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JP2000208563A - Film carrier tape - Google Patents

Film carrier tape

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Publication number
JP2000208563A
JP2000208563A JP408199A JP408199A JP2000208563A JP 2000208563 A JP2000208563 A JP 2000208563A JP 408199 A JP408199 A JP 408199A JP 408199 A JP408199 A JP 408199A JP 2000208563 A JP2000208563 A JP 2000208563A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
carrier tape
adhesive
polyimide film
film carrier
Prior art date
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Granted
Application number
JP408199A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3815911B2 (en
Inventor
Hiroshi Inoue
浩 井上
Tomohiko Yamamoto
智彦 山本
Takeshi Uekido
健 上木戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP00408199A priority Critical patent/JP3815911B2/en
Publication of JP2000208563A publication Critical patent/JP2000208563A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3815911B2 publication Critical patent/JP3815911B2/en
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ハンドリングおよび打ち抜き性が良好である
フィルムキャリアテ−プを提供する。 【解決手段】 ビフェニルテトラカルボン酸類とフェニ
レンジアミンを主成分とするポリイミドからなり、厚み
が45−130μm、引張弾性率が550−1300k
g/mm2、伸びが45−90%であり、かつ引き裂き
伝播抵抗(エルメンドルフ)が550−1500g/m
mである芳香族ポリイミドフィルムの少なくとも片面に
接着剤を設け、その上に保護膜層を有するフィルムキャ
リアテ−プ。
(57) [Problem] To provide a film carrier tape having good handling and punching properties. SOLUTION: It is made of polyimide containing biphenyltetracarboxylic acids and phenylenediamine as main components, and has a thickness of 45 to 130 μm and a tensile modulus of 550 to 1300 k.
g / mm2, elongation 45-90%, and tear propagation resistance (Elmendorf) of 550-1500 g / m
A film carrier tape having an adhesive provided on at least one surface of an aromatic polyimide film having a protective film layer thereon.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ポリイミド、例
えばビフェニルテトラカルボン酸二無水物またはその誘
導体とフェニレンジアミンとを主成分として製造された
ポリイミドからなり、大きい引裂き伝播抵抗(エルメン
ドルフ)を有する芳香族ポリイミドフィルムの少なくと
も片面に接着剤層を設け、その上に保護膜層を有するフ
ィルムキャリアテ−プに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aromatic polyimide having a high tear propagation resistance (Elmendorf), which comprises a polyimide prepared mainly from a polyimide, for example, biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and phenylenediamine. The present invention relates to a film carrier tape having an adhesive layer provided on at least one surface of a polyimide film, and having a protective film layer thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族ポリイミドフィルムは、耐熱性、
耐寒性、耐薬品性、電気絶縁性、機械的強度等において
優れた特性を有することから、種々の分野で広く利用さ
れている。なかでも、ビフェニルテトラカルボン酸成分
とフェニレンジアミン成分とからなる芳香族ポリイミド
フィルムは、特に高耐熱性で高弾性率であることが知ら
れている。従って、このようなタイプの芳香族ポリイミ
ドフィルムは、特にその優れた耐熱性、弾性率に着目し
た場合、テ−プ・オ−トメ−テッド・ボンディング(T
AB)用フィルムキャリアテ−プの製造に用いる支持体
として適しているということができる。
2. Description of the Related Art Aromatic polyimide films have high heat resistance,
Because of its excellent properties such as cold resistance, chemical resistance, electrical insulation, and mechanical strength, it is widely used in various fields. Among them, an aromatic polyimide film comprising a biphenyltetracarboxylic acid component and a phenylenediamine component is known to have particularly high heat resistance and a high elastic modulus. Therefore, when such an aromatic polyimide film is particularly focused on its excellent heat resistance and elastic modulus, tape-automated bonding (T
It can be said that it is suitable as a support for use in the production of a film carrier tape for AB).

【0003】しかし、このポリイミドフィルムが使用さ
れる前記分野では、より高精度でより高生産性の要求か
ら、導電体(通常は銅箔)とポリイミドフィルムとを接
着剤で積層した積層体の走行安定性(例えば、引き裂き
発生の問題)、打ち抜き時のフィルムの座屈が問題とさ
れている。そして、これらは、1つにはポリイミドフィ
ルムの伸びが小さいことに起因することが指摘されてい
る。また、ポリイミドフィルムは、弾性率と伸びとが相
反する性質となって、弾性率の大きいフィルムは伸びが
小さく、伸びの大きいフィルムは弾性率が小さいことが
知られている。
However, in the field where the polyimide film is used, the demand for higher precision and higher productivity has led to the running of a laminate in which a conductor (usually a copper foil) and a polyimide film are laminated with an adhesive. Stability (e.g., tearing problems) and buckling of the film during punching are problems. And it is pointed out that these are caused, in part, by the low elongation of the polyimide film. Further, it is known that a polyimide film has a property in which elastic modulus and elongation are contradictory, and a film having a large elastic modulus has a small elongation, and a film having a large elasticity has a small elastic modulus.

【0004】このため、ポリイミドフィルムについて種
々の改良がなされた。例えば、特開昭61−26402
7号公報にはビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp
−フェニレンジアミンとから得られるポリイミドフィル
ムを低張力下に再熱処理して寸法安定なポリイミドフィ
ルムを製造する方法が記載されている。また、特公平4
−6213号公報には線膨張係数比(送り方向/直行方
向)および送り方向の線膨張係数が特定範囲内にあり寸
法安定性に優れたポリイミドフィルムが記載されてい
る。さらに、特公昭62−60416号公報、特公昭6
3−5421号公報、特公昭63−5422号公報に
は、流延法での製膜時の芳香族ポリアミック酸フィルム
の剥離性を改良する方法が記載されている。また、特公
平3−20130号公報にはビフェニルテトラカルボン
酸類およびピロメリット酸類とフェニレンジアミンおよ
びジアミノジフェニルエ−テルとの3−4成分系ポリイ
ミド膜が記載され、特開平4−198229号公報や特
開平4−339835号公報には置換もしくは非置換の
含窒素複素環化合物を添加する製造方法が記載されてい
る。しかし、これらの公知技術では、得られる芳香族ポ
リイミドフィルムは線膨張係数や寸法安定性などの熱特
性や引張弾性率は改善されるものの、伸びや引き裂き伝
播抵抗(エルメンドルフ)が不十分であったり、逆に耐
熱性や引張弾性率が低下する。
For this reason, various improvements have been made to polyimide films. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-26402
No. 7 discloses biphenyltetracarboxylic dianhydride and p
-A method for producing a dimensionally stable polyimide film by reheating a polyimide film obtained from phenylenediamine under low tension. In addition, special fair 4
JP-A-6213 describes a polyimide film having a linear expansion coefficient ratio (feed direction / perpendicular direction) and a linear expansion coefficient in the feed direction within a specific range and having excellent dimensional stability. Further, Japanese Patent Publication No. Sho 62-60416 and Japanese Patent Publication No. Sho 6
JP-A-3-5421 and JP-B-63-5422 describe a method for improving the releasability of an aromatic polyamic acid film during casting by a casting method. Japanese Patent Publication No. 3-20130 describes a three- to four-component polyimide film of biphenyltetracarboxylic acids and pyromellitic acids with phenylenediamine and diaminodiphenyl ether. JP-A-4-339835 describes a production method in which a substituted or unsubstituted nitrogen-containing heterocyclic compound is added. However, according to these known techniques, the resulting aromatic polyimide film has improved thermal properties such as linear expansion coefficient and dimensional stability and tensile modulus, but has insufficient elongation and tear propagation resistance (Elmendorf). On the contrary, heat resistance and tensile modulus are reduced.

【0005】このため、テトラカルボン酸成分としてピ
ロメリット酸二無水物とベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物あるいはビフェニルテトラカルボン酸二無水
物とを組み合わせ、ジアミン成分として直線性ジアミン
(例えば、フェニレンジアミン)と屈曲性ジアミン(例
えば、ジアミノジフェニルエ−テル)とを組み合わせた
ポリイミドからなるフィルムを使用したTAB用テ−プ
や、有機りん化合物を含有させたポリイミドからなる耐
屈曲性の改良されたポリイミドフィルム、あるいは端裂
抵抗が50−70kgf/20mmのポリイミドフィル
ムからなる打ち抜き性に優れたフィルムが提案されてい
る。すなわち、第1のTAB用テ−プは特開平5−26
3049号公報に、第2の耐屈曲性の改良されたポリイ
ミドフィルムは特開平2−28257号公報に、さらに
第3の打ち抜き性に優れたフィルムは特開平6−334
110号公報にそれぞれ記載されている。しかし、これ
ら公知のポリイミドフィルムは、伸びや引き裂き伝播抵
抗(エルメンドルフ)が不十分であったり、引張強度や
引張弾性率が小さく耐屈曲性も不十分であったり、ある
いは接着性が不十分であったりしていずれも満足のいく
ものではない。
For this reason, pyromellitic dianhydride and benzophenone tetracarboxylic dianhydride or biphenyltetracarboxylic dianhydride are combined as a tetracarboxylic acid component, and a linear diamine (for example, phenylenediamine) is used as a diamine component. TAB tape using a film made of a polyimide in combination with a flexible diamine (for example, diaminodiphenyl ether), or a polyimide film having improved flex resistance made of a polyimide containing an organic phosphorus compound; Alternatively, there has been proposed a film having excellent punchability, which is made of a polyimide film having an end crack resistance of 50 to 70 kgf / 20 mm. That is, the first TAB tape is disclosed in JP-A-5-26.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 3049/1990 discloses a polyimide film having a second improved bending resistance, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-28257 discloses a polyimide film having a third excellent punching property.
No. 110, respectively. However, these known polyimide films have insufficient elongation and tear propagation resistance (Elmendorf), low tensile strength and tensile elasticity, insufficient bending resistance, and insufficient adhesiveness. And none of them are satisfactory.

【0006】従って、従来の技術では、引張弾性率、伸
びおよび引き裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)を併せて
満足する芳香族ポリイミドフィルムを得ることはできな
かったのである。
[0006] Therefore, with the prior art, it has not been possible to obtain an aromatic polyimide film that satisfies both tensile modulus, elongation and tear propagation resistance (Elmendorf).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、基
板フィルムとして、寸法精度が高く、引張弾性率、伸び
および引き裂き伝播抵抗(エルメンンドルフ)を併せて
満足する芳香族ポリイミドフィルムを使用することによ
り、ハンドリングおよび打ち抜き性が良好なフィルムキ
ャリアテ−プを提供することにある。
An object of the present invention is to use an aromatic polyimide film having high dimensional accuracy and satisfying both tensile modulus, elongation and tear propagation resistance (Elmendorf) as a substrate film. Another object of the present invention is to provide a film carrier tape having good handling and punching properties.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明は、ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とフェニレ
ンジアミンとを主成分として製造されたポリイミドから
なり、厚みが45−130μmであって、引張弾性率が
550−1300kg/mm2で、伸びが45−90%
であり、かつ引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)が55
0−1500g/mmである芳香族ポリイミドフィルム
の少なくとも片面に接着剤層を設け、その上に保護膜層
を有するフィルムキャリアテ−プに関するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a polyimide comprising biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and phenylenediamine as main components, having a thickness of 45 to 130 .mu.m, and a tensile modulus of elasticity. Is 550-1300 kg / mm2 and elongation is 45-90%
And a tear propagation resistance (Elmendorf) of 55
The present invention relates to a film carrier tape having an adhesive layer provided on at least one side of an aromatic polyimide film having a thickness of 0 to 1500 g / mm and having a protective film layer thereon.

【0009】また、この発明は、厚みが45−130μ
mであって、引張弾性率が550−1300kg/mm
2で、伸びが45−90%であり、線膨張係数(50−
200℃)が5×10-6−25×10-6cm/cm/℃
であり、かつ引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)が55
0−1500g/mmである芳香族ポリイミドフィルム
の少なくとも片面に接着剤層を設け、その上に保護膜層
を有するフィルムキャリアテ−プに関するものである。
Further, according to the present invention, the thickness is 45-130 μm.
m and the tensile modulus is 550-1300 kg / mm
2, the elongation was 45-90% and the coefficient of linear expansion (50-
200 ° C) is 5 × 10-6-25 × 10-6 cm / cm / ° C
And a tear propagation resistance (Elmendorf) of 55
The present invention relates to a film carrier tape having an adhesive layer provided on at least one side of an aromatic polyimide film having a thickness of 0 to 1500 g / mm and having a protective film layer thereon.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下にこの発明の好ましい態様を
列記する。 1)芳香族ポリイミドフィルムの加熱収縮率が0.00
2−0.4%であり、比端裂抵抗値が14−25kg/
20mm/10μmである上記のフィルムキャリアテ−
プ。 2)芳香族ポリイミドフィルムが0.1−5重量%の無
機フィラ−を含有するものである上記のフィルムキャリ
アテ−プ。 3)フィルムの接着剤と接する面が、コロナ放電処理、
真空あるいは常圧プラズマ処理のいずれか1つ以上の表
面処理がされたものである上記のフィルムキャリアテ−
プ。 4)接着剤が、熱可塑性接着剤あるいは熱硬化性接着剤
である上記のフィルムキャリアテ−プ。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be listed below. 1) The heat shrinkage of the aromatic polyimide film is 0.00
2-0.4%, and the specific crack resistance is 14-25 kg /
The above film carrier tape having a thickness of 20 mm / 10 μm.
H. 2) The above-mentioned film carrier tape, wherein the aromatic polyimide film contains 0.1 to 5% by weight of an inorganic filler. 3) The surface of the film that is in contact with the adhesive is a corona discharge treatment,
The above film carrier tape, which has been subjected to at least one surface treatment of vacuum or normal pressure plasma treatment.
H. 4) The above-mentioned film carrier tape, wherein the adhesive is a thermoplastic adhesive or a thermosetting adhesive.

【0011】この発明において、ビフェニルテトラカル
ボン酸成分としては、2,3,3’,4’−ビフェニル
テトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテ
トラカルボン酸、これらのハロゲン化物、それらの二無
水物、またはそれらのエステルが使用できるが、なかで
も3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物が好適に用いられる。ビフェニルテトラカルボン
酸成分と併用可能な芳香族テトラカルボン酸成分として
は、ピロメリット酸二無水物を挙げることができる。ピ
ロメリット酸二無水物を併用する場合は、テトラカルボ
ン酸成分中50モル%以下であることが好ましい。
In the present invention, the biphenyltetracarboxylic acid component includes 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, halides thereof, Their dianhydrides or their esters can be used, and among them, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferably used. Examples of the aromatic tetracarboxylic acid component that can be used in combination with the biphenyltetracarboxylic acid component include pyromellitic dianhydride. When pyromellitic dianhydride is used in combination, the content is preferably 50 mol% or less in the tetracarboxylic acid component.

【0012】この発明の効果を損なわない範囲で他の芳
香族テトラカルボン酸成分を使用してもよい。このよう
な芳香族テトラカルボン酸成分としては、3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカル
ボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)エ−テル二無水物、ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エ−テル二無水物、2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水
物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無
水物などを挙げることができる。
Other aromatic tetracarboxylic acid components may be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Such aromatic tetracarboxylic acid components include 3,3 ′,
4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride,
2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl ) Propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3
-Dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 2,3
6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,
4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl)
Examples thereof include 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride.

【0013】この発明で使用するフェニレンジアミン
は、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミ
ン、そしてp−フェニレンジアミンのいずれであっても
よい。この発明の効果を損なわない範囲で他の芳香族ジ
アミンを使用してもよい。このような芳香族ジアミン成
分としては、ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−
ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2’−ビス〔4−(アミノフェノキシ)フェニ
ル〕1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
−テルなどを挙げることができる。
The phenylenediamine used in the present invention may be any of o-phenylenediamine, m-phenylenediamine and p-phenylenediamine. Other aromatic diamines may be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Such aromatic diamine components include diaminodiphenyl ether, 4,4′-
Diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2′-bis [4- (aminophenoxy) phenyl] 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] ether and the like.

【0014】この発明において、芳香族ポリイミドフィ
ルムは、厚みが45−125μmであり、好ましくは約
50−75μmである。芳香族ポリイミドフィルムの厚
みがこの下限より小さいと自己支持性が低く、また上限
より大きいと高精度の要求されるフィルムキャリアテ−
プとして好ましくない。また、芳香族ポリイミドフィル
ムの引張弾性率、伸びおよび引裂き伝播抵抗(エルメン
ドルフ)の値が前記の範囲外であると、この発明の目的
を達成することができない。また、芳香族ポリイミドフ
ィルムの加熱収縮率、比端裂抵抗値が前記範囲内である
と、種々の環境下においた場合の寸法安定性、ハンドリ
ングが良好である。
In the present invention, the aromatic polyimide film has a thickness of 45-125 μm, preferably about 50-75 μm. When the thickness of the aromatic polyimide film is smaller than the lower limit, the self-supporting property is low, and when the thickness is larger than the upper limit, the film carrier tape required to have high precision is required.
Not preferred If the values of the tensile modulus, elongation, and tear propagation resistance (Elmendorf) of the aromatic polyimide film are out of the above ranges, the object of the present invention cannot be achieved. Further, when the heat shrinkage and the specific edge crack resistance of the aromatic polyimide film are within the above ranges, dimensional stability and handling under various environments are good.

【0015】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、例えば以下のようにして製造することができる。
好適には先ず前記ビフェニルテトラカルボン酸類とフェ
ニレンジアミン、好適にはパラフェニレンジアミンとを
N,N−ジメチルアセトアミドやN−メチル−2−ピロ
リドンなどのポリイミドの製造に通常使用される有機極
性溶媒中で、好ましくは10〜80℃で1〜30時間重
合して、ポリマ−の対数粘度(測定温度:30℃、濃
度:0.5g/100ml溶媒、溶媒:N−メチル−2
−ピロリドン)が0.1〜5、ポリマ−濃度が15〜2
5重量%であり、回転粘度(30℃)が500〜450
0ポイズであるポリアミック酸(イミド化率:5%以
下)溶液を得る。
The aromatic polyimide film according to the present invention can be manufactured, for example, as follows.
Preferably, first, the biphenyltetracarboxylic acid and phenylenediamine, preferably paraphenylenediamine, are dissolved in an organic polar solvent usually used for producing a polyimide such as N, N-dimethylacetamide or N-methyl-2-pyrrolidone. Polymerization is preferably carried out at 10 to 80 ° C for 1 to 30 hours, and the logarithmic viscosity of the polymer (measuring temperature: 30 ° C, concentration: 0.5 g / 100 ml solvent, solvent: N-methyl-2)
-Pyrrolidone) 0.1-5, polymer concentration 15-2
5% by weight and a rotational viscosity (30 ° C.) of 500 to 450
A polyamic acid (imidation ratio: 5% or less) solution having 0 poise is obtained.

【0016】次いで、例えば上記のようにして得られた
ポリアミック酸溶液に、好適には、1,2−ジメチルイ
ミダゾ−ルを、特にポリアミック酸のアミック酸単位に
対して0.005−2倍当量、好適には0.005−
0.8倍当量、特に0.02−0.8倍当量程度の量含
有させる。1,2−ジメチルイミダゾ−ルの一部を、イ
ミダゾ−ル、ベンズイミダゾ−ル、N−メチルイミダゾ
−ル、N−ベンジル−2−メチルイミダゾ−ル、2−メ
チルイミダゾ−ル、2−エチル−4−メチルイミダゾ−
ル、5−メチルベンズイミダゾ−ル、イソキノリン、
3,5−ジメチルピリジン、3,4−ジメチルピリジ
ン、2,5−ジメチルピリジン、2,4−ジメチルピリ
ジン、4−n−プロピルピリジンなどで置き換えてもよ
い。
Next, for example, 1,2-dimethylimidazole is preferably added to the polyamic acid solution obtained as described above, in particular, in an amount of 0.005-2 times equivalent to the amic acid unit of the polyamic acid. , Preferably 0.005-
0.8 equivalent, especially about 0.02-0.8 equivalent is contained. A part of 1,2-dimethylimidazole is converted to imidazole, benzimidazole, N-methylimidazole, N-benzyl-2-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl -4-methylimidazo-
, 5-methylbenzimidazole, isoquinoline,
It may be replaced with 3,5-dimethylpyridine, 3,4-dimethylpyridine, 2,5-dimethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 4-n-propylpyridine or the like.

【0017】上記のポリアミック酸溶液に、リン化合物
を、好ましくはこのポリアミック酸100重量部に対し
て0.01−5重量部、特に0.01−3重量部、その
中でも特に0.01−1重量部の割合で有機リン化合
物、好適には(ポリ)リン酸エステル、リン酸エステル
のアミン塩あるいは無機リン化合物を添加し、さらに好
適には無機フィラ−を、特にポリアミック酸100重量
部に対して0.1−3重量部のコロイダルシリカ、窒化
珪素、タルク、酸化チタン、燐酸カルシウム(好適には
平均粒径0.005−5μm、特に0.005−2μ
m)を添加してポリイミド前駆体溶液組成物を得る。
In the above polyamic acid solution, a phosphorus compound is added preferably in an amount of 0.01-5 parts by weight, more preferably 0.01-3 parts by weight, especially 0.01-1 part by weight, per 100 parts by weight of the polyamic acid. An organic phosphorus compound, preferably a (poly) phosphate ester, an amine salt of a phosphate ester or an inorganic phosphorus compound is added in a ratio of parts by weight, and more preferably an inorganic filler, particularly 100 parts by weight of polyamic acid, is added. 0.1-3 parts by weight of colloidal silica, silicon nitride, talc, titanium oxide, calcium phosphate (preferably having an average particle size of 0.005-5 μm, particularly 0.005-2 μm
m) is added to obtain a polyimide precursor solution composition.

【0018】このポリイミド前駆体溶液組成物を平滑な
表面を有するガラスあるいは金属製の支持体表面に連続
的に流延して前記溶液の薄膜を形成し、その薄膜を乾燥
する際に、乾燥条件を調整して、温度:100−200
℃、時間:1−30分間乾燥することにより、固化フィ
ルム中、前記溶媒及び生成水分からなる揮発分含有量が
30−50重量%程度、イミド化率が5−80%程度で
ある長尺状固化フィルムを形成し、上記固化フィルムを
支持体表面から剥離する。前記の固化フィルムを、さら
に乾燥条件を調整して、温度:室温(25℃)−250
℃、時間:0.5−30分間程度乾燥する乾燥工程を加
えてもよい。これらの乾燥工程の少なくとも一部で固化
フィルムの幅方向の両端縁を把持し延伸した状態を保つ
ことによって、幅方向(TD)および両方向(MD、T
D)に少し延伸してもよい。
The polyimide precursor solution composition is continuously cast on a glass or metal support having a smooth surface to form a thin film of the solution. To adjust the temperature: 100-200
C., time: 1 to 30 minutes after drying, the solidified film has a volatile content of about 30 to 50% by weight and an imidization rate of about 5 to 80% in the solidified film. A solidified film is formed, and the solidified film is peeled from the support surface. The solidified film is further dried under controlled drying conditions to obtain a temperature of room temperature (25 ° C.)-250.
C., Time: A drying step of drying for about 0.5 to 30 minutes may be added. By holding both edges in the width direction of the solidified film and maintaining the stretched state in at least a part of these drying steps, the width direction (TD) and both directions (MD, T
You may stretch a little to D).

【0019】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、次いで、好適にはキュア炉内において固化フィル
ムを高温に加熱して乾燥およびイミド化を完了させて得
ることができる。すなわち、前記のようにして得られた
固化フィルムを必要であればさらに乾燥して、乾燥フィ
ルムの幅方向の両端縁を把持した状態で、キュア炉内に
おける最高加熱温度:400−500℃程度、特に47
5−500℃程度の温度が0.5−30分間となる条件
で該乾燥フィルムを加熱して乾燥およびイミド化して、
残揮発物量0.4重量%以下程度で、イミド化を完了す
ることによって長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを好
適に製造することができる。
The aromatic polyimide film of the present invention can be obtained by heating the solidified film to a high temperature, preferably in a curing furnace, to complete drying and imidization. That is, the solidified film obtained as described above is further dried, if necessary, and in a state where both edges in the width direction of the dried film are gripped, the maximum heating temperature in a curing furnace: about 400 to 500 ° C. Especially 47
The dried film is heated and dried and imidized under the condition that a temperature of about 5 to 500 ° C. is 0.5 to 30 minutes,
A long aromatic polyimide film can be suitably produced by completing imidization at a residual volatile matter amount of about 0.4% by weight or less.

【0020】上記のようにして得られた芳香族ポリイミ
ドフィルムを、好適には低張力下あるいは無張力下に2
00−400℃程度の温度で加熱して応力緩和処理し
て、巻き取る。
The aromatic polyimide film obtained as described above is preferably used under low tension or no tension.
It is heated at a temperature of about 00 to 400 ° C., subjected to a stress relaxation treatment, and wound up.

【0021】前記の芳香族ポリイミドフィルムは、前述
のポリアミック酸にイミド化触媒を加えたポリイミド前
駆体溶液を使用し、溶液流延法によって長尺状のフィル
ムとすることによって、引張弾性率、伸びおよび引裂き
伝播抵抗(エルメンドルフ)がこの発明で規定する値を
とるようにすることができる。
The above-mentioned aromatic polyimide film is made of a polyimide precursor solution obtained by adding an imidization catalyst to the above-mentioned polyamic acid, and is formed into a long film by a solution casting method. And the tear propagation resistance (Elmendorf) can be set to the value specified in the present invention.

【0022】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、少なくとも片面を、コロナ放電処理、低温あるい
は常圧プラズマ放電処理、特にプラズマ放電処理するこ
とが好ましい。前記のプラズマ放電処理は、フィルム表
面を処理せずあるいはアセトン、イソプロピルアルコ−
ル、エチルアルコ−ルなどの有機溶媒で処理した後行っ
てもよい。
It is preferable that at least one surface of the aromatic polyimide film in the present invention is subjected to corona discharge treatment, low-temperature or normal-pressure plasma discharge treatment, particularly plasma discharge treatment. In the plasma discharge treatment, the film surface is not treated, or acetone or isopropyl alcohol is used.
Or after treatment with an organic solvent such as ethyl alcohol or ethyl alcohol.

【0023】前記のプラズマ放電処理を行う雰囲気の圧
力は特に限定されないが、0.1−100Torrの範
囲が好ましい。前記プラズマ処理を行う雰囲気のガス組
成としては、特に限定されないが酸素を含有することが
好ましい。あるいは、希ガスを少なくとも20モル%含
有していてもよい。希ガスとしてはHe、Ne、Ar、
Xeなどが挙げられるが、Arが好ましい。希ガスにC
O2、N2、H2、H2Oなどを混合して使用してもよい。
前記プラズマ処理を行うプラズマ照射時間は1秒−10
分程度が好ましい。
The pressure of the atmosphere in which the plasma discharge treatment is performed is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 100 Torr. The gas composition of the atmosphere in which the plasma treatment is performed is not particularly limited, but preferably contains oxygen. Alternatively, at least 20 mol% of a rare gas may be contained. Noble gases include He, Ne, Ar,
Although Xe is mentioned, Ar is preferable. Noble gas to C
O2, N2, H2, H2O and the like may be used as a mixture.
The plasma irradiation time for performing the plasma processing is 1 second-10.
Of the order of minutes.

【0024】この発明における接着剤としては、熱硬化
性でも熱可塑性でもよく、例えばエポキシ樹脂、NBR
−フェノ−ル系樹脂、フェノ−ル−ブチラ−ル系樹脂、
エポキシ−NBR系樹脂、エポキシ−フェノ−ル系樹
脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、エポキシ−ポリエステ
ル系樹脂、エポキシ−アクリル系樹脂、アクリル系樹
脂、ポリアミド−エポキシ−フェノ−ル系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、ポリイミド−エポキシ樹脂、ポリイミドシ
ロキサン−エポキシ樹脂などの熱硬化性接着剤、または
ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系
接着剤、ポリイミドシロキサン系接着剤などの熱可塑性
接着剤が挙げられる。特に、ポリイミド接着剤、ポリイ
ミド−エポキシ樹脂系接着剤、ポリイミドシロキサン−
エポキシ樹脂系接着剤、エポキシ樹脂接着剤が好適に使
用される。
The adhesive in the present invention may be thermosetting or thermoplastic, such as epoxy resin or NBR.
A phenolic resin, a phenol-butyral resin,
Epoxy-NBR resin, epoxy-phenolic resin, epoxy-nylon resin, epoxy-polyester resin, epoxy-acrylic resin, acrylic resin, polyamide-epoxy-phenolic resin, polyimide resin, Thermosetting adhesives such as polyimide-epoxy resin and polyimidesiloxane-epoxy resin, and thermoplastic adhesives such as polyamide-based resin, polyester-based resin, polyimide-based adhesive, and polyimidesiloxane-based adhesive are exemplified. In particular, polyimide adhesives, polyimide-epoxy resin adhesives, polyimidesiloxanes
Epoxy resin adhesives and epoxy resin adhesives are preferably used.

【0025】この発明の保護膜層を有するフィルムキャ
リアテ−プは、例えば、前記の接着剤の溶液を前記の芳
香族ポリイミドフィルム面上に塗布し、その塗布層を8
0−200℃程度の温度で20秒−100分間乾燥する
ことによって、溶媒が1重量%以下にまで、好ましくは
溶媒残存率が0.5重量%以下にまで実質的に除去され
た接着剤の薄膜(厚さ約1−200μmのドライフィル
ム又はシ−ト)を形成し、その上に市販の芳香族ポリイ
ミドフィルム、芳香族ポリエステル、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブテン−1などの樹脂フィルムを2
0−200℃の温度に加熱された一対のロ−ル間を通し
て積層することによって、得ることができる。あるい
は、前記の耐熱性フィルムまたは熱可塑性フィルム上に
接着剤の薄膜層が形成された積層シ−トと、転写先用の
この発明の芳香族ポリイミドフィルムとを重ね合わせて
約20−200℃の温度に加熱された一対のロ−ル(ラ
ミネ−トロ−ル)間を通すことによって、転写先用の芳
香族ポリイミドフィルムに接着剤の薄膜層を転写して、
保護膜層を有するフィルムキャリアテ−プを得ることも
できる。
In the film carrier tape having a protective film layer according to the present invention, for example, the above-mentioned adhesive solution is applied onto the above-mentioned aromatic polyimide film surface, and the applied layer is coated with 8.
By drying at a temperature of about 0 to 200 ° C. for 20 seconds to 100 minutes, the adhesive is substantially removed to 1% by weight or less, preferably 0.5% by weight or less. A thin film (dry film or sheet having a thickness of about 1 to 200 μm) is formed, and a resin film such as a commercially available aromatic polyimide film, aromatic polyester, polyethylene, polypropylene, or polybutene-1 is formed on the thin film.
It can be obtained by laminating a pair of rolls heated to a temperature of 0 to 200 ° C. Alternatively, a laminated sheet in which a thin film layer of an adhesive is formed on the above-mentioned heat-resistant film or thermoplastic film and an aromatic polyimide film of the present invention as a transfer destination are superimposed on each other at about 20-200 ° C. By passing between a pair of rolls (laminate rolls) heated to a temperature, the thin film layer of the adhesive is transferred to an aromatic polyimide film as a transfer destination,
A film carrier tape having a protective film layer can also be obtained.

【0026】この発明の保護膜層を有するフィルムキャ
リアテ−プは、柔軟性を有しており、紙管などに巻き付
けたり、または打ち抜き法などの穴あけ加工をすること
もできル。
The film carrier tape having a protective film layer of the present invention has flexibility and can be wound around a paper tube or the like, or can be punched by a punching method or the like.

【0027】この発明のフィルムキャリアテ−プを使用
して銅箔などの金属箔との積層板(シ−ト)を形成する
には、例えば、前記のようにして形成された薄膜状の接
着剤を介して、芳香族ポリイミドフィルムと金属箔とを
80−200℃、特に100−180℃の温度で加圧
(0.2−8kg/cm2)下にラミネ−ト(張り合わ
せ)して、積層板を何の支障もなく容易に連続的に製造
することができる。
In order to form a laminate (sheet) with a metal foil such as a copper foil using the film carrier tape of the present invention, for example, a thin film adhesive formed as described above is used. The aromatic polyimide film and the metal foil are laminated (laminated) under pressure (0.2-8 kg / cm 2) at a temperature of 80-200 ° C., particularly 100-180 ° C., via an agent. The plate can be easily and continuously manufactured without any hindrance.

【0028】[0028]

【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の各例
において、ポリイミドフィルムの物性測定は以下の方法
によって行った。なお、以下の測定値は特記した場合を
除き25℃での測定値である。
Embodiments of the present invention will be described below. In each of the following examples, the physical properties of the polyimide film were measured by the following methods. The following measured values are measured at 25 ° C. unless otherwise specified.

【0029】 伸び:ASTM D882−83に従って測定(MD) 引張弾性率:ASTM D882−83に従って測定
(MD) 引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ):ASTM D19
22−67に従って測定(MD)
Elongation: Measured according to ASTM D882-83 (MD) Tensile Modulus: Measured according to ASTM D882-83 (MD) Tear Propagation Resistance (Elmendorf): ASTM D19
Measured according to 22-67 (MD)

【0030】引張強度:ASTM D882−83に従
って測定(MD) 加熱収縮率:JIS C2318に従って測定(200
℃) 絶縁破壊電圧:JIS C2318に従って測定て測定
Tensile strength: Measured according to ASTM D882-83 (MD) Heat shrinkage: Measured according to JIS C2318 (200
℃) Dielectric breakdown voltage: Measured according to JIS C2318

【0031】端裂抵抗値:JIS C2318に従って
測定(MD) 端裂抵抗値(あるいは比端裂抵抗値)はJIS C23
18に従って測定した試料(5個)の端裂抵抗値(ある
いは比端裂抵抗値)の平均値を意味する。具体的には、
定速緊張形引張試験機の上部厚さ1.00±0.05m
mのV字形切り込み板試験金具の中心線を上部つかみの
中心線に一致させ、切り込み頂点と下部つかみとの間隔
を約30mmになるように柄を取り付ける。幅約20m
m、長さ約200mmの試験片を金具の穴部に通して二
つに折り合わせて試験機の下部のつかみにはさみ、1分
間につき約200mmの速さで引張り、引き裂けたとき
の力を端裂抵抗という。試験片を縦方向及び横方向から
それぞれ全幅にわたって5枚とり端裂抵抗の平均値を求
め、端裂抵抗値として示す。比端裂抵抗値はフィルム厚
み当たり(10μm換算)の端裂抵抗値を示す。
Edge crack resistance: Measured according to JIS C2318 (MD) The edge crack resistance (or specific edge crack resistance) is measured according to JIS C23.
It means the average value of the crack resistance (or the specific crack resistance) of the samples (5 pieces) measured according to 18. In particular,
1.00 ± 0.05m upper thickness of constant speed tension type tensile tester
The center line of the m-shaped V-shaped notch plate test fitting is aligned with the center line of the upper grip, and the handle is attached so that the distance between the cut top and the lower grip is about 30 mm. About 20m in width
Approximately 200 mm long test piece is passed through the hole of the bracket, folded into two parts, clamped at the lower part of the tester, pulled at a speed of about 200 mm per minute, and the force at the time of tearing is measured. It is called tear resistance. Five test pieces were taken from the longitudinal direction and the transverse direction over the entire width, respectively, and the average value of the end crack resistance was determined, which is shown as the end crack resistance value. The specific edge tear resistance indicates an edge tear resistance per film thickness (10 μm conversion).

【0032】線膨張係数(50−200℃)測定:30
0℃で30分加熱して応力緩和したサンプルをTMA装
置(引張りモ−ド、2g荷重、試料長10mm、20℃
/分)で測定
Measurement of linear expansion coefficient (50-200 ° C.): 30
A sample that was heated at 0 ° C. for 30 minutes to relax the stress was applied to a TMA device (tensile mode, 2 g load, sample length 10 mm, 20 ° C.).
/ Min)

【0033】引き裂き強さ:7.5cm×7.5cmの
正方形に切り取ったフィルムの1辺に、かみそり刃を使
用して5cmの長さの切れ込みを入れた。その切れ込み
の両側を引張試験機で、200mm/分の速度で引張っ
たときの荷重を測定し、引き裂きが生じたときの荷重を
引き裂き強さ(g)とした。 耐屈曲回数(MIT):ASTM D2176に従って
測定(MD) 打ち抜き性:打ち抜きの際フィルムに座屈や変形、切れ
などが生じず問題ないものを良好、少し問題があるもの
をやや不良、問題があるものを不良とした。 接着強度:180°剥離強度を引張速度:50mm/分
で測定した。
Tear strength: A 5 cm long cut was made using a razor blade on one side of a film cut into a square of 7.5 cm × 7.5 cm. The load at the time of pulling at both sides of the cut with a tensile tester at a speed of 200 mm / min was measured, and the load at which tearing occurred was defined as tear strength (g). Bending resistance (MIT): Measured in accordance with ASTM D2176 (MD) Punching property: Good when there is no buckling, deformation or breakage in the film upon punching, good when there is no problem, slightly bad when there is a little problem Something was bad. Adhesive strength: 180 ° peel strength was measured at a tensile speed of 50 mm / min.

【0034】参考例1 反応容器に、N,N−ジメチルアセトアミド100重量
部に、p−フェニレンジアミン5.897重量部および
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物16.019重量部を加えて、窒素気流下、40℃
で3時間攪拌し、重合反応させてポリマ−濃度18重量
%、ポリマ−の対数粘度(測定温度:30℃、濃度:
0.5g/100ml溶媒、溶媒:N,N−ジメチルア
セトアミド)が1.3、溶液粘度1800ポイズ(30
℃、回転粘度計)のポリアミック酸溶液を得た。 この
ポリアミック酸溶液に、ポリアミック酸100重量部に
対して0.1重量部の割合でモノステアリルリン酸エス
テルトリエタノ−ルアミン塩および0.5重量部の割合
(固形分基準)で平均粒径0.08μmのコロイダルシ
リカを添加して均一に混合してポリアミック酸溶液組成
物を得た。さらに、このポリアミック酸溶液組成物に、
ポリアミック酸100重量部に対して1,2−ジメチル
イミダゾ−ル2.39kg(ポリアミック酸単位に対し
て0.1倍当量)を添加し、40℃で2時間攪拌し、ポ
リイミド前駆体溶液組成物を得た。
Reference Example 1 In a reaction vessel, N, N-dimethylacetamide (100 parts by weight), p-phenylenediamine (5.897 parts by weight) and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 019 parts by weight, and added at 40 ° C. under a nitrogen stream.
For 3 hours to cause a polymerization reaction, polymer concentration of 18% by weight, logarithmic viscosity of the polymer (measuring temperature: 30 ° C., concentration:
0.5 g / 100 ml solvent, solvent: N, N-dimethylacetamide (1.3), solution viscosity 1800 poise (30
C., rotational viscometer). In this polyamic acid solution, monostearyl phosphate triethanolamine salt at a ratio of 0.1 part by weight to 100 parts by weight of the polyamic acid and an average particle diameter of 0 part by weight (based on solid content) of 0.5 part by weight. 0.08 μm of colloidal silica was added and uniformly mixed to obtain a polyamic acid solution composition. Furthermore, in this polyamic acid solution composition,
2.39 kg of 1,2-dimethylimidazole (0.1 equivalents per unit of polyamic acid) was added to 100 parts by weight of polyamic acid, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours to obtain a polyimide precursor solution composition. I got

【0035】このポリイミド前駆体溶液組成物を、Tダ
イのスリットより連続的に押出し、平滑な金属支持体上
に薄膜を形成した。この薄膜を140℃で20分加熱
後、支持体から剥離させ、自己支持性フィルムを形成し
た。このフィルムの両端を拘束させた状態で、連続的に
加熱炉を通過させた。この際、加熱炉内の滞留時間を1
3分、加熱炉内の最高加熱温度を480℃とした。この
ようにして長尺状で厚み50μmの芳香族ポリイミドフ
ィルムを得た。得られたポリイミドフィルムを、プラズ
マ照射時間1分、マイクロ波発振出力1kw、プラズマ
発生真空度0.8Torr、プラズマ処理ガスが酸素の
条件でプラズマ処理を行って、改質されたポリイミドフ
ィrムを得た。
The polyimide precursor solution composition was continuously extruded through a slit of a T-die to form a thin film on a smooth metal support. After heating this thin film at 140 ° C. for 20 minutes, it was peeled off from the support to form a self-supporting film. The film was continuously passed through a heating furnace with both ends of the film restrained. At this time, the residence time in the heating furnace is set to 1
The maximum heating temperature in the heating furnace was set to 480 ° C. for 3 minutes. Thus, a long aromatic polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained. The resulting polyimide film was subjected to plasma treatment under the conditions of a plasma irradiation time of 1 minute, a microwave oscillation output of 1 kW, a plasma generation vacuum of 0.8 Torr, and a plasma processing gas of oxygen to obtain a modified polyimide film. Obtained.

【0036】この改質されたポリイミドフィルムの物性
を次に示す。 引張弾性率(MD):890kg/mm2 伸び(MD):60% 引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)(MD):710g
/mm 引張強度(MD):56kg/mm2 加熱収縮率(200℃):0.05% 絶縁破壊電圧:11.1kv 端裂抵抗値(MD):82kg/20mm 線膨張係数(50〜200℃):1.7×10-5cm/
cm/℃ 引き裂き強さ(MD):21g 耐屈曲回数(×104回):>10
The physical properties of the modified polyimide film are shown below. Tensile modulus (MD): 890 kg / mm2 Elongation (MD): 60% Tear propagation resistance (Elmendorf) (MD): 710 g
/ Mm Tensile strength (MD): 56 kg / mm2 Heat shrinkage (200 ° C): 0.05% Dielectric breakdown voltage: 11.1 kv Edge crack resistance (MD): 82 kg / 20 mm Linear expansion coefficient (50-200 ° C) 1.7 × 10-5cm /
cm / ° C. Tear strength (MD): 21 g Number of times of bending resistance (× 10 4 times):> 10

【0037】参考例2 反応容器中でN−メチル−2−ピロリドンを溶媒とし
て、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物と2,2’−ビス(4−アミノフェノキシ)プ
ロパン(60モル%)とジアミノポリシロキサン(40
モル%、Mw=950)とからポリイミドシロキサンを
得た。このポリイミドシロキサンは、フィルムとして引
張弾性率が57kg/mm2で、Tgが190℃であっ
た。このポリイミドシロキサン55部、エポキシ樹脂と
してビスフェノ−ルF型エポキシ樹脂(油化シェル社
製、EP807)30部、硬化剤としてフェノ−ルノボ
ラック型硬化剤(明和化成社製、H−1)18部と2−
フェニルイミダゾ−ル0.1部をTHF(テトラヒドロ
フラン)200部に仕込み、30℃で約2時間攪拌して
均一な接着剤溶液を得た。
Reference Example 2 In a reaction vessel, using N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 2,2'-bis (4-aminophenoxy) ) Propane (60 mol%) and diaminopolysiloxane (40
Mol%, Mw = 950) to obtain a polyimidesiloxane. This polyimide siloxane had a tensile modulus of 57 kg / mm 2 and a Tg of 190 ° C. as a film. 55 parts of this polyimidesiloxane, 30 parts of bisphenol F type epoxy resin (EP807, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) as an epoxy resin, and 18 parts of phenol novolak type curing agent (H-1, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) as a curing agent. 2-
0.1 part of phenylimidazole was charged into 200 parts of THF (tetrahydrofuran) and stirred at 30 ° C. for about 2 hours to obtain a uniform adhesive solution.

【0038】実施例1 参考例2で得た接着剤溶液をポリエチレンテレフタレ−
トフィルム(PET)上にドクタ−ブレ−ドで125μ
mの厚さに塗布し、次いでその塗布層を80℃で10分
間加熱して乾燥し、その上にポリエチレンテレフタレ−
トのシ−ト(25μm)を90℃でラミネ−トし29.
6mm巾にスリットし、PETフィルム上に厚さ約20
μmの接着剤層と保護膜層とを有する接着剤テ−プを得
た。この接着剤テ−プの片方の保護膜層を剥離した接着
剤テ−プを、参考例1で得られた改質ポリイミドフィル
ムを35mm巾にスリットしたテ−プ上に130℃でラ
ミネ−トして、保護層を有するフィルムキャリアテ−プ
を得た。このフィルムキャリアテ−プは改質ポリイミド
フィルムと同等の耐屈曲性を示した。この保護層を有す
るフィルムキャリアテ−プにスプロケット穴やデバイス
穴を開け、保護層を剥離し、31mm巾の銅箔(35μ
m)を重ね合わせて、130℃に加熱したラミネ−トロ
−ル間で圧力を加えながら通過させることにより、圧着
し、この圧着した積層板を100℃で1時間、120℃
で1時間、180℃で5時間、窒素気流中で加熱処理し
て、接着剤を硬化させ、積層板を製造した。得られた積
層板の接着強度および積層板作成時の打ち抜き特性を次
に示す。 接着強度:1.6kg/cm 打ち抜き性:良好
Example 1 The adhesive solution obtained in Reference Example 2 was applied to polyethylene terephthalate.
125μ on a PET film with a doctor blade
m, and then the coated layer was dried by heating at 80 ° C. for 10 minutes.
29. Laminate the sheet (25 μm) at 90 ° C.
Slit to a width of 6 mm, and a thickness of about 20 on PET film
An adhesive tape having a μm adhesive layer and a protective film layer was obtained. The adhesive tape from which one protective film layer of the adhesive tape was peeled was laminated at 130 ° C. on a tape obtained by slitting the modified polyimide film obtained in Reference Example 1 to a width of 35 mm. Thus, a film carrier tape having a protective layer was obtained. This film carrier tape exhibited the same bending resistance as the modified polyimide film. Sprocket holes and device holes are made in the film carrier tape having the protective layer, the protective layer is peeled off, and a 31 mm-wide copper foil (35 μm) is formed.
m) are superimposed and passed through a laminator-roll heated to 130 ° C. while applying pressure, and the resulting laminate is pressed at 100 ° C. for 1 hour at 120 ° C.
For 1 hour and at 180 ° C. for 5 hours in a stream of nitrogen to cure the adhesive and produce a laminate. The adhesive strength of the obtained laminate and the punching characteristics during the production of the laminate are shown below. Adhesive strength: 1.6 kg / cm Punching property: good

【0039】参考例3 Tダイのスリットより押出す条件を変えた他は参考例1
と同様にして、厚み75μmの改質された芳香族ポリイ
ミドフィルムを得た。この芳香族ポリイミドフィルムの
物性をまとめて次に示す。 引張弾性率(MD):840kg/mm2 伸び(MD):68% 引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)(MD):820g
/mm 引張強度(MD):48kg/mm2 加熱収縮率(200℃):0.05% 絶縁破壊電圧:10.9kv 端裂抵抗値(MD):110kg/20mm 線膨張係数(50〜200℃):1.8×10-5cm/
cm/℃ 引き裂き強さ(MD):42g 耐屈曲回数(×104回):>10
REFERENCE EXAMPLE 3 Reference Example 1 except that the conditions for extruding from the slit of the T-die were changed.
In the same manner as in the above, a modified aromatic polyimide film having a thickness of 75 μm was obtained. The physical properties of this aromatic polyimide film are summarized below. Tensile modulus (MD): 840 kg / mm2 Elongation (MD): 68% Tear propagation resistance (Elmendorf) (MD): 820 g
/ Mm Tensile strength (MD): 48 kg / mm2 Heat shrinkage (200 ° C): 0.05% Dielectric breakdown voltage: 10.9 kv Edge crack resistance (MD): 110 kg / 20 mm Linear expansion coefficient (50-200 ° C) 1.8 × 10-5cm /
cm / ° C. Tear strength (MD): 42 g Number of times of bending resistance (× 10 4 times):> 10

【0040】実施例2 芳香族ポリイミドフィルムとして参考例3で得られた厚
み75μmのものに変えた他は実施例1と同様にして、
保護層を有するフィルムキャリアテ−プを得た。このフ
ィルムキャリアテ−プは改質ポリイミドフィルムと同等
の耐屈曲性を示した。この保護層を有するフィルムキャ
リアテ−プにスプロケット穴やデバイス穴を開け、保護
層を剥離し、実施例1と同様にして積層板を製造した。
得られた積層板の接着強度および積層板作成時の打ち抜
き製性を次に示す。 接着強度:1.7kg/cm 打ち抜き性:良好
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the thickness of the aromatic polyimide film was 75 μm, which was obtained in Reference Example 3.
A film carrier tape having a protective layer was obtained. This film carrier tape exhibited the same bending resistance as the modified polyimide film. Sprocket holes and device holes were formed in the film carrier tape having the protective layer, and the protective layer was peeled off. A laminated board was manufactured in the same manner as in Example 1.
The adhesive strength of the obtained laminate and the punching workability during the production of the laminate are shown below. Adhesive strength: 1.7 kg / cm Punching property: good

【0041】比較参考例1 1,2−ジメチルイミダゾ−ルを添加しなかった他は参
考例1と同様にして、厚み50μmの改質された芳香族
ポリイミドフィルムを得た。この芳香族ポリイミドフィ
ルムの物性をまとめて次に示す。 引張弾性率(MD):850kg/mm2 伸び(MD):43% 引裂き伝播抵抗(エルメンドルフ)(MD):510g
/mm 引張強度(MD):48kg/mm2 加熱収縮率(200℃):0.07% 絶縁破壊電圧:10.9kv 端裂抵抗値(MD):66kg/20mm 線膨張係数(50〜200℃):1.4×10-5cm/
cm/℃ 引き裂き強さ(MD):16g 耐屈曲回数(×104回):5.6
Comparative Reference Example 1 A modified aromatic polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that 1,2-dimethylimidazole was not added. The physical properties of this aromatic polyimide film are summarized below. Tensile modulus (MD): 850 kg / mm2 Elongation (MD): 43% Tear propagation resistance (Elmendorf) (MD): 510 g
/ Mm Tensile strength (MD): 48 kg / mm2 Heat shrinkage (200 ° C): 0.07% Dielectric breakdown voltage: 10.9 kv Edge crack resistance (MD): 66 kg / 20 mm Linear expansion coefficient (50-200 ° C) : 1.4 × 10 −5 cm /
cm / ° C. Tear strength (MD): 16 g Number of bending resistance (× 10 4 times): 5.6

【0042】比較例1 比較参考例1で得られた芳香族ポリイミドフィルムを使
用した他は実施例1と同様にして、保護層を有するフィ
ルムキャリアテ−プを得た。この保護層を有するフィル
ムキャリアテ−プにスプロケット穴やデバイス穴を開
け、保護層を剥離し、実施例1と同様にして積層板を製
造した。得られた積層板の接着強度および積層板作成時
の打ち抜き製性を次に示す。 接着強度:1.5kg/cm 打ち抜き性:やや不好
Comparative Example 1 A film carrier tape having a protective layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aromatic polyimide film obtained in Comparative Reference Example 1 was used. Sprocket holes and device holes were formed in the film carrier tape having the protective layer, and the protective layer was peeled off. A laminated board was manufactured in the same manner as in Example 1. The adhesive strength of the obtained laminate and the punching workability during the production of the laminate are shown below. Adhesive strength: 1.5 kg / cm Punching property: slightly unfavorable

【0043】[0043]

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。この発
明のフィルムキャリアテ−プは、打ち抜き性が良好であ
り、しかも接着性を保持しており、高精度の加工が可能
である。
Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained. The film carrier tape of the present invention has a good punching property, and maintains the adhesiveness, and can be processed with high precision.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AK41 AK49A AS00B AS00C BA02 BA03 BA06 BA07 BA10B BA10C CA23 EJ55 EJ61 JA02A JB13 JB16 JJ03 JK03A JK07 JK07A JK08A JL04 JL05 YY00A 4J043 PA02 QB15 QB26 QB31 RA35 SA06 SB02 TA22 TB02 UA121 UA122 UA131 UA132 UA151 UA662 UA672 UB011 UB021 UB061 UB121 UB131 UB141 UB402 VA011 VA012 VA021 VA022 VA031 VA041 VA051 VA062 VA081 VA091 VA102 XA16 XB12 XB20 YA06 ZA32 ZB11 ZB60 5F044 MM06 MM11 5G305 AA06 AA20 AB15 AB36 AB40 BA18 BA25 BA26 CA25 CA60 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4F100 AK41 AK49A AS00B AS00C BA02 BA03 BA06 BA07 BA10B BA10C CA23 EJ55 EJ61 JA02A JB13 JB16 JJ03 JK03A JK07 JK07A JK08A JL04 JL05 YY00A 4J043BA02 QB12 QB12 TAB UA132 UA151 UA662 UA672 UB011 UB021 UB061 UB121 UB131 UB141 UB402 VA011 VA012 VA021 VA022 VA031 VA041 VA051 VA062 VA081 VA091 VA102 XA16 XB12 XB20 YA06 ZA32 ZB11 ZB60 5F044 MM06 A26 BA06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビフェニルテトラカルボン酸二無水物また
はその誘導体とフェニレンジアミンとを主成分として製
造されたポリイミドからなり、厚みが45−130μm
であって、引張弾性率が550−1300kg/mm2
で、伸びが45−90%であり、かつ引裂き伝播抵抗
(エルメンドルフ)が550−1500g/mmである
芳香族ポリイミドフィルムの少なくとも片面に接着剤層
を設け、その上に保護膜層を有するフィルムキャリアテ
−プ。
1. A polyimide comprising biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and phenylenediamine as main components, and having a thickness of 45 to 130 μm.
Having a tensile modulus of 550-1300 kg / mm 2
A film carrier having an adhesive layer provided on at least one surface of an aromatic polyimide film having an elongation of 45-90% and a tear propagation resistance (Elmendorf) of 550-1500 g / mm, and having a protective film layer thereon Tape.
【請求項2】芳香族ポリイミドフィルムの加熱収縮率が
0.002−0.4%であり、比端裂抵抗値が14−2
5kg/20mm/10μmである請求項1記載のフィ
ルムキャリアテ−プ。
2. An aromatic polyimide film having a heat shrinkage of 0.002-0.4% and a specific edge crack resistance of 14-2.
2. The film carrier tape according to claim 1, which has a weight of 5 kg / 20 mm / 10 [mu] m.
【請求項3】芳香族ポリイミドフィルムが0.1−5重
量%の無機フィラ−を含有するものである請求項1記載
のフィルムキャリアテ−プ。
3. The film carrier tape according to claim 1, wherein the aromatic polyimide film contains 0.1 to 5% by weight of an inorganic filler.
【請求項4】フィルムの接着剤と接する面が、コロナ放
電処理、真空あるいは常圧プラズマ処理のいずれか1つ
以上の表面処理がされたものである請求項1記載のフィ
ルムキャリアテ−プ。
4. The film carrier tape according to claim 1, wherein the surface of the film which is in contact with the adhesive has been subjected to at least one of corona discharge treatment, vacuum or normal pressure plasma treatment.
【請求項5】接着剤が、熱可塑性接着剤あるいは熱硬化
性接着剤である請求項1記載のフィルムキャリアテ−
プ。
5. The film carrier tape according to claim 1, wherein the adhesive is a thermoplastic adhesive or a thermosetting adhesive.
H.
【請求項6】厚みが45−130μmであって、引張弾
性率が550−1300kg/mm2で、伸びが45−
90%であり、線膨張係数(50−200℃)が5×1
0-6−25×10-6cm/cm/℃であり、かつ引裂き
伝播抵抗(エルメンドルフ)が550−1500g/m
mである芳香族ポリイミドフィルムの少なくとも片面に
接着剤層を設け、その上に保護膜層を有するフィルムキ
ャリアテ−プ。
6. Thickness is 45-130 μm, tensile modulus is 550-1300 kg / mm 2 and elongation is 45-130 kg / mm 2.
90% and a coefficient of linear expansion (50-200 ° C.) of 5 × 1
0-6-25 x 10-6 cm / cm / C and a tear propagation resistance (Elmendorf) of 550-1500 g / m
A film carrier tape having an adhesive layer provided on at least one surface of an aromatic polyimide film having a protective film layer thereon.
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