JP2000204284A - Active energy ray-curing composition and film-forming process thereof - Google Patents
Active energy ray-curing composition and film-forming process thereofInfo
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- JP2000204284A JP2000204284A JP11008726A JP872699A JP2000204284A JP 2000204284 A JP2000204284 A JP 2000204284A JP 11008726 A JP11008726 A JP 11008726A JP 872699 A JP872699 A JP 872699A JP 2000204284 A JP2000204284 A JP 2000204284A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な活性エネル
ギー線硬化型組成物及びその被膜形成方法に関し、詳し
くは、光増感剤、光カチオン重合開始剤および光カチオ
ン重合性化合物よりなる活性エネルギー線硬化型組成物
を基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化
させる被膜形成方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel active energy ray-curable composition and a method for forming a film thereof, and more particularly to an active energy comprising a photosensitizer, a cationic photopolymerization initiator and a cationic photopolymerizable compound. The present invention relates to a method for forming a coating film in which a radiation-curable composition is applied to the surface of a substrate and cured by irradiation with an active energy ray.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、紫外線や電子線等の活性エネルギ
ー線により硬化する活性エネルギー線硬化型組成物は、
例えば、塗料、インキ、接着剤等の用途に幅広く利用さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, an active energy ray-curable composition which is cured by an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam,
For example, it is widely used for applications such as paints, inks and adhesives.
【0003】活性エネルギー線の照射によりエポキシ等
のカチオン重合を開始する化合物として、芳香族ジアゾ
ニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等で代表さ
れるオニウム塩類、フォスフォニウム塩および金属アト
ーン錯体などがある。As compounds which initiate cationic polymerization of epoxy or the like upon irradiation with active energy rays, there are onium salts represented by aromatic diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, etc., phosphonium salts and metal attone complexes.
【0004】活性エネルギー線硬化型組成物は秒単位で
硬化でき、加熱を必要としないので、熱硬化型塗料やラ
ッカータイプではなし得なかった高速硬化乾燥を可能と
し、これに適した用途に幅広く利用されている。また、
通常、加熱を必要としないため、省エネルギータイプの
被膜乾燥方法である。このためには、より少ないエネル
ギーで、速く、仕上りの良好な硬化被膜を得ることは極
めて大事なことである。このためには、活性エネルギー
線を有効に活用するための光増感剤の利用は極めて重要
なことである。今まで数多くの光増感剤が示されてお
り、例えば特開平3−237106、特開平10−15
07、USP4,571,377、USP5,085,
972、イメージング用有機材料(ぶんしん出版、19
93年7月8日)P.32−P.143、P.170な
どにあげられる。[0004] Since the active energy ray-curable composition can be cured in seconds and does not require heating, it enables high-speed curing and drying that could not be achieved with a thermosetting paint or a lacquer type, and is widely used in applications suitable for this. It's being used. Also,
Usually, since heating is not required, this is an energy saving type coating drying method. For this purpose, it is extremely important to obtain a cured film that is fast and has a good finish with less energy. For this purpose, it is extremely important to use a photosensitizer to effectively utilize active energy rays. Many photosensitizers have been described so far, for example, JP-A-3-237106, JP-A-10-15
07, USP 4,571,377, USP 5,085,
972, Organic materials for imaging (Bunshin Publishing, 19
July 8, 1993) p. 32-P. 143, p. 170 and the like.
【0005】しかしながら、上記した公知の組成物では
高速での硬化性や架橋性が十分でなく、また顔料を含有
するエナメルタイプにおいては硬化性が不十分であると
いった問題点がある。[0005] However, there is a problem that the above-mentioned known composition is insufficient in curability and crosslinking property at high speed, and that the enamel type containing a pigment has insufficient curability.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、硬化性、表
面硬度、付着性、耐溶剤性に優れた被膜を形成する活性
エネルギー線硬化型組成物を開発することを目的として
なされたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to develop an active energy ray-curable composition which forms a film having excellent curability, surface hardness, adhesion and solvent resistance. is there.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の光増
感剤を光カチオン重合組成物に配合してなる組成物が、
極めて反応性が良好で、硬度、付着性の良い被膜が形成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, a composition obtained by blending a specific photosensitizer with a cationic photopolymerizable composition has been obtained. ,
The present inventors have found that a film having extremely good reactivity and good hardness and adhesion is formed, and the present invention has been completed.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明組成物で使用する光増感剤
[A]は上記一般式(1)で表される化合物である。一般
式(1)で表されるR1及びR2のC1〜C8のアルキル基
としては、直鎖であっても分岐していても構わない。該
アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、
iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル等の基が挙げられる。また、R3のC1〜C4のアルキ
ル基としては、直鎖であっても分岐していても構わな
い。該アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロ
ピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチ
ル、tert−ブチル等の基が挙げられる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Photosensitizer used in the composition of the present invention
[A] is a compound represented by the above general formula (1). The C 1 -C 8 alkyl group of R 1 and R 2 represented by the general formula (1) may be linear or branched. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl,
iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, te
Examples include groups such as rt-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl and the like. Further, the C 1 -C 4 alkyl group for R 3 may be linear or branched. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, tert-butyl and the like.
【0009】光増感剤[A]としては、例えば、9,10
−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアン
トラセン、9,10−ジプロポキシアントラセン、9,
10−ジブトキシアントラセン、9,10−ジヘキサノ
キシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシ
アントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアン
トラセン、2−エチル−9,10−ジプロポキシアント
ラセン、2−エチル−9,10−ジブトキシアントラセ
ン、2−メチル−9,10−ジメトキシアントラセン、
2−メチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2−
メチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2−メ
チル−9,10−ジブトキシアントラセン、2−プロピ
ル−9,10−ジメトキシアントラセン、2−プロピル
−9,10−ジエトキシアントラセンなどがあげられ
る。As the photosensitizer [A], for example, 9,10
Dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene,
10-dibutoxyanthracene, 9,10-dihexanoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dipropoxyanthracene 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene, 2-methyl-9,10-dimethoxyanthracene,
2-methyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-
Examples thereof include methyl-9,10-dipropoxyanthracene, 2-methyl-9,10-dibutoxyanthracene, 2-propyl-9,10-dimethoxyanthracene, and 2-propyl-9,10-diethoxyanthracene.
【0010】本発明で使用する光カチオン重合開始剤と
しては、ヨードニウムカチオン、スルフォニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオンがアニオンと対イオンを形成
してなるオニウム塩が使用される。このものは1種もし
くは2種以上組み合わせて使用することができる。As the cationic photopolymerization initiator used in the present invention, an onium salt obtained by forming a counter ion with an anion of an iodonium cation, a sulfonium cation, or a phosphonium cation is used. These can be used alone or in combination of two or more.
【0011】ヨードニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式(2)As the iodonium cation, for example, the following general formula (2)
【0012】[0012]
【化2】 Embedded image
【0013】スルホニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式(3)As the sulfonium cation, for example, the following general formula (3)
【0014】[0014]
【化3】 Embedded image
【0015】ホスホニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式(4)As the phosphonium cation, for example, the following general formula (4)
【0016】[0016]
【化4】 Embedded image
【0017】が挙げられる。[0017]
【0018】上記した一般式(2)〜(4)においてR
4〜R7は下記の意味を表す。In the above general formulas (2) to (4), R
4 to R 7 represent the following meanings.
【0019】R4、R6及びR7は同じ一般式において同
一もしくは異なっていても構わない。R 4 , R 6 and R 7 may be the same or different in the same general formula.
【0020】R4は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルキル基もしくは、下記R7(フッ素、
塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、
シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良い
C6〜C18の単環、縮合多環アリール基のいずれか)を
示す。R 4 is a C 1 -C 18 linear or branched chain which may be substituted by fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide; A cyclic alkyl group or the following R 7 (fluorine,
Chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto,
Cyano group, a nitro group, a monocyclic good C 6 -C 18 optionally substituted with an azido group, either) fused polycyclic aryl group.
【0021】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−デシ
ルシクロヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル
基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、トリブロモメチル基、ヒドロキシメチル
基、カルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノ
メチル基、ニトロメチル基、アジドメチル基などがあげ
られる。The C 1 -C 18 linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted by the fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide group As methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, cyclopentyl Group, cyclohexyl group, 4-decylcyclohexyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, hydroxymethyl group, carboxymethyl group, mercaptomethyl group, cyanomethyl group Nitromethyl group, azidomethyl group and the like.
【0022】R5は、ベンジル基、置換されたベンジル
基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、置換され
たアリル基、アルコキシル基、置換されたアルコキシル
基、アリルアルコキシル基、アリールオキシ基、置換さ
れたアリールオキシ基から選ばれる基を示す。R5 represents a benzyl group, a substituted benzyl group, a phenacyl group, a substituted phenacyl group, a substituted allyl group, an alkoxyl group, a substituted alkoxyl group, an allylalkoxyl group, an aryloxy group, Shows a group selected from aryloxy groups.
【0023】置換されたベンジル基とは、フッ素、塩
素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メ
チルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1〜
C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から
選ばれる基で置換されたベンジル基があげられ、さら
に、ベンジル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基に
よって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していて
も良い構造があげられる。The substituted benzyl group includes fluorine, chlorine, bromine, cyano, nitro, trifluoromethyl, hydroxyl, mercapto, methylsulfinyl, methylsulfonyl, acetyl, benzoyl, C 1-
C 18 linear, branched or cyclic alkyl group, C 1 -C 18
Linear, branched or cyclic alkoxyl group of C 2 -C 18
And a benzyl group substituted with a group selected from the group consisting of linear, branched and cyclic alkoxycarbonyl groups. Further, the benzene ring in the benzyl group may have a C 10 -C 22 Examples of the structure include a structure that may form a condensed polycyclic aromatic ring.
【0024】これら置換されたベンジル基の具体例とし
ては、o−フルオロベンジル基、m−フルオロベンジル
基、p−フルオロベンジル基、o−クロロベンジル基、
m−クロロベンジル基、p−クロロベンジル基、o−ブ
ロモベンジル基、m−ブロモベンジル基、p−ブロモベ
ンジル基、o−シアノベンジル基、m−シアノベンジル
基、p−シアノベンジル基、o−ニトロベンジル基、m
−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、2,4−
ジフルオロフェニルメチル基、2,6−ジクロロフェニ
ルメチル基、2,4,6−トリブロモフェニルメチル
基、ペンタフルオロフェニルメチル基、p−(トリフル
オロメチル)ベンジル基、3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)フェニルメチル基、o−ヒドロキシベンジル
基、m−ヒドロキシベンジル基、p−ヒドロキシベンジ
ル基、o−メルカプトベンジル基、m−メルカプトベン
ジル基、p−メルカプトベンジル基、o−メチルスルフ
ィニルベンジル基、m−メチルスルフィニルベンジル
基、p−メチルスルフィニルベンジル基、o−メチルス
ルホニルベンジル基、m−メチルスルホニルベンジル
基、p−メチルスルホニルベンジル基、o−アセチルベ
ンジル基、m−アセチルベンジル基、p−アセチルベン
ジル基、o−ベンゾイルベンジル基、m−ベンゾイルベ
ンジル基、p−ベンゾイルベンジル基、o−メチルベン
ジル基、m−メチルベンジル基、p−メチルベンジル
基、p−エチルベンジル基、p−プロピルベンジル基、
p−イソプロピルベンジル基、p−t−ブチルベンジル
基、p−オクタデシルベンジル基、p−シクロヘキシル
ベンジル基、o−メトキシベンジル基、m−メトキシベ
ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−エトキシベン
ジル基、p−プロポキシベンジル基、p−イソプロポキ
シベンジル基、p−t−ブトキシベンジル基、p−オク
タデシルベンジル基、p−シクロヘキサンオキシベンジ
ル基、o−メトキシカルボニルベンジル基、m−メトキ
シカルボニルベンジル基、p−メトキシカルボニルベン
ジル基、p−エトキシカルボニルベンジル基、p−プロ
ポキシカルボニルベンジル基、p−イソプロポキシカル
ボニルベンジル基、p−t−ブトキシカルボニルベンジ
ル基、p−オクタデシルオキシカルボニルベンジル基、
p−シクロヘキサンオキシカルボニルベンジル基、1−
ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、9−アンス
リルメチル基、1−ピレニルメチル基、5−ナフタセニ
ルメチル基、6−ペンタセニルメチル基などがあげられ
る。Specific examples of these substituted benzyl groups include o-fluorobenzyl, m-fluorobenzyl, p-fluorobenzyl, o-chlorobenzyl,
m-chlorobenzyl group, p-chlorobenzyl group, o-bromobenzyl group, m-bromobenzyl group, p-bromobenzyl group, o-cyanobenzyl group, m-cyanobenzyl group, p-cyanobenzyl group, o- Nitrobenzyl group, m
-Nitrobenzyl group, p-nitrobenzyl group, 2,4-
Difluorophenylmethyl group, 2,6-dichlorophenylmethyl group, 2,4,6-tribromophenylmethyl group, pentafluorophenylmethyl group, p- (trifluoromethyl) benzyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl ) Phenylmethyl group, o-hydroxybenzyl group, m-hydroxybenzyl group, p-hydroxybenzyl group, o-mercaptobenzyl group, m-mercaptobenzyl group, p-mercaptobenzyl group, o-methylsulfinylbenzyl group, m- Methylsulfinylbenzyl group, p-methylsulfinylbenzyl group, o-methylsulfonylbenzyl group, m-methylsulfonylbenzyl group, p-methylsulfonylbenzyl group, o-acetylbenzyl group, m-acetylbenzyl group, p-acetylbenzyl group , O-benzoylbe Jill group, m- benzoyl benzyl, p- benzoyl benzyl, o- methylbenzyl group, m- methylbenzyl group, p- methylbenzyl group, p- ethylbenzyl group, p- propyl benzyl group,
p-isopropylbenzyl group, pt-butylbenzyl group, p-octadecylbenzyl group, p-cyclohexylbenzyl group, o-methoxybenzyl group, m-methoxybenzyl group, p-methoxybenzyl group, p-ethoxybenzyl group, p-propoxybenzyl group, p-isopropoxybenzyl group, pt-butoxybenzyl group, p-octadecylbenzyl group, p-cyclohexaneoxybenzyl group, o-methoxycarbonylbenzyl group, m-methoxycarbonylbenzyl group, p- Methoxycarbonylbenzyl group, p-ethoxycarbonylbenzyl group, p-propoxycarbonylbenzyl group, p-isopropoxycarbonylbenzyl group, pt-butoxycarbonylbenzyl group, p-octadecyloxycarbonylbenzyl group,
p-cyclohexaneoxycarbonylbenzyl group, 1-
Examples include a naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 9-anthrylmethyl group, a 1-pyrenylmethyl group, a 5-naphthacenylmethyl group, and a 6-pentacenylmethyl group.
【0025】置換されたフェナシル基とは、フッ素、塩
素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メ
チルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1〜
C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から
選ばれる基で置換されたフェナシル基があげられ、さら
に、フェナシル基中のベンゼン環が不飽和炭化水素基に
よって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していて
も良い構造があげられる。The substituted phenacyl group includes fluorine, chlorine, bromine, cyano, nitro, trifluoromethyl, hydroxyl, mercapto, methylsulfinyl, methylsulfonyl, acetyl, benzoyl, C 1 -C
C 18 linear, branched or cyclic alkyl group, C 1 -C 18
Linear, branched or cyclic alkoxyl group of C 2 -C 18
And a phenacyl group substituted by a group selected from the group consisting of linear, branched and cyclic alkoxycarbonyl groups. Further, the benzene ring in the phenacyl group is condensed by C 10 to C 22 with an unsaturated hydrocarbon group. Examples of the structure include a structure that may form a polycyclic aromatic ring.
【0026】これら置換されたフェナシル基の具体例と
しては、o−フルオロフェナシル基、m−フルオロフェ
ナシル基、p−フルオロフェナシル基、o−クロロフェ
ナシル基、m−クロロフェナシル基、p−クロロフェナ
シル基、o−ブロモフェナシル基、m−ブロモフェナシ
ル基、p−ブロモフェナシル基、o−シアノフェナシル
基、m−シアノフェナシル基、p−シアノフェナシル
基、o−ニトロフェナシル基、m−ニトロフェナシル
基、p−ニトロフェナシル基、2,4−ジフルオロフェ
ニルカルボニルメチル基、2,6−ジクロロフェニルカ
ルボニルメチル基、2,4,6−トリブロモフェニルカ
ルボニルメチル基、ペンタフルオロフェニルカルボニル
メチル基、p−(トリフルオロメチル)フェナシル基、
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルカルボニ
ルメチル基、o−ヒドロキシフェナシル基、m−ヒドロ
キシフェナシル基、p−ヒドロキシフェナシル基、o−
メルカプトフェナシル基、m−メルカプトフェナシル
基、p−メルカプトフェナシル基、o−メチルスルフィ
ニルフェナシル基、m−メチルスルフィニルフェナシル
基、p−メチルスルフィニルフェナシル基、o−メチル
スルホニルフェナシル基、m−メチルスルホニルフェナ
シル基、p−メチルスルホニルフェナシル基、o−アセ
チルフェナシル基、m−アセチルフェナシル基、p−ア
セチルフェナシル基、o−ベンゾイルフェナシル基、m
−ベンゾイルフェナシル基、p−ベンゾイルフェナシル
基、o−メチルフェナシル基、m−メチルフェナシル
基、p−メチルフェナシル基、p−エチルフェナシル
基、p−プロピルフェナシル基、p−イソプロピルフェ
ナシル基、p−t−ブチルフェナシル基、p−オクタデ
シルフェナシル基、p−シクロヘキシルフェナシル基、
o−メトキシフェナシル基、m−メトキシフェナシル
基、p−メトキシフェナシル基、p−エトキシフェナシ
ル基、p−プロポキシフェナシル基、p−イソプロポキ
シフェナシル基、p−t−ブトキシフェナシル基、p−
オクタデシルオキシフェナシル基、p−シクロヘキサン
オキシフェナシル基、o−メトキシカルボニルフェナシ
ル基、m−メトキシカルボニルフェナシル基、p−メト
キシカルボニルフェナシル基、p−エトキシカルボニル
フェナシル基、p−プロポキシカルボニルフェナシル
基、p−イソプロポキシカルボニルフェナシル基、p−
t−ブトキシカルボニルフェナシル基、p−オクタデシ
ルオキシカルボニルフェナシル基、p−シクロヘキサン
オキシカルボニルフェナシル基、1−ナフトイルメチル
基、2−ナフトイルメチル基、9−アンスロイルメチル
基、1−ピレニルカルボニルメチル基、5−ナフタセニ
ルカルボニルメチル基、6−ペンタセニルカルボニルメ
チル基などがあげられる。Specific examples of these substituted phenacyl groups include o-fluorophenacyl, m-fluorophenacyl, p-fluorophenacyl, o-chlorophenacyl, m-chlorophenacyl, p-chlorophenacyl group, o-bromophenacyl group, m-bromophenacyl group, p-bromophenacyl group, o-cyanophenacyl group, m-cyanophenacyl group, p-cyanophenacyl group, o-nitrophenacyl group, m-nitrophenacyl group P-nitrophenacyl group, 2,4-difluorophenylcarbonylmethyl group, 2,6-dichlorophenylcarbonylmethyl group, 2,4,6-tribromophenylcarbonylmethyl group, pentafluorophenylcarbonylmethyl group, p- ( Trifluoromethyl) phenacyl group,
3,5-bis (trifluoromethyl) phenylcarbonylmethyl group, o-hydroxyphenacyl group, m-hydroxyphenacyl group, p-hydroxyphenacyl group, o-
Mercaptophenacyl group, m-mercaptophenacyl group, p-mercaptophenacyl group, o-methylsulfinylphenacyl group, m-methylsulfinylphenacyl group, p-methylsulfinylphenacyl group, o-methylsulfonylphenacyl group M-methylsulfonylphenacyl group, p-methylsulfonylphenacyl group, o-acetylphenacyl group, m-acetylphenacyl group, p-acetylphenacyl group, o-benzoylphenacyl group, m
-Benzoylphenacyl group, p-benzoylphenacyl group, o-methylphenacyl group, m-methylphenacyl group, p-methylphenacyl group, p-ethylphenacyl group, p-propylphenacyl group, p- Isopropylphenacyl group, pt-butylphenacyl group, p-octadecylphenacyl group, p-cyclohexylphenacyl group,
o-methoxyphenacyl group, m-methoxyphenacyl group, p-methoxyphenacyl group, p-ethoxyphenacyl group, p-propoxyphenacyl group, p-isopropoxyphenacyl group, pt-butoxyphenacyl Group, p-
Octadecyloxyphenacyl group, p-cyclohexaneoxyphenacyl group, o-methoxycarbonylphenacyl group, m-methoxycarbonylphenacyl group, p-methoxycarbonylphenacyl group, p-ethoxycarbonylphenacyl group, p-propoxycarbonyl Phenacyl group, p-isopropoxycarbonylphenacyl group, p-
t-butoxycarbonylphenacyl group, p-octadecyloxycarbonylphenacyl group, p-cyclohexaneoxycarbonylphenacyl group, 1-naphthoylmethyl group, 2-naphthoylmethyl group, 9-anthroylmethyl group, 1-pyre And a carbonylcarbonylmethyl group, a 5-naphthacenylcarbonylmethyl group and a 6-pentacenylcarbonylmethyl group.
【0027】置換されたアリル基とは、フッ素、ニトロ
基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、ベ
ンゾイル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アル
キル基、C2〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキ
シカルボニル基、フェニル基から選ばれる基で置換され
たアリル基があげられる。The substituted allyl group includes fluorine, nitro group, trifluoromethyl group, cyano group, acetyl group, benzoyl group, C 1 -C 18 linear, branched, cyclic alkyl, C 2 -C 18 linear, branched, cyclic alkoxycarbonyl group, an allyl group substituted by a group selected from a phenyl group.
【0028】これら置換されたアリル基の具体例として
は、2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基、
3,3−ジニトロ−2−プロペニル基、3,3−ビス
(トリフルオロメチル)−2−プロペニル基、3,3−
ジシアノ−2−プロペニル基、2−メチル−3,3−ジ
シアノ−2−プロペニル基、3−ヘキシル−3,3−ジ
シアノ−2−プロペニル基、2−オクタデシル−3,3
−ジシアノ−2−プロペニル基、2−イソプロピル−
3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−t−ブチル
−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−シクロヘ
キシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−ア
セチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−ベ
ンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−
フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、3,
3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、
2−メチル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2
−プロペニル基、2−ヘキシル−3,3−ビス(メトキ
シカルボニル)−2−プロペニル基、2−オクタデシル
−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニ
ル基、2−イソプロピル−3,3−ビス(メトキシカル
ボニル)−2−プロペニル基、2−t−ブチル−3,3
−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2
−シクロヘキシル−3,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−2−プロペニル基、2−アセチル−3,3−ビス
(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−ベン
ゾイル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プ
ロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカ
ルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3
−ビス(ヘキシルオキシカルボニル)−2−プロペニル
基、2−フェニル−3,3−ビス(オクタデシルオキシ
カルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,
3−ビス(t−ブトキシカルボニル)−2−プロペニル
基、2−フェニル−3,3−ビス(シクロヘキシルオキ
シカルボニル)−2−プロペニル基などがあげられる。Specific examples of these substituted allyl groups include a 2,3,3-trifluoro-2-propenyl group,
3,3-dinitro-2-propenyl group, 3,3-bis (trifluoromethyl) -2-propenyl group, 3,3-
Dicyano-2-propenyl group, 2-methyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 3-hexyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-octadecyl-3,3
-Dicyano-2-propenyl group, 2-isopropyl-
3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-t-butyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-cyclohexyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-acetyl-3,3 -Dicyano-2-propenyl group, 2-benzoyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-
A phenyl-3,3-dicyano-2-propenyl group, 3,
3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group,
2-methyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2
-Propenyl group, 2-hexyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-octadecyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-isopropyl-3,3- Bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-t-butyl-3,3
-Bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2
-Cyclohexyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-acetyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-benzoyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) group -2-propenyl group, 2-phenyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-phenyl-3,3
-Bis (hexyloxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-phenyl-3,3-bis (octadecyloxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-phenyl-3,
Examples thereof include a 3-bis (t-butoxycarbonyl) -2-propenyl group and a 2-phenyl-3,3-bis (cyclohexyloxycarbonyl) -2-propenyl group.
【0029】アルコキシル基としては、C1〜C18の直
鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オク
チルオキシ基、オクタデカンオキシ基、イソプロポキシ
基、t−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基などがあげられる。Examples of the alkoxyl group include C 1 -C 18 linear, branched, and cyclic alkoxyl groups, and include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, octyloxy, octadecoxy, and octadecaneoxy. Examples include a propoxy group, a t-butoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group.
【0030】置換されたアルコキシル基とは、フッ素、
塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基から選ばれる基で置換されたC1〜C18の直
鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、フル
オロメトキシ基、2−クロロエトキシ基、3−ブロモプ
ロポキシ基、4−シアノブトキシ基、8−ニトロオクチ
ルオキシ基、18−トリフルオロメチルオクタデカンオ
キシ基、2−ヒドロキシイソプロポキシ基、トリクロロ
メトキシ基などがあげられる。The substituted alkoxyl group includes fluorine,
A C 1 -C 18 linear, branched or cyclic alkoxyl group substituted with a group selected from chlorine, bromine, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group and hydroxyl group; -Chloroethoxy group, 3-bromopropoxy group, 4-cyanobutoxy group, 8-nitrooctyloxy group, 18-trifluoromethyloctadecaneoxy group, 2-hydroxyisopropoxy group, trichloromethoxy group and the like.
【0031】アリールオキシ基とは、C6〜C18の単
環、縮合多環アリールオキシ基であり、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−ア
ンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−
ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−イ
ンデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセ
ナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、o−ト
リルオキシ基、m−トリルオキシ基、p−トリルオキシ
基、2,3−キシリルオキシ基、3,5−キシリルオキ
シ基、メシチルオキシ基、p−クメニルオキシ基、p−
デシルフェノキシ基、p−シクロヘキシルフェノキシ
基、4−フェニルフェノキシ基などがあげられる。The aryloxy group is a C 6 -C 18 monocyclic or condensed polycyclic aryloxy group, and is a phenoxy group,
1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 9-anthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-
Pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azulenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group, o-tolyloxy group, m-tolyloxy group, p- Tolyloxy group, 2,3-xylyloxy group, 3,5-xylyloxy group, mesityloxy group, p-cumenyloxy group, p-
Decylphenoxy, p-cyclohexylphenoxy, 4-phenylphenoxy and the like.
【0032】置換されたアリールオキシ基とは、フッ
素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト
基、シアノ基、ニトロ基、アジド基から選ばれる基で置
換されたC6〜C18の単環、縮合多環アリールオキシ基
であり、o−フルオロフェノキシ基、m−クロロフェノ
キシ基、p−ブロモフェノキシ基、p−ヒドロキシフェ
ノキシ基、m−カルボキシフェノキシ基、o−メルカプ
トフェノキシ基、p−シアノフェノキシ基、m−ニトロ
フェノキシ基、m−アジドフェノキシ基、2−クロロ−
1−ナフチルオキシ基、10−シアノ−9−アンスリル
オキシ基、11−ニトロ−5−ナフタセニルオキシ基な
どがあげられる。The substituted aryloxy group is a C 6 -C 18 monocyclic ring substituted by a group selected from fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro and azide. A condensed polycyclic aryloxy group, o-fluorophenoxy group, m-chlorophenoxy group, p-bromophenoxy group, p-hydroxyphenoxy group, m-carboxyphenoxy group, o-mercaptophenoxy group, p-cyanophenoxy group Group, m-nitrophenoxy group, m-azidophenoxy group, 2-chloro-
Examples thereof include a 1-naphthyloxy group, a 10-cyano-9-anthryloxy group, and an 11-nitro-5-naphthacenyloxy group.
【0033】これらR55において、好ましいものとし
ては、フッ素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチ
ル基、C1〜C4の直鎖状、分岐鎖状アシル基、C2〜
C5の直鎖状、分岐鎖状アルコキシカルボニル基、ベン
ゾイル基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル
基、p−トシル基といった電子吸引性基で置換されたベ
ンジル基、フェナシル基、アリル基があげられる。その
ような具体例としては、o−シアノベンジル基、p−シ
アノベンジル基、o−ニトロベンジル基、p−ニトロベ
ンジル基、ペンタフルオロフェニルメチル基、3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニルメチル基、o−ア
セチルベンジル基、p−アセチルベンジル基、o−メト
キシカルボニルベンジル基、p−メトキシカルボニルベ
ンジル基、o−t−ブトキシカルボニルベンジル基、p
−t−ブトキシカルボニルベンジル基、o−ベンゾイル
ベンジル基、p−ベンゾイルベンジル基、o−メチルス
ルフィニルベンジル基、p−メチルスルフィニルベンジ
ル基、o−メチルスルホニルベンジル基、p−メチルス
ルホニルベンジル基、o−(p−トシル)ベンジル基、
o−シアノフェナシル基、p−シアノフェナシル基、o
−ニトロフェナシル基、p−ニトロフェナシル基、ペン
タフルオロベンゾイルメチル基、3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゾイルメチル基、o−アセチルフェ
ナシル基、p−アセチルフェナシル基、o−メトキシカ
ルボニルフェナシル基、p−メトキシカルボニルフェナ
シル基、o−t−ブトキシカルボニルフェナシル基、p
−t−ブトキシカルボニルフェナシル基、o−ベンゾイ
ルフェナシル基、p−ベンゾイルフェナシル基、o−メ
チルスルフィニルフェナシル基、p−メチルスルフィニ
ルフェナシル基、o−メチルスルホニルフェナシル基、
p−メチルスルホニルフェナシル基、o−(p−トシ
ル)フェナシル基、p−(p−トシル)フェナシル基、
3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、1−メチル−
3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−フェニル−
3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、3,3−ビス
(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェ
ニル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロ
ペニル基、シアノメトキシ基、アセチルメトキシ基、ベ
ンゾイルメトキシ基、p−シアノフェノキシ基、ペンタ
フルオロフェニルメトキシ基があげられる。[0033] In these R 5 5, preferred are fluorine, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, C1 -C4 linear, branched acyl group, C 2 ~
C 5 straight-chain, branched-chain alkoxycarbonyl group, a benzoyl group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, p- tosyl group such electron-withdrawing substituted benzyl group with a group, phenacyl group, allyl group. Such specific examples include an o-cyanobenzyl group, a p-cyanobenzyl group, an o-nitrobenzyl group, a p-nitrobenzyl group, a pentafluorophenylmethyl group, a 3,5-
Bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, o-acetylbenzyl group, p-acetylbenzyl group, o-methoxycarbonylbenzyl group, p-methoxycarbonylbenzyl group, ot-butoxycarbonylbenzyl group, p
-T-butoxycarbonylbenzyl group, o-benzoylbenzyl group, p-benzoylbenzyl group, o-methylsulfinylbenzyl group, p-methylsulfinylbenzyl group, o-methylsulfonylbenzyl group, p-methylsulfonylbenzyl group, o- A (p-tosyl) benzyl group,
o-cyanophenacyl group, p-cyanophenacyl group, o
-Nitrophenacyl group, p-nitrophenacyl group, pentafluorobenzoylmethyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoylmethyl group, o-acetylphenacyl group, p-acetylphenacyl group, o-methoxy Carbonylphenacyl group, p-methoxycarbonylphenacyl group, ot-butoxycarbonylphenacyl group, p
-T-butoxycarbonylphenacyl group, o-benzoylphenacyl group, p-benzoylphenacyl group, o-methylsulfinylphenacyl group, p-methylsulfinylphenacyl group, o-methylsulfonylphenacyl group,
p-methylsulfonylphenacyl group, o- (p-tosyl) phenacyl group, p- (p-tosyl) phenacyl group,
3,3-dicyano-2-propenyl group, 1-methyl-
3,3-dicyano-2-propenyl group, 2-phenyl-
3,3-dicyano-2-propenyl group, 3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, 2-phenyl-3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl group, cyanomethoxy group, acetyl Examples include a methoxy group, a benzoylmethoxy group, a p-cyanophenoxy group, and a pentafluorophenylmethoxy group.
【0034】R6は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルキル基もしくは、フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜
C18の直鎖状アルコキシ基、分岐鎖状アルコキシ基、環
状アルコキシ基のいずれかを示す。R 6 is a C 1 -C 18 linear or branched chain which may be substituted by fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide; A cyclic alkyl group, or a C 1- which may be substituted by fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide;
It represents any of a C18 linear alkoxy group, a branched alkoxy group, and a cyclic alkoxy group.
【0035】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルキル基はR4に記載と同様の意味を表す。The C 1 -C 18 linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted by the fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide group. represent the same meanings as described in R 4.
【0036】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オ
クタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ
基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロ
モメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメ
トキシ基、トリブロモメトキシ基、ヒドロキシメトキシ
基、カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シ
アノメトキシ基、ニトロメトキシ基、アジドメトキシ
基、などがあげられる。The C 1 -C 18 linear, branched, or cyclic alkoxy group which may be substituted by the fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide group As a methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, octyloxy group, octadecaneoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, trifluoromethoxy group, chloromethoxy group, bromo Examples include methoxy group, trifluoromethoxy group, trichloromethoxy group, tribromomethoxy group, hydroxymethoxy group, carboxymethoxy group, mercaptomethoxy group, cyanomethoxy group, nitromethoxy group, and azidomethoxy group.
【0037】R7は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いC6〜C18の単環、縮合
多環アリール基を示す。具体的には、フェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−
フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル
基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナ
フチル基、9−フルオレニル基、o−トリル基、m−ト
リル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−
キシリル基、メシチル基、p−クメニル基、p−ドデシ
ルフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、4−ビ
フェニル基、o−フルオロフェニル基、m−クロロフェ
ニル基、p−ブロモフェニル基、p−ヒドロキシフェニ
ル基、m−カルボキシフェニル基、o−メルカプトフェ
ニル基、p−シアノフェニル基、m−ニトロフェニル
基、m−アジドフェニル基などがあげられる。R 7 is a C 6 -C 18 monocyclic or condensed polycyclic aryl group which may be substituted by fluorine, chlorine, bromine, hydroxyl, carboxyl, mercapto, cyano, nitro or azide. Is shown. Specifically, a phenyl group, 1-
Naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-
Phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azulenyl group, 1-acenaphthyl group, 9-fluorenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2, 3-xylyl group, 2,5-
Xylyl group, mesityl group, p-cumenyl group, p-dodecylphenyl group, p-cyclohexylphenyl group, 4-biphenyl group, o-fluorophenyl group, m-chlorophenyl group, p-bromophenyl group, p-hydroxyphenyl group , M-carboxyphenyl group, o-mercaptophenyl group, p-cyanophenyl group, m-nitrophenyl group, m-azidophenyl group and the like.
【0038】また、Zは、酸素もしくは硫黄原子を示
す。Z represents an oxygen or sulfur atom.
【0039】スルフォニウムカチオンの例としては、例
えば下記のものが挙げられる。Examples of the sulfonium cation include the following.
【0040】ベンジルスルホニウムカチオン:ジメチル
(ベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−フルオロベ
ンジル)スルホニウム、ジメチル(m−クロロベンジ
ル)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモベンジル)ス
ルホニウム、ジメチル(p−シアノベンジル)スルホニ
ウム、ジメチル(m−ニトロベンジル)スルホニウム、
ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニルメチル)ス
ルホニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェニルメチ
ル)スルホニウム、ジメチル(p−(トリフルオロメチ
ル)ベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−ヒドロキ
シベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メルカプト
ベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルフ
ィニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチル
スルホニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−ア
セチルベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−ベンゾ
イルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルベ
ンジル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロピルベ
ンジル)スルホニウム、ジメチル(p−オクタデシルベ
ンジル)スルホニウム、ジメチル(p−シクロヘキシル
ベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メトキシベン
ジル)スルホニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニ
ルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロポ
キシカルボニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(2
−ナフチルメチル)スルホニウム、ジメチル(9−アン
スリルメチル)スルホニウム、ジエチル(ベンジル)ス
ルホニウム、メチルエチル(ベンジル)スルホニウム、
メチルフェニル(ベンジル)スルホニウム、ジフェニル
(ベンジル)スルホニウム、ジイソプロピル(ベンジ
ル)スルホニウムなど。Benzyl sulfonium cation: dimethyl (benzyl) sulfonium, dimethyl (o-fluorobenzyl) sulfonium, dimethyl (m-chlorobenzyl) sulfonium, dimethyl (p-bromobenzyl) sulfonium, dimethyl (p-cyanobenzyl) sulfonium, dimethyl (M-nitrobenzyl) sulfonium,
Dimethyl (2,4,6-tribromophenylmethyl) sulfonium, dimethyl (pentafluorophenylmethyl) sulfonium, dimethyl (p- (trifluoromethyl) benzyl) sulfonium, dimethyl (p-hydroxybenzyl) sulfonium, dimethyl (p- Mercaptobenzyl) sulfonium, dimethyl (p-methylsulfinylbenzyl) sulfonium, dimethyl (p-methylsulfonylbenzyl) sulfonium, dimethyl (o-acetylbenzyl) sulfonium, dimethyl (o-benzoylbenzyl) sulfonium, dimethyl (p-methylbenzyl) Sulfonium, dimethyl (p-isopropylbenzyl) sulfonium, dimethyl (p-octadecylbenzyl) sulfonium, dimethyl (p-cyclohexylbenzyl) sulfonium Arm, dimethyl (p- methoxybenzyl) sulfonium, dimethyl (o-methoxycarbonyl benzyl) sulfonium, dimethyl (p- isopropoxycarbonyl benzyl) sulfonium, dimethyl (2
-Naphthylmethyl) sulfonium, dimethyl (9-anthrylmethyl) sulfonium, diethyl (benzyl) sulfonium, methylethyl (benzyl) sulfonium,
Methylphenyl (benzyl) sulfonium, diphenyl (benzyl) sulfonium, diisopropyl (benzyl) sulfonium and the like.
【0041】フェナシルスルホニウムカチオン:ジメチ
ル(フェナシル)スルホニウム、ジメチル(o−フルオ
ロフェナシル)スルホニウム、ジメチル(m−クロロフ
ェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモフェナ
シル)スルホニウム、ジメチル(p−シアノフェナシ
ル)スルホニウム、ジメチル(m−ニトロフェナシル)
スルホニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェ
ニルメチル)スルホニウム、ジメチル(p−(トリフル
オロメチル)フェナシル)スルホニウム、ジメチル(p
−ヒドロキシフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p
−メルカプトフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p
−メチルフルフィニルフェナシル)スルホニウム、ジメ
チル(p−メチルスルホニルフェナシル)スルホニウ
ム、ジメチル(o−アセチルフェナシル)スルホニウ
ム、ジメチル(o−ベンゾイルフェナシル)スルホニウ
ム、ジメチル(p−メチルフェナシル)スルホニウム、
ジメチル(p−イソプロピルフェナシル)スルホニウ
ム、ジメチル(p−オクタデシルフェナシル)スルホニ
ウム、ジメチル(p−シクロヘキシルフェナシル)スル
ホニウム、ジメチル(p−メトキシフェナシル)スルホ
ニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルフェナシ
ル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロポキシカル
ボニルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(2−ナフ
トイルメチル)スルホニウム、ジメチル(9−アンスロ
イルメチル)スルホニウム、ジエチル(フェナシル)ス
ルホニウム、メチルエチル(フェナシル)スルホニウ
ム、メチルフェニル(フェナシル)スルホニウム、ジフ
ェニル(フェナシル)スルホニウム、ジイソプロピル
(フェナシル)スルホニウム、テトラメチレン(フェナ
シル)スルホニウム、ペンタメチレン(フェナシル)ス
ルホニウム、ヘキサメチレン(フェナシル)スルホニウ
ム、エチレンジオキシ(フェナシル)スルホニウム、ジ
エチレンジオキシ(フェナシル)スルホニウム、エチレ
ンジチオ(フェナシル)スルホニウムなど。Phenacylsulfonium cations: dimethyl (phenacyl) sulfonium, dimethyl (o-fluorophenacyl) sulfonium, dimethyl (m-chlorophenacyl) sulfonium, dimethyl (p-bromophenacyl) sulfonium, dimethyl (p-cyanophenacyl) sulfonium, Dimethyl (m-nitrophenacyl)
Sulfonium, dimethyl (2,4,6-tribromophenylmethyl) sulfonium, dimethyl (p- (trifluoromethyl) phenacyl) sulfonium, dimethyl (p
-Hydroxyphenacyl) sulfonium, dimethyl (p
-Mercaptophenacyl) sulfonium, dimethyl (p
-Methylflufinylphenacyl) sulfonium, dimethyl (p-methylsulfonylphenacyl) sulfonium, dimethyl (o-acetylphenacyl) sulfonium, dimethyl (o-benzoylphenacyl) sulfonium, dimethyl (p-methylphenacyl) sulfonium,
Dimethyl (p-isopropylphenacyl) sulfonium, dimethyl (p-octadecylphenacyl) sulfonium, dimethyl (p-cyclohexylphenacyl) sulfonium, dimethyl (p-methoxyphenacyl) sulfonium, dimethyl (o-methoxycarbonylphenacyl) sulfonium Dimethyl (p-isopropoxycarbonylphenacyl) sulfonium, dimethyl (2-naphthoylmethyl) sulfonium, dimethyl (9-anthroylmethyl) sulfonium, diethyl (phenacyl) sulfonium, methylethyl (phenacyl) sulfonium, methylphenyl (phenacyl) ) Sulfonium, diphenyl (phenacyl) sulfonium, diisopropyl (phenacyl) sulfonium, tetramethylene (phenacyl) sulfonium, pen Methylene (phenacyl) sulfonium, hexamethylene (phenacyl) sulfonium, ethylenedioxy (phenacyl) sulfonium, diethylene dioxy (phenacyl) sulfonium, ethylene dithio (phenacyl) sulfonium.
【0042】アリルスルホニウムカチオン:ジメチル
(アリル)スルホニウム、ジメチル(2,3,3−トリ
フルオロ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル
(3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、
ジメチル(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペ
ニル)スルホニウム、ジメチル(2−アセチル−3,3
−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル
(2−ベンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)スルホニウム、ジメチル(2−フェニル−3,3−
ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル
(3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニ
ル)スルホニウムなど。Allylsulfonium cations: dimethyl (allyl) sulfonium, dimethyl (2,3,3-trifluoro-2-propenyl) sulfonium, dimethyl (3,3-dicyano-2-propenyl) sulfonium,
Dimethyl (2-methyl-3,3-dicyano-2-propenyl) sulfonium, dimethyl (2-acetyl-3,3
-Dicyano-2-propenyl) sulfonium, dimethyl (2-benzoyl-3,3-dicyano-2-propenyl) sulfonium, dimethyl (2-phenyl-3,3-
Dicyano-2-propenyl) sulfonium, dimethyl (3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl) sulfonium and the like.
【0043】アルコキシスルホニウムカチオン:ジメチ
ル(メトキシ)スルホニウム、ジメチル(エトキシ)ス
ルホニウム、ジメチル(プロポキシ)スルホニウム、ジ
メチル(ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(オクチル
オキシ)スルホニウム、ジメチル(オクタデカンオキ
シ)スルホニウム、ジメチル(イソプロポキシ)スルホ
ニウム、ジメチル(t−ブトキシ)スルホニウム、ジメ
チル(スクロペンチルオキシ)スルホニウム、ジメチル
(シクロヘキシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(フ
ルオロメトキシ)スルホニウム、ジメチル(2−クロロ
エトキシ)スルホニウム、ジメチル(3−ブロモプロポ
キシ)スルホニウム、ジメチル(4−シアノブトキシ)
スルホニウム、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)
スルホニウム、ジメチル(18−トリフルオロメチルオ
クタデカンオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ヒド
ロキシイソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(トリ
ス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムなど。Alkoxysulfonium cations: dimethyl (methoxy) sulfonium, dimethyl (ethoxy) sulfonium, dimethyl (propoxy) sulfonium, dimethyl (butoxy) sulfonium, dimethyl (octyloxy) sulfonium, dimethyl (octadecaneoxy) sulfonium, dimethyl (isopropoxy) Sulfonium, dimethyl (t-butoxy) sulfonium, dimethyl (scopentyloxy) sulfonium, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfonium, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium, dimethyl (2-chloroethoxy) sulfonium, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium, Dimethyl (4-cyanobutoxy)
Sulfonium, dimethyl (8-nitrooctyloxy)
Sulfonium, dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulfonium, dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) sulfonium and the like.
【0044】アリールオキシスルホニウムカチオン:ジ
メチル(フェノキシ)スルホニウム、ジメチル(1−ナ
フチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ナフチル
オキシ)スルホニウム、ジメチル(9−アンスリルオキ
シ)スルホニウム、ジメチル(9−フェナントリルオキ
シ)スルホニウム、ジメチル(p−トリルオキシ)スル
ホニウム、ジメチル(2,3−キシリルオキシ)スルホ
ニウム、ジメチル(o−フルオロフェノキシ)スルホニ
ウム、ジメチル(m−クロロフェノキシ)スルホニウ
ム、ジメチル(p−ブロモフェノキシ)スルホニウム、
ジメチル(p−ヒドロキシフェノキシ)スルホニウム、
ジメチル(m−カルボキシルフェノキシ)スルホニウ
ム、ジメチル(o−メルカプトフェノキシ)スルホニウ
ム、ジメチル(p−シアノフェノキシ)スルホニウム、
ジメチル(m−ニトロフェノキシ)スルホニウム、ジメ
チル(m−アジドフェノキシ)スルホニウム、ジメチル
(2−クロロ−1−ナフチルオキシスルホニウム、ジメ
チル(11−ニトロ−5−ナフタセニル)スルホニウム
など。Aryloxysulfonium cations: dimethyl (phenoxy) sulfonium, dimethyl (1-naphthyloxy) sulfonium, dimethyl (2-naphthyloxy) sulfonium, dimethyl (9-anthryloxy) sulfonium, dimethyl (9-phenanthryloxy) ) Sulfonium, dimethyl (p-tolyloxy) sulfonium, dimethyl (2,3-xylyloxy) sulfonium, dimethyl (o-fluorophenoxy) sulfonium, dimethyl (m-chlorophenoxy) sulfonium, dimethyl (p-bromophenoxy) sulfonium,
Dimethyl (p-hydroxyphenoxy) sulfonium,
Dimethyl (m-carboxyphenoxy) sulfonium, dimethyl (o-mercaptophenoxy) sulfonium, dimethyl (p-cyanophenoxy) sulfonium,
Dimethyl (m-nitrophenoxy) sulfonium, dimethyl (m-azidophenoxy) sulfonium, dimethyl (2-chloro-1-naphthyloxysulfonium, dimethyl (11-nitro-5-naphthacenyl) sulfonium and the like.
【0045】(スルホキソニウムカチオン) ベンジルスルホキソニウムカチオン:ジメチル(ベンジ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ブロモベンジ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(p−シアノベンジ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(m−ニトロベンジ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェ
ニルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ヒドロ
キシベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o−アセ
チルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o−ベン
ゾイルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p−イ
ソプロピルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p
−メトキシベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o
−メトキシカルボニルベンジル)スルホキソニウム、ジ
メチル(2−ナフチルメチル)スルホキソニウム、ジメ
チル(9−アンスリルメチル)スルホキソニウム、ジエ
チル(ベンジル)スルホキソニウム、メチルエチル(ベ
ンジル)スルホキソニウム、メチルフェニル(ベンジ
ル)スルホキソニウム、ジフェニル(ベンジル)スルホ
キソニウム、ジイソプロピル(ベンジル)スルホキソニ
ウムなど。(Sulfoxonium cation) Benzyl sulfoxonium cation: dimethyl (benzyl) sulfoxonium, dimethyl (p-bromobenzyl) sulfoxonium, dimethyl (p-cyanobenzyl) sulfoxonium, dimethyl (m-nitro) Benzyl) sulfoxonium, dimethyl (pentafluorophenylmethyl) sulfoxonium, dimethyl (p-hydroxybenzyl) sulfoxonium, dimethyl (o-acetylbenzyl) sulfoxonium, dimethyl (o-benzoylbenzyl) sulfoxonium, Dimethyl (p-isopropylbenzyl) sulfoxonium, dimethyl (p
-Methoxybenzyl) sulfoxonium, dimethyl (o
-Methoxycarbonylbenzyl) sulfoxonium, dimethyl (2-naphthylmethyl) sulfoxonium, dimethyl (9-anthrylmethyl) sulfoxonium, diethyl (benzyl) sulfoxonium, methylethyl (benzyl) sulfoxonium, methyl Phenyl (benzyl) sulfoxonium, diphenyl (benzyl) sulfoxonium, diisopropyl (benzyl) sulfoxonium and the like.
【0046】フェナシルスルホキソニウムカチオン:ジ
メチル(フェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p
−ブロモフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p
−シアノフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(m
−ニトロフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル
(2,4,6−トリブロモフェニルメチル)スルホキソ
ニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェナシル)スルホ
キソニウム、ジメチル(p−メルカプトフェナシル)ス
ルホキソニウム、ジメチル(o−ベンゾイルフェナシ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メチルフェナシ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メトキシフェナ
シル)スルホキソニウム、ジメチル(o−メトキシカル
ボニルフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(2−
ナフチルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(9−ア
ンスリルメチル)スルホキソニウム、ジエチル(フェナ
シル)スルホキソニウム、メチルエチル(フェナシル)
スルホキソニウム、メチルフェニル(フェナシル)スル
ホキソニウム、ジフェニル(フェナシル)スルホキソニ
ウム、ジイソプロピル(フェナシル)スルホキソニウ
ム、テトラメチレン(フェナシル)スルホキソニウムな
ど。Phenacylsulfoxonium cation: dimethyl (phenacyl) sulfoxonium, dimethyl (p
-Bromophenacyl) sulfoxonium, dimethyl (p
-Cyanophenacyl) sulfoxonium, dimethyl (m
-Nitrophenacyl) sulfoxonium, dimethyl (2,4,6-tribromophenylmethyl) sulfoxonium, dimethyl (p-hydroxyphenacyl) sulfoxonium, dimethyl (p-mercaptophenacyl) sulfoxonium, Dimethyl (o-benzoylphenacyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methylphenacyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methoxyphenacyl) sulfoxonium, dimethyl (o-methoxycarbonylphenacyl) sulfoxonium, dimethyl (2-
Naphthylmethyl) sulfoxonium, dimethyl (9-anthrylmethyl) sulfoxonium, diethyl (phenacyl) sulfoxonium, methylethyl (phenacyl)
Sulfoxonium, methylphenyl (phenacyl) sulfoxonium, diphenyl (phenacyl) sulfoxonium, diisopropyl (phenacyl) sulfoxonium, tetramethylene (phenacyl) sulfoxonium and the like.
【0047】アリルスルホキソニウムカチオン:ジメチ
ル(アリル)スルホキソニウム、ジメチル(3,3−ジ
シアノ−2−プロペニル)スルホキソニウム、ジメチル
(2−ベンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)スルホキソニウム、ジメチル(2−フェニル−3,
3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホキソニウム、ジ
メチル(3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プ
ロペニル)スルホキソニウムなど。Allylsulfoxonium cations: dimethyl (allyl) sulfoxonium, dimethyl (3,3-dicyano-2-propenyl) sulfoxonium, dimethyl (2-benzoyl-3,3-dicyano-2-propenyl) sulfo Xonium, dimethyl (2-phenyl-3,
3-dicyano-2-propenyl) sulfoxonium, dimethyl (3,3-bis (methoxycarbonyl) -2-propenyl) sulfoxonium and the like.
【0048】アルコキシスルホキソニウムカチオン:ジ
メチル(エトキシ)スルホキソニウム、ジメチル(プロ
ポキシ)スルホキソニウム、ジメチル(オクチルオキ
シ)スルホキソニウム、ジメチル(イソプロポキシ)ス
ルホキソニウム、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)ス
ルホキソニウム、ジメチル(2−クロロエトキシ)スル
ホキソニウムなど。Alkoxysulfoxonium cations: dimethyl (ethoxy) sulfoxonium, dimethyl (propoxy) sulfoxonium, dimethyl (octyloxy) sulfoxonium, dimethyl (isopropoxy) sulfoxonium, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfoxonium And dimethyl (2-chloroethoxy) sulfoxonium.
【0049】アリールオキシスルホキソニウムカチオ
ン:ジメチル(フェノキシ)スルホキソニウム、ジメチ
ル(2−ナフチルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル
(9−アンスリルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル
(p−トリルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(m
−クロロフェノキシ)スルホキソニウム、ジメチル(m
−カルボキシフェノキシ)スルホキソニウム、ジメチル
(p−シアノフェノキシ)スルホキソニウムなど。Aryloxysulfoxonium cations: dimethyl (phenoxy) sulfoxonium, dimethyl (2-naphthyloxy) sulfoxonium, dimethyl (9-anthryloxy) sulfoxonium, dimethyl (p-tolyloxy) sulfoxonium , Dimethyl (m
-Chlorophenoxy) sulfoxonium, dimethyl (m
-Carboxyphenoxy) sulfoxonium, dimethyl (p-cyanophenoxy) sulfoxonium and the like.
【0050】トリアリールスルホニウムカチオン:トリ
フェニルスルホニウム、トリス(p−トリル)スルホニ
ウム、トリス(フェニル)スルホニウム、トリス(2,
6−ジメチルフェニル)スルホニウム、トリス(p−シ
アノフェニル)スルホニウム、トリス(p−クロロフェ
ニル)スルホニウムなど。Triarylsulfonium cations: triphenylsulfonium, tris (p-tolyl) sulfonium, tris (phenyl) sulfonium, tris (2,
6-dimethylphenyl) sulfonium, tris (p-cyanophenyl) sulfonium, tris (p-chlorophenyl) sulfonium and the like.
【0051】トリアリールスルホキソニウムカチオン:
トリフェニルスルホキソニウム、トリス(p−トリル)
スルホキソニウム、トリス(フェニル)スルホキソニウ
ム、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホキソニ
ウム、トリス(p−シアノフェニル)スルホキソニウ
ム、トリス(p−クロロフェニル)スルホキソニウムな
ど。Triarylsulfoxonium cation:
Triphenylsulfoxonium, tris (p-tolyl)
Sulfoxonium, tris (phenyl) sulfoxonium, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfoxonium, tris (p-cyanophenyl) sulfoxonium, tris (p-chlorophenyl) sulfoxonium and the like.
【0052】ホスホニウムカチオンの例としては、例え
ば下記のものが挙げられる。Examples of the phosphonium cation include the following.
【0053】ベンジルホスホニウムカチオン:トリメチ
ルベンジルホスホニウム、トリエチルベンジルホスホニ
ウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニ
ル(p−フルオロベンジル)ホスホニウム、トリフェニ
ル(o−クロロベンジル)ホスホニウム、トリフェニル
(m−ブロモベンジル)ホスホニウム、トリフェニル
(p−シアノベンジル)ホスホニウム、トリフェニル
(m−ニトロベンジル)ホスホニウム、トリフェニル
(o−ヒドロキシベンジル)ホスホニウム、トリフェニ
ル(o−アセチルベンジル)ホスホニウム、トリフェニ
ル(m−ベンゾイルベンジル)ホスホニウム、トリフェ
ニル(p−メチルベンジル)ホスホニウム、トリフェニ
ル(p−イソプロポキシベンジル)ホスホニウム、トリ
フェニル(o−メトキシカルボニルベンジル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(1−ナフチルメチル)ホスホニウ
ム、トリフェニル(9−アンスリルメチル)ホスホニウ
ムなど。Benzylphosphonium cations: trimethylbenzylphosphonium, triethylbenzylphosphonium, triphenylbenzylphosphonium, triphenyl (p-fluorobenzyl) phosphonium, triphenyl (o-chlorobenzyl) phosphonium, triphenyl (m-bromobenzyl) phosphonium, Triphenyl (p-cyanobenzyl) phosphonium, triphenyl (m-nitrobenzyl) phosphonium, triphenyl (o-hydroxybenzyl) phosphonium, triphenyl (o-acetylbenzyl) phosphonium, triphenyl (m-benzoylbenzyl) phosphonium, Triphenyl (p-methylbenzyl) phosphonium, triphenyl (p-isopropoxybenzyl) phosphonium, triphenyl (o-methoxy) Rubonirubenjiru) phosphonium, triphenyl (1-naphthylmethyl) phosphonium, triphenyl (9-anthrylmethyl) phosphonium like.
【0054】フェナシルホスホニウムカチオンの例:ト
リメチルフェナシルホスホニウム、トリエチルフェナシ
ルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウ
ム、トリフェニル(p−フルオロフェナシル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(o−クロロフェナシル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(m−ブロモフェナシル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(p−シアノフェナシル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(m−ニトロフェナシル)ホスホニ
ウム、トリフェニル(o−ヒドロキシフェナシル)ホス
ホニウム、トリフェニル(o−アセチルフェナシル)ホ
スホニウム、トリフェニル(m−ベンゾイルフェナシ
ル)ホスホニウム、トリフェニル(p−メチルフェナシ
ル)ホスホニウム、トリフェニル(p−イソプロポキシ
フェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(o−メトキ
シカルボニルフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル
(1−ナフチロイルメチル)ホスホニウム、トリフェニ
ル(9−アンスロイルメチル)ホスホニウムなど。Examples of phenacylphosphonium cations: trimethylphenacylphosphonium, triethylphenacylphosphonium, triphenylphenacylphosphonium, triphenyl (p-fluorophenacyl) phosphonium, triphenyl (o-chlorophenacyl) phosphonium, triphenyl (M-bromophenacyl) phosphonium, triphenyl (p-cyanophenacyl) phosphonium, triphenyl (m-nitrophenacyl) phosphonium, triphenyl (o-hydroxyphenacyl) phosphonium, triphenyl (o-acetylphenacyl) phosphonium, triphenyl Phenyl (m-benzoylphenacyl) phosphonium, triphenyl (p-methylphenacyl) phosphonium, triphenyl (p-isopropoxyphenacyl) phosphonium Arm, triphenyl (o-methoxycarbonyl phenacyl) phosphonium, triphenyl (1- naphthoquinone Ciro yl methyl) phosphonium, triphenyl (9 anthrocyclins yl methyl) phosphonium like.
【0055】アリルホスホニウムカチオン:トリフェニ
ルアリルホスホニウム、トリフェニル(3,3−ジシア
ノ−2−プロペニル)ホスホニウム、トリフェニル(2
−ヘキシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ホス
ホニウム、トリフェニル(2−アセチル−3,3−ジシ
アノ−2−プロペニル)ホスホニウム、トリフェニル
(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)
ホスホニウムなど。Allylphosphonium cations: triphenylallylphosphonium, triphenyl (3,3-dicyano-2-propenyl) phosphonium, triphenyl (2
-Hexyl-3,3-dicyano-2-propenyl) phosphonium, triphenyl (2-acetyl-3,3-dicyano-2-propenyl) phosphonium, triphenyl (2-phenyl-3,3-dicyano-2-propenyl) )
Phosphonium and the like.
【0056】アルコキシホスホニウムカチオン:トリフ
ェニルメトキシホスホニウム、トリフェニルブトキシホ
スホニウム、トリフェニルオクタデシルオキシホスホニ
ウム、トリフェニルイソプロポキシホスホニウム、トリ
フェニル(2−クロロエトキシ)ホスホニウム、トリフ
ェニル(4−シアノブトキシ)ホスホニウムなど。Alkoxyphosphonium cations: triphenylmethoxyphosphonium, triphenylbutoxyphosphonium, triphenyloctadecyloxyphosphonium, triphenylisopropoxyphosphonium, triphenyl (2-chloroethoxy) phosphonium, triphenyl (4-cyanobutoxy) phosphonium and the like.
【0057】アリールオキシホスホニウムカチオン:ト
リフェニルフェノキシホスホニウム、トリフェニル(1
−ナフチルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(2−
ナフチルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(9−ア
ンスリルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(p−ト
リルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(2,3−キ
シリルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(p−ヒド
ロキシフェノキシ)ホスホニウム、トリフェニル(m−
カルボキシフェノキシ)ホスホニウムなど。Aryloxyphosphonium cations: triphenylphenoxyphosphonium, triphenyl (1
-Naphthyloxy) phosphonium, triphenyl (2-
Naphthyloxy) phosphonium, triphenyl (9-anthryloxy) phosphonium, triphenyl (p-tolyloxy) phosphonium, triphenyl (2,3-xylyloxy) phosphonium, triphenyl (p-hydroxyphenoxy) phosphonium, triphenyl (m −
(Carboxyphenoxy) phosphonium and the like.
【0058】ヨードニウムカチオンの例としては、例え
ば下記のものが挙げられる。Examples of the iodonium cation include the following.
【0059】フリルもしくはチエニルヨードニウムカチ
オン:ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨードニウ
ム、ビス(4,5−ジメチル−2−フリル)ヨードニウ
ム、ビス(5−クロロ−2−チエニル)ヨードニウム、
ビス(5−シアノ−2−フリル)ヨードニウム、ビス
(5−ニトロ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5
−アセチル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−カ
ルボキシ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−メ
トキシカルボニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス
(5−フェニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5
−(p−メトキシフェニル)−2−チエニル)ヨードニ
ウム、ビス(5−ビニル−2−フリル)ヨードニウム、
ビス(5−エチニル−2−チエニル)ヨードニウム、ビ
ス(5−シクロヘキシル−2−フリル)ヨードニウム、
ビス(5−ヒドロキシ−2−チエニル)ヨードニウム、
ビス(5−フェノキシ−2−フリル)ヨードニウム、ビ
ス(5−メルカプト−2−チエニル)ヨードニウム、ビ
ス(5−ブチルチオ−2−チエニル)ヨードニウム、ビ
ス(5−フェニルチオ−2−チエニル)ヨードニウムな
ど。Furyl or thienyl iodonium cations: difuryl iodonium, dithienyl iodonium, bis (4,5-dimethyl-2-furyl) iodonium, bis (5-chloro-2-thienyl) iodonium,
Bis (5-cyano-2-furyl) iodonium, bis (5-nitro-2-thienyl) iodonium, bis (5
-Acetyl-2-furyl) iodonium, bis (5-carboxy-2-thienyl) iodonium, bis (5-methoxycarbonyl-2-furyl) iodonium, bis (5-phenyl-2-furyl) iodonium, bis (5
-(P-methoxyphenyl) -2-thienyl) iodonium, bis (5-vinyl-2-furyl) iodonium,
Bis (5-ethynyl-2-thienyl) iodonium, bis (5-cyclohexyl-2-furyl) iodonium,
Bis (5-hydroxy-2-thienyl) iodonium,
Bis (5-phenoxy-2-furyl) iodonium, bis (5-mercapto-2-thienyl) iodonium, bis (5-butylthio-2-thienyl) iodonium, bis (5-phenylthio-2-thienyl) iodonium and the like.
【0060】ジアリールヨードニウムカチオン:ジフェ
ニルヨードニウム、ビス(p−トリル)ヨードニウム、
ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p
−オクタデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オ
クチルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オク
タデシルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オ
クタデシルオキシフェニル)ヨードニウムなど。Diaryliodonium cations: diphenyliodonium, bis (p-tolyl) iodonium,
Bis (p-octylphenyl) iodonium, bis (p
-Octadecylphenyl) iodonium, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium, bis (p-octadecyloxyphenyl) iodonium, bis (p-octadecyloxyphenyl) iodonium and the like.
【0061】これらのカチオンの対イオンとなるアニオ
ンとしては、X−については、フッ素アニオン、塩素ア
ニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオンなどの例えばハ
ロゲンアニオン、酢酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニ
オン、硫酸アニオン、硫酸水素アニオン、メタン硫酸ア
ニオン、トリフルオロメタン硫酸アニオン、パークロレ
ートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキ
サフルオロホスフェートアニオン、ヘキサクロロアンチ
モネートアニオン、ヘキサフルオロアンチモネートアニ
オンなどがあげられる。As the anion to be a counter ion of these cations, X- is, for example, a halogen anion such as a fluorine anion, a chloride anion, a bromine anion or an iodine anion, an acetate anion, a trifluoroacetate anion, a sulfate anion or a hydrogen sulfate. Anions, methanesulfate anions, trifluoromethanesulfate anions, perchlorate anions, tetrafluoroborate anions, hexafluorophosphate anions, hexachloroantimonate anions, hexafluoroantimonate anions, and the like.
【0062】本発明で使用する光カチオン重合性化合物
は、光カチオン重合開始剤[B]、光増感剤[A]のもとで
光を照射して架橋または重合反応によって高分子量化す
る化合物である。具体的には、例えば、エポキシ化合
物、スチレン類、ビニル化合物、ビニルエーテル類、ス
ピロオルソエステル類、ビシクロオルソエステル類、ス
ピロオルソカーボナート類、環状エーテル類、ラクトン
類、オキサゾリン類、アジリジン類、シクロシロキサン
類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタム類、アルコ
キシシラン化合物類およびアリールジアルデヒド類など
があげられる。The cationic photopolymerizable compound used in the present invention is a compound which is irradiated with light under a cationic photopolymerization initiator [B] and a photosensitizer [A] to be crosslinked or polymerized to have a high molecular weight by a polymerization reaction. It is. Specifically, for example, epoxy compounds, styrenes, vinyl compounds, vinyl ethers, spiroorthoesters, bicycloorthoesters, spiroorthocarbonates, cyclic ethers, lactones, oxazolines, aziridines, cyclosiloxanes , Ketals, cyclic acid anhydrides, lactams, alkoxysilane compounds, aryl dialdehydes and the like.
【0063】エポキシ化合物としては、従来、公知の芳
香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エ
ポキシ化合物などがあげられる。Examples of the epoxy compound include conventionally known aromatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, and aliphatic epoxy compounds.
【0064】芳香族エポキシ化合物の例としては、フェ
ニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物
や、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、テトラ
ブロモビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェ
ノールS等のビスフェノール化合物またはビスフェノー
ル化合物のアルキレンオキサイド(例えば、エチレンオ
キサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド
等)付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造
されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹
脂類(例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹
脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フ
ェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等)、トリスフェ
ノールメタントリグリシジルエーテルなどがあげられ
る。Examples of the aromatic epoxy compound include a monofunctional epoxy compound such as phenylglycidyl ether and a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic ring or an alkylene oxide adduct thereof. Glycidyl ethers produced by the reaction of bisphenol compounds such as bisphenol A, tetrabromobisphenol A, bisphenol F and bisphenol S or alkylene oxide (eg, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adducts of bisphenol compounds with epichlorohydrin , Novolak epoxy resins (eg, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, brominated phenol novolak Epoxy resin, etc.), etc. trisphenolmethane triglycidyl ether.
【0065】脂環式エポキシ化合物としては、4−ビニ
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポ
キシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサ
ン、2,2−ビス〔4−(2,3−エポキシプロポキ
シ)シクロヘキシル〕ヘキサフルオロプロパン、BHP
E−3150(ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポ
キシ樹脂(軟化点71℃)などがあげられる。Examples of the alicyclic epoxy compound include 4-vinylcyclohexene monoepoxide, norbornene monoepoxide, limonene monoepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and bis- (3,4- Epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, 2-
(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-
3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] hexafluoropropane, BHP
E-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin (softening point: 71 ° C.)).
【0066】脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
ルシジルエーテル、アリルグルシジルエーテル、2−エ
チルヘキシルグルシジルエーテルなどがあげられる。As the aliphatic epoxy compound, for example,
1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6
-Hexanediol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol monoglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol monoglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, Neopentyl glycol monoglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether,
Examples include trimethylolpropane monoglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, allyl glycidyl ether, and 2-ethylhexyl glycidyl ether.
【0067】スチレン類としては、スチレン、α−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロメチルス
チレンなどがあげられる。ビニル化合物としては、N−
ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドンなどがあげ
られる。Examples of the styrenes include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chloromethylstyrene and the like. As the vinyl compound, N-
Vinyl carbazole, N-vinyl pyrrolidone and the like.
【0068】ビニルエーテル類としては、例えばn−
(またはiso−、t−)ブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、エ
チレングルコールジビニルエーテル、エチレングリコー
ルモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニ
ルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、プロピレングルコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノ
ビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グ
リセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパ
ンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトール
テトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジ
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル、2,2−ビス(4−シクロヘキ
サノール)プロパンジビニルエーテル、2,2−ビス
(4−シクロヘキサノール)トリフルオロプロパンジビ
ニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリル
ビニルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エ
チニルビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビ
ニルエーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、4−
ビニルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニル
ビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、
テトラブロモビスフェノールAジビニルエーテル、ビス
フェノールFジビニルエーテル、フェノキシエチレンビ
ニルエーテル、p−ブロモフェノキシエチレンビニルエ
ーテルなどのアリールビニルエーテル類、1,4−ベン
ゼンジメタノールジビニルエーテル、N−m−クロロフ
ェニルジエタノールアミンジビニルエーテル、m−フェ
ニレンビス(エチレングリコール)ジビニルエーテルな
どのアラルキルジビニルエーテル類、ウレタンポリビニ
ルエーテル(例えば、ALLIED−SIGNAL社
製、VECtomer2010)などをあげることがで
きる。As vinyl ethers, for example, n-
(Or iso-, t-) butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, Propylene glycol divinyl ether, propylene glycol monovinyl ether, neopentyl glycol divinyl glycol, neopentyl glycol monovinyl glycol, glycerol divinyl ether, glycerol trivinyl ether, trimethylol propane monovinyl ether, trimethylol propane divinyl ether, trimethylol propane trivinyl ether, diglycerol Trivinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, 2,2-bis (4-cyclohexanol) propane divinyl ether, 2,2-bis (4-cyclohexanol) trifluoropropanedi Alkyl vinyl ethers such as vinyl ether; alkenyl vinyl ethers such as allyl vinyl ether; alkynyl vinyl ethers such as ethynyl vinyl ether and 1-methyl-2-propenyl vinyl ether;
Vinyl ether styrene, hydroquinone divinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether, bisphenol A divinyl ether,
Aryl vinyl ethers such as tetrabromobisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, phenoxyethylene vinyl ether, p-bromophenoxyethylene vinyl ether, 1,4-benzenedimethanol divinyl ether, Nm-chlorophenyldiethanolamine divinyl ether, m-phenylene Examples include aralkyl divinyl ethers such as bis (ethylene glycol) divinyl ether, urethane polyvinyl ether (for example, VECtomer 2010, manufactured by ALLIED-SIGNAL) and the like.
【0069】スピロオルソエステル類としては、1,
4,6−トリオキサスピロ(4,4)ノナン、2−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ(4,4)ノナン、
1,4,6−トリオキサスピロ(4,5)デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、1−フェニル
−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ(2,
2,2)オクタン、1−エチル−4−ヒドロキシメチル
−2,6,7−トリオキサビシクロ(2,2,2)オク
タンなどが、スピロオルソカーボネート類としては、
1,5,7,11−テトラオキサスピロ(5,5)ウン
デカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テト
ラオキサスピロ(5,5)ウンデカンなどのような環状
エーテル類があげられる。The spiro orthoesters include 1,1
4,6-trioxaspiro (4,4) nonane, 2-methyl-1,4,6-trioxaspiro (4,4) nonane,
1,4,6-trioxaspiro (4,5) decane and the like, as bicycloorthoesters, 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo (2,5
2,2) octane, 1-ethyl-4-hydroxymethyl-2,6,7-trioxabicyclo (2,2,2) octane and the like include spiroorthocarbonates,
Cyclic ethers such as 1,5,7,11-tetraoxaspiro (5,5) undecane, 3,9-dibenzyl-1,5,7,11-tetraoxaspiro (5,5) undecane; Can be
【0070】環状エーテル類としては、オキセタン、フ
ェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフ
ラン、2−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒド
ロフラン類、テトラヒドロビラン、3−プロピルテトラ
ヒドロビランなどのテトラヒドロビラン類およびトリメ
チレンオキサイド、s−トリオキサンなどがあげられ
る。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−
ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキ
サゾリン、2−フェニルオキサゾリン、2−デシルオキ
サゾリンなどがあげられる。Examples of the cyclic ethers include oxetanes such as oxetane and phenyloxetane; tetrahydrofurans such as tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran; tetrahydrosilanes such as tetrahydrosilane and 3-propyltetrahydrosilane; trimethylene oxide; and s-trioxane. And so on. Lactones include β-propiolactone, γ-
Butyl lactone, δ-caprolactone, δ-valerolactone and the like can be mentioned. Examples of the oxazolines include oxazoline, 2-phenyloxazoline, 2-decyloxazoline and the like.
【0071】アジリジン類としては、アジリジン、N−
エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン
類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシ
クロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類とし
ては、1,3−ジオキソラン、1,3−ジオキサン、
2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン、2−フェニル
−1,3−ジオキサン、2,2−ジオクチル−1,3−
ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類として
は、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸など
が、ラクタム類としては、β−プロピオラクタム、γ−
ブチロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられ
る。またアリールジアルデヒド類としては1,2−ベン
ゼンジカルボキシアルデヒド、1,2−ナフタレンジア
ルデヒドなどがあげられる。As the aziridine, aziridine, N-
Ethyl aziridine and the like. Examples of cyclosiloxanes include hexamethyltrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, triphenyltrimethylcyclotrisiloxane, and the like. Ketals include 1,3-dioxolan, 1,3-dioxane,
2,2-dimethyl-1,3-dioxane, 2-phenyl-1,3-dioxane, 2,2-dioctyl-1,3-
Dioxolan and the like. As cyclic acid anhydrides, phthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, etc., and as lactams, β-propiolactam, γ-
Butyrolactam, δ-caprolactam and the like. Examples of the aryl dialdehydes include 1,2-benzenedicarboxaldehyde, 1,2-naphthalenedialdehyde, and the like.
【0072】これらのものは単独でもまた2種類以上混
合しても一向にかまわないものである。These may be used alone or in combination of two or more.
【0073】これらの光カチオン重合性化合物100重
量部に対して光増感剤[A]は0.01〜10重量部の範
囲で用いるのが望ましく、好ましくは0.1〜5重量部
の範囲が望ましい。光増感剤が0.01重量部未満にな
ると硬化性が低下し、一方10重量部を超えると値段が
高くなったり耐水性等の塗膜性能が低下したりするので
好ましくない。The photosensitizer [A] is used in an amount of preferably 0.01 to 10 parts by weight, and more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photocationic polymerizable compound. Is desirable. When the amount of the photosensitizer is less than 0.01 part by weight, the curability is lowered. On the other hand, when the amount is more than 10 parts by weight, the cost is increased and the coating properties such as water resistance are undesirably reduced.
【0074】光カチオン重合剤[B]はこれらの光カチオ
ン重合性化合物100重量部当り、0.01〜20重量
部の範囲で用いるのが望ましく、好ましくは0.1〜1
0重量部の範囲が望ましい。光カチオン重合開始剤が
0.01重量部未満になると硬化性が低下し、一方20
重量部を超えると値段が高くなったり耐水性等の塗膜性
能が低下したりするので好ましくない。The cationic photopolymerizable agent [B] is used in an amount of preferably 0.01 to 20 parts by weight, and more preferably 0.1 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of these cationic photopolymerizable compounds.
A range of 0 parts by weight is desirable. When the amount of the cationic photopolymerization initiator is less than 0.01 part by weight, the curability is reduced.
Exceeding the weight part is not preferable because the price becomes high and the coating performance such as water resistance is deteriorated.
【0075】本発明の硬化性組成物には、必要に応じて
紫外線吸収剤を配合することができる。該紫外線吸収剤
とは、400nm以下の紫外線を吸収する物質である。
このものとしては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベ
ンゾフェノン系が特に好ましい。具体的には、チヌビン
144、チヌビン292、チヌビン327、チヌビン7
70、チヌビン900(チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製品)、サイアソーブUV531(American Cya
namid Corp.社製品)などがあげられる。また、その他
セリウム塩系、二酸化チタン系のものも使用できる。The curable composition of the present invention may optionally contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is a substance that absorbs ultraviolet light of 400 nm or less.
As this, for example, benzotriazole type and benzophenone type are particularly preferable. Specifically, Tinuvin 144, Tinuvin 292, Tinuvin 327, Tinuvin 7
70, Tinuvin 900 (Ciba Specialty Chemicals), Siasorb UV531 (American Cya
namid Corp.). In addition, cerium salts and titanium dioxides can also be used.
【0076】本発明の硬化性組成物は必要に応じて、上
記以外の樹脂、充填剤、着色剤、顔料、顔料分散剤、流
動調整剤、レベリング剤、消泡剤、光安定剤、酸化防止
剤、ゲル粒子、微粒子粉などを配合しても一向に差し支
えない。The curable composition of the present invention may contain, if necessary, other resins, fillers, colorants, pigments, pigment dispersants, flow regulators, leveling agents, defoamers, light stabilizers, antioxidants. An agent, a gel particle, a fine particle powder and the like may be blended.
【0077】本発明の硬化性組成物は、金属、缶、プラ
スチック、紙、木質材、無機質材、PETなどのフィル
ムおよびこれらの組合せなどの基材に適用することがで
きる。The curable composition of the present invention can be applied to base materials such as films of metals, cans, plastics, papers, wood materials, inorganic materials, PET and the like, and combinations thereof.
【0078】本発明の塗膜形成方法は、上記した基材の
表面に、上記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布量が
硬化膜厚で1〜100μmになるように塗布し、次いで
活性エネルギー線を照射して硬化させることができる。In the method for forming a coating film of the present invention, the above active energy ray-curable composition is applied to the surface of the above-mentioned base material so that the applied amount is 1 to 100 μm in the cured film thickness. For curing.
【0079】本発明でいう活性エネルギー線とは、例え
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、白熱電球、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガ
リウムランプ、エキシマー、レーザー、電子線、γ線な
どが使用できる。The active energy ray referred to in the present invention is, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, an incandescent lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp. , Excimer, laser, electron beam, γ-ray and the like can be used.
【0080】[0080]
【実施例】実施例を掲げて更に詳細に述べる。EXAMPLES Examples will be described in more detail.
【0081】実施例1 9,10−ジエトキシアントラセン1部、ビス(4−タ
ーシャリーブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロフォフフェート(BBI−102、みどり化学社製
品)1部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ユ
ニオンカーバイド社製品、UVR−6110)100部
を添加混合し、活性エネルギー線硬化組成物(I)を得
た。Example 1 1 part of 9,10-diethoxyanthracene, 1 part of bis (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate (BBI-102, manufactured by Midori Kagaku Co.), 3,4-epoxycyclohexyl Methyl-
100 parts of 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., UVR-6110) was added and mixed to obtain an active energy ray-curable composition (I).
【0082】この組成物をブリキ板の上に塗装し、分光
照射を行なった。分光照射器は日本分光工業社製、CR
M−FAを使用し、200nm〜700nmの光を照射して
この組成物の硬化範囲を調べた。この結果、分光感度は
205nm〜450nmまで得られた。This composition was applied on a tin plate and subjected to spectral irradiation. Spectral irradiator CR, manufactured by JASCO Corporation
The curing range of this composition was examined by irradiating light of 200 nm to 700 nm using M-FA. As a result, spectral sensitivity was obtained from 205 nm to 450 nm.
【0083】9,10−ジエトキシアントラセンを添加
していないものは、230nm〜310nmの分光感度であ
った。In the case where 9,10-diethoxyanthracene was not added, the spectral sensitivity was 230 nm to 310 nm.
【0084】この組成物をガラス板に塗装し、メタルハ
ライドランプで200mJ/cm2照射した。得られた塗膜の
ゲル分率は87%で、鉛筆硬度は3−4Hで良好であっ
た。The composition was applied to a glass plate and irradiated with a metal halide lamp at 200 mJ / cm 2 . The obtained coating film had a gel fraction of 87% and a pencil hardness of 3-4H, which was good.
【0085】比較例1 実施例1において9,10−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例1と同様にして比較例1の
組成物を得た。このものは、230nm〜310nmの分光
感度であった。得られた塗膜のゲル分率78%、鉛筆硬
度は2〜4Hで劣っていた。Comparative Example 1 A composition of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 9,10-diethoxyanthracene was not added. This had a spectral sensitivity of 230 nm to 310 nm. The obtained coating film was inferior at a gel fraction of 78% and a pencil hardness of 2 to 4H.
【0086】実施例2 エポキシ含有アクリル共重合体(スチレン/メチルメタ
クリレート/グリシジルメタクリレート/ヒドロキシエ
チルメタクリレート=15/19/50/16、数平均
分子量4,000、分子量1,000当り3.52のエ
ポキシ含有)20部、ビス−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)アジペート(ユニオンカーバイド社製品、U
VR−6128)20部、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート(ダイセル化学工業社製品セロキサイト202
1P)40部、リモネンジオキサイド20部、光増感剤
として2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン
0.7部、光カチオン重合開始剤としてUVI−699
0(ユニオンカーバイド社製品、トリアリールスルフォ
ニウムヘキサフルオロフォスフェイト塩)5部、二酸化
チタン40部を添加混合して白エナメル塗料(II)を得
た。Example 2 Epoxy-containing acrylic copolymer (styrene / methyl methacrylate / glycidyl methacrylate / hydroxyethyl methacrylate = 15/19/50/16, number average molecular weight 4,000, epoxy having a molecular weight of 3.52 per 1,000) 20 parts, bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate (product of Union Carbide, U.S.A.)
VR-6128), 20 parts, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxite 202, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
1P) 40 parts, limonenedioxide 20 parts, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene 0.7 part as photosensitizer, UVI-699 as photocationic polymerization initiator
0 (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., triarylsulfonium hexafluorophosphate salt) (5 parts) and titanium dioxide (40 parts) were added and mixed to obtain a white enamel paint (II).
【0087】この塗料をアルミニウム板にバーコーター
で厚さ10μmとなるように塗装して分光照射を行なっ
た。分光感度は230nm〜495nmまで得られた。This paint was applied to an aluminum plate with a bar coater so as to have a thickness of 10 μm and subjected to spectral irradiation. Spectral sensitivity was obtained from 230 nm to 495 nm.
【0088】この白塗料組成物をテンフリースチール
(TFS)の上にポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムをラミネートした基材の上に、厚さ8μm
となるようにロールコーターで塗装し、メタルハライド
ランプにより250mJ/cm2照射を行ない、塗膜の硬化を
行なった。This white paint composition was coated on polyethylene-terephthalate (PE) on ten-free steel (TFS).
T) 8 μm thick on the substrate on which the film was laminated
Was applied with a roll coater and irradiated with a metal halide lamp at 250 mJ / cm 2 to cure the coating.
【0089】得られた塗膜の鉛筆硬度は2Hで、ゲル分
率は85%で良好であった。The obtained coating film had a pencil hardness of 2H and a gel fraction of 85%, which was good.
【0090】比較例2 実施例2において2−エチル−9,10−ジメトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例2と同様にし
て比較例2の組成物を得た。このものは、230nm〜3
70nmの分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率4
2%、鉛筆硬度は6B以下で劣っていた。Comparative Example 2 A composition of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 2 except that 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene was not added. This is 230nm ~ 3
The spectral sensitivity was 70 nm. Gel fraction 4 of the obtained coating film
2%, and the pencil hardness was inferior at 6B or less.
【0091】実施例3 光増感剤9,10−ジエトキシアントラセン1.5部、
P,P′−ビス((トリフェニルフォスホニノ)メチ
ル)ベンゾフェノンヘキサフルオロアンチモネート3
部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート60部、TONE
Polyol 0301(ユニオンカーバイド社製品、ε−カプロ
ラクトントリオール、OH価100)10部、アクリル
共重合体(スチレン/メチルメタクリレート/n−ブチ
ルメタクリレート/2−エチルヘキシルメタクリレート
/3/メタクリロキシメチル−3−エチルオキセタン=
20/10/15/15/40、数平均分子量4,20
0、分子量1,000当りオキセタン環2.3個含有)
10部、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン10部、二酸化チタン20部を添
加、混合分散して白エナメル塗料を得た。Example 3 1.5 parts of photosensitizer 9,10-diethoxyanthracene
P, P'-bis ((triphenylphosphonino) methyl) benzophenone hexafluoroantimonate 3
Part, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
Epoxycyclohexanecarboxylate 60 parts, TONE
Polyol 0301 (product of Union Carbide, ε-caprolactone triol, OH value 100), 10 parts, acrylic copolymer (styrene / methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / 2-ethylhexyl methacrylate / 3 / methacryloxymethyl-3-ethyloxetane) =
20/10/15/15/40, number average molecular weight 4,20
0, containing 2.3 oxetane rings per 1,000 molecular weight)
10 parts, 10 parts of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 20 parts of titanium dioxide were added, mixed and dispersed to obtain a white enamel paint.
【0092】この白エナメル塗料をアルミニウム板に厚
さ6μmとなるように塗装し、200nm〜700nmの波
長の光を分光照射して硬化性を調べた。This white enamel paint was applied to an aluminum plate so as to have a thickness of 6 μm, and curability was examined by spectrally irradiating light having a wavelength of 200 nm to 700 nm.
【0093】この結果、210nm〜470nmまでの範囲
で塗膜は硬化した。As a result, the coating film was cured in the range from 210 nm to 470 nm.
【0094】この白エナメル塗料をポリカーボネート板
に厚さ20μmとなるように塗装し、メタルハライドラ
ンプにより400mJ/cm2照射した。得られた塗膜の鉛筆
硬度は4Hであった。This white enamel paint was applied to a polycarbonate plate so as to have a thickness of 20 μm, and irradiated with a metal halide lamp at 400 mJ / cm 2 . The pencil hardness of the obtained coating film was 4H.
【0095】比較例3 実施例3において9,10−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例3と同様にして比較例3の
組成物を得た。このものは、210nm〜360nmの分光
感度であった。得られた塗膜のゲル分率55%、鉛筆硬
度は3Bで劣っていた。Comparative Example 3 A composition of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 3 except that 9,10-diethoxyanthracene was not added. This had a spectral sensitivity of 210 nm to 360 nm. The resulting coating film had a gel fraction of 55% and a pencil hardness of 3B, which was inferior.
【0096】実施例4 9,10−ブトキシアントラセン1.5部、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート80部、ジエチレングリコー
ルジビニルエーテル20部、PI−2855(日本曹達
社製、スルホニウム塩系光カチオン重合開始剤)5部、
二酸化チタンを50部、添加混合分散して白エナメル塗
料(III)を得た。Example 4 1.5 parts of 9,10-butoxyanthracene, 80 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 20 parts of diethylene glycol divinyl ether, PI-2855 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) , A sulfonium salt-based photocationic polymerization initiator) 5 parts,
50 parts of titanium dioxide was added, mixed and dispersed to obtain a white enamel paint (III).
【0097】この白エナメル塗料(III)をブリキ板に塗
装して200nm〜700nmの波長の光を分光照射した。This white enamel paint (III) was applied to a tin plate and irradiated with light having a wavelength of 200 nm to 700 nm spectrally.
【0098】210nm〜510nmの光の波長の範囲で塗
膜の硬化が起こった。Curing of the coating occurred in the range of light wavelengths from 210 nm to 510 nm.
【0099】ガラス板にこの白エナメル塗料(III)をロ
ールコーターで厚さ15μmとなるように塗装し、ガリ
ウムランプで300mJ/cm2照射して塗膜を硬化させた。
鉛筆硬度は4Hで、ゲル分率は90%であった。This white enamel paint (III) was applied to a glass plate by a roll coater so as to have a thickness of 15 μm, and irradiated with a gallium lamp at 300 mJ / cm 2 to cure the coating.
The pencil hardness was 4H and the gel fraction was 90%.
【0100】比較例4 実施例4において9,10−ブトキシアントラセンを添
加していない以外は実施例4と同様にして比較例4の組
成物を得た。このものは、230nm〜340nmの分光感
度であった。得られた塗膜のゲル分率30%、鉛筆硬度
は6B以下で劣っていた。Comparative Example 4 A composition of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 4 except that 9,10-butoxyanthracene was not added. This had a spectral sensitivity of 230 nm to 340 nm. The obtained coating film was inferior in gel fraction of 30% and pencil hardness of 6B or less.
【0101】実施例5 2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン2部、
アクリル共重合体(グリシジルメタクリレート/3−メ
タクリロキシメチル−3−エチルオキセタン/スチレン
/n−ブチルメタクリレート=30/30/27/1
3、数平均分子量4,000、ガラス転移温度68℃)
20部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
20部、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリエトキシシラン20部、3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート30部、キシリレンジオキセタン10部、
DAICAT−11(ダイセル化学工業社製、スルホニ
ウム塩系光カチオン重合開始剤)4部を添加混合溶解
し、活性エネルギー線硬化組成物(V)を得た。Example 5 2 parts of 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene
Acrylic copolymer (glycidyl methacrylate / 3-methacryloxymethyl-3-ethyloxetane / styrene / n-butyl methacrylate = 30/30/27/1
3, number average molecular weight 4,000, glass transition temperature 68 ° C)
20 parts, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane 20 parts, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane 20 parts, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate 30 parts , 10 parts of xylylene dioxetane,
4 parts of DAICAT-11 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., sulfonium salt-based cationic photopolymerization initiator) was added, mixed and dissolved to obtain an active energy ray-curable composition (V).
【0102】この塗料組成物(V)をアルミニウム板に
塗装し、200nm〜700nmの光を分光照射して塗膜を
硬化させた。The coating composition (V) was applied to an aluminum plate, and the coating was cured by spectrally irradiating light of 200 nm to 700 nm.
【0103】この塗料は200nm〜530nmの範囲で塗
膜の硬化が起こった。This coating material was cured in the range of 200 nm to 530 nm.
【0104】この塗料(V)をアルミニウム板に厚さ1
0μmとなるように塗装し、メタルハライドランプで、
120mJ/cm2照射した。得られた塗膜の鉛筆硬度は4H
であった。The paint (V) was applied to an aluminum plate to a thickness of 1
Paint to 0μm, with metal halide lamp,
Irradiation was performed at 120 mJ / cm 2 . The pencil hardness of the obtained coating film is 4H
Met.
【0105】比較例5 実施例5において2−エチル−9,10−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例5と同様にし
て比較例5の組成物を得た。このものは、210nm〜4
00nmの分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率7
2%、鉛筆硬度はHで劣っていた。Comparative Example 5 A composition of Comparative Example 5 was obtained in the same manner as in Example 5, except that 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene was not added. This is 210nm ~ 4
The spectral sensitivity was 00 nm. Gel fraction of the obtained coating film 7
The pencil hardness was inferior to H at 2%.
【0106】実施例6 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート50部、キシリレ
ンジオキセタン20部、アクリル共重合体(3−メタク
リロオキシメチル−3−エチルオキセタン/3−アクリ
ロキシメチル−3−エチルオキセタン/3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルメタクリレート/スチレン/メ
チルメタクリレート=10/20/30/20/20、
数平均分子量4,000、Tg:70℃)15部、リモ
ネンジオキサイド15部、光増感剤2−メチル−9,1
0−ジエトキシアントラセン1部、光カチオン重合開始
剤DAICAT−11(ダイセル化学工業社製、スルホ
ニウム系光カチオン重合開始剤)5部、二酸化チタン5
0部、紫外線吸収剤チヌビン2部を添加混合して白エナ
メル塗料(VI)を得た。Example 6 50 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 20 parts of xylylenedioxetane, acrylic copolymer (3-methacryloxymethyl-3-ethyloxetane / 3- Acryloxymethyl-3-ethyloxetane / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate / styrene / methyl methacrylate = 10/20/30/20/20;
(Number average molecular weight 4,000, Tg: 70 ° C.) 15 parts, limonenedioxide 15 parts, photosensitizer 2-methyl-9,1
1 part of 0-diethoxyanthracene, 5 parts of cationic photopolymerization initiator DAICAT-11 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., sulfonium-based cationic photopolymerization initiator), 5 parts of titanium dioxide
0 parts and 2 parts of an ultraviolet absorber tinuvin were added and mixed to obtain a white enamel paint (VI).
【0107】この白エナメル塗料(VI)をブリキ板に塗
装し、200nm〜700nmまで分光照射を行なった。3
50nm〜550nmまでの波長で塗膜の硬化が得られた。The white enamel paint (VI) was applied to a tin plate and subjected to spectral irradiation from 200 nm to 700 nm. 3
Curing of the coating was obtained at wavelengths from 50 nm to 550 nm.
【0108】この白エナメル塗料(VI)をABS樹脂に
厚さ25μmとなるように塗装し、白熱電球で2分照射
した。得られた塗膜の鉛筆硬度は3H、ゲル分率98%
であった。This white enamel paint (VI) was applied to an ABS resin so as to have a thickness of 25 μm, and irradiated with an incandescent lamp for 2 minutes. The pencil hardness of the obtained coating film is 3H, and the gel fraction is 98%.
Met.
【0109】比較例6 実施例6において2−メチル−9,10−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例6と同様にし
て比較例6の組成物を得た。このものは、360nm〜4
00nmの分光感度であった。この塗膜をタングステンラ
ンプで10分間照射したが硬化せず劣っていた。Comparative Example 6 A composition of Comparative Example 6 was obtained in the same manner as in Example 6, except that 2-methyl-9,10-diethoxyanthracene was not added. This is 360nm ~ 4
The spectral sensitivity was 00 nm. This coating film was irradiated with a tungsten lamp for 10 minutes, but was not cured and was inferior.
【0110】実施例7 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート85部、キシリレ
ンジオキセタン10部、TONE Polyol 0301 5部、9,
10−ジエトキシアントラセン2部、二酸化チタン30
部、フタロシアニンブル0.5部を混合分散してうす青
色塗料を得た。Example 7 85 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 10 parts of xylylenedioxetane, 5 parts of TONE Polyol 0301, 9,
2 parts of 10-diethoxyanthracene, titanium dioxide 30
Part and 0.5 part of phthalocyanine mumble were mixed and dispersed to obtain a light blue paint.
【0111】この塗料100部に、UVR−6110
(ユニオンカーバイド社製、光カチオン重合開始剤)2
部を混合分散して塗料(VII)を得た。To 100 parts of the paint, UVR-6110 was added.
(Photocationic polymerization initiator manufactured by Union Carbide) 2
The parts were mixed and dispersed to obtain paint (VII).
【0112】この塗料(VII)をブリキ板に塗り、20
0nm〜700nmまで分光照射を行なった。250nm〜5
30nmまでの光の波長で塗膜の硬化が認められた。The paint (VII) was applied to a tin plate,
Spectral irradiation was performed from 0 nm to 700 nm. 250nm-5
Curing of the coating was observed at light wavelengths up to 30 nm.
【0113】この塗料をコート紙に厚さ10μmとなる
ように塗布し、メタルハライドランプで300mJ/cm2照
射した。得られた塗膜は外観、付着性とも良好であっ
た。The coating material was applied to a coated paper so as to have a thickness of 10 μm, and irradiated with a metal halide lamp at 300 mJ / cm 2 . The obtained coating film had good appearance and adhesion.
【0114】比較例7 実施例7において9,10−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例7と同様にして比較例7の
組成物を得た。このものは、360nm〜400nmの分光
感度であった。得られた塗膜は下部の硬化が不十分であ
った。Comparative Example 7 A composition of Comparative Example 7 was obtained in the same manner as in Example 7 except that 9,10-diethoxyanthracene was not added. This had a spectral sensitivity of 360 nm to 400 nm. The resulting coating film had insufficient curing of the lower part.
【0115】実施例8 2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン2部、
CI−2855(日本曹達社製、スルホニウム系光カチ
オン重合開始剤)5部、セロキサイト2021P(ダイ
セル化学工業社製、脂環式エポキシ化合物)100部、
二酸化チタン50部、紫外線吸収剤イアソーウムUV−
531(American Cyanamid Corp.)2部を添加混合し
てディスパー分散して白エナメル塗料(VIII)を得た。Example 8 2-Ethyl-9,10-dimethoxyanthracene (2 parts)
CI-2855 (Nippon Soda Co., Ltd., sulfonium-based cationic photopolymerization initiator) 5 parts, celloxite 2021P (Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy compound) 100 parts,
50 parts of titanium dioxide, UV absorber Iasium UV-
531 (American Cyanamid Corp.) was added, mixed and dispersed by a dispersion to obtain a white enamel paint (VIII).
【0116】この白エナメル塗料(VIII)をプライマー
塗装したアルミニウム板に塗装し、200nm〜700nm
までの光の分光照射を行なった。300nm〜500nmま
での分光感度が得られた。This white enamel paint (VIII) was applied to a primer-coated aluminum plate,
Spectroscopic irradiation of light was performed. Spectral sensitivities from 300 nm to 500 nm were obtained.
【0117】ポリカーボネート板に厚さ15μmになる
ようにこの白エナメル塗料を塗装し、ガリウムメタルハ
ライドランプにより、400mJ/cm2照射して塗料を硬化
させた。得られた塗膜は良好な仕上りで、付着性も良好
であった。This white enamel paint was applied to a polycarbonate plate so as to have a thickness of 15 μm, and the paint was cured by irradiating the paint with a gallium metal halide lamp at 400 mJ / cm 2 . The resulting coating film had a good finish and good adhesion.
【0118】比較例8 実施例8において9,10−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例8と同様にして比較例8の
組成物を得た。このものは、250nm〜300nmまでし
か分光感度は得られなかった。また、実施例8と同様に
して光照射したが被膜は硬化しなかった。Comparative Example 8 A composition of Comparative Example 8 was obtained in the same manner as in Example 8, except that 9,10-diethoxyanthracene was not added. This obtained spectral sensitivity only up to 250 nm to 300 nm. Further, irradiation with light was performed in the same manner as in Example 8, but the coating was not cured.
【0119】実施例9 アクリル共重合体(スチレン/メチルメタクリレート/
n−ブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルメタク
リレート/3/メタクリロキシメチル−3−エチルオキ
セタン=20/10/15/15/40、数平均分子量
4,200、分子量1,000当りオキセタン環2.3
個含有)10部、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオ
キセタン20部、上記セロキサイト2021Pを70
部、2−メチル−9,10−ジエトキシアントラセン3
部、二酸化チタン30部を混合分散して白エナメルを得
た。次いで得られた白エナメル100部に上記DACA
T−11を5部を添加して白エナメル塗料(IX)を得
た。Example 9 Acrylic copolymer (styrene / methyl methacrylate /
n-butyl methacrylate / 2-ethylhexyl methacrylate / 3 / methacryloxymethyl-3-ethyloxetane = 20/10/15/15/40, number average molecular weight 4,200, oxetane ring 2.3 per 1,000 molecular weight
10 parts), 20 parts of 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 70 parts of the above celoxide 2021P.
Part, 2-methyl-9,10-diethoxyanthracene 3
And 30 parts of titanium dioxide were mixed and dispersed to obtain a white enamel. Then, the above DACA was added to 100 parts of the obtained white enamel.
Five parts of T-11 were added to obtain a white enamel paint (IX).
【0120】基材にウレタンプライマー塗装、乾燥させ
た後、塗膜表面をサンデングした後、白エナメル塗料
(IX)を膜厚40μmになるように塗装し、タングス
テンランプで4分間照射した。 得られた塗膜は鉛筆硬
度3Hで仕上がり外観は良好であった。After the base material was coated with a urethane primer and dried, the surface of the coating film was sanded, a white enamel paint (IX) was applied to a thickness of 40 μm, and irradiated with a tungsten lamp for 4 minutes. The resulting coating film had a pencil hardness of 3H and a good finished appearance.
【0121】比較例9 実施例9において2−メチル−9,10−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例9と同様にし
て比較例9の組成物を得た。実施例9と同様にして光照
射したが被膜は硬化しなかった。Comparative Example 9 A composition of Comparative Example 9 was obtained in the same manner as in Example 9 except that 2-methyl-9,10-diethoxyanthracene was not added. Irradiation was carried out in the same manner as in Example 9, but the coating was not cured.
【0122】実施例10 アクリル共重合体(グリシジルメタクリレート/3−メ
タクリロキシメチル−3−エチルオキセタン/スチレン
/n−ブチルメタクリレート=30/30/27/1
3、数平均分子量4,000、ガラス転移温度68℃)
15部、3−エチル−3−(グリシジルオキシメチル)
オキセタン15部、上記セロキサイト2021Pを60
部、リモネンジオキサイド10部、9,10−ジエトキ
シアントラセン3部、炭酸カルシウム10部、二酸化チ
タン10部を混合分散して白エナメルを得た。次いで得
られた白エナメル100部に上記DACAT−11を3
部を添加して白エナメル塗料(X)を得た。Example 10 Acrylic copolymer (glycidyl methacrylate / 3-methacryloxymethyl-3-ethyloxetane / styrene / n-butyl methacrylate = 30/30/27/1
3, number average molecular weight 4,000, glass transition temperature 68 ° C)
15 parts, 3-ethyl-3- (glycidyloxymethyl)
15 parts of oxetane, 60 parts of celoxite 2021P
, 10 parts of limonenedioxide, 3 parts of 9,10-diethoxyanthracene, 10 parts of calcium carbonate and 10 parts of titanium dioxide were mixed and dispersed to obtain a white enamel. Next, 100 parts of the obtained white enamel was mixed with 3 parts of DACCAT-11.
To obtain a white enamel paint (X).
【0123】基材にメラミン硬化型アクリル樹脂プライ
マーを塗装、乾燥させた後、塗膜表面をサンデングした
後、白エナメル塗料(X)を膜厚60μmになるように
塗装し、タングステンランプで3分間照射した。 得ら
れた塗膜は鉛筆硬度3Hで仕上がり外観は良好であっ
た。After coating and drying a melamine-curable acrylic resin primer on the substrate, sanding the coating film surface, applying a white enamel paint (X) to a film thickness of 60 μm, and using a tungsten lamp for 3 minutes Irradiated. The resulting coating film had a pencil hardness of 3H and a good finished appearance.
【0124】比較例10 実施例10において9,10−ジエトキシアントラセン
を添加していない以外は実施例10と同様にして比較例
10の組成物を得た。実施例10と同様にして光照射し
たが被膜は硬化しなかった。Comparative Example 10 A composition of Comparative Example 10 was obtained in the same manner as in Example 10, except that 9,10-diethoxyanthracene was not added. Irradiation was carried out in the same manner as in Example 10, but the coating was not cured.
【0125】[0125]
【発明の効果】本発明組成物は特に光カチオン重合組成
物に特定の光増感剤を配合してなる組成物であることか
ら、顔料を含有するエナメルタイプにおいても光硬化性
に優れるといった顕著な効果を発揮するものである。The composition of the present invention is a composition obtained by blending a specific photosensitizer with a cationic photopolymerizable composition. Therefore, the composition is excellent in photocurability even in an enamel type containing a pigment. It has a special effect.
Claims (7)
れぞれ同一もしくは異なって水素原子又はC1〜C4のア
ルキル基を示す) 〔B〕ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びホスホニウ
ム塩から選ばれる少なくとも1種の光カチオン重合開始
剤及び 〔C〕光カチオン重合性化合物を必須成分として含有す
る組成物であって、上記した[A]、[B]及び[C]成分の
配合割合が、〔C〕100重量部当り〔A〕0.01〜
5重量部及び〔B〕0.1〜20重量部の範囲であるこ
とを特徴とする活性エネルギー線硬化型組成物。1. The following component [A]: a photosensitizer represented by the following general formula (1): (Wherein, R 1 and R 2 are a C 1 -C 8 alkyl group, and R 3 are the same or different and each represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group.) [B] Iodonium salt, sulfonium salt and A composition comprising, as essential components, at least one type of cationic photopolymerization initiator selected from phosphonium salts and [C] a cationic photopolymerizable compound, wherein the components [A], [B] and [C] The compounding ratio is [A] 0.01 to 100 parts by weight [C].
An active energy ray-curable composition, characterized in that the content is 5 parts by weight and [B] 0.1 to 20 parts by weight.
[A]が9,10−ジメトキシアントラセンであることを
特徴とする請求項1に記載の硬化型組成物。2. The photocurable composition according to claim 2, wherein the curable composition is a photosensitizer.
The curable composition according to claim 1, wherein [A] is 9,10-dimethoxyanthracene.
[A]が9,10−ジエトキシアントラセンであることを
特徴とする請求項1に記載の硬化型組成物。3. The photocurable composition according to claim 1, wherein the curable composition is a photosensitizer.
The curable composition according to claim 1, wherein [A] is 9,10-diethoxyanthracene.
[A]が2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン
であることを特徴とする請求項1に記載の硬化型組成
物。4. The photocurable composition according to claim 1, wherein the curable composition is a photosensitizer.
The curable composition according to claim 1, wherein [A] is 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene.
[A]が2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン
であることを特徴とする請求項1に記載の硬化型組成
物。5. The photocurable composition according to claim 1, wherein the curable composition is a photosensitizer.
The curable composition according to claim 1, wherein [A] is 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene.
剤[D]を配合してなることを特徴とする請求項1乃至5
のいずれか1項に記載の硬化型組成物。6. The curable composition according to claim 1, further comprising an ultraviolet absorbent [D].
The curable composition according to any one of the above.
れか1項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物を塗布
量が硬化膜厚で1〜100ミクロンになるように塗布
し、次いで活性エネルギー線を照射して硬化させること
を特徴とする被膜形成方法。7. An active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 6, which is applied to a surface of a base material so that a coating amount is 1 to 100 microns in a cured film thickness. A method for forming a coating film, comprising irradiating with an active energy ray to cure the film.
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|---|---|---|---|
| JP11008726A JP2000204284A (en) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | Active energy ray-curing composition and film-forming process thereof |
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004075333A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Sealing agent for photoelectric conversion element and photoelectric conversion element using the same |
| JP2005036152A (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Ultraviolet curable coating composition and article to be coated |
| JP2007002098A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Fujifilm Holdings Corp | Ink composition, and image-forming method and recorded product using the same |
| JP2009185219A (en) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | UV-curable can coating composition and use thereof |
| JP2018150562A (en) * | 2013-01-09 | 2018-09-27 | 株式会社ダイセル | Curable epoxy resin composition |
| WO2021100654A1 (en) | 2019-11-19 | 2021-05-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material and optical component |
| JPWO2022030236A1 (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | ||
| WO2022202538A1 (en) | 2021-03-23 | 2022-09-29 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, method for producing same, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material, and optical component |
| WO2024005140A1 (en) | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material and optical component |
| WO2024204550A1 (en) | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive composition for hologram recording, hologram recording medium, polymer, large capacity memory, optical element, ar light guide plate, and ar glasses |
| WO2024204548A1 (en) | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, hologram recording medium, polymer, optical material, and optical component |
-
1999
- 1999-01-18 JP JP11008726A patent/JP2000204284A/en active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7915524B2 (en) | 2003-02-20 | 2011-03-29 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Sealing agent for photoelectric conversion device and photoelectric conversion device using the same |
| JPWO2004075333A1 (en) * | 2003-02-20 | 2006-06-01 | 日本化薬株式会社 | Sealing agent for photoelectric conversion element and photoelectric conversion element using the same |
| WO2004075333A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Sealing agent for photoelectric conversion element and photoelectric conversion element using the same |
| CN100407494C (en) * | 2003-02-20 | 2008-07-30 | 日本化药株式会社 | Sealant for photoelectric conversion device and photoelectric conversion device using same |
| JP2005036152A (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Ultraviolet curable coating composition and article to be coated |
| JP2007002098A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Fujifilm Holdings Corp | Ink composition, and image-forming method and recorded product using the same |
| JP2009185219A (en) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | UV-curable can coating composition and use thereof |
| JP2018150562A (en) * | 2013-01-09 | 2018-09-27 | 株式会社ダイセル | Curable epoxy resin composition |
| WO2021100654A1 (en) | 2019-11-19 | 2021-05-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material and optical component |
| JPWO2022030236A1 (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | ||
| WO2022202538A1 (en) | 2021-03-23 | 2022-09-29 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, method for producing same, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material, and optical component |
| WO2024005140A1 (en) | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material and optical component |
| WO2024204550A1 (en) | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive composition for hologram recording, hologram recording medium, polymer, large capacity memory, optical element, ar light guide plate, and ar glasses |
| WO2024204548A1 (en) | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 三菱ケミカル株式会社 | Compound, polymerizable composition, hologram recording medium, polymer, optical material, and optical component |
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