JP2000239204A - Production method of bisphenols - Google Patents
Production method of bisphenolsInfo
- Publication number
- JP2000239204A JP2000239204A JP11026494A JP2649499A JP2000239204A JP 2000239204 A JP2000239204 A JP 2000239204A JP 11026494 A JP11026494 A JP 11026494A JP 2649499 A JP2649499 A JP 2649499A JP 2000239204 A JP2000239204 A JP 2000239204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sodium
- formula
- parts
- carbon atoms
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 特定構造のビスフェノール類を、高純
度、高収率で、かつ簡便、経済的に製造する方法を提供
する。
【解決手段】炭素数6〜10の脂肪族炭化水素類および炭
素数6〜12の芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、
モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキ
ルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムおよびジアルキルスルホコハ
ク酸ナトリウムから選ばれる陰イオン系界面活性剤の存
在下に、式(II)
R1−CHO (II)
で示されるアルデヒドと、式(III)
で示されるジアルキルフェノールとを縮合反応させるこ
とを特徴とする式(I)
(式中、R1 は水素または炭素数1〜3のアルキル基
を、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアル
キル基を表す)で示されるビスフェノール類の製造法。(57) [Problem] To provide a simple and economical method for producing bisphenols having a specific structure with high purity and high yield. In a solvent selected from aliphatic hydrocarbons having 6 to 10 carbon atoms and aromatic hydrocarbons having 6 to 12 carbon atoms,
Formula (II) R 1 -CHO (II) in the presence of an anionic surfactant selected from sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate and sodium dialkylsulfosuccinate. And an aldehyde of formula (III) A condensation reaction with a dialkylphenol represented by the formula (I): (Wherein, R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms).
Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、式(I)The present invention relates to a compound of the formula (I)
【0002】 [0002]
【0003】(式中、R1 は水素または炭素数1〜3の
アルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ独立に炭
素数1〜5のアルキル基を表す)で示されるビスフェノ
ール類の製造法に関する。(Wherein R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) About the law.
【0004】[0004]
【従来の技術】上記式(I)で示されるビスフェノール
類は、天然ゴム、合成ゴム、潤滑油などの酸化防止剤と
して古くから知られ、また最近では、ブタジエン系ポリ
マーやオレフィン系ポリマーの熱劣化防止剤の中間体と
して注目されている化合物である(特公昭 63-46774 号
公報、特公平7-25946号公報、特公平7-64786号公報など
参照)。2. Description of the Related Art Bisphenols represented by the above formula (I) have long been known as antioxidants for natural rubbers, synthetic rubbers, lubricating oils, and the like. It is a compound that has attracted attention as an intermediate of an inhibitor (see JP-B-63-46774, JP-B-7-25946, JP-B-7-64786, etc.).
【0005】式(I)で示されるビスフェノール類は一
般に、式(II) R1−CHO (II) (式中、R1 は前記と同じ意味を有する)で示されるア
ルデヒドと、式(III)The bisphenols of the formula (I) generally comprise an aldehyde of the formula (II) R 1 -CHO (II), wherein R 1 has the same meaning as described above, and a phenol of the formula (III)
【0006】 (式中、R2 およびR3 は前記と同じ意味を有する)で
示されるジアルキルフェノールとの縮合反応によって製
造されている(例えば特公昭 33-1877号公報、特公昭 4
2-2350号公報、特公昭 52-39029号公報および特公昭60-
23097号公報参照)。[0006] (Wherein R 2 and R 3 have the same meaning as described above) (for example, Japanese Patent Publication No. 337-1877, Japanese Patent Publication No.
2-2350, JP-B-52-39029 and JP-B-60-
No. 23097).
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】これら公知の方法は、
いずれも晶析などにより前記式(I)で示されるビスフ
ェノール類を単離して高品質とするものであるが、特に
中間体としての利用を考慮すると、晶析精製により溶解
ロスを生じたり、繁雑な濾過・乾燥工程を必要とするな
ど、工業的規模での生産において必ずしも満足できるも
のではなかった。These known methods are:
In any case, the bisphenols represented by the above formula (I) are isolated by crystallization or the like to obtain high quality. However, considering the use as an intermediate in particular, dissolution loss occurs due to crystallization purification, It is not always satisfactory in production on an industrial scale, for example, requiring a simple filtration and drying process.
【0008】本発明者らは、こうした問題点を解決し、
中間原料として工業的に満足のいく製造法を開発すべく
鋭意研究を重ねた結果、特定の有機溶媒および特定の陰
イオン系界面活性剤を用いて、前記式(II)で示される
アルデヒドと前記式(III) で示されるジアルキルフェノ
ールとを反応させることにより、前記式(I)で示され
るビスフェノール類が、高純度、高収率で、かつ簡便、
経済的に製造しうることを見いだし、本発明に至った。[0008] The present inventors have solved these problems,
As a result of intensive research to develop an industrially satisfactory production method as an intermediate material, the aldehyde represented by the formula (II) and the aldehyde represented by the above formula (II) were synthesized using a specific organic solvent and a specific anionic surfactant. By reacting with a dialkylphenol represented by the formula (III), the bisphenols represented by the formula (I) can be obtained in a high purity, a high yield, and conveniently.
It has been found that it can be manufactured economically, leading to the present invention.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、炭素
数6〜10の脂肪族炭化水素類および炭素数6〜12の芳香
族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、モノアルキルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジス
ルホン酸ナトリウム、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムおよびジアルキルスルホコハク酸ナトリウムか
ら選ばれる陰イオン系界面活性剤の存在下に、前記式
(II)で示されるアルデヒドと、前記式(III) で示され
るジアルキルフェノールとを縮合反応させることによっ
て、前記式(I)で示されるビスフェノール類を製造す
る方法を提供する。That is, the present invention provides a method for preparing sodium monoalkylnaphthalenesulfonate in a solvent selected from aliphatic hydrocarbons having 6 to 10 carbon atoms and aromatic hydrocarbons having 6 to 12 carbon atoms. And an aldehyde represented by the formula (II) and an aldehyde represented by the formula (III) in the presence of an anionic surfactant selected from sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate and sodium dialkylsulfosuccinate. A method for producing a bisphenol represented by the above formula (I) by subjecting a dialkylphenol to a condensation reaction is provided.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明で用いる式(II)のアルデ
ヒドにおいて、R1 で表されるアルキル基としては、メ
チル、エチル、n−プロピルおよびイソプロピルが挙げ
られる。したがって式(II)で示されるアルデヒドは具
体的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒドまたはイソブ
チルアルデヒドである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the aldehyde of the formula (II) used in the present invention, examples of the alkyl group represented by R 1 include methyl, ethyl, n-propyl and isopropyl. Therefore, the aldehyde represented by the formula (II) is specifically formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde or isobutyraldehyde.
【0011】また、式(III) のジアルキルフェノールに
おいて、R2 およびR3 で表されるアルキル基として
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、 sec−ブチル、t−ブチル、n
−ペンチル、t−ペンチルなどが例示できる。R2 およ
びR3 はもちろん同一であっても異なっていてもよい。
特にR3 は、3級炭素を有するアルキル基、すなわちt
−ブチルまたはt−ペンチルが好ましい。式(III) で示
されるジアルキルフェノールの具体例としては、2−4
−ジ−t−ペンチルフェノール、2−4−ジ−t−ブチ
ルフェノール、2−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル、2−t−ブチル−4−エチルフェノール、2−t−
ブチル−4−プロピルフェノール、2−t−ブチル−4
−イソプロピルフェノールなどが挙げられる。In the dialkylphenol of the formula (III), the alkyl groups represented by R 2 and R 3 include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n
-Butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n
-Pentyl, t-pentyl and the like. R 2 and R 3 may of course be the same or different.
In particular, R 3 is an alkyl group having a tertiary carbon, that is, t 3
-Butyl or t-pentyl is preferred. Specific examples of the dialkylphenol represented by the formula (III) include 2-4
-Di-t-pentylphenol, 2-4-di-t-butylphenol, 2-t-butyl-4-methylphenol, 2-t-butyl-4-ethylphenol, 2-t-
Butyl-4-propylphenol, 2-t-butyl-4
-Isopropylphenol and the like.
【0012】したがって、本発明の目的物である前記式
(I)で示されるビスフェノール類の代表例としては、
次のような化合物が挙げられる。2,2′−エチリデン
ビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノ
ール)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4,6
−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2′−プロピリデ
ンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、
2,2′−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(6−t−ブチル−4−エチルフェノール)、2,
2′−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−プロピル
フェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−t−ブ
チル−4−イソプロピルフェノール)。Therefore, typical examples of the bisphenols represented by the above formula (I) which are the object of the present invention include:
The following compounds may be mentioned. 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol), 2,
2'-methylenebis (4,6-di-t-pentylphenol), 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-phenol)
Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4,6
-Di-t-butylphenol), 2,2'-propylidenebis (6-t-butyl-4-methylphenol),
2,2'-ethylidenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 2,2'-methylenebis (6-t- Butyl-4-ethylphenol), 2,
2'-ethylidenebis (6-t-butyl-4-propylphenol), 2,2'-ethylidenebis (6-t-butyl-4-isopropylphenol).
【0013】本発明では、式(II)で示されるアルデヒ
ドと式(III) で示されるジアルキルフェノールとの縮合
反応において、溶媒として炭素数6〜10の脂肪族炭化水
素または炭素数6〜12の芳香族炭化水素が通常使用され
る。炭素数6〜10の脂肪族炭化水素としては例えば、n
−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナ
ン、n−デカン、シクロヘキサンなどが挙げられる。ま
た、炭素数6〜12の芳香族炭化水素としては例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメ
ン、シメン、クロルベンゼンなどを挙げることができ
る。これらのなかでも、特に芳香族炭化水素、とりわけ
トルエンまたはキシレンが好ましく用いられる。これら
の溶媒は、それぞれ単独で用いることもできるし、また
2種以上を併用することもできる。溶媒の使用量は、式
(III) のジアルキルフェノールに対し、1〜100重量%
程度が好ましい。より好ましくは、5〜50重量%程度で
ある。In the present invention, in the condensation reaction between the aldehyde represented by the formula (II) and the dialkylphenol represented by the formula (III), the solvent is an aliphatic hydrocarbon having 6 to 10 carbon atoms or a solvent having 6 to 12 carbon atoms. Aromatic hydrocarbons are commonly used. Examples of the aliphatic hydrocarbon having 6 to 10 carbon atoms include n
-Hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, cyclohexane and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon having 6 to 12 carbon atoms include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, cymene, and chlorobenzene. Of these, aromatic hydrocarbons, especially toluene or xylene, are preferably used. These solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount of solvent used is determined by the formula
1 to 100% by weight based on the dialkylphenol of (III)
The degree is preferred. More preferably, it is about 5 to 50% by weight.
【0014】さらに本発明の縮合反応においては、界面
活性剤の使用が必須である。界面活性剤としては通常、
親水性親油性バランス(HLB)の高い陰イオン系界面
活性剤が用いられるが、特に本発明で用いる界面活性剤
は、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ア
ルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、およびジアルキルスル
ホコハク酸ナトリウムから選ばれる。モノアルキルナフ
タレンスルホン酸ナトリウムに属する市販品としては、
例えば花王社製の「ペレックスNB−L」がある。アル
キルジフェニルジスルホン酸ナトリウムに属する市販品
としては、例えば三洋化成社製の「サンデットAL」が
ある。ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムに属す
る市販品としては、例えば第一工業製薬社製の「センデ
ールS」がある。またジアルキルスルホコハク酸ナトリ
ウムに属する市販品としては、例えば花王社製の「ネオ
ペレックスOT−P」がある。Further, in the condensation reaction of the present invention, the use of a surfactant is essential. As a surfactant, usually
An anionic surfactant having a high hydrophilic lipophilic balance (HLB) is used. In particular, the surfactant used in the present invention includes sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate, And sodium dialkyl sulfosuccinate. Commercial products belonging to sodium monoalkylnaphthalenesulfonate include:
For example, there is "Perex NB-L" manufactured by Kao Corporation. A commercially available product belonging to sodium alkyldiphenyldisulfonate is, for example, "Sandet AL" manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. As a commercial product belonging to sodium dialkylbenzenesulfonate, for example, "Sendale S" manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. is available. As a commercial product belonging to sodium dialkyl sulfosuccinate, there is, for example, "Neoperex OT-P" manufactured by Kao Corporation.
【0015】これらの陰イオン系界面活性剤のなかで
も、本発明においては特に、モノアルキルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸
ナトリウム、およびジアルキルベンゼンスルホン酸ナト
リウムが好ましく用いられる。市販品では、花王社製の
「ペレックスNB−L」、三洋化成社製の「サンデット
AL」、第一工業製薬社製の「センデールS」などが、
特に好ましいものとして例示される。Among these anionic surfactants, sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate and sodium dialkylbenzenesulfonate are particularly preferably used in the present invention. Commercial products include "Perex NB-L" manufactured by Kao Corporation, "Sandet AL" manufactured by Sanyo Kasei, "Sendale S" manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku, etc.
It is exemplified as particularly preferred.
【0016】界面活性剤の使用量は、式(III) のジアル
キルフェノールに対し 0.6〜3重量%程度が好ましい。
なお、非イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、
両性界面活性剤などは反応性が乏しいので、本発明の縮
合反応で用いるには好ましくない。The amount of the surfactant used is preferably about 0.6 to 3% by weight based on the dialkylphenol of the formula (III).
In addition, nonionic surfactant, cationic surfactant,
Amphoteric surfactants and the like have poor reactivity and are not preferred for use in the condensation reaction of the present invention.
【0017】また、本発明による式(II)で示されるア
ルデヒドと式(III) で示されるジアルキルフェノールの
縮合反応は通常、触媒および水の存在下で行われる。触
媒としては、酸、例えば硫酸、塩酸、燐酸などの鉱酸、
トルエンスルホン酸などの有機酸等が使用でき、特に塩
酸、硫酸が好ましく用いられる。触媒の使用量は、式(I
II) のジアルキルフェノール1モルに対し、 0.001〜0.
1 モル程度が好ましい。触媒は水等で希釈したものであ
っても、高濃度のものであっても使用し得る。The condensation reaction of the aldehyde of the formula (II) with the dialkylphenol of the formula (III) according to the present invention is usually carried out in the presence of a catalyst and water. As the catalyst, acids, for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, mineral acids such as phosphoric acid,
Organic acids such as toluenesulfonic acid can be used, and hydrochloric acid and sulfuric acid are particularly preferably used. The amount of catalyst used is determined by the formula (I
(II) 0.001 to 0.
About 1 mole is preferred. The catalyst may be used whether it is diluted with water or the like or has a high concentration.
【0018】アルデヒドは、ジアルキルフェノール1モ
ルに対して通常0.5〜1モル程度使用される。0.5モルよ
りも少ない場合は、ジアルキルフェノールが残存し、ま
た0.6モルより多い場合は不純物が生成する傾向にある
ので、0.5〜0.6モル倍使用することが好ましい。アルデ
ヒドは必要に応じて水や有機溶媒で希釈して使用しても
良い。またアルデヒドは、他の原料とともに一括で仕込
んでも良いし、滴下しても良い。The aldehyde is usually used in an amount of about 0.5 to 1 mol per 1 mol of the dialkylphenol. When the amount is less than 0.5 mol, dialkylphenol remains, and when it is more than 0.6 mol, impurities tend to be generated. Therefore, it is preferable to use 0.5 to 0.6 mol times. The aldehyde may be diluted with water or an organic solvent as needed. The aldehyde may be charged together with other raw materials or may be dropped.
【0019】この反応は通常、反応系内の水の量が少な
いほど促進されるので、系内に存在する水の量を少なく
することにより、短時間で目的物が高収率で得られる。
縮合反応の温度は30〜110℃程度の範囲が好ましく、特
に40〜100℃程度がより好ましい。この反応は、通常大
気圧下で行われるが、加圧下で行ってもよい。また反応
時間は、アルデヒドの種類によっても異なるが、通常1
時間以上20時間程度までで十分であり、より好ましくは
2〜10時間程度の範囲である。反応の進行はガスクロマ
トグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手
段により追跡し得る。This reaction is generally accelerated as the amount of water in the reaction system is reduced. Therefore, by reducing the amount of water present in the system, the desired product can be obtained in a short time and in a high yield.
The temperature of the condensation reaction is preferably in the range of about 30 to 110 ° C, more preferably about 40 to 100 ° C. This reaction is usually performed under atmospheric pressure, but may be performed under pressure. The reaction time varies depending on the type of the aldehyde.
It is sufficient that the time is about 20 hours or more, more preferably about 2 to 10 hours. The progress of the reaction can be monitored by analytical means such as gas chromatography and high performance liquid chromatography.
【0020】本発明に従って縮合反応で得られる式
(I)のビスフェノール類は、単離することなく、反応
混合物のまま、適当量の溶媒を加え、必要に応じて触媒
を中和した後、水層を分液除去し、さらに有機層を脱水
処理することで、簡便にビスフェノールモノエステルな
どの原料とすることができる。またもちろん、晶析など
により、目的物である式(I)のビスフェノール類を単
離することもできる。The bisphenols of the formula (I) obtained by the condensation reaction according to the present invention, without isolation, may be used in the reaction mixture as it is, after adding an appropriate amount of a solvent and neutralizing the catalyst if necessary. By separating and removing the layer and further dehydrating the organic layer, a raw material such as bisphenol monoester can be easily obtained. Of course, the target bisphenols of the formula (I) can also be isolated by crystallization or the like.
【0021】[0021]
【実施例】次に具体的な実施例により、本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。なお、以下の例中にある%およ
び部は、特にことわりのない限り重量基準である。Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples. The percentages and parts in the following examples are by weight unless otherwise specified.
【0022】実施例1 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に、2,4−ジ−t−ペンチルフェノール100
部、トルエン10部、陰イオン型界面活性剤であるペレッ
クスNB−L(花王社製のモノアルキルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム)1.0部、36%塩酸15.1部および30%
アセトアルデヒド水溶液34.5部を仕込み、攪拌しながら
94〜95℃の温度に保って7時間反応させた。反応終了
後、反応混合物にトルエン154部を投入し水層を分液除
去した後、10%炭酸ナトリウム水溶液0.8部と水50部にて
有機層を水洗して、2,2′−エチリデンビス(4,6
−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を得た。結
果を表1に示した。Example 1 2,4-Di-t-pentylphenol 100 was placed in a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping device.
Parts, toluene 10 parts, anionic surfactant Perex NB-L (sodium monoalkylnaphthalenesulfonate manufactured by Kao Corporation) 1.0 part, 36% hydrochloric acid 15.1 parts and 30%
Charge 34.5 parts of acetaldehyde aqueous solution and stir
The reaction was maintained for 7 hours at a temperature of 94 to 95 ° C. After completion of the reaction, 154 parts of toluene was added to the reaction mixture, and the aqueous layer was separated and removed. Then, the organic layer was washed with 0.8 part of a 10% aqueous sodium carbonate solution and 50 parts of water, and 2,2'-ethylidenebis ( 4,6
-Di-t-pentylphenol). The results are shown in Table 1.
【0023】実施例2 実施例1におけるペレックスNB−Lのかわりに、陰イ
オン型界面活性剤であるセンデールS(第一工業製薬社
製のジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム)を用い
た以外は、実施例1と同様の操作を行い、目的物の溶液
を得た。結果を表1に示した。Example 2 Example 2 was repeated except that Sendale S (a sodium dialkylbenzene sulfonate manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was used instead of Perex NB-L in Example 1. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a solution of the desired product. The results are shown in Table 1.
【0024】比較例1 実施例1におけるペレックスNB−Lのかわりに、陽イ
オン型界面活性剤であるアセタミン86(花王社製のス
テアリルアミン酢酸塩)を用いた以外は、実施例1と同
様の操作を行い、目的物の溶液を得た。結果を表1に示
した。Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that acetamine 86 (a stearylamine acetate manufactured by Kao Corporation) was used instead of Perex NB-L in Example 1. The operation was performed to obtain a target solution. The results are shown in Table 1.
【0025】比較例2 実施例1におけるペレックスNB−Lのかわりに、非イ
オン型界面活性剤であるノイゲンEA80(第一工業製
薬社製のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル)を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、目
的物の溶液を得た。結果を表1に示した。Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that Neugen EA80 (a polyoxyethylene alkyl phenyl ether manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was used instead of Perex NB-L in Example 1. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a target solution. The results are shown in Table 1.
【0026】比較例3 実施例1における界面活性剤を添加しない以外は、実施
例1と同様の操作を行い、目的物の溶液を得た。結果を
表1に示した。Comparative Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that no surfactant was added, to obtain a solution of the desired product. The results are shown in Table 1.
【0027】[0027]
【表1】 例 界面活性剤 反応時間 反応収率 * 実施例1 ペレックスNB-L 7hr 93.6 実施例2 センデールS 7 93.6 比較例1 アセタミン86 7 66.9 比較例2 ノイゲンEA80 7 69.4 比較例3 なし 8 63.7 *:ジアルキルフェノール基準の反応収率(%)Table 1 Example Surfactant Reaction Time Reaction Yield * Example 1 Perex NB-L 7hr 93.6 Example 2 Sendale S 7 93.6 Comparative Example 1 Acetamine 86 7 66.9 Comparative Example 2 Neugen EA80 7 69.4 Comparative Example 3 None 8 63.7 *: Reaction yield based on dialkylphenol (%)
【0028】実施例3 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に、2,4−ジ−t−ペンチルフェノール1172
部、キシレン100部、ペレックスNB−L(花王社製の
モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム)23.5
部、78%濃硫酸47部および30%アセトアルデヒド水溶液
385.5部を仕込み、攪拌しながら90〜100℃の温度に保っ
て7時間反応させた。反応終了後、反応混合物にキシレ
ン1800部を投入し、水層を分液除去したあと、有機層が
中性になるまで水洗して、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を
得た。結果を表2に示した。Example 3 A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirring device, a reflux condenser and a dropping device was charged with 2,4-di-t-pentylphenol 1172.
Parts, xylene 100 parts, Perex NB-L (Sodium monoalkylnaphthalenesulfonate manufactured by Kao Corporation) 23.5
Parts, 78% concentrated sulfuric acid 47 parts and 30% acetaldehyde aqueous solution
385.5 parts were charged and reacted at a temperature of 90 to 100 ° C. for 7 hours while stirring. After completion of the reaction, 1800 parts of xylene was added to the reaction mixture, the aqueous layer was separated and removed, and the organic layer was washed with water until neutral, and 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t) was added. -Pentylphenol). The results are shown in Table 2.
【0029】実施例4 実施例3におけるペレックスNB−Lのかわりに、セン
デールS(第一工業製薬社製のジアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム)を用いた以外は、実施例3と同様の
操作を行い、目的物の溶液を得た。結果を表2に示し
た。Example 4 The same operation as in Example 3 was carried out except that Sendale S (sodium dialkylbenzenesulfonate manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was used instead of Perex NB-L in Example 3, A solution of the desired product was obtained. The results are shown in Table 2.
【0030】実施例5 実施例3における2,4−ジ−t−ペンチルフェノール
のかわりに2,4−ジ−t−ブチルフェノール1031.5部
を用い、溶媒としてキシレンのかわりにトルエンを用い
た以外は、実施例1と同様の操作を行い、2,2′−エ
チリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)を
含む溶液を得た。結果を表2に示した。Example 5 Example 3 was repeated except that 1031.5 parts of 2,4-di-t-butylphenol was used in place of 2,4-di-t-pentylphenol and toluene was used in place of xylene as a solvent. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a solution containing 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-butylphenol). The results are shown in Table 2.
【0031】実施例6 実施例3で用いたのと同様の反応容器に、2−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール821.5部、キシレン400部、サ
ンデットAL(三洋化成社製のアルキルジフェニルジス
ルホン酸ナトリウム)7部、96%濃硫酸1.5部および37
%ホルムアルデヒド水溶液228部を仕込み、攪拌しなが
ら90〜95℃の温度範囲に保って、3時間反応させた。反
応終了後にキシレン445部を投入し、水層を分液除去し
たあと、有機層が中性になるまで水洗して、2,2′−
メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)を含む溶液を得た。結果を表2に示した。Example 6 In the same reaction vessel as used in Example 3, 821.5 parts of 2-t-butyl-4-methylphenol, 400 parts of xylene, Sandet AL (sodium alkyldiphenyldisulfonate manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) ) 7 parts, 1.5 parts of 96% concentrated sulfuric acid and 37 parts
Then, 228 parts of a 2% aqueous formaldehyde solution were charged, and the mixture was reacted for 3 hours while maintaining a temperature range of 90 to 95 ° C. with stirring. After the completion of the reaction, 445 parts of xylene was added, and the aqueous layer was separated and removed. The organic layer was washed with water until it became neutral.
A solution containing methylene bis (6-t-butyl-4-methylphenol) was obtained. The results are shown in Table 2.
【0032】実施例7 実施例6におけるサンデットALのかわりにペレックス
NB−Lを用いた以外は、実施例6と同様の操作を行っ
て、目的物の溶液を得た。結果を表2に示した。Example 7 The same procedure as in Example 6 was carried out except that Perex NB-L was used instead of Sandet AL in Example 6, to obtain a solution of the desired product. The results are shown in Table 2.
【0033】[0033]
【表2】 面百純度(%) 実施例 界面活性剤 反応時間 反応収率 * LC値 GC値 3 ペレックスNB-L 7hr 94.0 92.0 − 4 センデールS 7 93.9 91.9 − 5 ペレックスNB-L 7 93.8 94.0 − 6 サンデットAL 3 94.8 − 99.8 7 ペレックスNB-L 3 95.8 − 100.0 *:ジアルキルフェノール基準の反応収率(%)TABLE 2 Percentage Purity (%) Example Surfactant Reaction Time Reaction Yield * LC Value GC Value 3 Perex NB-L 7hr 94.0 92.0-4 Sendale S 7 93.9 91.9-5 5 Perex NB-L 7 93.8 94.0- 6 Sandet AL3 94.8-99.8 7. Perex NB-L3 95.8-100.0 *: Reaction yield based on dialkylphenol (%)
【0034】実施例8 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に水194.1部、10%硫酸水溶液4.2部、2−t−
ブチル−4−メチルフェノール269部、ペレックスNB
−L(花王社製のモノアルキルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム)2.2部、キシレン130.5部を仕込み50℃まで昇
温した後、37%ホルムアルデヒド水溶液74.5部を0.5時
間かけて滴下した。90〜100℃の温度に保って3時間反
応させた。反応終了後、反応混合物にキシレン137部を
投入し、さらに25%アンモニア水2.7重量部を加えて中和
した後に水層を分液除去した。そして有機層を数回水洗
して、2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−4−
メチルフェノール)272.5部(2−t−ブチル−4−メ
チルフェノール基準の反応収率97.7%)を含む溶液を得
た。Example 8 A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a dropping device was charged with 194.1 parts of water, 4.2 parts of a 10% aqueous sulfuric acid solution, and 2-t-
Butyl-4-methylphenol 269 parts, Perex NB
After 2.2 parts of -L (sodium monoalkylnaphthalenesulfonate manufactured by Kao Corporation) and 130.5 parts of xylene were charged and heated to 50 ° C, 74.5 parts of a 37% aqueous formaldehyde solution was added dropwise over 0.5 hours. The reaction was performed for 3 hours while maintaining the temperature at 90 to 100 ° C. After completion of the reaction, 137 parts of xylene was added to the reaction mixture, and 2.7 parts by weight of 25% aqueous ammonia was further added to neutralize the mixture. Then, the aqueous layer was separated and removed. The organic layer was washed with water several times to give 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-.
A solution containing 272.5 parts (methylphenol) (97.7% of the reaction yield based on 2-t-butyl-4-methylphenol) was obtained.
【0035】実施例9 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器にキシレン130.5部、10%硫酸水溶液4.2部、2
−t−ブチル−4−メチルフェノール269.5部、ペレッ
クスNB−L(花王社製のモノアルキルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム)2.2部を仕込み70℃まで昇温した
後、37%ホルムアルデヒド水溶液67.8部を2時間かけて
滴下した。70〜80℃の温度に保って2時間反応させた。
反応終了後、反応混合物にキシレン150.8部を投入し、
さらに25%アンモニア水6重量部にて中和した後に水層を
分液除去した。そして有機層を数回水洗して、2,2′
−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル)277.3部(2−t−ブチル−4−メチルフェノール
基準の反応収率99.3%)を含む溶液を得た。Example 9 130.5 parts of xylene, 4.2 parts of a 10% aqueous sulfuric acid solution, and 2 parts of a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping device.
After charging 269.5 parts of t-butyl-4-methylphenol and 2.2 parts of Perex NB-L (sodium monoalkylnaphthalenesulfonate manufactured by Kao Corporation) and raising the temperature to 70 ° C, 67.8 parts of a 37% aqueous formaldehyde solution was applied for 2 hours. And dropped. The reaction was performed for 2 hours while maintaining the temperature at 70 to 80 ° C.
After the completion of the reaction, 150.8 parts of xylene was added to the reaction mixture,
After neutralization with 6 parts by weight of 25% aqueous ammonia, the aqueous layer was separated and removed. The organic layer is washed several times with water,
A solution containing 277.3 parts of -methylenebis (6-tert-butyl-4-methylphenol) (reaction yield based on 2-tert-butyl-4-methylphenol 99.3%) was obtained.
【0036】実施例10 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に、キシレン23.1部、2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノール230部、ペレックスNB−L(花王社製の
モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム)4.6
部、78%濃硫酸9.3部を仕込んだ。ここへ30%アセトア
ルデヒド水溶液75.9部を1.5時間で滴下し、滴下終了後9
0〜100℃の温度に保って7時間反応させた。反応終了
後、反応混合物にキシレン335.3部を投入し、水層を分
液除去したあと、有機層が中性になるまで水洗して、
2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチル
フェノール)227.5部(2,4−ジ−t−ペンチルフェ
ノール基準の反応収率93.8%)を含む溶液を得た。Example 10 A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping device was charged with 23.1 parts of xylene, 230 parts of 2,4-di-t-pentylphenol, and Perex NB-L (manufactured by Kao Corporation). Sodium monoalkylnaphthalenesulfonate) 4.6
And 9.3 parts of 78% concentrated sulfuric acid. To this, 75.9 parts of a 30% acetaldehyde aqueous solution was added dropwise over 1.5 hours, and after the addition was completed, 9
The reaction was carried out for 7 hours while maintaining the temperature at 0 to 100 ° C. After completion of the reaction, 335.3 parts of xylene was added to the reaction mixture, the aqueous layer was separated and removed, and then washed with water until the organic layer became neutral.
A solution containing 227.5 parts of 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) (a reaction yield of 93.8% based on 2,4-di-t-pentylphenol) was obtained.
【0037】実施例11 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に、2,4−ジ−t−ペンチルフェノール230.
7部、ペレックスNB−L(花王社製のモノアルキルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム)2.3部、50%硫酸14.5
部を仕込んだ。ここへ30%アセトアルデヒド/キシレン
溶液79.7部を2時間かけて滴下し、滴下終了後90〜100
℃の温度に保って5時間反応させた。反応終了後、反応
混合物にキシレン312.6部、水115.4部を投入し、水層を
分液除去したあと、有機層が中性になるまで水洗して、
2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチル
フェノール)227.2部(2,4−ジ−t−ペンチルフェ
ノール基準の反応収率93.6%)を含む溶液を得た。Example 11 A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a dropping device was charged with 2,4-di-t-pentylphenol 230.
7 parts, Perex NB-L (Kao Corporation sodium monoalkylnaphthalenesulfonate) 2.3 parts, 50% sulfuric acid 14.5
The department was charged. To this, 79.7 parts of a 30% acetaldehyde / xylene solution was added dropwise over 2 hours.
The reaction was carried out for 5 hours while maintaining the temperature at ° C. After completion of the reaction, 312.6 parts of xylene and 115.4 parts of water were added to the reaction mixture, and the aqueous layer was separated and removed, followed by washing with water until the organic layer became neutral.
A solution containing 227.2 parts of 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) (93.6% of the reaction yield based on 2,4-di-t-pentylphenol) was obtained.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明によれば、ビスフェノール類
(I)を、高純度かつ高い収率で、しかも効率よく経済
的に製造することができる。したがって本発明の方法
は、ビスフェノール類(I)を工業的規模で製造する方
法として有用である。According to the present invention, bisphenols (I) can be produced efficiently and economically with high purity and high yield. Therefore, the method of the present invention is useful as a method for producing bisphenols (I) on an industrial scale.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 和明 大分県大分市大字鶴崎2200番 住友化学工 業株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC20 AC25 AC42 AD15 BA35 BA36 BA37 BA52 BA66 BB11 BC10 BC11 BC19 BC31 BN30 FE13 4H039 CA19 CA60 CF30 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuaki Yamamoto 2200 Tsuruzaki, Oita-shi, Oita F-term in Sumitomo Chemical Co., Ltd. (reference) 4H006 AA02 AC20 AC25 AC42 AD15 BA35 BA36 BA37 BA52 BA66 BB11 BC10 BC11 BC19 BC31 BN30 FE13 4H039 CA19 CA60 CF30
Claims (8)
素数6〜12の芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、
モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキ
ルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムおよびジアルキルスルホコハ
ク酸ナトリウムから選ばれる陰イオン系界面活性剤の存
在下に、式(II) R1−CHO (II) (式中、R1 は水素または炭素数1〜3のアルキル基を
表す)で示されるアルデヒドと、式(III) (式中、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜5の
アルキル基を表す)で示されるジアルキルフェノールと
を縮合反応させることを特徴とする式(I) (式中、R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を有す
る)で示されるビスフェノール類の製造法。1. A solvent selected from aliphatic hydrocarbons having 6 to 10 carbon atoms and aromatic hydrocarbons having 6 to 12 carbon atoms,
In the presence of an anionic surfactant selected from sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate and sodium dialkylsulfosuccinate, the formula (II) R 1 -CHO (II) Wherein R 1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) and an aldehyde represented by the formula (III) (Wherein, R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms). (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above).
フタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジ
スルホン酸ナトリウムまたはジアルキルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムである請求項1記載の製造法。2. The method according to claim 1, wherein the anionic surfactant is sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate or sodium dialkylbenzenesulfonate.
ノール(III)に対して0.6〜3重量%使用する請求項1〜
2記載の製造法。3. The method according to claim 1, wherein the anionic surfactant is used in an amount of 0.6 to 3% by weight based on the dialkylphenol (III).
2. The production method according to 2.
対して1〜100重量%使用する請求項1〜3記載の製造
法。4. The process according to claim 1, wherein the reaction solvent is used in an amount of 1 to 100% by weight based on the dialkylphenol (III).
選ばれる芳香族炭化水素である請求項1〜4記載の製造
法。5. The process according to claim 1, wherein the reaction solvent is an aromatic hydrocarbon selected from toluene and xylene.
の製造方法。6. The method according to claim 1, wherein an acid is used as the catalyst.
て0.001〜0.1モル倍使用する請求項6記載の製造法。7. The process according to claim 6, wherein the catalyst is used in an amount of 0.001 to 0.1 mol per mol of the dialkylphenol (III).
2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチル
フェノール)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ
−t−ブチルフェノール)、または2,2′−メチレン
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)である
請求項1〜7に記載の製造法。8. A bisphenol represented by the formula (I):
2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol), 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-butylphenol) or 2,2'-methylenebis (6-t -Butyl-4-methylphenol).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02649499A JP4016520B2 (en) | 1998-12-22 | 1999-02-03 | Production method of bisphenols |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-364588 | 1998-12-22 | ||
| JP36458898 | 1998-12-22 | ||
| JP02649499A JP4016520B2 (en) | 1998-12-22 | 1999-02-03 | Production method of bisphenols |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000239204A true JP2000239204A (en) | 2000-09-05 |
| JP4016520B2 JP4016520B2 (en) | 2007-12-05 |
Family
ID=26364284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02649499A Expired - Lifetime JP4016520B2 (en) | 1998-12-22 | 1999-02-03 | Production method of bisphenols |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4016520B2 (en) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006036685A (en) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method for producing bisphenols |
| JP2006045122A (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | Method for producing bisphenols |
| JP2010515667A (en) * | 2007-01-08 | 2010-05-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | Method for producing diphenylmethanediamine |
| JP2010241701A (en) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Process for producing 2,2'-alkylenebis (4,6-dialkylphenol) |
| JP2012067253A (en) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Showa Denko Kk | Method of manufacturing allyl etherification novolak type phenol resin, and allyl etherification novolak type phenol resin obtained by the method |
| CN102816053A (en) * | 2012-07-30 | 2012-12-12 | 常州大学 | Method for improving crystalline state of synthetic 2,2'-ethylene-bis(4,6-di-tert-pentylphenol) product |
| CN102838459A (en) * | 2012-09-04 | 2012-12-26 | 江苏昊华精细化工有限公司 | Production method of ethylene-bis-di-tert-butylphenol |
| CN102924238A (en) * | 2012-11-01 | 2013-02-13 | 常州大学 | Method for synthesizing 2, 2' -ethylene bis (4, 6-di-tert-amylphenol) product |
| CN103012225A (en) * | 2012-12-10 | 2013-04-03 | 常州大学 | A kind of method of synthesizing sulfur-containing bisphenol compound antioxidant |
| WO2019039520A1 (en) * | 2017-08-22 | 2019-02-28 | 三菱ケミカル株式会社 | Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method |
| JP2020037528A (en) * | 2018-09-04 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Bisphenol production method and polycarbonate resin production method |
| JP2022101856A (en) * | 2020-12-25 | 2022-07-07 | 三菱ケミカル株式会社 | Method for manufacturing bisphenol and method for manufacturing polycarbonate resin |
-
1999
- 1999-02-03 JP JP02649499A patent/JP4016520B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006036685A (en) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method for producing bisphenols |
| JP2006045122A (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | Method for producing bisphenols |
| JP2010515667A (en) * | 2007-01-08 | 2010-05-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | Method for producing diphenylmethanediamine |
| JP2010241701A (en) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Process for producing 2,2'-alkylenebis (4,6-dialkylphenol) |
| JP2012067253A (en) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Showa Denko Kk | Method of manufacturing allyl etherification novolak type phenol resin, and allyl etherification novolak type phenol resin obtained by the method |
| CN102816053B (en) * | 2012-07-30 | 2014-10-29 | 常州大学 | Method for improving crystalline state of synthetic 2,2'-ethylene-bis(4,6-di-tert-pentylphenol) product |
| CN102816053A (en) * | 2012-07-30 | 2012-12-12 | 常州大学 | Method for improving crystalline state of synthetic 2,2'-ethylene-bis(4,6-di-tert-pentylphenol) product |
| CN102838459A (en) * | 2012-09-04 | 2012-12-26 | 江苏昊华精细化工有限公司 | Production method of ethylene-bis-di-tert-butylphenol |
| CN102924238A (en) * | 2012-11-01 | 2013-02-13 | 常州大学 | Method for synthesizing 2, 2' -ethylene bis (4, 6-di-tert-amylphenol) product |
| CN103012225A (en) * | 2012-12-10 | 2013-04-03 | 常州大学 | A kind of method of synthesizing sulfur-containing bisphenol compound antioxidant |
| WO2019039520A1 (en) * | 2017-08-22 | 2019-02-28 | 三菱ケミカル株式会社 | Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method |
| US11427523B2 (en) | 2017-08-22 | 2022-08-30 | Mitsubishi Chemical Corporation | Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method |
| JP2020037528A (en) * | 2018-09-04 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Bisphenol production method and polycarbonate resin production method |
| JP7255109B2 (en) | 2018-09-04 | 2023-04-11 | 三菱ケミカル株式会社 | Method for producing bisphenol and method for producing polycarbonate resin |
| JP2022101856A (en) * | 2020-12-25 | 2022-07-07 | 三菱ケミカル株式会社 | Method for manufacturing bisphenol and method for manufacturing polycarbonate resin |
| JP7631795B2 (en) | 2020-12-25 | 2025-02-19 | 三菱ケミカル株式会社 | Method for producing bisphenol and method for producing polycarbonate resin |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4016520B2 (en) | 2007-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000239204A (en) | Production method of bisphenols | |
| CS203171B2 (en) | Method of processing waste products at the production of diphenylolpropane | |
| EP0500323A2 (en) | Production of bisphenol monoester | |
| JP2874359B2 (en) | Production method of bisphenol monoester | |
| EP0645365B1 (en) | Process for producing 2-fluoroisobutyric acid or ester thereof | |
| JPH04211031A (en) | Purified p-cumylphenol | |
| EP0309226B1 (en) | Process for producing P,P'-biphenol | |
| JP2634889B2 (en) | Aralkylation of phenolic compounds | |
| JPH021417A (en) | Selective production of 2,4-or 3,6-disubstituted phenol | |
| US5089656A (en) | Process for the preparation of aryl-substituted propionic acid esters | |
| US6790985B2 (en) | Phosphonium salts and processes for production of and uses for the same, and phosphines deriving the same and processes for production of the phosphines | |
| JP4127017B2 (en) | Method for producing benzylcarbazate compound | |
| JP2511093B2 (en) | Method for purifying residue of diallyl alkylphosphonate reaction | |
| JP3298953B2 (en) | Method for producing aryl ester by o-dealkylation | |
| US4803301A (en) | Process for producing optically active 2-phenoxypropionic acid | |
| GB2103216A (en) | Process for the preparation of N-substituted methacrylamides and acrylamides | |
| JP4053325B2 (en) | Phosphonium salt, method for producing the same, and use thereof | |
| JP3991715B2 (en) | Method for producing alkylidene bisphenols | |
| US5118877A (en) | Process for the preparation of 2,3-dimethylphenol and of 3,4-dimethylphenol | |
| JP2006036685A (en) | Method for producing bisphenols | |
| JP2582881B2 (en) | Method for debutylation of tetrabutyl biphenol | |
| JPH08176044A (en) | Production of 2-t-butylhydroquinone | |
| EP0779274B1 (en) | Process for the preparation of tertiary butyl hydrazine hydrohalogenide | |
| EP1061061B1 (en) | Process for the production of alpha,alpha'-bis (4-p-hydroxyphenyl)-1,3-diisopropylbenzene | |
| JP3962467B2 (en) | Process for producing 1,4-dihydroxy-2-naphthoic acid aryl esters |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050907 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070626 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070703 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070730 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070828 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070910 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20190928 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |