JP2000231001A - 光学用レンズ - Google Patents
光学用レンズInfo
- Publication number
- JP2000231001A JP2000231001A JP3264399A JP3264399A JP2000231001A JP 2000231001 A JP2000231001 A JP 2000231001A JP 3264399 A JP3264399 A JP 3264399A JP 3264399 A JP3264399 A JP 3264399A JP 2000231001 A JP2000231001 A JP 2000231001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical lens
- silicon atoms
- sio
- group
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 97
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 71
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 10
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims abstract description 9
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 229910020485 SiO4/2 Inorganic materials 0.000 abstract 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000000047 product Substances 0.000 description 44
- -1 siloxane unit Chemical group 0.000 description 38
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229920006136 organohydrogenpolysiloxane Polymers 0.000 description 20
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 12
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 12
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 229910020447 SiO2/2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 5
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 101100438134 Rattus norvegicus Cabs1 gene Proteins 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710179738 6,7-dimethyl-8-ribityllumazine synthase 1 Proteins 0.000 description 1
- 229920005509 ACRYPET® VH Polymers 0.000 description 1
- 229920002972 Acrylic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004420 Iupilon Substances 0.000 description 1
- 101710186608 Lipoyl synthase 1 Proteins 0.000 description 1
- 101710137584 Lipoyl synthase 1, chloroplastic Proteins 0.000 description 1
- 101710090391 Lipoyl synthase 1, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004808 SiO1.01 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC=C KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-(2-phenylethenyl)silane Chemical compound C[SiH](Cl)C=CC1=CC=CC=C1 ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-phenylsilane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005388 dimethylhydrogensiloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 229940074761 olysio Drugs 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTZZSQYMACOLNN-VDWJNHBNSA-N simeprevir Chemical compound O=C([C@@]12C[C@H]1\C=C/CCCCN(C)C(=O)[C@H]1[C@H](C(N2)=O)C[C@H](C1)OC=1C2=CC=C(C(=C2N=C(C=1)C=1SC=C(N=1)C(C)C)C)OC)NS(=O)(=O)C1CC1 JTZZSQYMACOLNN-VDWJNHBNSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- UTXPCJHKADAFBB-UHFFFAOYSA-N tribenzyl(chloro)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C[Si](CC=1C=CC=CC=1)(Cl)CC1=CC=CC=C1 UTXPCJHKADAFBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclohexyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N trichloro-(4-chlorophenyl)silane Chemical compound ClC1=CC=C([Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOMUGKOOLXQCTQ-UHFFFAOYSA-N trichloro-(4-methylphenyl)silane Chemical compound CC1=CC=C([Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 WOMUGKOOLXQCTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
性に優れ、尚かつ、高い熱安定性、低い吸水性、高い硬
度、優れた成形性を有する光学用レンズを提供する。 【解決手段】 以下の条件式を満足する珪素系樹脂を有
することを特徴とする光学用レンズ。 (R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原
子の全数)>0 (SiO4/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原子の
全数)>0 {(R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)+(Si
O4/2の形をした珪素原子の数)}×100/(珪素原
子の全数)≧20% ここで、R1は水素原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン
原子又は有機基である。
Description
る。
付きフィルム)、ビデオカメラ等の各種カメラ、CD、
CD−ROM、CD−Video、MO、CD−R、D
VD等の光ピックアップ装置や複写機及びプリンター等
のOA機器といった各種機器等に使用される幾何光学的
な光学用レンズには、高い光透過率、高い屈折率、成形
後の低い残留複屈折等の基本的な光学特性が必要とされ
る。更に、高い熱安定性、高い機械的強度や高い硬度、
低い吸水性、高い耐候性、耐溶剤性等の一般的特性が要
求される。また、低いコストで生産する為に良好な成形
性が要求される。
メタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ−4−メチルペ
ンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン樹脂等
を用いて成形した光学用レンズは熱安定性が低く、高い
吸水性に伴う光学特性の変動、高い複屈折等の欠点を有
しており、上述の要求に対しては未だ不十分であった。
ルカーボネートを用いたプラスチックレンズは低屈折率
であり、また無機ガラスに比較すると耐熱性もそれほど
高いものではなかった。
光を使った高密度記録方式が盛んに研究され、実用化さ
れている中で、記録光源の波長を短くすることで更なる
記録密度の向上が計られてきた。次世代の光記録方式で
は400nm以下の波長が使われようとしている。上記
のポリオレフィン系、ポリカーボネート系やアクリル系
プラスチック樹脂材料は400nm以下の紫外領域の分
光透過率が非常に低いものや全く透過しないものが多
く、そればかりか、紫外線によってプラスチックを構成
するポリマー鎖の結合が切断されて劣化を促進されると
いった問題がある。つまり、今後の高密度光記録におい
ては、紫外領域の分光透過率が高く、しかも成形性が優
れた光学用レンズが強く望まれている。
折、光透過率等の光学的基本特性に優れ、尚かつ、高い
熱安定性、低い吸水性、高い硬度を有し、高い信頼性と
性能が要求されるカメラ、フィルム一体型カメラ(レン
ズ付きフィルム)、ビデオカメラ等の各種カメラ、C
D、CD−ROM、CD−Video、MO、CD−
R、DVD等の光ピックアップ装置や複写機及びプリン
ター等のOA機器といった各種機器等に適した光学用レ
ンズを提供することである。
明の構成により解決することができた。
有することを特徴とする光学用レンズ。
数)/(珪素原子の全数)>0 (SiO4/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原子の
全数)>0 {(R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)+(Si
O4/2の形をした珪素原子の数)}×100/(珪素原
子の全数)≧20% ここで、R1は水素原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン
原子又は有機基である。
する前記1記載の光学用レンズ。
数)≧(SiO4/2の形をした珪素原子の数) 3.以下の条件式を満足することを特徴とする前記1記
載の光学用レンズ。
数)<(SiO4/2の形をした珪素原子の数) 4.以下の条件式を満足することを特徴とする前記1に
記載の光学用レンズ。
原子の数)×100/(珪素原子の全数)≦90% 5.前記珪素系樹脂に含まれる珪素原子に結合された置
換基の内、15〜100mol%が芳香族基であること
を特徴とする前記1乃至4の何れか1項に記載の光学用
レンズ。
結合された置換基の内、20mol%以上がアルキル基
であることを特徴とする前記1乃至4の何れか1項に記
載の光学用レンズ。
を特徴とする前記6記載の光学用レンズ。
結合された置換基の内、20モル%以上が水素原子であ
ることを特徴とする前記1乃至4の何れか1項に記載の
光学用レンズ。
a(CnH2n+1)bSiO(4-a-b)/2(ここで、R2は水素
原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子又はアルキル基
以外の有機基であり、a>0、b>0であり、0<a+
b<2であり、nは正の整数をあらわす。)で表される
オルガノポリシロキサンを含有する組成物から形成され
たことを特徴とする前記1乃至4又は6乃至8の何れか
1項に記載の光学用レンズ。
bSiO(4-a-b)/2中、n=1であることを特徴とする前
記9記載の光学用レンズ。
ケニル基を有することを特徴とする前記9又は10記載
の光学用レンズ。
3c(H)dSiO(4-c-d)/2(ここで、R3は水酸基、
アミノ基、ハロゲン原子又は有機基であり、c>0、d
>0であり、0<c+d<2である。)で表されるオル
ガノポリシロキサンを含有する組成物から形成されたこ
とを特徴とする前記1乃至4又は8の何れか1項に記載
の光学用レンズ。
に対して80%以上の分光透過率を有することを特徴と
する前記1乃至4又は6乃至12の何れか1項に記載の
光学用レンズ。
あり、前記光学用レンズが該シリコーン樹脂からなるこ
とを特徴とする前記1乃至13の何れか1項に記載の光
学用レンズ。
り、熱硬化反応に付加反応を用いて形成されたことを特
徴とする前記14記載の光学用レンズ。
を用いたことを特徴とする前記15記載の光学用レン
ズ。
において85%以上の透過率を有することを特徴とする
前記1乃至16の何れか1項に記載の光学用レンズ。
とを特徴とする前記1乃至17の何れか1項に記載の光
学用レンズ。
状を有することを特徴とする前記1乃至18の何れか1
項に記載の光学用レンズ。
ことを特徴とする前記19記載の光学用レンズ。
用レンズとは、珪素系樹脂を含有するという意味であ
り、好ましくは光学用レンズ成形品において珪素系樹脂
が70重量%以上、更には80重量%以上含有すること
が好ましく、本発明の効果を損なわない範囲で、他の樹
脂や各種添加物が混入されたものも本発明に含まれるも
のである。又、レンズの表面に種々の目的で各種コート
層が設けられていてもよい。
3/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原子の全数)>
0であり、(SiO4/2の形をした珪素原子の数)/
(珪素原子の全数)>0であり、{(R1SiO3/2の
形をした珪素原子の数)+(SiO4/2の形をした珪素
原子の数)}×100/(珪素原子の全数)≧20%で
あるとは、珪素系樹脂を構成する珪素原子に、少なくと
も3官能シロキサン単位であるR1SiO3/2の形をし
たものと4官能シロキサン単位であるSiO4/2の形を
したものとがともに存在し、その両者を合計した珪素原
子の数が全珪素原子の数に対して20%以上であるとい
う意味である。
3/2のR1としては、水素原子、水酸基、アミノ基、ハ
ロゲン原子又は有機基を表す。
でもよく、各々置換または無置換のアルキル基、アルケ
ニル基、アルキレン基、アリール基、シクロアルキル基
等を挙げることができる。
基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、トリフロロメチル基等が挙げられる。
基、イソプロペニル基、ブテニル基、等が挙げられる。
レン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
基、キシリル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリ
ブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、フリル
基、チエニル基、ピリジル基等の基が挙げられる。
基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル
基、等の基が挙げられる。
3/2の形をした珪素原子の数と4官能シロキサン単位で
あるSiO4/2の形をした珪素原子の数において、3官
能シロキサン単位の珪素原子の数を多くすることによっ
て、更に耐衝撃性を向上することができ、4官能シロキ
サン単位の珪素原子の数を多くすることによって、更に
耐熱性を向上することが可能であり、要求される特性に
応じてこれらの組成比を変化することができる。
ン単位の珪素原子の数は共に少なくとも5%以上である
ことが好ましい。
を得るためには、珪素系樹脂中に含まれる珪素原子の全
数に対する3官能シロキサン単位の珪素原子の数は、1
0%以上90%以下であることが好ましい。
は、広い波長領域において高い光透過率を得ることが可
能であり、珪素原子に結合された置換基の内、20mo
l%以上をアルキル基又は水素原子とすることによっ
て、250nm〜900nmの広い波長領域に対して8
0%以上の分光透過率を達成することが可能であり、特
に短波長領域の光透過率を向上させることができる。
基の内、15〜100mol%を芳香族基とすることに
より、更に屈折率を向上することができ、芳香族基とし
てはアリール基が好ましく、更に好ましくはフェニル
基、トリル基、モノクロルフェニル基等である。
体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
1官能シロキサン単位、2官能シロキサン単位及びシロ
キサン構造単位以外の構造単位を含むことができる。
するシロキサン単位であり、具体例としては次のような
ものが挙げられる。
=CH−)SiO1/2、(C6H5)(CH3)2Si
O1/2、(C6H5)3SiO1/2、(C6H11)(CH3)2
SiO1/2、(C6H5CH2)(CH3)2SiO1/2、−
(CH2CH2)(CH3)2SiO1/2 2官能シロキサン単位とは置換基を二つ有するシロキサ
ン単位であり、具体例としては次のようなものが挙げら
れる。
=CH)SiO2/2、(C6H5)(CH 3)SiO2/2、
(C6H5)2SiO2/2、(C6H11)(CH3)SiO
2/2、(C10H7CH2CH2)(CH3)SiO2/2、(C
6H5CH2)(CH3)SiO2/2、(C6H2Br3CH2
CH2)(CH3)SiO2/2、−(CH2CH2)(C
H3)SiO2/2、−(CH2CH2)2SiO2/2等を挙げ
ることができる。
レンズに必要な硬度を低下させないために、60%以下
とすることが好ましい。
ロキサン単位以外の珪素原子を含有する構造単位であ
り、具体的には、シラザン、ポリシラン、シルフェニレ
ン、シルアルキレン等のシロキサン結合以外の結合を有
する構造単位をいう。
光学用レンズの固体高分解能29Si−NMRスペクトル
(29Si−MAS)を測定することにより精度良く求め
ることができる。
おける各構造単位に対応するピークの検出される化学シ
フト値の具体例を以下に示す。
Si−MAS)においてそれぞれのピークの面積百分率
を測定することにより精度良く個々の構造単位の定量値
(mol%)を得ることができる。
は、1種または複数のオルガノポリシロキサン、硬化
剤、触媒を金型に入れ硬化させる方法が好ましく用いら
れる。
化反応、電子線硬化反応、熱硬化反応を挙げることがで
きる。熱硬化反応が生産性の点で好ましい。
ル縮合、脱水素縮合、パーオキサイド架橋、付加重合反
応が挙げられる。光学素子の光透過率を損なわないとい
う点で付加重合反応が好ましい。付加重合反応の触媒と
しては白金化合物が好ましく用いられる。
知られた公知の方法で行うことができる。例えば、それ
ぞれのシロキサン単位に対応したクロロシラン、アルコ
キシシラン等の加水分解性シランを共加水分解すること
により得られる。
する場合は、重量平均分子量300〜100000、末
端もしくは、側鎖にビニル基やアリル基等のアルケニル
基を有する1種または複数のオルガノポリシロキサン成
分と重量平均分子量300〜100000の1種、また
は複数のオルガノハイドロジェンポリシロキサン成分を
硬化剤として用いて100℃〜200℃の温度で10分
から3時間程度加熱硬化させ、成形するのが好ましい。
白金触媒の量は0.1ppmから1000ppmが好ま
しい。
リシロキサン以外に下記の一般式で示される、有機珪素
化合物を用いることもできる。
3-a−Q−Si(R4)3-a−(OSiH(CH3)2)a 式中、R4は有機基を表し、Qは二価の芳香族炭化水素
基であり、aは1〜3の整数である。以下に具体例を示
す。
物も用いることができる。
Qは芳香族炭化水素を含有する2価の有機基である。以
下に具体例を示す。
やアリル基等のアルケニル基を有するオルガノポリシロ
キサンはクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメ
チルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン等の公知のクロロシラン化合物と
分子内にビニル基やアリル基を有する公知のクロロシラ
ン化合物を各種の組み合わせで配合し、共加水分解、或
いは、アルコキシ化し、更に、縮合させることにより合
成することが出来る。
比及び反応条件によりオルガノポリシロキサンの分岐及
び網目構造、反応性基の種類、量、分子量、粘度等を制
御することが可能であり、多様なオルガノポリシロキサ
ンを調整することが可能である。
ング・コーポレーション(米国)、信越化学工業(株)
等から市販されている。例えば、信越化学工業(株)の
珪素化合物試薬カタログには以下のクロロシラン化合物
が記載されている。
0)、トリクロロシラン(商品名、LS−20)、メチ
ルトリクロロシラン(商品名、LS−40)、ビニルト
リクロロシラン(商品名、LS−70)、ジメチルジク
ロロシラン(商品名、LS−130)、メチルビニルジ
クロロシラン(商品名、LS−190)、トリメチルク
ロロシラン(商品名、LS−260)、ジビニルジクロ
ロシラン(商品名、LS−335)、ジメチルビニルク
ロロシラン(商品名、LS−380)、アリルジメチル
クロロシラン(商品名、LS−650)、4−クロロフ
ェニルトリクロロシラン(商品名、LS−915)、フ
ェニルトリクロロシラン(商品名LS−920)、シク
ロヘキシルトリクロロシラン(商品名、LS−97
0)、ベンジルトリクロロシラン(商品名、LS−14
65)、p−トルイルトリクロロシラン(商品名、LS
−1480)、メチルフェニルジクロロシラン(商品
名、LS−1480)、フェニルビニルジクロロシラン
(商品名、LS−1980)、ジメチルフェニルクロロ
シラン(商品名、LS−2000)、オクチルトリクロ
ロシラン(商品名、LS−2190)、メチルフェニル
ビニルクロロシラン(商品名、LS−2520)、トリ
フェニルクロロシラン(商品名、LS−6370)、ト
リベンジルクロロシラン(商品名、LS−6800)。
オルガノポリシロキサンとしては、下記平均組成式で示
されるものが例示される。
はメチル基、Chはシクロヘキシル基、Phはフェニル
基、Benzyはベンジル基、Tolyはトリル基、C
lPhはモノクロルフェニル基を示す。
3/2)b(Ph2SiO2/2)c(SiO4/ 2)e (Me3SiO1/2)a(PhSiO3/2)b(PhViS
iO2/2)c(SiO4/2)e (ViMe2SiO1/2)a(MePhSiO2/2)b(P
hSiO3/2)c(Me3SiO1/2)d(SiO4/2)e (ViMe2SiO1/2)a(MePhSiO2/2)b(P
hSiO3/2)c(Ph3SiO1/2)d(SiO4/2)e (ViMe2SiO1/2)a(ViPhSiO2/2)b(T
olySiO3/2)c(Me3SiO1/2)d(SiO4/2)
e (PhMe2SiO1/2)a(MePhSiO2/2)b(V
iMeSiO2/2)c(PhSiO3/2)d(SiO4/2)e (Me3SiO1/2)a(MeBenzySiO2/2)
b(MeSiO3/2)c(Ph2ViSiO1/2)d(SiO
4/2)e (Me3SiO1/2)a(MeViSiO2/2)b(PhS
iO3/2)c((ClPh)SiO3/2)d(SiO4/2)
e (Me3SiO1/2)a(ChPhSiO2/2)b(PhS
iO3/2)c(ViPh2SiO1/2)d(SiO4/2)e (但し、a〜eは1未満の正の数であり、各式において
a〜eの合計は1.0である) これらのオルガノポリシロキサンは上記の式におけるそ
れぞれの構成単位に対応するオルガノハロシランを共加
水分解する公知の方法で得ることができる。
ビニル基やアリル基を末端や側鎖に有するオルガノポリ
シロキサンと同様に珪素原子に結合した水素原子を有す
る各種のクロロシラン化合物を用いて合成する事が出来
る。
メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチ
ルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロ
ジェンポリシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイド
ロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロ
キサン・ジフェニルシロキサン共重合体、(CH3)2H
SiO1/2単位とSiO3/2単位とからなる共重合体、
(CH3)3SiO1/2単位と(CH3)2HSiO1/2単位
とSiO3/2単位とからなる共重合体、(CH3)2Si
HO1/2単位と(C6H5)3SiO1/2単位とSiO3/2単
位とからなる共重合体等が挙げられる。
ノハイドロジェンポリシロキサン成分とビニル基やアリ
ル基を末端や側鎖に有するオルガノポリシロキサン成分
は、得られた光学用レンズの光透過率を高くするために
は十分に相溶していることが好ましい。
配合量はビニル基やアリル基を末端または側鎖に有する
オルガノポリシロキサン成分100重量部に対して5〜
300重量部用いることが好ましい。得られた光学用レ
ンズの硬度を充分高くするためには、オルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンの配合量が5重量部以上であるこ
とが好ましく、光透過率を向上する点でオルガノハイド
ロジェンポリシロキサンの配合量を増加することが好ま
しい。
触媒として白金触媒が好ましく用いられるが、例えば白
金ブラック、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸等
のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン類との錯
体等が挙げられる。触媒の使用量は成分の合計量に対し
て好ましくは0.1〜1000ppm、更に好ましくは
5〜200ppmである。
オルガノポリシロキサンとしては、平均組成式がR2a
(CnH2n+1)bSiO(4-a-b)/2(ここで、R2は水素
原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子又はアルキル基
以外の有機基であり、a>0、b>0であり、0<a+
b<2であり、nは正の整数をあらわす。)で表される
オルガノポリシロキサンを含有する組成物から形成され
たものが好ましく、特にn=1、即ちメチル基が好まし
い。これは得られた光学用レンズが広い波長領域におい
て高い光透過率を得ることができるからである。又、
a、bとしては各々0<a<1、0.5<b<2の範囲
であることが好ましい。
するオルガノポリシロキサンとしては、平均組成式がR
3c(H)dSiO(4-c-d)/2(ここで、R3は水酸基、
アミノ基、ハロゲン原子又は有機基であり、c>0、d
>0であり、0<c+d<2である)で表されるオルガ
ノポリシロキサンを含有する組成物から形成されたもの
であることが好ましく、これは得られた光学用レンズが
広い波長領域において高い光透過率をうることができる
からである。又、c、dとしては各々0<c<1、0.
5<d<2の範囲であることが好ましい。
ルガノポリシロキサンから形成されたシリコーン樹脂で
あり、前記光学用レンズが該シリコーン樹脂からなる光
学用レンズであることが最も好ましい態様である。
分、ビニル基やアリル基を末端または側鎖に有するオル
ガノポリシロキサン成分、触媒の他に光学用レンズの機
械的強度を向上させる目的で光学用レンズの光透過率を
低下させない範囲でヒュームドシリカ等の補強性充填剤
を用いても良い。また、成形品の硬度や粘弾性を調整す
る目的で平均分子量3000〜100000の鎖状のオ
ルガノポリシロキサンを第3のポリマー成分として用い
てもよい。
コーン樹脂よりなる光学用レンズを成形する際の成形方
法としては射出成形、押し出し成形、注型成形等の成形
法により成形することが可能である。
を、光学面が非球面形状のレンズに適用することによ
り、本発明の種々の特性を持ち、なお且つ金型の転写性
も良好で、非球面形状のレンズの波面収差も良好な光学
用レンズが得られる。非球面形状のレンズは、少なくと
も一方の光学面が非球面形状であるものが好ましく、更
に好ましくは両面が非球面形状のものである。
においては、JIS−A硬度が85以上の硬度を有する
機械強度の高い光学用レンズを得ることができる。
レンズは、光透過率を高める為に反射防止層を設けるこ
とができる。更に、基材また、表面の傷防止の為にハー
ドコート層を設けてもよい。
るために光学用レンズの表面に反射防止膜を施すことが
できる。反射防止膜としては、単層であっても、屈折率
の異なる薄膜を積層して得られる多層膜であってもよ
く、反射率の低減されるものであれば、無機物でも有機
物でも可能である。
するためには、無機物から成る単層、または多層の反射
防止膜を設けることが最も好ましい。使用できる無機物
としては酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、
フッ化マグネシウム等の酸化物或いはフッ化物が挙げら
れる。
タリング等のいわゆるPVD法によって施すことができ
る。
である為、シリコーンハードコート剤を用いる際に、ハ
ードコート層と基材の接着性を高めるために常用される
プライマー層がなくてもよいという長所がある。
(イ)、(ロ)を主成分とするコーティング組成物を塗
布硬化させたものが挙げられる。
するシラン化合物の一種以上。
ルコニウム、酸化タングステン、酸化タンタル、酸化ア
ルミニウム等の金属酸化物微粒子、酸化チタン、酸化セ
リウム、酸化ジルコニア、酸化珪素、酸化鉄のうち二つ
以上を用いた複合金属酸化物微粒子酸化スズと酸化タン
グステンの複合金属微粒子で酸化スズ微粒子を被覆した
複合金属微粒子から選ばれる一種以上。
整し、かつ、硬度を高めるために有効な成分である。ハ
ードコート層の厚みは通常0.2ミクロン〜10ミクロ
ン程度がよい。より好ましくは1ミクロン〜3ミクロン
程度である。
を更に具体的に説明する。
はメチル基、Chはシクロヘキシル基、Phはフェニル
基、Benzyはベンジル基、Tolyはトリル基、C
lPhはモノクロルフェニル基を示す。
末端または側鎖に有するオルガノポリシロキサン成分1
〜8、及びオルガノハイドロジェンポリシロキサン成分
1〜3を示す。
合成方法、すなわち、複数の加水分解性シラン化合物を
共加水分解することにより合成した。
について簡単に示す。
Cl3、(CH3)3SiCl、(C6H5)(Toly)
SiCl2、SiCl4を混合した後、水を加えて共加水
分解した。水で十分に反応生成物を洗浄後、減圧濃縮し
てオルガノポリシロキサンを得た。
えて、オルガノポリシロキサン2〜8を合成した。
法、ICP法によるSiの定量、及び有機元素分析法に
より平均組成を求めた。
組成を示した。
1.22 オルガノポリシロキサン5 Vi0.01Me1.97SiO1.01 オルガノポリシロキサン6 Ph1.93Vi0.01SiO1.03 オルガノポリシロキサン7 Vi0.04Me0.08Ph1.36SiO1.26 オルガノポリシロキサン8 Vi0.08Me1.50SiO1.21 オルガノハイドロジェンポリシロキサン1 両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン
ポリシロキサン オルガノハイドロジェンポリシロキサン2 (CH3)2HSiO1/2単位とSiO3/2単位とからなる
共重合体(共重合比8/2) オルガノハイドロジェンポリシロキサン3 H1.00Me0.42SiO1.29 有機珪素化合物−1 H(CH3)2SiOSi(OSi((CH3)2H))
(C6H5)C6H4Si(C6H5)OSi(OSi((C
H3)2H))(CH3)2H 実施例1 オルガノポリシロキサン1を100重量部、オルガノポ
リシロキサン6を5重量部、オルガノハイドロジェンポ
リシロキサン2を10重量部、及び塩化白金酸のイソプ
ロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部を
混合し、真空撹拌により脱泡して、シリコーン樹脂組成
物を調製した。このシリコーン樹脂組成物をレンズ成形
用金型に40気圧で注入し、145℃で10分間加熱
し、注型成形による片面非球面形状のレンズ成形品を得
た。また、物性評価用に平板成形品(直径8cm、厚さ
1.8mm)も作製した。平板成形品について、400
nm〜850nmの領域の光透過率を測定した結果、光
透過率は85%以上であった。
リシロキサン6を5重量部、オルガノハイドロジェンポ
リシロキサン2を10重量部、及び塩化白金酸のイソプ
ロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部を
用いて実施例1と同様にして片面非球面形状のレンズ成
形品を得た。また、物性評価用に平板成形品(直径8c
m、厚さ1.8mm)も作製した。平板成形品につい
て、400nm〜850nmの領域の光透過率を測定し
た結果、光透過率は85%以上であった。
リシロキサン2 80重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を20重量部、及び塩化白金酸のイソ
プロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1.1重
量部を混合し、真空撹拌により脱泡して、シリコーン樹
脂組成物を調製した。このシリコーン樹脂組成物をレン
ズ成形用金型に40気圧で注入し、150℃で15分間
加熱し、注型成形による片面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、物性評価用に平板成形品(直径8cm、
厚さ1.8mm)も作製した。平板成形品について、4
00nm〜850nmの領域の光透過率を測定した結
果、光透過率は85%以上であった。
リシロキサン2を80重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を15重量部、有機珪素化合物−1を
5重量部、及び塩化白金酸のイソプロパノール溶液(白
金含有量0.2重量%)1.1重量部を混合し、真空撹
拌により脱泡して、シリコーン樹脂組成物を調製した。
このシリコーン樹脂組成物をレンズ成形用金型に40気
圧で注入し、150℃で15分間加熱し、注型成形によ
る片面非球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評
価用に平板成形品(直径8cm、厚さ1.8mm)も作
製した。平板成形品について、400nm〜850nm
の領域の光透過率を測定した結果、光透過率は85%以
上であった。
リシロキサン5を10重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を20重量部、及び塩化白金酸のイソ
プロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部
を混合し、真空撹拌により脱泡して、シリコーン樹脂組
成物を調製した。このシリコーン樹脂組成物をレンズ成
形用金型に40気圧で注入し、145℃で10分間加熱
し、注型成形による両面非球面形状のレンズ成形品を得
た。また、物性評価用に平板成形品(直径8cm、厚さ
1.8mm)も作製した。平板成形品について、400
nm〜850nmの領域の光透過率を測定した結果光、
透過率は85%以上であった。
リシロキサン2を80重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を20重量部、及び塩化白金酸のイソ
プロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部
を混合し、真空撹拌により脱泡して、シリコーン樹脂組
成物を調製した。このシリコーン樹脂組成物をレンズ成
形用金型に40気圧で注入し、145℃で10分間加熱
し、注型成形による両面非球面形状のレンズ成形品を得
た。また、物性評価用に平板成形品(直径8cm、厚さ
1.8mm)も作製した。平板成形品について、400
nm〜850nmの領域の光透過率を測定した結果、光
透過率は85%以上であった。又、250nm〜900
nmの領域の光透過率を測定した結果、光透過率は80
%以上であった。
ガノポリシロキサン8を20重量部、及び塩化白金酸の
イソプロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重
量部を混合し、真空撹拌により脱泡して、シリコーン樹
脂組成物を調製した。このシリコーン樹脂組成物をレン
ズ成形用金型に40気圧で注入し、145℃で10分間
加熱し、注型成形による両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、物性評価用に平板成形品(直径8cm、
厚さ1.8mm)も作製した。平板成形品について、4
00nm〜850nmの領域の光透過率を測定した結
果、光透過率は85%以上であった。又、250nm〜
900nmの領域の光透過率を測定した結果、光透過率
は80%以上であった。
シロキサン5を100重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を20重量部、及び塩化白金酸のイソ
プロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部
を用いて実施例1と同様にして片面非球面形状のレンズ
成形品を得た。また、物性評価用に平板成形品(直径8
cm、厚さ1.8mm)も作製した。平板成形品につい
て、250nmにおける光透過率を測定した結果、光透
過率は60%以下であった。
リシロキサン1を10重量部、オルガノハイドロジェン
ポリシロキサン1を15重量部、及び塩化白金酸のイソ
プロパノール溶液(白金含有量0.2重量%)1重量部
を用いて実施例1と同様にして片面非球面形状のレンズ
成形品を得た。また、物性評価用に平板成形品(直径8
cm、厚さ1.8mm)も作製した。平板成形品につい
て、250nmにおける光透過率を測定した結果、光透
過率は5%以下であった。
リレート樹脂であるアクリペットVH(三菱レイヨン
製)を用いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法によ
り片面非球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評
価用に平板成形品(直径8cm、厚さ1.8mm)も作
製した。平板成形品について、250nmにおける光透
過率を測定した結果、光透過率は5%以下であった。
タイプポリカーボネート樹脂であるユーピロンS200
0(三菱ガス化学製、数平均分子量24,000)を用
いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法により両面非
球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評価用に平
板成形品(直径8cm、厚さ1.8mm)も作製した。
平板成形品について、250nmにおける光透過率を測
定した結果、光透過率は5%以下であった。
官能単位の含有率(%)、及び諸物性を以下に示す方法
により測定し、評価した。
の含有率(%)の測定:成形品を液体窒素で凍結した後
粉砕し固体高分解能FT−NMR装置(日本電子社製E
X270)を用いて、成形品の29Si−NMRスペクト
ルを測定した。基本構成単位のmol%を精度良く測定
する為、測定法には定量精度の高い29Si−MASを用
いた。以下に測定条件を示す。
品名2T)を用いて、成形品の屈折率を測定した。
m)を測定した。
の光透過率を可視紫外分光光度計(日立自記分光光度
計)で測定した。又250nm〜900nmの領域の光
透過率を紫外可視近赤外分光光度計(日本分光V57
0)で測定した。
時間放置した後、目視及び「フィルム配向ビュアー」
(ユニチカリサーチラボ社の商品名)にて成形品を観察
した。
の変化が全く認められないものを○、いずれかが認めら
れたものを×とした。
ーターを用いてJIS−A硬度を測定した。85以上の
ものについては○、85未満のものについてはプラスチ
ックレンズとしては硬さが不足しているので×とした。
クの吸水率の測定法)に準拠し、直径8cm、厚さ1.
8mmの試験片を用いて測定した。
て、プラスチックレンズ成形品の3官能及び4官能単位
の含有率(%)、屈折率、複屈折、硬さ、耐熱性、飽和
吸水率を測定し、その結果を表1に示した。
て、キセノンロングライフウェザーメータ(スガ試験機
社製WEL−6X−HC−EC)による耐光性試験(室
温、30日)を行ったところ、微細なクラックの発生も
着色も認められなかった。
率等の光学的基本特性に優れ、尚かつ、高い熱安定性、
低い吸水性、高い硬度、優れた成形性を有する光学用レ
ンズを提供することができた。
Claims (20)
- 【請求項1】 以下の条件式を満足する珪素系樹脂を有
することを特徴とする光学用レンズ。 (R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原
子の全数)>0 (SiO4/2の形をした珪素原子の数)/(珪素原子の
全数)>0 {(R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)+(Si
O4/2の形をした珪素原子の数)}×100/(珪素原
子の全数)≧20% ここで、R1は水素原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン
原子又は有機基である。 - 【請求項2】 以下の条件式を満足することを特徴とす
る請求項1記載の光学用レンズ。 (R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)≧(SiO
4/2の形をした珪素原子の数) - 【請求項3】 以下の条件式を満足することを特徴とす
る請求項1記載の光学用レンズ。 (R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)<(SiO
4/2の形をした珪素原子の数) - 【請求項4】 以下の条件式を満足することを特徴とす
る請求項1に記載の光学用レンズ。 10%≦(R1SiO3/2の形をした珪素原子の数)×
100/(珪素原子の全数)≦90% - 【請求項5】 前記珪素系樹脂に含まれる珪素原子に結
合された置換基の内、15〜100mol%が芳香族基
であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に
記載の光学用レンズ。 - 【請求項6】 前記珪素系樹脂に含まれる珪素原子に結
合された置換基の内、20mol%以上がアルキル基で
あることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記
載の光学用レンズ。 - 【請求項7】 前記アルキル基がメチル基であることを
特徴とする請求項6記載の光学用レンズ。 - 【請求項8】 前記珪素系樹脂に含まれる珪素原子に結
合された置換基の内、20モル%以上が水素原子である
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の
光学用レンズ。 - 【請求項9】 前記珪素系樹脂は、平均組成式がR2a
(CnH2n+1)bSiO(4-a-b)/2(ここで、R2は水素
原子、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子又はアルキル基
以外の有機基であり、a>0、b>0であり、0<a+
b<2であり、nは正の整数をあらわす。)で表される
オルガノポリシロキサンを含有する組成物から形成され
たことを特徴とする請求項1乃至4又は6乃至8の何れ
か1項に記載の光学用レンズ。 - 【請求項10】 前記平均組成式R2a(CnH2n+1)b
SiO(4-a-b)/2中、n=1であることを特徴とする請
求項9記載の光学用レンズ。 - 【請求項11】 前記オルガノポリシロキサンがアニケ
ニル基を有することを特徴とする請求項9又は10記載
の光学用レンズ。 - 【請求項12】 前記珪素系樹脂は、平均組成式がR3
c(H)dSiO(4-c-d)/2(ここで、R3は水酸基、ア
ミノ基、ハロゲン原子又は有機基であり、c>0、d>
0であり、0<c+d<2である)で表されるオルガノ
ポリシロキサンを含有する組成物から形成されたことを
特徴とする請求項1乃至4又は8の何れか1項に記載の
光学用レンズ。 - 【請求項13】 250nm〜900nmの波長領域に
対して80%以上の分光透過率を有することを特徴とす
る請求項1乃至4又は6乃至12の何れか1項に記載の
光学用レンズ。 - 【請求項14】 前記珪素系樹脂がシリコーン樹脂であ
り、前記光学用レンズが該シリコーン樹脂からなること
を特徴とする請求項1乃至13の何れか1項に記載の光
学用レンズ。 - 【請求項15】 前記シリコーン樹脂が熱硬化型であ
り、熱硬化反応に付加反応を用いて形成されたことを特
徴とする請求項14記載の光学用レンズ。 - 【請求項16】 前記熱硬化反応の触媒に白金化合物を
用いたことを特徴とする請求項15記載の光学用レン
ズ。 - 【請求項17】 400nm〜850nmの波長領域に
おいて85%以上の透過率を有することを特徴とする請
求項1乃至16の何れか1項に記載の光学用レンズ。 - 【請求項18】 JIS−A硬度が85以上であること
を特徴とする請求項1乃至17の何れか1項に記載の光
学用レンズ。 - 【請求項19】 少なくとも一方の光学面が非球面形状
を有することを特徴とする請求項1乃至18の何れか1
項に記載の光学用レンズ。 - 【請求項20】 光学面の両面が非球面形状を有するこ
とを特徴とする請求項19記載の光学用レンズ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3264399A JP2000231001A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 光学用レンズ |
| US09/500,089 US6285513B1 (en) | 1999-02-10 | 2000-02-08 | Optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3264399A JP2000231001A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 光学用レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000231001A true JP2000231001A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12364543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3264399A Pending JP2000231001A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 光学用レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000231001A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001026717A (ja) * | 1999-07-01 | 2001-01-30 | Dow Corning Corp | 高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法 |
| JP2001081194A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Dow Corning Asia Ltd | 近紫外光領域用ポリシロキサン樹脂の製造方法 |
| WO2003011944A3 (en) * | 2001-07-28 | 2003-05-08 | Dow Corning | High refractive index polysiloxanes and their preparation |
| JP2005325174A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Asahi Denka Kogyo Kk | ケイ素含有硬化性組成物、及びこれを熱硬化させた硬化物 |
| JP2006328102A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レンズ成形用シリコーン樹脂組成物及びシリコーンレンズ |
| JP2006335857A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 透明な硬化物を与えるポリオルガノシロキサン組成物 |
| JP2007333990A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 蛍光体含有シリコーン樹脂製レンズ及び該レンズ成形用シリコーン樹脂組成物 |
| JP2009042649A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Fujifilm Corp | レンズの製造方法及びレンズ |
| JP2010001474A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Wacker Chemie Ag | ヒドロシリル化法 |
-
1999
- 1999-02-10 JP JP3264399A patent/JP2000231001A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001026717A (ja) * | 1999-07-01 | 2001-01-30 | Dow Corning Corp | 高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法 |
| JP2001081194A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Dow Corning Asia Ltd | 近紫外光領域用ポリシロキサン樹脂の製造方法 |
| WO2003011944A3 (en) * | 2001-07-28 | 2003-05-08 | Dow Corning | High refractive index polysiloxanes and their preparation |
| US7429638B2 (en) | 2001-07-28 | 2008-09-30 | Dow Corning Limited | High refractive index polysiloxanes and their preparation |
| CN101633735B (zh) * | 2001-07-28 | 2011-07-20 | 陶氏康宁公司 | 高折射率聚硅氧烷及其制备 |
| JP2005325174A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Asahi Denka Kogyo Kk | ケイ素含有硬化性組成物、及びこれを熱硬化させた硬化物 |
| US7939614B2 (en) | 2004-05-12 | 2011-05-10 | Adeka Corporation | Silicon-containing curing composition and heat cured product thereof |
| JP2006328102A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レンズ成形用シリコーン樹脂組成物及びシリコーンレンズ |
| JP2006335857A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 透明な硬化物を与えるポリオルガノシロキサン組成物 |
| JP2007333990A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 蛍光体含有シリコーン樹脂製レンズ及び該レンズ成形用シリコーン樹脂組成物 |
| JP2009042649A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Fujifilm Corp | レンズの製造方法及びレンズ |
| JP2010001474A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Wacker Chemie Ag | ヒドロシリル化法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000231002A (ja) | 光学用レンズ | |
| CN100465233C (zh) | 可加成固化的有机聚硅氧烷树脂组合物和光学材料 | |
| JP5247979B2 (ja) | 透明な硬化物を与えるポリオルガノシロキサン組成物 | |
| CA2521736C (en) | Curable organopolysiloxane resin composition for optical waveguides, optical waveguide, and fabrication process thereof | |
| US8178642B2 (en) | Curable organopolysiloxane composition and cured product thereof | |
| TW296401B (ja) | ||
| US6285513B1 (en) | Optical element | |
| CN100489563C (zh) | 可加成固化的有机聚硅氧烷树脂组合物 | |
| JP2000235103A (ja) | 高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び光学用硬化性樹脂組成物 | |
| TWI398486B (zh) | And an excellent hardening type polysiloxane composition having excellent crack resistance | |
| WO2005052078A1 (en) | A method of manufacturing a layered silicone composite material | |
| CN107429062A (zh) | 成型用聚有机硅氧烷组合物、光学用部件、光源用透镜或盖子以及成型方法 | |
| KR101141110B1 (ko) | 실세스퀴옥산 유도체를 사용하여 제조된 중합체 | |
| JP2004123936A (ja) | シリコーン樹脂組成物及びシリコーン樹脂成形体 | |
| JP2005089671A (ja) | 硬化性シリコーン樹脂組成物 | |
| EP2683783A1 (en) | Polysilanesiloxane resins for use in an antireflective coating | |
| JP2000231001A (ja) | 光学用レンズ | |
| JP2000231003A (ja) | 光学素子及び光学用レンズ | |
| JPH02229860A (ja) | 光学的に透明なシリコーン組成物 | |
| TW200806748A (en) | Liquid organopolysiloxane composition for matting and cured article having a matted surface | |
| JP4682644B2 (ja) | シリコーン樹脂成型体用ワニス及びシリコーン樹脂成型体 | |
| TWI714561B (zh) | 有機聚矽氧烷、其製造方法及可固化聚矽氧組合物 | |
| JP4874891B2 (ja) | レンズの製造方法及びレンズ | |
| JPH11130865A (ja) | ヒドロキシフェニル基含有シルフェニレン化合物、シルフェニレン変性有機樹脂 | |
| JP2000017176A (ja) | 光学用シリコーン組成物及びレンズ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060203 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081006 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090929 |