ
い。２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれがあ
る。好ましくは１．８％以下である。ＢａＯを含有する
場合、０．２％以上含有することが好ましい。
【００１６】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合
量は１５％未満である。１５％以上では、ガラスが不安
定になる。好ましくは１４．８％以下である。
量は１５％未満である。１５％以上では、ガラスが不安
定になる。好ましくは１４．８％以下である。
【００１７】Ｎａ2Ｏは必須成分ではないが、熱膨張係
数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラス
を溶融しやすくする効果を有し、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれ
がある。好ましくは８％以下である。Ｎａ2Ｏを含有す
る場合、２％以上含有することが好ましい。
数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラス
を溶融しやすくする効果を有し、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれ
がある。好ましくは８％以下である。Ｎａ2Ｏを含有す
る場合、２％以上含有することが好ましい。
【００１８】Ｋ2Ｏは必須成分ではないが、熱膨張係数
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、１２％まで含有してもよ
い。１２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれが
ある。好ましくは１０％以下である。Ｋ2Ｏを含有する
場合、２％以上含有することが好ましい。
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、１２％まで含有してもよ
い。１２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれが
ある。好ましくは１０％以下である。Ｋ2Ｏを含有する
場合、２％以上含有することが好ましい。
【００１９】ＴｉＯ2は必須成分ではないが、熱膨張係
数を大きくし、またガラスの耐候性を高くする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＴｉＯ2を含有する場合、１％以上含有することが
好ましく、２％以上含有することがより好ましい。
数を大きくし、またガラスの耐候性を高くする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＴｉＯ2を含有する場合、１％以上含有することが
好ましく、２％以上含有することがより好ましい。
【００２０】ＺｒＯ2は必須成分ではないが、ガラスの
耐候性を高くする効果を有し、５％まで含有してもよ
い。５％超ではガラスが不安定になるおそれがある。好
ましくは４％以下である。ＺｒＯ2を含有する場合、１
％以上含有することが好ましい。
耐候性を高くする効果を有し、５％まで含有してもよ
い。５％超ではガラスが不安定になるおそれがある。好
ましくは４％以下である。ＺｒＯ2を含有する場合、１
％以上含有することが好ましい。
【００２１】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ
等の着色剤、を合量で１％まで含有してもよい。熱膨張
係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラ
スを溶融しやすくするためにＺｎＯ、Ｌｉ2Ｏを合量で
２％まで含有してもよい。ガラスの溶解性や安定性を向
上させるために、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ヤング率を大き
くするためにＬａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ5、等の希土類金属酸化物
を、それらの合量で２％まで含有してもよい。
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ
等の着色剤、を合量で１％まで含有してもよい。熱膨張
係数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラ
スを溶融しやすくするためにＺｎＯ、Ｌｉ2Ｏを合量で
２％まで含有してもよい。ガラスの溶解性や安定性を向
上させるために、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ヤング率を大き
くするためにＬａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ5、等の希土類金属酸化物
を、それらの合量で２％まで含有してもよい。
【００２２】本発明のガラス基板は本発明の基板用ガラ
スからなり、表面を充分洗浄して付着物が認められない
状態にした後、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０
時間保持したとき、該ガラス基板表面に存在する大きさ
が１０μｍ以上の付着物の数ＮLは１個／ｃｍ2以下であ
り、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ S
は１０5個／ｃｍ2以下である。
スからなり、表面を充分洗浄して付着物が認められない
状態にした後、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０
時間保持したとき、該ガラス基板表面に存在する大きさ
が１０μｍ以上の付着物の数ＮLは１個／ｃｍ2以下であ
り、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ S
は１０5個／ｃｍ2以下である。
【００２３】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、磁気ディスクにおいてはガラ
ス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が
はがれやすくなる。また、フラットディスプレイパネル
においてはガラス基板が曇り、また、端子取り出し部に
発生した前記付着物により絶縁破壊が起こりフラットデ
ィスプレイパネルの信頼性を低下させる。この付着物
は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に
生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除
去できないものである。ＮLは好ましくは０．５個／ｃ
ｍ2以下、より好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。
ＮSは好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、より好
ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、磁気ディスクにおいてはガラ
ス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が
はがれやすくなる。また、フラットディスプレイパネル
においてはガラス基板が曇り、また、端子取り出し部に
発生した前記付着物により絶縁破壊が起こりフラットデ
ィスプレイパネルの信頼性を低下させる。この付着物
は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に
生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除
去できないものである。ＮLは好ましくは０．５個／ｃ
ｍ2以下、より好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。
ＮSは好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、より好
ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。
【００２４】本発明の基板用ガラスおよびガラス基板の
製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。た
とえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となる
ように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バ
ブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化
し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法
などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷
後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定
の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、
特に、大量生産に適したフロート法が好適である。
製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。た
とえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となる
ように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バ
ブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化
し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法
などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷
後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定
の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、
特に、大量生産に適したフロート法が好適である。
【００２５】
【実施例】各成分の原料を表のＳｉＯ2からＺｒＯ2まで
の欄に重量％表示で示した組成となるように調合し、白
金るつぼを用いて１５５０〜１６５０℃の温度で３〜５
時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形し、徐冷した。なお、表のＲＯ計は、ＭｇＯ、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量（単位：重量％）の合
計である。
の欄に重量％表示で示した組成となるように調合し、白
金るつぼを用いて１５５０〜１６５０℃の温度で３〜５
時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形し、徐冷した。なお、表のＲＯ計は、ＭｇＯ、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量（単位：重量％）の合
計である。
【００２６】こうして得られたガラス板について、熱膨
張係数α（単位：×１０-7／℃）、前記ＮL（単位：個
／ｃｍ2）、前記ＮS（単位：１０4個／ｃｍ2）、密度ρ
（単位：ｇ／ｃｍ3）、ガラス転移点Ｔg（単位：℃）、
液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる温度Ｔ
4（単位：℃）、および粘度が１０2Ｐとなる温度Ｔ
2（単位：℃）を、以下に示す方法により測定した。結
果を表に示す。
張係数α（単位：×１０-7／℃）、前記ＮL（単位：個
／ｃｍ2）、前記ＮS（単位：１０4個／ｃｍ2）、密度ρ
（単位：ｇ／ｃｍ3）、ガラス転移点Ｔg（単位：℃）、
液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる温度Ｔ
4（単位：℃）、および粘度が１０2Ｐとなる温度Ｔ
2（単位：℃）を、以下に示す方法により測定した。結
果を表に示す。
【００２７】α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを
参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際の
ガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測
されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られ
た熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係
数を算出した。
参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際の
ガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測
されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られ
た熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係
数を算出した。
【００２８】ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントし、こ
れら個数と前記観察面積２００μｍ×２００μｍから算
出した。
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントし、こ
れら個数と前記観察面積２００μｍ×２００μｍから算
出した。
【００２９】ρ：泡を含まない約３０ｇのガラスについ
てアルキメデス法により測定した。 Ｔg：前記αの測定と同様にして得られた熱膨張曲線に
おける屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
てアルキメデス法により測定した。 Ｔg：前記αの測定と同様にして得られた熱膨張曲線に
おける屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００３０】ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス
粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、
温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出してい
るガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。フロート
成形を行うためには、ＴLはＴ4以下であることが好まし
い。 Ｔ4、Ｔ2：回転粘度計により測定した。
粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、
温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出してい
るガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。フロート
成形を行うためには、ＴLはＴ4以下であることが好まし
い。 Ｔ4、Ｔ2：回転粘度計により測定した。
【００３１】例１〜１２のガラスは実施例、例１３のガ
ラスはソーダライムシリカガラス、例１４のガラスは磁
気ディスクに従来使用されているアルミノシリケートガ
ラス、例１５のガラスはＰＤＰに従来使用されているア
ルミノシリケートガラスである。例１〜１２のガラスの
前記ＮL、ＮSの測定において観察された付着物の大きさ
は１０μｍ以下であり、平均的な大きさは３〜５μｍで
あった。これに対し、例１３、１４のガラスにおいては
１００μｍ以上の大きな付着物が多数観察された。
ラスはソーダライムシリカガラス、例１４のガラスは磁
気ディスクに従来使用されているアルミノシリケートガ
ラス、例１５のガラスはＰＤＰに従来使用されているア
ルミノシリケートガラスである。例１〜１２のガラスの
前記ＮL、ＮSの測定において観察された付着物の大きさ
は１０μｍ以下であり、平均的な大きさは３〜５μｍで
あった。これに対し、例１３、１４のガラスにおいては
１００μｍ以上の大きな付着物が多数観察された。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような特長を有
する情報記録媒体用ガラス基板、フラットディスプレイ
用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。 （２）熱膨張係数が従来使用されているソーダライムシ
リカガラスと同程度またはそれ以上である。
する情報記録媒体用ガラス基板、フラットディスプレイ
用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。 （２）熱膨張係数が従来使用されているソーダライムシ
リカガラスと同程度またはそれ以上である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 17/16 Ｇ１１Ｂ 5/704 Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB01 DA05 DA06 DB03 DB04 DC01 DC02 DD01 DE01 DF01 EA01 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE03 EE04 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN30 NN34 5C040 GA02 GA09 KA07 KB03 KB11 KB19 KB29 MA10 5D006 CB04 CB07 FA00 5D029 KA24 KC14
Claims (3)
- 【請求項１】重量％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜５９、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２０、 Ｂ2Ｏ3 ０〜１未満、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ３〜１２、 ＳｒＯ １〜１２未満、 ＢａＯ ０〜２、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０、 Ｋ2Ｏ ０〜１２、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜５、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＜１
５である基板用ガラス。 - 【請求項２】５０〜３５０℃における平均線膨張係数が
７０×１０-7／℃以上である請求項１に記載の基板用ガ
ラス。 - 【請求項３】請求項１または２に記載の基板用ガラスか
らなるガラス基板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気
雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に存在する
大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下
であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数
が１０5個／ｃｍ2以下であるガラス基板。
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