JP2000210560A - 含フッ素化合物分解用触媒及び含フッ素化合物の分解処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、実用的な反応条件下で
高い分解性能を長時間維持する、真に実用的な含フッ素
化合物分解触媒の提供、および当該触媒を用いた含フッ
素化合物の連続的分解処理方法の提供を目的とする。 【解決手段】 γ−アルミナ触媒の失活原因を調
べた結果、アルミナのγ相からα相への結晶相転移が原
因であることを突き止め、該相転移の抑制法を種々検討
した結果、シリカの添加が、γ−アルミナのα−アルミ
ナへの相転移抑制に大きな効力を有し、含フッ素化合物
に対してγ−アルミナ触媒だ本来有している高い分解活
性の維持に顕著な効果を示すことを見出し、本発明を完
成した。すなわち、本発明は、γ−アルミナ１００重量
部に対して１〜１０重量部の二酸化珪素を添加して構成
される、パーフルオロ化合物及び／又はフロン化合物か
らなるガス状含フッ素化合物分解用触媒、及び、該触媒
を使用する、パーフルオロ化合物及び／又はフロン化合
物からなるガス状含フッ素化合物の分解処理方法に関す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高い分解活性を長
時間維持する、フッ素化合物特に、フッ化炭素、フッ化
窒素、フッ化硫黄等の、パーフルオロ化合物やフロン化
合物の触媒による接触分解処理方法および該分解処理に
使用される触媒に関する。本発明の方法により、オゾン
層破壊の原因物質として問題となっているフロンの分解
処理が可能であることは勿論、地球温暖化の要因である
ことが懸念されているにも係わらず各種製造現場特に半
導体製造工場から大気に排出される、フロンに比して分
解がより困難なパーフルオロ化合物量の低減も可能とな
る。

【０００２】

【従来の技術】揮発性含フッ素化合物の内、塩素とフッ
素とを含むフロンは、オゾン層破壊の元凶としてその排
出は今後厳しく規制されることが確定している。揮発性
含フッ素化合物には、このフロンの他にも、フッ化炭
素、フッ化窒素、フッ化硫黄及びフッ化炭化水素（ＨＦ
Ｃ）を総称するパーフルオロ化合物（以下ＰＦＣと称
す）と呼ばれる化合物がある。このＰＦＣは、フロンと
は異なり塩素を含まず且つ非常に安定であるためにオゾ
ン層破壊には関与しないものであり、未だ排出量の規制
がないことから、半導体製造現場におけるエッチング工
程や洗浄工程で良く使用されているものである。しか
し、地球温暖化係数が二酸化炭素の１０００倍以上と大
きく、その大気への排出はフロン同様、今後規制される
可能性が非常に高い化合物である。これ等含フッ素化合
物の内、エアコン等製品そのものに含まれ発生源が広範
に分布しているためその排出抑制が非常に困難な特定フ
ロンガスの場合には、その製造・使用を全面的に禁止す
るしか手はないかも知れないが、ＰＦＣのように、製造
工程で使用はされるものの製品に含まれて出荷されるこ
とはなく、発生源が工場に特定されることから、出口で
の排出抑制が比較的容易であるものについては、その本
来の特性を活かしつつ使用するのが得策である。勿論、
その排出の基準値が設定された場合には、それ以下に抑
制されることが前提であることは言うまでもない。

【０００３】上記ガスの排出を抑制する方法としては、
回収する方法と分解処理する方法の二通りが考えられ
が、回収する方法は、例えばＰＦＣの場合には、排出ガ
ス中に含まれるＰＦＣ濃度が本質的に低いことと、回収
装置が複雑化することから、分解処理が好ましい方法で
ある。しかし、ＰＦＣ、中でもフッ化炭素は、フロンに
比して化学的に安定であることから、通常のフロンの分
解に使用される分解方法では処理は困難であり更に過酷
な処理条件が必要である。例えば、単純な燃焼処理に必
要な温度は、フロンの場合には８００〜９００℃である
が、フッ化炭素に於ては１０００℃以上となるだけでな
く、燃焼装置の燃焼炉やノズル等、高温下で腐蝕性ガス
と接触する部分における腐蝕の問題もあり、実用化には
未だ解決すべき問題が残されているのが実情である。

【０００４】特開平７−１１６４６６号および特開平７
−１３２２１１号の各公報には、シリカやゼオライトを
分解剤ないしはフッ素捕捉剤として使用し、フッ化炭素
を分解する技術が開示されているが、フッ化炭素を実用
的な速度で分解するにはやはり１０００℃以上の高温を
要するだけでなく、分解剤の一部がフッ素捕捉剤として
消費されるため、粉体の分解剤を供給しながら反応を行
う必要があり、装置的に煩雑になる欠点を有したもので
ある。一方、実用的な温度条件下でＰＦＣをも含む含フ
ッ素化合物を連続的に処理する方法として、触媒分解方
法が特開平１０−１９２６５３号公報に開示されてい
る。ここに示されている、アルミナ、シリカ、チタニ
ア、ジルコニア等を触媒とする方法を実際に試した結
果、後述するように分解活性の経時低下が激しく、触媒
分解方法を実用化する上での致命的欠点を包含したもの
であることが判明した。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明においては、実
用的な反応条件下で高い分解性能を長時間維持する、真
に実用的な含フッ素化合物分解触媒の提供、および当該
触媒を用いた含フッ素化合物の連続的分解処理方法の提
供を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、含フッ素
化合物に対して、本質的に、高い分解活性を有するγ−
アルミナ触媒の失活が何故著しいのかを詳細に調べた結
果、触媒であるアルミナのγ相からα相への結晶転移が
原因であることを突き止め、該相転移の抑制法を種々検
討した結果、珪素酸化物すなわちシリカの添加が、γ−
アルミナのα−アルミナへの相転移抑制に大きな効力を
有し、含フッ素化合物に対してγ−アルミナ触媒が本来
有している高い分解活性の維持に顕著な効果を示すこと
を見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、γ
−アルミナ１００重量部に対して１〜１０重量部の二酸
化珪素を添加して構成される、パーフルオロ化合物及び
／又はフロン化合物からなるガス状含フッ素化合物分解
用触媒に関する。更に、本発明は，酸素及び水共存下に
おいて、３００〜１０００℃に加熱された、γ−アルミ
ナ１００重量部に対して１〜１０重量部の二酸化珪素を
添加してなる触媒と接触させることを特徴とする、パー
フルオロ化合物及び／又はフロン化合物からなるガス状
含フッ素化合物の分解処理方法に関する。以下に、本発
明を詳しく説明する。

【０００７】

【発明の実施の形態】γ−アルミナ触媒上における含フ
ッ素化合物の分解は、含フッ素化合物の触媒への吸着、
吸着に伴う含フッ素化合物中の結合、例えば炭素−フッ
素結合の解離を経由して起こると考えられる。アルミナ
は純粋なＡｌ₂Ｏ₃としてではなく、吸着含フッ素化合物
構成元素、例えばフッ素、と何らかの結合をした、いわ
ゆる反応中間体として存在すると考えられる。該反応中
間体が、反応系内に共存している水によって分解して触
媒本体がＡｌ₂Ｏ₃に戻る過程で、Ａｌ₂Ｏ₃の結晶構造に
何らかの変化が起こることが十分に考えられ、実際に、
反応に供した触媒では、反応前に比して、種々の変化が
生起していることが確認されている。

【０００８】例えば、Ｘ線回折の実測チャートを提示し
て後述するが、反応に供する前のアルミナ触媒が唯一示
していた、γ相に帰属される回折ピーク強度が、該触媒
を約５０時間、Ｃ₂Ｆ₆と接触させた後では大幅に減少
し、代わりにα相に帰属される回折ピーク強度の大幅な
増加が観測され、Ｃ₂Ｆ₆分解反応を触媒することによ
る、アルミナのγからαへの相転移の生起が確認され
る。通常、γ−アルミナのα相への相転移温度は、空気
中では１２００〜１３００℃と言われており、ここで観
察される、４００〜９００℃という極めて低い温度域に
おけるα相への相転移は、前述した、アルミナと吸着物
間の相互作用に基づくものと推察される。

【０００９】また、あるγ−アルミナ触媒では、反応に
供する前に有していた２０４ｍ²／ｇの比表面積が、５
０時間、Ｃ₂Ｆ₆と接触させた後では、その値が２６ｍ²
／ｇまで減少していたことが確認されている。更に、ピ
リジンを吸着させた触媒での昇温脱離の結果は、前記触
媒（ｂ）においては、反応に供する前の触媒では６００
℃付近に出現する脱着ピークが消滅しており、この温度
で脱着する吸着ピリジン種を与える酸点が消失している
ことが確認されている。

【００１０】γ相からα相への相転移及び比表面積の減
少という物理的変化及び、酸点の消失という化学変化が
それぞれ独立して起こるのか、それともどれか一つが他
の現象発現の原因ともなっているのかは現時点では不明
であるが、その何れもが、触媒活性の発現にはマイナス
要因として働くと、一般的には考えられることから、こ
れらの相加効果によって、触媒活性の大幅な低下が引き
起こされると考えるのが妥当であり、γ−アルミナ触媒
の失活を抑制するためには、被反応物との接触で触媒中
に生起するこれらの変化の内の一つ以上を抑制すること
が必要不可欠と考えられる。

【００１１】本発明では、γ−アルミナに二酸化珪素す
なわちシリカを添加する事により、前記、反応に伴いア
ルミナ内に生起するγ相のα相への転移を抑制し、γ−
アルミナが本来有している、含フッ素化合物に対する高
い分解の長時間維持を可能にしている。

【００１２】本発明の触媒における本質的な成分である
アルミナには、結晶相の異なる種々のものが存在する
が、本発明では、強酸点を最も多く含み、結果として含
フッ素化合物分解に高い活性を示すγ−アルミナを使用
する。γ−アルミナは、アルミナとしては最も一般的な
ものであり、幾何学的形状、特性の異なる各種のものが
市販されており、入手は容易であるだけでなく、各種の
アルミナ前躯体を使用して容易に調製することも可能で
ある。市販品は、Ｆｅ、Ｎａ等を主たる不純物として含
有しているが、この内、Ｎａは、含フッ素化合物分解の
活性点として働くγ−アルミナの酸点を著しく被毒し、
含フッ素化合物分解活性の著しい低下をもたらすことか
ら、含まれる不純物としてのＮａ量は少ない程、本発明
の用途に適しており、特に、Ｎａ含量が金属換算で１０
００ｐｐｍ以下であるγ−アルミナの使用は好ましい結
果を与える。Ｎａ含量が金属換算で１０００重量ｐｐｍ
以下であるγ−アルミナについては、そのスペックを満
足する市販品を選択するのが最も良いが、金属換算で１
０００ｐｐｍより大きいＮａを含むγ−アルミナについ
ても、水洗処理、あるいは塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸
または酢酸等の有機酸で洗浄処理することにより、Ｎａ
含量を金属換算で１０００ｐｐｍ以下まで低減して使用
することもできる。

【００１３】一方、触媒のもう一つの成分であるシリカ
の原料としては、テトラエチルオルソシリケートに代表
されるアルコキシド、シリカゾル、シリカゲルがあり、
γ−アルミナの幾何的形状及び触媒調製法に応じて相応
しい方を選択する事になる。例えば、最も簡便な触媒調
製方法である、所望粒径の成形アルミナにアルコキシド
を含浸させる方法では、アルコールに溶かしたケイ素ア
ルコキシドを成形γ−アルミナに含浸させた後、溶媒を
除去する方法で実施することが出来る。この場合には、
溶媒だけを蒸発除去した後、適度な温度と時間、例えば
１００℃、２４時間で乾燥した後、空気中、３００〜７
００℃で１〜１０時間焼成して触媒を得ることができ
る。成形アルミナに代え、粉末状のγ−アルミナを使用
しケイ素アルコキシドを含浸させてたものについて溶媒
除去後、必要に応じて所望の大きさに成型した後、同条
件で焼成しても良い。また、粉末状のγ−アルミナと粉
末状のシリカを混練した後、必要に応じて成形する所
謂、混練法も勿論採用することができる。更に、アルミ
ニウムのアルコキシドとケイ素のアルコキシドからゾル
ゲル法の手法を用いて、γ−アルミナ及びシリカよりな
る触媒を製造することもできる。勿論、一連の焼成処理
は、未焼成触媒を充填した後、反応管中で行っても良
い。

【００１４】γ−アルミナのαへの相転移抑制効果は、
添加シリカ量に依存して変わる。シリカの添加量が少な
いと、γ−アルミナのα相への転移抑制効果が十分に発
現せず、結果として触媒寿命を伸ばす実質的な効果が小
さくなる。また、添加量が多くなるに従い転移抑制効果
も大きくなり、相転移を完全に抑制することも可能とな
るが、含フッ素化合物の分解に働くγ−アルミナ中の活
性点数の減少に基づくと推測される含フッ素化合物分解
活性の低下にも繋がり、反応温度アップで解決できるも
のの、反応条件的には好ましくない結果に至る。本発明
では、触媒中におけるシリカ含有量は、γ−アルミナ１
００重量部当たり酸化物換算で１〜１０重量部、好まし
くは１〜５重量部とすることにより、望ましい結果を得
ることができる。

【００１５】添加されたケイ素は、出発原料種及び調整
法から判断する限り、触媒中では酸化物の状態で存在し
ていると推測されるが、酸化物換算で１０重量部以下の
添加量では、Ｘ線回折測定で観察する限りにおいては主
成分であるγ−アルミナ以外の結晶相は認められない。
シリカの添加により、含フッ素化合物と接触時のγ−ア
ルミナのα相への転位が抑制されることから、添加ケイ
素はアルミナと強い相互作用を起こす事が可能な位置、
すなわち、γ−アルミナ結晶中に取り込まれていること
も否定できないが、その存在形態及び、シリカを含有し
たγ−アルミナを含フッ素化合物分解触媒として使用し
た場合のγからαへの相転移抑制効果の発現メカニズム
については、現時点では不明である。

【００１６】シリカ含有γ−アルミナを触媒とする含フ
ッ素化合物の分解反応は、含フッ素化合物、酸素および
水の混合ガスを触媒上に供給しながら、３００〜１００
０℃、好ましくは４００〜９００℃の温度範囲で行う。
触媒層への混合ガスの供給速度は、当然反応温度にもよ
るが、５００００／時間以下、好ましくは１００〜１０
０００／時間の範囲である。

【００１７】また、本発明の反応ガス中に含まれる含フ
ッ素化合物の濃度は、３容量％以下とするのがよい。反
応ガス中に含まれる含フッ素化合物の濃度が高すぎる
と、触媒寿命に悪い影響を与えることがあるからであ
る。一般に半導体製造工場から排出される排ガス中のＰ
ＦＣ濃度は１容量％以下であり問題にならないが、３容
量％以上含まれる場合には、空気、窒素等で希釈して、
３容量％以下となるようにするのがよい。

【００１８】また、反応ガスには含フッ素化合物に加え
て酸素および水を含ませるが、この内酸素は、含フッ素
化合物中のハロゲン、水素以外の元素をその酸化物に変
換するために、例えば、炭素含有含フッ素化合物の炭素
をＣＯ₂およびＣＯに変換するために必要な成分であ
り、水は、分解反応中に触媒上に吸着しているハロゲン
をハロゲン化水素として触媒系外に排出するために必要
な成分であるだけでなく、触媒の構成金属であるＡｌ、
Ｚｎのハロゲン化物としての飛散・減少を抑制する効果
をも有する。

【００１９】反応ガス中に含まれる酸素量は、含フッ素
化合物中のハロゲン、水素以外の元素例えば、炭素含有
含フッ素化合物の炭素をＣＯ₂およびＣＯに変換するの
に十分な量であれば特に制限はないが、反応ガス中の含
フッ素化合物濃度が上記した範囲内であれば、空気が使
用可能であるだけでなく、経済性、安全性等の観点か
ら、最も好ましい酸素源である。

【００２０】一方、反応ガス中に含まれる水の量は、反
応ガス中の含フッ素化合物に含まれるハロゲン原子から
換算した総ハロゲン量と同モル量以上１０倍モル量以
内、すなわち、ＣＦ₄であれば４〜４０倍モル、Ｃ₂Ｆ₆
であれば６〜６０倍モルとすれば有効な結果を得ること
ができる。水の供給は、一般的に用いられている方法、
すなわち、液体用ポンプを用いて液体状で所定量を送
り、反応器中の触媒層に達する前にガス化させる方法、
または、サチュレーターを用いてガス状で反応ガス、ま
たは酸素（空気）に同伴させる方法を用いることができ
る。

【００２１】含フッ素化合物の触媒による接触分解反応
は、流通式、またはバッチ式の何れでも行い得るが、装
置の簡便性および処理能力の高さから、流通式が好まし
い。なお、流通式の場合、固定床、流動床の何れでも適
用可能であるが、触媒活性の長時間維持が可能となった
事から、固定床で使用するのが、本触媒の特性を活かし
た使用方法である。

【００２２】反応器を出た後のハロゲン化水素を含む排
ガスは、湿式スクラバーや吸着剤を充填した乾式の吸着
器を通す一般的に行われている方法で、ハロゲン化水素
を除去した後、大気中に放出される。

【００２３】

【実施例】以下、具体例を示し、本発明を更に詳しく説
明する。 （１）触媒調製 アルミナは、金属換算でのＮａ含有量が５０重量ｐｐｍ
以下（注：ＩＣＰ分析での限界値以下）であるγ−アル
ミナを（日揮ユニバーサル社製、商品名：ＮＳＴ−７、
平均粒径：１．６ｍｍ）、１００℃のオーブン中で一晩
脱水処理を行って使用した。 シリカ含有アルミナ触媒 ここでは、市販の成形γ−アルミナに、シリカ源として
テトラエチルオルソシリケート［Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、
以下ＴＥＯＳと称す］を使用してシリカを含浸させた場
合の例を示す。ＴＥＯＳの所定量をエタノール５０ｍｌ
に溶解した後、上記アルミナビーズ３０ｍｌを添加し、
６０℃で１時間攪拌した。次いで、エバポレータで溶媒
を除去した後、オーブン中１００℃で一晩乾燥した。乾
燥物は、マッフル炉を使用し空気中９００℃で２時間焼
成し、触媒を得た。

【００２４】チタニア含有アルミナ触媒 ＴＥＯＳに代えてチタンイソプロポキサイドを使用した
以外は、含シリカ触媒と同様の方法で１０重量％のＴｉ
Ｏ₂を含有するアルミナ触媒を調製した。

【００２５】(２)触媒によるＣ₂Ｆ₆の分解反応 触媒１０ｍｌを、内径約２１ｍｍのハステロイ合金製反
応管に充填し、窒素気流中、反応温度で１時間加熱した
後、反応温度：７００℃、ガス組成：１容量％Ｃ₂Ｆ₆−
窒素混合ガス／空気／水蒸気＝５０／３９／５０、全ガ
ス流量：１３９ｍｌ／分の反応条件下で分解反応を行っ
た。反応管出口ガス中の未分解Ｃ₂Ｆ₆ガス量を周期的
に、ＴＣＤガスクロマトグラフィーで分析し、触媒活性
の経時的変化を調べた。尚、生成物としては、何れの場
合にも、二酸化炭素がガスクロマトグラフィーおよびＦ
ＴＩＲで確認された。Ｃ₂Ｆ₆分解活性の反応時間に伴う
経時変化を図１に示す。尚、図１において、Ｃ₂Ｆ₆転化
率は ［（原料ガス中のＣ₂Ｆ₆量−出口ガス中のＣ₂Ｆ₆量）÷
原料ガス中のＣ₂Ｆ₆量］×１００ で与えられる。

【００２６】（３）触媒分析 各触媒については、図１に結果を示した触媒反応への使
用前後におけるＸ線回折分析を行い、シリカまたはチタ
ニア添加による。反応に伴う触媒構造の変化への影響を
調べた。結果を図２に示す。また、使用前触媒のあるも
のについては、１００℃で吸着させたピリジンの昇温脱
離試験（昇温速度１０℃／分）を行い、５００〜８００
℃の温度域における脱離ピリジン量を測定し、含フッ素
化合物分解反応に寄与する触媒酸量を表す尺度とした。

【００２７】図１は、反応温度７００℃における各触媒
のＣ₂Ｆ₆分解活性（以後、単に、分解活性と称す）の経
時的変化を示したものである。アルミナ単味よりなる触
媒は、反応初期は安定した分解活性を示すが、反応開始
後２０時間程度から分解活性の急激な低下が始まり、以
降は、反応時間と共には単調に低下する。シリカを添加
した触媒では、シリカ添加量１重量％の触媒を除き、シ
リカの添加で反応直後に分解活性の低下を示し、また、
分解活性低下の程度はシリカ量と共に高くなるが、何れ
の場合もある時間経過後は分解活性の低下傾向が頭打ち
になり、以後は安定した分解活性を維持する。特に、シ
リカ添加量５重量％以下のものでは、シリカ添加による
初期活性の低下も少なく、特に好ましい結果を与える。
チタニア添加触媒は反応初期の分解活性低下が大である
のに加え、分解活性低下抑制効果が十分に働かず、分解
活性、触媒寿命両面から、アルミナ単味触媒同様、実用
的な触媒を与えない。

【００２８】含フッ素化合物分解反応に寄与する触媒酸
量を表す尺度となると考えられる５００〜８００℃の温
度域における脱離ピリジン量は、シリカ添加量と共に、
表１に示すように、減少する。シリカ添加量の大きい触
媒において反応開始直後に認められる活性の低下は、こ
の酸量の減少が要因であると推測される。

【００２９】

【表１】

【００３０】図２は、反応に供する前の、γ−アルミナ
単味より成る触媒のＸ線回折図を示す。当然、γ−アル
ミナに帰属できる回折ピークのみが認められる。シリ
カ、チタニアを添加した触媒についても添加量１０重量
％までは、反応に供する前の触媒においては、図２に示
されるものと全く同様の、γ−アルミナに帰属できる回
折ピークのみを示す。図３には、反応結果を図１に示し
た反応に使用した後の触媒のＸ線回折図を示す。アルミ
ナ単味の触媒においては、γ−アルミナのα相への相転
移が顕著に進んでいる事が分かる。それに対し、シリカ
を含む触媒では、１重量％の添加でもアルミナの相転移
抑制効果が認められ、２．８重量％の添加では、アルミ
ナの相転移は完全に抑制される。チタニアもアルミナ相
転移抑制効果を示すが、シリカに比較したその抑制効果
は非常に小さい。

【００３１】図１〜３より、γ−アルミナ触媒に対する
シリカの顕著な添加効果が、触媒寿命的にも、触媒構造
的にも確かめられた。しかし、過度のシリカの添加は、
表１の脱離ピリジン量が示すように、触媒酸量の低下延
いては触媒活性の低下をもたらすことから、その添加量
は、γ−アルミナに対して１０重量％以下とする必要が
ある。

【００３２】

【発明の効果】本発明の触媒は、フロンは勿論のこと、
フロンに比して分解の困難なＰＦＣの分解反応に対して
も、γ−アルミナ触媒が本来有する高い分解活性を長時
間維持することから、触媒分解法としては最も優れた方
式である固定床流通方式の採用が可能となった。ＰＦＣ
は、１９９７年１２月に開催された地球温暖化防止会議
において、その温暖化係数の大きさから将来の削減目標
が設定されたことから、その排出量が今後規制を受ける
ことの確実な物質である。産業の米とも言われる半導体
の製造工程においてその使用が不可欠であるにも拘わら
ず、環境への配慮から、今後排出が規制されることの確
実なＰＦＣの安定した触媒分解処理を可能にした本発明
の技術的、社会的意義は大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 触媒活性低下抑制に対するシリカ添加の効果
を示す図である。

【図２】 使用前触媒のX線回折図である。

【図３】 シリカによるアルミナ相転移抑制効果を示す
反応後触媒のX線回折図である。

フロントページの続き (72)発明者 松崎 徳雄 山口県宇部市大字小串1978番地の５ 宇部 興産株式会社宇部研究所内 Ｆターム(参考） 4D048 AA11 AB03 BA03X BA06X BA13X BB01 4G069 AA08 BA03A BA03B BA04A BA04B BA45A BC02A BC02B CA10 CA19 DA05 EA02Y EB18Y EC22X EC22Y FA01 FB06 FB30 FC08

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】γ−アルミナ１００重量部に対して１〜１
   ０重量部の二酸化珪素を添加して構成される、パーフル
   オロ化合物及び／又はフロン化合物からなるガス状含フ
   ッ素化合物分解用触媒。
2. 【請求項２】触媒を構成するγ−アルミナが、Ｎａ含有
   量１０００ｐｐｍ以下のγ−アルミナであることを特徴
   とする、請求項１に記載のパーフルオロ化合物及び／又
   はフロン化合物からなるガス状含フッ素化合物分解用触
   媒。
3. 【請求項３】酸素及び水共存下において、３００〜１０
   ００℃に加熱された、γ−アルミナ１００重量部に対し
   て１〜１０重量部の二酸化珪素を添加してなる触媒と接
   触させることを特徴とする、パーフルオロ化合物及び／
   又はフロン化合物からなるガス状含フッ素化合物の分解
   処理方法。
4. 【請求項４】触媒を構成するγ−アルミナが、Ｎａ含有
   量１０００ｐｐｍ以下のγ−アルミナであることを特徴
   とする、請求項４に記載のパーフルオロ化合物及び／又
   はフロン化合物からなるガス状含フッ素化合物の分解処
   理方法。