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JP2000298821A - Method for manufacturing contact magnetic head - Google Patents

Method for manufacturing contact magnetic head

Info

Publication number
JP2000298821A
JP2000298821A JP11103316A JP10331699A JP2000298821A JP 2000298821 A JP2000298821 A JP 2000298821A JP 11103316 A JP11103316 A JP 11103316A JP 10331699 A JP10331699 A JP 10331699A JP 2000298821 A JP2000298821 A JP 2000298821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
head
layer
magnetic head
elements
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11103316A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Yasuura
健二 保浦
Kazuyoshi Kimura
和良 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
Priority to JP11103316A priority Critical patent/JP2000298821A/en
Publication of JP2000298821A publication Critical patent/JP2000298821A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接触型磁気ヘッドに備えられる電極の露出作
業を効率化することができ、また、ハンドリングの際に
接触型磁気ヘッドを損傷させる危険が少なく、しかも、
基板上に形成された多数のヘッド素子の識別が容易な接
触型磁気ヘッドの製造方法を提供すること。 【解決手段】 基板12上に分離層14介して素子層1
6が形成された素子板10から、複数のヘッド素子50
aが半切り溝30でつながった短冊状の要素が、少なく
ともその一端において連結しているデバイスシート26
として素子層16を分離する。次いで、デバイスシート
26の状態でエッチングを行い、デバイスシート26に
含まれる各ヘッド素子50aのAuパッド16cを露出
させる。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To improve the efficiency of the work of exposing electrodes provided in a contact type magnetic head, and to reduce the risk of damaging the contact type magnetic head during handling.
To provide a method of manufacturing a contact type magnetic head in which a large number of head elements formed on a substrate can be easily identified. An element layer (1) is provided on a substrate (12) via a separation layer (14).
A plurality of head elements 50 are removed from the element plate 10 on which the
a is a device sheet 26 in which strip-shaped elements connected by a half-cut groove 30 are connected at least at one end thereof.
The element layer 16 is separated. Next, etching is performed in the state of the device sheet 26 to expose the Au pad 16c of each head element 50a included in the device sheet 26.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接触型磁気ヘッド
の製造方法に関し、更に詳しくは、コンピュータ、デジ
タルカメラ、デジタルAV等に用いられるフロッピーデ
ィスク、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体の
高密度記録・再生に好適な接触型磁気ヘッドの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a contact type magnetic head, and more particularly, to a method for manufacturing a magnetic recording medium such as a floppy disk, a magnetic tape, and a magnetic disk used for a computer, a digital camera, a digital AV and the like. The present invention relates to a method of manufacturing a contact type magnetic head suitable for density recording / reproduction.

【0002】[0002]

【従来の技術】フロッピーディスク、磁気テープ、ハー
ドディスク等、磁気記録媒体への高密度記録・再生を達
成するには、磁気ヘッドから発生する漏れ磁束が書き込
まれる磁気記録媒体の領域を微小化し、この微小領域か
ら正確に磁気記録情報を読み出す必要がある。そのため
には、磁気記録媒体と磁気ヘッドとをできる限り接近さ
せることが望ましい。このような観点から開発された磁
気記録・再生装置としては、磁極を備えた接触パッドを
磁気記録媒体に直接接触させながら磁気記録情報の記録
・再生を行う接触型磁気ヘッドが知られている。
2. Description of the Related Art In order to achieve high-density recording / reproduction on a magnetic recording medium such as a floppy disk, a magnetic tape, and a hard disk, an area of the magnetic recording medium in which a leakage magnetic flux generated from a magnetic head is written is reduced. It is necessary to accurately read magnetically recorded information from a minute area. To this end, it is desirable that the magnetic recording medium and the magnetic head be as close as possible. As a magnetic recording / reproducing device developed from such a viewpoint, a contact type magnetic head for recording / reproducing magnetic recording information while directly contacting a contact pad having a magnetic pole with a magnetic recording medium is known.

【0003】例えば、特開平8−203190号公報に
は、磁気ヘッドスライダ(ヘッドチップ)にダイヤモン
ドからなる1個の接触パッドを設け、接触パッドの先端
を、中心線平均粗さRmaxが0.5nm程度となるよ
うに球面研磨した接触型磁気ヘッドが開示されている。
For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-203190, a magnetic head slider (head chip) is provided with a single contact pad made of diamond, and the tip of the contact pad is provided with a center line average roughness Rmax of 0.5 nm. A contact type magnetic head which is spherically polished to a degree is disclosed.

【0004】また、特願平9−225724号には、薄
膜状のヘッドチップに、磁極を有する接触パッド(以
下、これを「磁極パッド」という。)と、この磁極パッ
ドの接触走行を安定化させるための2個の接触パッド
(以下、これを「補助パッド」という。)を設けた接触
型磁気ヘッドが本件出願人により提案されている。
Japanese Patent Application No. 9-225724 discloses a thin-film head chip having a contact pad having a magnetic pole (hereinafter referred to as a "magnetic pole pad") and stabilizing the contact running of the magnetic pole pad. The present applicant has proposed a contact-type magnetic head provided with two contact pads (hereinafter, referred to as “auxiliary pads”) for causing the contact to be performed.

【0005】このような接触パッドを備えた接触型磁気
ヘッドは、リソグラフィ技術を用いて製造することがで
きる。具体的には、以下のような手順により製造するの
が一般的である。すなわち、まず、図5(a)に示すよ
うに、基板12の上に、適当なエッチング液に溶解可能
な材料からなる分離層14を形成し、さらに、分離層1
4の上に素子層16を形成して、素子板10を作製す
る。
[0005] A contact type magnetic head having such a contact pad can be manufactured by using a lithography technique. Specifically, it is generally manufactured by the following procedure. That is, first, as shown in FIG. 5A, a separation layer 14 made of a material that can be dissolved in an appropriate etchant is formed on a substrate 12, and then the separation layer 1 is formed.
The element layer 16 is formed on the substrate 4 to produce the element plate 10.

【0006】素子層16は、その内部に磁気ヨーク、コ
イル等からなる多数のヘッド素子(図示せず)が周期的
に形成され、その表面には、各磁気ヨークと磁気的に連
結している磁極を備えた多数の磁極パッド54、54…
が形成されたものである。また、図示はしないが、素子
層16の表面に多数の補助パッドが形成される場合もあ
る。
The element layer 16 has a number of head elements (not shown), including magnetic yokes, coils, etc., formed therein periodically, and the surface thereof is magnetically connected to each magnetic yoke. A number of pole pads 54 with magnetic poles, 54 ...
Is formed. Although not shown, a large number of auxiliary pads may be formed on the surface of the element layer 16 in some cases.

【0007】次に、図5(b)に示すように、磁極パッ
ド54が形成された素子層16の表面を保護レジスト2
2で覆った後、各ヘッド素子50a、50a…の境界線
に沿って、素子層16から、少なくとも分離層14に達
する複数の溝28、28を入れる。次いで、これをエッ
チング液に浸漬し、分離層14を溶解除去した後、保護
レジスト22を除去すれば、図5(c)に示すように、
磁極パッド54を備えた多数の接触型磁気ヘッド50、
50…を基板12から分離することができる。
Next, as shown in FIG. 5B, the surface of the element layer 16 on which the pole pads 54 are formed is covered with a protective resist 2.
2, a plurality of grooves 28, 28 reaching at least the separation layer 14 from the element layer 16 are formed along the boundaries of the head elements 50 a, 50 a. Next, this is immersed in an etching solution to dissolve and remove the separation layer 14, and then the protective resist 22 is removed, as shown in FIG.
A number of contact magnetic heads 50 with pole pads 54;
50 can be separated from the substrate 12.

【0008】次に、図5(d)に示すように、磁極パッ
ド54が形成された面を下に向けて、分離された各接触
型磁気ヘッド50、50…を適当な接着剤42を介して
固定治具40の上に固定する。そして、図5(e)に示
すように、接触型磁気ヘッド50の磁極パッド54が設
けられた面と反対側の面に埋設されたAuパッド16c
を露出させる。さらに、図5(f)に示すように、Au
パッド16cとサスペンション58とを接合し、固定治
具40から取り出せば、サスペンション58で支持され
た接触型磁気ヘッド50を得ることができる。
Next, as shown in FIG. 5D, the separated contact magnetic heads 50, 50... To fix it on the fixing jig 40. Then, as shown in FIG. 5E, the Au pad 16c embedded on the surface of the contact type magnetic head 50 opposite to the surface on which the magnetic pole pads 54 are provided.
To expose. Further, as shown in FIG.
When the pad 16c and the suspension 58 are joined and taken out from the fixing jig 40, the contact type magnetic head 50 supported by the suspension 58 can be obtained.

【0009】ところで、Auパッド16cは、リード線
(図示せず)を介してコイル(図示せず)に接続されて
おり、接触型磁気ヘッド50側の電極となる部分である
が、素子板10から接触型磁気ヘッド50を切断・分離
した状態では、その表面は、絶縁層で覆われた状態にな
っている。
The Au pad 16c is connected to a coil (not shown) via a lead wire (not shown), and serves as an electrode on the contact type magnetic head 50 side. When the contact magnetic head 50 is cut and separated from the surface, its surface is covered with an insulating layer.

【0010】すなわち、分離層14を介して基板12上
に素子層16が形成された状態では、Auパッド16c
近傍の素子層16は、図6(a)の拡大断面図に示すよ
うに、絶縁層16a、メタルシード16b、Auパッド
16c、リード線16d、及び絶縁層16eがこの順に
積層された構造を有している。
That is, when the element layer 16 is formed on the substrate 12 via the separation layer 14, the Au pad 16c
The element layer 16 in the vicinity has a structure in which an insulating layer 16a, a metal seed 16b, an Au pad 16c, a lead wire 16d, and an insulating layer 16e are stacked in this order, as shown in an enlarged sectional view of FIG. are doing.

【0011】絶縁層16aとAuパッド16cの間にメ
タルシード16bを介在させるのは、Auパッド16c
をメッキにより形成するためである。また、分離層14
とAuパッド16cの間に絶縁層16aを介在させるの
は、分離層14を溶解する際に使用するエッチング液に
よりメタルシード16bがエッチングされ、さらにはコ
イル等までエッチングされるのを防止するためである。
The metal seed 16b is interposed between the insulating layer 16a and the Au pad 16c because the Au pad 16c
Is formed by plating. Also, the separation layer 14
The reason why the insulating layer 16a is interposed between the metal seed 16b and the Au pad 16c is to prevent the metal seed 16b from being etched by the etchant used for dissolving the separation layer 14 and further from being etched to the coil and the like. is there.

【0012】従って、上述したように、Auパッド16
cとサスペンション58を接合する前に、Auパッド1
6c表面を覆っている絶縁層16aを除去し、Auパッ
ド16cを露出させる工程が必要となる。
Therefore, as described above, the Au pad 16
Before joining the suspension 58 to the suspension 58, the Au pad 1
A step of removing the insulating layer 16a covering the surface of the Au pad 6c and exposing the Au pad 16c is required.

【0013】このようなAuパッド16cの露出は、上
述したように、まず、素子板10から素子層16を分離
し、これを切断して接触型磁気ヘッド50とした後、図
6(b)に示すように、Auパッド16cが形成された
面を上にして、接触型磁気ヘッド50を接着剤42を用
いて固定治具40に固定する。次いで、図6(c)に示
すように、イオンビームエッチング等のエッチング手段
を用いて、Auパッド16c先端の絶縁層16aを除去
するのが一般的である。
As described above, the Au pad 16c is exposed by first separating the element layer 16 from the element plate 10 and cutting the element layer 16 into a contact type magnetic head 50, as shown in FIG. As shown in (1), the contact type magnetic head 50 is fixed to the fixing jig 40 with the adhesive 42 with the surface on which the Au pad 16c is formed facing upward. Next, as shown in FIG. 6C, the insulating layer 16a at the tip of the Au pad 16c is generally removed by using etching means such as ion beam etching.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法では、各ヘッド素子50aの全ての境界線に沿
って分離層14に達する溝28を形成していたために、
分離層14を溶解除去すると、基板12から、各接触型
磁気ヘッド50がバラバラの状態で分離する。
However, in the conventional manufacturing method, the grooves 28 reaching the separation layer 14 are formed along all the boundaries of the head elements 50a.
When the separation layer 14 is dissolved and removed, the contact-type magnetic heads 50 are separated from the substrate 12 in a discrete state.

【0015】そのため、バラバラになった接触型磁気ヘ
ッド50を1個ずつピックアップし、固定治具の上に固
定する必要があり、作業時間がかかるという問題があ
る。また、固定治具の上に分離した接触型磁気ヘッド5
0を密に並べることができないために、1バッチのエッ
チングで処理できる素子数が少なく、作業効率が悪いと
いう問題がある。さらに、個々の接触型磁気ヘッド50
をハンドリングする必要があるために、接触型磁気ヘッ
ド50を損傷させる危険もある。
For this reason, it is necessary to pick up the contact type magnetic heads 50 which have become separated one by one and fix them on a fixing jig, which causes a problem that a long working time is required. Further, the contact type magnetic head 5 separated on the fixing jig
Since 0s cannot be arranged densely, there is a problem that the number of elements that can be processed by one batch of etching is small and work efficiency is poor. Further, each contact type magnetic head 50
Therefore, there is a risk that the contact type magnetic head 50 may be damaged.

【0016】また、基板12上に形成された多数のヘッ
ド素子50aの中には、不良素子も含まれている。ある
いは、複数種類のヘッド素子50aを1つの基板12上
に作り込む場合もある。しかしながら、分離層14の溶
解除去を行う際、各ヘッド素子50aがバラバラになる
ような方法で分離すると、ヘッド素子50aの識別が困
難になるという問題がある。
Further, among the many head elements 50a formed on the substrate 12, defective elements are also included. Alternatively, a plurality of types of head elements 50a may be formed on one substrate 12. However, when the separation layer 14 is dissolved and removed, if the head elements 50a are separated by a method that is separated, there is a problem that it is difficult to identify the head elements 50a.

【0017】本発明が解決しようとする課題は、接触型
磁気ヘッドに備えられる電極の露出作業を効率化するこ
とができ、しかも、ハンドリングの際に接触型磁気ヘッ
ドを損傷させる危険の少ない接触型磁気ヘッドの製造方
法を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is that the contact type magnetic head can be exposed more efficiently and the contact type magnetic head is less likely to be damaged during handling. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic head.

【0018】また、本発明が解決しようとする他の課題
は、不良素子の識別、複数種類の素子の識別等、基板上
に形成された多数のヘッド素子の識別が容易な接触型磁
気ヘッドの製造方法を提供することにある。
Another object to be solved by the present invention is to provide a contact type magnetic head which can easily identify a large number of head elements formed on a substrate, such as identification of defective elements, identification of a plurality of types of elements, and the like. It is to provide a manufacturing method.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る接触型磁気ヘッドの製造方法は、基板
上に、分離層を介して、複数のヘッド素子を含む素子層
が形成された素子板を作製する素子板作製工程と、前記
素子板に対し、前記素子層の表面から前記分離層に達す
る複数の全切り溝と前記素子層の内部で止まる複数の半
切り溝とを形成することにより、前記素子層を、前記複
数のヘッド素子が前記半切り溝を介して連結している複
数の短冊要素が、少なくともその一端において並列に連
結しているシートに区分する溝形成工程と、前記分離層
を除去し、前記シートを前記基板から分離する分離工程
と、前記シートの状態で、前記各ヘッド素子の電極を露
出させる電極露出工程と、前記シートを前記半切り溝に
沿って切断する切断工程とを備えていることを要旨とす
るものである。
In order to solve the above problems, a method of manufacturing a contact type magnetic head according to the present invention comprises forming an element layer including a plurality of head elements on a substrate via a separation layer. An element plate manufacturing step of manufacturing the element plate, and a plurality of all cut grooves reaching the separation layer from the surface of the element layer and a plurality of half cut grooves stopping inside the element layer with respect to the element plate. A groove forming step of dividing the element layer into a sheet in which a plurality of strip elements connected by the plurality of head elements via the half-cut groove are connected at least at one end thereof in parallel. Removing the separation layer and separating the sheet from the substrate; an electrode exposing step of exposing the electrodes of the respective head elements in the state of the sheet; Cut to cut It is intended to be subject matter of which is provided with a step.

【0020】上記構成を有する本発明に係る接触型磁気
ヘッドの製造方法によれば、基板から、複数のヘッド素
子が半切り溝で連結しているシートとして素子層を分離
し、このシートの状態で電極の露出加工が行われるの
で、バラバラに分離した個々の接触型磁気ヘッドをピッ
クアップし、固定治具上に並べる場合に比較して、作業
時間を大幅に短縮することができる。
According to the method of manufacturing a contact type magnetic head according to the present invention having the above structure, the element layer is separated from the substrate as a sheet in which a plurality of head elements are connected by half-cut grooves. Since the electrode is exposed, the work time can be greatly reduced as compared with a case where individual contact type magnetic heads separated separately are picked up and arranged on a fixing jig.

【0021】また、ヘッド素子が密に並んだシートの状
態で固定治具上に固定できるので、1バッチのエッチン
グにより処理できる素子数が大幅に増加する。また、シ
ートの状態でハンドリング作業が行われるので、ヘッド
素子を損傷させる危険が少ない。さらに、各ヘッド素子
がバラバラになることがないので、不良素子の識別や、
複数種類の素子の識別も容易になる。
Further, since the head elements can be fixed on a fixing jig in a state of a closely arranged sheet, the number of elements that can be processed by one batch of etching is greatly increased. Further, since the handling operation is performed in the state of the sheet, there is little danger of damaging the head element. Furthermore, since each head element does not fall apart, identification of defective elements,
It is easy to identify a plurality of types of elements.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の一実施の形態に
ついて図面を参照しながら詳細に説明する。図1〜図4
に、本発明に係る接触型磁気ヘッドの製造工程の一例を
示す。図1〜図4において、本実施の形態に係る接触型
磁気ヘッドの製造方法は、素子板作製工程と、溝形成工
程と、分離工程と、電極露出工程と、切断工程とを備え
ている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1 to 4
Next, an example of a manufacturing process of the contact type magnetic head according to the present invention will be described. 1 to 4, the method for manufacturing a contact type magnetic head according to the present embodiment includes an element plate manufacturing step, a groove forming step, a separating step, an electrode exposing step, and a cutting step.

【0023】まず、素子板作製工程について説明する。
素子板作製工程は、図1(a)に示すように、基板12
の上に分離層14を介して素子層16が形成された素子
板10を作製する工程である。基板12は、素子層16
を支持するためのものであり、用途に応じて、種々の形
状、材質を有するものが用いられる。一般的には、アル
ミナ、TiC等のセラミックスからなる直径約150m
m、厚さ2〜3mm程度のセラミック基板が用いられ
る。
First, an element plate manufacturing process will be described.
As shown in FIG. 1A, the element plate manufacturing process
This is a step of manufacturing the element plate 10 on which the element layer 16 is formed via the separation layer 14. The substrate 12 includes an element layer 16
It has various shapes and materials depending on the application. Generally, a diameter of about 150 m made of ceramics such as alumina and TiC
m, a ceramic substrate having a thickness of about 2 to 3 mm is used.

【0024】分離層14は、基板12と素子層16とを
接着すると同時に、製造工程の最終段階において基板1
2と素子層16とを分離させる役割を有するものであ
る。従って、分離層14には、適当なエッチング液によ
り容易に溶解する材料が用いられる。具体的には、銅、
クロム、ニッケル等からなる金属薄膜が好適である。
The separation layer 14 bonds the substrate 12 and the element layer 16 together with the substrate 1 at the final stage of the manufacturing process.
2 and the element layer 16. Therefore, a material that is easily dissolved by an appropriate etchant is used for the separation layer 14. Specifically, copper,
A metal thin film made of chromium, nickel, or the like is preferable.

【0025】なお、分離層14は、真空蒸着、スパッタ
リング、メッキ等の周知の手段を用いて基板12上に形
成することができる。また、分離層14の厚さは、成膜
速度、基板12と素子層16との分離の容易性等を考慮
して、任意に定めるとよい。通常は、数μm〜十数μm
程度である。
The separation layer 14 can be formed on the substrate 12 by using known means such as vacuum deposition, sputtering, plating and the like. Further, the thickness of the separation layer 14 may be arbitrarily determined in consideration of the film formation speed, ease of separation between the substrate 12 and the element layer 16, and the like. Usually several μm to several tens μm
It is about.

【0026】素子層16は、分離・切断後に接触型磁気
ヘッドとなる複数のヘッド素子(図示せず)が周期的に
形成された層であり、その厚さは、通常、50μm程度
である。素子層16に含まれるヘッド素子の数は、素子
の大きさにもよるが、直径150mm程度の基板を用い
る場合には、数千個〜1万個程度となる。
The element layer 16 is a layer in which a plurality of head elements (not shown), which become a contact type magnetic head after being separated and cut, are periodically formed, and the thickness thereof is usually about 50 μm. The number of head elements included in the element layer 16 depends on the size of the elements, but is about several thousand to about 10,000 when a substrate having a diameter of about 150 mm is used.

【0027】このような素子層16は、リソグラフィ技
術を用いて作製することができ、得られた素子層16
は、多数の薄膜が積層された積層構造を呈している。素
子層16の主要部分には、一般に、アルミナ、シリカ等
のセラミックス材料が用いられる。また、素子層16の
内部には、磁気ヨーク、コイル、リード線、接続パッド
(Auパッド)等の構成要素がヘッド素子の数だけ形成
されている。
Such an element layer 16 can be manufactured using a lithography technique.
Has a laminated structure in which many thin films are laminated. For the main part of the element layer 16, a ceramic material such as alumina or silica is generally used. In the element layer 16, constituent elements such as magnetic yokes, coils, lead wires, connection pads (Au pads) and the like are formed by the number of head elements.

【0028】また、素子層16の表面には、複数の磁極
パッド54、54…が突設されている。磁極パッド54
の大きさは、用途にもよるが、高密度の記録再生用とし
て使用する場合には、長さ数十μm〜百μm、高さ数μ
m程度である。各磁極パッド54内部には、磁極(図示
せず)が設けられ、各磁極は、それぞれ、素子層16内
に形成された各磁気ヨーク(図示せず)につながってお
り、磁極18及び磁気ヨークにより磁気回路が構成され
ている。
A plurality of magnetic pole pads 54 project from the surface of the element layer 16. Magnetic pole pad 54
Although it depends on the application, the size of is several tens μm to 100 μm in length and several μm in height when used for high-density recording and reproduction.
m. Magnetic poles (not shown) are provided inside each magnetic pole pad 54, and each magnetic pole is connected to each magnetic yoke (not shown) formed in the element layer 16, respectively. Constitute a magnetic circuit.

【0029】なお、磁極パッド54には、一般に、高い
硬度を有し、かつ、摩擦係数の小さいダイヤモンドライ
クカーボンが用いられる。また、磁極パッド54内部の
磁極には、一般に、NiFe(パーマロイ)等の軟磁性
材料が用いられるが、磁極先端など、記録時に磁束密度
が非常に高くなる部分については、CoZrTaなどの
Co系アモルファス材料や、FeTaNなどの高飽和磁
化材料を用いてもよく、特に限定されるものではない。
The magnetic pole pad 54 is generally made of diamond-like carbon having a high hardness and a small coefficient of friction. In addition, a soft magnetic material such as NiFe (permalloy) is generally used for the magnetic poles inside the magnetic pole pad 54. Co-based amorphous materials such as CoZrTa are used for portions where the magnetic flux density becomes extremely high during recording, such as the tip of the magnetic pole. A material or a high saturation magnetization material such as FeTaN may be used and is not particularly limited.

【0030】次に、溝形成工程について説明する。溝形
成工程は、分離層14にエッチング液を供給し、素子層
16の分離を容易化するための全切り溝と、各ヘッド素
子の離散を防止し、かつ、素子層16の分断を容易化す
るための半切り溝とを、各ヘッド素子の境界線に沿って
互いに交差するように形成する工程である。
Next, the groove forming step will be described. In the groove forming step, an etchant is supplied to the separation layer 14 to prevent the separation of the element layer 16, prevent the separation of the head elements, and facilitate the division of the element layer 16. This is a step of forming half-cut grooves to intersect each other along the boundary of each head element.

【0031】ここで、全切り溝及び半切り溝は、例え
ば、素子層16が短冊状の要素に区分され、短冊状の要
素内では、複数のヘッド素子が半切り溝を介して一列に
並んだ状態となるように形成してもよい。しかしなが
ら、後述する切断工程を効率化するためには、素子層1
6がシート状に区分されるように溝を形成することが望
ましい。具体的には、以下のような手順に従い、溝を形
成するとよい。
Here, the entire cut groove and the half cut groove are, for example, the element layer 16 is divided into strip-shaped elements, and in the strip-shaped element, a plurality of head elements are arranged in a line via the half cut grooves. It may be formed so as to be in a sunk state. However, in order to increase the efficiency of the cutting step described below, the element layer 1
It is desirable to form a groove so that 6 is divided into a sheet shape. Specifically, the groove may be formed according to the following procedure.

【0032】すなわち、まず、図1(b)に示すよう
に、素子板10の表面に保護膜22を形成する。これ
は、溝を入れる際に生ずる溶融物、切り粉等の不要物が
素子層16表面に付着するのを防止するためである。従
って、保護膜22は、素子層16への不要物の付着を阻
止できる程度の厚さがあればよい。具体的には、10μ
m程度とすればよい。
That is, first, as shown in FIG. 1B, a protective film 22 is formed on the surface of the element plate 10. This is to prevent unnecessary substances such as melts and chips generated when the grooves are formed from adhering to the surface of the element layer 16. Therefore, the protective film 22 only needs to have a thickness that can prevent adhesion of unnecessary substances to the element layer 16. Specifically, 10μ
m.

【0033】保護膜22としては、具体的には、フォト
レジスト膜、ポリミド等が一例として挙げられる。特
に、フォトレジスト膜は、膜の形成及び除去が容易であ
るので、保護膜22として好適である。なお、フォトレ
ジスト膜を素子層16の表面に形成する場合、例えば、
回転塗布等の手段を用いて素子板10の表面に液体状の
フォトレジストを塗布し、電気炉内で硬化処理すればよ
い。
As a specific example of the protective film 22, a photoresist film, a polyimide or the like can be given. In particular, a photoresist film is suitable as the protective film 22 because the film can be easily formed and removed. When a photoresist film is formed on the surface of the element layer 16, for example,
A liquid photoresist may be applied to the surface of the element plate 10 using a means such as spin coating, and then cured in an electric furnace.

【0034】次に、保護膜22が形成された素子板10
の表面に全切り溝と半切り溝を形成する。上述の工程を
経て得られた素子板10は、図2(a)に示すように、
その表面に多数のヘッド素子50aが規則的に配列した
状態になっている。そこで、まず、図2(b)に示すよ
うに、素子層16を、複数のヘッド素子50aが縦横に
配列した四角形状のシート26(以下、これを「デバイ
スシート26」という。)に区分するための全切り溝2
4(以下、これを「シート区分溝24」という。)を素
子板10の縦横に形成する。
Next, the element plate 10 on which the protective film 22 is formed
A full kerf and a half kerf are formed on the surface of. The element plate 10 obtained through the above-described steps is, as shown in FIG.
A large number of head elements 50a are regularly arranged on the surface. Therefore, first, as shown in FIG. 2B, the element layer 16 is divided into a square sheet 26 in which a plurality of head elements 50a are arranged vertically and horizontally (hereinafter, this is referred to as a "device sheet 26"). Grooving 2 for
4 (hereinafter, referred to as “sheet division grooves 24”) are formed in the vertical and horizontal directions of the element plate 10.

【0035】さらに、シート区分溝24で区分されたデ
バイスシート26の内部には、図3(a)の拡大平面
図、図3(b)のB−B’線断面図、及び図3(c)の
C−C’線断面図に示すように、各ヘッド素子50aを
複数の短冊要素に区分するための直線状の全切り溝28
(以下、これを「短冊要素区分溝28」といい、図3
(a)中、実線で表示。)を入れ、短冊要素区分溝28
と直交する方向に複数の半切り溝30(図3(a)中、
点線で表示。)を入れる。
Further, inside the device sheet 26 divided by the sheet dividing groove 24, an enlarged plan view of FIG. 3A, a sectional view taken along line BB 'of FIG. 3B, and FIG. As shown in the cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 2), a linear full cut groove 28 for dividing each head element 50a into a plurality of strip elements.
(Hereinafter, this is referred to as “strip element division groove 28”, and FIG.
(A) Indicated by a solid line. ), And the strip element dividing groove 28
The plurality of half-cut grooves 30 (in FIG. 3A,
Displayed with dotted line. ).

【0036】ここで、「全切り溝」とは、少なくとも分
離層14に達する深さを有する溝をいう。全切り溝の先
端は、分離層14の途中で止まっていてもよく、あるい
は、基板12に達するものであってもよい。また、「半
切り溝30」とは、その先端が素子層16内部で止まっ
ているものをいう。
Here, the “entire groove” refers to a groove having a depth reaching at least the separation layer 14. The end of the entire kerf may be stopped in the middle of the separation layer 14 or may reach the substrate 12. Further, the “half cut groove 30” refers to one whose end is stopped inside the element layer 16.

【0037】また、デバイスシート26として素子層1
6を分離するためには、各短冊要素区分溝28の少なく
とも一端は、シート区分溝24と連通しないように形成
する必要がある。これは、デバイスシート26を基板1
2から分離したときに、半切り溝30を介して短冊状に
つながっているヘッド素子50aが離散しないようにす
るためである。一方、半切り溝30は、シート区分溝2
4と連通するように形成した方が好ましい。これは、半
切り溝30がデバイスシート26の一端から他端まで形
成されている方が、デバイスシート26の分断が容易に
なるためである。
The element layer 1 is used as the device sheet 26.
In order to separate 6, at least one end of each strip element division groove 28 needs to be formed so as not to communicate with the sheet division groove 24. This means that the device sheet 26 is
This is to prevent the head elements 50a connected in a strip shape via the half-cut grooves 30 from being separated when separated from the head element 50. On the other hand, the half cut groove 30 is provided in the sheet dividing groove 2
It is preferable to form them so as to communicate with the fourth. This is because it is easier to divide the device sheet 26 when the half cut groove 30 is formed from one end to the other end of the device sheet 26.

【0038】なお、シート区分溝24、短冊要素区分溝
28、及び半切り溝30は、ダイシング、レーザースク
ライブ等の手段を用いて形成することができる。特に、
レーザースクライブは、溝の幅を数十μm程度にするこ
とができ、材料歩留まりが向上するので、溝形成方法と
して好適である。また、半切り溝30については、ウエ
ハースクライバーを用いてもよい。
The sheet dividing groove 24, the strip element dividing groove 28, and the half-cut groove 30 can be formed by using means such as dicing and laser scribe. In particular,
Laser scribing is suitable as a groove forming method because the width of the groove can be reduced to about several tens of μm and the material yield is improved. In addition, a wafer scriber may be used for the half-cut groove 30.

【0039】次に、分離工程について説明する。分離工
程は、分離層14を除去し、素子層16を基板12から
分離する工程である。具体的には、図1(c)に示すよ
うに、シート区分溝24、短冊要素区分溝28(図示せ
ず)、及び半切り溝30が形成された素子板10を、分
離層14のみを溶解するエッチング液に浸漬する。例え
ば、分離層14として銅を用いる場合には、エッチング
液として熱硝酸を用いればよい。
Next, the separation step will be described. The separation step is a step of removing the separation layer 14 and separating the element layer 16 from the substrate 12. Specifically, as shown in FIG. 1C, the element plate 10 having the sheet dividing groove 24, the strip element dividing groove 28 (not shown), and the half-cut groove 30 is formed, and only the separation layer 14 is formed. Immerse in a dissolving etchant. For example, when copper is used for the separation layer 14, hot nitric acid may be used as an etchant.

【0040】素子板10をエッチング液に浸漬すると、
素子板10に形成されたシート区分溝24及び短冊要素
区分溝28を通って、エッチング液が分離層14に供給
される。そのため、数十分程度で分離層14が完全に溶
解し、図1(d)に示すように、基板12から素子層1
6が分離する。さらに、素子層16の表面を覆っていた
保護膜22を除去すれば、図1(e)に示すように、複
数のヘッド素子50aが半切り溝30を介して連結して
いるデバイスシート26を得ることができる。
When the element plate 10 is immersed in an etching solution,
The etching liquid is supplied to the separation layer 14 through the sheet dividing groove 24 and the strip element dividing groove 28 formed in the element plate 10. Therefore, the separation layer 14 is completely dissolved in about several tens of minutes, and as shown in FIG.
6 separates. Further, when the protective film 22 covering the surface of the element layer 16 is removed, as shown in FIG. 1E, the device sheet 26 in which the plurality of head elements 50a are connected via the half-cut grooves 30 is formed. Obtainable.

【0041】なお、レーザースクライブを用いて溝を形
成する場合、レーザーにより溶融した基板12、分離層
14及び/又は素子層16の成分がドロスとなって、保
護膜22の表面、並びにシート区分溝24、短冊要素区
分溝28及び半切り溝30の内部に付着する。特に、シ
ート区分溝24及び短冊要素区分溝28内に付着したド
ロスは、分離層14へのエッチング液の供給を妨げ、分
離層14の溶解速度を遅延させる原因となる。
When the grooves are formed by laser scribe, the components of the substrate 12, the separation layer 14 and / or the element layer 16 melted by the laser become dross, and the surface of the protective film 22 and the sheet dividing grooves are formed. 24, adhere to the inside of the strip element division groove 28 and the half cut groove 30. In particular, the dross adhered to the sheet section groove 24 and the strip element section groove 28 hinders the supply of the etchant to the separation layer 14 and causes the dissolution rate of the separation layer 14 to be delayed.

【0042】また、素子層16を基板12から分離する
際、ドロスによって素子層16と基板12とが機械的に
連結され、素子層16の分離が困難となる場合がある。
さらに、ドロスが付着したまま各ヘッド素子に切り離
し、接触型磁気ヘッド50として使用すると、付着した
ドロスにより磁気記録媒体を傷つけるおそれがある。
When the element layer 16 is separated from the substrate 12, the element layer 16 and the substrate 12 may be mechanically connected by dross, making it difficult to separate the element layer 16.
Further, if the dross is adhered to each head element and used as a contact type magnetic head 50, the dross adhered may damage the magnetic recording medium.

【0043】従って、レーザースクライブにより溝2
4、28、30を入れた後、素子層16を分離する前
に、ドロスを除去することが望ましい。具体的には、特
開平10−3616号公報において本件出願人により提
案されている方法を用いて、ドロスを除去するとよい。
Therefore, the groove 2 is formed by laser scribing.
It is desirable to remove dross after adding 4, 28 and 30 and before separating the element layer 16. Specifically, dross may be removed by using a method proposed by the present applicant in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-3616.

【0044】すなわち、まず、レーザースクライブによ
り溝24、28、30を入れた後、素子層16を溶解可
能なエッチング液に素子板10を浸漬し、付着したドロ
スと素子層16の界面に空隙を形成する。さらに、素子
板10に対し、メガソニック等を用いて超音波振動を付
与する。これにより、ドロスが破壊され、素子層16か
らドロスを容易に除去することができる。
That is, first, after the grooves 24, 28, and 30 are formed by laser scribing, the element plate 10 is immersed in an etching solution capable of dissolving the element layer 16, and a gap is formed at the interface between the dross and the element layer 16 attached thereto. Form. Further, ultrasonic vibration is applied to the element plate 10 using megasonic or the like. Thereby, the dross is destroyed, and the dross can be easily removed from the element layer 16.

【0045】次に、電極露出工程について説明する。電
極露出工程は、デバイスシート26内に形成されたAu
パッド(電極)16cを露出させる工程である。具体的
には、以下の手順に従って、電極の露出を行うとよい。
Next, the electrode exposing step will be described. The electrode exposing step is performed by using Au formed in the device sheet 26.
This is a step of exposing the pad (electrode) 16c. Specifically, the electrodes may be exposed according to the following procedure.

【0046】すなわち、まず、図4(a)に示すよう
に、素子板10から分離されたデバイスシート26を、
磁極パッド54が形成された面を下にして、適当な接着
剤42を介して、固定治具40の上に固定する。接着剤
42としては、ワックス、フォトレジスト等を用いると
よい。
That is, first, as shown in FIG. 4A, the device sheet 26 separated from the element plate 10 is
The magnetic pole pad 54 is fixed on the fixing jig 40 with an appropriate adhesive 42 with the surface on which the magnetic pole pad 54 is formed downward. As the adhesive 42, wax, photoresist, or the like may be used.

【0047】次に、デバイスシート26が接着された固
定治具40をエッチング装置内に入れ、デバイスシート
26表面の絶縁層をエッチングにより除去する。エッチ
ング方法としては、具体的には、イオンビームエッチン
グ(IBE)等が好適である。これにより、図4(b)
に示すように、デバイスシート26に含まれる各ヘッド
素子50aの表面に、Auパッド16cが露出する。
Next, the fixing jig 40 to which the device sheet 26 is adhered is put into an etching apparatus, and the insulating layer on the surface of the device sheet 26 is removed by etching. As an etching method, specifically, ion beam etching (IBE) or the like is preferable. As a result, FIG.
As shown in (1), the Au pad 16c is exposed on the surface of each head element 50a included in the device sheet 26.

【0048】なお、Auパッド16cを露出させた後、
サスペンション58を接合する前に、断線その他の不良
の有無を確認するための素子特性検査を行うとよい。具
体的には、図4(c)に示すように、デバイスシート2
6の状態で、露出したAuパッド16cにプローブ46
を押し当てればよい。
After exposing the Au pad 16c,
Before joining the suspension 58, an element characteristic test for confirming the presence or absence of disconnection or other defects may be performed. Specifically, as shown in FIG.
In the state of No. 6, the probe 46 is attached to the exposed Au pad 16c.
You just have to press.

【0049】また、素子特性検査の結果、不良素子が発
見された場合には、図4(d)に示すように、レーザー
等を用いて、不良判定されたヘッド素子50aの表面
に、不良素子であることを識別するための溝(バッドマ
ーク)48を形成するとよい。
When a defective element is found as a result of the element characteristic inspection, as shown in FIG. 4D, the defective element is placed on the surface of the head element 50a determined to be defective by using a laser or the like. It is preferable to form a groove (bad mark) 48 for identifying that

【0050】このように、デバイスシート26の状態で
Auパッド16cの露出を行うようにすれば、バラバラ
に分離した接触型磁気ヘッド50を1個ずつピックアッ
プして固定治具40の上に並べる従来の方法に比較し
て、固定治具40に並べるための作業時間を大幅に短縮
することができる。
As described above, if the Au pad 16c is exposed in the state of the device sheet 26, the contact type magnetic heads 50 separated separately are picked up one by one and arranged on the fixing jig 40. As compared with the method described above, the work time for arranging the jigs on the fixing jig 40 can be greatly reduced.

【0051】また、ヘッド素子50aが密に並んだデバ
イスシート26の状態で固定治具40の上に固定するこ
とができるので、1バッチ当たりのエッチングで処理で
きる素子数を多くすることができ、作業効率が向上す
る。しかも、個々のヘッド素子50aをハンドリングす
る必要がないので、電極露出工程において、ヘッド素子
50aを損傷させる危険も極めて少ない。
Further, since the head elements 50a can be fixed on the fixing jig 40 in the state of the device sheet 26 densely arranged, the number of elements that can be processed by etching per batch can be increased. Work efficiency is improved. Moreover, since there is no need to handle the individual head elements 50a, there is very little risk of damaging the head elements 50a in the electrode exposing step.

【0052】また、デバイスシート26の状態で素子特
性の検査を行うようにすれば、不良素子の判別が容易と
なるだけではなく、基板12上における不良素子の発生
位置も容易に知ることができる。
When the element characteristics are inspected in the state of the device sheet 26, not only the defective element can be easily identified, but also the position of the defective element on the substrate 12 can be easily known. .

【0053】さらに、基板12上に素子層16を形成す
る際、デバイスシート26毎に種類の異なるヘッド素子
を作り込むこともできる。この場合、種類の異なるヘッ
ド素子50aの判別や分類、あるいは、種類の異なるヘ
ッド素子50a毎に異なる条件下で素子特性検査を行う
ことも極めて容易となる。また、これによって、1つの
基板12上に種類の異なるヘッド素子50aを作る場合
であっても、一連の工程の自動化が容易になる。
Further, when the element layer 16 is formed on the substrate 12, different types of head elements can be formed for each device sheet 26. In this case, it becomes extremely easy to discriminate and classify different types of head elements 50a, or to perform element characteristic inspections under different conditions for different types of head elements 50a. In addition, this makes it easy to automate a series of steps even when different types of head elements 50a are formed on one substrate 12.

【0054】次に、切断工程について説明する。切断工
程は、Auパッド16cを露出させたデバイスシート2
6を固定治具40から取り外し、半切り溝30に沿って
分断する工程である。これにより、図4(e)に示すよ
うに、デバイスシート26が、複数の接触型磁気ヘッド
50、50…に分割される。
Next, the cutting step will be described. In the cutting step, the device sheet 2 exposing the Au pad 16c is exposed.
6 is a step of removing the fixing jig 6 from the fixing jig 40 and dividing the jig 6 along the half-cut groove 30. Thereby, as shown in FIG. 4E, the device sheet 26 is divided into a plurality of contact-type magnetic heads 50.

【0055】この場合、デバイスシート26は、半切り
溝30に沿って分断されるので、複数の接触型磁気ヘッ
ド50、50は、1列に並んだ状態でデバイスシート2
6から分離する。そのため、得られた接触型磁気ヘッド
50の中に不良素子が含まれる場合であっても、その不
良素子を容易に選別することができる。
In this case, since the device sheet 26 is divided along the half-cut groove 30, the plurality of contact-type magnetic heads 50, 50 are arranged in a line in the device sheet 2.
Separated from 6. Therefore, even when a defective element is included in the obtained contact magnetic head 50, the defective element can be easily selected.

【0056】なお、切断方法としては、種々の方法を用
いることができ、特に限定されるものではない。例え
ば、吸引治具を用いてデバイスシート26を吸引固定
し、半切り溝30に沿って折り曲げてもよい。あるい
は、デバイスシート26を粘着テープに貼り付け、半切
り溝30に沿って折り曲げてもよい。
As the cutting method, various methods can be used, and there is no particular limitation. For example, the device sheet 26 may be fixed by suction using a suction jig, and may be bent along the half-cut groove 30. Alternatively, the device sheet 26 may be attached to an adhesive tape, and may be bent along the half-cut groove 30.

【0057】最後に、露出させたAuパッド16cとサ
スペンション58とを接合すれば、図4(f)に示すよ
うに、サスペンション58で支持された接触型磁気ヘッ
ド50が得られる。この後、磁極パッド54先端のラッ
ピングを行い、磁極パッド54先端の磁極を完全に露出
させれば、接触型磁気ヘッド50が完成する。
Finally, by bonding the exposed Au pad 16c and the suspension 58, a contact type magnetic head 50 supported by the suspension 58 is obtained as shown in FIG. Thereafter, the contact-type magnetic head 50 is completed by wrapping the tip of the pole pad 54 to completely expose the pole at the tip of the pole pad 54.

【0058】以上、本発明の実施の形態について詳細に
説明したが、本発明は、上記実施の形態に何ら限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
の改変が可能である。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible without departing from the gist of the present invention. is there.

【0059】例えば、上記実施の形態では、素子板10
に直線状の短冊要素区分溝28を平行に形成している
が、短冊要素区分溝28の形状を、ジグザグ状としても
よい。これにより、三角形状、あるいは、台形状の接触
型磁気ヘッドを歩留よく製造することができる。
For example, in the above embodiment, the element plate 10
Although the linear strip element dividing grooves 28 are formed in parallel with each other, the shape of the strip element dividing grooves 28 may be zigzag. As a result, a triangular or trapezoidal contact magnetic head can be manufactured with high yield.

【0060】また、上記実施の形態においては、磁極パ
ッド54を備えた接触型磁気ヘッド50の製造方法につ
いて説明したが、磁極パッド54及び補助パッドの双方
を備えた接触型磁気ヘッドに対しても本発明を適用する
ことができる。
In the above embodiment, the method of manufacturing the contact magnetic head 50 having the magnetic pole pad 54 has been described. However, the present invention is applicable to a contact magnetic head having both the magnetic pole pad 54 and the auxiliary pad. The present invention can be applied.

【0061】さらに、本発明は、水平磁化を行う誘導型
の接触型磁気ヘッド、垂直磁化を行う接触型磁気ヘッ
ド、あるいは、磁気抵抗効果を利用するMRヘッドに対
しても適用でき、これにより上記実施の形態と同様の効
果を得ることができる。
Further, the present invention can be applied to an induction type contact magnetic head for performing horizontal magnetization, a contact type magnetic head for performing vertical magnetization, or an MR head utilizing the magnetoresistive effect. The same effect as in the embodiment can be obtained.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明に係る接触型磁気ヘッドの製造方
法は、素子板から、複数のヘッド素子が半切り溝でつな
がったデバイスシートとして素子層を分離し、デバイス
シートの状態で電極の露出を行うので、個々に分離した
ヘッド素子を固定治具の上に並べる必要がなくなり、作
業時間を大幅に短縮することができるという効果があ
る。
According to the method of manufacturing a contact type magnetic head according to the present invention, an element layer is separated from an element plate as a device sheet in which a plurality of head elements are connected by half-cut grooves, and electrodes are exposed in a state of the device sheet. Therefore, it is not necessary to arrange the individually separated head elements on the fixing jig, and the working time can be greatly reduced.

【0063】また、固定治具の上にヘッド素子を密に並
べることができるので、1バッチのエッチングで処理で
きる素子数を多くすることができるという効果がある。
また、個々のヘッド素子をハンドリングする必要がない
ので、電極露出工程において、ヘッド素子を損傷させる
危険が少ないという効果がある。
Since the head elements can be densely arranged on the fixing jig, the number of elements that can be processed by one batch of etching can be increased.
Further, since there is no need to handle individual head elements, there is an effect that there is little risk of damaging the head elements in the electrode exposing step.

【0064】さらに、素子層を基板上に成膜してから素
子特性検査に至るまでの間、ヘッド素子がバラバラにな
ることがないので、不良素子の識別や複数種類の素子の
識別等、素子の識別が容易になるという効果がある。
Further, since the head element does not become scattered between the time when the element layer is formed on the substrate and the time when the element characteristics are inspected, the element element such as the identification of a defective element and the identification of a plurality of types of elements can be obtained. This has the effect of making it easier to identify

【0065】以上のように、本発明に係る接触型磁気ヘ
ッドの製造方法によれば、電極露出工程に要する作業時
間の短縮と、不良素子の発生頻度の低下が可能となり、
これによって、接触型磁気ヘッドの製造コストの大幅な
削減と信頼性の向上が可能となるものであり、産業上そ
の効果の極めて大きい発明である。
As described above, according to the method of manufacturing a contact magnetic head according to the present invention, it is possible to reduce the work time required for the electrode exposing step and to reduce the frequency of occurrence of defective elements.
As a result, it is possible to greatly reduce the manufacturing cost of the contact type magnetic head and to improve the reliability, and this is an invention which is extremely effective in industry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る接触型磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図である。
FIG. 1 is a process chart showing a method for manufacturing a contact type magnetic head according to the present invention.

【図2】図2(a)は、素子板表面にヘッド素子が規則
的に形成された状態を示す平面図であり、図2(b)
は、図2(a)に示す素子板にシート区分溝を形成した
状態を示す平面図である。
FIG. 2A is a plan view showing a state in which head elements are regularly formed on the surface of an element plate, and FIG.
FIG. 3 is a plan view showing a state in which sheet dividing grooves are formed in the element plate shown in FIG.

【図3】図3(a)は、デバイスシートの拡大平面図で
あり、図3(b)は、そのB−B’線断面図、図3
(c)は、そのC−C’線断面図である。
FIG. 3A is an enlarged plan view of a device sheet, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG.
(C) is a sectional view taken along line CC ′.

【図4】図1に示す工程図の続きである。FIG. 4 is a continuation of the process chart shown in FIG. 1;

【図5】従来の接触型磁気ヘッドの製造方法を示す工程
図である。
FIG. 5 is a process chart showing a method for manufacturing a conventional contact magnetic head.

【図6】従来のAuパッドの露出方法を示す工程図であ
る。
FIG. 6 is a process chart showing a conventional method for exposing an Au pad.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 素子板 12 基板 14 分離層 16 素子層 16c Auパッド(電極) 24 全切り溝(シート区分溝) 26 デバイスシート 28 全切り溝(短冊要素区分溝) 30 半切り溝 50 接触型磁気ヘッド 50a ヘッド素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Element board 12 Substrate 14 Separation layer 16 Element layer 16c Au pad (electrode) 24 All cut groove (sheet division groove) 26 Device sheet 28 All cut groove (strip element division groove) 30 Half cut groove 50 Contact magnetic head 50a Head element

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、分離層を介して、複数のヘッ
ド素子を含む素子層が形成された素子板を作製する素子
板作製工程と、 前記素子板に対し、前記素子層の表面から前記分離層に
達する複数の全切り溝と前記素子層の内部で止まる複数
の半切り溝とを形成することにより、前記素子層を、前
記複数のヘッド素子が前記半切り溝を介して連結してい
る複数の短冊要素が、少なくともその一端において並列
に連結しているシートに区分する溝形成工程と、 前記分離層を除去し、前記シートを前記基板から分離す
る分離工程と、 前記シートの状態で、前記各ヘッド素子の電極を露出さ
せる電極露出工程と、 前記シートを前記半切り溝に沿って切断する切断工程と
を備えている接触型磁気ヘッドの製造方法。
An element plate manufacturing step of manufacturing an element plate having an element layer including a plurality of head elements formed on a substrate via a separation layer; and By forming a plurality of all cut grooves reaching the separation layer and a plurality of half cut grooves stopping inside the element layer, the element layers are connected by the plurality of head elements via the half cut grooves. A plurality of strip elements, at least one end of which is divided into sheets that are connected in parallel at least at one end thereof; a separation step of removing the separation layer and separating the sheet from the substrate; and a state of the sheet. A method of manufacturing a contact-type magnetic head, comprising: an electrode exposing step of exposing electrodes of the respective head elements; and a cutting step of cutting the sheet along the half-cut grooves.
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